JP2598732B2 - Pulsation suppression mechanism of spray glaze equipment - Google Patents
Pulsation suppression mechanism of spray glaze equipmentInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、タイル素地にスプレー
噴霧装置により釉薬を施釉する技術に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for applying a glaze to a tile base by a spray atomizer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来から、タイル素地にスプレー噴霧装
置により、釉薬を施釉する技術は公知とされているので
ある。例えば、図３に示す技術の如くである。しかし図
３に示す従来の技術においては、スプレー施釉装置Ｂの
脈動抑制機構としてはダイアフラムポンプ１７専用のチ
ャンバー１８が設けられているだけだったので、どうし
てもダイアフラムポンプ１７により発生する脈動を取り
去ることが出来ず、タイル素地に釉薬のムラが発生して
いたのである。１９は釉薬タンク、２０はレギュレタ
ー、２１は流量調整弁、２２は停止弁、２３はスプレー
である。2. Description of the Related Art Heretofore, a technique of applying a glaze to a tile base using a spray atomizer has been known. For example, as shown in FIG. However, in the prior art shown in FIG. 3, only the chamber 18 dedicated to the diaphragm pump 17 is provided as the pulsation suppressing mechanism of the spray glazing apparatus B, so that the pulsation generated by the diaphragm pump 17 cannot be removed. It was not possible, and the glaze was uneven on the tile base. 19 is a glaze tank, 20 is a regulator, 21 is a flow control valve, 22 is a stop valve, and 23 is a spray.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】前記の従来の技術にお
いては、スプレー施釉装置の脈動抑制機構としてダイア
フラムポンプ専用のチャンバーが設けられているだけだ
ったので、例えスプレー施釉装置を作動させても、ダイ
アフラムポンプ内において発生する、釉薬の脈動は激し
く、この為にスプレー吐出孔付近における吐出圧にバラ
ツキが生じて、タイルの表面に釉薬の色ムラが出来て凸
凹になりタイルの商品価値が無くなってしまうという課
題を抱えていたのである。本発明はこのような従来技術
の不具合を解消するものである。In the above-mentioned prior art, only a diaphragm pump dedicated chamber is provided as a pulsation suppressing mechanism of the spray glaze apparatus. Therefore, even if the spray glaze apparatus is operated, The pulsation of the glaze generated in the diaphragm pump is intense, and the discharge pressure in the vicinity of the spray discharge hole varies, resulting in uneven color of the glaze on the tile surface, and the tile has no commercial value. It had the problem of getting lost. The present invention solves such disadvantages of the prior art.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明の解決すべき課題
は以上の如くであり、次に該課題を解決する手段につい
て説明する。即ち、ダイアフラムポンプからレギュレタ
ー，流量調整弁，ストップバルブを介して釉薬をスプレ
ーノズルへ搬送してスプレー施釉する構成において、ダ
イアフラムポンプチャンバーとレギュレターの間に減圧
弁機構を設け、更にレギュレターと流量調整弁の間に安
全弁を介装する構成とするのである。The problems to be solved by the present invention are as described above. Next, means for solving the problems will be described. That is, in a configuration in which glaze is conveyed from a diaphragm pump to a spray nozzle via a regulator, a flow control valve, and a stop valve to perform spray glazing, a pressure reducing valve mechanism is provided between the diaphragm pump chamber and the regulator, and furthermore, a regulator and a flow control valve are provided. The safety valve is interposed between them.
【０００５】[0005]
【作用】本発明の作用について説明する。以上のように
構成したことに拠り、スプレー施釉装置のダイアフラム
ポンプの脈動が抑えられて、スプレーの吐出圧を一定に
保つことが出来るようになるのである。The operation of the present invention will be described. With such a configuration, the pulsation of the diaphragm pump of the spray glaze apparatus is suppressed, and the discharge pressure of the spray can be kept constant.
【０００６】[0006]
【実施例】本発明の解決すべき課題及び解決する手段は
以上の如くであり、次に本発明の具体的な構成について
添付した図面により説明する。図１は本発明のスプレー
施釉装置の脈動抑制機構の簡略説明図、図２は本発明を
採用したスプレー施釉装置でタイルに施釉している状態
を示す説明図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The problems to be solved and means to be solved by the present invention are as described above. Next, the specific structure of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a simplified explanatory view of a pulsation suppressing mechanism of the spray glaze apparatus of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory view showing a state in which tiles are glazed by the spray glaze apparatus adopting the present invention.
