JP2647423B2 - Metal coating method - Google Patents

Metal coating method

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JP2647423B2
JP2647423B2 JP9017488A JP9017488A JP2647423B2 JP 2647423 B2 JP2647423 B2 JP 2647423B2 JP 9017488 A JP9017488 A JP 9017488A JP 9017488 A JP9017488 A JP 9017488A JP 2647423 B2 JP2647423 B2 JP 2647423B2
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film
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dianhydride
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邦夫 西原
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【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、金属の腐食や電気的絶縁を必要としかつ耐
熱環境下においてこれらの性能が劣化しない金属の被覆
が強く望まれている、電気、電子、自動車部品、航空機
部品、プラント部材等の分野において有効に使用しう
る、新規な金属の被覆方法に関する。
The present invention relates to an electric or electronic device which requires metal corrosion or electrical insulation, and a metal coating which does not deteriorate its performance in a heat-resistant environment. The present invention relates to a novel metal coating method which can be effectively used in the fields of automobile parts, aircraft parts, plant members and the like.

従来の技術とその問題点 有機樹脂の塗膜や被膜を形成することによって金属の
腐食や電気的絶縁を行う方法は広く行われているが、有
機樹脂の被膜は耐熱性が低く例えば300℃を越える温度
においては、劣化を生じ、耐腐食性や電気的絶縁性の低
下を生じる。近年シリコン樹脂やポリイミド樹脂等の耐
熱樹脂の出現によって、これらの問題は解決されつつあ
るが、金属との密着性については未だ問題があるととも
に入り組んだ複雑な形状の金属製品にシリコン樹脂やポ
リイミド樹脂等の耐熱樹脂を均一に被覆することは困難
であった。しかして従来かかる入り組んだ複雑な形状の
金属製品の被覆には、例えば特公昭48−16331号公報に
開示されているように、電気泳動塗装法(電気塗装法)
が用いられているがそのままでは、耐熱性を備えかつ金
属への密着力に優れた被膜を形成することは困難であっ
た。
Conventional technology and its problems The method of performing metal corrosion and electrical insulation by forming a coating or coating of an organic resin is widely performed, but a coating of an organic resin has a low heat resistance and a temperature of, for example, 300 ° C. At a temperature exceeding this, deterioration occurs, and corrosion resistance and electrical insulation deteriorate. In recent years, these problems have been solved with the advent of heat-resistant resins such as silicone resin and polyimide resin.However, there is still a problem with the adhesion to metal, and silicon resin and polyimide resin have been added to intricately shaped metal products. However, it is difficult to uniformly coat such a heat-resistant resin. Conventionally, the coating of metal products having such complicated and complicated shapes is carried out by an electrophoretic coating method (electrocoating method) as disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 48-16331.
However, it has been difficult to form a film having heat resistance and excellent adhesion to metal as it is.

発明の目的 本発明は、上記した従来技術の欠点である耐熱性、優
れた金属密着性のある被膜の形成を複雑な形状の金属製
品等の金属体においても可能にすることにある。
An object of the present invention is to make it possible to form a coating having excellent heat resistance and excellent metal adhesion, which is a drawback of the above-mentioned prior art, even for a metal body such as a metal product having a complicated shape.

発明の具体的内容 本発明はかかる点に鑑みてなされるに到ったもので、
その要旨は、 一般式 (ここでR1は、炭素数2以上の脂肪族基、環式脂肪族
基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、芳香族基が
直接又は架橋員により相互に連結された非縮合多環式芳
香族基からなる群より選ばれた4価の基を表わし、R
2は、下記の群より選ばれたメタ位に結合手を有する2
価の芳香族基を表わす。) で表わされる繰り返し単位よりなる、対数粘度が0.05〜
0.6dl/gであるポリアミド酸のカルボキシル基を塩基で
中和・水稀釈して被膜形成用電気泳動浴とし、該浴中に
被膜を形成すべき金属体を浸漬し、該金属体を陽極とし
て電気泳動を行って該金属体表面に上記ポリアミド酸を
析出せしめて被膜を形成し、しかる後に加熱処理して該
被膜をイミド化せめることを特徴とする金属の被覆方法
に存する。
Specific contents of the invention The present invention has been made in view of such points,
The gist is the general formula (Here, R 1 is an aliphatic group having 2 or more carbon atoms, a cycloaliphatic group, a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, or an aromatic group directly or mutually linked by a bridge member. A tetravalent group selected from the group consisting of non-fused polycyclic aromatic groups,
2 has a bond at a meta position selected from the following group:
Represents a valent aromatic group. ) Consisting of a repeating unit represented by the formula, the logarithmic viscosity is 0.05 to
The carboxyl group of the polyamic acid of 0.6 dl / g is neutralized with a base and diluted with water to form a film forming electrophoresis bath, a metal body to be formed a film is immersed in the bath, and the metal body is used as an anode. The present invention provides a method for coating a metal, comprising performing electrophoresis to precipitate the polyamic acid on the surface of the metal body to form a film, and then performing a heat treatment to imidize the film.

