JP2659638B2 - Method for producing micelle dispersion or micelle solubilizing solution, thin film and color filter - Google Patents

Method for producing micelle dispersion or micelle solubilizing solution, thin film and color filter

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JP2659638B2
JP2659638B2 JP26627291A JP26627291A JP2659638B2 JP 2659638 B2 JP2659638 B2 JP 2659638B2 JP 26627291 A JP26627291 A JP 26627291A JP 26627291 A JP26627291 A JP 26627291A JP 2659638 B2 JP2659638 B2 JP 2659638B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はミセル分散液あるいはミ
セル可溶化溶液,薄膜およびカラーフィルタの製造方法
に関し、詳しくは薄膜およびカラーフィルタを製造する
際、平衡濃度を最適化することにより粗大粒子の発生を
抑え、色度の制御が可能なミセル分散液あるいはミセル
可溶化溶液,薄膜およびカラーフィルタの製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a micelle dispersion or micellar solubilizing solution, a thin film and a color filter, and more particularly, to the production of a thin film and a color filter by optimizing the equilibrium concentration of coarse particles. The present invention relates to a method for producing a micelle dispersion or micelle solubilizing solution, a thin film, and a color filter capable of suppressing generation and controlling chromaticity.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
ミセル電解法による薄膜やカラーフィルタの製造法(特
開昭63−243298号公報,同63−505384
号公報)が知られているが、複数の疎水性有機物質の
(顔料など)を同時に製膜する方法については、特開平
2−129602号公報に記載されているのみであり、
また、その記載には、具体的に混合の組成比が規定され
ていなく、モル濃度表示になっている。すなわち、実施
例中に記載されているβ型銅フタロシアニンといって
も、製造法により比表面積が異なることや銅フタロシア
ニンは少なくとも1つの塩素が含まれていることや、顔
料中には高分散化のための分散剤やビヒクルが添加され
ているため、分子量も不明確であり、該公報からは、効
果的な薄膜やカラーフィルタの製造をすることはできな
かった。
2. Description of the Related Art
Production method of thin film and color filter by micellar electrolysis method (JP-A-63-243298, JP-A-63-505384)
Japanese Patent Application Laid-Open No. 129602/1990 only discloses a method for simultaneously forming a film of a plurality of hydrophobic organic substances (eg, pigments).
In the description, the composition ratio of the mixture is not specifically defined, but is expressed in molar concentration. That is, even if it refers to the β-type copper phthalocyanine described in the examples, the specific surface area differs depending on the production method, the copper phthalocyanine contains at least one chlorine, and the pigment has a high dispersion. Since the dispersing agent and the vehicle are added, the molecular weight is unclear, and from this publication, it was impossible to produce an effective thin film or color filter.

【0003】一方、2種類の疎水性有機物質を水溶液に
分散し、ミセル電解する場合、単純に2種類の分散液を
混合する方法と、特開平2−129602号公報に記載
されているように、はじめから2種類の疎水性有機物質
の混合粉末を分散する方法の2つの方法が考えられる。
しかし、カラーフィルタのような微細な特性(表面平滑
性、色均一性、ミクロサイズの薄膜構造の均一性)を制
御する場合、どちらの方法も問題がある。
On the other hand, when two kinds of hydrophobic organic substances are dispersed in an aqueous solution and micelle electrolysis is performed, a method of simply mixing the two kinds of dispersion liquids and a method described in JP-A-2-129602 are used. From the beginning, two methods of dispersing a mixed powder of two kinds of hydrophobic organic substances can be considered.
However, both methods have problems when controlling fine characteristics (surface smoothness, color uniformity, uniformity of a micro-sized thin film structure) such as a color filter.

【0004】前者では、一般に、単一疎水性有機物質の
分散液の最適平衡濃度が疎水性有機物質ごとで異なるた
め、2種類の分散液を混合すると、その平衡濃度の違い
によりどちらかの界面活性剤が一方の疎水性有機物質か
ら脱離し、もう一方の疎水性有機物質に吸着され、2つ
の液の平衡濃度が一定になろうとする。このとき、一方
の疎水性有機物質は界面活性剤が脱離するため、分散が
不安定になり、通電処理を行わなくても、通電処理によ
り形成される薄膜形成機構に従い、分散粒子の凝集が起
こる。このように凝集が溶液中で発生すると、当然、分
散粒子は粗大化し、この分散液を用いて電解処理によっ
て形成された薄膜は、粗大粒子のため均一性がとれなく
なる。具体的には、数μmの薄膜上に数十μmの粗大粒
子が析出し、透過率,平坦性,均一性,再現性に問題が
発生する。また、大きく剥離を起こすようにもなる。
[0004] In the former, generally, the optimum equilibrium concentration of a dispersion of a single hydrophobic organic substance differs for each hydrophobic organic substance. Therefore, when two types of dispersions are mixed, one of the interfaces is changed due to the difference in the equilibrium concentration. The activator is desorbed from one hydrophobic organic and adsorbed on the other, and the equilibrium concentrations of the two liquids tend to be constant. At this time, since the surfactant is eliminated from the one hydrophobic organic substance, the dispersion becomes unstable, and the aggregation of the dispersed particles is performed according to the thin film formation mechanism formed by the energization processing without performing the energization processing. Occur. When such agglomeration occurs in the solution, the dispersed particles are naturally coarsened, and the thin film formed by the electrolytic treatment using the dispersion cannot have uniformity due to the coarse particles. Specifically, coarse particles of several tens of μm are deposited on a thin film of several μm, which causes problems in transmittance, flatness, uniformity, and reproducibility. In addition, large peeling occurs.

【0005】後者では、2つの疎水性有機物質の混合物
質を均一に分散することができない。具体的には、分散
は超音波ホモジナイザーやサンドミルにより分散する
が、いずれの方法でも疎水性有機物質の粒径と表面物性
が等しくない限り、同じ条件では複数の疎水性有機物質
をすべて分散する条件を満足できず、最適分散は実現し
ない。更に、特開平2−129602号公報に記載され
ている実施例に従い、分散液の組成が異なるものを混合
すると、混合時に前記のように片方の疎水性有機物質
(顔料など)が沈澱あるいは凝集するといった不都合を
起こすため、ミセル電解法の製膜時に粗大粒子の発生
や、色分離、薄膜の剥離といった問題点が発生する。こ
れは、カラーフィルタを製造する場合、この現象は色む
ら、あるいは色ずれ、白抜け、平滑性の喪失といった不
都合をおこすのみならず、所望の色度に調製することが
できなくなるという問題点があった。さらに、剥離を起
こす場合には、カラーフィルタが製造できないという問
題が発生する。そこで本発明者らは、製膜時に粗大粒子
の発生や、色分離,薄膜の剥離を起こさず、自在に薄膜
及びカラーフィルタを形成することのできる方法を開発
すべく鋭意研究を重ねた。
In the latter, a mixture of two hydrophobic organic substances cannot be uniformly dispersed. Specifically, the dispersion is carried out by an ultrasonic homogenizer or a sand mill.In any case, unless the particle size and surface physical properties of the hydrophobic organic material are equal, the conditions for dispersing all the plurality of hydrophobic organic materials under the same conditions are used. Is not satisfied, and the optimal dispersion is not realized. Further, according to the example described in JP-A-2-129602, when different dispersion liquid compositions are mixed, one of the hydrophobic organic substances (eg, pigment) precipitates or aggregates as described above during mixing. Therefore, problems such as generation of coarse particles, color separation, and peeling of a thin film occur at the time of film formation by the micelle electrolytic method. This is a problem that, when a color filter is manufactured, this phenomenon not only causes inconsistencies such as uneven color, or misregistration, white spots, and loss of smoothness, but also makes it impossible to adjust to a desired chromaticity. there were. Further, when peeling occurs, there is a problem that a color filter cannot be manufactured. Therefore, the present inventors have intensively studied to develop a method that can freely form a thin film and a color filter without generating coarse particles, color separation, and peeling of the thin film during film formation.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】その結果、水性媒体のミ
セル分散液あるいはミセル可溶化溶液の平衡濃度を、特
定範囲に調整することにより、目的を達成することを見
出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したもの
である。
As a result, it has been found that the object can be achieved by adjusting the equilibrium concentration of the micelle dispersion or the micelle solubilization solution in an aqueous medium to a specific range. The present invention has been completed based on such findings.

【0007】すなわち、本発明は、無機物質あるいは疎
水性有機物質及びフェロセン誘導体界面活性剤を水性媒
体に分散するミセル分散液あるいはミセル可溶化溶液を
製造するにあたり、前記ミセル分散液あるいはミセル可
溶化溶液の平衡濃度を0.05〜2.8ミリモル/リットル
の範囲に調整してなるミセル分散液あるいはミセル可溶
化溶液の製造する方法を提供すると共に前記無機物質あ
るいは疎水性有機物質と支持塩を水性媒体中でフェロセ
ン誘導体界面活性剤を用いて分散あるいは可溶化して得
られるミセル分散液あるいはミセル可溶化液に導電性基
板を挿入し、前記基板に通電処理を行い薄膜を製造する
際に、上記ミセル分散液あるいはミセル可溶化溶液に支
持塩を加えてなる分散液あるいは溶液を用いる薄膜の製
造方法を提供し、かつ赤色,緑色,青色三原色の分光特
性を有する顔料あるいは染料を水性媒体中でフェロセン
誘導体界面活性剤を用いて得られるミセル分散液あるい
はミセル可溶化溶液に、パターニングされた透明導電薄
膜を有するカラーフィルタ製造用基板を挿入し、前記基
板に通電処理を行い、電極上に色素膜を形成するカラー
フィルタを製造するにあたり、前記ミセル分散液あるい
はミセル可溶化溶液の平衡濃度を0.05〜2.8ミリモル
/リットルの範囲に調整した少なくとも1色のミセル分
散液あるいはミセル可溶化溶液を用いるカラーフィルタ
の製造方法を提供するものである。
That is, the present invention relates to a method for producing a micelle dispersion or micelle solubilization solution in which an inorganic substance or a hydrophobic organic substance and a ferrocene derivative surfactant are dispersed in an aqueous medium. To provide a method for producing a micelle dispersion or micelle solubilized solution by adjusting the equilibrium concentration of 0.05 to 2.8 mmol / L, and to disperse the inorganic substance or the hydrophobic organic substance and the supporting salt in aqueous solution. When a conductive substrate is inserted into a micelle dispersion or micelle solubilized solution obtained by dispersing or solubilizing a ferrocene derivative surfactant in a medium, and applying a current to the substrate to produce a thin film, A method for producing a thin film using a dispersion or solution obtained by adding a supporting salt to a micelle dispersion or micelle solubilization solution, A color filter with a transparent conductive thin film patterned in a micelle dispersion or micelle solubilization solution obtained by using a ferrocene derivative surfactant in an aqueous medium with a pigment or dye having three primary colors of red, green and blue. When a production substrate is inserted and the substrate is subjected to an electric current treatment to produce a color filter for forming a dye film on an electrode, the equilibrium concentration of the micelle dispersion or the micelle solubilizing solution is adjusted to 0.05 to 2.8. An object of the present invention is to provide a method for producing a color filter using a micelle dispersion or a micelle solubilization solution of at least one color adjusted to a range of mmol / liter.

