JP2564514B2 - Liquid crystal device - Google Patents

Liquid crystal device

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JP2564514B2
JP2564514B2 JP61070189A JP7018986A JP2564514B2 JP 2564514 B2 JP2564514 B2 JP 2564514B2 JP 61070189 A JP61070189 A JP 61070189A JP 7018986 A JP7018986 A JP 7018986A JP 2564514 B2 JP2564514 B2 JP 2564514B2
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film
flc
nitride film
nitride
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舜平 山崎
利光 小沼
晃 間瀬
一平 小林
敏次 浜谷
利治 山口
喬 犬島
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Description

【発明の詳細な説明】 『発明の利用分野』 この発明は、液晶の代表例の1つであるスメクチック
液晶、特に強誘電性液晶(以下FLCという)を用いた液
晶装置に関し、マイクロ・コンピュータ、ワードプロセ
ッサまたはテレビ等の表示部の薄膜化を図る液晶装置、
さらにディスクメモリ等のメモリ装置、スピーカ等の音
響機器へ応用する液晶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Application of the Invention The present invention relates to a liquid crystal device using a smectic liquid crystal which is one of the typical examples of liquid crystal, particularly a ferroelectric liquid crystal (hereinafter referred to as FLC), a microcomputer, A liquid crystal device for thinning the display portion of a word processor or a television,
Furthermore, the present invention relates to a liquid crystal device applied to a memory device such as a disk memory and an audio device such as a speaker.

『従来技術』 従来、液晶を用いて液晶装置を作製せんとする場合、
この液晶の一対の基板の内側に一対の電極を設け、その
電極上に対称配向膜を設ける方式が知られている。
“Prior Art” Conventionally, when a liquid crystal device is to be manufactured using a liquid crystal,
A method is known in which a pair of electrodes are provided inside a pair of substrates of this liquid crystal, and a symmetrical alignment film is provided on the electrodes.

しかし、かかる単純マトリックス構造または各画素に
非線型素子が直列に連結されたアクティブ素子構造にお
いて、最も重要な要素として、前記したスメクチック液
晶が十分大きいEc(臨界電界またはスレッシュホールド
電界)を有することが重要である。このEcは液晶が所定
の電界以下では初期の状態(例えば非透過)を維持し、
所定の電界以上においてきわめて急峻に反転し、他の状
態(例えば透過)を呈する現象、およびこの逆に透過よ
り非透過となる現象をいう。即ち、このEcはEc+(正に
電界を加える場合に観察される臨界電界)と、逆にEc-
(負に電界を加える場合に存在する電界)とがある。こ
のEc+とEc-は必ずしも絶対値において同じではないが、
液晶に接する配向処理のプロセス条件により概ね一致さ
せることができるがその制御はきわめてむつかしい。
However, in such a simple matrix structure or an active device structure in which a non-linear device is connected in series to each pixel, the most important factor is that the smectic liquid crystal has a sufficiently large Ec (critical electric field or threshold electric field). is important. This Ec maintains the initial state (for example, non-transmissive) of the liquid crystal below a predetermined electric field,
It is a phenomenon in which it is extremely sharply inverted at a predetermined electric field or more and exhibits another state (for example, transmission), and vice versa. That is, the Ec is the (critical electric field that is observed when adding positive electric field) Ec +, Ec conversely -
(Electrical field existing when negatively applied). The Ec + and Ec - but is not identical necessarily in absolute value,
The alignment can be made almost the same depending on the process condition of the alignment treatment in contact with the liquid crystal, but the control is extremely difficult.

