JP2618054B2 - Electrophotographic photoreceptor and manufacturing method thereof - Google Patents
Electrophotographic photoreceptor and manufacturing method thereofInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> この発明は、複写機等の画像形成装置に使用される電
子写真感光体およびその製法に関するものである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member used in an image forming apparatus such as a copying machine and a method for producing the same.
<従来の技術> 近時、いわゆるカールソンプロセスを利用した、複写
機等の画像形成装置においては、光照射により電荷を発
生させる電荷発生材料と、発生した電荷を輸送する電荷
輸送材料とを併用することにより、電荷発生機能と電荷
輸送機能とを分離した、いわゆる機能分離型のものが、
高感度化が容易であるため、多用されている。この機能
分離型の感光体としては、上記電荷発生材料を含有した
電荷発生層と、電荷輸送材料を含有した電荷輸送層とを
備えた積層型の感光層を、導電性基体の表面に形成した
積層型のものと、電荷発生材料および電荷輸送材料を含
有した単層型の感光層を、導電性基体の表面に形成した
単層型のものとがある。<Related Art> In recent years, in an image forming apparatus such as a copying machine using a so-called Carlson process, a charge generating material that generates charges by light irradiation and a charge transporting material that transports generated charges are used in combination. By separating the charge generation function and the charge transport function, so-called function separation type,
It is widely used because it is easy to increase the sensitivity. As the function-separated type photoreceptor, a laminated photosensitive layer including a charge generation layer containing the above-described charge generation material and a charge transport layer containing the charge transport material was formed on the surface of a conductive substrate. There are a laminate type and a single layer type in which a single layer type photosensitive layer containing a charge generation material and a charge transport material is formed on the surface of a conductive substrate.
また、上記機能分離型の感光体においては、導電性基
体の表面に形成された単層型または積層型の感光層の全
体を、上記電荷発生材料や電荷輸送材料等の機能成分を
結着樹脂中に含有させた有機の層とした有機感光体や、
上記積層型の感光層の一部を、上記有機の層とした複合
型感光体が、材料の選択幅が広く、生産性に優れ、且つ
機能設計の自由度が高いために好適に用いられている。Further, in the function-separated type photoreceptor, the entirety of the single-layer or stacked-type photosensitive layer formed on the surface of the conductive substrate is formed by bonding the functional components such as the charge generation material and the charge transport material to a binder resin. An organic photoreceptor with an organic layer contained therein,
A composite type photoreceptor having a part of the above-mentioned laminated type photosensitive layer and the above-mentioned organic layer is preferably used for a wide selection of materials, excellent productivity, and a high degree of freedom in functional design. I have.
また、最近では、帯電、露光、除電等の画像形成プロ
セスを繰り返し行った際に、上記有機感光体や複合型感
光体中の有機の層が疲労して帯電量低下や感度低下等を
生じることを防止するため、通常の電荷輸送材料に加え
て、上記帯電量低下や感度低下等の防止作用に優れたm
−フェニレンジアミン系化合物を電荷輸送材料として含
有させた感光体が提案されている。Further, recently, when an image forming process such as charging, exposure, and static elimination is repeatedly performed, the organic layer in the organic photoconductor or the composite photoconductor may be fatigued to cause a reduction in charge amount or a reduction in sensitivity. In addition to the ordinary charge transporting material, m is excellent in preventing action such as the decrease in the amount of charge and the decrease in sensitivity.
Photoreceptors containing a phenylenediamine compound as a charge transport material have been proposed.
<発明が解決しようとする課題> ところが、上記m−フェニレンジアミン系化合物とを
含有する感光体は、特に、画像形成装置の運転時等、感
光体が加熱された状態において、蛍光灯やキセノンラン
プ、或いは太陽光等が照射されると、これらの光の中に
含まれる紫外線により、感度低下を起こすという問題が
あった。<Problems to be Solved by the Invention> However, the photoreceptor containing the m-phenylenediamine compound is particularly suitable for a fluorescent lamp or a xenon lamp when the photoreceptor is heated, for example, during operation of an image forming apparatus. Alternatively, when irradiated with sunlight or the like, there is a problem in that the sensitivity is reduced due to ultraviolet rays contained in these lights.
また、上記紫外線照射による感度低下(紫外線劣化)
は、特に、揮発性等に優れ、有機感光体の製造に多用さ
れているテトラヒドロフラン(THF)を溶媒、或いは分
散媒として用いた塗布液から、上記m−フェニレンジア
ミン系化合物を含有する層を形成した場合に顕著であっ
た。In addition, the sensitivity is reduced by the above-mentioned UV irradiation (UV deterioration).
Forms a layer containing the m-phenylenediamine compound from a coating solution using tetrahydrofuran (THF) as a solvent or a dispersion medium, which is particularly excellent in volatility and is frequently used in the production of organic photoreceptors. Was remarkable.
この発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであっ
て、画像形成プロセスを繰り返し行った際の、帯電量低
下や感度低下等の防止作用に優れた、m−フェニレンジ
アミン系化合物を含有し、しかも紫外線劣化を起しにく
い電子写真感光体およびその製法を提供することを目的
としている。The present invention has been made in view of the above circumstances, and contains an m-phenylenediamine-based compound which is excellent in the action of preventing a decrease in charge amount or sensitivity when an image forming process is repeatedly performed. Further, it is an object of the present invention to provide an electrophotographic photoreceptor which is hardly deteriorated by ultraviolet rays and a method for producing the same.
<課題を解決するための手段および作用> 上記課題を解決するため、発明者らは、形成された層
中に残存するTHFの量と、感度低下との関係を検討し
た。<Means and Actions for Solving the Problems> In order to solve the above problems, the inventors examined the relationship between the amount of THF remaining in the formed layer and the reduction in sensitivity.
すなわち、前記紫外線劣化は、m−フェニレンジアミ
ン系化合物が、自身の紫外線吸収、或いは、電荷発生材
料の紫外線吸収物質からのエネルギー伝達によって励起
し、二量化反応もしくは分解反応を生じて、感光体の感
度を低下させるキャリアトラップとなる物質に変化する
ことが原因であると考えられており、層中に残存するTH
Fも、上記紫外線吸収物質として、m−フェニレンジア
ミン系化合物の二量化反応、分解反応に関与しているも
のと推測して検討を行ったのである。That is, in the ultraviolet degradation, the m-phenylenediamine-based compound is excited by its own ultraviolet absorption or energy transfer from the ultraviolet absorbing substance of the charge generation material, causing a dimerization reaction or a decomposition reaction to cause the photoreceptor to degrade. It is thought to be due to the change to a substance that acts as a carrier trap that lowers the sensitivity.
F was also studied assuming that F was involved in the dimerization reaction and decomposition reaction of the m-phenylenediamine compound as the ultraviolet absorbing substance.
その結果、残存THF量が2.5×10-3μ/mg以下であれ
ば、実用上問題のない画像が得られることを見出し、こ
の知見に基づいて、この発明を完成するに至った。した
がって、この発明の電子写真感光体は、結着樹脂と、電
荷輸送材料としてのm−フェニレンジアミン系化合物
と、THFとを含有する塗布液を塗布して形成される層を
備えた電子写真感光体において、上記層中の残存THF量
が、あらかじめ2.5×10-3μ/mg以下とされたことを特
徴し、この発明の電子写真感光体の製法は、結着樹脂
と、電荷発生材料としてのm−フェニレンジアミン系化
合物と、THFとを含有する塗布液を塗布して形成される
層を110℃以上の温度で30分以上熱処理して、層中の残
存THF量を2.5×10-3μ/mg以下にすることを特徴とし
ている。As a result, it has been found that an image having no practical problem can be obtained if the amount of residual THF is 2.5 × 10 −3 μ / mg or less, and the present invention has been completed based on this finding. Therefore, the electrophotographic photoreceptor of the present invention has an electrophotographic photoreceptor having a layer formed by applying a coating solution containing a binder resin, an m-phenylenediamine compound as a charge transport material, and THF. In the body, the amount of residual THF in the layer is previously set to 2.5 × 10 −3 μ / mg or less, and the method for producing an electrophotographic photoreceptor of the present invention comprises a binder resin and a charge generation material. M-phenylenediamine compound and a layer formed by applying a coating solution containing THF is heat-treated at a temperature of 110 ° C. or more for 30 minutes or more to reduce the amount of residual THF in the layer to 2.5 × 10 −3. It is characterized in that it is not more than μ / mg.