【0008】本発明において用いられる無機物質あるい
は疎水性有機物質としては、各種のものがある。例えば
フタロシアニン,フタロシアニンの金属錯体およびこれ
らの誘導体、ナフタロシアニン,ナフタロシアニンの金
属錯体およびこれらの誘導体、ポルフィリン,ポルフィ
リンの金属錯体およびこれらの誘導体、ペリレン,ペリ
レンの誘導体、キナクリドン,イソインドリノン,ジス
アゾ,ジオキサジン,ビオロゲン,スーダンおよびこれ
らの誘導体などのカラーフィルタ顔料や有機色素をはじ
め1,1’−ジヘプチル−4,4’−ビピリジニウムジ
ブロマイド,1,1’−ジドデシル−4,4’−ビピリ
ジニウムジブロマイドなどのエレクトロクロミック材
料,6−ニトロ−1,3,3−トリメチルスピロ−
(2’H−1’−ベンゾピラン−2,2’−インドリ
ン)(通称スピロピラン)などの感光材料(フォトクロ
ミック材料)や光センサー材料,p−アゾキシアニソー
ルなどの液晶表示用色素、更に「カラーケミカル事典」
株式会社シーエムシー,1988年3月28日発行の第
542〜717頁に列挙されているエレクトロニクス用
色素,記録用色素,環境クロミズム用色素,写真用色
素,エネルギー用色素,バイオメディカル用色素,食品
・化粧用色素,染料,顔料,特殊着色用色素のうちの疎
水性の化合物などがあげられる。また 7,7,8,8
−テトラシアノキノンジメタン(TCNQ)とテトラチ
アフルオレン(TTF)との1:1錯体などの有機導電
材料やガスセンサー材料,ペンタエリスリトールジアク
リレートなどの光硬化性塗料,ステアリン酸などの絶縁
材料,1−フェニルアゾ−2−ナフトールなどのジアゾ
タイプの感光材料や塗料等をあげることができる。さら
には、水に不溶性のポリマー、例えばポリカーボネー
ト,ポリスチレン,ポリエチレン,ポリプロピレン,ポ
リアミド,ポリフェニレンサルファイド(PPS),ポ
リフェニレンオキサイド(PPO),ポリアクリロニト
リル(PAN)などの汎用ポリマー、またポリフェニレ
ン,ポリピロール,ポリアニリン,ポリチオフェン,ア
セチルセルロース,ポリビニルアセテート,ポリビニル
ブチラールをはじめ、各種各様のポリマー(ポリビニル
ピリジンなど)あるいはコポリマー(メタクリル酸メチ
ルとメタクリル酸とのコポリマーなど)を挙げることが
できる。
There are various kinds of inorganic substances or hydrophobic organic substances used in the present invention. For example, phthalocyanine, phthalocyanine metal complexes and their derivatives, naphthalocyanine, naphthalocyanine metal complexes and their derivatives, porphyrin, porphyrin metal complexes and their derivatives, perylene, perylene derivatives, quinacridone, isoindolinone, disazo, 1,1′-diheptyl-4,4′-bipyridinium dibromide, 1,1′-didodecyl-4,4′-bipyridinium dibromide, including color filter pigments and organic dyes such as dioxazine, viologen, sudan and derivatives thereof Electrochromic materials such as 6-nitro-1,3,3-trimethylspiro-
Photosensitive materials (photochromic materials) such as (2'H-1'-benzopyran-2,2'-indoline) (commonly referred to as spiropyran), photosensor materials, dyes for liquid crystal display such as p-azoxyanisole, and "color chemicals" Encyclopedia "
Dyes for electronics, recording dyes, dyes for environmental chromism, photographic dyes, energy dyes, biomedical dyes, foods listed on pages 542 to 717 of CMC Co., Ltd., published on March 28, 1988. -Cosmetic dyes, dyes, pigments, and hydrophobic compounds among special coloring dyes. And 7,7,8,8
An organic conductive material such as a 1: 1 complex of tetracyanoquinonedimethane (TCNQ) and tetrathiafluorene (TTF), a gas sensor material, a photocurable paint such as pentaerythritol diacrylate, an insulating material such as stearic acid, Examples thereof include diazo-type photosensitive materials such as 1-phenylazo-2-naphthol and paints. Furthermore, water-insoluble polymers, for example, general-purpose polymers such as polycarbonate, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyamide, polyphenylene sulfide (PPS), polyphenylene oxide (PPO), polyacrylonitrile (PAN), and polyphenylene, polypyrrole, polyaniline, and polythiophene Acetylcellulose, polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, and various other polymers (eg, polyvinyl pyridine) or copolymers (eg, a copolymer of methyl methacrylate and methacrylic acid).

【0009】また、フェロセン誘導体界面活性剤(以下
ミセル化剤あるいは界面活性剤ともいう)とは、フェロ
セン誘導体を有効成分として含有する界面活性剤であ
り、非イオン性,カチオン性,アニオン性等各種のもの
がある。具体的には、特開昭63−243298号公報
に示されるようなアンモニウム型のフェロセン誘導体、
国際公開WO89/01939号明細書に示されるよう
なエーテル型のフェロセン誘導体やエステル型のフェロ
セン誘導体、特開平1−226894号公報に示される
ようなピリジニウム型のフェロセン誘導体、さらには特
開平2−88387号公報,同1−45370号公報,
同2−96585号公報,同2−250892号公報に
示されるような各種のフェロセン誘導体を挙げることが
できる。
[0009] Ferrocene derivative surfactants (hereinafter also referred to as micellizing agents or surfactants) are surfactants containing a ferrocene derivative as an active ingredient, and include various surfactants such as nonionic, cationic and anionic. There are things. Specifically, ammonium-type ferrocene derivatives as described in JP-A-63-243298,
Ether-type ferrocene derivatives and ester-type ferrocene derivatives as described in International Publication WO 89/01939, pyridinium-type ferrocene derivatives as described in JP-A-1-226894, and further JP-A-2-88387. Gazette, JP-A-1-45370,
Various ferrocene derivatives as disclosed in JP-A-2-96585 and JP-A-2-250892 can be exemplified.

【0010】次に、水性媒体としては、水をはじめ、水
とアルコールの混合液,水とアセトンの混合液など様々
な媒体をあげることができる。本発明では、上記無機物
質あるいは疎水性有機物質及びフェロセン誘導体界面活
性剤を上記水性媒体に分散し、ミセル分散液あるいはミ
セル可溶化溶液を製造する。なお、必要に応じて支持塩
を用いてもよい。
Next, examples of the aqueous medium include various media such as water, a mixed liquid of water and alcohol, and a mixed liquid of water and acetone. In the present invention, the above-mentioned inorganic substance or hydrophobic organic substance and a ferrocene derivative surfactant are dispersed in the above-mentioned aqueous medium to produce a micelle dispersion or a micelle solubilization solution. In addition, you may use a supporting salt as needed.

【0011】本発明のミセル分散液あるいはミセル可溶
化溶液の製造方法としては、例えば、上記水性媒体中に
上記無機物質あるいは疎水性有機物質,フェロセン誘導
体界面活性剤、また必要に応じて支持塩を水性媒体に入
れて、メカニカルホモジナイザー,超音波ホモジナイザ
ー,パールミル,サンドミル,スターラー,三本ロール
ミル等により充分攪拌することが挙げられる。この操作
で無機物質や疎水性有機物質は、界面活性剤の作用で、
水性媒体中に均一に分散あるいは可溶化して、ミセル分
散液あるいはミセル可溶化溶液となる。ここで、このミ
セル化剤の全濃度は、好ましくは0.1ミリモル/リット
ル〜1モル/リットルの範囲で選定する。また、無機物
質あるいは疎水性有機物質の濃度は、1〜500g/リ
ットルの範囲が好ましい。
The method for producing the micelle dispersion or micelle solubilizing solution of the present invention includes, for example, the above-mentioned inorganic substance or hydrophobic organic substance, a ferrocene derivative surfactant, and, if necessary, a supporting salt in the aqueous medium. In a water-based medium, sufficient stirring may be performed using a mechanical homogenizer, an ultrasonic homogenizer, a pearl mill, a sand mill, a stirrer, a three-roll mill, or the like. In this operation, inorganic substances and hydrophobic organic substances are acted on by surfactants.
It is uniformly dispersed or solubilized in an aqueous medium to form a micelle dispersion or a micelle solubilized solution. Here, the total concentration of the micellizing agent is preferably selected in the range of 0.1 mmol / L to 1 mol / L. The concentration of the inorganic substance or the hydrophobic organic substance is preferably in the range of 1 to 500 g / liter.

【0012】本発明のミセル分散液あるいはミセル可溶
化溶液の製造方法においては、必要に応じて支持塩(支
持電解質)を用いてもよい。この支持塩は、水性媒体の
電気伝導度を調節するために加えるものである。支持塩
の添加量は、可溶化あるいは分散している無機物質ある
いは疎水性有機物質の析出を妨げない範囲であればよ
く、通常は上記ミセル化剤の0〜300倍程度の濃度、
好ましくは50〜200倍程度の濃度を目安とする。こ
の支持塩を加えずに電解を行うこともできるが、この場
合支持塩を含まない純度の高い薄膜が得られる。また、
支持塩を用いる場合、その支持塩の種類は、ミセルの形
成や電極への無機物質あるいは疎水性有機物質の析出を
妨げることなく、水性媒体の電気伝導度を調節しうるも
のであれば特に制限はない。
In the method for producing a micelle dispersion or micelle solubilizing solution of the present invention, a supporting salt (supporting electrolyte) may be used as necessary. This supporting salt is added to adjust the electric conductivity of the aqueous medium. The addition amount of the supporting salt may be within a range that does not hinder the precipitation of the solubilized or dispersed inorganic substance or hydrophobic organic substance, and is usually about 0 to 300 times the concentration of the micellizing agent,
Preferably, the concentration is about 50 to 200 times. The electrolysis can be carried out without adding the supporting salt, but in this case, a thin film having a high purity containing no supporting salt can be obtained. Also,
When a supporting salt is used, the type of the supporting salt is not particularly limited as long as it can control the electric conductivity of the aqueous medium without hindering formation of micelles and precipitation of an inorganic substance or a hydrophobic organic substance on an electrode. There is no.

