JP2551762B2 - Information storage device - Google Patents

Information storage device

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JP2551762B2
JP2551762B2 JP61191857A JP19185786A JP2551762B2 JP 2551762 B2 JP2551762 B2 JP 2551762B2 JP 61191857 A JP61191857 A JP 61191857A JP 19185786 A JP19185786 A JP 19185786A JP 2551762 B2 JP2551762 B2 JP 2551762B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、レーザー光等の光ビーム又は電子ビームを
情報信号によって変調し、記憶媒体上に照射して情報の
記憶・再生・消去の何れかを行う情報記憶装置に関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention modulates a light beam such as a laser beam or an electron beam with an information signal and irradiates it on a storage medium to store, reproduce or erase information. The present invention relates to an information storage device that performs the above.

[従来の技術] 上述のような情報記憶装置の代表的なものとして、ビ
デオディスクに代表される光ディスク装置や、最近では
光カード装置が挙げられる。以下に、光ディスク装置に
用いられる基本的なトラッキングエラー検出方式につい
て第3図の従来例を基に説明する。
[Prior Art] Typical examples of the information storage device as described above include an optical disk device represented by a video disk and an optical card device recently. The basic tracking error detection method used in the optical disk device will be described below with reference to the conventional example shown in FIG.

第3図において、DSKはピットが記録されている光デ
ィスクであり、半導体レーザーLDIから出射されたレー
ザービームの光路に沿って、光ディスクDSKからの反射
光を二分割フォトディテクタTDPDに導くためのビームス
プリッタBS、コリメータレンズCL、レーザービームを光
ディスクDSK上で約1μmφのスポットに集光するため
の対物レンズSLが配置されている。また、ビームスプリ
ッタBSの反射方向には二分割フォトディテクタTDPDが設
けられ、その出力信号は差動増幅器DAに入力するように
なっている。
In FIG. 3, DSK is an optical disc in which pits are recorded, and a beam splitter BS for guiding the reflected light from the optical disc DSK to the two-divided photodetector TDPD along the optical path of the laser beam emitted from the semiconductor laser LDI. , A collimator lens CL, and an objective lens SL for focusing the laser beam on a spot of about 1 μmφ on the optical disc DSK are arranged. A two-divided photodetector TDPD is provided in the reflection direction of the beam splitter BS, and its output signal is input to the differential amplifier DA.

このような構成において、第4図(a)に示すように
光ディスクDSK上のピットPITが、レーザービームスポッ
トLBSに対して右に寄っていると、二分割フォトディテ
クタTDPDでは左側半分の部分のフォトディテクタTDPDL
の受光量が増加し、逆に(b)に示すようにピットPIT
がスポットLBSに対して左方に寄っているときには、右
半分の部分のフォトディテクタTDPDRの受光量が増加す
る。(c)に示すように、ピットPITがスポットLBSに対
して正しく中央部にあるときには、左右のフォトディテ
クタTDPDL、TDPDRの受光量は等しくなる。そこで、二分
割フォトディテクタTDPDの左右2つの出力を比較するこ
とによって、ピットPITとスポットLBSの位置ずれ量とず
れ方向を検出することができ、差動増幅器DAにより差動
増幅された信号をトラッキングエラー信号TESとして用
いている。
In such a configuration, if the pit PIT on the optical disc DSK is shifted to the right of the laser beam spot LBS as shown in FIG. 4 (a), the photodetector TDPDL of the left half of the two-divided photodetector TDPD is
The amount of received light increases, and conversely, as shown in (b), the pit PIT
Is closer to the left side of the spot LBS, the amount of light received by the photodetector TDPDR in the right half portion increases. As shown in (c), when the pit PIT is correctly located at the center of the spot LBS, the photodetectors TDPDL and TDPDR on the left and right have the same amount of light received. Therefore, by comparing the left and right outputs of the two-divided photodetector TDPD, it is possible to detect the position shift amount and shift direction of the pit PIT and the spot LBS, and the signal differentially amplified by the differential amplifier DA is tracked. Used as signal TES.