以下に、この発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
この発明の構成は、結着樹脂とm−フェニレンジアミ
ン系化合物とTHFとを含有する塗布液を塗布することに
よって形成された有機の層(以下「特定層」という)を
備えた、種々のタイプの感光層を有する電子写真感光体
に適用することができ、上記特定層としては、例えば下
記の各層が挙げられる。The structure of the present invention includes various types including an organic layer formed by applying a coating solution containing a binder resin, an m-phenylenediamine compound, and THF (hereinafter, referred to as a “specific layer”). The specific layer includes, for example, the following layers.
結着樹脂中に電荷発生材料と電荷輸送材料とを含有
する単層型の有機感光層。A single-layer organic photosensitive layer containing a charge generation material and a charge transport material in a binder resin.
有機の電荷発生層と有機の電荷輸送層とが積層され
た積層型の有機感光層における、当該電荷輸送層。The charge transport layer in a stacked organic photosensitive layer in which an organic charge generation layer and an organic charge transport layer are laminated.
半導体材料の薄膜からなる電荷発生層と有機の電荷
輸送層とが積層された複合型の感光層における、当該電
荷輸送層。The charge transport layer in a composite photosensitive layer in which a charge generation layer composed of a thin film of a semiconductor material and an organic charge transport layer are laminated.
上記特定層中に含有されるm−フェニレンジアミン系
化合物は、以下一般式〔I〕で表される。The m-phenylenediamine compound contained in the specific layer is represented by the following general formula [I].
(但し、上記式〔I〕中R1〜R5は、それぞれ、アルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子および水素原子からな
る群より選ばれた同一または異なる基を表す) 上記m−フェニレンジアミン系化合物としては、式
〔I〕中の基R1〜R5が、水素、炭素数1〜6の低級アル
キル基、炭素数1〜6の低級アルコキシ基、またはハロ
ゲンである化合物が、好ましいものとして挙げられる。
上記低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、ノ
ルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル
基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基が例示され、低級アルコキシ基としては、メトキ
シ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ノルマルブトキシ基、イソブトキシ基、tert−
ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基が例
示される。 (However, R 1 to R 5 in the above formula [I] each represent the same or different groups selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom and a hydrogen atom.) The m-phenylenediamine-based compound As a preferable example, a compound in which the groups R 1 to R 5 in the formula [I] are hydrogen, a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or halogen is mentioned. Can be
Examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group, a normal butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.Examples of the lower alkoxy group include a methoxy group, Ethoxy group, normal propoxy group, isopropoxy group, normal butoxy group, isobutoxy group, tert-
Examples include a butoxy group, a pentyloxy group, and a hexyloxy group.
具体的には、N,N,N′,N′−テトラフェニル−1,3−フ
ェニレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(3−ト
リル)−1,3−フェニレンジアミン、N,N,N′,N′−テト
ラフェニル−3,5−トリレンジアミン、N,N,N′,N′−テ
トラキス(3−トリル)−3,5−トリレンジアミン、N,
N,N′,N′−テトラキス(4−トリル)−1,3−フェニレ
ンジアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(4−トリル)
−3,5−トリレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラキス
(3−エチルフェニル)−1,3−フェニレンジアミン、
N,N,N′,N′−テトラキス(4−プロピルフェニル)−
1,3−フェニレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラフェニ
ル−5−メトキシ−1,3−フェニレンジアミン、N,N−ビ
ス(3−トリル)−N′,N′−ジフェニル−1,3−フェ
ニレンジアミン、N,N′−ビス(4−トリル)−N,N′−
ジフェニル−1,3−フェニレンジアミン、N,N′−ビス
(4−トリル)−N,N′−ビス(3−トリル)−1,3−フ
ェニレンジアミン、N,N′−ビス(4−トリル)−N,N′
−ビス(3−トリル)−3,5−トリレンジアミン、N,N′
−ビス(4−エチルフェニル)−N,N′−ビス(3−エ
チルフェニル)−1,3−フェニレンジアミン、N,N′−ビ
ス(4−エチルフェニル)−N,N′−ビス(3−エチル
フェニル)−3,5−トリレンジアミン、N,N,N′,N′−テ
トラキス(2,4,6−トリメチルフェニル)−1,3−フェニ
レンジアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(2,4,6−トリ
メチルフェニル)−3,5−トリレンジアミン、N,N,N′,
N′−テトラキス(3,5−ジメチルフェニル)−1,3−フ
ェニレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(3,5−ジ
メチルフェニル)−3,5−トリレンジアミン、N,N,N′,
N′−テトラキス(3,5−ジエチルフェニル)−1,3−フ
ェニレンジアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(3,5−ジ
エチルフェニル)−3,5−トリレンジアミン、N,N,N′,
N′−テトラキス(3−クロロフェニル)−1,3−フェニ
レンジアミン、N,N,N′,N′−テトラキス(3−ブロモ
フェニル)−1,3−フェニレンジアミン、N,N,N′,N′−
テトキス(3−ヨードフェニル)−1,3−フェニレンジ
アミン、N,N,N′,N′−テトラキス(3−フルオロフェ
ニル)−1,3−フェニレンジアミン等が好ましいm−フ
ェニレンジアミン系化合物として挙げられる。そして、
上記各化合物の中でも、前記一般式〔I〕中の基R1〜R5
が、各ベンゼン環のうち、チッ素原子が結合された炭素
に対してメタ位の炭素に結合した化合物、または、基
R1,R5が、ベンゼン環のうち、チッ素原子が結合された
炭素に対してパラ位の炭素に結合し、基R2,R4が、ベン
ゼン環のうち、チッ素原子が結合された炭素に対してメ
タ位の炭素に結合した化合物は、分子の非対称性が大き
く、分子間の相互作用が小さくて結晶化し難いので、結
着樹脂中に容易に分散させることができ、この発明に、
より好ましいものとして挙げられる。具体的には、N,N,
N′,N′−テトラキス(3−トリル)−1,3−フェニレン
ジアミン、N,N′−ビス(4−トリル)−N,N′−ビス
(3−トリル)−1,3−フェニレンジアミン等の化合物
が、より好ましいものとして例示される。Specifically, N, N, N ', N'-tetraphenyl-1,3-phenylenediamine, N, N, N', N'-tetrakis (3-tolyl) -1,3-phenylenediamine, N , N, N ', N'-tetraphenyl-3,5-tolylenediamine, N, N, N', N'-tetrakis (3-tolyl) -3,5-tolylenediamine, N,
N, N ', N'-tetrakis (4-tolyl) -1,3-phenylenediamine, N, N, N', N'-tetrakis (4-tolyl)
-3,5-tolylenediamine, N, N, N ', N'-tetrakis (3-ethylphenyl) -1,3-phenylenediamine,
N, N, N ', N'-tetrakis (4-propylphenyl)-
1,3-phenylenediamine, N, N, N ', N'-tetraphenyl-5-methoxy-1,3-phenylenediamine, N, N-bis (3-tolyl) -N', N'-diphenyl- 1,3-phenylenediamine, N, N'-bis (4-tolyl) -N, N'-
Diphenyl-1,3-phenylenediamine, N, N'-bis (4-tolyl) -N, N'-bis (3-tolyl) -1,3-phenylenediamine, N, N'-bis (4-tolyl ) −N, N ′
-Bis (3-tolyl) -3,5-tolylenediamine, N, N '
-Bis (4-ethylphenyl) -N, N'-bis (3-ethylphenyl) -1,3-phenylenediamine, N, N'-bis (4-ethylphenyl) -N, N'-bis (3 -Ethylphenyl) -3,5-tolylenediamine, N, N, N ', N'-tetrakis (2,4,6-trimethylphenyl) -1,3-phenylenediamine, N, N, N', N '-Tetrakis (2,4,6-trimethylphenyl) -3,5-tolylenediamine, N, N, N',
N'-tetrakis (3,5-dimethylphenyl) -1,3-phenylenediamine, N, N, N ', N'-tetrakis (3,5-dimethylphenyl) -3,5-tolylenediamine, N, N, N ′,