【０００７】図１において本発明のスプレー施釉装置の
脈動抑制機構について説明すると。ダイアフラムポンプ
１の上方にはダイアフラムポンプ専用のダイアフラムポ
ンプチャンバー２が設けられており、下方には釉薬タン
ク３が設けられている。各々ダイアフラムポンプ１とダ
イアフラムポンプチャンバー２、ダイアフラムポンプ１
と釉薬タンク３は管に拠って連絡されているのである。
釉薬タンク３内の釉薬は吸水管４の端部のフィルター５
で不純物が濾過され、吸い上げられてダイアフラムポン
プ１へと吸引されるのである。The pulsation suppressing mechanism of the spray glaze apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. A diaphragm pump chamber 2 dedicated to the diaphragm pump is provided above the diaphragm pump 1, and a glaze tank 3 is provided below the diaphragm pump chamber 2. Diaphragm pump 1, diaphragm pump chamber 2, diaphragm pump 1
And the glaze tank 3 are communicated via a tube.
The glaze in the glaze tank 3 is the filter 5 at the end of the water absorption pipe 4.
Thus, the impurities are filtered, sucked up and sucked into the diaphragm pump 1.
【０００８】前記ダイアフラムポンプ１へと吸引された
釉薬は、ダイアフラムポンプ１から圧力をかけて放出さ
れるのであるが、本発明においてはダイアフラムポンプ
１とレギュレター６との間にダイアフラムポンプ１内の
釉薬の脈動を解消させる為にチャンバー７が設置され、
該チャンバー７の後方に減圧弁８、レギュレター６がそ
れぞれ介装されているのである。該減圧弁８の圧力は２
Ｋｇ／ｃｍ2 程度の設定をしている。The glaze sucked into the diaphragm pump 1 is released by applying pressure from the diaphragm pump 1. In the present invention, the glaze in the diaphragm pump 1 is interposed between the diaphragm pump 1 and the regulator 6. Chamber 7 is installed to eliminate the pulsation of
A pressure reducing valve 8 and a regulator 6 are interposed behind the chamber 7, respectively. The pressure of the pressure reducing valve 8 is 2
The setting is about Kg / cm 2 .
【０００９】更に本発明においては、前記レギュレター
６と流量調整弁９の間に安全弁１０が介装されており、
該安全弁１０を介装したことで、万が一異常が発生して
施釉装置が停止した場合に、各計器類及び配管等が圧力
の異常で破損したり故障したりしないようになっている
のである。該安全弁１０の圧力は０．５Ｋｇ／ｃｍ2程
度に設定している。Further, in the present invention, a safety valve 10 is interposed between the regulator 6 and the flow regulating valve 9,
By interposing the safety valve 10, in the event that the glaze apparatus stops due to an abnormality, each instrument, piping and the like are prevented from being damaged or broken due to abnormal pressure. The pressure of the safety valve 10 is set to about 0.5 kg / cm 2 .
【００１０】また、レギュレター６を従来よりも小型に
構成し、これにより、大型のレギュレター６の場合にお
いて発生する釉薬の沈澱を解消させて釉薬の粘性を一定
に維持することが可能となり、従来の釉薬の粘性変化に
因る圧力変化が軽減されてダイアフラムポンプ１の耐久
性が向上することとなるのである。[0010] Further, the regulator 6 is configured to be smaller than the conventional one, whereby it is possible to eliminate the sedimentation of the glaze generated in the case of the large regulator 6, thereby maintaining the viscosity of the glaze constant. The change in pressure due to the change in viscosity of the glaze is reduced, and the durability of the diaphragm pump 1 is improved.
【００１１】そして、ダイアフラムポンプ１からの釉薬
は、レギュレター６→流量調整弁９→停止弁１１を通っ
て連絡管１２の末端に設けたスプレー１３から一定の圧
力の状態でタイル素地へと施釉されるのである。１４は
圧力計である。流量調整弁９の圧力は０．２〜０．４Ｋ
ｇ／ｃｍ2 程度に設定されている。The glaze from the diaphragm pump 1 passes through the regulator 6 → the flow control valve 9 → the stop valve 11 and is sprayed on the tile base under a constant pressure from the spray 13 provided at the end of the connecting pipe 12. Because 14 is a pressure gauge. The pressure of the flow control valve 9 is 0.2 to 0.4K
g / cm 2 .