しかしながら、従来例に代表されるレーザービームを
用いてトラッキングエラー信号を得る方法では、スポッ
トLBSの径を1μmφ以下に絞ることは難しいため、将
来的に更に高精度なトラッキングエラー信号TESを得る
ことは期待できず、そのためにトラックピッチを現在の
2μm程度から更に縮めた高密度な記録を行うことは難
しい。
However, with the method of obtaining a tracking error signal using a laser beam represented by a conventional example, it is difficult to reduce the diameter of the spot LBS to 1 μmφ or less, so it is possible to obtain a more accurate tracking error signal TES in the future. This cannot be expected, and therefore it is difficult to perform high-density recording with the track pitch further reduced from the current 2 μm.

また、このようなレーザービームを使用する方法で
は、ビームスプリッタ、レンズを始めとして数多くの高
精度な光学部品を使用するため、価格が非常に高くかつ
大きな容積を必要とする。更に、一般的にこのような方
法で得られるトラッキングエラー信号TESのS/N比は低い
ため、信号処理に比較的高度な技術が要求され、また個
々の光学部品の高精度な位置出しが必要である。また、
最終的にレーザービームをピットPIT上に微小移動させ
る際に、光学部品をアクチュエータにより機械的に移動
することによって行うため、その応答周波数に限界があ
り、これも高精度なトラッキングを行うための大きな障
害となっている。
Further, in such a method using a laser beam, a large number of high-precision optical components such as a beam splitter and a lens are used, so that the cost is very high and a large volume is required. Furthermore, since the S / N ratio of the tracking error signal TES generally obtained by such a method is low, a relatively sophisticated technique is required for signal processing, and highly accurate positioning of individual optical components is required. Is. Also,
When the laser beam is finally moved minutely on the pit PIT, it is performed by mechanically moving the optical parts by the actuator, so there is a limit to the response frequency, which is also a large factor for high-precision tracking. It is an obstacle.

[発明の目的] 本発明の目的は、容易に微小スポットが得られ制御性
の高い電子ビームを用いて、高精度なトラッキングエラ
ー信号を得ることのできる情報記憶装置を提供すること
にある。
[Object of the Invention] An object of the present invention is to provide an information storage device capable of obtaining a highly accurate tracking error signal by using an electron beam which can easily obtain a minute spot and has high controllability.

[発明の概要] 上述の目的を達成するための本発明の要旨は、ビーム
により記憶媒体上にスポットを形成し、少なくとも情報
の記録・再生・消去のうちの何れかを行う装置におい
て、前記記憶媒体上に導電体から成る基準パターンを設
け、該基準パターンに対向してトラッキング用電子ビー
ムの発生源を設け、トラッキング用電子ビームの前記基
準パターンへの照射により前記基準パターンを流れる電
流を検出して位置ずれ検出信号を得る検出手段を設けた
ことを特徴とする情報記憶装置である。
[Summary of the Invention] The gist of the present invention for achieving the above object is to provide a device for forming a spot on a storage medium by a beam and performing at least any one of recording, reproduction and erasing of information in the storage. A reference pattern made of a conductor is provided on the medium, a source of a tracking electron beam is provided facing the reference pattern, and a current flowing through the reference pattern is detected by irradiating the reference pattern with the tracking electron beam. The information storage device is provided with a detecting means for obtaining a positional deviation detection signal.

[発明の実施例] 本発明を第1図、第2図に図示の実施例に基づいて詳
細に説明する。
[Embodiment of the Invention] The present invention will be described in detail with reference to the embodiments shown in FIGS. 1 and 2.