しかしかるEc+とEc-は液晶それ自体においてはきわめ
てその存在が乏しく、特にカイラルスメクチックC相を
用いる強誘電性液晶においては、この液晶を印加するパ
ルス電界の電界強度とそのパルス巾との値に大きく依存
している。そのためマトリックス表示においては「ACバ
イアス法」として知られている励起方式を用いなければ
ならないし、正方向に書換えんとする時は一度負のパル
スを加え、次に正のパルスを所定の電界強度と時間とを
精密に制御して加える。また逆に負方向に書き換えんと
する場合も、一度正のパルスを加え、次に負のパルスを
所定の電界強度と時間との精密な制御のもとに加えなけ
ればならない。
However, the existence of such Ec + and Ec is extremely poor in the liquid crystal itself, and particularly in the ferroelectric liquid crystal using the chiral smectic C phase, the value of the electric field strength of the pulse electric field for applying the liquid crystal and its pulse width Heavily depends on. Therefore, in the matrix display, the excitation method known as "AC bias method" must be used, and when rewriting in the positive direction, a negative pulse is added once, and then a positive pulse is applied with a predetermined electric field strength. And time are precisely controlled and added. On the contrary, when rewriting in the negative direction, a positive pulse must be applied once, and then a negative pulse must be applied under the precise control of the predetermined electric field strength and time.

『発明が解決しようとする問題点』 かくの如き液晶、特に強誘電性液晶を用いんとした
時、これまでの技術では前記した如き「ACバイアス法」
を用いなければならない。しかしこのバイアス法は周辺
回路がきわめて複雑になってしまうため、ディスプレイ
装置とした時、これよりも簡単な周辺回路が求められて
いる。そのためには、液晶それ自体が十分明確なEcを有
していることが重要になる。さらにこのため非対称配向
処理(一方の配向処理層と他方の配向処理層の主成分を
異ならせる)を行う場合、このEc+とEc-とが異なり、液
晶に直列のバイアス電圧も加えなければならない。また
加えて、不十分なEcで満足せざるを得ないのが実情であ
った。本発明はかかる強誘電性液晶を用いた場合、液晶
それ自体にEcを有することを求めるのではなく、この液
晶と電極上の窒化物被膜とを一体物とみなし、その全体
で実質的に有効なEcを得んとしたものである。
"Problems to be solved by the invention" When such a liquid crystal, particularly a ferroelectric liquid crystal, is used, the "AC bias method" described above is used in the conventional technology.
Must be used. However, since this bias method makes the peripheral circuit extremely complicated, a simpler peripheral circuit is required for a display device. For that purpose, it is important that the liquid crystal itself has a sufficiently clear Ec. For this reason, when performing asymmetric alignment treatment (the main components of one alignment treatment layer and the other alignment treatment layer are made different), Ec + and Ec are different, and a bias voltage in series with the liquid crystal must also be applied. . In addition, the fact is that we have to be satisfied with insufficient Ec. In the present invention, when such a ferroelectric liquid crystal is used, it is not required that the liquid crystal itself has Ec, but the liquid crystal and the nitride film on the electrode are regarded as an integral body, and substantially effective as a whole. It is a thing that obtained Ec.

『問題を解決するための手段』 本発明は電界の有無で光のスイッチを行う液晶ではな
く、電界の方向で光のスイッチングを行う液晶に対し特
に有効である。このため特にその代表例として強誘電性
液晶(FLCという)を液晶材料として用いる。さらにか
かる液晶のEcを決定する要素としてFLCに密接または実
質的に密接させて、誘電体膜窒化物被膜の薄膜またはク
ラスタを一対の基板の両方に設けたものである。そして
この強誘電性液晶のEcを実質的に誘電体膜により決定す
るべく試みたものである。
"Means for Solving the Problem" The present invention is particularly effective for a liquid crystal that switches light in the direction of an electric field, not a liquid crystal that switches light depending on the presence or absence of an electric field. Therefore, a ferroelectric liquid crystal (FLC) is used as a liquid crystal material as a typical example. Further, as a factor that determines the Ec of the liquid crystal, a thin film or a cluster of a dielectric film nitride film is provided on both of a pair of substrates in close or substantially close contact with the FLC. Then, the inventors tried to determine Ec of the ferroelectric liquid crystal substantially by the dielectric film.

その縦断面図を第1図に示す。 The longitudinal sectional view is shown in FIG.

