JP2725560B2 - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory device

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JP2725560B2
JP2725560B2 JP21208593A JP21208593A JP2725560B2 JP 2725560 B2 JP2725560 B2 JP 2725560B2 JP 21208593 A JP21208593 A JP 21208593A JP 21208593 A JP21208593 A JP 21208593A JP 2725560 B2 JP2725560 B2 JP 2725560B2
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voltage
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boosted voltage
writing
erasing
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加奈子 伊達
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、不揮発性半導体記憶装
置に関し、特に、電気的に消去・書き込みが可能な不揮
発性半導体記憶装置(EEPROM)に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly, to an electrically erasable and writable nonvolatile semiconductor memory device (EEPROM).

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、不揮発性半導体記憶装置では、
メモリセルのデータ消去・書き込み動作には高電圧(V
PP)を必要とするが、通常、外部提供電源電圧(VCC
をチャージポンプ回路にて昇圧して高電圧の昇圧電圧
(通常、VCC=5Vに対してVPP=20V程度)を生成
し、メモリセルおよびその周辺回路に供給している。
2. Description of the Related Art Generally, in a nonvolatile semiconductor memory device,
A high voltage (V
PP ), but usually provided by an externally supplied power supply voltage (V CC )
Is boosted by a charge pump circuit to generate a high boosted voltage (generally, V PP = 20 V with respect to V CC = 5 V) and supplies it to the memory cell and its peripheral circuits.

【0003】図8は、従来の不揮発性半導体記憶装置の
消去・書き込み系回路を中心としたブロック図である。
同図において、10は、外部よりクロックCLK、各種
の制御信号CNLを受けて、装置の消去・書き込み動作
および読み出し動作を含む各種動作を制御する制御回路
ブロック、11は、消去・書き込み動作時に制御回路ブ
ロック10に制御されてそのためのタイミング信号を発
生する消去・書き込みタイミング発生回路、12はパル
ス発生器、13は、パルス発生器のパルスにより昇圧電
圧を発生するチャージポンプ回路、15は、外部よりア
ドレス信号ADとデータDAとを受けてこれを保持する
とともにワード・アドレスポインタ16とメモリセルア
レイ17伝達するレジスタである。
FIG. 8 is a block diagram mainly showing an erase / write system circuit of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.
In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a control circuit block which receives a clock CLK and various control signals CNL from the outside, and controls various operations including an erase / write operation and a read operation of the device. An erasing / writing timing generating circuit controlled by the circuit block 10 to generate a timing signal therefor, 12 is a pulse generator, 13 is a charge pump circuit that generates a boosted voltage by a pulse of the pulse generator, and 15 is an external device. The register receives and holds the address signal AD and the data DA, and transmits the word / address pointer 16 and the memory cell array 17.

