JP2734934B2 - Solid state laser - Google Patents

Solid state laser

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JP2734934B2
JP2734934B2 JP5112209A JP11220993A JP2734934B2 JP 2734934 B2 JP2734934 B2 JP 2734934B2 JP 5112209 A JP5112209 A JP 5112209A JP 11220993 A JP11220993 A JP 11220993A JP 2734934 B2 JP2734934 B2 JP 2734934B2
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利光 林
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、固体レーザに関し、特
に固体レーザ媒質から生成される基本波を非線形光学素
子にて波長変換する固体レーザに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solid-state laser, and more particularly, to a solid-state laser in which a fundamental wave generated from a solid-state laser medium is wavelength-converted by a nonlinear optical element.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4は、特開平2−247601号公報
にて開示されたこの種従来の固体レーザの構成を示す概
略構成図である。同図において、13は、Ndのドープ
されたYAG(イットリウムアルミニウムガーネット)
ロッド、14は、YAGロッド13の両端面に形成され
た反射防止膜、15は、KTP(KTiOPO4 )から
なるSHG(第2次高調波発生)素子、16、17、1
8は、それぞれTiO2膜、ZrO2 膜、SiO2 膜で
あって、16〜18により反射防止膜が構成されてい
る。19は、基本光を反射する第1のミラー、20は、
基本光を反射し、SH(第2次高調波)光を反射防止す
る第2のミラーである。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing the configuration of a conventional solid-state laser of this kind disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-247601. In the figure, reference numeral 13 denotes Nd-doped YAG (yttrium aluminum garnet)
The rod 14 is an anti-reflection film formed on both end surfaces of the YAG rod 13, the reference numeral 15 is an SHG (second harmonic generation) element made of KTP (KTiOPO 4 ), 16, 17, and 1.
Numeral 8 denotes a TiO 2 film, a ZrO 2 film, and a SiO 2 film, respectively, and 16 to 18 constitute an anti-reflection film. 19 is a first mirror for reflecting basic light, 20 is
This is a second mirror that reflects basic light and prevents reflection of SH (second harmonic) light.

【0003】同図に示される固体レーザにおいて、YA
Gロッド13は、光励起され、第1、第2のミラー1
9、20を光共振器として基本波11の発振をする。こ
の基本波11は、光共振器内に配置されたSHG素子1
5により第2高調波12に波長変換され、求めるレーザ
光として出力される。特開平2−247601号公報に
おいて提案された固体レーザでは、SHG素子15の表
面に設けた、TiO2 膜16、ZrO2 膜17、SiO
2 膜18のわずか3層からなる反射防止膜によって、反
射率を基本波11に対し、0.028%、第2高調波1
2に対し0.025%とすることができ、極めて低損失
なデバイスを実現している。
In the solid-state laser shown in FIG.
The G rod 13 is optically excited, and the first and second mirrors 1
The fundamental wave 11 is oscillated using the optical resonators 9 and 20 as optical resonators. This fundamental wave 11 is generated by the SHG element 1 arranged in the optical resonator.
The wavelength is converted into a second harmonic 12 by the laser beam 5, and is output as a desired laser beam. In the solid-state laser proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 2-247601, a TiO 2 film 16, a ZrO 2 film 17,
The antireflection film consisting of only three layers of the two films 18 has a reflectance of 0.028% with respect to the fundamental wave 11 and a second harmonic 1
The ratio can be set to 0.025% with respect to 2, thereby realizing an extremely low-loss device.

【0004】上述したように従来の非線形光学素子を用
いる固体レーザでは、固体レーザ媒質と非線形光学素子
とを分離して配置していたが、半導体レーザでは、半導
体活性層に非線形光学素子形成材料を密着させる構造の
ものが提案されている。図5の(a)は、特開平1−1
75286号公報にて提案された半導体レーザの斜視図
であり、図5の(b)は、その発振状態を示す概念図で
ある。同図に示されるように、GaAsからなる活性層
21は、上下をAlGaAsからなるクラッド層22に
挟まれ、また左右をSHG材料層23によって挟まれて
おり、そして両端面には基本波を反射する多層膜コート
26が形成されている。
As described above, in a conventional solid-state laser using a non-linear optical element, a solid-state laser medium and a non-linear optical element are arranged separately, but in a semiconductor laser, a non-linear optical element forming material is formed in a semiconductor active layer. A structure with a close contact has been proposed. FIG.
FIG. 5 is a perspective view of a semiconductor laser proposed in Japanese Patent No. 75286, and FIG. 5B is a conceptual diagram showing an oscillation state thereof. As shown in the figure, an active layer 21 made of GaAs is sandwiched between a cladding layer 22 made of AlGaAs on the upper and lower sides, and an SHG material layer 23 on the left and right sides. A multilayer film coat 26 is formed.

