JP2699207B2 - Silver halide photographic material - Google Patents
Silver halide photographic materialInfo
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- JP2699207B2 JP2699207B2 JP2101158A JP10115890A JP2699207B2 JP 2699207 B2 JP2699207 B2 JP 2699207B2 JP 2101158 A JP2101158 A JP 2101158A JP 10115890 A JP10115890 A JP 10115890A JP 2699207 B2 JP2699207 B2 JP 2699207B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた
超硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真
製版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適し
た超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a silver halide photographic material and a method for forming an ultra-high contrast negative image using the same, and particularly to a silver halide photographic material used in a photomechanical process. The present invention relates to a super-high contrast negative type photographic light-sensitive material suitable for a light-sensitive material.
(従来技術) 写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性
に対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光
材料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望
がある。(Prior Art) In the field of photoengraving, there is a demand for a photographic photosensitive material having good original reproducibility, a stable processing solution, or a simple replenishment in order to cope with the variety and complexity of printed matter.
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書き
の文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれ
て作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異な
る画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版
カメラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望
まれている。一方、カタログや、大型ポスターの製版に
は、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が
広く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が
粗くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさら
に線数/インキが大きく細い点の撮影になる。従って網
階調の再現性を維持するためより一層広いラチチュード
を有する画像形成方法が要求されている。Particularly in the line drawing photographing process, the manuscript is made by pasting typesetting characters, handwritten characters, illustrations, halftone pictures, and the like. Therefore, images having different densities and line widths are mixed in an original, and a plate-making camera, a photographic photosensitive material, or an image forming method for finishing these originals with good reproducibility is strongly desired. On the other hand, in plate making of catalogs and large posters, enlargement (enlargement) or reduction (shrinkage) of a halftone picture is widely performed, and in plate making using enlarged halftone dots, the number of lines becomes coarse and blurred. Shooting. In reduction, the number of lines / ink is larger than that of the original, and a thin point is photographed. Therefore, there is a demand for an image forming method having a wider latitude in order to maintain the reproducibility of halftone.
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるい
は、キセノンランプが用いられている。これらの光源に
対して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オル
ソ増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材
料はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために
画質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキ
セノンランプ光源に対してより顕著となる。A halogen lamp or a xenon lamp is used as a light source of a plate making camera. In order to obtain a photographic sensitivity with respect to these light sources, a photographic light-sensitive material is usually subjected to orthosensitization. However, it has been found that the ortho-sensitized photographic material is more strongly affected by the chromatic aberration of the lens, so that the image quality is liable to deteriorate. This deterioration is more remarkable for a xenon lamp light source.
広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭
化銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常0.1モル/以下)ハイド
ロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画像
部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化濃
度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られてい
る。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低いた
め、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり、液活
性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなされて
使用されていたり、処理スピードが著しく遅い、作業効
率を低下させているのが現状であった。The lith-type silver halide photographic material composed of silver chlorobromide (with a silver chloride content of at least 50%) has a very low effective concentration of sulfite ions (usually 0.1 mol / or less). There is known a method of obtaining a line image or a halftone image having a high contrast and a high blackening density in which an image area and a non-image area are clearly distinguished by processing with a hydroquinone developer. However, in this method, since the concentration of sulfurous acid in the developer is low, development is extremely unstable against air oxidation, and various efforts and efforts have been made to keep the solution activity stable. Was extremely slow, and the work efficiency was reduced.
このため、上記のような現像方法(リス現像システ
ム)による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安
定性を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得ら
れる画像形成システムが要望され、その1つとして米国
特許4,166,742号、同4,168,977号、同4,221,857号、同
4,224,401号、同4,243,739号、同4,272,606号、同4,31
1,781号にみられるように、特定のアシルヒドラジン化
合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光材料
を、pH11.0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.15モル/以上含
み、良好な保存安定性を有する現像液で処理して、γが
10を越える超硬調のネガ画像を形成するシステムが提案
された。この新しい画像形成システムには、従来の超硬
調画像形成では塩化銀含有率の高い塩臭化銀しか使用で
きなかったのに対して、沃臭化銀や塩沃臭化銀でも使用
できるという特徴がある。For this reason, an image forming system that eliminates instability of image formation by the above-described developing method (lith developing system), develops with a processing solution having good storage stability, and obtains ultra-high contrast photographic characteristics is provided. U.S. Pat. Nos. 4,166,742, 4,168,977, 4,221,857,
4,224,401, 4,243,739, 4,272,606, 4,31
As shown in No. 1,781, a surface latent image type silver halide photographic material to which a specific acylhydrazine compound has been added contains 0.15 mol / or more of a sulfite preservative at pH 11.0 to 12.3 and has good storage stability. Is treated with a developer having
Systems have been proposed for forming over 10 ultra-high contrast negative images. This new image forming system can use only silver chlorobromide having a high silver chloride content in conventional ultra-high contrast image formation, but can also use silver iodobromide and silver chloroiodobromide. There is.
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定
性、迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれ
た性能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するため
にさらにオリジナル再現性の改良されたシステムが望ま
れている。Although the above imaging system shows excellent performance in terms of sharp halftone dot quality, processing stability, speed and original reproducibility, the original reproducibility has been further improved to cope with the recent variety of printed matter. A system is desired.
特開昭56−153,336号、同61−156,043号、同61−230,
135号および同62−296,138号に酸化により写真有用基を
放出するレドックス化合物を含む感光材料が示され、階
調再現域を広げる試みが示されている。しかしながら、
ヒドラジン誘導体を用いた超硬調処理システムではこれ
らのレドックス化合物は硬調化を阻害する弊害があり、
その特性を活すことができなかった。JP-A-56-153,336, JP-A-61-156,043, JP-A-61-230,
Nos. 135 and 62-296,138 show photosensitive materials containing a redox compound which releases a photographically useful group by oxidation, and show an attempt to extend the gradation reproduction range. However,
In a super-high contrast processing system using a hydrazine derivative, these redox compounds have a problem of inhibiting high contrast,
The characteristics could not be utilized.
(発明の目的) 本発明の目的は、安定性の高い硬調画像作成法におい
て網階調再現域の広い製版用感光材料を提供することに
ある。(Object of the Invention) An object of the present invention is to provide a plate-making photosensitive material having a wide halftone reproduction range in a method for producing a high-contrast image with high stability.
第2に、網階調再現域が広く、かつ硬調な製版用感光
材料を提供することにある。A second object is to provide a plate-making photosensitive material having a wide halftone reproduction range and a high contrast.
(発明の構成) 本発明の上記目的は、支持体上に、少なくとも1種の
ハロゲン化銀乳剤を含む第一のハロゲン化銀乳剤層を有
し、該第一の乳剤層にヒドラジン誘導体を含み、かつ第
二のハロゲン化銀乳剤層を有し、該第二の乳剤層に一般
式(I)で表される化合物を含むことを特徴とするハロ
ゲン化銀写真感光材料によって達成された。(Constitution of the Invention) The object of the present invention is to provide a first silver halide emulsion layer containing at least one silver halide emulsion on a support, wherein the first emulsion layer contains a hydrazine derivative. And a second silver halide emulsion layer, wherein the second emulsion layer contains a compound represented by formula (I).
一般式〔I〕 式〔I〕において、R1は を表わし、R3はアルキル基、アリール基またはヘテロ環
基を表し、R4およびR5は水素原子、アルキル基またはア
リール基を表わし、R2はハメットの置換基定数σp値が
0.3以下の置換基を表わし、nは0、1または2を表わ
し、nが2の場合2つのR2は同じであっても異なっても
よく、Bはハイドロキノン母核酸化体より離脱後PUGを
放出する基を表わし、PUGは現像抑制剤を表わし、lは
整数を表わし、AおよびA′は水素原子またはアルカリ
で除去されるうる基を表わし、R1とR2、R1とAあるいは
A′、R2とAあるいはA′、およびふたつのR2は、一緒
になって環を形成してもよい。General formula [I] In the formula (I), R 1 is R 3 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and R 2 has a Hammett's substituent constant σ p value.
Represents a substituent of 0.3 or less, n represents 0, 1 or 2, and when n is 2, two R 2 may be the same or different, and B represents PUG after leaving from the hydroquinone mother nucleic acid. Represents a releasing group, PUG represents a development inhibitor, l represents an integer, A and A 'represent a group which can be removed by a hydrogen atom or an alkali, R 1 and R 2 , R 1 and A or A or A ', R 2 and A or A', and two R 2 s may together form a ring.
更に詳細な研究の結果、式〔I〕で示される化合物群
の中でも、特に式〔II〕で示される化合物が、少量の使
用量で優れた特性を示すことを発見するに至った。As a result of a more detailed study, they have found that, among the compounds represented by the formula [I], particularly the compound represented by the formula [II] exhibits excellent properties even when used in a small amount.
一般式〔II〕 式〔II〕において、R1、R2、B、PUG、A、A′、n
およびlは式〔I〕と同じ意味を持つ。General formula (II) In the formula [II], R 1 , R 2 , B, PUG, A, A ′, n
And 1 have the same meaning as in formula [I].
本発明の式〔I〕および式〔II〕について更に詳細に
説明する。Formulas [I] and [II] of the present invention will be described in more detail.
R1は、 を表わし、R3は、置換あるいは無置換のアルキル(炭素
数1〜30、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、n
−デシル、n−ヘキサデシルなど)、置換あるいは無置
換のアリール基(炭素数6〜30、例えばフェニル、ナフ
チル、m−ドデシルアミドフェニル、m−ヘキサデシル
スルホンアミドフェニル、p−ドデシルオキシフェニル
など)、またはヘテロ環基(例えば、2−ピリジル、4
−ピリジル、3−ピリジル、2−フリルなど)を表わ
し、R3上の置換基としては、アルキル基、アリール基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、カルボン酸アミド基、スルフォン酸アミ
ド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、カ
ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、スルファモイ
ル基、スルホニル基、シアノ基、ハロゲン原子、アシル
基、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基またはヘテロ
環残基などが揚げられ、R4およびR5は、同じであっても
異なってもよく、水素原子またはR3で示された置換基を
表わす。R 1 is Wherein R 3 is a substituted or unsubstituted alkyl (C 1-30, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, n
-Decyl, n-hexadecyl, etc.), substituted or unsubstituted aryl groups (e.g., having 6 to 30 carbon atoms, such as phenyl, naphthyl, m-dodecylamidophenyl, m-hexadecylsulfonamidophenyl, p-dodecyloxyphenyl), Or a heterocyclic group (eg, 2-pyridyl, 4
-Pyridyl, 3-pyridyl, 2-furyl, etc.), and the substituent on R 3 is an alkyl group, an aryl group,
Alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, carboxamide group, sulfonamide group, alkoxycarbonylamino group, ureido group, carbamoyl group, alkoxycarbonyl group, sulfamoyl group, sulfonyl group, cyano group, halogen atom, An acyl group, a carboxyl group, a sulfo group, a nitro group, a heterocyclic residue or the like is mentioned, R 4 and R 5 may be the same or different, and a hydrogen atom or a substituent represented by R 3 Express.
式〔I〕および式〔II〕において好ましいR4は水素原
子である。Preferred R 4 in the formulas [I] and [II] is a hydrogen atom.
