JP2556315B2 - Method for producing scratch-resistant matte material - Google Patents

Method for producing scratch-resistant matte material

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JP2556315B2
JP2556315B2 JP61281491A JP28149186A JP2556315B2 JP 2556315 B2 JP2556315 B2 JP 2556315B2 JP 61281491 A JP61281491 A JP 61281491A JP 28149186 A JP28149186 A JP 28149186A JP 2556315 B2 JP2556315 B2 JP 2556315B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、耐擦傷性艶消材に関するものである。こ
の発明の耐擦傷性艶消材は例えば、プラスチックを基材
とするときは、CRT防眩フィルター、メンブレンスイッ
チ、各種ディスプレイ、銘板、電卓などの電子機器の表
面材、などの各用途に適する。
The present invention relates to a scratch-resistant matting material. The scratch-resistant matting material of the present invention is suitable for various applications such as a CRT antiglare filter, a membrane switch, various displays, nameplates, surface materials for electronic devices such as calculators, when a plastic is used as a base material.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、艶消しを行なうには、基材自身に微細な凹凸
をエンボス加工により設ける方法、艶消剤を含有する
シリコーン焼付型塗料などを塗布し焼付ける方法、艶
消剤を含有する電離放射線硬化型塗料を塗布し電離放射
線を照射する方法がある。
Conventionally, in order to carry out matting, a method of forming fine irregularities on the substrate itself by embossing, a method of coating and baking a silicone baking type paint containing a matting agent, an ionizing radiation curing containing a matting agent There is a method of applying a mold paint and irradiating with ionizing radiation.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかし、上記の方法では得られる表面の耐擦傷性が
不足し、の方法では、艶消剤を含有するために耐擦傷
性がにおけるよりも悪くなり、しかも、焼付け時間が
長く、焼付け温度も高いために軟化点の低いプラスチッ
クフィルムなどには向かないし、の方法では、硬化に
要する時間は短いが、艶消剤を含有するための表面の耐
擦傷性の悪さは本質的には解消されていない上、硬化の
際の電離放射線のエネルギー分布、塗料中の溶剤配合な
どにより、艶消剤が硬化の遅れた部分に移動して艶がバ
ラついたり、硬化後も艶消剤の移動により艶が経時的に
変化するなどの不安定さがある。
However, in the above method, the scratch resistance of the surface obtained is insufficient, and in the method of 1, the scratch resistance is worse than that in the method because it contains a matting agent, and the baking time is long and the baking temperature is high. Therefore, it is not suitable for plastic films with a low softening point, and although the method requires a short curing time, the poor scratch resistance of the surface due to the inclusion of the matting agent is essentially eliminated. In addition, due to the energy distribution of ionizing radiation during curing, the blending of solvent in the paint, etc., the matting agent moves to the part where curing has been delayed and the gloss varies, and even after curing, the matting agent moves There is instability such as changes over time.

この発明では、充分な耐擦傷性を有し、艶消剤を含有
することによる欠点をなくし、電離放射線のエネルギー
分布、塗料中の溶剤配合などによる艶のバラつきや硬化
後の縁の経時的に変化を解消しようとするものである。
In this invention, it has sufficient scratch resistance and eliminates the drawbacks of containing a matting agent, and the energy distribution of ionizing radiation, variation in gloss due to solvent blending in the paint, and the edge after curing with time It is an attempt to eliminate the change.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明では、艶消剤を使用することなく、電離放射
線硬化性樹脂として塗布後、一応の乾燥状態が得られる
ものを使用し、熱可塑性樹脂シートなどにおけるのと同
様にしてエンボス手法により微細凹凸を設け、設けた後
に電離放射線を照射することにより、上記の従来の技術
の欠点を解消することを可能にしている。
In this invention, without using a matting agent, a material that can be dried in a tentative state after being applied as an ionizing radiation-curable resin is used, and fine unevenness is obtained by an embossing method in the same manner as in a thermoplastic resin sheet. By providing and irradiating with ionizing radiation after providing, it is possible to eliminate the above-mentioned drawbacks of the conventional technique.

