JP2541446B2 - Active matrix panel - Google Patents

Active matrix panel

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JP2541446B2
JP2541446B2 JP9506493A JP9506493A JP2541446B2 JP 2541446 B2 JP2541446 B2 JP 2541446B2 JP 9506493 A JP9506493 A JP 9506493A JP 9506493 A JP9506493 A JP 9506493A JP 2541446 B2 JP2541446 B2 JP 2541446B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アクティブマトリック
ス液晶表示素子に用いられるスイッチング素子配置側の
パネルに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a switching element arrangement side panel used in an active matrix liquid crystal display element.

【0002】[0002]

【従来の技術】薄膜トランジスタ(TFT)を能動素子
とするアクティブマトリックス液晶表示素子は、透明基
板上に画素電極群と複数のゲートラインおよびデータラ
インと各画素電極にそれぞれ対応する複数の薄膜トラン
ジスタとを設けたTFTパネルと、透明基板上に前記画
素電極群に対向する対向電極を設けた対向パネルとの間
に液晶を封入したもので、フルカラー画像等の多色カラ
ー画像を表示する液晶表示素子では、対向パネルまたは
TFTパネルに、各画素電極に対応させて赤,緑,青の
カラーフィルタを設けている。
2. Description of the Related Art An active matrix liquid crystal display device using thin film transistors (TFTs) as active devices is provided with a group of pixel electrodes, a plurality of gate lines and data lines, and a plurality of thin film transistors corresponding to the respective pixel electrodes on a transparent substrate. A liquid crystal display device for displaying a multicolor image such as a full color image, in which liquid crystal is enclosed between a TFT panel and a counter panel provided with a counter electrode facing the pixel electrode group on a transparent substrate, Red, green, and blue color filters are provided on the opposing panel or the TFT panel so as to correspond to the respective pixel electrodes.

【0003】ところで、上記アクティブマトリックス液
晶表示素子における画素の配列パターンには種々の方式
があり、その一つの方式として、画素をモザイク状の配
列パターンで表示するものがある。
By the way, there are various methods for arraying pixels in the active matrix liquid crystal display element, and one method is to display pixels in a mosaic array pattern.

【0004】この方式は、主に、多色カラーあるいはフ
ルカラー画像を表示する液晶表示素子に採用されてお
り、赤,緑,青の画素をモザイク状の配列パターンで表
示する方式の液晶表示素子は、色混ざりの良いカラーを
表現できるという利点をもっている。
This system is mainly used in liquid crystal display devices for displaying multicolor or full-color images. Liquid crystal display devices for displaying red, green and blue pixels in a mosaic array pattern are , It has the advantage of being able to express colors with a good mixture of colors.

【0005】上記赤,緑,青の画素をモザイク状の配列
パターンで表示する方式のアクティブマトリックス液晶
表示素子に用いられるTFTパネルは、従来、次のよう
な構成とされている。図4は従来のTFTパネルの一部
分の平面図である。なお、このTFTパネルは、対向パ
ネルに赤,緑,青のカラーフィルタを設けている液晶表
示素子に用いられるものである。
A TFT panel used in an active matrix liquid crystal display device of the type in which the red, green and blue pixels are displayed in a mosaic pattern is conventionally constructed as follows. FIG. 4 is a plan view of a part of a conventional TFT panel. This TFT panel is used for a liquid crystal display element in which red, green, and blue color filters are provided on a counter panel.

【0006】このTFTパネルは、ガラス等からなる透
明基板1の上に、複数の画素電極2R,2G,2Bを行
方向(図において横方向)および列方向(図において縦
方向)に配列した画素電極群と、この画素電極群の各画
素電極にそれぞれ接続された複数の薄膜トランジスタ3
と、前記画素電極群の各画素電極行にそれぞれ対応させ
て配線され前記薄膜トランジスタ3にゲート信号を供給
する複数のゲートラインLgと、前記画素電極群の各画
素電極列にそれぞれ対応させて配線され前記薄膜トラン
ジスタ3にデータ信号を供給する複数のデータラインL
dとを形成したものである。
This TFT panel is a pixel in which a plurality of pixel electrodes 2R, 2G, 2B are arranged in a row direction (horizontal direction in the drawing) and a column direction (vertical direction in the drawing) on a transparent substrate 1 made of glass or the like. An electrode group and a plurality of thin film transistors 3 connected to each pixel electrode of this pixel electrode group
And a plurality of gate lines Lg that are wired corresponding to the respective pixel electrode rows of the pixel electrode group and supply a gate signal to the thin film transistor 3, and are wired corresponding to the respective pixel electrode columns of the pixel electrode group. A plurality of data lines L for supplying a data signal to the thin film transistor 3
d is formed.

