JP2566517B2 - Dynamic semiconductor memory device - Google Patents

Dynamic semiconductor memory device

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JP2566517B2
JP2566517B2 JP5102621A JP10262193A JP2566517B2 JP 2566517 B2 JP2566517 B2 JP 2566517B2 JP 5102621 A JP5102621 A JP 5102621A JP 10262193 A JP10262193 A JP 10262193A JP 2566517 B2 JP2566517 B2 JP 2566517B2
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divided bit
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divided
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博司 宮本
通裕 山田
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、ダイナミック型半導
体記憶装置に関し、特にMOSプロセスで形成されたダ
イナミック・ランダム・アクセス・メモリに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dynamic semiconductor memory device, and more particularly to a dynamic random access memory formed by a MOS process.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、ダイナミック・ランダム・アクセ
ス・メモリ(ダイナミックRAM)では、1個のトラン
ジスタと1個のコンデンサによって構成されるメモリセ
ルが使用される。この場合、コンデンサ容量に対するビ
ット線容量の比率が小さいメモリセルほど、データ読出
時のビット線の電位変化が大きくなり、センスアンプに
対する入力電位差が大きくなって、読出動作が確実に行
なわれる。しかし、メモリが大容量化され、集積度が上
がるにつれて、メモリセルサイズは小さくなるため、コ
ンデンサ容量は小さくなる。反面、1本のビット線に接
続されるメモリセルの数が増加するため、ビット線が長
くなり、ビット線容量は大きくなる傾向にある。このた
め、コンデンサ容量に対するビット線容量の比率が大き
くなり、読出動作が確実に行なわれなくなるおそれが生
じてきている。
2. Description of the Related Art Generally, a dynamic random access memory (dynamic RAM) uses a memory cell composed of one transistor and one capacitor. In this case, the smaller the ratio of the bit line capacitance to the capacitor capacitance, the larger the potential change of the bit line at the time of data reading, the larger the input potential difference to the sense amplifier, and the more reliable the reading operation. However, as the capacity of the memory increases and the degree of integration increases, the size of the memory cell decreases, and the capacity of the capacitor decreases. On the other hand, since the number of memory cells connected to one bit line increases, the bit line becomes longer and the bit line capacitance tends to increase. For this reason, the ratio of the bit line capacitance to the capacitor capacitance becomes large, and there is a possibility that the read operation may not be performed reliably.

【0003】この問題を解決するため、1本のビット線
を複数のブロックに分割し、コンデンサ容量とビット線
容量の比率を小さくする方法が試みられている。このよ
うな試みに関する2つの例を以下に説明する。
In order to solve this problem, a method of dividing one bit line into a plurality of blocks to reduce the ratio of the capacitor capacity to the bit line capacity has been attempted. Two examples of such attempts are described below.

【0004】図4は、ISSCC84、ダイジェスト・
オブ・テクニカル・ペーパーズの第278ないし279
頁に示される、従来のダイナミックRAMの構成の一部
を示す図である。図4では、ビット線対がBL1,/B
L1とBL2,/BL2とに2分割され、各分割ビット
線対で共有するセンスアンプを設けた、いわゆるシェア
ードセンスアンプ構成がとられている。なお、上記文献
では、メモリセルのトランジスタはPチャネルトランジ
スタで構成され、センスアンプはPチャネルトランジス
タで構成され、リストア回路はNチャネルトランジスタ
で構成された場合が記載されているが、図4では、簡単
化のため、これらのトランジスタの導電型を逆にした場
合について示す。
FIG. 4 shows the ISSCC 84, digest,
278-279 of the Technical Papers
It is a figure which shows a part of structure of the conventional dynamic RAM shown by page. In FIG. 4, the bit line pair is BL1, / B
A so-called shared sense amplifier configuration is adopted in which a sense amplifier is divided into L1 and BL2, / BL2 and shared by each divided bit line pair. Note that the above-mentioned document describes a case where the memory cell transistor is a P-channel transistor, the sense amplifier is a P-channel transistor, and the restore circuit is an N-channel transistor. For simplification, the case where the conductivity types of these transistors are reversed is shown.

【0005】図4を参照して、折返しビット線(folded
bit line )を構成するビット線対は、それぞれ分割ビ
ット線BL1,BLN,BL2および/BL1,/BL
N,/BL2に分割されている。分割ビット線BLNお
よび/BLNにはセンスアンプSAが接続され、分割ビ
ット線BL1および/BL1にはリストア回路RE1が
接続され、分割ビット線BL2および/BL2にはリス
トア回路RE2が接続されている。センスアンプSA
は、前述したように、NチャネルトランジスタQN1お
よびQN2により構成され、リストア回路RE1および
RE2は、それぞれ、PチャネルトランジスタQP1,
QP2およびQP3,QP4によって構成されている。
Referring to FIG. 4, a folded bit line (folded)
The bit line pairs forming the bit line) are divided bit lines BL1, BLN, BL2 and / BL1, / BL, respectively.
It is divided into N and / BL2. A sense amplifier SA is connected to the divided bit lines BLN and / BLN, a restore circuit RE1 is connected to the divided bit lines BL1 and / BL1, and a restore circuit RE2 is connected to the divided bit lines BL2 and / BL2. Sense amplifier SA
Is composed of N-channel transistors QN1 and QN2 as described above, and the restore circuits RE1 and RE2 are respectively connected to P-channel transistors QP1 and QP1.
It is composed of QP2, QP3 and QP4.

【0006】トランジスタQN1およびQN2のソース
は共通のセンスアンプ駆動トランジスタQN5に接続さ
れている。該トランジスタQN5のゲートにはセンスア
ンプ活性化信号SNが与えられるようになっている。ト
ランジスタQP1およびQP2のソースは共通のリスト
ア回路駆動トランジスタQP5に接続され、トランジス
タQP3およびQP4のソースは共通のリストア回路駆
動トランジスタQP6に接続されている。これらトラン
ジスタQP5およびQP6のゲートには、それぞれ、リ
ストア回路活性化信号SP1およびSP2が与えられる
ようになっている。
The sources of the transistors QN1 and QN2 are connected to a common sense amplifier driving transistor QN5. A sense amplifier activation signal SN is applied to the gate of the transistor QN5. The sources of the transistors QP1 and QP2 are connected to the common restore circuit drive transistor QP5, and the sources of the transistors QP3 and QP4 are connected to the common restore circuit drive transistor QP6. Restore circuit activation signals SP1 and SP2 are applied to the gates of these transistors QP5 and QP6, respectively.

【0007】分割ビット線BL1とBLNおよびBLN
とBL2は、それぞれ、トランスファーゲートトランジ
スタQT1およびQT3を介して接続され、分割ビット
線/BL1と/BLNおよび/BLNと/BL2は、そ
れぞれ、トランスファーゲートトランジスタQT2およ
びQT4を介して接続されている。トランスファーゲー
トトランジスタQT1およびQT2のゲートにはトラン
スファー信号T1が与えられ、トランスファーゲートト
ランジスタQT3およびQT4のゲートにはトランスフ
ァー信号T2が与えられるようになっている。
Divided bit lines BL1 and BLN and BLN
And BL2 are connected via transfer gate transistors QT1 and QT3, respectively, and the divided bit lines / BL1 and / BLN and / BLN and / BL2 are connected via transfer gate transistors QT2 and QT4, respectively. The transfer signal T1 is applied to the gates of the transfer gate transistors QT1 and QT2, and the transfer signal T2 is applied to the gates of the transfer gate transistors QT3 and QT4.

