JP2675933B2 - Silver halide color photographic materials - Google Patents

Silver halide color photographic materials

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JP2675933B2
JP2675933B2 JP3252840A JP25284091A JP2675933B2 JP 2675933 B2 JP2675933 B2 JP 2675933B2 JP 3252840 A JP3252840 A JP 3252840A JP 25284091 A JP25284091 A JP 25284091A JP 2675933 B2 JP2675933 B2 JP 2675933B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀カラー写
真感光材料に関し、特に新規なタイミングDIRカプラ
ーとアルデヒドスカベンジャーを含有し、耐圧力性、色
再現性、鮮鋭性、粒状性、脱銀性が良好であり、かつ保
存中の写真性能の変動が少ないハロゲン化銀カラー写真
感光材料に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a silver halide color photographic light-sensitive material, particularly containing a novel timing DIR coupler and an aldehyde scavenger, and having pressure resistance, color reproducibility, sharpness, graininess and desilvering property. The present invention relates to a silver halide color photographic light-sensitive material having a good image quality and less fluctuation in photographic performance during storage.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真感光材料特に撮
影用カラー感材においては、高感度で耐圧力性・色再現
性・粒状性および鮮鋭性が良好であり、保存中の写真性
能の変動が少ない感光材料が要望されている。
2. Description of the Related Art A silver halide color photographic light-sensitive material, especially a color sensitive material for photographing, has high sensitivity and good pressure resistance, color reproducibility, graininess and sharpness, and the fluctuation of photographic performance during storage. There is a demand for less photosensitive material.

【0003】色再現性および鮮鋭性を改良する手段とし
ては、例えば特開昭51−146828号、同60−2
18645号、同61−156127号、同63−37
346号、特開平1−280755号、同1−2197
47号、同2−230139号、ヨーロッパ特許公開3
48139号、同354532号および同403019
号に記載されている現像抑制性化合物を2つのタイミン
グ基を介して放出するカプラーが知られている。確かに
これらのタイミングDIRカプラーを用いることによ
り、層間効果やエッジ効果が向上して色再現性と鮮鋭性
がある程度改良されたが、実質的に現像抑制剤の放出が
一段であること、またはその放出するタイミングが好ま
しくないことにより、その効果はまだまだ不充分なもの
であった。また、これらカプラーを用いた感光材料は保
存中の写真性能の変動が大きく、また感材が折り曲げら
れたり、引っ掻かれたりした場合に写真性能が変化しや
すいという問題もあった。
Means for improving color reproducibility and sharpness include, for example, JP-A Nos. 51-146828 and 60-2.
18645, 61-156127, 63-37.
No. 346, JP-A Nos. 1-280755 and 1-2197.
No. 47, No. 2-230139, European Patent Publication 3
48139, 354532 and 403019
There are known couplers which release the development-inhibiting compounds described in US Pat. Certainly, by using these timing DIR couplers, the interlayer effect and the edge effect were improved and the color reproducibility and the sharpness were improved to some extent, but the release of the development inhibitor was substantially further, or Due to unfavorable timing of release, the effect was still insufficient. Further, a photosensitive material using these couplers has a problem that the photographic performance greatly varies during storage, and the photographic performance is apt to change when the photosensitive material is bent or scratched.

【0004】一方、ポリマーカプラーと種々の現像抑制
剤放出化合物の組み合わせが、例えば特開昭59−36
249号、同60−101534号、同61−4374
7号および特開平1−147544号に提案され、色再
現性、鮮鋭性、粒状性等である程度の効果は得られてい
るが、圧力性や感材の保存性はまだまだ不満足なレベル
であった。
On the other hand, a combination of a polymer coupler and various development inhibitor releasing compounds is disclosed in, for example, JP-A-59-36.
No. 249, No. 60-101534, No. 61-4374.
No. 7 and JP-A-1-147544, some effects such as color reproducibility, sharpness, and graininess have been obtained, but the pressure resistance and storability of the light-sensitive material are still unsatisfactory. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、第一
に圧力性の優れた感光材料を提供することであり、第二
に保存期間中に写真性能の変動が少ない感光材料を提供
することであり、第三に高感度で鮮鋭性、色再現性およ
び脱銀性の優れた感光材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to firstly provide a light-sensitive material having excellent pressure resistance, and secondly to provide a light-sensitive material having less fluctuation in photographic performance during storage. Thirdly, to provide a light-sensitive material having high sensitivity, excellent sharpness, color reproducibility and desilvering property.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記課題は、下記ハロゲ
ン化銀カラー写真感光材料によって解決された。
The above object has been attained by the following silver halide color photographic light-sensitive material.

【0007】支持体上に少なくとも一層の感光性乳剤層
を有しかつアルデヒドスカベンジャーを含有するハロゲ
ン化銀カラー写真感光材料において、下記化3に示す一
般式(I)および/または下記化4に示す一般式(I
I)で表される化合物を含有することを特徴とするハロ
ゲン化銀カラー写真感光材料。
A silver halide color photographic light-sensitive material having at least one light-sensitive emulsion layer on a support and containing an aldehyde scavenger is represented by the following general formula (I) and / or the following chemical formula (4). General formula (I
A silver halide color photographic light-sensitive material comprising a compound represented by I).

【0008】[0008]

【化3】 一般式(I)中のAは、カプラー残基または酸化還元基
を表わし、L1 およびL3 は2価のタイミング基を表わ
し、L2 は3価もしくはそれ以上の結合手を有するタイ
ミング基を表わし、PUGは写真性有用基を表わす。j
とnはそれぞれ独立に0、1または2を表わし、mは1
または2を表わし、sはL2 の価数から1を引いた数で
あり2以上の整数を表わす。またL1 、L2 もしくはL
3 が分子内に複数個存在するとき、それらは全て同じで
あっても異なっていてもよい。また複数個存在するPU
Gは全て同じであっても異なっていてもよい。
Embedded image A in the general formula (I) represents a coupler residue or a redox group, L 1 and L 3 represent a divalent timing group, and L 2 represents a trivalent or higher-valent timing group. And PUG represents a photographically useful group. j
And n each independently represent 0, 1 or 2, and m is 1
Or 2 and s is a number obtained by subtracting 1 from the valence of L 2 and represents an integer of 2 or more. Also L 1 , L 2 or L
When 3 is present in plural in the molecule, they may all be the same or different. There are multiple PUs
All G's may be the same or different.

【0009】[0009]

【化4】 一般式(II)中のAとPUGは、一般式(I)と同義であ
る。L4 は−OCO−基、−OSO−基、−OSO2
基、−OCS−基、−SCO−基、−SCS−基または
−WCR1112−基を表わす。ここでWは酸素原子、硫
黄原子または3級アミノ基(−NR13−)を表わし、R
11およびR12はそれぞれ独立に水素原子または置換基を
表わし、R13は置換基を表わす。またR11、R12及びR
13の各々が2価基を表し、連結して環状構造を形成する
場合も含む。L5 は共役系に沿った電子移動によりPU
Gを放出する基もしくはL4 で定義される基を表わす。
Embedded image A and PUG in the general formula (II) have the same meaning as in the general formula (I). L 4 represents -OCO- group, -OSO- group, -OSO 2 -
It represents a group - group, -OCS- group, -SCO- group, -SCS- group or -WCR 11 R 12. Here, W represents an oxygen atom, a sulfur atom or a tertiary amino group (—NR 13 —), and R
11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R 13 represents a substituent. In addition, R 11 , R 12 and R
Each of 13 represents a divalent group and includes a case where they are linked to each other to form a cyclic structure. L 5 is PU due to electron transfer along the conjugated system
It represents a group releasing G or a group defined by L 4 .

【0010】以下に、一般式(I)および一般式(I
I)で示されるカプラーについて詳しく述べる。
The general formula (I) and the general formula (I
The coupler represented by I) will be described in detail.

【0011】一般式(I)においてAは詳しくはカプラ
ー残基または酸化還元基を表わす。
In the general formula (I), A specifically represents a coupler residue or a redox group.

【0012】Aで表わされるカプラー残基としては、例
えばイエローカプラー残基(例えばアシルアセトアニリ
ド、マロンジアニリドなどの開鎖ケトメチレン型カプラ
ー残基)、マゼンタカプラー残基(例えば5−ピラゾロ
ン型、ピラゾロトリアゾール型またはイミダゾピラゾー
ル型などのカプラー残基)、シアンカプラー残基(例え
ばフェノール型、ナフトール型、ヨーロッパ公開特許第
249,453号に記載のイミダゾール型または同30
4,001号に記載のピラゾロピリミジン型などのカプ
ラー残基)および無呈色カプラー残基(例えばインダノ
ン型またはアセトフェノン型などのカプラー残基)が挙
げられる。また、米国特許第4,315,070号、同
4,183,752号、同4,174,969号、同
3,961,959号、同4,171,223号または
特開昭52−82423号に記載のヘテロ環型のカプラ
ー残基であってもよい。
Examples of the coupler residue represented by A include yellow coupler residues (for example, open-chain ketomethylene type coupler residues such as acylacetanilide and malondianilide) and magenta coupler residues (for example, 5-pyrazolone type and pyrazolotriazole). Type or an imidazopyrazole type coupler residue), a cyan coupler residue (for example, phenol type, naphthol type, imidazole type or the same type as described in European Patent Publication 249,453).
Coupler residues such as pyrazolopyrimidine type described in U.S. Pat. No. 4,001) and colorless coupler residues (e.g., coupler residues such as indanone type or acetophenone type). Also, U.S. Pat. Nos. 4,315,070, 4,183,752, 4,174,969, 3,961,959, 4,171,223 or JP-A-52-82423. It may be a heterocyclic coupler residue described in No.

【0013】Aが酸化還元基を表わすとき、酸化還元基
とは、現像主薬酸化体によりクロス酸化されうる基であ
り、例えばハイドロキノン類、カテコール類、ピロガロ
ール類、1,4−ナフトハイドロキノン類、1,2−ナ
フトハイドロキノン類、スルホンアミドフェノール類、
ヒドラジド類またはスルホンアミドナフトール類が挙げ
られる。これらの基は具体的には例えば特開昭61−2
30135号、同62−251746号、同61−27
8852号、米国特許第3,364,022号、同第
3,379,529号、同第3,639,417号、同
第4,684,604号またはJ.Org.Che
m.,29,588(1964)に記載されているもの
である。
When A represents a redox group, the redox group is a group which can be cross-oxidized by an oxidized product of a developing agent, and examples thereof include hydroquinones, catechols, pyrogallols, 1,4-naphthohydroquinones, 1 , 2-naphthohydroquinones, sulfonamide phenols,
Hydrazides or sulfonamido naphthols are exemplified. These groups are specifically described in, for example, JP-A-61-2.
No. 30135, No. 62-251746, No. 61-27
8852, U.S. Pat. Nos. 3,364,022, 3,379,529, 3,639,417, 4,684,604 or J. Org. Che
m. , 29, 588 (1964).

【0014】一般式(I)において、L1 は好ましくは
以下のものが挙げられる。
In the general formula (I), L 1 preferably includes the following.

【0015】(1)ヘミアセタールの開裂反応を利用す
る基 例えば米国特許第4,146,396号、特開昭60−
249148号および同60−249149号に記載が
あり下記一般式(T−1)で表わされる基である。ここ
で*印は一般式(I)で表わされる化合物のAまたはL
1 と結合する位置を表わし、**印はL1 またはL2
結合する位置を表わす。 一般式(T−1) *−(W−CR11(R12))t −** 式中、Wは酸素原子、硫黄原子または−NR13−基を表
わし、R11およびR12は水素原子または置換基を表わ
し、R13は置換基を表わし、tは1または2を表わす。
tが2のとき、2つの−W−CR11(R12)は同じもの
もしくは異なるものを表わす。R11およびR12が置換基
を表わすときおよびR13の代表的な例は各々R15基、R
15CO−基、R15SO2 −基、R15(R16)NCO−基
またはR15(R16)NSO2 −基が挙げられる。ここで
15は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わし、R
16は水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表
わす。R11、R12及びR13の各々が2価基を表わし、連
結し、環状構造を形成する場合も包含される。一般式
(T−1)で表わされる基の具体例としては下記化5〜
化7のような基が挙げられる。
(1) Group Utilizing Cleavage Reaction of Hemiacetal For example, US Pat. No. 4,146,396, JP-A-60-
No. 249148 and No. 60-249149, which are groups represented by the following general formula (T-1). Here, * indicates A or L of the compound represented by the general formula (I).
It represents the position of binding to 1, and the ** mark represents the position of binding to L 1 or L 2 . Formula (T-1) * - ( W-CR 11 (R 12)) t - ** In formula, W is an oxygen atom, a sulfur atom or -NR 13 - represents a group, R 11 and R 12 are a hydrogen atom Or a substituent, R 13 represents a substituent, and t represents 1 or 2.
When t is 2, two -W-CR 11 (R 12 ) represent the same or different. When R 11 and R 12 represent a substituent and typical examples of R 13 are R 15 group and R 13 respectively.
Examples thereof include a 15 CO- group, an R 15 SO 2 -group, an R 15 (R 16 ) NCO- group and an R 15 (R 16 ) NSO 2 -group. Here, R 15 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and R 15
16 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. R 11 , R 12 and R 13 each represent a divalent group, and are linked to form a cyclic structure. Specific examples of the group represented by the general formula (T-1) are shown below.
A group such as Chemical formula 7 can be mentioned.

【0016】[0016]

【化5】 Embedded image

【0017】[0017]

【化6】 Embedded image

【0018】[0018]

【化7】 (2)分子内求核置換反応を利用して開裂反応を起こさ
せる基 例えば米国特許第4,248,292号に記載のあるタ
イミング基が挙げられる。下記一般式で表わすことがで
きる。 一般式(T−2) *−Nu−Link−E−** 式中、Nuは求核基を表わし、酸素原子または硫黄原子
が求核種の例であり、Eは求電子基を表わし、Nuより
求核攻撃を受けて**印との結合を開裂できる基であり
LinkはNuとEとが分子内求核置換反応することが
できるように立体的に関係づける連結基を表わす。一般
式(T−2)で表わされる基の具体例としては例えば下
記化8、化9に示すものである。
Embedded image (2) Group that causes cleavage reaction utilizing intramolecular nucleophilic substitution reaction For example, a timing group described in US Pat. No. 4,248,292 can be mentioned. It can be represented by the following general formula. General formula (T-2) * -Nu-Link-E-** In the formula, Nu represents a nucleophilic group, an oxygen atom or a sulfur atom is an example of a nucleophilic species, E represents an electrophilic group, Nu Link is a group that can be more nucleophilically attacked to cleave the bond with **, and Link represents a linking group that sterically links Nu and E so that they can undergo an intramolecular nucleophilic substitution reaction. Specific examples of the group represented by the general formula (T-2) include those shown in the following chemical formulas 8 and 9.

【0019】[0019]

【化8】 Embedded image

【0020】[0020]

【化9】 (3)共役系に沿った電子移動反応を利用して開裂反応
を起こさせる基。
Embedded image (3) A group that causes a cleavage reaction by utilizing an electron transfer reaction along a conjugated system.

【0021】例えば米国特許第4,409,323号、
同第4,421,845号、特開昭57−188035
号、同58−98728号、同58−209736号、
同58−209737号、同58−209738号に記
載があり、下記化10に示す一般式(T−3)で表わさ
れる基である。
For example, US Pat. No. 4,409,323,
U.S. Pat. No. 4,421,845, JP-A-57-188035.
No. 58-98728, 58-209736,
No. 58-209737 and No. 58-209738, and it is a group represented by the general formula (T-3) shown in Chemical formula 10 below.

【0022】[0022]

【化10】 式中、*印、**印、W、R11、R12およびtは一般式
(T−1)について説明したのと同じ意味を表わす。た
だし、R11とR12とが結合してベンゼン環または複素環
の構成要素となってもよい。また、R11もしくはR12
Wとが結合してベンゼン環または複素環を形成してもよ
い。また、Z1 とZ2 はそれぞれ独立に炭素原子または
窒素原子を表わし、xとyは0または1を表わす。Z1
が炭素原子のときxは1であり、Z1 が窒素原子のとき
xは0である。Z2 とyとの関係もZ1 とxとの関係と
同じである。また、tは1または2を表わし、tが2の
とき2つの−〔Z1 (R11x =(X2 (R12y〕−
は同じでも異なっていてもよい。また**印に隣接する
−CH2 −基は炭素数1ないし6のアルキル基またはフ
ェニル基で置換されてもよい。
Embedded image In the formula, * mark, ** mark, W, R 11 , R 12 and t have the same meanings as described for the general formula (T-1). However, R 11 and R 12 may combine to form a benzene ring or a heterocyclic ring. Further, R 11 or R 12 and W may combine with each other to form a benzene ring or a heterocycle. Z 1 and Z 2 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom, and x and y represent 0 or 1. Z 1
Is 1 when x is a carbon atom, and x is 0 when Z 1 is a nitrogen atom. Relationship between Z 2 and y is the same as the relationship between Z 1 and x. Also, t represents 1 or 2, and when t is 2, two-[Z 1 (R 11 ) x = (X 2 (R 12 ) y ]-
May be the same or different. The -CH 2 adjacent to the mark ** - group may be substituted with an alkyl group or a phenyl group having 1 to 6 carbon atoms.

【0023】前記一般式(T−3)の具体例を下記化1
1〜化14に挙げる。
Specific examples of the general formula (T-3) are shown below.
1 to 14

【0024】[0024]

【化11】 Embedded image

【0025】[0025]

【化12】 Embedded image

【0026】[0026]

【化13】 Embedded image

【0027】[0027]

【化14】 (4)エステルの加水分解による開裂反応を利用する
基。
Embedded image (4) A group utilizing a cleavage reaction due to hydrolysis of an ester.

【0028】例えば西独公開特許第2,626,315
号に記載のある連結基であり以下の基が挙げられる。式
中*印および**印は一般式(T−1)について説明し
たのと同じ意味である。 一般式(T−4) *−OCO−** 一般式(T−5) *−SCS−** (5)イミノケタールの開裂反応を利用する基。
For example, West German Published Patent No. 2,626,315
And the following groups. In the formulas, * and ** have the same meaning as described for the general formula (T-1). General formula (T-4) * -OCO-** General formula (T-5) * -SCS-** (5) Group which utilizes the cleavage reaction of imino ketal.

【0029】例えば米国特許第4,546,073号に
記載のある連結基であり、下記化15に示す一般式(T
−6)で表わされる基である。
For example, a linking group described in US Pat. No. 4,546,073, represented by the general formula (T
It is a group represented by -6).

【0030】[0030]

【化15】 式中、*印、**印およびWは一般式(T−1)におい
て説明したのと同じ意味であり、R14はR13と同じ意味
を表わす。一般式(T−6)で表わされる基の具体的例
としては下記化16に示す基が挙げられる。
Embedded image In the formulas, *, ** and W have the same meanings as described in formula (T-1), and R 14 has the same meaning as R 13 . Specific examples of the group represented by formula (T-6) include groups represented by the following chemical formula 16.