【0013】具体的には、一般に広く支持塩として用い
られている硫酸塩(リチウム,カリウム,ナトリウム,
ルビジウム,アルミニウムなどの塩),酢酸塩(リチウ
ム,カリウム,ナトリウム,ルビジウム,ベリリウム,
マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,バリウ
ム,アルミニウムなどの塩),ハロゲン化物塩(リチウ
ム,カリウム,ナトリウム,ルビジウム,カルシウム,
マグネシウム,アルミニウムなどの塩),水溶性酸化物
塩(リチウム,カリウム,ナトリウム,ルビジウム,カ
ルシウム,マグネシウム,アルミニウムなどの塩)が好
適である。
More specifically, sulfates (lithium, potassium, sodium,
Salts such as rubidium and aluminum), acetates (lithium, potassium, sodium, rubidium, beryllium,
Salts of magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, etc., and halide salts (lithium, potassium, sodium, rubidium, calcium,
Salts such as magnesium and aluminum) and water-soluble oxide salts (salts such as lithium, potassium, sodium, rubidium, calcium, magnesium, and aluminum) are preferred.

【0014】このミセル分散液あるいはミセル可溶化溶
液の構成で最も重要な因子は、無機物質あるいは疎水性
有機物質とミセル化剤(界面活性剤)の関係である。通
常、界面活性剤溶液に無機物質あるいは疎水性有機物質
を入れると界面活性剤が無機物質あるいは疎水性有機物
質の表面に吸着する。この吸着により溶液中の界面活性
剤濃度は低下する。十分な時間が経過すると吸着が平衡
に達し、この界面活性剤の水溶液中の濃度が一定にな
る。この状態での水溶液中の界面活性剤の濃度を平衡濃
度と称する。平衡濃度の測定は、遠心分離(1,000r
pm以上)により無機物質あるいは疎水性有機物質を完
全に分離し、水溶液中に残存する界面活性剤の濃度をプ
ラズマ発光分析(ICP)などの元素分析により決定す
ることにより求められる。本発明のフェロセン誘導体界
面活性剤については鉄の分析を行えばよい。
The most important factor in the composition of the micelle dispersion or micelle solubilizing solution is the relationship between the inorganic substance or hydrophobic organic substance and the micellizing agent (surfactant). Usually, when an inorganic substance or a hydrophobic organic substance is put into a surfactant solution, the surfactant is adsorbed on the surface of the inorganic substance or the hydrophobic organic substance. This adsorption lowers the surfactant concentration in the solution. After a sufficient time, the adsorption reaches equilibrium, and the concentration of this surfactant in the aqueous solution becomes constant. The concentration of the surfactant in the aqueous solution in this state is called an equilibrium concentration. The equilibrium concentration is measured by centrifugation (1,000 rpm).
pm or more) to completely separate the inorganic substance or the hydrophobic organic substance, and determine the concentration of the surfactant remaining in the aqueous solution by elemental analysis such as plasma emission analysis (ICP). The ferrocene derivative surfactant of the present invention may be analyzed for iron.

【0015】この平衡濃度を0.05ミリモル/リットル
以上に調整することにより、無機物質あるいは疎水性有
機物質を安定にかつ容易に分散することができる。ミセ
ル電解法の原理によれば、電気化学的に界面活性剤を酸
化し、その結果、無機物質あるいは疎水性有機物質に吸
着していた界面活性剤を脱離させる。この操作が繰り返
されると、最後には、吸着界面活性剤だけでは無機物質
あるいは疎水性有機物質を分散することができなくな
り、いくつかの無機物質あるいは疎水性有機物質粒子が
凝集し、表面積を小さくする。しかし、最後には、分散
しきれなくなり無機物質あるいは疎水性有機物質粒子を
析出させることとなる。従って、この原理を作用させる
ためには、逆に、界面活性剤の濃度即ち、平衡濃度が高
過ぎると、電解でいくら酸化しても十分な界面活性剤が
存在し、無機物質あるいは疎水性有機物質の凝集が起こ
らなくなり、かえって目的を達成できなくなる。本発明
におる、この平衡濃度の最適値は0.05〜2.80ミリモ
ル/リットルである。
By adjusting the equilibrium concentration to 0.05 mmol / L or more, inorganic substances or hydrophobic organic substances can be stably and easily dispersed. According to the principle of micellar electrolysis, a surfactant is electrochemically oxidized, and as a result, the surfactant adsorbed on an inorganic substance or a hydrophobic organic substance is desorbed. When this operation is repeated, finally, the adsorbed surfactant alone cannot disperse the inorganic substance or the hydrophobic organic substance, and some of the inorganic substance or the hydrophobic organic substance particles aggregate to reduce the surface area. I do. However, finally, the inorganic substance or the hydrophobic organic substance particles cannot be completely dispersed and are deposited. Therefore, in order for this principle to work, conversely, if the concentration of the surfactant, that is, the equilibrium concentration, is too high, sufficient surfactant exists even if oxidized by electrolysis, and inorganic substances or hydrophobic organic substances are present. Agglomeration of the substance does not occur, and the object cannot be achieved. In the present invention, the optimum value of the equilibrium concentration is 0.05 to 2.80 mmol / liter.

【0016】本発明では、上記で得られたミセル分散液
あるいはミセル可溶化溶液を用いて薄膜を製造する。本
発明において薄膜は、ミセル分散液あるいはミセル可溶
化溶液に上記支持塩を添加して、静置したまま、あるい
は若干の攪拌を加えながら導電性基板(透明電極)を用
いて電解処理することによって得られる。また、電解処
理中に上記の無機物質あるいは疎水性有機物質をミセル
分散液あるいはミセル可溶化溶液に補充添加してもよ
く、また、陽極近傍のミセル分散液あるいはミセル可溶
化溶液を系外へ抜き出し、抜き出したミセル分散液ある
いはミセル可溶化溶液に無機物質あるいは疎水性有機物
質を加えて充分に混合攪拌し、しかる後にこの液を陰極
近傍へ戻す循環回路を併設してもよい。このときの電解
条件は、各種状況に応じて適宜選定すればよいが、通常
は液温0〜90℃、好ましくは20〜70℃であり、ま
た電圧条件はミセル化剤であるフェロセン誘導体界面活
性剤の酸化還元電位以上で水素発生電位以下の電圧、具
体的には0.1〜1.5V、好ましくは0.3〜1.0Vとし、
電流密度は10mA/cm2 以下、好ましくは50〜3
00μA/cm2 とする。この電解処理を行うと、ミセ
ル電解法の原理にしたがった反応が進行する。これをフ
ェロセン誘導体中のFeイオンの挙動に着目すると、陽
極ではフェロセンのFe2+ がFe3+ となって、ミセルが
崩壊し、無機物質あるいは疎水性有機物質の粒子が陽極
(透明電極)上に析出する。一方、陰極では陽極で酸化
されたFe3+ がFe2+ に還元されてもとのミセルに戻る
ので、繰返し同じ溶液で製膜操作を行うことができる。
このようにして成形された薄膜には、必要に応じて焼付
(ベーク),純水洗浄,電界洗浄を行うことが好まし
い。なお、ミセル分散液あるいはミセル可溶化溶液を調
製時に、支持塩を用いた場合は新たに支持塩を添加する
必要はない。このようなミセル電解処理により、陽極
(透明電極)上には無機物質あるいは疎水性有機物質を
含んだ所望する薄膜が形成される。
In the present invention, a thin film is produced using the micelle dispersion or the micelle solubilizing solution obtained above. In the present invention, the thin film is prepared by adding the above-mentioned supporting salt to a micelle dispersion or a micelle solubilizing solution and subjecting it to electrolysis using a conductive substrate (transparent electrode) while standing or while slightly stirring. can get. In addition, the above-mentioned inorganic substance or hydrophobic organic substance may be supplementarily added to the micelle dispersion or the micelle solubilization solution during the electrolytic treatment, and the micelle dispersion or the micelle solubilization solution near the anode is extracted out of the system. Alternatively, a circulation circuit may be provided in which an inorganic substance or a hydrophobic organic substance is added to the extracted micelle dispersion or micelle solubilizing solution, mixed and stirred sufficiently, and then the liquid is returned to the vicinity of the cathode. The electrolysis conditions at this time may be appropriately selected according to various situations, but are usually at a liquid temperature of 0 to 90 ° C., preferably 20 to 70 ° C., and the voltage condition is a ferrocene derivative which is a micellizing agent. A voltage equal to or higher than the oxidation-reduction potential of the agent and equal to or lower than the hydrogen generation potential, specifically 0.1 to 1.5 V, preferably 0.3 to 1.0 V;
The current density is 10 mA / cm 2 or less, preferably 50 to 3
00 μA / cm 2 . When this electrolytic treatment is performed, a reaction proceeds according to the principle of the micelle electrolytic method. Focusing on the behavior of Fe ions in the ferrocene derivative, the Fe 2+ of the ferrocene becomes Fe 3+ at the anode, micelles collapse, and particles of an inorganic substance or a hydrophobic organic substance are deposited on the anode (transparent electrode). Precipitates out. On the other hand, at the cathode, Fe 3+ oxidized at the anode is reduced to Fe 2+ and returns to the original micelle, so that the film formation operation can be repeatedly performed with the same solution.
It is preferable that the thin film formed in this manner is subjected to baking (baking), pure water cleaning, and electric field cleaning as necessary. When a micelle dispersion or a micelle solubilizing solution is prepared, when a supporting salt is used, it is not necessary to newly add a supporting salt. By such micellar electrolysis, a desired thin film containing an inorganic substance or a hydrophobic organic substance is formed on the anode (transparent electrode).

【0017】ここで用いる導電性基板としては、アルミ
ニウムなどの板、あるいはガラス,ポリマー,セラミッ
ク等の絶縁性基板にITO,白金,グラファイト,ネサ
膜,クロム,ニッケル,酸化アンチモン等を薄膜として
付加した透明電極を用いることが好ましい。透明電極の
材料は、フェロセン誘導体の酸化電位(+0.15〜0.3
0V対飽和甘コウ電極)より貴な金属もしくは導電体で
あればよい。具体的にはITO,二酸化スズ,導電性高
分子フィルムなどが挙げられる。
As the conductive substrate used here, ITO, platinum, graphite, Nesa film, chromium, nickel, antimony oxide or the like is added as a thin film to a plate made of aluminum or the like or an insulating substrate made of glass, polymer, ceramic or the like. It is preferable to use a transparent electrode. The material of the transparent electrode is the oxidation potential of the ferrocene derivative (+0.15 to 0.3).
Any metal or conductor that is nobler than 0 V versus a saturated sweet potato electrode may be used. Specific examples include ITO, tin dioxide, and conductive polymer films.

