JP2622802B2 - 地質の調査方法 - Google Patents
地質の調査方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、掘削した孔の内壁面を
カメラ(以下ボアホールカメラとも称する)で撮像した
画像に基づいて地質を調査する方法に関するものであ
る。
カメラ(以下ボアホールカメラとも称する)で撮像した
画像に基づいて地質を調査する方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来のボアホールカメラを用いた地質調
査方法においては、得られた画像の濃淡や色調等を肉眼
で観察して、地質の分類・同定あるいは亀裂等の走向傾
斜の解析が行われている。そして、得られた画像から亀
裂の面や異なる地質の境界面等の不連続面の走向傾斜を
解析するときは、得られた画像上における亀裂等の不連
続面をひとつずつ手作業でトレースして、手計算によっ
て走向傾斜が求められていた。
査方法においては、得られた画像の濃淡や色調等を肉眼
で観察して、地質の分類・同定あるいは亀裂等の走向傾
斜の解析が行われている。そして、得られた画像から亀
裂の面や異なる地質の境界面等の不連続面の走向傾斜を
解析するときは、得られた画像上における亀裂等の不連
続面をひとつずつ手作業でトレースして、手計算によっ
て走向傾斜が求められていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の地質の分類・同定方法では、判断基準が曖昧で、観
察者の主観に左右されやすく、観察者の個人差が介入し
やすく、再現性が低いという問題がある。また、同一人
による観察の場合でも、判断基準が曖昧でばらつきがあ
るため、再現性が低いという問題がある。
来の地質の分類・同定方法では、判断基準が曖昧で、観
察者の主観に左右されやすく、観察者の個人差が介入し
やすく、再現性が低いという問題がある。また、同一人
による観察の場合でも、判断基準が曖昧でばらつきがあ
るため、再現性が低いという問題がある。
【0004】また、観察による地質の分類・同定には、
ある程度の経験と専門的知識が必要となるという問題が
ある。また、亀裂の面や異なる地質の境界面等の不連続
面の走向傾斜を解析するには、手作業によるトレースと
手計算による走向傾斜の解析を要するので、時間と労力
を要するという問題がある。特に、亀裂等の不連続面が
多いほど解析により多くの時間と労力が必要となるとい
う問題がある。
ある程度の経験と専門的知識が必要となるという問題が
ある。また、亀裂の面や異なる地質の境界面等の不連続
面の走向傾斜を解析するには、手作業によるトレースと
手計算による走向傾斜の解析を要するので、時間と労力
を要するという問題がある。特に、亀裂等の不連続面が
多いほど解析により多くの時間と労力が必要となるとい
う問題がある。
【0005】そこで、本発明においては、画像処理によ
って地質の分類・同定や境界面等の不連続面の走向傾斜
を解析する方法を提供することを目的としている。
って地質の分類・同定や境界面等の不連続面の走向傾斜
を解析する方法を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明においては、調査
対象の地盤に筒状の孔を穿ち、前記孔の内壁面に、孔の
軸に平行な少なくとも二本の計測線を設定し、少なくと
も前記計測線上における内壁面を連続的に撮像し、前記
両計測線に相当する画像における走査線上の画像データ
を所定の範囲で1画素ずつシフトしながら両走査線間で
比較し、両走査線間の画像データが最もよく一致すると
きのシフト量を算出し、前記シフト量ずれた両計測線間
の地質を同じ地質と判定するように構成した。
対象の地盤に筒状の孔を穿ち、前記孔の内壁面に、孔の
軸に平行な少なくとも二本の計測線を設定し、少なくと
も前記計測線上における内壁面を連続的に撮像し、前記
両計測線に相当する画像における走査線上の画像データ
を所定の範囲で1画素ずつシフトしながら両走査線間で
比較し、両走査線間の画像データが最もよく一致すると
きのシフト量を算出し、前記シフト量ずれた両計測線間
の地質を同じ地質と判定するように構成した。
【0007】また、調査対象の地盤に筒状の孔を穿ち、
前記孔の内壁面に、孔の軸に平行な少なくとも二本の計
測線を設定し、少なくとも前記計測線上における内壁面
を連続的に撮像し、前記両計測線に相当する画像におけ
る走査線上の所定の範囲で画像データを1画素ずつシフ
