JP2589564B2 - Preparation of styrene derivatives - Google Patents

Preparation of styrene derivatives

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JP2589564B2 JP33462288A JP33462288A JP2589564B2 JP 2589564 B2 JP2589564 B2 JP 2589564B2 JP 33462288 A JP33462288 A JP 33462288A JP 33462288 A JP33462288 A JP 33462288A JP 2589564 B2 JP2589564 B2 JP 2589564B2
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、スチレン誘導体類の新規な製法に関するも
ので、詳しくは一般式(II) (式中、Rは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基;ハロゲン原子によって置換されて
も良い低級アルキル基又はハロゲン原子によって置換さ
れても良い低級アルコキシ基を示し、nは0〜5の整数
を示し、Xはハロゲン原子を示し、Phはフェニル基を示
す。) で表されるホスホニウム塩を水及び水に不溶の有機溶媒
及び塩基の存在下にホルムアルデヒドと反応させること
を特徴とする一般式(I) (式中、R及びnは前記に同じ。) で表されるスチレン誘導体類の製法に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel method for producing styrene derivatives, and more specifically, to a method of formula (II) (Wherein R may be the same or different, and a halogen atom,
A cyano group or a nitro group; a lower alkyl group which may be substituted by a halogen atom or a lower alkoxy group which may be substituted by a halogen atom; n represents an integer of 0 to 5; X represents a halogen atom; Represents a phenyl group. Wherein the phosphonium salt represented by the formula is reacted with formaldehyde in the presence of water, an organic solvent insoluble in water and a base. (Wherein, R and n are the same as described above).

スチレン誘導体類は医薬、農薬、その他化学工業にお
いて合成中間体として重要な化合物であり、これらの製
造方法について多くの方法が知られている。しかし、工
業的に高収率で且つ高純度のスチレン誘導体類を製造す
るにはこれらの従来法では最適とは言えない。
Styrene derivatives are important compounds as synthetic intermediates in the pharmaceutical, agricultural, and other chemical industries, and many methods are known for their production. However, these conventional methods are not optimal for industrially producing high-yield and high-purity styrene derivatives.

例えば、特開昭61−212526号公報にはN−アシル−β
−フェネチルアミン類を塩基で処理し、そして生成した
スチレンを反応中に除去し、スチレン類を製造する法が
開示されている。しかし、該製造法は出発物質であるN
−アシル−β−フェネチルアミン類を製造するために多
くの工程を要するという問題がある。Org.Synth.,Coll.
Vol.3,204(1955)には、置換されたベンズアルデヒド
類をグリニヤール試薬と反応させ、得られたα−ヒドロ
キシエチルベンゼン類を酸によって脱水しスチレン誘導
体類を製造する方法が開示されている。しかし、該製法
はグリニヤール反応及び脱水反応において反応条件の設
定に精密さを要し、生成物の収率においても十分満足で
きるものではなく、原料であるベンズアルデヒド類の入
手がしばしば困難を伴うという課題がある。Org.Synt
h.,Coll.Vol.4,731(1963)には、アルデヒド類をマロ
ン酸と縮合反応し、得られた桂皮酸類を脱炭酸しスチレ
ン類を製造する方法が開示されている。しかし、該製法
によるスチレン類の生成は低収率であり、工業的に高収
率でスチレン類を生成する新規な製法の開発が望まれて
いる。
For example, JP-A-61-212526 discloses N-acyl-β
Disclosed is a method for treating phenethylamines with a base and removing styrene formed during the reaction to produce styrenes. However, the process does not utilize the starting N
There is a problem that many steps are required to produce -acyl-β-phenethylamines. Org.Synth., Coll.
Vol. 3, 204 (1955) discloses a method of reacting a substituted benzaldehyde with a Grignard reagent and dehydrating the resulting α-hydroxyethylbenzene with an acid to produce a styrene derivative. However, this method requires precision in setting reaction conditions in the Grignard reaction and dehydration reaction, and is not sufficiently satisfactory in the yield of the product, and it is often difficult to obtain benzaldehydes as a raw material. There is. Org.Synt
h., Coll. Vol. 4,731 (1963) discloses a method for producing a styrene by condensing an aldehyde with malonic acid and decarboxylating the resulting cinnamic acid. However, the production of styrenes by the production method has a low yield, and the development of a novel production method for producing styrenes at a high yield industrially is desired.