【0031】[0031]

【化16】 1 として好ましくは一般式(T−1)〜(T−5)で
示されるものであり、特に好ましくは(T−1)(T−
3)および(T−4)である。
Embedded image L 1 is preferably one represented by the general formulas (T-1) to (T-5), and particularly preferably (T-1) (T-
3) and (T-4).

【0032】一般式(I)においてjは、好ましくは0
または1である。
In the general formula (I), j is preferably 0.
Or 1.

【0033】一般式(I)においてL2 で示される基は
3価以上のタイミング基を表わし、好ましくは次の一般
式(T−L1 )もしくは(T−L2 )で表わされるもの
である。 一般式(T−L1 ) *−W−〔Z1 −(R11x =Z2 (R12y t −C
2 −** 式中W、Z1 、Z2 、R11、R12、x、yおよびtは一
般式(T−3)について説明したのと同じ意味を表わ
す。また*印は一般式(I)中のA−(L1 j −と結
合する位置を、**印は−(L3 n −PUGと結合す
る位置を表わす。ただし複数個存在するR11またはR12
のうちの少なくとも1つは置換もしくは無置換のメチレ
ン基で−(L3 n −PUGと結合する基を表わす。
The group represented by L 2 in the general formula (I) represents a trivalent or higher valent timing group, preferably represented by the following general formula (T-L 1 ) or (T-L 2 ). . Formula (T-L 1) * -W- [Z 1 - (R 11) x = Z 2 (R 12) y ] t -C
H 2 - ** wherein W, Z 1, Z 2, R 11, R 12, x, y and t have the same meanings as described for formula (T-3). Further, the * mark represents the position at which it bonds to A- (L 1 ) j- in the general formula (I), and the ** mark represents the position at which it bonds to-(L 3 ) n -PUG. However, there are a plurality of R 11 or R 12
At least one of the substituted or unsubstituted methylene group - represents the (L 3) n -PUG with binding group.

【0034】一般式(T−L1 )として好ましくはWが
窒素原子を表わす場合であり、さらに好ましくはWとZ
2 が結合して5員環を形成する場合であり、特に好まし
くはイミダゾール、もしくはピラゾール環を形成する場
合である。 一般式(T−L2 ) *−N−(Z3 −**)2 式中、*印と**印は一般式(T−L1 )と同義であ
る。Z3基は置換もしくは無置換のメチレン基を表わ
し、2つのZ3 基は同じであっても異なっていてもよ
い。また2つのZ3 基が結合して環を形成してもよい。
In the general formula (T-L 1 ), W is preferably a nitrogen atom, and more preferably W and Z.
It is the case where 2 is bonded to form a 5-membered ring, particularly preferably the case where an imidazole or pyrazole ring is formed. General formula (T-L < 2 >) *-N- (Z < 3 >-**) 2 In formula, * mark and ** mark are synonymous with general formula (T-L < 1 >). The Z 3 group represents a substituted or unsubstituted methylene group, and the two Z 3 groups may be the same or different. Further, two Z 3 groups may combine to form a ring.

【0035】一般式(T−L1 )および(T−L2 )の
具体例を下記化17〜化23に挙げるが本発明はこれら
に限定されるものではない。
Specific examples of the general formulas (T-L 1 ) and (T-L 2 ) are shown in the following chemical formulas 17 to 23, but the present invention is not limited thereto.

【0036】[0036]

【化17】 Embedded image

【0037】[0037]

【化18】 Embedded image

【0038】[0038]

【化19】 Embedded image

【0039】[0039]

【化20】 Embedded image

【0040】[0040]

【化21】 Embedded image

【0041】[0041]

【化22】 Embedded image

【0042】[0042]

【化23】 ただし、ここで具体例に挙げた基はさらに置換基を有し
ていてもよく、そのような置換基としては例えばアルキ
ル基(例えばメチル、エチル、イソプロピル、t−ブチ
ル、ヘキシル、メトキシメチル、メトキシエチル、クロ
ロエチル、シアノエチル、ニトロエチル、ヒドロキシプ
ロピル、カルボキシエチル、ジメチルアミノエチル、ベ
ンジル、フェネチル)、アリール基(例えばフェニル、
ナフチル、4−ヒドロキシフェニル、4−シアノフェニ
ル、4−ニトロフェニル、2−メトキシフェニル、2,
6−ジメチルフェニル、4−カルボキシフェニル、4−
スルホフェニル)、ヘテロ環基(例えば2−ピリジル、
4−ピリジル、2−フリル、2−チエチル、2−ピロリ
ル)、ハロゲン原子(例えばクロロ、ブロモ)、ニトロ
基、アメコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、イソプ
ロポキシ)、アリールオキシ基(例えばフェノキシ)、
アルキルチオ基(例えばメチルチオ、イソプロピルチ
オ、t−ブチルチオ)、アリールチオ基(例えばフェニ
ルチオ)、アミノ基(例えばアミノ、ジメチルアミノ、
ジイソプロピルアミノ)、アシルアミノ基(例えばアセ
チルアミノ、ベンゾイルアミノ)、スルホンアミド基
(例えばメタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミ
ド)、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニ
ル基(例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル)、アリールオキシカルボニル(例えばフェノキシカ
ルボニル)もしくはカルバモイル基(例えばN−エチル
カルバモイル、N−フェニルカルバモイル)が挙げられ
る。
Embedded image However, the groups exemplified in the examples here may further have a substituent, and examples of such a substituent include an alkyl group (for example, methyl, ethyl, isopropyl, t-butyl, hexyl, methoxymethyl, methoxy). Ethyl, chloroethyl, cyanoethyl, nitroethyl, hydroxypropyl, carboxyethyl, dimethylaminoethyl, benzyl, phenethyl), aryl groups (eg phenyl,
Naphthyl, 4-hydroxyphenyl, 4-cyanophenyl, 4-nitrophenyl, 2-methoxyphenyl, 2,
6-dimethylphenyl, 4-carboxyphenyl, 4-
Sulfophenyl), a heterocyclic group (eg 2-pyridyl,
4-pyridyl, 2-furyl, 2-thiethyl, 2-pyrrolyl), halogen atom (eg chloro, bromo), nitro group, amecoxy group (eg methoxy, ethoxy, isopropoxy), aryloxy group (eg phenoxy),
Alkylthio group (eg methylthio, isopropylthio, t-butylthio), arylthio group (eg phenylthio), amino group (eg amino, dimethylamino,
Diisopropylamino), acylamino group (eg acetylamino, benzoylamino), sulfonamide group (eg methanesulfonamide, benzenesulfonamide), cyano group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), aryloxycarbonyl (Eg phenoxycarbonyl) or a carbamoyl group (eg N-ethylcarbamoyl, N-phenylcarbamoyl).

【0043】中でも好ましくはアルキル基、ニトロ基、
アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ基、アシルアミ
ノ基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニル基、お
よびカルバモイル基である。
Of these, an alkyl group, a nitro group,
An alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkoxycarbonyl group, and a carbamoyl group.

【0044】また一般式(T−L1 )で**印に隣接す
る−CH2 −基は炭素数1ないし6のアルキル基または
フェニル基で置換されていてもよい。
In the general formula (T-L 1 ), the —CH 2 — group adjacent to the ** mark may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.

【0045】一般式(I)においてmは、好ましくは1
である。
In the general formula (I), m is preferably 1
It is.

【0046】一般式(I)においてL3 で表わされる基
は、L1と同義である。
The group represented by L 3 in formula (I) has the same meaning as L 1 .

【0047】一般式(I)においてnは、好ましくは0
または1であり、特に好ましくは0である。
In the general formula (I), n is preferably 0.
Alternatively, it is 1, and particularly preferably 0.

【0048】一般式(I)においてPUGで表わされる
写真性有用基は詳しくは例えば現像抑制剤、色素、カブ
ラセ剤、現像薬、カプラー、漂白促進剤、定着促進剤で
ある。好ましい写真性有用基の例は米国特許第4,24
8,962号に記載のある写真性有用基(該特許中、一
般式PUGで表わされるもの)、特開昭62−4935
3号に記載のある色素(該明細書中、カプラーより放出
される離脱基の部分)、米国特許第4,477,563
号に記載のある現像抑制剤、および特開昭61−201
247号および特開平2−55号等に記載のある漂白促
進剤(該明細書中、カプラーより放出される離脱基の部
分)が挙げられる。本発明において、写真性有用基とし
て特に好ましいものは現像抑制剤である。
More specifically, the photographically useful group represented by PUG in the general formula (I) is, for example, a development inhibitor, a dye, a fogging agent, a developer, a coupler, a bleaching accelerator or a fixing accelerator. Examples of preferred photographically useful groups are described in U.S. Pat.
No. 8,962, a photographically useful group (the one represented by the general formula PUG in the patent), JP-A-62-4935.
No. 3 (in the specification, a part of a leaving group released from a coupler), US Pat. No. 4,477,563.
And a development inhibitor described in JP-A-61-201.
247 and JP-A-2-55 (the part of the leaving group released from the coupler in the specification). In the present invention, particularly preferred as a photographically useful group is a development inhibitor.

【0049】現像抑制剤として好ましくは下記化24〜
化29に示す一般式(INH−1)〜(INH−13)
で表わされる基である。
As a development inhibitor, the following chemical formulas
General formulas (INH-1) to (INH-13) shown in Chemical formula 29
Is a group represented by

【0050】[0050]

【化24】 Embedded image

【0051】[0051]

【化25】 Embedded image

【0052】[0052]

【化26】 式中R21は水素原子または、置換もしくは無置換の炭化
水素基(例えばメチル、エチル、プロピル、フェニル)
を表わす。
Embedded image In the formula, R 21 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group (eg, methyl, ethyl, propyl, phenyl)
Represents

【0053】[0053]

【化27】 Embedded image

【0054】[0054]

【化28】 Embedded image

【0055】[0055]

【化29】 式中*は一般式(I)で表わされる化合物のL2 もしく
はL3 で表わされる基と結合する位置を表わす。
Embedded image In the formula, * represents a position at which the compound represented by the general formula (I) is bonded to the group represented by L 2 or L 3 .

【0056】また**は置換基と結合する位置を表わ
し、置換基としては、例えば置換もしくは無置換の脂肪
族基、アリール基、ヘテロ環基が挙げられ、写真処理時
に処理液中で分解する基がこれら置換基中に含まれてい
ることが好ましい。
Further, ** represents a position to be bonded to a substituent, and examples of the substituent include a substituted or unsubstituted aliphatic group, an aryl group and a heterocyclic group, which are decomposed in a processing solution during photographic processing. It is preferred that groups are included in these substituents.

【0057】具体的に脂肪族基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、デシル、イ
ソブチル、t−ブチル、2−エチルヘキシル、2−メチ
ルチオエチル、ベンジル、4−メトキシベンジル、フェ
ネチル、1−メトキシカルボニルエチル、プロピルオキ
シカルボニルメチル、メトキシカルボニル、フェノキシ
カルボニル、2−(プロピルオキシカルボニル)エチ
ル、ブチルオキシカルボニルメチル、ペンチルオキシカ
ルボニルメチル、2−シアノエチルオキシカルボニルメ
チル、2,2−ジクロロエチルオキシカルボニルメチ
ル、3−ニトロプロピルオキシカルボニルメチル、4−
ニトロベンジルオキシカルボニルメチル、2,5−ジオ
キソ−3,6−ジオキサデシル、−CO2 CH2 CO2
100 で表わされる基が挙げられる。
Specific examples of the aliphatic group include methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, decyl, isobutyl, t-butyl, 2-ethylhexyl, 2-methylthioethyl, benzyl, 4-methoxybenzyl, phenethyl, 1 -Methoxycarbonylethyl, propyloxycarbonylmethyl, methoxycarbonyl, phenoxycarbonyl, 2- (propyloxycarbonyl) ethyl, butyloxycarbonylmethyl, pentyloxycarbonylmethyl, 2-cyanoethyloxycarbonylmethyl, 2,2-dichloroethyloxycarbonyl Methyl, 3-nitropropyloxycarbonylmethyl, 4-
Nitrobenzyloxycarbonyl methyl, 2,5-dioxo-3,6-Jiokisadeshiru, -CO 2 CH 2 CO 2
Examples thereof include groups represented by R 100 .

【0058】ここでR100 は炭素数1ないし8の無置換
アルキル基を表わす。またアリール基としては、例えば
フェニル、ナフチル、4−メトキシカルボニルフェニ
ル、4−エトキシカルボニルフェニル、2−メチルチオ
フェニル、3−メトキシカルボニルフェニル、4−(2
−シアノエチルオキシカルボニル)−フェニルが挙げら
れる。
R 100 represents an unsubstituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl, naphthyl, 4-methoxycarbonylphenyl, 4-ethoxycarbonylphenyl, 2-methylthiophenyl, 3-methoxycarbonylphenyl, 4- (2
-Cyanoethyloxycarbonyl) -phenyl.

【0059】またヘテロ環基としては、例えば4−ピリ
ジル、3−ピリジル、2−ピリジル、2−フリル、2−
テトラヒドロピラニルが挙げられる。
Examples of the heterocyclic group include 4-pyridyl, 3-pyridyl, 2-pyridyl, 2-furyl, 2-
And tetrahydropyranyl.

【0060】これらの中でINHとして好ましくは(I
NH−1)、(INH−2)、(INH−3)、(IN
H−4)、(INH−9)および(INH−12)であ
り、特に好ましくは(INH−1)、(INH−2)お
よび(INH−3)である。
Of these, INH is preferably (I
NH-1), (INH-2), (INH-3), (IN
H-4), (INH-9) and (INH-12), particularly preferably (INH-1), (INH-2) and (INH-3).

【0061】またINHと結合する置換基として好まし
くは脂肪族基または置換もしくは無置換のフェニル基で
ある。
The substituent bonded to INH is preferably an aliphatic group or a substituted or unsubstituted phenyl group.

【0062】一般式(I)で表わされる化合物として特
に好ましくは以下一般式(Ia)もしくは(Ib)で表
わされる化合物である。 一般式(Ia) A−(L1 j −W−〔Z1 −(R11x )=Z2 (R
12y t−CH2 −PUG 一般式(Ib) A−L1 −N−(Z3 −PUG)2 式中の記号は一般式(I)、(T−L1 )および(T−
2 )と同義である。一般式(Ia)においてjは0ま
たは1が好ましい。一般式(Ia)および(Ib)にお
いてL1 としては−OC(=O)−基が好ましく、また
PUGとしては現像抑制剤が好ましい。
The compound represented by the general formula (I) is particularly preferably a compound represented by the following general formula (Ia) or (Ib). Formula (Ia) A- (L 1) j -W- [Z 1 - (R 11) x ) = Z 2 (R
12) y] t -CH 2 -PUG general formula (Ib) A-L 1 -N- (Z 3 -PUG) symbol 2 where the general formula (I), (T-L 1) and (T-
Synonymous with L 2 ). In the general formula (Ia), j is preferably 0 or 1. In formulas (Ia) and (Ib), L 1 is preferably a —OC (═O) — group, and PUG is preferably a development inhibitor.

【0063】ただし、複数の写真性有用基が異なる機能
のものである場合、タイミング基は分子内求核置換を利
用するものではない。
However, when a plurality of photographically useful groups have different functions, the timing group does not utilize intramolecular nucleophilic substitution.

【0064】またここで写真性有用基の機能とは現像抑
制剤、色素、カブラセ剤、現像薬、カプラー、漂白促進
剤、もしくは定着剤等が示す機能を意味する。
The function of the photographically useful group means the function exhibited by a development inhibitor, a dye, a fogging agent, a developing agent, a coupler, a bleaching accelerator or a fixing agent.

【0065】さらに、同一化合物中から放出される2つ
以上のPUGは同一現像抑制剤であることが特に好まし
い。
Further, it is particularly preferable that two or more PUGs released from the same compound are the same development inhibitor.

【0066】次に一般式(II)で表わされる化合物につい
て説明する。一般式(II)においてAとPUGは一般式
(I)と同義である。L4 は−OCO−基、−OSO−
基、−OSO2 −基、−OCS−基、−SCO−基、−
SCS−基または−WCR1112−基を表わす。ここで
W、R11およびR12は一般式(I)で表わされる化合物
のL1 の説明における一般式(T−1)中の定義と同義
である。
Next, the compound represented by formula (II) will be described. In the general formula (II), A and PUG have the same meaning as in the general formula (I). L 4 is a —OCO— group, —OSO—
Group, -OSO 2 - group, -OCS- group, -SCO- group, -
SCS- group or -WCR 11 R 12 - represents a group. Here, W, R 11 and R 12 have the same meaning as defined in formula (T-1) in the description of L 1 of the compound represented by formula (I).

【0067】L4 が−WCR1112−基を表わすときの
好ましい例としてはWが酸素原子または3級アミノ基を
表わすときであり、さらに好ましくはL4 が−OCH2
−基またはWとR11もしくはR12が環を形成する基を表
わす場合である。
When L 4 represents a --WCR 11 R 12 --group, a preferred example is when W represents an oxygen atom or a tertiary amino group, more preferably L 4 represents --OCH 2-.
A group or W and R 11 or R 12 represents a group forming a ring.

【0068】またL4 が−WCR1112−以外の基を表
わす場合好ましくは−OCO−基、−OSO−基、−O
SO2 −基であり、特に好ましくは−OCO−基であ
る。
[0068] The L 4 is -WCR 11 R 12 - preferably -OCO- group may represent a group other than, -OSO- group, -O
SO 2 - is a group, particularly preferably -OCO- group.

【0069】L5 で表わされる基は、共役系に沿った電
子移動でPUGを放出する基もしくはL4 で定義される
基を表わす。共役系に沿った電子移動によりPUGを放
出する基は一般式(I)のL1 の説明の中の一般式(T
−3)で表わされる基と同義である。L5 として好まし
くは共役系に沿った電子移動によりPUGを放出する基
であり、さらに好ましくは窒素原子でL4 と結合しうる
基である。
The group represented by L 5 represents a group which releases PUG by electron transfer along the conjugated system or a group defined by L 4 . The group which releases PUG by electron transfer along a conjugated system general formula formula within the description of the L 1 of (I) (T
-3) has the same meaning as the group represented by. L 5 is preferably a group which releases PUG by electron transfer along a conjugated system, and more preferably a group which can be bonded to L 4 by a nitrogen atom.

【0070】一般式(II)で表わされる化合物のうち好ま
しいものは下記化30に示す一般式(III)もしくは下記
化31に示す一般式(IV)で表わされる化合物である。
Among the compounds represented by the general formula (II), preferred are compounds represented by the general formula (III) shown in the following chemical formula 30 or the general formula (IV) shown in the following chemical formula 31.

【0071】[0071]

【化30】 式中Aは一般式(I)と同義である。R101 とR102
それぞれ独立に水素原子もしくは置換基を表わす。R
103 とR104 はそれぞれ独立に水素原子もしくは置換基
を表わす。INHは現像抑制能を有する基を表わす。R
105 は無置換のフェニル基もしくは1級アルキル基また
はアリール基以外の基で置換された1級アルキル基を表
わす。ただしR101 〜R104 のうち少なくとも1つは水
素原子以外の置換基である。
Embedded image In the formula, A has the same meaning as in formula (I). R 101 and R 102 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. R
103 and R 104 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. INH represents a group having a development inhibiting ability. R
105 represents an unsubstituted phenyl group or a primary alkyl group or a primary alkyl group substituted with a group other than an aryl group. However, at least one of R 101 to R 104 is a substituent other than a hydrogen atom.