【0018】また、本発明では、2種以上のミセル分散
液あるいはミセル可溶化溶液を用いて薄膜を製造するこ
ともできる。この製造方法は、上記1種類のミセル分散
液あるいはミセル可溶化溶液を用いた場合に準じればよ
い。但し、ミセル分散液あるいはミセル可溶化溶液の少
なくとも1つ以上の平衡濃度が0.1ミリモル/リットル
以上で、それぞれの平衡濃度差を1.2ミリモル/リット
ル以内となるよう調整するのが好ましい。また、ミセル
分散液あるいはミセル可溶化溶液を混合する際の混合方
法は、超音波分散(100〜10kWで5〜1000
分),スターラー攪拌(5〜200rpmで1〜500
分),メカニカルホモジナイザー(1〜30000rp
mで1〜1000分)が好ましい。
In the present invention, a thin film can be produced using two or more kinds of micelle dispersions or micelle solubilization solutions. This production method may be based on the case where one kind of the micelle dispersion or the micelle solubilizing solution is used. However, it is preferable that the equilibrium concentration of at least one of the micelle dispersion or the micelle solubilizing solution is adjusted to 0.1 mmol / L or more, and the difference between the equilibrium concentrations is adjusted to 1.2 mmol / L or less. The mixing method for mixing the micelle dispersion or the micelle solubilizing solution is ultrasonic dispersion (5 to 1000 at 100 to 10 kW).
Minutes), stirrer stirring (1 to 500 at 5-200 rpm)
Min), mechanical homogenizer (1 to 30,000 rp)
m is 1 to 1000 minutes).

【0019】また、カラーフィルタを構成するRGB
(R:赤色系色素,G:緑色系色素,B:青色系色素)
の色素膜を形成するには、例えば、三原色の色素を、フ
ェロセン誘導体界面活性剤を用いて分散あるいは可溶化
して、それぞれの色素含有ミセル分散溶液あるいはミセ
ル可溶化溶液を調製する。
In addition, RGB which constitutes a color filter
(R: red pigment, G: green pigment, B: blue pigment)
In order to form the dye film, for example, the three primary color dyes are dispersed or solubilized using a ferrocene derivative surfactant to prepare respective dye-containing micelle dispersion solutions or micelle solubilization solutions.

【0020】ここで用いられるRGBの分光特性を有す
る顔料あるいは染料、すなわち、RGBの疎水性色素と
しては以下のものが挙げられる。赤色色素としては、ペ
リレン系顔料,レーキ顔料,アゾ系顔料,ジアントラキ
ノン,キナクリドン系顔料,アントラキノン系顔料ある
いはアントラセン系顔料等があり、例えばペリレン顔
料,レーキ顔料(Ca,Ba,Sr,Mn),キナクリ
ドン,ナフトールAS,シコミン顔料,アントラキノ
ン,ジスアゾ(SudanI,II,III ,R),ベンゾピラ
ン,硫化カドミウム系顔料,Fe (III)酸化物系顔料な
どがあり、そのうちペリレン顔料やレーキ顔料が好まし
い。また、緑色色素としては、ハロゲン多置換フタロシ
アニン系顔料,ハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料
あるいはトリフェニルメタン系塩基性染料等があり、例
えばクロロ多置換フタロシアニン,その銅錯体あるいは
バリウム−トリフェニルメタン染料などがあり、青色色
素としては、銅フタロシアニン系顔料,インダンスロン
系顔料,インドフェノール系顔料あるいはシアニン系顔
料などがあり、例えばクロロ銅フタロシアニン,クロロ
アルミニウムフタロシアニン,バナジン酸フタロシアニ
ン,マグネシウムフタロシアニン,亜鉛フタロシアニ
ン,鉄フタロシアニン,コバルトフタロシアニンなどの
フタロシアニン金属錯体,フタロシアニン,メロシアニ
ンあるいはインドフェノールブルーなどがある。また、
色度調整用の黄色顔料として、ジスアゾ顔料,イソイン
ドリノン顔料等、紫色顔料として、ジオキサジン顔料も
用いることができる。また、上記疎水性有機物質は、そ
の形状や大きさ等に関しては特に制限はないが、好まし
くは粒径10μm以下の粉末が用いられる。
The pigments or dyes having the spectral characteristics of RGB used here, that is, the hydrophobic pigments of RGB include the following. Examples of the red pigment include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, dianthraquinone, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, and anthracene pigments. For example, perylene pigments, lake pigments (Ca, Ba, Sr, Mn), There are quinacridone, naphthol AS, shicomin pigment, anthraquinone, disazo (Sudan I, II, III, R), benzopyran, cadmium sulfide pigment, Fe (III) oxide pigment and the like, and among them, perylene pigment and lake pigment are preferable. Examples of the green colorant include halogen-substituted phthalocyanine pigments, halogen-substituted copper phthalocyanine pigments, and triphenylmethane-based basic dyes, such as chloro-polysubstituted phthalocyanines, copper complexes thereof, and barium-triphenylmethane dyes. Blue pigments include copper phthalocyanine pigments, indanthrone pigments, indophenol pigments and cyanine pigments, such as chlorocopper phthalocyanine, chloroaluminum phthalocyanine, vanadate phthalocyanine, magnesium phthalocyanine, zinc phthalocyanine, and the like. Examples include phthalocyanine metal complexes such as iron phthalocyanine and cobalt phthalocyanine, phthalocyanine, merocyanine, and indophenol blue. Also,
Disazo pigments and isoindolinone pigments can be used as yellow pigments for adjusting chromaticity, and dioxazine pigments can be used as purple pigments. The shape and size of the hydrophobic organic substance are not particularly limited, but powder having a particle size of 10 μm or less is preferably used.

【0021】カラーフィルタを構成するRGBの疎水性
色素薄膜を形成するには、R,G及びBの疎水性色素の
いずれか一つを水性媒体に加えて、上述の操作で所望色
調の薄膜を所望のパターンで形成し、次いで疎水性色素
の種類を変えて上述の操作を繰返し行えばよい。また、
ここでは2種以上のミセル分散液あるいはミセル可溶化
溶液を用いて所望の色素含有ミセル分散液あるいはミセ
ル可溶化溶液を調製してもよい。例えば、RとY(黄色
系色素)の色素含有ミセル分散液あるいはミセル可溶化
溶液をそれぞれ調製し、上記2種以上のミセル分散液あ
るいはミセル可溶化溶液を用いて薄膜を製造における混
合方法を用いればよい。但し、この場合の平衡濃度も上
記の範囲であることが好ましい。ここで、カラーフィル
タを製造する手順を説明する。本発明のカラーフィルタ
を製造する方法としては、種々のものが挙げられるが、
ここでは具体例として保護層/色素膜/ITO膜/シリ
カ膜/ブラックマトリックス(BM)/ガラス基板から
なるものを挙げる。先ず、BMを作成するため、ガラス
基板にCrをスパッタリング法等で形成し、その上に紫
外線硬化型レジスト剤を製膜後適度にプリベークする。
得られたレジスト/Cr/ガラス基板のレジスト面に適
当なマスクを用いて露光を行う。露光後、現像液にて硬
化していないレジストを洗い流し、露出したCrのエッ
チングを行う。エッチング後、不要なレジストを剥離さ
せることによりBMを作成することができる。次いで、
得られたBM上に絶縁層として例えばシリカをスピンコ
ート後、その上にITOを適当な表面抵抗を有するよう
にスパッタする。作成したITO膜/シリカ膜/BM/
ガラス基板のITO面上に紫外線硬化型レジスト剤を製
膜後適度にプリベークする。得られたレジスト/ITO
膜/シリカ膜/BM/ガラス基板のレジスト面に適当な
マスクを用いて露光を行う。露光後、現像液にて硬化し
ていないレジストを洗い流し、露出したITOのエッチ
ングを行う。エッチング後、不要なレジストを剥離させ
ることによりITOパターニングBM付き基板を作成す
ることができる。次いで、得られたITOパターニング
BM付き基板上に紫外線硬化型レジスト剤を製膜後適度
にプリベークする。得られたレジスト/ITO膜/シリ
カ膜/BM/ガラス基板のレジスト面に電極に当たる部
位に相当する適当なマスクを用いて露光を行う。露光
後、現像液にて硬化していないレジストを洗い流すこと
によって電極取り出し部位を形成することができる。そ
して、それぞれの色素含有ミセル分散液あるいはミセル
可溶化溶液を用いて、上記と同様のミセル電解操作を行
うことによって、基板上にカラーフィルタ薄膜を製造す
ることができる。その後、該カラーフィルタ薄膜基板に
構造補強樹脂をスピンコートしてカラーフィルタ上に保
護膜を形成することが好ましい。これによりカラーフィ
ルタの疎水性色素薄膜の空孔中に構造補強樹脂粒子が導
入されて疎水性色素薄膜の膜強度が向上する。ここで用
いられる構造補強樹脂としては、例えばアクリル系,エ
ステル系,ポリイミド系,環化ゴム系,シロキサン系,
エポキシ系の重合体あるいは共重合体が挙げられる。
In order to form an RGB hydrophobic dye thin film constituting a color filter, one of R, G and B hydrophobic dyes is added to an aqueous medium, and a thin film having a desired color tone is formed by the above operation. The above operation may be repeated by forming a desired pattern and then changing the type of the hydrophobic dye. Also,
Here, a desired dye-containing micelle dispersion or micelle solubilization solution may be prepared using two or more kinds of micelle dispersions or micelle solubilization solutions. For example, a micelle dispersion or a micelle solubilization solution containing R and Y (yellow dye) is prepared, and a mixing method in the production of a thin film using the two or more micelle dispersions or micelle solubilization solutions is used. I just need. However, the equilibrium concentration in this case is also preferably within the above range. Here, a procedure for manufacturing a color filter will be described. As a method for producing the color filter of the present invention, various methods can be mentioned,
Here, a specific example includes a protective layer / dye film / ITO film / silica film / black matrix (BM) / glass substrate. First, in order to form a BM, Cr is formed on a glass substrate by a sputtering method or the like, and a UV curable resist agent is formed thereon and then appropriately prebaked after forming the film.
Exposure is performed on the resist surface of the obtained resist / Cr / glass substrate using an appropriate mask. After the exposure, the uncured resist is washed away with a developing solution, and the exposed Cr is etched. After etching, the BM can be formed by removing unnecessary resist. Then
After spin-coating, for example, silica as an insulating layer on the obtained BM, ITO is sputtered thereon so as to have an appropriate surface resistance. ITO film / silica film / BM /
A UV curable resist is formed on the ITO surface of the glass substrate and then appropriately prebaked. Obtained resist / ITO
Exposure is performed on the resist surface of the film / silica film / BM / glass substrate using an appropriate mask. After exposure, the uncured resist is washed away with a developing solution, and the exposed ITO is etched. After the etching, an unnecessary resist is peeled off, whereby a substrate with an ITO patterned BM can be formed. Next, a UV curable resist is formed on the obtained substrate with the ITO patterning BM and then appropriately prebaked after forming the film. Exposure is performed on the resist surface of the obtained resist / ITO film / silica film / BM / glass substrate using an appropriate mask corresponding to a portion corresponding to an electrode. After the exposure, the uncured resist is washed away with a developing solution to form an electrode take-out site. Then, a color filter thin film can be manufactured on a substrate by performing the same micellar electrolysis operation as above using each of the dye-containing micelle dispersions or micelle solubilizing solutions. Thereafter, it is preferable to form a protective film on the color filter by spin-coating the color filter thin film substrate with a structural reinforcing resin. Thereby, the structural reinforcing resin particles are introduced into the pores of the hydrophobic dye thin film of the color filter, and the film strength of the hydrophobic dye thin film is improved. Examples of the structural reinforcing resin used here include acrylic, ester, polyimide, cyclized rubber, siloxane, and the like.
Epoxy polymers or copolymers are exemplified.