【0004】制御回路ブロック10が消去・書き込み動
作に入ると、消去・書き込みタイミング発生回路11は
消去・書き込みタイミングを発生し、チャージポンプ回
路13は昇圧電圧VPPを生成する。消去・書き込みタイ
ミング中は昇圧電圧VPPはワード・アドレスポインタ1
6を介してメモリセルアレイ17に供給され、レジスタ
15により指示されたアドレスのメモリセルが消去さ
れ、そのアドレスのセルがレジスタ15の指示するデー
タに書き替えられる。
When the control circuit block 10 starts an erase / write operation, an erase / write timing generation circuit 11 generates an erase / write timing, and a charge pump circuit 13 generates a boosted voltage V PP . During the erase / write timing, the boosted voltage V PP is applied to the word address pointer 1
The memory cell at the address designated by the register 15 is erased, and the cell at the address is rewritten with the data designated by the register 15.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の不揮発
性半導体記憶装置では、チャージポンプ回路の昇圧電圧
PPは昇圧レベルにかかわらずメモリセルに供給され
る。而して、チャージポンプ回路の昇圧電圧VPPは、電
源電圧5V系のデバイスでは安定したレベルが得られる
が、3.3Vあるいはそれ以下の電圧を電源電圧とする
低電圧系のデバイスでは昇圧能力の不足が発生すること
がある。何らかの原因で十分な昇圧レベルに達していな
い昇圧電圧VPPにより書き込み動作を行うと、十分なレ
ベルの昇圧電圧VPPにによって消去・書き込みを行った
場合と比較して書き込みがレベル浅くなるか、あるいは
消去・書き込みが全く行われないことになる。書き込み
レベルが浅い場合は、誤書き込みあるいは書き込みデー
タの抜けを引き起こし、また消去・書き込みが行われな
かったかった場合、それまでに書き込んだデータがその
まま残る。そして、どのデータが誤書き込みされあるい
は未書き込みとなったかは、消去・書き込みの都度読み
出して書き込みデータと比較してみないと外部でモニタ
することはできない。
In the conventional nonvolatile semiconductor memory device described above, the boosted voltage V PP of the charge pump circuit is supplied to the memory cells regardless of the boosted level. Thus, the boosted voltage V PP of the charge pump circuit can be obtained at a stable level in a device with a power supply voltage of 5 V, but can be boosted in a low voltage device with a power supply voltage of 3.3 V or less. Shortage may occur. When the write operation is performed with the boosted voltage V PP that has not reached the sufficient boost level for some reason, the write level becomes shallower than when erase / write is performed with the boost voltage V PP of a sufficient level, Alternatively, no erasing / writing is performed. When the writing level is low, erroneous writing or omission of writing data is caused. When erasing / writing is not performed, data written so far remains as it is. Which data has been erroneously written or not written cannot be monitored externally unless read out and compared with write data each time erasure or writing is performed.

【0006】したがって、この発明の目的とするところ
は、第1に、不十分な昇圧電圧VPPの下では消去・書き
込みが行われることのないようにして電圧不足が原因で
起きる書き込み誤動作を防止できるようにすることであ
り、第2に、昇圧電圧が消去・書き込みを行うのに不足
していることを外部よりモニタできるようにし、もって
不揮発性半導体記憶装置の動作信頼性を高めようとする
ものである。
Therefore, an object of the present invention is to firstly prevent erasing / writing from being performed under an insufficient boosted voltage V PP to prevent a writing malfunction caused by a voltage shortage. Secondly, it is possible to externally monitor that the boosted voltage is insufficient for erasing / writing, thereby improving the operation reliability of the nonvolatile semiconductor memory device. Things.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、複数のメモリセルが配置されたメ
モリセルアレイ(17)と、前記メモリセルに対する消
去・書き込みおよび読み出し動作を含む各種動作を制御
する制御回路ブロック(10)と、前記制御回路ブロッ
クによって制御されて前記メモリセルに対する消去・書
き込みのタイミングを指示する信号を発生するタイミン
グ発生回路(11)と、消去・書き込みモード時に前記
制御ブロックの指示により外部から供給される電源電圧
を昇圧して消去・書き込み用の昇圧電圧を発生する昇圧
回路(13)と、前記昇圧電圧を検出する電圧検出回路
(Di+Qp+Qp+In;18)と、消去・書き込み
モード時に前記電圧検出回路が検出する前記昇圧電圧が
所定値以下の場合に該昇圧電圧の前記メモリセルへの伝
達を遮断するスイッチング回路(SW;19)と、を備
えることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置が提供さ
れる。そして、好ましくは、この不揮発性半導体記憶装
置は、前記電圧検出回路の出力信号を外部からモニタで
きるように構成される。
According to the present invention, there is provided a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged, and various kinds of operations including erasing / writing and reading operations for the memory cells. a control circuit block for controlling the operation (10), the control and circuit timing generator circuit being controlled by a block generating a signal indicative of the timing of the erasing and writing to the memory cell (11), wherein the erase-write mode booster circuit power supply voltage supplied from the outside in response to an instruction from the control block by boosting generating boosted voltage for erasing and writing (13), a voltage detection circuit for detecting the boosted voltage; and (Di + Qp + Qp + in 18), erase ·writing
A switching circuit (SW; 19) for interrupting transmission of the boosted voltage to the memory cell when the boosted voltage detected by the voltage detection circuit in a mode is equal to or less than a predetermined value. A semiconductor storage device is provided. Preferably, the nonvolatile semiconductor memory device is configured so that an output signal of the voltage detection circuit can be monitored from outside.

