JP2692641B2 - Non-volatile memory cell - Google Patents

Non-volatile memory cell

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JP2692641B2
JP2692641B2 JP7091418A JP9141895A JP2692641B2 JP 2692641 B2 JP2692641 B2 JP 2692641B2 JP 7091418 A JP7091418 A JP 7091418A JP 9141895 A JP9141895 A JP 9141895A JP 2692641 B2 JP2692641 B2 JP 2692641B2
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memory cell
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哲也 大月
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、不揮発性メモリセル、
特に強誘電体材料を用いた不揮発性メモリセルに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a nonvolatile memory cell,
In particular, it relates to a non-volatile memory cell using a ferroelectric material.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、PZT(ジルコンチタン酸鉛)等の
ヒステリシス特性を有する強誘電体材料をメモリセルに
用い、電源を切断しても記憶を保持する機能を持つ不揮
発性メモリが実現されている。このような不揮発性メモ
リのなかで、SRAM(スタティック・ランダムアクセスメ
モリ)タイプの揮発性メモリセルに強誘電体キャパシタ
を接続した構造を持つ不揮発性メモリセルが従来各種提
案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, a ferroelectric material having hysteresis characteristics such as PZT (lead zirconate titanate) has been used for a memory cell, and a nonvolatile memory having a function of retaining memory even when power is turned off has been realized. There is. Among such non-volatile memories, various non-volatile memory cells having a structure in which a ferroelectric capacitor is connected to a volatile memory cell of SRAM (static random access memory) type have been conventionally proposed.

【0003】メモリセルのノードに強誘電体キャパシタ
を接続した従来の不揮発性メモリセルとして、図9に、
特開昭64-66899号公報に開示された不揮発性メモリセル
の構成例を示す。これは、「Shadow RAM」と一般に称呼
される回路である。
FIG. 9 shows a conventional non-volatile memory cell in which a ferroelectric capacitor is connected to a node of the memory cell.
A configuration example of the non-volatile memory cell disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 64-66899 is shown. This is a circuit commonly referred to as "Shadow RAM".

【0004】図9において、7、8はビット線、9はワ
ード線、10〜14はクロック入力信号である。101、102は
Pチャネルトランジスタ、103、104はNチャネルトラン
ジスタであり、トランジスタ101〜104はメモリセルのデ
ータを記憶するフリップフロップ(CMOS型スタティ
ックRAMセル)を構成している。107、108は強誘電体キ
ャパシタ、109、110はフリップフロップの内部ノードを
ビット線7、8に接続するアクセストランジスタ、11
1、112は分離用トランジスタ、113、114は短絡トランジ
スタである。なお、分離用トランジスタ111、112は通常
動作時にオフ状態とされ、通常動作中メモリセル部の入
出力ノードに生じる電圧遷移は強誘電体キャパシタ10
7、108に直接伝達されない。
In FIG. 9, 7 and 8 are bit lines, 9 is a word line, and 10 to 14 are clock input signals. 101 and 102 are P-channel transistors, 103 and 104 are N-channel transistors, and the transistors 101 to 104 form flip-flops (CMOS static RAM cells) that store data in the memory cells. 107 and 108 are ferroelectric capacitors, 109 and 110 are access transistors that connect the internal nodes of the flip-flops to the bit lines 7 and 8, and 11
Reference numerals 1 and 112 are isolation transistors, and reference numerals 113 and 114 are short-circuit transistors. Note that the isolation transistors 111 and 112 are turned off during normal operation, and the voltage transition that occurs at the input / output node of the memory cell section during normal operation does not occur in the ferroelectric capacitor 10.
Not directly transmitted to 7,108.

【0005】図10に、特開平5-242667号公報に開示さ
れた強誘電体不揮発性メモリセルの構成例を示す。図1
0において、9はワード線、10、11、12、13、14はクロ
ック入力信号、15、16は2個のデータ入出力信号、17は
パストランジスタ118の入力信号、18はパストランジス
タ118の出力信号、115は強誘不揮発性メモリセル、10
1、102はPチャネル電界効果型トランジスタ、103、104
はNチャネル電界効果型トランジスタ、107、108は強誘
電体キャパシタ、109、110はアクセストランジスタ、11
1、112は分離用トランジスタ、113、114は短絡トランジ
スタ、116、117は常誘電体キャパシタ、118は強誘電体
不揮発性メモリセル114に接続されたパストランジスタ
である。
FIG. 10 shows an example of the structure of a ferroelectric non-volatile memory cell disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-242667. FIG.
In 0, 9 is a word line, 10, 11, 12, 13, and 14 are clock input signals, 15 and 16 are two data input / output signals, 17 is an input signal of the pass transistor 118, and 18 is an output of the pass transistor 118. Signal, 115 is an inductive non-volatile memory cell, 10
1, 102 are P-channel field effect transistors, 103, 104
Is an N-channel field effect transistor, 107 and 108 are ferroelectric capacitors, 109 and 110 are access transistors, 11
Reference numerals 1 and 112 are isolation transistors, 113 and 114 are short-circuit transistors, 116 and 117 are paraelectric capacitors, and 118 is a pass transistor connected to the ferroelectric non-volatile memory cell 114.

【0006】図10の回路の場合、強誘電体不揮発性メ
モリセル115の出力ノードは、パストランジスタ118のゲ
ートに接続されており、不揮発性メモリセル115の記憶
内容によってパストランジスタ118のオン/オフが制御
できる。このため、このような不揮発性メモリセルを利
用することにより、通常電圧で書き換え可能なPLA (Pro
grammable Logic Array)が実現できる。
In the case of the circuit of FIG. 10, the output node of the ferroelectric non-volatile memory cell 115 is connected to the gate of the pass transistor 118, and the pass transistor 118 is turned on / off depending on the stored contents of the non-volatile memory cell 115. Can be controlled. Therefore, by using such a non-volatile memory cell, PLA (Pro
grammable Logic Array) can be realized.