【0072】[0072]

【化31】 一般式 (III)で表わされる化合物について更に詳しく説
明する。
Embedded image The compound represented by formula (III) will be described in more detail.

【0073】一般式 (III)においてAは一般式(I)同
義である。R101 およびR102 はそれぞれ独立に水素原
子もしくは置換基を表わす。置換基として具体的にはア
リール基( フェニル、ナフチル、p−メトキキフェニ
ル、p−ヒドロキシフェニル、p−ニトロフェニル、o
−クロロフェニルなど)、アルキル基(メチル、エチ
ル、イソプロピル、プロピル、tert−ブチル、te
rt−アミル、イソブチル、sec−ブチル、オクチ
ル、メトキシメチル、1−メトキシエチル、2−クロロ
エチルなど)、ハロゲン原子(フルオロ、クロロ、ブロ
モ、ヨード)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、イ
ソプロピルオキシ、プロピルオキシ、tert−ブチル
オキシ、イソブチルオキシ、ブチルオキシ、オクチルオ
キシ、2−メトキシエトキシ、2−クロロエトキシ、ニ
トロメチル、2−シアノエチル、2−カルバモイルエチ
ル、または2−ジメチルカルバモイルエチルなど)、ア
リールオキシ基(フェノキシ、ナフトキシ、またはp−
メトキシフェノキシなど)、アルキルチオ基(メチルチ
オ、エチルチオ、イソプロピルチオ、プロピルチオ、t
ert−ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチル
チオ、オクチルチオまたは2−メトキシエチルチオな
ど)アリールチオ基(フェニルチオ、ナフチルチオ、ま
たはp−メトキシフェニルチオなど)、アミノ基(アミ
ノ、メチルアミノ、フェニルアミノ、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、またはフェニ
ルメチルアミノなど)、カルバモイル基(カルバモイ
ル、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエ
チルカルバモイル、ジイソプロピルカルバモイル、エチ
ルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、tert
−ブチルカルバモイル、フェニルカルバモイルまたはフ
ェニルメチルカルバモイルなど)、スルファモイル基
(スルファモイル、メチルスルファモイル、エチルスル
ファモイル、イソプロピルスルファモイル、フェニルス
ルファモイル、オクチルスルファモイル、ジメチルスル
ファモイル、ジエチルスルファモイル、ジイソプロピル
スルファモイル、ジヘキシルスルファモイル、またはフ
ェニルメチルスルファモイルなど)、アルコキシカルボ
ニル(メトキシカルボニル、プロピルオキシカルボニ
ル、イソプロピルオキシカルボニル、tert−ブチル
オキシカルボニル、tert−アミルオキシカルボニ
ル、またはオクチルオキシカルボニルなど)、アリール
オキシカルボニル(フェノキシカルボニルまたはp−メ
トキシフェノキシカルボニルなど)、アシルアミノ基
(アセチルアミノ、プロパノイルアミノ、ペンタノイル
アミノ、N−メチルアセチルアミノ、またはベンゾイル
アミノなど)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミ
ド、エタンスルホンアミド、ペンタンスルホンアミド、
ベンゼンスルホンアミドまたはp−トルエンスルホンア
ミドなど)、アルコキシカルボニルアミノ基(メトキシ
カルボニルアミノ、イソプロピルオキシカルボニルアミ
ノ、tert−ブトキシカルボニルアミノまたはヘキシ
ルオキシカルボニルアミノなど)、アリールオキシカル
ボニルアミノ基(フェノキシカルボニルアミノなど)、
ウレイド基(3−メチルウレイド、または3−フェニル
ウレイドなど)、シアノ基もしくはニトロ基などが挙げ
られる。
In the general formula (III), A has the same meaning as in the general formula (I). R 101 and R 102 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Specific examples of the substituent include an aryl group (phenyl, naphthyl, p-methoxyphenyl, p-hydroxyphenyl, p-nitrophenyl, o
-Chlorophenyl, etc.), alkyl groups (methyl, ethyl, isopropyl, propyl, tert-butyl, te
rt-amyl, isobutyl, sec-butyl, octyl, methoxymethyl, 1-methoxyethyl, 2-chloroethyl, etc.), halogen atom (fluoro, chloro, bromo, iodo), alkoxy group (methoxy, ethoxy, isopropyloxy, propyloxy) , Tert-butyloxy, isobutyloxy, butyloxy, octyloxy, 2-methoxyethoxy, 2-chloroethoxy, nitromethyl, 2-cyanoethyl, 2-carbamoylethyl, or 2-dimethylcarbamoylethyl), an aryloxy group (phenoxy, naphthoxy). , Or p-
Methoxyphenoxy, etc.), alkylthio groups (methylthio, ethylthio, isopropylthio, propylthio, t
ert-butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, octylthio or 2-methoxyethylthio, etc.) arylthio group (phenylthio, naphthylthio, or p-methoxyphenylthio, etc.), amino group (amino, methylamino, phenylamino, dimethylamino,
Diethylamino, diisopropylamino, phenylmethylamino, etc.), carbamoyl group (carbamoyl, methylcarbamoyl, dimethylcarbamoyl, diethylcarbamoyl, diisopropylcarbamoyl, ethylcarbamoyl, isopropylcarbamoyl, tert.
-Butylcarbamoyl, phenylcarbamoyl or phenylmethylcarbamoyl etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl, methylsulfamoyl, ethylsulfamoyl, isopropylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, octylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, diethylsulfamoyl) Famoyl, diisopropylsulfamoyl, dihexylsulfamoyl, phenylmethylsulfamoyl, etc.), alkoxycarbonyl (methoxycarbonyl, propyloxycarbonyl, isopropyloxycarbonyl, tert-butyloxycarbonyl, tert-amyloxycarbonyl, or octyl) Oxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl (phenoxycarbonyl or p-methoxyphenoxycarbo) Le etc.), an acylamino group (an acetylamino, propanoylamino, pentanoylamino, N- methyl acetylamino, or benzoylamino, etc.), a sulfonamido group (methanesulfonamido, ethanesulfonamide, pentane sulfonamide,
Benzenesulfonamide or p-toluenesulfonamide), an alkoxycarbonylamino group (methoxycarbonylamino, isopropyloxycarbonylamino, tert-butoxycarbonylamino or hexyloxycarbonylamino, etc.), an aryloxycarbonylamino group (phenoxycarbonylamino, etc.) ,
Examples thereof include a ureido group (3-methylureido, 3-phenylureido, etc.), a cyano group, a nitro group and the like.

【0074】R101 とR102 は同じでも異なっていても
よいが、両者の式量の和が120未満であることが好ま
しい。また好ましい置換基としてはアルキル基、ハロゲ
ン原子、アルコキシ基が挙げられ、特に好ましくはアル
キル基である。
R 101 and R 102 may be the same or different, but the sum of the formula weights of both is preferably less than 120. Examples of preferable substituents include an alkyl group, a halogen atom and an alkoxy group, and an alkyl group is particularly preferable.

【0075】一般式 (III)においてR103 とR104 で表
わされる基はそれぞれ独立に水素原子もしくはアルキル
基を表わす。アルキル基としてはメチル、エチル、イソ
プロピル、tert−ブチル、イソブチル、ヘキシル、
または2−メトキシエチルなどが挙げられる。R103
よびR104 として好ましくは水素原子、メチル基、もし
くはエチル基であり、特に好ましくは水素原子である。
In formula (III), the groups represented by R 103 and R 104 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group. As the alkyl group, methyl, ethyl, isopropyl, tert-butyl, isobutyl, hexyl,
Alternatively, 2-methoxyethyl and the like can be mentioned. R 103 and R 104 are preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.

【0076】一般式 (III)においてR105 で表わされる
基は無置換のフェニル基もしくは1級アルキル基、また
はアリール基以外の基で置換された1級アルキル基を表
わす。アルキル基としてはエチル、プロピル、ブチル、
イソブチル、ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチ
ル、ヘキシル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチ
ル、4−メチルペンチル、2−エチルブチル、ヘプチ
ル、またはオクチルなどが挙げられる。置換基として
は、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキ
シカルボニル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
アルコキシカルボニルアミノ基、ウレイド基、シアノ
基、ニトロ基、もしくは−CO2 CH2 CO2 106
表わされる基などが挙げられ、それぞれの基の具体例と
してはR101 およびR102 の置換基で挙げられたものの
中でアリール基を含む基を除いたものなどが挙げられ
る。
In formula (III), the group represented by R 105 represents an unsubstituted phenyl group or a primary alkyl group, or a primary alkyl group substituted with a group other than an aryl group. As the alkyl group, ethyl, propyl, butyl,
Examples thereof include isobutyl, pentyl, isopentyl, 2-methylbutyl, hexyl, 2-methylpentyl, 3-methylpentyl, 4-methylpentyl, 2-ethylbutyl, heptyl, octyl and the like. As the substituent, a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an alkoxycarbonyl group, an acylamino group, a sulfonamide group,
Examples thereof include an alkoxycarbonylamino group, a ureido group, a cyano group, a nitro group, and a group represented by —CO 2 CH 2 CO 2 R 106. Specific examples of each group include a substituent of R 101 and R 102. Among those mentioned, those excluding a group containing an aryl group can be mentioned.

【0077】またR106 は炭素数3ないし6の無置換ア
ルキル基(プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、
イソペンチル、ヘキシルなど)を表わす。
R 106 is an unsubstituted alkyl group having 3 to 6 carbon atoms (propyl, butyl, isobutyl, pentyl,
Isopentyl, hexyl, etc.).

【0078】さらにR105 は2種類以上の置換基で置換
されていてもよい。R105 の置換基として好ましくはフ
ルオロ、クロロ、アルコキシ基、アルバモイル基、アル
コキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、もしくは−
CO2 CH2 CO2 106 である。これらのうちで特に
好ましくはアルコキシカルボニル基、もしくは−CO2
CH2 CO2 106 基である。
Further, R 105 may be substituted with two or more kinds of substituents. The substituent of R 105 is preferably fluoro, chloro, alkoxy group, alvamoyl group, alkoxycarbonyl group, cyano group, nitro group, or-.
CO 2 CH 2 CO 2 R 106 . Of these, particularly preferred is an alkoxycarbonyl group or -CO 2
CH 2 CO 2 R 106 group.

【0079】またR105 として好ましくはフェニル基、
もしくは炭素数2ないし6の1級無置換アルキル基、ま
たは前述したR105 の好ましい置換基として挙げた基に
より置換された1級アルキル基である。特に好ましくは
炭素数3ないし5の1級無置換アルキル基またはアルコ
キシカルボニル基で置換された1級アルキル基である。
R 105 is preferably a phenyl group,
Alternatively, it is a primary unsubstituted alkyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a primary alkyl group substituted by the groups listed as the above-mentioned preferred substituents of R 105 . Particularly preferred is a primary unsubstituted alkyl group having 3 to 5 carbon atoms or a primary alkyl group substituted with an alkoxycarbonyl group.

【0080】一般式 (III)においてINHで表わされる
基は、現像抑制能を有する基を表わし、その具体例は一
般式(I)のPUGの説明で挙げた(INH−1)〜
(INH−13)である。その好ましい範囲等も一般式
(I)と同じである。
The group represented by INH in the general formula (III) represents a group having a development inhibiting ability, and specific examples thereof are (INH-1) to (INH-1) mentioned in the description of the PUG of the general formula (I).
(INH-13). The preferable range and the like are also the same as those in the general formula (I).

【0081】一般式 (IV) で表わされる化合物について
詳しく説明する。
The compound represented by formula (IV) will be described in detail.

【0082】一般式 (IV) において、A、INH、およ
びR105 は一般式 (III)と同義である。
In the general formula (IV), A, INH, and R 105 have the same meanings as in the general formula (III).

【0083】R111 、R112 およびR113 はそれぞれ水
素原子もしくは有機残基を表わし、R111 、R112 およ
びR113 の任意の2つの2価基となって連結し、環を形
成してもよい。
R 111 , R 112 and R 113 each represent a hydrogen atom or an organic residue, and when two arbitrary divalent groups of R 111 , R 112 and R 113 are linked together to form a ring. Good.

【0084】前記R111 、R112 およびR113それぞれ
が水素原子もしくは、1価の有機基を表わす場合につい
て説明する。
The case where each of R 111 , R 112 and R 113 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group will be described.

【0085】R112 およびR113 が1価の有機基を表わ
す場合、有機基としてはアルキル基(メチル、エチルな
ど)もしくはアリール基(フェニルなど)が好ましい。
112 およびR113 として好ましくは少なくともいずれ
かが水素原子である場合であり、特に好ましくはR112
とR113 が水素原子であるときである。
When R 112 and R 113 represent a monovalent organic group, the organic group is preferably an alkyl group (methyl, ethyl etc.) or an aryl group (phenyl etc.).
R 112 and R 113 are preferably a case where at least one is a hydrogen atom, and particularly preferably R 112.
And R 113 is a hydrogen atom.

【0086】R111 は有機基を表わし好ましくは以下に
挙げる基である。アルキル基(例え波メチル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、sec
−ブチル、ネオペンチル、ヘキシル)、アリール基(例
えばフェニル)、アシル基(例えばアセチル、ベンゾイ
ル)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル、ベンゼ
ンスルホニル)、カルバモイル基(例えばエチルカルバ
モイル、フェニルカルバモイル)、スルファモイル基
(例えばエチルスルファモイル、フェニルスルファモイ
ル),アルコキシカルボニル基(例えばエトキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル)、アリールオキシカルボニ
ル基(例えばフェノキシカルボニル、4−メチルフェノ
キシカルボニル)、アルコキシスルホニル基(例えばブ
トキシスルホニル、エトキシスルホニル)、アリールオ
キシスルホニル基(例えばフェノキシスルホニル、4−
メトキシフェノキシスルホニル)、シアノ基、ニトロ
基、ニトロソ基、チオアシル基(例えばチオアセチル、
チオベンゾイル)、チオカルバモイル基(例えばエチル
チオカルバモイルなど)、イミドイル基(例えばN−エ
チルイミドイル)、アミノ基(例えばアミノ、ジメチル
アミノ、メチルアミノ)、アシルアミノ基(例えばホル
ミルアミノ、アセチルアミノ、N−メチルアセチルアミ
ノ)、アルコキシ基(例えばメトキシ、イソプロピルオ
キシ)、またはアリールオキシ基(例えばフェノキシ)
である。
R 111 represents an organic group and is preferably the following groups. Alkyl groups (eg wave methyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, sec
-Butyl, neopentyl, hexyl), aryl groups (eg phenyl), acyl groups (eg acetyl, benzoyl), sulfonyl groups (eg methanesulfonyl, benzenesulfonyl), carbamoyl groups (eg ethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl), sulfamoyl groups (eg Ethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl), alkoxycarbonyl group (eg ethoxycarbonyl, butoxycarbonyl), aryloxycarbonyl group (eg phenoxycarbonyl, 4-methylphenoxycarbonyl), alkoxysulfonyl group (eg butoxysulfonyl, ethoxysulfonyl). , An aryloxysulfonyl group (eg, phenoxysulfonyl, 4-
Methoxyphenoxysulfonyl), cyano group, nitro group, nitroso group, thioacyl group (eg thioacetyl,
Thiobenzoyl), thiocarbamoyl group (eg ethylthiocarbamoyl), imidoyl group (eg N-ethylimidoyl), amino group (eg amino, dimethylamino, methylamino), acylamino group (eg formylamino, acetylamino, N) -Methylacetylamino), alkoxy groups (eg methoxy, isopropyloxy), or aryloxy groups (eg phenoxy)
It is.

【0087】またこれらの基は更に置換基を有していて
もよく、置換基としてはR111 として挙げた基のほか、
ハロゲン原子(フルオロ、クロロ、ブロモなど)、カル
ボキシル基、スルホ基などが挙げられる。
Further, these groups may further have a substituent, and as the substituent, in addition to the groups listed as R 111 ,
Examples thereof include a halogen atom (fluoro, chloro, bromo, etc.), a carboxyl group, a sulfo group and the like.

【0088】R111 としては、水素原子以外の原子の数
が15以下であることが好ましい。
As R 111 , the number of atoms other than hydrogen atoms is preferably 15 or less.

【0089】またR111 として更に好ましくは、置換も
しくは無置換のアルキル基もしくはアリール基であり、
特に好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基であ
る。
Further, R 111 is more preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group,
A substituted or unsubstituted alkyl group is particularly preferable.

【0090】次に、R111 、R112 およびR113 で表わ
される基において、これらのうちの任意の2つが2価基
となって連結し、環を形成する場合について説明する。
Next, in the groups represented by R 111 , R 112 and R 113 , a case where any two of these groups are combined as a divalent group to form a ring will be described.

【0091】形成する環の大きさとしては、4ないし8
員環が好ましく、より好ましくは4ないし6員環を形成
する場合である。
The size of the ring formed is 4 to 8
A member ring is preferable, and a case where a 4- or 6-membered ring is formed is more preferable.

【0092】2価基として好ましくは以下に挙げる基で
ある。
The divalent group is preferably the following groups.

【0093】−C(=O)−N(R114 )−、−SO2
−N(R114 )−、−(CH2 3 −、−(CH2 4
−、−(CH2 5 −、−C(=O)−(CH2
2 −、−C(=O)−N(R114 )−C(=O)−、−
SO2 −N(R114 )−C(=O)−、−C(=O)−
C(R114 )(R115)−、−(CH2 2 −O−CH
2 −である。
-C (= O) -N (R 114 )-, -SO 2
-N (R 114) -, - (CH 2) 3 -, - (CH 2) 4
-, - (CH 2) 5 -, - C (= O) - (CH 2)
2- , -C (= O) -N ( R114 ) -C (= O)-,-
SO 2 -N (R 114) -C (= O) -, - C (= O) -
C (R 114) (R 115 ) -, - (CH 2) 2 -O-CH
2- .

【0094】ここで、R114 およびR115 は水素原子も
しくはR111 が1価の有機基を表わす場合と同義であ
り、R114 とR115 は同じであっても異なっていてもよ
い。
[0094] Here, R 114 and R 115 are as defined when the hydrogen atom or R 111 represents a monovalent organic group, R 114 and R 115 may be different even in the same.

【0095】R111 、R112 、R113 のうち2価基とし
て参与しない残りの基は、水素原子もしくは1価の有機
基を表わし、有機基の具体例等は環を形成しない場合に
示したR111 、R112 、R113 の場合と同じである。R
111 、R112 、R113 のうちの任意の2つが結合し、環
を形成する場合、好ましくはR112 とR113 のいずれか
が水素原子であり、残りのR112 ないしR113 がR111
と環を形成する場合であり、更に好ましくは先に挙げた
2価基の左端が一般式(I)の窒素原子と結合し、右端
が炭素原子と結合する場合である。
The remaining groups of R 111 , R 112 and R 113 that do not participate as a divalent group represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and specific examples of the organic group are shown when no ring is formed. R 111, is the same as that of R 112, R 113. R
When any two of 111 , R 112 and R 113 are combined to form a ring, preferably either R 112 or R 113 is a hydrogen atom and the remaining R 112 to R 113 are R 111.
To form a ring, and more preferably, the left end of the divalent group mentioned above is bonded to the nitrogen atom of the general formula (I) and the right end thereof is bonded to a carbon atom.