トしながら、両走査線間の画像データの差の平方和を算
出し、その平方和が最小となるシフト量を求め、前記シ
フト量ずれた両計測線間の地質を同じ地質と判定しても
よい。
前記孔の内壁面に、孔の軸に平行な少なくとも二本の計
測線を設定し、少なくとも前記計測線上における内壁面
を連続的に撮像し、前記両計測線に相当する画像におけ
る走査線上の所定の範囲で画像データを1画素ずつシフ
トしながら、両走査線間の画像データの差の平方和を算
出し、その平方和が最小となるシフト量を求め、前記シ
フト量ずれた両計測線間の地質を同じ地質と判定しても
よい。
【0008】また、調査対象の地盤に筒状の孔を穿ち、
前記孔の内壁面に、孔の軸に平行な第1と第2の計測線
を設定し、前記第1と第2の計測線上における内壁面を
連続的に撮像し、前記第1の計測線に相当する画像にお
ける第1の走査線上に調べたい範囲を設定し、第2の計
測線に相当する画像における第2の走査線上に前記範囲
に対応する範囲とその前後に前記範囲と同じ範囲を設定
し、前記第1の走査線上の画像データと第2の走査線上
の画像データとの差の平方和を、前記第1の範囲の3倍
の範囲で、1画素ずつシフトしながら算出し、その平方
和が最小となるシフト量を求め、前記シフト量ずれた両
計測線間の地質を同じ地質と判定してもよい。
前記孔の内壁面に、孔の軸に平行な第1と第2の計測線
を設定し、前記第1と第2の計測線上における内壁面を
連続的に撮像し、前記第1の計測線に相当する画像にお
ける第1の走査線上に調べたい範囲を設定し、第2の計
測線に相当する画像における第2の走査線上に前記範囲
に対応する範囲とその前後に前記範囲と同じ範囲を設定
し、前記第1の走査線上の画像データと第2の走査線上
の画像データとの差の平方和を、前記第1の範囲の3倍
の範囲で、1画素ずつシフトしながら算出し、その平方
和が最小となるシフト量を求め、前記シフト量ずれた両
計測線間の地質を同じ地質と判定してもよい。
【0009】また、調査対象の地質に筒状の孔を穿ち、
前記孔の内壁面に、孔の軸に平行な少なくとも三本の計
測線を設定し、少なくとも前記各計測線上における内壁
面を連続的に撮像し、前記各計測線に相当する画像にお
ける走査線上の所定の範囲で画像データを1画素ずつシ
フトしながら、走査線間の画像データの差の平方和を算
出し、その平方和が最低となるシフト量を求め、このシ
フト量に基づいて、何れか1本の計測線を基準とした他
の計測線上の地質のずれを求めて三次元的な地質を求め
てもよい。
前記孔の内壁面に、孔の軸に平行な少なくとも三本の計
測線を設定し、少なくとも前記各計測線上における内壁
面を連続的に撮像し、前記各計測線に相当する画像にお
ける走査線上の所定の範囲で画像データを1画素ずつシ
フトしながら、走査線間の画像データの差の平方和を算
出し、その平方和が最低となるシフト量を求め、このシ
フト量に基づいて、何れか1本の計測線を基準とした他
の計測線上の地質のずれを求めて三次元的な地質を求め
てもよい。
【0010】また、前記画像データは、各画素の輝度デ
ータとするとよい。また、前記画像データは、各画素に
おけるR,G,B成分の輝度の比としてもよい。
ータとするとよい。また、前記画像データは、各画素に
おけるR,G,B成分の輝度の比としてもよい。
【0011】
【作用】本発明においては、調査対象の地盤に穿った筒
状の孔の内壁面を、少なくとも二本の計測線に沿って連
続的に撮像し、前記両計測線に相当する画像における走
査線上の画像データを所定の範囲で1画素ずつシフトし
ながら両走査線間で比較し、両走査線間の画像データが
最もよく一致するときのシフト量を、両走査線間のすな
わち両計測線間のずれに対応させる。よって、両走査線
間の地質のずれが判明する。
状の孔の内壁面を、少なくとも二本の計測線に沿って連
続的に撮像し、前記両計測線に相当する画像における走
査線上の画像データを所定の範囲で1画素ずつシフトし
ながら両走査線間で比較し、両走査線間の画像データが
最もよく一致するときのシフト量を、両走査線間のすな
わち両計測線間のずれに対応させる。よって、両走査線
間の地質のずれが判明する。
【0012】また、前記両走査線上の所定の範囲で画像
データを1画素ずつシフトしながら、両走査線間の画像
データの差の平方和を算出し、その平方和が最小となる
シフト量を求めると、両計走査線の画像データのずれが
判明する。
データを1画素ずつシフトしながら、両走査線間の画像
データの差の平方和を算出し、その平方和が最小となる