【0022】さらに、得られたカラーフィルタには、必
要に応じて焼付(ベーク),純水洗浄,電界洗浄を行う
ことが好ましい。特にベークを行えば、さらに安定なカ
ラーフィルタが得られる。これは熱処理により前述した
粒子同士がシンタリングを起こし、より密で粒子同士の
結合力の強い膜が得られ、膜の安定性が増すものと思わ
れる。この熱処理は、例えば電気炉中などで行われる
が、薄膜を加熱することができる方法であれば、特に制
限されるものではない。加熱温度および加熱時間は、疏
水性物質の種類により異なるが、ミセル電解法で形成さ
れた膜が閉孔されず、結合力が強くなる範囲であればよ
く、好ましくは80〜200℃、さらに好ましくは80
〜150℃で、好ましくは5分〜10時間、さらに好ま
しくは30分〜2時間の範囲である。
Further, the obtained color filter is preferably subjected to baking, baking, pure water cleaning and electric field cleaning as required. In particular, if baking is performed, a more stable color filter can be obtained. This is presumably because the heat treatment causes sintering of the above-mentioned particles, thereby obtaining a denser film having a stronger bonding force between the particles and increasing the stability of the film. This heat treatment is performed, for example, in an electric furnace, but is not particularly limited as long as the thin film can be heated. The heating temperature and the heating time are different depending on the kind of the hydrophobic substance, but may be within a range in which the membrane formed by the micellar electrolysis method is not closed and the bonding strength is strong, preferably 80 to 200 ° C, more preferably. Is 80
The temperature is preferably in the range of from 5 minutes to 10 hours, more preferably from 30 minutes to 2 hours.

【0023】次に、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明する。 実施例1 リオノゲンレッドGDの添加量を15.65gとし、水溶
液中におけるリオノゲンレッドGD15.65gへの下記
式(I)で表されるフェロセン誘導体ミセル化剤FPE
G(同仁化学(株)製)の吸着量を決定するため、50
0ミリリットルの純水にリオノゲンレッドGD15.65
g,FPEGの濃度2.0ミリモル,LiBr10.4g
(0.1モル)それぞれ添加し、1リットルとなるように
純水をさらに加えた。十分に平衡になるようにスターラ
ーで3日間攪拌し、1日静置した。その後、50,000
rpmで遠心分離し、顔料のみを分離した。上澄み液を
ICPを用いて金属鉄元素分析を行い、吸着量を測定し
た。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Example 1 A ferrocene derivative micellizing agent FPE represented by the following formula (I) was added to 15.65 g of lionogen red GD in an aqueous solution with an addition amount of lionogen red GD of 15.65 g.
G (made by Dojin Chemical Co., Ltd.)
Rionogen Red GD15.65 in 0ml pure water
g, concentration of FPEG 2.0 mmol, 10.4 g of LiBr
(0.1 mol), and pure water was further added to make up to 1 liter. The mixture was stirred with a stirrer for 3 days so as to obtain a sufficient equilibrium, and allowed to stand for 1 day. Then 50,000
Centrifugation was performed at rpm to separate only the pigment. The supernatant was subjected to metal iron elemental analysis using ICP, and the amount of adsorption was measured.

【化1】 その結果、リオノゲンレッドGD15.65gへのFPE
Gの吸着量は1.05ミリモルであり、フェロセン誘導体
ミセル化剤FPEGの平衡濃度を0.46ミリモル/リッ
トルとするため、FPEGを合計1.51ミリモル/リッ
トル添加した。次いで、実際に1リットルの純水にフェ
ロセン誘導体ミセル化剤としてFPEG(同仁化学製)
を1.51ミリモル(1.416g)、支持塩としてLiB
r(和光純薬製)を0.1モル(10.4g)と疎水性色素
としてリオノゲンレッドGD(東洋インキ製)を15.6
5g加えてミセル化分散液とし、超音波ホモジナイザー
で30分間分散させ、ミセル分散液とした。100Ω/
□のITO基板を前記ミセル分散液に挿入し、ポテンシ
ョスタットを接続し、対極はステンレス基板を用い、0.
5V,10分間の定電位電解を行い、疎水性有機物質薄
膜を得た。その後、純水で洗浄後、オーブンにてプリベ
ーク(120℃で10分間)し薄膜を得た。得られた薄
膜の評価を次のように行った。表面の凸凹はディックタ
ック(触針式接触膜厚計)を用いて100mmスキャン
して測定した。薄膜の透過率は大塚電子製,MCPD分
光光度計を用いた。
Embedded image As a result, FPE to 15.65 g of Lionogen Red GD
The amount of G adsorbed was 1.05 mmol, and a total of 1.51 mmol / L of FPEG was added in order to bring the equilibrium concentration of the ferrocene derivative micellizing agent FPEG to 0.46 mmol / L. Then, FPEG (manufactured by Dojin Chemical) as a ferrocene derivative micellizing agent was actually added to 1 liter of pure water.
1.51 mmol (1.416 g), LiB as a supporting salt
r (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) is 0.1 mol (10.4 g), and 15.6 g of Rionogen Red GD (manufactured by Toyo Ink) as a hydrophobic dye is used.
5 g was added to obtain a micellar dispersion, which was dispersed for 30 minutes with an ultrasonic homogenizer to obtain a micelle dispersion. 100Ω /
Insert the ITO substrate into the micelle dispersion, connect a potentiostat, and use a stainless steel substrate for the counter electrode.
Electrostatic potential electrolysis was performed at 5 V for 10 minutes to obtain a hydrophobic organic substance thin film. Then, after washing with pure water, prebaking (120 ° C. for 10 minutes) in an oven was performed to obtain a thin film. The obtained thin film was evaluated as follows. The unevenness of the surface was measured by Dick Tack (a stylus type contact film thickness meter) by scanning 100 mm. The transmittance of the thin film was measured using an MCPD spectrophotometer manufactured by Otsuka Electronics.

【0024】実施例2〜56及び比較例1〜4 実施例1において、第1表に示す条件以外は実施例1と
同様に操作した。得られた結果は第2表に示す。
Examples 2 to 56 and Comparative Examples 1 to 4 In the same manner as in Example 1, except that the conditions shown in Table 1 were used. The results obtained are shown in Table 2.

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】[0026]

【表2】 [Table 2]

【0027】[0027]

【表3】 [Table 3]

【0028】[0028]

【表4】 [Table 4]

【0029】[0029]

【表5】 [Table 5]

【0030】[0030]

【表6】 [Table 6]

【0031】[0031]

【表7】 [Table 7]

【0032】[0032]

【表8】 [Table 8]

【0033】[0033]

【表9】 [Table 9]

【0034】[0034]

【表10】 [Table 10]

【0035】[0035]

【表11】 [Table 11]

【0036】[0036]

【表12】 [Table 12]

【0037】[0037]

【表13】 [Table 13]

【0038】[0038]

【表14】 [Table 14]

【0039】[0039]

【表15】 [Table 15]

【0040】[0040]

【表16】 [Table 16]

【0041】実施例57 実施例32〜35と実施例14〜17で作製した溶液を
用い、第3表に示す組合せでそれぞれを混合し、実施例
1と同じ条件で製膜した。結果として、混合液の安定性
と製膜の状態を観察した。溶液の内、凝集沈澱の見られ
たものは、組合せ表に凝集と記載した。また、薄膜中の
粗大粒子を電子顕微鏡で測定し、粒径0.5μm以下でも
のを表中「○」印とし、0.5μm以上で表面が粗いもの
は「×」印とした。さらに、粗大粒子はないが、薄膜が
極薄い場合には「薄い」と記載し、剥離をおこした場合
には「剥離」と記載した。その結果、平衡濃度のうち少
なくとも1つが0.1ミリモル/リットル以上で、平衡濃
度差が1.2ミリモル/リットル以内の混合分散液では、
薄膜中の粗大粒子が0.5μm以下となり、薄膜の剥離、
溶液の凝集沈澱もなく、安定な分散液を得られると同時
に良好な薄膜を得ることができた。
Example 57 The solutions prepared in Examples 32 to 35 and Examples 14 to 17 were mixed in the combinations shown in Table 3 to form a film under the same conditions as in Example 1. As a result, the stability of the mixed solution and the state of the film formation were observed. Among the solutions, those in which aggregation precipitation was observed were described as aggregation in the combination table. The coarse particles in the thin film were measured with an electron microscope, and those having a particle size of 0.5 μm or less were marked with “○” in the table, and those having a particle size of 0.5 μm or more with a rough surface were marked with “X”. Furthermore, although there were no coarse particles, when the thin film was extremely thin, it was described as "thin", and when it was peeled, it was described as "peeling". As a result, in a mixed dispersion in which at least one of the equilibrium concentrations is not less than 0.1 mmol / l and the difference in the equilibrium concentration is within 1.2 mmol / l,
Coarse particles in the thin film become 0.5 μm or less, peeling of the thin film,
A stable dispersion was obtained without coagulation and precipitation of the solution, and a good thin film was obtained at the same time.