次に、Synthetic Communication,(1)53〜57(19
76)には塩化ベンジルとトリフェニルホスフィンよりホ
スニウム塩を調製し、このホスホニウム塩に塩基の存在
下、水溶媒中でホルムアルデヒドと反応させ、スチレン
類を製造する方法が開示されている。しかし、該製法は
反応中にトリフェニルホスフィンオキシドが大量に副生
し、該トリフェニルホスフィンオキシドの廃棄問題、
又、反応剤としてのホルムアルデヒドは特定化学物質に
指定された物質で、該ホルムアルデヒドを反応において
大過剰に使用するため、これらを含む廃液の処理は環境
及び労働安全衛生上も大きな問題となる。又、反応生成
物、原料化合物、副生物が反応系内において不均一な状
態(例えば、懸濁状態、晶出状態等)で存在するために
撹拌効率が反応収率に大きく影響を及ぼし、ある種のス
チレン類の製造では著しい収率の低下が見られる。
Next, Synthetic Communication, 6 (1) 53-57 (19
No. 76) discloses a method for preparing a phosnium salt from benzyl chloride and triphenylphosphine, and reacting the phosphonium salt with formaldehyde in the presence of a base in an aqueous solvent to produce styrenes. However, in this method, a large amount of triphenylphosphine oxide is produced as a by-product during the reaction, and the disposal of the triphenylphosphine oxide is problematic.
Also, formaldehyde as a reactant is a substance specified as a specific chemical substance, and since formaldehyde is used in a large excess in the reaction, treatment of waste liquid containing these is a serious problem in terms of environment and occupational safety and health. In addition, since the reaction products, starting compounds, and by-products are present in a heterogeneous state (for example, a suspension state, a crystallization state, and the like) in the reaction system, the stirring efficiency greatly affects the reaction yield. The production of certain styrenes shows a significant reduction in yield.

本発明者等は上記課題を解決すべく、鋭意研究を重ね
た結果、本発明を完成させたものである。
The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have completed the present invention.

本発明は水溶媒中で一般式(II)で表されるホスホニ
ウム塩を水に不溶の有機溶媒及び塩基の存在下にホルム
アルデヒドと反応させることにより一般式(I)で表さ
れるスチレン誘導体類を製造することができ、そして本
発明の特徴は撹拌容易な二相系反応で且つホルムアルデ
ヒド及び塩基を等モル量乃至若干過剰量使用すれば良い
ので、廃液中へのホルムアルデヒド及び塩基の混入は殆
どなく、副生するトリフェニルホスフィンオキシドの分
離も反応液から簡単な操作、例えば濾過等の方法により
容易に分離が可能であることにあり、高収率で高純度の
目的とするスチレン誘導体類が製造することができ、工
業的な意義は大きいものである。
The present invention provides a styrene derivative represented by the general formula (I) by reacting a phosphonium salt represented by the general formula (II) with formaldehyde in an aqueous solvent in the presence of a water-insoluble organic solvent and a base. It can be produced, and the feature of the present invention is a two-phase reaction which is easy to stir, and it is only necessary to use equimolar amount or a slight excess of formaldehyde and base. The by-product triphenylphosphine oxide can be easily separated from the reaction solution by a simple operation, for example, a method such as filtration, so that the objective styrene derivatives with high yield and high purity can be produced. The industrial significance is great.

