JP2552253B2 - Constant voltage circuit - Google Patents

Constant voltage circuit

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JP2552253B2 JP6196630A JP19663094A JP2552253B2 JP 2552253 B2 JP2552253 B2 JP 2552253B2 JP 6196630 A JP6196630 A JP 6196630A JP 19663094 A JP19663094 A JP 19663094A JP 2552253 B2 JP2552253 B2 JP 2552253B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は集積回路上に作成される
定電圧回路に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a constant voltage circuit formed on an integrated circuit.

【0002】[0002]

【発明の概要】本発明は、集積回路上に作成される定電
圧回路において、光検出手段を付加することにより集積
回路上に作成された定電圧回路の出力を制御し集積回路
に光があたった場合、定電圧回路の出力電圧の絶対値が
小さくならない様にしたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, in a constant voltage circuit formed on an integrated circuit, the output of the constant voltage circuit formed on the integrated circuit is controlled by adding photodetection means so that the integrated circuit is exposed to light. In this case, the absolute value of the output voltage of the constant voltage circuit is prevented from becoming small.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来、集積回路上に構成される定電圧回
路は図4に示す様に集積回路に光があたる様な使用方法
をされた場合の考慮が全くなされないのが通例であっ
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, a constant voltage circuit formed on an integrated circuit is usually not considered at all when it is used such that the integrated circuit is exposed to light as shown in FIG. .

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし従来の様に集積
回路に光があたる様な使用方法の考慮がなされない時に
定電圧回路のバイアス電流を非常に小さくした場合、集
積回路上の定電圧回路に光があたると、トランジスタの
光リーク電流又はトランジスタに寄生するダイオードの
光リーク電流のため回路の動作点が移動し出力電圧の絶
対値が低下し、定電圧回路の出力を電源として駆動され
る回路が存在する場合にはこの回路の動作が停止してし
まうという問題点があった。
However, when the bias current of the constant voltage circuit is made extremely small when the usage method such that the integrated circuit is exposed to light is not taken into consideration as in the conventional case, the constant voltage circuit on the integrated circuit is reduced. When exposed to light, the operating point of the circuit moves due to the photo leak current of the transistor or the photo leak current of the diode parasitic on the transistor, the absolute value of the output voltage decreases, and the output of the constant voltage circuit is driven as the power supply. When the circuit exists, there is a problem that the operation of this circuit stops.

【0005】本発明はこの様な問題点を解決するもの
で、その目的は集積回路に光があたる様な使用方法下に
おいても、定電圧回路の出力電圧の絶対値を光があたら
ない状態の値と同等かそれ以上にすることにより、定電
圧回路の出力を駆動電源とする回路の動作を、光があた
つた場合でも保証しようとするものである。
The present invention solves such a problem, and its purpose is to prevent the absolute value of the output voltage of the constant voltage circuit from being exposed to light even when the integrated circuit is exposed to light. By making the value equal to or more than the value, it is intended to guarantee the operation of the circuit using the output of the constant voltage circuit as the driving power source even when light is applied.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の定電圧回路は、
第1導電型の半導体基板に形成された相補型トランジス
タよりなり、基準電圧源と光検出手段とを有し、該基準
電圧源が出力する基準電圧に基づいて定電圧を出力する
定電圧回路において、前記光検出手段は、前記基準電圧
源の基準電圧を出力する第1導電型で形成された基準電
圧出力用トランジスタのドレインと電源端子との間に設
けられ、前記定電圧回路外から該定電圧回路へ照射され
る光を検出して該光による該定電圧回路の動作点の変動
を補償する光検出用ダイオードを含み、前記光検出用ダ
イオードは、前記半導体基板に形成された第2導電型の
ウェルと前記ウェル上に形成された第1導電型の光検出
用拡散層よりなり、前記光検出用拡散層は、前記基準電
圧出力用トランジスタのドレインの拡散層とは離間して
又は前記基準電圧出力用トランジスタのドレインの拡散
層を延在して形成されてなることを特徴とする。
The constant voltage circuit of the present invention comprises:
A constant voltage circuit which comprises a complementary transistor formed on a semiconductor substrate of the first conductivity type, has a reference voltage source and a photodetecting means, and outputs a constant voltage based on a reference voltage output from the reference voltage source. The photodetection means is provided between the drain and the power supply terminal of the reference voltage output transistor formed of the first conductivity type for outputting the reference voltage of the reference voltage source, and is provided from outside the constant voltage circuit. The semiconductor device further includes a photodetecting diode that detects light applied to the voltage circuit and compensates for fluctuations in the operating point of the constant voltage circuit caused by the light, the photodetecting diode being a second conductive member formed on the semiconductor substrate. Type well and a first-conductivity-type photodetection diffusion layer formed on the well, the photodetection diffusion layer being separated from the diffusion layer of the drain of the reference voltage output transistor, or Reference voltage Characterized by comprising formed to extend the diffusion layer of the drain of the power transistor.