以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明で使用するのは、上記した一般式 で表わされる繰り返し単位を有するポリアミド酸であ
る。その製法はとくに限定されないが、通常は対応する
各種ジアミンをテトラカルボン酸二無水物と有機溶媒中
で重合させて製造することができる。
The present invention uses the above general formula A polyamic acid having a repeating unit represented by the following formula: Although the production method is not particularly limited, it can be usually produced by polymerizing corresponding various diamines with tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent.

本発明で使用されるジアミンとしては、3,3′−ジア
ミノベンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、4,4′−ビス(3−アミノフェノキシ)
ビフェニル、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキ
シ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミ
ノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フ
ェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキ
シ)フェニル]ケトン、ビス[4−(3−アミノフェノ
キシ)フェニル]スルホン等のジアミンが挙げられ、こ
れらは単独で、或いは2種以上混合して用いられる。
Examples of the diamine used in the present invention include 3,3'-diaminobenzophenone, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, and 4,4'-bis (3-aminophenoxy)
Biphenyl, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexa Diamines such as fluoropropane, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, and bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone; These may be used alone or as a mixture of two or more.

本発明でジアミンと反応させるテトラカルボン酸二無
水物としては、下記式 (式中R1は、炭素数2以上の脂肪族基、環式脂肪族基、
単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、芳香族基が直接
又は架橋員により相互に連結された非縮合多環式芳香族
基からなる群より選ばれた4価の基を表わす)で表わさ
れ、例えばエチレンテトラカルボン酸二無水物、シクロ
ペンタンテトラカルボン酸二無水物、ピロリメリット酸
二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、2,2′,3,3′−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、2,2′,3,3′−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェ
ニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキ
シフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)スルホ二無水物、1,1−ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジ
カルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)メタン二無水物、2,3,6,7−ナフ
タレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ベンゼンテトラカ
ルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン
酸二無水物、2,3,6,7−アントラセンテトラカルボン酸
二無水物、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸
二無水物が好ましいものとして挙げられる。これらのう
ちで特に好ましいテトラカルボン酸二無水物は、ピロメ
リット酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、およびビス(3,4−ジカルボキ
シフェニル)エーテル二無水物である。
As the tetracarboxylic dianhydride to be reacted with the diamine in the present invention, the following formula (Wherein R 1 is an aliphatic group having 2 or more carbon atoms, a cycloaliphatic group,
Represents a tetravalent group selected from the group consisting of a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, and a non-condensed polycyclic aromatic group in which the aromatic groups are connected to each other directly or by a bridge member. ), For example, ethylene tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, pyrrolimellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2 2,2 ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride Anhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ) Ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfodianhydride, 1,1-bi Bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,3,6 , 7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4 -Benzenetetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-anthracenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,7,8-phenanthrene Tetracarboxylic dianhydride is preferred. Of these, particularly preferred tetracarboxylic dianhydrides are pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyl Tetracarboxylic dianhydride and bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride.

上記したジアミンとテトラカルボン酸二無水物からポ
リアミド酸の生成反応は通常、有機溶媒中で実施する。
有機溶媒としては、例えば、N−メチル−2−ピロリド
ン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルム
アミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N,N−
ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセト
アミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン、ジメチルス
ルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、テトラメチル尿
素、N−メチルカプロラクタム、テトラヒドロフラン、
m−ジオキサン、p−ジオキサン、1,2−ジメトキシエ
タン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、1,2−ビ
ス(2−メトキシエトキシ)エタン、ビス[2−(2−
メトキシエトキシ)エチル]エーテル等があげられる。
これらの有機溶媒は単独でも或いは2種以上混合して用
いても構わない。反応温度は通常200℃以下−20℃以
上、好ましくは50℃以下−10℃以上、さらに好ましくは
0℃以上である室温程度である。反応圧力は特に限定さ
れず、常圧で十分実施できる。反応時間は溶剤の種類、
反応温度および用いられるジアミンや酸二無水物により
異なりうるが、ポリアミド酸の生成が完了するに十分な
時間反応させるには通常2〜40時間、好ましくは4〜24
時間程度で十分である。
The above-described reaction for producing a polyamic acid from the diamine and the tetracarboxylic dianhydride is usually carried out in an organic solvent.
Examples of the organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N, N-
Dimethylacetamide, N, N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylphosphoramide, tetramethylurea, N-methylcaprolactam, tetrahydrofuran,
m-dioxane, p-dioxane, 1,2-dimethoxyethane, bis (2-methoxyethyl) ether, 1,2-bis (2-methoxyethoxy) ethane, bis [2- (2-
Methoxyethoxy) ethyl] ether and the like.
These organic solvents may be used alone or in combination of two or more. The reaction temperature is usually about 200 ° C. or lower, −20 ° C. or higher, preferably 50 ° C. or lower, −10 ° C. or higher, and more preferably about 0 ° C. or higher, about room temperature. The reaction pressure is not particularly limited, and the reaction can be sufficiently performed at normal pressure. The reaction time depends on the type of solvent,
Although it may vary depending on the reaction temperature and the diamine or acid dianhydride used, it is usually from 2 to 40 hours, preferably from 4 to 24 hours, for the reaction to proceed for a time sufficient to complete the formation of the polyamic acid.
About an hour is enough.