【0007】図11に、特開平4-367120号公報に開示さ
れた強誘電体不揮発性メモリセルの構成例を示す。図1
1において、6は短絡制御信号、7、8はビット線、9
はワード線、10、11、12、14はクロック入力信号、10
1、102、103、104はフリップフロップを構成するトラン
ジスタ、119は短絡トランジスタ、107、108は強誘電体
キャパシタ、109、110はアクセストランジスタ、111、1
12は分離用トランジスタである。この回路は、図9、図
10に示す回路から強誘電体キャパシタと接地電位間を
短絡するトランジスタ113、114を取り除き、フリップフ
ロップの出力ノード間を短絡するトランジスタ119を付
加したものである。
FIG. 11 shows an example of the structure of the ferroelectric non-volatile memory cell disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-367120. FIG.
In 1, 1 is a short circuit control signal, 7 and 8 are bit lines, and 9
Is a word line, 10, 11, 12, and 14 are clock input signals, 10
1, 102, 103, 104 are transistors forming a flip-flop, 119 is a short-circuit transistor, 107, 108 are ferroelectric capacitors, 109, 110 are access transistors, 111, 1
Reference numeral 12 is a separation transistor. This circuit is obtained by removing the transistors 113 and 114 that short-circuit the ferroelectric capacitor and the ground potential from the circuits shown in FIGS. 9 and 10 and adding a transistor 119 that short-circuits the output nodes of the flip-flops.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】今後、例えばプロセッ
サ中のレジスタの内容を不揮発で記憶する場合、上記し
た強誘電体不揮発性メモリセルを利用することが考えら
れる。
In the future, for example, when the contents of a register in a processor are stored in a non-volatile manner, it is conceivable to use the above ferroelectric non-volatile memory cell.

【0009】しかしながら、図9〜図11に示した強誘
電体不揮発性メモリセルにおいては、アクセストランジ
スタ109、110、分離用トランジスタ111、112等が必要と
されるため、単位メモリセル当たりの面積が大きくなる
という問題がある。
However, in the ferroelectric non-volatile memory cells shown in FIGS. 9 to 11, since the access transistors 109 and 110 and the isolation transistors 111 and 112 are required, the area per unit memory cell is small. There is a problem of getting bigger.

【0010】従って本発明の目的は、上記問題点を解決
し、より省面積な強誘電体不揮発性メモリセルを提供す
ることにある。
Therefore, it is an object of the present invention to solve the above problems and provide a ferroelectric non-volatile memory cell having a smaller area.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明は、第1、第2の制御入力により駆動され、相補
型の信号を出力する揮発性のメモリ回路と、前記メモリ
回路の第1、第2の入出力端子と第3の制御入力との間
にそれぞれ接続された第1、第2の強誘電体キャパシタ
と、前記メモリ回路の前記第1、第2の入出力端子と前
記第3の制御入力との間にそれぞれ接続された第1、第
2のスイッチ素子と、を含むことを特徴とする不揮発性
メモリセルを提供する。
To achieve the above object, the present invention relates to a volatile memory circuit which is driven by first and second control inputs and outputs a complementary signal, and a first volatile memory circuit. First and second ferroelectric capacitors respectively connected between a first and a second input / output terminal and a third control input; and the first and second input / output terminals of the memory circuit and the A non-volatile memory cell, comprising: a first switch element and a second switch element respectively connected to a third control input.

【0012】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、前記メモリ回路が、ソースを前記第1の制
御入力に接続し、ドレインを前記第1の入出力端子に接
続し、ゲートを前記第2の入出力端子に接続した第1の
Pチャネル型トランジスタと、ソースを前記第1の制御
入力に接続し、ドレインを前記第2の入出力端子に接続
し、ゲートを前記第1の入出力端子に接続した第2のP
チャネル型トランジスタと、ソースを前記第2の制御入
力に接続し、ドレインを前記第1の入出力端子に接続
し、ゲートを前記第2の入出力端子に接続した第3のN
チャネル型トランジスタと、ソースを前記第2の制御入
力に接続し、ドレインを前記第2の入出力端子に接続
し、ゲートを前記第1の入出力端子に接続した第4のN
チャネル型トランジスタと、を備えたことを特徴とす
る。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, the memory circuit has a first P channel having a source connected to the first control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. -Type transistor and a second P-type transistor having a source connected to the first control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal.
A channel type transistor and a third N-type transistor having a source connected to the second control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal.
A fourth N-channel transistor having a channel type transistor, a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal.
And a channel type transistor.

【0013】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、前記第1、第2のPチャネル型トランジス
タがTFTからなる。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, the first and second P-channel transistors are TFTs.

【0014】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、前記メモリ回路は、ソースを前記第1の制
御入力に接続し、ドレインを前記第1の入出力端子に接
続し、ゲートを前記第2の入出力端子に接続した第1の
Pチャネル型トランジスタと、ソースを前記第2の制御
入力に接続し、ドレインを前記第2の入出力端子に接続
し、ゲートを前記第1の入出力端子に接続した第2のP
チャネル型トランジスタと、前記第2の制御入力と前記
第1の入出力端子との間に接続した第1の抵抗素子と、
前記第2の制御入力と前記第2の入出力端子との間に接
続した第2の抵抗素子と、から構成してもよい。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, the memory circuit has a first P channel having a source connected to the first control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. -Type transistor, a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal.
A channel type transistor, a first resistance element connected between the second control input and the first input / output terminal,
A second resistance element may be connected between the second control input and the second input / output terminal.