【0008】分割ビット線BL1および/BL1は、そ
れぞれ、列ゲートトランジスタQY1およびQY2を介
してバス線BUおよび/BUに接続されている。列ゲー
トトランジスタQY1およびQY2のゲートには、列選
択信号Yが与えられるようになっている。
Split bit lines BL1 and / BL1 are connected to bus lines BU and / BU via column gate transistors QY1 and QY2, respectively. A column selection signal Y is applied to the gates of the column gate transistors QY1 and QY2.

【0009】各分割ビット線には、メモリ容量に応じて
複数のメモリセルが接続されているが、ここでは代表的
に、分割ビット線BL2に接続されたメモリセルMC1
のみを示すことにする。メモリセルMC1はコンデンサ
CSおよびトランジスタQSで構成されている。トラン
ジスタQSのゲートはワード線WL1の一部を構成して
いる。また、コンデンサCS一方の電極はVSGに接続
されている。
A plurality of memory cells are connected to each divided bit line in accordance with the memory capacity. Here, memory cell MC1 connected to divided bit line BL2 is representatively shown.
I will show only. The memory cell MC1 is composed of a capacitor CS and a transistor QS. The gate of the transistor QS constitutes a part of the word line WL1. Further, one electrode of the capacitor CS is connected to VSG.

【0010】次に、図4の回路の動作を、分割ビット線
BL2に接続されたメモリセルMC1のコンデンサCS
が充電されていない状態、すなわち情報“0”がメモリ
セルMC1に記憶されている場合について、動作波形図
である図5を参照しながら説明する。
Next, the operation of the circuit of FIG. 4 will be described with reference to the capacitor CS of the memory cell MC1 connected to the divided bit line BL2.
Will be described with reference to FIG. 5, which is an operation waveform diagram, in the case where is not charged, that is, the case where the information “0” is stored in the memory cell MC1.

【0011】時刻t0にトランスファー信号T1が
“L”になり、分割ビット線BLNとBL1および/B
LNと/BL1を、それぞれ、分離する。このときまで
に、分割ビット線BL1,/BL1,BL2,/BL
2,BLN,/BLNは図示しない手段により中間電位
(Vcc−Vss)/2にプリチャージされている。
At time t0, the transfer signal T1 becomes "L", and the divided bit lines BLN and BL1 and / B.
LN and / BL1 are separated, respectively. By this time, the divided bit lines BL1, / BL1, BL2, / BL
2, BLN, / BLN are precharged to an intermediate potential (Vcc-Vss) / 2 by means not shown.

【0012】時刻t1において、選択されたワード線W
L1が“H”になると、トランジスタQSがオンして分
割ビット線BL2の電位が少し下がり、分割ビット線B
L2と/BL2との間に電位差が生じる。
At time t1, the selected word line W
When L1 becomes “H”, the transistor QS is turned on, the potential of the divided bit line BL2 is slightly lowered, and the divided bit line B
A potential difference occurs between L2 and / BL2.

【0013】時刻t2では、センスアンプ活性化信号S
Lが“H”になり、分割ビット線BL2と/BL2との
間の電位差が拡大される。すなわち、分割ビット線/B
L2の電位は前記中間電位付近に保たれるが、分割ビッ
ト線BL2の電位はトランスファーゲートトランジスタ
QT3およびセンスアンプSAを通して接地電位Vss
近くまで放電される。
At time t2, the sense amplifier activation signal S
L becomes "H", and the potential difference between the divided bit lines BL2 and / BL2 is enlarged. That is, divided bit line / B
The potential of L2 is maintained near the intermediate potential, but the potential of the divided bit line BL2 passes through the transfer gate transistor QT3 and the sense amplifier SA to the ground potential Vss.
It is discharged to near.

【0014】時刻t3にリストア回路活性化信号SP2
が“L”になると、分割ビット線/BL2の電位が電源
電位Vcc近くまで引上げられ、分割ビット線BL2と
/BL2の間の電位差はさらに拡大される。
At time t3, the restore circuit activation signal SP2
Becomes "L", the potential of divided bit line / BL2 is raised to near the power supply potential Vcc, and the potential difference between divided bit lines BL2 and / BL2 is further expanded.

【0015】時刻t4にトランスファー信号T1が再び
“H”になると、分割ビット線BLNおよび/BLNの
電位が分割ビット線BL1および/BL1に伝達され
る。この結果、分割ビット線BL1の電位は接地電位V
ss近くまで放電され、分割ビット線/BL1の電位は
逆に引上げられる。
When transfer signal T1 becomes "H" again at time t4, the potentials of divided bit lines BLN and / BLN are transmitted to divided bit lines BL1 and / BL1. As a result, the potential of the divided bit line BL1 is the ground potential V
It is discharged to near ss and the potential of the divided bit line / BL1 is pulled up in reverse.

【0016】時刻t5にリストア回路活性化信号SP1
が“L”になると、分割ビット線/BL1の電位は電源
電位Vcc付近まで引上げられる。
At time t5, the restore circuit activation signal SP1
Becomes "L", the potential of divided bit line / BL1 is pulled up to near power supply potential Vcc.

【0017】時刻t6に列選択信号Yが“H”になり、
分割ビット線BL1および/BL1の電位がバス線BU
および/BUに伝達されてメモリセルMC1に記憶され
た情報“0”が読出される。
At time t6, the column selection signal Y becomes "H",
The potentials of the divided bit lines BL1 and / BL1 are the bus line BU.
Information "0" transmitted to and / BU and stored in memory cell MC1 is read.

【0018】上述のように、メモリセルMC1のコンデ
ンサCSに記憶された情報は、まず、分割ビット線BL
2上に読出され、分割ビット線BL2と/BL2との間
の電位差がセンスアンプSAで増幅される。このとき、
分割ビット線BL2の電位はトランスファーゲートトラ
ンジスタQT3を通してセンスアンプSAで放電され
る。通常、折返しビット線構成のダイナミックRAMに
おいては、ビット線はアルミニウムまたは高融点金属の
珪化物等の低抵抗材料で形成される。このため、ビット
線抵抗を低くすることができ、ビット線の電位の放電を
速くすることができた。
As described above, the information stored in the capacitor CS of the memory cell MC1 is first stored in the divided bit line BL.
2 and the potential difference between the divided bit lines BL2 and / BL2 is amplified by the sense amplifier SA. At this time,
The potential of the divided bit line BL2 is discharged by the sense amplifier SA through the transfer gate transistor QT3. Usually, in a dynamic RAM having a folded bit line structure, the bit line is formed of a low resistance material such as aluminum or a silicide of a refractory metal. Therefore, the bit line resistance can be lowered, and the potential of the bit line can be discharged faster.

【0019】しかし、上述のように、シェアードセンス
アンプ構成のダイナミックRAMでは、メモリセルが接
続される分割ビット線とセンスアンプとの間にトランス
ファーゲートトランジスタが入るため、このトランジス
タ部分では低抵抗材料でビット線を形成することができ
ない。
However, as described above, in the dynamic RAM having the shared sense amplifier structure, since the transfer gate transistor is inserted between the divided bit line to which the memory cell is connected and the sense amplifier, the transistor portion is made of a low resistance material. Bit line cannot be formed.

