JP2718695B2 - Magneto-optical recording member and method of manufacturing the same - Google Patents

Magneto-optical recording member and method of manufacturing the same

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JP2718695B2
JP2718695B2 JP63124956A JP12495688A JP2718695B2 JP 2718695 B2 JP2718695 B2 JP 2718695B2 JP 63124956 A JP63124956 A JP 63124956A JP 12495688 A JP12495688 A JP 12495688A JP 2718695 B2 JP2718695 B2 JP 2718695B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光を用いて情報の記録、再生、消去を行な
う光磁気記録用部材及びその製造方法に係り、特に高信
頼性を有し、長寿命の光磁気記録用部材及びその製造方
法に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording member for recording, reproducing, and erasing information using light and a method for manufacturing the same, and particularly to a member having high reliability. And a long-life magneto-optical recording member and a method of manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

高度情報化社会の進展に伴ない、高密度、大容量でか
つ書き換え可能なファイルメモリーへのニーズが高まっ
ている。これを満たすものとして、光ディスクが着目さ
れてお4り、中でも光磁気記録は実用化に最も近い段階
にある。
With the progress of the advanced information society, the need for a high-density, large-capacity and rewritable file memory is increasing. An optical disk has been paid attention to satisfying this requirement, and among them, magneto-optical recording is at the stage closest to practical use.

ところで、光磁気記録に用いる記録材料としてTbFeCo
系をはじめとする希土類元素と鉄族元素とからなる非晶
質合金系と、PtMnSbを主体としたホイスラー合金系等が
知られているが、いずれも大気中の酸素や水に対して活
性で、容易に腐食して水酸化物や酸化物を形成する。そ
のため、時間の経過とともにディスクの諸特性が低下す
る、記録した情報が保持できない等、ディスクの寿命又
はディスクの信頼性の低下をきたしていた。これを防止
するため、特開昭61−51806にはCoTb合金にCr,Mo,W等を
添加することが、また特開昭61−87306にはCoFe及び希
土類元素からなる合金にCr,Ti等を添加することが記載
されている。
By the way, TbFeCo is used as a recording material for magneto-optical recording.
An amorphous alloy system composed of a rare earth element and an iron group element, including a system, and a Heusler alloy system mainly composed of PtMnSb, etc., are known, all of which are active against oxygen and water in the atmosphere. Easily corrodes to form hydroxides and oxides. As a result, various characteristics of the disk have been reduced with the passage of time, recorded information cannot be retained, and the life of the disk or the reliability of the disk has been reduced. To prevent this, Cr, Mo, W, etc. may be added to a CoTb alloy in JP-A-61-51806, and Cr, Ti, etc. may be added to an alloy comprising CoFe and a rare earth element in JP-A-61-87306. Is described.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

上記従来技術は、光磁気記録膜に、大気中の水等によ
って生じる腐食と局部的に生じる孔食とを同時に抑制す
るという点について配慮されておらず、光磁気記録用部
材の信頼性が十分でないといった問題があった。
The above-mentioned prior art does not consider that the magneto-optical recording film simultaneously suppresses corrosion caused by water and the like in the atmosphere and pitting caused locally, and the reliability of the magneto-optical recording member is not sufficient. There was a problem that was not.

本発明の目的は、高信頼性を有する光磁気記録用部材
及びその製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a magneto-optical recording member having high reliability and a method for manufacturing the same.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記目的を達成するために、本発明の光磁気記録用部
材は、光によって情報の記録、再生、消去を行なう光磁
気記録膜がCrを含み、その少なくとも一方の界面近傍部
分にCrと結合した窒素を存在させ、かつ、その厚み方向
の中央部分が実質的に窒素を含まないようにしたもので
ある。
In order to achieve the above object, the magneto-optical recording member of the present invention has a magneto-optical recording film for recording, reproducing, and erasing information by light, which contains Cr, and which is bonded to Cr in a portion near at least one interface. Nitrogen is present, and the central portion in the thickness direction is substantially free of nitrogen.