即ち、この発明は、 『基材の表面に、未硬化の状態では常温で固体であ
り、非粘着性であり、かつ熱可塑性である電離放射線硬
化性樹脂からなる未硬化状態の層を設け、次いで、該層
を加熱し、エンボス版で加圧することにより、その層に
艶消効果を生じる微細凹凸を形成し、その後、電離放射
線を照射して該層を硬化させることを特徴とする耐擦傷
性艶消材の製造方法』をその要旨とするものである。
That is, the present invention is, "on the surface of the substrate, an uncured layer made of an ionizing radiation curable resin that is solid at room temperature in the uncured state, is non-adhesive, and is thermoplastic, Then, the layer is heated and pressed with an embossing plate to form fine irregularities that produce a matt effect, and then the layer is cured by irradiation with ionizing radiation. The method of manufacturing a matte material is the gist.

〔作用〕[Action]

この発明では、電離放射線硬化性樹脂を用いていなが
らも、艶消剤を用いていないので、電離放射線硬化性樹
脂の硬化膜の性能が充分発揮されて、耐擦傷性が高い表
面が得られ、艶消剤を用いないことから、艶消剤に起因
する欠点がすべてなくなり、電離放射線のエネルギー分
布や塗料中の溶剤配合などによる艶のバラつき、硬化後
の艶の経時的な変化も生じなくなった。
In this invention, while using the ionizing radiation curable resin, since no matting agent is used, the performance of the cured film of the ionizing radiation curable resin is sufficiently exerted, and a surface having high scratch resistance is obtained, Since no matting agent is used, all the defects caused by the matting agent are eliminated, and the gloss distribution due to the energy distribution of ionizing radiation and the solvent blending in the paint, and the change over time in the gloss after curing do not occur. .

〔実施例〕〔Example〕

以下にこの発明の実施例を説明する。 Examples of the present invention will be described below.

基材 この発明の耐擦傷性艶消材の基材は、耐擦傷性艶消材
の用途により様々であるが、例えば、プラスチックフィ
ルムであるポリエチレンフィルム、ポリピロピレンフィ
ルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフ
ィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、
ナイロンフィルム、ポリスチレンフィルム、エチレン−
酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−ビニルアルコ
ール共重合体フィルム、アイオノマーなどが使用でき、
なかでも、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ
カーボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルムが好ま
しい。
Substrate The substrate of the scratch-resistant matte material of the present invention varies depending on the use of the scratch-resistant matte material, and examples thereof include a polyethylene film which is a plastic film, a polypyrropylene film, a polyvinyl chloride film, Vinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, polyethylene terephthalate film, polycarbonate film,
Nylon film, polystyrene film, ethylene-
Vinyl acetate copolymer film, ethylene-vinyl alcohol copolymer film, ionomer, etc. can be used,
Of these, polyethylene terephthalate film, polycarbonate film and polyvinyl chloride film are preferable.

このほか、基材としては、用途に応じ、薄葉紙、晒ク
ラフト紙、チタン紙、リンター紙、板紙、石膏ボード紙
などの紙、木、合板、パーチクルボードなどの木質の基
材、石膏ボード、石膏スラグボードなどの石膏系基材、
パルプセメント板、石綿セメント板、木片セメント板な
どの遷移セメント板、GRCおよびコンクリート、鉄、ア
ルミニウム、銅などの金属箔もしくはシートなども使用
する。
In addition, as the base material, depending on the application, thin paper, bleached kraft paper, titanium paper, linter paper, paperboard, paper such as gypsum board paper, wood base such as wood, plywood, particle board, gypsum board, gypsum slag, etc. Gypsum base material such as board,
Also used are transition cement boards such as pulp cement boards, asbestos cement boards and wood chip cement boards, metal foils or sheets such as GRC and concrete, iron, aluminum and copper.

以上の素材は適宜に複合して用いてもよく、また、複
合は予め行なわなくとも、第1の基材を用いて加工を済
ませた後、裏面にさらに別の基材を貼り着ける方式によ
ってもよい。
The above materials may be appropriately combined and used, or, even if the combination is not performed in advance, a method in which another base material is attached to the back surface after processing is performed using the first base material Good.