【0020】また、図4に示すように、トランスファー
ゲートトランジスタは、ビット線のピッチごとに設ける
必要があり、そのため、トランジスタ幅はビット線のピ
ッチと同じかあるいはその2倍程度にしかできない。
今、ビット線のピッチを考えると、たとえば1Mビット
ダイナミックRAMでは3μm程度になる。このため、
トランスファーゲートトランジスタのトランジスタ幅は
数μm程度以下に限られてしまう。したがって、トラン
スファーゲートトランジスタのコンダクタンスが小さく
なり、センスアンプ動作時に分割ビット線の電位の放電
が遅延するという問題があった。
Further, as shown in FIG. 4, it is necessary to provide the transfer gate transistor for each pitch of the bit lines, and therefore, the transistor width can be made equal to the pitch of the bit lines or only about twice thereof.
Considering the bit line pitch, for example, in the case of a 1 Mbit dynamic RAM, the pitch is about 3 μm. For this reason,
The transistor width of the transfer gate transistor is limited to about several μm or less. Therefore, there is a problem in that the conductance of the transfer gate transistor becomes small and the discharge of the potential of the divided bit line is delayed during the operation of the sense amplifier.

【0021】さらに、トランスファーゲートトランジス
タのソースおよびドレインは、基板またはウェル内に設
けられた拡散層により形成されているため、基板または
ウェルを介したノイズがビット線に伝達され、センスア
ンプの誤動作を引起こすおそれがあるという問題点もあ
った。
Further, since the source and the drain of the transfer gate transistor are formed by the diffusion layer provided in the substrate or the well, noise through the substrate or the well is transmitted to the bit line, which causes malfunction of the sense amplifier. There was also a problem that it might cause it.

【0022】図6は、本発明に興味ある他の従来例の構
成を示す図であり、たとえば特開昭59−101093
号に示される。図6の回路は、Nチャネルトランジスタ
のみで構成されており、ビット線は3分割されている。
分割ビット線BL4および/BL4にはアクティブプル
アップ回路APおよびビット線プリチャージ回路BCが
接続されている。各分割ビット線間にはトランスファー
ゲートトランジスタQT1,QT2,QT3,QT4が
設けられており、分割ビット線BL4とバス線BUとの
間および分割ビット線/BL4とバス線/BUとの間に
は、それぞれ、列ゲートトランジスタQY1およびQY
2が設けられている。分割ビット線BL5および/BL
5にはセンスアンプSA5が接続され、分割ビット線B
L6および/BL6にはセンスアンプSA6が接続され
ている。
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of another conventional example which is of interest to the present invention, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 59-101093.
No. The circuit of FIG. 6 is composed of only N-channel transistors, and the bit line is divided into three.
An active pull-up circuit AP and a bit line precharge circuit BC are connected to the divided bit lines BL4 and / BL4. Transfer gate transistors QT1, QT2, QT3, QT4 are provided between the divided bit lines, and between the divided bit line BL4 and the bus line BU and between the divided bit line / BL4 and the bus line / BU. , Column gate transistors QY1 and QY, respectively.
2 are provided. Split bit lines BL5 and / BL
5, a sense amplifier SA5 is connected to the divided bit line B
A sense amplifier SA6 is connected to L6 and / BL6.

【0023】さらに、各分割ビット線には、それぞれ、
複数のメモリセルが接続されているが、ここでは、各分
割ビット線に接続されたメモリセルのうち、分割ビット
線BL5に接続されたメモリセルMC1のみを示してい
る。メモリセルMC1はコンデンサCSおよびトランジ
スタQSで構成されており、トランジスタQSのゲート
はワード線WL1の一部を構成している。コンデンサC
Sの一方の電極はメモリセルプレート電位VSGに接続
されている。
Further, each divided bit line is
Although a plurality of memory cells are connected, here, of the memory cells connected to each divided bit line, only the memory cell MC1 connected to the divided bit line BL5 is shown. The memory cell MC1 is composed of a capacitor CS and a transistor QS, and the gate of the transistor QS forms a part of the word line WL1. Capacitor C
One electrode of S is connected to the memory cell plate potential VSG.

【0024】次に図6の回路の動作を、メモリセルMC
1のコンデンサCSが充電されていない状態、すなわち
情報“0”がメモリセルMC1に記憶されている場合に
ついて、動作波形図である図7を参照しながら説明す
る。
Next, the operation of the circuit of FIG.
The state where the capacitor CS of 1 is not charged, that is, the case where the information “0” is stored in the memory cell MC1 will be described with reference to FIG. 7 which is an operation waveform diagram.

【0025】時刻t0以前においては、トランスファー
信号BSCおよびリセット信号RSTがともに“H”レ
ベルとなっており、トランスファーゲートトランジスタ
QT1,QT2,QT3およびQT4がすべてオンして
いる。したがって、分割ビット線BL4,BL5,BL
6は互いに接続され、かつ、分割ビット線/BL4,/
BL5,/BL6も互いに接続されている。
Before time t0, both transfer signal BSC and reset signal RST are at "H" level, and transfer gate transistors QT1, QT2, QT3 and QT4 are all on. Therefore, the divided bit lines BL4, BL5, BL
6 are connected to each other and divided bit lines / BL4, /
BL5 and / BL6 are also connected to each other.

【0026】また、リセット信号RSTが“H”となる
ことにより、ビット線プリチャージ回路BCが動作し
て、各分割ビット線の電位は中間電位(Vcc−Vs
s)/2にプリチャージされる。
When the reset signal RST becomes "H", the bit line precharge circuit BC operates and the potential of each divided bit line becomes the intermediate potential (Vcc-Vs).
s) / 2 is precharged.

【0027】時刻t0において、トランスファー信号B
SCおよびリセット信号RSTがともに“L”になり、
時刻t1には、選択されたワード線WL1が“H”にな
り、分割ビット線BL5の電位が少し下がり、分割ビッ
ト線BL5と/BL5との間に電位差が生じる。
At time t0, the transfer signal B
Both SC and reset signal RST become "L",
At time t1, the selected word line WL1 becomes “H”, the potential of the divided bit line BL5 slightly drops, and a potential difference occurs between the divided bit lines BL5 and / BL5.

【0028】時刻t2にセンスアンプ活性化信号SA5
が“H”になると、センスアンプSA5が動作して分割
ビット線BL5と/BL5との間の電位差が拡大され
る。
At time t2, the sense amplifier activation signal SA5
Becomes "H", the sense amplifier SA5 operates to expand the potential difference between the divided bit lines BL5 and / BL5.

【0029】時刻t3にトランスファー信号BSCが
“H”になると、トランスファーゲートトランジスタQ
T1,QT2,QT3およびQT4がオンして、分割ビ
ット線BL5および/BL5の電位が、分割ビット線B
L4,BL6および/BL4,/BL6にそれぞれ伝達
される。
When the transfer signal BSC becomes "H" at time t3, the transfer gate transistor Q
T1, QT2, QT3 and QT4 are turned on, and the potentials of divided bit lines BL5 and / BL5 are changed to divided bit line B.
It is transmitted to L4, BL6 and / BL4, / BL6, respectively.

【0030】時刻t4にセンスアンプ活性化信号SN6
が“H”になることにより、分割ビット線BL6と/B
L6との間の電位差が拡大され、したがって、分割ビッ
ト線BL4と/BL4およびBL5と/BL5との間の
電位差がともに拡大される。
At time t4, the sense amplifier activation signal SN6
Becomes "H", the divided bit lines BL6 and / B
The potential difference between L6 and the divided bit lines BL4 and / BL4 and BL5 and / BL5 is also enlarged.