【0008】[0008]

【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の第1の実施例を示すブロ
ック図である。本実施例は、外部からクロックCLKと
各種制御信号CNLが供給され、装置内の各部に制御信
号を供給する制御回路ブロック10と、制御回路ブロッ
ク10の制御信号が供給され、消去・書き込みのタイミ
ングを指示する信号を発する消去・書き込みタイミング
発生回路11と、同じく制御回路ブロック10からの信
号を受けてパルスを生成するパルス発生器12と、該パ
ルス発生器からパルスの供給を受けて昇圧電圧を生成す
るチャージポンプ回路13と、チャージポンプ回路13
から昇圧電圧VPPが供給され、この昇圧電圧をクランプ
するとともにこのクランプ電圧の外部伝達を制御する昇
圧電圧クランプ・伝達回路14と、不揮発性のメモリセ
ルが複数個配置されているメモリセルアレイ17と、特
定のアドレスのメモリセルを選択して、昇圧電圧クラン
プ・伝達回路14により供給される昇圧電圧を伝達する
ワード・アドレスポインタ16と、データDAとアドレ
ス信号ADが入力され、それぞれをメモリセルアレイ1
7とワード・アドレスポインタ16とに伝達するレジス
タ15により構成される。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention. In the present embodiment, a clock CLK and various control signals CNL are supplied from the outside, a control circuit block 10 that supplies control signals to various parts in the device, and a control signal of the control circuit block 10 are supplied. , An erase / write timing generation circuit 11 for generating a signal for instructing, a pulse generator 12 for receiving a signal from the control circuit block 10 to generate a pulse, and receiving a pulse from the pulse generator to generate a boosted voltage. Charge pump circuit 13 to generate and charge pump circuit 13
Boosted voltage V PP is supplied from the boosted voltage clamping transfer circuit 14 for controlling the external transmission of the clamping voltage while clamping the boosted voltage, the memory cell array 17 which nonvolatile memory cells are plural arranged A word / address pointer 16 for selecting a memory cell at a specific address and transmitting the boosted voltage supplied by the boosted voltage clamp / transmission circuit 14, data DA and an address signal AD are input to the memory cell array 1.
7 and a register 15 for transmitting to the word address pointer 16.

【0009】次に、この実施例の動作について説明す
る。制御回路ブロック10の出力信号が消去・書き込み
の状態になると、タイミング発生回路11は消去・書き
込みのタイミングをワード・アドレスポインタ16に供
給し、チャージポンプ回路13は昇圧電圧VPPを昇圧電
圧クランプ・伝達回路14に供給する。昇圧電圧クラン
プ・伝達回路14は、昇圧電圧が所定の電圧に達した場
合に限りクランプした昇圧電圧VPPをワード・アドレス
ポインタ16に供給する。ワード・アドレスポインタ1
6は、レジスタ15に指示されたアドレスのメモリセル
を選択して昇圧電圧VPPを伝達する。これにより消去が
遂行され続いてレジスタ15が保持しているデータが書
き込まれる。
Next, the operation of this embodiment will be described. When the output signal of the control circuit block 10 enters the erase / write state, the timing generation circuit 11 supplies the erase / write timing to the word / address pointer 16, and the charge pump circuit 13 applies the boosted voltage V PP to the boosted voltage clamp circuit. It is supplied to the transmission circuit 14. The boost voltage clamp / transmission circuit 14 supplies the clamped boost voltage V PP to the word address pointer 16 only when the boost voltage reaches a predetermined voltage. Word address pointer 1
6 selects the memory cell at the address specified by the register 15 and transmits the boosted voltage V PP . As a result, erasing is performed, and subsequently the data held in the register 15 is written.

