JP2656362B2 - Laser device - Google Patents

Laser device

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JP2656362B2
JP2656362B2 JP2045935A JP4593590A JP2656362B2 JP 2656362 B2 JP2656362 B2 JP 2656362B2 JP 2045935 A JP2045935 A JP 2045935A JP 4593590 A JP4593590 A JP 4593590A JP 2656362 B2 JP2656362 B2 JP 2656362B2
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清寿 寺井
公一 西田
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、高電圧側及び低電圧側電極間に、高周波電
源により高周波電圧を印加し、誘電体を隔てて高周波放
電を行うレーザ装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial application field) The present invention applies a high-frequency voltage between a high-voltage side electrode and a low-voltage side electrode by a high-frequency power supply, and separates a high-frequency voltage across a dielectric. The present invention relates to a laser device for performing the above.

(従来の技術) 各種レーザ加工に使用される、レーザガス圧力数10to
rr〜200torr程度で高周波放電を発生させてレーザ励起
を行うレーザ装置の一例を第4図に示した。なお、第4
図は、高周波電源とレーザ発振部を表している。即ち、
高周波電源1は励振部2とパワーアンプ部3より構成さ
れており、励振部2で発生した周波数f(通常13.56HMz
±2KHz)の高周波電力は、パワーアンプ部3により増幅
され、特性インピーダンス50Ωの同軸ケーブル4により
インピーダンス整合をとるための整合器5を経てレーザ
放電部の高電圧側電極6aに供給されている。一方、低電
圧側電極6bは接地されている。
(Prior art) Laser gas pressure of 10 to used for various laser processing
FIG. 4 shows an example of a laser device for generating a high-frequency discharge at about rr to 200 torr to excite a laser. The fourth
The figure shows a high-frequency power supply and a laser oscillation unit. That is,
The high-frequency power supply 1 is composed of an excitation unit 2 and a power amplifier unit 3 and has a frequency f (normally 13.56 Hz) generated by the excitation unit 2.
The high-frequency power (± 2 KHz) is amplified by the power amplifier unit 3 and supplied to the high-voltage side electrode 6a of the laser discharge unit via a matching unit 5 for impedance matching by a coaxial cable 4 having a characteristic impedance of 50Ω. On the other hand, the low voltage side electrode 6b is grounded.

また、高電圧側電極6aと低電圧側電極6b間に供給され
た高周波電圧は、各電極に隣接して配設された誘電体7a
及び7bを介してレーザガスに印加され、高周波放電8を
発生させる。なお、図には示していないが、高周波放電
によるガス温度上昇を防ぐため、誘電体7a,7b間にはレ
ーザガスを流している。さらに、前記高周波放電8を挟
んで、反射鏡9と部分反射鏡10を配置してレーザ共振器
を構成することにより、レーザ発振を行い、レーザ光11
を得るように構成されている。なお、レーザ光11を変調
する必要があるときには、励振部2に外部よりパルス変
調信号12を送ればよい。
The high-frequency voltage supplied between the high-voltage side electrode 6a and the low-voltage side electrode 6b is applied to the dielectric 7a disposed adjacent to each electrode.
And 7b to the laser gas to generate a high-frequency discharge 8. Although not shown in the figure, a laser gas is supplied between the dielectrics 7a and 7b in order to prevent a gas temperature rise due to the high-frequency discharge. Further, by arranging a reflecting mirror 9 and a partial reflecting mirror 10 with the high-frequency discharge 8 interposed therebetween to constitute a laser resonator, laser oscillation is performed and laser light 11
Are configured to obtain When the laser beam 11 needs to be modulated, a pulse modulation signal 12 may be sent to the excitation unit 2 from outside.

一方、パワーアンプ部3は、高周波信号を増幅するた
めの真空管13、出力インピーダンス調整用コンデンサ
C1,C2及びインダクタンスL1より構成され、前記真空管1
3には、真空管を動作させるための直流の高電圧が印加
されており、さらに、この直流分を高周波出力側に通さ
ないためのコンデンサC3が接続されている。また、イン
ピーダンス整合をとるための整合器5は逆L形であり、
可変コンデンサC4とインダクタンスL2より構成されてい
る。
On the other hand, the power amplifier unit 3 includes a vacuum tube 13 for amplifying a high-frequency signal and a capacitor for adjusting an output impedance.
C 1 , C 2 and inductance L 1 , said vacuum tube 1
A high DC voltage for operating the vacuum tube is applied to 3, and a capacitor C3 for preventing this DC component from passing to the high-frequency output side is connected. The matching device 5 for impedance matching is an inverted L type,
It is formed of a variable capacitor C 4 and the inductance L 2.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記の様な構成を有する従来のレーザ
装置においては、以下に述べる様な解決すべき課題があ
った。
(Problems to be solved by the invention) However, in the conventional laser device having the above-described configuration, there are problems to be solved as described below.