シフト量を求めると、両計走査線の画像データのずれが
判明する。
【0013】また、調査孔の内壁面に第1と第2の計測
線を設定し、これらの計測線上の内壁面を撮像したの
ち、第1の計測線に相当する画像における第1の走査線
上に調べたい範囲を設定し、前記範囲に対応する第2の
計測線上の範囲の前後に前記範囲と同じ範囲を設定し、
前記第1の計測線上の画像データと第2の計測線上の画
像データとの差の平方和を、前記第1の範囲の3倍の範
囲で、1画素ずつシフトしながら算出し、その平方和が
最小となるシフト量を求めると、両計測線間の地質のず
れが判明する。
線を設定し、これらの計測線上の内壁面を撮像したの
ち、第1の計測線に相当する画像における第1の走査線
上に調べたい範囲を設定し、前記範囲に対応する第2の
計測線上の範囲の前後に前記範囲と同じ範囲を設定し、
前記第1の計測線上の画像データと第2の計測線上の画
像データとの差の平方和を、前記第1の範囲の3倍の範
囲で、1画素ずつシフトしながら算出し、その平方和が
最小となるシフト量を求めると、両計測線間の地質のず
れが判明する。
【0014】また、調査孔の内壁面に少なくとも三本の
計測線を設定し、前記各計測線に相当する画像における
走査線上の所定の範囲で画像データを1画素ずつシフト
しながら、走査線間の画像データの差の平方和を算出
し、その平方和が最小となるシフト量を求めると、何れ
か1本の走査線を基準とした他の走査線上の地質のずれ
が求められ、三次元的な地質が求められる。
計測線を設定し、前記各計測線に相当する画像における
走査線上の所定の範囲で画像データを1画素ずつシフト
しながら、走査線間の画像データの差の平方和を算出
し、その平方和が最小となるシフト量を求めると、何れ
か1本の走査線を基準とした他の走査線上の地質のずれ
が求められ、三次元的な地質が求められる。
【0015】また、前記画像データは、各画素の輝度デ
ータもしくは各画素におけるR,G,B成分の輝度の比
として、地質の詳細な特性を把握することもできる。
ータもしくは各画素におけるR,G,B成分の輝度の比
として、地質の詳細な特性を把握することもできる。
【0016】
【実施例】以下に本発明の地質の調査方法を、その実施
例を示した図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発
明に用いる調査装置のブロック構成を示す図である。図
1において、調査孔11に挿入したボアホールカメラ1
2によって内壁面を撮像し、ビデオアンプ13を介し
て、画像処理装置14に入力し展開画像や計測線上の輝
度分布曲線を得る。演算装置15において画素間の差の
平方和等の演算処理を行う。16によって選択した画像
信号をモニタ17にて表示するとともに記録装置18に
て記録することができる。
例を示した図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発
明に用いる調査装置のブロック構成を示す図である。図
1において、調査孔11に挿入したボアホールカメラ1
2によって内壁面を撮像し、ビデオアンプ13を介し
て、画像処理装置14に入力し展開画像や計測線上の輝
度分布曲線を得る。演算装置15において画素間の差の
平方和等の演算処理を行う。16によって選択した画像
信号をモニタ17にて表示するとともに記録装置18に
て記録することができる。
【0017】図2の(A)は、調査対象となる岩盤に穿
った調査孔の斜視図、図2の(B)は、前記調査孔の内
壁面の展開図およびボアホールカメラで得られた画像の
展開図である。図2の(C)は前記調査孔を軸方向から
見た断面図である。図2に基づいて、以下に本実施例を
説明する。図2の(B)に示したように、ボアホールカ
メラで得られた画像の展開図上において、軸に平行な走
査線1,2,3を設定する。この走査線1,2,3の対
応する調査孔の走査線の位置を図2の(A),(C)に
も符号1,2,3で示した。
った調査孔の斜視図、図2の(B)は、前記調査孔の内
壁面の展開図およびボアホールカメラで得られた画像の
展開図である。図2の(C)は前記調査孔を軸方向から
見た断面図である。図2に基づいて、以下に本実施例を
説明する。図2の(B)に示したように、ボアホールカ
メラで得られた画像の展開図上において、軸に平行な走
査線1,2,3を設定する。この走査線1,2,3の対
応する調査孔の走査線の位置を図2の(A),(C)に
も符号1,2,3で示した。
【0018】前記調査孔が穿たれた岩盤には、花崗岩の
