JP2684253B2 - Plate making method of lithographic printing plate - Google Patents

Plate making method of lithographic printing plate

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JP2684253B2
JP2684253B2 JP7102291A JP7102291A JP2684253B2 JP 2684253 B2 JP2684253 B2 JP 2684253B2 JP 7102291 A JP7102291 A JP 7102291A JP 7102291 A JP7102291 A JP 7102291A JP 2684253 B2 JP2684253 B2 JP 2684253B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、親水化処理を施したア
ルミニウム支持体上に、中間層と、o−キノンジアジド
化合物を含有するポジ型感光層を設けたポジ型感光性平
版印刷版の現像処理方法に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to the development of a positive-working photosensitive lithographic printing plate having an intermediate layer and a positive-working photosensitive layer containing an o-quinonediazide compound on a hydrophilized aluminum support. It relates to a processing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近、o−キノンジアジド化合物を感光
性物質として含有する感光層をアルミニウム支持体上に
有するポジ型PS版の現像液として、珪酸ソーダ水溶液
又は珪酸カリウム水溶液が比較的有利に利用されてい
る。それは、珪酸ソーダ(又はカリウム)の成分である
酸化珪素と酸化ナトリウム(又はカリウム)の含有比率
と濃度によって現像性及び安定性が調整しやすいからで
ある。ところがこの種の現像液において、自動現像機処
理を繰りかえし行なう場合、現像タンクの底に酸化珪素
に起因する水不溶性のカス・ヘドロが生じ、さらには、
スプレーパイプ、ノズルがつまるなどの問題があった。
また、自動現像機の停止時の乾燥や液ハネなどにより、
現像浴周辺に水不溶性のシリカとして析出し様々な問題
を引き起こす原因ともなっていた。さらに、この種の現
像液を廃液の際、中和処理すると酸化珪素がゲル状に析
出し環境汚染の原因ともなり問題であった。
2. Description of the Related Art Recently, an aqueous solution of sodium silicate or an aqueous solution of potassium silicate is relatively advantageously used as a developer for a positive PS plate having a photosensitive layer containing an o-quinonediazide compound as a photosensitive substance on an aluminum support. ing. This is because developability and stability are easily adjusted by the content ratio and concentration of silicon oxide and sodium oxide (or potassium) as components of sodium silicate (or potassium). However, in this type of developing solution, when the automatic developing process is repeated, water-insoluble dust and sludge due to silicon oxide is generated at the bottom of the developing tank.
There were problems such as clogging of the spray pipe and nozzle.
Also, due to drying and liquid splash when the automatic processor is stopped,
It was also a cause of various problems because it was precipitated as water-insoluble silica around the developing bath. Further, when this type of developer is used as a waste liquid, if neutralization treatment is performed, silicon oxide precipitates in a gel state, which causes environmental pollution.

【0003】従ってこれまでにも、何回か、酸化珪素を
含有しない現像液の検討がなされてきた。しかしなが
ら、酸化珪素のない現像液では、印刷版の非画像部の親
水性が充分でないため印刷時に汚れたり、或は、酸化珪
素がないが故に支持体が、現像液中のアルカリ成分によ
りエッチングされ易くなり、支持体のアルミニウム成分
が多量に溶出し現像性が著しく損なわれるなどの問題が
あった。
Therefore, a developer containing no silicon oxide has been studied several times. However, with a developer without silicon oxide, the hydrophilicity of the non-image area of the printing plate is not sufficient, and the substrate is stained during printing, or due to the absence of silicon oxide, the support is etched by the alkaline component in the developer. However, there is a problem in that the aluminum component of the support is eluted in a large amount and the developability is significantly impaired.

【0004】これを改善するために、従来は、アルミニ
ウム支持体表面を米国特許第3,181,461号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート処理、又は特公
昭36−22063号に開示されているようなフッ化ジ
ルコン酸処理、又は米国特許第3,276,868号に開示
されているようなポリビニルホスホン酸処理などにより
親水化する方法が用いられてきた。しかしながらこれら
の方法では印刷版の非画像部の親水性は充分となり、支
持体のアルカリによるエッチングもなくなるものの、感
光性組成物と親水化処理された支持体との密着が不充分
となるため、印刷枚数は数千枚程度にしかならなかっ
た。
In order to improve this, conventionally, the surface of an aluminum support is treated with an alkali metal silicate as disclosed in US Pat. No. 3,181,461, or disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063. A method of hydrophilizing such as fluorozirconic acid treatment as described above or polyvinylphosphonic acid treatment as disclosed in US Pat. No. 3,276,868 has been used. However, in these methods, the hydrophilicity of the non-image area of the printing plate becomes sufficient, and the etching of the support by alkali is also eliminated, but the adhesion between the photosensitive composition and the hydrophilized support becomes insufficient, The number of prints was only about several thousand.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、自動現像機にて長期現像処理を実施した場合でも珪
酸の析出がなく、カス・ヘドロの堆積によるスプレーノ
ズルの目づまりなどのトラブルのない現像処理方法を提
供することである。また本発明の目的は、廃液中和処理
時の負荷が軽減され、環境保全上も低公害化された現像
処理方法を提供することである。さらに本発明の目的
は、画像部とアルミニウム支持体との密着性が強く耐刷
性能の優れた平版印刷版を作製するのに適した現像方法
を提供することである。さらに本発明の目的は現像性、
印刷時の耐汚れ性能に優れた平版印刷版を作製するのに
適した現像方法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to prevent problems such as clogging of the spray nozzle due to accumulation of dust and sludge without deposition of silicic acid even when a long-term development process is carried out by an automatic processor. It is to provide a development processing method which does not exist. Another object of the present invention is to provide a development processing method in which the load at the time of waste liquid neutralization processing is reduced and environmental pollution is reduced. A further object of the present invention is to provide a developing method suitable for producing a lithographic printing plate having strong adhesion between the image area and the aluminum support and excellent printing durability. Further, the object of the present invention is developability,
It is an object of the present invention to provide a developing method suitable for producing a lithographic printing plate excellent in stain resistance during printing.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成すべく鋭意検討した結果、本発明を完成するに
至った。本発明は、親水化処理を施したアルミニウム支
持体に、R1 ( PO(OH)2 )n またはR1 −(PO
(OH)(R2 ))n で表される置換または無置換の脂
肪族化合物または芳香族化合物(nは1または2であ
り、nが1のとき、R1 、R2 は置換または無置換のア
ルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アリール
基、アシル基、アシロキシ基を表し、nが2のときR1
は置換または無置換のアルキレン基またはアリーレン基
を表し、R2 は前記定義のとおりである)からなる化合
物群より選ばれた少くとも1種の化合物を含む有機層を
設け、さらにその上にo−キノンジアジド化合物を含有
するポジ型感光層を設けた感光性平版印刷版を、画像露
光後、珪酸以外の無機酸のアルカリ金属塩又はアンモニ
ウム塩、アルカリ金属水酸化物、水酸化アンモニウム及
び水溶性有機アミン化合物からなる群から選ばれる少な
くとも1種の化合物を含む水溶液で現像処理することを
特徴とする平版印刷版の製版方法である。
The present inventors have completed the present invention as a result of extensive studies to achieve the above object. The present invention provides a hydrophilically-treated aluminum support with R 1 (PO (OH) 2 ) n or R 1- (PO
A substituted or unsubstituted aliphatic compound or aromatic compound represented by (OH) (R 2 )) n (n is 1 or 2, and when n is 1, R 1 and R 2 are substituted or unsubstituted) Represents an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aryl group, an acyl group or an acyloxy group, and when n is 2, R 1
Represents a substituted or unsubstituted alkylene group or arylene group, R 2 is as defined above), and an organic layer containing at least one compound selected from the group consisting of compounds consisting of A photosensitive lithographic printing plate provided with a positive photosensitive layer containing a quinonediazide compound, after image exposure, an alkali metal salt or ammonium salt of an inorganic acid other than silicic acid, an alkali metal hydroxide, ammonium hydroxide and a water-soluble organic A plate-making method for a lithographic printing plate, which comprises developing with an aqueous solution containing at least one compound selected from the group consisting of amine compounds.

【0007】以下本発明について詳しく説明する。本発
明において用いられるアルミニウム支持体は、純アルミ
ニウムや、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を
含むアルミニウム合金等の板状体である。この異元素に
は、珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、
亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中
の異元素の含有量は高々10重量%以下である。本発明
に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全
に純粋なアルミニウムは、精練技術上製造が困難である
ので、できるだけ異元素の含有量の低いものがよい。
又、上述した程度の含有率のアルミニウム合金であれ
ば、本発明に適用しうる素材ということができる。この
ように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成
が特定されるものではなく従来公知、公用の素材のもの
を適宜利用することができる。本発明に用いられるアル
ミニウム板の厚さは、およそ0.1mm〜0.5mm程度であ
る。
The present invention will be described in detail below. The aluminum support used in the present invention is a plate-like body such as pure aluminum or an aluminum alloy containing aluminum as a main component and a trace amount of a foreign element. The foreign elements include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium,
Examples include zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. The aluminum suitable for the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore, it is preferable that the content of the foreign element is as low as possible.
In addition, any aluminum alloy having the above-described content can be said to be a material applicable to the present invention. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly available materials can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.5 mm.

