JP2562956B2 - Colored photosensitive polyamide composition - Google Patents

Colored photosensitive polyamide composition

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JP2562956B2 JP27451088A JP27451088A JP2562956B2 JP 2562956 B2 JP2562956 B2 JP 2562956B2 JP 27451088 A JP27451088 A JP 27451088A JP 27451088 A JP27451088 A JP 27451088A JP 2562956 B2 JP2562956 B2 JP 2562956B2
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、感光性基を有する耐熱性ポリアミドとビ
スアジド化合物との組成物に、有機顔料が分散されてい
る着色感光性ポリアミド組成物に係るものであり、カラ
ー撮像素子や、カラーセンサー、カラーディスプレーな
どの微細色分解用のカラーフィルターの製造に用いるこ
とができる感光性ポリアミド組成物である。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a colored photosensitive polyamide composition in which an organic pigment is dispersed in a composition of a heat-resistant polyamide having a photosensitive group and a bisazide compound. The present invention is a photosensitive polyamide composition that can be used for producing a color image sensor, a color sensor, a color filter for fine color separation such as a color display, and the like.

〔従来技術の説明〕[Description of Prior Art]

従来、カラーフィルターの製造方法としては、 (a) ガラス等の透明基板上にゼラチン等を用いて染
色型有機色素フィルターを生成し、該フィルターを接着
剤により固体撮像素子上に貼り合わせる方法、 (b) カラーフィルターの如き多色表面着色体を製造
するための最も簡便な手段としては、印刷による方法、 (c) 特開昭60−237403号公報には、感光性を有する
耐熱性フィルム形成材料として知られているポリアミド
樹脂を用いてカラーフィルターを製造す方法、 (d) 特開昭62−212603号公報には、透明な感光性ポ
リアミドを用いる方法などが示されている。
Conventionally, as a method of manufacturing a color filter, (a) a method of producing a dye-type organic dye filter using gelatin or the like on a transparent substrate such as glass and bonding the filter onto a solid-state image sensor with an adhesive, b) The most convenient means for producing a multicolor surface coloring material such as a color filter is a method by printing, and (c) JP-A-60-237403 discloses a heat-resistant film-forming material having photosensitivity. , A method for producing a color filter using a polyamide resin, and (d) JP-A-62-212603 disclose a method using a transparent photosensitive polyamide.

前述のゼラチンを用いた従来公知のカラーフィルター
は、耐熱性に乏しく加工工程において褪色したりする問
題があった。
Conventionally known color filters using gelatin described above have poor heat resistance and have a problem of fading in the processing step.

また、前記の印刷による方法は、多色刷りの際の位置
決めが難しく、位置精度及び寸法精度に制限があり、高
精度且つ高細度なカラーフィルターを製造することがで
きなかった。
Further, the printing method described above has difficulty in positioning during multi-color printing, has limited positional accuracy and dimensional accuracy, and cannot manufacture a highly accurate and fine color filter.

また、特開昭60−237403号公報に記載された方法で
は、感光性ポリアミド樹脂がポリイミド前駆体として供
給されるため、良好な被膜特性を有するポリイミドに転
換するためには、200〜300℃又はそれ以上の高温処理が
必要であり、そのために熱により有機顔料が劣化するな
どの問題がある。
Further, in the method described in JP-A-60-237403, since the photosensitive polyamide resin is supplied as a polyimide precursor, in order to convert to a polyimide having good coating properties, 200 ~ 300 ℃ or Higher temperature treatment than that is required, which causes a problem that the organic pigment is deteriorated by heat.

さらに、特開昭62−212603号公報に記載の方法は、感
光性ポリアミド樹脂組成物の耐熱性が良好ではあるが、
感度が充分ではなかった。
Further, the method described in JP-A-62-212603, although the heat resistance of the photosensitive polyamide resin composition is good,
The sensitivity was not enough.

〔解決しようとする問題点〕[Problems to be solved]

従って、この発明の目的は、耐熱性及び感光性に優
れ、且つ、精度の高いカラーフィルターを低温下に簡便
に製造することができる着色感光性樹脂組成物を提供す
ることである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition which is excellent in heat resistance and photosensitivity and which can easily produce a highly accurate color filter at a low temperature.

〔問題点を解決する手段〕[Means for solving problems]

この発明は、感光性基を有する耐熱性ポリアミドと、
ビスアジド化合物との組成物に、有機顔料が分散されて
いることを特徴とする着色感光性ポリアミド組成物に関
する。
This invention is a heat-resistant polyamide having a photosensitive group,
The present invention relates to a colored photosensitive polyamide composition in which an organic pigment is dispersed in a composition with a bisazide compound.