第1図において強誘電性液晶(FLC)(1),誘電体
膜(2),(2′),一対を構成する透光性電極
(3),(3′),さらに透光性基板(4),(4′)
液晶分子を一軸方向に配向させる配向膜(5)を有す
る。
In FIG. 1, a ferroelectric liquid crystal (FLC) (1), dielectric films (2) and (2 '), a pair of translucent electrodes (3) and (3'), and a translucent substrate ( 4), (4 ')
It has an alignment film (5) for aligning liquid crystal molecules in a uniaxial direction.

この第1図の電気的等価回路を第2図に示す。 The electrical equivalent circuit of FIG. 1 is shown in FIG.

第2図(A)は第1図の等価回路である。即ち端子
(8),(9)間では窒化物被膜(2)または端子
(6),(7)間には窒化物被膜(2′)が存在する。
この窒化物被膜(2),(2′)は材料の種類・厚さを
同一にした。すると誘電体(2),(2′)はそれぞれ
キャパシタ(C1)、コンダクタンス(G1)を有する。ま
たふし(8),(7)間にはFLCが存在する。このFLCは
絶縁性であるため同様にキャパシタ(1/2C2)、コンダ
クタンス(2G2)で表現する。さらにC1,G1にかかる電圧
をV1,2G2,1/2C2にかかる電圧を2V2とし、全体には2V0
電圧が印加される。するとC1にはQ1が加わりC2にはQ2
電荷が誘起される。
FIG. 2 (A) is an equivalent circuit of FIG. That is, there is a nitride film (2) between the terminals (8) and (9) or a nitride film (2 ') between the terminals (6) and (7).
The nitride coatings (2) and (2 ') were made of the same material type and the same thickness. Then the dielectric (2), having a (2 ') each capacitor (C 1), conductance (G 1). Also, FLC exists between the noses (8) and (7). Since this FLC is insulating, it is similarly expressed as a capacitor (1 / 2C 2 ) and conductance (2G 2 ). Further, the voltage applied to C 1 , G 1 is V 1 , 2G 2 , and the voltage applied for 1 / 2C 2 is 2V 2, and a voltage of 2V 0 is applied to the whole. Then Q 1 is added to C 1 and the charge of Q 2 is induced in C 2 .

またふし(8)には電荷Q21が、またふし(7)にはQ
12が存在する。かかる場合第2図(B)に示すごとき等
価回路に変形できる。
Also, the charge (Q 21 ) is applied to the nose (8) and the charge (Q) is applied to the nose (7).
There are twelve . In such a case, the equivalent circuit can be modified as shown in FIG.

この等価回路はA−A′に対して上下対称(鏡面対
称)で表現でき、(10)と(10′)とは同一電圧とな
る。このためかかる第2図(B)の回路の上側は第2図
(C)に変形できる。このためFLC(1)の両端に存在
する電荷Qは Q=Q21−Q12 Q21=−Q12 Q=2Q21 で表現できる。
This equivalent circuit can be expressed vertically symmetrical (mirror-symmetrical) with respect to AA ', and (10) and (10') have the same voltage. Therefore, the upper side of the circuit of FIG. 2 (B) can be transformed into FIG. 2 (C). Therefore charge Q present in both ends of the FLC (1) can be represented by Q = Q 21 -Q 12 Q 21 = -Q 12 Q = 2Q 21.

このため以下においては第2図(C)で検討する。 Therefore, in the following, consideration will be given with reference to FIG.

この第2図(C)において、この両端子間にV0の電圧
を印加した時、C1,G1に加わる電圧V1,電荷Q1,C2,G2に加
わる電圧をV2,電荷Q2とすると、 V0=V1+V2 でt=0において分圧される。
In FIG. 2 (C), when a voltage V 0 is applied between these terminals, the voltage V 1 applied to C 1 and G 1 and the voltage applied to the charges Q 1 , C 2 and G 2 are V 2 and If the charge is Q 2 , then V 0 = V 1 + V 2 At t = 0.