本発明を、例えば図式的に示すと下記の如く示すこと
ができる。
The invention can be illustrated, for example, schematically as follows:

(式中、R、n、X及びPhは前記に同じ。) 即ち、一般式(II)で表されるホスホニウム塩を水及
び水に不溶の有機溶媒及び塩基の存在下にホルムアルデ
ヒドと反応させることにより一般式(I)で表されるス
チレン誘導体類を製造することができる。
(Wherein R, n, X and Ph are the same as described above). That is, the phosphonium salt represented by the general formula (II) is reacted with formaldehyde in the presence of water, a water-insoluble organic solvent and a base. Thus, a styrene derivative represented by the general formula (I) can be produced.

本反応は水及び水に不溶の有機溶媒とを使用し、水の
使用料としては一般式(II)で表されるホスホニウム塩
1モルに対して反応系全体の量として500〜1000ml範囲
で使用すれば良く、反応剤であるホルムアルデヒドを水
溶液として使用する場合、及び塩基を水溶液として使用
する場合、これらの水の量も考慮され、好ましくは700
〜900mlの範囲から選択することができる。
This reaction uses water and an organic solvent that is insoluble in water, and water is used in an amount of 500 to 1000 ml as a total amount of the reaction system per 1 mol of the phosphonium salt represented by the general formula (II). When formaldehyde as a reactant is used as an aqueous solution, and when a base is used as an aqueous solution, the amount of these waters is also considered, and preferably 700
Can be selected from the range of ~ 900ml.

本反応で使用できる水に不溶の有機溶媒としては、エ
ーテル類、ハロゲン化されても良い脂肪族炭化水素類又
は芳香族炭化水素類が挙げられ、例えばジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエ
ーテル類、n−ペンタン、n−ヘキサン等の脂肪族炭化
水素類、四塩化炭素等の塩素化された脂肪族炭化水素
類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類等を挙げることがで
きる。これらの水に不溶の有機溶媒の使用量は一般式
(II)で表されるホスホニウム塩1モルに対して100−5
00ml範囲で使用すれば良く、好ましくは100〜200mlの範
囲から選択することができる。又、水に不溶の有機溶媒
として例えばジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル等のエーテル類、四塩化炭素等の塩素化された脂肪族
炭化水素類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類等を使用し
た場合、反応終了後、n−ペンタン、n−ヘキサン等の
脂肪族炭化水素類に転溶して単離しても良い。
Examples of the water-insoluble organic solvent that can be used in this reaction include ethers, aliphatic hydrocarbons or aromatic hydrocarbons which may be halogenated, and ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, and diisopropyl ether. , N-pentane, n-hexane and the like; chlorinated aliphatic hydrocarbons such as carbon tetrachloride; and aromatic hydrocarbons such as benzene. The amount of the organic solvent insoluble in water is 100 to 5 mol per mol of the phosphonium salt represented by the general formula (II).
It can be used in the range of 00 ml, and preferably can be selected from the range of 100 to 200 ml. When an organic solvent insoluble in water such as ethers such as dimethyl ether and diisopropyl ether, chlorinated aliphatic hydrocarbons such as carbon tetrachloride, and aromatic hydrocarbons such as benzene, the reaction is terminated. Thereafter, the solution may be transferred to an aliphatic hydrocarbon such as n-pentane or n-hexane for isolation.

本反応で使用するホルムアルデヒドは30〜40%の水溶
液の型で種々市販されているが、一般的に35%水溶液の
ホルムアルデヒドを使用するのが好ましいが、特にこれ
に限定されるものではない。
The formaldehyde used in this reaction is commercially available in the form of a 30 to 40% aqueous solution, but it is generally preferable to use a 35% aqueous formaldehyde, but it is not particularly limited thereto.

本反応で使用できる塩基としては無機塩基を使用する
ことができ、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属の水酸化物又は炭酸塩を使用することができ、これ
らの塩基は水溶液の形で使用するのが好ましく、塩基の
濃度としては1〜10Nの範囲の濃度の水溶液として使用
すればよく、好ましくは5〜10Nの範囲の濃度の水溶液
として使用すれば良い。
As the base that can be used in this reaction, an inorganic base can be used.For example, hydroxides or carbonates of alkali metals such as sodium and potassium can be used, and these bases are used in the form of an aqueous solution. Preferably, the base may be used as an aqueous solution having a concentration in the range of 1 to 10N, and more preferably, an aqueous solution having a concentration in the range of 5 to 10N.