この発明で用いられる感光性基を有する耐熱性芳香族
ポリアミドは、 下記一般式(I) (但し、R1及びR2は、それぞれ水素又は反応性有機化合
物の残基を示し、Ar1及びAr2は、それぞれ芳香族残基を
示し、Ar2は、感光性基を有する芳香族残基を示す。)
で示される構成単位を10モル%以上、好ましくは20モル
%以上、更に好ましくは40モル%以上、および、 下記一般式(II) (但し、R3及びR4は、それぞれ水素又は反応性有機化合
物の残基を示し、Ar3及びAr4は、それぞれ芳香族残基を
示す。)で示される構成単位を90モル%未満、特に好ま
しくは80モル%未満、更に好ましくは60モル%未満の割
合で有する芳香族コーポリアミド、あるいは、 前記の一般式(I)で示される構成単位のみからなる
感光性の芳香族ポリアミドを10重量%以上、特に好まし
くは20重量%以上と、前記一般式(II)で示される構成
単位のみからなる芳香族ポリアミドを90重量%未満、特
に好ましくは80重量%未満の割合で混合された芳香族ポ
リアミドの混合物などを挙げることができる。
The heat-resistant aromatic polyamide having a photosensitive group used in the present invention has the following general formula (I). (However, R 1 and R 2 each represent a residue of hydrogen or a reactive organic compound, Ar 1 and Ar 2 each represent an aromatic residue, and Ar 2 represents an aromatic residue having a photosensitive group. Indicates a group.)
10 mol% or more, preferably 20 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, and the following general formula (II) (However, R 3 and R 4 each represent a residue of hydrogen or a reactive organic compound, Ar 3 and Ar 4 each represent an aromatic residue.) Less than 90 mol%, Particularly preferably, the aromatic copolyamide having a proportion of less than 80 mol%, more preferably less than 60 mol%, or 10 parts by weight of a photosensitive aromatic polyamide consisting only of the constitutional unit represented by the general formula (I) is used. %, Particularly preferably 20% by weight or more, and an aromatic polyamide in which the aromatic polyamide consisting only of the structural unit represented by the general formula (II) is mixed in a proportion of less than 90% by weight, particularly preferably less than 80% by weight. Examples thereof include a mixture of polyamides.

前記一般式(I)及び(II)において、Ar1及びAr3
示される芳香族残基は、芳香族ジカルボン酸類の芳香族
残基が最適であり、前記芳香族ジカルボン酸類として
は、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、4,4′−ジ
カルボキシビフェニル、4,4′−ジカルボキシジフェニ
ルメタン、4,4′−ジカルボキシジフェニルエーテルな
どの芳香族ジカルボン酸、またはそれらの酸ハロゲン化
物を挙げることができる。
In the general formulas (I) and (II), the aromatic residue represented by Ar 1 and Ar 3 is most preferably an aromatic residue of an aromatic dicarboxylic acid, and examples of the aromatic dicarboxylic acid include: Aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, 4,4'-dicarboxybiphenyl, 4,4'-dicarboxydiphenylmethane, 4,4'-dicarboxydiphenyl ether, or acid halides thereof can be mentioned. .

これらの芳香族ジカルボン酸成分のうちでも、上記芳
香族ジカルボン酸の酸ハロゲン化物、特に芳香族ジカル
ボン酸塩化物が好ましい。
Among these aromatic dicarboxylic acid components, acid halides of the above aromatic dicarboxylic acids, particularly aromatic dicarboxylic acid chlorides are preferable.

また、前記一般式(I)において、Ar2で示される感
光性基を有する芳香族残基は、感光性の不飽和炭化水素
基(エチレン基、アセチレン基、メタアクリロイル基
等)などの感光性基を有する芳香族ジアミンの芳香族残
基が最適であり、そのような芳香族ジアミンとしては、
例えば、3,5−ジアミン安息香酸エチルメタクリル酸エ
ステル、2,4−ジアミノ安息香酸エチルメタクリル酸エ
ステル、3,5−ジアミノ安息香酸ジグリシジルメタクリ
レートエステル、2,4−ジアミノ安息香酸ジグリシジル
メタクリレートエステル、3,5−ジアミノ安息香酸ケイ
皮酸エステル、2,4−ジアミノ安息香酸ケイ皮酸エステ
ル等の安息香酸のエステル類、3,5−ジアミノベンジル
メタクリレート、2,4−ジアミノベンジルメタクリレー
ト等のベンジルメタクリレート類、4−メタクリルアミ
ド−3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、2−メタク
リルアミド−3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4
−シンナムアミド−3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,4′−ジメタクリルアミド−3′,4−ジアミノジ
フェニルエーテル、3,4′−ジシンナムアミド−3′,4
−ジアミノジフェニルエーテル、4−メチル−2′−
(2−メタクリロイルオキシエトキシカルボニル)−3,
4′−ジアミノジフェニルエーテル等のジフェニルエー
テル類、及び、4,4′−ジアミノカルコン、3,3′−ジア
ミノカルコン、3,4′−ジアミノカルコン、3′,4−ジ
アミノカルコン、4′−メチル−3′,4−ジアミノカル
コン、4′−メトキシ−3′,4−ジアミノカルコン、
3′−メチル−3,5−ジアミノカルコン等のカルコン類
などを挙げることができる。
Further, in the general formula (I), the aromatic residue having a photosensitive group represented by Ar 2 is a photosensitive unsaturated hydrocarbon group (eg, ethylene group, acetylene group, methacryloyl group, etc.) The aromatic residue of the aromatic diamine having a group is optimal, and as such an aromatic diamine,
For example, 3,5-diaminebenzoic acid ethyl methacrylate ester, 2,4-diaminobenzoic acid ethyl methacrylate ester, 3,5-diaminobenzoic acid diglycidyl methacrylate ester, 2,4-diaminobenzoic acid diglycidyl methacrylate ester, Benzoic acid esters such as 3,5-diaminobenzoic acid cinnamic acid ester and 2,4-diaminobenzoic acid cinnamic acid ester, benzyl methacrylate such as 3,5-diaminobenzyl methacrylate and 2,4-diaminobenzyl methacrylate , 4-methacrylamido-3,4'-diaminodiphenyl ether, 2-methacrylamido-3,4'-diaminodiphenyl ether, 4
-Cinnamamide-3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-dimethacrylamido-3 ', 4-diaminodiphenyl ether, 3,4'-dicinnamamide-3', 4
-Diaminodiphenyl ether, 4-methyl-2'-
(2-methacryloyloxyethoxycarbonyl) -3,
Diphenyl ethers such as 4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminochalcone, 3,3'-diaminochalcone, 3,4'-diaminochalcone, 3 ', 4-diaminochalcone, 4'-methyl-3 ′, 4-Diaminochalcone, 4′-methoxy-3 ′, 4-diaminochalcone,
Examples thereof include chalcones such as 3'-methyl-3,5-diaminochalcone.