N'-tetrakis (3,5-diethylphenyl) -1,3-phenylenediamine, N, N, N ', N'-tetrakis (3,5-diethylphenyl) -3,5-tolylenediamine, N, N, N ′,
N'-tetrakis (3-chlorophenyl) -1,3-phenylenediamine, N, N, N ', N'-tetrakis (3-bromophenyl) -1,3-phenylenediamine, N, N, N', N '-
Tetokis (3-iodophenyl) -1,3-phenylenediamine, N, N, N ', N'-tetrakis (3-fluorophenyl) -1,3-phenylenediamine and the like are preferred m-phenylenediamine compounds. Can be And
Among the above compounds, the groups R 1 to R 5 in the general formula (I)
Is a compound bonded to the carbon at the meta-position to the carbon to which the nitrogen atom is bonded in each benzene ring, or a group
R 1 and R 5 are bonded to the carbon at a position para to the carbon to which the nitrogen atom is bonded in the benzene ring, and the groups R 2 and R 4 are bonded to the nitrogen atom in the benzene ring. The compound bonded to the carbon at the meta position with respect to the carbon that has a high degree of molecular asymmetry, small interaction between the molecules and difficult to crystallize, can be easily dispersed in the binder resin. To
More preferable examples are given. Specifically, N, N,
N ', N'-tetrakis (3-tolyl) -1,3-phenylenediamine, N, N'-bis (4-tolyl) -N, N'-bis (3-tolyl) -1,3-phenylenediamine And the like are exemplified as more preferable.
一方、上記m−フェニレンジアミン系化合物と共に感
光層を構成する結着樹脂としては、例えば熱硬化性シリ
コーン樹脂;エポキシ樹脂;ウレタン樹脂;硬化性アク
リル樹脂;アルキッド樹脂;不飽和ポリエステル樹脂;
ジアリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂;
ベンゾグアナミン樹脂;メラミン樹脂;スチレン系重合
体;アクリル系重合体;スチレン−アクリル系共重合
体;ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩
素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマー等の
オレフィン系重合体;ポリ塩化ビニル;塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体;ポリ酢酸ビニル;飽和ポリエステ
ル;ポリアミド;熱可塑性ウレタン樹脂;ビスフェノー
ルA型、ビスフェノールZ型等のポリカーボネート;ポ
リアリレート;ポリスルホン;ケトン樹脂;ポリビニル
ブチラール;ポリエーテル等が挙げられる。なお、上記
結着樹脂は、上記特定層の他、積層型の有機感光層のう
ちの電荷発生層、並びに、前記各タイプの感光層の最表
層に必要に応じて形成される表面保護層等の有機の層を
構成するためにも用いられる。On the other hand, as the binder resin constituting the photosensitive layer together with the m-phenylenediamine compound, for example, a thermosetting silicone resin; an epoxy resin; a urethane resin; a curable acrylic resin; an alkyd resin;
Diallyl phthalate resin; phenolic resin; urea resin;
Benzoguanamine resin; Melamine resin; Styrene polymer; Acrylic polymer; Styrene-acrylic copolymer; Olefinic polymer such as polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, chlorinated polyethylene, polypropylene, ionomer, etc .; Vinyl; vinyl chloride-vinyl acetate copolymer; polyvinyl acetate; saturated polyester; polyamide; thermoplastic urethane resin; polycarbonate such as bisphenol A type, bisphenol Z type; polyarylate; polysulfone; ketone resin; polyvinyl butyral; Is mentioned. In addition, the binder resin is, in addition to the specific layer, a charge generation layer of a laminated organic photosensitive layer, and a surface protective layer formed as needed on the outermost layer of each type of photosensitive layer. It is also used to form an organic layer.
上記特定層は、少なくとも上記結着樹脂とm−フェニ
レンジアミン系化合物とを、溶媒または分散媒としての
THF中に含有させた塗布液を、スプレーコーティング
法、ディッピング法、フローコーティング法等の通常の
塗布方法によって塗布し、固化または硬化させて形成さ
れるもので、前述したように、層中の残存THF量が2.5×
10-3μ/mg以下である必要がある。層中の残存THF量が
2.5×10-3μ/mgを超えた場合には、光照射時に、残存
THFからm−フェニレンジアミン系化合物へ伝達される
励起エネルギー量が多すぎて、多量のm−フェニレンジ
アミン系化合物が二量化反応または分解反応してしま
い、劣化した部分の感度が著しく低下して、特に中間調
の画像(グレー画像)において、上記劣化部分が濃くな
ってムラ等を生じ、実用的な画像を得ることができなく
なる。The specific layer contains at least the binder resin and the m-phenylenediamine compound as a solvent or a dispersion medium.
The coating liquid contained in THF is applied by a normal coating method such as a spray coating method, a dipping method, or a flow coating method, and is formed by solidification or curing. 2.5x THF
It must be less than 10 -3 μ / mg. The amount of residual THF in the layer
If it exceeds 2.5 × 10 -3 μ / mg, it remains
The amount of excitation energy transferred from THF to the m-phenylenediamine-based compound is too large, and a large amount of the m-phenylenediamine-based compound undergoes a dimerization reaction or a decomposition reaction. Particularly, in a halftone image (gray image), the deteriorated portion becomes dark and unevenness or the like occurs, so that a practical image cannot be obtained.
上記のように、特定層中に残存するTHFの量を2.5×10
-3μ/mg以下にするためには、種々の方法が考えられ
るが、110℃以上の温度で30分以上熱処理することによ
り、特定層中に残存したTHFを気化、蒸散させる、この
発明の製法によれば、単に加熱するだけで残存THF量を
低減することができるので、大掛かりな装置等を必要と
せず、簡単に、この発明の電子写真感光体を製造するこ
とが可能となる。As described above, the amount of THF remaining in the specific layer is 2.5 × 10
Various methods are conceivable for reducing the concentration to -3 μ / mg or less.However, the heat treatment at a temperature of 110 ° C. or more for 30 minutes or more allows the THF remaining in the specific layer to be vaporized and evaporated. According to the production method, the amount of residual THF can be reduced by simply heating, so that the electrophotographic photoreceptor of the present invention can be easily produced without requiring a large-scale apparatus or the like.
なお、この発明の製法において、特定層の熱処理温度
が110℃以上、熱処理時間が30分以上に限定されるの
は、熱処理温度が110℃未満、または熱処理時間が30分
未満では、特定層中の残存THF量を十分に低減すること
ができないからである。In the production method of the present invention, the heat treatment temperature of the specific layer is limited to 110 ° C. or more and the heat treatment time is limited to 30 minutes or more because the heat treatment temperature is less than 110 ° C. or the heat treatment time is less than 30 minutes. This is because the amount of residual THF cannot be sufficiently reduced.