電離放射線硬化性樹脂層 この層は、未硬化の状態では常温で固体であり、か
つ、熱可塑性、溶剤溶解性を有していながら、塗装及び
乾燥によって見かけ上、あるいは、手で触ったときにも
非流動性であり、かつ非粘着性である塗膜を与える紫外
線硬化樹脂または電子線硬化樹脂を材料として形成され
ている。また、特に、この発明では電離放射線硬化性樹
脂層は艶消剤を含有しないものである。このような樹脂
としてはラジカル重合性不飽和基を有する熱可塑性の次
の2種類の樹脂がある。
Ionizing radiation-curable resin layer This layer is solid at room temperature in the uncured state, and has thermoplasticity and solvent solubility, but it is apparent by coating and drying, or when touched by hand. Is formed of an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin which gives a coating film which is non-fluid and non-adhesive. Further, in particular, in the present invention, the ionizing radiation-curable resin layer does not contain a matting agent. As such a resin, there are the following two thermoplastic resins having a radically polymerizable unsaturated group.

(1) ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中にラ
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には
以下の化合物〜を重合、もしくは共重合させたもの
に対し後述する方法(a)〜(d)によりラジカル重合
性不飽和基を導入したものを用いることができる。
(1) Those having a radically polymerizable unsaturated group in a polymer having a glass transition temperature of 0 to 250 ° C. More specifically, a compound obtained by polymerizing or copolymerizing the following compounds (1) to (4) with a radically polymerizable unsaturated group introduced by the methods (a) to (d) described below can be used.

水酸基を有する単量体;N−メチロール(メタ)アクリ
ルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート
等。
A monomer having a hydroxyl group; N-methylol (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2
-Hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and the like.

カルボキシル基を有する単量体:(メタ)アクリル
酸、(メタ)アクリロイルオキシエチルモノサクシネー
ト等。
Monomers having a carboxyl group: (meth) acrylic acid, (meth) acryloyloxyethyl monosuccinate and the like.

エポキシ基を有する単量体:グリシジル(メタ)アク
リレート等。
Monomer having epoxy group: glycidyl (meth) acrylate and the like.

アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニルエチ
ル(メタ)アクリテート、2−アジリジニルプロピオン
酸アリル等。
Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl (meth) acrylate, allyl 2-aziridinylpropionate and the like.

アミノ基を有する単量体:(メタ)アクリルアミド、
ダイアセオン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノ
エチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル
(メタ)アクリレート等。
Monomer having an amino group: (meth) acrylamide,
Diaceon (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate and the like.

スルフォン基を有する単量体:2−(メタ)アクリルア
ミド−2−メチルプロパンスルフォン酸等。
Monomers having sulfone groups: 2- (meth) acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, etc.

イソシアネート基を有する単量:2,4−トルエンジイソ
シアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
トの1モル対1モル付加物等のジイソシアネートと活性
水素を有するラジカル重合性単量体の付加物等。
Monomer having an isocyanate group: 1,4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, such as an adduct of 1 mole to 1 mole of diisocyanate and a radical polymerizable monomer having active hydrogen.

更に、上記の共重合体のガラス転移点を調節したり、
硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物
と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体とを
共重合させることができる。このような共重合可能な単
量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、
エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリ
レート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メ
タ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、
イソアミル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レート等が挙げられる。
Further, adjusting the glass transition point of the above copolymer,
In order to adjust the physical properties of the cured film, the above compound and the following monomers copolymerizable with this compound can be copolymerized. Examples of such a copolymerizable monomer include, for example, methyl (meth) acrylate,
Ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate,
Examples thereof include isoamyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate.

次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる
方法(a)〜(d)により反応させ、ラジカル集合性不
飽和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線
硬化性樹脂が得られる。
Next, the polymer obtained as described above is reacted by the methods (a) to (d) described below to introduce a radical-aggregating unsaturated group to obtain an ultraviolet or electron beam curable resin. .

(a)水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の
の場合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基を
有する単量体等を縮合反応させる。
In the case of (a) a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as (meth) acrylic acid is subjected to a condensation reaction.