部分4とひん岩の部分5と花崗岩の部分6とがあり、そ
れぞれの境界部分には亀裂A,Bが形成されている。
部分4とひん岩の部分5と花崗岩の部分6とがあり、そ
れぞれの境界部分には亀裂A,Bが形成されている。
【0019】前記亀裂Aは若干の傾斜角を持っている
が、亀裂Bのほうは前記調査孔の軸に略垂直な面であ
る。よって、展開図(B)においては、前記亀裂Aは曲
線状に現れ、亀裂Bは略直線状に現れる。なお、亀裂A
は走査線1,2,3とそれぞれ点A1 ,A2 ,A3 で交
差している。亀裂Bは走査線1,2,3とそれぞれ点B
1 ,B2 ,B3 で交差している。
が、亀裂Bのほうは前記調査孔の軸に略垂直な面であ
る。よって、展開図(B)においては、前記亀裂Aは曲
線状に現れ、亀裂Bは略直線状に現れる。なお、亀裂A
は走査線1,2,3とそれぞれ点A1 ,A2 ,A3 で交
差している。亀裂Bは走査線1,2,3とそれぞれ点B
1 ,B2 ,B3 で交差している。
【0020】図2に示した各走査線1,2,3上の各画
素をR,G,Bの各波長帯域別に分解してA/D変換を
行うことにより、原画像の持つ輝度,色相,彩度等の情
報を失うことなく数値情報に変換する。この数値情報
は、一旦磁気ディスク等の記憶媒体に記憶させておいて
もよい。図3の(A),(B),(C)は、それぞれ内
壁面の画像における各走査線1,2,3上のR,G,B
何れかの成分の輝度分布を示す曲線であり、縦軸は輝
度、横軸は調査孔における基準点からの深度である。
素をR,G,Bの各波長帯域別に分解してA/D変換を
行うことにより、原画像の持つ輝度,色相,彩度等の情
報を失うことなく数値情報に変換する。この数値情報
は、一旦磁気ディスク等の記憶媒体に記憶させておいて
もよい。図3の(A),(B),(C)は、それぞれ内
壁面の画像における各走査線1,2,3上のR,G,B
何れかの成分の輝度分布を示す曲線であり、縦軸は輝
度、横軸は調査孔における基準点からの深度である。
【0021】なお、図3の輝度分布曲線と実際の地質の
分布とを比較すると、調査孔の内壁面に亀裂等の不連続
部が存在すると、その部分の輝度は他の部分の輝度より
低くなることが判明しているので、輝度分布曲線におけ
る落ち込んだ部分P21,P22,P23,が亀裂Aに対応
し、落ち込んだ部分P41,P42,P43,が亀裂Bに対応
していることが判る。
分布とを比較すると、調査孔の内壁面に亀裂等の不連続
部が存在すると、その部分の輝度は他の部分の輝度より
低くなることが判明しているので、輝度分布曲線におけ
る落ち込んだ部分P21,P22,P23,が亀裂Aに対応
し、落ち込んだ部分P41,P42,P43,が亀裂Bに対応
していることが判る。
【0022】また、地質によって光学的な性質(屈折率
や反射率)に特有な色情報を持っており、カラー画像に
おけるR(赤),G(緑),B(青)成分と地質とは相
関関係がある。よって、各画素におけるR,G,B成分
と地質との相関データを別途準備しておくことにより、
輝度の高い部分P11,P5が花崗岩に、低い部分P3が
ひん岩に対応していることを知ることができる。
や反射率)に特有な色情報を持っており、カラー画像に
おけるR(赤),G(緑),B(青)成分と地質とは相
関関係がある。よって、各画素におけるR,G,B成分
と地質との相関データを別途準備しておくことにより、
輝度の高い部分P11,P5が花崗岩に、低い部分P3が
ひん岩に対応していることを知ることができる。
【0023】例えば、石英や長石を主要鉱物とする花崗
岩は一般的に優白色を示し、一方、その中にしばしば貫
入岩体として存在するひん岩は角閃石や輝石などの有色
鉱物を含んでいるため、暗緑色を示すことが多い。
岩は一般的に優白色を示し、一方、その中にしばしば貫
入岩体として存在するひん岩は角閃石や輝石などの有色
鉱物を含んでいるため、暗緑色を示すことが多い。
【0024】上記数値情報に基づいて亀裂を判断するプ
ロセスを以下に説明する。まず、輝度が落ち込んだ部分
のある深度を中心にしたn画素分の深度の範囲を解析対
象のウインドウWとして設定する。そして、R,G,B
何れかの画像について、2本の走査線、例えば走査線
1,2の間で、走査線1上における深度dに存在する輝
度分布曲線の落ち込みの部分を基準にして、両走査線間
の対応する画素を1画素分ずつシフトさせながら、両走
査線の画素間の輝度の差の平方和S12を順次計算し
て、平方和S12(0)〜S12(n−1)を求める。
このとき、ある亀裂に対応した画素間で計算した値は、