式〔I〕および式〔II〕において、R2はハメットの置
換基定数σp値が0.3以下の置換基を表わし、それらの
例として置換あるいは無置換のアルキル基(炭素数1〜
30、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、n−デシ
ル、n−ヘキサデシルなど)、置換あるいは無置換のア
リール基(炭素数6〜30、例えばフェニル、ナフチル、
m−ドデシルアミドフェニル、m−ヘキサデシルスルホ
ンアミドフェニル、p−ドデシルオキシフェニルな
ど)、アルコキシ基(炭素数1〜30、例えばメトキシ、
エトキシ、n−ヘキシルオキシ、n−ヘキサデシルオキ
シなど)、アリールオキシ基(炭素数6〜30、例えばフ
ェノキシ、ナフチルなど)、アルキルチオ基(炭素数1
〜30、例えばメチルチオ、n−ブチルチオ、n−デシル
チオなど)、アリールチオ(炭素数6〜30、例えばフェ
ニルチオ、2−n−ブチルオキシ−5−tert−オクチル
フェニルチオなど)、アシルアミノ基(例えばアセチル
アミド、n−デカン酸アミド、安息香酸アミドなど)、
スルホン酸アミド基(メタンスルホン酸アミド、n−ブ
タンスルホン酸アミドなど)、またはハロゲン原子(塩
素、臭素、フッ素)などが揚げられる。In the formulas [I] and [II], R 2 represents a substituent having a Hammett's substituent constant σp value of 0.3 or less, and examples thereof include a substituted or unsubstituted alkyl group (having 1 to 1 carbon atoms).
30, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, n-decyl, n-hexadecyl, etc., and substituted or unsubstituted aryl groups (C6-C30, for example, phenyl, naphthyl,
m-dodecylamidophenyl, m-hexadecylsulfonamidophenyl, p-dodecyloxyphenyl, etc.), alkoxy group (1 to 30 carbon atoms, for example, methoxy,
Ethoxy, n-hexyloxy, n-hexadecyloxy, etc., an aryloxy group (C6-30, for example, phenoxy, naphthyl, etc.), an alkylthio group (C1)
To 30, for example, methylthio, n-butylthio, n-decylthio, etc., arylthio (for example, having 6 to 30 carbon atoms, for example, phenylthio, 2-n-butyloxy-5-tert-octylphenylthio), an acylamino group (for example, acetylamide, n-decanoic acid amide, benzoic acid amide, etc.),
Examples include sulfonic acid amide groups (methanesulfonic acid amide, n-butanesulfonic acid amide, etc.), and halogen atoms (chlorine, bromine, fluorine) and the like.
式〔I〕および式〔II〕において、R1とR2、R1とAあ
るいはA′、R2とAあるいはA′、およびふたつのR
2は、一緒になって環を形成してもよく、その場合の環
員数は5から7が好ましい。In the formulas (I) and (II), R 1 and R 2 , R 1 and A or A ′, R 2 and A or A ′, and two R
2 may form a ring together, in which case the number of ring members is preferably 5 to 7.
式〔I〕および式〔II〕において、lは好ましくは
0、1または2を表わす。In the formulas [I] and [II], l preferably represents 0, 1 or 2.
式〔I〕で示される化合物の中で、好ましい化合物は
式〔II〕で示される化合物であるが、更に好ましい化合
物は式〔III〕で表わされる。Among the compounds represented by the formula [I], a preferred compound is a compound represented by the formula [II], and a more preferred compound is represented by the formula [III].
一般式〔III〕 式〔III〕におけるR1、B、PUG、A、A′およびlは
式〔I〕および式〔II〕と同じ意味を持つ。General formula (III) R 1 , B, PUG, A, A ′ and 1 in the formula [III] have the same meaning as in the formulas [I] and [II].
式〔I〕、〔II〕および式〔III〕における、A、
A′、BおよびPUGについて詳述する。In formulas (I), (II) and (III), A,
A ', B and PUG will be described in detail.
式〔I〕〔II〕、および〔III〕においてAおよび
A′がアルカリにより除去されうる基(以下、プレカー
サー基という)を表わすとき、好ましくはアシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
カルバモイル基、イミドイル基、オキサゾリル基、スル
ホニル基などの加水分解されうる基、米国特許第4,009,
029号に記載の逆マイケル反応を利用した型のプレカー
サー基、米国特許第4,310,612号に記載の環開裂反応の
後発生したアニオンを分子内求核基として利用する型の
プレカーサー基、米国特許第3,674,478号、同3,932,480
号もしくは同3,993,661号に記載のアニオンが共役系を
介して電子移動しそれにより開裂反応を起こさせるプレ
カーサー基、米国特許第4,335,200号に記載の環開裂後
反応したアニオンの電子移動により開裂反応を起こさせ
るプレカーサー基または米国特許第4,363,865号、同4,4
10,618号に記載のイミドメチル基を利用したプレカーサ
ー基が挙げられる。In the formulas [I], [II], and [III], when A and A ′ represent a group that can be removed by an alkali (hereinafter, referred to as a precursor group), preferably an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group,
Hydrolyzable groups such as carbamoyl group, imidoyl group, oxazolyl group, sulfonyl group, U.S. Pat.
No. 029, a precursor group of the type utilizing the reverse Michael reaction, U.S. Pat.No. 4,310,612, a precursor group of the type utilizing an anion generated after the ring cleavage reaction as an intramolecular nucleophilic group, U.S. Pat. No. 3,932,480
No. 3,993,661, a precursor group in which an anion is electron-transferred through a conjugated system and thereby causes a cleavage reaction, and a cleavage reaction is caused by electron transfer of an anion reacted after ring opening described in U.S. Pat.No.4,335,200. Precursor groups or U.S. Pat.
No. 10,618, a precursor group utilizing an imidomethyl group.
式〔I〕、〔II〕および〔III〕においてBで表わさ
れる基は、ハイドロキノン母核が現像時に現像主薬酸化
体により酸化されキノン体となった後、 BlPUGを
放出し、さらにその後PUGを放出しうる2価の基を表わ
し、タイミング調節機能を有していてもよく、また、も
う一分子の現像主薬酸化体と反応してPUGを放出する酸
化還元基であってもよい。ここでlが0の場合は、PUG
が直接、ハイドロキノン母核に結合している場合を意味
し、lが2以上の場合には、同じあるいは異なるBの2
つ以上の組合せを表わす。 In formulas [I], [II] and [III], represented by B
Is that the hydroquinone nucleus oxidizes the developing agent during development.
After being oxidized by the body to a quinone body, BlPUG
Represents a divalent group capable of releasing and then releasing PUG
And may have a timing adjustment function.
Acid that releases PUG by reacting with oxidized developing agent of one molecule
It may be a redox group. If l is 0, PUG
Is directly bonded to the hydroquinone nucleus
However, when l is 2 or more, 2 of the same or different B
Represents one or more combinations.
Bがタイミング調節機能を有する二価の連結基である
場合、それらの例としては、以下のものが挙げられる。When B is a divalent linking group having a timing control function, examples thereof include the following.
(1)ヘミアセタールの開裂反応を利用する基 例えば米国特許第4,146,396号、特開昭60−249148号
および同60−249149号に記載があり下記一般式で表わさ
れる基である。ここに※印は式〔I〕〔II〕および〔II
I〕において左側に結合する位置を表わし、※※印は式
〔I〕〔II〕および〔III〕において右側に結合する位
置を表わす。(1) A group utilizing a cleavage reaction of hemiacetal A group described in, for example, U.S. Pat. No. 4,146,396, JP-A-60-249148 and JP-A-60-249149, and represented by the following general formula. Here, the asterisks indicate the formulas (I), (II) and (II)
In [I], the position bonding to the left side is indicated. In the formulas [I], [II] and [III], the position bonding to the right side is shown.
一般式(T−1) 式中、Wは酸素原子、イオウ原子または 基を表わし、R65およびR66は水素原子または置換基を表
わし、R67は置換基を表わし、tは1または2を表わ
す。tが2のとき2つの は同じものもしくは異なるものを表わす。R65およびR66
が置換基を表わすときおよびR67の代表的な例は各々R69
基、R69CO−基、R69SO2−基、 などが挙げられる。ここでR69は脂肪族基、芳香族基ま
たは複素環基を表わし、R70は脂肪族基、芳香族基、複
素環基または水素原子を表わす。R65、R66およびR67の
各々は2価基を表わし、連結し、環状構造を形成する場
合も包含される。一般式(T−1)で表わされる基の具
体的例としては以下のような基が挙げられる。General formula (T-1) Wherein W is an oxygen atom, a sulfur atom or R 65 and R 66 represent a hydrogen atom or a substituent, R 67 represents a substituent, and t represents 1 or 2. When t is 2, two Represents the same or different. R 65 and R 66
Is a substituent, and representative examples of R 67 are each R 69
R 69 CO- group, R 69 SO 2 -group, And the like. Here, R 69 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and R 70 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom. Each of R 65 , R 66 and R 67 represents a divalent group, and may be linked to form a cyclic structure. Specific examples of the group represented by formula (T-1) include the following groups.
(2)分子内求核置換反応を利用して開裂反応を起こさ
せる基 例えば米国特許第4,248,962号に記載のあるタイミン
グ基が挙げられる。下記一般式で表わすことができる。 (2) A group that causes a cleavage reaction by utilizing an intramolecular nucleophilic substitution reaction. For example, a timing group described in US Pat. No. 4,248,962 may be mentioned. It can be represented by the following general formula.
一般式(T−2) *−Nu−Link−E−** 式中、*印は式〔I〕〔II〕および〔III〕において
左側に結合する位置を表わし、**印は式〔I〕〔II〕
および〔III〕において右側に結合する位置を表わし、N
uは求核基を表わし、酸素原子またはイオウ原子が求核
種の例であり、Eは求電子基を表わし、Nuより求核攻撃
を受けて**印との結合を開裂できる基でありLinkはNu
とEとが分子内求核置換反応することができるように立
体的に関係づける連結基を表わす。一般式(T−2)で
表わされる基の具体例としては例えば以下のものであ
る。General formula (T-2) * -Nu-Link-E-** In the formula, the symbol * represents the position bonded to the left side in the formulas [I], [II] and [III], and the symbol ** represents the formula [I ] [II]
And (III) represents the position bonded to the right side,
u represents a nucleophilic group, an oxygen atom or a sulfur atom is an example of a nucleophilic species, E represents an electrophilic group, and is a group capable of undergoing a nucleophilic attack from Nu to cleave a bond with the ** mark Link Is Nu
And E represent a linking group which sterically relates so that an intramolecular nucleophilic substitution reaction can take place. Specific examples of the group represented by the general formula (T-2) are as follows.
(3)共役系に沿った電子移動反応を利用して開裂反応
を起こさせる基。 (3) A group that causes a cleavage reaction by utilizing an electron transfer reaction along a conjugated system.
例えば米国特許第4,409,323号または同4,421,845号に
記載があり下記一般式で表わされる基である。For example, they are described in U.S. Pat. No. 4,409,323 or 4,421,845 and are groups represented by the following general formula.
一般式(I−3) 式中、*印、**印、W、R65、R66、およびtは(T
−1)について説明したのと同じ意味を表わす。具体的
には以下のような基が挙げられる。General formula (I-3) In the formula, *, **, W, R 65 , R 66 , and t are (T
-1) has the same meaning as described above. Specific examples include the following groups.