第1図においてMMは記憶媒体であり、その上方には情
報の記憶・再生・消去を行うための電子ビームMEBの発
生源MEBDが配置されている。本実施例では、発生源MEBD
は複数の電子ビーム源を一次元に密に配列した要素であ
り、例えば特公昭54-30274号、特開昭54-11272号、特開
昭56-15529号、特開昭57-38528号公報等に開示されてい
る形態と同様のものである。電子ビーム発生源MEBDは個
々の電子ビームMEBの電流密度を容易に変化することが
可能なため、情報の記録時或いは消去時には電流密度を
高くし記憶媒体MMの材質変化を生じさせ、ピットPITを
形成したり消滅させることができる。また、情報の再生
時には電流密度を低くして記憶媒体MMの材質変化を起こ
すことなく、情報を再生することが可能なため、なお記
憶媒体MMの材料としては、電子ビームの照射によってア
モルファスを結晶化、結晶をアモルファス化する相変化
を起こすGe(11.5)・Te(57.5)・As(31)等が用いら
れる。また、電子ビーム発生源MEBDの側部にはトラッキ
ング用電子ビーム発生源TEBDが設けられ、この発生源TE
BDは約0.2μm程度の径を有するトラッキング用電子ビ
ームTEBを発生する。この場合のトラッキング用電子ビ
ームTEBの電流密度は、記憶媒体MM上に形成されるトラ
ッキング用スポットTEBSが記憶媒体MMの材質に変化を生
じさせない程度に低い。
In FIG. 1, MM is a storage medium, and a source MEBD of an electron beam MEB for storing / reproducing / erasing information is arranged above the storage medium. In this example, the source MEBD
Is an element in which a plurality of electron beam sources are densely arranged in one dimension. For example, JP-B-54-30274, JP-A-54-11272, JP-A-56-15529, and JP-A-57-38528. And the like. Since the electron beam generation source MEBD can easily change the current density of each electron beam MEB, the current density is increased at the time of recording or erasing information to change the material of the storage medium MM and to cause the pit PIT. It can form and disappear. In addition, when reproducing information, it is possible to reproduce the information without lowering the current density and changing the material of the storage medium MM. Therefore, as the material of the storage medium MM, amorphous is crystallized by electron beam irradiation. Ge (11.5), Te (57.5), As (31), etc. are used which cause a phase change that makes the crystal amorphous. An electron beam source TEBD for tracking is provided on the side of the electron beam source MEBD.
BD generates a tracking electron beam TEB having a diameter of about 0.2 μm. In this case, the current density of the tracking electron beam TEB is so low that the tracking spot TEBS formed on the storage medium MM does not change the material of the storage medium MM.