【0096】またR111 、R112 、R113 として好まし
くは環を形成せずそれぞれが水素原子もしくは1価の有
機基を表わす場合である。
Further, R 111 , R 112 and R 113 preferably do not form a ring and each represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

【0097】一般式(I)および(II)においてAとPU
Gで表わされる基を除いた残基の式量は64以上240
以下であることが好ましく、更に好ましくは70以上2
00以下であり、特に好ましくは90以上180以下で
ある。式量が小さすぎると、実質的な2段タイミングに
することが困難であり、式量が大きいとタイミングの調
節は容易になるが、膜中の拡散性が低くなり、それによ
る隣接現像効果(エッジ効果)と層間効果の減少をもた
らす。
In the general formulas (I) and (II), A and PU
The formula weight of the residue excluding the group represented by G is 64 or more and 240
It is preferably the following or less, more preferably 70 or more and 2
It is 00 or less, and particularly preferably 90 or more and 180 or less. If the formula weight is too small, it is difficult to achieve a substantially two-stage timing, and if the formula weight is large, the timing can be adjusted easily, but the diffusivity in the film becomes low, and the adjacent development effect ( Edge effect) and reduction of interlayer effect.

【0098】以下に本発明の一般式(I)〜(IV)で表わ
される化合物の具体例を下記化32〜化66に示すが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。
Specific examples of the compounds represented by the general formulas (I) to (IV) of the present invention are shown below in Chemical Formulas 32 to 66.
The present invention is not limited by these.

【0099】なお、一般式(I)においてAがカプラー
残基を表わすものについては(CA)を頭に付けた番号
で、一般式(II)〜(IV)においてAがカプラー残基を表わ
すものについては(CB)を頭に付けた番号で、一般式
(I)〜(IV)においてAが酸化還元基を表わすものにつ
いては(SA)を頭に付けた番号で示した。
The compounds represented by the general formula (I) in which A represents a coupler residue have a number prefixed with (CA), and the compounds represented by the general formulas (II) to (IV) in which A represents a coupler residue. Is indicated by a number prefixed with (CB), and those represented by general formulas (I) to (IV) in which A represents a redox group are indicated by a number prefixed with (SA).

【0100】[0100]

【化32】 Embedded image

【0101】[0101]

【化33】 Embedded image

【0102】[0102]

【化34】 Embedded image

【0103】[0103]

【化35】 Embedded image

【0104】[0104]

【化36】 Embedded image

【0105】[0105]

【化37】 Embedded image

【0106】[0106]

【化38】 Embedded image

【0107】[0107]

【化39】 Embedded image

【0108】[0108]

【化40】 Embedded image

【0109】[0109]

【化41】 Embedded image

【0110】[0110]

【化42】 Embedded image

【0111】[0111]

【化43】 Embedded image

【0112】[0112]

【化44】 Embedded image

【0113】[0113]

【化45】 Embedded image

【0114】[0114]

【化46】 Embedded image

【0115】[0115]

【化47】 Embedded image

【0116】[0116]

【化48】 Embedded image

【0117】[0117]

【化49】 Embedded image

【0118】[0118]

【化50】 Embedded image

【0119】[0119]

【化51】 Embedded image

【0120】[0120]

【化52】 Embedded image

【0121】[0121]

【化53】 Embedded image

【0122】[0122]

【化54】 Embedded image

【0123】[0123]

【化55】 Embedded image

【0124】[0124]

【化56】 Embedded image

【0125】[0125]

【化57】 Embedded image

【0126】[0126]

【化58】 Embedded image

【0127】[0127]

【化59】 Embedded image

【0128】[0128]

【化60】 Embedded image

【0129】[0129]

【化61】 Embedded image

【0130】[0130]

【化62】 Embedded image

【0131】[0131]

【化63】 Embedded image

【0132】[0132]

【化64】 Embedded image

【0133】[0133]

【化65】 Embedded image

【0134】[0134]

【化66】 本発明の化合物の合成は、例えば米国特許第4,84
7,383号、同4,770,990号、同4,68
4,604号、同4,886,736号、特開昭60−
218645号、同61−230135号、特開平2−
37070号、同2−170832号、および同2−2
51192号に記載の方法もしくは類似の方法を利用す
ることができる。
Embedded image The synthesis of the compounds of the present invention is described, for example, in US Pat.
7,383, 4,770,990, 4,68
4,604, 4,886,736, JP-A-60-
218645, 61-230135, JP-A-2-
37070, 2-170832, and 2-2.
The method described in 51192 or a similar method can be used.

【0135】以下に具体的合成例について述べる。Specific synthetic examples will be described below.

【0136】(合成例1)例示化合物(CA−1)の合
成 下記化67に示す合成ルートにより合成した。
(Synthesis Example 1) Synthesis of Exemplified Compound (CA-1) The compound was synthesized by the synthetic route shown in Chemical Formula 67 below.

【0137】[0137]

【化67】 CA−1a(3.40g)を塩化チオニル(30ml)
中60℃で1時間反応させた後過剰の塩化チオニルを減
圧下留去した。この残渣をCA−1b(7.48g)と
ジイソプロピルエチルアミン(10.5ml)のジメチ
ルホルムアミド溶液(0℃)に加え1時間攪拌した。そ
の後この溶液を水(500ml)中にあけ生じた結晶を
濾取することによりCA−1cを粗結晶として9.8g
得た。構造はNMRにより確認した。
Embedded image CA-1a (3.40 g) was thionyl chloride (30 ml)
After reacting at 60 ° C for 1 hour, excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure. This residue was added to a solution of CA-1b (7.48 g) and diisopropylethylamine (10.5 ml) in dimethylformamide (0 ° C), and the mixture was stirred for 1 hour. Then, this solution was poured into water (500 ml) and the resulting crystals were collected by filtration to obtain 9.8 g of CA-1c as crude crystals.
Obtained. The structure was confirmed by NMR.

【0138】CA−1c(3.20g)とCA−1d
(1.38g)を1,2−ジクロロエタン(30ml)
中で1時間反応させた。そこに、CA−1e(3.20
g)の酢酸エチル(20ml)溶液を水冷下で加え、続
いてジイソプロピルエチルアミン(4.5ml)を加え
た後1時間攪拌した。
CA-1c (3.20 g) and CA-1d
(1.38 g) of 1,2-dichloroethane (30 ml)
The reaction was carried out for 1 hour. There, CA-1e (3.20
A solution of g) in ethyl acetate (20 ml) was added under water cooling, diisopropylethylamine (4.5 ml) was added subsequently, and the mixture was stirred for 1 hour.

【0139】1規定塩酸で反応を止め、クロロホルム
(30ml)を加え反応液を希釈した。その後反応液を
水で3回水洗し、有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。有機溶媒を留去して得られた油状物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ヘキサン=1:
5)にて精製することにより例示化合物CA−1を1.
20g得た。構造はNMRにより確認した。m.p.1
33.0〜134.0℃。
The reaction was stopped with 1N hydrochloric acid, and chloroform (30 ml) was added to dilute the reaction solution. After that, the reaction solution was washed with water three times, and the organic layer was dried over sodium sulfate. The oily substance obtained by distilling off the organic solvent was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-hexane = 1: 1).
Exemplified compound CA-1 was purified by 1.
20 g was obtained. The structure was confirmed by NMR. m. p. 1
33.0-134.0 ° C.

【0140】(合成例2)例示化合物(CA−12)の
合成 下記化68に示す化合物ルートにより合成した。
(Synthesis Example 2) Synthesis of Exemplified Compound (CA-12) It was synthesized by the compound route shown in the following Chemical Formula 68.

【0141】[0141]

【化68】 CA−12a(10.7g)と37%ホルマリン水溶液
(30ml)を酢酸(100ml)中70℃で5時間反
応させた後、溶媒を減圧下で留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ヘキサン=
2:1)にて精製することによりCA−12bを6.4
g(収率53%)得た。
Embedded image CA-12a (10.7 g) was reacted with 37% aqueous formalin solution (30 ml) in acetic acid (100 ml) at 70 ° C. for 5 hours, and the solvent was evaporated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-hexane =
CA-12b was purified to 6.4 by 2: 1).
g (yield 53%) was obtained.

【0142】次に、CA−12b(3.2g)とCA−
12c(2.1g)をクロロホルム(40ml)に懸濁
させ、そこにヨウ化亜鉛(5.7g)を加え室温で2時
間反応させた。1N塩酸で反応を止めクロロホルム40
mlで希釈した後反応液を水で2回洗浄した。有機層を
硫酸ナトリウムで乾燥・濃縮後得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ヘキサン=
1:4)にて精製することにより例示化合物(CA−1
2)を4.1g(収率25%)得た。構造はNMR、マ
ス、元素分析により確認した。
Next, CA-12b (3.2 g) and CA-
12c (2.1 g) was suspended in chloroform (40 ml), zinc iodide (5.7 g) was added thereto, and the mixture was reacted at room temperature for 2 hours. Stop the reaction with 1N hydrochloric acid and chloroform 40
After diluting with ml, the reaction solution was washed twice with water. The residue obtained after drying and concentrating the organic layer with sodium sulfate was subjected to silica gel column chromatography (ethyl acetate-hexane =
Example compound (CA-1
4.1 g (yield 25%) of 2) was obtained. The structure was confirmed by NMR, mass and elemental analysis.

【0143】(合成例3)例示化合物(CB−2)の合
成 下記化69に示す合成ルートにより合成した。
(Synthesis Example 3) Synthesis of Exemplified Compound (CB-2) The compound was synthesized by the synthetic route shown in Chemical Formula 69 below.

【0144】[0144]

【化69】 CB−2a(10mmol)をクロロホルム(30m
l)に懸濁させ、そこに塩化チオニル(20mmol)
を加え50℃で1時間反応させた後溶媒を留去する。こ
こで得られた残渣をCB−2b(10mmol)とジイ
ソプロピルエチルアミン(20mmol)のジメチルホ
ルムアミド(30ml)溶液に加え1時間反応させた後
氷水(200ml)中にあける。クロロホルム50ml
を加え攪拌した後水相を分離し、有機層を水(100m
l)で更に2回洗浄した後硫酸ナトリウムで乾燥し濃縮
することによりCB−2cを得た。
Embedded image CB-2a (10 mmol) was added to chloroform (30 m
l) and suspended therein, thionyl chloride (20 mmol)
Is added and reacted at 50 ° C. for 1 hour, and then the solvent is distilled off. The residue obtained here was added to a solution of CB-2b (10 mmol) and diisopropylethylamine (20 mmol) in dimethylformamide (30 ml), reacted for 1 hour, and then poured into ice water (200 ml). 50 ml of chloroform
After adding and stirring, the aqueous phase was separated and the organic layer was washed with water (100 m
CB-2c was obtained by further washing twice with l), drying over sodium sulfate and concentrating.

【0145】得られたCB−2cをクロロホルム(30
ml)に溶かし、そこにクロロ炭酸ニトロフェニル(1
0mmol)を加え1時間反応させた後CB−2d(1
0mmol)の酢酸エチル(50ml)溶液を加え、更
にジイソプロピルエチルアミン(50mmol)を加え
た後1時間反応させる。1N液酸(10ml)を加え反
応を止めた後酢酸エチル(10ml)で希釈する。有機
層は水で洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮する。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出
液:酢酸エチル−ヘキサン=1:3)にて精製すること
により例示化合物CB−2を1.94g(23%収率)
得る。m.p.101.5〜102.5℃。
The CB-2c thus obtained was mixed with chloroform (30
nitrophenyl chlorocarbonate (1 ml).
0 mmol) was added and reacted for 1 hour, and then CB-2d (1
A solution of 0 mmol) in ethyl acetate (50 ml) is added, diisopropylethylamine (50 mmol) is further added, and the mixture is reacted for 1 hour. The reaction was stopped by adding 1N liquid acid (10 ml) and then diluted with ethyl acetate (10 ml). The organic layer is washed with water, dried over sodium sulfate, and concentrated. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: ethyl acetate-hexane = 1: 3) to give 1.94 g (23% yield) of Exemplified compound CB-2.
obtain. m. p. 101.5-102.5 ° C.

【0146】(合成例4)例示化合物CB−3の合成 下記化70に示す合成ルートにて合成した。(Synthesis Example 4) Synthesis of Exemplified Compound CB-3 It was synthesized according to the synthetic route shown in Chemical Formula 70 below.

【0147】[0147]

【化70】 (CB−3a)を原料として例示化合物CB−2と同様
の方法により合成することができる。収率31%。m.
p.68.0〜69.0℃。
Embedded image It can be synthesized using (CB-3a) as a raw material by the same method as for the exemplified compound CB-2. Yield 31%. m.
p. 68.0-69.0 ° C.

【0148】(合成例5)例示化合物(CB−11)の
合成 下記化71に示す合成ルートにより合成した。
(Synthesis Example 5) Synthesis of Exemplified Compound (CB-11) The compound was synthesized by the synthetic route shown in Chemical Formula 71 below.

【0149】[0149]

【化71】 (CB−11a)200gと(CB−11b)34.7
gを酢酸エチル(500ml)に溶解し、そこにジイソ
プロピルエチルアミン(142ml)を加え、4時間攪
拌した。析出した結晶を濾取し酢酸エチルで洗浄するこ
とにより(CB−11c)を176g(75%)得た。
Embedded image (CB-11a) 200g and (CB-11b) 34.7
g was dissolved in ethyl acetate (500 ml), diisopropylethylamine (142 ml) was added thereto, and the mixture was stirred for 4 hours. The precipitated crystals were collected by filtration and washed with ethyl acetate to obtain 176 g (75%) of (CB-11c).

【0150】(CB−11c)53.6gとパラホルム
アルデヒド(27.9g)を1,2−ジクロロエタン
(500ml)と酢酸(54ml)の混合液中還流下4
時間反応させた。室温に冷却後、反応液を水洗し無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣をクロ
ロホルムを溶出液とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製することにより(CB−11d)を2
3.2g(41.2%)得た。
53.6 g of (CB-11c) and paraformaldehyde (27.9 g) were refluxed in a mixed solution of 1,2-dichloroethane (500 ml) and acetic acid (54 ml) under reflux.
Allowed to react for hours. After cooling to room temperature, the reaction solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography using chloroform as an eluent to give (CB-11d) 2
Obtained 3.2 g (41.2%).

【0151】(CB−11d)23.2gと(CB−1
1e)6.78gをクロロホルム(250ml)に溶解
し、そこに沃化亜鉛26.88gを加え、3時間攪拌し
た。1N塩酸を加えた後反応液を水洗した。有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル−ヘキサ
ン=1:4)にて精製することにより例示化合物(CB
−11)を7.0g(23.9%)得た。m.p.11
7.0〜118.5℃。
(CB-11d) 23.2 g and (CB-1
6.78 g of 1e) was dissolved in chloroform (250 ml), 26.88 g of zinc iodide was added thereto, and the mixture was stirred for 3 hours. After adding 1N hydrochloric acid, the reaction solution was washed with water. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate-hexane = 1: 4) to give the exemplified compound (CB
-11) was obtained in an amount of 7.0 g (23.9%). m. p. 11
7.0 to 118.5 ° C.

【0152】(合成例6)例示化合物(CB−13)の
合成 合成例5と同様の方法により合成した。m.p.61.
5〜63.0℃。
(Synthesis Example 6) Synthesis of Exemplified Compound (CB-13) The compound was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 5. m. p. 61.
5-63.0 ° C.

【0153】(合成例7)例示化合物(CB−19)の
合成 特開昭60−218645号の合成例2と同様の方法に
より合成することができる。収率7%、m.p.115
℃。
(Synthesis Example 7) Synthesis of Exemplified Compound (CB-19) The compound can be synthesized by the same method as in Synthesis Example 2 of JP-A-60-218645. Yield 7%, m.p. p. 115
° C.

【0154】(合成例8)例示化合物(SA−5)の合
成 下記化72に示す合成ルートにより合成した。
(Synthesis Example 8) Synthesis of Exemplified Compound (SA-5) The compound was synthesized by the synthetic route shown in the following Chemical Formula 72.

【0155】[0155]

【化72】 SA−5a(特開昭61−230135号に記載の方法
と同様の方法にて合成した)11.6gを水冷下塩化チ
オニル30mlに加え50℃で更に1時間反応させた。
過剰の塩化チオニルを減圧下で留去し、析出した結晶を
少量の氷冷したクロロホルムで洗浄することによりSA
−5bを粗結晶として得た。次にSA−5b(13.1
g)をSA−5c(7.2g)とトリエチルアミン1
2.1gのN,N−ジメチルホルムアミド(100m
l)溶液に0℃で加え、その後室温で1時間さらに反応
させた。
Embedded image 11.6 g of SA-5a (synthesized by a method similar to that described in JP-A-61-230135) was added to 30 ml of thionyl chloride under water cooling, and the mixture was further reacted at 50 ° C. for 1 hour.
Excess thionyl chloride was distilled off under reduced pressure, and the precipitated crystals were washed with a small amount of ice-cold chloroform to give SA.
-5b was obtained as crude crystals. Then SA-5b (13.1
g) to SA-5c (7.2 g) and triethylamine 1
2.1 g of N, N-dimethylformamide (100 m
l) The solution was added at 0 ° C. and then further reacted at room temperature for 1 hour.

【0156】2N液酸60mlと氷水300mlの水溶
液に反応混合物をあけ、更に酢酸エチル300mlを加
え攪拌した。その液を分液ロートに移し油層をとり、水
で数回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、
濃縮後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル−ヘキサン=1/4〜1/1(V/V)を溶出
液として用いた)にて精製することにより例示化合物S
A−5をアモルファスとして3.7g得た。
The reaction mixture was poured into an aqueous solution of 60 ml of 2N liquid acid and 300 ml of ice water, and 300 ml of ethyl acetate was further added and stirred. The liquid was transferred to a separatory funnel, the oil layer was taken, and washed several times with water. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate,
After concentration, the residue was purified by silica gel column chromatography (ethyl acetate-hexane = 1/4 to 1/1 (V / V) was used as an eluent) to exemplify Compound S.
3.7 g of A-5 was obtained as an amorphous substance.

【0157】本発明の一般式(I)または(II)で表わさ
れる化合物は、感光材料中のいかなる層に添加してもよ
いが、感光性乳剤層および/またはその隣接層に添加す
ることが好ましく、赤感光性乳剤層および/または緑感
性乳剤層に添加することが特に好ましい。同一の感色性
層が感度の異なる2層以上に分かれている場合には、最
高感度層、最低感度層および中間感度層のいずれの層に
添加してもよい。
The compound represented by formula (I) or (II) of the present invention may be added to any layer in the light-sensitive material, but may be added to the light-sensitive emulsion layer and / or its adjacent layer. It is particularly preferable to add to the red-sensitive emulsion layer and / or the green-sensitive emulsion layer. When the same color-sensitive layer is divided into two or more layers having different sensitivities, they may be added to any of the highest sensitivity layer, the lowest sensitivity layer and the intermediate sensitivity layer.