(4)エステルの加水分解による開裂反応を利用する
基。 (4) A group utilizing a cleavage reaction due to hydrolysis of an ester.
例えば西独公開特許第2,626,315号に記載のある連結
基であり以下の基が挙げられる。式中*印および**印
は一般式(T−1)について説明したのと同じ意味であ
る。For example, the linking group described in West German Patent Publication No. 2,626,315 includes the following groups. In the formulas, * and ** have the same meaning as described for the general formula (T-1).
(5)イミノケタールの開裂反応を利用する基。 (5) A group that utilizes the cleavage reaction of imino ketal.
例えば米国特許第4,546,073号に記載のある連結基で
あり、以下の一般式で表わされる基である。For example, it is a linking group described in US Pat. No. 4,546,073, and is a group represented by the following general formula.
一般式(T−6) 式中、*印、**印およびWは一般式(T−1)にお
いて説明したのと同じ意味であり、R68はR67と同じ意味
を表わす。一般式(T−6)で表わされる基の具体例と
しては以下の基が挙げられる。General formula (T-6) In the formula, *, ** and W have the same meaning as described in formula (T-1), and R 68 has the same meaning as R 67 . Specific examples of the group represented by the general formula (T-6) include the following groups.
一般式〔I〕〔II〕および〔III〕においてBで表わ
される基がハイドロキノン母核より開裂して酸化還元基
となる基を表わすとき、好ましくは下記一般式(R−
1)で表わされる。 In the general formulas [I], [II] and [III], when the group represented by B represents a group which is cleaved from the hydroquinone nucleus to become a redox group, preferably the following general formula (R-
It is represented by 1).
一般式(R−1) *−P−(X=Y)n−Q−A 式中、PおよびQはそれぞれ独立に酸素原子または置
換もしくは無置換のイミノ基を表わし、n個のXおよび
Yの少なくとも1個は−PUGを置換基として有するメチ
ン基を表わし、その他のXおよびYは置換もしくは無置
換のメチン基または窒素原子を表わし、nは1ないし3
の整数を表わし(n個のX、n個のYは同じものもしく
は異なるものを表わす)、Aは水素原子またはアルカリ
により除去されうる基を表わし、式(I)におけるAと
同じ意味を持つ。ここでP、X、Y、QおよびAのいず
れか2つの置換基が2価基となって連結し環状構造を形
成する場合も包含される。例えば(X=Y)nがベンゼ
ン環、ピリジン環などを形成する場合である。Formula (R-1) * -P- (X = Y) n -QA In the formula, P and Q each independently represent an oxygen atom or a substituted or unsubstituted imino group, and n X and Y At least one represents a methine group having -PUG as a substituent, the other X and Y represent a substituted or unsubstituted methine group or a nitrogen atom, and n represents 1 to 3
(N X's and n Y's represent the same or different), A represents a hydrogen atom or a group which can be removed by an alkali, and has the same meaning as A in formula (I). Here, the case where any two substituents of P, X, Y, Q and A are linked as a divalent group to form a cyclic structure is also included. For example, (X = Y) n forms a benzene ring, a pyridine ring, and the like.
PおよびQが置換または無置換のイミノ基を表わすと
き、好ましくはスルホニル基またはアシル基で置換され
たイミノ基であるときである。When P and Q represent a substituted or unsubstituted imino group, it is preferably a sulfonyl group or an imino group substituted with an acyl group.
このときPおよびQは下記のように表わされる。 At this time, P and Q are represented as follows.
ここに*印はAと結合する位置を表わし、**印は−
(X=Y)n−の自由結合手の一方と結合する位置を表
わす。 Here, the * mark indicates the position where it bonds to A, and the ** mark indicates-
(X = Y) represents a position where it is bonded to one of n − free bonds.
式中、Gで表わされる基は炭素数1〜32、好ましくは
1〜22の直鎖または分岐、鎖状または環状、飽和または
不飽和、置換または無置換の脂肪族基(例えばメチル、
エチル、ベンジル、フェノキシブチル、イソプロピ
ル)、炭素数6〜10の置換または無置換の芳香族基(例
えばフェニル基、4−メチルフェニル基、1−ナフチル
基、4−ドデシルオキシフェニル基など)、またはヘテ
ロ原子として窒素原子、イオウ原子もしくは酸素原子よ
り選ばれる4員ないし7員環の複素環基(例えば2−ピ
リジル基、1−フェニル−4−イミダゾリル基、2−フ
リル基、ベンゾチエニル基など)が好ましい例である。In the formula, a group represented by G is a linear or branched, chain or cyclic, saturated or unsaturated, substituted or unsubstituted aliphatic group having 1 to 32, preferably 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl,
Ethyl, benzyl, phenoxybutyl, isopropyl), a substituted or unsubstituted aromatic group having 6 to 10 carbon atoms (eg, phenyl, 4-methylphenyl, 1-naphthyl, 4-dodecyloxyphenyl, etc.), or A 4- to 7-membered heterocyclic group selected from a nitrogen atom, a sulfur atom or an oxygen atom as a hetero atom (for example, a 2-pyridyl group, a 1-phenyl-4-imidazolyl group, a 2-furyl group, a benzothienyl group, etc.) Is a preferred example.
一般式(R−1)においてPおよびQは好ましくはそ
れぞれ独立に酸素原子または一般式(N−1)で表わさ
れる基である。In the general formula (R-1), P and Q are preferably each independently an oxygen atom or a group represented by the general formula (N-1).
一般式(R−1)において好ましくはPが酸素原子を
表わし、Aが水素原子を表わすときである。In the general formula (R-1), it is preferable that P represents an oxygen atom and A represents a hydrogen atom.
一般式(R−1)においてさらに好ましくは、Xおよ
びYが、置換基としてPUGを有するメチン基である場合
を除いて他のXおよびYが置換もしくは無置換のメチン
基であるときである。More preferably, in the general formula (R-1), X and Y are each a substituted or unsubstituted methine group except when X and Y are methine groups having PUG as a substituent.
一般式(R−1)で表わされる基において特に好まし
い基は下記一般式(R−2)または(R−3)で表わさ
れるものである。Particularly preferred groups among the groups represented by formula (R-1) are those represented by the following formula (R-2) or (R-3).
一般式(R−2) 一般式(R−3) 式中、*印はハイドロキノン母核と結合する位置を表
わし、**印はPUGと結合する位置を表わす。General formula (R-2) General formula (R-3) In the formula, an asterisk indicates a position bonding to the hydroquinone nucleus, and an asterisk indicates a position bonding to PUG.
R64は置換基を表わし、qは0、1ないし3の整数を
表わす。qが2以上のとき2つ以上のR64は同じでも異
なっていてもよく、また2つのR64が隣接する炭素上の
置換基であるときにはそれぞれ2価基となって連結し環
上構造を表わす場合も包含する。そのときはベンゼン縮
合環となり例えばナフタレン類、ベンゾノルボルネン
類、クロマン類、インドール類、ベンゾチオフェン類、
キノリン類、ベンゾフラン類、2,3−ジヒドロベンゾフ
ラン類、インダン類、またはインデン類などの環構造と
なり、これらはさらに1個以上の置換基を有してもよ
い。これらの縮合環に置換基を有するときの好ましい置
換基の例、およびR64が縮合環を形成していないときのR
64の好ましい例は以下に挙げるものである。R 64 represents a substituent, and q represents an integer of 0, 1 to 3. q is may be two or more R 64 when two or more the same or different, also the linked cyclic structural each a divalent group when two R 64 are substituents on adjacent carbons The case where it expresses is also included. In that case, it becomes a benzene condensed ring, for example, naphthalenes, benzonorbornenes, chromans, indoles, benzothiophenes,
Ring structures such as quinolines, benzofurans, 2,3-dihydrobenzofurans, indanes, and indenes, which may further have one or more substituents. Examples of preferred substituents when these fused rings have a substituent, and R when R 64 does not form a fused ring
Preferred examples of 64 are as follows.
すなわち、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基など)、アシルアミノ基(例えばアセトアミド基、
ベンズアミド基など)、スルホンアミド基(例えばメタ
ンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基な
ど)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基など)、カルバモイル基(例えばN−プロピルカル
バモイル基、N−t−ブチルカルバモイル基、N−i−
プロピルカルバモイル基など)、アルコキシカルボニル
基(例えばメトキシカルボニル基、プロポキシカルボニ
ル基、など)、脂肪族基(例えばメチル基、t−ブチル
基など)、ハロゲン原子(例えばフルオロ基、クロロ基
など)、スルファモイル基(例えばN−プロピルスルフ
ァモイル基、スルファモイル基など)、アシル基(例え
ばアセチル基、ベンゾイル基など)、ヒドロキシル基、
カルボキシル基、またはヘテロ環チオ基(例えば1−フ
ェニルテトラゾリル−5−チオ基、1−エチルテトラゾ
リル−5−チオ基など後述のPUGで表わされる基)が挙
げられる。またR64が2つ連結し環状構造を形成する場
合の代表的な例としては (*印および**印は一般式(R−3)で説明したのと
同じ意味を表わす)が挙げられる。That is, an alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group, etc.), an acylamino group (eg, acetamido group,
Benzamide group), sulfonamide group (eg, methanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, etc.), carbamoyl group (eg, N-propylcarbamoyl group, Nt-butylcarbamoyl) Group, Ni-
Propylcarbamoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, etc.), aliphatic group (eg, methyl group, t-butyl group, etc.), halogen atom (eg, fluoro group, chloro group, etc.), sulfamoyl Groups (eg, N-propylsulfamoyl group, sulfamoyl group, etc.), acyl groups (eg, acetyl group, benzoyl group, etc.), hydroxyl group,
Examples thereof include a carboxyl group and a heterocyclic thio group (for example, a 1-phenyltetrazolyl-5-thio group, a 1-ethyltetrazolyl-5-thio group, and a group represented by PUG described below). A typical example of the case where two R 64 are linked to form a cyclic structure is (* And ** have the same meaning as described in formula (R-3)).
