JP2632233B2 - Lithographic printing plate - Google Patents
Lithographic printing plateInfo
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- JP2632233B2 JP2632233B2 JP16827490A JP16827490A JP2632233B2 JP 2632233 B2 JP2632233 B2 JP 2632233B2 JP 16827490 A JP16827490 A JP 16827490A JP 16827490 A JP16827490 A JP 16827490A JP 2632233 B2 JP2632233 B2 JP 2632233B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電子写真方式で製版される電子写真平版印
刷用原版に関するものであり、特に、該平版印刷用原版
の光導電層形成用組成物の改良に関する。Description: FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing original plate made by electrophotography, and in particular, to a composition for forming a photoconductive layer of the lithographic printing original plate. Regarding improvement of things.
(従来技術及びその問題点) 現在ダイレクト製版用の平版印刷用原版には多種のも
のが提案され且つ実用化されているが、中でも、導電性
支持体上に酸化亜鉛のごとき項導電性粒子及び結着樹脂
を主成分とした光導電層を設けた感光体を通常の電子写
真工程を経て、感光体表面に親油性の高いトナー画像を
形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる不感脂化
液で処理し非画像部分を選択的に親水化することによっ
てオフセット原版を得る技術が広く用いられている。(Prior art and its problems) At present, various types of lithographic printing original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. Among them, conductive particles such as zinc oxide and the like on a conductive support, A photoconductor provided with a photoconductive layer containing a binder resin as a main component is subjected to a normal electrophotographic process to form a highly lipophilic toner image on the surface of the photoconductor, and then the surface is insensitive to an etchant. A technique for obtaining an offset original plate by treating with a lipophilic liquid and selectively hydrophilizing a non-image portion is widely used.
かかる平版印刷用原版の光導電層を形成するために使
用される結着樹脂は、先ず第1にそれ自体の成膜性およ
び項導電性粉末の結着樹脂中への分散能力が優れるとと
もに、形成された記録体層の基材に対する接着性が良好
であり、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、
暗減衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少な
く、且つ、撮像時の湿度の変化によってこれら特性を安
定に保持していることが必要である等の各種の静電特性
および優れた撮像性を具備する必要がある。The binder resin used to form the photoconductive layer of the lithographic printing plate precursor has, first of all, excellent film forming properties of itself and excellent dispersion ability of the term conductive powder in the binder resin, The adhesion of the formed recording layer to the substrate is good, and the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability,
Various electrostatic characteristics such as low dark decay, large light decay, little pre-exposure fatigue, and it is necessary to stably maintain these characteristics due to changes in humidity during imaging, and excellent imaging It is necessary to have the property.
第2に、平版印刷用原版から良好な印刷物を得るに
は、感光体表面が不感脂化処理液となじみ易く、非画像
部が充分に親水化されると同時に耐水性を有し、更に印
刷においては、画像を有する光導電層が離脱しないこ
と、及び湿し水とのなじみがよく、印刷枚数が多くなっ
ても汚れが発生しない様に充分に非画像部の親水性が保
持されること等の性能を有する必要がある。これらの性
能には、光導電層中の酸化亜鉛と結着樹脂の比率が影響
することは、既に知られており、例えば、光導電層の酸
化亜鉛粒子に対する結着樹脂の比率を小さくすれば、光
導電層表面の不感脂化性が向上し、地汚れは少なくなる
が、他方で光導電層自体の内部凝集力が低下し、機械的
強度不足による耐刷力の低下が生じる。逆に、結着樹脂
の比率を大きくすると、耐刷力は向上するが、地汚れが
増大する。特に地汚れは、光導電層表面の不感脂化性の
良否に関係する現象であることは言うまでもないが、光
導電層表面の不感脂化性は、光導電層中の酸化亜鉛と結
着樹脂の比率のみによって左右されるものではなく、結
着樹脂の種類によっても、大きく左右されることが明ら
かになってきている。Second, in order to obtain good printed matter from the lithographic printing plate precursor, the surface of the photoreceptor is easily compatible with the desensitizing solution, the non-image area is sufficiently hydrophilized and has water resistance. In the above, the photoconductive layer having an image is not detached, and the affinity with the dampening solution is good, and the hydrophilicity of the non-image portion is sufficiently maintained so that no stain is generated even when the number of printed sheets is large. And the like. It is already known that the ratio of zinc oxide and binder resin in the photoconductive layer affects these performances.For example, if the ratio of binder resin to zinc oxide particles in the photoconductive layer is reduced, In addition, the desensitizing property of the surface of the photoconductive layer is improved, and the background dirt is reduced. On the other hand, the internal cohesion of the photoconductive layer itself is reduced, and the printing durability is reduced due to insufficient mechanical strength. Conversely, when the ratio of the binder resin is increased, the printing durability is improved, but the background stain is increased. In particular, it is needless to say that background contamination is a phenomenon related to the quality of the desensitizing property of the photoconductive layer surface, but the desensitizing property of the photoconductive layer surface is determined by the zinc oxide in the photoconductive layer and the binder resin. It has been clarified that the ratio is not influenced only by the ratio of the binder resin, but also greatly depends on the type of the binder resin.
古くから公知の樹脂として、例えばシリコーン樹脂
(特公昭34−6670号)、スチレン−ブタジエン樹脂(特
公昭35−1960号)、アルキッド樹脂、マレイン酸樹脂、
ポリアミド(特公昭35−11219号)、酢酸ビニル樹脂
(特公昭41−2425号)、酢酸ビニル共重合体(特公昭41
−2426号)、アクリル樹脂(特公昭35−11216号)、ア
クリル酸エステル共重合体(例えば特公昭35−11219
号、特公昭36−8510号、特公昭41−13946号等)等が知
られている。しかし、これらの樹脂を用いた電子写真式
平版印刷用原版においては、1)光導電性粉体との親和
性が不足し、塗工液の分散性が不良となる、2)光導電
層の帯電性が低い、3)複写画像の画像部(特に網点再
現性・解像力)の品質が悪い、4)複写画像作成時の環
境(例えば高温高湿、低温低湿)にその画質が影響され
やすい、5)感光層の膜強度・接着性が充分でなく、オ
フセット印刷時に感光層の脱離等が生じ印刷枚数が多く
できない、等のいずれかの問題があった。As long-known resins, for example, silicone resins (Japanese Patent Publication No. 34-6670), styrene-butadiene resins (Japanese Patent Publication No. 35-1960), alkyd resins, maleic acid resins,
Polyamide (JP-B-35-11219), vinyl acetate resin (JP-B-41-2425), vinyl acetate copolymer (JP-B-41
No. 2426), an acrylic resin (Japanese Patent Publication No. 35-11216), and an acrylate copolymer (for example, Japanese Patent Publication No. 35-11219).
Nos. JP-B-36-8510, JP-B-41-13946, etc.) are known. However, in an electrophotographic lithographic printing plate using these resins, 1) the affinity for the photoconductive powder is insufficient, and the dispersibility of the coating liquid is poor. Poor chargeability 3) Poor quality of image portion of copied image (particularly halftone dot reproducibility / resolution) 4) Image quality is easily affected by environment (for example, high temperature, high humidity, low temperature, low humidity) at the time of creating a copied image 5) The film strength and adhesiveness of the photosensitive layer are not sufficient, and the photosensitive layer is detached during offset printing, so that the number of printed sheets cannot be increased.
また、電子写真感光体としての静電特性と印刷原版と
しての印刷特性を両立させた光導電層用の結着樹脂とし
て、例えば、特公昭50−31011号では、フマル酸存在下
で(メタ)アクリレート系モノマーと他のモノマーと共
重合させた、w1.8×104〜10×104でTg10〜80℃の樹脂
と、(メタ)アクリレート系モノマーとフマル酸以外の
他のモノマーとから成る共重合体とを併用したもの、又
特開昭53−54027号では、カルボン酸基をエステル結合
から少なくとも原子数7個離れて有する置換基をもつ
(メタ)アクリル酸エステルを含む三元共重合体を用い
るもの、又特開昭54−20735号、特開昭57−202544号で
は、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、又特開
昭58−68046号では、炭素数6〜12のアルキル基を置換
基とする(メタ)アクリル酸エステル及びカルボン酸含
有のビニルモノマーを含む3元共重合体を用いるもの等
が光導電層の不感脂化性の向上に効果があると記載され
ている。しかし、上記した静電特性・耐湿特性及び耐久
性に効果があるとされる樹脂であっても、現実に評価し
てみると特に帯電性、暗電荷保持性、光感度の静電特
性、光導電層の平滑性等に問題があり、実用上満足でき
るものではなかった。In addition, as a binder resin for a photoconductive layer, which has both electrostatic characteristics as an electrophotographic photoreceptor and printing characteristics as a printing original plate, for example, in Japanese Patent Publication No. 50-31011, (meth) acrylate monomers and obtained by copolymerizing with other monomers, consisting of a Tg10~80 ° C. of the resin w1.8 × 10 4 ~10 × 10 4 , a monomer other than (meth) acrylate monomer and fumaric acid JP-A-53-54027 discloses a ternary copolymer containing a (meth) acrylate having a substituent having a carboxylic acid group at least 7 atoms away from the ester bond. In the case of using a quaternary or pentameric copolymer containing acrylic acid and hydroxyethyl (meth) acrylate, those disclosed in JP-A-54-20735 and JP-A-57-202544, In 58-68046, an alkyl group having 6 to 12 carbon atoms And substituents (meth) has been described as such as those using terpolymer containing vinyl monomer containing acrylic acid esters and carboxylic acids is effective in improving the desensitizing properties of the photoconductive layer. However, even if the resin is said to be effective in the above-mentioned electrostatic properties, moisture resistance properties and durability, it is particularly difficult to evaluate the chargeability, dark charge retention, photosensitivity electrostatic properties and light sensitivity when actually evaluated. There was a problem in the smoothness of the conductive layer and the like, which was not practically satisfactory.
また、結着樹脂として、分解により親水性基を生成す
る官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されてお
り、例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開昭62−195684号、同62−210475
号、同62−210476号)や分解によりカルボキシル基を生
成する官能基を含有するもの(特開昭62−212669号)等
が開示されている。Further, as a binder resin, a resin using a resin containing a functional group that generates a hydrophilic group by decomposition has been studied. For example, a resin containing a functional group that generates a hydroxyl group by decomposition (Japanese Patent Application Laid-Open No. 195684, 62-210475
And those containing a functional group that generates a carboxyl group by decomposition (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-212669).
これらの樹脂は不感脂化液又は印刷時に用いる湿し水
により加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成す
る樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂とし
て用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を
用いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面と
の強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題
(平滑性の悪化、あるいは暗電荷保持量や光感度等の電
子写真特性の悪化等)を回避できるとともに、不感脂化
液により親水化される非画像部の親水性が、樹脂中にお
いて分解により生成される上記親水性基によってより一
層高められる為、画像部の親油性と非画像部の親水性が
明確となり、印刷時に非画像部にインキが付着するのを
防止し、その結果として地汚れのない鮮明な画質の印刷
物を多数枚印刷することが可能となると記載されてい
る。These resins are hydrolyzed or hydrogenolyzed by a desensitizing solution or a fountain solution used for printing to produce a hydrophilic group, and when these are used as a binder resin of a lithographic printing plate precursor, they have a hydrophilic property. When a resin containing the group itself from the beginning is used, various problems (such as deterioration of smoothness or the amount of dark charge retention or the like) that are considered to be caused by strong interaction between the hydrophilic group and the surface of the photoconductive zinc oxide particle are considered. (E.g., deterioration of electrophotographic characteristics such as photosensitivity) can be avoided, and the hydrophilicity of the non-image area to be hydrophilized by the desensitizing solution is further enhanced by the above-mentioned hydrophilic group generated by decomposition in the resin. Therefore, the lipophilicity of the image area and the hydrophilicity of the non-image area become clear, preventing the ink from adhering to the non-image area during printing, and as a result, printing a large number of prints of clear image quality without background smear. This It has been described that is possible.
しかしながら、今日電子写真方式による平版印刷にお
いてもより一層の効率化が要求されており、具体的に
は、製版スピードの向上、エッチング処理スピードの向
上、あるいは印刷時のスタートから鮮明な画質(特に地
汚れのない)の印刷物を得ること(損紙の減少)等が重
要な課題となってきているのにも拘らず、上記の分解に
より親水性基を生成する結着樹脂を用いたオフセット原
版では、エッチング処理スピードの向上又は損紙の減少
という課題に対しては、未だその性能を充分に達成して
いるとは言い難かった。However, there is a demand for more efficient electrophotographic lithographic printing today. Specifically, it is necessary to improve the speed of plate making, the speed of etching processing, or the sharp image quality (particularly ground quality) from the start of printing. Despite the fact that obtaining printed matter (without dirt) (reducing waste paper) has become an important issue, offset masters using binder resins that generate hydrophilic groups by the above decomposition have been used. However, with respect to the problem of improving the etching processing speed or reducing the waste paper, it has not yet been said that the performance has been sufficiently achieved.
更に、平版印刷用原版の光導電層中に親水性樹脂粒子
を含有させる技術が特開平1232356号及び同1−261657
号に記載されている。親水性樹脂を光導電層中に粒子と
して含有させることにより、分子の状態で存在するもの
に比して比表面積が小さくなり、酸化亜鉛表面との相互
作用が少なくなるため、親水性を保持するにも拘らず電
子写真特性を阻害せず、良好な印刷特性を得ることがで
きる。しかしながら、このような親水性樹脂粒子を用い
ても、いまだ十分に満足できる電子写真特性を維持する
ことができず、また、地汚れの発生等の印刷性において
も更なる向上が望まれる。Further, a technique for incorporating hydrophilic resin particles in the photoconductive layer of a lithographic printing plate precursor is disclosed in JP-A-1232356 and JP-A-1-261657.
No. By containing the hydrophilic resin as particles in the photoconductive layer, the specific surface area becomes smaller than that existing in a molecular state, and the interaction with the zinc oxide surface is reduced, so that the hydrophilic property is maintained. Nevertheless, good printing characteristics can be obtained without inhibiting the electrophotographic characteristics. However, even if such hydrophilic resin particles are used, it is still not possible to maintain sufficiently satisfactory electrophotographic characteristics, and further improvement in printability such as generation of background stain is desired.
他方、前記の静電特性、印刷物の地汚れ等の問題を解
決するものとして、電子写真感光体の結着樹脂として、
酸性基を重合体の側鎖に含有する共重合成分を0.05〜10
重量%含有する重量平均分子量103〜104の樹脂を用いる
もの(特開昭63−217354号)、酸性基を重合体主鎖の末
端に結合する重量平均分子量103〜104の樹脂を用いるも
の(特開昭64−70761号)、更に硬化性基含有共重合成
分を含有する樹脂を用いるもの(特開昭1−100554号、
特願昭63−39691号)、架橋剤と併用するもの(特開平
1−102573号、同2−874号)、重量平均分子量104以上
の高分子量の樹脂と組合せて用いるもの(特開昭63−22
0149号、同63−220148号、同64−564号、特開平1−280
761号、同1−116643号、同1−169455号)、熱及び/
又は光硬化性樹脂と組合せて用いるもの(特開平1−10
2573号、同2−34859号)がそれぞれ開示されている。On the other hand, as a solution to the problems of the above-described electrostatic characteristics and background contamination of printed matter, as a binder resin for an electrophotographic photosensitive member,
The copolymer component containing an acidic group in the side chain of the polymer is 0.05 to 10
Those using weight-average molecular weight 10 3 to 10 4 of resin containing wt% (JP 63-217354), a weight average molecular weight 10 3 to 10 4 of the resin that binds an acidic group at the terminal of the polymer main chain (Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 100554/1984), and further using a resin containing a copolymerizable component containing a curable group (Japanese Patent Application Laid-Open (JP-A) No. 1-100554).
Japanese Patent Application Sho 63-39691), which in combination with the crosslinking agent (JP-A-1-102573, Nos 2-874), those used in combination with a weight-average molecular weight of 10 4 or more high molecular weight resins (JP 63-22
No. 0149, No. 63-220148, No. 64-564, JP-A-1-280
No. 761, No. 1-116643, No. 1-169455), heat and / or
Or those used in combination with a photocurable resin (Japanese Patent Laid-Open No. 1-10
Nos. 2573 and 2-34859) are disclosed.
しかしながら、これらの樹脂を用いても、著しく過酷
な条件に感光体がさらされると、安定した高性能の維持
において問題があるとともに、印刷性においても十分に
満足できるものではないことが判った。即ち、帯電過程
で帯電速度を早めると、帯電ムラが発生し、それに起因
した複写画像でのムラが生じたり、あるいは感光体を複
写機への補てん等で感光体表面に蛍光灯等の光照射を受
けた直後に複写操作を行った場合に得られる複写画像の
劣化(特に画像濃度の低下、解像力の低下、地カブリの
発生等)が生じてしまう(いわゆる前露光疲労)ことが
判った。However, even when these resins are used, when the photoreceptor is exposed to extremely severe conditions, it has been found that there is a problem in maintaining stable high performance and that the printability is not sufficiently satisfactory. In other words, if the charging speed is increased during the charging process, charging unevenness occurs, resulting in unevenness in a copied image, or light irradiation such as a fluorescent lamp on the surface of the photoreceptor by compensating the photoreceptor for a copying machine or the like. It has been found that when a copying operation is performed immediately after receiving the image, deterioration of a copied image (especially, reduction in image density, reduction in resolution, generation of background fog, etc.) occurs (so-called pre-exposure fatigue).
更には、電子写真式平版印刷用原版として用いた場合
に、前記の様な条件では、複写画像が悪化した原版とな
り、オフセットマスターとして印刷しても、得られる印
刷物は、画像の低下及び地カブリが生じてしまうという
重大な問題となって現れた。Furthermore, when used as an electrophotographic lithographic printing original plate, under the above-described conditions, the copied image becomes a deteriorated original plate, and even if it is printed as an offset master, the obtained printed matter will have reduced image quality and ground fog. This has become a serious problem that would occur.
本発明は、以上の様な従来の電子写真式平版印刷用原
版の有する課題を改良するものである。The present invention improves the problems of the conventional electrophotographic lithographic printing plate precursor as described above.
本発明の目的は、静電特性、とくに複写画像形成時に
苛酷な条件下におかれても帯電特性及び前露光疲労性が
改良された電子写真式平版印刷用原版を提供することで
ある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an electrophotographic lithographic printing plate precursor having improved electrostatic characteristics, especially improved charging characteristics and pre-exposure fatigue even under severe conditions during formation of a copy image.
本発明の他の目的は、不感脂化性に優れ、とくにエッ
チング処理から印刷工程において迅速化を行っても非画
像部の親水性が充分保持され、地汚れが発生せず、かつ
高耐刷力を有する平版印刷用原版を提供することであ
る。Another object of the present invention is to provide an excellent desensitizing property, in particular, even when the printing process is accelerated from the etching process, the hydrophilicity of the non-image portion is sufficiently maintained, no background stain is generated, and high printing durability is achieved. An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor having a strong ability.
(課題を解決するための手段) 本発明の上記目的は、導電性支持体上に、少なくとも
1層の光導電性酸化亜鉛と結着樹脂とを含有する光導電
層を設けてなる電子写真式平版印刷用原版において、前
記光導電層中に前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径
を同じかそれより小さい平均粒子径を有する親水性樹脂
粒子を含有し、かつ前記結着樹脂が下記樹脂〔A〕の少
なくとも1種及び樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有し
てなることを特徴とする平版印刷用原版により達成され
ることが見出された。(Means for Solving the Problems) An object of the present invention is to provide an electrophotographic method comprising providing a photoconductive layer containing at least one photoconductive zinc oxide and a binder resin on a conductive support. In the lithographic printing plate precursor, the photoconductive layer contains hydrophilic resin particles having an average particle diameter equal to or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles, and the binder resin is a resin described below. It has been found that this is achieved by a lithographic printing plate precursor comprising at least one kind of [A] and at least one kind of resin [B].
樹脂〔A〕: 1×103〜1×104の重量平均分子量を有し、下記一般
式(I)で示される重合成分を30重量%以上、及び−PO
3H2基、−SO3H基、−COOH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基を示
す)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1種の酸性基を含有する重合成分を0.5〜10重
量%含有し、且つ該重合体主鎖の片末端に上記と同様の
酸性基から選ばれる少なくとも1種の酸性基を結合して
成る樹脂。Resin [A]: having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 1 × 10 4 , containing at least 30% by weight of a polymerization component represented by the following general formula (I), and -PO
3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' represents a hydrocarbon group) and a polymerization component containing at least one acidic group selected from cyclic acid anhydride-containing groups. A resin containing at least one acidic group selected from the same acidic groups as described above at one end of the polymer main chain.
一般式(I) 〔式(I)中、a1、a2は各々、水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。R1は炭化水素基
を表わす。〕 樹脂〔B〕: 3×104〜1×106の重量平均分子量を有し、下記一般
式(III)で示される重合成分を30重量%以上含有して
成る樹脂。General formula (I) [In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 1 represents a hydrocarbon group. Resin [B]: A resin having a weight average molecular weight of 3 × 10 4 to 1 × 10 6 and containing at least 30% by weight of a polymerization component represented by the following general formula (III).
一般式(III) 〔式(III)中XはCH2 nCOO−、CH2 mOCO−、−
O−又は を表わす(ここでn、mは各々0又は1〜3の整数を表
わす)。General formula (III) [X in the formula (III) is CH 2 n COO−, CH 2 m OCO−, −
O- or (Where n and m each represent 0 or an integer of 1 to 3).
b1、b2、R2は式(I)におけるa1、a2、R1と各々同一
の内容を表わす。] 即ち、本発明の平版印刷用原版では、光導電層中に親
水性樹脂を粒子として分散させるとともに結着樹脂とし
て、特定の繰り返し単位の重合体成分と酸性基(以下本
明細書中では特にことわらない限り酸性基の語の中に環
状酸無水物含有基も含むものとする)含有の重合体成分
とを含有し、かつ酸性基を重合体主鎖の片末端に結合す
る低分子量の樹脂〔A〕と中〜高分子量の樹脂〔B〕と
を少なくとも用いることを特徴とする。b 1 , b 2 and R 2 represent the same contents as a 1 , a 2 and R 1 in the formula (I). That is, in the lithographic printing plate precursor of the present invention, the hydrophilic resin is dispersed as particles in the photoconductive layer, and the binder resin is used as a polymer component of a specific repeating unit and an acidic group (hereinafter, particularly referred to in the present specification. Unless otherwise stated, the term "acidic group" shall also include a cyclic acid anhydride-containing group), and a low molecular weight resin containing a polymer component containing an acidic group at one end of the polymer main chain [ A] and a resin [B] having a medium to high molecular weight.
前述の如く、光導電層に親水性樹脂粒子を含有させる
技術及び電子写真感光体の結着樹脂として、酸性基を側
鎖に含有する樹脂又は酸性基を重合体主鎖末端に結合す
る樹脂を用いる技術はそれぞれ公知であるが、本発明の
如く、光導電層に親水性樹脂粒子を含有させたときの結
着樹脂として、本発明に従う特定の樹脂、即ち、酸性基
を重合体の側鎖と重合体主鎖の末端とに同時に含有する
樹脂〔A〕更には中〜高分子量の樹脂〔B〕を用いるこ
とにより、驚くべきことにこれらの公知技術のみでは未
解決であた上記課題が解決されること、即ち静電特性
(とくに帯電特性及び前露光疲労性)及び印刷特性が飛
躍的に向上することが見出された。As described above, as a technique for containing hydrophilic resin particles in the photoconductive layer and as a binder resin for the electrophotographic photoreceptor, a resin containing an acidic group in a side chain or a resin binding an acidic group to a polymer main chain terminal is used. Although the techniques used are each known, as in the present invention, the specific resin according to the present invention, that is, the acidic group is a side chain of a polymer as a binder resin when the photoconductive layer contains hydrophilic resin particles. And the resin [A], which is simultaneously contained in the terminal of the polymer main chain, and the resin [B] having a medium to high molecular weight, surprisingly, the above problems that have not been solved only by these known techniques are solved. It has been found that the problem is solved, that is, the electrostatic characteristics (especially the charging characteristics and the pre-exposure fatigue) and the printing characteristics are dramatically improved.
本発明では、低分子量体の樹脂〔A〕は、少なくとも
光導電性酸化亜鉛、分光増感剤及び親水性樹脂粒子の存
在する分散系において、分光増感剤の光導電性酸化亜鉛
への吸着を阻害することなく有効に酸化亜鉛の化学量論
的な欠陥に吸着し、且つ酸化亜鉛の表面の被覆性を適切
に向上させることを可能とし、酸化亜鉛のトラップを補
償し且つ酸化亜鉛と分光増感剤の増感硬化を補償すると
ともに湿度特性を飛躍的に向上させ、更に酸化亜鉛の分
散が充分に行なわれ、凝集を抑制することが判った。そ
して、本発明に従う親水性樹脂粒子は、上記の如き相互
作用を阻害せず、しかも良好な印刷特性を発現するもの
と思われる。In the present invention, the low-molecular-weight resin [A] is used to adsorb the spectral sensitizer to the photoconductive zinc oxide in at least a dispersion system in which the photoconductive zinc oxide, the spectral sensitizer, and the hydrophilic resin particles are present. Effectively adsorbs stoichiometric defects of zinc oxide without disturbing the surface, and makes it possible to appropriately improve the coating property of the surface of zinc oxide. It has been found that the sensitizing hardening of the sensitizer is compensated and the humidity characteristics are remarkably improved, the zinc oxide is sufficiently dispersed, and the aggregation is suppressed. And it seems that the hydrophilic resin particles according to the present invention do not inhibit the above-mentioned interaction and exhibit good printing characteristics.
そして、更に、樹脂〔B〕は、樹脂〔A〕を用いたこ
とによる電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂
〔A〕のみでは不充分な光導電層の機械的強度を充分な
らしめるものである。Further, the resin [B] does not impair the high performance of the electrophotographic properties due to the use of the resin [A] at all, and the resin [A] alone has insufficient mechanical strength of the photoconductive layer. It is something that makes it easy.
