JP2738448B2 - Adjustment method of emission luminance distribution of light source for exposure head - Google Patents

Adjustment method of emission luminance distribution of light source for exposure head

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JP2738448B2
JP2738448B2 JP20429589A JP20429589A JP2738448B2 JP 2738448 B2 JP2738448 B2 JP 2738448B2 JP 20429589 A JP20429589 A JP 20429589A JP 20429589 A JP20429589 A JP 20429589A JP 2738448 B2 JP2738448 B2 JP 2738448B2
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emission luminance
luminance distribution
exposure head
pitch
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、複数の光源を備えこれらの光源から発光さ
れた光線を光学系によって集光し、この光線を記録材料
上に結像させて複数の副走査ラインの記録を同時に行っ
て画像を記録する露光ヘツドの発光輝度分布を調整する
露光ヘツド用光源の発光輝度分布の調整方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is provided with a plurality of light sources, light rays emitted from these light sources are condensed by an optical system, and these light rays are imaged on a recording material. The present invention relates to a method of adjusting a light emission luminance distribution of an exposure head light source that adjusts a light emission luminance distribution of an exposure head for recording an image by simultaneously recording a plurality of sub-scanning lines.

〔従来技術〕(Prior art)

熱現像感光材料へ画像を露光し、この熱現像感光材料
を受像材料と重ね合わせて加熱し、これによって熱現像
感光材料が熱現像されると共に受像材料に画像が転写さ
れて画像を得る画像記録装置が知られている。
An image is exposed on a photothermographic material, and the photothermographic material is superimposed on an image receiving material and heated, whereby the photothermographic material is thermally developed and an image is transferred to the image receiving material to obtain an image. Devices are known.

この種の画像記録装置では、熱現像感光材料を露光す
る際に、この熱現像感光材料を露光ドラムに巻き付け、
露光ドラムを高速回転させる(主走査)。この状態で露
光ヘツドを露光ドラムの軸方向へ移動させながら露光す
る(副走査)。また、画像記録装置には、加熱ドラムと
この加熱ドラムの外周に圧接する無端圧接ベルトが配置
されており、さらに、無端圧接ベルトの近傍には加熱ド
ラムの外周に当接するゴム製の重ね合わせローラが配置
されている。画像が露光された熱現像感光材料は、この
重ね合わせローラによって受像材料と重ね合わされた後
に、加熱ドラムと無端圧接ベルトとの間へ供給されるよ
うになっている。
In this type of image recording apparatus, when exposing the photothermographic material, the photothermographic material is wound around an exposure drum,
The exposure drum is rotated at high speed (main scanning). In this state, exposure is performed while moving the exposure head in the axial direction of the exposure drum (sub-scan). In the image recording apparatus, a heating drum and an endless pressure contact belt that presses against the outer periphery of the heating drum are arranged. Further, a rubber superimposing roller that contacts the outer periphery of the heating drum near the endless pressure contact belt. Is arranged. The photothermographic material to which the image has been exposed is superposed on the image receiving material by the superimposing roller, and then supplied between the heating drum and the endless pressure contact belt.

露光ヘツドは、その鏡筒内にLEDチツプ等の光源とレ
ンズとを有し、光源から照射された光線をレンズにより
集光し、鏡筒の出射口から出射させ、熱現像感光材料上
へ結像させるようにしている。
The exposure head has a light source such as an LED chip and a lens inside the lens barrel, and collects light emitted from the light source with the lens, emits the light from the emission port of the lens barrel, and forms the light on the photothermographic material. I try to image it.

ところで、LDEチツプを1個の露光ヘツド内に複数
(例えば2個)併設し、複数の主走査ラインを同時に記
録することがある。このように、複数の主走査ラインを
露光ドラムの1回転で同時に記録すると、LEDチツプの
数に比例して、記録速度が速くなるという効果がある。
In some cases, a plurality of (for example, two) LDE chips are provided in one exposure head, and a plurality of main scanning lines are simultaneously recorded. As described above, when a plurality of main scanning lines are simultaneously recorded by one rotation of the exposure drum, there is an effect that the recording speed is increased in proportion to the number of LED chips.

ところが、併設される複数のLEDチツプのピツチ寸法
の精度がよくないと、副走査ラインピツチが不均一とな
り、仕上がりの画像の品質が低下する。このため、各LE
Dチツプの光量を変更してみかけ上のLEDチツプ間のピツ
チ寸法を一致させることが提案されている。
However, if the accuracy of the pitch dimensions of a plurality of LED chips provided side by side is not good, the sub-scanning line pitch becomes non-uniform, and the quality of the finished image deteriorates. Therefore, each LE
It has been proposed to change the light amount of the D chip to match the apparent pitch between the LED chips.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、各LEDチツプの光量を別個に制御する
ためには、それぞれに光量を変更するための部品が必要
となり部品点数が多く、また制御が複数となる。
However, in order to separately control the light amount of each LED chip, a component for changing the light amount is required, so that the number of parts is large and the control is plural.