この時、窒化物被膜の厚さは1000Å以下であり、FLC
の厚さは2〜3μであるため、C1はC2より十分大であ
る。その結果、初期において V2≒V0 となり、初期状態においては印加電圧のほとんどすべて
がFLCに印加される。
At this time, the thickness of the nitride film is less than 1000Å
Since C has a thickness of 2-3 μ, C 1 is sufficiently larger than C 2 . As a result, V 2 ≒ V 0 in the initial state, and almost all of the applied voltage is applied to the FLC in the initial state.

さらに窒化物被膜とFLCとの界面においてt秒後に蓄
積されるQ21は次式で与えられる。
Further, Q 21 accumulated after t seconds at the interface between the nitride film and the FLC is given by the following equation.

この一般式において前記したC1>C2である条件を考慮
する。また抵抗(コンダクタンスの逆数)は液晶が約2
μの厚さを有し、1つのピクセルを300μ×300μである
場合、109Ωのオーダを有する。
In this general formula, consider the condition that C 1 > C 2 described above. The resistance (reciprocal of conductance) is about 2 for liquid crystal.
If it has a thickness of μ and one pixel is 300 μ × 300 μ, it has an order of 10 9 Ω.

他方窒化物被膜は厚さ1000Åにおいて1012Ω以上のオ
ーダを有し、液晶に比べて十分大きい抵抗となる。この
ためここではG1≒0として上式を変形すると以下の式を
得る。
On the other hand, the nitride film has an order of 10 12 Ω or more at a thickness of 1000 Å, and has a resistance sufficiently higher than that of liquid crystal. Therefore, the following equation is obtained by transforming the above equation with G 1 ≈0.

で与えられる。するとその結果、V1,V2 上式を変形して で与えられる。 Given in. Then, as a result, V 1 and V 2 are Transform the above formula Given in.

さらにこのV1に対しtが十分大きくなると、 V1=V0 に近づく。Furthermore, when to this V 1 t is sufficiently large, it approaches V 1 = V 0.

即ち、印加の初期においては電極間に印加した電圧は
ほとんどがFLCに印加され、その値は殆どの電圧が窒化
物被膜に印加されることになる。言い換えるならば、最
初FLCを動の状態にする。その後窒化物被膜にこの電圧
が印加され、この窒化物被膜に電荷が蓄えられる。この
電荷の種類及び量によりEcが十分小さいFLCの反転また
は非反転が決められる。
That is, in the initial stage of application, most of the voltage applied between the electrodes is applied to the FLC, and with respect to that value, most of the voltage is applied to the nitride film. In other words, first put the FLC in motion. Thereafter, this voltage is applied to the nitride film, and charges are stored in the nitride film. Inversion or non-inversion of the FLC having a sufficiently small Ec is determined by the type and amount of this charge.

その結果、FLCに十分なFcがなくても、窒化物被膜に
蓄えられる電荷の種類及び量を可変制御することによ
り、FLCが従属的に従い、結果として見掛け上FLCが大き
なEcを有するようにさせることができる。以上の結果よ
り、本発明はスメクチック液晶と直列に窒化物被膜を存
在せしめ、この窒化物被膜にたくわえられた電荷の種類
及び量に従って液晶の反転、非反転を決定することをそ
の思想としている。
As a result, even if the FLC does not have sufficient Fc, by variably controlling the type and amount of charges stored in the nitride film, the FLC follows the dependency, and as a result, the FLC apparently has a large Ec. be able to. From the above results, the idea of the present invention is to allow a nitride film to exist in series with the smectic liquid crystal and to determine the inversion and non-inversion of the liquid crystal according to the kind and amount of charges stored in the nitride film.