【0007】[0007]

【作用】本発明では、以上の様な構成により光検出手段
からの信号で集積回路に光があてられた場合、定電圧発
生手段に制御を加え定電圧出力電圧の絶対値が小さくな
らない様にする。
According to the present invention, when the integrated circuit is illuminated by the signal from the photodetector, the constant voltage generating means is controlled so that the absolute value of the constant voltage output voltage does not become small. To do.

【0008】[0008]

【実施例】図1に本発明の実施例を示す。1、5、10
はデプレッション型PチャンネルMOSトランジスタ、
3、6、7はエンハンスメント型PチャンネルMOSト
ランジスタ、2、4、8、9、11、12はエンハンス
メント型NチャンネルMOSトランジスタ、13、1
4、15は光検出ダイオードである。
EXAMPLE FIG. 1 shows an example of the present invention. 1, 5, 10
Is a depletion type P-channel MOS transistor,
3, 6, 7 are enhancement type P-channel MOS transistors, 2, 4, 8, 9, 11, 12 are enhancement type N-channel MOS transistors, 13, 1
Reference numerals 4 and 15 are photodetection diodes.

【0009】本回路の動作は、1〜4までで構成される
基準電圧源を5〜12で構成されるボルテージフォロア
回路で受けVDD−D間に定電圧出力電圧を出力するもの
である。本回路において1、5、10の各トランジスタ
によって決定されるバイアス電流が非常に小さい時、本
回路に光があたつた場合の動作を以下に述べる。
The operation of this circuit is such that the reference voltage source composed of 1 to 4 is received by the voltage follower circuit composed of 5 to 12, and a constant voltage output voltage is output between V DD and D. The operation when light is applied to the circuit when the bias current determined by each of the transistors 1, 5, 10 is very small in the circuit will be described below.

【0010】本回路に光があたつた場合、光検出ダイオ
ードの光リーク電流とバイアス電流がほぼ同じオーダー
の値となるならば、A点とVSS間に接続された13の光
検出ダイオードは光リークを起こしA点の電位をVSS
に引っぱる。同様にVDDとB点間に接続された15の光
検出ダイオードはB点の電位をVDD側に引っぱり、C点
とVDD側に接続した14の光検出ダイオードはC点の電
位をVDD側に引っぱる。この様な動作により、C点の電
位が光のあたらない時と比較してVDD側に近づくことに
なり、D点の電位をVSS側に近づける。従つてVDD−D
間にあらわれる電圧の絶対値は光があたることにより、
あたらない時より同じか大きな値をとることになる。従
って、VDD−D間の電圧VRegで動作する回路が接続さ
れている場合、これらの回路は光のあたらない時と同様
に動作することが可能となる。
When light is applied to this circuit, if the photo-leakage current and the bias current of the photo-detecting diode are on the order of approximately the same value, the 13 photo-detecting diodes connected between point A and V SS are Light leakage occurs and the potential at point A is pulled to the V SS side. Similarly, the 15 photodetection diodes connected between V DD and the B point pull the potential of the B point to the V DD side, and the 14 photodetection diodes connected to the C point and the V DD side change the potential of the C point to V DD. Pull to the DD side. By such an operation, the potential at the point C approaches the V DD side as compared to when the light does not reach, and the potential at the point D approaches the V SS side. Therefore, V DD -D
The absolute value of the voltage that appears between the
It will take the same or a larger value than when it does not hit. Therefore, when circuits that operate at the voltage V Reg between V DD and D are connected, these circuits can operate in the same manner as when there is no light.

【0011】図1における13、14、15の光検出ダ
イオードは、図2(a)、(b)、(c)、(d)に示
す様な方法で作成する。図2(a)は13のダイオード
に相当するダイオードの作成方法でありP- WELL上
にN+ 拡散層を設けP-+ダイオードとしている。
The photodetector diodes 13, 14 and 15 in FIG. 1 are manufactured by the method shown in FIGS. 2A, 2B, 2C and 2D. 2 (a) is equivalent to a method of creating a diode P to the 13 diodes - have a N + diode - P a N + diffusion layer provided on the WELL.