また、上記熱処理温度は、特定層中に含まれる電荷発
生材料や電荷輸送材料等の機能成分の昇華、分解等を防
止するために、130℃以下であることが好ましい。The heat treatment temperature is preferably 130 ° C. or lower in order to prevent sublimation, decomposition, and the like of the functional components such as the charge generation material and the charge transport material contained in the specific layer.
上記加熱条件による熱処理は、既に固化または硬化し
た特定層に対して行っても良いし、特定層の固化または
硬化と同時に行っても良い。The heat treatment under the above heating conditions may be performed on the specific layer that has already been solidified or cured, or may be performed simultaneously with the solidification or curing of the specific layer.
なお、前記特定層中には、通常、前記m−フェニレン
ジアミン系化合物と共に、従来公知の他の電荷輸送材料
(以下、単に「他の電荷輸送材料」という)が含有され
ることが好ましい。m−フェニレンジアミン系化合物と
共に特定層中に含有される他の電荷輸送材料としては、
例えばテトラシアノエチレン;2,4,7−トリニトロ−9−
フルオレノン等のフルオレノン系化合物;9−カルバゾリ
ルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;ジニトロ
アントラセン等のニトロ化化合物;無水コハク酸;無水
マレイン酸;ジブロモ無水マレイン酸;トリフェニルメ
タン系化合物;2,5−ジ(4−ジメチルアミノフェニル)
−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化
合物;9−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセン
等のスチリル系化合物;ポリ−N−ビニルカルバゾール
等のカルバゾール系化合物;1−フェニル−3−(p−ジ
メチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン系化
合物;4,4′,4″−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)ト
リフェニルアミン、3,3′−ジメチル−N,N,N′,N′−テ
トラキス−4−メチルフェニル(1,1′−ビフェニル)
−4,4′−ジアミン等のアミン誘導体;1,1−ビス(4−
ジエチルアミノフェニル)−4,4−ジフェニル−1,3−ブ
タジエン等の共役不飽和化合物;4−(N,N−ジエチルア
ミノ)ベンズアルデヒド−N,N−ジフェニルヒドラゾン
等のヒドラゾン系化合物;インドール系化合物、オキサ
ゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾー
ル系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系
化合物、ピラゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、ト
リアゾール系化合物等の含窒素環式化合物;縮合多環族
化合物等が挙げられる。なお、上記他の電荷輪送材料の
中でも、前記ポリ−N−ビニルカルバゾール等の光導電
性を有する高分子材料は、特定層の結着樹脂としても使
用することができる。The specific layer preferably contains, in addition to the m-phenylenediamine-based compound, other conventionally known other charge transport materials (hereinafter, simply referred to as “other charge transport materials”). As other charge transporting materials contained in the specific layer together with the m-phenylenediamine compound,
For example, tetracyanoethylene; 2,4,7-trinitro-9-
Fluorenone compounds such as fluorenone; fluorene compounds such as 9-carbazolyliminofluorene; nitrated compounds such as dinitroanthracene; succinic anhydride; maleic anhydride; dibromomaleic anhydride; triphenylmethane compounds; -Di (4-dimethylaminophenyl)
Oxadiazole compounds such as -1,3,4-oxadiazole; styryl compounds such as 9- (4-diethylaminostyryl) anthracene; carbazole compounds such as poly-N-vinylcarbazole; 1-phenyl-3 Pyrazoline compounds such as-(p-dimethylaminophenyl) pyrazoline; 4,4 ', 4 "-tris (N, N-diphenylamino) triphenylamine, 3,3'-dimethyl-N, N, N', N'-tetrakis-4-methylphenyl (1,1'-biphenyl)
Amine derivatives such as -4,4'-diamine; 1,1-bis (4-
Conjugated unsaturated compounds such as diethylaminophenyl) -4,4-diphenyl-1,3-butadiene; hydrazone compounds such as 4- (N, N-diethylamino) benzaldehyde-N, N-diphenylhydrazone; indole compounds; oxazole Nitrogen-containing cyclic compounds such as a series compound, an isoxazole-based compound, a thiazole-based compound, a thiadiazole-based compound, an imidazole-based compound, a pyrazole-based compound, a pyrazoline-based compound, and a triazole-based compound; and a condensed polycyclic compound. Among the other charge transporting materials, a polymer material having photoconductivity such as poly-N-vinylcarbazole can be used also as a binder resin for the specific layer.
上記他の電荷輸送材料とm−フェニレンジアミン系化
合物との、特定層中における配合比率は特に限定されな
いが、重量比で95:5〜25:75の範囲内、特に、80:20〜5
0:50の範囲内であることが好ましい。他の電荷輸送材料
とm−フェニレンジアミン系化合物との配合比率が95:5
を下回ると、画像形成プロセスを繰り返し行った際の、
帯電量低下や感度低下等の防止効果が不十分になり、逆
に、配合比率が25:75を超えると、感光体の感度が不十
分になる虞がある。The mixing ratio of the other charge transporting material and the m-phenylenediamine compound in the specific layer is not particularly limited, but is in a range of 95: 5 to 25:75 by weight, particularly 80:20 to 5 by weight.
It is preferably within the range of 0:50. The mixing ratio of the other charge transporting material to the m-phenylenediamine compound is 95: 5.
Below, when the image forming process is repeated,
The effect of preventing a reduction in the amount of charge and a reduction in sensitivity becomes insufficient. Conversely, if the compounding ratio exceeds 25:75, the sensitivity of the photoconductor may become insufficient.
また、前記特定層用の塗布液においては、溶媒または
分散媒としてのTHFに、他の溶媒または分散媒を併用す
ることもできる。In the coating solution for the specific layer, another solvent or dispersion medium can be used in combination with THF as a solvent or dispersion medium.
THFと併用することができる、他の溶媒または分散媒
としては、例えばn−ヘキサン、オクタン、シクロヘキ
サン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、四塩化炭素、
クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水
素;メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、アリルアルコール、シクロペンタノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、ジア
セトンアルコール等のアルコール類;ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸メチ
ル等のエステル類;ジメチルホルムアミド;ジメチルス
ルホキシド等、種々の溶剤が挙げられ、これらは一種ま
たは二種以上を混合して用いられる。また、上記塗布液
を調整する際、分散性、塗工性等を向上させるため、界
面活性剤やレベリング剤等を併用しても良い。Other solvents or dispersion media that can be used in combination with THF include, for example, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, octane, and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, xylene, and toluene; dichloromethane, carbon tetrachloride,
Halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene and methylene chloride; alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, allyl alcohol, cyclopentanol, benzyl alcohol, furfuryl alcohol and diacetone alcohol; dimethyl ether, diethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether , Ethylene glycol diethyl ether, ethers such as diethylene glycol dimethyl ether; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone,
Various solvents such as ketones such as cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and methyl acetate; dimethylformamide; dimethyl sulfoxide, and the like are used alone or as a mixture of two or more. When preparing the coating liquid, a surfactant, a leveling agent, and the like may be used in combination in order to improve dispersibility, coatability, and the like.
上記塗布液は従来慣用の方法、例えばミキサー、ボー
ルミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトライタ
ー、超音波分散機等を用いて調製することができる。The coating solution can be prepared by a conventional method, for example, using a mixer, a ball mill, a paint shaker, a sand mill, an attritor, an ultrasonic disperser, or the like.
この発明の電子写真感光体においては、上記特定層以
外の部分は、従来と同様に構成することができる。In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, portions other than the specific layer described above can be configured in the same manner as in the related art.