(b)カルボキシル基、スルファン基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。
(B) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a carboxyl group or a sulfane group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction.

(c)エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加させる。
(C) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group or an aziridinyl group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group or a monomer having a carboxyl group is added.

(d)水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
(D) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group, a monomer having an aziridinyl group, or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylate monomer One to one mole of the adduct of the product is subjected to an addition reaction.

上記反応を行なうには、微量のハイドロキノンなどの
重合禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが望ま
しい。
In order to carry out the above reaction, it is desirable to add a trace amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and to carry out the reaction while sending dry air.

(2) 融点の常温(20℃)〜250℃であり、ラジカル
重合性不飽和基を有する化合物。具体的にはステアリル
アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、トリ
アクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジ
アクリレート、シクロヘキサジオールジ(メタ)アクリ
レート、スピログリコールジアクリレート、スピログリ
コール(メタ)アクリレートなどが挙げられる。また、
この発明においては前記(1)および(2)を混合して
用いることもでき、さらにそれらに対してラジカル重合
性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重
合性不飽和単量体は電離性放射線照射の際、架橋密度を
向上させ、耐熱性を向上させるものであって前述の単量
体の他にエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキ
サンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ
ロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリジ
ジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ポリエチレング
リコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレー
ト、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジ(メ
タ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジグリジ
ジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ソルビトールテ
トラグリシジルエーテルテトラ(メタ)アクリレートな
どを用いることができ前記した共重合体混合物の固形分
100重量部に対して、0.1〜100重量部で用いることが好
ましい、また、上記のものは電子線により充分に硬化可
能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤
としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾイルメチルエ
ーテル、などのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセ
トフェノン類、ビアセチル類などの紫外線照射によりラ
ジカルを発生するものも用いることができる。
(2) A compound having a melting point of room temperature (20 ° C) to 250 ° C and having a radically polymerizable unsaturated group. Specific examples thereof include stearyl acrylate, stearyl (meth) acrylate, triacryl isocyanurate, cyclohexanediol diacrylate, cyclohexadiol di (meth) acrylate, spiroglycol diacrylate, and spiroglycol (meth) acrylate. Also,
In the present invention, the above (1) and (2) may be used as a mixture, and a radical polymerizable unsaturated monomer may be added to them. This radically polymerizable unsaturated monomer improves the crosslink density upon irradiation with ionizing radiation and improves heat resistance. In addition to the above-mentioned monomers, ethylene glycol di (meth) acrylate,
Polyethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, propylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether di (meth ) Acrylate, sorbitol tetraglycidyl ether tetra (meth) acrylate, etc. can be used. Solids of the copolymer mixture described above
It is preferably used in an amount of 0.1 to 100 parts by weight, relative to 100 parts by weight.Although the above can be sufficiently cured by an electron beam, when cured by ultraviolet irradiation, benzoquinone as a sensitizer, Benzoin ethers such as benzoin and benzoyl methyl ether, halogenated acetophenones, and biacetyls that generate radicals by ultraviolet irradiation can also be used.

上記のような電離放射線硬化性樹脂は、必要に応じ
て、塗布に通して粘度になるよう溶剤もしくはモノマー
で希釈し、基材上に適宜なコーティング方法により塗布
し、塗布後、エンボス加工により、微細凹凸を形成す
る。
The ionizing radiation curable resin as described above is, if necessary, diluted with a solvent or a monomer so as to have a viscosity through application, applied by a suitable coating method on a substrate, and after application, by embossing, Form fine irregularities.

エンボス加工は公知の方法によって行なうことがで
き、例えば、エンボス版として、エッチング法、ミル押
出し法、電鋳法などにより製作されたものを使用したエ
ンボスロールを加熱して行なうか、あるいは同様にして
製作されたエンボス版を用いて、高周波エンボス法によ
り行なう事ができるが、この他の方法によってもよい。
エンボス版の版面の凹凸のピッチ、深さなどを変えるこ
とによりエンボス加工を施す面の艶を変えることができ
る。
The embossing can be performed by a known method. For example, as an embossing plate, an embossing roll made of an etching method, a mill extrusion method, an electroforming method, or the like is used, or the embossing roll is heated, or in the same manner. The high-frequency embossing method can be used with the manufactured embossing plate, but other methods may also be used.
The gloss of the embossed surface can be changed by changing the pitch and depth of the unevenness of the plate surface of the embossing plate.