他画素間で計算した値に比較して最小となるので、計算
値が最小となったときのシフト量δ12を求めることによ
り、走査線1,2間での亀裂の相対位置を確定すること
ができる。
ロセスを以下に説明する。まず、輝度が落ち込んだ部分
のある深度を中心にしたn画素分の深度の範囲を解析対
象のウインドウWとして設定する。そして、R,G,B
何れかの画像について、2本の走査線、例えば走査線
1,2の間で、走査線1上における深度dに存在する輝
度分布曲線の落ち込みの部分を基準にして、両走査線間
の対応する画素を1画素分ずつシフトさせながら、両走
査線の画素間の輝度の差の平方和S12を順次計算し
て、平方和S12(0)〜S12(n−1)を求める。
このとき、ある亀裂に対応した画素間で計算した値は、
他画素間で計算した値に比較して最小となるので、計算
値が最小となったときのシフト量δ12を求めることによ
り、走査線1,2間での亀裂の相対位置を確定すること
ができる。
【0025】同様に、走査線1,3間でのシフト量δ13
を求める。以上の計算式は、数式1に示したように、平
方和S12の最小値からシフト量を求めてもよいが、数
式2に示したように、平均で除して無次元化してから差
の平方和S12’の最小値からシフト量を求めてもよ
く、または、数式3に示したように、平均値との偏差に
基づいて平方和S12”を求めてその最小値からシフト
量を求めてもよい。さらに、輝度分布の対応程度を平方
和によって求めることなく、相関計数や共分散を求める
方法によって求めてもよい。
を求める。以上の計算式は、数式1に示したように、平
方和S12の最小値からシフト量を求めてもよいが、数
式2に示したように、平均で除して無次元化してから差
の平方和S12’の最小値からシフト量を求めてもよ
く、または、数式3に示したように、平均値との偏差に
基づいて平方和S12”を求めてその最小値からシフト
量を求めてもよい。さらに、輝度分布の対応程度を平方
和によって求めることなく、相関計数や共分散を求める
方法によって求めてもよい。
【0026】
【数1】
【0027】
【数2】
【0028】
【数3】
【0029】ここで、走査線1の位置dと、前記シフト
量δ12,δ13とに基づいて、亀裂面と走査線1,2,3
との三つの交点の3次元座標(x1,y1,z1),
(x2,y2,z2),(x3,y3,z3)を確定す
ることができる。例えば、図4のように、調査孔の軸の
深度方向をX軸に、走査線1への半径方向をZ軸とし、
調査孔の半径をrとし、各走査線を120°間隔で設定
したとすると、各点の座標は数式4のように表せる。
量δ12,δ13とに基づいて、亀裂面と走査線1,2,3
との三つの交点の3次元座標(x1,y1,z1),
(x2,y2,z2),(x3,y3,z3)を確定す
ることができる。例えば、図4のように、調査孔の軸の
深度方向をX軸に、走査線1への半径方向をZ軸とし、
調査孔の半径をrとし、各走査線を120°間隔で設定
したとすると、各点の座標は数式4のように表せる。
【0030】
【数4】
【0031】上記3点を通る亀裂面の式は、一次式 x
+ay+bz+c=0のように表すことができる。
+ay+bz+c=0のように表すことができる。
【0032】以上のようにして確定された亀裂面(x+
ay+bz+c=0)の法線ベクトルから、当該亀裂面
の走向傾斜も求められる。なお、画素間の輝度の差の平
方和S12,S23,S31の計算は、それぞれの走査線毎に
輝度をその平均値で除して無次元化したデータを使用す
るか、あるいは平均値との差をとったデータを使用する
かすることにより、ばらつきの少ないより安定した計算
結果を得ることができる。
ay+bz+c=0)の法線ベクトルから、当該亀裂面
の走向傾斜も求められる。なお、画素間の輝度の差の平
方和S12,S23,S31の計算は、それぞれの走査線毎に
輝度をその平均値で除して無次元化したデータを使用す
るか、あるいは平均値との差をとったデータを使用する
かすることにより、ばらつきの少ないより安定した計算
結果を得ることができる。
【0033】上記数値情報に基づいて地質を同定するプ
ロセスを以下に説明する。R,G,Bの何れかの画像に
ついて、上記同様に、2本の走査線の間で、走査線1上
における深度dに存在する輝度分布曲線の落ち込みの部
分を基準にして、両走査線間の対応する画素を1画素分
ずつシフトさせながら、走査線1,2間の画素間の輝度
の差の平方和S12,走査線2,3間の画素間の輝度の