また、上記目的を達成するために、本発明の光磁気記
録用部材は、光によって情報の記録、再生、消去を行な
う光磁気記録膜がCrを含み、その少なくとも一方の界面
近傍部分にCrと結合した窒素を存在させ、かつ、その界
面近傍部分においてCr濃度を増加させるようにしたもの
である。
In order to achieve the above object, a magneto-optical recording member according to the present invention is characterized in that a magneto-optical recording film for recording, reproducing, and erasing information by light contains Cr, and has Cr and The structure is such that bonded nitrogen is present and the Cr concentration is increased near the interface.

さらにまた、上記目的を達成するために、本発明の光
磁気記録用部材の製造方法は、基板上に、スパッタリン
グ又は電子線蒸着により、Crを含有する光磁気記録膜を
形成するときに、この光磁気記録膜の形成の初期若しく
は終期又はその両者の時に窒素を含む雰囲気中でスパッ
タリング又は電子線蒸着を行ない、光磁気記録膜の少な
くとも一方の界面近傍部分に、Crと結合した窒素を存在
せしめるようにしたものである。
Still further, in order to achieve the above object, the method for producing a magneto-optical recording member of the present invention includes the steps of: forming a Cr-containing magneto-optical recording film on a substrate by sputtering or electron beam evaporation; At the beginning and / or the end of the formation of the magneto-optical recording film, sputtering or electron beam evaporation is performed in an atmosphere containing nitrogen, and nitrogen bonded with Cr is present in the vicinity of at least one interface of the magneto-optical recording film. It is like that.

本発明に用いられる光磁気記録膜は、垂直磁気異方性
を有し、Crを含有するものであればどのような合金組成
でもよい。例えば、希土類元素と鉄族元素とからなり、
Crを含むものが用いられる。さらにこの組成にPt,Au,P
d,Rhから選ばれた少なくとも一種の元素を加えて用いる
こと、またこれにさらにNb,Ti,Ta,Alから選ばれた少な
くとも一種の元素を加えて用いることが好ましい。通常
希土類元素と鉄族元素の合計量は85at%以上であること
が好ましい。このような合金系のほかにCrを含むホイス
ラー合金等も用いられ、この場合もさらにPtを含むもの
が好ましい。
The magneto-optical recording film used in the present invention may have any composition as long as it has perpendicular magnetic anisotropy and contains Cr. For example, it is composed of rare earth elements and iron group elements,
A material containing Cr is used. Furthermore, Pt, Au, P
It is preferable to use at least one element selected from d and Rh and further use at least one element selected from Nb, Ti, Ta and Al. Usually, the total amount of the rare earth element and the iron group element is preferably at least 85 at%. In addition to such an alloy system, a Heusler alloy containing Cr or the like is used, and in this case, an alloy further containing Pt is preferable.

記録膜の界面近傍にはCrが0.5at%以上存在すること
が好ましい。記録膜の厚み方向に元素の組成を変化させ
てもよく、Crの量をこのように変化させて界面近傍で10
0at%となるようにしてもよい。CrとNとの結合層(以
下酸素拡散防止層という)は、記録膜の界面近傍で20〜
200Åの厚さに存在することが好ましい。20Å未満では
効果が顕著でない。厚さの上限は200Åを越えてもよい
が、この層の形成には長時間かかるため不必要に厚くす
ることは好ましくない。
It is preferable that Cr is present at 0.5 at% or more near the interface of the recording film. The composition of the element may be changed in the thickness direction of the recording film.
It may be set to 0 at%. The bonding layer of Cr and N (hereinafter referred to as oxygen diffusion preventing layer) is 20 to
It is preferably present at a thickness of 200 mm. If less than 20 mm, the effect is not remarkable. Although the upper limit of the thickness may exceed 200 °, it is not preferable to increase the thickness unnecessarily since formation of this layer takes a long time.

酸素拡散防止層において、Nは0.1〜4at%であること
が好ましく、0.2〜3at%であることがより好ましい。0.
1at%未満では効果が顕著でない。Nの量が4at%を越え
てもよいが、多量のNを含有させるのは通常の方法では
困難である。
In the oxygen diffusion preventing layer, N is preferably 0.1 to 4 at%, more preferably 0.2 to 3 at%. 0.
If less than 1 at%, the effect is not remarkable. Although the amount of N may exceed 4 at%, it is difficult to contain a large amount of N by a usual method.