一般式〔I〕〔II〕および〔III〕においてPUGで表わ
される基は現像抑制剤を表わす。詳しくはテトラゾリル
チオ基、ベンゾイミダゾリルチオ基、ベンゾチアジアゾ
リルチオ基、ベンゾオキサゾリルチオ基、ベンゾトリア
ゾリル基、ベンゾインダゾリル基、トリアゾリルチオ
基、オキサジアゾリルチオ基、イミダゾリルチオ基、チ
アジアゾリルチオ基、チオエーテル置換トリアゾリル基
(例えば米国特許第4,579,816号に記載のある現像抑制
剤)またはオキサゾリルチオ基などでありこれらは適
宜、置換基を有してもよく、好ましい置換基としては以
下のものが挙げられる。すなわち、R77基、R78O−基、R
77S−基、R77OCO−基、R77OSO2−基、ハロゲン原子、シ
アノ基、ニトロ基、R77SO2−基、R78CO−基、R77COO−
基、 が挙げられる。ここでR77は脂肪族基、芳香族基または
複素環基を表わし、R78、R79およびR80は脂肪族基、芳
香族基、複素環基または水素原子を表わす。一分子中に
R77、R78、R79およびR80が2個以上あるときこれらが連
結して環(例えばベンゼン環)を形成してもよい。ここ
で脂肪族基とは炭素数1〜20、好ましくは1〜10の飽和
もしくは不飽和、分岐もしくは直鎖、鎖状もしくは環
状、置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基である。芳
香族基とは炭素数6〜20、好ましくは6〜10の置換もし
くは無置換のフェニル基または置換もしくは無置換のナ
フチル基である。複素環基とは炭素数1〜18、好ましく
は1〜7の、複素原子として窒素原子、イオウ原子もし
くは酸素原子より選ばれる。飽和もしくは不飽和の、置
換もしくは無置換の複素環基であり、好ましくは4員な
いし8員環の複素環基である。これらの脂肪族基、芳香
族基および複素環基が置換基を有するとき、置換基の例
としては前記現像抑制剤の例として挙げた複素環チオ基
または複素環基の有してもよい置換基として列挙した置
換基が挙げられる。In the general formulas [I], [II] and [III], the group represented by PUG represents a development inhibitor. For details, tetrazolylthio group, benzimidazolylthio group, benzothiadiazolylthio group, benzoxazolylthio group, benzotriazolyl group, benzoindazolyl group, triazolylthio group, oxadiazolylthio group, imidazolylthio group, thiadiazolylthio group Group, a thioether-substituted triazolyl group (for example, a development inhibitor described in U.S. Pat. No. 4,579,816) or an oxazolylthio group, which may optionally have a substituent, and preferable substituents include the following. Can be That is, R 77 group, R 78 O- group, R
77 S- group, R 77 OCO- group, R 77 OSO 2 - group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, R 77 SO 2 - group, R 78 CO- groups, R 77 COO-
Group, Is mentioned. Here, R 77 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and R 78 , R 79 and R 80 represent an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom. In one molecule
When there are two or more of R 77 , R 78 , R 79 and R 80, these may be linked to form a ring (for example, a benzene ring). Here, the aliphatic group is a saturated or unsaturated, branched or linear, chain or cyclic, substituted or unsubstituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20, preferably 1 to 10 carbon atoms. The aromatic group is a substituted or unsubstituted phenyl group or a substituted or unsubstituted naphthyl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms. The heterocyclic group has 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 7 carbon atoms, and is selected from a nitrogen atom, a sulfur atom and an oxygen atom as a hetero atom. It is a saturated or unsaturated, substituted or unsubstituted heterocyclic group, preferably a 4- to 8-membered heterocyclic group. When these aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group have a substituent, examples of the substituent may include a heterocyclic thio group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group described as examples of the development inhibitor. The substituents listed as the groups are exemplified.
一般式〔I〕〔II〕および〔III〕において特に好ま
しい現像抑制剤は、開裂したときは現像抑制性をを有す
る化合物であるが、それが発色現像液中に流れ出した後
は、実質的に写真性に影響を与えない化合物に分解され
る(もしくは変化する)性質を有する現像抑制剤であ
る。Particularly preferred development inhibitors in the general formulas (I), (II) and (III) are compounds having a development inhibiting property when cleaved, but after they have flowed into the color developing solution, they are substantially It is a development inhibitor having the property of being decomposed (or changed) into a compound that does not affect photographic properties.
例えば米国特許第4,477,563号、特開昭60−218644
号、同60−221750号、同60−233650号、または同61−11
743号に記載のある現像抑制剤が挙げられる。For example, U.S. Pat.No.4,477,563, JP-A-60-218644
No. 60-221750, No. 60-233650 or No. 61-11
No. 743.
式〔III〕において、好ましいR1は R3およびR5は、前述と同じ意味を持つ。In the formula (III), preferred R 1 is R 3 and R 5 have the same meaning as described above.
式〔III〕において、好ましいAおよびA′は水素原
子である。In the formula [III], preferred A and A 'are a hydrogen atom.
式〔III〕において、好ましいlは0または1であ
る。In the formula [III], preferred 1 is 0 or 1.
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。Hereinafter, specific examples of the compound used in the present invention are listed, but the present invention is not limited thereto.
以下に具体的な化合物の合成例を示すが、本発明で用
いられる化合物は、同様の方法で容易に合成することが
できる。 Specific examples of the synthesis of compounds are shown below. The compounds used in the present invention can be easily synthesized by the same method.
1)1−Aの合成 2,5−ジメトキシアニリン50gにアセトニトリル400m
l、ピリジン26mlを加え、更に、フェニルクロロホルメ
イト46gを滴下後、室温にて3時間撹拌した。反応終了
後、反応混合物に塩酸水溶液を加え、酢酸エチルにて抽
出、水洗、乾燥後、濃縮し、標記化合物50gを得た。 1) Synthesis of 1-A 400 g of acetonitrile was added to 50 g of 2,5-dimethoxyaniline.
l, 26 ml of pyridine were added, and 46 g of phenylchloroformate was added dropwise, followed by stirring at room temperature for 3 hours. After completion of the reaction, an aqueous hydrochloric acid solution was added to the reaction mixture, extracted with ethyl acetate, washed with water, dried and concentrated to obtain 50 g of the title compound.
2)1−Bの合成 上記で得られた1−A25gにアセトニトリル300ml、1
−ヘキサデシルアミン22gを加え、5時間加熱還流を行
った。反応終了後、反応混合物に塩酸水溶液を加え、析
出した結晶を濾別、アセトニトリルにて洗浄、乾燥し、
標記化合物35gを得た。2) Synthesis of 1-B 300 ml of acetonitrile was added to 25 g of 1-A obtained above.
-22 g of hexadecylamine was added, and the mixture was heated under reflux for 5 hours. After completion of the reaction, an aqueous hydrochloric acid solution was added to the reaction mixture, and the precipitated crystals were separated by filtration, washed with acetonitrile, and dried.
35 g of the title compound were obtained.
3)1−Cの合成 上記で得られた1−B16gに47%臭化水素酸250mlを加
え、2時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物に水
を加え、析出した結晶を濾別、アセトニトリルにて洗
浄、乾燥し、標記化合物11gを得た。3) Synthesis of 1-C To 16 g of 1-B obtained above, 250 ml of 47% hydrobromic acid was added, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After completion of the reaction, water was added to the reaction mixture, and the precipitated crystals were separated by filtration, washed with acetonitrile, and dried to obtain 11 g of the title compound.
4)1−Dの合成 上記で得られた1−C1.5gにエタノール50ml、2,3−ジ
クロロ−5,6−ジシアノ−1,4−ベンゾキノン0.9gを加
え、室温にて30分間撹拌した。反応終了後、析出した結
晶を濾別、乾燥し、標記化合物1.3gを得た。4) Synthesis of 1-D To 1.5 g of 1-C obtained above, 50 ml of ethanol and 0.9 g of 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone were added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. . After the completion of the reaction, the precipitated crystals were separated by filtration and dried to obtain 1.3 g of the title compound.
5) 例示化合物(1)の合成 上記で得られた1−D1.3gに酢酸エチル150ml、更に、
5−メルカプト−1−(4−ニトロフェニル)−テトラ
ゾール2.0g、p−トルエンスルホン酸・一水和物0.1gを
加え、50℃にて1時間撹拌した。反応終了後、析出した
不溶物を濾去、濾液を濃縮した、残留物を、アセトニト
リルより晶析、濾別、乾燥し、標記化合物1.7gを得た。5) Synthesis of Exemplified Compound (1) 150 g of ethyl acetate was added to 1.3 g of 1-D obtained above.
2.0 g of 5-mercapto-1- (4-nitrophenyl) -tetrazole and 0.1 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate were added, and the mixture was stirred at 50 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, the precipitated insolubles were removed by filtration, and the filtrate was concentrated. The residue was crystallized from acetonitrile, separated by filtration, and dried to obtain 1.7 g of the title compound.
1)2−Aの合成 2,5−ジメトキシアニリン80gに47%臭化水素酸450gを
加え、これを6時間加熱還流した。反応終了後、反応混
合物を濃縮、析出した結晶を濾別、アセトニトリルで洗
浄後、乾燥し、標記化合物87gを得た。 1) Synthesis of 2-A To 80 g of 2,5-dimethoxyaniline was added 450 g of 47% hydrobromic acid, which was heated under reflux for 6 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was concentrated, and the precipitated crystals were separated by filtration, washed with acetonitrile, and dried to obtain 87 g of the title compound.
2)2−Bの合成 上記で得られた2−A30gにアセトニトリル300mlを加
え、これに窒素気流下、ピリジン28mlを加え、室温にて
15分間撹拌した。更に、窒素気流下、n−ヘキサデシル
クロロホルメイト48gをN,N−ジメチルアセトアミド150m
lに溶解した溶液を滴下後、室温にて3時間撹拌した。
反応終了後、反応混合物に塩酸水酸液を加え、析出した
結晶を濾別、アセトニトリムにて洗浄後、乾燥し、標記
化合物54gを得た。2) Synthesis of 2-B 300 ml of acetonitrile was added to 30 g of 2-A obtained above, and 28 ml of pyridine was added thereto under a nitrogen stream, and the mixture was added at room temperature.
Stir for 15 minutes. Further, under a nitrogen gas stream, n-hexadecyl chloroformate 48 g was N, N-dimethylacetamide 150 m
After the solution dissolved in l was added dropwise, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours.
After completion of the reaction, a hydrochloric acid / hydroxyl solution was added to the reaction mixture, and the precipitated crystals were separated by filtration, washed with acetonitrile, and dried to obtain 54 g of the title compound.
3)2−Cの合成 上記で得られた2−B30gに酢酸エチル500ml、二酸化
マンガン45gを加え、45℃にて3時間撹拌した。反応終
了後、不溶物を濾去、濾液を濃縮し、標記化合物23gを
得た。3) Synthesis of 2-C To 30 g of 2-B obtained above, 500 ml of ethyl acetate and 45 g of manganese dioxide were added, and the mixture was stirred at 45 ° C for 3 hours. After completion of the reaction, insolubles were removed by filtration, and the filtrate was concentrated to obtain 23 g of the title compound.
4)例示化合物(2)の合成 上記で得られた2−C22.0gに塩化メチレン600ml、更
に、2−メルカプト−5−メチルチオ−1,3,4−チアジ
アゾール9.2g、p−トルエンスルホン酸・一水和物0.5g
を加え、室温にて2時間還流した。反応終了後、析出し
た結晶を濾別、乾燥し、標記化合物27.8gを得た。(融
点:135.8〜136.0℃) 本発明の一般式(I)の化合物は、1.0×10-7〜1.0×
10-3mol/m2、好ましくは1.0×10-6〜1.0×10-4mol/m2の
範囲内で用いられる。4) Synthesis of Exemplified Compound (2) To 2.0 g of 2-C obtained above, 600 ml of methylene chloride, 9.2 g of 2-mercapto-5-methylthio-1,3,4-thiadiazole, 9.2 g of p-toluenesulfonic acid. 0.5 g of monohydrate
Was added and the mixture was refluxed at room temperature for 2 hours. After the completion of the reaction, the precipitated crystals were separated by filtration and dried to obtain 27.8 g of the title compound. (Mp: from 135.8 to 136.0 ° C.) a compound of the general formula (I) of the present invention, 1.0 × 10 -7 ~1.0 ×
It is used in the range of 10 −3 mol / m 2 , preferably 1.0 × 10 −6 to 1.0 × 10 −4 mol / m 2 .