更に記憶媒体MM上には、x方向を向く2本の平行な導
電体から成るトラッキング用基準パターンPL、PRが設け
られ、このパターンPL、PRにはトラッキング用電子ビー
ム発生源TEBDからの電子ビームTEBの照射によって電流
が流れるようになっており、2本の基準パターンPL、PR
の間隔は約0.1μmである。基準パターンPL、PRには電
流を導き出すリード線LLL、LLRが接続され、これらの出
力電流は電圧に変換され、それぞれ増幅器AL、ARを経て
差動増幅器DAに接続されている。差動増幅器DAは増幅器
AL、ARの出力差を増幅するものであり、この出力によっ
て基準パターンPL、PRを流れる電流量を比較する。差動
増幅器DAからの出力は位相補償回路PRCを経てドライバT
CDに接続されている。ドライバTCDの出力はy方向にト
ラッキング用電子ビームTEB及び情報の記録・再生・消
去用の複数の電子ビームMEBを同時に偏向するための均
一電界を発生する偏向電極TCR、TCLに印加されている。
このドライバTCDは基準パターンPLに流れる電流が基準
パターンPRに流れる電流より大きいときに偏向電極TCR
が正、TCLが負になるように、差動増幅器DAの出力に応
じて偏向電極TCR、TCLに電圧を印加するようになってい
る。この電圧の印加は差動増幅器DAの出力に応じて、基
準パターンPLに流れる電流が基準パターンPRに流れる電
流より小さいときに偏向電極TCRが負、TCLが正になるよ
うにする。また、SCDは信号SL1に応じて電圧を発生する
ドライブ回路であり、その出力は偏向電極SC1、SC2に接
続され、トラッキング用電子ビームTEB及び情報の記録
・再生・消去用の複数の電子ビームMEBを同時にx方向
に偏向するために均一電界を発生するようになってい
る。電子ビーム発生源MEBDには記録及び部分的な消去の
ための信号SL2が入力され、電子ビーム発生源MEBDは信
号SL2によって変調された電子ビームMEBを発生する。ま
た、この第1図に示す殆どの構成要素は、図示しない真
空容器中に収納されている。
Further, on the storage medium MM, there are provided tracking reference patterns PL and PR composed of two parallel conductors facing in the x direction, and the electron beams from the tracking electron beam generation source TEBD are provided in these patterns PL and PR. Electric current is made to flow by irradiation of TEB, and two reference patterns PL and PR
Is about 0.1 μm. Lead wires LLL and LLR that lead out currents are connected to the reference patterns PL and PR, and these output currents are converted into voltages and connected to a differential amplifier DA via amplifiers AL and AR, respectively. Differential amplifier DA is an amplifier
The output difference between AL and AR is amplified, and the amount of current flowing through the reference patterns PL and PR is compared by this output. The output from the differential amplifier DA passes through the phase compensation circuit PRC and the driver T
It is connected to a CD. The output of the driver TCD is applied to deflection electrodes TCR and TCL that generate a uniform electric field for simultaneously deflecting the tracking electron beam TEB and a plurality of information recording / reproducing / erasing electron beams MEB in the y direction.
The driver TCD deflects the deflection electrode TCR when the current flowing in the reference pattern PL is larger than the current flowing in the reference pattern PR.
The voltage is applied to the deflection electrodes TCR and TCL according to the output of the differential amplifier DA such that the voltage is positive and TCL is negative. The application of this voltage causes the deflection electrode TCR to become negative and TCL to become positive when the current flowing through the reference pattern PL is smaller than the current flowing through the reference pattern PR in accordance with the output of the differential amplifier DA. SCD is a drive circuit that generates a voltage in accordance with the signal SL1, the output of which is connected to the deflection electrodes SC1 and SC2, and the tracking electron beam TEB and a plurality of electron beams MEB for recording / reproducing / erasing information. Are simultaneously generated in the x direction to generate a uniform electric field. A signal SL2 for recording and partial erasing is input to the electron beam generation source MEBD, and the electron beam generation source MEBD generates an electron beam MEB modulated by the signal SL2. Most of the components shown in FIG. 1 are housed in a vacuum vessel (not shown).

このような構成において、トラッキング用ビームスポ
ットTEBSが基準パターンPL、PRと第2図(a)に示すよ
うな関係にある場合、基準パターンPL、PRに流れる電流
を比較すると、電子ビームTEBの照射量の多い基準パタ
ーンPLにより大きい電流が流れるため、前述したように
偏向電極TCRが正、偏向電極TCLが負になるように電圧が
印加され、トラッキング用電子ビームTEBは偏向電極TCR
側に偏向され、ビームスポットTEBSは基準パターンPL側
からPR側に移動する。このとき、情報の記憶・再生・消
去用の複数の電子ビームMEBも、トラッキング用電子ビ
ームTEBの受ける電界と全く同じ電界の影響を受けて偏
向される。
In such a configuration, when the tracking beam spot TEBS has a relationship with the reference patterns PL and PR as shown in FIG. 2A, comparing the currents flowing in the reference patterns PL and PR, the electron beam TEB irradiation is performed. Since a larger current flows in the reference pattern PL having a large amount, a voltage is applied so that the deflection electrode TCR is positive and the deflection electrode TCL is negative as described above, and the tracking electron beam TEB is deflected by the deflection electrode TCR.
The beam spot TEBS is deflected to the side and moves from the reference pattern PL side to the PR side. At this time, the plurality of electron beams MEB for storing / reproducing / erasing information are also deflected under the influence of the same electric field as that of the tracking electron beam TEB.