これは、本発明に従い光導電性酸化亜鉛の結着樹脂と
して樹脂〔A〕と樹脂〔B〕を各々の樹脂の重量平均分
子量並びに樹脂中の酸性基の含有量及び結合位置等を特
定化することで、無機光導電体、分光増感剤、親水性樹
脂粒子及び樹脂の共存する分散状態において、各々の相
互作用の強さを適度に変えることができ、且つその状態
が安定に保持できるためと推定される。その事により、
帯電特性が一層改良された帯電ムラがなくなり且つ前露
光疲労性が更に改善されるものと推定される。According to the present invention, the resin [A] and the resin [B] as the binder resin of the photoconductive zinc oxide are used to specify the weight average molecular weight of each resin, the content of the acidic group in the resin, the bonding position, and the like. By doing so, in the dispersed state where the inorganic photoconductor, the spectral sensitizer, the hydrophilic resin particles and the resin coexist, the strength of each interaction can be appropriately changed, and the state can be stably maintained. It is estimated to be. By that,
It is presumed that uneven charging, in which charging characteristics are further improved, disappears and pre-exposure fatigue properties are further improved.
また、本発明では、光導電体表面の平滑性が滑らかと
なる。電子写真式平版印刷用原版として光導電層表面の
平滑性の粗い感光体を用いると、光導電性酸化亜鉛粒子
及び前記した親水性樹脂粒子と結着樹脂の分散状態が適
切ではなく、凝集物が存在する状態で光導電層が形成さ
れるため、不感脂化処理液による不感脂化処理をしても
非画像部の親水化が均一に充分に行なわれず、印刷時に
印刷インキの付着を引き起こし、結果として印刷物の非
画像部の地汚れを生じてしまう。Further, in the present invention, the smoothness of the photoconductor surface becomes smooth. When a photoconductor having a rough surface of the photoconductive layer is used as an electrophotographic lithographic printing plate precursor, the dispersion state of the photoconductive zinc oxide particles and the above-mentioned hydrophilic resin particles and the binder resin is not appropriate, and the aggregate Since the photoconductive layer is formed in the presence of the non-image area, even if the desensitizing treatment with the desensitizing solution is performed, the non-image area is not sufficiently and sufficiently hydrophilized, causing the printing ink to adhere during printing. As a result, the background of the non-image portion of the printed matter is stained.
本発明の樹脂を用いた場合に無機光導電体と結着樹脂
の吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電
層の膜強度が保持されるものである。When the resin of the present invention is used, the interaction between the adsorption and coating of the inorganic photoconductor and the binder resin is properly performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.
更には、帯電ムラ、前露光疲労等によって起こる画質
の劣化あるいは地カブリの発生等がなくなるため、平版
印刷用原版として用いた場合に、非常に良好な印刷画像
の印刷物が得られる。Furthermore, since the deterioration of image quality or the occurrence of background fogging caused by uneven charging, pre-exposure fatigue, and the like are eliminated, a very good printed image of a printed image can be obtained when used as a lithographic printing original plate.
更には、低分子量の樹脂〔A〕としては、下記一般式
(II a)及び一般式(II b)で示される、ベンゼン環又
はナフタレン環を含有する、特定の置換基をもつメタク
リレート成分と酸性基含有成分とを含有する、末端に酸
性基を結合した樹脂〔A〕(以降、この低分子量体を樹
脂〔A′〕とする)であることが好ましい。Further, as the low molecular weight resin [A], a methacrylate component having a specific substituent having a benzene ring or a naphthalene ring and having a specific substituent represented by the following general formula (IIa) or (IIb) is used. The resin [A] containing a group-containing component and having an acidic group bonded to the terminal (hereinafter, this low-molecular-weight product is referred to as resin [A ']) is preferable.
一般式(II a) 一般式(II b) 〔式(II a)および(II b)中、A1及びA2は互いに独立
に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原
子、臭素原子、−COD1又は−COOD2(D1及びD2は各々炭
素数1〜10の炭化水素基を示す)を表わす。General formula (IIa) General formula (IIb) [In the formulas (IIa) and (IIb), A 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, —COD 1 or —COOD 2 ( D 1 and D 2 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms).
B1及びB2は各々−COO−とベンゼン環を結合する、単
結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕 樹脂〔A′〕を用いると樹脂〔A〕の場合よりも、よ
り一層電子写真特性(特にV10,D.R.R,E1/10)の向上が
達成できる。B 1 and B 2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, each linking —COO— and a benzene ring. ] Than in the case of resin [A '] is used when the resin (A) and, more electrophotographic characteristics (in particular V 10, DRR, E 1/10) improve can be achieved.
この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メ
タクリレートのエステル成分であるベンゼン環又はナフ
タレン環の平面性硬化により、膜中の酸化亜鉛界面での
これらポリマー分子鎖の配列が適切に行なわれることに
よるものと考えられる。The reason for this is unknown, but one reason is that the planarization of the benzene or naphthalene ring, which is the ester component of methacrylate, causes the polymer chains to be properly aligned at the zinc oxide interface in the film. This is probably due to
また、中〜高分子量の樹脂〔B〕は、更に、重合体主
鎖の末端に−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、 (R0は前記Rと同一の内容を表わす)および環状酸無水
物含有基から選ばれる少なくとも1つの酸性基を結合し
て成る重合体(以降この高分子量体をとくに樹脂
〔B′〕とする)であることが好ましい。The medium to high molecular weight of the resin (B) further ends -PO 3 H 2 group of the polymer main chain, -SO 3 H group, -COOH group, (R 0 represents the same content as R above) and a polymer formed by bonding at least one acidic group selected from cyclic acid anhydride-containing groups (hereinafter, this high molecular weight is referred to as resin [B ′]) ) Is preferable.
樹脂〔B′〕を用いると、静電特性、特にD.R.R.及び
E1/10がより良好となり、樹脂〔A〕を用いたことによ
る優れた特性を全く妨げず、その効果は特に高温・高
湿、低温・低湿等の如き環境変化においても変動が殆ん
どなく好ましい。When the resin [B '] is used, the electrostatic characteristics, particularly DRR and E 1/10, are improved, and the excellent characteristics obtained by using the resin [A] are not hindered at all. It is preferable that there is almost no change even in environmental changes such as low temperature and low humidity.
以下、本発明について更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
本発明において、前記の親水性樹脂粒子は、高次の網
目構造を形成してなるものであってもよい。In the present invention, the hydrophilic resin particles may form a higher-order network structure.
なお、本発明における上記の親水性樹脂粒子とは、上
記した平均粒子径を有し、かつ該樹脂粒子を任意の可溶
性溶媒に溶解したものを塗布して形成した該樹脂フィル
ムが、蒸留水に対する接触角(ゴニオメーターにて測
定)50度以下の値、好ましくは30度以下の値を示すもの
をいう。In the present invention, the hydrophilic resin particles have the above-mentioned average particle diameter, and the resin film formed by applying a solution obtained by dissolving the resin particles in an arbitrary soluble solvent is applied to distilled water. A contact angle (measured by a goniometer) of 50 degrees or less, preferably a value of 30 degrees or less.
本発明において、親水性樹脂は、光導電層中に粒子と
して分散し、かつその平均粒子径が光導電性酸化亜鉛粒
子の最大粒子と同じか、それよりも小さい。In the present invention, the hydrophilic resin is dispersed as particles in the photoconductive layer, and has an average particle size equal to or smaller than the largest particle of the photoconductive zinc oxide particles.
酸化亜鉛粒子径よりも大きな粒径の該樹脂粒子が存在
すると、電子写真特性が劣化してくる(特に均一な帯電
性が得られなくなる)結果として複写画像において、画
像部の濃度ムラ、文字・細線の切れ、飛び、あるいは非
画像部の地カブリ等が発生してしまう。If the resin particles having a particle size larger than the zinc oxide particle size are present, the electrophotographic characteristics are deteriorated (particularly, uniform chargeability cannot be obtained). Fine lines are cut off, jump, or fogged in the non-image area.
具体的には、本発明の親水性樹脂粒子は最大粒子の粒
子径が10μm以下であり、好ましくは5μm以下であ
る。そして、粒子の平均粒子径は1.0μm以下であり、
好ましくは0.5μm以下である。Specifically, the hydrophilic resin particles of the present invention have a maximum particle size of 10 μm or less, preferably 5 μm or less. And the average particle diameter of the particles is 1.0 μm or less,
Preferably it is 0.5 μm or less.
なお、親水性樹脂粒子は、粒子径が小さい程比表面積
が大きくなり、上記の電子写真特性上良好な作用を持た
らし、コロイド粒子(0.01μm以下)程度でも充分であ
るが、余り小さくなり過ぎると分子分散の場合と同様の
弊害が生じて来るため0.001μm以上で用いるのが好ま
しい。The hydrophilic resin particles have a larger specific surface area as the particle diameter is smaller, and have a good effect on the above-mentioned electrophotographic properties. Although colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient, they are too small. If it is too long, the same harmful effects as in the case of molecular dispersion may occur, so that it is preferable to use it at 0.001 μm or more.
また本発明において、高次の網目構造を形成している
親水性樹脂粒子であれば、印刷時の湿し水で溶出するこ
とはなく、かなり多数枚の印刷を行っても良好な印刷特
性を維持することができる。Further, in the present invention, as long as the hydrophilic resin particles form a higher-order network structure, they do not elute with a fountain solution at the time of printing, and have good printing characteristics even when printing a considerably large number of sheets. Can be maintained.
本発明において、上記のような高次の網目構造を形成
していない親水性樹脂粒子(以下、単に親水性樹脂粒
子)又は高次の網目構造を形成している親水性樹脂粒子
(以下、単に網目親水性樹脂粒子)は、光導電性酸化亜
鉛100重量部に対して0.1〜5重量%の使用量で用いるこ
とが好ましい。親水性樹脂粒子又は網目親水性樹脂粒子
が0.1重量%より少ないと非画像部の親水性が充分とな
らず、逆に5重量%より多いと非画像部の親水性の向上
は更に図られるが、電子写真特性が劣化し、複写画像が
悪化してしまう。In the present invention, hydrophilic resin particles not forming a higher-order network structure as described above (hereinafter, simply referred to as hydrophilic resin particles) or hydrophilic resin particles forming a higher-order network structure (hereinafter, simply referred to as It is preferable to use the network hydrophilic resin particles) in an amount of 0.1 to 5% by weight based on 100 parts by weight of the photoconductive zinc oxide. When the amount of the hydrophilic resin particles or the network hydrophilic resin particles is less than 0.1% by weight, the hydrophilicity of the non-image portion is not sufficient, and when the amount is more than 5% by weight, the hydrophilicity of the non-image portion is further improved. As a result, the electrophotographic characteristics deteriorate, and the copied image deteriorates.
本発明の親水性樹脂粒子には、合成親水性樹脂と天然
親水性樹脂とがあり、本発明ではいずれも好ましく用い
ることができる。The hydrophilic resin particles of the present invention include synthetic hydrophilic resins and natural hydrophilic resins, and any of them can be preferably used in the present invention.
また、網目親水性樹脂粒子は、これらを改質したもの
が好ましく用いられる。As the network hydrophilic resin particles, those obtained by modifying these are preferably used.
例えば、P.Molyneax「Water−Soluble Synthetic Pol
ymers:Properties and Behavior」Vol、I及びVol.II C
RC Press.Inc.(1982年)、C.A.Finch「Chemistry and
Technology of Water−Soluble Polymers」Plenam Pres
s(1973年)、中村亦夫「水溶性高分子」化学工業社(1
968年)、界面化学研究会「水溶性高分子水分散型樹脂
の最新加工・改質技術と用途開発」経営開発センター出
版部(1981年)、Davidson「Water Soluble Resin」Rei
nhold(1968年)等の総説引例の材料が挙げられる。For example, P. Molyneax “Water-Soluble Synthetic Pol
ymers: Properties and Behavior "Vol, I and Vol.II C
RC Press.Inc. (1982), CAFinch "Chemistry and
Technology of Water-Soluble Polymers '' Plenam Pres
s (1973), Y. Nakamura "Water-soluble polymer" Chemical Industry Co. (1
968), Interfacial Chemistry Study Group, "Latest Processing and Modification Technology and Application Development of Water-Soluble Polymer Water-dispersed Resins", Management Development Center Publishing Division (1981), Davidson "Water Soluble Resin" Rei
Reference materials such as nhold (1968) are used.
このうち、合成親水性樹脂としては、分子構造中に、
エーテル基、エチレンオキサイド基、−OH基、−SH基、
−COOH基、−SO2H基、−SO3H基、−PO3H2基、−CN基、
−CONH2基、−CHO基、−SO2Q1基、 窒素原子を少なくとも1個含有する4員〜6員環複素環
又はオルガノシラン基から選ばれた親水性基を少なくと
も1種含有するものが挙げられる。Among them, synthetic hydrophilic resin, in the molecular structure,
Ether group, ethylene oxide group, -OH group, -SH group,
-COOH group, -SO 2 H group, -SO 3 H group, -PO 3 H 2 group, -CN group,
-CONH 2 , -CHO, -SO 2 Q 1 , Examples thereof include those containing at least one hydrophilic group selected from a 4- to 6-membered heterocyclic ring containing at least one nitrogen atom or an organosilane group.
上記親水性基において、Q1は炭素数1〜6の置換され
てもよい炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ブロム
エチル基、2−フロロエチル基、3−クロロプロピル
基、3−メトキシプロピル基、2−メトキシブチル基、
ベンジル基、フェニル基、プロペニル基、メトキシメチ
ル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基等)を
表す。In the above hydrophilic group, Q 1 is a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-bromoethyl group). Fluoroethyl group, 3-chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 2-methoxybutyl group,
Benzyl, phenyl, propenyl, methoxymethyl, ethoxymethyl, 2-methoxyethyl, etc.).
Q2は、炭素数1〜6の置換されてもよい脂肪族基(具
体的には、Q1と同様の置換基を表わす)又は−OE1(E1
はQ2と同一の内容を表わす)を表わす。Q 2 is an aliphatic group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted (specifically, it represents the same substituent as Q 1 ) or —OE 1 (E 1
Represents the same meaning and Q 2).
Q3及びQ4は各々同じでも異なってもよく、水素原子又
は炭素数1〜6の置換されもよい炭化水素基(具体的に
は、Q1と同一の内容を表わす)を表わす。但し、Q3及び
Q4の炭素数の総和は8以内のものを表わす。Q 3 and Q 4 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted (specifically, the same contents as those of Q 1 ). However, Q 3 and
The total number of carbon atoms in Q 4 is within 8.
Q5、Q6及びQ7は、各々、同じでも異なってもよく、
Q3、Q4と同一の内容を表わす。Q 5 , Q 6 and Q 7 may each be the same or different;
Represents the same content as Q 3 and Q 4 .
X は、陰イオンを表わし、例えば、ハロゲンイオン
(例えば、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン
等)、パークロレートイオン、テトラフッ素ボレートイ
オン、ヒドロオキシイオン、カルボキシレートイオン
(例えば、アセトネートイオン、プロピオネートイオン
等)、スルホネートイオン(例えば、メタンスルホネー
トイオン、ベンゼンスルホネートイオン、p−トルエン
スルホネートイオン等)が挙げられる。 X Represents an anion, for example, a halogen ion
(For example, chloride ion, bromine ion, iodine ion
Etc.), perchlorate ion, tetrafluoroborate ion
ON, hydroxy ion, carboxylate ion
(For example, acetonate ion, propionate ion
Etc.), sulfonate ions (for example, methanesulfone
Toion, benzenesulfonate ion, p-toluene
Sulfonate ion).
rは、1又は2を表わし、r=1の場合は、−Q
5〜7において少なくとも1種の酸性基(−SO3H、−PO
3H2、−COOH)が置換基として含有される。r represents 1 or 2, and when r = 1, -Q
At least one acidic group in 5~7 (-SO 3 H, -PO
3 H 2 , —COOH) is contained as a substituent.
具体的には、 が挙げられる。In particular, Is mentioned.
又、上記−COOH基、−SO2H基、−SO3H基、−PO3H
2基、 は各々、アルカリ金属(例えば、リチウム、ナトリウ
ム、カリウム等)、アルカリ土類金属(例えば、カルシ
ウム、マグネシウム等)、亜鉛、アルミニウム等の金属
塩又は有機塩基(例えば、トリエチルアミン、ピリジ
ン、モルホリン、ピペラジン等)との塩を形成していて
もよい。Further, the -COOH group, -SO 2 H group, -SO 3 H group, -PO 3 H
Two , Are metal salts such as alkali metals (eg, lithium, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (eg, calcium, magnesium, etc.), zinc, aluminum, etc., or organic bases (eg, triethylamine, pyridine, morpholine, piperazine, etc.) ) May be formed.
又、上記の窒素原子を少なくとも1個含有する4員〜
6員環形成の複素環としては、例えば、ピリジン環、ピ
ペラジン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラジン
環、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリン環、ピラ
ゾリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピロリドン
環等が挙げられる。これらの複素環は置換基を含有して
もよく、置換基としては、例えば、ハロゲン原子(フッ
素原子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8の置換
されてもよい炭化水素基(例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−
ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シアノ
エチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル
基、2−ブトキシエチル基、2−カルボキシエチル基、
カルボキシメチル基、3−スルホプロピル基、4−スル
ホブチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エ
トキシカルボニルエチル基、2−メタンスルホニルエチ
ル基、ベンジル基、カルボキシベンジル基、カルボキシ
メチルベンジル基、フェニル基、カルボキシフェニル
基、スルホフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、
エタンスルホニルフェニル基、カルボキシメチルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基等)、−
OE2基(E2は、上記炭素数1〜8の置換されてもよい炭
化水素基と同一の内容を表わす)又は−COOE3基(E3はE
2と同一の内容を表わす)等が挙げられる。Also, a 4-member containing at least one nitrogen atom as described above
Examples of the 6-membered heterocyclic ring include a pyridine ring, a piperazine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrazine ring, a pyrrolidine ring, a pyrroline ring, an imidazoline ring, a pyrazolidine ring, a piperazine ring, a morpholine ring, and a pyrrolidone ring. Can be These heterocycles may contain a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and the like) and a C1-C8 optionally substituted hydrocarbon group ( For example, methyl, ethyl, propyl, butyl, 2-chloroethyl, 2-
Bromoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-butoxyethyl group, 2-carboxyethyl group,
Carboxymethyl group, 3-sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, benzyl group, carboxybenzyl group, carboxymethylbenzyl group, phenyl group , Carboxyphenyl group, sulfophenyl group, methanesulfonylphenyl group,
Ethanesulfonylphenyl, carboxymethylphenyl, methoxyphenyl, chlorophenyl, etc.),-
An OE 2 group (E 2 represents the same content as the above-mentioned optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms) or a —COOE 3 group (E 3 represents E
2 represents the same content).
又、オルガノシラン基としては、例えば、下記一般式
(IV)で示される繰返単位が挙げられる。Examples of the organosilane group include a repeating unit represented by the following general formula (IV).
式(IV)中、A0は、炭素数1〜4の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチ
ル基、2−シアノエチル基等)、−OE4(E4は、A0中の
炭素数1〜4の置換されてもよいアルキル基と同一の内
容を表わす)、又は“Z"基〔Zはトリメチルシロキシ、
ペンタメチルジシロキサニル、ヘプタメチルトリシロキ
サニル、ノナメチルテトラシロキサニル、ビス(トリメ
チルシロキシ)メチルシロキサニル、トリス(トリメチ
ルシロキシ)シロキサニル等を表わす〕を表わす。 In the formula (IV), A 0 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2-chloroethyl group, a 2-methoxyethyl group, -Cyanoethyl group or the like), -OE 4 (E 4 represents the same content as the optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in A 0 ), or a “Z” group (Z is trimethylsiloxy,
Pentamethyldisiloxanyl, heptamethyltrisiloxanyl, nonamethyltetrasiloxanyl, bis (trimethylsiloxy) methylsiloxanyl, tris (trimethylsiloxy) siloxanyl, etc.].
W1は、炭素数1〜6の置換されてもよいアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシ
プロピル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシエチ
ル基、2−ヒドロキシ−3−クロロ−プロピル基、2−
クロロエチル基等)、−OE5(E5はE4と同一の内容を表
わす)又は炭素数1〜6の2価の炭化水素基を介してビ
ニル、メタクリルオキシ、アクリルオキシ、メタクリル
アミド、アクリルアミド、スチリルあるいはアリル等か
ら成る群から選択される不飽和結合が重合して他の繰り
返し単位に結合する基を表わす。W 1 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxypropyl group, 2-cyanoethyl Group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxy-3-chloro-propyl group, 2-
Chloroethyl group, etc.), - OE 5 (E 5 represents the same content as E 4) or vinyl through a divalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, methacryloxy, acryloxy, methacrylamide, acrylamide, It represents a group in which an unsaturated bond selected from the group consisting of styryl, allyl and the like is polymerized and binds to another repeating unit.
kは、0又は1〜10の整数であり、kの値の合計は少
なくとも2であることを表わす。k is 0 or an integer of 1 to 10, indicating that the sum of the values of k is at least 2.
本発明の親水性樹脂は、以上の如き親水性基の少なく
とも1種を重合体側鎖に含有する重合成分を含むホモ重
合体あるいは共重合体であり、該重合成分が該樹脂中の
重合成分として20重量%〜100重量%、好ましくは30重
量%〜100重量%含まれるものである。The hydrophilic resin of the present invention is a homopolymer or a copolymer containing a polymer component containing at least one hydrophilic group as described above in a polymer side chain, and the polymer component is used as a polymer component in the resin. 20% to 100% by weight, preferably 30% to 100% by weight.
更に具体的に、この親水性基含有重合成分の例を一般
式(V)で示す。More specifically, examples of the hydrophilic group-containing polymerization component are represented by general formula (V).
式(V)中、Xは、−COO−、−COC−、−O−、−SO
2−、 又は を表わす。〔ここでZ1、Z2は各々水素原子又は炭素数1
〜7の炭化水素基(好ましくは、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、
2−ヒドロキシエチル基、3−ブロム−2−ヒドロキシ
プロピル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシ
プロピル基、4−カルボキシブチル基、3−スルホプロ
ピル基、ベンジル基、スルホベンジル基、メトキシベン
ジル基、カルボキシベンジル基、フェニル基、スルホフ
ェニル基、カルボキシフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、
2−メタンスルホニルエチル基、2−シアノエチル基、
N,N(ジクロロエチル)アミノベンジル基、N,N(ジヒド
ロキシエチル)アミノベンジル基、クロロベンジル基、
メチルベンジル基、N,N(ジヒドロキシエチル)アミノ
フェニル基、メタンスルホニルフェニル基、シアノフェ
ニル基、ジシアノフェニル基、アセチルフェニル基等)
を表わし、 Z3、Z4は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲ
ン原子(好ましくは、例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子等)又は炭素数1〜4の脂肪族基(好ましくは、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)
を表わし、 n1は1〜6の整数を表わす。〕。 In the formula (V), X represents -COO-, -COC-, -O-, -SO
2- , Or Represents [Where Z 1 and Z 2 each represent a hydrogen atom or a carbon atom 1
To 7 hydrocarbon groups (preferably, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group,
2-hydroxyethyl group, 3-bromo-2-hydroxypropyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 4-carboxybutyl group, 3-sulfopropyl group, benzyl group, sulfobenzyl group, methoxybenzyl group , Carboxybenzyl group, phenyl group, sulfophenyl group, carboxyphenyl group, hydroxyphenyl group, 2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group,
2-methanesulfonylethyl group, 2-cyanoethyl group,
N, N (dichloroethyl) aminobenzyl group, N, N (dihydroxyethyl) aminobenzyl group, chlorobenzyl group,
Methylbenzyl group, N, N (dihydroxyethyl) aminophenyl group, methanesulfonylphenyl group, cyanophenyl group, dicyanophenyl group, acetylphenyl group, etc.)
Wherein Z 3 and Z 4 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a halogen atom (preferably, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an aliphatic group having 1 to 4 carbon atoms (preferably,
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.)
And n 1 represents an integer of 1 to 6. ].
Wは、 −COO−、−OCO−、−O−、−S−、−SO2、 −NHCOO−、−NHCONH− から選択される連結基又はこれらの連結基の組合せによ
って形成される結合基を表わす。W is -COO -, - OCO -, - O -, - S -, - SO 2, -NHCOO-, -NHCONH- Or a linking group formed by a combination of these linking groups.
〔ここで、l1〜l4は各々同じでも異なってもよく、水素
原子、ハロゲン原子(好ましくは、例えば、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜7の炭化水
素基(好ましくは、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−メトキシ
エチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、ベンジル
基、メトキシベンジル基、フェニル基、メトキシフェニ
ル基、メトキシカルボニルフェニル基等)又は式(V)
のW−Y〕基を表わし、 l5〜l7は上記のZ1、Z2の内容と同一のものを表わ
す。〕 Yは、前記した親水性基を表わし、−OH基、−SH基、
−CHO基、−CN基、−COOH基、−SO2H基、−PO3H2基、−
SO2Q1基、 窒素原子を少なくとも1個含む4員〜6員の複素環又は
オルガノシラノ基を表わす。[Wherein, l 1 to l 4 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (preferably, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or the like) or a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms ( Preferably, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, 2-chloroethyl, 2-methoxyethyl, 2-methoxycarbonylethyl, benzyl, methoxybenzyl, phenyl, methoxyphenyl, methoxy Carbonylphenyl group) or the formula (V)
Of represents W-Y] group, l 5 to l 7 represents the same as the contents of the above Z 1, Z 2. Y represents the hydrophilic group described above, -OH group, -SH group,
-CHO group, -CN group, -COOH group, -SO 2 H group, -PO 3 H 2 group, -
1 SO 2 Q, Represents a 4- to 6-membered heterocyclic ring or organosilano group containing at least one nitrogen atom.
〔ここで、Q1〜Q7は前記Q1〜Q7の内容と同一のものを表
わす。〕 又式(V)において、Yは重合体主鎖に直結してもよ
いし、あるいはXが−O−、 の場合には−YはXに直結してもよい。[Wherein, Q 1 to Q 7 represents the same as the contents of the Q 1 to Q 7. In the formula (V), Y may be directly bonded to the polymer main chain, or X may be -O-, In this case, -Y may be directly connected to X.
e1、e2は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、
ハロゲン原子(好ましくは、例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等)、−COOH基、−COOQ5基、−CH2COOQ
5基(Q5は炭素数1〜7の炭化水素基を表わし、具体的
には、前記Z1、Z2の炭化水素基と同様の内容が挙げられ
る)又は炭素数1〜4のアルキル基(好ましくは、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)を
表わす。e 1 and e 2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom,
Halogen atom (preferably, for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), -COOH group, -COOQ 5 group, -CH 2 COOQ
5 groups (Q 5 represents a hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, specifically, the same contents as those described above for the hydrocarbon groups of Z 1 and Z 2 ) or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (Preferably, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.).