【0005】上下面に配置された電極24を介して電源
25より電流を供給すると、活性層21では2つの多層
膜コート26を光共振器として基本波11が生成され
る。基本波11の発振モード光強度分布27は、前記活
性層21内にとどまらず、前記SHG材料層23内にわ
ずかにしみだす広がりを見せる。この基本波11と交わ
ったSHG材料層23の部分から第2高調波12が生成
される。
When a current is supplied from a power supply 25 via electrodes 24 arranged on the upper and lower surfaces, a fundamental wave 11 is generated in the active layer 21 using two multilayer coats 26 as optical resonators. The oscillation mode light intensity distribution 27 of the fundamental wave 11 is not limited to the inside of the active layer 21 but slightly spreads out into the SHG material layer 23. The second harmonic 12 is generated from the portion of the SHG material layer 23 that intersects the fundamental wave 11.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】図4に示した従来の固
体レーザでは、各構成要素を分離して配置するものであ
ったため、下記の問題点があった。 非線形光学素子に反射防止膜を形成しなければなら
ないため、非線形光学素子を形成するための材料として
は、蒸着、スパッタ等により成膜を施すことのできるも
の以外のものは利用することができなかった。例えば、
有機材料であるDAN[4−(N、N−ジメチルアミ
ノ)−3−アセトアミドニトロベンゼン]等は、波長変
換効率が高く非直線光学素子形成材料として望ましい特
性を備えているが、その融点が170℃と低く蒸着を行
うことが困難であるため実用化することができなかっ
た。 各構成要素にそれぞれ反射防止膜や反射膜等の多層
膜コートを施す必要があるため多くの製造工数を必要と
し、低価格化が困難であった。 装置が大型化し、また共振器長が長くなるため横モ
ードの単一化が困難であった。 共振器が外気と接しているため、共振器内の部材に
空気中に散在しているほこりが付着しやすく、基本波の
内部パワー低下の原因となる。
The conventional solid-state laser shown in FIG. 4 has the following problems since each component is arranged separately. Since an antireflection film must be formed on the nonlinear optical element, materials other than those that can be formed by vapor deposition, sputtering, and the like cannot be used as materials for forming the nonlinear optical element. Was. For example,
An organic material such as DAN [4- (N, N-dimethylamino) -3-acetamidonitrobenzene] has high wavelength conversion efficiency and has desirable characteristics as a material for forming a nonlinear optical element, but has a melting point of 170 ° C. Therefore, it was difficult to perform vapor deposition, so that it could not be put to practical use. Since it is necessary to apply a multilayer coating such as an anti-reflection film or a reflection film to each component, a large number of manufacturing steps are required, and it has been difficult to reduce the cost. Since the size of the device is increased and the length of the resonator is increased, it is difficult to unify the transverse mode. Since the resonator is in contact with the outside air, dust scattered in the air tends to adhere to members in the resonator, which causes a reduction in the internal power of the fundamental wave.