一方、トラッキング用ビームスポットTEBSと基準パタ
ーンPL、PRが第2図(b)に示す関係にある場合には、
基準パターンPLとPRに流れる電流を比較した場合に、電
子ビームTEBの照射量の多い基準パターンPRにより大き
い電流が流れるため、前述したように偏向電極TCRが
負、TCLが正になるように電圧が印加され、トラッキン
グ用電子ビームTEBは偏向電極TCL側に偏向され、ビーム
スポットTEBSは基準パターンPR側からPL側に移動する。
このときも第2図(a)の場合と全く同様に、情報の記
録・再生・消去に使用している複数の電子ビームMEBは
トラッキング用電子ビームTEBと同じ電界を受けて偏向
される。
On the other hand, when the tracking beam spot TEBS and the reference patterns PL and PR have the relationship shown in FIG.
When the currents flowing in the reference patterns PL and PR are compared, a larger current flows in the reference pattern PR having a large irradiation amount of the electron beam TEB, so that the deflection electrode TCR has a negative voltage and TCL has a positive voltage as described above. Is applied, the tracking electron beam TEB is deflected to the deflection electrode TCL side, and the beam spot TEBS moves from the reference pattern PR side to the PL side.
Also at this time, just as in the case of FIG. 2A, the plurality of electron beams MEB used for recording / reproducing / erasing information are deflected by receiving the same electric field as the tracking electron beam TEB.

また、第2図(c)に示した状態では、差動増幅器DA
からは信号が出力されないため、偏向電極TCR、TCLには
電圧が印加されず、トラッキング用電子ビームTEBも複
数の電子ビームMEBも全く偏向されない。
In the state shown in FIG. 2 (c), the differential amplifier DA
No voltage is applied to the deflection electrodes TCR and TCL, and neither the tracking electron beam TEB nor the plurality of electron beams MEB are deflected at all.

実際の情報の記録・再生・消去時には、偏向電極SC
1、SC2の電圧を徐々に変化させ、複数の電子ビームMEB
によって記憶媒体MM上に生ずるスポット列をx方向に移
動してゆくことになる。このときトラッキング用ビーム
スポットTEBSと基準パターンPL、PRとの関係は、第2図
(a)、(b)、(c)に示す状態が連続的に変化する
ため、結果的にほぼ第2図(c)の状態、即ち基準パタ
ーンPL、PRの中間位置にビームスポットTEBSが位置する
ように制御される。
Deflection electrode SC during actual recording / reproducing / erasing of information
1.Change the voltage of SC2 gradually,
Thus, the spot train generated on the storage medium MM is moved in the x direction. At this time, the relationship between the tracking beam spot TEBS and the reference patterns PL and PR changes continuously as shown in FIGS. 2 (a), (b), and (c), and as a result, the relationship between FIG. The state of (c), that is, the beam spot TEBS is controlled to be located at an intermediate position between the reference patterns PL and PR.

本実施例においては、ビームスポットTEBSの径の1/1
0、即ち0.02μmφ程度の高精度でトラッキング用電子
ビームTEBを基準パターンPL、PRに沿って走査すること
が可能でる。従って、トラッキング用電子ビームTEBと
全く同じ電界を受けている複数の電子ビームMEBも、ト
ラッキング用電子ビームTEBと同じ精度で走査を行うこ
とになり、基準パターンPL、PRを基準に記録されたピッ
トPITを、再生時或いは消去時にも基準パターンPL、PR
をトラッキング用電子ビームTEBで走査することによ
り、極めて正確にトレースすることが可能である。
In this embodiment, 1/1 of the diameter of the beam spot TEBS
It is possible to scan the tracking electron beam TEB along the reference patterns PL and PR with high accuracy of 0, that is, about 0.02 μmφ. Therefore, a plurality of electron beams MEB that receive the same electric field as the tracking electron beam TEB also scan with the same accuracy as the tracking electron beam TEB, and the pits recorded based on the reference patterns PL and PR are used. Reference patterns PL and PR even when playing or erasing PIT
It is possible to trace extremely accurately by scanning with the tracking electron beam TEB.