本発明の化合物は、適当な水混和性有機溶媒、例え
ば、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノ
ール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メ
チルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いる
ことができる。The compound of the present invention is dissolved in a suitable water-miscible organic solvent, for example, alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methylethylketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve, etc. Can be used.
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジ
ブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリ
セリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなど
のオイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助
溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用
いることもできる。あるいは固体分散法として知られて
いる方法によって、化合物の粉末を水の中にボールミ
ル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散して用
いることもできる。Also, by the well-known emulsification dispersion method, it is dissolved in an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate using an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified. A dispersion can also be prepared and used. Alternatively, the compound powder can be dispersed in water using a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method.
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式
(IV)によって表わされる化合物が好ましい。The hydrazine derivative used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula (IV).
一般式(IV) 式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は水
素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表わし、
G1は −SO2−基、−SO−基、 チオカルボニル基又はイミノメチレン基を表わし、A1、
A2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置
換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換も
しくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のアシル基を表わす。General formula (IV) In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group,
G 1 -SO 2 -group, -SO- group, Represents a thiocarbonyl group or an iminomethylene group, A 1 ,
A 2 represents a hydrogen atom or a hydrogen atom on one side and a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group on the other side, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.
一般式(IV)において、R1で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20
の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。このアル
キル基は置換基を有していてもよい。In the general formula (IV), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly 1 to 20 carbon atoms.
Is a linear, branched or cyclic alkyl group. This alkyl group may have a substituent.
一般式(IV)においてR1で表される芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。
ここで不飽和ヘテロ環基はアリール基と縮環していても
よい。In formula (IV), the aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group.
Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with the aryl group.
R1として好ましいものはアリール基であり、特に好ま
しくはベンゼン環を含むものである。Preferred as R 1 is an aryl group, particularly preferably a group containing a benzene ring.
R1の脂肪族基または芳香族基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、
アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、
アリールオキシ基、スルファモイル基、カルボモイル
基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはア
リールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド
基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド
基、ジアシルアミノ基、イミド基、 などが挙げられ、好ましい置換基としてはアルキル基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好
ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは
炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、ア
シルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のも
の)などである。The aliphatic group or the aromatic group of R 1 may be substituted, and typical substituents include, for example, an alkyl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group,
Aryl group, substituted amino group, ureido group, urethane group,
Aryloxy, sulfamoyl, carbomoyl, alkyl or arylthio, alkyl or arylsulfonyl, alkyl or arylsulfinyl, hydroxy, halogen, cyano, sulfo, aryloxycarbonyl, acyl, alkoxycarbonyl An acyloxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a carboxyl group, a phosphoric acid amide group, a diacylamino group, an imide group, And the like. Preferred substituents are an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), an aralkyl group (preferably having 7 to 30 carbon atoms), and an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms). ), A substituted amino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), an acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms),
Examples thereof include a sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), a ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), and a phosphoric amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms).
一般式(IV)においてR2で表わされるアルキル基とし
ては、好ましく炭素数1〜4のアルキル基であり、アリ
ール基としては単環または2環のアリール基が好ましい
(例えばベンゼン環を含むもの)。In formula (IV), the alkyl group represented by R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group (for example, one containing a benzene ring). .
G1が の場合、R2で表わされる基のうち好ましいものは、水素
原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオロメ
チル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタンスルホ
ンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基な
ど)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル
基など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5−ジ
クロロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフェニル
基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−ヒドロキシ
メチルフェニル基など)などであり、特に水素原子が好
ましい。G 1 In the case of, preferred among the groups represented by R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group (for example, a methyl group, a trifluoromethyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 3-methanesulfonamidopropyl group, a phenylsulfonylmethyl group and the like). ), Aralkyl groups (eg, o-hydroxybenzyl group), aryl groups (eg, phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-hydroxymethylphenyl) And the like), and a hydrogen atom is particularly preferable.
R2は置換されていても良く、置換基としては、R1に関
して列挙した置換基が適用できる。R 2 may be substituted, and as the substituent, the substituents listed for R 1 can be applied.
一般式(IV)のGとしては が最も好ましい。As G in the general formula (IV), Is most preferred.
又、R2はG1−R2の部分を残余分子から分裂させ、−G1
−R2部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を
生起するようなものであってもよく、その例としては例
えば特開昭63−29751号などに記載のものが挙げられ
る。Further, R 2 disrupts the portion of the G 1 -R 2 from the remainder molecule, -G 1
-R 2 moiety of atoms may be such as to occur a cyclic structure cyclization reaction to form a containing, include those described in, for example, JP 63-29751 as an example.
A1、A2としては水素原子が最も好ましい。A 1 and A 2 are most preferably hydrogen atoms.
一般式(IV)のR1またはR2はその中にカプラー等の不
動性写真用添加剤において常用されているバラスト基ま
たはポリマーが組み込まれているものでもよい。バラス
ト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不
活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フ
ェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキ
ルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。またポ
リマーとしては例えば特開平1−100530号に記載のもの
が挙げられる。R 1 or R 2 in the general formula (IV) may have a ballast group or polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties. For example, the ballast group is selected from an alkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group and an alkylphenoxy group. Can be. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
一般式(IV)のR1またはR2はその中にハロゲン化銀粒
子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもの
でもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環
チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基な
どの米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59
−195,233号、同59−200,231号、同59−201,045号、同5
9−201,046号、同59−201,047号、同59−201,048号、同
59−201,049号、特開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67,508号、同62−67,501
号、同62−67,510号に記載された基があげられる。R 1 or R 2 in the general formula (IV) may have a group in which a group that enhances adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of such adsorbing groups include thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercapto heterocyclic groups, triazole groups, and the like, U.S. Patent Nos. 4,385,108 and 4,459,347;
-195,233, 59-200,231, 59-201,045, 5
Nos. 9-201,046, 59-201,047, 59-201,048,
59-201,049, JP-A-61-170,733, JP-A-61-270,744
No. 62-948, Japanese Patent Application No. 62-67,508, No. 62-67,501
And the groups described in JP-A-62-67,510.
一般式(IV)で示される化合物の具体例を以下に示
す。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。Specific examples of the compound represented by the general formula (IV) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記
のものの他に、RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983
年11月号、P.346)およびそこに引用された文献の他、
米国特許4,080,207号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108号、同4,459,347号、
同4,560,638号、同4,478,928号、英国特許2,011,391B、
特開昭60−179734号、同62−270,948号、同63−29,751
号、同61−170,733号、同61−270,744号、同62−948
号、EP217,310号、EP356,898号、またはUS4,686,167
号、特開昭62−178,246号、同63−32,538号、同63−10
4,047号、同63−121,838号、同63−129,337号、同63−2
23,744号、同63−234,244号、同63−234,245号、同63−
234,246号、同63−294,552号、同63−306,438号、特開
平1−100,530号、同1,105,941号、同1−105,943号、
特開昭64−10,233号、特開平1−90,439号、特願昭63−
105,682号、同63−114,118号、同63−110,051号、同63
−114,119号、同63−116,239号、同63−147,339号、同6
3−179,760号、同63−229,163号、特願平1−18,377
号、同1−18,378号、同1−18,379号、同1−15,755
号、同1−16,814号、同1−40,792号、同1−42,615
号、同1−42,616号、同1−123,693号、同1−126,284
号に記載されたものを用いることができる。 As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to the above, RESEARCH DISCLOSURE Item23516 (1983
November, p. 346) and references cited therein,
U.S. Pat.Nos. 4,080,207, 4,269,929, 4,276,364
No. 4,278,748, No. 4,385,108, No. 4,459,347,
4,560,638, 4,478,928, UK Patent 2,011,391B,
JP-A-60-179934, JP-A-62-270,948, JP-A-63-29,751
Nos. 61-170,733, 61-270,744, 62-948
No., EP217,310, EP356,898, or US4,686,167
No., JP-A-62-178,246, JP-A-63-32,538, JP-A-63-10
No. 4,047, No. 63-121,838, No. 63-129,337, No. 63-2
No. 23,744, No. 63-234,244, No. 63-234,245, No. 63-
No. 234,246, No. 63-294,552, No. 63-306,438, JP-A No. 1-100,530, No. 1,105,941, No. 1-105,943,
JP-A-64-10,233, JP-A-1-90,439, Japanese Patent Application No. 63-90
No. 105,682, No. 63-114,118, No. 63-110,051, No. 63
-114,119, 63-116,239, 63-147,339, 6
3-179,760, 63-229,163, Japanese Patent Application No. 1-18,377
Nos. 1-18,378, 1-18,379, 1-15,755
Nos. 1-16,814, 1-40,792, 1-42,615
Nos. 1-42,616, 1-123,693, 1-126,284
Those described in the item can be used.
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハ
ロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルないし5×10-2モ
ル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルないし2
×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。The addition amount of the hydrazine derivative in the present invention is preferably 1.times.10.sup.- 6 mol to 5.times.10.sup.- 2 mol, more preferably 1.times.10.sup.- 5 mol to 2.times.10.sup.- 5 mol per mol of silver halide.
A range of × 10 -2 mol is a preferable addition amount.
第1および第2のハロゲン化銀乳剤層は、支持体上に
どのような順に塗設されても良い。例えば、支持体の上
に順に、第2のハロゲン化銀乳剤層、第1のハロゲン化
銀乳剤層、あるいはこの逆でも良い。また、これらの層
の間に、別の親水性コロイド層を設けてもよい。The first and second silver halide emulsion layers may be coated on the support in any order. For example, a second silver halide emulsion layer, a first silver halide emulsion layer, and vice versa may be arranged in this order on a support. Further, another hydrophilic colloid layer may be provided between these layers.
第1の乳剤層は、好ましくは、塗布銀量が0.01〜2.0g
/m2で、好ましくは、0.05〜1.0g/m2、第2の乳剤層の塗
布銀量は、0.5〜7.5g/m2、好ましくは1.0〜6.0g/m2が適
当である。The first emulsion layer preferably has a coated silver amount of 0.01 to 2.0 g.
In / m 2, preferably, 0.05 to 1.0 g / m 2, coated silver amount of the second emulsion layer, 0.5~7.5g / m 2, and preferably is 1.0~6.0g / m 2 suitably.
前述の親水性コロイド層はゼラチンまたは合成ポリマ
ー(ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、ポリビニル
アルコールなど)を含み0.1〜5.0μ、好ましくは、0.2
〜4.0μが適当である。The above-mentioned hydrophilic colloid layer contains gelatin or a synthetic polymer (polyvinyl acetate, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, etc.) in a range of 0.1 to 5.0 μm, preferably 0.2 to 5.0 μm.
~ 4.0μ is appropriate.
本発明の第1および第2のハロゲン化銀乳剤層に用い
られるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化銀、沃臭化
銀、沃塩臭化銀、臭化銀等どの組成でもかまわない。The silver halide emulsion used in the first and second silver halide emulsion layers of the present invention may have any composition such as silver chloride, silver chlorobromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide and silver bromide. .
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは
微粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.5μ
以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限はな
いが、単分散である方が好ましい。ここでいう単分散と
は重量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒子
サイズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から構成され
ていることをいう。The average grain size of the silver halide used in the present invention is preferably fine grains (for example, 0.7 μm or less), particularly 0.5 μm.