本反応の反応剤の使用量は一般式(II)で表されるホ
スホニウム塩1モルに対して、ホルムアルデヒドの使用
量は等モル乃至若干の過剰量、塩基の使用量は等モル乃
至若干の過剰量使用すれば良いが、好ましくはホルムア
ルデヒド及び塩基とも等モル使用するのが良い。
The amount of the reactant used in this reaction is 1 mole to 1 mole of the phosphonium salt represented by the general formula (II), and the amount of formaldehyde used is equimolar to a slight excess, and the amount of the base used is equimolar to a slight excess. It may be used in an amount, but it is preferable to use equimolar amounts of formaldehyde and a base.

反応温度は0℃乃至60℃の範囲から選択出来、好まし
くは30℃前後の温度が適当である。
The reaction temperature can be selected from the range of 0 ° C. to 60 ° C., and a temperature of about 30 ° C. is suitable.

反応時間は反応量、反応温度等により一定しないが数
分乃至24時間の範囲から選択すれば良い。
The reaction time is not fixed depending on the reaction amount, the reaction temperature and the like, but may be selected from the range of several minutes to 24 hours.

反応終了後、目的物を含む水に不溶の有機溶媒層を分
液し、水洗、乾燥後溶媒を減圧下に留去すれば目的とす
るスチレン誘導体類を高収率、高純度で製造することが
できるが、必要により適当な精製法により精製すること
もできる。
After completion of the reaction, the water-insoluble organic solvent layer containing the target substance is separated, washed with water, dried, and then the solvent is distilled off under reduced pressure to produce the target styrene derivative in high yield and high purity. It can be purified by an appropriate purification method if necessary.

一般式(II)で表されるホスホニウム塩はSynthetic
Commnication,(1)53〜57(1976)に開示の製法に
より製造することができる。
The phosphonium salt represented by the general formula (II) is synthetic
Commnication, 6 (1) 53-57 (1976).

以下に本発明の代表的な実施例を例示するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
Hereinafter, typical examples of the present invention will be illustrated, but the present invention is not limited thereto.

実施例1. o−クロロスチレンの製造。Example 1. Production of o-chlorostyrene.

o−クロロベンジルトリフェニルホスホニウムクロリ
ド472g(1.10モル)と35%ホルマリン水溶液(1.17モ
ル)及び水700mlを反応容器中に入れ、更にn−ヘキサ
ン200mlを加えた後、30℃で10N−水酸化ナトリウム水溶
液110ml(1.10モル)を30分かけて徐々に滴下した。
472 g (1.10 mol) of o-chlorobenzyltriphenylphosphonium chloride, a 35% aqueous solution of formalin (1.17 mol) and 700 ml of water were placed in a reaction vessel, and 200 ml of n-hexane was further added. An aqueous solution (110 ml, 1.10 mol) was gradually added dropwise over 30 minutes.

滴下終了後、反応液を2時間同温度で撹拌し反応を行
った。反応終了後、反応液を冷却し、不溶物を濾別し、
得られた濾液から有機層を分液した。得られた有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去するこ
とにより目的とするo−クロロスチレンを無色油状物と
して151g得た。
After completion of the dropwise addition, the reaction solution was stirred for 2 hours at the same temperature to carry out the reaction. After the completion of the reaction, the reaction solution was cooled, and the insoluble material was separated by filtration.
An organic layer was separated from the obtained filtrate. After the obtained organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 151 g of the desired o-chlorostyrene as a colorless oil.

得られた油状物をガスクロマトグラフィーにより分析
した結果、o−クロロスチレンの純度は98.9%であっ
た。
As a result of analyzing the obtained oil by gas chromatography, the purity of o-chlorostyrene was 98.9%.