また、一般式(II)において、Ar4で示される芳香族
残基は、感光性基を有していない芳香族ジアミンの芳香
族残基であり、前記芳香族ジアミンとしては、例えば、 (i)3,5−ジアミノ安息香酸、パラフェニレンジアミ
ン、メタフェニレンジアミン、2,4−ジアミノトルエン
などの1個のベンゼン環を有する芳香族ジアミン、 (ii)4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、4,4′−ジ
アミノジフェニルメタン、o−トリジン、o−トルイジ
ンスルホン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4′−
N,N−ジメチルアミノ−3,5−ジアミノベンゾフェノン等
の2個のベンゼン環を有する芳香族ジアミン、 (iii)1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパ
ン、及び、9,9−ビス(4−アミノフェニル)−10−ア
ンスロン、1,5−ジアミノアントラキノン、1,4−ジアミ
ノアントラキノン、1−ジメチルアミノ−4−(3,5−
ジアミノベンゾフェノン)−ナフタレン等の3個以上の
ベンゼン環を有する芳香族ジアミンなどを挙げることが
できる。
Further, in the general formula (II), the aromatic residue represented by Ar 4 is an aromatic residue of an aromatic diamine having no photosensitive group, and examples of the aromatic diamine include: (i) ) 3,5-diaminobenzoic acid, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, aromatic diamine having one benzene ring such as 2,4-diaminotoluene, (ii) 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4 ′ -Diaminodiphenylmethane, o-tolidine, o-toluidine sulfone, 4,4′-diaminobenzophenone, 4′-
An aromatic diamine having two benzene rings such as N, N-dimethylamino-3,5-diaminobenzophenone, (iii) 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene,
2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane and 9,9-bis (4-aminophenyl) -10-anthrone, 1,5-diaminoanthraquinone, 1,4-diaminoanthraquinone, 1-dimethylamino -4- (3,5-
Aromatic diamines having three or more benzene rings such as diaminobenzophenone) -naphthalene can be given.

また、前記の一般式(I)及び(II)における反応性
有機化合物の残基であるR1、R2、R3及びR4は、ポリアミ
ドのアミド結合の水素原子に対して反応性を有する有機
化合物(反応性有機化合物)が、前記ポリアミドのアミ
ド結合の水素原子と置換反応しな結果形成された有機基
であり、その基の例としては、アセチル基、メタクロイ
ル基、シンナモイル基、パラアジドベンゾイル基等を挙
げることができる。
In addition, the residues R 1 , R 2 , R 3 and R 4 of the reactive organic compound in the above general formulas (I) and (II) have reactivity with the hydrogen atom of the amide bond of the polyamide. An organic compound (reactive organic compound) is an organic group formed as a result of substitution reaction with a hydrogen atom of an amide bond of the polyamide, and examples of the group include an acetyl group, a metacroyl group, a cinnamoyl group, and a paraazide. A benzoyl group etc. can be mentioned.

これらの有機基を残基を有する反応性有機化合物とし
ては、例えば、メタクリル酸クロライド、ケイ皮酸クロ
ライド、酢酸クロライド、塩化ベンジル、パラアジド塩
化ベンゾイル等を挙げることができる。
Examples of the reactive organic compound having a residue of these organic groups include methacrylic acid chloride, cinnamic acid chloride, acetic acid chloride, benzyl chloride, and paraazido benzoyl chloride.