以下に、更に具体的に上記の親水性基含有重合成分を
例示するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。Hereinafter, the above-mentioned hydrophilic group-containing polymerization component will be exemplified more specifically, but the present invention is not limited thereto.
また、以下の各例において、q1は−H、−CH3、−C
l、−CH2COOHまたは−CH2COOCH3を示し、q2は−CH3、−
COOH、−CONH2、−CONHC2H5または−COOCH3を示し、q3
は−CH3または−Hを示し、q4は−H、−CH3または−Cl
を示し、q5は−H、−CH3、−CH2COO、または−CH2COOC
H3を示し、q6は−H、−CH3または−CH2COOCH3を示し、
r1は−H、−CH3または−C2H5を示し、r2は を示し、y1は−SO3H、−COOH、−CH2OHまたは −SO2H、−CONH2または−SO2NH2を示し、y2は−OHまた
は−NH2を示し、J1はLi、Na、KまたはNH(C2H5)3ま
たは を示し、およびJ2はLi、Na、KまたはHN(C2H5)3を示
す。また、v1は1〜12の整数を示し、v2は1〜4の整数
を、v3は2〜12の整数を、v4は1〜11の整数を、v5は1
〜10の整数を、v6は2〜10の整数を、およびv7は1〜4
の整数をそれぞれ示す。Further, in the following examples, q 1 is -H, -CH 3, -C
l, indicates -CH 2 COOH or -CH 2 COOCH 3, q 2 is -CH 3, -
COOH, shows a -CONH 2, -CONHC 2 H 5 or -COOCH 3, q 3
Represents a -CH 3 or -H, q 4 is -H, -CH 3 or -Cl
Are shown, q 5 is -H, -CH 3, -CH 2 COO, or -CH 2 COOC,
Indicates H 3, q 6 represents -H, a -CH 3 or -CH 2 COOCH 3,
r 1 represents -H, a -CH 3 or -C 2 H 5, r 2 is Wherein y 1 is -SO 3 H, -COOH, -CH 2 OH or —SO 2 H, —CONH 2 or —SO 2 NH 2 , y 2 represents —OH or —NH 2 , J 1 is Li, Na, K or NH (C 2 H 5 ) 3 or And J 2 represents Li, Na, K or HN (C 2 H 5 ) 3 . Also, v 1 represents an integer of 1 to 12, v 2 represents an integer of 1 to 4, v 3 represents an integer of 2 to 12, v 4 represents an integer of 1 to 11, and v 5 represents 1
An integer of ~ 10, v 6 is an integer of 2-10, and v 7 is 1-4
Are respectively shown.
以上のような親水性基含有重合体成分とともに共重合
することのできる他の重合体成分として例えば一般式
(VI)で示されるものが挙げられ、これらのうちの1種
又は2種以上を共重合させることができる。 Other polymer components that can be copolymerized with the above-mentioned hydrophilic group-containing polymer component include, for example, those represented by the general formula (VI), and one or more of these are copolymerized. It can be polymerized.
一般式(VI) 式(VI)中、Pは式(V)中のXと同一の内容を表わ
す。General formula (VI) In the formula (VI), P represents the same content as X in the formula (V).
Qは、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、3−ブロモプロピル基、2−メトキシカルボニル
エチル基、4−メトキシカルボニルブチル基、4−メト
キシブチル基、3−クロロ−2−メトキシプロピル基、
3−クロロ−2−エトキシカルボニルプロピル基、2−
グリシジルプロピル基、3−ブロモ−2−アセチルオキ
シ−プロピル基等)、炭素数2〜20の置換されてもよい
アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、炭素
数5〜12の置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、クロ
ロシクロヘキシル基、ブロモシクロヘキシル基、2−シ
クロヘキシルエチル基、シクロヘキシルメチル基等)、
炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、エチル−2−フェニルエチル基、ナフチルメチル
基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ジクロ
ロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、
ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、ジメトキシベンジル基、トリメトキシベン
ジル基、メトキシカルボニルベンジル基、アセトアミド
ベンジル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよいアリ
ール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチレン基、ナフチル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル
基、フロロフェニル基、メトキシフェニル基、クロロ−
メチル−フェニル基、メチル−メトキシ−フェニル基、
ニトロフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ア
セトアミドフェニル基、エトキシフェニル基、クロロナ
フチル基、エトキシカルボニルナフチル基、プロピルフ
ェニル基、ブチルフェニル基、クロロメチルフェニル
基、メトキシメチルフェニル基、N−メチルアミノスル
フェニル基等)、又は4−7員環の複素環(前記した親
水性を示す窒素原子含有の複素環以外の複素環であれば
いずれでもよく、例えば、チオフェン環、フラン環、ピ
ラン環、ベンゾピラン環、ピロール環、インドール環、
キノリン環、チアゾール環、オキサゾール環、ベンゾチ
アゾール環、等が挙げられ、これらの環は置換基を含有
してもよい。この置換基としては、前記した式(VI)中
のQと同様の内容を表わす)。Q represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2 -Chloroethyl group, 3-bromopropyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 4-methoxycarbonylbutyl group, 4-methoxybutyl group, 3-chloro-2-methoxypropyl group,
3-chloro-2-ethoxycarbonylpropyl group, 2-
A glycidylpropyl group, a 3-bromo-2-acetyloxy-propyl group, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted (for example, a vinyl group or an allyl group), or a substituted alkenyl group having 5 to 12 carbon atoms. Alicyclic groups (eg, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclooctyl, chlorocyclohexyl, bromocyclohexyl, 2-cyclohexylethyl, cyclohexylmethyl, etc.)
An optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, ethyl-2-phenylethyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, Dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group,
A dimethylbenzyl group, a trimethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a dimethoxybenzyl group, a trimethoxybenzyl group, a methoxycarbonylbenzyl group, an acetamidobenzyl group, and the like; an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (for example, a phenyl group) , Tolyl group, xylyl group,
Mesitylene, naphthyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, trichlorophenyl, bromophenyl, fluorophenyl, methoxyphenyl, chloro-
A methyl-phenyl group, a methyl-methoxy-phenyl group,
Nitrophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, ethoxyphenyl group, chloronaphthyl group, ethoxycarbonylnaphthyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, chloromethylphenyl group, methoxymethylphenyl group, N-methylaminosulfenyl Group, etc.) or a 4- to 7-membered heterocyclic ring (a heterocyclic ring other than the nitrogen-containing heterocyclic ring exhibiting hydrophilicity as described above, such as a thiophene ring, a furan ring, a pyran ring, or a benzopyran ring). , A pyrrole ring, an indole ring,
Examples include a quinoline ring, a thiazole ring, an oxazole ring, a benzothiazole ring, and the like, and these rings may contain a substituent. The substituent has the same content as Q in the above formula (VI)).
天然親水性樹脂としては、特に前記した水溶性高分子
水分散型樹脂の総合技術資料集(経営開発センター出版
部)に詳しく記載されているが、例えばリグニン、澱
粉、ブルラン、セルロース、アルギン酸、デキストラ
ン、デキストリン、グアーガム、アラビアゴム、グリコ
ーゲン、ラミナラン、リケニン、リゲラン等、及びその
誘導体等が挙げられる。The natural hydrophilic resin is described in detail in the comprehensive technical data collection of the above-mentioned water-soluble polymer water-dispersible resin (management development center publishing department). For example, lignin, starch, burlan, cellulose, alginic acid, dextran Dextrin, guar gum, gum arabic, glycogen, laminaran, lichenin, ligueran, and the like, and derivatives thereof.
この誘導体としては、特にスルホン化、カルボキシル
化、リン酸化、スルホアルキレン化、又はカルボキシア
ルキレン化、アルキルリン酸化したもの、及びその塩が
好ましい。As the derivative, sulfonated, carboxylated, phosphorylated, sulfoalkylated, or carboxyalkylated, alkylphosphorylated, and salts thereof are particularly preferable.
本発明において、天然親水性樹脂は2種以上併用して
用いてもよい。In the present invention, two or more natural hydrophilic resins may be used in combination.
また、天然親水性樹脂の中では、グルコース重合体、
及びその誘導体が好ましく、グルコース重合体、及びそ
の誘導体の中でも、澱粉、グリコーゲン、セルロース、
リケニン、デキストラン、ニゲラン等が好ましく、特に
デキストラン、及びその誘導体が好ましい。In addition, among natural hydrophilic resins, glucose polymers,
And its derivatives are preferred, glucose polymers, and derivatives thereof, starch, glycogen, cellulose,
Likenin, dextran, nigeran and the like are preferred, and dextran and its derivatives are particularly preferred.
以上の合成・天然親水性樹脂を、前述のような特定の
粒子径を有する微粒子とするには、従来公知の乾式及び
湿式の方法が採用できる。即ち、該親水性樹脂粉体を、
従来公知の粉砕機で直接粉砕し、微粒子とする方法(例
えば、ボールミル、ペイントシェーカー、ジェットミ
ル、ハンマーミル等を使用する方法)と、高分子ラテッ
クス粒子とする方法を用いることができる。後者の高分
子ラテックス粒子とする方法としては、従来公知の塗料
あるいは静電写真用液体現像剤のラテックス粒子を製造
する方法を用いることができる。即ち、該親水性樹脂を
分散用ポリマーを併用して分散する方法で、該親水性樹
脂と分散補助ポリマー(又は被覆ポリマー)を予め混練
して混練物とした後粉砕し、次に分散ポリマーを共存さ
せて分散する方法である。In order to make the above synthetic / natural hydrophilic resin into fine particles having the above-mentioned specific particle diameter, conventionally known dry and wet methods can be adopted. That is, the hydrophilic resin powder,
A method of directly pulverizing with a conventionally known pulverizer to obtain fine particles (for example, a method using a ball mill, a paint shaker, a jet mill, a hammer mill, or the like) and a method of forming polymer latex particles can be used. As the latter method for producing polymer latex particles, a conventionally known method for producing latex particles of a paint or a liquid developer for electrostatic photography can be used. That is, in a method of dispersing the hydrophilic resin in combination with a dispersing polymer, the hydrophilic resin and a dispersion assisting polymer (or coating polymer) are kneaded in advance to form a kneaded product, and then pulverized. It is a method of coexisting and dispersing.
具体的には、例えば、植木憲二監訳「塗料の流動と顔
料分散」共立出版(1971年)、「ソロモン、塗料の化
学」、「Paint and Surface Coating theory and pract
ice」、原崎勇次「コーティング工学」朝倉書店(1971
年)、原崎勇次「コーティングの基礎科学」槙書店(19
77年)、特開昭62−96954号、同62−115171号、同62−7
5651号広報等の成書に記載されている。Specifically, for example, Kenji Ueki's translation of paint flow and pigment dispersion, Kyoritsu Shuppan (1971), Solomon, Chemistry of Paint, Paint and Surface Coating theory and pract
ice ”, Yuji Harasaki“ Coating Engineering ”Asakura Shoten (1971
Yuji Harasaki, “Basic Science of Coatings” Maki Shoten (19
77), JP-A Nos. 62-96954, 62-115171 and 62-7
It is described in publications such as PR No.5651.
また、懸濁重合法、分散重合法等の従来公知の重合反
応で容易に該親水性樹脂のラテックス粒子を得る方法を
用いることもできる。Further, a method of easily obtaining latex particles of the hydrophilic resin by a conventionally known polymerization reaction such as a suspension polymerization method and a dispersion polymerization method can also be used.
具体的には、室井宗一「高分子ラテックスの化学」高
分子刊行会(1970年)、奥田平、稲垣寛「合成樹脂エマ
ルジョン」高分子刊行会(1978年)、室井宗一「高分子
ラテックス入門」工文社(1983年)等の成書に記載され
ている。Specifically, Soichi Muroi “Chemistry of Polymer Latex” Polymer Publishing Association (1970), Taira Okuda, Hiroshi Inagaki “Synthetic Resin Emulsion” Polymer Publishing Association (1978), Soichi Muroi “Polymer Latex” It is described in books such as "Introduction" Kobunsha (1983).
本発明においては、高分子ラテックス粒子とする方法
が好ましく、この方法により容易に平均粒子径1.0μm
以下の樹脂粒子とすることができる。In the present invention, a method of using polymer latex particles is preferable, and the average particle diameter is easily 1.0 μm by this method.
The following resin particles can be used.
ところで、本発明の電子写真式平版印刷用原版におい
ては、光導電層を形成する場合、光導電性酸化亜鉛を水
系で分散する方法(例えば、特公昭51−450号、同47−1
8599号、同46−41350号等)及び非水溶媒系で分散する
方法(例えば、前記した特公昭50−31011号、特開昭53
−54027号、同54−20735号、同57−202544号、同58−68
046号等)のいずれでもよいが光導電層中に水が残留す
ると、電子写真特性を阻害するため、非水溶媒系で分散
する方法が好ましい。従って、本発明の親水性樹脂のラ
テックス粒子を、非水系で分散された光導電層中に充分
に分散させるために、該ラテックス粒子も非水系ラテッ
クスであることが好ましい。By the way, in the electrophotographic lithographic printing plate precursor of the present invention, when forming a photoconductive layer, a method of dispersing a photoconductive zinc oxide in an aqueous system (for example, Japanese Patent Publication No. 51-450 and No. 47-1).
No. 8599, No. 46-41350, etc.) and a method of dispersing in a non-aqueous solvent system (for example, Japanese Patent Publication No.
-54027, 54-20735, 57-202544, 58-68
046), but if water remains in the photoconductive layer, the electrophotographic properties will be impaired. Therefore, a method of dispersing in a non-aqueous solvent system is preferred. Accordingly, in order to sufficiently disperse the latex particles of the hydrophilic resin of the present invention in the non-aqueous photoconductive layer, the latex particles are also preferably non-aqueous latex.
非水系ラテックスに用いられる非水溶媒としては、沸
点200℃以下の有機溶媒であればいずれでもよく、それ
は単独であるいは2種以上を混合して使用してもよい。The non-aqueous solvent used in the non-aqueous latex may be any organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, and may be used alone or as a mixture of two or more.
この有機溶媒の具体例は、メタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、フッ化アルコール、ベンジ
ルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケトン等のケト
ン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、プロピオン酸メチル等のカルボン酸エステル類、
ヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、トリデカン、
シクロヘキサン、シクロオクタン等の炭素数6〜14の脂
肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロ
ロベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレンクロリド、
シクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロホルム、
メチルクロロホルム、ジクロロプロパン、トリクロロエ
タン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。Specific examples of this organic solvent include methanol, ethanol,
Alcohols such as propanol, butanol, fluorinated alcohol and benzyl alcohol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone and diethyl ketone; ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane; methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and propionic acid Carboxylic esters such as methyl,
Hexane, octane, decane, dodecane, tridecane,
C6 to C14 aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and cyclooctane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; methylene chloride;
Cichloroethane, tetrachloroethane, chloroform,
Halogenated hydrocarbons such as methyl chloroform, dichloropropane and trichloroethane are exemplified.
これらの非水溶媒系で高分子ラテックスを分散重合法
で合成すれば、ラテックス粒子の平均粒子径は容易に1
μm以下となり、しかも粒子系の分布が非常に狭く且つ
単分散の粒子とすることができる。If a polymer latex is synthesized by a dispersion polymerization method in these non-aqueous solvent systems, the average particle size of the latex particles can be easily adjusted to 1
μm or less, and the distribution of the particle system is very narrow, and monodispersed particles can be obtained.
具体的には、K.E.J.Barrett「Dispersion Polymeriza
tion in Organic Media」John Wiley(1975年)、村田
耕一郎、高分子加工、23、20(1974)、松本恒隆・丹下
豊吉、日本接着協会誌9、183(1973)、丹下豊吉、日
本接着協会誌23、26(1987)、D.J.Walbridge、NATO、A
dv、Study.Inst.Ser.E.No.67、40(1983)、B.P.893429
号、B.P.934038号、USP 1122397号、USP 3900412号、US
P 4606989号、特開昭60−179751号、同60−185963号等
にその方法が開示されている。Specifically, KEJ Barrett "Dispersion Polymeriza
tion in Organic Media ”John Wiley (1975), Koichiro Murata, Polymer Processing, 23 , 20 (1974), Tsunetaka Matsumoto and Tokichi Tange, Journal of the Adhesion Society of Japan 9 , 183 (1973), Toyokichi Tange, Journal of the Japan Adhesion Association 23 , 26 (1987), DJ Walbridge, NATO, A
dv, Study.Inst.Ser.E.No.67, 40 (1983), BP893429
No., BP934038, USP 1122397, USP 3900412, US
P 4606989, JP-A-60-179951 and JP-A-60-185963 disclose the method.
また、網目親水性樹脂粒子としては、具体的には、ポ
リマーの繰り返し単位の少なくとも1つの構造中に−O
H、−SH、−COOH、−SO2H、−SO3H、−CN、−CONH2、−
CHO、−SO2Q1、 エーテル基、エチレンオキサイド基、4員〜6員環形成
の複素環又はオルガノシラン基から選ばれた親水性基を
少なくとも1種含有するものが挙げられる。Further, as the network hydrophilic resin particles, specifically, at least one structure of the repeating unit of the polymer has -O
H, -SH, -COOH, -SO 2 H, -SO 3 H, -CN, -CONH 2, -
CHO, -SO 2 Q 1, Examples include those containing at least one hydrophilic group selected from an ether group, an ethylene oxide group, a heterocyclic ring forming a 4- to 6-membered ring, and an organosilane group.
上記親水性基において、Q1は炭素数1〜4の置換され
てもよいアルキル基、(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−ブロ
ムエチル基、2−フロロエチル基、3−クロロプロピル
基、3−メトキシプロピル基、メトキシメチル基、エト
キシメチル基、2−メトキシエチル基等)を表わす。In the hydrophilic group, Q 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted, (for example, a methyl group, an ethyl group,
Propyl, butyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-fluoroethyl, 3-chloropropyl, 3-methoxypropyl, methoxymethyl, ethoxymethyl, 2-methoxyethyl, etc.) .
Q2は、炭素数1〜4の置換されてもよいアルキル基
(具体的には、Q1と同様の置換基を表わす)又は−OE1
(E1はQ1と同一の内容を表わす)を表わす。Q 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted (specifically, it represents the same substituent as Q 1 ) or —OE 1
(E 1 represents the same content and Q 1) representing the.
Q3及びQ4は、各々同じでも異なってもよく、水素原子
又は炭素数1〜4の置換されてもよいアルキル基(具体
的には、Q1と同一の内容を表わす)を表わす。但し、Q3
及びQ4の炭素数の総和は6以内のものを表わす。Q 3 and Q 4 may be the same or different, and each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted (specifically, the same contents as those of Q 1 ). However, Q 3
And the sum of the carbon numbers of Q 4 represents those having a total number of 6 or less.
Q5、Q6及びQ7は、各々、同じでも異なってもよく、
Q3、Q4と同一の内容を表わす。Q 5 , Q 6 and Q 7 may each be the same or different;
Represents the same content as Q 3 and Q 4 .
X ,rは、前述の親水性樹脂粒子のX ,rと同じであ
る。 X , r is X of the aforementioned hydrophilic resin particles. same as r
You.
又、4員〜6員環を形成する複素環としては、例え
ば、フラン環、ピラン環、テトラヒドロフラン環、ピリ
ジン環、ピペリジン環、ピロール環、イミダゾール環、
ピラジン環、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジ
ン環、イミダゾリン環、ピラゾリジン環、ピペラジン
環、モルホリン環、ピロリドン環、ジオキサン環、ジオ
キソラン環、オキサゾリン環、1,3−オキサジン−2オ
ン環、モルホリンジオン環、モルホリノン環等が挙げら
れる。Examples of the heterocyclic ring forming a 4- to 6-membered ring include, for example, a furan ring, a pyran ring, a tetrahydrofuran ring, a pyridine ring, a piperidine ring, a pyrrole ring, an imidazole ring,
Pyrazine ring, pyrrolidine ring, pyrroline ring, imidazolidine ring, imidazoline ring, pyrazolidine ring, piperazine ring, morpholine ring, pyrrolidone ring, dioxane ring, dioxolane ring, oxazoline ring, 1,3-oxazine-2-one ring, morpholinedione ring And a morpholinone ring.
これらの複素環は置換基を含有してもよく、置換基と
しては、例えば、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等)、炭素数1〜3の置換されてもよいア
ルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、
2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキ
シエチル基、2−メタンスルホニルエチル基等)、−OE
2基(E2は、上記炭素数1〜3の置換されてもよいアル
キル基と同一の内容を表わす)等が挙げられる。These heterocycles may contain a substituent, for example, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms which may be substituted (for example, , Methyl group, ethyl group, propyl group,
2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, etc.), -OE
And two groups (E 2 represents the same content as the above-mentioned alkyl group which may be substituted and has 1 to 3 carbon atoms).
又、オルガノシラン基としては、前述の親水性樹脂粒
子のオメガノシラン基と同じものが挙げられる。Examples of the organosilane group include the same as those described above for the omeganosilane group of the hydrophilic resin particles.
本発明の網目親水性樹脂は、以上の如き親水性基の少
なくとも1種を重合体側鎖に含有する重合成分を含むホ
モ重合体あるいは共重合体であり、前述の親水性樹脂の
場合と同様に、該重合成分が該樹脂中の重合成分として
20重量%〜100重量%、好ましくは30重量%〜100重量%
含まれるものである。The network hydrophilic resin of the present invention is a homopolymer or a copolymer containing a polymer component containing at least one of the above hydrophilic groups in a polymer side chain, and is the same as in the case of the above-described hydrophilic resin. Wherein the polymerization component is a polymerization component in the resin.
20% to 100% by weight, preferably 30% to 100% by weight
Included.
この網目親水性樹脂の具体的な一般式、具体的な成分
例は、前述の親水性樹脂の一般式(IV)、成分例(1)
〜(57)と同じである。The specific general formula and specific component examples of the mesh hydrophilic resin are the above-described general formula (IV) and component example (1) of the hydrophilic resin.
Same as (57).
また、天然の網目親水性樹脂としては、具体的には、
界面化学研究会、「水溶性高分子・水分散型樹脂の最新
加工・改質技術と用途開発」経営開発センター出版部
(1981年刊)、中村亦夫、「水溶性高分子」化学工業社
(1973年刊)、R.L.Davidson、「Handbook of Water−S
oluble Gumsand Resins」McGraw−Hill BOOK Company
(1980年刊)、「Encyclopedia of Polymer Science an
d Enginneering」Vol.3、p69〜270、John Wileyand Son
s(1985年刊)等に詳しく記載されている。具体的に
は、前述の天然親水性樹脂と同じであり、また前述の天
然親水性樹脂の誘導体と同じ誘導体が挙げられる。Also, as a natural network hydrophilic resin, specifically,
Interfacial Chemistry Study Group, “Latest Processing / Modification Technology and Application Development of Water-Soluble Polymers / Water-Dispersible Resins”, Business Development Center Publishing Division (1981), Nakamura Yasuo, “Water-Soluble Polymers” 1973), RL Davidson, "Handbook of Water-S
oluble Gumsand Resins '' McGraw-Hill BOOK Company
(1980), “Encyclopedia of Polymer Science an
d Enginneering, Vol. 3, p. 69-270, John Wileyand Son
s (1985) and the like. Specifically, the same derivatives as the above-mentioned natural hydrophilic resins, and the same derivatives as the above-mentioned derivatives of the natural hydrophilic resins can be used.
本発明の網目親水性樹脂粒子は、以上のような親水性
重合成分からなる重合体の重合体分子鎖間が橋架けされ
ており高次の網目構造を形成している。The network hydrophilic resin particles of the present invention have a high-order network structure in which the polymer molecular chains of the polymer comprising the above-mentioned hydrophilic polymer component are bridged.
これにより、網目親水性樹脂粒子は水に対して難溶性
あるいは不溶性となったものである。具体的には、該樹
脂の水への溶解性は、80重量%以下好ましくは50重量%
以下である。Thereby, the network hydrophilic resin particles become hardly soluble or insoluble in water. Specifically, the solubility of the resin in water is 80% by weight or less, preferably 50% by weight.
It is as follows.
本発明の架橋は、従来公知の架橋方法によって行うこ
とができる。即ち、(1)該親水性重合成分を含有する
重合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤によって架橋する
方法、(2)該親水性重合成分に相当する単量体を少な
くとも含有させて重合反応を行う際に重合性官能基を2
個以上含有する多官能性単量体あるいは多官能性オリゴ
マーを共存させることにより分子間に網目構造を形成す
る方法、及び(3)該親水性重合成分と反応性基を含有
する成分を含む重合体類とを重合反応あるいは高分子反
応によって架橋させる方法等の方法によって行うことが
できる。The crosslinking of the present invention can be performed by a conventionally known crosslinking method. That is, (1) a method of crosslinking a polymer containing the hydrophilic polymerization component with various crosslinking agents or curing agents, and (2) a polymerization reaction by containing at least a monomer corresponding to the hydrophilic polymerization component. When performing the process, two polymerizable functional groups
A method of forming a network structure between molecules by coexisting a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer containing at least one polymer, and (3) a method including a component containing the hydrophilic polymer component and a component containing a reactive group. It can be carried out by a method such as a method of cross-linking with the union by a polymerization reaction or a polymer reaction.
上記(1)の方法の架橋剤としては、通常架橋剤とし
て用いられる化合物を挙げることができる。具体的に
は、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成
社刊(1981年)、高分子学会編「高分子データハンドブ
ック 基礎編」培風館(1986年)等に記載されている化
合物を用いることができる。Examples of the cross-linking agent in the method (1) include compounds that are usually used as a cross-linking agent. Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, “Handbook of Crosslinking Agents” Taiseisha (1981), edited by the Society of Polymer Science, “Basic Edition of Polymer Data Handbook”, Baifukan (1986), etc. Can be used.