【0012】図2(b)は4のトランジスタに寄生する
ダイオードを光検出ダイオードとして使用した例であ
る。この場合4のNチャンネルトランジスタのドレイン
の面積を通常必要とされるサイズ(最小コンタクトのと
れるサイズ)より大きくとり、P-+ダイオードを作成
している。
FIG. 2B shows an example in which a diode parasitic on the transistor 4 is used as a photodetection diode. In this case, the area of the drain of the N-channel transistor 4 is set to be larger than the normally required size (size capable of making the minimum contact) to form the P N + diode.

【0013】図2(c)は14又は15に相当するダイ
オードの作成方法である。N- 基板上にP+ 拡散を設け
+- ダイオードを作成している。
FIG. 2C shows a method of forming a diode corresponding to 14 or 15. P + diffusion is provided on the N substrate to form a P + N diode.

【0014】図2(d)は同様に14又は15のダイオ
ードの作成方法である。これはN-基板上にP- WEL
Lを作成し、P-- ダイオードを構成し光検出ダイオ
ードとしている。また14、15のダイオードの作成方
法は図2(b)と同様に10のトランジスタのドレイン
面積を通常必要とされるサイズより大きくとることによ
り実現することも可能である。
FIG. 2 (d) is likewise a method of making a diode of 14 or 15. This is N - P on the substrate - WEL
By making L, a P - N - diode is formed and used as a photodetection diode. Further, the method of forming the diodes 14 and 15 can also be realized by making the drain area of the transistor 10 larger than the size normally required, as in FIG. 2B.

【0015】図3には、13、14、15の光検出ダイ
オードを他の素子に置き換える例を示してある。13に
対しては13´に示す様なNチャンネルエンハンスメン
トMOSトランジスタのOFF接続が使用でき、l4、
15に対しては14´の様にPチャンルエハンスメント
MOSトランジスタのOFF接続が使用できる。この場
合各トランジスタに光があたるとチャンネル部を光リー
ク電流が流れ各点の電位をそれぞれの方向にひっぱるこ
とができる。
FIG. 3 shows an example in which the photodetecting diodes 13, 14, 15 are replaced with other elements. For 13, the OFF connection of the N channel enhancement MOS transistor as shown in 13 'can be used, and l4,
For 15, an OFF connection of a P channel enhancement MOS transistor can be used as in 14 '. In this case, when light is applied to each transistor, a light leak current flows through the channel portion and the potential at each point can be pulled in each direction.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上述べた様に、本発明の定電圧回路
は、定電圧回路の出力を制御する光検出手段を定電圧回
路を形成する集積回路上に形成したため、定電圧回路を
形成する製造工程と同一の工程内で当該光検出手段を容
易に形成することが可能であり、また、定電圧回路を構
成するトランジスタの特性と同一特性を持つ光検出手段
を得ることができる。そして、本発明は、第1導電型の
半導体基板に形成された相補型トランジスタよりなり、
基準電圧源と光検出手段とを有し、該基準電圧源が出力
する基準電圧に基づいて定電圧を出力する定電圧回路に
おいて、前記光検出手段は、前記基準電圧源の基準電圧
を出力する第1導電型で形成された基準電圧出力用トラ
ンジスタのドレインと電源端子との間に設けられ、前記
定電圧回路外から該定電圧回路へ照射される光を検出し
て該光による該定電圧回路の動作点の変動を補償する光
検出用ダイオードを含み、前記光検出用ダイオードは、
前記半導体基板に形成された第2導電型のウェルと前記
ウェル上に形成された第1導電型の光検出用拡散層より
なり、前記光検出用拡散層は、前記基準電圧出力用トラ
ンジスタのドレインの拡散層とは離間して又は前記基準
電圧出力用トランジスタのドレインの拡散層を延在して
形成されてなるため、定電圧回路に光があたっても、基
準電圧源の出力電圧が安定化され、定電圧回路の動作点
の変動が補償され定電圧回路の出力電圧を一定とするこ
とができる。さらに、光検出用ダイオードを構成する光
検出用拡散層を、前記基準電圧出力用トランジスタのド
レインの拡散層を延在して形成することにより、該拡散
層の面積を大きくすることが可能となるため、光感度が
向上し、また面積を調整することにより光リーク電流の
大きさを調整することもできる。そのため、集積回路に
光があたる使用方法をされた場合でも定電圧回路によっ
て動作する回路の動作を安定に保つことが可能になっ
た。
As described above, the constant voltage circuit of the present invention forms the constant voltage circuit because the light detecting means for controlling the output of the constant voltage circuit is formed on the integrated circuit forming the constant voltage circuit. It is possible to easily form the photodetection means in the same process as the manufacturing process, and it is possible to obtain the photodetection means having the same characteristics as the characteristics of the transistor included in the constant voltage circuit. The present invention comprises a complementary transistor formed on a semiconductor substrate of the first conductivity type,
In a constant voltage circuit having a reference voltage source and a light detection means, and outputting a constant voltage based on the reference voltage output from the reference voltage source, the light detection means outputs the reference voltage of the reference voltage source. The constant voltage is provided between the drain of the reference voltage output transistor formed of the first conductivity type and the power supply terminal, and detects the light applied to the constant voltage circuit from outside the constant voltage circuit to detect the constant voltage by the light. It includes a photo-detecting diode that compensates for fluctuations in the operating point of the circuit, wherein the photo-detecting diode
The well includes a second conductive type formed on the semiconductor substrate and a first conductive type photodetection diffusion layer formed on the well, and the photodetection diffusion layer is a drain of the reference voltage output transistor. Since it is formed so as to be separated from the diffusion layer of the reference voltage or to extend the diffusion layer of the drain of the reference voltage output transistor, the output voltage of the reference voltage source is stabilized even when the constant voltage circuit is exposed to light. Thus, the fluctuation of the operating point of the constant voltage circuit is compensated and the output voltage of the constant voltage circuit can be made constant. Furthermore, by forming the light detection diffusion layer forming the light detection diode by extending the diffusion layer of the drain of the reference voltage output transistor, the area of the diffusion layer can be increased. Therefore, the photosensitivity is improved, and the magnitude of the light leakage current can be adjusted by adjusting the area. Therefore, even when the integrated circuit is used in a manner where it is exposed to light, the operation of the circuit operated by the constant voltage circuit can be stably maintained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の定電圧回路の回路図。FIG. 1 is a circuit diagram of a constant voltage circuit according to the present invention.