【0015】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、前記メモリ回路は、前記第1の制御入力と
前記第1の入出力端子との間に接続した第1の抵抗素子
と、前記第1の制御入力と前記第2の入出力端子との間
に接続した第2の抵抗素子と、ソースを前記第2の制御
入力に接続し、ドレインを前記第1の入出力端子に接続
し、ゲートを前記第2の入出力端子に接続した前記第1
のNチャネル型トランジスタと、ソースを前記第2の制
御入力に接続し、ドレインを前記第2の入出力端子に接
続し、ゲートを前記第1の入出力端子に接続した第2の
Nチャネル型トランジスタと、から構成してもよい。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, the memory circuit includes a first resistance element connected between the first control input and the first input / output terminal, the first control input and the second input / output terminal. A second resistance element connected between the two, a source connected to the second control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. First
A second N-channel transistor having a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal And a transistor.

【0016】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、前記メモリ回路は、ソースを前記第1の制
御入力に接続し、ドレインを前記第1の入出力端子に接
続し、ゲートを前記第2の入出力端子に接続した第1の
Pチャネル型トランジスタと、ソースを前記第2の制御
入力に接続し、ドレインを前記第2の入出力端子に接続
し、ゲートを前記第1の入出力端子に接続した第2のP
チャネル型トランジスタと、前記第2の制御入力と前記
第1の入出力端子との間に接続した第1のコンデンサ
と、前記第2の制御入力と前記第2の入出力端子との間
に接続した第2のコンデンサと、から構成してもよい。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, the memory circuit has a first P channel having a source connected to the first control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. -Type transistor, a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal.
A channel transistor, a first capacitor connected between the second control input and the first input / output terminal, and a connection between the second control input and the second input / output terminal And a second capacitor described above.

【0017】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、前記メモリ回路は、前記第1の制御入力と
前記第1の入出力端子との間に接続した第1のコンデン
サと、前記第1の制御入力と前記第2の入出力端子との
間に接続した第2のコンデンサと、ソースを前記第2の
制御入力に接続し、ドレインを前記第1の入出力端子に
接続し、ゲートを前記第2の入出力端子に接続した第1
のNチャネル型トランジスタと、ソースを前記第2の制
御入力に接続し、ドレインを前記第2の入出力端子に接
続し、ゲートを前記第1の入出力端子に接続した第2の
Nチャネル型トランジスタと、から構成してもよい。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, the memory circuit includes a first capacitor connected between the first control input and the first input / output terminal, the first control input and the second input / output terminal. A second capacitor connected in between, a source connected to the second control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal
A second N-channel transistor having a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal And a transistor.

【0018】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、上記コンデンサが強誘電体材料から形成さ
れる。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, the capacitor is formed from a ferroelectric material.

【0019】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、電源投入時に、(a)前記第1の制御入力の
電位を接地電位に設定し、前記第2の制御入力の電位を
電源電位に設定することにより前記メモリ回路を非活性
化し、(b)前記第3の制御入力の電位を第1の電位にプ
リチャージし、(c)前記第1、第2のスイッチ素子を導
通状態として、前記メモリ回路の第1、第2の入出力端
子の電位を前記第3の制御入力の電位と等しくし、(d)
前記第1、第2のスイッチ素子を非導通状態とし、(e)
前記第3の制御入力の電位を第1の電位とは異なる第2
の電位に設定して前記強誘電体キャパシタ間に電位差を
生成し、前記第1、第2の入出力端子上に、強誘電体の
自発分極の状態の違いに起因する電位差を生じさせ、
(f)前記第1の制御信号の電位を電源電位に設定し、前
記第2の制御信号の電位を接地電位に設定して前記メモ
リ回路を活性化し、前記第1、第2の入出力端子の電位
差を増幅して安定に出力し、前記強誘電体キャパシタに
記憶されているデータを読み出すことを特徴とする。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, when the power is turned on, (a) the potential of the first control input is set to the ground potential, and the potential of the second control input is set to the power supply potential to inactivate the memory circuit, b) precharging the electric potential of the third control input to the first electric potential, and (c) setting the first and second switch elements in a conductive state, and first and second input / output terminals of the memory circuit. Potential of the third control input is made equal to (d)
Setting the first and second switch elements in a non-conducting state, (e)
A second potential different from the first potential on the third control input;
To generate a potential difference between the ferroelectric capacitors and generate a potential difference on the first and second input / output terminals due to a difference in the spontaneous polarization state of the ferroelectric substance,
(f) The potential of the first control signal is set to the power supply potential, the potential of the second control signal is set to the ground potential to activate the memory circuit, and the first and second input / output terminals are set. Is amplified and stably output, and the data stored in the ferroelectric capacitor is read out.

【0020】本発明の不揮発性メモリセルにおいては、
好ましくは、電源切断時に、(a)前記第1の制御入力の
電位を電源電位に設定し、前記第2の制御入力の電位を
接地電位に設定することにより前記メモリ回路を活性化
し、(b)前記第3の制御入力の電位を前記第2の電位か
ら前記第1の電位に変更し、(c)前記第1の制御入力の
電位を接地電位に設定し、前記第2の制御入力の電位を
電源電位に設定することにより前記メモリ回路を非活性
化し、(d)前記第1、第2のスイッチ素子を導通状態と
して、前記メモリ回路の前記第1、第2の入出力端子の
電位を前記第3の制御入力の電位と等しくし、前記メモ
リ回路の記憶データを前記強誘電体キャパシタに書き込
むことを特徴とする。電源投入時、切断時において、前
記第1の電位は好ましくは接地電位とされ、前記第2の
電位は好ましくは電源電位とされる。
In the nonvolatile memory cell of the present invention,
Preferably, when the power is turned off, (a) the potential of the first control input is set to the power supply potential and the potential of the second control input is set to the ground potential to activate the memory circuit, and (b) ) Changing the potential of the third control input from the second potential to the first potential, (c) setting the potential of the first control input to a ground potential, and By setting the potential to the power supply potential, the memory circuit is deactivated, and (d) the first and second switch elements are brought into conduction, and the potentials of the first and second input / output terminals of the memory circuit are set. Is made equal to the potential of the third control input, and the data stored in the memory circuit is written to the ferroelectric capacitor. When the power is turned on and off, the first potential is preferably ground potential, and the second potential is preferably power supply potential.