【0008】アルミニウム板を粗面化処理するに先立
ち、所望により、表面の圧延油を除去するための、例え
ば界面活性剤又はアルカリ性水溶液による脱脂処理が行
なわれる。なお本発明の感光性平版印刷版は、片面のみ
使用できるものであっても、両面とも同様な処理によっ
て使用できるものであってもよい。両面でも同様なた
め、以下は、片面の場合について説明する。まず、アル
ミニウム板は、粗面化処理されるが粗面化処理方法とし
ては、機械的に表面を粗面化する方法、電気化学的に表
面を溶解する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方
法がある。機械的に表面を粗面化する方法としては、ボ
ール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨
法等と称せられる公知の方法を用いることができる。ま
た電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中
で交流又は直流により行なう方法がある。また、特開昭
54−63902号公報に開示されているように両者を
組合せた方法も利用することができる。
Prior to the surface roughening treatment of the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant or an alkaline aqueous solution is performed to remove the rolling oil on the surface. The photosensitive lithographic printing plate of the present invention may be one that can be used on one side only, or one that can be used on both sides by the same treatment. Since the same applies to both surfaces, the case of one surface will be described below. First, the aluminum plate is subjected to a surface roughening treatment. As the surface roughening treatment method, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. There is a way. As a method for mechanically roughening the surface, a known method called a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, a buff polishing method, or the like can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used.

【0009】このように粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理
される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電
解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならばいか
なるものでも使用することができ、一般には硫酸、燐
酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ、
それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決め
られる。
The thus roughened aluminum plate is subjected to alkali etching treatment and neutralization treatment, if necessary. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film.Generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used.
The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.

【0010】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は、5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜50分の範囲にあれば適当である。陽極酸
化皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、より好
ましくは、2.0〜6.0g/m2 の範囲である。陽極酸化
皮膜が1.0gより少ないと耐刷性が不十分であったり、
平版印刷版の非画像部に傷がつき易くなって、印刷時
に、傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。
[0010] The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because they vary depending on the electrolyte used, but in general, the electrolyte concentration is 1 to 80% by weight in solution, and the liquid temperature is 5 to 70 ° C.
It is appropriate that the current density is 5 to 60 A / dm 2 , the voltage is 1 to 100 V, and the electrolysis time is 10 seconds to 50 minutes. The amount of the anodic oxide film is preferably 1.0 g / m 2 or more, more preferably 2.0 to 6.0 g / m 2 . If the anodic oxide film is less than 1.0 g, the printing durability is insufficient,
The non-image portion of the lithographic printing plate is easily scratched, and so-called "scratch stain" in which ink adheres to the scratched portion during printing.

【0011】上述の処理を施した後に用いられる親水化
処理としては、従来より知られている、親水化処理が用
いられる。このような親水化処理としては、米国特許第
2,714,066号、第3,181,461号、第3,280,7
34号、第3,902,734号に開示されているようなア
ルカリ金属シリケート(例えば珪酸ナトリウム水溶液)
法がある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウ
ム水溶液中で浸漬処理されるか又は電解処理される。あ
るいは、特公昭36−22063号公報に開示されてい
る弗化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,86
8号、第4,153,461号、第4,689,272号に開示
されている様なポリビニルホスホン酸で処理する方法な
どが用いられる。これらの中で特に好ましい親水化処理
はアルカリ金属シリケート処理である。
As the hydrophilic treatment used after the above-mentioned treatment, a conventionally known hydrophilic treatment is used. As such a hydrophilic treatment, US Patent No.
No. 2,714,066, No. 3,181,461, No. 3,280,7
No. 34, No. 3,902,734, alkali metal silicates (eg aqueous sodium silicate solution)
There is a law. In this method, the support is immersed or electrolytically treated in an aqueous solution of sodium silicate. Alternatively, potassium fluoride zirconate disclosed in JP-B-36-22063 and U.S. Pat. No. 3,276,86.
No. 8, No. 4,153,461 and No. 4,689,272, for example, a method of treating with polyvinyl phosphonic acid is used. Among these, a particularly preferred hydrophilization treatment is an alkali metal silicate treatment.

【0012】これらの親水化処理を施した後に、アルミ
ニウム板上に、後述する種々の方法で下記の有機層を設
ける。本発明に用いられる化合物は、(I) R1
(PO(OH)2 n で表わされる置換または無置換の
脂肪族化合物または芳香族化合物(nは1または2)、
(II) R1 −(PO(OH)(R2 ))nで表される
置換または無置換の脂肪族化合物または芳香族化合物
(nは1または2)、(nが1のとき、R1 、R2 は置
換、又は無置換のアルキル基(好ましくは炭素数1〜1
4のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜14
のもの)、アリーロキシ基(好ましくは炭素数6〜10
のもの)、アリール基(好ましくは炭素数6〜10のも
の)、アシル基(好ましくは炭素数1〜14のもの)、
アシロキシ基(好ましくは炭素数1〜14のもの)であ
り、nが2のときR1 はアルキレン基(好ましくは炭素
数1〜14のもの)またはアリーレン基(好ましくは炭
素数6〜10のもの)を表し、R2 は前記定義のとおり
であり、置換基としてはアルキル基(但し、アリール残
基に対する置換基に限る)、アリール基(但し、アルキ
ル残基に対する置換基に限る)、アルコキシ基、アシル
基、アシロキシ基、アリーロキシ基、ビニル基、ヒドロ
キシル基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロ
ゲンから選ばれた少くとも1種が挙げられる)からなる
化合物群より選ばれた少くとも1種の化合物である。
After these hydrophilic treatments, the following organic layers are provided on the aluminum plate by various methods described below. The compound used in the present invention is (I) R 1-
A substituted or unsubstituted aliphatic compound or aromatic compound represented by (PO (OH) 2 ) n (n is 1 or 2),
(II) a substituted or unsubstituted aliphatic compound or aromatic compound (n is 1 or 2) represented by R 1- (PO (OH) (R 2 )) n , (when n is 1, R 1 , R 2 is a substituted or unsubstituted alkyl group (preferably having 1 to 1 carbon atoms).
4), an alkoxy group (preferably having 1 to 14 carbon atoms)
), An aryloxy group (preferably having 6 to 10 carbon atoms).
Group), an aryl group (preferably having 6 to 10 carbon atoms), an acyl group (preferably having 1 to 14 carbon atoms),
It is an acyloxy group (preferably having 1 to 14 carbon atoms), and when n is 2, R 1 is an alkylene group (preferably having 1 to 14 carbon atoms) or an arylene group (preferably having 6 to 10 carbon atoms). R 2 is as defined above, and the substituent is an alkyl group (provided that it is a substituent for an aryl residue), an aryl group (however, a substituent for an alkyl residue), an alkoxy group , An acyl group, an acyloxy group, an aryloxy group, a vinyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, a nitro group, and a halogen). Is a compound of.

【0013】アリーロキシ基としては、フェノキシ基、
p−クロロフェノキシ基、p−メチルフェノキシ基、ピ
リジニル基、アリール基としては、フェニル基、o−ト
リル基、m−トリル基、p−トリル基、p−クロロフェ
ニル基、アシル基としては、ホルミル基、アセチル基、
プロピオニル基、ベンゾイル基、アシロキシ基として
は、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ピバロイル
オキシ基などが挙げられる。(I)及び(II)の化合物
は、塩の形で用いてもよい。塩としては、カリウム、ナ
トリウム、リチウム等のアルカリ金属塩の他に、カルシ
ウム、コバルト、鉄、ニッケル、マンガン、マグネシウ
ム、バリウム、銅などの塩が挙げられる。
The aryloxy group is a phenoxy group,
A p-chlorophenoxy group, a p-methylphenoxy group, a pyridinyl group, and an aryl group include a phenyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a p-chlorophenyl group, and an acyl group include a formyl group. , Acetyl group,
Examples of the propionyl group, benzoyl group, and acyloxy group include an acetoxy group, a propionyloxy group, and a pivaloyloxy group. The compounds (I) and (II) may be used in the form of salts. Examples of the salt include salts of calcium, cobalt, iron, nickel, manganese, magnesium, barium, copper, and the like, in addition to alkali metal salts such as potassium, sodium, and lithium.

【0014】以下に具体例を示す。式(1)の化合物の
例としては、フェニルホスホン酸、フェニルリン酸、ナ
フチルホスホン酸、ナフチルリン酸、グリセロホスホン
酸、グリセロリン酸、p−ニトロフェニルホスホン酸、
p−ニトロフェニルリン酸、p−メトキシフェニルホス
ホン酸、p−メトキシフェニルリン酸、p−ヒドロキシ
フェニルホスホン酸、p−ヒドロキシフェニルリン酸、
p−トリルホスホン酸、p−トリルリン酸、p−アセチ
ルフェニルホスホン酸、p−アセチルフェニルリン酸、
p−シアノフェニルホスホン酸、p−シアノフェニルリ
ン酸、m−クロルフェニルホスホン酸、m−クロルフェ
ニルリン酸、メチルホスホン酸、メチレンジホスホン
酸、エチルホスホン酸、エチレンジホスホン酸、2−カ
ルボキシエチルホスホン酸、フォスフォノアセティック
アシッド、2−フェニルエチルホスホン酸、2−ヒドロ
キシエチルホスホン酸、1−ヒドロキシエタン−1,1
−ジホスホン酸、アミノヘキシルリン酸、2−メトキシ
エチルホスホン酸、2−アセチルエチルホスホン酸、グ
リシン−N,N−ビス(メチレンフォスフォン酸)、ホ
スホセリン、ホスホスレオニン、リン酸ピリドキサール
などが挙げられる。
The following is a specific example. Examples of the compound of the formula (1) include phenylphosphonic acid, phenylphosphoric acid, naphthylphosphonic acid, naphthylphosphoric acid, glycerophosphonic acid, glycerophosphoric acid, p-nitrophenylphosphonic acid,
p-nitrophenylphosphoric acid, p-methoxyphenylphosphonic acid, p-methoxyphenylphosphonic acid, p-hydroxyphenylphosphonic acid, p-hydroxyphenylphosphoric acid,
p-tolylphosphonic acid, p-tolylphosphoric acid, p-acetylphenylphosphonic acid, p-acetylphenylphosphoric acid,
p-cyanophenylphosphonic acid, p-cyanophenylphosphoric acid, m-chlorophenylphosphonic acid, m-chlorophenylphosphonic acid, methylphosphonic acid, methylenediphosphonic acid, ethylphosphonic acid, ethylenediphosphonic acid, 2-carboxyethylphosphone Acid, phosphonoacetic acid, 2-phenylethylphosphonic acid, 2-hydroxyethylphosphonic acid, 1-hydroxyethane-1,1
-Diphosphonic acid, aminohexyl phosphoric acid, 2-methoxyethyl phosphonic acid, 2-acetylethyl phosphonic acid, glycine-N, N-bis (methylenephosphonic acid), phosphoserine, phosphothreonine, pyridoxal phosphate and the like.