斯くして得られる本発明のポリアミド酸溶液はポリア
ミド酸を5〜40重量%、特に好ましくは10〜30重量%含
有する溶液であり、対数粘度が0.05〜0.6dl/g(35℃、
濃度0.5g/ml N,N−ジメチルアセトアミドで測定した
値)であるものが好ましい。対数粘度が0.05dl/g未満で
あると、加熱イミド化した電着膜の膜強度が不足であ
り、耐熱信頼性が低下する。また、対数粘度が0.6dl/g
以上であると、加熱イミド化時の樹脂フロー性が低下
し、ピンホール等の被膜欠陥による電気絶縁性の低下を
生じる。
The polyamic acid solution of the present invention thus obtained is a solution containing 5 to 40% by weight, particularly preferably 10 to 30% by weight, of polyamic acid, and has a logarithmic viscosity of 0.05 to 0.6 dl / g (35 ° C.,
(A concentration measured with 0.5 g / ml N, N-dimethylacetamide). When the logarithmic viscosity is less than 0.05 dl / g, the strength of the heat-imidized electrodeposited film is insufficient, and the heat resistance is reduced. The logarithmic viscosity is 0.6dl / g
If the above is satisfied, the resin flow property at the time of thermal imidization is reduced, and the electrical insulating property is reduced due to a coating defect such as a pinhole.

本発明においては、上記したポリアミド酸は、その溶
液のまま、或いは溶液からの沈殿析出せしめて得た固形
樹脂に、塩基を加えてそのカルボキシル基を中和し水稀
釈可能とする。
In the present invention, the above-mentioned polyamic acid can be diluted with water by adding a base to a solid resin obtained as it is or as a solution thereof or by precipitating the solution from the solution to neutralize the carboxyl group.

中和に使用される塩基としては、アンモニア;例えば
ジアルキルアミン、ジエタノールアミン、モルホリン等
の二級アミン類;例えばトリエチルアミン、トリブチル
アミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノール
アミン、ジメチルエタノールアミン、ジメチルイソプロ
パノールアミン、ジエチルエタノールアミン、ジメチル
ベンジルアミン等の三級アミン類;苛性ソーダ、苛性カ
リ等の無機塩基類が用いられるが、水稀釈後の安定性や
得られる被膜の性質から三級アミン類が特に好ましい。
As the base used for neutralization, ammonia; for example, secondary amines such as dialkylamine, diethanolamine, and morpholine; for example, triethylamine, tributylamine, triethanolamine, triisopropanolamine, dimethylethanolamine, dimethylisopropanolamine, diethylethanol Tertiary amines such as amine and dimethylbenzylamine; inorganic bases such as caustic soda and caustic potash are used, but tertiary amines are particularly preferable in view of stability after dilution with water and properties of a film obtained.

水稀釈性を付与する為に必要な塩基量は中和すべきポ
リアミド酸のカルボキシル当量に対して30〜110モル%
が一般的であり特に40〜100モル%であることが好まし
い。斯くして中和を行うことによって、ポリアミド酸は
完全に水溶性となるか或いは部分的に水溶化して懸濁状
態となり水稀釈性を有するようになる。いずれの場合に
おいても、ポリアミド酸を中和し、これを下記の程度の
樹脂濃度となるように水希釈することにより、電気泳動
処理が可能なポリアミド酸水溶液からなる、被膜形成用
電気泳動浴とすることが出来るのである。
The amount of base required for imparting water dilutability is 30 to 110 mol% based on the carboxyl equivalent of the polyamic acid to be neutralized.
In general, and particularly preferably 40 to 100 mol%. By performing the neutralization in this manner, the polyamic acid becomes completely water-soluble or partially solubilized to become a suspended state and becomes water-dilutable. In any case, by neutralizing the polyamic acid and diluting it with water so as to have a resin concentration of the following degree, an electrophoretic bath for forming a film made of a polyamic acid aqueous solution that can be subjected to an electrophoretic treatment. You can do it.