〔作用〕[Action]

光磁気記録膜の界面近傍にCrと結合した窒素層を設け
ることにより、記録膜内部への酸素等の拡散を防止する
ので、記録膜の腐食を抑制できる。
By providing a nitrogen layer bonded to Cr near the interface of the magneto-optical recording film, diffusion of oxygen and the like into the recording film is prevented, so that corrosion of the recording film can be suppressed.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の詳細について実施例を用いて詳細に説
明する。
Hereinafter, the details of the present invention will be described in detail using examples.

実施例 1 下記の方法により作製した光磁気ディスクの断面構造
の模式図を第1図に示す。案内溝を有する基板1の上
に、スパッタ法により窒化シリコンの下地膜2を600Å
の膜厚に形成した。作製した膜の屈折率は2.5であっ
た。それに引き続き、Tb26Fe44Co20Cr3Pt7の組成の光磁
気記録膜3をスパッタ法により形成した。ターゲットに
はTbFeCoPt合金とCrとを用い、放電ガスにはArを使用し
た。膜形成は、二元同時スパッタ法により行なった。す
なわち、最初両ターゲット同時にRF電力を印加して約80
0Åの膜を形成した。そして放電ガスをN2に切換え放電
を止めずにスパッタを続け、約200Åの酸素拡散防止層
4を形成し、光磁気ディスクを作製した。
Example 1 FIG. 1 shows a schematic diagram of a cross-sectional structure of a magneto-optical disk manufactured by the following method. On a substrate 1 having a guide groove, a silicon nitride base film 2 is formed by sputtering to a thickness of 600.
Was formed. The refractive index of the produced film was 2.5. Subsequently, a magneto-optical recording film 3 having a composition of Tb 26 Fe 44 Co 20 Cr 3 Pt 7 was formed by a sputtering method. A TbFeCoPt alloy and Cr were used for the target, and Ar was used for the discharge gas. The film was formed by a dual simultaneous sputtering method. That is, first, RF power is applied to both targets at the same
A 0 ° film was formed. Then, the discharge gas was switched to N 2 and the sputtering was continued without stopping the discharge to form an oxygen diffusion preventing layer 4 of about 200 °, thereby producing a magneto-optical disk.

このようにして作製したディスクの特性は、搬送波対
雑音比(C/N)58dB(パルス幅:500nsec,周波数:1MHz,外
部印加磁界:400Oe,NA=0.5,レーザーパワー8mW,回転数1
20rpm)であった。このディスクを60℃−90%RH中に放
置したときのエラーレイトの経時変化を調べ第2図にそ
の結果を示す。比較例として膜形成すべてをArのみで作
製したディスクを用いた。その結果、この環境中にディ
スクを放置した場合、本実施例のディスクを用いると30
00時間放置してもエラーレイトの増加はみられず2×10
-6(件/bit)で一定であるのに対し、比較例の膜を用い
ると、3000時間後に6×10-6(件/bit)と約3倍に増加
した。
The characteristics of the disk manufactured in this manner are as follows: carrier-to-noise ratio (C / N) 58 dB (pulse width: 500 nsec, frequency: 1 MHz, externally applied magnetic field: 400 Oe, N A = 0.5, laser power 8 mW, rotation speed 1
20 rpm). The change with time of the error rate when this disk was left in 60 ° C.-90% RH was examined, and the results are shown in FIG. As a comparative example, a disk in which all the films were formed using only Ar was used. As a result, when the disk is left in this environment, using the disk of this embodiment
Even if left for 00 hours, the error rate does not increase and 2 × 10
-6 (case / bit), while using the film of the comparative example, it increased about 3 times to 6 × 10 -6 (case / bit) after 3000 hours.

ところで、表面層の窒素の状態分析をXPSを用いて行
なったところ、Crは単体として存在せず結合状態にあっ
た。またメスバウワーによる測定からCrと窒素の結合を
示唆する結果を得た。酸素拡散防止層の窒素の量は約0.
5〜1at%である。このように、エラーレイトの増加がみ
られないのは、Crの窒化物が存在しているためである。
これに対し、酸素拡散防止層の存在しない比較例では、
添加元素の効果により腐食の進行は抑制されるものの不
十分である。これは、Crを主体とした不働態皮膜の緻密
さの違いによることがわかる。
By the way, when the state analysis of nitrogen in the surface layer was performed by using XPS, Cr was not present as a simple substance but in a bonded state. In addition, a result suggesting the binding of Cr and nitrogen was obtained from the measurement by Mossbauer. The amount of nitrogen in the oxygen diffusion preventing layer is about 0.
It is 5 to 1 at%. The reason why the error rate is not increased as described above is that Cr nitride exists.
On the other hand, in the comparative example having no oxygen diffusion preventing layer,
Although the progress of corrosion is suppressed by the effect of the added element, it is insufficient. It can be seen that this is due to the difference in the density of the passive film mainly composed of Cr.