【0015】式(II) の化合物の例としては、フェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、ジフェニルホス
フィン酸、ジメチルホスフィン酸、p−ニトロフェニル
ホスフィン酸、p−メトキシフェニルホスフィン酸、p
−ヒドロキシフェニルホスフィン酸、p−トリルホスフ
ィン酸、p−アセチルフェニルホスフィン酸、ビスニト
ロフェニルリン酸、リン酸ジオクチル、リン酸ジイソプ
ロピル、リン酸ジブチルエステル、リン酸ジメチルエス
テル、リン酸ジエチルエステル、リン酸ジ−2−エチル
ヘキシルエステル、リン酸ジフェニルエステル、メチル
ホスフィン酸、エチルホスフィン酸、ジエチルホスフィ
ン酸、2−カルボキシエチルホスフィン酸、2−フェニ
ルエチルホスフィン酸、2−ヒドロキシエチルホスフィ
ン酸、2−メトキシエチルホスフィン酸、2−アセチル
エチルホスフィン酸などが挙げられる。
Examples of compounds of formula (II) are phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, dimethylphosphinic acid, p-nitrophenylphosphinic acid, p-methoxyphenylphosphinic acid, p
-Hydroxyphenylphosphinic acid, p-tolylphosphinic acid, p-acetylphenylphosphinic acid, bisnitrophenylphosphoric acid, dioctyl phosphate, diisopropyl phosphate, dibutyl phosphate, dimethyl phosphate, diethyl phosphate, phosphoric acid Di-2-ethylhexyl ester, phosphoric acid diphenyl ester, methyl phosphinic acid, ethyl phosphinic acid, diethyl phosphinic acid, 2-carboxyethyl phosphinic acid, 2-phenylethyl phosphinic acid, 2-hydroxyethyl phosphinic acid, 2-methoxyethyl phosphine Acid and 2-acetylethylphosphinic acid.

【0016】これらの化合物は2種以上併用してもよ
い。これらの中で特に好ましい化合物としては、フェニ
ルホスホン酸、フェニルリン酸、ナフチルホスホン酸、
ナフチルリン酸、フェニルホスフィン酸、ジフェニルホ
スフィン酸、ナフチルホスフィン酸が挙げられる。本発
明におるけ有機層は、次のような方法で設けることがで
きる。すなわち、水又はメタノール、エタノールなどの
有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の化合物を溶
解させた溶液を塗布、乾燥して有機層を設ける方法と、
水又はメタノール、エタノールなどの有機溶剤もしくは
それらの混合溶剤に、上記の化合物を溶解させた溶液
に、上述の親水化処理を施したアルミニウム板を浸漬し
て化合物を吸着させ、しかる後、水などによって、洗
浄、乾燥して有機層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記のような化合物を0.005〜10重量%の濃度
で溶解した塗布液を種々の方法で塗布できる。例えばバ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布等のいずれの方法を用いてもよい。また、本発明の化
合物を溶解した溶液に浸漬後、水などによって洗浄する
方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、好ましく
は0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20℃〜90
℃、好ましくは25℃〜50℃であり、浸漬時間は、0.
1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。
Two or more of these compounds may be used in combination. Particularly preferred compounds among these are phenylphosphonic acid, phenylphosphoric acid, naphthylphosphonic acid,
Examples include naphthylphosphoric acid, phenylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, and naphthylphosphinic acid. The organic layer in the present invention can be provided by the following method. That is, a solution in which the above compound is dissolved in water or an organic solvent such as methanol or ethanol or a mixed solvent thereof is applied and dried to form an organic layer,
Water or an organic solvent such as methanol or ethanol, or a mixed solvent thereof, is immersed in a solution in which the above compound is dissolved, and the aluminum plate that has been subjected to the above-mentioned hydrophilization treatment is adsorbed by the compound. And drying to provide an organic layer. In the former method, a coating solution in which the above compound is dissolved at a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, and curtain coating may be used. In the method of washing with water or the like after immersion in a solution in which the compound of the present invention is dissolved, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20%. ° C to 90
° C, preferably 25 ° C to 50 ° C, and the immersion time is
It is 1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.

【0017】有機層の乾燥後の被覆量は、2mg/m2
200mg/m2 が適当であり、好ましくは5mg/m2
100mg/m2 である。上記の被覆量が2mg/m2 より
少ないと充分な耐刷性能が得られない。また、200mg
/m2 より多くても、充分な耐刷性能が得られない。本
発明の有機層を設ける際に使用する溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質
や、塩酸、リン酸等の酸性物質によりpHを調節し、pH1
〜12の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のため、黄色染料を添加する
こともできる。
The coating amount of the organic layer after drying is from 2 mg / m 2 to
200 mg / m 2 is suitable, preferably 5 mg / m 2 to
It is 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. Also, 200mg
Even if it is more than / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The solution used when providing the organic layer of the present invention is adjusted to pH 1 by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, etc., or an acidic substance such as hydrochloric acid, phosphoric acid, etc.
It can also be used in the range of -12. Further, a yellow dye may be added for improving the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate.

【0018】また本発明の有機層には公知の例えばカル
ボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアゴ
ム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有す
るホスホン酸類、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ
酸類、トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシ基
を有するアミンの塩酸塩等を混合させることができる。
本発明の有機層は、上記式(I)及び/又は(II)の化
合物を少なくとも30重量%含むことが望ましく、より
好ましくは80重量%以上、最も好ましくは100重量
%である。
In the organic layer of the present invention, known phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, 2-aminoethylphosphonic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, triethanolamine. Hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as the hydrochlorides of the above can be mixed.
The organic layer of the present invention preferably contains at least 30% by weight of the compound of the formula (I) and / or (II), more preferably 80% by weight or more, and most preferably 100% by weight.

【0019】このようにして得られた有機層で被覆され
たアルミニウム支持体上に、公知のo−キノンジアジド
化合物を有するポジ型感光性組成物を含む感光層を設け
て、感光性平版印刷版を得る。上記の感光層の組成物と
しては、露光の前後で現像液に対する溶解性又は膨潤性
が変化するものであればいずれも使用できる。以下、そ
の代表的なものについて説明する。
On the aluminum support coated with the organic layer thus obtained, a photosensitive layer containing a positive photosensitive composition having a known o-quinonediazide compound is provided to provide a photosensitive lithographic printing plate. obtain. As the composition for the photosensitive layer, any one can be used as long as its solubility or swelling property in a developer changes before and after exposure. Hereinafter, typical ones will be described.

【0020】o−ナフトキノンジアジド化合物として
は、特公昭43−28403号公報に記載されている
1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとピ
ロガロール−アセトン樹脂とのエステルであるものが好
ましい。その他の好適なオルトキノンジアジド化合物と
しては、米国特許第3,046,120号および同第3,18
8,210号明細書中に記載されている1,2−ジアゾナ
フトキノン−5−スルホン酸クロリドとフェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂とのエステルがあり、特開平2−9
6163号公報、特開平2−96165号公報、特開平
2−96761号公報に記載されている1,2−ジアゾ
ナフトキノン−4−スルホン酸クロリドとフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され、知られているものが挙げられる。たとえ
ば、特開昭47−5303号、同48−63802号、
同48−63803号、同48−96575号、同49
−38701号、同48−13354号、特公昭37−
18015号、同41−11222号、同45−961
0号、同49−17481号公報、米国特許第2,797,
213号、同第3,454,400号、同第3,544,323
号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同
第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同
第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,3
29,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第8
54,890号などの各明細書中に記載されているものを
あげることができる。
The o-naphthoquinonediazide compound is preferably an ester of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin described in JP-B-43-28403. Other suitable orthoquinonediazide compounds include U.S. Pat. Nos. 3,046,120 and 3,18,120.
No. 8,210, described in JP-A No. 2-9, there is an ester of 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride and a phenol-formaldehyde resin.
No. 6,163, JP-A-2-96165, JP-A-2-96661, and 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride and phenol.
There are esters with formaldehyde resins. Other useful o-quinonediazide compounds include those reported and known in numerous patents. For example, JP-A-47-5303, JP-A-48-63802,
48-63803, 48-96575, 49
No. 38701, No. 48-13354, Japanese Patent Publication No. 37-
No. 18015, No. 41-11222, No. 45-961
No. 0, 49-17481, U.S. Pat.
No. 213, No. 3,454,400, No. 3,544,323
No. 3,573,917, No. 3,674,495, No. 3,785,825, British Patent No. 1,227,602, No. 1,251,345, No. 1,267,005, 1,3
No. 29,888, No. 1,330,932, German Patent No. 8
Examples described in each specification such as 54,890 can be mentioned.