この発明で使用する芳香族ポリアミドは、例えば、前
述の芳香族ジカルボン酸類からなる酸成分と、前述の感
光性基を有する芳香族ジアミン及び前述の感光性基を有
していない芳香族ジアミンからなる芳香族ジアミン成分
とを、大略、等モル使用して、有機溶媒中、100℃以
下、特に好ましくは80℃以下の反応温度下に、0.1〜50
時間、特に1〜20時間重合反応を行うことにより、製造
される。
The aromatic polyamide used in the present invention comprises, for example, an acid component composed of the aromatic dicarboxylic acids described above, an aromatic diamine having a photosensitive group described above, and an aromatic diamine having no photosensitive group described above. Aromatic diamine component, approximately, using equimolar, in an organic solvent, 100 ℃ or less, particularly preferably at a reaction temperature of 80 ℃ or less, 0.1 ~ 50
It is produced by carrying out the polymerization reaction for a period of time, particularly 1 to 20 hours.

また、前記の芳香族ポリアミドにおいて、反応性有機
化合物の残基であるR1、R2、R3又はR4を有するものは、
上述のようにして製造した『R1、R2、R3及びR4が水素原
子である芳香族ポリアミド』を含有する前記の合成反応
液中に、前述の反応性有機化合物を添加し、−5〜100
℃の反応温度で0.1〜50時間、特に0.5〜30時間反応させ
ることにより製造される。
Further, in the above aromatic polyamide, those having R 1 , R 2 , R 3 or R 4 which are the residues of the reactive organic compound,
In the above synthetic reaction liquid containing the “aromatic polyamide in which R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms” produced as described above, the reactive organic compound is added, 5-100
It is produced by reacting at a reaction temperature of 0.1 to 50 hours, particularly 0.5 to 30 hours.

前記の芳香族ポリアミドにおいて、前記一般式(II)
で示される構成単位の存在は、ポリアミドの熱的性質を
向上させる効果があるが、多過ぎると、ポリマー鎖中で
の感光性基の濃度が低くなり光感度が低下するので、前
記の割合の範囲内が適宜調整することが好ましい。
In the aromatic polyamide, the compound represented by the general formula (II)
The presence of the structural unit represented by is effective in improving the thermal properties of the polyamide, but if it is too much, the concentration of the photosensitive group in the polymer chain becomes low and the photosensitivity decreases. It is preferable to adjust within the range as appropriate.

また、前記芳香族ポリアミドは、芳香族ポリアミドの
濃度が0.5g/100ml;N−メチル−2−ピロリドンである溶
液を調製して、30℃の温度で測定した対数粘度が0.1〜
3.5、特に0.2〜2.5程度であることが好ましい。
The aromatic polyamide has a concentration of aromatic polyamide of 0.5 g / 100 ml; a solution having N-methyl-2-pyrrolidone is prepared, and the logarithmic viscosity measured at a temperature of 30 ° C. is 0.1 to
It is preferably 3.5, particularly about 0.2 to 2.5.

この発明で使用する前記の芳香族ポリアミドは、例え
ばN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキ
シド、ヘキサメチレンホスホルアミド、ジグライムなど
の有機溶媒に可溶性であり、該有機溶媒に約1〜40重量
%の濃度で均一に溶解させて用いることが好ましい。
The aromatic polyamide used in the present invention can be used in organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylsulfoxide, hexamethylenephosphoramide and diglyme. It is soluble, and it is preferable to use it by uniformly dissolving it in the organic solvent at a concentration of about 1 to 40% by weight.

また、この発明で用いられる有機顔料は、透明性が良
く、且つ、耐熱性、耐光性及び耐溶剤性に優れたものが
好ましく、その例としては、アゾキレート系、縮合アゾ
系、フタロシアニン系、ベンゾイミダゾロン系、キナク
リドン系、イソインドリノン系、ピランスロン系、ジブ
ロムアンザンスロン系、インダンスロン系、アンスラピ
リミジン系、フラバンスロン系、ペリレン系、ペリノン
系、キノフタロン系、チオインジゴ系、ジオキサジン
系、アントラキノン系などの有機顔料を挙げることがで
き、これらから一種又は二種以上を適宜選択して用いる
ことができる。
The organic pigment used in the present invention preferably has good transparency, and is also excellent in heat resistance, light resistance and solvent resistance, and examples thereof include azo chelate type, condensed azo type, phthalocyanine type and benzo. Imidazolone, quinacridone, isoindolinone, pyranthrone, dibromanthanslone, indanthrone, anthrapyrimidine, flavanthrone, perylene, perinone, quinophthalone, thioindigo, dioxazine, anthraquinone Examples thereof include organic pigments such as pigments, and one or more of these can be appropriately selected and used.

上記有機顔料は、光透過性、膜表面の均一性等の観点
から、その粒径が1μm以下のものを用いることが好ま
しい。
The organic pigment preferably has a particle size of 1 μm or less from the viewpoints of light transmittance, film surface uniformity, and the like.