【0021】[0021]

【作用】本発明によれば、強誘電体不揮発性メモリセル
から、アクセストランジスタ、分離用トランジスタを取
り除くことにより、メモリセルの面積を前記従来例より
も小さなものとしている。そして、本発明においては、
好ましくは、電源投入時にはスイッチ素子を短絡させて
強誘電体キャパシタ間の電位差を共に零とした後、第3
の制御入力の電位を上昇させることにより、強誘電体キ
ャパシタに記憶されていたデータを電位差として読み取
り、フリップフロップからなるメモリ回路で増幅する。
また、電源切断時には、第3の制御入力の電位を下げ、
フリップフロップ回路の電位差を強誘電体キャパシタに
書き込んだ後、スイッチ素子により強誘電体キャパシタ
間の電位差を共に零とする。
According to the present invention, the area of the memory cell is made smaller than that of the conventional example by removing the access transistor and the isolation transistor from the ferroelectric non-volatile memory cell. And in the present invention,
Preferably, when the power is turned on, the switching elements are short-circuited to reduce the potential difference between the ferroelectric capacitors to zero, and then the third
By increasing the potential of the control input of, the data stored in the ferroelectric capacitor is read as a potential difference and amplified by the memory circuit including the flip-flop.
When the power is turned off, the potential of the third control input is lowered,
After writing the potential difference of the flip-flop circuit to the ferroelectric capacitor, the potential difference between the ferroelectric capacitors is set to zero by the switch element.

【0022】[0022]

【実施例】図面を参照して、本発明の実施例を以下に説
明する。図1に本発明の一実施例の構成を示す。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the configuration of one embodiment of the present invention.

【0023】図1において、1、2は第1、第2の2つ
の相補データ入出力信号、3は第1の制御入力、4は第
2の制御入力、5は第3の制御入力、6は短絡制御信
号、101、102はPチャネル電界効果型トランジスタ、10
3、104はNチャネル電界効果型トランジスタでありトラ
ンジスタ101〜104はフリップフロップ回路100を構成し
ている。105、106はNチャネル電界効果型トランジスタ
(「短絡スイッチ」ともいう)、107、108は強誘電体キ
ャパシタである。Nチャネル電界効果型トランジスタ10
5、106はフリップフロップ回路100の入出力ノードと第
3の制御入力5との間に強誘電体キャパシタ107、108に
並列形態に接続され、ゲートに短絡制御信号が接続され
ている。
In FIG. 1, reference numerals 1 and 2 are two complementary data input / output signals, first and second, 3 is a first control input, 4 is a second control input, 5 is a third control input, and 6 is a control input. Is a short-circuit control signal, 101 and 102 are P-channel field effect transistors, 10
Reference numerals 3 and 104 are N-channel field effect transistors, and the transistors 101 to 104 form a flip-flop circuit 100. Reference numerals 105 and 106 are N-channel field effect transistors (also referred to as “short-circuit switches”), and 107 and 108 are ferroelectric capacitors. N-channel field effect transistor 10
Reference numerals 5 and 106 are connected in parallel to the ferroelectric capacitors 107 and 108 between the input / output node of the flip-flop circuit 100 and the third control input 5, and the short-circuit control signal is connected to the gates.

【0024】図1を参照して、本実施例のフリップフロ
ップ回路100は、Pチャネル電界効果型トランジスタ10
1、102、Nチャネル電界効果型トランジスタ103、104の
4つのトランジスタから構成されているが、以下に示す
ような各種構成としてもよい。
Referring to FIG. 1, the flip-flop circuit 100 of this embodiment is a P-channel field effect transistor 10.
Although it is composed of four transistors 1 and 102 and N-channel field effect transistors 103 and 104, various structures as described below may be adopted.

【0025】例えば、図2に示すように、図1のPチャ
ネル電界効果型トランジスタ101、102をTFT(薄膜ト
ランジスタ)で構成してもよい。
For example, as shown in FIG. 2, the P-channel field effect transistors 101 and 102 of FIG. 1 may be constituted by TFTs (thin film transistors).

【0026】また、図2に示すように、図1のNチャネ
ル電界効果型トランジスタ103、104のかわりに2つの抵
抗素子120、121を挿入してもよい。
Further, as shown in FIG. 2, two resistance elements 120 and 121 may be inserted instead of the N-channel field effect transistors 103 and 104 of FIG.

【0027】さらに、図3に示すように、図1のPチャ
ネル電界効果型トランジスタ101、102のかわりに2つの
抵抗素子120、121を挿入してもよい。
Further, as shown in FIG. 3, two resistance elements 120 and 121 may be inserted instead of the P-channel field effect transistors 101 and 102 of FIG.

【0028】図4に示すように、図1のNチャネル電界
効果型トランジスタ103、104のかわりに2つのコンデン
サ122、123を挿入してもよい。
As shown in FIG. 4, two capacitors 122 and 123 may be inserted instead of the N-channel field effect transistors 103 and 104 of FIG.

【0029】また、図5に示すように、Pチャネル電界
効果型トランジスタ101、102のかわりに2つのコンデン
サ122、123を挿入してよい。なお、図4、図5の回路中
のコンデンサ122、123としてPZT等の強誘電体材料を用
いる場合もある。
Further, as shown in FIG. 5, two capacitors 122 and 123 may be inserted instead of the P-channel field effect transistors 101 and 102. A ferroelectric material such as PZT may be used as the capacitors 122 and 123 in the circuits of FIGS. 4 and 5.