【0021】本発明において特に好ましいo−ナフトキ
ノンジアジド化合物は、分子量1,000以下のポリヒド
ロキシ化合物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸
クロリドとの反応により得られる化合物である。このよ
うな化合物の具体例は、特開昭51−139402号、
同58−150948号、同58−203434号、同
59−165053号、同60−121445号、同6
0−134235号、同60−163043号、同61
−118744号、同62−10645号、同62−1
0646号、同62−153950号、同62−178
562号、同64−76047号、米国特許第3,102,
809号、同第3,126,281号、同第3,130,047
号、同第3,148,983号、同第3,184,310号、同
第3,188,210号、同第4,639,406号などの各公
報または明細書に記載されているものを挙げることがで
きる。
In the present invention, particularly preferred o-naphthoquinonediazide compound is a compound obtained by reacting a polyhydroxy compound having a molecular weight of 1,000 or less with 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride. Specific examples of such compounds are described in JP-A-51-139402,
No. 58-150948, No. 58-203434, No. 59-165053, No. 60-112445, No. 6
0-134235, 60-16043, 61
-118744, 62-10645, 62-1
Nos. 0646, 62-153950, 62-178
No. 562, No. 64-76047, U.S. Pat.
No. 809, No. 3,126,281, No. 3,130,047
No. 3,148,983, No. 3,184,310, No. 3,188,210, No. 4,639,406, etc. Can be mentioned.

【0022】これらのo−ナフトキノンジアジド化合物
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.2〜1.2当量反応させる事が好ましく、0.3〜
1.0当量反応させる事がさらに好ましい。1,2−ジア
ゾナフトキノンスルホン酸クロリドとしては、1,2−
ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドまたは
1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸クロリド
を用いることができる。
When synthesizing these o-naphthoquinonediazide compounds, it is preferable to react 0.2-1.2 equivalents of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride with the hydroxyl group of the polyhydroxy compound. .3 ~
More preferably, the reaction is carried out at 1.0 equivalent. 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride includes 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride.
Diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride or 1,2-diazonaphthoquinone-4-sulfonic acid chloride can be used.

【0023】また得られるo−ナフトキノンジアジド化
合物は、1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステ
ル基の位置及び導入量の種々異なるものの混合物となる
が、ヒドロキシル基がすべて1,2−ジアゾナフトキノ
ンスルホン酸エステルで転換された化合物がこの混合物
中に占める割合(完全にエステル化された化合物の含有
率)は5モル%以上であることが好ましく、さらに好ま
しくは20〜99モル%である。
The obtained o-naphthoquinonediazide compound is a mixture of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid ester groups having different positions and introduction amounts, but all of the hydroxyl groups are 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid ester. The ratio of the compound converted in (3) to the mixture (content of the completely esterified compound) is preferably 5 mol% or more, more preferably 20 to 99 mol%.

【0024】本発明の感光性組成物中に占めるこれらの
ポジ型に作用する感光性化合物(上記のような組合せを
含む)の量は10〜50重量%が適当であり、より好ま
しくは15〜40重量%である。o−キノンジアジド化
合物は単独でも感光層を構成するが、アルカリ水に可溶
な樹脂を結合剤(バインダー)としてこの種の樹脂と共
に使用することが好ましい。このようなアルカリ水に可
溶性の樹脂としては、この性質を有するノボラック樹脂
があり、たとえばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m
−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホ
ルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−、p−、o−、又は
m−/p−、m−/o−混合のいずれでもよい)混合ホ
ルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド
樹脂などが挙げられる。
The amount of these positive-working photosensitive compounds (including the above-mentioned combinations) in the photosensitive composition of the present invention is suitably 10 to 50% by weight, more preferably 15 to 50% by weight. It is 40% by weight. Although the o-quinonediazide compound alone constitutes the photosensitive layer, it is preferable to use a resin soluble in alkaline water as a binder together with this kind of resin. As such a resin soluble in alkaline water, there is a novolac resin having this property, such as phenol formaldehyde resin, m
-Cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, o-cresol formaldehyde resin, m- / p-mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p-, o-, or m- / p-, m- / cresol formaldehyde resin such as a mixed formaldehyde resin.

【0025】また、フェノール変性キシレン樹脂、ポリ
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂も用
いることができる。その他の好適なバインダとして以下
(1)〜(13)に示すモノマーをその構成単位とする
通常1〜20万の分子量をもつ共重合体を挙げることが
できる。 (1) 芳香族水酸基を有するアクリルアミド類、メタ
クリルアミド類、アクリル酸エステル類、メタクリル酸
エステル類およびヒドロキシスチレン類、例えばN−
(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド又はN−
(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、
m−、p−ヒドロキシスチレン、o−、m−、p−ヒド
ロキシフェニル−アクリレート又はメタクリレート、
(2) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、
およびメタクリル酸エステル類、例えば2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、又は2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート、(3) アクリル酸、メタクリル酸、無水
マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸、(4)
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プ
ロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリ
ル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチル
アミノエチルアクリレート等の(置換)アルキルアクリ
レート、(5) メチルメタクリレート、エチルメタク
リレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレ
ート、アミルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタク
リレート等の(置換)アルキルメタクリレート、(6)
アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロール
アクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N
−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミ
ド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキ
シエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミ
ド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−
N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しく
はメタクリルアミド類、(7) エチルビニルエーテ
ル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチ
ルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニ
ルエーテル等のビニルエーテル類、(8)ビニルアセテ
ート、ビチルクロロアセテート、ビニルブチレート、安
息香酸ビニル等のビニルエステル類、(9) スチレ
ン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のス
チレン類、(10) メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類、(11) エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフ
ィン類、(12) N−ビニルピロリドン、N−ビニル
カルバゾル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル等、(13) N−(o−アミノス
ルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−アミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
アミノ)スルホニルフェニルメタクリルアミド、N−
(1−(3−アミノスルホニル)ナフチル)メタクリル
アミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタクリ
ルアミド等のメタクリルアミド類、及び上記と同様の置
換基を有するアクリルアミド類、また、o−アミノスル
ホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニル
フェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニルナフチ
ル)メタクリレート等のメタクリル酸エステル類、及び
上記と同様の置換基を有するアクリル酸エステル類など
の不飽和スルホンアミド。
Further, a phenol-modified xylene resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, and an acrylic resin containing a phenolic hydroxyl group as disclosed in JP-A-51-34711 can also be used. Other suitable binders include copolymers having the following (1) to (13) monomers as structural units and usually having a molecular weight of from 100,000 to 200,000. (1) Acrylamides, methacrylamides, acrylic esters, methacrylic esters and hydroxystyrenes having an aromatic hydroxyl group, such as N-
(4-hydroxyphenyl) acrylamide or N-
(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-,
m-, p-hydroxystyrene, o-, m-, p-hydroxyphenyl-acrylate or methacrylate,
(2) Acrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group,
And methacrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl methacrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, (3) unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, and itaconic acid, (4)
Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, -2-acrylic acid
(Substituted) alkyl acrylates such as chloroethyl, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, (5) methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N -(Substituted) alkyl methacrylates such as dimethylaminoethyl methacrylate, (6)
Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, N-methylol methacrylamide, N
-Ethyl acrylamide, N-hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-phenyl acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl-
Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide, (7) vinyl ether such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, (8) vinyl acetate, Vinyl esters such as bityl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate, (9) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene and chloromethylstyrene, (10) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone , Vinyl ketones such as phenyl vinyl ketone, (11) olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene, (12) N-vinyl Pyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile,
(13) N- (o-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (m-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-
Amino) sulfonylphenyl methacrylamide, N-
Methacrylamides such as (1- (3-aminosulfonyl) naphthyl) methacrylamide and N- (2-aminosulfonylethyl) methacrylamide, and acrylamides having the same substituents as described above, and o-aminosulfonylphenyl. Unsaturation of methacrylic acid esters such as methacrylate, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, p-aminosulfonylphenyl methacrylate, 1- (3-aminosulfonylnaphthyl) methacrylate, and acrylic acid esters having the same substituents as above. Sulfonamide.

【0026】更に、上記モノマーと共重合し得るモノマ
ーを共重合させてもよい。また、上記モノマーの共重合
によって得られる共重合体を例えば、グリシジルメタク
リレート、グリシジルアクリレート等によって修飾した
ものも含まれるがこれらに限られるものではない。上記
共重合体には(3)に掲げた不飽和カルボン酸を含有す
ることが好ましく、共重合体の好ましいカルボン酸価の
値は0〜4meq /g、さらに好ましくは、0.5〜2.5me
q /gである。
Further, a monomer copolymerizable with the above monomer may be copolymerized. In addition, a copolymer obtained by copolymerization of the above-mentioned monomers, for example, modified with glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, or the like is also included, but is not limited thereto. The above copolymer preferably contains the unsaturated carboxylic acid listed in (3), and the preferable carboxylic acid value of the copolymer is 0 to 4 meq / g, and more preferably 0.5 to 2. 5me
q / g.

【0027】上記共重合体の好ましい分子量は1〜10
万である。また上記共重合体には必要に応じて、ポリビ
ニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹
脂、エポキシ樹脂、を添加してもよい。このようなアル
カリ可溶性の高分子化合物は、1種類あるいは2種類以
上組みあわせることができ、全組成物の80重量%以下
の添加量で用いられる。
The preferred molecular weight of the above copolymer is 1-10.
It is ten thousand. If necessary, a polyvinyl butyral resin, a polyurethane resin, a polyamide resin, or an epoxy resin may be added to the copolymer. Such alkali-soluble polymer compounds can be used alone or in combination of two or more, and are used in an amount of 80% by weight or less of the total composition.

【0028】更に、米国特許第4,123,279号明細書
に記載されているように、t−ブチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基とし
て有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併
用することは画像の感脂性を向上させる上で好ましい。
Further, as described in US Pat. No. 4,123,279, it has an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. It is preferable to use a condensate of phenol and formaldehyde together in order to improve the oil sensitivity of the image.