【0031】時刻t5にアクティブプルアップ信号AP
Eが“H”になってアクティブプルアップ回路APが動
作し、分割ビット線/BL4,/BL5および/BL6
の電位をともに電源電位Vcc付近まで引上げる。
At time t5, the active pull-up signal AP
E becomes "H", the active pull-up circuit AP operates, and the divided bit lines / BL4, / BL5 and / BL6
Are both raised to near the power supply potential Vcc.

【0032】次に、列選択信号Yが“H”になり、分割
ビット線BL4および/BL4の電位が、それぞれ、バ
ス線BUおよび/BUに伝達されて情報が読出される。
Then, column select signal Y attains "H", the potentials of divided bit lines BL4 and / BL4 are transmitted to bus lines BU and / BU, respectively, and information is read.

【0033】[0033]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、第6図
に示す回路では、各分割ビット線ごとにセンスアンプが
設けられているが、アクティブプルアップ回路は各分割
ビット線ごとには設けられておらず、ビット線1本全体
に1個のアクティブプルアップ回路が設けられているに
すぎない。このため、アクティブプルアップ回路動作時
には、1個のアクティブプルアップ回路によってビット
線1本全体の電位を引上げる必要があり、駆動能力の大
きなアクティブプルアップ回路が必要となる。このた
め、アクティブプルアップ回路の面積が増加するという
問題点があった。
As described above, in the circuit shown in FIG. 6, the sense amplifier is provided for each divided bit line, but the active pull-up circuit is provided for each divided bit line. However, only one active pull-up circuit is provided for the entire bit line. Therefore, when operating the active pull-up circuit, it is necessary to raise the potential of the entire bit line by one active pull-up circuit, which requires an active pull-up circuit having a large driving capability. Therefore, there is a problem that the area of the active pull-up circuit increases.

【0034】また、アクティブプルアップ回路によって
各分割ビット線電位を電源電位Vccまで引上げるため
には、トランスファーゲートトランジスタのゲート電
位、すなわちトランスファー信号BSCを電源電位Vc
c以上に昇圧しておく必要がある。しかしながら、メモ
リの集積度が上がるにつれてトランジスタのゲート酸化
膜が薄くなる傾向にあり、たとえば1Mビットダイナミ
ックRAMでは、ゲート酸化膜は200〜300Å程度
になっている。このため、ゲート電位を電源電位以上に
昇圧することは、ゲート酸化膜の信頼性を悪くするとい
う問題点を生じさせることになる。
In order to raise each divided bit line potential to the power supply potential Vcc by the active pull-up circuit, the gate potential of the transfer gate transistor, that is, the transfer signal BSC is set to the power supply potential Vc.
It is necessary to boost the voltage above c. However, as the degree of integration of the memory increases, the gate oxide film of the transistor tends to become thinner. For example, in a 1M bit dynamic RAM, the gate oxide film is about 200 to 300 Å. Therefore, boosting the gate potential above the power supply potential causes a problem that the reliability of the gate oxide film is deteriorated.

【0035】本発明は、上記のような従来のダイナミッ
クRAMの持つ各問題点を解決するためになされたもの
で、情報の読出を高速かつ安定して行ない、かつ、ゲー
ト酸化膜の信頼性の高いダイナミックRAMを提供する
ことを目的としている。
The present invention has been made in order to solve the problems of the conventional dynamic RAM as described above, and can read information at high speed and stably, and the reliability of the gate oxide film can be improved. The purpose is to provide a high dynamic RAM.

【0036】[0036]

【課題を解決するための手段】本発明に係るダイナミッ
クRAMは、ビット線対の各々を複数の分割ビット線対
に分割するとともに、各分割ビット線対に対し第1の導
電型のトランジスタで構成されるセンスアンプおよび第
2の導電型のトランジスタで構成されるリストア回路を
設ける。さらに、列選択時において列選択信号に応答し
て選択列に対応するビット線において第1の分割ビット
線対をデータバスに接続する第1導電型のトランジスタ
で構成される列選択手段と、各分割ビット線対間に、そ
れぞれ1本のビット線に関連する隣接分割ビット線を接
続するためのそれぞれが第1導電型のトランジスタで構
成される接続素子手段が設けられる。
A dynamic RAM according to the present invention divides each bit line pair into a plurality of divided bit line pairs, and includes a transistor of a first conductivity type for each divided bit line pair. A restore circuit including a sense amplifier and a second conductivity type transistor is provided. Further, in the column selection, in response to the column selection signal, in the bit lines corresponding to the selected column, the column selection means configured by transistors of the first conductivity type for connecting the first divided bit line pair to the data bus, Between the pair of divided bit lines, connection element means each for connecting an adjacent divided bit line associated with one bit line are formed of transistors of the first conductivity type.

【0037】各ビット線対において選択時バス線に接続
される第1の分割ビット線においては、列選択手段に近
い端部においてリストア回路が設けられ、接続素子手段
に近い端部においてセンスアンプが設けられる。
In the first divided bit line connected to the bus line at the time of selection in each bit line pair, a restore circuit is provided at the end near the column selecting means, and a sense amplifier is provided at the end near the connecting element means. It is provided.

【0038】[0038]

【作用】本発明に係るダイナミック型半導体記憶装置に
おいては、各分割ビット線対ごとにセンスアンプおよび
リストア回路を設けたため、センス動作を高速かつ安定
して行なえ、また、トランスファーゲートトランジスタ
のゲート電圧を電源電位以上に昇圧する必要がないた
め、ダイナミック型半導体記憶装置のアクセス時間が短
縮できるとともに動作マージンが拡大し、さらに信頼性
が向上する。
In the dynamic semiconductor memory device according to the present invention, since the sense amplifier and the restore circuit are provided for each divided bit line pair, the sensing operation can be performed at high speed and stably, and the gate voltage of the transfer gate transistor can be controlled. Since it is not necessary to boost the voltage above the power supply potential, the access time of the dynamic semiconductor memory device can be shortened, the operation margin is expanded, and the reliability is further improved.

【0039】また、データバス線に接続される第1の分
割ビット線対においては接続素子側にセンスアンプを設
けたため、この第1の分割ビット線対を介して隣接分割
ビット線から伝達されたメモリセル読出データをこの第
1の分割ビット線対のビット線における信号伝搬遅延を
伴うことなく高速にセンスアンプにより検知増幅するこ
とができるため、正確かつ高速にセンス動作が実現され
るとともに、センスマージンが拡大する。さらに、接続
素子およびセンスアンプが同一導電型のトランジスタで
構成されるため、同一基板領域(ウェル)にこれらの回
路要素を形成することができ、回路占有面積を低減する
ことができる。さらに、列選択手段近傍に第2導電型の
トランジスタで構成されるリストア回路を設けているた
め、データ書込時においてバス選択手段におけるしきい
値電圧損失が生じてビット線上にデータが伝達された場
合においても、確実にこのリストア回路が高速で動作し
て、正確にビット線対上の電位を書込データに応じた電
位レベルに設定することができる。
In addition, since the sense amplifier is provided on the connection element side in the first divided bit line pair connected to the data bus line, the signal is transmitted from the adjacent divided bit line via this first divided bit line pair. Since the memory cell read data can be detected and amplified by the sense amplifier at high speed without the signal propagation delay in the bit line of the first divided bit line pair, accurate and high speed sense operation can be realized and sense operation can be performed. The margin expands. Furthermore, since the connection element and the sense amplifier are composed of transistors of the same conductivity type, these circuit elements can be formed in the same substrate region (well), and the circuit occupied area can be reduced. Further, since the restore circuit composed of the second conductivity type transistor is provided in the vicinity of the column selecting means, a threshold voltage loss occurs in the bus selecting means during data writing, and the data is transmitted onto the bit line. Even in this case, the restore circuit can surely operate at a high speed to accurately set the potential on the bit line pair to the potential level according to the write data.