【0007】これに対し、図5に示した従来例では、半
導体レーザではあるが、半導体活性層に非線形光学素子
形成材料層を密着させたことにより上述の問題点のいく
つかは解決されている。しかし、この従来例でも非線形
光学材料層の両端面には多層膜コートが必要であるた
め、材料選択上の制限は依然として存在している。さら
に、この従来例では光共振器の光軸の直角方向に非線形
光学材料層が存在しているため、効率の点で劣ったもの
になっている。すなわち、基本波11の内部パワーは活
性層21内では強いが、強度はガウシアン分布であるた
め活性層21の周辺に位置している非線形光学材料層内
では低く、そして一般に変換効率はパワー密度の二乗に
比例するので、波長変換効率の低下は著しく、第2高調
波出力は極めて弱いものとなる。
On the other hand, although the conventional example shown in FIG. 5 is a semiconductor laser, some of the above-mentioned problems have been solved by bringing a nonlinear optical element forming material layer into close contact with a semiconductor active layer. . However, even in this conventional example, since a multilayer coating is required on both end surfaces of the nonlinear optical material layer, there is still a limitation in material selection. Further, in this conventional example, since the nonlinear optical material layer exists in the direction perpendicular to the optical axis of the optical resonator, the efficiency is inferior. That is, the internal power of the fundamental wave 11 is strong in the active layer 21, but is low in the nonlinear optical material layer located around the active layer 21 because of the Gaussian distribution, and the conversion efficiency is generally lower than the power density. Since it is proportional to the square, the decrease in wavelength conversion efficiency is remarkable, and the output of the second harmonic is extremely weak.

【0008】よって、本発明の目的とするところは、第
1に、非線形光学素子に多層膜を形成しないで済むよう
にして材料選択の制限を緩和することであり、第2に、
多くの多層膜コートを必要としない固体レーザ構造を実
現して工数の削減と低価格化を図ることであり、第3
に、小型化された固体レーザを提供しうるようにするこ
とであり、第4に、劣化し難い、長寿命の固体レーザを
提供することである。
Therefore, an object of the present invention is, first, to alleviate the limitation on material selection so that a multilayer film is not required to be formed on a nonlinear optical element.
The goal is to realize a solid-state laser structure that does not require many multilayer coatings to reduce man-hours and reduce costs.
Fourth, it is to provide a downsized solid-state laser, and fourth, to provide a long-life solid-state laser which is hardly deteriorated.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の固体レーザは、
固体レーザ媒質から生成される基本波を非線形光学素子
にて波長変換する固体レーザにおいて、非線形光学素子
を構成する非線形光学素子形成材料層が固体レーザ媒質
上に直接結晶育成されて配置されていることを特徴とす
るするものである。そして、前記固体レーザ媒質の非線
形光学素子形成材料層が形成されていない側の面にダイ
クロイック層が形成され、前記非線形光学素子の前記固
体レーザ媒質に接していない側の面に、透明板の一方の
面にダイクロイック層が形成されてなるミラーのダイク
ロイック層側の面がオプティカルコンタクトされてい
る。
The solid-state laser of the present invention comprises:
In a solid-state laser in which a fundamental wave generated from a solid-state laser medium is wavelength-converted by a non-linear optical element, a non-linear optical element forming material layer forming the non-linear optical element is directly grown on the solid-state laser medium and is arranged. It is characterized by the following. A dichroic layer is formed on the surface of the solid-state laser medium on which the non-linear optical element forming material layer is not formed, and one surface of the transparent plate is formed on the surface of the non-linear optical element that is not in contact with the solid-state laser medium. The surface on the dichroic layer side of the mirror in which the dichroic layer is formed on the surface is optically contacted.

【0010】[0010]

【作用】従来例では、固体レーザ媒質と非線形光学素子
とが別体で構成されていたため非線形光学素子に反射防
止膜を形成することは必須であった。反射防止膜を用い
ない場合、端面での光損失は4%以上となり発振できな
いとされてきたからである。本発明では、固体レーザ媒
質と非線形光学材料とに互いに屈折率の近いものを採用
し、両材料を密着せしめることにより上記難点を克服し
ている。例えば、固体レーザ媒質としてNd:YVO
(屈折率:n=1.9)を、非線形光学材料としてD
AN(屈折率:n=1.8)を採用した場合、反射率
Rは、 R=(n−n/(n+n=0.07% となり、これが光損失となるがこの程度の光損失であれ
ば十分に発振が可能である。
In the conventional example, since the solid-state laser medium and the nonlinear optical element are formed separately, it is essential to form an antireflection film on the nonlinear optical element. This is because, when the antireflection film is not used, the light loss at the end face becomes 4% or more, and it is considered that oscillation cannot be performed. In the present invention, the above-mentioned difficulties are overcome by adopting a solid-state laser medium and a non-linear optical material having close refractive indexes to each other and bringing both materials into close contact with each other. For example, as a solid-state laser medium, Nd: YVO 4
(Refractive index: n 1 = 1.9) as D
When AN (refractive index: n 2 = 1.8) is adopted, the reflectance R is R = (n 1 −n 2 ) 2 / (n 1 + n 2 ) 2 = 0.07%, which is the optical loss. However, oscillation is sufficiently possible with this level of light loss.