本発明は上記事実を考慮し、部品点数が少なく簡単な
制御で複数の光源のピツチ寸法を均一とする発光輝度分
布に調整でき、適正なマスクを容易に選択することがで
きる露光ヘツド用光源の発光輝度分布の調整方法を得る
ことが目的である。
In consideration of the above facts, the present invention provides a light source for an exposure head that can adjust the light emission luminance distribution to make the pitch dimensions of a plurality of light sources uniform by simple control with a small number of parts and can easily select an appropriate mask. It is an object to obtain a method for adjusting the emission luminance distribution.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明に係る露光ヘツド用光源の発光輝度分布の調整
方法は、複数の光源を備えこれらの光源から発光された
光線を光学系によって集光し、この光線を記録材料上に
結像させて複数の走査ラインの記録を同時に行って画像
を記録する露光ヘツドの光源の発光輝度分布を調整する
にあたって、前記複数の光源から照射される光線の発光
輝度分布を測定し、各々の光源の発光輝度中心間のピツ
チ寸法を予め定められた所定ピツチ寸法とを比較して、
発光中心間のピツチ寸法と所定ピツチ寸法とを一致させ
るようにマスクを取付けることを特徴としている。
The method for adjusting the light emission luminance distribution of the exposure head light source according to the present invention includes a plurality of light sources, light beams emitted from these light sources are condensed by an optical system, and the light beams are focused on a recording material to form a plurality of light beams. In adjusting the emission luminance distribution of the light source of the exposure head for simultaneously recording the scanning lines and recording an image, the emission luminance distribution of light beams emitted from the plurality of light sources is measured, and the emission luminance center of each light source is measured. By comparing the pitch size between them with a predetermined pitch size,
It is characterized in that a mask is attached so that the pitch between the light emission centers and the predetermined pitch are matched.

〔作用〕[Action]

複数の光源が配設されている場合、これらの発光輝度
終ピーク間のピツチが正確に所定ピツチ、例えば副走査
ピツチと一致されていることが必要であるが、取付精度
等の問題から必ずしも適正の位置にない場合がある。こ
のような場合、光源上にマスクを取付けて輝度分布を変
化させることになるが、輝度分布をどのように変化させ
るかで、マスクによる光源の遮蔽形状が異なる。すなわ
ち、予め多種のマスクが用意されている場合は、輝度分
布をどのように変化させるかでマスクを選択する必要が
ある。
When a plurality of light sources are provided, it is necessary that the pitch between these emission luminance end peaks is exactly the same as a predetermined pitch, for example, the sub-scanning pitch. May not be in the position. In such a case, the luminance distribution is changed by mounting a mask on the light source. The shape of the light source shielded by the mask differs depending on how the luminance distribution is changed. That is, when various types of masks are prepared in advance, it is necessary to select a mask depending on how the luminance distribution is changed.

本発明によれば、複数の光源の発光輝度中心である輝
度ピーク位置を発光輝度分布から求め、各々の光源のピ
ーク位置間のピツチが所定のピツチ寸法、例えば副走査
ピツチと一致しているか否かを判断する。この輝度ピー
ク位置間のピツチが副走査ピツチよりも小さい場合、光
源のピーク位置が離れるように輝度分布を修正するマス
クを選択する。また、輝度ピーク位置間のピツチが副走
査ピツチよりも大きい場合、光源のピーク位置が近づく
ように輝度分布を修正するマスクを選択する。
According to the present invention, a luminance peak position, which is a light emission luminance center of a plurality of light sources, is determined from a light emission luminance distribution, and a pitch between the peak positions of each light source matches a predetermined pitch dimension, for example, a sub-scanning pitch. Judge. When the pitch between the luminance peak positions is smaller than the sub-scanning pitch, a mask for correcting the luminance distribution is selected so that the peak position of the light source is separated. If the pitch between the luminance peak positions is larger than the sub-scanning pitch, a mask for correcting the luminance distribution is selected so that the peak position of the light source approaches.

このように、適正なマスクを選択することにより光量
制御等の複雑な制御が不要でかつこの制御のための部品
点数が不要となり、簡単な構造で複数の光源の発光輝度
ピーク位置のピツチと所定のピツチとを一致させること
ができる。
As described above, by selecting an appropriate mask, complicated control such as light quantity control is not required, and the number of components for this control is not required. Can be matched with the pitch.