【0010】昇圧電圧クランプ・伝達回路14の回路例
を図2に、その動作説明図を図3に示す。昇圧された入
力電圧VI は、ダイオードDiおよび2段のpチャネル
MOSトランジスタQp、Qpによりクランプされる。
クランプされた昇圧電圧VPPは、スイッチング回路SW
を介して出力電圧VO として出力される。スイッチング
回路SWの導通、非導通はインバータInによって制御
される。すなわち、インバータInの出力がローのと
き、スイッチング回路SWは導通し、ハイのとき遮断さ
れる。
FIG. 2 shows a circuit example of the boosted voltage clamp / transmission circuit 14, and FIG. Boosted input voltage V I is the diode Di and a two-stage p-channel MOS transistor Qp, is clamped by Qp.
The clamped boosted voltage V PP is applied to the switching circuit SW
Is output as an output voltage V O through The conduction and non-conduction of the switching circuit SW is controlled by the inverter In. That is, when the output of the inverter In is low, the switching circuit SW conducts, and when high, the switching circuit SW is shut off.

【0011】ダイオードDiの逆耐圧をVBD、トランジ
スタQpの2段分の閾値電圧をVTPとすると、クランプ
電圧VCPは、VCP=VBD+VTPとなり、昇圧電圧VPP
この電圧でクランプされる。ダイオードDiのアノード
側の電圧をV1、インバータInの出力側の電圧をV2
とする。図3に示されるように、入力電圧VI がダイオ
ードDiの逆耐圧以下であるとき(VI <VBD)、電圧
V1は0Vであり、したがって、電圧V2はハイレベル
にある。よって、このときスイッチング回路SWは遮断
状態にある。入力電圧VI がダイオードDiの逆耐圧V
BDを越えると、ダイオードは導通し、入力電圧VI の上
昇にともなってダイオードのジャンクション電流が上昇
し電圧V1は立ち上がる。電圧V1がインバータInの
閾値電圧VTINVを越えると、電圧V2はローレベルとな
り、スイッチング回路SWが導通を開始する。入力電圧
I がさらに上昇してVBD+VTPを越えると電圧V1は
トランジスタQpの閾値電圧VTPに固定される。
Assuming that the reverse withstand voltage of the diode Di is V BD and the threshold voltage of the two stages of the transistor Qp is V TP , the clamp voltage V CP becomes V CP = V BD + V TP , and the boosted voltage V PP is this voltage. Clamped. The voltage on the anode side of the diode Di is V1 and the voltage on the output side of the inverter In is V2.
And As shown in FIG. 3, when the input voltage V I is less than the reverse breakdown voltage of the diode Di (V I <V BD) , the voltage V1 is 0V, therefore, the voltage V2 is at a high level. Therefore, at this time, the switching circuit SW is in the cutoff state. Reverse voltage V of the input voltage V I is the diode Di
Exceeding the BD, the diode conducts, the voltage V1 junction current rises diode with increasing input voltage V I rises. When the voltage V1 exceeds the threshold voltage V TINV of the inverter In, the voltage V2 becomes low level, and the switching circuit SW starts conducting. Voltage V1 is further increased input voltage V I exceeds V BD + V TP is fixed to the threshold voltage V TP of the transistor Qp.

【0012】以上のように、チャージポンプ回路13の
出力電圧、すなわち昇圧された入力電圧VI が、VI
BD+VTINVであるとき、伝達回路14の出力電圧は、
0Vであり、メモリセルの消去・書き込みは実行されな
い。入力電圧VI が、VI >VBD+VTINVとなるとスイ
ッチング回路SWが導通し、クランプされた昇圧電圧V
PPが伝達回路14の出力電圧VO として出力され、メモ
リセルの消去・書き込みは確実に遂行される。
As described above, the output voltage of the charge pump circuit 13, that is, the boosted input voltage V I is less than V I <
When V BD + V TINV , the output voltage of the transmission circuit 14 is
0 V, and no erasing / writing of the memory cell is performed. Input voltage V I is, V I> V BD + V TINV become the conducting switching circuit SW, clamped boosted voltage V
PP is output as the output voltage V O of the transmission circuit 14, and the erasing / writing of the memory cell is reliably performed.