【0011】反射防止膜を省略できることの意義は、第
1に、高効率の有機非線形光学材料を実用化できること
である。有機非線形光学材料は、無機非線形光学材料と
比較して波長変換効率が高いことから注目されてきた
が、一般に融点が低く(DANの場合で170℃)、ま
た結晶結合力が弱く昇華しやすいため、真空中での高温
加熱を必要とする蒸着膜の形成に不向きで実用化が困難
であった。本発明は、有機第2高調波発生材料の実用化
への道を拓くものであり、本発明により、高効率の固体
レーザを提供することが可能となる。反射防止膜を省略
したことの第2の意義は、装置を小型化できることであ
る。特に、有機第2高調波発生材料を用いる場合、変換
効率が高いことから共振器を短くでき装置を一層小型化
できる。また、共振器長を短くできたことにより、横モ
ードの単一化が容易となる。
The significance of omitting the antireflection film is, first, that a highly efficient organic nonlinear optical material can be put to practical use. Organic nonlinear optical materials have attracted attention because of their higher wavelength conversion efficiency as compared with inorganic nonlinear optical materials. However, organic nonlinear optical materials generally have a low melting point (170 ° C. in the case of DAN) and have a weak crystal bonding force and are easily sublimated. However, it is not suitable for forming a vapor-deposited film that requires high-temperature heating in a vacuum, and has been difficult to put into practical use. The present invention opens the way to practical use of organic second harmonic generation materials, and the present invention makes it possible to provide a high-efficiency solid-state laser. The second significance of omitting the antireflection film is that the device can be downsized. In particular, when an organic second harmonic generation material is used, the resonator can be shortened and the device can be further miniaturized because of high conversion efficiency. Further, since the length of the resonator can be shortened, it becomes easy to unify the transverse mode.

【0012】[0012]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1の(a)は、本発明の一実施例の固体
レーザの断面図である。同図において、1は、Nd:Y
VO4 からなる固体レーザ媒質、2は、DAN[4−
(N、N−ジメチルアミノ)−3−アセトアミドニトロ
ベンゼン]により構成される非線形光学素子、3は石英
板、4は、固体レーザ媒質1の一面および石英板3の一
面に形成されたダイクロイック層である。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1A is a sectional view of a solid-state laser according to one embodiment of the present invention. In the figure, 1 is Nd: Y
The solid-state laser medium 2 composed of VO 4 has a DAN [4-
(N, N-dimethylamino) -3-acetamidonitrobenzene], 3 is a quartz plate, 4 is a dichroic layer formed on one surface of the solid-state laser medium 1 and one surface of the quartz plate 3. .

【0013】次に、図1の(b)を参照して本実施例の
製造方法について説明する。まず、厚さ0.7mmの固
体レーザ媒質1を用意し、その片側面に予めダイクロイ
ック層4を形成しておく。次に、ガラス製の容器5内に
アセトンを溶媒とするDANの飽和溶液6を満たす。そ
して、固体レーザ媒質1を、ダイクロイック層4の形成
されていない面を上にして容器内に配置し、固体レーザ
媒質1上にDANの種結晶を置く。溶液6の温度を徐々
に低下させると固体レーザ媒質1上にDANの結晶成長
が始まる。このとき、成長するDANの結晶軸は、容器
5の側面に配置され、電源8に接続されている2枚の電
極7間の電界によってコントロールされる。
Next, the manufacturing method of this embodiment will be described with reference to FIG. First, a solid laser medium 1 having a thickness of 0.7 mm is prepared, and a dichroic layer 4 is previously formed on one side thereof. Next, the glass container 5 is filled with a saturated solution 6 of DAN using acetone as a solvent. Then, the solid-state laser medium 1 is placed in a container with the surface on which the dichroic layer 4 is not formed facing up, and a seed crystal of DAN is placed on the solid-state laser medium 1. When the temperature of the solution 6 is gradually lowered, crystal growth of DAN on the solid-state laser medium 1 starts. At this time, the crystal axis of the growing CAN is arranged on the side surface of the container 5 and controlled by the electric field between the two electrodes 7 connected to the power supply 8.