また本実施例では、トラッキング用ビームを電子ビー
ムTEBとしたのみならず、情報の記録・再生・消去を行
うビームをも電子ビームMEBとしたため、トラッキング
用電子ビームTEBを偏向する手段により、容易にビーム
の偏向を行うことができ、光ビームの際に必要となるア
クチュエータを全く必要としないという利点もある。更
に、高密度に複数個配列することが難しい光ビームに比
較して、電子ビームは個々に偏向手段を必要としないた
め、容易にビームの高密度化を行うことができ、高速、
高密度な記録が可能となる。また、本実施例ではトラッ
キング用電子ビーム発生源TEBDと複数の電子ビーム発生
源MEBDとを説明の都合上別々の要素としたが、複数の電
子ビームを発生する1つの素子において、その1本又は
数本の電子ビームをトラッキング用、残りを情報の記録
・再生・消去用に使用するという形態とすることも可能
である。
Further, in this embodiment, not only the tracking beam is the electron beam TEB, but also the beam for recording / reproducing / erasing information is the electron beam MEB. There is also an advantage that the beam can be deflected and the actuator required for the light beam is not required at all. Further, as compared with a light beam in which it is difficult to arrange a plurality of them in a high density, the electron beam does not require a deflecting means individually, so that the beam can be easily densified at a high speed.
High-density recording is possible. Further, in the present embodiment, the tracking electron beam generation source TEBD and the plurality of electron beam generation sources MEBD are separate elements for convenience of description, but in one element that generates a plurality of electron beams, one or It is also possible to employ a form in which several electron beams are used for tracking and the rest are used for recording / reproducing / erasing information.

また本実施例では、電子ビームを電界により偏向する
例について説明したが、磁界による偏向によっても全く
同じ効果が得られることは云うまでもない。
Further, in the present embodiment, an example in which the electron beam is deflected by an electric field has been described, but it goes without saying that the same effect can be obtained by deflection by a magnetic field.

なお、情報の記録・再生・消去に電子ビームMEBを使
用したが、勿論この情報の記録・再生・消去は光ビーム
によってもよく、差動増幅器DAの出力を所謂光ヘッドの
トラッキング用アクチュエータのドライブ信号として使
用すことにより、極めて高精度かつS/N比の高いトラッ
キングエラー信号を得ることができるため、従来になり
極めて高精度なトラッキングが可能となる。
Although the electron beam MEB was used for recording / reproducing / erasing information, of course, the recording / reproducing / erasing of this information may be performed by a light beam, and the output of the differential amplifier DA is the drive of a so-called optical head tracking actuator. By using it as a signal, a tracking error signal with extremely high accuracy and a high S / N ratio can be obtained, so that it becomes possible to perform tracking with extremely high accuracy in the conventional case.

更に、上述の実施例では電子ビームTEB、MEBが第1図
においてx方向に容易に偏向できるため、敢えて記憶媒
体MMの移動を行わない例について説明したが、本発明で
は記憶媒体が移動することによって生ずる振動に対する
追従性が高いために、光ディスクや光カードのように移
動、回転を行う媒体に対しては、従来の光ビームよるト
ラッキング法に比べて、より効果的なトラッキングエラ
ー信号の検出手段となる。
Furthermore, in the above-described embodiment, the electron beams TEB and MEB can be easily deflected in the x direction in FIG. 1, so an example in which the storage medium MM is not intentionally moved has been described, but in the present invention, the storage medium moves. The tracking error signal detecting means is more effective for a medium such as an optical disk or an optical card that moves and rotates because it has high followability to the vibration caused by Becomes