そして第1図の窒化物被膜(2),(2′)の種類、
厚さを可変することによりC1,G1,C2,G2を可変でき、E
c-,EC+の値を制御できる。また厚さを厚くするとEcがよ
り大きくなるため、実用上の駆動を考えるならば、100
〜4000Åの範囲が適当であった。また、Ec-,EC+の値を
絶対値として、同一とするために一対の基板上の窒化物
被膜(2)(2′)を同一材料を用い同一プロセスにし
て同じ被膜に制御することが好ましかった。
And the types of nitride coatings (2) and (2 ') in FIG.
C 1 , G 1 , C 2 , G 2 can be changed by changing the thickness, and E
c -, it can control the value of EC +. Also, as the thickness increases, Ec increases, so when considering practical driving, 100
The range of ~ 4000Å was suitable. In order to make the values of Ec and EC + absolute, the nitride films (2) and (2 ′) on the pair of substrates can be controlled to the same film by using the same material and the same process. I liked it.

以下に本発明の実施例を示す。 Hereinafter, examples of the present invention will be described.

実施例1 第1図は本発明の構成の縦断面図である。Embodiment 1 FIG. 1 is a vertical sectional view of the constitution of the present invention.

図面において、ガラス基板(4),(4′)上に透明
導電膜(3)(3′)、例えばITO(酸化インジューム
・スズ)、さらにこの一方の上面に誘電体膜として窒化
珪素膜(2)を同様に他の電極(2′)の上面に窒化珪
素膜(2′)を設けた。
In the drawing, transparent conductive films (3) and (3 ′), for example, ITO (indium tin oxide) are provided on glass substrates (4) and (4 ′), and a silicon nitride film (as a dielectric film) is formed on the upper surface of one of them. 2) Similarly, a silicon nitride film (2 ') is provided on the upper surface of another electrode (2').

即ち、プラズマCVD法または光CVD法によりシラン(Si
nH2n+2,n≧1)とアンモニア(NH3)または窒素とより
窒化珪素膜を形成する。特に光CVD法にて該誘電体膜を
形成した場合下地のITO膜にダメージを与えることなく
誘電体膜を形成することができ、良好な界面特性が得ら
れる液晶装置を鋭い(急峻な)Ecを与えることができ
る。そしてこの窒化珪素の厚さは50〜4000Å程度で光の
透過光量の減衰が少ない1000Å程度が良好であった。平
均厚さが200Å以下ではクラスタ状またはその中間では
両者の混合状態であった。本発明においては、さらにこ
の誘電体膜の一方(2)に対し公知の配向膜(5)例え
ばナイロン,PVA,ポリイミド等の透光性の有機被膜を形
成し公知のラビング処理を施し、配向膜(配向処理層)
とした。
That is, silane (Si
A silicon nitride film is formed from nH 2 n + 2, n ≧ 1) and ammonia (NH 3 ) or nitrogen. In particular, when the dielectric film is formed by the photo-CVD method, the dielectric film can be formed without damaging the underlying ITO film, and a liquid crystal device with good interface characteristics can be provided with a sharp (steep) Ec. Can be given. The thickness of this silicon nitride was about 50 to 4000 Å, and about 1000 Å with little attenuation of the amount of transmitted light was good. When the average thickness was less than 200Å, the two were in a cluster or in a mixed state in the middle. In the present invention, a known alignment film (5) such as nylon, PVA, polyimide or the like is formed on one side (2) of the dielectric film, and a known organic rubbing treatment is applied to the alignment film. (Alignment treatment layer)
And

次にこの一方に配向膜が形成された一対の基板の周辺
部を互いに封止(図示せず)し、公知の方法にてFLCを
充填した。この充填される液晶は電界の方向でスイッチ
ング特性を有する液晶特にFLCを用いた。例えばエステ
ル系のビフェニル系のFLCを2:3の比率でブレンドした物
を使用した。使用する液晶として好ましくは、50℃〜0
℃程度の温度範囲にて強誘電性を呈するものがよい。
Next, the peripheral portions of the pair of substrates each having the alignment film formed on one side thereof were sealed (not shown) with each other and filled with FLC by a known method. As the liquid crystal to be filled, a liquid crystal having a switching characteristic in the direction of the electric field, particularly FLC, was used. For example, a mixture of ester biphenyl FLC in a ratio of 2: 3 was used. The liquid crystal used is preferably 50 ° C to 0 ° C.
It is preferable that it exhibits ferroelectricity in the temperature range of about ° C.