【0040】[0040]

【実施例】図1はこの発明の一実施例であるダイナミッ
クRAMの構成の一部を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a part of the structure of a dynamic RAM according to an embodiment of the present invention.

【0041】図1を参照して、折返しビット線構成のビ
ット線対は、たとえば、BL1,/BL1とBL2,/
BL2とに2分割されている。分割ビット線BL1およ
び/BL1にはセンスアンプSA1およびリストア回路
RE1が接続されている。センスアンプSA1はNチャ
ネルトランジスタQN1およびQN2によって構成され
ており、リストア回路RE1はPチャネルトランジスタ
QP1およびQP2によって構成されている。
Referring to FIG. 1, the bit line pair having the folded bit line structure is, for example, BL1, / BL1 and BL2, /.
It is divided into two, BL2 and BL2. A sense amplifier SA1 and a restore circuit RE1 are connected to the divided bit lines BL1 and / BL1. The sense amplifier SA1 is composed of N-channel transistors QN1 and QN2, and the restore circuit RE1 is composed of P-channel transistors QP1 and QP2.

【0042】分割ビット線BL2および/BL2にはセ
ンスアンプSA2およびリストア回路RE2が接続され
ている。センスアンプSA2はNチャネルトランジスタ
QN3およびQN4により構成されており、リストア回
路RE2はPチャネルトランジスタQP3およびQP4
により構成されている。
A sense amplifier SA2 and a restore circuit RE2 are connected to the divided bit lines BL2 and / BL2. The sense amplifier SA2 is composed of N-channel transistors QN3 and QN4, and the restore circuit RE2 is composed of P-channel transistors QP3 and QP4.
It consists of.

【0043】センスアンプSA1を構成するトランジス
タQN1およびQN2のソースは共通のセンスアンプ駆
動トランジスタQN5に接続され、センスアンプSA2
を構成するトランジスタQN3およびQN4のソース
は、共通のセンスアンプ駆動トランジスタQN6に接続
されている。これらトランジスタQN5およびQN6の
ゲートには、それぞれ、センスアンプ活性化信号SN1
およびSN2が与えられるようになっている。
The sources of the transistors QN1 and QN2 forming the sense amplifier SA1 are connected to a common sense amplifier drive transistor QN5, and the sense amplifier SA2 is used.
The sources of the transistors QN3 and QN4 configuring the above are connected to a common sense amplifier driving transistor QN6. The gates of these transistors QN5 and QN6 respectively have a sense amplifier activation signal SN1.
And SN2 are provided.

【0044】リストア回路RE1を構成するトランジス
タQP1およびQP2のソースは共通のリストア回路駆
動トランジスタQP5に接続され、リストア回路RE2
を構成するトランジスタQP3およびQP4のソースは
共通のリストア回路駆動トランジスタQP6に接続され
ている。これらトランジスタQP5およびQP6のゲー
トには、それぞれ、リストア回路活性化信号SP1およ
びSP2が与えられるようになっている。
The sources of the transistors QP1 and QP2 constituting the restore circuit RE1 are connected to the common restore circuit drive transistor QP5, and the restore circuit RE2 is used.
The sources of the transistors QP3 and QP4 constituting the above are connected to a common restore circuit drive transistor QP6. Restore circuit activation signals SP1 and SP2 are applied to the gates of these transistors QP5 and QP6, respectively.

【0045】分割ビット線BL1とBL2および/BL
1と/BL2とは、それぞれ、トランスファーゲートト
ランジスタQT1およびQT2を介して接続されてお
り、両トランジスタQT1およびQT2のゲートには、
トランスファー信号Tが与えられるようになっている。
Divided bit lines BL1 and BL2 and / BL
1 and / BL2 are connected via transfer gate transistors QT1 and QT2, respectively, and the gates of both transistors QT1 and QT2 are
The transfer signal T is provided.

【0046】分割ビット線BL1とバス線BUおよび分
割ビット線/BL1とバス線/BUとは、それぞれ、列
ゲートトランジスタQY1およびQY2を介して接続さ
れている。トランジスタQY1およびQY2のゲートに
は列選択信号Yが与えられるようになっている。
Split bit line BL1 and bus line BU, and split bit line / BL1 and bus line / BU are connected through column gate transistors QY1 and QY2, respectively. The column selection signal Y is applied to the gates of the transistors QY1 and QY2.

【0047】各分割ビット線にはメモリ容量に応じて複
数のメモリセルが接続されているが、ここでは代表的
に、分割ビット線BL2に接続されたメモリセルMC1
のみを示している。メモリセルMC1はコンデンサCS
およびトランジスタQSで構成されている。トランジス
タQSのゲートはワード線WL1の一部を構成してい
る。また、コンデンサCSの一方の電極はメモリセルプ
レート電極VSGに接続されている。
A plurality of memory cells are connected to each divided bit line in accordance with the memory capacity. Here, memory cell MC1 connected to divided bit line BL2 is representatively shown.
Shows only. The memory cell MC1 is a capacitor CS
And a transistor QS. The gate of the transistor QS constitutes a part of the word line WL1. Further, one electrode of the capacitor CS is connected to the memory cell plate electrode VSG.

【0048】次に、図1の回路の動作を説明する。ここ
では、まず、メモリセルMC1のコンデンサCSが充電
されていない状態、すなわち情報“0”がメモリセルM
C1に記憶されている場合について、動作波形図である
図2を参照しながら説明する。
Next, the operation of the circuit shown in FIG. 1 will be described. Here, first, the state where the capacitor CS of the memory cell MC1 is not charged, that is, the information “0” is stored in the memory cell M1.
The case of being stored in C1 will be described with reference to the operation waveform diagram of FIG.

【0049】時刻t0以前において、分割ビット線BL
1,/BL1,BL2,/BL2は図示しない手段によ
り中間電位(Vcc−Vss)/2にプリチャージされ
ており、また、トランスファー信号Tは“L”になって
いる。
Before time t0, the divided bit line BL
1, / BL1, BL2, / BL2 are precharged to an intermediate potential (Vcc-Vss) / 2 by means not shown, and the transfer signal T is "L".

【0050】時刻t0に選択されたワード線WL1が
“H”になると、トランジスタQSがオンして分割ビッ
ト線BL2の電位が少し下がり、分割ビット線BL2と
/BL2との間に電位差が生じる。
When the word line WL1 selected at the time t0 becomes "H", the transistor QS is turned on and the potential of the divided bit line BL2 is slightly lowered, so that a potential difference is generated between the divided bit lines BL2 and / BL2.

【0051】時刻t1にセンスアンプ活性化信号SN2
が“H”になると、分割ビット線BL2と/BL2との
間の電位差が拡大される。すなわち、分割ビット線/B
L2の電位は前記中間電位付近に保たれるが、分割ビッ
ト線BL2の電位はセンスアンプSA2を通して接地電
位Vss近くまで放電される。
At time t1, the sense amplifier activation signal SN2
Becomes "H", the potential difference between the divided bit lines BL2 and / BL2 is enlarged. That is, divided bit line / B
The potential of L2 is maintained near the intermediate potential, but the potential of the divided bit line BL2 is discharged to near the ground potential Vss through the sense amplifier SA2.