【0013】図4は、本発明の第2の実施例を示すブロ
ック図である。この実施例の第1の実施例と相違する点
は、第1の実施例での昇圧電圧クランプ・伝達回路14
が除去され、代わりにチャージポンプ回路13の昇圧電
圧を検出する昇圧電圧検出回路18と、チャージポンプ
回路13の出力電圧を伝達/遮断する遮断回路19が用
いられていることである。すなわち、本実施例では、昇
圧電圧が所定値に達していないときは、昇圧電圧検出回
路18は、第1のレベルの信号を出力し、これにより遮
断回路19によって、昇圧電圧のワード・アドレスポイ
ンタ16への伝達を遮断し、昇圧電圧が所定値を越えた
ときは、昇圧電圧検出回路18は、第2のレベルの信号
を出力し、これにより遮断回路19を導通させ、チャー
ジポンプ回路の出力する昇圧電圧をワード・アドレスポ
インタ16へ伝達させる。この構成により、本実施例も
先の実施例と同様の効果を奏することができる。
FIG. 4 is a block diagram showing a second embodiment of the present invention. This embodiment is different from the first embodiment in that the boosted voltage clamp / transmission circuit 14 in the first embodiment is different from the first embodiment.
Is eliminated, and a boosted voltage detection circuit 18 for detecting a boosted voltage of the charge pump circuit 13 and a cutoff circuit 19 for transmitting / cutting off the output voltage of the charge pump circuit 13 are used instead. That is, in the present embodiment, when the boosted voltage has not reached the predetermined value, the boosted voltage detection circuit 18 outputs a signal of the first level, whereby the cutoff circuit 19 causes the word / address pointer of the boosted voltage to output. When the boosted voltage exceeds a predetermined value, the boosted voltage detection circuit 18 outputs a signal of the second level, thereby turning on the cutoff circuit 19, and the output of the charge pump circuit. Is transmitted to the word / address pointer 16. With this configuration, the present embodiment can also achieve the same effects as the previous embodiment.

【0014】図5は、本発明の第3の実施例を示すブロ
ック図である。本実施例の第2の実施例と相違する点
は、昇圧電圧検出回路18の出力信号が消去・書き込み
タイミング発生回路11にも制御信号として加えられて
いる点である。すなわち、本実施例では、昇圧電圧が所
定値に達していないときは、昇圧電圧検出回路18の出
力する第1のレベルの信号により、タイミング発生回路
11の動作が停止せしめられ、昇圧電圧が所定値を越え
たときは、昇圧電圧検出回路18の出力する第2のレベ
ルの信号により、タイミング発生回路はアクティブとな
り、タイミング信号をワード・アドレスポインタ16へ
送出する。本実施例では、チャージポンプの昇圧電圧が
十分でない場合は、昇圧電圧ばかりでなく消去・書き込
みのタイミングも供給されないので、二重に誤書き込み
を防止できる。
FIG. 5 is a block diagram showing a third embodiment of the present invention. This embodiment differs from the second embodiment in that the output signal of the boosted voltage detection circuit 18 is also applied to the erase / write timing generation circuit 11 as a control signal. That is, in the present embodiment, when the boosted voltage has not reached the predetermined value, the operation of the timing generation circuit 11 is stopped by the first level signal output from the boosted voltage detection circuit 18, and the boosted voltage is reduced to the predetermined value. When the value exceeds the value, the timing generation circuit is activated by the second level signal output from the boosted voltage detection circuit 18, and sends the timing signal to the word / address pointer 16. In this embodiment, when the boost voltage of the charge pump is not sufficient, not only the boost voltage but also the erase / write timing is not supplied, so that erroneous writing can be prevented twice.