〔実施例〕〔Example〕

第2図には本実施例に係る画像記録装置10が示されて
いる。
FIG. 2 shows an image recording apparatus 10 according to the present embodiment.

画像記録装置10の機台12にはマガジン14が配置されて
おり、さらにマガジン14内にはロール状の熱現像感光材
料16が収容されている。
A magazine 14 is disposed on the machine base 12 of the image recording apparatus 10, and a roll-form photothermographic material 16 is accommodated in the magazine 14.

この熱現像格好材料16はその外周から引き出されカツ
タ18で所定長さに切断されて後に回転ドラム20の外周へ
矢印A方向へと巻き付けられるようになっている。この
回転ドラム20の外周に対応して露光ヘツド22が配置され
ており、回転ドラム20を高速で回転させ、巻き付けられ
た熱現像感光材料16へ画像を露光するようになってい
る。
The heat-developable material 16 is pulled out from the outer periphery, cut into a predetermined length by a cutter 18, and then wound around the outer periphery of the rotary drum 20 in the direction of arrow A. An exposure head 22 is arranged corresponding to the outer periphery of the rotating drum 20, and rotates the rotating drum 20 at a high speed to expose the wound photothermographic material 16 to an image.

露光後の熱現像感光材料16は回転ドラム20の逆転(矢
印B方向)により、スクレーパ24で回転ドラム20から剥
離され、水塗布部26で画像形成用溶媒としての水が付与
された後に、熱現像転写装置とされる熱現像転写部28へ
と送られるようになっている。
After the exposure, the photothermographic material 16 is separated from the rotary drum 20 by the scraper 24 due to the reverse rotation of the rotary drum 20 (in the direction of arrow B), and after the water as the image forming solvent The sheet is sent to a thermal development transfer section 28 which is a development transfer device.

熱現像転写部28には、加熱ドラム34と圧接手段として
の無端圧着ベルト36が配置されている。
In the thermal development transfer section 28, a heating drum 34 and an endless pressure bonding belt 36 as a pressing means are disposed.

水が塗布された熱現像感光材料16は、加熱ドラム34と
無端圧着ベルト36との間へ供給され加熱ドラム34のほぼ
2/3周に亘って挟持搬送されて熱現像されるようになっ
ている。
The photothermographic material 16 to which the water has been applied is supplied between the heating drum 34 and the endless pressure bonding belt 36, and is substantially
It is nipped and conveyed over 2/3 circumferences and thermally developed.

無端圧着ベルト36のテンシヨンローラ37への巻掛け部
分近傍には、重ね合わせローラ60が加熱ドラム34の外周
に押圧されて当接した状態で配置されている。
In the vicinity of a portion where the endless pressure bonding belt 36 is wrapped around the tension roller 37, a superposing roller 60 is arranged in a state of being pressed against and contacting the outer periphery of the heating drum 34.

一方、熱現像転写部28の下方に配置されたトレイ30内
には、所定寸法に切り揃えられた複数枚の受像材料32が
収容されている。この受像材料32は、トレイ30の側部に
配置された供給ローラ44によって順次一枚づつ取出され
て熱現像転写部28へ送られるようになっている。
On the other hand, a plurality of image receiving materials 32 cut to a predetermined size are accommodated in a tray 30 arranged below the thermal development transfer unit. The image receiving materials 32 are sequentially taken out one by one by a supply roller 44 arranged on the side of the tray 30 and sent to the thermal development transfer unit 28.

熱現像転写部28へ送られた受像材料32は、加熱ドラム
34の外周に当接した状態で配置された重ね合わせローラ
60によって(重ね合わせローラ60と加熱ドラム34の外周
面との間において)熱現像感光材料16と重ね合わされ
て、加熱ドラム34と無端圧端ベルト36との間へ供給され
るようになっている。
The image receiving material 32 sent to the thermal development transfer section 28 is heated by a heating drum.
Superposition roller placed in contact with the outer circumference of 34
The photosensitive material 16 is superimposed on the photothermographic material 16 (between the superposing roller 60 and the outer peripheral surface of the heating drum 34) and supplied between the heating drum 34 and the endless pressure end belt 36. .

熱現像感光材料16は熱現像転写部28において受像材料
32と重ね合わされた状態で加熱されると、熱現像される
と共に画像が受像材料32へ転写されて、受像材料32に画
像が得られるようになっている。
The photothermographic material 16 is used as an image receiving material
When heated in a state of being superimposed on the image receiving material 32, the image is thermally developed and the image is transferred to the image receiving material 32, so that the image is obtained on the image receiving material 32.