【0030】次に、図6及び図7の波形図を参照して、
図1に示す本実施例の動作を説明する。図6は、電源投
入時の動作波形、図7は電源切断時の動作波形を示す波
形図である。
Next, referring to the waveform diagrams of FIGS. 6 and 7,
The operation of this embodiment shown in FIG. 1 will be described. FIG. 6 is an operation waveform when the power is turned on, and FIG. 7 is an operation waveform when the power is turned off.

【0031】本実施例の強誘電体不揮発性メモリセルに
おいては、前記従来例で設けられていたアクセストラン
ジスタ、分離用トランジスタは省かれており、強誘電体
キャパシタ107、108からフリップフロップ回路100への
データの転送、即ち不揮発性部分から揮発性部分へのロ
ードは電源投入時に行われ、逆にフリップフロップ回路
100から強誘電体キャパシタ107、108へのデータの転
送、即ち揮発性部分から不揮発性部分へのリストアは電
源切断時に行われる。
In the ferroelectric non-volatile memory cell of the present embodiment, the access transistor and the isolation transistor provided in the conventional example are omitted, and the ferroelectric capacitors 107 and 108 are changed to the flip-flop circuit 100. Data transfer, that is, loading from the non-volatile portion to the volatile portion is performed at power-on, and conversely, the flip-flop circuit.
Data transfer from 100 to the ferroelectric capacitors 107 and 108, that is, restoration from the volatile portion to the non-volatile portion is performed when the power is turned off.

【0032】電源投入時、図6を参照して、期間T1
で、第1の制御入力3は接地電位、第2の制御入力4は
電源電位、第3の制御入力5は接地電位、短絡制御信号
6は電源電位に設定される。このとき、フリップフロッ
プ回路100は非活性化され、2つの出力1、2の差電位
の増幅動作を行わない。
When the power is turned on, referring to FIG. 6, a period T1
Then, the first control input 3 is set to the ground potential, the second control input 4 is set to the power supply potential, the third control input 5 is set to the ground potential, and the short-circuit control signal 6 is set to the power supply potential. At this time, the flip-flop circuit 100 is deactivated and does not amplify the difference potential between the two outputs 1 and 2.

【0033】期間T2で、短絡制御信号6の電位がNチ
ャネル電界効果型トランジスタ105、106のしきい値電圧
thを上回るとNチャネル電界効果型トランジスタ10
5、106は導通状態となり短絡スイッチとして作用し、フ
リップフロップ回路100の出力1、2はともに第3の制御
入力5の電位(=接地電位)に等しくされる。
In the period T2, when the potential of the short-circuit control signal 6 exceeds the threshold voltage V th of the N-channel field effect transistors 105 and 106, the N-channel field effect transistor 10 is detected.
The transistors 5 and 106 become conductive and act as a short-circuit switch, and the outputs 1 and 2 of the flip-flop circuit 100 are both made equal to the potential of the third control input 5 (= ground potential).

【0034】期間T1、T2では、強誘電体キャパシタ
107、108間にかかる電位差は、短絡スイッチの働きによ
り、最大でもしきい値電圧Vthに抑えられるため、強誘
電体キャパシタ107、108に記憶された情報がこの間に破
壊されることはない。
In the periods T1 and T2, the ferroelectric capacitor
The potential difference applied between 107 and 108 is suppressed to the threshold voltage V th at the maximum by the action of the short-circuit switch, so that the information stored in the ferroelectric capacitors 107 and 108 is not destroyed during this time.

【0035】次に、期間T3で、短絡制御信号6を低レ
ベルに下げ、Nチャネル電界効果型トランジスタ105、1
06を非導通状態とする。そして、第3の制御入力5を高
レベル(=電源電位)に上げる。
Next, in the period T3, the short-circuit control signal 6 is lowered to a low level, and the N-channel field effect transistors 105, 1
06 is turned off. Then, the third control input 5 is raised to a high level (= power supply potential).

【0036】ここで、電源投入前に、強誘電体キャパシ
タ107にデータ“1”、強誘電体キャパシタ108にデータ
“0”が記憶されているものとし、そのヒステリシス特
性が図8に示されるようなものであると想定する。
Here, it is assumed that data "1" is stored in the ferroelectric capacitor 107 and data "0" is stored in the ferroelectric capacitor 108 before the power is turned on, and the hysteresis characteristic thereof is as shown in FIG. It is assumed that it is

【0037】この時、強誘電体キャパシタ107の分極は
aからbに、強誘電体キャパシタ108の分極はcからb
に移動し、電荷Q1、Q0に比例する電位V1、V0がフリ
ップフロップ回路100の出力1、2にそれぞれ読み出さ
れる。
At this time, the polarization of the ferroelectric capacitor 107 changes from a to b, and the polarization of the ferroelectric capacitor 108 changes from c to b.
And the potentials V 1 and V 0 proportional to the charges Q 1 and Q 0 are read out to the outputs 1 and 2 of the flip-flop circuit 100, respectively.

【0038】期間T4で、第1の制御入力3を電源電
位、第2の制御入力4を接地電位にすることにより、フ
リップフロップ回路100を活性化する。その結果、フリ
ップフロップ回路100の2つの出力1、2の差電位が増
幅され、強誘電体キャパシタ107、108に記憶されたデー
タのフリップフロップ回路100へのロードが完了する。
In the period T4, the flip-flop circuit 100 is activated by setting the first control input 3 to the power supply potential and the second control input 4 to the ground potential. As a result, the potential difference between the two outputs 1 and 2 of the flip-flop circuit 100 is amplified, and the loading of the data stored in the ferroelectric capacitors 107 and 108 into the flip-flop circuit 100 is completed.