例えば、前記各タイプの感光層のうち、複合型感光層
において、電荷発生層として用いられる薄膜を構成する
半導体材料としては、例えばα−Se、α−As2Se3、α−
SeAsTe等のアモルファスカルコゲン化物アモルファスシ
リコン(α−Si)が挙げられる。上記半導体材料からな
る薄膜状の電荷発生層は、真空蒸着法、グロー放電分解
法等の公知の薄膜形成方法によって、導電性基材の表面
に形成することができる。For example, among the above types of photosensitive layers, in the composite photosensitive layer, as a semiconductor material constituting a thin film used as a charge generation layer, for example, α-Se, α-As 2 Se 3 , α-
Amorphous chalcogenide amorphous silicon (α-Si) such as SeAsTe; The thin-film charge generation layer made of the semiconductor material can be formed on the surface of the conductive substrate by a known thin-film forming method such as a vacuum evaporation method and a glow discharge decomposition method.
また、単層型の有機感光層(前記特定層)や、積層
型の有機感光層における電荷発生層に使用される、有機
または無機の電荷発生材料としては、例えば前記半導体
材料の粉末;ZnO、CdS等のII−VI族微結晶;ピリリウム
塩;アゾ系化合物;ビスアゾ系化合物;α型,β型,γ
型等の結晶型を有するアルミニウムフタロシアニン、銅
フタロシアニン、メタルフリーフタロシアニン、チタニ
ルフタロシアニン等のフタロシアニン系化合物;アンサ
ンスロン系化合物;インジゴ系化合物;トリフェニルメ
タン系化合物;スレン系化合物;トルイジン系化合物;
ピラゾリン系化合物;キナクリドン系化合物;ピロロピ
ロール系化合物が挙げられる。これらの電荷発生材料
は、それぞれ単独で用いられる他、複数種を併用するこ
ともできる。Further, a single-layer type organic photosensitive layer (the specific layer), or used for the charge generation layer in the laminated organic photosensitive layer, as the organic or inorganic charge generation material, for example, the powder of the semiconductor material; ZnO, Group II-VI microcrystals such as CdS; pyrylium salts; azo compounds; bisazo compounds; α-type, β-type, γ
Phthalocyanine compounds such as aluminum phthalocyanine, copper phthalocyanine, metal-free phthalocyanine, titanyl phthalocyanine, etc. having a crystal form such as a type; anthanthrone compounds; indigo compounds; triphenylmethane compounds; slen compounds; toluidine compounds;
Pyrazoline compounds; quinacridone compounds; pyrrolopyrrole compounds. These charge generating materials can be used alone or in combination of two or more.
上述した各タイプの感光層のうち、単層型の有機感光
層における、結着樹脂100重量部に対する電荷発生材料
の含有量は、2〜20重量部の範囲内、特に3〜15重量部
の範囲内であることが好ましい。また、結着樹脂100重
量部に対する、他の電荷輸送材料の含有量は、40〜200
重量部の範囲内、特に50〜100重量部の範囲内であるこ
とが好ましい。電荷発生材料の含有量が2重量部未満、
または、他の電荷輸送材料の含有量が40重量部未満で
は、感光体の感度が不十分になったり、残留電位が大き
くなったりする虞がある。一方、電荷発生材料の含有量
が20重量部を超えた場合、または、他の電荷輸送材料の
含有量が200重量部を超えた場合には、感光体の耐摩耗
性が不足する虞がある。Of the above-mentioned types of photosensitive layers, the content of the charge generation material with respect to 100 parts by weight of the binder resin in the single-layer type organic photosensitive layer is in the range of 2 to 20 parts by weight, particularly 3 to 15 parts by weight. It is preferable that it is within the range. Further, the content of the other charge transporting material with respect to 100 parts by weight of the binder resin is 40 to 200.
It is preferably in the range of parts by weight, especially in the range of 50 to 100 parts by weight. The charge generation material content is less than 2 parts by weight,
Alternatively, if the content of the other charge transporting material is less than 40 parts by weight, the sensitivity of the photoconductor may be insufficient or the residual potential may be increased. On the other hand, when the content of the charge generating material exceeds 20 parts by weight, or when the content of the other charge transporting materials exceeds 200 parts by weight, the abrasion resistance of the photoconductor may be insufficient. .
上記単層型の有機感光層の厚みは特に限定されない
が、従来の単層型の有機感光層と同程度、すなわち、10
〜50μm、特に15〜25μmの範囲内であることが好まし
い。The thickness of the single-layer type organic photosensitive layer is not particularly limited, but the same as that of the conventional single-layer type organic photosensitive layer, that is, 10
It is preferably in the range of 5050 μm, especially 15-25 μm.
積層型の有機感光層を構成する各層のうち、有機の電
荷発生層における、結着樹脂100重量部に対する電荷発
生材料の含有量は、5〜500重量部の範囲内、特に10〜2
50重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発生材料
の含有量が5重量部未満では、電荷発生能が小さ過ぎ、
500重量部を超えると、基材や隣設する他の層との密着
性が低下する虞がある。Among the layers constituting the laminated organic photosensitive layer, the content of the charge generation material relative to 100 parts by weight of the binder resin in the organic charge generation layer is in the range of 5 to 500 parts by weight, particularly 10 to 2 parts by weight.
Preferably it is in the range of 50 parts by weight. When the content of the charge generation material is less than 5 parts by weight, the charge generation ability is too small,
If it exceeds 500 parts by weight, there is a possibility that the adhesion to the base material and other adjacent layers may be reduced.
上記電荷発生層の厚みは特に限定されないが、0.01〜
3μm、特に0.1〜2μmの範囲内であることが好まし
い。The thickness of the charge generation layer is not particularly limited, but is 0.01 to
It is preferably within a range of 3 μm, especially 0.1 to 2 μm.
積層型の有機感光層または複合形感光層を構成する各
層のうち、電荷輸送層における、結着樹脂100重量部に
対する他の電荷輸送材料の含有量は、10〜500重量部の
範囲内、特に25〜200重量部の範囲内であることが好ま
しい。他の電荷輸送材料の含有量が10重量部未満では、
電荷輸送能が十分でなく、500重量部を超えると、電荷
輸送層の機械的強度が低下する虞れがある。Among the layers constituting the laminated organic photosensitive layer or the composite photosensitive layer, in the charge transporting layer, the content of the other charge transporting material with respect to 100 parts by weight of the binder resin is in the range of 10 to 500 parts by weight, particularly It is preferably in the range of 25 to 200 parts by weight. If the content of the other charge transporting material is less than 10 parts by weight,
If the charge transporting ability is insufficient and exceeds 500 parts by weight, the mechanical strength of the charge transporting layer may be reduced.
上記電荷輸送層の厚みは特に限定されないが、2〜10
0μm、特に5〜30μmの範囲内であることが好まし
い。The thickness of the charge transport layer is not particularly limited, but may be 2 to 10
It is preferably within a range of 0 μm, particularly 5 to 30 μm.
また、上記各タイプの感光層の最表層に形成すること
ができる表面保護層は、前記結着樹脂を主成分とし、そ
の他必要に応じて、導電性付与材やベンゾキノン系紫外
線吸収材等の添加剤を適宜量含有させることができる。Further, the surface protective layer which can be formed on the outermost layer of each type of photosensitive layer contains the above-mentioned binder resin as a main component and, if necessary, adds a conductivity-imparting material or a benzoquinone-based ultraviolet absorbing material. The agent can be contained in an appropriate amount.
上記表面保護層の厚みは、0.1〜10μm、特に2〜5
μmの範囲内であることが好ましい。The thickness of the surface protective layer is 0.1 to 10 μm, particularly 2 to 5 μm.
It is preferably within the range of μm.