【0015】図6は、本発明の第4の実施例を示すブロ
ック図である。本実施例の第2の実施例と相違する点
は、昇圧電圧告知端子WRNが備えられ、該端子に昇圧
電圧検出回路18の出力が供給されている点である。本
実施例では、昇圧電圧検出回路18の出力信号は遮断回
路19ばかりでなく昇圧電圧告知端子WRNにも供給さ
れるので、昇圧電圧のレベルが十分でないとき、メモリ
への消去・書き込みが回避される外、消去・書き込みが
行われていないことを外部からモニタできる。また、昇
圧電圧のレベルが十分に高いとき、メモリセルへの消去
・書き込みが行われたことをこの端子の信号により知る
ことができる。
FIG. 6 is a block diagram showing a fourth embodiment of the present invention. This embodiment is different from the second embodiment in that a boost voltage notification terminal WRN is provided, and the output of the boost voltage detection circuit 18 is supplied to this terminal. In this embodiment, the output signal of the boosted voltage detection circuit 18 is supplied not only to the cut-off circuit 19 but also to the boosted voltage notification terminal WRN. Therefore, when the level of the boosted voltage is not sufficient, erasing / writing to the memory is avoided. In addition, it is possible to externally monitor that no erasing / writing has been performed. Further, when the level of the boosted voltage is sufficiently high, it is possible to know from the signal at this terminal that the erasing / writing to the memory cell has been performed.

【0016】図7は、本発明の第5の実施例を示すブロ
ック図である。本実施例は、第3の実施例に対し、昇圧
電圧告知端子WRNを付加しこれに昇圧電圧検出回路1
8の出力信号をモニタできるようにしたものである。本
実施例では、チャージポンプ回路13の出力する昇圧電
圧のレベルが十分でないとき、昇圧電圧および消去・書
き込みのタイミングがメモリに供給されないので、二重
に誤書き込みを防止できるとともに、昇圧電圧のレベル
が不十分のために書き込みが行われていないことを外部
からモニタできる。
FIG. 7 is a block diagram showing a fifth embodiment of the present invention. This embodiment is different from the third embodiment in that a boosted voltage notification terminal WRN is added, and a boosted voltage detection circuit 1
8 can be monitored. In this embodiment, when the level of the boosted voltage output from the charge pump circuit 13 is not sufficient, the boosted voltage and the erasing / writing timing are not supplied to the memory. Can be externally monitored that writing is not performed due to insufficient data.

【0017】以上好ましい実施例について説明したが、
本発明はこれら実施例に限定されるされるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本願発明の要旨内にお
いて各種の変更が可能である。例えば、第3〜第5の実
施例において、遮断回路19の昇圧電圧の入力部乃至出
力部にクランプ回路を設けてワード・アドレスポインタ
16に印加される電圧に制限を加えるようにしてもよ
い。
While the preferred embodiment has been described above,
The present invention is not limited to these embodiments, and various changes can be made within the gist of the present invention described in the claims. For example, in the third to fifth embodiments, a clamp circuit may be provided at an input portion or an output portion of the boosted voltage of the cutoff circuit 19 to limit the voltage applied to the word / address pointer 16.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による不揮
発性半導体記憶装置は、消去・書き込み用の昇圧電圧が
所定値以下の場合にはこれをメモリセルに伝達せしめな
いようにし、所定の値を越えた場合にのみ昇圧電圧を伝
達するようにしたものであるので、本発明によれば、制
御回路ブロックの出力信号が消去・書き込みの状態にな
っても、消去・書き込み用の昇圧電圧のレベルが十分で
ない場合には、消去・書き込み動作が行われないように
なり、不十分なレベルの昇圧電圧での書き込み動作によ
って起こる誤書き込み、あるいは書き込みデータの抜け
を防止することができる。したがって、本発明によれ
ば、電池などの外部電源のレベル低下やその他何らかの
原因で昇圧電圧のレベルが低下しても、データが破壊さ
れることがなくなり、信頼性の高い不揮発性半導体記憶
装置を提供することができる。
As described above, in the nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, when the boosted voltage for erasing / writing is lower than a predetermined value, this is prevented from being transmitted to the memory cell, and the predetermined voltage is maintained. Therefore, according to the present invention, even if the output signal of the control circuit block is in an erase / write state, the boosted voltage for erasure / write is transmitted according to the present invention. If the level is not sufficient, the erasing / writing operation is not performed, so that erroneous writing caused by a writing operation with an insufficient boosted voltage or omission of write data can be prevented. Therefore, according to the present invention, even when the level of an external power supply such as a battery is lowered or the level of a boosted voltage is lowered for some other reason, data is not destroyed, and a highly reliable nonvolatile semiconductor memory device is provided. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施例を示すブロック図。FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施例における昇圧電圧クラン
プ・伝達回路の回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram of a boosted voltage clamp / transfer circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施例における昇圧電圧クラン
プ・伝達回路の動作説明図。
FIG. 3 is a diagram illustrating the operation of a boosted voltage clamp / transmission circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施例を示すブロック図。FIG. 4 is a block diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第3の実施例を示すブロック図。FIG. 5 is a block diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第4の実施例を示すブロック図。FIG. 6 is a block diagram showing a fourth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第5の実施例を示すブロック図。FIG. 7 is a block diagram showing a fifth embodiment of the present invention.