差の平方和S23,走査線3,1間の画素間の輝度の差
の平方和S31を計算して、それれの値が最小となると
きのシフト量を求めることにより、地質の同定を定量的
に行うことができる。
ロセスを以下に説明する。R,G,Bの何れかの画像に
ついて、上記同様に、2本の走査線の間で、走査線1上
における深度dに存在する輝度分布曲線の落ち込みの部
分を基準にして、両走査線間の対応する画素を1画素分
ずつシフトさせながら、走査線1,2間の画素間の輝度
の差の平方和S12,走査線2,3間の画素間の輝度の
差の平方和S23,走査線3,1間の画素間の輝度の差
の平方和S31を計算して、それれの値が最小となると
きのシフト量を求めることにより、地質の同定を定量的
に行うことができる。
【0034】このとき、各走査線におけるR,G,B成
分の比の値の分布を求め、二つの走査線の間で画像を1
画素ごとシフトさせながら、対応する画素間で比の値の
差の平方和を求め、それらの値が最小となる時のシフト
量を求めることにより、光量の変動やばらつきによる画
像情報(輝度,色相,彩度等)の変化を最小限に抑えて
地質の同定を行うことができる。
分の比の値の分布を求め、二つの走査線の間で画像を1
画素ごとシフトさせながら、対応する画素間で比の値の
差の平方和を求め、それらの値が最小となる時のシフト
量を求めることにより、光量の変動やばらつきによる画
像情報(輝度,色相,彩度等)の変化を最小限に抑えて
地質の同定を行うことができる。
【0035】なお、結晶性の岩石では、それを構成する
結晶の種類により光学的性質が異なる上、結晶の粒内と
粒界で光学的性質が異なるため、R,G,Bの各画像に
ついて輝度分布の細かな特性を調べることによって、岩
石の種類や性質をより詳細に分類することができる。例
えば、図5に示したように、輝度分布の曲線の高レベル
で滑らかな部分は粒内の部分に対応し、輝度分布の曲線
が低い部分は粒界に対応すること等が判明する。
結晶の種類により光学的性質が異なる上、結晶の粒内と
粒界で光学的性質が異なるため、R,G,Bの各画像に
ついて輝度分布の細かな特性を調べることによって、岩
石の種類や性質をより詳細に分類することができる。例
えば、図5に示したように、輝度分布の曲線の高レベル
で滑らかな部分は粒内の部分に対応し、輝度分布の曲線
が低い部分は粒界に対応すること等が判明する。
【0036】このような処理によって、同一の調査孔内
における同一種類の岩石であるか否かの同定ができる。
即ち、同一種類の岩石の分布が把握できる。このように
して、一本の走査線上における同定もしくは複数の走査
線上における同定ができる。
における同一種類の岩石であるか否かの同定ができる。
即ち、同一種類の岩石の分布が把握できる。このように
して、一本の走査線上における同定もしくは複数の走査
線上における同定ができる。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、調査対象の地質に穿っ
た筒状の孔の内壁面を、少なくとも二本の計測線に沿っ
て連続的に撮像し、前記両計測線に対応する画像におけ
る走査線上の画像データを所定の範囲で1画素ずつシフ
トしながら両走査線間で比較し、両走査線間の画像デー
タが最もよく一致するときのシフト量を、両計測線間の
ずれに対応させることによって、両計測線間の地質のず
れが判明し、地質の分布を把握することができる。
た筒状の孔の内壁面を、少なくとも二本の計測線に沿っ
て連続的に撮像し、前記両計測線に対応する画像におけ
る走査線上の画像データを所定の範囲で1画素ずつシフ
トしながら両走査線間で比較し、両走査線間の画像デー
タが最もよく一致するときのシフト量を、両計測線間の
ずれに対応させることによって、両計測線間の地質のず
れが判明し、地質の分布を把握することができる。
【0038】また、前記両走査線上の所定の範囲で画像
データを1画素ずつシフトしながら、両走査線間の画像
データの差の平方和を算出し、その平方和が最小となる
シフト量を求ると、両走査線間の画像データのずれが判
明し、地質の分布を把握することができる。また、調査
孔の内壁面に第1と第2の計測線を設定し、前記第1の
計測線に相当する画像における第1の走査線上に調べた
い範囲を設定し、第2の計測線に相当する画像における
第2の走査線上に前記範囲に対応する範囲とその前後に
前記範囲と同じ範囲を設定し、前記第1の走査線上の画
像データと第2の走査線上の画像データとの差の平方和
を、前記第1の範囲の3倍の範囲で、1画素ずつシフト