【0158】また、前記感光材料中への総添加量は0.
001〜1.0g/m2 であり、好ましくは0.010
〜0.5g/m2 、より好ましくは0.020〜0.4
0g/m2 、更に好ましくは0.030〜0.30g/
2 である。
The total amount added to the light-sensitive material is 0.
001 to 1.0 g / m 2 , preferably 0.010
To 0.5 g / m 2 , more preferably 0.020 to 0.4
0 g / m 2 , more preferably 0.030 to 0.30 g /
m 2 .

【0159】本発明で用いられるアルデヒド化合物と反
応してこれを固定する化合物(アルデヒドスカベンジャ
ー)とは下記化73、化74に示す一般式〔A〕、
〔B〕で表わされる化合物で、以下で定義される活性水
素1単位当りの相当分子量が300以下のものである。
The compound (aldehyde scavenger) which reacts with and fixes the aldehyde compound used in the present invention is represented by the following general formula [A],
The compound represented by [B] has an equivalent molecular weight of 300 or less per unit of active hydrogen defined below.

【0160】〔相当分子量〕=〔分子量〕÷〔分子中の
活性水素〕
[Equivalent molecular weight] = [molecular weight] ÷ [active hydrogen in molecule]

【0161】[0161]

【化73】 Embedded image

【0162】[0162]

【化74】 ここでR11およびR12は水素原子、アルキル基(例えば
メチル、エチル、n−プロピル)、置換アルキル基、ア
ラルキル基(例えばベンジル)、置換アラルキル基、ア
リール基(例えばフェニル、ナフチル)、置換アリール
基、アシル基(例えばアセチル、マロニル、ベンゾイ
ル、シンナモイル)、アルコキシカルボニル基(例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル)、カルバモ
イル基、アルキルカルバモイル基(例えばメチルカルバ
モイル、エチルカルバモイル)、ジアルキルカルバモイ
ル基(例えばジメチルカルバモイル)、アリールカルバ
モイル基(例えばフェニルカルバモイル)、またはアミ
ノ基、アルキルアミノ基(例えばメチルアミノ、エチル
アミノ)、アリールアミノ基(例えばフェニルアミノ、
ナフチルアミノ)、およびハロゲン原子(例えば塩素原
子、臭素原子)を表わし、R11とR12の炭素数はそれぞ
れ20を越えることはなく、R11とR12は環を形成して
もよく、R11とR12の少なくとも一方は、アシル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基、またはアミノ
基である。ここでアルキル基、アリール基およびアルケ
ニル基の置換基としては、ニトロ基、水酸基、シアノ
基、スルホ基、アルコキシ基(例えばメトキシ)、アリ
ールオキシ基(例えばフェノキシ)、アシルオキシ基
(例えばアセトキシ)、アシルアミノ基(例えばアセチ
ルアミノ)、スルホンアミド基(例えばメタンスルホン
アミド)、スルファモイル基(例えばメチルスルファモ
イル)、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、
臭素原子)、カルボキシル基、カルバモイル基(例えば
メチルカルバモイル)、アルコキシカルボニル基(例え
ばメトキシカルボニル)、スルホニル基(例えばメチル
スルホニル)が挙げられる。この置換基が2つ以上ある
ときは同じでも異なってもよい。
Embedded image Here, R 11 and R 12 are a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl, ethyl, n-propyl), a substituted alkyl group, an aralkyl group (eg, benzyl), a substituted aralkyl group, an aryl group (eg, phenyl, naphthyl), a substituted aryl. Group, acyl group (eg acetyl, malonyl, benzoyl, cinnamoyl), alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), carbamoyl group, alkylcarbamoyl group (eg methylcarbamoyl, ethylcarbamoyl), dialkylcarbamoyl group (eg dimethylcarbamoyl) , An arylcarbamoyl group (eg, phenylcarbamoyl), or an amino group, an alkylamino group (eg, methylamino, ethylamino), an arylamino group (eg, phenylamino,
Naphthylamino) and a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom), the number of carbon atoms of R 11 and R 12 does not exceed 20, and R 11 and R 12 may form a ring. At least one of 11 and R 12 is an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, or an amino group. Here, the substituents of the alkyl group, aryl group and alkenyl group include nitro group, hydroxyl group, cyano group, sulfo group, alkoxy group (eg methoxy), aryloxy group (eg phenoxy), acyloxy group (eg acetoxy), acylamino. Group (eg acetylamino), sulfonamide group (eg methanesulfonamide), sulfamoyl group (eg methylsulfamoyl), halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom,
Examples thereof include a bromine atom), a carboxyl group, a carbamoyl group (eg, methylcarbamoyl), an alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl), and a sulfonyl group (eg, methylsulfonyl). When two or more substituents are present, they may be the same or different.

【0163】Xは、−CH=、−CR11=、または−N
=を表わす。R13はアルキル基、置換アルキル基、アラ
ルキル基(例えばベンジル基)、置換アラルキル基、ア
リール基、置換アリール基を表わし、これらのアリール
基や置換アリール基は5員ないし7員環と縮合環を形成
してもよい。また、これらの置換基としては、ニトロ
基、水酸基、シアノ基、スルホ基、アルコキシ基(例え
ばメトキシ)、アリールオキシ基(例えばフェノキ
シ)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ)、アシルア
ミノ基(例えばアセチルアミノ)、スルホンアミド基
(例えばメタンスルホンアミド)、スルファモイル基
(例えばメチルスルファモイル)、ハロゲン原子(例え
ばフッ素原子、塩素原子、臭素原子)、カルボキシル
基、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル)、ア
ルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル)、
スルホニル基(例えばメチルスルホニル)が挙けられ
る。この置換基が2つ以上あるときは同じでも異なって
もよい。nは、2以上の整数を表わす。
X is -CH =, -CR 11 =, or -N
= Represents R 13 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aralkyl group (for example, a benzyl group), a substituted aralkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, and these aryl group and substituted aryl group are a 5-membered to 7-membered ring and a condensed ring. You may form. Further, as these substituents, a nitro group, a hydroxyl group, a cyano group, a sulfo group, an alkoxy group (for example, methoxy), an aryloxy group (for example, phenoxy), an acyloxy group (for example, acetoxy), an acylamino group (for example, acetylamino), Sulfonamide group (eg methanesulfonamide), sulfamoyl group (eg methylsulfamoyl), halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), carboxyl group, carbamoyl group (eg methylcarbamoyl), alkoxycarbonyl group (eg Methoxycarbonyl),
Sulfonyl groups (eg methylsulfonyl) are mentioned. When two or more substituents are present, they may be the same or different. n represents an integer of 2 or more.

【0164】一般式〔A〕で表わされる化合物は、一般
式〔B〕で表わされる化合物より好ましい。
The compound represented by the general formula [A] is preferable to the compound represented by the general formula [B].

【0165】一般式〔A〕および〔B〕で表わされるホ
ルマリンスカベンジャーとして好ましいものは、下記化
75〜化82に示される一般式(A−1)から(A−
8)、下記化83、化84に示される一般式(B−1)
および(B−2)で表わされる化合物である。ただし、
ケトーエノール互変異性体も含まれる。
Preferred formalin scavengers represented by the general formulas [A] and [B] are the general formulas (A-1) to (A-
8), the general formula (B-1) shown in the following chemical formulas 83 and 84.
And a compound represented by (B-2). However,
Also included are keto-enol tautomers.

【0166】[0166]

【化75】 Embedded image

【0167】[0167]

【化76】 Embedded image

【0168】[0168]

【化77】 Embedded image

【0169】[0169]

【化78】 Embedded image

【0170】[0170]

【化79】 Embedded image

【0171】[0171]

【化80】 Embedded image

【0172】[0172]

【化81】 Embedded image

【0173】[0173]

【化82】 Embedded image

【0174】[0174]

【化83】 Embedded image

【0175】[0175]

【化84】 ここでR14からR35およびR37〜R39は、水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば、塩素原子など)、アルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基など)、置
換アルキル基、アラルキル基(例えばベンジル)、置換
アラルキル基、アリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル)、置換アリール基を表わし、R14〜R35の炭素数は
それぞれ20を越えることなく、R21、R22、R23およ
びR24のうちいずれか1つ、並びにR29〜R33のいずれ
かひとつは水素原子でなければならない。ここでアルキ
ル基、アリール基およびアラルキル基の置換基として
は、ニトロ基、水酸基、シアノ基、スルホ基、アルコキ
シ基(例えばメトキシ)、アリールオキシ基(例えばフ
ェノキシ)、アシルオキシ基(例えばアセトキシ)、ア
シルアミノ基(例えばアセチルアミノ)、スルホンアミ
ド基(例えばメタンスルホンアミド)、スルファモイル
基(例えばメチルスルファモイル)、ハロゲン原子(例
えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子)、カルボキシル
基、ウレイド基(例えばウレイド、3−メチルウレイ
ド)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル)、
アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニ
ル)、スルホニル基(例えばメチルスルホニル)が挙げ
られる。この置換基が2つ以上あるときは同じでも異な
ってもよい。
Embedded image Here, R 14 to R 35 and R 37 to R 39 are a hydrogen atom, a halogen atom (eg, chlorine atom), an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, n-propyl group, etc.), a substituted alkyl group, It represents an aralkyl group (for example, benzyl), a substituted aralkyl group, an aryl group (for example, phenyl, naphthyl), and a substituted aryl group, and the carbon numbers of R 14 to R 35 do not exceed 20, respectively, and R 21 , R 22 , and R 23 Any one of R 24 and R 24 , and any one of R 29 to R 33 must be a hydrogen atom. Here, the substituents of the alkyl group, aryl group and aralkyl group include nitro group, hydroxyl group, cyano group, sulfo group, alkoxy group (eg methoxy), aryloxy group (eg phenoxy), acyloxy group (eg acetoxy), acylamino. Group (eg acetylamino), sulfonamide group (eg methanesulfonamide), sulfamoyl group (eg methylsulfamoyl), halogen atom (eg fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), carboxyl group, ureido group (eg ureido, 3-methylureido), a carbamoyl group (for example, methylcarbamoyl),
Examples include an alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl) and a sulfonyl group (for example, methylsulfonyl). When two or more substituents are present, they may be the same or different.

【0176】R36は、ハロゲン原子(例えば塩素原子、
臭素原子)、アルキル基、置換アルキル基、アラルキル
基、置換アラルキル基、アリール基、置換アリール基、
複素環基、カルボニル基(例えばメチルカルボニル、フ
ェニルカルボニル)、スルホニル基(例えばメチルスル
ホニル、フェニルスルホニル)、カルボキシル基、−C
S−NH2 、−CS−NHR(Rはアリール基を表わ
す)、−C−(NH)−NH2 を表わす。
R 36 is a halogen atom (eg, chlorine atom,
Bromine atom), alkyl group, substituted alkyl group, aralkyl group, substituted aralkyl group, aryl group, substituted aryl group,
Heterocyclic group, carbonyl group (eg, methylcarbonyl, phenylcarbonyl), sulfonyl group (eg, methylsulfonyl, phenylsulfonyl), carboxyl group, -C
S-NH 2, -CS-NHR ( the R represents an aryl group), - C-represents a (NH) -NH 2.

【0177】R14とR15、R16とR17、R34とR35は環
を形成してもよく、R18〜R20、R21〜R24、R25〜R
28、R29〜R33およびR36〜R39は各々の群の中のいず
れか2つの置換基が環を形成してもよい。mは、3〜6
の整数、kは2以上の整数をあらわす。
R 14 and R 15 , R 16 and R 17 , R 34 and R 35 may form a ring, and R 18 to R 20 , R 21 to R 24 , R 25 to R
28 , R 29 to R 33, and R 36 to R 39 may have any two substituents in each group forming a ring. m is 3 to 6
, And k is an integer of 2 or more.

【0178】一般式〔A−1〕ないし〔A−8〕、〔B
−1〕および〔B−2〕で表わされるアルデヒドスカベ
ンジャーのなかで、より好ましいのは一般式〔A−3〕
〜〔A−8〕で表わされる化合物である。
General formulas [A-1] to [A-8], [B
Among the aldehyde scavengers represented by [-1] and [B-2], more preferred is the general formula [A-3].
To [A-8].

【0179】その中でも、とりわけ好ましいホルマリン
スカベンジャーは、下記化85、化86に示す一般式
〔A−3a〕及び〔A−3b〕で表わされるものであ
り、この2種を併用すると更に好ましい。
Among them, particularly preferred formalin scavengers are those represented by the general formulas [A-3a] and [A-3b] shown in the following Chemical formulas 85 and 86, and it is more preferable to use these two kinds in combination.

【0180】[0180]

【化85】 Embedded image

【0181】[0181]

【化86】 本発明のアルデヒドスカベンジャーの具体例を下記化8
7〜化101に挙げるが、これらに限定されるわけでは
ない。
Embedded image Specific examples of the aldehyde scavenger of the present invention are shown below.
7 to 101, but not limited to these.

【0182】[0182]

【化87】 Embedded image

【0183】[0183]

【化88】 Embedded image

【0184】[0184]

【化89】 Embedded image

【0185】[0185]

【化90】 Embedded image

【0186】[0186]

【化91】 Embedded image

【0187】[0187]

【化92】 Embedded image

【0188】[0188]

【化93】 Embedded image

【0189】[0189]

【化94】 Embedded image

【0190】[0190]

【化95】 Embedded image

【0191】[0191]

【化96】 Embedded image

【0192】[0192]

【化97】 Embedded image

【0193】[0193]

【化98】 Embedded image

【0194】[0194]

【化99】 Embedded image

【0195】[0195]

【化100】 Embedded image

【0196】[0196]

【化101】 ここで化合物(S−10)は1個のくり返し単位を持つ
オリゴマーまたはポリマーである。
Embedded image Here, the compound (S-10) is an oligomer or polymer having one repeating unit.

【0197】ホルマリンスカベンジャー(S−1)〜
(S−6)および(S−12)〜(S−23)は通常に
市販されている化合物であり、(S−7)〜(S−1
1)は、ブレテイン・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ
ー・オブ・ジャパン(Bulletin of the
Chemical Society of Japa
n)、39巻、1559〜1567頁、1734〜17
38頁(1966)、ヒエミッシェ・ベリヒテ(Che
mische Berichte)、54巻B、180
2〜1833頁、2441〜2479頁(1921)バ
イルシュタイン・ハンドブーフ・デル・オーガニッシェ
ン・ヒエミー(Beilstein Handbuch
der Organischen Chemie)
H、p98(1921)などに記載されている方法に従
って容易に合成することができる。(S−24)および
(S−25)は、バイルシュタイン・ハンドブーフ・デ
ル・オーガニッシェン・ヒエミー(Beilstein
Handbuch der Organischen
Chemie)第一増補版第4巻354頁、同3巻6
3頁などに記載された方法で合成できる。(S−26)
〜(S−28)は、米国特許第4,411,987号な
どに記載の方法で、(S−29)〜(S−31)は米国
特許第4,414,309号および、R.H.ワイリー
(R.H.Wiley)、P.ワイリー(P.Wile
y)著、“ザ・ケミストリー・オブ・ヘテロサイクリッ
ク・コンパウンズ(The Chemistry of
Heterocyclic Compound
s)”、ピラゾロンズ、ピラゾリドンズ・アンド・デリ
バティブズ(Pyrazolones,Pyrazol
idondand Derivatives)、インタ
ーサイエンス・パブリッシャーズ(Interscie
nce Publishers)(1964)などに記
載の方法により、既知化合物から容易に合成することが
できる。
Formalin Scavenger (S-1) ~
(S-6) and (S-12) to (S-23) are usually commercially available compounds, and (S-7) to (S-1).
1) is the Bulletin of the Chemical Society of Japan
Chemical Society of Japan
n), 39, pp. 1559-1567, 1734-1717.
Page 38 (1966), Hiemiche Berichte (Che
mische Berichte), Volume 54 B, 180
Pages 2-1833, 2441-2479 (1921) Beilstein Handbuch Del Organischen Hiemmy (Beilstein Handbuch)
der Organichen Chemie)
H, p98 (1921) and the like can be easily synthesized. (S-24) and (S-25) are Beilstein Handbuff del Organischen Hiemi (Beilstein)
Handbuch der Organischen
Chemie) First Supplement, Volume 4, Page 354, Volume 3 6
It can be synthesized by the method described on page 3. (S-26)
-(S-28) are the methods described in U.S. Pat. No. 4,411,987, and (S-29) to (S-31) are U.S. Pat. H. RH Wiley, P.M. P. Wile
y), “The Chemistry of Heterocyclic Compounds (The Chemistry of
Heterocyclic Compound
s) ”, Pyrazolones, Pyrazolones and Derivatives
idle Derivatives, Interscience Publishers
It can be easily synthesized from a known compound by the method described in No. Publishers (1964).

【0198】本発明で用いられるホリマリンスカベンジ
ャーは、2種以上組合わせて使用してもよい。
The horimarin scavengers used in the present invention may be used in combination of two or more kinds.

【0199】本発明のホルマリンスカベンジャーは、ハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層、
下塗層、保護層、中間層、フィルター層、アンチハレー
ション層、その他の補助層の少なくとも1層に含有させ
るが、ホルムアルデヒドガスと接触して写真性能が劣化
するアンカラード・マゼンタカプラー含有のハロゲン化
銀乳剤層、該層よりも支持体に近い層または遠い層いず
れに添加しても本発明の目的は達成される。
The formalin scavenger of the present invention is a silver halide emulsion layer of a silver halide color photographic light-sensitive material.
It is contained in at least one of the undercoat layer, the protective layer, the intermediate layer, the filter layer, the antihalation layer, and other auxiliary layers, but the halogenation containing the uncolored magenta coupler causes deterioration of the photographic performance when contacted with formaldehyde gas. The object of the present invention can be achieved regardless of whether it is added to the silver emulsion layer, the layer closer to the support or the layer farther from the support.

【0200】本発明で用いられるホルマリンスカベンジ
ャーをこれら層中に添加するには、層を形成するための
塗布液中に、ホルマリンスカベンジャーをそのままの状
態、あるいはハロゲン化銀カラー写真感光材料に悪影響
を与えない溶媒、例えば、水、アルコール等に適当な濃
度に溶解して添加することができる。また、ホルマリン
スカベンジャーを高沸点有機溶媒および/または低沸点
有機溶媒に溶解し、水溶液中に乳化分散して、添加する
こともできる。ホルマリンスカベンジャーの添加時期
は、製造工程中のいかなる時期を選んでもよいが、一般
には塗布する直前が好ましい。また、その添加量はハロ
ゲン化銀カラー写真感光材料1m2 について、0.00
5g〜1.5gが適当であるが、好ましくは0.01g
〜1.0gであり、更に好ましくは0.05g〜0.5
0gである。
To add the formalin scavenger used in the present invention to these layers, the formalin scavenger in the coating solution for forming the layer is left as it is, or the silver halide color photographic light-sensitive material is adversely affected. It can be added by dissolving it in a suitable solvent such as water or alcohol at an appropriate concentration. Further, the formalin scavenger may be dissolved in a high-boiling organic solvent and / or a low-boiling organic solvent, emulsified and dispersed in an aqueous solution, and then added. The timing of addition of the formalin scavenger may be selected at any time during the production process, but is generally preferably immediately before application. The addition amount is 0.000 per 1 m 2 of silver halide color photographic light-sensitive material.
5g-1.5g is suitable, but preferably 0.01g
To 1.0 g, more preferably 0.05 g to 0.5
0 g.