【0014】DANを1.3mmの厚さに成長させた
後、試料を容器より取り出しその上表面を光学研磨す
る。一方、石英板3の表面を研磨して十分に平滑にした
後、ダイクロイックコートを行う。最後に、非線形光学
素子2に石英板3のダイクロイック層4面をオプティカ
ルコンタクトさせると、図1の(a)に示す本実施例の
固体レーザが得られる。
After growing the DAN to a thickness of 1.3 mm, the sample is taken out of the container and the upper surface thereof is optically polished. On the other hand, after the surface of the quartz plate 3 is polished and sufficiently smooth, dichroic coating is performed. Finally, when the surface of the dichroic layer 4 of the quartz plate 3 is brought into optical contact with the nonlinear optical element 2, the solid-state laser of the present embodiment shown in FIG. 1A is obtained.

【0015】次に、本実施例の動作について説明する。
適当な励起手段、例えばレーザダイオードを用いて固体
レーザ媒質を励起する。光共振器は、固体レーザ媒質1
と石英板3とのそれぞれの表面に施されたダイクロイッ
ク層4、4間で形成される。その光共振器内を、すなわ
ち固体レーザ媒質1および非線形光学素子2内を基本波
11は多重反射する。そして基本波11の一部が前記非
線形光学素子2により波長変換され、第2高調波12と
して放射される。
Next, the operation of this embodiment will be described.
The solid state laser medium is excited using a suitable excitation means, for example, a laser diode. The optical resonator is a solid-state laser medium 1
It is formed between the dichroic layers 4 provided on the respective surfaces of the quartz plate 3 and the quartz plate 3. The fundamental wave 11 undergoes multiple reflection in the optical resonator, that is, in the solid-state laser medium 1 and the nonlinear optical element 2. Then, a part of the fundamental wave 11 is wavelength-converted by the nonlinear optical element 2 and radiated as the second harmonic 12.

【0016】次に、本実施例の具体的使用例について説
明する。図2は、本実施例を用いた固体グリーンレーザ
の構成を示す断面図である。レーザダイオード10の出
力光をセルフォックレンズ9を介して固体レーザ媒質1
内に入射する。固体レーザ媒質1は、一対のダイクロイ
ック層4、4を光共振器として波長1.06μmの基本
波を生成する。この基本波の一部は非線形光学素子2に
よって0.53μmに波長変換された後外部に放出され
る。
Next, a specific use example of this embodiment will be described. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a solid-state green laser using the present embodiment. The output light of the laser diode 10 is transmitted through the selfoc lens 9 to the solid-state laser medium 1.
Incident inside. The solid-state laser medium 1 generates a fundamental wave having a wavelength of 1.06 μm using the pair of dichroic layers 4 and 4 as optical resonators. A part of this fundamental wave is emitted to the outside after the wavelength is converted to 0.53 μm by the nonlinear optical element 2.

【0017】図3は、本実施例を固体ブルーレーザに適
用した場合の構成を示す断面図である。この例では非線
形光学素子2がレーザダイオード10側になるように配
置されている。レーザダイオード10の波長0.81μ
mの赤外光はセルフォックレンズ9を介して非線形光学
素子2および固体レーザ媒質1に入射される。固体レー
ザ媒質1は、一対のダイクロイック層4、4を光共振器
として波長1.06μmの基本波を生成する。非線形光
学素子2は、この基本波とレーザダイオードの赤外光を
吸収して両者のエネルギーの和に相当する0.459μ
mの和周波光を生成して外部に放出する。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration in which this embodiment is applied to a solid-state blue laser. In this example, the nonlinear optical element 2 is arranged so as to be on the laser diode 10 side. 0.81μ wavelength of laser diode 10
m infrared light is incident on the nonlinear optical element 2 and the solid-state laser medium 1 via the Selfoc lens 9. The solid-state laser medium 1 generates a fundamental wave having a wavelength of 1.06 μm using the pair of dichroic layers 4 and 4 as optical resonators. The nonlinear optical element 2 absorbs the fundamental wave and the infrared light of the laser diode and absorbs 0.459 μm corresponding to the sum of the energies of the two.
m sum frequency light is generated and emitted to the outside.