実施例 2 本実施例では、イオンビームスパッタ装置を用いてデ
ィスクの作製を行なった場合で、装置の概略図を第3図
に示す。また、作製したディスクの断面構造の模式図を
第4図に示す装置はロードロック式であるが、図にはそ
の内スパッタリングを行なうための主要部分を示す。通
常のスパッタリングは、デポガン(イオン化するための
ガン)側へアルゴンガスを導入、イオン化して加速し、
合金ターゲットTb19Nd5Fe37Co28Cr4Pt7)とそのイオン
とを衝突させてスパッタを行なう。ディスクの作製は、
記録膜形成に先立ちミリングガンより窒素イオンを発射
し、案内溝付基板1の表面を清澄化した。そして、ミリ
ングガンを作動させたまま、デポガンも同時に作動さ
せ、ミリングをかけながら膜形成を行ない酸素拡散防止
層4を設け、その厚さが100Åとなったところでミリン
グガンを停止し、デポガンを用いて記録膜3を形成し、
800Åの厚さとなったところで再びミリングをかけ、そ
の上に200Åの酸素拡散防止層4を形成し、所望の光磁
気ディスクとした。比較例として、ミリングガンを用い
ずデポガンのみで1100Åの膜を形成した光磁気ディスク
を用いた。
Embodiment 2 In this embodiment, a disk is manufactured using an ion beam sputtering apparatus, and a schematic view of the apparatus is shown in FIG. The apparatus shown in FIG. 4 is a schematic diagram of the cross-sectional structure of the manufactured disk, which is of a load lock type. In the figure, the main part for performing sputtering is shown. In normal sputtering, argon gas is introduced into the depot gun (gun for ionization), ionized, accelerated,
The alloy target Tb 19 Nd 5 Fe 37 Co 28 Cr 4 Pt 7 ) and its ions collide with each other to perform sputtering. To make a disc,
Prior to the formation of the recording film, nitrogen ions were emitted from a milling gun to clarify the surface of the substrate 1 with guide grooves. Then, while the milling gun is operated, the depot gun is also operated at the same time, a film is formed while milling is performed, and the oxygen diffusion preventing layer 4 is provided. Forming a film 3;
When the thickness reached 800 mm, milling was performed again, and a 200-degree oxygen diffusion preventing layer 4 was formed thereon to obtain a desired magneto-optical disk. As a comparative example, a magneto-optical disk in which a 1100 ° film was formed only by a depot gun without using a milling gun was used.

このディスクの特性を評価したところ、C/N=52dB
(周波数:1MHz,パルス幅:500ns,外部印加磁界:400Oe,NA
=0.5,記録レーザパワー10mW,読み出しレーザーパワー
1.5mW)であった。また記録膜の磁気特性は、キュリー
温度:Tc=250℃,補償温度:Tcomp=90℃、力−回転角:
θ=0.34゜,保磁力:HC=9KOeであった。
When the characteristics of this disk were evaluated, C / N = 52dB
(Frequency: 1 MHz, pulse width: 500 ns, external applied magnetic field: 400 O e , N A
= 0.5, recording laser power 10mW, readout laser power
1.5 mW). The magnetic characteristics of the recording film are as follows: Curie temperature: Tc = 250 ° C., compensation temperature: Tcomp = 90 ° C., force-rotation angle:
theta K = 0.34 °, coercive force: was H C = 9KO e.