こうして得られたポリアミド酸水溶液に上記ポリアミ
ド酸の生成に用いられた有機溶媒が存在しても構わず、
又、別途添加しても構わないが、添加量は使用するポリ
アミド酸の0.1〜15重量倍が好ましい。該ポリアミド酸
水溶性からなる電気泳動浴(以下単に浴と云う)に被膜
を形性すべき金属体を浸漬し、該金属体を陽極として電
気泳動処理を行うのである。
The organic solvent used for producing the polyamic acid may be present in the polyamic acid aqueous solution thus obtained,
Although it may be added separately, the amount of addition is preferably 0.1 to 15 times by weight of the polyamic acid used. A metal body whose film is to be formed is immersed in an electrophoresis bath (hereinafter simply referred to as a bath) made of a water-soluble polyamic acid, and electrophoresis is performed using the metal body as an anode.

この際、浴中に例えば酸化チタン、酸化鉄、アルミ
ナ、硫酸バリウム等の充填材や着色剤を加えても構わな
い。浴の樹脂濃度は、通常2〜30重量%、より好ましく
は3〜20重量%である。上記の如く電気泳動処理は、被
覆対象となる金属を浴中に浸漬し、該金属体を陽極とし
浴槽壁又は不活性の金属の対向電極を陰極として通常10
〜300ボルトの電圧を印加して行う。また、必要に応じ
て定電流において電気泳動を行っても構わない。この場
合は、電流密度として、通常5〜200mA/dm2において行
われる。水中に分散している中和されたポリアミド酸塩
の被膜形成成分は通常負に帯電しており、陽極である金
属体へ移動し、該金属体表面で電荷を消失し、水に不溶
解化し、析出して金属体表面にポリアミド酸樹脂被膜を
形成し、金属体表面を覆うのである。
At this time, a filler or a coloring agent such as titanium oxide, iron oxide, alumina, barium sulfate or the like may be added to the bath. The resin concentration of the bath is usually 2 to 30% by weight, more preferably 3 to 20% by weight. As described above, the electrophoresis treatment usually involves immersing a metal to be coated in a bath, using the metal body as an anode, and using a bathtub wall or a counter electrode of an inert metal as a cathode.
This is performed by applying a voltage of ~ 300 volts. Electrophoresis may be performed at a constant current as needed. In this case, the current density is usually 5 to 200 mA / dm 2 . The film-forming component of the neutralized polyamic acid salt dispersed in water is usually negatively charged, moves to the metal body serving as the anode, loses charge on the surface of the metal body, and becomes insoluble in water. Is deposited to form a polyamic acid resin film on the surface of the metal body, thereby covering the surface of the metal body.

本発明において、被膜を形成する対象の金属体は鉄、
アルミニウム、銅、亜鉛、その他各種合金等のいづれの
成形体でもよい。又金属体の形状はなんら限定されるも
のでは無く、例えば筒状や袋状であっても被膜を形成し
て被覆することは可能である。斯くして、本発明によれ
ば、掛かる形状を有するものに対しても、通常のスプレ
ー法や浸漬法等では達成しえない極めて均質な被膜によ
る被膜がなされるのである。
In the present invention, the metal body for forming the coating is iron,
Any molded body of aluminum, copper, zinc, and other various alloys may be used. Further, the shape of the metal body is not limited at all, and for example, it is possible to form and cover a film even if it is cylindrical or bag-shaped. Thus, according to the present invention, a coating having an extremely uniform coating which cannot be achieved by a normal spraying method, an immersion method or the like is formed even on a material having a hanging shape.

本発明においては、斯くして浴槽から引き上げた被膜
形成金属体は、通常水洗を施した後(既に被膜は水不溶
化しているので水洗によってポリアミド酸は金属表面か
ら脱離しない)、通常100〜380℃程度、好ましくは180
〜350℃程度の温度で、所要時間、通常10分〜15時間、
好ましくは15分〜10時間、さらに好ましくは30分〜8時
間程度加熱処理を行うことによって被膜を形成している
ポリアミド酸をイミド化せしめることにより、極めて強
靭なポリイミド樹脂被膜が金属表面に形成されるのであ
る。なお、加熱処理に際しては、急激に昇温するのは発
砲等を伴うことになるため好ましくなく、徐々に、若し
くはステップワイズに昇温するのが好ましい。なお、加
熱処理を行うための装置としては通常の乾燥器が使用可
能であり、例えば熱風乾燥器、遠赤外乾燥器等を常圧若
しくは減圧で好適に採用することが出来る。
In the present invention, the film-forming metal body thus pulled out of the bath is usually washed with water (the polyamic acid is not desorbed from the metal surface by washing with water since the film has already been insolubilized). About 380 ° C, preferably 180
~ 350 ° C, time required, usually 10 minutes ~ 15 hours,
By imidizing the polyamic acid forming the coating by performing a heat treatment for preferably about 15 minutes to 10 hours, more preferably about 30 minutes to 8 hours, a very tough polyimide resin coating is formed on the metal surface. Because In the heat treatment, it is not preferable to raise the temperature rapidly because it involves firing, and it is preferable to increase the temperature gradually or stepwise. As a device for performing the heat treatment, a normal dryer can be used. For example, a hot-air dryer, a far-infrared dryer, or the like can be suitably used at normal pressure or reduced pressure.