即ち、放電入力の変化に伴い、放電抵抗が変化し、高
周波電源1の出力インピーダンスと不整合が生じ、それ
に伴って、反射波電力が発生して高周波電源1に悪影響
を及ぼしていた。また、従来のレーザ装置はパルス制御
性能は非常に優れているものの、高周波電源1自体が非
常に高価なものであった。
That is, the discharge resistance changes with a change in the discharge input, causing a mismatch with the output impedance of the high-frequency power supply 1, and accordingly, reflected wave power is generated and adversely affects the high-frequency power supply 1. Further, although the conventional laser device has very excellent pulse control performance, the high-frequency power supply 1 itself is very expensive.

本発明は、上記の様な従来技術の欠点を解消するため
に提案されたもので、その目的は、放電入力の変化に対
して、回路条件の不整合を和らげ、高周波電源に対する
反射波電力を抑制することのできる、安価なレーザ装置
を提供することにある。
The present invention has been proposed in order to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art. The purpose of the present invention is to reduce the mismatch of the circuit conditions with respect to the change of the discharge input and to reduce the reflected wave power to the high frequency power supply. An object is to provide an inexpensive laser device that can be suppressed.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、誘電体を挟んで配置された高電圧側電極と
低電圧側電極とを備え、前記誘電体を隔てて高周波放電
を発生させるレーザ発振部と、このレーザ発振部の前記
高電圧側電極と低電圧側電極間に対して高周波電力を供
給する高周波電源部を有するレーザ装置において、前記
高周波電源の出力インピーダンスとレーザ発振部におけ
る放電インピーダンスを高周波電源側に反射電力が戻る
ことがない整合状態に設定し、前記高周波電源として、
発振周波数が所定量の周波数変動幅を有する自励式電源
を使用し、前記高周波電源からの放電入力の変動に伴う
放電抵抗の増減に前記自励式電源の発振周波数を反比例
的に追従させて、前記高周波電源の出力インパーダンス
とレーザ発振部における放電インピーダンスの整合状態
を確保するようにしたことを特徴とする。
[Configuration of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention includes a high-voltage electrode and a low-voltage electrode arranged with a dielectric interposed therebetween, and generates a high-frequency discharge across the dielectric. In a laser device having a laser oscillation section, and a high-frequency power supply section for supplying high-frequency power between the high-voltage side electrode and the low-voltage side electrode of the laser oscillation section, the output impedance of the high-frequency power supply and the discharge in the laser oscillation section The impedance is set to a matching state in which reflected power does not return to the high-frequency power supply side, and as the high-frequency power supply,
The oscillation frequency uses a self-excited power supply having a predetermined amount of frequency fluctuation width, and the oscillation frequency of the self-excited power supply follows the increase / decrease of the discharge resistance due to the fluctuation of the discharge input from the high-frequency power supply in inverse proportion. The output impedance of the high-frequency power supply and the discharge impedance in the laser oscillation section are matched.

(作用) 本発明のレーザ装置は、高周波電源として自励式電源
を用いているため、発振回路中のL,Cによって決まる発
振周波数fに対して、その近傍±10%程度発振周波数を
変動させることができる。したがって、放電入力に依存
する放電インピーダンスの変化に対応して、高周波電源
の周波数を変動させることができるため、放電部との不
整号状態を緩和することができる。
(Operation) Since the laser device of the present invention uses a self-excited power supply as the high-frequency power supply, the oscillation frequency fluctuates by about ± 10% in the vicinity of the oscillation frequency f determined by L and C in the oscillation circuit. Can be. Therefore, the frequency of the high-frequency power supply can be changed in accordance with the change in the discharge impedance depending on the discharge input, so that the irregular state with the discharge unit can be reduced.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図に基づいて具体的に
説明する。なお、第4図に示した従来形と同一の部材に
は同一の符号を付して、説明は省略する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be specifically described with reference to FIG. The same members as those of the conventional type shown in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