次にこのディスクを60℃−90%RH中に放置した時のエ
ラーレイトの経時変化の結果を第5図に示す。この図よ
り、本発明により作製したディスクのエラーレイトは、
1500時間放置までは作製初期とまったく変化なく2×10
-6(件/bit)と一定であったが、その後わずかづつ増大
し、3000時間後で3×10-6(件/bit)となった。これに
対し、本発明を用いていない比較例でも、作製初期2×
10-6(件/bit)であったエラーレイトが、1000時間経過
後からわずかづつ増大してゆき、3000時間後で1×10-5
(件/bit)となった。このように本発明を用いることに
より、エラーの発生を著しく抑制できることが分かる。
Next, FIG. 5 shows the results of the change over time of the error rate when the disk was left in 60 ° C.-90% RH. From this figure, the error rate of the disk manufactured according to the present invention is
2 x 10
-6 (events / bit), but then increased gradually, reaching 3 × 10 -6 (events / bit) after 3000 hours. On the other hand, in the comparative example not using the present invention, 2 ×
The error rate, which was 10 -6 (cases / bit), gradually increased after 1000 hours, and 1 × 10 -5 after 3000 hours
(Cases / bit). Thus, it can be seen that the use of the present invention can significantly suppress the occurrence of errors.

ところで、記録膜表面の金属材料と窒素の結合状態を
オージェ電子分光法とメスバウワースペクトルとを併用
して調べたところ、材料中の主にCrと窒素とが強く結合
していることがわかった。Crの他にFeも一部窒素と結合
していた。このCrと窒素の化合物は、安定かつ緻密で保
護効果は著しく高いので、表面層として設けるのみなら
ず、保護膜として設けても良い。なお、酸素拡散防止層
における窒素の量は約0.5〜1at%であった。
By the way, the combination of Auger electron spectroscopy and Mossbauer spectrum was used to examine the bonding state between the metal material and nitrogen on the surface of the recording film, and it was found that mainly Cr and nitrogen in the material were strongly bonded. . In addition to Cr, Fe also partially bound to nitrogen. Since the compound of Cr and nitrogen is stable and dense and has a remarkably high protective effect, it may be provided not only as a surface layer but also as a protective film. The amount of nitrogen in the oxygen diffusion preventing layer was about 0.5 to 1 at%.

実施例 3 本実施例において作製した光磁気ディスクの構造は、
実施例2と同様で第4図に示すとおりである。ディスク
の作製は、DC二元同時スパッタ法により行なった。装置
概略図を第6図に示す。用いた装置は、蒸着ソース源は
TbFeCoPTの合金ターゲットとCrターゲットの二つとN2
ラズマ発生源とからなり、放電ガスとしてArを主体と
し、窒化のためのN2は適ぎプラズマ化した。ディスク作
製手順は、まず案内溝付き基板1表面にN2プラズマガン
よりプラズマを照射した後に、Crターゲットを放電させ
約50Åの膜を形成したところで、プラズマ照射量及びCr
ターゲットへ流す電流を徐々に低下してゆくとともにTb
FeCoPtターゲットを放電させ記録層3を形成した。ここ
で100Åの膜厚となったところで、窒素プラズマの照射
を停止した。そして全膜厚が800Åとなったところで、T
bFeCoPtに印加する電流を徐々に低下してゆき、全膜厚
が900Åとなったところで完全に停止した。これとは逆
にCrターゲットに流す電流を徐々に上げるとともにN2
ラズマ照射量を増大させた。そして、全膜厚が1100Åと
なったところで成膜を停止した。記録層の組成はTb26Fe
44Co20Cr3Pt7であり、酸素拡散防止層の組成は記録層と
接する側では記録層と同じ組成で、外側に向かってCrの
量が多く、他の金属元素の量は少なくなるように変化
し、表面では金属元素はCrのみである。
Example 3 The structure of the magneto-optical disk manufactured in this example is as follows.
As shown in FIG. 4 as in the second embodiment. The production of the disk was performed by a DC binary simultaneous sputtering method. FIG. 6 shows a schematic diagram of the apparatus. The equipment used was a deposition source
It consisted of a TbFeCoPT alloy target, two Cr targets, and an N 2 plasma source. The discharge gas consisted mainly of Ar, and N 2 for nitriding turned into suitable plasma. The disc was prepared by irradiating the surface of the substrate 1 with a guide groove with plasma from an N 2 plasma gun and then discharging the Cr target to form a film of about 50 °.
As the current flowing to the target gradually decreases, Tb
The recording layer 3 was formed by discharging the FeCoPt target. Here, when the film thickness reached 100 °, the irradiation with nitrogen plasma was stopped. Then, when the total film thickness reaches 800 mm, T
The current applied to bFeCoPt was gradually reduced, and stopped completely when the total film thickness reached 900 °. Conversely, the current flowing through the Cr target was gradually increased, and the dose of N 2 plasma was increased. Then, when the total film thickness reached 1100 °, the film formation was stopped. The composition of the recording layer is Tb 26 Fe
44 Co 20 Cr 3 Pt 7 , the composition of the oxygen diffusion preventing layer is the same as that of the recording layer on the side in contact with the recording layer, with the amount of Cr increasing outward and the amount of other metal elements decreasing. , And the metal element is only Cr on the surface.