【0018】以上好ましい実施例について説明したが、
本発明は上記実施例に限定されるものではなく各種変更
が可能である。例えば、固体レーザ媒質としてPd:Y
VOに代えPd:YAG、Pd:YLF等他の媒質を
用いることができ、また非線形光学素子を形成するのに
DAN[4−(N、N−ジメチルアミノ)−3−アセト
アミドニトロベンゼン]に代え、PCNB(プロピルカ
ルバミックニトロベンゼン、屈折率:1.7)等の他の
有機材料あるいはKTP(KTiOPO屈折率:
1.8)等の無機材料を用いることができ、それぞれ屈
折率の近い材料同士で組合せることができる。
Although the preferred embodiment has been described above,
The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications are possible. For example, Pd: Y as a solid-state laser medium
Instead of VO 4 Pd: YAG, Pd: YLF or the like can be used other media, also place the DAN [4- (N, N- dimethylamino) -3-acetamide-nitrobenzene] to form a nonlinear optical element Or other organic materials such as PCNB (propylcarbamic nitrobenzene, refractive index: 1.7 ) or KTP (KTiOPO 4 , refractive index:
1.8) an inorganic material, or the like can be used. Flexion respectively
Ru can be combined with a material having close folding rate.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の固体レー
ザは、固体レーザ媒質1上で非線形光学素子2を結晶育
成して両構成要素を密着させ、さらに非線形光学素子2
と石英板3とを光学研磨し両者をオプティカルコンタク
トさせたものであるので、以下の効果を奏することがで
きる。 非線形光学素子に反射防止膜を形成しないで済むよ
うになり、従来、波長変換効率が高くても蒸着膜を形成
することができないために用いることのできなかった材
料を使用して非線形光学素子を形成することが可能とな
る。その結果、非直線光学素子を用いる固体レーザの高
出力化が可能となる。また、同一の出力を得るには非直
線光学素子の膜厚を薄くすることができる。 装置をコンパクトに構成することができるようにな
り、共振器長を従来の10mmから2mm以下と1/5
以下に構成することが可能となる。そして、共振器長が
短くなったことにより横モードの単一化が容易となる。
As described above, according to the solid-state laser of the present invention, the non-linear optical element 2 is grown on the solid-state laser medium 1 so that the two components are brought into close contact with each other.
And the quartz plate 3 are optically polished and brought into optical contact with each other, so that the following effects can be obtained. It is not necessary to form an anti-reflection film on the nonlinear optical element, and the nonlinear optical element can be formed using a material that could not be used because a deposition film could not be formed even if the wavelength conversion efficiency was high. It can be formed. As a result, it is possible to increase the output of a solid-state laser using a nonlinear optical element. Further, in order to obtain the same output, the thickness of the nonlinear optical element can be reduced. The device can be made compact, and the length of the resonator can be reduced from the conventional 10 mm to 2 mm or less to 1/5.
The following configuration is possible. And, since the resonator length is shortened, it becomes easy to unify the transverse mode.

【0020】 レーザ共振器内を外気から遮断するこ
とができ、その結果、外気に散在するゴミ、ほこりの付
着による内部共振器のパワー低下を抑制することがで
き、固体レーザの長寿命化を達成することができる。 従来例では6個必要であった多層膜コートを2個形
成するだけで済むようになり、安価に製品を提供するこ
とが可能となる。
The inside of the laser resonator can be cut off from the outside air, and as a result, a decrease in power of the internal resonator due to adhesion of dust and dust scattered in the outside air can be suppressed, and the life of the solid-state laser can be extended. can do. In the conventional example, only two multi-layer coats, which are required six in the conventional example, need be formed, and a product can be provided at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す断面図とその製造方法
を説明するための断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of the present invention and a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing the same.