本実施例のレーザ装置は、第1図に示した様に、自励
式高周波電源とレーザ発振部(放電部)とから構成され
ている。即ち、高周波電源の高周波発振部20は、高周波
をトランス結合により放電負荷側に取出しやすいコルピ
ッツ回路で構成され、高周波を発振するための真空管
(三極管)21、発振周波数fを決めるコンデンサC5,C6
及び負荷との結合トランスを兼ねたインダクタンスL3
り構成されている。また、真空管21には、真空管を動作
させるための直流の高電圧が印加されており、さらに、
この直流分を高周波出力側に通さないためのコンデンサ
C7が取付けられている。
As shown in FIG. 1, the laser device of this embodiment includes a self-excited high-frequency power supply and a laser oscillation unit (discharge unit). That is, the high-frequency oscillator 20 of the high-frequency power supply is composed of a Colpitts circuit that can easily extract the high frequency to the discharge load side by a transformer coupling, a vacuum tube (triode) 21 for oscillating the high frequency, and capacitors C 5 and C that determine the oscillation frequency f. 6
And it is configured from an inductance L 3 which also serves as a coupling transformer and the load. A high DC voltage for operating the vacuum tube is applied to the vacuum tube 21.
Capacitor to prevent this DC component from passing to the high frequency output side
C 7 is installed.

また、前記高周波発振部20で発生した周波数f(周波
数変動幅約±10%)の高周波電力は、トランス結合22を
介してレーザ放電部の高電圧側電極6aと低電圧側電極6b
に供給されるように構成されている。ここで、トランス
結合22は、ある放電入力条件において(例えば、最大放
電入力)、高周波発振部20の出力インピーダンスとレー
ザ放電部のインピーダンスとの整合をとることができる
ように、一次側と二次側の巻数比を調整している。
The high-frequency power having a frequency f (frequency variation of about ± 10%) generated by the high-frequency oscillation unit 20 is supplied to the high-voltage side electrode 6a and the low-voltage side electrode 6b of the laser discharge unit via the transformer coupling 22.
Is configured to be supplied. Here, under a certain discharge input condition (for example, a maximum discharge input), the transformer coupling 22 is designed to match the output impedance of the high-frequency oscillation unit 20 with the impedance of the laser discharge unit so that the primary side and the secondary side can be matched. The side turns ratio is adjusted.

なお、このとき、高周波発振部20で発生する発振周波
数fは、 であり、放電負荷の変動に伴って発振周波数fが変化し
て、不整合状態による反射電力を和らげる働きがある。
また、本実施例の場合、レーザ光11をパルス変調すると
きには、真空管21のグリッドに外部よりパルス変調信号
12を送れば良い。
At this time, the oscillation frequency f generated by the high-frequency oscillator 20 is In addition, the oscillation frequency f changes with a change in the discharge load, and has a function of reducing the reflected power due to the mismatch state.
Further, in the case of this embodiment, when pulse-modulating the laser light 11, a pulse-modulated signal
Just send 12.

この様な構成を有する本実施例のレーザ装置における
作用について以下に述べる。
The operation of the laser device of this embodiment having such a configuration will be described below.

即ち、本実施例のレーザ装置においては、トランス結
合22より負荷側をみた放電抵抗rは、トランスの一次側
及び二次側の巻き数比に依存した関係で、一次側の抵抗
値と表すことができる。したがって、第1図の回路を等
価的に考えると、二次側の放電抵抗rは一次側のインダ
クタンスL3に直列に接続した抵抗分Rとみなすことがで
きる。即ち、理想トランスの場合には、一次側、二次側
の巻き数をそれぞれn1,n2とすると、 R=(n1/n2・r となる。また、この時、高周波発振部20の発振周波数f0
は、並列共振回路を考えることにより、 と表される。よって、放電抵抗rの変化により、高周波
発振部20の発振周波数f0は変化することがわかる。
That is, in the laser device of the present embodiment, the discharge resistance r as viewed from the load side of the transformer coupling 22 is expressed as the resistance value of the primary side in a relationship depending on the turns ratio of the primary side and the secondary side of the transformer. Can be. Therefore, considering the circuit of FIG. 1 equivalently, discharge resistance r of the secondary side can be regarded as a resistance component R which are connected in series to the inductance L 3 of the primary side. That is, in the case of an ideal transformer, if the number of turns on the primary side and the number of turns on the secondary side are n 1 and n 2 respectively, then R = (n 1 / n 2 ) 2 · r. At this time, the oscillation frequency f 0 of the high-frequency oscillator 20 is
By considering the parallel resonance circuit, It is expressed as Therefore, the change in the discharge resistance r, the oscillation frequency f 0 of the high frequency oscillation section 20 is seen to vary.