例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビニルトリメ
トキシシラン、ビニルオリブトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン等のシランカップリング剤等)、ポリイソ
シアナート系化合物(例えば、トルイレンジイソシアナ
ート、o−トルイレンジイソシアナート、ジフェニルメ
タンジイソシアナート、トリフェニルメタントリイソシ
アナート、ポリメチレンポリフェニルイソシアナート、
ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシ
アナート、高分子ポリイソシアナート等)、ポリオール
系化合物(例えば、1,4−ブタンジオール、ポリオキシ
プロピレングリコール、ポリオキシレンアルキレングリ
コール、1,1,1−トリメチロールプロパン等)、ポリア
ミン系化合物(例えば、エチレンジアミン、γ−ヒドロ
キシプロピル化エチレンジアミン、フェニレンジアミン
ヘキサメチレンジアミン、N−アミノエチルピペラジ
ン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエポキシ基含有
化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘編著「新エポ
キシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本之編著「エポキシ
樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合
物類)、メラミン樹脂(例えば、三輪一郎、松永英夫編
著「エリア・メタリン樹脂」日刊工業新聞社(1969年
刊)等に記載された化合物類)、ポリ(メタ)アクリレ
ート系化合物(例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延
編「オリゴマー」講談社(1976年刊)、大森英三「機能
性アクリル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)等に記
載された化合物が挙げられ、具体的には、ポリエチレン
グリコールジアクリラート、ネオペンチルグリコールジ
アクリラート、1,6−ヘキサンジオールジアクリラー
ト、トリメチロールプロパントリアクリラート、ペンタ
エリスリトールポリアクリラート、ビスフェノールA−
ジグリシジルエーテルジアクリラート、オリゴエステル
アクリラート:これらのメタクリラート体等がある。For example, silane coupling agents such as organic silane compounds (for example, vinyltrimethoxysilane, vinylolibutoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, etc. Etc.), polyisocyanate compounds (e.g., toluylene diisocyanate, o-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate,
Hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, polymer polyisocyanate, etc.), polyol compounds (for example, 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxylenalkylene glycol, 1,1,1-trimethylol) Propane, etc.), polyamine-based compounds (e.g., ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylenediamine hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds and epoxy resins (e.g., "New epoxy resin" edited by Hiroshi Kakiuchi Shokodo (1985), "Epoxy resin" edited by Noriyuki Hashimoto, compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), etc., melamine resin (for example, Ichiro Miwa, Hideo Matsunaga) Edited by "Area Metallin Resin" Compounds described in Shogaku Kogyo Shimbun (published in 1969), poly (meth) acrylate compounds (for example, Shin Ogawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura "Oligomers" Kodansha (1976), Eizo Omori " Functional acrylic resin "Techno System (published in 1985) and the like. Specific examples include polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, Trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacrylate, bisphenol A-
Diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate: these methacrylates and the like.
又、上記(1)の方法の硬化剤のうちゼラチン等の天
然親水性樹脂の硬化剤としては、例えば、米国特許第3,
057,723号、同3,671,256号、同3,396,029号、同4,161,4
07号、同4,207,109号、英国特許第1,322,971号、特公昭
42−17112号、特開昭51−94817号、同56−66841号、同5
7−207243号、同59−121327号、「ザ・セオリー・オブ
・ザ・フォトグラフィックプロセス」四版(T.H.ジェー
ムスら)94ページや、「ポリメリックアミン アンド
アンモニウムソルツ」(E.J.ゲータルスら)321ページ
などによって知られているものを用いることができる。Among the curing agents of the above method (1), examples of the curing agent for a natural hydrophilic resin such as gelatin include, for example, US Pat.
057,723, 3,671,256, 3,396,029, 4,161,4
07, 4,207,109, UK Patent No. 1,322,971
42-17112, JP-A-51-94817, JP-A-56-66841, and JP-A-5-66841
Nos. 7-207243, 59-121327, "Theory of the Photographic Process," Fourth Edition (TH James et al.), P. 94, "Polymeric amine and
Ammonium Salts "(EJ Gaters et al., P. 321) can be used.
又、上記(2)の方法の重合性官能基を2個以上含有
する多官能性単量体あるいは多官能性オリゴマーの重合
性官能基としては、具体的には CH2=CH−CH2−、 CH2=CH−、 CH2=CH−CONH−、 CH2=CH−NHCO−、CH2=CH−CH2−NHCO−、CH2=CH−SO
2−、CH2=CH−CO−、CH2=CH−O−、CH2=CH−S−、
等を挙げることができる。これらの重合性官能基の同一
のものあるいは異なったものを2個以上有した単量体あ
るいはオリゴマーであればよい。The polymerizable functional group of the polyfunctional monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups in the method (2) is specifically CH 2 CH—CH 2 —. , CH 2 = CH-, CH 2 = CH-CONH-, CH 2 = CH-NHCO-, CH 2 = CH-CH 2 -NHCO-, CH 2 = CH-SO
2 -, CH 2 = CH- CO-, CH 2 = CH-O-, CH 2 = CH-S-,
And the like. Any monomer or oligomer having two or more of the same or different polymerizable functional groups may be used.
重合性官能基を2個以上有した単量体の具体例は、例
えば同一の重合性官能基を有する単量体あるいはオリゴ
マーとして、ジビニルベンゼン、トリビニルベンゼン等
のスラレン誘導体:多価アルコール(例えば、エチレン
グリコール、、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、ポリエチレングリコール#200、#400、#60
0、1,3−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、
ペンタエリスリトールなど)、又はポリヒドロキシフェ
ノール(例えば、ヒドロキノン、レゾルシン、カテコー
ルおよびそれらの誘導体)のメタクリル酸、アクリル酸
又はクロトン酸のエステル類、ビニルエーテル類又はア
リルエーテル類:二塩基酸(例えば、マロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、マレイン
酸、フタル酸、イタコン酸等)のビニルエステル類、ア
リルエステル類、ビニルアミド類又はアリルアミド類:
ポリアミン(例えば、エチレンジアミン、1,3−プロピ
レンジアミン、1,4−ブチレンジアミン等」とビニル元
を含有するカルボン酸(例えば、メタクリル酸、アクリ
ル酸、クロトン酸、アリル酢酸等)との縮合体などが挙
げられる。Specific examples of the monomer having two or more polymerizable functional groups include, for example, as monomers or oligomers having the same polymerizable functional group, a slurry derivative such as divinylbenzene or trivinylbenzene: a polyhydric alcohol (for example, , Ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol # 200, # 400, # 60
0,1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane,
Pentaerythritol, etc.) or polyhydroxyphenols (eg, hydroquinone, resorcin, catechol and derivatives thereof), methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid esters, vinyl ethers or allyl ethers: dibasic acids (eg, malonic acid) , Succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, etc.) vinyl esters, allyl esters, vinylamides or allylamides:
Condensates of polyamines (eg, ethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-butylenediamine, etc.) with carboxylic acids containing vinyl components (eg, methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allylacetic acid, etc.) Is mentioned.
又、異なる重合性官能基を有する単量体あるいはオリ
ゴマーとしては、例えば、ビニル基を含有するカルボン
酸(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、メタクリロイ
ル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプロピオン
酸、アクリロイルプロピオン酸、イタコニロイル酢酸、
イタコニロイルプロピオン酸、カルポン酸無水物)とア
ルコール又はアミンの反応体(例えば、アリルオキシカ
ルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニル酢酸、
2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリルアミノカ
ルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有したエス
テル誘導体又はアミド誘導体(例えば、メタクリル酸ビ
ニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メタクリ
ル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリル、メ
タクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸
ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メタクリ
ル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、アクリル
酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニルエチ
レンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−アリル
メタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミド、メタ
クリロイルプロピオン酸アリルアミド等)又はアミノア
ルコール類(例えば、アミノエタノール、1−アミノプ
ロパノール、1−アミノブタノール、1−アミノヘキサ
ノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を含有し
たカルボン酸との縮合体などが挙げられる。本発明に用
いられる2個以上の重合性官能基を有する単量体あるい
はオリゴマーは、全単量体の10モル%以下、好ましくは
5モル%以下用いて重合し、樹脂を形成する。Examples of the monomer or oligomer having a different polymerizable functional group include, for example, a carboxylic acid containing a vinyl group (for example, methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloyl propionic acid, acryloyl propionic acid, itaconiloyl) Acetic acid,
Itaconiloyl propionic acid, carboxylic acid anhydride) and a reactant of an alcohol or an amine (eg, allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid,
Ester derivatives or amide derivatives containing a vinyl group such as 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropionic acid, etc. (for example, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, Allyl itaconate, vinyl methacryloyl acetate, vinyl methacryloyl propionate, allyl methacryloyl propionate, vinyl oxycarbonyl methyl methacrylate, vinyl oxycarbonyl methyloxy carbonyl ethylene acrylate, N-allyl acrylamide, N-allyl methacrylamide, N- Allylitaconamide, methacryloylpropionic allylamide, etc.) or amino alcohols (for example, aminoethanol, 1-aminopropanol, 1- Mino butanol, 1-amino-hexanol, 2-amino butanol) and the like condensates of carboxylic acids containing vinyl groups. The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is polymerized using 10 mol% or less, preferably 5 mol% or less of all monomers to form a resin.
又本発明では重合性二重結合基を含有した重合体を使
用することもでき、この重合体における該二重結合基の
例としても前記したと同様の基が挙げられる。そして、
この重合体間の重合反応において、前記した重合性多官
能性単量体を併用して反応を行うことも通常知られた方
法である。In the present invention, a polymer containing a polymerizable double bond group can also be used. Examples of the double bond group in this polymer include the same groups as described above. And
In the polymerization reaction between the polymers, it is a generally known method to carry out the reaction using the above-mentioned polymerizable polyfunctional monomer in combination.
更には、上記(3)の方法の高分子間の反応性基同志
の反応により化学結合を形成し高分子間の橋架けを行う
場合には、通常の有機低分子化合物の反応と同様に行う
ことができる。具体的には、岩倉義男、栗田恵輔、「反
応性高分子」講談社(1977年刊)、小田良平、「高分子
ファインケミカル」講談社(1976年刊)、等の成書に詳
細に記載されている。例えば、下表−AのA群(親水性
共重合体成分)の害能基とB群(反応性基を含有する成
分を含む重合体類)の官能基の組合わせによる高分子反
応が通常よく知られた方法として挙げられる。Further, when a chemical bond is formed by the reaction of reactive groups between polymers in the above method (3) to form a bridge between the polymers, the reaction is performed in the same manner as the reaction of a general organic low-molecular compound. be able to. Specifically, it is described in detail in books such as Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymers" Kodansha (1977), Ryohei Oda, "Polymer Fine Chemicals" Kodansha (1976), and the like. For example, a polymer reaction is usually performed by a combination of a harmful group of Group A (hydrophilic copolymer component) and a functional group of Group B (polymers containing a component containing a reactive group) in Table A below. This is a well-known method.
以上の如く、本発明の網目親水性樹脂粒子は、親水性
基を含有する重合体成分を含有し、且つ分子鎖間が高次
に橋架けされた構造を有する重合体の粒子であり、例え
ば、L.H.Sperling,「Intrepenetrating Polymer Networ
ks and Related Materials」Plenum Press(1981年
刊)、「Encyclopedia of Polymer Science and Engine
ering」vol.8,p279〜340(1985年)、J.D.Anclrade、
「Hydrogels for medical and Related Applicatio
n」、ACS.Symposium Series No.31、American Chemical
Society,Washington D.C.(1976年)、大森英三、「高
吸水性樹脂の開発動向とその用途展開」テクノフォーラ
ム(株)出版部(1987年刊)、入江正浩「機能性高分子
ゲルの製造と応用」シー・エム・シー(株)(1987年
刊)、田中健治、Petrotech.,10 25(1987)、Nikkei N
ew Materials 1987年6月1月号、p57、田口準、石井邦
男、「科学と工業」59、188(1985)、増田房義、機能
材料、1982年4月号p36、門磨義則、化学工業38、602
(1987年)等に記載されたヒドロゲルあるいは高吸水性
樹脂を用いることができる。市販された高吸水樹脂の例
として、アラソープ(荒川化学工業社製)、ワンダーゲ
ル(花王社製)、KIゲル(クラレイソプレン社製)、サ
ンウェット(三洋化成工業社製)、スミカゲル(住友化
学工業社製)、アクアキープ(製鉄化学工業社製)、ラ
ンシール(日本エクスラン工業社製)、ライオン・ポリ
マー(ライオン(株)製)、GP(日本合成化学工業社
製)、アリアリック(日本触媒化学工業社製)、アクア
プレン(明成化学工業社製)、CLD(Buckeye Cellulose
社製)、D.W.A.L(Dow Chemical社製)、G.P.C.(Graim
Processing社製)、Aqualon(hercules社製)、Magic
Water Gel(Super Absorbent社製)、Cecagum(CECA社
製)、スポン・シグナス(鐘紡合成化学社製)、スーパ
ー・ラブ(旭化成工業社製)等が挙げられる。 As described above, the network hydrophilic resin particles of the present invention are polymer particles containing a polymer component containing a hydrophilic group, and having a structure in which the molecular chains are bridged to a higher order, for example, , LHSperling, `` Intrepenetrating Polymer Networ
ks and Related Materials "Plenum Press (1981)," Encyclopedia of Polymer Science and Engine "
ering "vol.8, p279-340 (1985), JDAnclrade,
`` Hydrogels for medical and Related Applicatio
n '', ACS.Symposium Series No. 31, American Chemical
Society, Washington DC (1976), Eizo Omori, "Development Trends of Superabsorbent Polymers and Their Applications", Techno Forum Co., Ltd., Publishing Division (1987), Masahiro Irie, "Manufacture and Application of Functional Polymer Gels""CMC Co., Ltd. (1987), Kenji Tanaka, Petrotech., 10 25 (1987), Nikkei N
ew Materials, June 1987, p57, Jun Taguchi, Kunio Ishii, "Science and Industry" 59 , 188 (1985), Fusayoshi Masuda, Functional Materials, April 1982, p36, Yoshinori Kadoma, Chemical Industry 38 , 602
(1987) or the like can be used. Examples of commercially available superabsorbent resins include Arasorp (Arakawa Chemical Industries), Wondergel (Kao Corporation), KI gel (Kuraray Isoprene), Sunwet (Sanyo Chemical Industries), Sumikagel (Sumitomo Chemical) Aqua Keep (manufactured by Iron and Steel Chemical Co., Ltd.), Lanseal (manufactured by Nippon Xlan Industry Co., Ltd.), Lion Polymer (manufactured by Lion Corporation), GP (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.), Arialic (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) Chemical Co., Ltd.), Aquaprene (Meisei Chemical Co., Ltd.), CLD (Buckeye Cellulose
DWAL (manufactured by Dow Chemical), GPC (Graim
Processing), Aqualon (hercules), Magic
Water Gel (manufactured by Super Absorbent), Cecagum (manufactured by CECA), Spon Cygnus (manufactured by Kanebo Gosei Kagaku), Super Lab (manufactured by Asahi Kasei Kogyo) and the like.
また、本発明における網目親水性樹脂の粒子化は、前
述の親水性樹脂の粒子勝と同じである。Further, the particle formation of the network hydrophilic resin in the present invention is the same as the above-described particle win of the hydrophilic resin.
次に、以上の親水性樹脂粒子又は網目親水性樹脂粒子
と併用される結着樹脂について説明する。Next, the binder resin used in combination with the hydrophilic resin particles or the network hydrophilic resin particles will be described.
樹脂〔A〕において重量平均分子量は1×103〜1×1
04、好ましくは3×103〜8×103、式(I)の繰り返し
単位に相当する共重合成分の存在割合は30重量%以上、
好ましくは50〜97重量%であり、酸性基含有の共重合成
分と主鎖末端に結合する酸性基との総量の存在割合は、
1〜20重量%が好ましい。更に、該酸性基含有の共重合
成分の存在割合は好ましくは0.1〜10重量%、より好ま
しくは0.5〜8重量%、主鎖末端に結合する酸性基の存
在割合は好ましくは0.5〜15重量%、より好ましくは1
〜10重量%である。The weight average molecular weight of the resin [A] is 1 × 10 3 to 1 × 1.
0 4, preferably 3 × 10 3 ~8 × 10 3 , the presence proportion of the copolymerizable component corresponding to a repeating unit of formula (I) is 30 wt% or more,
It is preferably from 50 to 97% by weight, and the proportion of the total amount of the acidic group-containing copolymer component and the acidic group bonded to the terminal of the main chain is as follows:
1-20% by weight is preferred. Further, the proportion of the acidic group-containing copolymer component is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.5 to 8% by weight, and the proportion of the acidic group bonded to the main chain terminal is preferably 0.5 to 15% by weight. , More preferably 1
~ 10% by weight.
樹脂〔A′〕における式(II a)及び/又は式(II
b)の繰り返し単位に相当するメタクリレートの共重合
成分の存在割合は、30重量%以上、好ましくは50〜97重
量%、該酸性基含有の共重合成分の存在割合は好ましく
は0.1〜10重量%、より好ましくは0.5〜8重量%であ
る。重合体主鎖の末端に結合する酸性基の存在割合は好
ましくは0.5〜15重量%、より好ましくは1〜10重量%
である。Formula (IIa) and / or Formula (II) in the resin [A ′]
The proportion of the methacrylate copolymer component corresponding to the repeating unit of b) is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the proportion of the acidic group-containing copolymer component is preferably 0.1 to 10% by weight. , More preferably 0.5 to 8% by weight. The proportion of the acidic group bonded to the terminal of the polymer main chain is preferably 0.5 to 15% by weight, more preferably 1 to 10% by weight.
It is.
樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−20℃〜110
℃、より好ましくは−10℃〜90℃である。The glass transition point of the resin [A] is preferably -20 ° C to 110 ° C.
° C, more preferably -10 ° C to 90 ° C.
一方、樹脂〔B〕の重量平均分子量は3×104〜1×1
06、好ましくは5×104〜5×105である。On the other hand, the weight average molecular weight of the resin [B] is 3 × 10 4 -1 × 1
0 6, preferably from 5 × 10 4 ~5 × 10 5 .
式(III)の繰り返し単位に相当する共重合成分の存
在割合は30重量%以上、好ましくは50重量%以上であ
る。The proportion of the copolymer component corresponding to the repeating unit of the formula (III) is at least 30% by weight, preferably at least 50% by weight.
また、樹脂〔B〕は共重合成分として更に酸性基含有
成分を含有していてもよく、該酸性基含有の共重合成分
を含有する場合、その存在割合は、10重量%以下、好ま
しくは5重量%以下である。The resin [B] may further contain an acidic group-containing component as a copolymer component. When the resin [B] contains the acidic group-containing copolymer component, its content is 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less. % By weight or less.
また、樹脂〔B′〕において、主鎖末端に結合する酸
性基の存在割合は0.1〜5重量%が好ましい。In the resin [B '], the proportion of the acidic group bonded to the main chain terminal is preferably 0.1 to 5% by weight.
又、酸性基含有の共重合成分と主鎖末端に結合する両
者が存在する場合、その総量の存在割合は、0.5〜10重
量%、好ましくは0.5〜5重量%である。When both the acidic group-containing copolymer component and the main chain terminal are present, the total amount thereof is 0.5 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight.
樹脂〔B〕のガラス転移点は、好ましくは0℃〜110
℃、より好ましくは、20℃〜90℃である。The glass transition point of the resin [B] is preferably 0 ° C to 110 ° C.
° C, more preferably 20 ° C to 90 ° C.
結着樹脂〔A〕の分子量が1×103より小さくなる
と、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方分
子量が1×104より大きくなると本発明の樹脂であって
も、前記した様な過酷な条件下での電子写真特性(帯電
性、前露光疲労性)の変動が多少大きくなり、安定した
複写画像が得られるという本発明の効果が薄れてしま
う。When the molecular weight of the binder resin [A] is smaller than 1 × 10 3 , the film-forming ability is reduced and sufficient film strength cannot be maintained. On the other hand, when the molecular weight is larger than 1 × 10 4 , even if the resin of the present invention is used. The fluctuation of electrophotographic characteristics (charging property, pre-exposure fatigue property) under severe conditions as described above is slightly increased, and the effect of the present invention that a stable copied image can be obtained is weakened.
結着樹脂〔A〕における酸性基含有総量が1重量%よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができない。一方該酸性基含有量が20重量%よりも多
いと、いかに低分子量体といえども分散性が低下し、膜
平滑度及び電子写真特性の高湿特性が低下し、更にオフ
セットマスターとして用いるときに地汚れが増大する。If the total content of the acidic group in the binder resin [A] is less than 1% by weight, the initial potential is too low to obtain a sufficient image density. On the other hand, when the content of the acidic group is more than 20% by weight, the dispersibility of even a low molecular weight substance is reduced, the film smoothness and the high humidity property of electrophotographic properties are reduced, and furthermore, when used as an offset master. Background dirt increases.
又、結着樹脂〔B〕の分子量が3×104より小さくな
ると、膜強度が充分に保てず、一方分子量が1×106よ
り大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が低下し、複
写画像の画質(特に、細線・文字の再現性が悪くなる)
が悪化し、更にオフセットマスターとして用いる時に地
汚れが著しくなってしまう。When the molecular weight of the binder resin [B] is smaller than 3 × 10 4 , the film strength cannot be sufficiently maintained. On the other hand, when the molecular weight is larger than 1 × 10 6 , the dispersibility decreases and the film smoothness decreases. , Image quality of copied image (especially, reproducibility of fine lines and characters deteriorates)
Is worsened, and furthermore, when used as an offset master, background stain becomes remarkable.
次に本発明に供される結着樹脂〔A〕及び結着樹脂
〔B〕の詳細について説明する。Next, the details of the binder resin [A] and the binder resin [B] used in the present invention will be described.
本発明の樹脂〔A〕は、式(I)で示される繰り返し
単位を少なくとも1種重合成分として含有する。The resin [A] of the present invention contains at least one kind of a repeating unit represented by the formula (I) as a polymerization component.
一般式(I)において、a1およびa2は、水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、シアノ基又
は炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等)を表わす。R1は、炭素数
1〜18の置換されていてもよいアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリ
デシル基、テトラデシル基、2−クロロエチル基、2−
ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキシ
エチル基、2−メトキシエチル基、2−エトキシエチル
基、3−ヒドロキシプロピル基等)、炭素数2〜18の置
換されていてもよいアルケニル基(例えばビニル基、ア
リル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル
基、ヘプテニル基、オクテニル基等)、炭素数7〜12の
置換されていてもよいアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエ
チル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、メ
チルベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていても
よいシクロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、置換されていて
もよいアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシ
ル基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフェニル基、
エトキシフェニル基、フロロフェニル基、ジフロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、シアノフ
ェニル基、ニトロフェニル基等)等が挙げられる。In the general formula (I), a 1 and a 2 represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl group). R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group,
Hexyl, octyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, 2-chloroethyl, 2-
A bromoethyl group, a 2-cyanoethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group, and the like, and an optionally substituted alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms. A vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, a hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group, etc., an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc., optionally substituted cycloalkyl group having 5-8 carbon atoms (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), substitution Optionally substituted aryl groups (eg phenyl, tolyl, xyl, mesityl, naph Tyl group, methoxyphenyl group,
Ethoxyphenyl, fluorophenyl, difluorophenyl, bromophenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, iodophenyl, methoxycarbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl, cyanophenyl, nitrophenyl, etc.) .
更に、好ましくは一般式(I)の繰り返し単位に相当
する共重合体成分は、前記一般式(II a)及び/又は
(II b)で示される特定のアリール基を含有するメタク
リレート成分で表わされる(樹脂〔A′〕)。Further, the copolymer component preferably corresponding to the repeating unit of the general formula (I) is represented by a methacrylate component containing a specific aryl group represented by the general formula (IIa) and / or (IIb). (Resin [A ']).
式(II a)において、好ましいA1及びA2として、それ
ぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好ま
しい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、
炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェ
ネチル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル
基、ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベン
ジル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル
基、キシリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並び
に−COD1及び−COOD2(好ましいD1及びD2としては上記
好ましい炭化水素基として記載したものを挙げることが
できる)を挙げることができる。In the formula (IIa), as preferred A 1 and A 2 , in addition to a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, respectively, a preferred hydrocarbon group is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group). , Propyl, butyl, etc.),
C7-C9 aralkyl group (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloro-methyl-benzyl group, etc.) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and the preferred hydrocarbon as -COD 1 or -COOD 2 (preferably D 1 and D 2 And those described as hydrogen groups).
式(II a)において、B1は−COO−とベンゼン環を結
合する単結合又はCH2n1(n1は1〜3の整数を表わ
す)、−CH2OCO−、−CH2CH2OCO−、CH2On2(n2は
1または2の整数を表わす)、−CH2CH2O−等の如き連
結原子数1〜4個の連結基を表わす。In the formula (IIa), B 1 is a single bond connecting —COO— and a benzene ring or CH 2 n 1 (n 1 represents an integer of 1 to 3), —CH 2 OCO—, —CH 2 CH 2 OCO-, CH 2 On 2 (n 2 is an integer of 1 or 2), - it represents a CH 2 CH 2 O-such as such linking atoms 1-4 linking groups.
式(II b)におけるB2はB1と同一の内容を表わす。B 2 in formula (II b) is the same meaning as B 1.
本発明の樹脂〔A′〕で用いられる式(II a)または
(II b)で示される繰り返し単位に相当する共重合成分
の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこら
に限定されるものではない。Specific examples of the copolymer component corresponding to the repeating unit represented by the formula (IIa) or (IIb) used in the resin [A '] of the present invention are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this.
また、以下の各例において、T1及びT2は各々Cl、Br又
はIを示し、R11はCaH2a+1又は を示し、aは1〜4の整数を示し、bは0又は3の整数
を示し、cは1〜3の整数を示す。In each of the following examples, T 1 and T 2 each represent Cl, Br or I, and R 11 is C a H 2a + 1 or A represents an integer of 1 to 4, b represents an integer of 0 or 3, and c represents an integer of 1 to 3.