【0201】本発明においては、感光材料膜面pHは、
5.5以上、かつ7.0未満であることが好ましく、
6.0以上、かつ7.0以下が更に好ましい。膜面pH
を、上記範囲に設定する方法としては、塗布すべき液に
酸またはアルカリを添加することが一般的である。上記
酸またはアルカリは塗布液中に予め添加混合しておいて
もよいし、塗布直前に添加しpH調整してもよい。
In the present invention, the pH of the photosensitive material film surface is
It is preferably 5.5 or more and less than 7.0,
It is more preferably 6.0 or more and 7.0 or less. Membrane pH
As a method for setting the above range, it is general to add an acid or an alkali to the liquid to be applied. The acid or alkali may be added and mixed in the coating solution in advance, or may be added immediately before coating to adjust the pH.

【0202】ここで膜面pHとは、膜面pH測定用電極
を用いて測定した値を言う。膜面pH測定用の複合電極
は市販されているものを用いることができ、例えば堀場
製作所製の複合電極#6210−06Tを使用すること
ができる。pHの測定は、25℃、50〜60%RHの
環境下で被測定試料にマイクロピペットで20μlの水
を滴下し、直ちに電極を押しあて、指示値が平衡に達す
るのを待って読みとる。
Here, the film surface pH means a value measured using an electrode for film surface pH measurement. A commercially available composite electrode for measuring the pH on the membrane surface can be used, and for example, a composite electrode # 6210-06T manufactured by Horiba Ltd. can be used. The pH is measured by dropping 20 μl of water with a micropipette onto the sample to be measured under an environment of 25 ° C. and 50 to 60% RH, immediately pressing the electrode, and waiting until the indicated value reaches equilibrium before reading.

【0203】ここで得られるpH値は、支持体上に水溶
性の塗布物を塗布する際の塗布物のpH値とは必ずしも
一致せず、塗布後乾燥硬膜せしめた後の膜中のpHと対
応するものである。
The pH value obtained here does not always correspond to the pH value of the coating when the water-soluble coating is applied on the support, and the pH in the film after the coating is dried and hardened. It corresponds to.

【0204】本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料
の緑感層には、下記化102に示す一般式(PA)で表
わされる単量体から得られるポリマーカプラーを用いる
ことが鮮鋭性処理依存性および処理後の画像保存性を向
上する点で更に好ましい。
In the green-sensitive layer of the silver halide color photographic light-sensitive material of the present invention, it is preferable to use a polymer coupler obtained from a monomer represented by the general formula (PA) shown in the following Chemical Formula 102, depending on the sharpness treatment. Further, it is more preferable in that the image storability after treatment is improved.

【0205】[0205]

【化102】 一般式(PA)中のR121 は、水素原子、炭素数1〜4
個のアルキル基または塩素を表わし、−D−は−COO
−、−CONR122 −、または置換もしくは無置換のフ
ェニル基を表わし、−E−は置換もしくは無置換のアル
キレン基、フェニレン基またはアラルキレン基を示し、
−F−は−CONR122 −、−NR122 CONR
122 −、−NR122 COO−、−NR122 CO−、−O
CONR122 −、−NR122 −、−COO−、−OCO
−、−CO−、−O−、−S−、−SO2 −、−NR
122 SO2 −、または−SO2 NR122 −を表わす。R
122 は水素原子または置換または無置換の脂肪族基また
はアリール基を表わす。R122 は同一分子中に2個以上
あるときは、同じでも異なっていてもよい。p、q、r
は0または1を表わす。ただし、p、q、rが同時に0
である事はない。
Embedded image R 121 in the general formula (PA) is a hydrogen atom, having 1 to 4 carbon atoms.
-D- represents -COO
-, - CONR 122 -, or a substituted or unsubstituted phenyl group, -E- represents a substituted or unsubstituted alkylene group, phenylene group or aralkylene group,
-F- is -CONR 122 -, - NR 122 CONR
122 -, - NR 122 COO - , - NR 122 CO -, - O
CONR 122 -, - NR 122 - , - COO -, - OCO
-, - CO -, - O -, - S -, - SO 2 -, - NR
Represents 122 SO 2 — or —SO 2 NR 122 —. R
122 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted aliphatic or aryl group. When two or more R122s are present in the same molecule, they may be the same or different. p, q, r
Represents 0 or 1. However, p, q, and r are simultaneously 0
It is not.

【0206】一般式(PA)なすのTは、下記化103
に示す一般式(PB)で表わされるマゼンタカプラーの
カプラー残基(Ar51、Z51、R133 のいずれかの部分
で、一般式(PA)の−(D)−−(E)−−(F)−
に結合する)を表わす。
T in the general formula (PA) is represented by the following formula 103
In the magenta coupler represented by the general formula (PB) (Ar 51 , Z 51 , or R 133 , any of the moieties of-(D)-(E)-(of the general formula (PA). F)-
To be attached to).

【0207】[0207]

【化103】 一般式(PB)中のAr51は、2−ピラゾリン−5−オ
ンカプラーの1位における周知の型の置換基例えばアル
キル基、置換アルキル基(例えばフルオロアルキルの如
きハロアルキル、シアノアルキル、ベンジルアルキ
ル)、置換もしくは無置換の複素環基(例えば4−ピリ
ジル、2−チアゾリル)、置換もしくは無置換のアリー
ル基〔複素環基およびアリール基の置換基としてはアル
キル基(例えばメチル、エチル)、アルコキシ基(例え
ばメトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例えばフ
ェニルオキシ)、アルコキシカルボニル基(例えばメト
キシカルボニル)、アシルアミノ基(例えばアセチルア
ミノ)、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基(例
えばメチルカルバモイル、エチルカルボニル)、ジアル
キルカルバモイル基(例えばジメチルカルバモイル)、
アリールカルバモイル基(例えばフェニルカルバモイ
ル)、アルキルスルホニル基(例えばメチルスルホニ
ル)、アリールスルホニル基(例えばフェニルスルホニ
ル)、アルキルスルホンアミド基(例えばメタンスルホ
ンアミド)、アリールスルホンアミド基(例えばフェニ
ルスルホンアミド)、スルファモイル基、アルキルスル
ファモイル基(例えばエチルスルファモイル)、ジアル
キルスルファモイル基(例えばジメチルスルファモイ
ル)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ)、アリール
チオ基(例えばフェニルチオ)、シアノ基、ニトロ基、
ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素)が挙げら
れ、この置換基が2個以上あるときは同じでも異っても
よい。
Embedded image Ar 51 in the general formula (PB) is a substituent of a well-known type at the 1-position of the 2-pyrazolin-5-one coupler, for example, an alkyl group, a substituted alkyl group (for example, haloalkyl such as fluoroalkyl, cyanoalkyl, benzylalkyl). A substituted or unsubstituted heterocyclic group (for example, 4-pyridyl, 2-thiazolyl), a substituted or unsubstituted aryl group [as a heterocyclic group or a substituent of an aryl group, an alkyl group (for example, methyl, ethyl), an alkoxy group (Eg methoxy, ethoxy), aryloxy group (eg phenyloxy), alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl), acylamino group (eg acetylamino), carbamoyl group, alkylcarbamoyl group (eg methylcarbamoyl, ethylcarbonyl), dialkylcarbamoyl Group ( Example, if dimethylcarbamoyl),
Arylcarbamoyl group (eg phenylcarbamoyl), alkylsulfonyl group (eg methylsulfonyl), arylsulfonyl group (eg phenylsulfonyl), alkylsulfonamide group (eg methanesulfonamide), arylsulfonamide group (eg phenylsulfonamide), sulfamoyl Groups, alkylsulfamoyl groups (eg ethylsulfamoyl), dialkylsulfamoyl groups (eg dimethylsulfamoyl), alkylthio groups (eg methylthio), arylthio groups (eg phenylthio), cyano groups, nitro groups,
Halogen atoms (for example, fluorine, chlorine, bromine) are mentioned, and when there are two or more substituents, they may be the same or different.

【0208】特に好ましい置換基としてはハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル
基、シアノ基が挙げられる。〕を表わす。
Particularly preferred substituents include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group and a cyano group. ].

【0209】一般式(PB)中のR123 は、無置換また
は置換アニリノ基、アシルアミノ基(例えばアルキルカ
ルボンアミド、フェニルカルボンアミド、アルコキシカ
ルボンアミド、フェニルオキシカルボンアミド)、ウレ
イド基(例えばアルキルウレイド、フェニルウレイ
ド)、スルホンアミド基、を表わし、これらの置換基と
してはハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素)、直
鎖、分岐鎖のアルキル基(例えばメチル、t−ブチル、
オクチル、テトラデシル)、アルコキシ基(例えばメト
キシ、アトキシ、2−エチルヘキシルオキシ、テトラデ
シルオキシ)、アシルアミノ基(例えばアセトアミド、
ベンズアミド、ブタンアミド、オクタンアミド、テトラ
デカンアミド、α−(2,4−ジ−tert−アミルフ
ェノキシ)アセトアミド、α−(2,4−ジ−tert
−アミルフェノキシ)ブチルアミド、α−(3−ペンタ
デシルフェノキシ)ヘキサンアミド、α−(4−ヒドロ
キシ−3−tert−ブチルフェノキシ)テトラデカン
アミド、2−オキソ−ピロリジン−1−イル、2−オキ
ソ−5−テトラデシルピロリジン−1−イル、N−メチ
ル−テトラデカンアミド)、スルホンアミド基(例えば
メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、エチ
ルスルホンアミド、p−トルエンスルホンアミド、オク
タンスルホンアミド、p−ドデシルベンゼンスルホンア
ミド、N−メチル−テトラデカンスルホンアミド)、ス
ルファモイル基(例えばスルファモイル、N−メチルス
ルファモイル、N−エチルスルファモイル、N,N−ジ
メチルスルファモイル、N,N−ジヘキシルスルファモ
イル、N−ヘキサデシルスルファモイル、N−〔3−
(ドデシルオキシ)−プロピル〕スルファモイル、N−
〔4−(2,4−ジ−tert−アミルフェノキシ)ブ
チル〕スルファモイル、N−メチル−N−テトラデシル
スルファモイル)、カルバモイル基(例えばN−メチル
カルバモイル、N−ブチルカルバモイル、N−オクタデ
シルカルバモイル、N−〔4−(2,4−ジ−tert
−アミルフェノキシ)ブチル〕カルバモイル、N−メチ
ル−N−テトラデシルカルバモイル)、ジアシルアミノ
基(例えばN−サクシンイミド、N−フタルイミド、
2,5−ジオキソ−1−オキサゾリジニル、3−ドデシ
ル−2,5−ジオキソ−1−ヒダントイニル、3−(N
−アセチル−N−ドデシルアミノ)サクシンイミド)、
アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニ
ル、テトラデシルオキシカルボニル、ベンジルオキシカ
ルボニル)、アルコキシスルホニル基(例えばメトキシ
スルホニル、ブトキシスルホニル、オクチルオキシスル
ホニル、テトラデシルオキシスルホニル)、アリールオ
キシスルホニル基(例えばフェノキシスルホニル、p−
メチルフェノキシスルホニル、2,4−ジ−tert−
アミルフェノキシスルホニル)、アルカンスルホニル基
(例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル、オクタ
ンスルホニル、2−エチルヘキシルスルホニル、ヘキサ
デカンスルホニル)、アリールスルホニル基(例えばベ
ンゼンスルホニル、4−ノニルベンゼンスルホニル)、
アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチオ、ヘ
キシルチオ、ベンジルチオ、テトラデシルチオ、2−
(2,4−ジ−tert−アミルフェノキシ)エチルチ
オ)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ、p−トリ
ルチオ)、アルキルオキシカルボニルアミノ基(例えば
メトキシカルボニルアミノ、エチルオキシカルボニルア
ミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノ、ヘキサデシル
オキシカルボニルアミノ)、アルキルウレイド基(例え
ばN−メチルウレイド、N,N−ジメチルウレイド、N
−メチル−N−ドデシルウレイド、N−ヘキサデシルウ
レイド、N,N−ジオクタデシルウレイド)、アシル基
(例えばアセチル、ベンゾイル、オクタデカノイル、p
−ドデカンアミドベンゾイル)、ニトロ基、カルボキシ
ル基、スルホ基、ヒドロキシ基またはトリクロロメチル
基などを挙げることができる。
R 123 in formula (PB) is an unsubstituted or substituted anilino group, an acylamino group (eg, alkylcarbonamide, phenylcarbonamide, alkoxycarbonamide, phenyloxycarbonamide), a ureido group (eg, alkylureido, Phenylureido), a sulfonamide group, and these substituents include a halogen atom (eg, fluorine, chlorine, bromine), a linear or branched alkyl group (eg, methyl, t-butyl,
Octyl, tetradecyl), alkoxy groups (eg methoxy, atoxy, 2-ethylhexyloxy, tetradecyloxy), acylamino groups (eg acetamide,
Benzamide, butanamide, octanamide, tetradecanamide, α- (2,4-di-tert-amylphenoxy) acetamide, α- (2,4-di-tert.
-Amylphenoxy) butyramide, α- (3-pentadecylphenoxy) hexanamide, α- (4-hydroxy-3-tert-butylphenoxy) tetradecanamide, 2-oxo-pyrrolidin-1-yl, 2-oxo-5 -Tetradecylpyrrolidin-1-yl, N-methyl-tetradecanamide), sulfonamide groups (eg methanesulfonamide, benzenesulfonamide, ethylsulfonamide, p-toluenesulfonamide, octanesulfonamide, p-dodecylbenzenesulfonamide) , N-methyl-tetradecanesulfonamide), a sulfamoyl group (eg, sulfamoyl, N-methylsulfamoyl, N-ethylsulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, N, N-dihexylsulfamoyl, N- Hexade Silsulfamoyl, N- [3-
(Dodecyloxy) -propyl] sulfamoyl, N-
[4- (2,4-di-tert-amylphenoxy) butyl] sulfamoyl, N-methyl-N-tetradecylsulfamoyl), carbamoyl group (for example, N-methylcarbamoyl, N-butylcarbamoyl, N-octadecylcarbamoyl) , N- [4- (2,4-di-tert
-Amylphenoxy) butyl] carbamoyl, N-methyl-N-tetradecylcarbamoyl), diacylamino group (for example, N-succinimide, N-phthalimide,
2,5-dioxo-1-oxazolidinyl, 3-dodecyl-2,5-dioxo-1-hydantoinyl, 3- (N
-Acetyl-N-dodecylamino) succinimide),
Alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl, tetradecyloxycarbonyl, benzyloxycarbonyl), alkoxysulfonyl group (eg, methoxysulfonyl, butoxysulfonyl, octyloxysulfonyl, tetradecyloxysulfonyl), aryloxysulfonyl group (eg, phenoxysulfonyl, p −
Methylphenoxysulfonyl, 2,4-di-tert-
Amylphenoxysulfonyl), alkanesulfonyl group (for example, methanesulfonyl, ethanesulfonyl, octanesulfonyl, 2-ethylhexylsulfonyl, hexadecanesulfonyl), arylsulfonyl group (for example, benzenesulfonyl, 4-nonylbenzenesulfonyl),
Alkylthio groups (eg methylthio, ethylthio, hexylthio, benzylthio, tetradecylthio, 2-
(2,4-di-tert-amylphenoxy) ethylthio), arylthio group (eg phenylthio, p-tolylthio), alkyloxycarbonylamino group (eg methoxycarbonylamino, ethyloxycarbonylamino, benzyloxycarbonylamino, hexadecyloxy) Carbonylamino), an alkylureido group (for example, N-methylureido, N, N-dimethylureido, N
-Methyl-N-dodecylureido, N-hexadecylureido, N, N-dioctadecylureido), an acyl group (for example, acetyl, benzoyl, octadecanoyl, p
-Dodecanamide benzoyl), a nitro group, a carboxyl group, a sulfo group, a hydroxy group or a trichloromethyl group.

【0210】ただし、上記置換基の中で、アルキル基と
規定されるものの炭素数は1〜36を表わし、アリール
基と規定されるものの炭素数は6〜38を表わす。
However, among the above-mentioned substituents, the one defined as an alkyl group has 1 to 36 carbon atoms, and the one defined as an aryl group has 6 to 38 carbon atoms.

【0211】一般式(PB)中のZ51は、水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば、塩素、臭素)、酸素原子で連結す
るカップリング離脱基(例えばアセトキシ、プロパノイ
ルオキシ、ベンゾイルオキシ、エトキシオキザロイルオ
キシ、ピルビニルオキシ、シンナモイルオキシ、フェノ
キシ、4−シアノフェノキシル、4−チタンスルホンア
ミドフェノキシ、α−ナフトキシ、4−シアノキシル、
4−メタンスルホンアミド−フェノキシ、α−ナフトキ
シ、3−ペンタデシルフェノキシ、ベンジルオキシカル
ボニルオキシ、エトキシ、2−シアノエトキシ、ベンジ
ルオキシ、2−フェネチルオキシ、2−フェノキシ−エ
トキシ、5−フェニルテトラゾリルオキシ、2−ベンゾ
チアゾリルオキシ)、窒素原子で連結するカップリング
離脱基(例えば特開昭59−99437号に記載されて
いるもの、具体的にはベンゼンスルホンアミド、N−エ
チルトルエンスルホンアミド、ヘプタフルオロブタンア
ミド、2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンズアミ
ド、オクタンスルホンアミド、p−シアノフェニルウレ
イド、N,N−ジエチルスルファモイルアミノ、1−ピ
ペリジル、5,5−ジメチル−2,4−ジオキソ−3−
オキソゾリジニル、1−ベンジル−5−エトキシ−3−
ヒダントイニル、2−オキソ−1,2−ジヒドロ−1−
ピリジニル、イミダゾリル、ピラゾリル、3,5−ジエ
チル−1,2,4−トリアゾール−1−イル、5−また
は6−ブロモーベンゾトリアゾール−1−イル、5−メ
チル−1,2,3,4−トリアゾール−1−イル基、ベ
ンズイミダゾリル)、イオウ原子で連結するカップリン
グ離脱基(例えばフェニルチオ、2−カルボキシフェニ
ルチオ、2−メトキシ−5−オクチルフェニルチオ、4
−メタンスルホニルフェニルチオ、4−オクタンスルホ
ンアミドフェニルチオ、ベンジルチオ、2−シアノエチ
ルチオ、5−フェニル−2,3,4,5−テトラゾリル
チオ、2−ベンゾチアゾリル)を表わす。
Z 51 in the general formula (PB) is a coupling-off group (eg acetoxy, propanoyloxy, benzoyloxy, ethoxyoxaloyl) linked with a hydrogen atom, a halogen atom (eg chlorine, bromine) or an oxygen atom. Oxy, pyruvinyloxy, cinnamoyloxy, phenoxy, 4-cyanophenoxyl, 4-titaniumsulfonamidephenoxy, α-naphthoxy, 4-cyanoxyl,
4-Methanesulfonamide-phenoxy, α-naphthoxy, 3-pentadecylphenoxy, benzyloxycarbonyloxy, ethoxy, 2-cyanoethoxy, benzyloxy, 2-phenethyloxy, 2-phenoxy-ethoxy, 5-phenyltetrazolyl Oxy, 2-benzothiazolyloxy), a coupling-off group linked by a nitrogen atom (for example, those described in JP-A-59-99437, specifically benzenesulfonamide, N-ethyltoluenesulfonamide). , Heptafluorobutanamide, 2,3,4,5,6-pentafluorobenzamide, octanesulfonamide, p-cyanophenylureido, N, N-diethylsulfamoylamino, 1-piperidyl, 5,5-dimethyl- 2,4-dioxo-3-
Oxozolidinyl, 1-benzyl-5-ethoxy-3-
Hydantoinyl, 2-oxo-1,2-dihydro-1-
Pyridinyl, imidazolyl, pyrazolyl, 3,5-diethyl-1,2,4-triazol-1-yl, 5- or 6-bromo-benzotriazol-1-yl, 5-methyl-1,2,3,4- Triazol-1-yl group, benzimidazolyl), coupling-off groups linked by sulfur atom (eg phenylthio, 2-carboxyphenylthio, 2-methoxy-5-octylphenylthio, 4
-Methanesulfonylphenylthio, 4-octanesulfonamidophenylthio, benzylthio, 2-cyanoethylthio, 5-phenyl-2,3,4,5-tetrazolylthio, 2-benzothiazolyl).