こうして作製したディスクのC/Nを実施例2と同様の
記録再生条件で測定すると53dBであった。このディスク
を用いて寿命試験を行ない、その結果は第7図に示すと
おりである。比較例に、N2プラズマを照射しないで作製
したものを用いた。試験方法として実施例1と同じく60
℃−90%RH中にディスクを放置したときのエラーレイト
の経時変化を測定した。その結果、本発明を用いずに作
製したディスクは、作製初期のエラーレイトが2×10-6
(件/bit)であったのが、1000時間経過後から徐々に増
大しはじめ、3000時間後で8×10-6(件/bit)となっ
た。これに対し、本発明を用いて作製したディスクのエ
ラーレイトは、作製初期も3000時間放置後もまったく変
らず2×10-6(件/bit)であった。
The C / N of the disc thus manufactured was 53 dB when measured under the same recording and reproduction conditions as in Example 2. A life test was performed using this disk, and the results are as shown in FIG. As a comparative example, one manufactured without irradiation with N 2 plasma was used. As the test method, 60 as in Example 1
The change with time of the error rate when the disk was left in a temperature of -90% RH was measured. As a result, the disc manufactured without using the present invention had an error rate of 2 × 10 -6 at the initial stage of manufacture.
(Cases / bit) began to increase gradually after the elapse of 1000 hours, and reached 8 × 10 -6 (cases / bit) after 3000 hours. On the other hand, the error rate of the disk manufactured by using the present invention was 2 × 10 −6 (items / bit) without any change both at the initial stage of the production and after leaving for 3000 hours.

このディスクの表面層の窒素とCrの結合状態をXPS及
びメスバウワーにより調べたところ、Cr及び窒素とも結
合していることを示唆する結果を得た。また、本実施例
において作製したディスクの記録膜を構成する元素の内
Cr,N及びOの分布について調べた結果を第8図に示す。
酸素は記録層の表面近傍のみに存在し、Crは表面から膜
中に至る間で組成勾配を設けることにより、窒素との結
合をさらに強くするとともに層のはく離を抑制すること
ができるので、最も大きな保護効果を得ることができ
た。なお、酸素拡散防止層における窒素の量は約0.5〜1
at%であった。
When the bonding state of nitrogen and Cr on the surface layer of this disk was examined by XPS and Mossbauer, a result suggesting that Cr and nitrogen were also bonded was obtained. In addition, of the elements constituting the recording film of the disk manufactured in this example,
FIG. 8 shows the results of examining the distributions of Cr, N and O.
Oxygen exists only in the vicinity of the surface of the recording layer, and Cr has a composition gradient from the surface to the inside of the film, thereby further strengthening the bond with nitrogen and suppressing the peeling of the layer. A great protection effect was obtained. Incidentally, the amount of nitrogen in the oxygen diffusion preventing layer is about 0.5 to 1
at%.

実施例4 作製したディスクの構造は、実施例2と同様で第4図
に示すとおりである。ディスクの作製は、エレクトロン
ビーム(EB)蒸着装置により行なった。蒸着のソース源
としてPtMnSb合金とCrを用いた。まず、案内溝を有する
ディスク基板を300℃に保ち、この上に、N2雰囲気中でC
r層を50Å程度積層したところで、Ar雰囲気に切換えてP
tMnSbとCrとを同時に蒸着し、膜厚が900Åとなったとこ
ろで、再びN2雰囲気に変えてCrのみとして1100Åになる
まで蒸着した。
Example 4 The structure of the manufactured disk is the same as that of Example 2, as shown in FIG. The production of the disk was performed by an electron beam (EB) vapor deposition apparatus. A PtMnSb alloy and Cr were used as the source of the evaporation. First, maintaining the disc substrate having a guide groove to 300 ° C., on this, C in an N 2 atmosphere
When the r layer is stacked about 50mm, switch to Ar atmosphere
When tMnSb and Cr were simultaneously vapor-deposited and the film thickness became 900 °, the atmosphere was changed again to a N 2 atmosphere and only Cr was vapor-deposited until 1100 °.