本発明の樹脂〔A〕中に共重合される酸性基を含有す
る共重合成分は、例えば一般式(I)(一般式(II
a)、(II b)も含む)で示される繰り返し単位に相当
する単量体と共重合し得る該酸性基を含有するビニル計
化合物であればいずれでもよく、例えば、高分子学会編
「高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館(19
86年)等に記載されている。具体的には、アクリル酸、
α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ
体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ)メチ
ル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α
−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、
β−ブロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−
ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン
酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、
2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、
2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メ
チル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸
等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン
酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベン
ゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン
酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステ
ル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエ
ステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に該酸性基を含
有する化合物等が挙げられる。 The copolymerization component containing an acidic group to be copolymerized in the resin [A] of the present invention is, for example, a compound represented by the general formula (I) (the general formula (II)
a) and (IIb)) as long as it is a vinyl compound having an acidic group copolymerizable with a monomer corresponding to the repeating unit represented by (IIb). Molecular Data Handbook [Basic] "Baifukan (19
1986). Specifically, acrylic acid,
α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α- (2-amino) methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α
-Tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form,
β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α, β-
Dichloro compound), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid semiamides, crotonic acid,
2-alkenyl carboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid,
2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinyl Benzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, half-ester derivatives of vinyl or allyl groups of dicarboxylic acids, and ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, substituents of amide derivatives. Examples include compounds containing an acidic group.
該酸性基における において、Rは炭化水素基又はOR′基(R′は炭化水素
基を表わす)を表わし、R及びR′は好ましくは炭素数
1〜22の脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル
基、2−メトキシエチル基、3−エトキシプロピル基、
アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロベン
ジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換されてもよ
いアリール基(例えば、フェニル基、トリル基、エチル
フェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、
フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル
−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル
基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセ
チルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等を表わす。In the acidic group In the above, R represents a hydrocarbon group or an OR 'group (R' represents a hydrocarbon group), and R and R 'are preferably an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group). Group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group,
Allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an optionally substituted aryl group (For example, phenyl, tolyl, ethylphenyl, propylphenyl, chlorophenyl,
Fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group, butoxyphenyl group, etc.).
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環
状酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水
物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカル
ボン酸無水物が挙げられる。Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride contained include aliphatic dicarboxylic anhydride and aromatic dicarboxylic anhydride. Can be
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無
水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、
シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセ
ン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2.2.
2〕オクタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これ
らの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のア
ルキル基等が置換されていてもよい。Examples of the aliphatic dicarboxylic anhydride include a succinic anhydride ring, a glutaconic anhydride ring, a maleic anhydride ring,
Cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring, 2,3-bicyclo [2.2.
2] octanedicarboxylic anhydride rings and the like, and these rings are substituted with, for example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, and alkyl groups such as methyl group, ethyl group, butyl group and hexyl group. Is also good.
又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル
酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリ
ジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン
酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素
原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシ
ル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基
(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキ
シ基等)等が置換されていてもよい。Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include a phthalic anhydride ring, a naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, a pyridine-dicarboxylic anhydride ring, a thiophene-dicarboxylic anhydride ring, and the like. Is, for example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (for the alkoxy group, for example, Methoxy group, ethoxy group, etc.) may be substituted.
酸性基含有の共重合成分について例示する。ここで、
P1はH又はCH3を示し、P2はH、CH3又はCH2COOCH3を示
し、R12は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R13は炭素
数1〜6のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示
し、cは1〜3の整数を示し、dは2〜11の整数を示
し、eは1〜11の整数を示し、fは2〜4の整数を示
し、gは2〜10の整数を示す。The copolymer component containing an acidic group will be exemplified. here,
P 1 represents H or CH 3 , P 2 represents H, CH 3 or CH 2 COOCH 3 , R 12 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 13 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. , A benzyl group or a phenyl group, c represents an integer of 1-3, d represents an integer of 2-11, e represents an integer of 1-11, f represents an integer of 2-4, g Represents an integer of 2 to 10.
また、本発明の樹脂〔A〕は、前記酸性基と同様の酸
性基から選ばれる少なくとも1種の酸性基を重合体主鎖
の末端に結合する。 In the resin [A] of the present invention, at least one acidic group selected from the same acidic groups as the above-mentioned acidic groups is bonded to the terminal of the polymer main chain.
樹脂〔A〕において、重合体の共重合成分中に含有さ
れる前記酸性基と重合体主鎖末端に結合する該酸性基と
は同一でも異なっていてもよい。樹脂〔A〕における重
合体主鎖の片末端に結合した酸性基において、好ましい
酸性基として、−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、 環状酸無水物含有基を挙げることができる。In the resin [A], the acidic group contained in the copolymer component of the polymer and the acidic group bonded to the terminal of the polymer main chain may be the same or different. In the acidic group bonded to one terminal of the polymer main chain in the resin (A), preferred acidic groups, -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group, -COOH group, A cyclic acid anhydride containing group can be mentioned.
これらの酸性基は、重合体主鎖の末端に直接結合して
もよいし、連結基を介して結合してもよい。連結元とし
ては、いずれの結合する基でもよいが、例えば具体的に
挙げるとすれば、 (d1、d2は同じでも異なってもよく、各々水素原子、ハ
ロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、−OH基、シアノ
基、アルキル基(メチル基、エチル基、2−クロロエチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基等)、アラルキル基(ベンジル基、フェ
ネチル基等)、フェニル基等を表わす)、 (d3、d4はd1、d2と同一の内容を表わす)、 −O−、−S−、 {d5は、水素原子、又は炭化水素基を表わす(炭化水素
基として具体的には炭素数1〜12の炭化水素基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−メトキシ
エチル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、
ベンジル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、メ
トキシベンジル基、フェネチル基、フェニル基、トリル
基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ブチルフ
ェニル基等)が挙げられる)}、−CO−、−COO−、−O
CO−、 −SO2−、−NHCONH−、−NHCOO−、−NHSO2−、−CONHC
OO−、−CONHCONH−、複素環(ヘテロ原子として、O、
S、N等を少なくとも1種含有する5〜6員環又はこれ
らの縮合環であればいずれでもよい:例えば、チオフェ
ン環、ピリジン環、フラン環、イミダゾール環、ピペリ
ジン環、モルホリン環等が挙げられる)又は {d6、d7は同じでも異なってもよく、炭化水素基又は−
Od8(d8は炭化水素基)を表わす。これらの炭化水素基
として、d5で挙げたものと同一のものを挙げることがで
きる)等の結合基の単独又は、これらの組合せにより構
成された連結基等が挙げられる。These acidic groups may be directly bonded to the terminal of the polymer main chain, or may be bonded via a linking group. As the linking source, any bonding group may be used, but for example, if specifically mentioned, (D 1 and d 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an —OH group, a cyano group, an alkyl group (a methyl group, an ethyl group, a 2-chloroethyl group, 2-hydroxyethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.), phenyl group, etc.), (D 3 and d 4 represent the same contents as d 1 and d 2 ), -O-, -S-, {D 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group) Group, decyl group, dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group,
Benzyl, methylbenzyl, chlorobenzyl, methoxybenzyl, phenethyl, phenyl, tolyl, chlorophenyl, methoxyphenyl, butylphenyl, etc.)), -CO-, -COO-, −O
CO-, -SO 2 -, - NHCONH -, - NHCOO -, - NHSO 2 -, - CONHC
OO-, -CONHCONH-, a heterocyclic ring (as a hetero atom, O,
Any 5- or 6-membered ring containing at least one of S, N, and the like or a condensed ring thereof may be used. Examples thereof include a thiophene ring, a pyridine ring, a furan ring, an imidazole ring, a piperidine ring, and a morpholine ring. ) Or {D 6 and d 7 may be the same or different, and represent a hydrocarbon group or-
Od 8 (d 8 is a hydrocarbon group). As these hydrocarbon groups, d 5 can be cited the same as those listed) alone linking group or the like, linking group constituted by a combination thereof.
更に、結着樹脂〔A〕では、上記一般式(I)で示さ
れる共重合成分(一般式(II a)又は(II b)で示され
るものも含む)および酸性基を含有する共重合成分に加
えて、更に、熱及び/又は光硬化性官能基を含有する共
重合成分を1〜20重量%含有することが、より大きな機
械的強度を得る上で好ましい。Further, in the binder resin [A], the copolymer component represented by the above general formula (I) (including the one represented by the general formula (IIa) or (IIb)) and the copolymer component containing an acidic group In addition to the above, it is preferable to further contain 1 to 20% by weight of a copolymer component containing a heat and / or photocurable functional group from the viewpoint of obtaining higher mechanical strength.
「熱及び/又は光硬化性官能基」とは、熱及び光のう
ちの少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう
官能基をいう。“Thermal and / or photocurable functional group” refers to a functional group that causes a curing reaction of a resin by at least one of heat and light.
光硬化性官能基として具体的には、乾英夫、永松元太
郎、「感光性高分子」(講談社、1977年刊)、角田隆
弘、「新感光性樹脂」(印刷学会出版部、1981年刊)、
G.E.Green and B.P.Strak,J.Macro.Sci.Reas.Macro Che
m.,C21(2),187〜273(1981〜82)、C.G.Rattey,「Ph
otopolymirization of Surface Cootings」(A.Wiley I
nterScience Pub.1982年刊)、等の総説に引例された光
硬化性樹脂として従来高知の感光性樹脂等に用いられる
官能基が用いられる。Specific examples of photocurable functional groups include Hideo Inui, Mototaro Nagamatsu, "Photosensitive Polymers" (Kodansha, published in 1977), Takahiro Kakuda, "New Photosensitive Resins" (publishing department of the Printing Society of Japan, published in 1981),
GEGreen and BPStrak, J.Macro.Sci.Reas.Macro Che
m., C21 (2), 187-273 (1981-82), CGRattey, "Ph
otopolymirization of Surface Cootings "(A. Wiley I
nterScience Pub. 1982), functional groups used in photosensitive resins and the like conventionally known as Kochi are used as photocurable resins.
また本発明における「熱硬化性官能基」は、前記の酸
性基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化
性高分子の精密化」(C.M.C(株)、1986年刊)、原崎
勇次「最新バインダー技術便覧」第II−I章(総合技術
センター、1985年刊)、大津隆行「アクリル樹脂の合成
・設計と新用途開発」(中部経営開発センター出版部、
1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」(テク
ノシステム、1985年刊)等の総説に引例の官能基を用い
ることができる。Further, the “thermosetting functional group” in the present invention is a functional group other than the above-mentioned acidic group, and includes, for example, Tsuyoshi Endo, “Refinement of thermosetting polymer” (CMC Corporation, 1986), Yuji Harazaki, "Handbook of Latest Binder Technologies", Chapter II-I (Comprehensive Technology Center, published in 1985), Takayuki Otsu, "Synthesis and Design of Acrylic Resins and Development of New Applications" (Chubu Business Development Center Publishing Division,
1985), Emori Omori "Functional Acrylic Resin" (Techno System, 1985), and the like can use the functional groups of the references.
例えば−OH基、−SH基、−NH2基、−NHR3基〔R3は炭
化水素基を表わし、例えば炭素数1〜10の置換されても
よいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、2
−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノ
エチル基等)、炭素数4〜8の置換されてもよいシクロ
アルキル基(例えばシクロヘプチル基、シクロヘキシル
基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロ
ピル基、クロロベンジル基、メチルベンジル基、メトキ
シベンジル基等)、置換されてもよいアリール基(例え
ばフェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、ナフチル
基等)等が挙げられる〕、 −CONHCH2OR4〔R4は水素原子又は炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基等)を表わす〕、−N=
C=O基及び {d9、d10は、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩
素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基等)を表わす}等を挙げる
ことができる。又該重合性二重結合基として、具体的に
はCH2=CH−、CH2=CH−CH2−、 CH2=CH−CONH−、 CH2=CH−NHCO−、CH2=CH−CH2−、NHCO−、CH2=CH−
SO2−、CH2=CH−CO−、CH2=CH−O−、CH2=CH−S−
等を挙げることができる。For example -OH group, -SH group, -NH 2 group, -NHR 3 group [R 3 represents a hydrocarbon group, for example an optionally substituted alkyl group (e.g. methyl group having 1 to 10 carbon atoms, an ethyl group, Propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, 2
-Chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, etc.), C4-8 optionally substituted cycloalkyl group (e.g., cycloheptyl group, cyclohexyl group, etc.), C7-12 substituted group. Aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), and optionally substituted aryl groups (eg, phenyl group, tolyl group, xylyl group) Chlorophenyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, naphthyl group, etc.) -CONHCH 2 OR 4 [R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, etc.)], -N =
C = O group and {D 9 and d 10 each represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, etc.)} and the like. . As the polymerizable double bond group, specifically, CH 2 2CH—, CH 2 CHCH—CH 2 —, CH 2 = CH-CONH-, CH 2 = CH-NHCO-, CH 2 = CH-CH 2 -, NHCO-, CH 2 = CH-
SO 2- , CH 2 = CH-CO-, CH 2 = CH-O-, CH 2 = CH-S-
And the like.
本発明において、結着樹脂に該硬化性官能基の群から
選択される官能基を少なくとも1種含有させる方法とし
て、重合体に高分子反応で導入する方法、又は該官能基
を1種又はそれ以上含有する1種又はそれ以上の単量体
と前記した一般式(I)(一般式(II a)又は(II b)
も含む)の繰り返し単位に相当する単量体及び「酸性基
含有の共重合体成分」に相当する単量体と共重合反応す
る方法等により得られる。In the present invention, as a method for causing the binder resin to contain at least one functional group selected from the group of the curable functional groups, a method of introducing a polymer into a polymer by a polymer reaction, or one or a group of such functional groups. One or more monomers contained above and the above-mentioned general formula (I) (general formula (IIa) or (IIb)
) And a monomer corresponding to the “acidic group-containing copolymer component”.
高分子反応は、従来高知の低分子合成反応の方法をそ
のまま用いることができ、例えば、日本化学会編、「新
実験化学講座14巻、有機化合物の合成と反応〔I〕〜
〔V〕」、(丸善株式会社刊)、岩倉義男、栗田恵輔著
「反応性高分子」等の総説引例の公知文献等に詳細に記
載されている。For the high-molecular reaction, conventional methods of low-molecular-weight synthesis reactions in Kochi can be used as they are, for example, “The New Experimental Chemistry Course Vol. 14, edited by The Chemical Society of Japan, Synthesis and Reaction of Organic Compounds [I]-
[V] "(published by Maruzen Co., Ltd.)," Reactive Polymers "by Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, and the like, and are described in detail in publicly known literature and the like.
一方、該「光及び/又は熱硬化反応を行なう官能基」
を含有する単量体の例としては、例えば一般式(I)の
繰り返し単位に相当する単量体と共重合し得る、該官能
基を含有するビニル系化合物を挙げることができる。具
体的には、前記した「酸性基含有の化合物」と同様の化
合物の置換基中に該官能基を含有するもの等が挙げられ
る。「熱/光硬化性官能基」含有の繰り返し単位につい
て例示する。ここで、R11、a、d、eは前記と同様の
内容を示し、P1およびP3は各々H又はCH3を示し、R14は
−CH=CH2又は−CH2CH=CH2を示し、R15は−CH=CH2、 又は−CH=CHCH3を示し、R16は−CH=CH2、−CH2CH=CH
2、 又は を示し、ZはS又は0を示し、T3はOH又はNH2を示し、
hは1〜11の整数を示し、iは1〜10の整数を示す。On the other hand, the "functional group which performs light and / or heat curing reaction"
Examples of the monomer containing a functional group include a vinyl compound containing the functional group, which can be copolymerized with a monomer corresponding to the repeating unit of the general formula (I). Specific examples include compounds containing the functional group in the substituents of the same compounds as the “acidic group-containing compound” described above. An example of a repeating unit containing a “heat / photocurable functional group” will be described. Here, R 11 , a, d, and e have the same contents as described above, P 1 and P 3 each represent H or CH 3 , and R 14 has —CH = CH 2 or —CH 2 CH = CH 2. R 15 is -CH = CH 2 , Or it indicates -CH = CHCH 3, R 16 is -CH = CH 2, -CH 2 CH = CH
2 , Or Z represents S or 0, T 3 represents OH or NH 2 ,
h represents an integer of 1 to 11, and i represents an integer of 1 to 10.
更に、本発明の樹脂〔A〕は、前記した一般式(I)
(一般式(II a)および(II b)も含む)の共重合体成
分に相当する単量体及び酸性基含有の単量体とともに、
これら以外の他の単量体を共重合成分として含有しても
よい。 Further, the resin [A] of the present invention is a compound represented by the above general formula (I)
Together with a monomer corresponding to the copolymer component of the general formula (IIa) and (IIb) and a monomer having an acidic group,
A monomer other than these may be contained as a copolymer component.
例えば、一般式(I)で説明した以外の置換基を含有
するメタクリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、
クロトン酸エステル類に加え、α−オレフィン酸、アル
カン酸ビニル又はアリルエステル類(例えばアルカン酸
として、酢酸プロピオン酸、酪酸、吉草酸等)、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエーテル類、
イタコン酸エステル類(例えばジメチルエステル、ジエ
チルエステル等)、アクリルアミド類、メタクリルアミ
ド類、スチレン類(例えばスチレン、ビニルトルエン、
クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、N,N−ジメチル
アミノメチルスチレン、メトキシカルボニルスチレン、
メタンスルホニルオキシスチレン、ビニルナフタレン
等)、複素環ビニル類(例えばビニルピロリドン、ビニ
ルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン、
ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾール、ビニルジオキ
サン、ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、ビニルオ
キサジン等)等が挙げられる。For example, methacrylates, acrylates containing substituents other than those described in the general formula (I),
In addition to crotonic esters, α-olefin acids, vinyl alkanoates or allyl esters (eg, alkanoic acids such as propionic acid acetate, butyric acid, valeric acid), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers,
Itaconic esters (eg, dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (eg, styrene, vinyltoluene,
Chlorostyrene, hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene,
Methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), heterocyclic vinyls (eg, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene,
Vinylimidazoline, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.).
樹脂〔A〕において、重合体主鎖の片末端に該酸性基
を結合する方法としては、従来公知のアニオン重合ある
いはカチオン重合によって得られるリビングポリマーの
末端に種々の試薬を反応させる方法(イオン重合法によ
る方法)、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始剤
及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方法
(ラジカル重合法による方法)、あるいは以上の如きイ
オン重合法もしくはラジカル重合法によって得られた末
端に反応性基(例えばアミノ基、ハロゲン原子、エポキ
シ基、酸ハライド基等)含有の重合体を高分子反応によ
って本発明の特定の酸性基に変換する方法等の合成法に
よって容易に製造することができる。In the resin [A], as a method for bonding the acidic group to one terminal of the polymer main chain, a method of reacting various reagents with the terminal of a living polymer obtained by conventionally known anionic or cationic polymerization (ionic weight Method by a radical method), a method of radical polymerization using a polymerization initiator and / or a chain transfer agent containing a specific acidic group in the molecule (a method by a radical polymerization method), or an ionic polymerization method or a radical polymerization method as described above. A polymer containing a reactive group (for example, an amino group, a halogen atom, an epoxy group, an acid halide group, etc.) at the terminal obtained by the above method is converted into a specific acidic group according to the present invention by a polymer reaction. It can be easily manufactured.
具体的には、P.Dreyfuss,R.P.Quirk,Encycl.Polym.Sc
i.Eng.,7,551(1987)、中條善樹、山下雄也「染料と
薬品」、30、232(1985)、上田明、永井進「科学と工
業」60、57(1986)等の総説及びそれに引用の文献等に
記載の方法によって製造することができる。Specifically, P. Dreyfuss, RPQuirk, Encycl.Polym.Sc
Review articles such as i.Eng., 7 , 551 (1987), Yoshiki Chujo, Yuya Yamashita, "Dyes and Drugs", 30 , 232 (1985), Akira Ueda, Susumu Nagai, "Science and Industry" 60 , 57 (1986), etc. In addition, it can be produced by the method described in the cited document or the like.
具体的には、用いれ連鎖移動剤としては、例えば、該
酸性基あるいは、上記反応性基(即ち該酸性基に誘導し
うる基)を含有するメルカプト化合物(例えばチオグリ
コール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカ
プトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−
メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)
グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−〔N(2−
メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピオン酸、3−
〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕プロピオン
酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)アラニン、2
−メルカプトエタンスルホン酸、3−メルカプトプロパ
ンスルホン酸、4−メルカプトブタンスルホン酸、2−
メルカプトエタノール、1−メルカプト−2−プロパノ
ール、3−メルカプト−2−ブタノールメルカプトフェ
ノール−2−メルカプトエチルアミン、2−メルカプト
イミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジノール、4
−(2−メルカプトエチルオキシカルボニル)フタル酸
無水物、2−メルカプトエチルホスホノ酸、2−メルカ
プトエチルホスホノ酸モノメチルエステル等)、あるい
は上記極性基又は置換基を含有するヨード化アルキル化
合物(例えばヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨ
ードエタノール、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨ
ードプロパンスルホン酸等)が挙げられる。好ましくは
メルカプト化合物が挙げられる。Specifically, as the chain transfer agent to be used, for example, the acid group or a mercapto compound containing the above-mentioned reactive group (that is, a group which can be derived from the acid group) (eg, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid) 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid
Mercaptobutyric acid, N- (2-mercaptopropionyl)
Glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3- [N (2-
Mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3-
[N- (2-mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- (3-mercaptopropionyl) alanine, 2
-Mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, 2-
Mercaptoethanol, 1-mercapto-2-propanol, 3-mercapto-2-butanol mercaptophenol-2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, 4
-(2-mercaptoethyloxycarbonyl) phthalic anhydride, 2-mercaptoethylphosphonoic acid, 2-mercaptoethylphosphonoic acid monomethyl ester, or the like, or an iodized alkyl compound containing the above polar group or substituent (for example, Iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.). Preferably, a mercapto compound is used.
該酸性基あるいは、特定の反応性基を含有する重合開
始剤としては、具体的には、4,4′−アゾビス(4−シ
アノ吉草酸)、4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸ク
ロライド)、2,2′−アゾビス(2−シアノプロパノー
ル)、2,2′−アゾビス(2−シアノペンタノール)、
2,2′−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシ
エチル)−プロピオアミド〕、2,2′−アゾビス{2−
メチル−N−〔1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−
ヒドロキシエチル〕プロピオアミド}、2,2′−アゾビ
ス{2−〔1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダ
ゾリン−2−イル)プロパン}、2,2′−アゾビス〔2
−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、2,2′
−アゾビス〔2−(4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−
ジアゾピン−2−イル)プロパン〕等が挙げられる。Specific examples of the polymerization initiator containing the acidic group or the specific reactive group include 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid) and 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid). Chloride), 2,2'-azobis (2-cyanopropanol), 2,2'-azobis (2-cyanopentanol),
2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) -propioamide], 2,2'-azobis {2-
Methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2-
Hydroxyethyl] propioamide {, 2,2'-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl) propane}, 2,2'-azobis [2
-(2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2 '
-Azobis [2- (4,5,6,7-tetrahydro-1H-1,3-
Diazopin-2-yl) propane].
これらの連鎖移動剤あるいは重合開始剤は、各々全単
量体100重量部に対して0.5〜15重量部であり、好ましく
は2〜10重量部である。These chain transfer agents or polymerization initiators are each used in an amount of 0.5 to 15 parts by weight, preferably 2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total monomers.
次に樹脂〔B〕の好ましい態様について以下に説明す
る。Next, a preferred embodiment of the resin [B] will be described below.
本発明の樹脂〔B〕は、前記式(III)で示される繰
り返し単位を少なくとも1種重合成分として含有する。The resin [B] of the present invention contains at least one repeating unit represented by the above formula (III) as a polymerization component.
一般式(III)において、b1、b2は、前記した一般式
(I)のa1、a2と同一の内容を表わす。In the general formula (III), b 1 and b 2 represent the same contents as a 1 and a 2 in the general formula (I).
XはCH2 nCOO−、CH2 mOCO−、−O−、又は を表わす。但し、n、mは各々0又は1〜3の整数を表
わす。Xは好ましくは−COO−、−OCO−、−O−、−CH
2COO−、−CH2OCO−又は−O−を表わす。X is CH 2 n COO-, CH 2 m OCO -, - O-, or Represents Here, n and m each represent 0 or an integer of 1 to 3. X is preferably -COO-, -OCO-, -O-, -CH
2 COO -, - represents a CH 2 OCO- or -O-.
R2は、一般式(I)のR1と同一の内容を表わす。R 2 has the same contents as R 1 in formula (I).
本発明の樹脂〔B〕は、式(III)で示される繰り返
し単位から成る重合成分ととに−COOH基、−PO3H2基、
−SO3H基、 (R0はRと同一の内容を表わす)及び酸無水物含有基か
ら選ばれる少なくとも1種の酸性基を含有する重合成分
を含有することができる。該酸性基含有共重合成分は式
(III)に相当する単量体と重合可能な該酸性基含有の
単量体であればいずれでもよく、具体的には前記した樹
脂〔A〕で用いられる単量体と同様の化合物が挙げられ
る。The resin [B] of the present invention comprises a polymer component comprising a repeating unit represented by the formula (III) and a —COOH group, a —PO 3 H 2 group,
-SO 3 H group, (R 0 represents the same content as R) and a polymerization component containing at least one acidic group selected from acid anhydride-containing groups. The acidic group-containing copolymerization component may be any of the acidic group-containing monomers that can be polymerized with the monomer corresponding to the formula (III), and is specifically used in the resin [A] described above. Compounds similar to the monomer can be mentioned.
更に、本発明の樹脂〔B′〕における重合体主鎖の片
末端に結合した酸性基において、好ましい酸性基として
−PO3H2基、−SO3H基、−COOH基、 環状酸無水物含有基が挙げられる。これらの具体的な主
鎖への結合基としては、樹脂〔A〕の内容と同様の例が
挙げられる。Furthermore, in the acidic group bonded to one terminal of the polymer main chain in the resin [B '] of the present invention, preferred -PO 3 H 2 group as the acidic group, -SO 3 H group, -COOH group, Cyclic acid anhydride containing groups. Specific examples of these bonding groups to the main chain include the same examples as those of the resin [A].