また、本実施例の効果を第2図及び第3図を参照して
説明する。即ち、放電入力と放電抵抗rの関係を示した
第2図において、放電抵抗rは高周波放電の放電入力の
増加により増加し、また、発振周波数f0と放電抵抗rの
関係を示した第3図において、発振周波数f0の増加によ
り放電抵抗rが減少することがわかる。なお、本実施例
においては、放電入力を1000Wにして、発振周波数が10M
Hzで放電回路の整合がとれるようにしている。例えば、
この時、放電入力を下げていくと、第2図にしたがって
放電抵抗rが低下していくが、従来のレーザ装置におい
ては、発振周波数が変化しないので、放電回路の整合状
態が満足されず、高周波電源の方に反射電力がもどり、
高周波電源に悪影響を及ぼしていた。しかし、本実施例
においては、(2)式にしたがって発振周波数f0が変化
する。即ち、放電抵抗rが低下すると等価的な抵抗値R
が低下するので、発振周波数f0が増加し、その結果、高
周波電源自身が整合状態を維持できるように作用する。
具体的には、本発明においては、回路自体の構成を放電
負荷の変動Δrに応じて周波数Δf0が変化するように
し、その条件下では常に整合状態を維持するようにして
いる。そのため、第2図に示すように放電負荷変動Δr
があったとき、本発明の電源では第3図に示すように周
波数f0だけ変化して整合状態を満足することとができ
る。したがって、放電入力を変化させても、放電部と高
周波電源間の不整合状態を緩和することができる。
The effect of the present embodiment will be described with reference to FIGS. That is, in FIG. 2 showing the relationship between the discharge input and the discharge resistance r, the discharge resistor r increases with an increase in the discharge input of the high frequency discharge, and the third shows the relationship between the oscillation frequency f 0 and the discharge resistance r. in the figure, it can be seen that the discharge resistor r is decreased by an increase of the oscillation frequency f 0. In this example, the discharge input was set to 1000 W and the oscillation frequency was set to 10 M
The discharge circuit is matched at Hz. For example,
At this time, when the discharge input is reduced, the discharge resistance r is reduced according to FIG. 2, but in the conventional laser device, since the oscillation frequency does not change, the matching state of the discharge circuit is not satisfied, The reflected power returns to the high frequency power supply,
This had an adverse effect on high frequency power supplies. However, in the present embodiment, a change in the oscillation frequency f 0 in accordance with equation (2). That is, when the discharge resistance r decreases, the equivalent resistance value R
Since but decreases, increases the oscillation frequency f 0, as a result, high-frequency power supply itself acts so they can maintain a consistent state.
Specifically, in the present invention, the configuration of the circuit itself is such that the frequency Δf 0 changes in accordance with the variation Δr of the discharge load, and the matching state is always maintained under the conditions. Therefore, as shown in FIG.
In the power supply according to the present invention, the frequency f 0 is changed as shown in FIG. 3 to satisfy the matching condition. Therefore, even if the discharge input is changed, the mismatch between the discharge unit and the high-frequency power supply can be reduced.

この様に、本実施例によれば、高周波放電部と高周波
電源間の不整合状態を緩和することができ、不整合状態
により生じる反射電力による高周波電源への悪影響をな
くすことができる。また、構成が簡単であるため従来の
高周波電源に比べて安価なレーザ用高周波電源を得るこ
とができる。
As described above, according to this embodiment, the mismatch state between the high-frequency discharge unit and the high-frequency power supply can be reduced, and the adverse effect on the high-frequency power supply due to the reflected power caused by the mismatch state can be eliminated. Further, since the configuration is simple, a high-frequency power supply for laser can be obtained at a lower price than a conventional high-frequency power supply.