【0029】本発明における感光性組成物中には、感度
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許第4,115,128号明細書に記載されているよう
に無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒ
ドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4 −テト
ラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無
水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無
水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸等が
ある。
Cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids are preferably added to the photosensitive composition of the present invention in order to enhance sensitivity. Cyclic acid anhydride include U.S. Pat phthalic anhydride as described in 4,115,128 Pat, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-oxy - [delta 4 - tetrahydrophthalic anhydride Examples include phthalic acid, tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, and pyromellitic anhydride.

【0030】フェノール類としては、ビスフェノール
A、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、
2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒド
ロキシベンゾフェノン、2,4,4′−トリヒドロキシ
ベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシ−ト
リフェニルメタン、4,4′、3″、4″−テトラヒド
ロキシ−3,5,3′、5′−テトラメチルトリフェニ
ルメタンなどが挙げられる。
Examples of phenols include bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol,
2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-trihydroxy-triphenylmethane, 4,4', 3", 4 "-Tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-tetramethyltriphenylmethane.

【0031】有機酸類としては、特開昭60−8894
2号公報、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、ホスフィン酸類、リン酸エステル
類、カルボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエ
ンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トル
エンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェ
ニル、安息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トル
イル酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレ
フタル酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボ
ン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アス
コルビン酸などが挙げられる。
As the organic acids, there is disclosed in JP-A-60-8894.
2, sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphinic acids, phosphoric esters, carboxylic acids, and the like described in JP-A No. 2-96755 and JP-A-2-96755. p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid,
Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 1,4-cyclohexene-2,2- Examples thereof include dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid.

【0032】上記の環状酸無水物類、フェノール類、有
機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜15
重量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量%で
ある。また本発明における感光性組成物中には、現像の
ラチチュードを広げるために、特開昭62−25174
0号公報や、特願平2−181248号明細書に記載さ
れているような非イオン性界面活性剤、特開昭59−1
21044号公報、特願平2−115992号明細書に
記載されているような両性界面活性剤を添加することが
できる。非イオン性界面活性剤の具体例としては、ソル
ビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミラー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れ、両性界面活性剤の具体例としては、アルキルジ(ア
ミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリ
シン塩酸塩、アモーゲン水(商品名、第一工業(株)
製、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型)、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタイン、レボン15(商品名、三洋
化成(株)製、アルキルイミダゾリン系)などが挙げら
れる。
The ratio of the above cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids in the photosensitive composition is 0.05 to 15
% By weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. Further, in order to increase the development latitude in the photosensitive composition of the present invention, JP-A-62-25174 is used.
0 and non-ionic surfactants described in Japanese Patent Application No. 181248/1990;
An amphoteric surfactant as described in JP-A-21044 and Japanese Patent Application No. 2-115992 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmirate, sorbitan triolate, stearic acid monoglyceride, polyoxyethylene sorbitan monooleate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Specific examples of the activator include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, amogen water (trade name, Daiichi Kogyo Co., Ltd.)
, N-tetradecyl-N, N-betaine type), 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, Levon 15 (trade name, Sanyo Kasei Co., Ltd., alkylimidazoline type), etc. Is mentioned.

【0033】上記非イオン性界面活性剤、両性界面活性
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.05%〜15重
量%が、好ましく、より好ましくは、0.1〜5重量%で
ある。本発明における感光性組成物中には、露光後直ち
に可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染
料やその他のフィラーなどを加えることができる。露光
後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光によ
って酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る有機染
料との組合せを代表としてあげることができる。具体的
には特開昭50−36209号公報、特開昭53−81
28号公報に記載されているo−ナフトキノンジアジド
─4─スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料との組
合せや特開昭53−36223号、同54−74728
号、同60−3626号、同60−138539号、同
61−143748号、同61−151644号、同6
3−58440号公報に記載されているトリハロメチル
化合物と塩形成性有機染料との組合せをあげることがで
きる。かかるトリハロメチル化合物は、オキサジアゾー
ル系化合物とトリアジン系化合物があり、どちらも、経
時安定性に優れ、明瞭な焼出し画像を与える。
The proportion of the above nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the photosensitive composition is preferably 0.05% to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight. is there. In the photosensitive composition of the present invention, a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a dye as an image coloring agent, and other fillers can be added. As a printing-out agent for obtaining a visible image immediately after exposure, a combination of a photosensitive compound that releases an acid upon exposure and an organic dye capable of forming a salt can be exemplified. Specifically, JP-A-50-36209 and JP-A-53-81
Combinations of o-naphthoquinonediazide {4} sulfonic acid halogenide and salt-forming organic dyes described in JP-A-28-28, JP-A-53-36223 and JP-A-54-74728.
No. 60-3626, No. 60-138439, No. 61-143748, No. 61-151644, No. 6
Combinations of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in 3-58440 can be mentioned. Such trihalomethyl compounds include oxadiazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent stability over time and give clear print-out images.

【0034】画像の着色剤として前記の塩形成性有機染
料以外に他の染料も用いることができる。塩形成性有機
染料を含めて好適な染料として油溶性染料および塩基染
料をあげることができる。具体的には、オイルイエロー
#101、オイルイエロー#130、オイルピンク#3
12、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイ
ルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラッ
クBS、オイルブラックT−505(以上、オリエント
化学工業株式会社製)、ビクトリアピュアブルー、クリ
スタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオ
レット(C142535)、エチルバイオレット、ロー
ダミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などをあげることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。
As the image colorant, other dyes can be used in addition to the above salt-forming organic dyes. Suitable dyes including salt-forming organic dyes include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 130, Oil Pink # 3
12, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (above, manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (C142535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI45170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI5201).
5) etc. can be mentioned. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No.
The dyes described in Japanese Patent No. 93247 are particularly preferable.

【0035】本発明における感光性組成物は、上記各成
分を溶解する溶媒に溶かして支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキ
シ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エ
チル、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、
ジメチルホルムアミド、水、N−メチルピロリドン、テ
トラヒドロフルフリルアルコール、アセトン、ジアセト
ンアルコール、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどがあ
り、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。そ
して、上記成分中の濃度(固形分)は、2〜50重量%
である。また、塗布量は用途により異なるが、一般的に
固形分として0.5〜3.0g/m2 が好ましい。塗布量が
薄くなるにつれて感光性は大になるが、感光膜の物性は
低下する。
The photosensitive composition according to the present invention is dissolved in a solvent which dissolves the above-mentioned components and applied on a support. As the solvent used here, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, toluene , Ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, dimethylacetamide,
There are dimethylformamide, water, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl alcohol, acetone, diacetone alcohol, methanol, ethanol, isopropanol, diethylene glycol dimethyl ether and the like, and these solvents may be used alone or as a mixture. The concentration (solid content) in the above components is 2 to 50% by weight.
It is. The amount of application varies depending on the application, but generally 0.5 to 3.0 g / m 2 as a solid content is preferable. The photosensitivity increases as the coating amount decreases, but the physical properties of the photosensitive film deteriorate.

【0036】本発明における感光性組成物中には、塗布
性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−1
70950号公報に記載されているようなフッ素系界面
活性剤を添加することができる。、好ましい添加量は、
全感光性組成物の0.01〜1重量%、さらに好ましくは
0.05〜0.5重量%である。上記のようにして設けられ
た感光層の表面は、真空焼枠を用いた密着露光の際の真
空引きの時間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐ為、マット
化することが好ましい。具体的には、特開昭50−12
5805号、特公昭57−6582号、同61−289
86号の各公報に記載されているようなマット層を設け
る方法、特公昭62−62337号公報に記載されてい
るような固体粉末を熱融着させる方法などがあげられ
る。
In the photosensitive composition of the present invention, a surfactant for improving the coatability, such as JP-A-62-1 is used.
Fluorine-based surfactants such as those described in JP 70950 can be added. , A preferable addition amount is
0.01 to 1% by weight of the total photosensitive composition, more preferably
It is 0.05 to 0.5% by weight. The surface of the photosensitive layer provided as described above is preferably matted in order to reduce the time for evacuation during contact exposure using a vacuum printing frame and to prevent printing blur. Specifically, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 50-12
No. 5805, Japanese Patent Publication No. 57-6582, No. 61-289
No. 86, a method of providing a mat layer, and a method of heat-fusing a solid powder as described in JP-B-62-62337.

【0037】本発明の現像液に含有させる珪酸以外の無
機酸の塩としては第3リン酸ナトリウム、第3リン酸カ
リウム、第3リン酸アンモニウム、第2リン酸ナトリウ
ム、第2リン酸カリウム、第2リン酸アンモニウム、炭
酸水素アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アン
モニウムなどが挙げられる。アルカリ金属水酸化物とし
ては水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウ
ム、水酸化アンモニウムが挙げられる。特に好ましいも
のとしては炭酸塩、炭酸水素塩などが挙げられる。これ
らは単独または混合して用いられる。
As salts of inorganic acids other than silicic acid contained in the developer of the present invention, sodium triphosphate, potassium triphosphate, ammonium triphosphate, sodium diphosphate, potassium diphosphate, Dibasic ammonium phosphate, ammonium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate,
Examples thereof include ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate. Examples of the alkali metal hydroxide include potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide and ammonium hydroxide. Particularly preferred are carbonates and hydrogen carbonates. These may be used alone or as a mixture.

【0038】本発明の現像液に使用される水溶性有機ア
ミン化合物としては、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノール
アミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン
などのような化合物が挙げられる。このうち特にモノエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノール
アミンなどが好ましく、無機アルカリ金属塩などと組み
合せて使用してもよい。
The water-soluble organic amine compound used in the developing solution of the present invention includes monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, Examples include compounds such as diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine and the like. Among them, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and the like are particularly preferable, and may be used in combination with an inorganic alkali metal salt or the like.