【0042】[0042]

【表17】 [Table 17]

【0043】実施例58 (1)ITOのパターニング ITO膜として20Ω/□の面抵抗を持つガラス基板
(青板ガラスを研磨しシリカに浸積したもの:松崎真空
製)に紫外線硬化型レジスト剤(IC−28/T3:富
士ハントエレクトロニクステクノロジー社製)をキシレ
ンで2倍に希釈した溶液を1,000rpmの回転速度で
スピンコートした。スピンコート後、80℃で15分間
プリベークを行い、その後、このレジスト/ITO基板
を露光機にセットした。このとき用いるマスクは、線幅
100cm・ギャップ20cm,線長230mm,19
20本のストライプ縦パターンで、光源は2kWの高圧
水銀灯を用いた(露光能力:10mW/(cm2
s))。プロキシミティギャップ70cmをとり、60
秒間で露光し現像後、純水にてリンスして、180℃で
ホストベークした。次に、エッチャントとして1規定F
eCl3 ・1規定HCl・0.1規定HNO3 ・0.1規定
Ce(NO3 4 の混合水溶液を準備し、前記基板のI
TOをエッチングした。エッチングの終点は電気抵抗に
より測定した。前記エッチングには約20分の時間を必
要とした。エッチング後、純水でリンスし、レジストを
1規定NaOHにて剥離した。
Example 58 (1) Patterning of ITO A glass substrate (polished blue plate glass and immersed in silica: manufactured by Matsuzaki Vacuum) having a sheet resistance of 20 Ω / □ as an ITO film was coated with an ultraviolet curable resist agent (IC). A solution of -28 / T3 (manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.) diluted twice with xylene was spin-coated at a rotation speed of 1,000 rpm. After spin coating, prebaking was performed at 80 ° C. for 15 minutes, and then the resist / ITO substrate was set in an exposure machine. The mask used at this time has a line width of 100 cm, a gap of 20 cm, a line length of 230 mm, and 19 mm.
A 20 kW high-pressure mercury lamp was used as a light source (exposure ability: 10 mW / (cm 2.
s)). Take the proximity gap 70cm,
After exposure for 2 seconds and development, the substrate was rinsed with pure water and baked at 180 ° C. Next, as an etchant, 1F
A mixed aqueous solution of eCl 3 .1 N HCl, 0.1 N HNO 3 .0.1 N Ce (NO 3 ) 4 was prepared, and I.sub.
The TO was etched. The end point of the etching was measured by electric resistance. The etching required about 20 minutes. After the etching, the resist was rinsed with pure water, and the resist was peeled off with 1N NaOH.

【0044】(2)BMの作成 BM形成レジスト剤として、富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー社製のカラーモザイクCKに同CR,C
G,CBをそれぞれ、3:1:1:1重量部混合したも
のを用いた。(1)で作製したITOパターニングカラ
ス基板を10rpmで回転させ、この上に上記レジスト
剤30cc噴霧し、スピンコートの回転数2,500rp
mで、基板上に均一に製膜した。次いで、この基板を8
0℃で15分間プリベークした。そして、高圧水銀灯2
kWのアライメント機能のある露光機で位置合わせしな
がら、BMのデザイン(90×310cm角−20cm
線幅)マスクを用いて露光した。光源は2kWの高圧水
銀灯(露光能力:100mJ/cm2 )を用いた。プロ
キシミティギャップ70μmをとり、200秒間露光し
た後、アルカン現像液で現像し、その後、富士ハントC
D(現像液)を純水4倍希釈し、30秒現像した。さら
に、純水で洗浄し、200℃、100分間ポストベーク
した。
(2) Preparation of BM As a BM forming resist agent, a color mosaic CK manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.
A mixture of G and CB in a ratio of 3: 1: 1: 1 parts by weight was used. The ITO patterned crow substrate prepared in (1) was rotated at 10 rpm, and 30 cc of the above-described resist agent was sprayed thereon, and the number of revolutions of spin coating was 2,500 rpm.
m, a film was uniformly formed on the substrate. Then, this substrate was
Prebaked at 0 ° C for 15 minutes. And high pressure mercury lamp 2
BM design (90 × 310 cm square-20 cm) while aligning with an exposure machine with kW alignment function
(Line width) Exposure was performed using a mask. The light source used was a 2 kW high-pressure mercury lamp (exposure ability: 100 mJ / cm 2 ). After taking a proximity gap of 70 μm and exposing it for 200 seconds, it is developed with an alkane developer.
D (developer) was diluted 4 times with pure water and developed for 30 seconds. Further, the substrate was washed with pure water and post-baked at 200 ° C. for 100 minutes.

【0045】Rの混合ミセル分散液として、実施例1で
調製したリオノゲンレッドGD(東洋インキ製)のミセ
ル分散液と実施例26で調製したリオノールイエロー
(東洋インキ製)を各々超音波ホモジナイザーで30分
間分散させた後、9:1(体積比)の割合でそれぞれの
液を混合し、さらに、混合液を超音波ホモジナイザーで
30分間分散させた。Gの混合ミセル分散液として、実
施例17で調製したファストゲングリーンS(大日本イ
ンキ製)のミセル分散液と実施例29で調製したシミラ
ーファーストイエロー4GT(大日本インキ製)を各々
超音波ホモジナイザーで30分間分散させた後、6:4
(体積比)の割合でそれぞれの液を混合し、さらに、混
合液を超音波ホモジナイザーで30分間分散させた。B
の混合ミセル分散液として、実施例44で調製したヘリ
オゲンブル−K6902(BASF製)のミセル分散液
と実施例54で調製したファストバイオレット2312
(山陽色素製)を各々超音波ホモジナイザーで30分間
分散させた後、7:3(体積比)の割合でそれぞれの液
を混合し、さらに、混合液を超音波ホモジナイザーで3
0分間分散させた。
As the mixed micelle dispersion of R, the micellar dispersion of Rionogen Red GD (manufactured by Toyo Ink) prepared in Example 1 and the lionol yellow (manufactured by Toyo Ink) prepared in Example 26 were each subjected to ultrasonic wave. After dispersing with a homogenizer for 30 minutes, the respective liquids were mixed at a ratio of 9: 1 (volume ratio), and the mixed liquid was further dispersed with an ultrasonic homogenizer for 30 minutes. As a mixed micelle dispersion of G, a micelle dispersion of Fastogen Green S (manufactured by Dainippon Ink) prepared in Example 17 and a Similar First Yellow 4GT (manufactured by Dainippon Ink) prepared in Example 29 were subjected to ultrasonic waves, respectively. After dispersing with a homogenizer for 30 minutes, 6: 4
The respective liquids were mixed at a ratio of (volume ratio), and the mixed liquid was further dispersed with an ultrasonic homogenizer for 30 minutes. B
The micellar dispersion of Heliogen-K6902 (manufactured by BASF) prepared in Example 44 and the fast violet 2312 prepared in Example 54
(Manufactured by Sanyo Pigment Co., Ltd.) were dispersed with an ultrasonic homogenizer for 30 minutes, and then mixed at a ratio of 7: 3 (volume ratio).
Dispersed for 0 minutes.

【0046】前記ITOパターニング基板をRの前記ミ
セル溶液に挿入し、ストライプのR列にポテンショスタ
ットを接触した。電圧0.8Vで15分間の定電位電解を
行い、カラーフィルタRの薄膜を得た。その後、純水で
洗浄後、オーブンにてプリベーク(120℃で10分
間)した。次に、この基板をGの前記ミセル溶液挿入
し、同様に電圧0.4Vで18分間の定電位電解を行い、
カラーフィルタGの薄膜を得た。製膜後、Rの製膜と同
じ条件で後処理を行った。最後に、この基板をBの前記
ミセル溶液挿入し、電圧0.7Vで10分間の定電位電解
を行い、カラーフィルタBの薄膜を得た。製膜後、Rの
製膜と同じ条件で後処理を行い、RGBのカラーフィル
タ色素薄膜を得た。
The ITO patterned substrate was inserted into the micelle solution of R, and a potentiostat was brought into contact with the R row of the stripe. Electrostatic potential electrolysis was performed at a voltage of 0.8 V for 15 minutes to obtain a color filter R thin film. Then, after washing with pure water, it was prebaked (at 120 ° C. for 10 minutes) in an oven. Next, the substrate was inserted into the micelle solution of G, and similarly, constant potential electrolysis was performed at a voltage of 0.4 V for 18 minutes.
A thin film of the color filter G was obtained. After film formation, post-treatment was performed under the same conditions as for the film formation of R. Finally, this substrate was inserted into the micelle solution of B, and subjected to constant potential electrolysis at a voltage of 0.7 V for 10 minutes to obtain a color filter B thin film. After film formation, post-processing was performed under the same conditions as for the film formation of R, and an RGB color filter dye thin film was obtained.

【0047】前記色素薄膜基板をスピンコーターにセッ
トし、平担膜剤としてOS−808(長瀬産業製)をデ
ィスペンサーを用いて塗布した。このとき、基板を10
rpmの回転数でゆっくり回転し、基板全体に班なく塗
った。さらに800rpmで2分間回転し、均一な薄膜
を得た。その後、260℃で2時間ベークし硬化させ保
護膜を形成した。
The dye thin film substrate was set on a spin coater, and OS-808 (manufactured by Nagase Sangyo) was applied as a flat film-forming agent using a dispenser. At this time, the substrate
The substrate was slowly rotated at a rotation speed of rpm, and the entire substrate was applied without gaps. It was further rotated at 800 rpm for 2 minutes to obtain a uniform thin film. Thereafter, the film was baked and cured at 260 ° C. for 2 hours to form a protective film.

【0048】実施例59 (1)ブラックマトリックスの作成 無アルカリガラス基板(NA45/300角−1.1m
m;HOYA製)に、Cr薄膜を約2,000Åスパッタ
した(アルパック製のSDP−550VTを用い
た。)。この上に紫外線硬化型レジスト剤(IC−28
/T3;富士ハントエレクトロニクステクノロジー社
製)を1,000rpmの回転速度でスピンコート後、8
0℃で15分間プリベークを行った。その後、このレジ
スト/Cr/ガラス基板をステッパー露光機にセット
し、マスク(画素サイズ90cm×310cm・線幅2
0cm、有効エリア160mm×155mmの格子パタ
ーンを4分割したマスク)を用いて露光(10mW/c
2 ・sスキャンスピード5mm/秒)した。露光後、
専用の現像液にて現像し、純水にてリンスした後、15
0℃でポストベークした。次にエッチャントとして1規
定HCl・0.1規定HNO3 ・0.1規定Ce(NO3
4 の混合水溶液を準備し、前記基板のCrをエッチング
した。エッチングの終点は電気抵抗により測定した。前
記エッチングには約20分の時間を必要とした。エッチ
ング後、純水でリンスし、レジストを1規定NaOHに
て剥離し、純水で十分に洗浄し、ブラックマトリックス
(BM:図1参照)を作成した。
Example 59 (1) Preparation of black matrix Non-alkali glass substrate (NA45 / 300 square-1.1 m
m; HOYA) was sputtered with a Cr thin film at a rate of about 2,000 ° (using SDP-550VT manufactured by Alpac). On top of this, an ultraviolet curable resist agent (IC-28)
/ T3; manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd.) at a rotation speed of 1,000 rpm, and then spin-coated.
Prebaking was performed at 0 ° C. for 15 minutes. Then, the resist / Cr / glass substrate was set on a stepper exposure machine, and a mask (pixel size 90 cm × 310 cm × line width 2) was used.
Exposure (10 mW / c) using a mask that divides a grid pattern of 0 cm and an effective area of 160 mm × 155 mm into four parts
m 2 · s scan speed 5 mm / sec). After exposure,
After developing with a special developer and rinsing with pure water,
Post-baked at 0 ° C. Next, 1N HCl · 0.1N HNO 3 · 0.1N Ce (NO 3 ) is used as an etchant.
The mixed aqueous solution of No. 4 was prepared, and Cr of the substrate was etched. The end point of the etching was measured by electric resistance. The etching required about 20 minutes. After the etching, the substrate was rinsed with pure water, the resist was peeled off with 1N NaOH, and sufficiently washed with pure water to prepare a black matrix (BM: see FIG. 1).