さらに、この発明で使用するビスアジド化合物とし
て、4,4′−ジアジドカルコン、4,4′−ジアジドベンザ
ルアセトン、2,6−ジ−(4′−アジドベンザル)シク
ロヘキサノン、4,4′−ジアジドスチルベン等を挙げる
ことができる。
Further, as the bisazide compound used in the present invention, 4,4'-diazidochalcone, 4,4'-diazidobenzalacetone, 2,6-di- (4'-azidobenzal) cyclohexanone, 4,4'- Examples thereof include diazidostilbene.

上記ビスアジド化合物の配合量は、前記感光性ポリア
ミド100重量部に対して、0.2〜15重量部、特に0.5〜10
重量部の割合となる量とすることが好ましい。前記の配
合量が少な過ぎると、得られる組成物の感度が低くな
り、また、多くなり過ぎると得られる組成物により形成
される膜の耐熱性が低下するので好ましくない。
The amount of the bisazide compound is 0.2 to 15 parts by weight, particularly 0.5 to 10 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the photosensitive polyamide.
It is preferable that the amount be a ratio of parts by weight. If the blending amount is too small, the sensitivity of the resulting composition will be low, and if it is too large, the heat resistance of the film formed by the composition will be unfavorable.

前記芳香族ポリアミドと有機顔料との混合割合は、芳
香族ポリアミド100重量部に対して、有機顔料が5〜200
重量部、特に10〜100重量部の割合であることが好まし
い。
The mixing ratio of the aromatic polyamide and the organic pigment is 5 to 200 with respect to 100 parts by weight of the aromatic polyamide.
It is preferable that the ratio is parts by weight, particularly 10 to 100 parts by weight.

また、前記の有機顔料が分散している芳香族ポリアミ
ド溶液組成物は、その回転粘度(25℃)が、0.1〜1000
ポイズ、特に0.2〜500ポイズ程度にすることが好まし
い。
The aromatic polyamide solution composition in which the organic pigment is dispersed has a rotational viscosity (25 ° C.) of 0.1 to 1000.
Poise, especially about 0.2 to 500 poise is preferable.

前記の有機顔料分散ポリアミド溶液には、必要に応じ
て、有機顔料の分散性を高めるために界面活性剤などの
分散剤を加えてもよく、また、支持体との密着性を高め
るためにシランカップリング剤などの結合促進剤を加え
てもよい。
If necessary, a dispersant such as a surfactant may be added to the organic pigment-dispersed polyamide solution to enhance the dispersibility of the organic pigment, and silane may be added to enhance the adhesion to the support. A binding promoter such as a coupling agent may be added.

また、上記の有機顔料分散芳香族ポリアミド溶液に
は、例えば、ミヒラーズケトン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、2−t−ブチルアントラキ
ノン、1,2−ベンゾ−9,10−アントラキノン、ベンジ
ル、アニシル、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフ
ェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、1,5−アセ
ナフテン、チオキサントンまたはその誘導体(例えばク
ロルチオキサントン、メチルチオキサントン)、アント
ラニル酸ジメチルアミノベンゾエート等の光重合開始剤
及び増感剤を配合することができ、また、ハイドロキノ
ン、2,6−t−ブチル−4−メチルフェノール(BHT)、
メチルエーテルハイドロキノン、フェノチアジン、N−
ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアンモニウム塩等
の熱重合防止剤が配合されていてもよい。
The organic pigment-dispersed aromatic polyamide solution includes, for example, Michler's ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, 2-t-butylanthraquinone, 1,2-benzo-9,10-anthraquinone. , Benzyl, anisyl, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, acetophenone, benzophenone, 1,5-acenaphthene, thioxanthone or a derivative thereof (for example, chlorothioxanthone, methylthioxanthone), a photopolymerization initiator such as anthranilate dimethylaminobenzoate, and A sensitizer may be added, and hydroquinone, 2,6-t-butyl-4-methylphenol (BHT),
Methyl ether hydroquinone, phenothiazine, N-
A thermal polymerization inhibitor such as nitrosophenylhydroxylamine ammonium salt may be blended.

上記の有機顔料分散芳香族ポリアミド溶液の支持体へ
の塗布は、例えば、回転塗布法、ロールコート法、浸漬
法、スプレー法等の方法により行うことができる。
The above-mentioned organic pigment-dispersed aromatic polyamide solution can be applied to the support by a method such as a spin coating method, a roll coating method, a dipping method, or a spray method.

前記の塗布膜の乾燥は、熱風乾燥器、ホットプレート
などにより、150℃以下、特に100℃以下で1〜60分間、
特に10〜30分間程度行うことが好ましい。この乾燥の際
に、減圧してもよい。
The coating film is dried by a hot air drier, a hot plate, etc., at 150 ° C or lower, particularly at 100 ° C or lower for 1 to 60 minutes,
It is particularly preferable to carry out for 10 to 30 minutes. During this drying, the pressure may be reduced.

また、上記感光性芳香族ポリアミド皮膜の厚さは、通
常、約0.2〜3.0μmであることが好ましい。
The thickness of the photosensitive aromatic polyamide film is usually preferably about 0.2 to 3.0 μm.