金属体表面に形成されたイミド被膜の厚さは通常2〜
50μ程度であり、好ましくは5〜40μ程度である。
The thickness of the imide film formed on the surface of the metal body is usually 2 to 2.
It is about 50 μ, preferably about 5 to 40 μ.

本発明において、このような方法によって得られた被
膜は金属への密着性に優れるとともに300℃以上の温度
に長時間曝されても変化がなく、又耐腐食性、接着性、
絶縁性も極めて良好である。
In the present invention, the coating obtained by such a method has excellent adhesion to metal and does not change even when exposed to a temperature of 300 ° C. or more for a long time, and also has corrosion resistance, adhesion,
The insulation is also very good.

以下、実施例を挙げ本発明をより具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

実施例 以下の実施例において、対数粘度は35℃、0.5g/100ml
N,N−ジメチルアセトアミドで測定した値である。実施
例及び比較例中で示す特性評価は下記のごとき方法に従
って行った。
Examples In the following examples, the logarithmic viscosity is 35 ° C., 0.5 g / 100 ml
It is a value measured with N, N-dimethylacetamide. The property evaluation shown in the examples and comparative examples was performed according to the following methods.

(a)接着性 JIS−K−5400 6.15に準じて測定した。(A) Adhesion Measured according to JIS-K-5400 6.15.

(b)耐電圧 JIS−C−2110に順次、交流2KVにて可否の判定を行っ
た。
(B) Withstand voltage It was sequentially determined whether or not the voltage was 2 KV according to JIS-C-2110.

実施例 1 撹拌機、還流冷却機及び窒素導入管を備えた容器で、
3,3′−ジアミノベンゾフェノン53.0g(0.25モル)をN,
N−ジメチルアセトアミド240mlに溶解した。この溶液に
3,3′4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
77.6g(0.241モル)の粉末を添加し、10℃で24時間撹拌
してポリアミド酸溶液を得た。得られたポリアミド酸の
対数粘度は0.5dl/gであった。このポリアミド酸溶液中
にジメチルエタノールアミン38.6g(対カルボキシル当
量90モル%)を徐々に加え20分間室温にて撹拌後、水89
6.8gを撹拌しつつ徐々に室温にて加え水希釈してポリア
ミド酸水溶液を調製した(樹脂濃度10重量%)。本水溶
液をプラスチックの槽へ入れ被覆形成用電気泳動浴と
し、被覆対象となるアルミニウムの板を陽極として浸漬
し、陰極として鉛板を浸漬して、100Vの電圧を10分間印
加して電気泳動を行った。その後アルミニウム板を取り
出し、水洗後150℃で2時間、280℃で2時間の加熱処理
により乾燥イミド化を行った。加熱処理後のポリイミド
酸樹脂被膜の厚さは20μであった。接着性のテストの結
果は100/100、耐電圧もパスであった。更に本テスト板
を300℃240時間の高温暴露を行い、同一のテストを行っ
たところ同一の結果が得られることを確認した。
Example 1 In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube,
53.0 g (0.25 mol) of 3,3′-diaminobenzophenone was added to N,
It was dissolved in 240 ml of N-dimethylacetamide. In this solution
3,3'4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride
77.6 g (0.241 mol) of powder was added and stirred at 10 ° C. for 24 hours to obtain a polyamic acid solution. The logarithmic viscosity of the obtained polyamic acid was 0.5 dl / g. 38.6 g of dimethylethanolamine (90 mol% based on carboxyl equivalent) was gradually added to the polyamic acid solution, and the mixture was stirred at room temperature for 20 minutes.
6.8 g was gradually added at room temperature with stirring and diluted with water to prepare a polyamic acid aqueous solution (resin concentration: 10% by weight). Put this aqueous solution into a plastic tank and use it as an electrophoresis bath for forming a coating.Immerse an aluminum plate to be coated as an anode, immerse a lead plate as a cathode, and apply a voltage of 100 V for 10 minutes to perform electrophoresis. went. Thereafter, the aluminum plate was taken out, washed with water, and subjected to dry imidization by heat treatment at 150 ° C. for 2 hours and 280 ° C. for 2 hours. The thickness of the polyimide acid resin film after the heat treatment was 20 μm. The result of the adhesion test was 100/100, and the withstand voltage was also a pass. Further, the test plate was exposed to high temperature at 300 ° C. for 240 hours, and the same test was performed. It was confirmed that the same result was obtained.