【0052】時刻t2にリストア回路活性化信号SP2
が“L”になると、分割ビット線/BL2の電位がリス
トア回路RE2を通して電源電位Vcc近くまで引上げ
られ、分割ビット線BL2と/BL2との間の電位差は
さらに拡大される。
At time t2, restore circuit activation signal SP2
Becomes "L", the potential of the divided bit line / BL2 is raised to near the power supply potential Vcc through the restore circuit RE2, and the potential difference between the divided bit lines BL2 and / BL2 is further expanded.

【0053】時刻t3にトランスファー信号Tが“H”
になると、分割ビット線BL2および/BL2の電位が
分割ビット線BL1および/BL1に伝達される。この
とき、分割ビット線BL1の電位はトランスファーゲー
トトランジスタQT1およびセンスアンプSA2を通し
て放電され始め、分割ビット線/BL1の電位はトラン
スファーゲートトランジスタQT2およびリストア回路
RE2を通して中間電位から引上げられ始める。
At time t3, the transfer signal T is "H".
Then, the potentials of divided bit lines BL2 and / BL2 are transmitted to divided bit lines BL1 and / BL1. At this time, the potential of divided bit line BL1 begins to be discharged through transfer gate transistor QT1 and sense amplifier SA2, and the potential of divided bit line / BL1 begins to be raised from the intermediate potential through transfer gate transistor QT2 and restore circuit RE2.

【0054】時刻t4にセンスアンプ活性化信号SN1
が“H”になると、センスアンプSA1が動作して分割
ビット線BL1の電位を接地電位Vss近くまで放電す
る。
At time t4, the sense amplifier activation signal SN1
Becomes "H", the sense amplifier SA1 operates to discharge the potential of the divided bit line BL1 to near the ground potential Vss.

【0055】時刻t5にリストア回路活性化信号SP1
が“L”になると、リストア回路RE1が動作して分割
ビット線/BL1の電位は電源電位Vcc近くまで引上
げられる。
At time t5, the restore circuit activation signal SP1
Becomes "L", the restore circuit RE1 operates to raise the potential of the divided bit line / BL1 to near the power supply potential Vcc.

【0056】次に、時刻t6に列選択信号Yが“H”に
なり、列ゲートトランジスタQY1およびQY2がオン
して、分割ビット線BL1および/BL1の電位が、そ
れぞれ、バス線BUおよび/BUに伝達されて、メモリ
セルMC1に記憶されていた情報“0”が読出される。
Next, at time t6, the column selection signal Y becomes "H", the column gate transistors QY1 and QY2 are turned on, and the potentials of the divided bit lines BL1 and / BL1 are changed to the bus lines BU and / BU, respectively. Then, the information "0" stored in memory cell MC1 is read.

【0057】次に、メモリセルMC1のコンデンサCS
が充電されている状態、すなわち情報“1”がメモリセ
ルMC1に記憶されている場合について、動作波形図で
ある図3を参照しながら説明する。
Next, the capacitor CS of the memory cell MC1
The state in which is charged, that is, the case where the information "1" is stored in the memory cell MC1 will be described with reference to FIG. 3 which is an operation waveform diagram.

【0058】分割ビット線のプリチャージおよびトラン
スファー信号Tが“L”となる動作は、先に説明したメ
モリセルMC1に記憶されている情報が“0”の場合と
同様にして行なわれる。
The precharge of the divided bit lines and the operation of setting the transfer signal T to "L" are performed in the same manner as in the case where the information stored in the memory cell MC1 described above is "0".

【0059】時刻t0において、選択されたワード線W
L1が“H”になると、トランジスタQSがオンして分
割ビット線BL2の電位が少し上がり、分割ビット線B
L2と/BL2との間に電位差が生じる。
At time t0, the selected word line W
When L1 becomes “H”, the transistor QS is turned on, the potential of the divided bit line BL2 rises a little, and the divided bit line B
A potential difference occurs between L2 and / BL2.

【0060】時刻t1にセンスアンプ活性化信号SN2
が“H”になると、分割ビット線BL2と/BL2との
間の電位差が拡大される。すなわち、分割ビット線BL
1の電位は前記中間電位より少し高い電位に保たれる
が、分割ビット線/BL2の電位はセンスアンプSA2
を通して接地電位Vss近くまで放電される。
At time t1, sense amplifier activation signal SN2
Becomes "H", the potential difference between the divided bit lines BL2 and / BL2 is enlarged. That is, the divided bit line BL
The potential of 1 is kept a little higher than the intermediate potential, but the potential of the divided bit line / BL2 is the sense amplifier SA2.
Is discharged to near ground potential Vss.

【0061】時刻t2にリストア回路活性化信号SP2
が“L”になると、分割ビット線BL2の電位がリスト
ア回路RE2を通して電源電位Vcc近くまで引上げら
れ、分割ビット線BL2と/BL2との間の電位差はさ
らに拡大される。
At time t2, restore circuit activation signal SP2
Becomes "L", the potential of the divided bit line BL2 is raised to near the power supply potential Vcc through the restore circuit RE2, and the potential difference between the divided bit lines BL2 and / BL2 is further expanded.

【0062】時刻t3にトランスファー信号Tが“H”
になると、分割ビット線BL2および/BL2の電位
が、それぞれ、分割ビット線BL1および/BL1に伝
達される。このとき、分割ビット線/BL1の電位はト
ランスファーゲートトランジスタQT2およびセンスア
ンプSA2を通して放電され始め、分割ビット線BL1
の電位はトランスファーゲートトランジスタQT1およ
びリストア回路RE2を通して引上げられ始める。
At time t3, the transfer signal T becomes "H".
Then, the potentials of divided bit lines BL2 and / BL2 are transmitted to divided bit lines BL1 and / BL1, respectively. At this time, the potential of divided bit line / BL1 starts to be discharged through transfer gate transistor QT2 and sense amplifier SA2, and divided bit line BL1
Starts to be pulled up through the transfer gate transistor QT1 and the restore circuit RE2.

【0063】時刻t4にセンスアンプ活性化信号SN1
が“H”になると、分割ビット線/BL1の電位が接地
電位Vss近くまで放電される。
At time t4, the sense amplifier activation signal SN1
Becomes "H", the potential of the divided bit line / BL1 is discharged to near the ground potential Vss.

【0064】時刻t5にリストア回路活性化信号SP1
が“L”になると、分割ビット線BL1の電位が電源電
位Vcc近くまで引上げられる。
At time t5, the restore circuit activation signal SP1
Becomes "L", the potential of the divided bit line BL1 is raised to near the power supply potential Vcc.

【0065】次に、時刻t6に列選択信号Yが“H”に
なり、バス線BU,/BUに情報“1”が読出される。
Next, at time t6, the column selection signal Y becomes "H", and the information "1" is read onto the bus lines BU and / BU.

