JP2619391B2 - Method of manufacturing shadow mask structure - Google Patents

Method of manufacturing shadow mask structure

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はシヤドウマスク構体の製造方法に係り、特に
シヤドウマスクを張力を与えた状態でフレームに架張し
たシヤドウマスク構体の製造方法に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a shadow mask structure, and more particularly to a method for manufacturing a shadow mask structure in which a shadow mask is stretched over a frame in a state where tension is applied.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

カラーブラウン管に用いられるシヤドウマスクは、パ
ネルの蛍光面にモザイク状に塗布された蛍光体が色選択
機能を持つているが、電子ビームが衝突することによつ
て熱膨張して変形すると、色選択機能を損うことがあ
る。
The shadow mask used for color cathode-ray tubes has a color selection function in which the phosphor applied in a mosaic pattern on the phosphor screen of the panel has a color selection function. May be impaired.

この解決策として、例えば特開昭61−80735号に示す
ように、シヤドウマスクを張力を与えた状態でフレーム
に架張した架張式シヤドウマスク構体が知られている。
As a solution to this, for example, as shown in JP-A-61-80735, there is known a stretchable shadow mask structure in which a shadow mask is stretched over a frame in a state where tension is applied.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

上記従来技術は、単にシヤドウマスクに張力を与えた
状態でフレームに固着するので、固着後にシヤドウマス
クの張力によつてフレームがたわんで変形し、シヤドウ
マスクに所定の張力がかからないという問題があつた。
In the above prior art, since the shadow mask is simply fixed to the frame with tension applied thereto, the frame is bent and deformed by the tension of the shadow mask after the fixing, so that a predetermined tension is not applied to the shadow mask.

本発明の目的は、シヤドウマスクに所定の均一な張力
を印加させることができるシヤドウマスク構体の製造方
法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a shadow mask structure that can apply a predetermined uniform tension to the shadow mask.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記目的は、フレームに内側方向の応力をかけた状態
で、加熱膨張させられたシヤドウマスクをフレームに固
着することにより達成される。
The above object is achieved by fixing a heated and expanded shadow mask to a frame while applying an inward stress to the frame.

出願人の調査する限り、単にフレームに内側方向の応
力をかけることについては例えば特開昭59−167936号公
報に開示されているが、上記本発明のような構成を示唆
する先行技術は見当らない。
As far as the applicant investigates, merely applying an inward stress to the frame is disclosed in, for example, JP-A-59-167936, but no prior art suggesting the above-described configuration of the present invention is found. .

〔作用〕[Action]

フレームには内側方向に応力がかけられているので、
外側に拡がろうとする張力がが働く。このフレームの外
側方向の張力は、シヤドウマスクの内側方向の張力を相
殺させるので、シヤドウマスクには所定の均一な張力が
印加される。
Since the frame is stressed inward,
A tension is exerted to spread outward. Since the tension in the outward direction of the frame cancels the tension in the inward direction of the shadow mask, a predetermined uniform tension is applied to the shadow mask.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を第1図及び第2図により説
明する。溶接装置の基板1上に断面L形のフレーム2を
位置決め載置する。次にばね3で内側方向に付勢された
押棒4をフレーム2の外周に当て、フレーム2を内側に
押して所定量たわませておく。前記押棒4は、フレーム
2の各辺に均一な応力がかかるように、例えば各辺に2
個、即ち計8個配設し、第2図に矢印A1、A2、B1、B2
C1、C2、D1、D2で示す部分を矢印方向にたわませるよう
にする。次にフレーム2上に薄い金属板に多数の電子ビ
ーム通過孔5aが開けられたシヤドウマスク5を載置す
る。この場合、シヤドウマスク5は板厚が薄くて上下に
たわみやすいので、シヤドウマスク5が水平になる程度
の張力で、縦、横、対角の8つの方向から引張つてお
く。即ち、ばね6で外側方向に付勢されたこま7で外側
方向に引張つておく。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. A frame 2 having an L-shaped cross section is positioned and mounted on a substrate 1 of a welding apparatus. Next, the push rod 4 urged inward by the spring 3 is applied to the outer periphery of the frame 2, and the frame 2 is pushed inward to bend by a predetermined amount. The push rod 4 is, for example, provided on each side of the frame 2 so that a uniform stress is applied to each side.
, Ie, a total of eight, and arrows A 1 , A 2 , B 1 , B 2 ,
The portions indicated by C 1 , C 2 , D 1 , and D 2 are bent in the direction of the arrow. Next, on the frame 2, a shadow mask 5 having a large number of electron beam passage holes 5a formed on a thin metal plate is placed. In this case, since the shadow mask 5 has a small thickness and is easily bent vertically, the shadow mask 5 is stretched in eight directions of vertical, horizontal, and diagonal with a tension enough to make the shadow mask 5 horizontal. That is, the frame 7 is urged outward by the spring 6 to be pulled outwardly.