【0039】これらの塩基性化合物の水溶液中の濃度
は、0.05重量%〜10重量%が好ましい。これらは、
より好ましくは pH11未満であれば製版作業時、取り
扱いも容易で、さらに中和処理も簡単である。また必要
に応じて、該現像液中には、アニオン界面活性剤を加え
てもよい。更に、有機溶媒を加えることもできる。アニ
オン界面活性剤としては例えば、ラウリルアルコールサ
ルフェートのナトリウム塩、オクチルアルコールサルフ
ェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェー
トのアンモニウム塩、第2ナトリウムアルキルサルフェ
ートなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステ
ル塩類、例えばセチルアルコール燐酸エステルのナトリ
ウム塩などのような脂肪族アルコール燐酸エステル塩
類、例えばドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム
塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩など
のようなアルキルアリールスルホン酸塩類、例えばC17H
33CON(CH3)CH2CH2SO3Naなどのようなアルキルアミドの
スルホン酸塩類、例えばナトリウムスルホこはく酸ジオ
クチルエステル、ナトリウムスルホこはく酸ジヘキシル
エステルなどの二塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩
類などが含まれる。
The concentration of these basic compounds in the aqueous solution is preferably 0.05% by weight to 10% by weight. They are,
More preferably, if it is less than pH 11, it is easy to handle during plate-making work, and the neutralization treatment is also easy. If necessary, an anionic surfactant may be added to the developer. Further, an organic solvent can be added. Examples of the anionic surfactant include sodium salts of lauryl alcohol sulfate, sodium salts of octyl alcohol sulfate, ammonium salts of lauryl alcohol sulfate, salts of higher alcohol sulfates having 8 to 22 carbon atoms such as secondary sodium alkyl sulfate, such as cetyl. Aliphatic alcohol phosphate salts such as sodium salt of alcohol phosphate ester, for example, alkylaryl sulfonate salts such as sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonic acid, sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid, etc. , For example C 17 H
33 CON (CH 3 ) CH 2 CH 2 SO 3 Na and other sulfonates of alkylamides, such as dibasic fatty acid ester sulfonates such as sodium sulfosuccinate dioctyl ester and sodium sulfosuccinate dihexyl ester Is included.

【0040】アニオン界面活性剤は、使用時の現像液の
総重量に対して0.1〜5重量%の範囲で含有させておく
ことが適当である。0.1重量%よりも少なくなるとその
使用効果が低くなり、5重量%よりも多くなると、画像
部の色素の溶出(色抜け)が過多になったり、画像の耐
摩耗性などの機械的、化学的強度が劣化するなどの弊害
が出てくる。
It is appropriate that the anionic surfactant is contained in the range of 0.1 to 5% by weight based on the total weight of the developing solution at the time of use. When the amount is less than 0.1% by weight, the effect of the use is reduced. When the amount is more than 5% by weight, the dissolution (color loss) of the dye in the image area becomes excessive, There are adverse effects such as deterioration of chemical strength.

【0041】有機溶媒としては、水に対する溶解度が約
10重量%以下のものが適しており、好ましくは5重量
%以下のものから選ばれる。たとえば1−フェニルエタ
ノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパ
ノール−1,4−フェニルブタノール−1,4−フェニ
ルブタノール−2,2−フェニルブタノール−1,2−
フェキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、
o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジ
ルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベン
ジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシク
ロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール及び3
−メチルシクロヘキサノール等をあげることができる。
As the organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by weight or less are suitable, and those having a solubility of 5% by weight or less are preferable. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol-1,4-phenylbutanol-1,4-phenylbutanol-2,2-phenylbutanol-1,2-
Fexiethanol, 2-benzyloxyethanol,
o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol and 3
-Methylcyclohexanol and the like.

【0042】有機溶媒の含有量は使用時の現像液の総重
量に対して1〜5重量%が好適である。その使用量は界
面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が
増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させること
が好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少なく、
有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従っ
て良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。
The content of the organic solvent is preferably 1 to 5% by weight based on the total weight of the developing solution at the time of use. The amount used is closely related to the amount used of the surfactant, and it is preferable to increase the amount of the anionic surfactant as the amount of the organic solvent increases. This is because the amount of anionic surfactant is small,
If a large amount of the organic solvent is used, the organic solvent does not dissolve, so that good development property cannot be expected.

【0043】また、さらに必要に応じ、消泡剤及び硬水
軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水
軟化剤としては例えば Na2P2O7、Na5P3O3 、Na3P3O9
Na2O4P(NaO3P)PO3Na2 、カルゴン(ポリメタ燐酸ナトリ
ウム)などのポリ燐酸塩、例えばエチレンジアミンテト
ラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレ
ントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム
塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジア
ミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニ
トリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;
1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリ
ウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プ
ロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩などのようなアミノポリカルボン酸類を挙げること
ができる。このような硬水軟化剤は使用される硬水の硬
度およびその使用量に応じて最適量が変化するが、一般
的な使用量を示せば、使用時の現像液中に0.01〜5重
量%、より好ましくは0.01〜0.5重量%の範囲で含有
させられる。
Further, if necessary, additives such as an antifoaming agent and a water softener can be contained. Examples of the water softener include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 ,
Polyphosphates such as Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 and Calgon (sodium polymetaphosphate), eg ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium salt Triethylenetetramine hexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt;
Examples thereof include aminopolycarboxylic acids such as 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, and the like. The optimum amount of such a water softener varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used. However, if a general amount is used, 0.01 to 5% by weight in the developer at the time of use is used. , More preferably 0.01 to 0.5% by weight.

【0044】本発明の感光性平版印刷版の露光に使用さ
れる光源としては、カーボンアーク灯、水銀灯、キセノ
ンランプ、タングステンランプ、メタルハライドランプ
などがある。本発明の感光性平版印刷版の製版処理方法
としては、特開昭54−8002号、同55−1150
45号、特開昭59−58431号の各公報に記載され
ている方法も使用することができることは言うまでもな
い。即ち、現像処理後、水洗してから不感脂化処理、ま
たはそのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液での
処理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を施
してもよい。さらに、この種の感光性平版印刷版の現像
工程では、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、
補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させて
もよい。この場合、米国特許第 4,882,246号に記載され
ている方法で補充することが好ましい。
Light sources used for exposing the photosensitive lithographic printing plate of the present invention include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, tungsten lamps and metal halide lamps. The plate-making method of the photosensitive lithographic printing plate of the present invention is described in JP-A-54-8002 and JP-A-55-1150.
It goes without saying that the methods described in JP-B No. 45 and JP-A-59-58431 can also be used. That is, after the development processing, it may be subjected to a desensitization treatment after washing with water, a desensitization treatment as it is, a treatment with an aqueous solution containing an acid, or a desensitization treatment after treating with an aqueous solution containing an acid. Furthermore, in the developing process of this type of photosensitive lithographic printing plate, the developing solution becomes tired depending on the processing amount,
Replenisher or fresh developer may be used to restore throughput. In this case, it is preferable to replenish by the method described in U.S. Pat. No. 4,882,246.

【0045】また、上記のような製版処理は、特開平2
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行なうことが好ましい。また、本発明
では、感光性平版印刷版を画像露光し、現像し、水洗又
はリンスしたのちに、不必要な画像部の消去を行なう場
合には、特公平2−13293号公報に記載されている
ような消去液を用いることが好ましい。更に製版工程の
最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとして
は、特公昭62−16834号、同62−25118
号、同63−52600号、特開昭62−7595号、
同62−11693号、同62−83194号の各公報
に記載されているものが好ましい。
In addition, the plate making process as described above is described in JP-A-2
It is preferably carried out using an automatic developing machine as described in JP-A-7054 and JP-A-2-32357. Further, in the present invention, when the photosensitive lithographic printing plate is imagewise exposed, developed, washed with water or rinsed, and then unnecessary image portions are erased, it is described in JP-B-2-13293. It is preferable to use such an erasing liquid. Further, as the desensitizing gum which is optionally applied in the final step of the plate making process, Japanese Patent Publication Nos. 62-16834 and 62-25118 are available.
No. 63-52600, JP-A-62-7595,
Those described in JP-A-62-11693 and JP-A-62-83194 are preferable.

【0046】更にまた、本発明において、感光性平版印
刷版を画像露光し、現像し、水洗又はリンスし、所望に
より消去作業をし、水洗したのちにバーニングする場合
には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55
−28062号、特開昭62−31859号、同61−
159655号の各公報に開示されているような整面液
で処理することが好ましい。
Further, in the present invention, when the photosensitive lithographic printing plate is imagewise exposed, developed, washed with water or rinsed, erased if desired, and burned after washing with water, it is preferable to remove the impurities from the light of the prior art. 61-2518, 55
-28062, JP-A-62-31859, 61-
It is preferable to treat with a leveling solution as disclosed in each publication of No. 159655.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明によれば、自動現像機で長時間現
像処理を行なっても析出物、ヘドロの発生が無く、疲労
液の中和処理も容易である。また、現像性も良好で、得
られた平版印刷版の耐刷性、非画像部の耐汚れ性にも優
れている。
According to the present invention, there is no generation of precipitates and sludge even when the development processing is carried out for a long time with an automatic processor, and the neutralization of the fatigue solution is easy. In addition, the developability is good, and the lithographic printing plate obtained has excellent printing durability and stain resistance of non-image areas.