【図2】本発明の実施例の適用例を示す断面図。FIG. 2 is a sectional view showing an application example of the embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例の適用例を示す断面図。FIG. 3 is a sectional view showing an application example of the embodiment of the present invention.

【図4】従来の固体レーザの構成を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional solid-state laser.

【図5】従来の半導体レーザの例を示す斜視図とその動
作説明図。
FIG. 5 is a perspective view showing an example of a conventional semiconductor laser and its operation explanatory view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 固体レーザ媒質 2 非線形光学素子 3 石英板 4 ダイクロイック層 5 容器 6 DANの飽和溶液 7 電極 8 電源 9 セルフォックレンズ 10 レーザダイオード 11 基本波 12 第2高調波 13 YAGロッド 14 反射防止膜 15 SHG素子 16 TiO2 膜 17 ZrO2 膜 18 SiO2 膜 19 第1のミラー 20 第2のミラー 21 活性層 22 クラッド層 23 SHG材料層 24 電極 25 電源 26 多層膜コート 27 光強度分布DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solid-state laser medium 2 Nonlinear optical element 3 Quartz plate 4 Dichroic layer 5 Container 6 Saturated solution of DAN 7 Electrode 8 Power supply 9 Selfoc lens 10 Laser diode 11 Fundamental wave 12 2nd harmonic 13 YAG rod 14 Anti-reflection film 15 SHG element Reference Signs List 16 TiO 2 film 17 ZrO 2 film 18 SiO 2 film 19 First mirror 20 Second mirror 21 Active layer 22 Cladding layer 23 SHG material layer 24 Electrode 25 Power supply 26 Multi-layer coating 27 Light intensity distribution

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 固体レーザ媒質から生成される基本波を
非線形光学素子にて波長変換する固体レーザにおいて、
前記非線形光学素子が前記固体レーザ媒質上にこれと屈
折率が近い材料を用いて直接結晶育成することによって
形成されていることを特徴とする固体レーザ。
1. A solid-state laser in which a fundamental wave generated from a solid-state laser medium is wavelength-converted by a nonlinear optical element.
The nonlinear optical element is bent over the solid-state laser medium.
By directly growing crystals using materials with similar bending ratios
A solid-state laser characterized by being formed .
【請求項2】 前記固体レーザ媒質の非線形光学素子と
接触していない側の面にダイクロイック層が形成され、
前記非線形光学素子の前記固体レーザ媒質に接していな
い側の面に、透明板の一方の面にダイクロイック層が形
成されてなるミラーのダイクロイック層側の面が密着さ
れていることを特徴とする請求項1記載の固体レーザ。
2. A dichroic layer is formed on a surface of the solid-state laser medium that is not in contact with the nonlinear optical element,
The dichroic layer-side surface of a mirror having a dichroic layer formed on one surface of a transparent plate is in close contact with a surface of the non-linear optical element that is not in contact with the solid-state laser medium. Item 2. The solid-state laser according to Item 1.
【請求項3】 前記非線形光学素子が、DAN[4−
(N、N−ジメチルアミノ)−3−アセトアミドニトロ
ベンゼン](波長1064nmのときの屈折率:1.
8)、PCNB(プロピルカルバミックニトロベンゼ
ン)(波長1064nmのときの屈折率:1.7)また
はKTP(KTiOPO4(波長1064nmのとき
の屈折率:1.8)を用いて形成されていることを特徴
とする請求項1記載の固体レーザ。
3. The method according to claim 2, wherein the non-linear optical element is a DAN [4-
(N, N-dimethylamino) -3-acetamidonitrobenzene] (Refractive index at a wavelength of 1064 nm: 1.
8) PCNB (propyl carbamic nitrobenzene) (refractive index at a wavelength of 1064 nm: 1.7) or KTP (KTiOPO 4 ) (a wavelength of 1064 nm )
2. The solid-state laser according to claim 1, wherein the solid-state laser is formed using a refractive index of 1.8) .
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