収率 98.9% 尚、化合物の特定は公知化合物であるので標品を用い
て、ガスクロマトグラフィーで同定した。
The yield was 98.9%. Since the compound was a known compound, it was identified by gas chromatography using a sample.

NMR(CDCl3/TMS,60MHz) δ 5.35(dd,J=1.8Hz,J=11.2Hz,1H)5.71(dd,J=1.
8Hz,J=17.9Hz,1H)6.85〜7.70(m,6H) 実施例2 実施例1のn−ヘキサンに代えて第1表に示す有機溶
媒を使用し、実施例1と同様に行った。結果を第1表に
示す。
NMR (CDCl 3 / TMS, 60 MHz) δ 5.35 (dd, J = 1.8 Hz, J = 11.2 Hz, 1H) 5.71 (dd, J = 1.
(8 Hz, J = 17.9 Hz, 1H) 6.85 to 7.70 (m, 6H) Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that the organic solvent shown in Table 1 was used instead of n-hexane of Example 1. The results are shown in Table 1.

尚、ジエチルエーテル及び四塩化炭素を使用した場
合、反応終了後、n−ヘキサンに転溶し、不溶物を濾別
して行った。
When diethyl ether and carbon tetrachloride were used, they were transferred to n-hexane after completion of the reaction, and insolubles were removed by filtration.

実施例3. 第2表に示すホスホニウム塩及び有機溶媒を使用して
実施例1と同様に行った。結果を第2表に示す。
Example 3 It carried out similarly to Example 1 using the phosphonium salt and organic solvent shown in Table 2. The results are shown in Table 2.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 41/18 C07C 41/18 43/215 43/215 43/225 43/225 201/12 201/12 205/06 205/06 253/30 253/30 255/50 255/50 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI Technical indication location C07C 41/18 C07C 41/18 43/215 43/215 43/225 43/225 201/12 201/12 205 / 06 205/06 253/30 253/30 255/50 255/50

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式(II) (式中、Rは同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、
シアノ基、ニトロ基、;ハロゲン原子によって置換され
ても良い低級アルキル基又はハルロゲン原子によって置
換されても良い低級アルコキシ基を示す、nは0〜5の
整数を示し、Xはハロゲン原子を示し、Phはフェニル基
を示す。) で表されるホスホニウム塩を水及び水に不溶の有機溶媒
及び塩基の存在下にホルムアルデヒドと反応させること
を特徴とする一般式(I) (式中、R及びnは前記に同じ。) で表されるスチレン誘導体類の製法。
1. A compound of the general formula (II) (Wherein R may be the same or different, and a halogen atom,
A cyano group, a nitro group, a lower alkyl group which may be substituted by a halogen atom or a lower alkoxy group which may be substituted by a halogen atom, n represents an integer of 0 to 5, X represents a halogen atom, Ph represents a phenyl group. Wherein the phosphonium salt represented by the formula is reacted with formaldehyde in the presence of water, an organic solvent insoluble in water and a base. (Wherein, R and n are the same as described above).
【請求項2】一般式(II)で表されるホスホニウム塩に
対して等モル量乃至若干過剰量のホルムアルデヒドを使
用することを特徴とする請求項第1項記載のスチレン誘
導体類の製造。
2. The process for producing styrene derivatives according to claim 1, wherein an equimolar amount or a slight excess of formaldehyde is used relative to the phosphonium salt represented by the general formula (II).
【請求項3】水に不溶の有機溶媒がエーテル類、ハロゲ
ン化されても良い脂肪族炭化水素類又は芳香族炭化水素
類であり請求項第2項記載のスチレン誘導体類の製法。
3. The process for producing a styrene derivative according to claim 2, wherein the water-insoluble organic solvent is an ether, an aliphatic hydrocarbon which may be halogenated or an aromatic hydrocarbon.
【請求項4】水に不溶の有機溶媒がn−ペンタン又はn
−ヘキサンである請求項第3項記載のスチレン誘導体類
の製法。
4. An organic solvent insoluble in water is n-pentane or n-pentane.
The method for producing a styrene derivative according to claim 3, which is -hexane.
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