【0048】[0048]

【実施例】以下、本発明を実施例を用いてより具体的に
説明する。なお、実施例中の「%」は、特に指定のない
限り「重量%」を示すものとする。<実施例1〜3、比
較例1〜3>厚さ0.15mmの2S材アルミニウム板を8
0℃に保たれた第三リン酸ナトリウムの10%水溶液に
30秒間浸漬して脱脂し、パミススラリーをアルミニウ
ム板上に流しながらナイロンブラッシで砂目立て後、6
0℃のアルミン酸ナトリウム水溶液中で10秒間エッチ
ングし、引続き硫酸水素ナトリウム3%水溶液で洗滌し
た。このアルミニウム板を20%硫酸中で電流密度2A
/dm2 において2分間陽極酸化し、その後、70℃の2.
5%ケイ酸ナトリウム水溶液で1分間処理し、アルミニ
ウム板支持体Aを作製した。このように処理された基板
Aの表面に、下記組成の下塗り液(I)を塗布し90℃
1分間乾燥した。乾燥後の被覆量は20mg/m2であっ
た。 (I) フェニルリン酸 0.1g ……実施例1 メタノール 95g 水 5g 同様にして下塗り液(I)のフェニルリン酸の代りに、
フェニルホスホン酸(実施例2)、フェニルホスフィン
酸(実施例3)を用いた下塗り液を20mg/m 2 基板A
に塗布した支持体を作製した。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically below with reference to examples.
explain. In addition, "%" in the examples is not particularly specified
Only "% by weight" shall be indicated. <Examples 1-3, ratio
Comparative Examples 1 to 3> 8 pieces of 2S aluminum plate having a thickness of 0.15 mm
To a 10% aqueous solution of sodium triphosphate kept at 0 ° C
Soak for 30 seconds to degrease, and use the pumice slurry as an aluminum foil.
Grain it with a nylon brush while pouring it on the plate, then 6
Etch for 10 seconds in 0 ℃ sodium aluminate solution
And then washed with a 3% aqueous solution of sodium hydrogensulfate.
Was. This aluminum plate is subjected to a current density of 2 A in 20% sulfuric acid.
/ DmTwoAnodize for 2 minutes at 70 ° C, then 2.
Treat with 5% sodium silicate aqueous solution for 1 minute,
A um plate support A was prepared. Substrates treated in this way
Undercoat liquid (I) having the following composition is applied to the surface of A, and the temperature is 90 ° C.
Dry for 1 minute. The coating amount after drying is 20 mg / mTwoSo
Was. (I) Phenylphosphoric acid 0.1 g ... Example 1 Methanol 95 g Water 5 g In the same manner, instead of phenylphosphoric acid in the undercoating liquid (I),
Phenylphosphonic acid (Example 2), phenylphosphine
20 mg / m of an undercoat liquid using an acid (Example 3) TwoBoard A
A support coated on the above was prepared.

【0049】一方比較のために実施例の陽極酸化処理ま
でした支持体(支持体B)を下塗り液を塗布することな
く使用した(比較例1及び3)。またさらに比較のため
に、支持体Aを下塗り液を塗布することなく使用した
(比較例2)。このようにして作製した基板に下記に示
す感光液を塗布した。 2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノンと ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニ ルクロリドとのエステル化物(エステル化率:9 0mol %) 0.47重量部 フェノールホルムアルデヒド樹脂(重量平均分 子量:2300) 1.15重量部 2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス (トリクロロメチル)−s−トリアジン 0.02重量部 ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホニ ルクロリド 0.01重量部 ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株) の染料) 0.016重量部 メガファックF−176(大日本インキ化学工 業(株)製フッ素系界面活性剤) 0.004重量部 メチルエチルケトン 12重量部 エタノール 4重量部 エチレンジクロリド 4重量部 塗布乾燥重量は2g/m2 であった。
On the other hand, for comparison, a support (Support B) which had been anodized in the examples was used without applying the undercoating liquid (Comparative Examples 1 and 3). For further comparison, Support A was used without applying the undercoat liquid (Comparative Example 2). The following photosensitive solution was applied to the substrate thus produced. Esterification product of 2,3,4-trihydroxybenzophenone and naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonyl chloride (esterification rate: 90 mol%) 0.47 parts by weight Phenol formaldehyde resin (weight average molecular weight: 2300) 1.15 parts by weight 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 0.02 parts by weight naphthoquinone-1,2-diazide-4-sulfonyl chloride 0.01 parts by weight Part Victoria Pure Blue BOH (dye from Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.016 parts by weight Megafac F-176 (fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.004 parts by weight Methyl ethyl ketone 12 parts by weight Parts ethanol 4 parts by weight ethylene dichloride 4 parts by weight The coating dry weight was 2 g / m 2 .

【0050】この感光性平版印刷版を30アンペアのカ
ーボンアーク灯で70cmの距離から45秒間画像露光
し、次に示す組成の現像液AまたはBを用いて自動現像
機にて25℃で30秒間現像した。 現像液A 原液(1:4に水で希釈して使用する) 水 75重量部 炭酸水素カリウム 3.5重量部 炭酸カリウム 7重量部 ペレックスNBL(花王アトラス(株)製) 15重量部 フェノキシエタノール 2重量部 現像液B ケイ酸カリウム2重量%水溶液 100重量部 (SiO2/K2O モル比0.75) C10H7-O-(C2H4O)7-SO3K 5重量部 結果を第1表に示す。汚れ性は、現像後の印刷版の非画
像部分の印刷汚れを示し、耐刷性は実技印刷における耐
刷枚数を示す。また各々の現像処理を10m2 /l実施
した所で強制的にその疲労液の水25%を蒸発させた時
のヘドロの発生の有無も示した。
This photosensitive lithographic printing plate was imagewise exposed to a carbon arc lamp of 30 amps from a distance of 70 cm for 45 seconds, and a developer A or B having the following composition was used for 30 seconds at 25 ° C. in an automatic processor. Developed. Developer A Undiluted solution (diluted with water 1: 4) Water 75 parts by weight Potassium hydrogen carbonate 3.5 parts by weight Potassium carbonate 7 parts by weight Perex NBL (manufactured by Kao Atlas Co., Ltd.) 15 parts by weight Phenoxyethanol 2 parts by weight Part Developer B Potassium silicate 2% by weight aqueous solution 100 parts by weight (SiO 2 / K 2 O molar ratio 0.75) C 10 H 7 -O- (C 2 H 4 O) 7 -SO 3 K 5 parts by weight Results Is shown in Table 1. The stain resistance indicates the print stain on the non-image portion of the printing plate after development, and the printing durability indicates the number of printed sheets in practical printing. Further, the presence or absence of sludge was also shown when 25% of the water of the fatigue liquid was forcibly evaporated at the place where each development treatment was carried out at 10 m 2 / l.

【0051】 第 1 表 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ No. 支持体 下塗 現像液 汚れ性 耐刷枚数 ヘドロの有無 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実1 A フェニルリン酸 A A 10万 無し 実1 A フェニルホスホン酸 A A 10万 無し 実1 A フェニルホスフィン 酸 A B 9万 無し ────────────────────────────────── 比1 B なし A D 10万 無し 比2 A なし A C 0.5万 無し 比3 B なし B B 10万 有り ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 汚れ性: A=全くなし、 B=ほとんどなし C=ややあり、 D=多い 実施例1から3では、いずれも長期の自現機処理におい
てカス・ヘドロの発生が見られず、廃液中和処理が容易
であった。さらに現像性も良好で印刷時に汚れも発生せ
ず、充分な耐刷力を有していることがわかった。一方比
較例1は、カス・ヘドロの発生は見られなかったが、支
持体の親水化処理がなされていないために印刷中汚れが
発生した。また、比較例2では、印刷時の汚れ性は改良
されたものの耐刷枚数が充分ではなかった。さらに比較
例3では、印刷時の汚れ性及び耐刷性能は充分であるも
のの、長期処理においてカス・ヘドロが発生し、自現機
のスプレーノズルが目詰まりした。
Table 1 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ No. Support undercoat Developer Stain resistance Number of prints Presence of sludge ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Actual 1 A Phenylphosphoric acid A A 100,000 None Fruit 1 A Phenylphosphonic acid A A 100,000 None Fruit 1 A phenylphosphinic acid A B 90,000 None ───────────────────────────── ────── Ratio 1 B None A D 100,000 None Ratio 2 A None A C 050,000 None Ratio 3 B None BB B 100,000 Yes ━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Stainability: A = none, B = nearly no, C = somewhat, D = many In Examples 1 to 3, long-term For automatic processing Showed no occurrence of scum-sludge Te, waste neutralization process was easy. Further, it was found that the developability was good, stains did not occur during printing, and the plate had sufficient printing durability. On the other hand, in Comparative Example 1, generation of dust and sludge was not observed, but stains occurred during printing because the support was not subjected to the hydrophilic treatment. Further, in Comparative Example 2, the stain resistance during printing was improved, but the number of printed sheets was not sufficient. Further, in Comparative Example 3, although the stain resistance during printing and the printing durability were sufficient, dust and sludge were generated in the long-term processing, and the spray nozzle of the automatic developing machine was clogged.