樹脂〔B′〕において、重合体の共重合成分中に含有
され得る前記酸性基と重合体主鎖末端に結合する該酸性
基とは同一でも異なっていてもよい。これらの共重合成
分中又は主鎖末端に含有される酸性基の具体例として
は、樹脂〔A〕で記載したと同様のものを挙げることが
できる。In the resin [B '], the acidic group which may be contained in the copolymer component of the polymer and the acidic group bonded to the terminal of the polymer main chain may be the same or different. Specific examples of the acidic group contained in these copolymer components or at the terminal of the main chain include the same as those described for the resin [A].
更に、樹脂〔B〕は、樹脂〔A〕に含有してもよい
「架橋し得る(架橋性)官能基を含有する共重合成分」
と同様の成分を含有してもよく、その含有量は0.1〜20
重量%が好ましい。Further, the resin [B] may be contained in the resin [A] as a “copolymerizable component containing a crosslinkable (crosslinkable) functional group”.
The same components may be contained, and the content is 0.1 to 20.
% By weight is preferred.
更に、本発明の樹脂〔B〕は、一般式(III)で示さ
れる重合成分及び該酸性基含有の重合体成分とともにこ
れら重合成分と重合可能な他の重合体成分を含有しても
よい。具体的には、樹脂〔A〕で他の重合体成分として
例示したと同様の化合物が挙げられる。但し、これらの
他の重合体成分の樹脂〔B〕中に存在する割合は、30重
量%以下、好ましくは20重量%以下である。Further, the resin [B] of the present invention may contain, in addition to the polymer component represented by the general formula (III) and the acid group-containing polymer component, other polymer components polymerizable with these polymer components. Specific examples include the same compounds as those exemplified as the other polymer component in the resin [A]. However, the proportion of these other polymer components present in the resin [B] is at most 30% by weight, preferably at most 20% by weight.
本発明に供される樹脂〔B〕において、重合体主鎖の
末端に該酸性基を結合して成る樹脂〔B′〕を合成する
には、前記した各々の単量体の重合時に該酸性基又はこ
れに誘導できる特定の反応基を分子中に含有した重合開
始剤又は連鎖移動剤を併用することで達成され、具体的
には樹脂〔A〕の合成と同様の方法で得ることができ
る。但し、樹脂の重量平均分子料は、重合反応において
従来公知の如く、重合開始剤・連鎖移動剤の種類・使用
量、重合温度、単量体の濃度、重合溶媒等を適宜調節す
ることで所定の範囲内に設定することができる。In the resin [B] used in the present invention, in order to synthesize the resin [B ′] in which the acidic group is bonded to the terminal of the polymer main chain, the resin [B ′] is used during the polymerization of each monomer described above. This can be achieved by using a polymerization initiator or a chain transfer agent containing a group or a specific reactive group derivable therein in the molecule, and specifically, it can be obtained by the same method as in the synthesis of the resin [A]. . However, as is conventionally known in the polymerization reaction, the weight average molecular weight of the resin is determined by appropriately adjusting the type and amount of the polymerization initiator / chain transfer agent, the polymerization temperature, the monomer concentration, the polymerization solvent, and the like. Can be set within the range.
本発明に用いる樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用量を割
合は、樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の用いる割合は5〜60対
95〜40(重量比)であり、好ましくは10〜50対90〜50
(重量比)である。The ratio of the amount of the resin [A] and the amount of the resin [B] used in the present invention is 5 to 60 relative to the ratio of the resin [A] and the resin [B].
95 to 40 (weight ratio), preferably 10 to 50 to 90 to 50
(Weight ratio).
また、本発明において樹脂〔A〕及び/又は樹脂
〔B〕が光及び/又は熱硬化性官能基を含有する場合に
は、膜中での架橋を促進させるために架橋剤を併用して
もよい。用いられる架橋剤としては、通常架橋剤として
用いられる化合物を使用することができる。具体的に
は、前述の高次の網目構造を有する網目親水性樹脂粒子
を製造するのに使用したものと同様の化合物を用いるこ
とができる。In the present invention, when the resin [A] and / or the resin [B] contains a light and / or thermosetting functional group, a crosslinking agent may be used in combination to promote crosslinking in the film. Good. As the crosslinking agent to be used, a compound usually used as a crosslinking agent can be used. Specifically, the same compounds as those used for producing the above-mentioned network hydrophilic resin particles having a higher-order network structure can be used.
本発明の結着樹脂において用いられる架橋剤の使用量
は全結着樹脂量に対し0.5〜30重量%、特に1〜10重量
%であることが好ましい。The amount of the crosslinking agent used in the binder resin of the present invention is preferably 0.5 to 30% by weight, particularly preferably 1 to 10% by weight based on the total amount of the binder resin.
本発明では、感光層膜中での架橋反応を促進させるた
めに、結着樹脂に必要に応じて反応促進剤を添加しても
よい。In the present invention, a reaction accelerator may be added to the binder resin, if necessary, in order to promote a crosslinking reaction in the photosensitive layer film.
架橋反応が官能基間の化学結合を形成する反応様式の
場合には、例えば有機酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸、
ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等)等が
挙げられる。In the case of a reaction mode in which a crosslinking reaction forms a chemical bond between functional groups, for example, an organic acid (acetic acid, propionic acid, butyric acid,
Benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, etc.).
架橋反応が重合性反応様式の場合には、重合開始剤
(過酸化物、アゾビス系化合物が挙げられ、好ましく
は、アゾビス系重合開始剤である)、多官能重合性含有
の単量体(例えばビニルメタクリレート、アリルメタク
リレート、エチレングリコールアクリレート、ポリエチ
レングリコールジアクリレート、ジビニルコハク酸エス
テル、ジビニルアジピン酸エステル、ジアリルコハク酸
エステル、2−メチルビニルメタクリレート、ジビニル
ベンゼン等)等が挙げられる。When the cross-linking reaction is a polymerization reaction mode, a polymerization initiator (a peroxide, an azobis-based compound is preferable, and an azobis-based polymerization initiator is preferable), a monomer containing a polyfunctional polymerizable (for example, Vinyl methacrylate, allyl methacrylate, ethylene glycol acrylate, polyethylene glycol diacrylate, divinyl succinate, divinyl adipate, diallyl succinate, 2-methyl vinyl methacrylate, divinyl benzene, etc.).
更に、本発明では、本発明の樹脂以外の他の樹脂を併
用させることもできる。それらの樹脂としては、例え
ば、アルキッド樹脂、ポリブチラール樹脂、ポリオレフ
ィン類、エチレン−酢ビ共重合体、スチレン樹脂、スチ
レン−ブタジエン樹脂、アクリレートブタジエン樹脂、
アルカン酸ビニル樹脂等が挙げられる。Further, in the present invention, a resin other than the resin of the present invention can be used in combination. Examples of such resins include alkyd resins, polybutyral resins, polyolefins, ethylene-vinyl acetate copolymers, styrene resins, styrene-butadiene resins, acrylate butadiene resins,
And vinyl alkanoate resins.
上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量
の30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向上)が失われる。When the other resin exceeds 30% (weight ratio) of the total amount of the binder resin using the resin of the present invention, the effect of the present invention (especially, improvement of electrostatic characteristics) is lost.
本発明の結着樹脂は、樹脂〔A〕及び/又は樹脂
〔B〕にて光及び/又は熱硬化性官能基を含有する場合
には、感光層形成物を塗布した後、架橋又は熱硬化され
る。架橋又は熱硬化を行なうためには、例えば、乾燥条
件を従来の感光体作製時の乾燥条件より厳しくする。例
えば、乾燥条件を高温度及び/又は長時間とする。ある
いは塗布溶剤の乾燥後、更に加熱処理することが好まし
い。例えば60〜120℃で5〜120分間処理する。上述の反
応促進剤を併用すると、より穏やかな条件で処理するこ
とができる。When the binder resin of the present invention contains a light and / or thermosetting functional group in the resin [A] and / or the resin [B], the resin is crosslinked or thermoset after applying the photosensitive layer-formed product. Is done. In order to carry out crosslinking or thermal curing, for example, the drying conditions are made stricter than the drying conditions at the time of the conventional photoreceptor production. For example, the drying conditions are high temperature and / or long time. Alternatively, it is preferable to further perform a heat treatment after drying the coating solvent. For example, the treatment is performed at 60 to 120 ° C. for 5 to 120 minutes. When the above-mentioned reaction accelerator is used in combination, the treatment can be performed under milder conditions.
本発明に使用する無機光導電材料は、光導電性酸化亜
鉛であるが、が、更に他の無機光導体として酸化チタ
ン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウム、セレ
ン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テルル、硫化
鉛等を併用してもよい。The inorganic photoconductive material used in the present invention is photoconductive zinc oxide, but titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, and selenium as other inorganic light guides. Telluride, lead sulfide and the like may be used in combination.
本発明において光導電性酸化亜鉛に対して用いる結着
樹脂の総量は、光導電体100重量部に対して、結着樹脂
を10〜100重量部なる割合、好ましくは15〜50重量部な
る割合で使用する。In the present invention, the total amount of the binder resin used for the photoconductive zinc oxide is 100 parts by weight of the photoconductor, a proportion of the binder resin is 10 to 100 parts by weight, preferably a proportion of 15 to 50 parts by weight. Used in.
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤と
して併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀
彦、イメージング1973(No.8)第12頁、C.J.Young等,RC
A Review15,469(1954),清田航平等、電気通信学会論
文誌J 63−C(No.2),97(1980)、原崎勇次等、工業
化学雑誌66 78及び188(1963)、谷忠昭、日本写真学会
誌35,208(1972)等の総説引例のカーボニウム系色素、
ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサ
ンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例
えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン
色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタロシ
アニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられる。In the present invention, various dyes can be used as spectral sensitizers as needed. For example, Harumiya Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (No.8), page 12, CJ Young et al., RC
A Review 15, 469 (1954), Kohei Kiyota, IEICE Transactions J 63-C (No.2), 97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Magazine 66 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani , Journal of the Japan Society of photographic Science and Technology 35, 208 (1972) carbonium-based dyes of review references such as,
Diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (eg, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metals), etc. No.
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニル
メタン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を中
心に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭50
−90334号、特開昭50−114227号、特開昭53−39130号、
特開昭53−82353号、米国特許第3,052,540号、米国特許
第4,054,450号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙
げられる。More specifically, those using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are described in JP-B-51-452,
-90334, JP-A-50-114227, JP-A-53-39130,
JP-A-53-82353, U.S. Pat. No. 3,052,540, U.S. Pat. No. 4,054,450, and JP-A-57-16456 are examples.
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色
素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F.
M.Harmmar「The Cyanine Dyes and Related Compound
s」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許第3,047,384号、米国特許第3,110,591号、
米国特許第3,121,008号、米国特許第3,125,447号、米国
特許第3,128,179号、米国特許第3,132,942号、米国特許
第3,622,317号、英国特許第1,226,892号、英国特許第1,
309,274号、英国特許第1,405,898号、特公昭48−7814
号、特公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる。Oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, polymethine dyes such as rhodacyanine dyes, F.
M. Harmmar `` The Cyanine Dyes and Related Compound
s '' and the like can be used, and more specifically, U.S. Pat.No. 3,047,384, U.S. Pat.No.3,110,591,
U.S. Patent No.3,121,008, U.S. Patent No.3,125,447, U.S. Patent No.3,128,179, U.S. Patent No.3,132,942, U.S. Patent No.3,622,317, U.K. Patent No.1,226,892, U.K. Patent No.1,
No. 309,274, British Patent No. 1,405,898, JP-B-48-7814
And JP-B-55-18892.
更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47−840号、特
開昭47−44180号、特公昭51−41061号、特開昭49−5034
号、特開昭49−45122号、特開昭57−46245号、特開昭56
−35141号、特開昭57−157254号、特開昭61−26044号、
特開昭61−27551号、米国特許第3,619,154号、米国特許
第4,175,956号、「Research Disclosure」1982年、21
6、第117〜118頁等に記載のものが挙げられる。本発明
の感光体は種々の増感色素を併用させても、その性能が
増感色素により変動しにくい点において優れている。更
には、必要に応じて、化学増感剤等の従来知られている
電子写真感光層用各種添加剤を併用することもできる。
例えば、前記した総説:イメージング1973(No.8)第12
頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物、有機カルボ
ン酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開
発・実用化」第4章〜第6章:日本科学情報(株)出版
部(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、p−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47-840, JP-A-47-44180, JP-B-51-41061, 1949-5034
No., JP-A-49-45122, JP-A-57-46245, JP-A-56
No. -35141, JP-A-57-157254, JP-A-61-26044,
JP-A-61-27551, U.S. Pat.No. 3,619,154, U.S. Pat.No.4,175,956, `` Research Disclosure '' 1982, 21
6, pages 117 to 118 and the like. The photoreceptor of the present invention is excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, the performance is hardly changed by the sensitizing dye. Furthermore, various conventionally known additives for an electrophotographic photosensitive layer such as a chemical sensitizer can be used in combination, if necessary.
For example, the review mentioned above: Imaging 1973 (No. 8) No. 12
"Recent development and commercialization of photoconductive materials and photoreceptors", e.g., electron accepting compounds (e.g., halogen, benzoquinone, chloranil, acid anhydride, organic carboxylic acid, etc.) and Hiroshi Komon, which are described in pages and other reviews. Chapters 4 to 6 include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, and the like, which are reviewed in Japanese Science Information Co., Ltd., Publishing Division (1986).
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではない
が、通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.0重量部
である。The amounts of these various additives are not particularly limited, but are usually 0.0001 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoconductor.
光導電層の厚さは1〜100μ、特には10〜50μが好適
である。The thickness of the photoconductive layer is preferably from 1 to 100 μm, particularly preferably from 10 to 50 μm.
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷
発生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚
さは0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適である。When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is preferably 0.01 to 1 μm, particularly preferably 0.05 to 0.5 μm.
感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主
目的として絶縁層を付設させる場合もある。この時は絶
縁層を比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プ
ロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設
定される。In some cases, an insulating layer is provided for the main purpose of protecting the photoreceptor, improving durability, and improving dark attenuation characteristics. At this time, the insulating layer is set relatively thin, and the insulating layer provided when the photoconductor is used in a specific electrophotographic process is set relatively thick.
後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、10
〜50μに設定される。In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70 μm, especially 10
Set to ~ 50μ.
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカル
バゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素などがある。電荷輸送層の厚さ
としては5〜40μ、特には10〜30μが好適である。Examples of the charge transport material of the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 μm, particularly preferably 10 to 30 μm.
絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂として
は、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル
樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酢ビ共重合体樹脂、ポリ
アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹
脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。Typical examples of the resin used for forming the insulating layer or the charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, A thermoplastic resin of a polyacryl resin, a polyolefin resin, a urethane resin, an epoxy resin, a melamine resin, a silicone resin, and a curable resin are appropriately used.
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設け
ることができる。一般に云って電子写真感光層の支持体
は、導電性であることが好ましく、導電性支持体として
は、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチック
シート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導
電処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対
面)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目
的で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体
の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面
層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が
設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive. As the conductive support, a base material such as a metal, paper, or a plastic sheet is impregnated with a low-resistance substance in the same manner as in the related art. A substrate that has been subjected to a conductive treatment, for example, by applying a conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided), and further coated with at least one layer for the purpose of preventing curling and the like. A substrate provided with a water-resistant adhesive layer on its surface, a substrate provided with at least one or more precoat layers as necessary on the surface layer of the support, or a substrate conductive plastic on which Al or the like is deposited is laminated on paper. Can be used.
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例とし
て、坂本幸男、電子写真、14、(No.1)、p2〜11(197
5)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊行会(1
975),M.F.Hoover,J.Macromol.Sci.Chem.A−4(6)、
第1327〜1417頁(1970)等に記載されているもの等を用
いる。Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material, Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1), p2-11 (197)
5), Hiroyuki Moriga, “Introduction to Special Paper Chemistry,” Polymer Publishing Association (1
975), MF Hoover, J. Macromol. Sci. Chem. A-4 (6),
Those described in pages 1327 to 1417 (1970) and the like are used.
以上の本発明の電子写真式平版印刷用原版を用いて平
版印刷板を作製するには公知の方法が適用できる。即
ち、暗所で実質的に一様に帯電し、画像露光により静電
潜像を形成する。露光方法としては、半導体レーザ、He
−Neレーザ等による走査露光あるいはキセノンランプ、
タングステンランプ、蛍光灯等を光源として反射画像露
光、透明陽画フィルムを通した密着露光などが挙げられ
る。次に上記静電潜像をトナーによって現像する。現像
法としては従来公知の方法、例えば、カスケード現像、
磁気ブラシ現像、パウダークラウド現像、液体現像など
の各種の方法を用いることが出来る。なかでも液体現像
は微細な画像を形成することが可能であり、印刷版を作
製するために好適である。形成されたトナー画像は公知
の定着法、例えば、加熱定着、圧力定着、溶剤定着等に
より定着することが出来る。A known method can be applied to manufacture a lithographic printing plate using the electrophotographic lithographic printing plate precursor of the present invention. That is, it is charged substantially uniformly in a dark place, and forms an electrostatic latent image by image exposure. Exposure methods include semiconductor laser, He
-Scanning exposure with Ne laser or xenon lamp,
Reflection image exposure using a tungsten lamp, a fluorescent lamp or the like as a light source, contact exposure through a transparent positive film, and the like can be mentioned. Next, the electrostatic latent image is developed with toner. As a development method, conventionally known methods, for example, cascade development,
Various methods such as magnetic brush development, powder cloud development, and liquid development can be used. Among them, liquid development is capable of forming a fine image and is suitable for producing a printing plate. The formed toner image can be fixed by a known fixing method, for example, heat fixing, pressure fixing, solvent fixing and the like.
このようにして形成されたトナー画像を有する印刷版
は次に非画像部の親水化処理が常法により行われる。親
水化処理には通常いわゆる不感脂化処理液が用いられ
る。従来よりこの種の不感脂化処理液として、フェロシ
アン塩、フェリシアン塩を主成分とするシアン化合物含
有処理液、アンミンコバルト錯体、フィチン酸及びその
誘導体、グアニジン誘導体を主成分としたシアンフリー
処理液、亜鉛イオンとキレートを形成する無機酸あるい
は有機酸を主成分とした処理液、あるいは水溶性ポリマ
ーを含有した処理液等が知られている。The printing plate having the toner image thus formed is then subjected to a hydrophilic treatment of a non-image portion by a conventional method. A so-called desensitizing solution is usually used for the hydrophilization treatment. Conventionally, as this kind of desensitizing treatment solution, a cyanide-containing treatment solution containing ferrocyanate and ferricyanate as main components, an ammine cobalt complex, phytic acid and derivatives thereof, and a cyan-free treatment containing guanidine derivatives as main components Liquids, treatment liquids containing an inorganic or organic acid which forms a chelate with zinc ions as a main component, treatment liquids containing a water-soluble polymer, and the like are known.
例えば、シアン化合物含有処理液として、特公昭44−
9045号、同46−39403号、特開昭52−76101号、同57−10
7889号、同54−117201号等に記載のものが挙げられる。For example, as a cyanide-containing treatment solution,
Nos. 9045, 46-39403, JP-A-52-76101, 57-10
Nos. 7889 and 54-117201.
フィチン酸系化合物含有処理液としては、特開昭53−
83807号、同53−83805号、同53−102102号、同53−1097
01号、同53−127003号、同54−2803号、同54−44901号
等に記載のものが挙げられる。As a phytic acid-based compound-containing treatment solution, JP-A-53-
83807, 53-83805, 53-102102, 53-1097
No. 01, No. 53-127003, No. 54-2803, No. 54-44901 and the like.
コバルト錯体等の金属錯体系化合物含有処理液として
は特開昭53−104301号、同53−140103号、同54−18304
号、特公昭43−28404号等に記載のものが挙げられる。JP-A-53-104301, JP-A-53-140103 and JP-A-54-18304 disclose processing solutions containing metal complex compounds such as cobalt complexes.
And JP-B-43-28404.
無機又は有機酸含有処理液としては、特公昭39−1307
02号、同40−10308号、同43−28408号、同40−26124
号、特開昭51−118501号等に記載のものが挙げられる。As the treatment liquid containing an inorganic or organic acid, Japanese Patent Publication No. 39-1307
No. 02, No. 40-10308, No. 43-28408, No. 40-26124
And JP-A-51-118501.
グアニジン化合物含有処理液としては、特開昭56−11
1695号等に記載のものが挙げられる。As a guanidine compound-containing treatment solution, JP-A-56-11
No. 1695 and the like.
水溶性ポリマー含有の処理液としては、特開昭52−12
6302号、同52−134501号、同53−49506号、同53−59502
号、同53−104302号、特公昭38−9665号、同39−22263
号、同40−763号、同40−2202号、特開昭49−36402号等
に記載のものが挙げられる。Examples of the processing solution containing a water-soluble polymer include JP-A-52-12.
No. 6302, No. 52-134501, No. 53-49506, No. 53-5502
Nos. 53-104302, JP-B-38-9665, 39-22263
And Nos. 40-763, 40-2202, and JP-A-49-36402.
以上のいずれの不感脂化処理液においても、光導電層
である表面層中の酸化亜鉛がイオン化して亜鉛イオンと
なり、このイオンが不感脂化処理液中のキレートを形成
する化合物とキレート化反応を生じ、亜鉛キレート化物
を形成し、これが表面層中に沈着して親水性化されるも
のと考えられている。In any of the above desensitizing solutions, zinc oxide in the surface layer, which is a photoconductive layer, is ionized into zinc ions, and this ion undergoes a chelation reaction with a compound that forms a chelate in the desensitizing solution. Is believed to form zinc chelates, which are deposited in the surface layer and become hydrophilic.
従って、本発明の印刷用原版は、不感脂化処理液によ
る不感脂化処理を行うことで印刷可能な印刷版となるも
のである。Therefore, the printing original plate of the present invention is a printing plate that can be printed by performing a desensitization treatment using a desensitization treatment liquid.
本発明の好ましい態様として以下に記載することがで
きる。Preferred embodiments of the present invention can be described below.
(1)親水性樹脂粒子が高次の網目構造を形成している
ことを特徴とする平版印刷用原版。(1) A lithographic printing plate precursor, wherein the hydrophilic resin particles form a high-order network structure.
(2)該樹脂〔A〕において、一般式(I)で示される
共重合成分として、下記一般式(II a)及び(II b)で
示される、アリール基含有のメタクリレート成分のうち
の少なくとも1つを含有することを特徴とする平版印刷
用原版。(2) In the resin [A], as a copolymer component represented by the general formula (I), at least one of aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formulas (IIa) and (IIb): A lithographic printing plate precursor comprising:
一般式(II a) 一般式(II b) 〔式(II a)及び(II b)中、A1及びA2は互いに独立に
各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、
臭素原子、−COD1又は−COOD2(D1及びD2は各々炭素数
1〜10の炭化水素を示す)を表わす。General formula (IIa) General formula (IIb) [In formulas (IIa) and (IIb), A 1 and A 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom,
A bromine atom, -COD 1 or -COOD 2 (D 1 and D 2 each represents a hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms) represent.
B1及びB2は各々−COO−とベンゼン環を結合する、単
結合または連結原子数1〜4個の連結基を表わす。〕 (3)該樹脂〔B〕が、前記一般式(III)で示される
共重合成分を30重量%以上並びに−COOH基、−PO3H
2基、−SO3H基、 (R0は前記Rと同一の内容を表わす)及び酸無水物含有
基から選ばれる少なくとも1つの酸性基を含有する共重
合成分の少なくとも1種を10重量%以上含有するランダ
ム共重合体である事を特徴とする平版印刷用原版。B 1 and B 2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, each linking —COO— and a benzene ring. (3) The resin [B] contains 30% by weight or more of the copolymer component represented by the above general formula (III), and contains -COOH group, -PO 3 H
2 groups, -SO 3 H group, (R 0 represents the same content as R above) and a random copolymer containing at least one copolymer component containing at least one acidic group selected from acid anhydride-containing groups in an amount of 10% by weight or more. A lithographic printing original plate characterized by the following:
(4)該樹脂〔B〕が、重合体主鎖の片末端に、上記
(3)記載の酸性基と同様の酸性基から選ばれる少なく
とも1種の酸性基を結合して成る事を特徴とする平版印
刷用原版。(4) The resin [B] is characterized in that at least one acidic group selected from the same acidic groups as the acidic groups described in (3) above is bonded to one end of the polymer main chain. A lithographic printing plate.
(実施例) 親水性樹脂粒子の製造例1:L−1 ドデシルメタクリレート95g、アクリル酸5g及びトル
エン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら70℃に
加温した。これに2,2−アゾビス(イソブチロニトリ
ル)(略称A.I.B.N.)1.5gを加え8時間反応した。この
反応混合溶液に、グリシジルメタクリレート12g、t−
ブチルハイドロキノン1g及びN,N−ジメチルドデシルア
ミン0.8gを加え、100℃で15時間反応した(分散樹脂
α)。(Example) Production example 1 of hydrophilic resin particles 1: A mixed solution of 95 g of L-1 dodecyl methacrylate, 5 g of acrylic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.5 g of 2,2-azobis (isobutyronitrile) (abbreviation: AIBN) was added thereto and reacted for 8 hours. 12 g of glycidyl methacrylate, t-
1 g of butylhydroquinone and 0.8 g of N, N-dimethyldodecylamine were added and reacted at 100 ° C. for 15 hours (dispersion resin α).
次に、上記分散樹脂α7.5g(固形分量として)、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート50gおよびn−ヘプタ
ン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら65℃に加
温した。これに、2,2−アゾビス(イソバレロニトリ
ル)(略称A.I.V.N.)0.7gを加え6時間反応した。Next, the dispersion resin α7.5 g (as solid content), 2-
A mixed solution of 50 g of hydroxyethyl methacrylate and 200 g of n-heptane was heated to 65 ° C. while stirring under a nitrogen stream. To this was added 0.7 g of 2,2-azobis (isovaleronitrile) (abbreviated as AIVN) and reacted for 6 hours.