【0212】好ましくは窒素原子で連結するカップリン
グ離脱基であり、特に好ましくはピラゾリル基である。
A coupling-off group which is preferably linked by a nitrogen atom is preferable, and a pyrazolyl group is particularly preferable.

【0213】一般式(PA)中のEは、炭素数1〜10
個の無置換もしくは置換のアルキレン基、アラルキレン
基、またはフェニレン基を表わし、アルキレン基は直鎖
でも分岐でもよい。アルキレン基としては例えばメチレ
ン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、ジメチレン,
トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキ
サメチレン、デシルメチレン、アラルキレン基としては
例えばベンジリデン、フェニレン基としては例えばp−
フェニレン、m−フェニレン、メチルフェニレンが挙げ
られる。
E in the general formula (PA) is C 1-10.
Represents an unsubstituted or substituted alkylene group, aralkylene group, or phenylene group, and the alkylene group may be linear or branched. Examples of the alkylene group include methylene, methylmethylene, dimethylmethylene, dimethylene,
Trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, decylmethylene, aralkylene groups such as benzylidene, and phenylene groups such as p-
Examples include phenylene, m-phenylene and methylphenylene.

【0214】またEで表わされるアルキレン基、アラル
キレン基またはフェニレン基の置換基としては、例えば
アリール基(例えばフェニル)ニトロ基、水酸基、シア
ノ基、スルホ基、アルコキシ基(例えばメトキシ)、ア
リールオキシ基(例えばフェノキシ)、アシルオキシ基
(例えばアセトキシ)、アシルアミノ基(例えばアセチ
ルアミノ)、スルホンアミド基(例えばメタンスルホン
アミド)、スルファモイル基(例えばメチルスルファモ
イル)、ハロゲン原子(例えばフッ素、塩素、臭素)、
カルボキシ基、カルバモイル基(例えばメチルカルバモ
イル)、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカル
ボニル)、スルホニル基(例えばメチルスルホニル)が
挙げられる。この置換基が2つ以上あるときは同じでも
異ってもよい。
The substituent of the alkylene group, aralkylene group or phenylene group represented by E is, for example, an aryl group (eg phenyl) nitro group, a hydroxyl group, a cyano group, a sulfo group, an alkoxy group (eg methoxy) or an aryloxy group. (Eg phenoxy), acyloxy group (eg acetoxy), acylamino group (eg acetylamino), sulfonamide group (eg methanesulfonamide), sulfamoyl group (eg methylsulfamoyl), halogen atom (eg fluorine, chlorine, bromine) ,
Examples thereof include a carboxy group, a carbamoyl group (eg methylcarbamoyl), an alkoxycarbonyl group (eg methoxycarbonyl), and a sulfonyl group (eg methylsulfonyl). When two or more substituents are present, they may be the same or different.

【0215】次に、一般式(PA)で表わされるカプラ
ー単量体と共重合しうる芳香族一級アミン現像薬の酸化
体とカップリングしない非発色性エチレン様単量体とし
ては、例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、クロトン酸エステル、ビニルエステル、マレイン酸
ジエステル、フマル酸ジエステル、イタコン酸ジエステ
ル、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、ビニルエ
ーテル類、スチレン類が挙げられる。
Next, as the non-color-forming ethylenic monomer which is not coupled with the oxidation product of the aromatic primary amine developing agent which is copolymerizable with the coupler monomer represented by the general formula (PA), for example, acrylic acid can be used. Examples thereof include esters, methacrylic acid esters, crotonic acid esters, vinyl esters, maleic acid diesters, fumaric acid diesters, itaconic acid diesters, acrylamides, methacrylamides, vinyl ethers and styrenes.

【0216】これらの単量体について更に具体例を示す
と、アクリル酸エステルとしては例えばメチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレー
ト、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレー
ト、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリ
レート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルア
クリレート、アセトキシエチルアクリレート、フェニル
アクリレート、2−メトキシアクリレート、2−エトキ
シアクリレート、2−(2−メトキシエトキシ)エチル
アクリレートが挙げられる。メタクリル酸エステルとし
ては、例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、n−プロピルメタクリレート、n−ブチルメタク
リレート、tert−ブチルメタクリレート、シクロヘ
キシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、2−エトキシエチルメタクリレートが挙げられ
る。クロトン酸エステルとしては、例えばクロトン酸ブ
チル、クロトン酸ヘキシルが挙げられる。ビニルエステ
ルとしては、例えばビニルアセテート、ビニルプロピオ
ネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテー
ト、安息香酸ビニルが挙げられる。マレイン酸ジエステ
ルとしては、例えばマレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
メチル、マレイン酸ジブチル等が挙げられる。フマル酸
ジエステルとしてはフマル酸ジエチル、フマル酸ジメチ
ル、フマル酸ジブチルが挙げられる。イタコン酸ジエス
テルとしては、例えばイタコン酸ジエチル、イタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジブチルが挙げられる。アクリル
アミド類としては、例えばアクリルアミド、メチルアク
リルアミド、エチルアクリルアミド、プロピルアクリル
アミド、n−ブチルアクリルアミド、tert−ブチル
アクリルアミド、シクロヘキシルアクリルアミド、2−
メトキシエチルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミ
ド、ジエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド
が挙げられる。メタクリルアミド類としては、例えばメ
チルメタクリルアミド、エチルメタクリルアミド、n−
ブチルメタクリルアミド、tert−ブチルメタクリル
アミド、2−メトキシメタクリルアミド、ジメチルメタ
クリルアミド、ジエチルメタクリルアミドが挙げられ
る。ビニルエーテル類としては、例えばメチルビニルエ
ーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテ
ル、メトキシエチルビニルエーテル、ジメチルアミノエ
チルビニルエーテルが挙げられる。スチレン類として
は、例えばスチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレ
ン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピ
ルスチレン、ブチルスチレン、クロルメチルスチレン、
メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチ
レン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチ
レン、ビニル安息香酸メチルエステル、2−メチルスチ
レンが挙げられる。
Specific examples of these monomers will be given below. Examples of acrylic acid esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate and hexyl. Examples thereof include acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, acetoxyethyl acrylate, phenyl acrylate, 2-methoxy acrylate, 2-ethoxy acrylate, and 2- (2-methoxyethoxy) ethyl acrylate. Examples of the methacrylic acid ester include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate and 2-ethoxyethyl methacrylate. Examples of the crotonic acid ester include butyl crotonic acid and hexyl crotonic acid. Examples of the vinyl ester include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl methoxyacetate and vinyl benzoate. Examples of the maleic acid diester include diethyl maleate, dimethyl maleate, dibutyl maleate and the like. Examples of the fumarate diester include diethyl fumarate, dimethyl fumarate, and dibutyl fumarate. Examples of the itaconic acid diester include diethyl itaconate, dimethyl itaconate, and dibutyl itaconate. Examples of acrylamides include acrylamide, methyl acrylamide, ethyl acrylamide, propyl acrylamide, n-butyl acrylamide, tert-butyl acrylamide, cyclohexyl acrylamide, and 2-.
Examples include methoxyethyl acrylamide, dimethyl acrylamide, diethyl acrylamide, and phenyl acrylamide. Examples of methacrylamides include methyl methacrylamide, ethyl methacrylamide, and n-.
Examples thereof include butyl methacrylamide, tert-butyl methacrylamide, 2-methoxy methacrylamide, dimethyl methacrylamide and diethyl methacrylamide. Examples of vinyl ethers include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, and dimethylaminoethyl vinyl ether. Examples of styrenes include styrene, methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, isopropylstyrene, butylstyrene, chloromethylstyrene,
Methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, vinyl benzoic acid methyl ester, 2-methyl styrene are mentioned.

【0217】その他の単量体の例としては、例えばアリ
ル化合物(例えば酢酸アリル)、ビニルケトン類(例え
ばメチルビニルケトン)、ビニル複素環化合物(例えば
ビニルピリジン)、グリシジルエステル類(例えばグリ
シジルアクリレート)、不飽和ニトリル類(例えばアク
リロニトリル)、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキル(例えばイタ
コン酸モノメチル)、マレイン酸モノアルキル(例えば
マレイン酸モノメチル)、シトラコン酸、ビニルスルホ
ン酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸(例え
ば、アクリロイルオキシメチルスルホン酸)、アクリル
アミドアルキルスルホン酸(例えば2−アクリルアミド
−2−メチルエタンスルホン)が挙げられる。これらの
酸はアルカリ金属(例えばNa、K)またはアンモニウ
ムイオンの塩であってもよい。
Examples of other monomers include, for example, allyl compounds (eg allyl acetate), vinyl ketones (eg methyl vinyl ketone), vinyl heterocyclic compounds (eg vinyl pyridine), glycidyl esters (eg glycidyl acrylate), Unsaturated nitriles (eg acrylonitrile), acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, monoalkyl itaconate (eg monomethyl itaconate), monoalkyl maleate (eg monomethyl maleate), citraconic acid, vinyl sulfonic acid, Examples thereof include acryloyloxyalkyl sulfonic acid (eg, acryloyloxymethyl sulfonic acid) and acrylamidoalkyl sulfonic acid (eg, 2-acrylamido-2-methylethane sulfone). These acids may be salts of alkali metals (eg, Na, K) or ammonium ions.

【0218】これらの単量体のうち、好ましく用いられ
るコモノマーにはアクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、スチレン類、マレイン酸エステル、アクリルア
ミド類、メタクリルアミド類が含まれる。
Among these monomers, comonomers preferably used include acrylic acid esters, methacrylic acid esters, styrenes, maleic acid esters, acrylamides and methacrylamides.

【0219】これらの単量体は2種以上を併用してもよ
い。2種以上を併用する場合の組合せとしては、例えば
n−ブチルアクリレートとスチレン、n−ブチルアクリ
レートとブチルスチレン、t−ブチルメタクリルアミド
とn−ブチルアクリレートが挙げられる。
Two or more kinds of these monomers may be used in combination. Examples of the combination of two or more kinds include n-butyl acrylate and styrene, n-butyl acrylate and butyl styrene, t-butyl methacrylamide and n-butyl acrylate.

【0220】前記マゼンタポリマーカプラー中に占める
一般式(PB)に対応する発色部分の割合は、通常5〜
80重量%が望ましいが、色再現性、発色性、処理依存
性および安定性の点では30〜70重量%が好ましい。
この場合の当分子量(1モルの単量体カプラーを含むポ
リマーのグラム数)は約250〜4,000であるが、
これに限定するものではない。
The proportion of the color-forming portion corresponding to the general formula (PB) in the magenta polymer coupler is usually 5 to 5.
80% by weight is preferable, but 30 to 70% by weight is preferable in terms of color reproducibility, color developability, processing dependence and stability.
In this case, the equivalent molecular weight (the number of grams of the polymer containing 1 mol of the monomer coupler) is about 250 to 4,000,
It is not limited to this.

【0221】前記マゼンタポリマーカプラーは、カプラ
ー単量体を基準としてハロゲン化銀と同一層の場合には
銀1モル当り0.005モル〜0.5モル好ましくは
0.03〜0.25モル添加するのがよい。
The magenta polymer coupler is added in an amount of 0.005 to 0.5 mol, preferably 0.03 to 0.25 mol, per mol of silver when the same layer as silver halide is used based on the coupler monomer. Good to do.

【0222】また、前記マゼンタポリマーカプラーを非
感光層に用いる場合の塗布量は、0.01g/m2
1.0g/m2 、好ましくは0.1g/m2 〜0.5g
/m2 の範囲である。
When the magenta polymer coupler is used in the non-photosensitive layer, the coating amount is 0.01 g / m 2 to
1.0 g / m 2 , preferably 0.1 g / m 2 to 0.5 g
/ M 2 .

【0223】本発明に用いられるポリマーカプラーは、
前述したように単量体カプラーの重合で得られた親油性
ポリマーカプラーを有機溶媒に溶かしたものをゼラチン
水溶液中にラテックスの形で乳化分散して作ってもよ
く、あるいは直接乳化重合法で作ってもよい。
The polymer coupler used in the present invention is
As described above, the lipophilic polymer coupler obtained by polymerizing the monomer coupler may be dissolved in an organic solvent to emulsify and disperse it in the form of latex in an aqueous gelatin solution, or directly by the emulsion polymerization method. May be.

【0224】親油性ポリマーカプラーをゼラチン水溶液
中にラテックスの形で乳化分散する方法については、米
国特許第3,451,820号に、乳化重合については
米国特許4,080,211号、同3,370,952
号及び欧州特許第341,088A2号に記載されてい
る方法を用いることができる。
A method for emulsion-dispersing a lipophilic polymer coupler in the form of a latex in an aqueous gelatin solution is described in US Pat. No. 3,451,820, and an emulsion polymerization is described in US Pat. 370,952
And EP 341 088 A2.

【0225】前記マゼンタポリマーカプラーの合成は、
重合開始剤、重合溶媒として特開昭56−5543、特
開昭57−94752、特開昭57−176038、特
開昭57−204038、特開昭58−28745、特
開昭58−10738、特開昭58−42044、特開
昭58−145944に記載されている化合物を用いて
行う。
The synthesis of the magenta polymer coupler is
As a polymerization initiator and a polymerization solvent, JP-A-56-5543, JP-A-57-94752, JP-A-57-176038, JP-A-57-204038, JP-A-58-28745, JP-A-58-10738, and JP-A-58-10738 are available. The compounds described in JP-A-58-42044 and JP-A-58-145944 are used.

【0226】重合温度は生成するポリマーの分子量、開
始剤の種類などと関連して設定する必要があり、0℃以
下から100℃以上まで可能であるが通常30℃〜10
0℃の範囲で重合する。
The polymerization temperature needs to be set in relation to the molecular weight of the polymer to be produced, the kind of the initiator, etc. It can be from 0 ° C. or lower to 100 ° C. or higher, but usually 30 ° C. to 10 °
Polymerizes in the range of 0 ° C.

【0227】次に、本発明において用いられることがで
きるマゼンタポリマーカプラーの具体例を下記化104
〜化110に挙げるが、これに限定されるものではな
い。ただし、構造式中の添数字はモル比を表わす。
Next, specific examples of the magenta polymer coupler which can be used in the present invention are shown below.
To Chemical Formula 110, but is not limited thereto. However, the subscript in the structural formula represents the molar ratio.

【0228】[0228]

【化104】 Embedded image

【0229】[0229]

【化105】 Embedded image

【0230】[0230]

【化106】 [Chemical formula 106]

【0231】[0231]

【化107】 Embedded image

【0232】[0232]

【化108】 Embedded image

【0233】[0233]

【化109】 Embedded image

【0234】[0234]

【化110】 Embedded image

【0235】[0235]

【実施例】以下に、本発明を実施例により、更に詳細に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 実施例1 下塗りを施した三酢酸セルロースフィルム支持体上に、
下記に示すような組成の各層よりなる多層カラー感光材
料である試料101を作成した。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto. Example 1 On a subbed cellulose triacetate film support,
Sample 101, which is a multilayer color photographic material composed of each layer having the following composition, was prepared.

【0236】(感光層の組成)塗布量はハロゲン化銀お
よびコロイド銀については銀のg/m2 単位で表した量
を、またカプラー、添加剤およびゼラチンについてはg
/m2 単位で表した量を、また増感色素については同一
層内のハロゲン化銀1モル当りのモル数で示した。な
お、添加物を示す記号は下記に示す意味を有する。ただ
し、複数の効用を有する場合はそのうちの一つを代表し
て載せた。
(Composition of photosensitive layer) The coating amount is the amount expressed in g / m 2 of silver for silver halide and colloidal silver, and g for couplers, additives and gelatin.
/ M 2 units, and for sensitizing dyes, the number is expressed in mol per mol of silver halide in the same layer. The symbols indicating the additives have the following meanings. However, when there are multiple utilities, only one of them is listed as a representative.

【0237】UV;紫外線吸収剤、Solv;高沸点有
機溶剤、ExS;増感色素、ExC;シアンカプラー、
ExM;マゼンタカプラー、ExY;イエローカプラ
ー、Cpd;添加剤、W;界面活性剤、H;硬化剤、
F;安定化剤。
UV: UV absorber, Solv: high boiling organic solvent, ExS: sensitizing dye, ExC: cyan coupler,
ExM: Magenta coupler, ExY: Yellow coupler, Cpd: Additive, W: Surfactant, H: Curing agent,
F: Stabilizer.

【0238】また、前記添加剤を下記化111〜化12
3に列挙した。
Further, the above additives are represented by the following chemical formulas 111 to 12
Listed in 3.