実施例 2 撹拌機、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器に2,
2′−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]
プロパン41.0g(0.1モル)と、N,N−ジメチルアセトア
ミド200mlを装填し、0℃付近まで冷却し、窒素雰囲気
下に於いてピロメリット酸二無水物20.93g(0.096モ
ル)の粉末を加え、0℃付近で2時間撹拌した。次に上
記溶液を室温に戻し、窒素雰囲気下で約20時間撹拌を行
った。こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は
0.4dl/gであった。このポリアミド酸溶液中にトリエチ
ルアミン17.7g(対カルボキシル当量100モル%)を徐々
に加え1時間室温にて撹拌後、水960gを撹拌しつつ徐々
に加えてし希釈し、ポリアミド酸水溶液を調整した(樹
脂濃度5重量%)。本水溶液をステンレス製の槽へ入れ
被膜形成用電気泳動浴とし、被覆対象となる円筒状の亜
鉛メッキ鋼板を陽極として浸漬し、浴槽を陰極として75
Vの電圧を5分間印可して電気泳動を行った。その後亜
鉛メッキ鋼板を取り出し、水洗後120℃1時間、180℃2
時間、280℃2時間の加熱処理によりイミド化を行っ
た。加熱処理後のポリイミド樹脂被膜の厚さは円筒状の
内壁も外壁もともに22μであった。常態での接着性テス
トの結果は100/100、耐電圧もパスであった。更に本テ
スト板を300℃240時間の高温暴露を行い、同一のテスト
を行ったところ同一の結果が得られることを確認した。
Example 2 A container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube was charged with 2,2.
2'-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl]
41.0 g (0.1 mol) of propane and 200 ml of N, N-dimethylacetamide were charged, cooled to about 0 ° C., and a powder of 20.93 g (0.096 mol) of pyromellitic dianhydride was added under a nitrogen atmosphere. The mixture was stirred at around 0 ° C. for 2 hours. Next, the solution was returned to room temperature and stirred under a nitrogen atmosphere for about 20 hours. The logarithmic viscosity of the polyamic acid solution thus obtained is
It was 0.4 dl / g. To this polyamic acid solution, 17.7 g of triethylamine (100 mol% based on carboxyl equivalent) was gradually added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Then, 960 g of water was gradually added with stirring to dilute the polyamic acid aqueous solution ( Resin concentration 5% by weight). The aqueous solution is put into a stainless steel bath to form an electrophoresis bath for film formation, and a cylindrical galvanized steel sheet to be coated is immersed as an anode, and the bath is used as a cathode for 75 minutes.
Electrophoresis was performed by applying a voltage of V for 5 minutes. After that, take out the galvanized steel sheet, wash it with water, 120 ° C for 1 hour, 180 ° C2
Imidation was performed by heat treatment at 280 ° C. for 2 hours. The thickness of the polyimide resin film after the heat treatment was 22 μm for both the cylindrical inner wall and the outer wall. The result of the adhesion test under normal conditions was 100/100, and the withstand voltage was a pass. Further, the test plate was exposed to high temperature at 300 ° C. for 240 hours, and the same test was performed. It was confirmed that the same result was obtained.

実施例 3 撹拌機、還流冷却器及び窒素導入管を備えた容器に、
2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]
プロパン41.0g(0.1モル)と、N,N−ジメチルアセトア
ミド219.6gを加え、室温で窒素雰囲気下に、3,3′,4,
4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物29.28
(0.091モル)を乾燥固体のまま、溶液温度の上昇に注
意しながら、少量づつ加え、室温で23時間反応した。こ
うして得られたポリアミド酸の対数粘度は0.07dl/gであ
った。このポリアミド酸溶液にトリエタノールアミン8.
1g(対カルボキシル当量50モル%)を徐々に加え、2時
間40℃にて撹拌、水170.6gを撹拌しつつ徐々に添加して
希釈しポリアミド酸水溶液を調製した(樹脂濃度15重量
%)。本水溶液を用い、実施例1と同様にアルミニウム
板を陽極として浸漬し125V5分間電気泳動を行った。浴
より取り出した板の表面に付着したポリアミド酸水溶液
を乾燥エアーにより除去した後150℃1時間、次いで260
℃2時間の加熱処理により乾燥イミド化を行った。加熱
処理後のポリイミド樹脂被膜の厚さは25μであった。常
態での接着テストの結果は100/100、耐電圧もパスであ
った。更に本テスト板を300℃240時間の高温暴露を行
い、同一のテストを行ったところ同一の結果がえられ
た。
Example 3 In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube,
2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl]
Add 41.0 g (0.1 mol) of propane and 219.6 g of N, N-dimethylacetamide, and add 3,3 ′, 4,
4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 29.28
(0.091 mol) as a dry solid while adding the solution temperature carefully, while reacting at room temperature for 23 hours. The logarithmic viscosity of the polyamic acid thus obtained was 0.07 dl / g. Triethanolamine 8.
1 g (relative to carboxyl equivalent 50 mol%) was gradually added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 2 hours, and 170.6 g of water was gradually added and diluted to prepare a polyamic acid aqueous solution (resin concentration: 15% by weight). This aqueous solution was immersed in an aluminum plate as an anode and electrophoresed at 125 V for 5 minutes in the same manner as in Example 1. The polyamic acid aqueous solution adhering to the surface of the plate taken out of the bath was removed with dry air, and then 150 ° C. for 1 hour, then 260 ° C.
Dry imidization was performed by heat treatment at 2 ° C. for 2 hours. The thickness of the polyimide resin film after the heat treatment was 25 μm. The result of the adhesion test under normal conditions was 100/100, and the withstand voltage was also a pass. Further, the test plate was exposed to a high temperature of 300 ° C. for 240 hours, and the same test was performed. The same result was obtained.