このディスクの寿命試験を実施例1と同様の環境条件
にて行なった。寿命評価は、表面の酸化層の膜厚の変化
をエリプソメトリーにて測定した結果にて行なった。そ
の結果は第9図に示すとおりである。ここで比較例とし
て、膜形成をすべてAr雰囲気中で行なったディスクを用
いた。その結果、本発明を用いた場合、最初300時間ま
で表面層の膜厚は大きく増加するが、その後3000時間ま
では表面層の成長はまったくみられなかった。これに対
して、N2雰囲気中で作製しなかった比較例では、表面層
の膜厚は、環境中への放置直後300時間で大きく変化
し、その後、徐々に膜厚の増加がみられた。このこと
は、腐食が時間の経過とともに進行していることを示し
ている。本実施例にみられるようにCrとNの結合層を設
けることにより腐食の進行を大きく抑制できることがわ
かった。なお、記録膜の組成はPt30Mn25Sb38Cr7であ
り、酸素拡散防止層における窒素の量は約1〜1.5at%
である。
The life test of this disk was performed under the same environmental conditions as in Example 1. The life was evaluated based on the result of measuring the change in the thickness of the oxide layer on the surface by ellipsometry. The result is as shown in FIG. Here, as a comparative example, a disk in which all the films were formed in an Ar atmosphere was used. As a result, when the present invention was used, the film thickness of the surface layer was greatly increased up to 300 hours at first, but no growth of the surface layer was observed at all up to 3000 hours thereafter. On the other hand, in the comparative example in which the film was not formed in the N 2 atmosphere, the film thickness of the surface layer changed greatly in 300 hours immediately after being left in the environment, and thereafter, the film thickness gradually increased. . This indicates that the corrosion has progressed over time. It was found that the progress of corrosion can be greatly suppressed by providing a bonding layer of Cr and N as seen in this example. The composition of the recording film was Pt 30 Mn 25 Sb 38 Cr 7 , and the amount of nitrogen in the oxygen diffusion preventing layer was about 1 to 1.5 at%.
It is.