【００１２】次に、本発明を採用したスプレー施釉装置
からのタイル素地への施釉について説明する。図２のよ
うに用途に応じて打ち抜かれプレスにより型成形された
タイル素地１５はコンベア１６上に載置され順番に搬送
されて行き、上方よりスプレー施釉装置Ａの首振りスプ
レー１３から噴出される釉薬が降りかけられ、タイル素
地１５の表面が覆われると、焼成工程へとコンベア１６
で搬送されて行くのである。Next, the glazing of the tile base from the spray glazing apparatus employing the present invention will be described. As shown in FIG. 2, the tile base material 15 punched out according to the use and formed by pressing is placed on a conveyor 16 and conveyed sequentially, and is ejected from above by a swing spray 13 of a spray glaze apparatus A from above. When the glaze falls and the surface of the tile base 15 is covered, the conveyor 16 is moved to a firing step.
It is transported by.
【００１３】[0013]
【発明の効果】本発明は以上の如く構成したので、次の
ような効果を奏するものである。第一に、チャンバーを
一つ増設したことに拠って、スプレー施釉装置Ａのダイ
アフラムポンプ１内における釉薬の脈動が大幅に減少し
て、これに因りダイアフラムポンプチャンバーの圧力及
びレギュレターの入力・吐出圧力を安定させることが出
来るようになり、タイル素地に安定した状態でスプレー
施釉が出来ることとなったのである。As described above, the present invention has the following advantages. First, the pulsation of the glaze in the diaphragm pump 1 of the spray glazing apparatus A is greatly reduced due to the addition of one chamber, whereby the pressure of the diaphragm pump chamber and the input / discharge pressure of the regulator are reduced. It is now possible to stabilize, and spray glazing can be performed on the tile base in a stable state.
【００１４】第二に、安全弁を設けたことに拠り一度釉
薬タンク内の施釉量を調整すれば、スプレー施釉装置作
動中に異常が発生して施釉が停止した場合や装置全体を
洗浄した場合でも、スプレー施釉装置全体の圧力を一定
にすることが出来るようになったのである。Secondly, once the amount of glaze in the glaze tank is adjusted based on the provision of the safety valve, even if the glaze is stopped due to an abnormality during the operation of the spray glaze apparatus or the entire apparatus is washed, Thus, the pressure of the entire spray glazing device can be kept constant.
【図１】本発明のスプレー施釉装置の脈動抑制機構の簡
略説明図である。FIG. 1 is a simplified explanatory view of a pulsation suppressing mechanism of a spray glaze apparatus of the present invention.
【図２】本発明を採用したスプレー施釉装置でタイルに
施釉している状態を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory view showing a state in which tiles are glazed by a spray glazing apparatus employing the present invention.
【図３】従来のスプレー施釉装置の脈動抑制機構の簡略
説明図である。FIG. 3 is a simplified explanatory view of a pulsation suppressing mechanism of a conventional spray glaze apparatus.
１ ダイアフラムポンプ ６ レギュレター ７ チャンバー １０ 安全弁 １３ スプレー １５ タイル素地 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Diaphragm pump 6 Regulator 7 Chamber 10 Safety valve 13 Spray 15 Tile base
Claims (1)
流量調整弁、ストップバルブを介して釉薬をスプレーノ
ズルへ搬送し、スプレー施釉する構成において、ダイア
フラムポンプチャンバーとレギュレターの間に減圧弁機
構を設け、更にレギュレターと流量調整弁の間に安全弁
を介装したことを特徴とするスプレー施釉装置の脈動抑
制機構。Claims: 1. A regulator from a diaphragm pump,
In the configuration where the glaze is conveyed to the spray nozzle via the flow control valve and stop valve and spray glaze is applied, a pressure reducing valve mechanism is provided between the diaphragm pump chamber and the regulator, and a safety valve is interposed between the regulator and the flow control valve. The pulsation suppression mechanism of the spray glazing device, characterized in that:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4471692A JP2598732B2 (en) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | Pulsation suppression mechanism of spray glaze equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4471692A JP2598732B2 (en) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | Pulsation suppression mechanism of spray glaze equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05238803A JPH05238803A (en) | 1993-09-17 |
| JP2598732B2 true JP2598732B2 (en) | 1997-04-09 |
Family
ID=12699146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4471692A Expired - Lifetime JP2598732B2 (en) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | Pulsation suppression mechanism of spray glaze equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2598732B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007260583A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Toppan Printing Co Ltd | Inkjet printer |
| JP6193604B2 (en) * | 2013-04-11 | 2017-09-06 | 東芝プラントシステム株式会社 | Decontamination system and decontamination method using dry ice |
-
1992
- 1992-03-02 JP JP4471692A patent/JP2598732B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05238803A (en) | 1993-09-17 |
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