実施例 4 実施例1と同様に、1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン73.0g(0.25モル)をN,N−ジメチルアセト
アミド240mlに溶解し、この溶液に3,3′,4,4′−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物74.1g(0.230モル)
の粉末を添加し、10℃で24時間撹拌してポリアミド酸溶
液を得た。得られたポリアミド酸の対数粘度は0.1dl/g
であった。このポリアミド酸溶液中にジメチルエタノー
ルアミン32.8g(対カルボキシル当量80モル%)を徐々
に加え20分間室温にて撹拌後、水1419gを撹拌しつつ徐
々に室温にて加えポリアミド酸水溶液を調製した(樹脂
濃度8重量%)。本水溶液をプラスチックの槽へ入れ、
被覆対象となるアルミニウムの板を陽極とし、陰極とし
て鉛板を用いて、70mA/dの電流密度にて電圧上限150Vま
で電圧泳動を行った。その後アルミニウム板を取り出
し、水洗後150℃で2時間、280℃で2時間の加熱処理に
より乾燥イミド化を行った。加熱処理後のポリイミド樹
脂被膜の厚さは20μであった。接着性のテストの結果は
100/100、耐電圧もパスであった。更に本テスト板を300
℃240時間の高温暴露を行い、同一のテストを行ったと
ころ同一の結果が得られた。
Example 4 In the same manner as in Example 1, 73.0 g (0.25 mol) of 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene was dissolved in 240 ml of N, N-dimethylacetamide, and 3,3 ′, 4,4 74.1 g (0.230 mol) of 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride
Was added and stirred at 10 ° C. for 24 hours to obtain a polyamic acid solution. The logarithmic viscosity of the obtained polyamic acid is 0.1 dl / g
Met. 32.8 g of dimethylethanolamine (80 mol% based on carboxyl equivalent) was gradually added to the polyamic acid solution, and the mixture was stirred at room temperature for 20 minutes. Then, 1419 g of water was gradually added at room temperature while stirring to prepare a polyamic acid aqueous solution ( Resin concentration 8% by weight). Put this aqueous solution into a plastic tank,
Using an aluminum plate to be coated as an anode and a lead plate as a cathode, voltage migration was performed up to a voltage upper limit of 150 V at a current density of 70 mA / d. Thereafter, the aluminum plate was taken out, washed with water, and subjected to dry imidization by heat treatment at 150 ° C. for 2 hours and 280 ° C. for 2 hours. The thickness of the polyimide resin film after the heat treatment was 20 μm. The results of the adhesion test
100/100, withstand voltage was also pass. Add this test plate to 300
Exposure to a high temperature of 240 ° C. and the same test gave the same results.

実施例 5 実施例1と同様に、4,4′−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ビフェニル92(0.25モル)をN,N−ジメチルアセ
トアミド240mlに溶解し、この溶液に無水ピロリメット
酸54.4g(0.240モル)の粉末を添加し、10℃で24時間撹
拌してポリアミド酸溶液を得た。得られたポリアミド酸
の対数は粘度は0.25dl/gであった。このポリアミド酸溶
液中にジメチルエタノールアミン21.4g(対カルボキシ
ル当量50モル%)を徐々に加え20分間室温にて撹拌後、
水1056gを撹拌しつつ徐々に室温にて加えポリアミド酸
水溶液を調製した(樹脂濃度10重量%)。本水溶液を用
い実施例1と同様に、アルミニウムの板を陽極とし、50
Vの電圧を10分間印加して電極泳動を行った。その後ア
ルミニウム板を取り出し、水洗後150℃で2時間、280℃
で2時間の加熱処理により乾燥イミド化を行った。加熱
処理後のポリイミド樹脂被膜の厚さは20μであった。接
着性のテストの結果は100/100、耐電圧もパスであっ
た。更に本テスト板を300℃240時間の高温暴露を行い、
同一のテストを行ったところ同一の結果が得られた。
Example 5 In the same manner as in Example 1, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) biphenyl 92 (0.25 mol) was dissolved in 240 ml of N, N-dimethylacetamide, and 54.4 g (0.240 mol) of pyrrolimetic anhydride was added to this solution. Mol), and stirred at 10 ° C. for 24 hours to obtain a polyamic acid solution. The logarithm of the obtained polyamic acid was 0.25 dl / g in viscosity. 21.4 g of dimethylethanolamine (relative to carboxyl equivalent 50 mol%) was gradually added to the polyamic acid solution, and the mixture was stirred at room temperature for 20 minutes.
1056 g of water was gradually added at room temperature with stirring to prepare a polyamic acid aqueous solution (resin concentration: 10% by weight). In the same manner as in Example 1 using this aqueous solution, an aluminum plate was
Electrode migration was performed by applying a voltage of V for 10 minutes. After that, take out the aluminum plate, wash it with water and 280 ℃ at 150 ℃ for 2 hours.
For 2 hours to carry out dry imidization. The thickness of the polyimide resin film after the heat treatment was 20 μm. The result of the adhesion test was 100/100, and the withstand voltage was also a pass. Furthermore, this test plate was exposed to high temperature of 300 ° C for 240 hours,
The same test yielded the same results.