【0066】以上で、本発明の好ましい実施例の構成お
よび動作は詳しく説明された。図1に示した回路におい
て、センスアンプSA2に対してリストア回路RE2
が、またセンスアンプSA1に対してリストア回路RE
1がそれぞれメモリ領域を隔てて離れて設けられてい
る。すなわち、分割ビット線対の一方端部と他方端部と
にセンスアンプおよびリストア回路がそれぞれ設けられ
ている。これにより、CMOS(コンプリメンタリMO
S)回路において発生しやすいラッチアップを確実に抑
制することができる。
The configuration and operation of the preferred embodiment of the present invention have been described above in detail. In the circuit shown in FIG. 1, the restore circuit RE2 is added to the sense amplifier SA2.
However, the restore circuit RE is added to the sense amplifier SA1.
1 are provided separately from each other with a memory area. That is, the sense amplifier and the restore circuit are provided at one end and the other end of the divided bit line pair, respectively. As a result, CMOS (complementary MO
S) It is possible to reliably suppress the latch-up that tends to occur in the circuit.

【0067】これに加えて、センスアンプSA2に対し
てリストア回路RE2が、また、センスアンプSA1に
対してリストア回路RE1がそれぞれ異なったタイミン
グで活性化されるため、電源Vccからこれらのリスト
ア回路およびセンスアンプを介して接地Vssに向かっ
て流れる電流のピーク値を低減することができる。
In addition to this, the restore circuit RE2 is activated for the sense amplifier SA2 and the restore circuit RE1 is activated for the sense amplifier SA1 at different timings. The peak value of the current flowing toward the ground Vss via the sense amplifier can be reduced.

【0068】ピーク電流を減少するこにとより、ノイズ
の発生を抑制することができ、ラッチアップの発生を防
止することができる。同時にこのダイナミックRAMの
動作マージンを改善することもできる。
By reducing the peak current, the generation of noise can be suppressed and the latch-up can be prevented. At the same time, the operating margin of this dynamic RAM can be improved.

【0069】さらに、バス線BUおよび/BUに選択時
に接続されるビット線BL1および/BL1において
は、トランスファーゲートトランジスタQT1およびQ
T2側の端部にセンスアンプSA1が設けられている。
このため、ビット線BL2および/BL2に読出された
選択メモリセルデータをバス線BUおよび/BUに伝達
する場合、転送ゲートトランジスタQT1およびQT2
を導通状態とした後即座にセンスアンプSA1を活性状
態とすることができる。センスアンプSA1と転送ゲー
トトランジスタとの間の信号線の距離は極めて短く、信
号伝搬遅延および信号電位の変化などが生じないためで
ある。
Furthermore, transfer gate transistors QT1 and QT are connected to bit lines BL1 and / BL1 connected to bus lines BU and / BU when selected.
A sense amplifier SA1 is provided at the end on the T2 side.
Therefore, when the selected memory cell data read onto bit lines BL2 and / BL2 is transmitted to bus lines BU and / BU, transfer gate transistors QT1 and QT2 are transmitted.
The sense amplifier SA1 can be activated immediately after the switch is turned on. This is because the signal line distance between the sense amplifier SA1 and the transfer gate transistor is extremely short, and signal propagation delay and change in signal potential do not occur.

【0070】なお、上記実施例においては、Nチャネル
トランジスタにより構成されたセンスアンプをまず動作
させ、次にPチャネルトランジスタにより構成されたリ
ストア回路を動作させているが、この動作順序は別の動
作順序とすることもできる。たとえば、センスアンプお
よびリストア回路を両方同時に動作させることもできる
しまた、リストア回路を動作させた後にセンスアンプを
動作させることも可能であり、センスアンプおよびリス
トア回路をそれぞれ異なるタイミングで動作させても本
発明により得られる効果が異なるわけではない。
In the above embodiment, the sense amplifier composed of N-channel transistors is operated first, and then the restore circuit composed of P-channel transistors is operated. However, this operation sequence is different. It can also be ordered. For example, it is possible to operate both the sense amplifier and the restore circuit at the same time, or it is possible to operate the sense amplifier after operating the restore circuit, even if the sense amplifier and the restore circuit are operated at different timings. The effects obtained by the present invention are not different.

【0071】また、上記実施例では、トランスファーゲ
ートトランジスタおよび列ゲートトランジスタをNチャ
ネルトランジスタで構成した場合を示したが、両者が、
それぞれ、逆の導電型のトランジスタで構成してもよ
い。その場合は、各トランジスタのゲートに与えられる
信号電位を適当に選択すればよい。
In the above embodiment, the transfer gate transistor and the column gate transistor are N-channel transistors.
The transistors may have opposite conductivity types. In that case, the signal potential applied to the gate of each transistor may be appropriately selected.

【0072】さらにまた、上記実施例では、メモリセル
のトランジスタがNチャネルトランジスタである場合に
ついて説明したが、ワード線の電位を適当に選択するこ
とにより、メモリセルのトランジスタをPチャネルトラ
ンジスタによって構成することもできる。
Furthermore, in the above embodiment, the case where the memory cell transistor is an N-channel transistor has been described, but the memory cell transistor is configured by a P-channel transistor by appropriately selecting the potential of the word line. You can also

【0073】[0073]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、各分割
ビット線対ごとにセンスアンプおよびリストア回路を設
けかつ選択時バス線に接続される分割ビット線対におい
ては、分割ビット線対接続用トランスファーゲートトラ
ンジスタ側端部にセンスアンプを設けておき他方端部に
リストア回路を設けているため、ラッチアップ現象の発
生を確実に防止することができるとともに、信号伝搬遅
延を伴うことなくセンス動作を正確に実行することがで
き、情報の読出を高速かつ安定して行なうことができ、
アクセス時間が速く動作マージンの広いダイナミックR
AMが得られる効果がある。
As described above, according to the present invention, in a divided bit line pair provided with a sense amplifier and a restore circuit for each divided bit line pair and connected to the bus line at the time of selection, the divided bit line pair is provided. Since a sense amplifier is provided at the end of the transfer gate transistor for connection and a restore circuit is provided at the other end, it is possible to reliably prevent the latch-up phenomenon from occurring, and sense without causing signal propagation delay. The operation can be executed accurately, information can be read at high speed and stably,
Dynamic R with fast access time and wide operation margin
There is an effect that AM can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例であるダイナミックRAMの
構成の一部を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a part of a configuration of a dynamic RAM which is an embodiment of the present invention.

【図2】図1の回路の動作の一部を示す信号波形図であ
る。
FIG. 2 is a signal waveform diagram showing a part of the operation of the circuit of FIG.

【図3】図1の回路の動作の一部を示す信号波形図であ
る。
FIG. 3 is a signal waveform diagram showing a part of the operation of the circuit of FIG.

【図4】従来のダイナミックRAMの一例の構成の一部
を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a part of the configuration of an example of a conventional dynamic RAM.

【図5】図4の回路の動作の一部を示す信号波形図であ
る。
5 is a signal waveform diagram showing a part of the operation of the circuit of FIG.

【図6】従来のダイナミックRAMの他の構成の一部を
示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a part of another configuration of a conventional dynamic RAM.