The following is preferred. The particle size distribution is basically not limited, but is preferably monodispersed. The term “monodisperse” as used herein means that at least 95% by weight or the number of particles is composed of a group of particles having a size within ± 40% of the average particle size.
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよ
うな規則的(regular)な結晶体を有するものでもよ
く、また球状、板状などのような変則的(irregular)
な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形の複合形を
持つものであってもよい。The silver halide grains in the photographic emulsion may have regular crystals such as cubic and octahedral, and irregular such as spherical and tabular.
It may be one having a suitable crystal or one having a complex form of these crystal forms.
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成って
いても、異なる相からなっていてもよい。別々に形成し
た2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して使用してもよ
い。In the silver halide grains, the inside and the surface layer may be composed of a uniform phase or may be composed of different phases. Two or more kinds of silver halide emulsions formed separately may be used as a mixture.
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその
錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させて
もよい。The silver halide emulsion used in the present invention contains a cadmium salt during the formation or physical ripening of silver halide grains.
A sulfite, a lead salt, a thallium salt, a rhodium salt or a complex salt thereof, an iridium salt or a complex salt thereof, and the like may coexist.
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイド層に、
フィルター染料として、あるいはイラジエーション防止
その他、種々の目的で、染料を含有してもよい。フィル
ター染料としては、写真感度をさらに低めるための染
料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸収
極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取り
扱われる際のセーフライト光に対する安全性を高めるた
めの、主として350nm〜600nmの領域に実質的な光吸収を
もつ染料が用いられる。In the emulsion layer of the present invention, or other hydrophilic colloid layer,
A dye may be contained as a filter dye or for various purposes such as prevention of irradiation. As the filter dye, a dye for further lowering the photographic sensitivity, preferably an ultraviolet absorber having a spectral absorption maximum in the intrinsic sensitivity range of silver halide, or safety against safelight light when handled as a light room photosensitive material Dyes having substantial light absorption mainly in the range of 350 nm to 600 nm are used to increase the light absorption.
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、
あるいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関
してハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性コロ
イド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好
ましい。These dyes are added to the emulsion layer depending on the purpose,
Alternatively, it is preferable to add and fix a non-photosensitive hydrophilic colloid layer above the silver halide emulsion layer, that is, a non-photosensitive hydrophilic colloid layer farther from the silver halide emulsion layer with the mordant before use.
染料のモル吸光係数により異なるが、通常10-2g/m2〜
1g/m2の範囲で添加される。好ましくは50mg〜500mg/m2
である。Different by the molar extinction coefficient of the dye, but usually 10 -2 g / m 2 ~
It is added in the range of 1 g / m 2 . Preferably 50mg~500mg / m 2
It is.
用いられる染料は、各種の公知の特許に開示されてい
る。例えば、特開昭55−155,350、同55−155,351、同52
−92716、同56−12639、同63−27838、米国特許427637
3、WO88/04794に記載されている。The dyes used are disclosed in various known patents. For example, JP-A-55-155,350; JP-A-55-155,351;
-92716, 56-12639, 63-27838, U.S. Pat.
3, WO 88/04794.
また、公知の水溶性染料も用いることができる。いく
つかの例を次にあげる。Known water-soluble dyes can also be used. Some examples follow.
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラ
チンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロ
イドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、
ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質:ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エス
テル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、
澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルアルコール部分のアセタール、ポリ−N−ビニ
ルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニ
ルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合
成親水性高分子物質を用いることができる。 Gelatin is advantageously used as a binder or protective colloid of the photographic emulsion, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives,
Graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein: cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose and cellulose sulfates, sodium alginate,
Sugar derivatives such as starch derivatives, polyvinyl alcohol, acetal of polyvinyl alcohol portion, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole, polyvinylidazole, etc. Can be used.
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼ
ラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン
酵素分解物も用いることができる。As gelatin, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used, and gelatin hydrolyzate and gelatin enzyme hydrolyzate can also be used.
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感さ
れていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハ
ロゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還
元増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいず
れをも単独で用いても、又併用して化学増感してもよ
い。The silver halide emulsion used in the method of the present invention may not be chemically sensitized, but may be. As methods of chemical sensitization of silver halide emulsions, sulfur sensitization, reduction sensitization and noble metal sensitization are known, and any of these can be used alone or in combination with chemical sensitization. Is also good.
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金
化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、た
とえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有し
ても差支えない。その具体例は米国特許2,448,060号、
英国特許618,061号などに記載されている。Among the noble metal sensitization methods, the gold sensitization method is a typical one and uses a gold compound, mainly a gold complex salt. Noble metals other than gold, for example, complex salts such as platinum, palladium and iridium may be contained. Specific examples are U.S. Patent No. 2,448,060,
It is described in British Patent 618,061 and the like.
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合
物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チ
オ尿素塩、チアゾール類、ローダニン類等を用いること
ができる。As the sulfur sensitizer, various sulfur compounds such as thiosulfate, thiourea, thiazoles, rhodanines and the like can be used in addition to the sulfur compounds contained in gelatin.
還元増感剤としては第一すず塩、アミン塩、ホルムア
ミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることが
できる。As the reduction sensitizer, a stannous salt, an amine salt, formamidinesulfinic acid, a silane compound and the like can be used.
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、公知の
分光増感色素を添加してもよい。A known spectral sensitizing dye may be added to the silver halide emulsion layer used in the present invention.
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中
あるいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能
を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させること
ができる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリ
ウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾ
ール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチア
ゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプト
チアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチア
ゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカ
プトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえば
オキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイン
デン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイン
デン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラザ
インデン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼンチ
オスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスル
フォン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤と
して知られた多くの化合物を加えることができる。これ
らのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾール類
(例えば、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及びニト
ロインダゾール類(例えば5−ニトロインダゾール)で
ある。また、これらの化合物を処理液に含有させてもよ
い。The light-sensitive material of the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fogging during the manufacturing process, storage or photographic processing of the light-sensitive material or stabilizing photographic performance. That is, azoles such as benzothiazolium salts, nitroindazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles, mercaptothiadiazoles, aminotriazoles, benzothiazoles, nitrobenzotriazoles, Mercaptopyrimidines; mercaptotriazines; thioketo compounds such as oxazolinethione; azaindenes such as triazaindenes, tetraazaindenes (especially 4-hydroxy-substituted (1,3,3a, 7) tetrazaindene) ), Pentaazaindenes, etc .; and many compounds known as antifoggants or stabilizers, such as benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid, benzenesulfonamide, etc. Rukoto can. Among these, preferred are benzotriazoles (eg, 5-methyl-benzotriazole) and nitroindazoles (eg, 5-nitroindazole). Further, these compounds may be contained in the treatment liquid.
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水
性コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよ
い。例えばクロム塩(クロムミョウバンなど)、アルデ
ヒド類、グルタールアルデヒドなど)、N−メチロール
化合物(ジメチロール尿素、など)、ジオキサン誘導
体、活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘ
キサヒドロ−s−トリアジン、1,3−ビニルスルホニル
−2−プロパノールなど)、活性ハロゲン化合物(2,4
−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジンなど)、
ムコハロゲン酸類、などを単独または組み合わせて用い
ることができる。The photographic light-sensitive material of the present invention may contain an inorganic or organic hardener in the photographic emulsion layer and other hydrophilic colloid layers. For example, chromium salts (chromium alum, etc.), aldehydes, glutaraldehyde, etc., N-methylol compounds (dimethylol urea, etc.), dioxane derivatives, active vinyl compounds (1,3,5-triacryloyl-hexahydro-s-triazine) , 1,3-vinylsulfonyl-2-propanol, etc.), active halogen compounds (2,4
-Dichloro-6-hydroxy-s-triazine, etc.),
Mucohalogen acids and the like can be used alone or in combination.
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または
他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ
性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の
界面活性剤を含んでもよい。The photographic emulsion layer or other hydrophilic colloid layer of the light-sensitive material prepared by using the present invention may have coating aids, antistatic, slipperiness improvement, emulsification / dispersion, adhesion prevention and photographic property improvement (eg, development acceleration, high contrast For various purposes such as sensitization), various surfactants may be contained.
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサ
イド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポ
リエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチ
レングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチ
レングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソ
ルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキ
ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキ
サイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケ
ニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリ
グリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、等
のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキ
ルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフ
ォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
レンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エス
テル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸
類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸
又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオ
キシド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、
脂肪族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ニウム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウ
ム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又は
スルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いるこ
とができる。For example, saponins (steroids), alkylene oxide derivatives (eg, polyethylene glycol, polyethylene glycol / polypropylene glycol condensate, polyethylene glycol alkyl ethers or polyethylene glycol alkyl aryl ethers, polyethylene glycol esters, polyethylene glycol sorbitan esters, polyalkylene glycol) Nonionic surfactants such as alkylamines or amides, polyethylene oxide adducts of silicone, glycidol derivatives (eg, alkenyl succinic acid polyglyceride, alkylphenol polyglyceride), and alkyl esters such as fatty acid esters of polyhydric alcohols. Agent: alkyl carboxylate, alkyl sulfonate, alkyl benzene sulfo Acid salts, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl phosphates, N-acyl-N-alkyl taurines, sulfosuccinates, sulfoalkyl polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene alkyl phosphorus Anionic surfactants containing an acidic group such as a carboxy group, a sulfo group, a phospho group, a sulfate group or a phosphate group, such as acid esters; amino acids, aminoalkyl sulfonic acids, aminoalkyl sulfate or phosphoric acid Amphoteric surfactants such as esters, alkyl betaines, and amine oxides; alkyl amine salts,
Cationic surfactants such as aliphatic or aromatic quaternary ammonium salts, heterocyclic quaternary ammonium salts such as pyridinium and imidazolium, and phosphonium or sulfonium salts containing aliphatic or heterocyclic rings can be used.
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は
特公昭58−9412号公報に記載された分子量600以上のポ
リアルキレンオキサイド類である。又、寸度安定性の為
にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテックス
を含有せしめることができる。Particularly, surfactants preferably used in the present invention are polyalkylene oxides having a molecular weight of 600 or more described in JP-B-58-9412. Further, a polymer latex such as polyalkyl acrylate can be contained for dimensional stability.
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝
染現像の促進剤としては、特開昭53−77616、同54−377
32、同53−137,133、同60−140,340、同60−14959、な
どに開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各
種の化合物が有効である。Examples of development accelerators suitable for use in the present invention or accelerators for nucleation transmission development include JP-A-53-77616 and JP-A-54-377.
In addition to the compounds disclosed in Nos. 32, 53-137, 133, 60-140,340, and 60-14959, various compounds containing an N or S atom are effective.
次に具体例を列挙する。 Next, specific examples are listed.
n−C4H9N(C2H4OH)2 これらの促進剤は、化合物の種類によって最適添加量
が異なるが1.0×10-3〜0.5g/m2、好ましくは5.0×10-3
〜0.1g/m2の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進
剤は適当な溶媒(H2O)メタノールやエタノールなどの
アルコール類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチ
ルセルソルブなど)に溶解して塗布液に添加される。 n-C 4 H 9 N (C 2 H 4 OH) 2 These accelerators have an optimum addition amount depending on the kind of the compound, but 1.0 × 10 −3 to 0.5 g / m 2 , preferably 5.0 × 10 −3.