次いで、上記の如くして形成した感光性芳香族ポリア
ミド皮膜に、ドットパターン、ストライブパターン等の
所定の形状のマスクを密着し、該マスクを通して、例え
ば、超高圧水銀灯(250W)の平行光線を照射してパター
ン露光した後、現像し、着色パターンを形成する。
Next, a mask having a predetermined shape such as a dot pattern or a stripe pattern is adhered to the photosensitive aromatic polyamide film formed as described above, and through the mask, for example, parallel rays of an ultra-high pressure mercury lamp (250 W) are applied. After irradiation and pattern exposure, development is performed to form a colored pattern.

パターン露光された感光性ポリアミド皮膜の現像は、
該皮膜を適当な現像液に約0〜100℃の温度下に浸漬す
るなどして該皮膜の未光硬化部分を溶出し、除去するこ
とによって行われる。
Development of the pattern-exposed photosensitive polyamide film
It is carried out by leaching and removing the unphotocured portion of the film by immersing the film in a suitable developing solution at a temperature of about 0 to 100 ° C.

上記現像液としては、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、
N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチレンホスホル
アミド、ジグライム、シクロヘキサノン等の有機溶媒、
及びこれらの有機溶媒とメタノール、エタノールとの混
合系などを用いることができる。
The developer, N, N- dimethylformamide,
N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide,
Organic solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone, hexamethylenephosphoramide, diglyme and cyclohexanone,
Alternatively, a mixed system of these organic solvents and methanol or ethanol can be used.

さらに、上記現像の際には、現像液に超音波を作用さ
せてもよい。
Further, ultrasonic waves may be applied to the developer during the above-mentioned development.

前述の現像後、形成された着色画像を、1,1,1−トリ
クロルエタン、イソプロピルアルコールなどによりリン
スし、次いで、熱風乾燥器、ホットプレートなどによ
り、約150〜200℃で10〜120分間熱処理することが好ま
しい。
After the above-mentioned development, the formed colored image is rinsed with 1,1,1-trichloroethane, isopropyl alcohol, etc., and then heat-treated at about 150 to 200 ° C for 10 to 120 minutes with a hot air dryer, a hot plate, etc. Preferably.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明で用いられる感光基を有する耐熱性芳
香族ポリアミドの製造例およびこの発明の組成物の実施
例を挙げ、この発明をさらに詳しく説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to production examples of heat-resistant aromatic polyamides having a photosensitive group used in the present invention and examples of the composition of the present invention.

製造例1 三ッ口フラスコに乾燥した空気を通して、フラスコ内
のガスを置換した後、3,5−ジアミノ安息香酸エチルメ
タクリル酸エステル119.98gを入れ、これにN−メチル
−2−ピロリドン(NMP)240mlを加えて溶解させた。
Production Example 1 After passing dry air through a three-necked flask to replace the gas in the flask, 119.98 g of 3,5-diaminobenzoic acid ethyl methacrylic acid ester was added, and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added thereto. 240 ml was added and dissolved.

この溶液を冷却後、0℃に冷却し撹拌しながらテレフ
タル酸ジクロライド91.16gを少しづつ加えた。
After cooling this solution, it was cooled to 0 ° C. and 91.16 g of terephthaloyl dichloride was added little by little while stirring.

この際に発熱があり、溶液の温度が上昇するが、約10
℃以下に維持した。
At this time, heat is generated and the temperature of the solution rises.
C. or less.

この溶液を、さらに、氷中水で、2時間撹拌し、重合
反応を行った。
This solution was further stirred with water in ice for 2 hours to carry out a polymerization reaction.

次いで、反応液に、NMP500mlを加えて希釈した後、こ
の溶液を、NMP1と水10との混合液に加えて、芳香族
ポリアミドを析出させた。
Next, after adding 500 ml of NMP to the reaction solution to dilute it, this solution was added to a mixed solution of NMP1 and water 10 to precipitate an aromatic polyamide.

その析出物を濾過して回収し、乾燥して、白色の芳香
族ポリアミド粉末167.8gを得た。
The precipitate was collected by filtration and dried to obtain 167.8 g of white aromatic polyamide powder.

この芳香族ポリアミド粉末の対数粘度(濃度;0.5g/10
0ml溶媒、溶媒;NMP、測定温度;30℃)は0.88であった。
Logarithmic viscosity of this aromatic polyamide powder (concentration; 0.5g / 10
0 ml solvent, solvent; NMP, measurement temperature; 30 ° C) was 0.88.

実施例1 有機顔料分散芳香族ポリアミド溶液の調製 N−メチル−2−ピロリドン(NMP)86.0gに赤色顔料
としてペリレンレッド4.25gを加え、混合撹拌後、水槽
中で50Wの超音波を約1時間作用させて上記顔料を分散
させ、次いで、この溶液を1μmのフッ素樹脂製フィル
ター(テフロンフィルター)を用いて、加圧濾過し、顔
料分散NMP溶液を得た。
Example 1 Preparation of Organic Pigment Dispersed Aromatic Polyamide Solution Perylene red (4.25 g) was added as a red pigment to 86.0 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and after mixing and stirring, ultrasonic waves of 50 W in a water tank for about 1 hour. The pigment was dispersed by acting, and this solution was filtered under pressure using a 1 μm fluororesin filter (Teflon filter) to obtain a pigment-dispersed NMP solution.