なお、前記各タイプの感光層のうちの有機の層や、上
記表面保護層等に酸化防止剤を併用すると、酸化の影響
を受けやすい構造を持つ、電荷輸送材料等の機能成分の
酸化による劣化を防止することができる。When an antioxidant is used in combination with the organic layer of the above-described types of photosensitive layers, the surface protective layer, and the like, deterioration due to oxidation of a functional component such as a charge transport material having a structure that is easily affected by oxidation. Can be prevented.
上記酸化防止剤としては、2,6−ジ−tert−ブチル−
p−クレゾール、トリエチレングリコール−ビス[3−
(3−tert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビ
ス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリチル−テト
ラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレ
ンビス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート]、2,2−チオビス(4−
メチル−6−tert−ブチルフェノール)、N,N′−ヘキ
サメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,
4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)ベンゼン等のフェノール系酸化防止剤が挙げ
られる。As the antioxidant, 2,6-di-tert-butyl-
p-cresol, triethylene glycol-bis [3-
(3-tert-butyl-5-methyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 1,6-hexanediol-bis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], pentane Erythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thio-diethylenebis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-) Hydroxyphenyl) propionate], 2,2-thiobis (4-
Methyl-6-tert-butylphenol), N, N'-hexamethylenebis (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy-hydrocinnamide), 1,3,5-trimethyl-2,
Examples include phenolic antioxidants such as 4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene.
上記各タイプの感光層が表面に形成される導電性基材
は、電子写真感光体が組み込まれる画像形成装置の機
構、構造に対応して、シート状あるいはドラム状等、適
宜の形状に形成される。The conductive substrate on which the photosensitive layer of each type is formed on the surface is formed into an appropriate shape, such as a sheet or a drum, corresponding to the mechanism and structure of the image forming apparatus in which the electrophotographic photosensitive member is incorporated. You.
上記導電性基材は、全体を金属等の導電性材料で構成
しても良く、また、基材自体は導電性を有さない構造材
料で形成して、その表面に導電性を付与しても良い。The conductive base material may be entirely formed of a conductive material such as metal, or the base material itself may be formed of a structural material having no conductivity, and the surface may be provided with conductivity. Is also good.
導電性基性の全体を導電性材料で構成する、前者の場
合に使用される導電性材料としては、表面がアルマイト
処理された、または未処理のアルミニウム、銅、スズ、
白金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウ
ム、チタン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステ
ンレス鋼、真鍮等の金属材料が好ましく、特に、硫酸ア
ルマイト法による陽極酸化を行い、酢酸ニッケルで封孔
処理したアルミニウムが好ましく用いられる。The entirety of the conductive base is made of a conductive material, and the conductive material used in the former case includes alumite-treated or untreated aluminum, copper, tin,
Platinum, silver, vanadium, molybdenum, chromium, cadmium, titanium, nickel, palladium, indium, stainless steel, brass, and other metal materials are preferable, and in particular, aluminum anodized by alumite sulfate method and sealed with nickel acetate Is preferably used.
一方、導電性を有さない構造材料からなる基材の表面
に導電性を付与する後者の場合には、合成樹脂製基材や
ガラス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミ
ニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料から
なる薄膜が、真空蒸着法、湿式めっき法等の公知の膜形
成方法によって形成された構造、上記合成樹脂成形品や
ガラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミネ
ートされた構造、または、上記合成樹脂製基材やガラス
基材の表面に、導電性を付与する物質が注入された構造
等を採用することができる。On the other hand, in the latter case of imparting conductivity to the surface of a substrate made of a structural material having no conductivity, the above-described metal or aluminum iodide may be applied to the surface of a synthetic resin substrate or a glass substrate. A structure in which a thin film made of a conductive material such as tin oxide, indium oxide, or the like is formed by a known film forming method such as a vacuum evaporation method or a wet plating method; A structure in which a film of a material or the like is laminated, a structure in which a substance imparting conductivity is injected into the surface of the synthetic resin base or the glass base, or the like can be employed.
なお、導電性基材は、必要に応じて、シランカップリ
ング剤やチタンカップリング剤等の表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。The conductive substrate may be subjected to a surface treatment with a surface treatment agent such as a silane coupling agent or a titanium coupling agent, as necessary, to increase the adhesion to the photosensitive layer.
以上で説明した各タイプの感光層のうち、特定層以外
の有機の各層および表面保護層は、前述した各成分を含
有する各層用の塗布液を調整し、これら塗布液を、特定
層用の塗布液と共に、前述した層構成を形成し得るよう
に、各層毎に順次導電性基材上に塗布し、乾燥または硬
化させることで積層形成することができる。Of the photosensitive layers of each type described above, each of the organic layers and the surface protective layer other than the specific layer adjusts a coating solution for each layer containing each component described above, and these coating solutions are used for the specific layer. In order to form the above-described layer configuration together with the coating liquid, each layer may be sequentially coated on a conductive substrate and dried or cured to form a laminate.
なお、上記塗布液の調製に際しては、使用される結着
樹脂等の種類に応じて、前述した各種溶媒または分散媒
の中から、1または2種以上を適宜選択して使用するこ
とができる。In preparing the coating solution, one or two or more of the various solvents or dispersion media described above can be appropriately selected and used depending on the type of the binder resin or the like to be used.
<実施例> 熱処理条件の検討 結着樹脂としてのポリ−(4,4′−シクロヘキシリデ
ンジフェニル)カーボネート(三菱瓦斯化学社製、商品
名Z−200)100重量部、電荷発生材料としての4,10−ブ
ロモ−ジベンゾ[def,mno]クリセン6,12−ジオン(2,7
−ジブロモアンサンスロン)5重量部およびX型メタル
フリーフタロシアニン(大日本インキ社製)0.2重量
部、電荷輸送材料としての3,3′−ジメチル−N,N,N′,
N′−テトラキス−4−メチルフェニル(1,1′−ビフェ
ニル)−4,4′−ジアミン70重量部およびN,N,N′,N′−
テトラキス(3−トリル)−1,3−フェニレンジアミン3
0重量部、酸化防止剤としての2,6−ジ−tert−ブチル−
p−クレゾール(川口化学社製、商品名アンテージBH
T)5重量部を、所定量のTHFと共に超音波分散器で混合
分散させて単層型感光層用塗布液を調製した。この塗布
液を外径78mm×長さ344mmのアルミニウム素管上に塗布
し、常温で乾燥させた後、暗所において、第1図に示す
温度で30分間熱処理して、厚み約22μmの単層型感光層
を形成し、ドラム型の電子写真感光体を作製した。そし
て、各電子写真感光体の単層型感光層における残存THF
量を、熱分解ガスクロマトグラフによって測定した。結
果を第1図に示す。<Example> Examination of heat treatment conditions 100 parts by weight of poly- (4,4'-cyclohexylidenediphenyl) carbonate (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, trade name: Z-200) as a binder resin, and 4 as a charge generation material , 10-Bromo-dibenzo [def, mno] chrysene 6,12-dione (2,7
5 parts by weight of dibromoanthanthrone) and 0.2 parts by weight of X-type metal-free phthalocyanine (manufactured by Dainippon Ink), 3,3'-dimethyl-N, N, N ', as a charge transport material
N'-tetrakis-4-methylphenyl (1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine 70 parts by weight and N, N, N ', N'-
Tetrakis (3-tolyl) -1,3-phenylenediamine 3
0 parts by weight, 2,6-di-tert-butyl- as antioxidant
p-Cresol (manufactured by Kawaguchi Chemical Co., Ltd., trade name Antage BH)
T) 5 parts by weight and a predetermined amount of THF were mixed and dispersed with an ultrasonic disperser to prepare a single layer type photosensitive layer coating solution. This coating solution is applied on an aluminum tube having an outer diameter of 78 mm and a length of 344 mm, dried at room temperature, and then heat-treated at a temperature shown in Fig. 1 for 30 minutes in a dark place to obtain a single layer having a thickness of about 22 µm. A photosensitive layer was formed to produce a drum-type electrophotographic photosensitive member. Then, the remaining THF in the single-layer photosensitive layer of each electrophotographic photosensitive member
The amount was measured by pyrolysis gas chromatography. The results are shown in FIG.