【0039】次に、図7を参照して、電源切断時の動作
について説明する。
Next, referring to FIG. 7, the operation when the power is turned off will be described.

【0040】期間T5では、第1の制御入力3は電源電
位、第2の制御入力4は接地電位に設定されているた
め、フリップフロップ回路100は活性化されている。
In the period T5, the first control input 3 is set to the power supply potential and the second control input 4 is set to the ground potential, so that the flip-flop circuit 100 is activated.

【0041】期間T6で、第3の制御入力3が電源電位
から接地電位に下がり、強誘電体キャパシタ107の分極
はbからdに、強誘電体キャパシタ108の分極はcから
bに移動する(図8参照)。
In the period T6, the third control input 3 is lowered from the power supply potential to the ground potential, the polarization of the ferroelectric capacitor 107 is moved from b to d, and the polarization of the ferroelectric capacitor 108 is moved from c to b ( (See FIG. 8).

【0042】期間T7で、第1の制御入力3が電源電位
から接地電位に立ち下がり、第2の制御入力4が接地電
位から電源電位に立ち上がる。この結果、フリップフロ
ップ回路100は非活性化される。
In the period T7, the first control input 3 falls from the power supply potential to the ground potential, and the second control input 4 rises from the ground potential to the power supply potential. As a result, the flip-flop circuit 100 is deactivated.

【0043】期間T8で、短絡制御信号6が電源電位に
立ち上がり、フリップフロップ回路100の出力1、2は
ともに第3の制御入力3の電位(=接地電位)に等しく
される。
In the period T8, the short-circuit control signal 6 rises to the power supply potential, and the outputs 1 and 2 of the flip-flop circuit 100 are both made equal to the potential of the third control input 3 (= ground potential).

【0044】この結果、強誘電体キャパシタ107の分極
はdからaに移動し、強誘電体キャパシタ108の分極は
bのままとされる。このため、強誘電体キャパシタ107
にデータ“1”が、強誘電体キャパシタ108にデータ
“0”が書き込まれ、フリップフロップ回路100から強
誘電体キャパシタ107、108へのデータのリストアが完了
する。
As a result, the polarization of the ferroelectric capacitor 107 moves from d to a, and the polarization of the ferroelectric capacitor 108 remains b. Therefore, the ferroelectric capacitor 107
The data "1" is written to the ferroelectric capacitor 108 and the data "0" is written to the ferroelectric capacitor 108, and the restoration of the data from the flip-flop circuit 100 to the ferroelectric capacitors 107 and 108 is completed.

【0045】以上、本発明を上記実施例に即して説明し
たが、本発明は上記態様にのみ限定されず、本発明の原
理に準ずる各種態様を含むことは勿論である。
As described above, the present invention has been described with reference to the above embodiments. However, the present invention is not limited to the above embodiments, but includes various embodiments according to the principle of the present invention.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の強誘電体
不揮発性メモリセルを利用することにより、プロセッサ
中のレジスタの内容を不揮発で記憶するための回路オー
バーヘッドが従来よりも小さくできる。
As described above, by using the ferroelectric non-volatile memory cell of the present invention, the circuit overhead for non-volatilely storing the contents of the register in the processor can be made smaller than before.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る不揮発性強誘電体メモ
リセルの回路構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a nonvolatile ferroelectric memory cell according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1中のフリップフロップ回路100の第2の態
様を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a second mode of the flip-flop circuit 100 in FIG.

【図3】図1中のフリップフロップ回路100の第3の態
様を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a third mode of the flip-flop circuit 100 in FIG.

【図4】図1中のフリップフロップ回路100の第4の態
様を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a fourth mode of the flip-flop circuit 100 in FIG.

【図5】図1中のフリップフロップ回路100の第5の態
様を示す図である。
5 is a diagram showing a fifth mode of the flip-flop circuit 100 in FIG.

【図6】本発明の一実施例に係る不揮発性強誘電体メモ
リセルの電源投入時の動作波形を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing operation waveforms of the nonvolatile ferroelectric memory cell according to one embodiment of the present invention when the power is turned on.

【図7】本発明の一実施例における不揮発性強誘電体メ
モリセルの電源切断時の動作波形を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing operation waveforms of the nonvolatile ferroelectric memory cell according to the embodiment of the present invention when the power is turned off.

【図8】図1中の2つの強誘電体キャパシタのヒステリ
シス特性を説明する図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining hysteresis characteristics of two ferroelectric capacitors in FIG.

【図9】不揮発性強誘電体メモリセルの第1の従来例の
構成を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a first conventional example of a nonvolatile ferroelectric memory cell.

【図10】不揮発性強誘電体メモリセルの第2の従来例
の構成を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration of a second conventional example of a nonvolatile ferroelectric memory cell.