【図8】従来例のブロック図。FIG. 8 is a block diagram of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 制御回路ブロック 11 消去・書き込みタイミング発生回路 12 パルス発生器 13 チャージポンプ回路 14 昇圧電圧クランプ・伝達回路 15 レジスタ 16 ワード・アドレスポインタ 17 メモリセルアレイ 18 昇圧電圧検出回路 19 遮断回路 Reference Signs List 10 control circuit block 11 erase / write timing generation circuit 12 pulse generator 13 charge pump circuit 14 boost voltage clamp / transmission circuit 15 register 16 word / address pointer 17 memory cell array 18 boost voltage detection circuit 19 cutoff circuit

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルが配置されたメモリセ
ルアレイと、前記メモリセルに対する消去・書き込みお
よび読み出し動作を含む各種動作を制御する制御回路ブ
ロックと、前記制御回路ブロックによって制御されて前
記メモリセルに対する消去・書き込みのタイミングを指
示する信号を発生するタイミング発生回路と、消去・書
き込みモード時に前記制御ブロックの指示により外部か
ら供給される電源電圧を昇圧して消去・書き込み用の昇
圧電圧を発生する昇圧回路と、前記昇圧電圧を検出する
電圧検出回路と、消去・書き込みモード時に前記電圧検
出回路が検出する前記昇圧電圧が所定値以下の場合に該
昇圧電圧の前記メモリセルへの伝達を遮断するスイッチ
ング回路と、を備えることを特徴とする不揮発性半導体
記憶装置。
A memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged; a control circuit block for controlling various operations including erasing, writing, and reading operations on the memory cells; and a memory cell controlled by the control circuit block. a timing generating circuit for generating a signal indicative of the timing of the erasing and writing to, erasing and Form
A booster circuit for boosting a power supply voltage supplied from the outside in accordance with an instruction of the control block in the write mode to generate a boosted voltage for erasing / writing; a voltage detecting circuit for detecting the boosted voltage; sometimes the voltage detecting circuit nonvolatile semiconductor memory device, wherein a and a switching circuit for blocking transmission to the memory cell of the boosted voltage when the boosting voltage to be detected is below a predetermined value.
【請求項2】 前記タイミング発生回路は、前記電圧検
出回路が検出する前記昇圧電圧が所定値以上の場合に限
り前記信号を発信するものであることを特徴とする請求
項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
2. The non-volatile semiconductor device according to claim 1, wherein the timing generation circuit transmits the signal only when the boosted voltage detected by the voltage detection circuit is equal to or higher than a predetermined value. Storage device.
【請求項3】 前記電圧検出回路の出力信号を外部より
検知できる手段が備えられていることを特徴とする請求
項1記載の不揮発性半導体記憶装置。
3. The non-volatile semiconductor memory device according to claim 1, further comprising means for externally detecting an output signal of said voltage detection circuit.
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