【0052】以上から本発明は、汚れ、耐刷性能を充分
満足しかつ疲労液のカス・ヘドロの問題のない優れた製
版方法であり、廃液の中和処理・廃却も容易で環境保全
上好ましいことがわかる。 <実施例4〜6、比較例4〜6>厚さ0.30mmのアルミ
ニウム板をナイロンブラシと400メッシュのパミスト
ンの水懸濁液を用いその表面を砂目立てした後、よく水
で洗浄した。10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒
間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後20%HN
3 で中和洗浄、水洗した。これをVA =12.7Vの条
件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中
で160クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面化処
理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ
(Ra表示)であった。ひきつづいて30%のH2 SO
4 水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、
20%H2 SO4 水溶液中、電流密度2A/dm2 におい
て厚さが2.7g/m2 になるように陽極酸化し、その後
70℃の2%ケイ酸ナトリウム水溶液で20秒間処理
し、アルミニウム支持体Cを作製した。
As described above, the present invention is an excellent plate-making method which is sufficiently satisfactory in stain resistance and printing durability and free from the problem of waste liquid sludge and sludge. It turns out to be preferable. <Examples 4 to 6 and Comparative Examples 4 to 6> An aluminum plate having a thickness of 0.30 mm was grained on its surface using a nylon brush and an aqueous suspension of 400 mesh pumice, and then washed thoroughly with water. After dipping in 10% sodium hydroxide at 70 ° C for 60 seconds for etching, and then rinsing with running water, 20% HN
It was neutralized with O 3 and washed with water. This was subjected to electrolytic surface roughening treatment in a 1% aqueous nitric acid solution at an anode electricity of 160 coulomb / dm 2 using a sinusoidal alternating waveform current under the condition of V A = 12.7 V. The surface roughness was measured and found to be 0.6μ.
(Ra display). Continued 30% H 2 SO
4 After dipping in aqueous solution and desmutting at 55 ℃ for 2 minutes,
Anodizing in a 20% H 2 SO 4 aqueous solution at a current density of 2 A / dm 2 to a thickness of 2.7 g / m 2 , then treating with a 2% sodium silicate aqueous solution at 70 ° C. for 20 seconds, Support C was prepared.

【0053】このように処理された支持体Cの表面に下
記組成の下塗り液を塗布し80℃30秒間乾燥した。乾
燥後の被覆量は10mg/m2 であった。 一方比較のため、実施例の陽極酸化処理までした支持体
(支持体D)を、下塗り液を塗布することなく使用した
(比較例4及び6)。
An undercoat liquid having the following composition was applied to the surface of the support C thus treated and dried at 80 ° C. for 30 seconds. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 . On the other hand, for comparison, the support (Support D) which had been anodized in the example was used without coating the undercoating liquid (Comparative Examples 4 and 6).

【0054】さらに比較のため、支持体Cを下塗り液を
塗布することなく使用した(比較例5)。このようにし
て作製した基板に次の感光液を塗布した。塗布乾燥重量
は2.5g/m2 であった。 感光液 アセトンとピロガロールの縮合により 0.8重量部 得られるポリヒドロキシフェニルのナ フトキノン−1,2−ジアジド−5− スルホン酸エステル フェノールホルムアルデヒド樹脂 2.2重量部 (重量平均分子量1500) ノボラック型オクチルフェノール 0.02重量部 ホルムアルデヒド樹脂 無水フタル酸 0.08重量部 2−トリクロルメチル−5−(p−メト 0.04重量部 キシスチリル)−1,3,4−オキサジ アゾール クリスタルバイオレットのパラトルエン 0.03重量部 スルホン酸塩 メチルセロソルブアセテート 20重量部 メチルエチルケトン 8重量部 この感光性平版印刷版を、富士写真フィルム(株)製P
Sライト(2kwメタルハライドランプ)を用いて露光
し、以下に示す現像液CまたはDで25℃30秒間現像
処理した。
For comparison, Support C was used without applying the undercoat liquid (Comparative Example 5). The following photosensitive solution was applied to the substrate thus manufactured. The dry coating weight was 2.5 g / m 2 . Photosensitive solution 0.8 parts by weight of polyhydroxyphenyl obtained by condensation of acetone and pyrogallol Naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester phenol formaldehyde resin 2.2 parts by weight (weight average molecular weight 1500) novolak type octylphenol 0.02 parts by weight formaldehyde resin phthalic anhydride 0.08 parts by weight 2-trichloromethyl-5- (p-meth 0.04 parts by weight xystyryl) -1,3,4-oxadiazole crystal violet paratoluene 0.03 parts by weight Parts by weight Sulfonate Methyl cellosolve acetate 20 parts by weight Methyl ethyl ketone 8 parts by weight This photosensitive lithographic printing plate was manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
It was exposed using an S light (2 kw metal halide lamp), and developed with developer C or D shown below at 25 ° C. for 30 seconds.

【0055】 現像液C 原液(1:1に水で希釈して使用する) 水 1000重量部 トリエタノールアミン 20重量部 モノエタノールアミン 5重量部 ペレックスNBL 30重量部 現像液D ケイ酸ソーダ2.5重量%水溶液 100重量部 (SiO2/Na2Oモル比0.65) C10H7-O-(C2H4O)4-SO3Na 8重量部 結果を第2表に示す。汚れ性は現像後の印刷版の非画像
部の印刷汚れを示し、耐刷性は実技印刷における耐刷枚
数を示す。また各々の現像処理を10m2/l実施した
所で強制的に、その疲労液の水25%を蒸発させた時の
ヘドロの発生の有無も示した。 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ No. 支持体 下塗 現像液 汚れ性 耐刷枚数 ヘドロの有無 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実4 C ナフチルリン酸 C A 9万 無し 実5 C シ゛フェニルホスフィン酸 C B 8万 無し 実6 C ナフチルホスホン酸 C A 9万 無し ─────────────────────────────────── 比4 D なし C D 9万 無し 比5 C なし C C 0.3万 無し 比6 D なし D B 9万 有り ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例4から6では、いずれも長期の自現機処理におい
て、カス・ヘドロの発生が見られず、廃液中和処理も容
易であった。さらに現像性も良好で印刷時に汚れも発生
せずかつ充分な耐刷力を有していることもわかった。一
方比較例4はカス・ヘドロの発生は見られなかったが、
支持体の親水化処理がなされていないために印刷中に汚
れが発生した。また比較例5は、印刷時の汚れ性は改良
されたものの耐刷枚数が充分でなかった。さらに比較例
6では印刷時の汚れ性及び耐刷性能は充分であるものの
長期処理においてカス・ヘドロが発生した。
Developer C Undiluted solution (diluted with water 1: 1 for use) Water 1000 parts by weight Triethanolamine 20 parts by weight Monoethanolamine 5 parts by weight Perex NBL 30 parts by weight Developer D Sodium silicate 2.5 wt% aqueous solution of 100 parts by weight of (SiO 2 / Na 2 O molar ratio 0.65) C 10 H 7 -O- ( C 2 H 4 O) 4 -SO 3 Na 8 parts by weight results shown in table 2. The stain resistance indicates the print stain on the non-image area of the printing plate after development, and the printing durability indicates the number of printed sheets in practical printing. Further, it was also shown whether or not sludge was generated when 25% of the water of the fatigue liquid was forcibly evaporated at the place where each development treatment was carried out at 10 m 2 / l. ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ No. Support base coat Developer Stain stains Number of printable sheets Sludge presence ━ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Actual 4 C Naphthylphosphoric acid C A 90,000 None Actual 5 C Diphenylphosphinic acid C B 80,000 None 6C naphthylphosphonic acid CA 90,000 None ──────────────────────────────────── Ratio 4 D No C D 90,000 No Ratio 5 C No C C 030,000 No Ratio 6 D No D B 90,000 Yes ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━━━━━━━━━━ In each of Examples 4 to 6, generation of dust and sludge was not observed in the long-term automatic processing, and the waste liquid neutralization processing was easy. It was also found that the developability was good, stains did not occur during printing, and the plate had sufficient printing durability. On the other hand, in Comparative Example 4, no generation of shavings was observed, but
Staining occurred during printing because the support was not hydrophilized. In Comparative Example 5, the stain resistance during printing was improved, but the number of printed sheets was not sufficient. Further, in Comparative Example 6, although stain resistance during printing and printing durability were sufficient, dust and sludge were generated during long-term processing.

【0056】以上から本発明は、汚れ・耐刷性能を充分
満足しかつ疲労液のカス・ヘドロの問題のない優れた製
版方法であり、廃液の中和処理、廃却も容易で環境保全
上も好ましいことがわかる。
As described above, the present invention is an excellent plate-making method which is sufficiently satisfactory in stain resistance and printing durability and free from the problem of waste liquid sludge and sludge. It turns out that is also preferable.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 親水化処理を施したアルミニウム支持体
に、R1 ( PO(OH)2 )n またはR1 −(PO(O
H)(R2 ))n で表される置換または無置換の脂肪族
化合物または芳香族化合物(nは1または2であり、n
が1のとき、R 1 、R2 は置換または無置換のアルキル
基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アリール基、アシ
ル基、アシロキシ基を表し、nが2のときR1 は置換ま
たは無置換のアルキレン基またはアリーレン基を表し、
2 は前記定義のとおりである)からなる化合物群より
選ばれた少くとも1種の化合物を含む有機層を設け、さ
らにその上にo−キノンジアジド化合物を含有するポジ
型感光層を設けた感光性平版印刷版を、画像露光後、珪
酸以外の無機酸のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩、
アルカリ金属水酸化物、水酸化アンモニウム及び水溶性
有機アミン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1
種の化合物を含む水溶液で現像処理することを特徴とす
る平版印刷版の製版方法。
1. A hydrophilized aluminum support.
And R1(PO (OH)Two )nOr R1-(PO (O
H) (RTwo))nA substituted or unsubstituted aliphatic represented by
Compound or aromatic compound (n is 1 or 2, n
When is 1, R 1, RTwoIs a substituted or unsubstituted alkyl
Group, alkoxy group, aryloxy group, aryl group, acyl group
Represents an alkyl group or an acyloxy group, and when n is 2, R1Is replaced
Or represents an unsubstituted alkylene group or arylene group,
RTwoIs as defined above)
Provide an organic layer containing at least one selected compound,
Positively containing an o-quinonediazide compound thereon.
After exposing the photosensitive lithographic printing plate provided with the mold type photosensitive layer to an image,
Alkali metal salts or ammonium salts of inorganic acids other than acids,
Alkali metal hydroxide, ammonium hydroxide and water soluble
At least one selected from the group consisting of organic amine compounds
Characterized by being developed with an aqueous solution containing various compounds.
Method for making lithographic printing plates.
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