このように本発明は、磁性材料の種類に依存すること
なくまた、作製手法にも依存せず、CrとNの結合した化
合物層が記録膜の界面近傍に存在することにより、耐食
性向上に効果がある。
As described above, the present invention does not depend on the type of the magnetic material and does not depend on the manufacturing method, and the compound layer in which Cr and N are bonded is present near the interface of the recording film, thereby improving the corrosion resistance. There is.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、光磁気記録膜の界面近傍にCrとNの
結合した化合物層を存在させることにより、磁気特性を
変動させることなく耐食性を大きく向上させる効果があ
る。また、表面層の形成にあたり、主に作製雰囲気を変
えることにより簡単に行なえ、かつ連続した膜形成が行
なえるのでは、はく離やクラックが生じることなく、強
固な保護層を形成することができる。さらに、作製した
窒化物層特にCrとNの化合物は、硬度も著しく高く機械
的保護性能も高い。
According to the present invention, the presence of the compound layer in which Cr and N are bonded near the interface of the magneto-optical recording film has the effect of greatly improving the corrosion resistance without changing the magnetic characteristics. In addition, when the surface layer is formed easily by mainly changing the preparation atmosphere and a continuous film can be formed, a strong protective layer can be formed without peeling or cracking. Furthermore, the produced nitride layer, especially the compound of Cr and N, has remarkably high hardness and high mechanical protection performance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例の光磁気ディスクの断面構造
の模式図、第2図、第5図、第7図は本発明を説明する
ためのエラーレイトの経時変化を示す図、第3図はイオ
ンビームスパッタ装置の概略図、第4図は本発明の他の
実施例の光磁気ディスクの断面構造の模式図、第6図は
DC二元同時スパッタ装置の概略図、第8図は本発明の他
の実施例の光磁気ディスクの分析結果を示す図、第9図
は本発明を説明するための説明図である。 1……基板、2……下地膜 3……光磁気記録膜、4……酸素拡散防止層
FIG. 1 is a schematic view of a cross-sectional structure of a magneto-optical disk according to one embodiment of the present invention, FIGS. 2, 5, and 7 are diagrams showing a change with time of an error rate for explaining the present invention. 3 is a schematic view of an ion beam sputtering apparatus, FIG. 4 is a schematic view of a cross-sectional structure of a magneto-optical disk according to another embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 8 is a schematic view of a DC binary simultaneous sputtering apparatus, FIG. 8 is a view showing an analysis result of a magneto-optical disk according to another embodiment of the present invention, and FIG. 9 is an explanatory view for explaining the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Underlayer 3 ... Magneto-optical recording film 4 ... Oxygen diffusion preventing layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 憲雄 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭62−14349(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (72) Inventor Norio Ota 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (56) References JP-A-62-14349 (JP, A)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】垂直磁気異方性を有し、光によって情報の
記録、再生、消去を行なう光磁気記録膜を有する光磁気
記録用部材において、上記光磁気記録膜は、Crを含み、
その少なくとも一方の界面近傍部分にCrと結合した窒素
が存在し、かつ、上記光磁気記録膜の厚み方向の中央部
分は実質的に窒素を含まないことを特徴とする光磁気記
録用部材。
1. A magneto-optical recording member having a perpendicular magnetic anisotropy and having a magneto-optical recording film for recording, reproducing and erasing information by light, wherein the magneto-optical recording film contains Cr,
A magneto-optical recording member characterized in that nitrogen bonded to Cr exists in at least one portion near the interface, and that the central portion in the thickness direction of the magneto-optical recording film contains substantially no nitrogen.
【請求項2】上記光磁気記録膜の組成が膜厚方向に変化
し、上記光磁気記録膜の界面近傍部分においてCr濃度が
増加していることを特徴とする請求項1記載の光磁気記
録用部材。
2. The magneto-optical recording method according to claim 1, wherein the composition of the magneto-optical recording film changes in the film thickness direction, and the Cr concentration increases near the interface of the magneto-optical recording film. Parts.
【請求項3】垂直磁気異方性を有し、光によって情報の
記録、再生、消去を行なう光磁気記録膜を有する光磁気
記録用部材において、上記光磁気記録膜は、Crを含み、
その少なくとも一方の界面近傍部分にCrと結合した窒素
が存在し、かつ、その界面近傍部分においてCr濃度が増
加していることを特徴とする光磁気記録用部材。
3. A magneto-optical recording member having a perpendicular magnetic anisotropy and having a magneto-optical recording film for recording, reproducing and erasing information by light, wherein the magneto-optical recording film contains Cr,
A magneto-optical recording member characterized in that nitrogen bonded to Cr is present in the vicinity of at least one interface, and the Cr concentration is increased in the vicinity of the interface.
【請求項4】基板上に、スパッタリング又は電子線蒸着
により、垂直磁気異方性を有し、光によって情報の記
録、再生、消去を行なう光磁気記録膜を形成する光磁気
記録用部材の製造方法において、上記光磁気記録膜はCr
を含有し、上記光磁気記録膜の形成の初期若しくは終期
又はその両者の時に窒素を含む雰囲気中でスパッタリン
グ又は電子線蒸着を行ない、上記光磁気記録膜の少なく
とも一方の界面近傍部分に、Crと結合した窒素を存在せ
しめたことを特徴とする光磁気記録用部材の製造方法。
4. Manufacture of a magneto-optical recording member for forming a magneto-optical recording film on a substrate having perpendicular magnetic anisotropy by sputtering or electron beam evaporation and capable of recording, reproducing and erasing information by light. The method wherein the magneto-optical recording film is Cr
And sputtering or electron beam evaporation is performed in an atmosphere containing nitrogen at the initial or final stage or both of the formation of the magneto-optical recording film, and at least one interface near the interface of the magneto-optical recording film contains Cr and A method for producing a member for magneto-optical recording, wherein bonded nitrogen is present.
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