しながら算出し、その平方和が最小となるシフト量を求
めると、両走査線間のズレ即ち両計測線間の地質のずれ
が判明する。このようにして地質の分布を把握すること
ができる。
データを1画素ずつシフトしながら、両走査線間の画像
データの差の平方和を算出し、その平方和が最小となる
シフト量を求ると、両走査線間の画像データのずれが判
明し、地質の分布を把握することができる。また、調査
孔の内壁面に第1と第2の計測線を設定し、前記第1の
計測線に相当する画像における第1の走査線上に調べた
い範囲を設定し、第2の計測線に相当する画像における
第2の走査線上に前記範囲に対応する範囲とその前後に
前記範囲と同じ範囲を設定し、前記第1の走査線上の画
像データと第2の走査線上の画像データとの差の平方和
を、前記第1の範囲の3倍の範囲で、1画素ずつシフト
しながら算出し、その平方和が最小となるシフト量を求
めると、両走査線間のズレ即ち両計測線間の地質のずれ
が判明する。このようにして地質の分布を把握すること
ができる。
【0039】また、調査対象の地盤に穿った筒状の孔の
内壁面に少なくとも三本の計測線を設定し、前記各計測
線に相当する画像における走査線上の所定の範囲で画像
データを1画素ずつシフトしながら、走査線間の画像デ
ータの差の平方和を算出し、その平方和が最小となるシ
フト量を求めると、何れか1本の走査線を基準とした他
の走査線のずれ、即ち地質のずれを三次元的に把握する
ことができる。
内壁面に少なくとも三本の計測線を設定し、前記各計測
線に相当する画像における走査線上の所定の範囲で画像
データを1画素ずつシフトしながら、走査線間の画像デ
ータの差の平方和を算出し、その平方和が最小となるシ
フト量を求めると、何れか1本の走査線を基準とした他
の走査線のずれ、即ち地質のずれを三次元的に把握する
ことができる。
【0040】また、前記画像データは、各画素の輝度デ
ータもしくは各画素におけるR,G,B成分の輝度の比
として、地質の詳細な特性を把握することもできる。
ータもしくは各画素におけるR,G,B成分の輝度の比
として、地質の詳細な特性を把握することもできる。
【図1】本発明の地質調査方法に用いる調査装置のブロ
ック構成を示す図である。
ック構成を示す図である。
【図2】調査対象となる岩盤に穿った調査孔の状態を示
す概念図である。
す概念図である。
【図3】各走査線上における輝度分布曲線を示す図であ
る。
る。
【図4】調査孔に座標軸を設定した状態を示す説明図で
ある。
ある。
【図5】結晶性の岩盤の例を示す説明図である。
1,2,3 走査線 4,6 花崗岩の部分 5 ひん岩の部分 A,B 亀裂
Claims (6)
- 【請求項1】調査対象の地盤に筒状の孔を穿ち、 前記孔の内壁面に、孔の軸に平行な少なくとも二本の計
測線を設定し、 少なくとも前記計測線上における内壁面を連続的に撮像
し、 前記両計測線に相当する画像における走査線上の画像デ
ータを所定の範囲で1画素ずつシフトしながら両走査線
間で比較し、両走査線間の画像データが最もよく一致す
るときのシフト量を算出し、 前記シフト量ずれた両走査線間の地質を同じ地質と判定
することを特徴とする地質の調査方法。 - 【請求項2】調査対象の地盤に筒状の孔を穿ち、前記孔
の内壁面に、孔の軸に平行な少なくとも二本の計測線を
設定し、少なくとも前記計測線上における内壁面を連続
的に撮像し、前記両計測線に相当する画像における走査
線上の所定の範囲で画像データを1画素ずつシフトしな
がら、両走査線間の画像データの差の平方和を算出し、
その平方和が最小となるシフト量を求め、前記シフト量
ずれた両走査線間の地質を同じ地質と判定することを特
徴とする地質の調査方法。 - 【請求項3】調査対象の地質に筒状の孔を穿ち、前記孔
の内壁面に、孔の軸に平行な第1と第2の計測線を設定
し、前記第1と第2の計測線上における内壁面を連続的
に撮像し、前記第1の計測線に相当する画像における第
1の走査線上に調べたい範囲を設定し、第2の計測線に
相当する画像における第2の走査線上に前記範囲に対応
する範囲とその前後に前記範囲と同じ範囲を設定し、前
記第1の走査線上の画像データと第2の走査線上の画像
データとの差の平方和を、前記第1の範囲の3倍の範囲
で、1画素ずつシフトしながら算出し、その平方和が最
小となるシフト量を求め、前記シフト量ずれた両走査線
間の地質を同じ地質と判定することを特徴とする地質の
調査方法。 - 【請求項4】調査対象の地盤に筒状の孔を穿ち、前記孔