そして、シヤドウマスク5の上面から、遠赤外線を出
すパネルヒータ8でシヤドウマスク5を約150℃まで加
熱する。この場合、フレーム2は、熱容量が大きく、ま
た直接赤外線が当るのが少ないので、ほとんど無視でき
る程度にしか温度上昇しない。必要があれば、遮蔽板9
を置いて赤外線を遮蔽するようにしてもよい。このよう
にシヤドウマスク5が加熱された状態で、フレーム2の
上端2aのほぼ中央に全周にわたつてシヤドウマスク5を
図示しない溶接機で連続して溶接する。第2図におい
て、2点鎖線は溶接点を示している。溶接終了後、シヤ
ドウマスク構体を取り出すと、シヤドウマスク5の温度
が下り、シヤドウマスク5に張力がかかる。その後、シ
ヤドウマスク5の周囲の余分な部分は除去する。
Then, the shadow mask 5 is heated to about 150 ° C. from the upper surface of the shadow mask 5 by a panel heater 8 that emits far infrared rays. In this case, since the heat capacity of the frame 2 is large and the infrared rays are not directly irradiated, the temperature of the frame 2 rises to an almost negligible level. If necessary, shielding plate 9
May be placed to shield infrared rays. In the state where the shadow mask 5 is thus heated, the shadow mask 5 is continuously welded over substantially the entire center of the upper end 2a of the frame 2 by a welding machine (not shown). In FIG. 2, a two-dot chain line indicates a welding point. After the welding is completed, when the shadow mask structure is taken out, the temperature of the shadow mask 5 falls, and tension is applied to the shadow mask 5. After that, an extra portion around the shadow mask 5 is removed.

このように、フレーム2に内側方向の応力をかけた状
態で、加熱膨張させられたシヤドウマスク5を固着する
ので、フレーム2は外側に拡がろうとする張力を有す
る。このフレーム2の張力は、シヤドウマスク5が冷却
してシヤドウマスク5が内側にたわもうとする張力を相
殺する。これにより、シヤドウマスク5には所定の均一
な張力が印加される。
As described above, since the shadow mask 5 that has been heated and expanded is fixed in a state where the stress in the inward direction is applied to the frame 2, the frame 2 has a tension that tends to spread outward. The tension of the frame 2 offsets the tension of the shadow mask 5 that cools and deflects inward. As a result, a predetermined uniform tension is applied to the shadow mask 5.

上記実施例において、フレーム2は、例えば材質がク
ロムモリブデン鋼のSCM445で、断面の上側幅が5mm、下
側幅が10mm、高さが10mm、全体の大きさは外径が横279m
m、縦210mmに形成した。シヤドウマスク5は、例えば厚
さ0.025mmの鋼板で、周縁を除いて全面に孔径0.12mmの
電子ビーム通過孔5aをほぼ0.26mmの間隔で整列して列の
相互の角度が60度をなすように開けて形成した。またパ
ネルヒータ8は、1.5KWの400×300mm2のヒータを2枚並
べて中央が少し盛り上るようにしてシヤドウマスク5か
ら約70mm離れた所に配置した。このパネルヒータ8によ
り、加熱時間が数10秒でシヤドウマスク5を約150℃に
加熱させることができる。
In the above embodiment, the frame 2 is made of, for example, SCM445 made of chromium molybdenum steel and has an upper cross section of 5 mm, a lower width of 10 mm, a height of 10 mm, and an overall diameter of 279 m in width.
m, length 210 mm. The shadow mask 5 is, for example, a steel plate having a thickness of 0.025 mm. Electron beam passage holes 5a having a hole diameter of 0.12 mm are arranged at intervals of approximately 0.26 mm on the entire surface except for the peripheral edge so that the mutual angle of the rows is 60 degrees. Open and formed. The panel heater 8 was arranged at a position about 70 mm away from the shadow mask 5 with two 1.5 KW heaters of 400 × 300 mm 2 arranged side by side so that the center was slightly raised. With this panel heater 8, the shadow mask 5 can be heated to about 150 ° C. in a heating time of several tens of seconds.