【図7】図6の回路の動作の一部を示す信号波形図であ
る。
7 is a signal waveform diagram showing a part of the operation of the circuit of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MC1 メモリセル WL1 ワード線 BL1 分割ビット線 /BL1 分割ビット線 BL2 分割ビット線 /BL2 分割ビット線 QT1 トランスファーゲートトランジスタ QT2 トランスファーゲートトランジスタ SA1 センスアンプ SA2 センスアンプ QN1〜QN4 センスアンプを構成するトランジスタ RE1 リストア回路 RE2 リストア回路 QP1〜QP4 リストア回路を構成するトランジスタ QY1 列ゲートトランジスタ QY2 列ゲートトランジスタ MC1 memory cell WL1 word line BL1 divided bit line / BL1 divided bit line BL2 divided bit line / BL2 divided bit line QT1 transfer gate transistor QT2 transfer gate transistor SA1 sense amplifier SA2 sense amplifier QN1 to QN4 transistor constituting a sense amplifier RE1 restore circuit RE2 restore circuit QP1 to QP4 transistors forming the restore circuit QY1 column gate transistor QY2 column gate transistor

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数の行および列に配置される複数のメ
モリセルと、 前記複数の行に対応して配置され、各々に対応の行のメ
モリセルが接続される複数のワード線と、 前記複数の列に対応して配置され、各々に対応の列のメ
モリセルが接続されかつ各々が複数の分割ビット線対に
分割される複数のビット線対と、 前記複数のビット線対に対応して設けられ、列選択信号
に応答して対応のビット線対の複数の分割ビット線対の
うちの第1の分割ビット線対をバス線に接続するため
の、各々が第1導電型のトランジスタで構成される列選
択手段と、 前記複数の列各々において、前記複数の分割ビット線対
の隣接する分割ビット線対の間に設けられ、該隣接分割
ビット線対を接続するための、各々が第1導電型のトラ
ンジスタで構成される接続素子手段と、 前記複数の分割ビット線対の各々に設けられ、活性化時
対応の分割ビット線対における一方の分割ビット線を第
1の電位に設定する、各々が第1導電型のトランジスタ
で構成される複数のセンスアンプ手段と、 前記複数の分割ビット線対の各々に設けられ、活性化時
対応の分割ビット線対の他方の分割ビット線を第2の電
位に設定する、各々が第2導電型のトランジスタで構成
される複数のリストア手段とを備え、 前記複数の列各々における第1の分割ビット線対におい
て、センスアンプ手段は対応の接続手段側端部に配置さ
れかつリストア手段は前記列選択手段側端部に配置され
る、ダイナミック型半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cells arranged in a plurality of rows and columns, a plurality of word lines arranged corresponding to the plurality of rows and connected to memory cells in a corresponding row, respectively. A plurality of bit line pairs arranged corresponding to a plurality of columns, each of which is connected to a memory cell of a corresponding column and each of which is divided into a plurality of divided bit line pairs; A transistor of the first conductivity type for connecting the first divided bit line pair of the plurality of divided bit line pairs of the corresponding bit line pair to the bus line in response to the column selection signal. a column selecting circuit configured in, in the plurality of rows each, provided between the divided bit line pairs adjacent of the plurality of divided bit line pairs, for connecting the adjacent divided bit line pairs, are each First conductivity type tiger
Connecting element means composed of a transistor, and one of the plurality of divided bit line pairs, which is provided in each of the divided bit line pairs and sets one divided bit line of the corresponding divided bit line pair to a first potential when activated. A plurality of sense amplifier means each composed of a transistor of one conductivity type and a plurality of divided bit line pairs provided in each of the plurality of divided bit line pairs, and the other divided bit line of the corresponding divided bit line pair is set to the second potential when activated A plurality of restore means each of which is configured by a second conductivity type transistor, and the sense amplifier means is provided at an end of the corresponding connection means in the first divided bit line pair in each of the plurality of columns. A dynamic semiconductor memory device which is arranged and a restoring means is arranged at an end of the column selecting means.
【請求項2】 前記第1の分割ビット線対を除く複数の
分割ビット線対の各々において、前記センスアンプ手段
と前記リストア手段とはその両端部に対向して配置され
る、請求項1記載のダイナミック型半導体記憶装置。
2. The sense amplifier means and the restore means in each of the plurality of divided bit line pairs except the first divided bit line pair are arranged so as to face each other at both ends thereof. Dynamic semiconductor memory device.
【請求項3】 各前記列において前記第1の分割ビット
線対と異なる第2の分割ビット線対に選択メモリセルが
接続されるとき、該第2の分割ビット線対におけるセン
スアンプ手段を活性化し、次いで対応のリストア手段を
活性化する第1の活性化手段と、 前記第2の分割ビット線対に選択メモリセルが接続され
るとき、前記第1の活性化手段によるセンスアンプ手段
の活性化の後、前記第2の分割ビット線対と前記第1の
分割ビット線対との間に設けられた接続素子手段を導通
状態とする第2の活性化手段と、 前記第2の分割ビット線対に選択メモリセルが接続され
るとき、前記第2の活性化手段による接続素子手段の導
通状態設定後前記第1の分割ビット線対におけるセンス
アンプ手段を活性化し、次いで対応のリストア手段を活
性化する第3の活性化手段とをさらに備えた、請求項1
または2記載のダイナミック型半導体記憶装置。
3. When a selected memory cell is connected to a second divided bit line pair different from the first divided bit line pair in each column, the sense amplifier means in the second divided bit line pair is activated. First activating means for activating the corresponding restoring means and then activating the sense amplifier means by the first activating means when the selected memory cell is connected to the second divided bit line pair. Second activating means for bringing the connecting element means provided between the second divided bit line pair and the first divided bit line pair into a conductive state after activation, and the second divided bit. When the selected memory cell is connected to the line pair, the sense amplifier means in the first divided bit line pair is activated after the connection element means is set to the conductive state by the second activation means, and then the corresponding restore means is activated. Activate Further comprising a third activating means, according to claim 1
Alternatively, the dynamic semiconductor memory device described in 2.
【請求項4】 前記接続素子手段は、トランジスタを用
いたトランスファーゲートにより構成される、請求項1
ないし3のいずれかに記載のダイナミック型半導体記憶
装置。
4. The connection element means comprises a transfer gate using a transistor.
5. The dynamic semiconductor memory device according to any one of 3 to 3.
【請求項5】 前記第1の分割ビット線対の各々におけ
るセンスアンプ手段を活性化しかつリストア手段を活性
化する第1の活性化手段と、前記第1の活性化手段によ
る前記センスアンプ手段の活性化の後、前記列選択手段
を活性化する第2の活性化手段をさらに備える、請求項
1記載のダイナミック型半導体記憶装置。
5. The first activating means for activating the sense amplifier means and the restoring means in each of the first pair of divided bit lines, and the sense amplifier means of the first activating means. 2. The dynamic semiconductor memory device according to claim 1, further comprising second activating means for activating said column selecting means after activation.
【請求項6】 前記第2の活性化手段は前記第1の活性
化手段によるリストア手段の活性化の後前記接続素子手
段を導通状態とする手段を含む、請求項3記載のダイナ
ミック型半導体記憶装置。
6. The dynamic semiconductor memory according to claim 3, wherein said second activating means includes means for bringing said connecting element means into a conductive state after activating said restoring means by said first activating means. apparatus.
【請求項7】 前記複数の分割ビット線対それぞれにお
いて、対応のセンスアンプ手段および対応のリストア手
段を互いに異なるタイミングで活性化する手段をさらに
備える、請求項1記載のダイナミック型半導体記憶装
置。
7. The dynamic semiconductor memory device according to claim 1, further comprising means for activating corresponding sense amplifier means and corresponding restore means at different timings in each of the plurality of divided bit line pairs.
【請求項8】 前記第2の活性化手段は、前記第1の活
性化手段によるリストア手段の活性化の後前記列選択信
号を活性化する手段を含む、請求項5記載のダイナミッ
ク型半導体記憶装置。
8. The dynamic semiconductor memory according to claim 5, wherein said second activating means includes means for activating said column selection signal after activating said restoring means by said first activating means. apparatus.
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