次いで、前記の顔料分散NMP溶液に、熱重合防止剤と
してハイドロキノンモノメチルエーテル0.26g及び前述
の製造例1で得られた芳香族ポリアミド粉末8.5gを加
え、充分に撹拌し均一な粘稠液とした後、水槽中で30W
の超音波を約30分間作用させた。
Next, 0.26 g of hydroquinone monomethyl ether as a thermal polymerization inhibitor and 8.5 g of the aromatic polyamide powder obtained in Production Example 1 above were added to the above-mentioned pigment-dispersed NMP solution, and the mixture was sufficiently stirred to form a uniform viscous liquid. Later, 30W in the water tank
Ultrasonic waves were applied for about 30 minutes.

前述のようにして得られた粘稠液に、4,4′−ジアジ
ドカルコン0.34gを加え、撹拌して、1μmのフッ素樹
脂製フィルター(テフロンフィルター)を用いて、加圧
濾過し、赤色顔料分散芳香族ポリアミド溶液(溶液組成
物)を調製した。
To the viscous liquid obtained as described above, 0.34 g of 4,4′-diazidochalcone was added, stirred and filtered under pressure using a 1 μm fluororesin filter (Teflon filter) to give a red color. A pigment-dispersed aromatic polyamide solution (solution composition) was prepared.

着色パターンの形成 前記の赤色顔料分散芳香族ポリアミド溶液を、ガラス
基板上に乾燥膜厚が1.5μmになるように回転塗布し、
塗布膜を70℃で30分間乾燥して、ガラス基板上に感光性
芳香族ポリアミド皮膜を形成し、該感光性芳香族ポリア
ミド皮膜を10μmの間隔のストライブ形状のマスクを介
して超高圧水銀灯(5mW/cm2)で30秒間密着露光した。
Formation of Coloring Pattern The red pigment-dispersed aromatic polyamide solution is spin-coated on a glass substrate so that the dry film thickness is 1.5 μm,
The coating film is dried at 70 ° C. for 30 minutes to form a photosensitive aromatic polyamide film on a glass substrate, and the photosensitive aromatic polyamide film is applied to a super high pressure mercury lamp ( Contact exposure was performed at 5 mW / cm 2 ) for 30 seconds.

次いで、パターン露光された感光性芳香族ポリアミド
皮膜を、ジグライム溶液を用いて1分間現像し、イソプ
ロピルアルコールでリンスした後、200℃で30分間熱処
理し、10μmのストライブの鮮明な赤色パターンを得
た。
Next, the pattern-exposed photosensitive aromatic polyamide film is developed with a diglyme solution for 1 minute, rinsed with isopropyl alcohol, and then heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes to obtain a clear red pattern of a stripe of 10 μm. It was

着色パターンの性状 前述のようにして得られた基板上の赤色パターンを25
0℃で1時間加熱したが、変色や、褪色は認められなか
った。
Coloring pattern properties The red pattern on the substrate obtained as described above
After heating at 0 ° C. for 1 hour, no discoloration or fading was observed.

実施例2 赤色顔料であるペリレンレッドの代わりに、緑色顔料
としてフタロシアニングリーンを用いたほかは、実施例
1と同様にして緑色顔料分散芳香族ポリアミド溶液(溶
液組成物)を調製した。
Example 2 A green pigment-dispersed aromatic polyamide solution (solution composition) was prepared in the same manner as in Example 1 except that phthalocyanine green was used as the green pigment instead of the perylene red that was the red pigment.

前記の緑色顔料分散芳香族ポリアミド溶液を使用し、
超音圧水銀灯の露光時間を40秒に変えたほかは、実施例
1と同様にして、ガラス基板上に感光性芳香族ポリアミ
ド皮膜を形成し、露光して、そして、現像などを行っ
て、10μmのストライブの鮮明な緑色パターンを得た。
Using the green pigment dispersion aromatic polyamide solution,
Except that the exposure time of the supersonic pressure mercury lamp was changed to 40 seconds, a photosensitive aromatic polyamide film was formed on a glass substrate, exposed, and developed in the same manner as in Example 1. A clear green pattern of 10 μm stripe was obtained.

前述のようにして得られた基板上の緑色パターンを25
0℃で1時間加熱したが、変色や、褪色は認められなか
った。
Apply 25 green patterns on the substrate obtained as described above.
After heating at 0 ° C. for 1 hour, no discoloration or fading was observed.

実施例3 赤色顔料であるペリレンレッドの代わりに、青色顔料
としてフタロシアニンブルーを用いたほかは、実施例1
と同様にして緑色顔料分散芳香族ポリアミド溶液(溶液
組成物)を調製した。
Example 3 Example 1 was repeated except that phthalocyanine blue was used as a blue pigment instead of perylene red which was a red pigment.
A green pigment-dispersed aromatic polyamide solution (solution composition) was prepared in the same manner as in.