熱現像転写部28の側方には、一対の剥離爪48が加熱ド
ラム34の外周面に対応して配置されており、先端部が僅
かに加熱ドラム34の外周面に当接している。
A pair of peeling claws 48 are arranged on the side of the thermal development transfer unit 28 so as to correspond to the outer peripheral surface of the heating drum 34, and the tip ends slightly contact the outer peripheral surface of the heating drum 34.

この剥離爪48は、加熱ドラム34と共に移動し内側に位
置する熱現像感光材料16に係合して、この熱現像感光材
料16を受像材料32と共に加熱ドラム34の外周から剥離さ
せるようになっている。
The peeling claw 48 moves together with the heating drum 34 and engages with the photothermographic material 16 located inside, thereby peeling the photothermographic material 16 together with the image receiving material 32 from the outer periphery of the heating drum 34. I have.

剥離爪48の下方には、受像材料32の幅方向両端部にの
み対応する一対の分離ローラ50が配置されており、さら
に分離ローラ50には搬送ベルト52が巻掛けられている。
この分離ローラ50に巻掛けられた搬送ベルト52は、受像
材料32の幅方向両端部にのみ係合し、受像材料32を熱現
像感光材料16から分離し屈曲して搬送するようになって
いる。
Below the peeling claw 48, a pair of separation rollers 50 corresponding to only the both ends in the width direction of the image receiving material 32 are arranged, and a transport belt 52 is wound around the separation roller 50.
The transport belt 52 wound around the separation roller 50 is engaged with only the both ends in the width direction of the image receiving material 32, and separates the image receiving material 32 from the photothermographic material 16 to bend and transport it. .

分離された熱現像感光材料16は廃棄感光材料収容箱59
へ送り出されるようになっており、一方受像材料32はヒ
ータ54で乾燥された後に機台12の頂部に形成される取出
トレイ56上へ送り出されるようになっている。
The separated photothermographic material 16 is placed in a waste photosensitive material storage box 59.
On the other hand, the image receiving material 32 is dried on the heater 54 and then sent out onto a takeout tray 56 formed on the top of the machine base 12.

第1図に示される如く、露光ヘツド22は、その本体と
される円筒状の鏡筒70を備えており、この鏡筒70の一端
部には光学系72が配設されている。また、この鏡筒70の
他端部には円筒形のステム74が取付けられている。
As shown in FIG. 1, the exposure head 22 includes a cylindrical lens barrel 70 as a main body, and an optical system 72 is provided at one end of the lens barrel 70. A cylindrical stem 74 is attached to the other end of the lens barrel 70.

ステム74の内周面には、基板76が固着されている。こ
の基板76の鏡筒70の内方側の面には、基台78を介して光
源とされる複数(本実施例では2個)のLEDチツプ80が
取付けられている。このLEDチツプ80へ通電することに
より、LEDチツプ80は発光され、その光源は光学系72方
向へと至っている。LEDチツプ80の照射方向前方にはLED
チツプ80の配置部に対応して開口部82が設けられたアパ
ーチヤ84が取付けられており、低輝度の光である光線束
の最外周部分を遮蔽し、フレア光の発生を防止してい
る。
A substrate 76 is fixed to the inner peripheral surface of the stem 74. On the inner surface of the lens barrel 70 of the substrate 76, a plurality of (two in this embodiment) LED chips 80 as light sources are mounted via a base 78. When the LED chip 80 is energized, the LED chip 80 emits light, and its light source reaches the optical system 72. LED in front of LED chip 80 irradiation direction
An aperture 84 provided with an opening 82 corresponding to the arrangement portion of the chip 80 is attached, and shields the outermost peripheral portion of the low-brightness light beam to prevent the generation of flare light.

2個のLEDチツプ80は、副走査方向に沿って併設され
ており、回転ドラム20の1回転で同時に2列の主走査記
録を行うようになっている。従って、2個のLEDチツプ8
0のピツチ寸法は、副走査ピツチと同一とされている。
The two LED chips 80 are provided side by side in the sub-scanning direction, and perform two rows of main scanning recording simultaneously with one rotation of the rotary drum 20. Therefore, two LED chips 8
The pitch dimension of 0 is the same as the sub-scanning pitch.