通常の電離放射線硬化性樹脂は、未硬化の状態では液
体状態か、見かけ上は固体でも、粘着性であるから、こ
のようなエンボス加工はできないが、この発明では、通
常の熱可塑性樹脂と同様に扱えて、塗布後、乾燥工程を
経ることにより、乾燥する特殊な電離放射線硬化性樹脂
を使用しているために、エンボス加工は勿論、電離放射
線硬化性樹脂を塗布した後の基材の取り扱い上も何ら問
題が生じない。
Although ordinary ionizing radiation curable resin is sticky even if it is in a liquid state in the uncured state or is apparently solid, it cannot be embossed like this, but in the present invention, it is similar to the ordinary thermoplastic resin. It uses a special ionizing radiation curable resin that dries after being applied and then undergoes a drying process.Therefore, not only embossing, but also handling of the substrate after applying the ionizing radiation curable resin. No problem occurs on the top.

エンボス後、電離放射線硬化性樹脂層を設けた基材に
電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂層を硬化さ
せる。
After the embossing, the base material provided with the ionizing radiation curable resin layer is irradiated with ionizing radiation to cure the ionizing radiation curable resin layer.

電離放射線としては、紫外線もしくは電子線が代表的
であり、電子線として、コックロストワルトン型、バン
デグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線
型、ダイナミトロン型高周波型などの各種電子線加速器
から放出された50〜1000KeV、好ましくは100〜300KeVの
範囲のエネルギーを持つ電子線を用い、又、紫外線とし
て超高圧水銀灯高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアー
ク、クセノンアーク、メタルハライドランプなどの光源
を用いた紫外線源から発するものを用いる。
Typical examples of ionizing radiation are ultraviolet rays or electron beams.As electron beams, various electrons such as Cocklost-Walton type, Bandegraph type, resonant transformer type, insulating core transformer type, linear type, dynamitron type high frequency type, etc. Using an electron beam emitted from a linear accelerator with an energy in the range of 50 to 1000 KeV, preferably 100 to 300 KeV, and also as a light source for ultra-high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc, metal halide lamp, etc. What is emitted from an ultraviolet ray source is used.

以上、主に、基材の片側に層を形成し、エンボスする
ことを想定して説明したが、必要に応じ、両面に層を形
成し、エンボスしてもよく、その際、両面の艶を同じに
しても、違えてもよい。
In the above, the explanation has been given mainly on the assumption that a layer is formed on one side of the base material and embossed, but if necessary, a layer may be formed on both surfaces and embossed. The same or different.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

この発明によれば、艶消剤を使用せずにエンボス加工
により艶消しされた表面の形成ができ、しかも、艶消し
面自体は電離放射線硬化性樹脂の硬化した皮膜でできて
いるので、高い耐擦傷性を与えることができ、また、艶
消剤を用いないから、そのことによる艶ムラや製品の艶
の経時的変化も生じない。
According to this invention, it is possible to form a matte surface by embossing without using a matting agent, and the matte surface itself is made of a cured film of an ionizing radiation curable resin, which is high. Scratch resistance can be imparted, and since no matting agent is used, uneven gloss and change in luster of the product over time do not occur.

この発明により具体的な実施例を次にあげておく。 Specific examples according to the present invention will be described below.

〔実施例1〕 基材として厚み100μmのポリエチレンテレフタレー
トフィルム(東レ(株)製、ルミラーT−60)を用い、
その片面にメラミンアクリレート系紫外線硬化性樹脂
(三菱油化ファイン(株)製、ユピアーLZ−075)をメ
チルエチルケトンで固形分が40%になるように希釈した
ものをロールコーターを用いてコーティングした後、熱
風(100℃)で乾燥して塗膜を固体皮膜化させ、厚み10
μmの紫外線硬化性樹脂層を形成して塗装済フィルムを
得た。
[Example 1] A polyethylene terephthalate film (Lumirror T-60 manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 100 µm was used as a substrate,
After coating a melamine acrylate UV curable resin (Mitsubishi Yuka Fine Co., Ltd., Upia LZ-075) on one side with methyl ethyl ketone diluted to a solid content of 40% using a roll coater, Dry with hot air (100 ° C) to turn the coating into a solid film, thickness 10
A μm ultraviolet curable resin layer was formed to obtain a coated film.