かかるセルの電極は1mm×1mmであり、マトリックス構
成させ、その電極間に±5Vの電圧を走査しつつ加えた。
するとこの電界が加わっても画素はシランカップリング
状のみを用いた従来の方法では見られないきわめてきれ
いなEcを実質的に有せしめることが可能となった。
The electrodes of this cell were 1 mm × 1 mm, and they were arranged in a matrix, and a voltage of ± 5 V was applied between the electrodes while scanning.
Then, even if this electric field is applied, it becomes possible for the pixel to have a very clean Ec which cannot be seen by the conventional method using only the silane coupling type.

そして一度Ec+以上の正の電荷を加えると電圧を除去
しても直前の状態を保ちつづける。他方Ec−以上の負の
電圧を加えると電圧を除去しても同様に直前の状態を持
続し得ることがわかる。
Then, once the positive charge of Ec + or more is applied, the previous state is maintained even if the voltage is removed. On the other hand, it can be seen that when a negative voltage of Ec- or higher is applied, the previous state can be similarly maintained even if the voltage is removed.

第3図(b)は同図(a)の測定系により測定した結
果をしめす。縦軸は規格化したフォトマルの感度、横軸
の印加電圧を示している。この図面において比較例とし
て示された曲線(20),(20′)は片側のみに誘電体膜
を形成したセル構成を有するものである。本発明におい
ては、曲線(19),(19′)を得ることができ、きわめ
てきれいは左右対称のEc+,EC-を得ることができた。そ
してこのEc+,EC-以下の電圧が印加されても、透過、非
透過は変化しない。このためマトリックス表示が可能と
なる。かかる明確な左右対称のEcを有するため、例えば
720×480画素を有する大面積のディスプレイに対しても
まったくクロストークのない表示をさせることが可能と
なり得る。
FIG. 3 (b) shows the results measured by the measuring system of FIG. 3 (a). The vertical axis represents the normalized photomultiplier sensitivity and the horizontal axis represents the applied voltage. Curves (20) and (20 ') shown as comparative examples in this drawing have a cell structure in which a dielectric film is formed on only one side. In the present invention, the curves (19) and (19 ′) can be obtained, and Ec + and EC which are extremely clean and symmetrical can be obtained. And this Ec +, EC - be less voltage is applied, transmission, non-transmitted does not change. Therefore, matrix display is possible. Because it has such a clear symmetrical Ec, for example
It may be possible to make a display with no crosstalk even for a large area display having 720 × 480 pixels.

本発明において、さらにシュアリング(液晶を充填し
た後一方的に微小距離ずらすことにより配向を行う)
法、温度勾配法をラビング法に変えてまたはこれに加え
て行うことは有効である。
In the present invention, further clearing (alignment is performed by unilaterally shifting a minute distance after filling the liquid crystal)
It is effective to replace the rubbing method and the temperature gradient method with the rubbing method or to carry out the rubbing method.

『効果』 本発明は以上に示す如く、窒化物被膜を一対の電極の
双方に薄膜状またはクラスタ状に配設したものである。
そのため、従来の窒化物被膜をまったく用いない、また
は一方のみに用いる方法に比べてより一層Ecが明確であ
りかつEc+,EC-の絶対値が等しい液晶装置を得ることが
できた。
"Effect" As described above, the present invention provides a nitride film on both of a pair of electrodes in a thin film form or a cluster form.
Therefore, it was possible to obtain a liquid crystal device in which Ec is more clear and absolute values of Ec + and EC are equal to each other as compared with the conventional method in which the nitride film is not used at all or only one of them is used.

このようにEc+,EC-の絶対値が等しければ液晶装置を
駆動する際に、巾広いマージンを得られることになる。
Thus, if the absolute values of Ec + and EC are equal, a wide margin can be obtained when driving the liquid crystal device.