開始剤(A.I.V.N.)添加20分後均一溶液が白濁を始
め、反応温度は90℃まで上昇した。冷却後200メッシュ
のナイロン布を通して白色分散物を得た。平均粒子径0.
19μmのラテックスであった。Twenty minutes after the addition of the initiator (AIVN), the homogeneous solution began to become cloudy and the reaction temperature rose to 90 ° C. After cooling, a white dispersion was obtained through a 200-mesh nylon cloth. Average particle size 0.
It was a 19 μm latex.
親水性樹脂粒子の製造例2:L−2 2−ホスホノエチルメタクリレート50g、分散樹脂α8
g(固形分量として)、酢酸エチル150g、n−ヘキサン1
50gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら55℃に加温
した。A.I.V.N.0.5gを加え、4時間反応して、白色分散
物を得た。冷却後200メッシュのナイロン布を通して、
得られた分散物は平均粒子径0.45μmのラテックスであ
った。Production Example 2 of hydrophilic resin particles: L-2 2-phosphonoethyl methacrylate 50 g, dispersion resin α8
g (as solid content), ethyl acetate 150 g, n-hexane 1
50 g of the mixed solution was heated to 55 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 0.5 g of AIVN was added and reacted for 4 hours to obtain a white dispersion. After cooling through a 200 mesh nylon cloth,
The resulting dispersion was a latex having an average particle size of 0.45 μm.
親水性樹脂粒子の製造例3:L−3 N−ビニルピロリドン50g、分散樹脂α10g(固形分量
として)、トルエン200gの混合溶液とする以外は、製造
例1と同様にして反応し、平均粒子径0.30μmの白色ラ
テックスを得た。Production Example 3 of hydrophilic resin particles: Reaction was carried out in the same manner as in Production Example 1, except that a mixed solution of 50 g of L-3 N-vinylpyrrolidone, 10 g of dispersion resin α (as solid content), and 200 g of toluene was reacted. 0.30 μm white latex was obtained.
親水性樹脂粒子の製造例4:L−4 エチレングリコール31.5g、無水フタル酸51.8g、メタ
クリル酸6.0g、トリクロロエチレン10g、p−トルエン
スルホン酸0.7gの混合物を加温し6時間反応した。反応
温度は107℃から開始し、6時間で150℃に上昇する様に
した(反応により副生する水は、Dean−Stark法で除去
した)。Production Example 4 of hydrophilic resin particles: L-4 A mixture of 31.5 g of ethylene glycol, 51.8 g of phthalic anhydride, 6.0 g of methacrylic acid, 10 g of trichloroethylene and 0.7 g of p-toluenesulfonic acid was heated and reacted for 6 hours. The reaction temperature was started at 107 ° C. and increased to 150 ° C. in 6 hours (water produced as a by-product of the reaction was removed by the Dean-Stark method).
次に、メタクリル酸6g、クロロホルム76g、エタノー
ル11.6g及び上記の反応で得られた分散物β5.8g(固形
分量として)の混合溶液を、窒素気流下に還流させた。
これに、A.I.B.N. 0.8gを加え3時間反応させて白色分
散物を得た。平均粒子径0.40μmのラテックスであっ
た。Next, a mixed solution of 6 g of methacrylic acid, 76 g of chloroform, 11.6 g of ethanol, and β5.8 g (as a solid content) of the dispersion obtained in the above reaction was refluxed under a nitrogen stream.
0.8 g of AIBN was added thereto and reacted for 3 hours to obtain a white dispersion. It was a latex having an average particle size of 0.40 μm.
親水性樹脂粒子の製造例5:L−5 N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレート50g、ポリ
(ドデシルメタクリレート)15g及びトルエン300gの混
合溶液とし、以下は製造例1の造粒条件と同様に操作し
て、平均粒子径0.28μmの白色分散物を得た。Preparation Example 5 of Hydrophilic Resin Particles: A mixed solution of 50 g of L-5 N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, 15 g of poly (dodecyl methacrylate) and 300 g of toluene was prepared. Thus, a white dispersion having an average particle diameter of 0.28 μm was obtained.
親水性樹脂粒子の製造例6:L−6 (2−ヒドロキシエチルアクリレート/メチルメタク
リレート)共重合体(重量組成比1/1)粉末10g、(ドデ
シルメタクリレート/アクリル酸)共重合体(重量組成
比95/5)2g及びトルエン100gの混合物をボールミルで48
時間処理し分散物を得た。平均粒子径0.38μmのラテッ
クスであった。Production Example 6 of hydrophilic resin particles: L-6 (2-hydroxyethyl acrylate / methyl methacrylate) copolymer (weight composition ratio 1/1) powder 10 g, (dodecyl methacrylate / acrylic acid) copolymer (weight composition ratio) 95/5) A mixture of 2 g and 100 g of toluene was mixed with a ball mill for 48 hours.
After a time treatment, a dispersion was obtained. The latex had an average particle size of 0.38 μm.
親水性樹脂粒子の製造例7:L−7 (ビニルアルコール/メタクリル酸)共重合体(重量
組成比7/3)10g、(デシルメタクリレート/N,N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレート)共重合体(重量比95/5)
1.8g及びトルエン100gの混合物をボールミルで56時間処
理しし、分散物を得た。平均粒子径0.32μmのラテック
スであった。Production Example 7 of Hydrophilic Resin Particles: L-7 (vinyl alcohol / methacrylic acid) copolymer (weight composition ratio: 7/3) 10 g, (decyl methacrylate / N, N-dimethylaminoethyl acrylate) copolymer (weight 95/5)
A mixture of 1.8 g and 100 g of toluene was treated with a ball mill for 56 hours to obtain a dispersion. The latex had an average particle size of 0.32 μm.
親水性樹脂粒子の製造例8:L−8 親水性樹脂粒子の製造例1において、分散樹脂αに2
−ヒドロキシエチルメタクリレートとn−ヘプタンの他
に、エチレングリコールジメタクリレート1gを加える以
外は親水性樹脂粒子の製造例1と全く同様の操作を行
い、平均粒子径0.25μmのラテックス粒子を得た。Production Example 8 of hydrophilic resin particles: L-8 In Production Example 1 of hydrophilic resin particles, 2 was added to the dispersion resin α.
Except for adding 1 g of ethylene glycol dimethacrylate in addition to -hydroxyethyl methacrylate and n-heptane, the same operation as in Production Example 1 of hydrophilic resin particles was carried out to obtain latex particles having an average particle diameter of 0.25 µm.
親水性樹脂粒子の製造例9:L−9 親水性樹脂粒子の製造例2において、分散樹脂αに2
−ホスホノエチルメタクリレート、酢酸エチル、n−ヘ
キサンの他に、ジビニルベンゼン1.2gを加える以外は親
水性樹脂粒子の製造例1と全く同様の操作を行い、平均
粒子径0.40μmのラテックス粒子を得た。Production Example 9 of Hydrophilic Resin Particles: L-9 In Production Example 2 of hydrophilic resin particles, 2 was added to the dispersion resin α.
-Except for adding 1.2 g of divinylbenzene in addition to phosphonoethyl methacrylate, ethyl acetate and n-hexane, the same operation as in Production Example 1 of hydrophilic resin particles was performed to obtain latex particles having an average particle diameter of 0.40 µm. Was.
親水性樹脂粒子の製造例10:L−10 親水性樹脂粒子の製造例3において、分散樹脂αにN
−ビニルピロリドンとトルエンの他に,エチレンジグリ
コールメタクリレート1.5gを加える以外は親水性樹脂粒
子の製造例3と全く同様の操作を行い、親水性樹脂粒子
の製造例3と同様の平均粒子径のラテックス粒子を得
た。Production Example 10 of hydrophilic resin particles: L-10 In Production Example 3 of hydrophilic resin particles, N was added to the dispersion resin α.
-Except for adding 1.5 g of ethylene diglycol methacrylate in addition to vinylpyrrolidone and toluene, the same operation as in Production Example 3 of hydrophilic resin particles was performed, except that the average particle diameter was the same as that in Production Example 3 of hydrophilic resin particles. Latex particles were obtained.
親水性樹脂粒子の製造例11:L−11 親水性樹脂粒子の製造例4において、分散樹脂βにメ
タクリル酸とクロロホルムとエタノールの他に、1,6−
ヘキサンジオールジアクリレート0.05gを加える以外は
親水性樹脂粒子の製造例4と全く同様の操作を行い、平
均粒子径0.45μmのラテックス粒子を得た。Production Example 11 of hydrophilic resin particles: L-11 In Production Example 4 of hydrophilic resin particles, in addition to methacrylic acid, chloroform, and ethanol, 1,6-
Except that 0.05 g of hexanediol diacrylate was added, the same operation as in Production Example 4 of hydrophilic resin particles was performed to obtain latex particles having an average particle diameter of 0.45 μm.
親水性樹脂粒子の製造例12:L−12 親水性樹脂粒子の製造例5において、トリエチレング
リコールジメタクリレート0.8gを加える以外は親水性樹
脂粒子の製造例5と全く同様の操作を行い、平均粒子径
0.43μmのラテックス粒子を得た。Production Example 12 of Hydrophilic Resin Particles: L-12 Except for adding 0.8 g of triethylene glycol dimethacrylate in Production Example 5 of hydrophilic resin particles, the same operation as in Production Example 5 of Hydrophilic Resin Particles was carried out. Particle size
0.43 μm latex particles were obtained.
親水性樹脂粒子の製造例13:L−13 下記単量体(a)50g、メチルメタクリレート30g、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート17g、アリルメタク
リレート3g及びテトラヒドロフラン300gの混合溶液を窒
素気流下に80℃に加温した。A.I.B.N. 1.5gを加え6時
間反応した後、n−ヘキサン中で再沈澱処理し、固形物
を濾集した。乾燥後、粉末84gを得た。Production Example 13 of hydrophilic resin particles: L-13 50 g of the following monomer (a), 30 g of methyl methacrylate, 2
A mixed solution of 17 g of hydroxyethyl methacrylate, 3 g of allyl methacrylate and 300 g of tetrahydrofuran was heated to 80 ° C. under a nitrogen stream. After adding 1.5 g of AIBN and reacting for 6 hours, the precipitate was reprecipitated in n-hexane, and the solid was collected by filtration. After drying, 84 g of a powder was obtained.
親水性樹脂粒子の製造例14:L−14 (2−ヒドロキシプロピルメタクリレート/エチルメ
タクリレート)共重合体(重量組成比7/3)50g及びメチ
ルセルソルブ200gの混合物を40℃に加温し溶解した。1,
6−ヘキサメチレンジイソシアナート1.0gを加え、4時
間攪拌した。混合物を冷却後、水で再沈澱処理し、固形
物を濾集した。 Production Example 14 of Hydrophilic Resin Particles: A mixture of 50 g of L-14 (2-hydroxypropyl methacrylate / ethyl methacrylate) copolymer (weight composition ratio 7/3) and 200 g of methylcellosolve was heated to 40 ° C. and dissolved. . 1,
1.0 g of 6-hexamethylene diisocyanate was added and stirred for 4 hours. After cooling, the mixture was reprecipitated with water, and the solid was collected by filtration.
乾燥後、粉末35gを得た。 After drying, 35 g of a powder was obtained.
親水性樹脂粒子の製造例15:L−15 2−メチル−2−オキサゾリン5g、1,4−テトラメチ
レン−2,2′−ビスオキサゾリン1.0g、メチルトリフレ
ート0.1g及びアセトニトリル20gの混合物を100℃で7時
間封質重合を行った。得られた反応物を、メタノール中
で再沈澱処理し、固形物を濾集した。乾燥後、粉末4.1g
を得た。Production Example 15 of Hydrophilic Resin Particles: A mixture of 5 g of L-15 2-methyl-2-oxazoline 5 g, 1,4-tetramethylene-2,2′-bisoxazoline 1.0 g, methyl triflate 0.1 g and acetonitrile 20 g was mixed with 100. Sealing polymerization was performed at 7 ° C. for 7 hours. The obtained reaction product was reprecipitated in methanol, and the solid was collected by filtration. After drying, powder 4.1g
I got
本製造例で得られる樹脂(ヒドロゲル)は下記構造を
示す。The resin (hydrogel) obtained in this Production Example has the following structure.
親水性樹脂粒子の製造例16:L−16 2−メタンスルホニルエチルメタクリレート50g、ジ
ビニルコハク酸0.8g及びジメチルホルムアミド200gの混
合溶液を窒素気流下70℃に加温し、A.I.B.N. 1.5gを加
え8時間反応した。得られた反応物をヘキサン中で再沈
澱処理し、固形物を濾集した。乾燥後、粉末38gを得
た。 Production Example 16 of hydrophilic resin particles: L-16 A mixed solution of 50 g of 2-methanesulfonylethyl methacrylate, 0.8 g of divinylsuccinic acid and 200 g of dimethylformamide was heated to 70 ° C. under a nitrogen stream, and 1.5 g of AIBN was added thereto for 8 hours. Reacted. The obtained reaction product was reprecipitated in hexane, and the solid was collected by filtration. After drying, 38 g of a powder was obtained.
親水性樹脂粒子の製造例17:L−17 アクリル酸20g、一官能性マクロモノマーAB−6(東
亜合成(株)製)4g、メチルエチルケトン109gの混合溶
液を、窒素気流下に温度65℃に加温した。A.I.V.N. 0.2
gを加え2時間反応し、更に、A.I.V.N. 0.1gを加えて1
時間反応した。冷却後、200メッシュのナイロン布を通
して白色分散物を得た。平均粒径0.23μmのラテックス
であった。Production Example 17 of Hydrophilic Resin Particles: L-17 A mixed solution of 20 g of acrylic acid, 4 g of monofunctional macromonomer AB-6 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and 109 g of methyl ethyl ketone was added to a temperature of 65 ° C. under a nitrogen stream. Warmed. AIVN 0.2
g, and react for 2 hours.
Reacted for hours. After cooling, a white dispersion was obtained through a 200-mesh nylon cloth. The latex had an average particle size of 0.23 μm.
親水性樹脂粒子の製造例18〜23:L−18〜L−23 製造例17において、アクリル酸20g及びAB−64gの代わ
りに、下記表−Aの各化合物に変えた他は製造例17と同
様にして各ラテックスを製造した。Production Examples 18 to 23 of hydrophilic resin particles: L-18 to L-23 Production Example 17 was the same as in Production Example 17, except that acrylic acid 20 g and AB-64 g were replaced with the respective compounds shown in Table A below. Each latex was produced in the same manner.
本発明の樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 ベンジルメタクリレート98g、アクリル酸2g、チオサ
リチル酸3g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に
温度70℃に加温した。 Synthesis Example 1 of Resin [A] of the Present Invention 1: [A-1] A mixed solution of 98 g of benzyl methacrylate, 2 g of acrylic acid, 3 g of thiosalicylic acid and 200 g of toluene was heated to 70 ° C. in a nitrogen stream.
2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(略称A.I.B.N)
1.0gを加え4時間反応した。更に、A.I.B.N 0.4gを加え
2時間;その後、更にA.I.B.N. 0.2gを加え3時間攪拌
した。得られた共重合体の重量平均分子量(略称w)
は6.5×103であった。2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation AIBN)
1.0 g was added and reacted for 4 hours. Further, 0.4 g of AIBN was added for 2 hours; after that, 0.2 g of AIBN was further added and stirred for 3 hours. Weight average molecular weight (abbreviation w) of the obtained copolymer
Was 6.5 × 10 3 .
本発明の樹脂〔A〕の合成例2〜16:〔A−2〕〜〔A
−16〕 樹脂〔A〕の合成例1において、ベンジルメタクリレ
ート98g及びアクリル酸2gの代わりに下記表−1の各単
量体を用いて、合成例1と同様にして各樹脂〔A〕を合
成した。各樹脂の重量平均分子量は6.0×103〜8×103
であった。 Synthesis Examples 2 to 16 of Resin [A] of the Present Invention: [A-2] to [A
-16] In Synthesis Example 1 of Resin [A], each resin [A] was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 98 g of benzyl methacrylate and 2 g of acrylic acid were used instead of the monomers shown in Table 1 below. did. The weight average molecular weight of each resin is 6.0 × 10 3 to 8 × 10 3
Met.
本発明の樹脂〔A〕の合成例17〜27:〔A−17〕〜〔A
−27〕 樹脂〔A〕の合成例1において、ベンジルメタクリレ
ート98g及びチオサリチル酸3gの代わりに下記表−2の
メタクリレートおよびメルカプト化合物を各々用い、又
トルエン200gの代わりにトルエン150g及びイソプロパノ
ール50gとした他は、合成例1と同様にして反応して、
各樹脂〔A〕を合成した。 Synthesis Examples 17 to 27 of Resin [A] of the Present Invention: [A-17] to [A
-27] In Synthesis Example 1 of Resin [A], methacrylate and mercapto compound shown in Table 2 below were used instead of 98 g of benzyl methacrylate and 3 g of thiosalicylic acid, and 150 g of toluene and 50 g of isopropanol were used instead of 200 g of toluene. Reacts in the same manner as in Synthesis Example 1,
Each resin [A] was synthesized.
本発明の樹脂〔A〕の合成例28:〔A−28〕 1−ナフチルメタクリレート97g、メタクリル酸3g、
トルエン150g及びイソプロパノール50gの混合溶液を、
窒素気流下に温度80℃に加温した。 Synthesis Example 28 of resin (A) of the present invention: (A-28) 1-naphthyl methacrylate 97 g, methacrylic acid 3 g,
A mixed solution of 150 g of toluene and 50 g of isopropanol,
The mixture was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream.
4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)(略称A.C.
V.)5.0gを加え5時間撹拌した。更にA.C.V. 1gを加え
2時間、その後更にA.C.V. 1gを加え3時間撹拌した。
得られた共重合体の重量平均分子量は7.5×103であっ
た。4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid) (abbreviation AC
V.) 5.0 g was added and stirred for 5 hours. Further, 1 g of ACV was added, followed by 2 hours, and then 1 g of ACV was further added, followed by stirring for 3 hours.
The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 7.5 × 10 3 .
本発明の樹脂〔A〕の合成例29:〔A−29〕 ベンジルメタクリレート97g、ビニルベンゼンカルボ
ン酸3g、チオサリチル酸1.5g及びトルエン200gの混合溶
液を、窒素気流下に温度75℃に加温した。 Synthesis Example 29 of Resin (A) of the Present Invention: (A-29) A mixed solution of 97 g of benzyl methacrylate, 3 g of vinylbenzenecarboxylic acid, 1.5 g of thiosalicylic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. .
A.C.V. 3.0gを加え、6時間反応した後、A.I.B.N. 0.
4gを加え3時間反応した。得られた共重合体のwは5.
8×103であった。After adding 3.0 g of ACV and reacting for 6 hours, AIBN 0.
4 g was added and reacted for 3 hours. W of the obtained copolymer is 5.
It was 8 × 10 3 .
本発明の樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕 エチルメタクリレート100g、トルエン150g及びメチル
アルコール50gの混合溶液を窒素気流下に温度75℃に加
温した。 Synthesis Example 1 of Resin [B] of the Invention 1: [B-1] A mixed solution of 100 g of ethyl methacrylate, 150 g of toluene and 50 g of methyl alcohol was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream.
A.C.V. 0.8gを加え5時間反応し、更にA.C.V. 0.2gを
加え4時間反応した。得られた重合体のwは8×104
であった。0.8 g of ACV was added and reacted for 5 hours, and 0.2 g of ACV was further added and reacted for 4 hours. W of the obtained polymer is 8 × 10 4
Met.
本発明の樹脂〔B〕の合成例2:〔B−2〕 メチルメタクリレート85g、エチルアクリレート15g、
チオグリコール酸0.8g及びトルエン200gの混合溶液を窒
素気流下に温度75℃に加温した。(1,1′−アゾビス
(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)(略称A.B.C.
C.)0.8gを加え5時間反応し、更にA.B.C.C. 0.2gを加
え4時間反応した。得られた重合体のwは7.5×104で
あった。 Synthesis Example 2: Resin (B) of the present invention: (B-2) methyl methacrylate 85 g, ethyl acrylate 15 g,
A mixed solution of 0.8 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. (1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) (abbreviation ABC
C.) 0.8 g was added and reacted for 5 hours, and ABCC 0.2 g was further added and reacted for 4 hours. The w of the obtained polymer was 7.5 × 10 4 .
本発明の樹脂〔B〕の合成例3:〔B−3〕 メチルメタクリレート3.5g、エチルアクリレート15
g、スチレン10g、アクリル酸1.5g及びトルエン200gの混
合溶液を窒素気流下に温度75℃に加温した。2,2′−ア
ゾビス(イソブチロニトリル)(略称:A.I.B.N.)1.0g
を加え、4時間反応し、更にA.I.B.N. 0.6gを加え4時
間反応した。得られた重合体のwは5.0×104であっ
た。 Synthesis Example 3 of resin [B] of the present invention: [B-3] 3.5 g of methyl methacrylate, 15 g of ethyl acrylate
g, 10 g of styrene, 1.5 g of acrylic acid, and 200 g of toluene were heated to a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. 1.0 g of 2,2'-azobis (isobutyronitrile) (abbreviation: AIBN)
Was added and reacted for 4 hours, and 0.6 g of AIBN was further added and reacted for 4 hours. W of the obtained polymer was 5.0 × 10 4 .
本発明の樹脂〔B〕の合成例4〜20:〔B−4〕〜〔B
−20〕 樹脂〔B〕の合成例1〜3に示した様の合成方法に従
って、表−3に示す様な下記構造から重合体を各々合成
した。各重合体のwは4×104〜10×104であった。 Synthesis Examples 4 to 20 of resin [B] of the present invention: [B-4] to [B
-20] According to the synthesis method as shown in Synthesis Examples 1 to 3 of resin [B], polymers were synthesized from the following structures as shown in Table-3. W of each polymer was 4 × 10 4 to 10 × 10 4 .
実施例1〜2及び比較例A〜C 樹脂〔A−2〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−
1〕34g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛200g、
ウラニン0.03g、ローズベンガル0.06g、テトラブロムフ
ェノールブルー0.02g及び無水マレイン酸0.20g及びトル
エン300gの混合物を、ホモジナイザー(日本精機(株)
製)中、1×104r.p.m.で10分間分散した後、これに樹
脂粒子L−17、2gを加えて、更に1分間分散した、これ
を導電処理した紙に、乾燥付着量が25g/m2となる様に、
ワイヤーバーで塗布し、110℃で30秒間乾燥し、ついで
暗所で20℃65%RHの条件下で24時間放置することによ
り、電子写真感光材料を作製した。 Examples 1 and 2 and Comparative Examples A to C Resin [A-2] 6 g (as solid content), resin [B-
1] 34 g (as solid content), 200 g of photoconductive zinc oxide,
A mixture of 0.03 g of uranine, 0.06 g of rose bengal, 0.02 g of tetrabromophenol blue, 0.20 g of maleic anhydride and 300 g of toluene was mixed with a homogenizer (Nippon Seiki Co., Ltd.).
After dispersion at 1 × 10 4 rpm for 10 minutes, 2 g of resin particles L-17 were added thereto, and the mixture was further dispersed for 1 minute. To be 2 ,
It was applied with a wire bar, dried at 110 ° C. for 30 seconds, and then left in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to prepare an electrophotographic photosensitive material.
比較例A: 実施例1において、分散樹脂粒子L−17、2gを加えな
い他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を
作製した。Comparative Example A: An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 2 g of the dispersed resin particles L-17 were not added.
比較例B: 実施例1において結着樹脂として用いた樹脂〔A−
2〕6gの代わりに下記構造の樹脂〔R−1〕6gを用いる
以外は、実施例1と同様の操作で電子写真感光材料を作
製した。Comparative Example B: Resin used as binder resin in Example 1 [A-
2] An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 6 g of the resin [R-1] having the following structure was used instead of 6 g.
比較例C: 実施例1において結着樹脂として用いた樹脂〔A−
2〕の代わりに下記構造の樹脂〔R−2〕6gを用いる以
外は、実施例1と同様の操作で電子写真感光材料を作製
した。 Comparative Example C: Resin used as binder resin in Example 1 [A-
An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 6 g of the resin [R-2] having the following structure was used instead of 2).
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、帯電性
(帯電ムラの発生の有無)、前露出疲労性を調べた。更
に、これらの感光材料をオフセットマスター用原版とし
て用いた時の印刷性(地汚れ、耐刷性)を調べた。 These photosensitive materials were examined for film properties (surface smoothness), charging properties (whether or not charging unevenness occurred), and pre-exposure fatigue properties. Further, the printability (ground stain, printing durability) when these photosensitive materials were used as an offset master plate was examined.
以下の結果をまとめて表−4に示す。 The following results are summarized in Table-4.
表−4に示した評価項目の実施の態様は以下の通りで
ある。 The embodiments of the evaluation items shown in Table 4 are as follows.
注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagaya Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc. It was measured.
注2)帯電性 各感光材料を20℃、65%RHの条件下に1昼夜放置し
た。次に、全自動製版機ELP−404V(富士写真フィルム
(株)製)を帯電圧−4.5kV、帯電スピードを20cm/sec
という強制条件に改造した後複写原稿として黒ベタ画像
のものを用い、ELP−Tをトナーとして製版して得られ
たベタ画像(帯電時のムラの有無、ベタ部の濃度)を目
視評価した。Note 2) Chargeability Each photosensitive material was left under the conditions of 20 ° C. and 65% RH for 24 hours. Next, a fully automatic plate making machine ELP-404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used with a charging voltage of -4.5 kV and a charging speed of 20 cm / sec.
After remodeling under the forced conditions, a solid black image was used as a copy original, and a solid image (whether or not there was unevenness during charging, density of a solid portion) obtained by making a plate using ELP-T as a toner was visually evaluated.