比較例−1 実施例1−1と同様に3,3′−ジアミノベンゾフェノ
ン53.0g(0.25モル)、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物78.9g(0.254モル)を反応さ
せ、対数粘度0.8dl/gのポリアミド酸を得た。実施例−
1と同様にして中和、水溶化、電着、水洗、乾燥イミド
化を行い、ポリイミド被覆アルミニウム板を得た。ポリ
イミド樹脂被膜の厚さは23μであった。接着性テストの
結果は100/100と良好であったが、常態での耐電圧で絶
縁不良を生じた。更に同様のテスト板300℃240時間の高
温暴露を行い、同一のテストを行ったところ接着性テス
トは100/100であり耐電圧は絶縁不良であった。
Comparative Example-1 As in Example 1-1, 53.0 g (0.25 mol) of 3,3'-diaminobenzophenone and 78.9 g (0.254 mol) of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride were obtained. The reaction was performed to obtain a polyamic acid having a logarithmic viscosity of 0.8 dl / g. Example-
Neutralization, water-solubilization, electrodeposition, washing with water and dry imidization were carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a polyimide-coated aluminum plate. The thickness of the polyimide resin film was 23μ. Although the result of the adhesion test was 100/100, which was good, insulation failure occurred due to the withstand voltage in a normal state. Further, the same test plate was subjected to high-temperature exposure at 300 ° C. for 240 hours, and the same test was performed. As a result, the adhesion test was 100/100, and the withstand voltage was poor insulation.

比較例−2 実施例1−1と同様に、3,3′−ジアミノベンゾフェ
ノン53.0g(0.25モル)、3,3′,4,4′−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物71.2g(0.221モル)を反応さ
せ、対数粘度0.03dl/gのポリアミド酸を得た。実施例−
1と同様にして中和、水溶化、電着、水洗、乾燥イミド
化を行ったが連続被膜の形成はされなかった。
Comparative Example-2 53.0 g (0.25 mol) of 3,3'-diaminobenzophenone and 71.2 g (0.221 mol) of 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride in the same manner as in Example 1-1. Was reacted to obtain a polyamic acid having a logarithmic viscosity of 0.03 dl / g. Example-
Neutralization, water-solubilization, electrodeposition, washing with water, and dry imidization were performed in the same manner as in Example 1, but no continuous film was formed.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式 (ここでR1は、炭素数2以上の脂肪族基、環式脂肪族
基、単環式芳香族基、縮合多環式芳香族基、芳香族基が
直接又は架橋員により相互に連結された非縮合多環式芳
香族基からなる群より選ばれた4価の基を表わし、R
2は、下記の群より選ばれた2価の芳香族の基を表わ
す。) で表わされる繰り返し単位よりなる、対数粘度が0.05〜
0.6dl/gであるポリアミド酸のカルボキシル基を塩基で
中和・水稀釈して被膜形成用電気泳動浴とし、該浴中に
被膜を形成すべき金属体を浸漬し、該金属体を陽極とし
て電気泳動を行って該金属体表面に上記ポリアミド酸を
析出せしめて被膜を形成し、しかる後に加熱処理して該
被膜をイミド化せしめることを特徴とする金属の被覆方
法。
(1) General formula (Here, R 1 is an aliphatic group having 2 or more carbon atoms, a cycloaliphatic group, a monocyclic aromatic group, a condensed polycyclic aromatic group, or an aromatic group directly or mutually linked by a bridge member. A tetravalent group selected from the group consisting of non-fused polycyclic aromatic groups,
2 represents a divalent aromatic group selected from the following groups. ) Consisting of a repeating unit represented by the formula, the logarithmic viscosity is 0.05 to
The carboxyl group of the polyamic acid of 0.6 dl / g is neutralized with a base and diluted with water to form a film forming electrophoresis bath, a metal body to be formed a film is immersed in the bath, and the metal body is used as an anode. A method for coating a metal, comprising performing electrophoresis to precipitate the polyamic acid on the surface of the metal body to form a film, and then performing a heat treatment to imidize the film.
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