【0049】(2)ITOパターニングBM付基板の作
成 次に、このBM上に絶縁膜としてOCDTYE−7(シ
リカ;東京応化製)を1,000rpmの回転速度でスピ
ンコートして、250℃で60分間ベークした後、室温
まで冷却し、さらに、アルパック:SDP−550VT
に機板をセットし、機板の上からITOを約1,300Å
スパッタした。このときワークを200℃としてITO
の表面抵抗を20Ω/□に調整した。得られたITO膜
/シリカ/Cr/ガラス基板に紫外線硬化型レジスト剤
(IC−28/T3;富士ハントエレクトロニクステク
ノロジー社製)を1,000rpmの回転速度でスピンコ
ートして、80℃で15分間プリベークを行った。次い
で、このレジスト/ITO/シリカ/Cr/ガラス基板
をコンタクト露光機(露光能力:10mW/cm2
s)にセットし、パターニングを行った。用いたマスク
は、線幅92cm・ギャップ18cm,線長155mm
の縦ストライブパターンである。光源は2kWの高圧水
銀灯を用いた。アライメントした後、ブロキシミティギ
ャップ50cmをとり、15秒間露光した後、アルカン
現像液にて現像した。現像後、純水にてリンスした後、
150℃でポストベークした。次に、エッチャントとし
て1規定FeCl3 ・1規定HCl,0.1規定HNO3
・0.1規定Ce(NO3 4 の混合水溶液を準備し、前
記基板のITOをエッチングした。エッチングの終点は
電気抵抗により測定した。前記エッチングには約20分
の時間を必要とした。エッチング後、純水でリンスし、
レジストを1規定NaOHにて剥離し、さらに純水で洗
浄してITO電極の隣接同志の電気的リークがないこと
を確認して、ITOパターニングBM付基板を作成し
た。
(2) Preparation of substrate with ITO patterning BM Next, OCDTYE-7 (silica; manufactured by Tokyo Ohka) is spin-coated as an insulating film on this BM at a rotation speed of 1,000 rpm. After baking for 2 minutes, the mixture was cooled to room temperature, and further, Alpac: SDP-550VT
Set the machine plate on the board and apply ITO about 1,300 機 from above the machine plate.
Sputtered. At this time, the work was set to 200 ° C and the ITO
Was adjusted to 20Ω / □. The obtained ITO film / silica / Cr / glass substrate was spin-coated with an ultraviolet-curable resist agent (IC-28 / T3; manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology) at a rotation speed of 1,000 rpm, and then at 80 ° C. for 15 minutes. Pre-baked. Next, this resist / ITO / silica / Cr / glass substrate was placed in a contact exposure machine (exposure ability: 10 mW / cm 2.
s) and patterning was performed. The mask used was 92 cm in line width, 18 cm in gap, and 155 mm in line length.
Is a vertical stripe pattern. As a light source, a 2 kW high-pressure mercury lamp was used. After the alignment, a 50-cm broximity gap was taken, exposed for 15 seconds, and developed with an alkane developer. After development, rinse with pure water,
Post-baked at 150 ° C. Next, as an etchant, 1N FeCl 3 .1N HCl, 0.1N HNO 3
A mixed aqueous solution of 0.1N Ce (NO 3 ) 4 was prepared, and the ITO of the substrate was etched. The end point of the etching was measured by electric resistance. The etching required about 20 minutes. After etching, rinse with pure water,
The resist was peeled off with 1N NaOH, and further washed with pure water. After confirming that there was no electric leak between adjacent ITO electrodes, a substrate with an ITO patterned BM was prepared.

【0050】(3)電極取出帯の作成 アクリル系レジスト(CT;富士ハントエレクトロニク
ステクノロジー社製)を電極取出しとして用いた。上記
(2)で作成した前記ITOパターニングBM付き基板
を10rpmで回転させ、この上にこの前記レジスト剤
IC−28/T3を30cc噴霧して、スピンコートの
回転数を1,500rpmにし、基板上に均一に製膜し
た。この基板を80℃で15分間プリベークして、高圧
水銀灯2kWのアライメント機能のあるコンタクト露光
機で位置合わせしながら、電極取出帯の部分のみ作成す
るデザインのマスク(図2:太線内は光が当たらない部
分)を用いて露光した。その後、現像液で90秒現像し
た後、純水で洗浄し、180℃,100分間ポストベー
クした。こうして、電極取出帯を得た。取り出された電
極列に銀ペーストで導電性を与え、色素膜の製造におけ
るR,G,B列とした。
(3) Preparation of Electrode Extraction Zone An acrylic resist (CT; manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology) was used for electrode extraction. The substrate with the ITO patterning BM prepared in the above (2) is rotated at 10 rpm, and the resist agent IC-28 / T3 is sprayed thereon at 30 cc, and the number of revolutions of the spin coat is set at 1,500 rpm. Into a uniform film. This substrate is pre-baked at 80 ° C for 15 minutes, and a mask is designed to create only the electrode extraction band while aligning with a contact exposure machine with an alignment function of a high-pressure mercury lamp of 2 kW (Fig. (No portion). Then, after developing with a developing solution for 90 seconds, it was washed with pure water and post-baked at 180 ° C. for 100 minutes. Thus, an electrode extraction zone was obtained. Conductivity was given to the extracted electrode rows with a silver paste to form R, G, and B rows in the production of the dye film.

【0051】(4)分散液の調製 Rの混合ミセル分散液として、実施例10で調製したク
ロモフタールA3B(チバガイギー製)のミセル分散液
を超音波ホモジナイザーで30分間分散させた。Gの混
合ミセル分散液として、実施例14で調製したヘリオゲ
ングリーンL9140(BASF製)のミセル分散液と
実施例33イルガジンエロー(チバガイギー製)を各々
超音波ホモジナイザーで30分間分散させた後、6:4
(体積比)の割合でそれぞれのミセル分散液を混合し、
さらに、混合液を超音波ホモジナイザーで30分間分散
させた。Bの混合ミセル分散液として、実施例43で調
製したヘリオゲンブルーL7080(BASF製)のミ
セル分散液と実施例50で調製したファストゲンスーパ
ーバイオレット(大日本インキ製)を各々超音波ホモジ
ナイザーで30分間分散させた後、7:3(体積比)の
割合でそれぞれの液を混合し、さらに、混合液を超音波
ホモジナイザーで30分間分散させた。
(4) Preparation of Dispersion A micellar dispersion of chromophtal A3B (manufactured by Ciba Geigy) prepared in Example 10 was dispersed as an R mixed micellar dispersion by an ultrasonic homogenizer for 30 minutes. As a mixed micellar dispersion of G, a micelle dispersion of Heliogen Green L9140 (manufactured by BASF) prepared in Example 14 and Irgazine Yellow (manufactured by Ciba Geigy) were dispersed by an ultrasonic homogenizer for 30 minutes, respectively. 6: 4
Mix each micelle dispersion at the ratio of (volume ratio),
Further, the mixture was dispersed with an ultrasonic homogenizer for 30 minutes. As a mixed micellar dispersion of B, the micelle dispersion of Heliogen Blue L7080 (manufactured by BASF) prepared in Example 43 and Fastogen Super Violet (manufactured by Dainippon Ink) prepared in Example 50 were each mixed with an ultrasonic homogenizer. After the dispersion for minutes, the respective liquids were mixed at a ratio of 7: 3 (volume ratio), and the mixture was further dispersed for 30 minutes with an ultrasonic homogenizer.

【0052】(5)カラーフィルタの製造 前記ITOパターニングBM付基板をRの前記混合ミセ
ル分散液に挿入し、ストライブのR列にポテンショスタ
ットを接続した。電圧0.8Vで15分間の定電位電解を
行い、カラーフィルタRの薄膜を得た。その後、純水で
洗浄後、オーブンでプリベーク(120℃で10分間)
した。次に、この基板をGの前記混合ミセル分散液に挿
入し、0.4V、18分間の定電位電解を行い、カラーフ
ィルタGの薄膜を得た。製膜後、Rの製膜と同じ条件で
後処理を行った。最後に、この基板をBの前記ミセル溶
液挿入し、0.7V、10分間の定電位電解を行い、カラ
ーフィルタBの薄膜を得た。製膜後、Rの製膜と同じ条
件で後処理を行った。こうして、RGBのカラーフィル
タを得た。次に、作製したRGBのカラーフィルタ基板
を10rpmで回転させ、この上にJSS7265トッ
プコート剤(日本合成ゴム製)を30cc噴霧し、スピ
ンコート回転数を1,000rpmにし、基板(RGBの
カラーフィルタ)上に均一に製膜した。この基板を18
0℃、50分間ポストベークした。こうして粗大粒子0.
1μm以下のRGBのカラーフィルタを得た。
(5) Production of Color Filter The substrate with the ITO patterning BM was inserted into the mixed micelle dispersion of R, and a potentiostat was connected to the R row of the stripe. Electrostatic potential electrolysis was performed at a voltage of 0.8 V for 15 minutes to obtain a color filter R thin film. Then, after washing with pure water, pre-baking in an oven (at 120 ° C for 10 minutes)
did. Next, this substrate was inserted into the mixed micellar dispersion of G, and subjected to constant potential electrolysis at 0.4 V for 18 minutes to obtain a thin film of the color filter G. After film formation, post-treatment was performed under the same conditions as for the film formation of R. Finally, the substrate was inserted into the micelle solution of B, and subjected to a constant potential electrolysis at 0.7 V for 10 minutes to obtain a color filter B thin film. After film formation, post-treatment was performed under the same conditions as for the film formation of R. Thus, RGB color filters were obtained. Next, the prepared RGB color filter substrate was rotated at 10 rpm, and 30 cc of a JSS7265 top coat agent (manufactured by Nippon Synthetic Rubber) was sprayed thereon, and the spin coat rotation speed was set to 1,000 rpm, and the substrate (RGB color filter) was rotated. ) Was uniformly formed on the film. This substrate is 18
Post-baking was performed at 0 ° C. for 50 minutes. Thus coarse particles 0.
An RGB color filter of 1 μm or less was obtained.

【0053】実施例60〜63 実施例58において、RGBの混合分散液を第4表に示
す溶液に変えた以外は、実施例58と同様の方法で製膜
した。得られた結果を第5表に示す。このように、いず
れの場合も粒子が細かくなるため、分光特性も大変優れ
ま、また、粗大粒子の発生や、色分離、薄膜の剥離とい
った問題がない良好なカラーフィルタを得ることができ
た。
Examples 60 to 63 A film was formed in the same manner as in Example 58 except that the mixed dispersion of RGB was changed to the solution shown in Table 4. Table 5 shows the obtained results. Thus, in each case, since the particles are fine, the spectral characteristics are very excellent, and a good color filter free from problems such as generation of coarse particles, color separation, and peeling of a thin film was obtained.