It is desirable to use it in the range of 0.1 g / m 2 . These accelerators are dissolved in a suitable solvent (H 2 O), such as alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dimethylformamide, and methylcellosolve, and added to the coating solution.
これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。 A plurality of these additives may be used in combination.
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真
特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,419,
975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液を用い
る必要はなく、安定な現像液を用いることができる。To obtain ultra-high contrast photographic characteristics using the silver halide light-sensitive material of the present invention, a conventional infectious developer or U.S. Pat.
It is not necessary to use a high alkali developer close to pH 13 described in JP-A-975, and a stable developer can be used.
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤
としての亜硫酸イオンを0.15モル/以上含み、pH10.5
〜12.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によって充分に超硬
調のネガ画像を得ることができる。That is, the silver halide light-sensitive material of the present invention contains 0.15 mol / or more of sulfite ion as a preservative, and has a pH of 10.5
With a developer having a pH of from 12.3 to 12.3, particularly from 11.0 to 12.0, a negative image having a sufficiently high contrast can be obtained.
本発明の方法において用いうる現像主薬には特別な制
限はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイ
ドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニ
ル−3−ピラゾリドン、4,4−ジメチル−1−フェニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフェノール)などを単独あるいは
組み合わせてもちいることができる。There is no particular limitation on the developing agent that can be used in the method of the present invention, and examples thereof include dihydroxybenzenes (eg, hydroquinone) and 3-pyrazolidones (eg, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 4,4-dimethyl-1-phenyl-). 3-pyrazolidone), aminophenols (for example, N
-Methyl-p-aminophenol) or the like can be used alone or in combination.
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬と
してジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3
−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類を含む現像
液で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液
においてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル/
、3−ピラゾリドン類またはアミノフェノール類は0.
06モル/以下の範囲で併用される。The silver halide light-sensitive material of the present invention particularly contains dihydroxybenzenes as a main developing agent and 3
-Suitable for processing with a developer containing pyrazolidones or aminophenols. Preferably, the developer contains 0.05 to 0.5 mol / dihydroxybenzenes / mol.
, 3-pyrazolidones or aminophenols are 0.
It is used in the range of 06 mol / or less.
また米国特許4269929号に記載されているように、ア
ミン類を現像液に添加することによって現像速度を高
め、現像時間の短縮化を実現することもできる。Further, as described in U.S. Pat. No. 4,269,929, the development speed can be increased by adding amines to a developer to shorten the development time.
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸
塩、ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、
沃化物、及び有機カブリ防止剤(特に込ましくはニトロ
インダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現
像抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができ
る。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、
現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリ
アルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フィルム
の銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾ
ールスルホン酸類など)を含んでもよい。Other developers include pH buffers such as sulfites, carbonates, borates and phosphates of alkali metals, bromides,
It may contain an iodide and a development inhibitor such as an organic antifoggant (especially nitroindazoles or benzotriazoles) or an antifoggant. Also, if necessary, a water softener, a dissolution aid, a color tone agent,
It may contain a development accelerator, a surfactant (especially preferably the above-mentioned polyalkylene oxides), an antifoaming agent, a hardening agent, and a silver stain inhibitor (for example, 2-mercaptobenzimidazole sulfonic acids) of the film.
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いる
ことができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン
酸塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫
黄化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤とし
て水溶性アルミニウム塩などを含んでもよい。As the fixing solution, those having a commonly used composition can be used. As the fixing agent, in addition to thiosulfate and thiocyanate, an organic sulfur compound known to have an effect as a fixing agent can be used. The fixing solution may contain a water-soluble aluminum salt as a hardening agent.
本発明の方法における処理温度は普通18℃から50℃の
間に選ばれる。The processing temperature in the process according to the invention is usually chosen between 18 ° C and 50 ° C.
写真処理には自動現像機を用いるのが好ましいが、本
発明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから
出てくるまでのトータルの処理時間を60秒〜120秒に設
定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得られ
る。Although it is preferable to use an automatic developing machine for photographic processing, according to the method of the present invention, even if the total processing time from when the photosensitive material is put into the automatic developing machine until it comes out is set to 60 seconds to 120 seconds. Thus, a photographic characteristic of a negative tone with a sufficiently high contrast can be obtained.
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56−2
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現像液
中に添加する溶解助剤として特願昭60−109,743号に記
載の化合物を用いることができる。さらに現像液に用い
るpH緩衝剤として特開昭60−93,433号に記載の化合物あ
るいは特願昭62−186259に記載の化合物を用いることが
できる。The developing solution of the present invention is disclosed in JP-A-56-2 as a silver stain inhibitor.
The compounds described in 4,347 can be used. Compounds described in Japanese Patent Application No. 60-109,743 can be used as a solubilizing agent to be added to the developer. Further, compounds described in JP-A-60-93,433 or compounds described in Japanese Patent Application No. 62-186259 can be used as a pH buffer used in the developer.
以下実施例により、本発明を詳しく説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples.
実施例1 (感光性乳剤の調製) 乳剤−A 50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4×10-7
モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびアンモニア
の存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化カリウ
ムの水溶液を同時に60分間で加えその間のpAgを7.8に保
つことにより、平均粒子サイズ0.28μで、平均ヨウ化銀
含有量0.3モル%の立方体単分散乳剤を調製した。この
乳剤をフロキュレーション法により、脱塩を行いその後
に、銀1モル当り40gの不活性ゼラチンを加えた後に50
℃に保ち増感色素として5,5′−ジクロロ−9−エチル
−3,3′−ビス(3−スルフォプロピル)オキサカルボ
シアニンと、銀1モル当り10-3モルのKI溶液に加え、15
分間経時させた後降温した。Example 1 (Preparation of photosensitive emulsion) Emulsion-A 4 × 10 −7 per mol of silver was added to an aqueous gelatin solution kept at 50 ° C.
An aqueous silver nitrate solution and an aqueous solution of potassium iodide and potassium bromide were added simultaneously over 60 minutes in the presence of moles of potassium iridium (III) chloride and ammonia, and the pAg between them was kept at 7.8 to obtain an average particle size of 0.28 μm. A cubic monodispersed emulsion having an average silver iodide content of 0.3 mol% was prepared. The emulsion was desalted by flocculation, and after adding 40 g of inert gelatin per mol of silver,
C. and 5,5'-dichloro-9-ethyl-3,3'-bis (3-sulfopropyl) oxacarbocyanine as a sensitizing dye and 10-3 moles per mole of silver in a KI solution, Fifteen
After aged for minutes, the temperature was lowered.
乳剤−B 50℃に保ったpH=4.0のゼラチン水溶液中に硝酸銀水
溶液と銀1モルあたり、1.4×10-7モルの6塩化ロジウ
ム(III)酸アンモニウムトと4×10-7モルの6塩化イ
リジウム(III)酸カリを含む、塩化ナトリウムおよび
臭化カリウムの混合水溶液を同時に一定の速度で30分間
添加して平均粒子サイズ0.23μの塩臭化銀単分散乳剤
(Cl組成70モル%)を調製した。Emulsion-B 1.4 × 10 -7 mol of rhodium (III) hexachloride and 4 × 10 -7 mol of hexachloride per mol of silver nitrate and 1 mol of silver nitrate in aqueous gelatin solution at pH = 4.0 kept at 50 ° C. A mixed aqueous solution of sodium chloride and potassium bromide containing potassium iridate (III) is simultaneously added at a constant rate for 30 minutes to obtain a silver chlorobromide monodispersed emulsion (Cl composition 70 mol%) having an average particle size of 0.23 μm. Prepared.
この乳剤を常法に従って水洗して可溶性塩類を除去し
たあと、チオ硫酸ナトリウムとカリウムクロロオーレー
トを加えて化学増感を施した。さらに銀1モルあたり0.
1モル%に相当する沃化カリウム溶液を添加し粒子表面
のコンバージョンを行なった。This emulsion was washed with water according to a conventional method to remove soluble salts, and then chemically sensitized by adding sodium thiosulfate and potassium chloroaurate. In addition, 0.
A potassium iodide solution corresponding to 1 mol% was added to convert the particle surface.
更に、この後に、50℃に保ち増感色素として次の化合
物を2.7×10-4モル/Agモル加え、15分間経時させた後
に、降温収納した。Further, after that, the following compound as a sensitizing dye was added at 2.7 × 10 −4 mol / Ag mol while the temperature was kept at 50 ° C., and the mixture was aged for 15 minutes and then stored at a lower temperature.
(塗布試料の作成) 支持体;塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層(0.
5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフィルム(1
50μ)支持体上に、支持体側から順次UL、ML、OL、PCの
層構成になる様に塗布した。以下に各層の調製法及び塗
布量を示す。 (Preparation of coating sample) Support: Undercoat layer (0. 1) made of vinylidene chloride copolymer
5 μ) polyethylene terephthalate film (1
50μ) On the support, coating was performed in order from the support side to form a layer structure of UL, ML, OL, and PC. The preparation method and coating amount of each layer are shown below.
(UL) 前記、乳剤−Bをゼラチンと共に40℃で溶解した後、
5−メチルベンズトリアゾール、85mg/m2、6−メチル
−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデン12mg/m
2、下記化合物(イ)、(ロ)、(ハ)及びゼラチンに
対して30wt%のポリエチルアクリレート及びゼラチン硬
化剤として下記化合物(ニ)を添加し、Ag3.6g/m2、表
−1に示したヒドラジン化合物2.8×10-5mol/m2、ゼラ
チン1.9g/m2となるように塗布した。(UL) After dissolving Emulsion-B together with gelatin at 40 ° C,
5-methyl benzotriazole, 85mg / m 2, 6- methyl-4-hydroxy-1,3,3a, 7- tetrazaindene 12 mg / m
2. 30 wt% of polyethyl acrylate and the following compound (d) as a gelatin hardener were added to the following compounds (a), (b) and (c) and gelatin, and Ag3.6 g / m 2 , Table 1 The hydrazine compound was applied so as to have a density of 2.8 × 10 −5 mol / m 2 and gelatin of 1.9 g / m 2 .
(ML) ゼラチン10g、前記化合物(ニ)をゼラチンに対して
2.0wt%を添加し、完成量250mlになるように水を加えて
調製し、ゼラチン1.5g/m2になるように塗布した。 (ML) 10 g of gelatin, the above compound (d) was added to gelatin
2.0 wt% was added, and water was added so as to obtain a final volume of 250 ml, and the mixture was applied so that gelatin became 1.5 g / m 2 .
(OL) 前記、乳剤−Aを40℃にて溶解し、5−メチルベンズ
トリアゾール3mg/m2、6−メチル−4−ヒドロキシ−1,
3,3a,7−テトラザインデン、表−1に示す本発明の一般
式(I)の化合物4.3×10-5mol/m2、化合物(イ)0.4mg
/m2、(ロ)1.5mg/m2、(ハ)15mg/m2及びゼラチンに対
して30wt%のポリエチルアクリレート及びゼラチン硬化
剤として化合物(ニ)ゼラチンに対して2wt%を添加し
調製した。Ag0.4g/m2となる様に塗布した。(OL) The above-mentioned emulsion-A was dissolved at 40 ° C., and 5-methylbenztriazole 3 mg / m 2 , 6-methyl-4-hydroxy-1,
3,3a, 7-tetrazaindene, 4.3 × 10 −5 mol / m 2 of the compound of the general formula (I) of the present invention shown in Table 1, 0.4 mg of the compound (a)
/ m 2, (b) 1.5 mg / m 2, prepared by adding 2 wt% relative to (c) 15 mg / m 2 and the compound as a 30 wt% of poly ethyl acrylate and a gelatin hardening agent to gelatin (d) Gelatin did. It was applied so as to have an Ag of 0.4 g / m 2 .