[発明の効果] 以上説明したように本発明に係る情報記憶装置によれ
ば、電子ビームの照射により記憶媒体上の導電体から成
る基準パターンに流れる電流を検出することにより、ビ
ームのトラッキングエラー信号を検出するようにしたた
め、極めて高精度かつS/N比の高い信号検出が得られる
ようになり、トラックピッチをより狭くし高密度の記録
を行うことが可能となる。
As described above, according to the information storage device of the present invention, the beam tracking error signal is detected by detecting the current flowing in the reference pattern made of the conductor on the storage medium by the irradiation of the electron beam. Therefore, it is possible to obtain extremely high-accuracy signal detection with a high S / N ratio, and it is possible to narrow the track pitch and perform high-density recording.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明に係る情報記憶装置の実施例の構成図、
第2図は基準パターンと電子ビームスポットの関係の説
明図、第3図は従来例の光ビームによるトラッキングエ
ラー信号検出方法の構成図、第4図は第3図の光ビーム
スポットの検出素子上での光強度分布の説明図である。 符号MMは記憶媒体、MEBDは電子ビーム発生源、TEBDはト
ラッキング用電子ビーム発生源、PL、PRは基準パター
ン、TCL、TCR、SC1、SC2は偏向電極、DAは差動増幅器で
ある。
FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of an information storage device according to the present invention,
2 is an explanatory view of the relationship between the reference pattern and the electron beam spot, FIG. 3 is a configuration diagram of a conventional tracking error signal detection method using a light beam, and FIG. 4 is a light beam spot detection element of FIG. FIG. 5 is an explanatory diagram of a light intensity distribution in FIG. Reference numeral MM is a storage medium, MEBD is an electron beam generation source, TEBD is a tracking electron beam generation source, PL and PR are reference patterns, TCL, TCR, SC1 and SC2 are deflection electrodes, and DA is a differential amplifier.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮脇 守 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 増田 幸男 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 織田 仁 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−117434(JP,A) 特開 昭53−71825(JP,A) 特開 昭54−24615(JP,A) 特開 昭60−29953(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Mamoru Miyawaki 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Yukio Masuda 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Incorporated (72) Inventor Hitoshi Oda 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (56) Reference JP-A-60-117434 (JP, A) JP-A-53-71825 (JP , A) JP-A-54-24615 (JP, A) JP-A-60-29953 (JP, A)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ビームにより記憶媒体上にスポットを形成
し、少なくとも情報の記録・再生・消去のうちの何れか
を行う装置において、前記記憶媒体上に導電体から成る
基準パターンを設け、該基準パターンに対向してトラッ
キング用電子ビームの発生源を設け、トラッキング用電
子ビームの前記基準パターンへの照射により前記基準パ
ターンを流れる電流を検出して位置ずれ検出信号を得る
検出手段を設けたことを特徴とする情報記憶装置。
1. An apparatus for forming a spot on a storage medium by a beam and performing at least one of recording, reproduction and erasing of information, wherein a reference pattern made of a conductor is provided on the storage medium, and the reference pattern is provided. A generation source of a tracking electron beam is provided opposite to the pattern, and a detection unit for detecting a current flowing through the reference pattern by irradiating the reference pattern with the tracking electron beam to obtain a position deviation detection signal is provided. A characteristic information storage device.
【請求項2】前記トラッキング用電子ビームは前記記憶
・再生・消去用のビームと共に偏向するようにした特許
請求の範囲第1項に記載の情報記憶装置。
2. The information storage device according to claim 1, wherein the tracking electron beam is deflected together with the storage / reproduction / erasure beam.
【請求項3】前記基準パターンは2つの平行な導電体と
した特許請求の範囲第1項に記載の情報記憶装置。
3. The information storage device according to claim 1, wherein the reference pattern is two parallel conductors.
【請求項4】前記位置ずれ検出信号は前記2つの導電体
の差信号とした特許請求の範囲第3項に記載の情報記憶
装置。
4. The information storage device according to claim 3, wherein the displacement detection signal is a difference signal between the two conductors.
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