ところで、LEDチツプ80は、その取付精度や製造上の
ばらつきにより、発光輝度のピーク位置が副走査方向に
ずれることがある。このため、本実施例では、前記アパ
ーチヤ84にマスク86又は88(第1図(A)及び(B)参
照)の何れかを選択して取付け、発光輝度のピーク位置
を変更している。第1図(A)に示されるマスク86は、
発光輝度のピーク位置を互いに離反させるためのもので
あり、マスクベース86Aから三角形状の突起部86Bが突出
され、2個のLEDチツプ80における隣接する辺の一部を
遮蔽している。また、第1図(B)に示されるマスク88
は、発光輝度のピーク位置を互いに接近させるためのも
のであり、マスクベース88Aには、台形状の凹部88Bが形
成され、2個のLEDチツプ80の外側の辺の一部を遮蔽し
ている。
By the way, in the LED chip 80, the peak position of the light emission luminance may be shifted in the sub-scanning direction due to the mounting accuracy and manufacturing variations. Therefore, in this embodiment, either the mask 86 or 88 (see FIGS. 1A and 1B) is selectively attached to the aperture 84 to change the peak position of the emission luminance. The mask 86 shown in FIG.
This is for separating the peak positions of the light emission luminance from each other, and a triangular projection 86B is projected from the mask base 86A to block a part of the adjacent sides of the two LED chips 80. Further, the mask 88 shown in FIG.
Is for making the peak positions of the emission luminances close to each other, and a trapezoidal concave portion 88B is formed in the mask base 88A to block a part of the outer side of the two LED chips 80. .

マスク86、88は、第3図に示される如く光硬化性樹脂
90をアパーチヤ84とマスク86又は88との間に介在させ、
紫外線発生装置92から発生される紫外線により、固定さ
れている。
The masks 86 and 88 are made of a photocurable resin as shown in FIG.
90 is interposed between the aperture 84 and the mask 86 or 88,
It is fixed by ultraviolet rays generated from the ultraviolet ray generator 92.

このマスク86、88の選択は、第4図に示される如く、
発光輝度測定装置94による測定結果に基づいてなされ
る。
The selection of the masks 86 and 88 is as shown in FIG.
This is performed based on the measurement result by the light emission luminance measuring device 94.

第4図に示される如く、発光輝度測定装置94は、CCD
カメラ95とこのCCDカメラ95によって撮影された映像を
記憶する記憶媒体96とで構成されている。CCDカメラ95
には、対物レンズ97が取付けられ、この対物レンズ97の
焦点位置がLEDチツプ80が配置されるようにステム74が
位置決めされている。ここで、LEDチツプ80を点灯させ
ることにより、発光状態を撮影することができる。
As shown in FIG. 4, the light emission luminance measuring device 94 includes a CCD.
It is composed of a camera 95 and a storage medium 96 for storing images captured by the CCD camera 95. CCD camera 95
Is mounted with an objective lens 97, and the stem 74 is positioned so that the focal position of the objective lens 97 is arranged with the LED chip 80. Here, by turning on the LED chip 80, it is possible to photograph the light emission state.

記憶媒体96に記憶された映像は、分析装置98が装填さ
れるようになっている。
The video stored in the storage medium 96 is configured to be loaded into the analyzer 98.

分析装置98では、映像(第5図参照)を積分して発光
輝度分布を得る役目を有している(第6図参照)。第6
図に示される如く、発光輝度分布の輝度ピーク地の50%
における立ち上がり及び立下がりの均等振り分け位置を
輝度ピーク位置として定め、2個の輝度ピーク位置間の
寸法ΔXを計測している。この寸法ΔXが副走査ピツチ
寸法Xと同一であることが必要であり、この寸法ΔXの
LEDチツプ数倍(本実施例では2倍)が実際の露光ヘツ
ド22の1回の副走査移動量とされる。
The analyzer 98 has a function of integrating a video (see FIG. 5) to obtain a light emission luminance distribution (see FIG. 6). Sixth
As shown in the figure, 50% of the luminance peak in the emission luminance distribution
Is determined as the luminance peak position, and the dimension ΔX between the two luminance peak positions is measured. This dimension ΔX must be the same as the sub-scanning pitch dimension X.
The number of times the LED chips are multiplied (in this embodiment, twice) is set as the actual sub-scanning movement amount of the exposure head 22 once.

従って、ΔX<Xの場合は、前記第1図(A)で示し
たマスク86を選択し、ΔX>Xの場合は、前記第1図
(B)で示したマスク88を選択することになる。なお、
ΔX=Xの場合は、マスク86、88は必要ない。
Therefore, when ΔX <X, the mask 86 shown in FIG. 1A is selected, and when ΔX> X, the mask 88 shown in FIG. 1B is selected. . In addition,
When ΔX = X, the masks 86 and 88 are not required.

次に本実施例の作用を説明する。 Next, the operation of the present embodiment will be described.

まず、画像記録装置10の作動について説明する。 First, the operation of the image recording device 10 will be described.