(PC) ゼラチン溶液にポリメチルメタクリレート分散物(平
均粒径5.0μ)、更に次の界面活性剤を添加し、ゼラチ
ン1.5g/m2、ポリメチルメタクリレートとして0.3g/m2と
なる様に塗布した。(PC) Polymethyl methacrylate dispersion (average particle size: 5.0μ) and the following surfactants were added to the gelatin solution and coated to 1.5 g / m 2 of gelatin and 0.3 g / m 2 of polymethyl methacrylate. did.
(性能の評価) これらの試料を、3200゜Kのタングステン光で光学ク
サビ又は、光学クサビとコンタクトスクリーン(富士フ
イルム、150Lチェーンドット型)を通して露光後、次の
現像液で34℃30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。 (Evaluation of performance) After exposing these samples with 3200 ク K tungsten light through an optical wedge or an optical wedge and a contact screen (Fujifilm, 150L chain dot type), develop at 34 ° C for 30 seconds with the next developer. Fixing, washing and drying.
定着液としては、富士写真フイルム(株)社製、GR−
F1を用いた。As the fixing solution, GR-GR manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
F1 was used.
網階調は次式で表わした。 The halftone was expressed by the following equation.
*網階調=95%の網点面積率を与える露光量 (logE95%)−5%の網点面積率を 与える露光量(logE5%) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価
は、「5」が最も良く、「1」が最も悪い品質を示す。
製版用網点原版としては、「5」、「4」が実用可能
で、「3」が実用可能な限界レベルであり、「2」、
「1」は実用不可能な品質である。* Halftone = Exposure to give 95% halftone dot area ratio (logE95%)-Exposure to give 5% halftone dot area ratio (logE5%) Halftone dot quality was visually evaluated on a 5-point scale. In the five-point evaluation, "5" indicates the best quality and "1" indicates the worst quality.
"5" and "4" are practically usable as the halftone dot masters for plate making, "3" is a practically usable limit level, "2",
"1" is a quality that cannot be used.
得られた結果を表1に示した。 Table 1 shows the obtained results.
階調(γ)は特性曲線で濃度0.3の点と3.0の点を結ぶ
直線の傾きである。The gradation (γ) is the slope of a straight line connecting the points of density 0.3 and 3.0 in the characteristic curve.
表−1の結果から、本発明のサンプルが、γが高く、
網階調が広く、網点品質の良好な画像を与えることがわ
かる。 From the results in Table 1, the sample of the present invention has a high γ,
It can be seen that an image having a wide halftone and a good halftone quality is provided.
実施例2 (感光性乳剤Cの調製) 50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り3.0×10
-6モルの(NH4)3RhCl6の存在下で硝酸銀水溶液と塩化
ナトリウム水溶液を同時に混合したのち、当業界でよく
知られた方法にて、可溶性塩を除去したのちにゼラチン
を加え、化学熟成せずに安定化剤として6−メチル−4
−ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデンを添加し
た。この乳剤は平均サイズが0.15μの立方晶形をした単
分散乳剤であった。Example 2 (Preparation of Photosensitive Emulsion C) An aqueous solution of gelatin kept at 50 ° C. was added in an amount of 3.0 × 10 3 per mol of silver.
An aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of sodium chloride are simultaneously mixed in the presence of -6 mol of (NH 4 ) 3 RhCl 6 , and then soluble salts are removed by a method well known in the art. 6-methyl-4 as stabilizer without aging
-Hydroxy-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added. This emulsion was a cubic monodispersed emulsion having an average size of 0.15 μm.
(感光乳剤層の塗布) 第一層 感光乳剤Cに、ヒドラジン化合物IV−8(25mg/
m2)、5−メチルベンゾトリアゾール(5×10-3mol/Ag
mol)、ポリエチルアクリレートラテックス(30wt%対
ゼラチン)、および1,3−ジビニルスルホニル−2−プ
ロパノール(2,0wt%対ゼラチン)を添加した。塗布銀
量は3.5g/m2であった。(Coating of Photosensitive Emulsion Layer) The hydrazine compound IV-8 (25 mg /
m 2 ), 5-methylbenzotriazole (5 × 10 −3 mol / Ag
mol), polyethyl acrylate latex (30 wt% vs. gelatin), and 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol (2.0 wt% vs. gelatin). The amount of silver applied was 3.5 g / m 2 .
第二層ゼラチン(1.0g/m2) 第三層 感光乳剤Cと同様に但し6.0×10-6モルの(NH4)3RhC
l6の存在下で調製した感光乳剤D(塗布銀量0.4g/
m2)、5−メチルベンゾトリアゾール(5×10-3mol/Ag
mol)、ポリエチルアクリレートラテックス(30wt%対
ゼラチン)、1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノ
ール(2wt%対ゼラチン)、および表−2に示した本発
明の一般式(I)の化合物を添加した。Second layer gelatin (1.0 g / m 2 ) Third layer Same as photosensitive emulsion C, except that 6.0 × 10 -6 mol of (NH 4 ) 3 RhC
emulsion prepared in the presence of l 6 D (coated silver amount 0.4 g /
m 2 ), 5-methylbenzotriazole (5 × 10 −3 mol / Ag
mol), polyethyl acrylate latex (30 wt% to gelatin), 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol (2 wt% to gelatin), and the compound of the general formula (I) of the present invention shown in Table 2 did.
第四層(保護層) ゼラチン1.5g/m2と、マット剤として、ポリメチルメ
タクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3g/m2、さらに塗
布助剤として次の界面活性剤、安定剤、および紫外線吸
収染料を含む保護層を塗布し、乾燥した。Fourth layer (protective layer) Gelatin 1.5 g / m 2 , polymethyl methacrylate particles (average particle size 2.5 μ) 0.3 g / m 2 as a matting agent, and the following surfactants and stabilizers as coating aids, And a protective layer containing a UV absorbing dye was applied and dried.
このサンプルに大日本スクリーン(株)製明室プリン
ターp−607で、第1図に示すような原稿を通して画像
露光し38℃20秒現像処理し、定着、水洗、乾燥したの
ち、抜き文字画質の評価を行った。 The sample was exposed to an image as shown in FIG. 1 through a document as shown in FIG. 1, developed at 38.degree. C. for 20 seconds, fixed, washed with water, dried, and then printed to obtain the image quality of the printed characters. An evaluation was performed.
抜文字画質5とは第1図の如き原稿を用いて50%の網
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様な
適性露光した時30μm巾の文字が再現される画質を言い
非常に良好な抜文字画質である。一方抜文字画質1とは
同様な適性露光を与えた時150μm巾以上の文字しか再
現することのできない画質を言い良くない抜文字画質で
あり、5と1の間に官能評価で4〜2のランクを設け
た。3以上が実用し得るレベルである。Character extraction quality 5 means that a 30 μm wide character is reproduced when an appropriate exposure is performed so that a halftone dot area of 50% becomes 50% halftone dot area on a return photosensitive material using an original as shown in FIG. The image quality is very good and the image quality is very good. On the other hand, the extracted character image quality 1 is an image quality that can only reproduce characters having a width of 150 μm or more when the same appropriate exposure is given. Rank was set. Three or more is a practical level.
結果を表2に示した。本発明のサンプルは抜文字画質
が優れる。The results are shown in Table 2. The sample of the present invention is excellent in the character extraction image quality.
【図面の簡単な説明】 第1図は、重ね返しによる抜文字画像形成を行なう場合
の、露光時構成を示したものであり各符号は以下のもの
を示す。 (イ)透明もしくは半透明の貼りこみベース (ロ)線画原稿(なお黒色部分は線画を示す) (ハ)透明もしくは半透明の貼りこみベース (ニ)網点原稿(なお黒色部分は網点を示す) (ネ)返し用感光材料(なお、斜線部は感光層を示す)BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 shows a configuration at the time of exposure in the case where a character extraction image is formed by repetition, and the reference numerals indicate the following. (A) Transparent or translucent pasted base (b) Line drawing original (black part shows line drawing) (c) Transparent or translucent pasted base (d) Halftone original (black part is halftone (Shown) (f) Photosensitive material for return (note that the shaded area indicates the photosensitive layer)
Claims (2)
銀乳剤を含む第一のハロゲン化銀乳剤層を有し、該第一
の乳剤層にヒドラジン誘導体を含み、かつ第二のハロゲ
ン化銀乳剤層を有し、該第二の乳剤層に一般式(I)で
表される化合物を含むことを特徴とするハロゲン化銀写
真感光材料。 一般式(I) 式中、R1は を表し、R3はアルキル基、アリール基またはヘテロ環基
を表し、R4およびR5は水素原子、アルキル基またはアリ
ール基を表し、R2はハメットの置換基定数σpが0.3以
下の置換基を表し、nは0、1または2を表し、nが2
の場合2つのR2は同じであっても異なってもよく、Bは
ハイドロキノン母核酸化体より脱離後、PUGを放出する
基を表し、PUGは現像抑制剤を表し、lは整数を表し、
AおよびA′は水素原子またはアルカリで除去されうる
基を表し、R1とR2、R1とAあるいはA′、R2とAあるい
はA′、および2つのR2は、一緒になって環を形成して
もよい。」1. A support comprising a first silver halide emulsion layer containing at least one silver halide emulsion on a support, said first emulsion layer containing a hydrazine derivative, and a second halide layer. A silver halide photographic material having a silver emulsion layer, wherein the second emulsion layer contains a compound represented by formula (I). General formula (I) Where R 1 is R 3 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, R 4 and R 5 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and R 2 is a substituent having a Hammett's substituent constant σp of 0.3 or less. And n represents 0, 1 or 2, and n is 2
In the above case, two R 2 may be the same or different, B represents a group that releases PUG after elimination from the hydroquinone mother nucleic acid derivative, PUG represents a development inhibitor, and l represents an integer. ,
A and A 'represent a hydrogen atom or a group which can be removed by an alkali, and R 1 and R 2 , R 1 and A or A', R 2 and A or A ', and two R 2 together A ring may be formed. "
されることを特徴とする請求項1記載のハロゲン化銀写
真感光材料。 一般式(IV) 式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表し、R2は水素原
子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表し、 チオカルボニル基又はイミノメチレン基を表し、A1、A2
は共に水素原子あるいは一方は水素原子で他方が置換も
しくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無
置換のアシル基を表す。2. The silver halide photographic material according to claim 1, wherein the hydrazine derivative is represented by the following general formula (IV). General formula (IV) In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group, Represents a thiocarbonyl group or an iminomethylene group; A 1 , A 2
Represents a hydrogen atom or one of them is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.
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JPH0690486B2 (en) * | 1985-03-19 | 1994-11-14 | 富士写真フイルム株式会社 | Silver halide photographic light-sensitive material |
-
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- 1990-04-17 JP JP2101158A patent/JP2699207B2/en not_active Expired - Lifetime
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