なお、本発明は上述した実施例に限定されるものでは
なく、自動式高周波電源を半導体を用いて構成しても同
様な効果が得られる。また、二次側の負荷回路中に整合
器を用いても良い。
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and similar effects can be obtained even if the automatic high-frequency power supply is configured using a semiconductor. Further, a matching device may be used in the load circuit on the secondary side.

[発明の効果] 以上述べた様に、本発明によれば、高周波電源とし
て、その発振周波数が高周波放電の負荷変動に伴って変
化する自励式電源を用いることにより、放電入力の変化
に対して、回路条件の不整合を和らげ、高周波電源に対
する反射波電力を抑制することのできる、安価なレーザ
装置を提供することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, by using a self-excited power supply whose oscillation frequency changes with a load change of a high-frequency discharge as a high-frequency power supply, a change in discharge input can be prevented. In addition, it is possible to provide an inexpensive laser device that can mitigate mismatch of circuit conditions and suppress reflected wave power to a high-frequency power supply.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明のレーザ装置の一実施例を示す回路図、
第2図は放電入力と放電抵抗の関係を示す図、第3図は
発振周波数と放電抵抗の関係を示す図、第4図は従来の
レーザ装置の一例を示す回路図である。 1……高周波電源、2……励振部、3……パワーアンプ
部、4……同軸ケーブル、5……整合器、6a……高電圧
側電極、6b……低電圧側電極、7a,7b……誘電体、8…
…高周波放電、9……反射鏡、10……部分反射鏡、11…
…レーザ光、12……パルス変調信号、13……真空管、20
……高周波発振部、21……真空管、22……トランス結
合。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of a laser device of the present invention,
FIG. 2 is a diagram showing a relationship between a discharge input and a discharge resistance, FIG. 3 is a diagram showing a relationship between an oscillation frequency and a discharge resistance, and FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a conventional laser device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... High frequency power supply 2 ... Excitation part 3 ... Power amplifier part 4 ... Coaxial cable 5 ... Matching device 6a ... High voltage side electrode 6b ... Low voltage side electrode 7a, 7b …… dielectric, 8…
... High frequency discharge, 9 ... Reflector, 10 ... Partial reflector, 11 ...
... Laser light, 12 ... Pulse modulation signal, 13 ... Vacuum tube, 20
… High-frequency oscillator, 21… Vacuum tube, 22… Transformer coupling.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】誘導体を挟んで配置された高電圧側電極と
低電圧側電極とを備え、前記誘電体を隔てて高周波放電
を発生させるレーザ発振部と、 このレーザ発振部の前記高電圧側電極と低電圧側電極間
に対して高周波電力を供給する高周波電源部を有するレ
ーザ装置において、 前記高周波電源の出力インピーダンスとレーザ発振部に
おける放電インピーダンスを高周波電源側に反射電力が
戻ることがない整合状態に設定し、 前記高周波電源として、発振周波数が所定量の周波数変
動幅を有する自励式電源を使用し、前記高周波電源から
の放電入力の変動に伴う放電抵抗の増減に前記自励式電
源の発振周波数を反比例的に追従させて、前記高周波電
源の出力インパーダンスとレーザ発振部における放電イ
ンピーダンスの整合状態を確保するようにしたことを特
徴とするレーザ装置。
1. A laser oscillating unit comprising a high-voltage side electrode and a low-voltage side electrode arranged with a dielectric material interposed therebetween, and generating a high-frequency discharge through the dielectric, and a high-voltage side of the laser oscillating unit. In a laser device having a high-frequency power supply for supplying high-frequency power between an electrode and a low-voltage side electrode, the output impedance of the high-frequency power and the discharge impedance of the laser oscillation unit are matched so that reflected power does not return to the high-frequency power. The state is set as the high-frequency power supply, and the oscillation frequency uses a self-excited power supply having a predetermined amount of frequency fluctuation width. The frequency is made to follow in inverse proportion so as to ensure a matching state between the output impedance of the high-frequency power supply and the discharge impedance in the laser oscillation section. The laser apparatus characterized by the.
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02220487A (en) * 1988-12-22 1990-09-03 Herfurth Gmbh Oscillator for producing gas discharge path

Patent Citations (1)

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JPH02220487A (en) * 1988-12-22 1990-09-03 Herfurth Gmbh Oscillator for producing gas discharge path

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