【図11】不揮発性強誘電体メモリセルの第3の従来例
の構成を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a third conventional example of a nonvolatile ferroelectric memory cell.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2 第1、第2の2つの相補データ入出力信号 3 第1の制御入力信号 4 第2の制御入力信号 5 第3の制御入力信号 6 短絡制御信号 7、8 ビット線 9 ワード線 10、11、12、13、14 クロック入力信号 15、16 データ入出力信号 17 パストランジスタ118の入力信号 18 パストランジスタ118の出力信号 100 フリップフロップ回路 101、102 Pチャネル電界効果型トランジスタ 103、104 Nチャネル電界効果型トランジスタ 105、106 短絡トランジスタ 107、108 強誘電体キャパシタ 109、110 アクセストランジスタ 111、112 分離用トランジスタ 113、114 短絡トランジスタ 116、117 常誘電体トランジスタ 118 パストランジスタ 119 短絡トランジスタ 120、121 抵抗素子 122、123 コンデンサ Vth 図1のNチャネル電界効果型トランジスタ105、1
06のしきい値電圧 a、b、c、d 強誘電体キャパシタ105、106のヒステ
リシス・カーブにおける位置 V1、V0 データ“1”、“0”に対応する強誘電体キ
ャパシタ105、106からそれぞれ読み出される電位
1, 2 First and second two complementary data input / output signals 3 First control input signal 4 Second control input signal 5 Third control input signal 6 Short circuit control signal 7, 8 Bit line 9 Word line 10 , 11, 12, 13, 14 Clock input signal 15, 16 Data input / output signal 17 Input signal of pass transistor 118 18 Output signal of pass transistor 118 100 Flip-flop circuit 101, 102 P channel field effect transistor 103, 104 N channel Field effect transistor 105, 106 Short-circuit transistor 107, 108 Ferroelectric capacitor 109, 110 Access transistor 111, 112 Separation transistor 113, 114 Short-circuit transistor 116, 117 Paraelectric transistor 118 Pass transistor 119 Short-circuit transistor 120, 121 Resistor element 122, 123 capacitor V th N-channel field effect transistor 105, 1 of FIG.
06 threshold voltage a, b, c, d position V 1 and V 0 in the hysteresis curve of the ferroelectric capacitors 105 and 106 From the ferroelectric capacitors 105 and 106 corresponding to data “1” and “0” Electric potential to be read

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/11 29/788 29/792 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01L 27/11 29/788 29/792