上記第1図の結果より、加熱温度を110℃以上にする
と、30分の熱処理で、層中の残存テトラヒドロフラン量
を2.5×10-3μ/mg以下にできることが判明した。From the results shown in FIG. 1, it was found that when the heating temperature was set to 110 ° C. or higher, the amount of residual tetrahydrofuran in the layer could be reduced to 2.5 × 10 −3 μ / mg or less by a heat treatment for 30 minutes.
熱処理条件の検討 上記単層型感光層用塗布液を、外径78mm×長さ344mm
のアルミニウム素管上に塗布し、常温で乾燥させた後、
暗所において、110℃で第2図に示す時間熱処理して、
厚み約22μmの単層型感光層を形成し、ドラム型の電子
写真感光体を作製した。そして、各電子写真感光体の単
層型感光体における残存THF量を、熱分解ガスクロマト
グラフによって測定した。結果を第2図に示す。Examination of heat treatment conditions The above-mentioned coating solution for a single-layer type photosensitive layer was used for an outer diameter of 78 mm × length of 344 mm.
After coating on an aluminum base tube and drying at room temperature,
In a dark place, heat-treated at 110 ° C. for the time shown in FIG.
A single-layer photosensitive layer having a thickness of about 22 μm was formed to produce a drum-type electrophotographic photosensitive member. Then, the amount of residual THF in the single-layer type photoreceptor of each electrophotographic photoreceptor was measured by a pyrolysis gas chromatograph. The results are shown in FIG.
上記第2図の結果より、加熱時間を30分以上にする
と、110℃の熱処理で、層中の残存THF量を2.5×10-3μ
/mg以下にできることが判明した。From the results shown in FIG. 2, when the heating time is set to 30 minutes or longer, the amount of residual THF in the layer is reduced to 2.5 × 10 −3 μm by the heat treatment at 110 ° C.
/ mg or less was found to be possible.
熱処理条件の検討 上記単層型感光層用塗布液を、熱処理後の感光層の厚
みが、第3図に示す膜厚となるよう、外径78mm×長さ34
4mmのアルミニウム素管上に塗布し、常温で乾燥させた
後、暗所において、110℃で30分間熱処理して単層型感
光層を形成し、ドラム型の電子写真感光体を作製した。
そして、各電子写真感光体の単層型感光層における残存
THFを、熱分解ガスクロマトグラフによって測定した。
結果を第3図に示す。Examination of heat treatment conditions The above single-layer photosensitive layer coating solution was coated with an outer diameter of 78 mm and a length of 34 so that the thickness of the photosensitive layer after the heat treatment had the thickness shown in FIG.
After coating on a 4 mm aluminum tube and drying at room temperature, it was heat-treated at 110 ° C. for 30 minutes in a dark place to form a single-layer photosensitive layer, thereby producing a drum-type electrophotographic photosensitive member.
Then, the residual in the single-layer type photosensitive layer of each electrophotographic photosensitive member
THF was measured by pyrolysis gas chromatography.
The results are shown in FIG.
上記第3図の結果より、上記単層型感光層の一般的な
膜厚である15〜25μmの範囲では、110℃、30分の熱処
理を行えば、感光層の膜厚に関係なく、層中の残存THF
量を2.5×10-3μ/mg以下にできることが判明した。According to the results shown in FIG. 3, in the range of 15 to 25 μm, which is the general thickness of the single-layer type photosensitive layer, heat treatment at 110 ° C. for 30 minutes is performed regardless of the thickness of the photosensitive layer. Residual THF in
It was found that the amount could be less than 2.5 × 10 −3 μ / mg.
実施例1〜3、比較例1,2 前記熱処理条件の検討で調製した単層型感光層用塗
布液を、外径78mm×長さ344mmのアルミニウム素管上に
塗布し、常温で乾燥させた後、暗所において、表1に示
す熱処理条件で熱処理して、同表中に示す量のTHFが層
中に残存した、厚み約22μmの単層型感光層を有するド
ラム型の電子写真感光体を作製した。Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 The coating solution for a single-layer type photosensitive layer prepared in the examination of the heat treatment conditions was applied onto an aluminum tube having an outer diameter of 78 mm and a length of 344 mm, and dried at room temperature. Thereafter, in a dark place, heat treatment was performed under the heat treatment conditions shown in Table 1, and the amount of THF shown in the table remained in the layer. A drum-type electrophotographic photosensitive member having a single-layer photosensitive layer having a thickness of about 22 μm. Was prepared.
上記各実施例並びに比較例で作製した電子写真感光体
について、下記の各試験を行った。The following tests were performed on the electrophotographic photoreceptors produced in the above Examples and Comparative Examples.
初期表面電位測定 上記各電位写真感光体を、静電複写試験装置(ジェン
テック社製、ジェンテックシンシア30M)に装填し、そ
の表面を正に帯電させて表面電位V1s.p.(V)を測定し
た。The initial surface potential measuring each potential photosensitive member, an electrostatic copying test apparatus (Gen-Tech Co., Gen-Tech Cynthia 30M) was charged to the measured positively charged so the surface potential V 1 sp (V) of the surface did.
半減露光量、残留電位測定 上記帯電状態の各電子写真感光体を、上記静電複写試
験装置の露光光源であるハロゲンランプを用いて露光
し、前記表面電位V1s.p.(V)が半分となるまでの時間
を求め、半減露光量E1/2(μJ/cm2)を算出した。Measurement of half-reduction exposure amount and residual potential Each electrophotographic photosensitive member in the charged state is exposed using a halogen lamp as an exposure light source of the electrostatic copying test apparatus, and the surface potential V 1 sp (V) is reduced to half. The half-exposure amount E1 / 2 (μJ / cm 2 ) was calculated.
また、上記露光開始時から0.19秒経過後の表面電位
を、残留電位V1r.p.(V)として測定した。Further, the surface potential 0.19 seconds after the start of the exposure was measured as a residual potential V 1 rp (V).
紫外線照射後の表面電位変化値および残留電位変化値測
定 上記各電子写真感光体上の2個所の地点で、上記各測
定と同様にして、表面電位V1as.p.、V1bs.p.、並びに、
残留電位V1ar.p.、V1br.p.[以上、単位(V)]を測定
した後、この電子写真感光体を、暗所で60℃に予熱して
20分間保管し、次いで、60℃に保温しつつ、上記2個所
の地点のうちV1b側を遮光体でマスキングして、上記電
子写真感光体の表面に、白色の蛍光灯(商品名ナショナ
ルハイライトFL、15W)を用いて、1500luxの、紫外線を
含む白色光を20分間露光した。そして、露光後の電子写
真感光体を、暗所において、室温で30分間放置、冷却し
た後、静電複写試験装置(ジェンテック社製、ジェンテ
ックシンシア30M)に装填し、その表面を正に帯電させ
て、上記2個所の表面電位V2as.p.(露光側)、V2bs.p.
(遮光側)、並びに、残留電位V2ar.p.(露光側)、V2b
r.p.(遮光側)[以上、単位(V)]を測定した。Surface potential change value and residual potential change value measurement after ultraviolet irradiation At two points on each electrophotographic photoreceptor, surface potentials V 1a sp, V 1b sp, and
After measuring the residual potentials V 1a rp and V 1b rp [or more, unit (V)], the electrophotographic photosensitive member was preheated to 60 ° C. in a dark place.