の内壁面に、孔の軸に平行な少なくとも三本の計測線を
設定し、少なくとも前記各計測線上における内壁面を連
続的に撮像し、前記各計測線に相当する画像における走
査線上の所定の範囲で画像データを1画素ずつシフトし
ながら、走査線間の画像データの差の平方和を算出し、
その平方和が最小となるシフト量を求め、このシフト量
に基づいて、何れか1本の走査線を基準とした他の走査
線上の地質のずれを求めて三次元的な地質を求めること
を特徴とする地質の調査方法。 - 【請求項5】前記画像データは、各画素の輝度データと
したことを特徴とする請求項1,2,3,4の何れかに
記載の地質の調査方法。 - 【請求項6】前記画像データは、各画素におけるR,
G,B成分の輝度の比としたことを特徴とする請求項
1,2,3,4の何れかに記載の地質の調査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29604892A JP2622802B2 (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 地質の調査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29604892A JP2622802B2 (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 地質の調査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06147846A JPH06147846A (ja) | 1994-05-27 |
JP2622802B2 true JP2622802B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=17828430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29604892A Expired - Fee Related JP2622802B2 (ja) | 1992-11-05 | 1992-11-05 | 地質の調査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2622802B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11304430A (ja) * | 1998-04-24 | 1999-11-05 | Tobishima Corp | 地盤変位測定装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5710408B2 (ja) * | 2011-07-19 | 2015-04-30 | 国立大学法人京都大学 | 麺類のクラック検出装置、クラック検出方法および分別システム |
KR101527945B1 (ko) * | 2014-11-27 | 2015-06-10 | 한국지질자원연구원 | 점토광물 탐지장치 및 이를 이용한 점토광물 탐지방법 |
CN104915640B (zh) * | 2015-05-22 | 2017-03-08 | 中国科学院武汉岩土力学研究所 | 一种钻孔图像结构面自动识别与参数提取方法 |
JP6932614B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2021-09-08 | 鹿島建設株式会社 | 亀裂連続性判定システム、判定方法及び判定プログラム、並びに、亀裂検出装置、検出方法及び検出プログラム |
CN110656927B (zh) * | 2019-08-26 | 2021-06-18 | 中国矿业大学 | 一种基于钻孔电视的裂隙影像测量方法 |
-
1992
- 1992-11-05 JP JP29604892A patent/JP2622802B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11304430A (ja) * | 1998-04-24 | 1999-11-05 | Tobishima Corp | 地盤変位測定装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06147846A (ja) | 1994-05-27 |
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