前記の緑色顔料分散芳香族ポリアミド溶液を使用した
ほかは、実施例1と同様にして、ガラス基板上に感光性
芳香族ポリアミド皮膜を形成し、露光して、そして、現
像などを行って、10μmのストライブの鮮明な青色パタ
ーンを得た。
In the same manner as in Example 1 except that the above green pigment-dispersed aromatic polyamide solution was used, a photosensitive aromatic polyamide film was formed on a glass substrate, exposed to light, and developed to obtain 10 μm. I got a clear blue pattern of the stripe.

前述のようにして得られた基板上の青色パターンを25
0℃で1時間加熱したが、変色や、褪色は認められなか
った。
Apply 25 blue patterns on the substrate obtained as described above.
After heating at 0 ° C. for 1 hour, no discoloration or fading was observed.

実施例4 4,4′−ジアジドカルコンの代わりに、2,6−ジ−
(4′−アジドベンザル)−4−メチルシクロヘキサノ
ン0.51gを用いたほかは、実施例1と同様にして赤色顔
料分散芳香族ポリアミド溶液(溶液組成物)を調製し
た。
Example 4 Instead of 4,4'-diazidochalcone, 2,6-di-
A red pigment-dispersed aromatic polyamide solution (solution composition) was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.51 g of (4′-azidobenzal) -4-methylcyclohexanone was used.

前記の赤色顔料分散芳香族ポリアミド溶液を使用した
ほかは、実施例1と同様にして、ガラス基板上に感光性
芳香族ポリアミド皮膜を形成し、露光して、そして、現
像などを行って、10μmのストライブの鮮明な赤色パタ
ーンを得た。
In the same manner as in Example 1 except that the above red pigment-dispersed aromatic polyamide solution was used, a photosensitive aromatic polyamide film was formed on a glass substrate, exposed to light, and developed to obtain 10 μm. I got a clear red pattern of the stripe.

前述のようにして得られた基板上の青色パターンを25
0℃で1時間加熱したが、変色や、褪色は認められなか
った。
Apply 25 blue patterns on the substrate obtained as described above.
After heating at 0 ° C. for 1 hour, no discoloration or fading was observed.

比較例1 4,4′−ジアジドカルコンを全く使用せず、その代わ
りに、ジエチルチオキサントン0.6g、ベンジル0.4g、及
びジメチルアミノアントラニル酸メチル0.6gを加えたほ
かは、実施例2と同様にして緑色顔料分散芳香族ポリア
ミド溶液(溶液組成物)を調製した。
Comparative Example 1 The same as Example 2 except that 4,4′-diazidochalcone was not used at all, and instead, 0.6 g of diethylthioxanthone, 0.4 g of benzyl, and 0.6 g of methyl dimethylaminoanthranilate were added. To prepare a green pigment-dispersed aromatic polyamide solution (solution composition).

前記の緑色顔料分散芳香族ポリアミド溶液を使用し、
超音圧水銀灯の露光時間を40秒に変えたほかは、実施例
1と同様にして、ガラス基板上に感光性芳香族ポリアミ
ド皮膜を形成し、露光して、そして、現像などを行っ
て、緑色パターンを形成したが、そのパターンは一部変
形していたり、一部剥離していたりすると共に、残存し
たパターンを暗緑色に変色しており、鮮明な緑色パター
ンではなかった。
Using the green pigment dispersion aromatic polyamide solution,
Except that the exposure time of the supersonic pressure mercury lamp was changed to 40 seconds, a photosensitive aromatic polyamide film was formed on a glass substrate, exposed, and developed in the same manner as in Example 1. Although a green pattern was formed, the pattern was partly deformed or partly peeled off, and the remaining pattern was changed to dark green, which was not a clear green pattern.

〔本発明の作用効果〕[Operation and effect of the present invention]

この発明の着色感光性ポリアミド組成物は、特に、耐
熱性が高い感光性の芳香族ポリアミドとビスアジド化合
物とが配合されているので、種々の有機顔料が含有され
た状態において、耐熱性及び感光性に優れ、且つ、鮮明
で精度の高いカラーフィルターを、比較的、低温下に簡
便に再現性よく製造することかできるものである。
Since the colored photosensitive polyamide composition of the present invention contains, in particular, a photosensitive aromatic polyamide having high heat resistance and a bisazide compound, the heat resistance and the photosensitivity in the state where various organic pigments are contained are high. It is possible to easily and reproducibly manufacture a color filter which is excellent in sharpness and has high precision with relatively high temperature.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】感光性基を有する耐熱性ポリアミドと、ビ
スアジド化合物との組成物に、有機顔料が分散されてい
ることを特徴とする着色感光性ポリアミド組成物。
1. A colored photosensitive polyamide composition, wherein an organic pigment is dispersed in a composition of a heat-resistant polyamide having a photosensitive group and a bisazide compound.
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