Store 20 minutes, then, while kept at 60 ° C., it was masked by the light shielding bodies V 1b side of the point of the two places, on the surface of the electrophotographic photosensitive member, a white fluorescent lamp (trade name National High Using a light FL, 15 W), 1500 lux of white light containing ultraviolet light was exposed for 20 minutes. Then, the exposed electrophotographic photoreceptor is left in a dark place at room temperature for 30 minutes, cooled, and then loaded into an electrostatic copying test apparatus (Gentec Cynthia 30M, manufactured by Gentec Corporation), and the surface thereof is correctly adjusted After charging, the two surface potentials V 2a sp (exposure side) and V 2b sp
(Light blocking side), residual potential V 2a rp (exposure side), V 2b
rp (light shielding side) [the unit (V)] was measured.
以上の各測定値を元に、下記式(a)を用いて紫外線
照遮後の表面電位変位値ΔV1-2s.p.(V)を算出し、下
記式(b)を用いて紫外線照射後の残留電位変化値ΔV
1-2r.p.(V)を算出した。Based on the above measured values, a surface potential displacement value ΔV 1-2 sp (V) after shielding from ultraviolet rays is calculated using the following equation (a), and is calculated using the following equation (b). Residual potential change value ΔV
1-2 rp (V) was calculated.
ΔVs.p.= (V2as.p.−V1as.p.)−(V2bs.p.−V1bs.p.)…(a) ΔVr.p.= (V2ar.p.−V1ar.p.)−(V2br.p.−V1br.p.)…(b) 実用試験 紫外線照射後の各電子写真感光体を複写機(三田工業
社製、DC−1655型機)に装填して中間調の原稿を複写処
理し、画像の濃度ムラを目視で観察して、濃度ムラの発
生しなかったものを○、濃度ムラの発生したものを×で
評価した。ΔVs.p. = (V 2a sp−V 1a sp) − (V 2b sp−V 1b sp)... (A) ΔVr.p. = (V 2a rp−V 1a rp) − (V 2b rp−V 1b rp) ... (b) Practical test Each electrophotographic photoreceptor after ultraviolet irradiation was loaded into a copying machine (Mita Kogyo Co., Ltd., DC-1655 model), and a halftone original was copied to reduce unevenness in image density. Observation was made by visual observation, and those without density unevenness were evaluated as ○, and those with density unevenness were evaluated as x.
以上の結果を次表に示す。 The results are shown in the following table.
上記表の結果より、単層型感光層中の残存THF量が2.5
×10-3μ/mg以下である実施例1〜3の電子写真感光
体は、何れも、残存THF量が上記値を超える比較例1,2に
比べて、紫外線照射による表面電位の変化量が20V以
下、残留電位の変化量が20V以下と小さく、このことか
ら、実施例1〜3の電子写真感光体は、紫外線劣化しに
くいものであることが判明した。 From the results in the above table, the amount of residual THF in the single-layer type photosensitive layer was 2.5%.
× 10 −3 μm / mg or less, the electrophotographic photoreceptors of Examples 1 to 3 each had an amount of change in surface potential due to ultraviolet irradiation compared to Comparative Examples 1 and 2 in which the amount of residual THF exceeded the above value. Is 20 V or less, and the amount of change in the residual potential is as small as 20 V or less. This indicates that the electrophotographic photoreceptors of Examples 1 to 3 were hardly deteriorated by ultraviolet rays.
<発明の効果> この発明の電子写真感光体は、以上のように構成され
ており、画像形成プロセスを繰り返し行った際の、帯電
量低下や感度低下等の防止作用に優れたm−フェニレン
ジアミン系化合物を含有する層中に残存する、上記m−
フェニレンジアミン系化合物の紫外線劣化を促進するTH
Fの量を、あらかじめ2.5×10-3μ/mg以下としている
ので、特に、画像形成装置の運転時等、感光体が加熱さ
れた状態において、蛍光灯やキセノンランプ、或いは太
陽光等の紫外線を含む光が照射されても、感度低下し難
いものとなる。<Effects of the Invention> The electrophotographic photoreceptor of the present invention is configured as described above, and is excellent in an action of preventing a decrease in charge amount and a decrease in sensitivity when an image forming process is repeatedly performed. The above m- residue remaining in the layer containing the system compound
TH promotes UV degradation of phenylenediamine compounds
Since the amount of F is set to 2.5 × 10 −3 μ / mg or less in advance, particularly when the photoconductor is heated, such as during operation of an image forming apparatus, ultraviolet light such as a fluorescent lamp, a xenon lamp, or sunlight. , The sensitivity is unlikely to decrease even when irradiated with light containing.
また、この発明の電子写真感光体の製法によれば、上
記層を単に加熱するだけで、層中の残存THF量を低減で
きるので、大掛かりな装置等を必要とせず、簡単に、こ
の発明の電子写真感光体を製造することができる。Further, according to the method of manufacturing an electrophotographic photoreceptor of the present invention, the amount of residual THF in the layer can be reduced by simply heating the above layer, so that a large-scale apparatus or the like is not required, and the present invention can be easily performed. An electrophotographic photoreceptor can be manufactured.
第1図は単層型感光層における熱処理温度と残存THF量
との関係を示すグラフ、第2図は単層型感光層における
熱処理時間と残存THF量との関係を示すグラフ、第3図
は単層型感光層の膜厚と熱処理後の残存THF量との関係
を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the relationship between the heat treatment temperature and the amount of residual THF in the single-layer type photosensitive layer, FIG. 2 is a graph showing the relationship between the heat treatment time and the amount of residual THF in the single-layer type photosensitive layer, and FIG. 4 is a graph showing the relationship between the thickness of a single-layer photosensitive layer and the amount of residual THF after heat treatment.
Claims (2)
ェニレンジアミン系化合物と、テトラヒドロフランとを
含有する塗布液を塗布して形成される層を備えた電子写
真感光体において、上記層中の残存テトラヒドロフラン
量が、あらかじめ2.5×10-3μ/mg以下とされたことを
特徴とする電子写真感光体。An electrophotographic photoreceptor comprising a layer formed by applying a coating solution containing a binder resin, an m-phenylenediamine compound as a charge transport material, and tetrahydrofuran. Wherein the residual amount of tetrahydrofuran is previously 2.5 × 10 −3 μ / mg or less.
ェニレンジアミン系化合物と、テトラヒドロフランとを
含有する塗布液を塗布して形成される層を110℃以上の
温度で30分以上熱処理して、層中の残存テトラヒドロフ
ラン量を2.5×10-3μ/mg以下にすることを特徴とする
電子写真感光体の製造方法。2. A layer formed by applying a coating solution containing a binder resin, an m-phenylenediamine compound as a charge transporting material, and tetrahydrofuran is heat-treated at a temperature of 110 ° C. or more for 30 minutes or more. Wherein the amount of residual tetrahydrofuran in the layer is adjusted to 2.5 × 10 −3 μ / mg or less.
Priority Applications (5)
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---|---|---|---|
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US07/585,669 US5128229A (en) | 1989-09-27 | 1990-09-20 | Electrophotosensitive material and method of manufacturing the same |
EP90118496A EP0420207B1 (en) | 1989-09-27 | 1990-09-26 | Electrophotosensitive material and method of manufacturing the same |
DE69031260T DE69031260T2 (en) | 1989-09-27 | 1990-09-26 | Electrophotosensitive material and process for its manufacture |
KR1019900015583A KR950001584B1 (en) | 1989-09-27 | 1990-09-27 | Electrophotosensitive material and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
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JPH03113453A JPH03113453A (en) | 1991-05-14 |
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JP2504790B2 (en) * | 1987-11-30 | 1996-06-05 | 三田工業株式会社 | Charge transport material for electrophotographic photoreceptor |
-
1989
- 1989-09-27 JP JP1251589A patent/JP2618054B2/en not_active Expired - Lifetime
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