【図2】(a)〜(d) 光検出ダイオードの断面図。FIG. 2A to FIG. 2D are cross-sectional views of photodetector diodes.

【図3】(a)、(b) 光検出手段としてのオフ接続
したMOSトランジスタの回路図。
FIG. 3A and FIG. 3B are circuit diagrams of off-connected MOS transistors as light detection means.

【図4】 従来の定電圧回路の回路図。FIG. 4 is a circuit diagram of a conventional constant voltage circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

13、14、15 光検出ダイオード 13´、14′ オフ接続したMOSトランジスタ 13, 14, 15 Photo-detecting diodes 13 ', 14' Off-connected MOS transistors

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01L 27/04

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 第1導電型の半導体基板に形成された相
補型トランジスタよりなり、基準電圧源と光検出手段と
を有し、該基準電圧源が出力する基準電圧に基づいて定
電圧を出力する定電圧回路において、前記光検出手段は、 前記基準電圧源の基準電圧を出力する第1導電型で形成
された基準電圧出力用トランジスタのドレインと電源端
子との間に設けられ、前記定電圧回路外から該定電圧回
路へ照射される光を検出して該光による該定電圧回路の
動作点の変動を補償する光検出用ダイオードを含み、 前記光検出用ダイオードは、前記半導体基板に形成され
た第2導電型のウェルと前記ウェル上に形成された第1
導電型の光検出用拡散層よりなり、 前記光検出用拡散層は、前記基準電圧出力用トランジス
タのドレインの拡散層とは離間して又は前記基準電圧出
力用トランジスタのドレインの拡散層を延在して形成さ
れてなることを特徴とする定電圧回路。
1. A complementary transistor formed on a semiconductor substrate of a first conductivity type, comprising a reference voltage source and a light detecting means.
And has a constant voltage based on the reference voltage output by the reference voltage source.
In the constant voltage circuit that outputs a voltage, the light detection unit is formed of a first conductivity type that outputs a reference voltage of the reference voltage source.
Drain and power supply terminal of the selected reference voltage output transistor
It is provided between the child and the constant voltage circuit from outside the constant voltage circuit.
The light emitted to the path is detected and the constant voltage circuit of the light is detected by the light.
A photodetection diode for compensating for fluctuations in the operating point is included, and the photodetection diode includes a well of the second conductivity type formed on the semiconductor substrate and a first well formed on the well.
The diffusion layer for photodetection is of a conductive type, and the diffusion layer for photodetection is separated from the diffusion layer of the drain of the reference voltage output transistor or extends the diffusion layer of the drain of the reference voltage output transistor. A constant voltage circuit characterized by being formed by.
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