次に塗装済フィルムを予熱ヒーターで予熱した後、エ
ッチング法により製作した5μmの高さの凹凸を有する
エンボスロールを90℃に加熱した熱ロールとゴム圧胴と
の間を加圧しながら5m/minの速度で通して、その樹脂層
側からエンボス加工を行ないエンボス加工済フィルムと
した。
Next, after preheating the coated film with a preheater, an embossing roll with unevenness of 5 μm height produced by etching method was heated at 90 ° C while pressing between the heat roll and the rubber impression cylinder at 5 m / min. The resin layer side was passed through at the speed of 4 to perform embossing to obtain an embossed film.

更にエンボス加工済フィルムをオゾン有りタイプの高
圧水銀灯(出力80w/cm)を5灯備えた紫外線照射装置の
下を5m/minの速度で通過させて紫外線照射を行ない、エ
ンボス加工済フィルムのエンボス済の紫外線硬化性樹脂
層を三次元架橋させたフィルムを得た。
Further, the embossed film is passed through a UV irradiation device equipped with 5 high pressure mercury lamps with ozone (output 80w / cm) at a speed of 5m / min to irradiate UV rays, and the embossed film is embossed. Thus, a film obtained by three-dimensionally crosslinking the ultraviolet curable resin layer of 3 was obtained.

このようにして得られたフィルムは耐擦傷性のある艶
消し表面を有し、その艶消し表面をスチールウール#00
00を学振型摩耗試験機に取りつけたもので荷重500gの条
件で20回往復こすっても、傷つくことがなかった。
The film thus obtained has a scratch-resistant matte surface, the matte surface of which is treated with steel wool # 00.
The 00 was attached to a Gakushin-type abrasion tester, and even if it was rubbed 20 times back and forth under a load of 500 g, it was not damaged.

また、得られた艶消し表面の艶(JIS−Z−8741に基
づく)は10点平均で35.6±0.5と、ムラがほとんどなか
った。
In addition, the gloss of the obtained matte surface (based on JIS-Z-8471) was 35.6 ± 0.5 on a 10-point average, showing almost no unevenness.

さらに、製造直後の艶が35.6のものを1週間および1
カ月放置した後の艶は、それぞれ35.3および35.5であ
り、経時的変化もほとんどないことが確かめられた。
Furthermore, the gloss of 35.6 immediately after production is 1 week and 1
The gloss after leaving for 3 months was 35.3 and 35.5, respectively, and it was confirmed that there was almost no change with time.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基材の表面に、未硬化の状態では常温で固
体であり、非粘着性であり、かつ熱可塑性である電離放
射線硬化性樹脂からなる未硬化状態の層を設け、次い
で、該層を加熱し、エンボス版で加圧することにより、
その層に艶消効果を生じる微細凹凸を形成し、その後、
電離放射線を照射して該層を硬化させることを特徴とす
る耐擦傷性艶消材の製造方法。
1. An uncured layer made of an ionizing radiation-curable resin which is solid at room temperature in the uncured state, is non-adhesive, and is thermoplastic, is provided on the surface of a substrate, and then, By heating the layer and pressing with an embossing plate,
Form fine irregularities that produce a matte effect on that layer, then
A method for producing a scratch-resistant matting material, which comprises irradiating with ionizing radiation to cure the layer.
【請求項2】該未硬化の状態では常温で固体であり、か
つ熱可塑性である電離放射線硬化性樹脂からなる層が艶
消剤を含まないことを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の耐擦傷性艶消材の製造方法。
2. A layer made of an ionizing radiation curable resin which is solid at room temperature in the uncured state and is thermoplastic and does not contain a matting agent. For producing a scratch-resistant matte material.
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