【0239】[0239]

【化111】 [Chemical 111]

【0240】[0240]

【化112】 [Chemical 112]

【0241】[0241]

【化113】 [Chemical 113]

【0242】[0242]

【化114】 Embedded image

【0243】[0243]

【化115】 [Chemical 115]

【0244】[0244]

【化116】 Embedded image

【0245】[0245]

【化117】 [Chemical 117]

【0246】[0246]

【化118】 Embedded image

【0247】[0247]

【化119】 [Chemical formula 119]

【0248】[0248]

【化120】 Embedded image

【0249】[0249]

【化121】 [Chemical 121]

【0250】[0250]

【化122】 [Chemical formula 122]

【0251】[0251]

【化123】 第1層(ハレーション防止層) 黒色コロイド銀 0.15 ゼラチン 1.00 ExM−1 5.0×10-3 第2層(中間層) ゼラチン 1.00 UV−1 3.0×10-2 UV−2 6.0×10-2 UV−3 7.0×10-2 ExF−1 4.0×10-3 Solv−2 7.0×10-2 第3層(低感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤(AgI 2モル%、内部高AgI型、球
相当径0.3 μm、球相当径の変動係数29%、正常晶、双
晶混合粒子、直径/厚み比2.5 ) 第4層(中感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤(AgI 4モル%、内部高AgI型、球
相当径0.55μm、球相当径の変動係数20%、正常晶、双
晶混合粒子、直径/厚み比1.0 ) 第5層(高感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤(AgI 10モル%、内部高AgI型、球
相当径0.7 μm、球相当径の変動係数30%、双晶混合粒
子、直径/厚み比2.0) 第6層(中間層) ゼラチン 0.60 P−2 0.17 Cpd−1 0.02 Cpd−4 0.08 Solv−1 5.0×10-2 第7層(低感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤(AgI 2モル%、内部高AgI型、球
相当径0.3 μm、球相当径の変動係数28%、正常晶、双
晶混合粒子、直径/厚み比2.5 ) 第8層(中感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤(AgI 4モル%、内部高AgI型、球
相当径0.55μm、球相当径の変動係数20%、正常晶、双
晶混合粒子、直径/厚み比4.0 ) 第9層(高感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤(AgI 10モル%、内部高AgI型、球
相当径0.70μm、球相当径の変動係数30%、正常晶、双
晶混合粒子、直径/厚み比2.0 ) 第10層(イエローフィルター層) ゼラチン 0.60 黄色コロイド 5.0×10-2 Cpd−1 0.08 Cpd−4 0.12 Solv−1 0.15 第11層(低感度青感乳剤層) 沃臭化銀乳剤(AgI 4モル%、内部高AgI型、球
相当径0.5 μm、球相当径の変動係数15%、8面体粒
子) 第12層(高感度青感乳剤層) 沃臭化銀乳剤(AgI 10モル%、内部高AgI型、球
相当径1.3 μm、球相当径の変動係数25%、正常晶、双
晶混合粒子、直径/厚み比4.5 ) 第13層(第1保護層) 微粒子沃臭化銀(平均粒径0.07μm、AgI 1モル
%) 第14層(第2保護層) ゼラチン 0.40 B−1(直径1.5μm) 0.10 B−2(直径1.5μm) 0.10 B−3 2.0×10-2 H−1 0.40 更に、保存性、処理性、圧力耐性、防黴・防菌性、帯電
防止性、及び塗布性をよくするために、Cpd−3、C
pd−5、Cpd−6、Cpd−7、Cpd−8、P−
1、W−1、W−2、W−3を添加した。
Embedded image First layer (antihalation layer) Black colloidal silver 0.15 Gelatin 1.00 ExM-1 5.0 × 10 -3 Second layer (intermediate layer) Gelatin 1.00 UV-1 3.0 × 10 -2 UV-2 6.0 × 10 -2 UV-3 7.0 × 10 -2 ExF-1 4.0 × 10 -3 Solv-2 7.0 × 10 -2 Third Layer (Low Sensitivity Red Sensitive Emulsion Layer) Silver iodobromide emulsion (AgI 2 mol%, internal high AgI type, sphere equivalent) Diameter 0.3 μm, variation coefficient of spherical equivalent diameter 29%, normal crystal, twin crystal mixed particles, diameter / thickness ratio 2.5) 4th layer (medium-sensitivity red-sensitive emulsion layer) Silver iodobromide emulsion (AgI 4 mol%, internal high AgI type, spherical equivalent diameter 0.55 μm, variation coefficient of spherical equivalent diameter 20%, normal crystal, twin mixed particles, Diameter / thickness ratio 1.0) Fifth layer (high-sensitivity red-sensitive emulsion layer) Silver iodobromide emulsion (AgI 10 mol%, internal high AgI type, sphere equivalent diameter 0.7 μm, variation coefficient of sphere equivalent diameter 30%, twin mixed particles, diameter / thickness Ratio 2.0) Sixth layer (intermediate layer) Gelatin 0.60 P-2 0.17 Cpd-1 0.02 Cpd-4 0.08 Solv-1 5.0 × 10 -2 Seventh layer (low sensitivity green emulsion layer) Silver iodobromide emulsion (AgI 2 mol%) , Internal high AgI type, sphere equivalent diameter 0.3 μm, variation coefficient of sphere equivalent diameter 28%, normal crystal, twin crystal mixed particles, diameter / thickness ratio 2.5) Eighth layer (medium-sensitivity green-sensitive emulsion layer) Silver iodobromide emulsion (AgI 4 mol%, internal high AgI type, equivalent sphere diameter 0.55 μm, variation coefficient of equivalent sphere diameter 20%, normal crystal, twin mixed particles, Diameter / thickness ratio 4.0) 9th layer (high-sensitivity green-sensitive emulsion layer) Silver iodobromide emulsion (AgI 10 mol%, internal high AgI type, sphere equivalent diameter 0.70 μm, variation coefficient of sphere equivalent diameter 30%, normal crystal, twin crystal mixed grains, Diameter / thickness ratio 2.0) 10th layer (yellow filter layer) Gelatin 0.60 Yellow colloid 5.0 × 10 -2 Cpd-1 0.08 Cpd-4 0.12 Solv-1 0.15 11th layer (low-sensitivity blue-sensitive emulsion layer) Silver iodobromide emulsion (AgI 4 mol%) , Internal high AgI type, sphere equivalent diameter 0.5 μm, variation coefficient of sphere equivalent diameter 15%, octahedral grain) 12th layer (high-sensitivity blue-sensitive emulsion layer) Silver iodobromide emulsion (AgI 10 mol%, internal high AgI type, sphere equivalent diameter 1.3 μm, variation coefficient of sphere equivalent diameter 25%, normal crystal, twin mixed particles, Diameter / thickness ratio 4.5) Thirteenth layer (first protective layer) Fine grain silver iodobromide (average particle size 0.07 μm, AgI 1 mol%) 14th layer (second protective layer) Gelatin 0.40 B-1 (diameter 1.5 μm) 0.10 B-2 (diameter 1.5 μm) 0.10 B-3 2.0 × 10 -2 H-1 0.40 Furthermore, storability and processability , Cpd-3, C for improving pressure resistance, antifungal / antibacterial property, antistatic property and coating property.
pd-5, Cpd-6, Cpd-7, Cpd-8, P-
1, W-1, W-2, W-3 were added.

【0252】上記の他に、n−ブチル−p−ヒドロキシ
ベンゾエートが添加された。さらにB−4、F−1、F
−4、F−5、F−6、F−7、F−8、F−9、F−
10、F−11、および、鉄塩、鉛塩、金塩、白金塩、
イリジウム塩、ロジウム塩が含有されている。 (試料102〜105)本発明の試料101の第4層お
よび第5層に添加されている本発明の化合物(CB−1
3)を下記表1に示したように他の本発明の化合物に等
モルで置き換えて試料102〜105を作製した。 (試料106〜110)試料101〜105の第2層、
第6層、第10層および第13層に本発明の化合物(S
−27)を0.08g/m2 それぞれ添加し、試料10
6〜110を作製した。 (試料111〜113)試料106の(S−27)を本
発明の化合物(S−5)および(S−6)にそれぞれ置
き換えて試料111、112を作製した。また試料10
6の(S−27)の半量を(S−5)に置き換えて試料
113を作製した。 (試料114〜117)試料106の第4層および第5
層に添加されている本発明の化合物(CB−13)を下
記表1に示したように比較化合物に置き換えて試料11
4〜117を作製した。 (試料118)試料111の第7層および第8層のP−
7を1.5倍モルのExM−2に置き換え、さらにSo
lv−1とゼラチンを1.3倍にして試料118を作製
した。
In addition to the above, n-butyl-p-hydroxybenzoate was added. B-4, F-1, F
-4, F-5, F-6, F-7, F-8, F-9, F-
10, F-11, and iron salt, lead salt, gold salt, platinum salt,
Contains iridium and rhodium salts. (Samples 102 to 105) The compound of the present invention (CB-1) added to the fourth and fifth layers of Sample 101 of the present invention.
Samples 102 to 105 were prepared by substituting 3) with other compounds of the present invention in equimolar amounts as shown in Table 1 below. (Samples 106 to 110) Second layer of Samples 101 to 105,
In the sixth layer, the tenth layer and the thirteenth layer, the compound (S
-27) was added in an amount of 0.08 g / m 2 to obtain Sample 10
6 to 110 were produced. (Samples 111 to 113) Samples 111 and 112 were prepared by replacing (S-27) in Sample 106 with the compounds (S-5) and (S-6) of the present invention. Sample 10
Sample 113 was prepared by replacing half of (S-27) in 6 with (S-5). (Samples 114 to 117) Fourth Layer and Fifth Sample 106
Sample 11 was prepared by substituting the compound of the present invention (CB-13) added to the layer with a comparative compound as shown in Table 1 below.
4-117 were produced. (Sample 118) P− of the seventh layer and the eighth layer of Sample 111
7 was replaced with 1.5 times molar ExM-2, and
Sample 118 was prepared by multiplying lv-1 and gelatin by 1.3 times.

【0253】これら試料は14層同時に塗布作製した。
50℃、試対湿度30%条件下に7日間放置した後、白
色像様露光を行ない現像処理し、シアン濃度のカブリ増
加幅を下記表1に示した。
These samples were prepared by coating 14 layers simultaneously.
After being left under conditions of 50 ° C. and 30% humidity for 7 days, white imagewise exposure was carried out and development processing was carried out. The increase range of cyan density fog is shown in Table 1 below.

【0254】また、未露光の幅35mm幅長さ15cm
の各試料を乳剤面側を外側にして60°の角度にゆっく
り曲げ、2時間放置した後、下記カラー現像を行ないミ
クロ濃度計でシアン濃度を測定し、折り曲げ部分の増感
濃度を下記表1に示した。
[0254] Further, unexposed width 35 mm width 15 cm
Each sample was slowly bent at an angle of 60 ° with the emulsion side facing outward, left for 2 hours, and then subjected to color development described below to measure cyan density with a micro densitometer. It was shown to.

【0255】さらに、MTF測定用のパターンで露光を
行ない、下記現像を行ないシアン画像25サイクル/m
mのMTF値を測定し、その結果を下記表1に示した。
Further, exposure was performed with a pattern for MTF measurement, and the following development was performed to obtain a cyan image of 25 cycles / m.
The MTF value of m was measured, and the results are shown in Table 1 below.

【0256】[0256]

【表1】 ただし、前記表1中のC−1〜C−4は下記化124、
化125に示す化合物である。
[Table 1] However, C-1 to C-4 in Table 1 above are represented by
It is the compound represented by Chemical formula 125.

【0257】[0257]

【化124】 Embedded image

【0258】[0258]

【化125】 (処理方法) 工程 処理時間 処理温度 発色現像 3分15秒 38℃ 漂 白 6分30秒 38℃ 水 洗 2分10秒 24℃ 定 着 4分20秒 38℃ 水洗(1) 1分05秒 24℃ 水洗(2) 1分00秒 24℃ 安 定 1分05秒 38℃ 乾 燥 4分20秒 55℃ 次に、処理液の組成を記す。 (発色現像液) (単位g) ジエチレントリアミン五酢酸 1.0 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸 3.0 亜硫酸ナトリウム 4.0 炭酸カリウム 30.0 臭化カリウム 1.4 沃化カリウム 1.5mg ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.4 4−〔N−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノ〕− 2−メチルアニリン硫酸塩 4.5 水を加えて 1.0リットル pH 10.05 (漂白液) (単位g) エチレンジアミン四酢酸第二鉄ナトリウム三水塩 100.0 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 10.0 臭化アンモニウム 140.0 硫酸アンモニウム 30.0 アンモニア水(27%) 6.5ml 水を加えて 1.0リットル pH 6.0 (定着液) (単位g) エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 0.5 亜硫酸ナトリウム 7.0 重亜硫酸ナトリウム 5.0 チオ硫酸アンモニウム水溶液(70%) 170.0ml 水を加えて 1.0リットル pH 6.7 (安定液) (単位g) ホルマリン(37%) 2.0ml ポリオキシエチレン−p−モノノニルフェニルエーテル (平均重合度10) 0.3 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 0.05 水を加えて 1.0リットル pH 5.0-8.0 前記表1より本発明の試料は、折り曲げ時のカブリ増加
が少なく、圧力性に優れること、高温低湿度条件でのカ
ブリ増加が少ないこと、およびMTF値で表わされる鮮
鋭性に優れることが明らかである。また、本発明ではP
−7で代表されるポリマーカプラーを併せて用いること
がさらに好ましいことがわかる。 実施例2 特開平3−157648号の実施例1の試料108の第
3層、第4層および第5層に本発明の化合物(CB−2
6)を0.005g/m2 、10.015g/m2 およ
び0.025g/m2 添加して、試料201を作製し
た。
Embedded image (Processing method) Process Processing time Processing temperature Color development 3 minutes 15 seconds 38 ℃ Bleaching 6 minutes 30 seconds 38 ℃ Washing with water 2 minutes 10 seconds 24 ℃ Settling 4 minutes 20 seconds 38 ℃ Washing with water (1) 1 minute 05 seconds 24 ℃ Washing with water (2) 1 min 00 sec 24 ℃ Stability 1 min 05 s 38 ℃ Dry 4 min 20 s 55 ℃ Next, write the composition of the treatment liquid. (Color developer) (Unit: g) Diethylenetriaminepentaacetic acid 1.0 1-Hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid 3.0 Sodium sulfite 4.0 Potassium carbonate 30.0 Potassium bromide 1.4 Potassium iodide 1.5 mg Hydroxylamine sulfate 2.4 4- [N- Ethyl-N-β-hydroxyethylamino] -2-methylaniline sulfate 4.5 Water was added to 1.0 liter pH 10.05 (bleaching solution) (unit g) Ethylenediaminetetraacetic acid ferric sodium trihydrate 100.0 Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt Salt 10.0 Ammonium bromide 140.0 Ammonium sulphate 30.0 Ammonia water (27%) 6.5 ml Add water 1.0 liter pH 6.0 (fixer) (unit g) Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 0.5 Sodium sulfite 7.0 Sodium bisulfite 5.0 Ammonium thiosulfate Aqueous solution (70%) 170.0 ml Water 1.0 liter pH 6.7 (stabilizing solution) (Unit: g) Formalin (37%) 2.0 ml Polyoxyethylene-p-monononylphenyl ether (Average degree of polymerization 10) 0.3 Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 0.05 Water to add 1.0 liter pH 5.0-8.0 From Table 1 above, the sample of the present invention has less increase in fog during bending, is excellent in pressure property, is less in increase in fog under high temperature and low humidity conditions, and is excellent in sharpness represented by MTF value. It is clear. In the present invention, P
It can be seen that it is more preferable to use the polymer coupler represented by -7 in combination. Example 2 The compound of the present invention (CB-2 was used for the third layer, the fourth layer and the fifth layer of the sample 108 of Example 1 of JP-A-3-157648.
6) 0.005g / m 2, 10.015g / m 2 and 0.025 g / m 2 was added, to prepare a sample 201.

【0259】該特許のS−1、S−2はそれぞれ本発明
の化合物(S−27)、(S−5)である。
S-1 and S-2 in this patent are the compounds (S-27) and (S-5) of the present invention, respectively.

【0260】これら試料を実施例と同様の評価を行なっ
たところ、本発明の試料201はMTF値で表わされる
鮮鋭性に優れ、折り曲げ時の発色濃度変動が少なく、ま
た保存時のカブリ増加も少ないことが確認された。
When these samples were evaluated in the same manner as in the examples, the sample 201 of the present invention was excellent in sharpness represented by the MTF value, had little variation in color density during bending, and had little increase in fog during storage. It was confirmed.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 支持体上に少なくとも一層の感光性乳剤
層を有し、かつアルデヒドスカベンジャーを含有するハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料において、下記化1に示
す一般式(I)および/または下記化2に示す一般式(I
I)で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲ
ン化銀カラー写真感光材料。 【化1】 一般式(I)中のAは、カプラー残基または酸化還元基
を表わし、L1 およびL3 は2価のタイミング基を表わ
し、L2 は3価もしくはそれ以上の結合手を有するタイ
ミング基を表わし、PUGは写真性有用基を表わす。j
とnはそれぞれ独立に0、1または2を表わす。mは1
または2を表わし、sはL2 の価数から1を引いた数で
あり2以上の整数を表わす、またL1 、L2 もしくはL
3 が分子内に複数個存在するとき、それらは全て同じで
あっても異なっていてもよい。また複数個存在するPU
Gは全て同じであっても異なっていてもよい。 【化2】 一般式(II)中のAとPUGは、一般式(I)と同義であ
る。L4 は−OCO−基、−OSO−基、−OSO2
基、−OCS−基、−SCO−基、−SCS−基または
−WCR1112−基を表わす。ここでWは酸素原子、硫
黄原子または3級アミノ基(−NR13−)を表わし、R
11およびR12はそれぞれ独立に水素原子または置換基を
表わし、R13は置換基を表わす。またR11、R12および
13の各々が2価基を表わし、連結して環状構造を形成
する場合も含む。L5 は共役系に沿った電子移動により
PUGを放出する基もしくはL4 で定義される基を表わ
す。
1. A silver halide color photographic light-sensitive material having at least one light-sensitive emulsion layer on a support and containing an aldehyde scavenger, represented by the general formula (I) shown below and / or The general formula (I
A silver halide color photographic light-sensitive material comprising a compound represented by I). Embedded image A in the general formula (I) represents a coupler residue or a redox group, L 1 and L 3 represent a divalent timing group, and L 2 represents a trivalent or higher-valent timing group. And PUG represents a photographically useful group. j
And n each independently represent 0, 1 or 2. m is 1
Or 2 and s is a number obtained by subtracting 1 from the valence of L 2 and represents an integer of 2 or more, and L 1 , L 2 or L
When 3 is present in plural in the molecule, they may all be the same or different. There are multiple PUs
All G's may be the same or different. Embedded image A and PUG in the general formula (II) have the same meaning as in the general formula (I). L 4 represents -OCO- group, -OSO- group, -OSO 2 -
It represents a group - group, -OCS- group, -SCO- group, -SCS- group or -WCR 11 R 12. Here, W represents an oxygen atom, a sulfur atom or a tertiary amino group (—NR 13 —), and R
11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R 13 represents a substituent. In addition, the case where each of R 11 , R 12 and R 13 represents a divalent group and is linked to form a cyclic structure is also included. L 5 represents a group that releases PUG by electron transfer along a conjugated system or a group defined by L 4 .
【請求項2】 一般式(I)および一般式(II)におい
て、AとPUGで表される基を除いた残基の式量が64
以上240以下であることを特徴とする請求項1記載の
ハロゲン化銀カラー写真感光材料。
2. The formula weight of the residue in the general formula (I) and the general formula (II) excluding the groups represented by A and PUG is 64.
2. The silver halide color photographic light-sensitive material according to claim 1, which is not less than 240 and not more than 240.
【請求項3】 ポリマーカプラーを含有することを特徴
とする請求項1または2いずれか記載のハロゲン化銀カ
ラー写真感光材料。
3. The silver halide color photographic light-sensitive material according to claim 1, which contains a polymer coupler.
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