なお、フレーム2は前記したクロムモリブデン鋼、シ
ヤドウマスク5は前記した通常の鋼板に限定されるもの
ではない。特に熱膨張を小さくしたい時は、フレーム2
及びシヤドウマスク5の材料として、ニツケルを36%含
有するニツケル鋼(アンバー)等の低膨張率の材料を用
いてもよい。
The frame 2 is not limited to the above-described chromium molybdenum steel, and the shadow mask 5 is not limited to the above-described ordinary steel plate. Especially when you want to reduce the thermal expansion,
As the material of the shadow mask 5, a low expansion coefficient material such as nickel steel (amber) containing 36% of nickel may be used.

またフレーム2に42%ニツケルを含有する鉄ニツケル
合金を用い、シヤドウマスク5にアンバーを用いると、
シヤドウマスク5の動作温度範囲−40〜100℃程度では
フレーム2の熱膨張係数が大きいので、シヤドウマスク
5に更に望ましい方向で張力を加えることができる。こ
のように、動作範囲内での熱膨張係数をフレーム2の材
料の方を少し大き目に選んだ組合せで材料を選択するの
は望ましいことである。しかし、フレーム2とシヤドウ
マスク5の熱膨張係数の差が大きくある場合は、カラー
ブラウン管の製造工程でシヤドウマスク構体が450℃程
度まで上つた時に、シヤドウマスク材料が降伏点を越え
て、張力がゆるみ、変形することがあるので避けるべき
である。
When an iron nickel alloy containing 42% nickel is used for the frame 2 and amber is used for the shadow mask 5,
Since the thermal expansion coefficient of the frame 2 is large in the operating temperature range of the shadow mask 5 of about −40 to 100 ° C., tension can be applied to the shadow mask 5 in a more desirable direction. As described above, it is desirable to select the material in a combination in which the coefficient of thermal expansion in the operating range is selected to be slightly larger than the material of the frame 2. However, if there is a large difference in the coefficient of thermal expansion between the frame 2 and the shadow mask 5, when the shadow mask structure rises to about 450 ° C. in the color cathode ray tube manufacturing process, the shadow mask material exceeds the yield point, the tension is loosened, and the deformation occurs. Should be avoided.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、シヤドウマスクの張力によるフレー
ムの変形が防止されるので、シヤドウマスクには安定し
た均一な張力が印加される。
According to the present invention, since the deformation of the frame due to the tension of the shadow mask is prevented, a stable and uniform tension is applied to the shadow mask.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明になるシヤドウマスク構体の製造方法の
一実施例を示す断面図、第2図は第1図の方法によつて
得られるシヤドウマスク構体の斜視図である。 2……フレーム、3……ばね、4……押棒、5……シヤ
ドウマスク、5a……電子ビーム通過孔。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a method for manufacturing a shadow mask structure according to the present invention, and FIG. 2 is a perspective view of the shadow mask structure obtained by the method of FIG. 2 ... frame, 3 ... spring, 4 ... push rod, 5 ... shadow mask, 5a ... electron beam passage hole.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】薄い金属板に多数の電子ビーム通過孔が開
けられたシャドウマスクを張力を与えた状態でフレーム
に架張したシャドウマスク構体の製造方法において、前
記フレームに内側方向の応力をかけ、前記フレーム上に
外側方向に張力をかけかつ前記シャドウマスク上面から
遠赤外線を出すパネルヒータにより加熱膨張させて前記
シャドウマスクを配置し、前記シャドウマスクと前記フ
レームとの間に遮蔽板を配置して前記フレームに当たる
赤外線を遮蔽した状態で、前記加熱膨張させられた前記
シャドウマスクを前記フレームに固着することを特徴と
するシャドウマスク構体の製造方法。
In a method of manufacturing a shadow mask structure in which a shadow mask having a large number of electron beam passage holes formed in a thin metal plate is stretched over a frame while applying tension, an inward stress is applied to the frame. Placing the shadow mask on the frame by applying a tension outward and heating and expanding with a panel heater that emits far-infrared rays from the upper surface of the shadow mask, and disposing a shielding plate between the shadow mask and the frame. And fixing the heat-expanded shadow mask to the frame in a state where infrared rays impinging on the frame are shielded.
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