マガジン14から引き出された熱現像感光材料16がカツ
タ18で切断された後に回転ドラム20の外周へ巻き付けら
れると、回転ドラム20は高速で回転し、露光ヘツド22に
より熱現像感光材料16の副方向中央部に画像が露光され
る。
When the photothermographic material 16 pulled out of the magazine 14 is cut by the cutter 18 and then wound around the outer periphery of the rotary drum 20, the rotary drum 20 rotates at a high speed, and is exposed in the auxiliary direction of the photothermographic material 16 by the exposure head 22. The image is exposed at the center.

露光後に熱現像感光材料16はスクレーパ24で剥離さ
れ、水塗布部26で水塗布さて熱現像転写部28へと送られ
る。
After the exposure, the photothermographic material 16 is peeled off by a scraper 24, water-applied by a water-applying unit 26, and sent to a heat-developing transfer unit 28.

一方トレイ30内の受像材料32は供給ローラ44によって
順次一枚づつ取出され、さらに、熱現像転写部28に配置
された重ね合わせローラ60によって熱現像感光材料16と
重ね合わされて、加熱ドラム34と無端圧着ベルト36(テ
ンシヨンローラ37への巻掛け部分)との間へ供給され
る。
On the other hand, the image receiving material 32 in the tray 30 is sequentially taken out one by one by a supply roller 44, and further, is superposed on the photothermographic material 16 by a superposition roller 60 arranged in the heat development transfer section 28, so that the heating drum 34 It is supplied to between the endless pressure bonding belt 36 (the portion wound around the tension roller 37).

熱現像転写部28へ送られた熱現像感光材料16と受像材
料32とは、重ね合わされた状態のままでハロゲンランプ
38によって約90℃に加熱された加熱ドラム34と無端圧着
ベルト36との間で加熱ドラム34のほぼ2/3周に亘って挟
持搬送されて熱現像されると共に、熱現像感光材料16に
記録された画像が受像材料32へ転写される。
The heat-developable photosensitive material 16 and the image-receiving material 32 sent to the heat-development transfer unit 28 are kept in a superposed state with a halogen lamp.
Between the heating drum 34 heated to about 90 ° C. by the endless heating belt 34 and the endless pressure-bonding belt 36, the heating drum 34 is nipped and conveyed over approximately 2/3 of the circumference to be thermally developed and recorded on the photothermographic material 16 The transferred image is transferred to the image receiving material 32.

転写後には、加熱ドラム34と共に移動し内側に位置す
る熱現像感光材料16に剥離爪48が係合して、この熱現像
感光材料16を受像材料32と共に加熱ドラム34の外周から
剥離させる。
After the transfer, the peeling claw 48 engages with the photothermographic material 16 located inside and moves together with the heating drum 34, and peels the photothermographic material 16 together with the image receiving material 32 from the outer periphery of the heating drum 34.

加熱ドラム34の外周から剥離された受像材料32は、分
離ローラ50に巻掛けられた搬送ベルト52によって熱現像
感光材料16から分離され、ヒータ54を経て取出トレイ56
へと取り出される。一方、熱現像感光材料16は廃棄感光
材料収容箱59へ送り出される。
The image receiving material 32 peeled off from the outer periphery of the heating drum 34 is separated from the photothermographic material 16 by a transport belt 52 wound around a separation roller 50, and is taken out via a heater 54 to an extraction tray 56.
It is taken out to. On the other hand, the photothermographic material 16 is sent to the waste photosensitive material storage box 59.

ここで、本実施例の画像記録装置10では、露光ヘツド
22に2個のLEDチツプ80を配し、回転ドラム20の1回転
で同時に2本の主走査を行っている。これにより、画像
記録速度を短縮することができる。このため、2個のLE
Dチツプ80のピツチの取付けに際し、高い精度が必要で
あり、誤差がある場合はマスク86又は88をアパーチヤ84
に取付けることにより矯正し、2個のLEDチツプ80の発
光輝度ピーク位置のピツチ寸法を副走査ピツチ寸法と同
一としている。以下にこのマスク86、88の選択手順につ
いて説明する。
Here, in the image recording apparatus 10 of the present embodiment, the exposure head
Two LED chips 80 are arranged at 22, and two main scans are performed simultaneously by one rotation of the rotating drum 20. Thereby, the image recording speed can be reduced. Therefore, two LEs
When mounting the pitch of the D chip 80, high precision is required. If there is an error, the mask 86 or 88 is attached to the aperture 84.
The pitch at the peak position of the light emission luminance of the two LED chips 80 is the same as the sub-scanning pitch. The procedure for selecting the masks 86 and 88 will be described below.