また、この窒化物被膜は第1図の電極等の上のみに選
択的に形成しても、また電極を含む全面に形成してもよ
い。
The nitride film may be selectively formed only on the electrodes in FIG. 1 or the like, or may be formed on the entire surface including the electrodes.

また、加えてこの誘電体膜は基板及び透明導電膜より
の不純物物の混入を防止する働きを有する。この誘電体
膜としては安定な性質を有する窒化物被膜、例えば窒化
珪素、窒化アルミニューム、窒化ホウ素、窒化マグネシ
ューム、窒化スズ、窒化アンチモン、窒化インジューム
またはこれらの混合物よりなる窒化物被膜が好ましい。
In addition, this dielectric film has a function of preventing impurities from entering from the substrate and the transparent conductive film. The dielectric film is preferably a nitride film having stable properties such as silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, magnesium nitride, tin nitride, antimony nitride, indium nitride, or a mixture thereof.

この液晶装置は単にディスプレイのみならずスピー
カ、プリンタまたはディスクメモリに対しても適用で
き、スメクチック液晶の光学的異方性を用いるすべての
液晶装置に適用可能である。
This liquid crystal device can be applied not only to a display but also to a speaker, a printer or a disk memory, and can be applied to all liquid crystal devices using the optical anisotropy of smectic liquid crystals.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の液晶装置の縦断面図である。 第2図は本発明の等価回路図を示す。 第3図は本発明と従来例の特性の一例を示す。 (1)……液晶 (2)(2′)……窒化物被膜 (3)(3′)……電極 (4)(4′)……基板 (5)……配向処理(膜) (12)(14)……偏光板 (15)……フォトマル (13)……サンプル FIG. 1 is a longitudinal sectional view of the liquid crystal device of the present invention. FIG. 2 shows an equivalent circuit diagram of the present invention. FIG. 3 shows an example of the characteristics of the present invention and the conventional example. (1) ...... Liquid crystal (2) (2 ') ...... Nitride film (3) (3') ...... Electrode (4) (4 ') ...... Substrate (5) ...... Alignment treatment (film) (12) ) (14) …… Polarizer (15) …… Photomul (13) …… Sample

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浜谷 敏次 東京都世田谷区北烏山7丁目21番21号 株式会社半導体エネルギー研究所内 (72)発明者 山口 利治 東京都世田谷区北烏山7丁目21番21号 株式会社半導体エネルギー研究所内 (72)発明者 犬島 喬 東京都世田谷区北烏山7丁目21番21号 株式会社半導体エネルギー研究所内 審査官 田部 元史 (56)参考文献 特開 昭60−156043(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Toshiji Hamaya 7-21-21 Kitakarasyama, Setagaya-ku, Tokyo Inside Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. (72) Toshiharu Yamaguchi 7-21-21 Kitakarasyama, Setagaya-ku, Tokyo No. 21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Inujima 7-21-21 Kitakarasuyama, Setagaya-ku, Tokyo Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Examiner Motofumi Tabe (56) References JP 60-156043 (JP) , A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一対の基板の内側に液晶が充填された液晶
装置において前記一対の基板の内側面上に電極を有し、 前記電極の双方の上に窒化物被膜が設けられ、 前記窒化物被膜の少なくとも一方の上には、前記液晶の
分子長軸をそろえるための配向処理層が設けられ、 前記窒化物被膜または前記窒化物被膜と前記電極との界
面付近に蓄積された電荷の種類及び量により、前記液晶
が第1の状態または第2の状態を取ること を特徴とする液晶装置。
1. A liquid crystal device in which liquid crystals are filled inside a pair of substrates, wherein electrodes are provided on inner surfaces of the pair of substrates, and a nitride film is provided on both of the electrodes. An alignment treatment layer for aligning the molecular long axes of the liquid crystal is provided on at least one of the coatings, and the type of charges accumulated near the interface between the nitride coating or the nitride coating and the electrode, and A liquid crystal device, wherein the liquid crystal is in a first state or a second state depending on an amount.
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