注3)前露光疲労性 V10回復率:温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料
にペーパーアナライザー(川口電機(株)製ペーパーア
ナライザーSP−428型)を用いて−6kVで20秒間コロナ放
電させた後、10秒間放置し、この時の表面電位V10 A測定
した。一方、各感光材料をケイ光灯光源下2mの位置(50
0 1ux)に20秒さらした後暗中に10秒間静置し、再びV
10 Aと同様の測定方法で、表面電位V10 Bを測定した。V10
回復率を(V10 B/V10 A)×100(%)で求めた。Note 3) pre-exposure fatigue resistance V 10 Recovery rate: temperature 20 ° C., in the dark of RH 65%, at -6kV with the photosensitive material in a paper analyzer (Kawaguchi Denki Co., Ltd. Paper Analyzer SP-428 type) After a corona discharge for 20 seconds, the device was allowed to stand for 10 seconds, and a surface potential V 10 A was measured at this time. On the other hand, place each photosensitive material 2m below the fluorescent light source (50
0 1ux) for 20 seconds, leave it in the dark for 10 seconds,
Surface potential V 10 B was measured in the same manner as for 10 A. V 10
The recovery rate was determined by (V 10 B / V 10 A ) × 100 (%).
前露光後の撮像性 各感光材料を、温度20℃、65%RHの暗室中で1昼夜放
置した。次に注3に記載の前露光条件で操作した後、感
光材料をELP−404VでELP−Tをトナーとして用いて製版
して得られた複写画像を目視評価した。Image sensitivity after pre-exposure Each photosensitive material was allowed to stand in a dark room at a temperature of 20 ° C. and 65% RH for 24 hours. Next, after operating under the pre-exposure conditions described in Note 3, a copy image obtained by plate-making the photosensitive material with ELP-404V using ELP-T as a toner was visually evaluated.
注4)印刷性 生感材の地汚れ性:各感光材料の不感脂化処理液EPL−E
X(富士写真フィルム(株)製)蒸留水で2倍に希釈し
た溶液を用いて、エッチングプロセッサーに1回通して
光導電層面を不感脂化処理した後、これをオフセットマ
スターとして、オフセット印刷機(桜井製作所(株)製
オリバー52型)にかけ、印刷物に地汚れが発生する程度
の目視で評価する。Note 4) Printability Background stain of raw material: Desensitizing solution EPL-E for each photosensitive material
X (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) Using a solution diluted twice with distilled water, pass once through an etching processor to desensitize the surface of the photoconductive layer. (Oliver 52, manufactured by Sakurai Seisakusho Co., Ltd.), and visually evaluate the degree to which background stains occur on printed matter.
製版後の耐刷性:前露光疲労性の撮像性に記したのと同
一の条件で各感光材料を製版した。次に、これらの各原
版を、不感脂化処理液EPL−EXを用いて、エッチングプ
ロセッサーに2回通して光導電層面を不感脂化処理し
た。これをオフセットマスターとして、オフセット印刷
機(上記使用と同一)にかけ、印刷物の非画像部の地汚
れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷できる枚数
を示す(印刷枚数が多い程、耐刷性が良好なことを表わ
す)。Printing durability after plate making: Plates were prepared for each photosensitive material under the same conditions as those described in the pre-exposure fatigue imaging property. Next, each of these original plates was passed through an etching processor twice using a desensitizing solution EPL-EX to desensitize the surface of the photoconductive layer. Using this as an offset master, the number of sheets that can be printed on an offset printing machine (identical to the above-mentioned use) without causing background stains on the non-image portion of the printed matter and the image quality of the image portion does not occur. Good performance).
表−4に示す様に、本発明の各感光材料は、平滑性良
好な光導電層を形成する。又、帯電時の帯電ムラも見ら
れず均一な帯電性が得られ且つ製版前に前露光された感
光材料の条件においても、その回復は著しく良好で、ほ
ぼ未露光下での特性と変わらなかった。実際の複写画像
を地カブリがなく、複写画質も鮮明であった。このこと
は、光導電体、分光像感剤及び結着樹脂が各々最適の状
態で吸着し、且つその状態が安定に保たれることによる
ものと推定される。As shown in Table 4, each photosensitive material of the present invention forms a photoconductive layer having good smoothness. In addition, uniform chargeability was obtained without charging unevenness during charging, and even under the condition of a photosensitive material pre-exposed before plate making, the recovery was remarkably good, almost the same as the characteristics under unexposed. Was. The actual copied image had no ground fog, and the copied image quality was clear. This is presumed to be due to the fact that the photoconductor, the spectral image sensitizing agent, and the binder resin are each adsorbed in an optimum state, and that the state is stably maintained.
又、未製版の感材自体を、不感脂化処理液による不感
脂化処理して、処理後の表面の水との接触角を測定する
と10℃以下と小さく、充分に親水化されていることが判
る。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚れ
は全く認められなかった。In addition, the unprepared photographic material itself is desensitized with a desensitizing solution, and the contact angle with water on the surface after the treatment is as small as 10 ° C. or less, and it is sufficiently hydrophilic. I understand. Even when the printed matter was actually printed and the background stain was observed, no background stain was observed.
更に製版してオフセットマスター原版として用いた場
合でも、帯電性、前露光疲労性が良好で、地カブリのな
い、鮮明な複写画像であることから、不感脂化処理液に
よる不感脂化が充分に進行し、実際に印刷した印刷物
は、1万枚後でも地汚れのない、鮮明な画質のものが得
られた。Furthermore, even when the plate is used as an offset master plate, the chargeability, pre-exposure fatigue property are good, and there is no background fog, and it is a clear copied image. Progress was made, and the printed matter actually printed had clear image quality without background smear even after 10,000 sheets.
又、樹脂粒子Lが共存しない比較例Aは、静電特性及
び撮像性は満足すべき結果であったが、印刷性が不充分
であった。In Comparative Example A in which the resin particles L did not coexist, the electrostatic properties and the image-capturability were satisfactory, but the printability was insufficient.
一方、公知の低分子量体を用いた比較例A及び比較例
Bは過酷な条件下での帯電性にムラが生じた。又前露光
疲労性が大きく、実際の撮像性にも影響し、複写画像が
劣化した(地カブリ発生、細線・文字の飛散、濃度の低
下等)。又、不感脂化処理液による不感脂化を調べた
所、未製版時の感光材料は、印刷物での地汚れもなく、
充分に親水化されていることが確認された。しかし、実
際に製版した原版をオフセットマスターとして不感脂化
処理して印刷した所、その印刷物は刷り出しから非画像
部の地汚れが目立ち、画像部の画質も劣化していた(細
線・文字の欠落、濃度の低下等)。この事は、製版して
得られた原版の画質の低下が不感脂化処理でも補償され
ず、そのまま印刷物に反映されてしまい、実用に供し得
ないものであることを示している。On the other hand, in Comparative Examples A and B using the known low-molecular-weight products, uneven charging occurred under severe conditions. Also, the pre-exposure fatigue property is large, affecting the actual imaging performance, and the copied image is deteriorated (the occurrence of ground fog, scattering of fine lines and characters, a decrease in density, etc.). Also, when the desensitization by the desensitizing treatment solution was examined, the photosensitive material at the time of the unmade plate did not have background stain on the printed matter,
It was confirmed that they were sufficiently hydrophilized. However, when the original plate that was actually made was desensitized and printed as an offset master and printed, the printed matter had noticeable background stains in the non-image area and the image quality of the image area had deteriorated since printing (thin lines and characters). Omission, decrease in concentration, etc.). This indicates that the deterioration of the image quality of the original plate obtained by plate making is not compensated by the desensitizing treatment, is reflected as it is on the printed matter, and is not practical.
以上から、本発明の感光材料のみが光導電層の平滑
性、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なもの
であった。From the above, only the photosensitive material of the present invention was favorable in all aspects of the smoothness, electrostatic properties and printability of the photoconductive layer.
実施例2〜17 実施例1において、樹脂〔A−2〕及び樹脂〔B−
1〕に代えて、下記表−5の樹脂〔A〕6g、各樹脂
〔B〕34gに代えた他は、実施例1と同様に操作して、
各電子写真感光材料を作製した。Examples 2 to 17 In Example 1, the resin [A-2] and the resin [B-
In the same manner as in Example 1 except that 6 g of the resin [A] in Table 5 below and 34 g of each resin [B] were used instead of 1),
Each electrophotographic photosensitive material was produced.
本発明の感光材料は、いれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30℃、
80%RH)の過酷な条件あるいは前露光疲労の条件におい
ても、地カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。 The photosensitive material of the present invention has a chargeability, a dark charge retention rate,
Excellent light sensitivity and the actual copy image is high temperature and high humidity (30 ℃,
Even under severe conditions (80% RH) or pre-exposure fatigue conditions, clear images without fog were obtained.
更に、これをオフセットマスターの原版として用いて
印刷した所、地カブリのない鮮明な画質の印刷物を少な
くとも7000枚以上印刷できた。Further, when this was used as an offset master master, at least 7,000 or more prints of clear image quality without background fog could be printed.
実施例18 下記構造の樹脂〔A−30〕6.5g、前記樹脂〔B−19〕
33.5g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.03g、下記構造のメチ
ン色素〔III〕0.040g、下記構造のメチン色素〔IV〕0.0
35g、4−ヒドロキシ安息香酸0.01g及びトルエン240gの
混合物をホモジナイザー中、1×104r.p.m.で10分間分
散した。この分散物に、グルタン酸無水物で0.5gを添加
し、更にホモジナイザー中、5×103r.p.m.で1分間分
散した。Example 18 Resin [A-30] 6.5 g having the following structure, resin [B-19]
33.5 g, zinc oxide 200 g, uranine 0.03 g, methine dye (III) 0.040 g having the following structure, methine dye (IV) 0.0 having the following structure
A mixture of 35 g, 0.01 g of 4-hydroxybenzoic acid and 240 g of toluene was dispersed in a homogenizer at 1 × 10 4 rpm for 10 minutes. To this dispersion, 0.5 g of glutanic anhydride was added, and further dispersed in a homogenizer at 5 × 10 3 rpm for 1 minute.
これを導電処理した紙に、乾燥付着量22g/cm2となる
様にワイヤーバーで塗布し、110℃で15秒間加熱した。
次に更に140℃で2時間加熱した後、20℃、65%RHの条
件下で24時間放置することで電子写真感光材料を作製し
た。This was applied to a conductive treated paper with a wire bar so as to have a dry adhesion amount of 22 g / cm 2, and heated at 110 ° C. for 15 seconds.
Next, after further heating at 140 ° C. for 2 hours, the mixture was allowed to stand at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to prepare an electrophotographic photosensitive material.
各感光材料を、実施例1と同様にして、各特性を調べ
た。その結果、各感光材料は、帯電性、前露光疲労性に
対して良好であり、実際の複写画像も、この様な過酷な
条件においても地カブリの発生や細線飛びの発生等のな
い鮮明な画像を与えた。更に、オフセットマスター原版
として印刷した所、非画像部に地カブリのない鮮明な画
像の印刷物をいずれの場合も、少なくとも1万枚以上印
刷することができた。 The characteristics of each photosensitive material were examined in the same manner as in Example 1. As a result, each photosensitive material is excellent in chargeability and pre-exposure fatigue, and the actual copied image is clear even under such severe conditions without occurrence of background fogging and fine line skipping. Gave the picture. Further, when printed as an offset master original, at least 10,000 or more prints of a clear image having no background fogging in the non-image area could be printed in any case.
実施例19〜22 実施例18において樹脂〔A−30〕6.5g及び架橋剤とし
てのグルタン酸無水物0.5gの代わりに、下記表−12の化
合物を各々用い、樹脂〔B−19〕の代わりに樹脂〔B−
20〕33gを用いた他は実施例36と同様に操作して、各感
光材料を作製した。Examples 19 to 22 Instead of 6.5 g of the resin [A-30] and 0.5 g of glutanic anhydride as a cross-linking agent in Example 18, each of the compounds shown in Table 12 below was used instead of the resin [B-19]. And resin [B-
20] Except for using 33 g, the same procedures as in Example 36 were carried out to prepare respective photosensitive materials.
各感光材料を、実施例18と同様にして各特性を調べ
た。その結果、各感光材料は、帯電性、前露光疲労性に
対して良好であり、実際の複写画像も、この様な過酷な
条件においても地カブリの発生や細線飛びの発生等のな
い鮮明な画像を与えた。更に、オフセットマスター原版
として印刷した所、非画像部に地カブリのない鮮明な画
像の印刷物をいずれの場合も、8000枚以上印刷すること
ができた。 The characteristics of each photosensitive material were examined in the same manner as in Example 18. As a result, each photosensitive material is excellent in chargeability and pre-exposure fatigue, and the actual copied image is clear even under such severe conditions without occurrence of background fogging and fine line skipping. Gave the picture. Further, when printed as an offset master plate, more than 8,000 sheets of printed matter having clear images without background fog in the non-image area could be printed in any case.
実施例23〜32 実施例1において、結着樹脂粒子2gの代わりに下記表
−7の樹脂粒子各2g(固形分量として)を用いた他は、
実施例1と同様にして各感光材料を作製した。Examples 23 to 32 In Example 1, except that 2 g (as solid content) of each of the resin particles in Table 7 below was used instead of 2 g of the binder resin particles,
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1.
静電特性及び印刷特性を実施例2と同様に操作して評
価した。The electrostatic properties and printing properties were evaluated by operating in the same manner as in Example 2.
各感光材料とも、静電特性・撮像性ともに、実施例1
とほぼ同等の特性を示した。 In each photosensitive material, both the electrostatic characteristics and the imaging properties were the same as those in Example 1.
It showed almost the same characteristics as.
又、不感脂化処理してオフセット平版原版の性能を評
価した所、いずれも生版保水性は良好で実際の製版後の
印刷結果でも6000枚以上印刷できた。In addition, when the performance of the offset lithographic original plate was evaluated by desensitization treatment, the water retention of the raw plate was good, and the printing result after the actual plate making was able to print 6,000 or more sheets.
実施例33及び比較例D〜F 樹脂〔A−1〕6g、樹脂〔B−2〕34g、樹脂粒子
〔L−19〕2g、酸化亜鉛200g、下記構造式で示されるヘ
プタメチレンジアニン色素0.02g、及びトルエン300gの
混合物をホモジナイザー中で1×104r.p.m.の回転速度
で10分間分散した。Example 33 and Comparative Examples DF Resin [A-1] 6 g, resin [B-2] 34 g, resin particles [L-19] 2 g, zinc oxide 200 g, heptamethylenediamine dye 0.02 represented by the following structural formula g and 300 g of toluene were dispersed in a homogenizer at a rotation speed of 1 × 10 4 rpm for 10 minutes.
これを導電処理した紙に、乾燥付着量20g/m2となる様
にワイヤーバーで塗布し、100℃で15秒間加熱した後、1
20℃で2時間加熱した。次いで暗所で20℃、65%RHの条
件下で24時間放置することにより電子写真感光材料を作
製した。With this in conductive treated papers, coated at a dry coating weight 20 g / m 2 and made as a wire bar, after heating for 15 seconds at 100 ° C., 1
Heat at 20 ° C. for 2 hours. Then, it was left standing in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to prepare an electrophotographic photosensitive material.
比較例D 実施例33において樹脂粒子L−2gの粒子を除いた他
は、実施例1と全く同様にして操作し、電子写真感光材
料を作製した。 Comparative Example D An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 33 except that the resin particles L-2 g were removed.
比較例E 実施例33において樹脂〔A−1〕6gの代わりに、前記
樹脂〔R−1〕6gを用いた他は、実施例33と同様に操作
して、電子写真感光材料を作製した。Comparative Example E An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 33, except that 6 g of the resin [A-1] was used instead of 6 g of the resin [A-1].
比較例F 実施例33において樹脂〔A−1〕6gの代わりに、前記
樹脂〔R−2〕6gを用いた他は、実施例33と同様に操作
して電子写真感光材料を作製した。Comparative Example F An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 33, except that 6 g of the resin [A-1] was used instead of 6 g of the resin [A-1].
これらの感光材料の諸特性を、実施例1と同様に操作
して調べた。それらの結果をまとめて表−8に示す。Various characteristics of these light-sensitive materials were examined in the same manner as in Example 1. The results are summarized in Table-8.
表−8の評価項目において、撮像性及び製版後の耐刷
性については以下の方法により行ない、他の項目は、実
施例1の各項と同一の方法で行なった。 In the evaluation items of Table-8, the imaging method and the printing durability after plate making were performed by the following methods, and the other items were performed by the same method as each item of Example 1.
注5)前露光後の撮像性: 各感光材料を、温度20℃、湿度65%RHの暗室中で1昼
夜放置した後、注3)に記載の前露光条件で操作した
後、各感光材料を、−6kVで帯電し、光源として2.8mWの
ガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザ(発振波長
780nm)を用いて、感光材料表面上で、64erg/cm2の照射
量下、ピッチ25μm及びスキャング速度300m/secのスピ
ードで露光後、液体現像材として、ELP−T(富士写真
フィルム(株)製)を用いて現像し、定着することで得
られた複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価し
た。Note 5) Image-capability after pre-exposure: Each photosensitive material was left in a dark room at a temperature of 20 ° C. and a humidity of 65% RH for 24 hours, and then operated under the pre-exposure conditions described in Note 3). Is charged at −6 kV, and a 2.8 mW gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength
780 nm) on a photosensitive material surface at an irradiation dose of 64 erg / cm 2 at a pitch of 25 μm and a scanning speed of 300 m / sec, and ELP-T (Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a liquid developer Was developed and fixed, and the copied image (fog, image quality) obtained by fixing was visually evaluated.
注6)製版後の耐刷性 注5)の撮像性に記したと同一条件で各感光材料を製
版した。以下不感脂化処理及び印刷の操作を前記注4)
の耐刷性と同様にして行ない、印刷物を評価した。Note 6) Printing durability after plate making Each plate of the photosensitive material was made under the same conditions as described in Note 5). The desensitizing treatment and printing operation are described below in Note 4).
And the printed matter was evaluated.
本発明の感光材料は、光導電層の平滑性は充分であ
り、帯電時のムラもなく、又前露光があっても、その回
復が著しく早くて、実際の複写画像は安定して良好な、
地カブリのない鮮明な画像が得られた。又オフセットマ
スター原版として用いた場合でも非画像部は充分に親水
化されて地汚れも見られず、鮮明な画質の印刷物が8000
枚印刷後でも得られた。In the photosensitive material of the present invention, the photoconductive layer has sufficient smoothness, no unevenness during charging, and even if there is pre-exposure, the recovery is remarkably quick, and the actual copied image is stable and good. ,
A clear image without fog was obtained. Even when used as an offset master, the non-image area is sufficiently hydrophilic and no background stains are seen, and a clear image of 8000 prints is obtained.
It was obtained even after printing.
しかし、本発明の樹脂粒子と共存しない比較例Dは、
印刷適性が著しく悪化してしまった。However, Comparative Example D, which does not coexist with the resin particles of the present invention,
The printability deteriorated remarkably.
一方、公知の低分子量体を用いた比較例E及び比較例
Fは、帯電性、前露光疲労性の低下が見られ、実際の複
写画像も、地カブリ、濃度低下、細線・文字の欠落等の
悪化が見られた。又、オフセットマスター原版として用
いると、印刷物のカブリ発生、画質の低下等で、実用に
耐えるレベルのものが得られなくなった。On the other hand, in Comparative Examples E and F using the known low-molecular-weight compounds, the chargeability and the pre-exposure fatigue property were reduced. Worsened. In addition, when used as an offset master, a fugitive print cannot be obtained due to fogging of printed matter and deterioration of image quality.
以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静
電特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られ
る。As described above, an electrophotographic photosensitive member that satisfies electrostatic characteristics and printability only when the resin of the present invention is used is obtained.
実施例34〜41 実施例33において結着樹脂として下記表−9の樹脂
〔A〕6.5g及び樹脂〔B〕33.5gに代え、又シアニン色
素〔I〕0.02gの代わりに下記構造の色素〔II〕0.018g
に代えた他は、実施例33と同様の条件で電子写真感光材
料を作製した。Examples 34 to 41 In Example 33, instead of the resin [A] 6.5 g and resin [B] 33.5 g shown in Table 9 below as a binder resin, and instead of the cyanine dye [I] 0.02 g, a dye having the following structure [ II) 0.018g
An electrophotographic light-sensitive material was produced under the same conditions as in Example 33 except that the above was used.
本発明の各感光材料は帯電性、前露光疲労性に対して
良好であり、実際の複写画像もこの様な過酷な条件にお
いても地カブリの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な
画像を与えた。更に、オフセットマスター原版として印
刷した所、非画像部に地カブリのない鮮明な画像の印刷
物を8000枚以上印刷することができた。 Each photosensitive material of the present invention is excellent in chargeability and pre-exposure fatigue property, and an actual copied image can produce a clear image without occurrence of ground fog or fine line jump even under such severe conditions. Gave. Further, when printed as an offset master original, 8,000 or more printed materials with clear images without background fog in the non-image area could be printed.
実施例42〜49 実施例33において、樹脂〔A〕各6g、樹脂粒子L各2g
を下記表−10の化合物に代え、又ヘプタメチンシアニン
色素〔III〕を下記構造のヘプタメチンシアニン色素
〔V〕0.02gに代えた他は、実施例33と同様にして、各
電子写真材料を作製した。Examples 42 to 49 In Example 33, 6 g of each of the resin [A] and 2 g of each of the resin particles L were used.
Were replaced with the compounds shown in Table 10 below, and heptamethine cyanine dye [III] was replaced with 0.02 g of heptamethine cyanine dye [V] having the following structure. Produced.
これらの各感光材料を実施例33と同様にして各特性の
測定をした。それらの結果をまとめて表−10に示す。 The characteristics of each of these photosensitive materials were measured in the same manner as in Example 33. The results are summarized in Table-10.
本発明の各感光材料はいずれも、帯電ムラ、前露光疲
労性に優れ、実際の複写画像も地カブリの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を得た。更に特定のメタク
リレート成分を含む樹脂の場合には、より良好な撮像性
を示した。 Each photosensitive material of the present invention was excellent in charging unevenness and pre-exposure fatigue, and an actual copy image obtained a clear image without occurrence of background fogging and fine line skipping. Further, in the case of a resin containing a specific methacrylate component, better imaging properties were exhibited.
各感光材料をオフセットマスター原版として用いた場
合、不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行
し、いずれのマスター原版においても非画像部の水との
接触角が10度以下と小さく、充分に親水化されていた。
実際に印刷した所、地カブリのない鮮明な画像の印刷物
を8000枚印刷できた。When each photosensitive material is used as an offset master plate, the desensitizing treatment with the desensitizing solution proceeds sufficiently, and the contact angle with water of the non-image portion of each master plate is as small as 10 degrees or less, It was sufficiently hydrophilic.
At the actual printing, 8000 sheets of clear prints without fog were printed.
(発明の効果) 本発明によれば帯電特性及び前露光疲労性が改良され
た電子写真感光体を得ることができる。また、電子写真
式平版印刷用原版として印刷画質が鮮明な印刷物を得る
ことのできる平版印刷原版を得ることができる。(Effect of the Invention) According to the present invention, it is possible to obtain an electrophotographic photosensitive member having improved charging characteristics and pre-exposure fatigue. In addition, a lithographic printing original plate capable of obtaining a printed matter having a clear print quality can be obtained as an electrophotographic lithographic printing original plate.
更に、樹脂〔A〕の共重合成分として前記式(II a)
又は(II b)で表わされる特定のメタクリレート成分を
含有させると、一層良好な撮像性が得られる。Further, as a copolymer component of the resin [A], the above-mentioned formula (IIa)
Alternatively, when a specific methacrylate component represented by (IIb) is contained, better imaging properties can be obtained.
Claims (2)
電性酸化亜鉛と結着樹脂とを含有する光導電層を設けて
なる電子写真式平版印刷用原版において、前記光導電層
中に前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じかそ
れより小さい平均粒子径を有する親水性樹脂粒子を含有
し、かつ前記結着樹脂が下記樹脂〔A〕の少なくとも1
種及び樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有してなること
を特徴とする平版印刷用原版。 樹脂〔A〕: 1×103〜1×104の重量平均分子量を有し、下記一般式
(I)で示される重合成分を30重量%以上、及び−PO3H
2基、−SO3H基、−COOH基、 {Rは炭化水素基又は−OR′基(R′は炭化水素基を示
す)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1種の酸性基を含有する重合成分を0.5〜10重
量%含有し、且つ該重合体主鎖の片末端に上記と同様の
酸性基から選ばれる少なくとも1種の酸性基を結合して
成る樹脂。 一般式(I) 〔式(I)中、a1、a2は各々、水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。R1は炭化水素基
を表わす。〕 樹脂〔B〕: 3×104〜1×106の重量平均分子量を有し、下記一般式
(III)で示される重合成分を30重量%以上含有して成
る樹脂。 一般式(III) 〔式(III)中XはCH2 nCOO−、CH2 mOCO−、−
O−又は を表わす(ここでn、mは各々0又は1〜3の整数を表
わす)。 b1、b2、R2は式(I)におけるa1、a2、R1と各々同一の
内容を表わす。]1. An electrophotographic lithographic printing plate precursor comprising a conductive support plate and a photoconductive layer containing at least one layer of photoconductive zinc oxide and a binder resin. Contains hydrophilic resin particles having an average particle diameter equal to or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles, and the binder resin is at least one of the following resins [A]
A lithographic printing plate precursor comprising at least one of a seed and a resin [B]. Resin [A]: having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 1 × 10 4 , containing 30% by weight or more of a polymerization component represented by the following general formula (I), and -PO 3 H
2 group, -SO 3 H group, -COOH group, R represents a hydrocarbon group or an -OR 'group (R' represents a hydrocarbon group) and a polymerization component containing at least one acidic group selected from cyclic acid anhydride-containing groups. A resin containing at least one acidic group selected from the same acidic groups as described above at one end of the polymer main chain. General formula (I) [In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 1 represents a hydrocarbon group. Resin [B]: A resin having a weight average molecular weight of 3 × 10 4 to 1 × 10 6 and containing at least 30% by weight of a polymerization component represented by the following general formula (III). General formula (III) [X in the formula (III) is CH 2 n COO−, CH 2 m OCO−, −
O- or (Where n and m each represent 0 or an integer of 1 to 3). b 1 , b 2 and R 2 represent the same contents as a 1 , a 2 and R 1 in the formula (I). ]
いずれか一方が熱及び/又は光硬化性官能基を含有する
ことを特徴とする請求項(1)記載の平版印刷用原版。2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein at least one of the resin [A] and the resin [B] contains a heat and / or photocurable functional group.
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