まず、LEDチツプ80が取付けられたステム74を露光ヘ
ツド22の鏡筒80へ取付ける前に発光輝度測定装置94の所
定位置へ位置決めする。この状態でLEDチツプ80を点灯
させ、CCDカメラ95の対物レンズ97でこのこの点灯状態
を撮影する。撮影された映像は記憶媒体96に記憶され、
この記憶媒体96を分析装置98へ装填する。分析装置98で
は、記憶媒体96に記憶された映像を積分し、発光輝度分
布を得る(第6図参照)。
First, before mounting the stem 74 to which the LED chip 80 is attached to the lens barrel 80 of the exposure head 22, the stem 74 is positioned at a predetermined position of the light emission luminance measuring device 94. In this state, the LED chip 80 is turned on, and the object lens 97 of the CCD camera 95 captures the lighted state. The captured video is stored in the storage medium 96,
The storage medium 96 is loaded into the analyzer 98. The analyzer 98 integrates the image stored in the storage medium 96 to obtain a light emission luminance distribution (see FIG. 6).

この得られた発光輝度分布から、2個のLEDチツプ80
のそれぞれの発光輝度ピーク位置を定める。この発光輝
度ピーク位置は、輝度ピークの50%の輝度の均等振り分
け位置とされ、これらの間のピツチ寸法をΔXとする。
From the obtained light emission luminance distribution, two LED chips 80
Are determined. The light emission luminance peak position is a position at which the luminance of 50% of the luminance peak is equally distributed, and the pitch dimension between them is ΔX.

この定められたΔXと副走査ピツチ寸法Xとを比較し
て、ΔX<Xの場合は、2個のLEDチツプ80が接近しす
ぎていると判断し、第1図(A)に示されるマスク86を
選択する。また、ΔX>Xの場合は、2個のLEDチツプ8
0が離れすぎていると判断し、第1図(B)に示される
マスク88を選択する。なお、ΔX=Xの場合は、マスク
86又は88は必要ない。
By comparing the determined ΔX with the sub-scanning pitch dimension X, if ΔX <X, it is determined that the two LED chips 80 are too close, and the mask shown in FIG. Select 86. If ΔX> X, two LED chips 8
It is determined that 0 is too far away, and the mask 88 shown in FIG. 1 (B) is selected. When ΔX = X, the mask
86 or 88 is not required.

マスク86又は88が選択されると、アパーチヤ84に光硬
化性樹脂90と塗布して、選択されたマスク86又は88はそ
の上を載置し、紫外線発生装置92から発生される紫外線
を照射して、マスク86又は88をアパーチヤ84へ固定す
る。
When the mask 86 or 88 is selected, the photocurable resin 90 is applied to the aperture 84, and the selected mask 86 or 88 is placed thereon, and is irradiated with ultraviolet light generated from the ultraviolet light generator 92. Then, the mask 86 or 88 is fixed to the aperture 84.

以前説明したように、必要に応じてマスク86又は88を
取付けることにより、2個のLEDチツプ80の発光輝度ピ
ーク位置を変更することができ、副走査ピツチと一致さ
せることができるので、仕上がり画像を高品質とするこ
とができる。また、LEDチツプ80の光量を制御する必要
がないので、光量を制御するための部品が不要であり、
複雑な制御も必要ない。
As described above, by attaching the mask 86 or 88 as necessary, the emission luminance peak positions of the two LED chips 80 can be changed and can be matched with the sub-scanning pitch, so that the finished image can be obtained. Can be of high quality. Also, since there is no need to control the light amount of the LED chip 80, no component for controlling the light amount is required,
No complicated control is required.

なお、本実施例では、LEDチツプ80の発光輝度分布をC
CDカメラ95で撮影した映像を分析装置98により積分して
得るようにしたが、第7図に示される如く、露光ヘツド
22の前方にナイフエツヂ100を配置し、このナイフエツ
ヂ100を併設されたLEDチツプ80を一端から徐々に光線束
上に挿入し、このときの光量を光量センサ102で検出し
て(第8図参照)、検出された光量を微分することによ
り、発光輝度分布を求めてもよい(第9図参照)。ま
た、ナイフエツヂ100の代わりに、第10図に示される如
く、一部にスリツト孔104が設けられた回転リング106を
用いてもよい。この場合は、光量センサ102の出力特
(第11図参照)がそのまま発光輝度分布に相当する。
In this embodiment, the light emission luminance distribution of the LED chip 80 is C
The image taken by the CD camera 95 is obtained by integrating the image by the analyzer 98. However, as shown in FIG.
A knife knife # 100 is arranged in front of 22 and the LED chip 80 provided with the knife knife # 100 is gradually inserted from one end into a light beam. Alternatively, the light emission luminance distribution may be obtained by differentiating the detected light amount (see FIG. 9). Further, a rotary ring 106 partially provided with a slit hole 104 as shown in FIG. 10 may be used instead of the knife edge 100. In this case, the output characteristic of the light amount sensor 102 (see FIG. 11) directly corresponds to the emission luminance distribution.