【0054】実施例64〜68 実施例59において、RGBの混合分散液を第4表に示
す溶液に変えた他は実施例59と同様の方法で作製し
た。結果を第5表にまとめた。このように、いずれの場
合も粒子が細かくなるため、分光特性も大変優れる。ま
た、粗大粒子の発生や、色分離、薄膜の剥離といった問
題がない良好なカラーフィルタを得ることができた。
Examples 64 to 68 The procedure of Example 59 was repeated, except that the mixed dispersion of RGB was changed to the solution shown in Table 4. The results are summarized in Table 5. As described above, in each case, since the particles are fine, the spectral characteristics are very excellent. In addition, a good color filter free from problems such as generation of coarse particles, color separation, and peeling of a thin film could be obtained.

【0055】[0055]

【表18】 [Table 18]

【0056】[0056]

【表19】 [Table 19]

【0057】[0057]

【表20】 [Table 20]

【0058】[0058]

【表21】 [Table 21]

【0059】[0059]

【表22】 [Table 22]

【0060】[0060]

【表23】 [Table 23]

【0061】[0061]

【表24】 [Table 24]

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明によれば、平衡濃度を最適化する
ことにより、粗大粒子の発生を抑えることが可能な安全
なミセル分散液あるいはミセル可溶化溶液を得ることを
可能とした。それによって、膜厚が不均で、色分離がな
く、薄膜剥離が起こらない薄膜又はカラーフィルタの形
成を可能にした。したがって、本発明によれば、ラップ
トップパソコン,ワープロ,ワークステーション,オー
ロラビジョン,液晶プロジェクター,液晶TV,OH
P,車搭載インパネ,機器モルター等に有効に利用する
ことができる。
According to the present invention, by optimizing the equilibrium concentration, it is possible to obtain a safe micellar dispersion or micellar solubilization solution capable of suppressing generation of coarse particles. As a result, it is possible to form a thin film or a color filter having an uneven film thickness, no color separation, and no thin film peeling. Therefore, according to the present invention, a laptop personal computer, word processor, workstation, aurora vision, liquid crystal projector, liquid crystal TV, OH
It can be effectively used for P, car instrument panel, equipment mortar, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1はカラーフィルタの断面図の一部を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a part of a cross-sectional view of a color filter.

【図2】図2はITO薄膜電極形成のマスクを示す正面
図である。
FIG. 2 is a front view showing a mask for forming an ITO thin film electrode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ブラックマトリックス 2:ガラス基板 3:色素膜 4:保護膜 5:R列 6:G列 7:B列 1: Black matrix 2: Glass substrate 3: Dye film 4: Protective film 5: R row 6: G row 7: B row

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−236299(JP,A) 特開 平2−250892(JP,A) 特開 平2−250893(JP,A)Continuation of front page (56) References JP-A-2-236299 (JP, A) JP-A-2-250892 (JP, A) JP-A-2-250893 (JP, A)

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】無機物質あるいは疎水性有機物質及びフェ
ロセン誘導体界面活性剤を水性媒体に分散するミセル分
散液あるいはミセル可溶化溶液を製造するにあたり、前
記ミセル分散液あるいはミセル可溶化溶液の平衡濃度を
0.05〜2.8ミリモル/リットルの範囲に調製すること
を特徴とするミセル分散液あるいはミセル可溶化溶液の
製造方法。
In producing a micelle dispersion or micelle solubilization solution in which an inorganic substance or a hydrophobic organic substance and a ferrocene derivative surfactant are dispersed in an aqueous medium, the equilibrium concentration of the micelle dispersion or micelle solubilization solution is determined.
A method for producing a micelle dispersion or micelle solubilized solution, which is prepared in the range of 0.05 to 2.8 mmol / L.
【請求項2】無機物質あるいは疎水性有機物質に吸着す
るフェロセン誘導体界面活性剤の吸着量を求め、吸着量
に相当する量のフェロセン誘導体界面活性剤を補充して
平衡濃度を0.05〜2.8ミリモル/リットルの範囲に維
持することを特徴とする請求項1記載のミセル分散液あ
るいはミセル可溶化溶液の製造方法。
2. The amount of a ferrocene derivative surfactant adsorbed on an inorganic substance or a hydrophobic organic substance is determined, and the equilibrium concentration is adjusted to 0.05 to 2 by replenishing the ferrocene derivative surfactant in an amount corresponding to the adsorption amount. 2. The method for producing a micelle dispersion or a micelle solubilized solution according to claim 1, wherein the solution is maintained in a range of 0.8 mmol / liter.
【請求項3】無機物質あるいは疎水性有機物質の濃度を
1〜500g/リットルの範囲とし、フェロセン誘導体
界面活性剤全濃度が0.1ミリモル/リットル〜1モル/
リットルの範囲に調製することを特徴とする請求項2記
載のミセル分散液あるいはミセル可溶化溶液の製造方
法。
3. The concentration of the inorganic substance or the hydrophobic organic substance is in the range of 1 to 500 g / l, and the total concentration of the ferrocene derivative surfactant is 0.1 mmol / l to 1 mol / l.
3. The method for producing a micelle dispersion or micelle solubilized solution according to claim 2, wherein the solution is prepared in a range of 1 liter.
【請求項4】1種類の前記無機物質あるいは疎水性有機
物質と支持塩を水性媒体中でフェロセン誘導体界面活
性剤を用いて分散あるいは可溶化して得られる請求項1
〜3のいずれかに記載の方法により製造されるミセル分
散液あるいはミセル可溶化液に支持塩が加えられた液
に、導電性基板を挿入し、前記基板に通電処理を行い薄
膜を製造することを特徴とする薄膜の製造方法。
Wherein one of said inorganic substance or claim 1 and a hydrophobic organic material a supporting salt is obtained by dispersing or solubilized using ferrocene derivative surfactant in an aqueous medium
A micelle component produced by the method according to any one of claims 1 to 3.
A solution obtained by adding a supporting salt to a liquid dispersion or micelle solubilization solution
Then, a conductive substrate is inserted, and a current is applied to the substrate to perform thinning.
A method for producing a thin film, comprising producing a film.
【請求項5】2種類以上の前記無機物質あるいは疎水性
有機物質の各々のミセル分散液あるいはミセル可溶化溶
液の少なくとも1つの平衡濃度が0.1ミリモル/リット
ル以上とすると共に、各液の平衡濃度差を1.2ミリモル
/リットル以内となるように調製した後、それらの前記
無機物質あるいは疎水性有機物質の各々のミセル分散液
あるいはミセル可溶化溶液を混合し、分散を行い請求項
1〜3のいずれかに記 載の方法により製造されるミセル
分散液あるいはミセル可溶化溶液に支持塩が加えられた
液を調製することを特徴とするミセル分散液あるいはミ
セル可溶化溶液の製造方法。
5. The equilibrium concentration of at least one of the micellar dispersion or micelle solubilizing solution of each of the two or more kinds of inorganic substances or hydrophobic organic substances is not less than 0.1 mmol / L, and the equilibrium concentration of each liquid is not less than 0.1 mmol / L. after preparing the density difference to be within 1.2 mmol / l, those of the inorganic material or a hydrophobic organic each micelles dispersion or micellar solubilization solution of the material was mixed, claim was dispersed
Micelles produced by serial mounting methods either 1-3
Supporting salt added to dispersion or micellar solubilization solution
A method for producing a micelle dispersion or micelle solubilized solution, comprising preparing a liquid.
【請求項6】請求項5記載の方法により製造される無機
物質あるいは疎水性有機物質と支持塩を含むミセル分
散液あるいはミセル可溶化溶液に導電性基板を挿入し、
前記基板に通電処理を行う無機物質あるいは疎水性有機
物質の薄膜の製造方法。
6. Insert the conductive substrate to the micelles dispersion or micellar solubilization solution containing an inorganic substance or a hydrophobic organic substance produced by the method of claim 5, wherein and the supporting salt,
A method for producing a thin film of an inorganic substance or a hydrophobic organic substance, wherein a current is applied to the substrate.
【請求項7】赤色,緑色,青色三原色の分光特性を有す
る顔料あるいは染料を水性媒体中でフェロセン誘導体界
面活性剤を用いて得られるミセル分散液あるいはミセル
可溶化溶液に、パターニングされた透明導電薄膜を有す
るカラーフィルタ製造用基板を挿入し、前記基板に通電
処理を行い、電極上に色素膜を形成するカラーフィルタ
を製造するにあたり、前記ミセル分散液あるいはミセル
可溶化溶液の平衡濃度を0.05〜2.8ミリモル/リット
ルの範囲に調製した少なくとも1色のミセル分散液ある
いはミセル可溶化溶液を用いることを特徴とするカラー
フィルタの製造方法。
7. A transparent conductive thin film which is patterned into a micelle dispersion or micelle solubilization solution obtained by using a ferrocene derivative surfactant in an aqueous medium with a pigment or dye having three primary colors of red, green and blue. Inserting a substrate for producing a color filter having, and conducting an electric current to the substrate, in producing a color filter for forming a dye film on the electrode, the equilibrium concentration of the micelle dispersion or micelle solubilizing solution is 0.05 A method for producing a color filter, comprising using a micelle dispersion or a micelle solubilization solution of at least one color prepared in a range of from about 2.8 mmol / L to about 2.8 mmol / L.
【請求項8】赤色,緑色,青色三原色の分光特性を有す
る顔料あるいは染料を水性媒体中でフェロセン誘導体界
面活性剤を用いて得られるミセル分散液あるいはミセル
可溶化溶液に、パターニングされた透明導電薄膜を有す
るカラーフィルタ製造用基板を挿入し、前記基板に通電
処理を行い、電極上に色素膜を形成するカラーフィルタ
を製造するにあたり、無機物質あるいは疎水性有機物質
の濃度を1〜500g/リットルの範囲とし、フェロセ
ン誘導体界面活性剤全濃度が0.1ミリモル/リットル〜
1モル/リットルの範囲に調製することを特徴とする請
求項2記載の方法により製造されるミセル分散液あるい
はミセル可溶化溶液を用いることを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法。
8. A transparent conductive thin film which is patterned into a micelle dispersion or micelle solubilization solution obtained by using a ferrocene derivative surfactant in an aqueous medium with a pigment or dye having three primary colors of red, green and blue. In order to produce a color filter for forming a dye film on an electrode by inserting a substrate for producing a color filter having the above and conducting an electric current to the substrate, the concentration of an inorganic substance or a hydrophobic organic substance is 1 to 500 g / l. And the total concentration of the ferrocene derivative surfactant is from 0.1 mmol / L to
3. A method for producing a color filter, comprising using a micelle dispersion or a micelle solubilized solution produced by the method according to claim 2 , wherein the color filter is prepared in a range of 1 mol / liter.
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