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】第1、第2の制御入力により駆動され、相
補型の信号を出力する揮発性のメモリ回路と、 前記メモリ回路の第1、第2の入出力端子と第3の制御
入力との間にそれぞれ接続された第1、第2の強誘電体
キャパシタと、 前記メモリ回路の前記第1、第2の入出力端子と前記第
3の制御入力との間にそれぞれ接続された第1、第2の
スイッチ素子と、 を含むことを特徴とする不揮発性メモリセル。
1. A volatile memory circuit which is driven by first and second control inputs and outputs complementary signals; first and second input / output terminals of the memory circuit; and a third control input. And a first and second ferroelectric capacitors respectively connected between the first and second input / output terminals of the memory circuit and the third control input. 1. A non-volatile memory cell comprising: a first and a second switch element.
【請求項2】前記メモリ回路が、 ソースを前記第1の制御入力に接続し、ドレインを前記
第1の入出力端子に接続し、ゲートを前記第2の入出力
端子に接続した第1のPチャネル型トランジスタと、 ソースを前記第1の制御入力に接続し、ドレインを前記
第2の入出力端子に接続し、ゲートを前記第1の入出力
端子に接続した第2のPチャネル型トランジスタと、 ソースを前記第2の制御入力に接続し、ドレインを前記
第1の入出力端子に接続し、ゲートを前記第2の入出力
端子に接続した第3のNチャネル型トランジスタと、 ソースを前記第2の制御入力に接続し、ドレインを前記
第2の入出力端子に接続し、ゲートを前記第1の入出力
端子に接続した第4のNチャネル型トランジスタと、 を備えたことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メモ
リセル。
2. A first memory circuit having a source connected to the first control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. A P-channel transistor and a second P-channel transistor having a source connected to the first control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal. A source connected to the second control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal, and a source connected to the third N-channel type transistor. A fourth N-channel transistor connected to the second control input, having a drain connected to the second input / output terminal, and having a gate connected to the first input / output terminal. According to claim 1, Nonvolatile memory cell.
【請求項3】前記第1、第2のPチャネル型トランジス
タがTFTからなることを特徴とする請求項2記載の不
揮発性メモリセル。
3. The non-volatile memory cell according to claim 2, wherein the first and second P-channel transistors are TFTs.
【請求項4】前記メモリ回路が、 ソースを前記第1の制御入力に接続し、ドレインを前記
第1の入出力端子に接続し、ゲートを前記第2の入出力
端子に接続した第1のPチャネル型トランジスタと、 ソースを前記第2の制御入力に接続し、ドレインを前記
第2の入出力端子に接続し、ゲートを前記第1の入出力
端子に接続した第2のPチャネル型トランジスタと、 前記第2の制御入力と前記第1の入出力端子との間に接
続した第1の抵抗素子と、 前記第2の制御入力と前記第2の入出力端子との間に接
続した第2の抵抗素子と、 を備えたことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メモ
リセル。
4. A first memory circuit having a source connected to the first control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. A P-channel transistor and a second P-channel transistor having a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal. A first resistance element connected between the second control input and the first input / output terminal; and a first resistance element connected between the second control input and the second input / output terminal. The non-volatile memory cell according to claim 1, further comprising:
【請求項5】前記メモリ回路が、 前記第1の制御入力と前記第1の入出力端子との間に接
続した第1の抵抗素子と、 前記第1の制御入力と前記第2の入出力端子との間に接
続した第2の抵抗素子と、 ソースを前記第2の制御入力に接続し、ドレインを前記
第1の入出力端子に接続し、ゲートを前記第2の入出力
端子に接続した前記第1のNチャネル型トランジスタ
と、 ソースを前記第2の制御入力に接続し、ドレインを前記
第2の入出力端子に接続し、ゲートを前記第1の入出力
端子に接続した第2のNチャネル型トランジスタと、 を備えたことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メモ
リセル。
5. The memory circuit includes a first resistance element connected between the first control input and the first input / output terminal, the first control input and the second input / output. A second resistance element connected to the terminal, a source connected to the second control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. And a second N-channel transistor having a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal. The non-volatile memory cell according to claim 1, further comprising:
【請求項6】前記メモリ回路が、 ソースを前記第1の制御入力に接続し、ドレインを前記
第1の入出力端子に接続し、ゲートを前記第2の入出力
端子に接続した第1のPチャネル型トランジスタと、 ソースを前記第2の制御入力に接続し、ドレインを前記
第2の入出力端子に接続し、ゲートを前記第1の入出力
端子に接続した第2のPチャネル型トランジスタと、 前記第2の制御入力と前記第1の入出力端子との間に接
続した第1のコンデンサと、 前記第2の制御入力と前記第2の入出力端子との間に接
続した第2のコンデンサと、 を備えたことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メモ
リセル。
6. A first circuit wherein the memory circuit has a source connected to the first control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. A P-channel transistor and a second P-channel transistor having a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal. A first capacitor connected between the second control input and the first input / output terminal; and a second capacitor connected between the second control input and the second input / output terminal. The non-volatile memory cell according to claim 1, further comprising:
【請求項7】前記メモリ回路が、 前記第1の制御入力と前記第1の入出力端子との間に接
続した第1のコンデンサと、 前記第1の制御入力と前記第2の入出力端子との間に接
続した第2のコンデンサと、 ソースを前記第2の制御入力に接続し、ドレインを前記
第1の入出力端子に接続し、ゲートを前記第2の入出力
端子に接続した第1のNチャネル型トランジスタと、 ソースを前記第2の制御入力に接続し、ドレインを前記
第2の入出力端子に接続し、ゲートを前記第1の入出力
端子に接続した第4のNチャネル型トランジスタと、 を備えたことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メモ
リセル。
7. The memory circuit includes a first capacitor connected between the first control input and the first input / output terminal, the first control input and the second input / output terminal. A second capacitor connected between the second input and output terminals, a source connected to the second control input, a drain connected to the first input / output terminal, and a gate connected to the second input / output terminal. A first N-channel transistor and a fourth N-channel having a source connected to the second control input, a drain connected to the second input / output terminal, and a gate connected to the first input / output terminal. The non-volatile memory cell according to claim 1, further comprising a type transistor.
【請求項8】前記コンデンサが強誘電体材料を含むこと
を特徴とする請求項6又は7記載の不揮発性メモリセ
ル。
8. The non-volatile memory cell according to claim 6, wherein the capacitor contains a ferroelectric material.
【請求項9】電源投入時に、 (a)前記第1の制御入力の電位を接地電位に設定し、前
記第2の制御入力の電位を電源電位に設定することによ
り前記メモリ回路を非活性化し、 (b)前記第3の制御入力の電位を第1の電位にプリチャ
ージし、 (c)前記第1、第2のスイッチ素子を導通状態として、
前記メモリ回路の第1、第2の入出力端子の電位を前記
第3の制御入力の電位と等しくし、 (d)前記第1、第2のスイッチ素子を非導通状態とし、 (e)前記第3の制御入力の電位を第1の電位とは異なる
第2の電位に設定して前記強誘電体キャパシタ間に電位
差を生成し、前記第1、第2の入出力端子上に、強誘電
体の自発分極の状態の違いに起因する電位差を生じさ
せ、 (f)前記第1の制御信号の電位を電源電位に設定し、前
記第2の制御信号の電位を接地電位に設定して前記メモ
リ回路を活性化し、前記第1、第2の入出力端子の電位
差を増幅して安定に出力し、 前記強誘電体キャパシタに記憶されているデータを読み
出すことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メモリセ
ル。
9. When the power is turned on, (a) the potential of the first control input is set to the ground potential, and the potential of the second control input is set to the power supply potential to inactivate the memory circuit. , (B) pre-charging the potential of the third control input to the first potential, and (c) setting the first and second switch elements in a conductive state,
The electric potentials of the first and second input / output terminals of the memory circuit are made equal to the electric potential of the third control input, (d) the first and second switch elements are made non-conductive, and (e) the The potential of the third control input is set to a second potential different from the first potential to generate a potential difference between the ferroelectric capacitors, and the ferroelectric capacitors are formed on the first and second input / output terminals. (F) The potential of the first control signal is set to the power supply potential, and the potential of the second control signal is set to the ground potential, and the potential difference caused by the difference in the spontaneous polarization state of the body is generated. 2. The memory circuit is activated, the potential difference between the first and second input / output terminals is amplified and stably output, and the data stored in the ferroelectric capacitor is read. Non-volatile memory cell.
【請求項10】電源切断時に、 (a)前記第1の制御入力の電位を電源電位に設定し、前
記第2の制御入力の電位を接地電位に設定することによ
り前記メモリ回路を活性化し、 (b)前記第3の制御入力の電位を前記第2の電位から前
記第1の電位に変更し、 (c)前記第1の制御入力の電位を接地電位に設定し、前
記第2の制御入力の電位を電源電位に設定することによ
り前記メモリ回路を非活性化し、 (d)前記第1、第2のスイッチ素子を導通状態として、
前記メモリ回路の前記第1、第2の入出力端子の電位を
前記第3の制御入力の電位と等しくし、 前記メモリ回路の記憶データを前記強誘電体キャパシタ
に書き込むことを特徴とする請求項1記載の不揮発性メ
モリセル。
10. When the power is turned off, (a) the potential of the first control input is set to the power supply potential and the potential of the second control input is set to the ground potential to activate the memory circuit, (b) changing the potential of the third control input from the second potential to the first potential, (c) setting the potential of the first control input to a ground potential, and the second control Setting the input potential to the power supply potential to inactivate the memory circuit, and (d) bring the first and second switch elements into conduction,
The first of the memory circuit, the claims of the potential of the second input-output terminal is equal to the potential of said third control input, and writes the stored data of the memory circuit to the ferroelectric capacitors 1. The nonvolatile memory cell according to 1.
【請求項11】前記第1の電位が接地電位であり、前記
第2の電位が電源電位であることを特徴とする請求項9
又は10記載の不揮発性メモリセル。
11. The first potential is a ground potential, and the second potential is a power supply potential.
Alternatively, the nonvolatile memory cell according to 10 above.
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