また、本実施例では、1個の露光ヘツド22に2このLE
Dチツプ80を配したが、3個以上のLEDチツプ80が配設さ
れた露光ヘツドのピツチ調整にも適用可能である。
In this embodiment, two LEs are provided in one exposure head 22.
Although the D chip 80 is provided, the present invention can be applied to the pitch adjustment of the exposure head in which three or more LED chips 80 are provided.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明した如く本発明に係る露光ヘツド用光源の発
光輝度分布の調整方法は、部品点数が少なく簡単な制御
で複数の光源のピツチ寸法を均一とする発光輝度分布に
調整でき、適正なマスクを容易に選択することができる
という優れた効果を有する。
As described above, the method of adjusting the light emission luminance distribution of the exposure head light source according to the present invention can be adjusted to a light emission luminance distribution in which the pitch dimensions of a plurality of light sources are uniform by simple control with a small number of components, and an appropriate mask can be obtained. It has an excellent effect that it can be easily selected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(A)及び(B)は本実施例に係る露光ヘツドの
光源部にマスクを取付けた状態の平面図、第2図は本実
施例に係る露光ヘツドが適用された画像記録装置の概略
図、第3図はマスクを取付けるための手順を示す説明
図、第4図は発光輝度分布測定装置及び分析装置の概略
図、第5図はCCDカメラで撮影された発光状態のLEDチツ
プの平面図、第6図は分析装置で分析されたLEDチツプ
の発光輝度分布特性図、第7図はナイフエツヂにより発
光輝度を測定する場合の概略図、第8図は第7図の光量
のセンサの出力特性図、第9図は第8図の特性を微分し
た発光輝度分布特性図、第10図は回転リングにより発光
輝度を測定する概略図、第11図は第10図の光量センサの
出力特性図である。 10……画像記録装置、 22……露光ヘツド、 80……LEDチツプ、 86、88……マスク、 94……発光輝度測定装置、 98……分析装置。
1 (A) and 1 (B) are plan views showing a state where a mask is attached to a light source section of the exposure head according to the present embodiment, and FIG. 2 is an image recording apparatus to which the exposure head according to the present embodiment is applied. Schematic diagram, FIG. 3 is an explanatory diagram showing a procedure for mounting a mask, FIG. 4 is a schematic diagram of a light emission luminance distribution measuring device and an analyzer, and FIG. 5 is a light emitting LED chip photographed by a CCD camera. FIG. 6 is a plan view, FIG. 6 is a light emission luminance distribution characteristic diagram of the LED chip analyzed by the analyzer, FIG. 7 is a schematic diagram of measurement of the light emission luminance by knife edge, and FIG. Output characteristic diagram, FIG. 9 is a light emission luminance distribution characteristic diagram obtained by differentiating the characteristic of FIG. 8, FIG. 10 is a schematic diagram of measuring light emission luminance by a rotating ring, and FIG. 11 is an output characteristic of the light amount sensor of FIG. FIG. 10: Image recording device, 22: Exposure head, 80: LED chip, 86, 88: Mask, 94: Emission luminance measurement device, 98: Analysis device.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G02B 26/10 G03G 15/04 113 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G02B 26/10 G03G 15/04 113

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数の光源を備えこれらの光源から発光さ
れた光線を光学系によって集光し、この光線を記録材料
上に結像させて複数の走査ラインの記録を同時に行って
画像を記録する露光ヘツドの光源の発光輝度分布を調整
するにあたって、前記複数の光源から照射される光線の
発光輝度分布を測定し、各々の光源の発光輝度中心間の
ピツチ寸法と予め定められた所定ピツチ寸法とを比較し
て、発光中心間のピツチ寸法と所定ピツチ寸法とを一致
させるようにマスクを取付けることを特徴とする露光ヘ
ツド用光源の発光輝度分布の調整方法。
1. An image recording system comprising a plurality of light sources, wherein light beams emitted from these light sources are condensed by an optical system, and these light beams are imaged on a recording material to simultaneously record a plurality of scanning lines to record an image. In adjusting the light emission luminance distribution of the light source of the exposure head to be exposed, the light emission luminance distribution of the light emitted from the plurality of light sources is measured, and the pitch between the light emission luminance centers of the respective light sources and a predetermined pitch size are determined. And adjusting a light emission luminance distribution of the exposure head light source by mounting a mask so that a pitch between light emission centers matches a predetermined pitch.
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