【0007】まず、画素電極群について説明すると、こ
の画素電極群の各画素電極2R,2G,2BはITO等
の透明導電膜で形成されている。これら画素電極2R,
2G,2Bのうち、2Rは赤色画素を表示するための画
素電極(対向パネル側の赤色カラーフィルタが対応する
電極)、2Gは緑色画素を表示するための画素電極(対
向パネル側の緑色カラーフィルタが対応する電極)、2
Bは青色画素を表示するための画素電極(対向パネル側
の青色カラーフィルタが対応する電極)であり、これら
画素電極2R,2G,2Bは、行方向(図において横方
向)には交互に並べて直線状に配列され、列方向には、
同色の画素を表示するための画素電極同士、つまり同じ
データラインLdに対応する画素電極同士を、各行ごと
に約1.5ピッチずつ一方向と他方向(図において左方
向と右方向)とに交互にずらしてジグザグに配列されて
いる。
First, the pixel electrode group will be described. Each pixel electrode 2R, 2G, 2B of this pixel electrode group is formed of a transparent conductive film such as ITO. These pixel electrodes 2R,
Of 2G and 2B, 2R is a pixel electrode for displaying a red pixel (an electrode corresponding to the red color filter on the counter panel side), and 2G is a pixel electrode for displaying a green pixel (a green color filter on the counter panel side). Corresponds to the electrode), 2
B is a pixel electrode (an electrode corresponding to the blue color filter on the opposite panel side) for displaying a blue pixel, and these pixel electrodes 2R, 2G, and 2B are alternately arranged in the row direction (horizontal direction in the drawing). They are arranged in a straight line, and in the column direction,
Pixel electrodes for displaying pixels of the same color, that is, pixel electrodes corresponding to the same data line Ld are arranged in one direction and the other direction (left direction and right direction in the figure) by about 1.5 pitches for each row. They are arranged alternately in a zigzag pattern.

【0008】また、上記画素電極群の各画素電極2R,
2G,2Bにそれぞれ対応する薄膜トランジスタ3は、
基板1上に形成したゲート電極gと、このゲート電極g
を覆うSi N(窒化シリコン)等からなるゲート絶縁膜
4と、このゲート絶縁膜4の上に前記ゲート電極gと対
向させて形成されたa−Si (アモルファスシリコン)
からなるi型半導体膜5と、このi型半導体膜5の上に
n型不純物をドープしたa−Si からなるn型半導体膜
(図示せず)を介して形成されたソース電極sおよびド
レイン電極dとで構成されている。
In addition, each pixel electrode 2R of the pixel electrode group,
The thin film transistors 3 corresponding to 2G and 2B are
The gate electrode g formed on the substrate 1 and the gate electrode g
A gate insulating film 4 made of Si N (silicon nitride) or the like for covering the gate insulating film 4 and a-Si (amorphous silicon) formed on the gate insulating film 4 so as to face the gate electrode g.
And a source electrode s and a drain electrode formed on the i-type semiconductor film 5 via an n-type semiconductor film (not shown) made of a-Si doped with an n-type impurity. d and.

【0009】一方、上記画素電極群の各画素電極行にそ
れぞれ対応するゲートラインLgは、前記画素電極行に
沿わせて基板1上に配線されており、各薄膜トランジス
タ3のゲート電極gは、前記ゲートラインLgにその一
側に張出させて一体に形成され、ソース電極sとドレイ
ン電極dは、ゲートラインLgに沿う方向に配置されて
いる。
On the other hand, the gate line Lg corresponding to each pixel electrode row of the pixel electrode group is wired on the substrate 1 along the pixel electrode row, and the gate electrode g of each thin film transistor 3 is The gate line Lg is formed integrally with the gate line Lg so as to project to one side thereof, and the source electrode s and the drain electrode d are arranged in the direction along the gate line Lg.

【0010】また、上記薄膜トランジスタ3のゲート絶
縁膜4は、ゲートラインLgも覆って基板1のほぼ全面
に形成されており、各画素電極2R,2G,2Bは前記
ゲート絶縁膜4の上に形成され、その縁部において前記
薄膜トランジスタ3のソース電極sに接続されている。
The gate insulating film 4 of the thin film transistor 3 is formed on almost the entire surface of the substrate 1 so as to cover the gate line Lg, and the pixel electrodes 2R, 2G and 2B are formed on the gate insulating film 4. And is connected to the source electrode s of the thin film transistor 3 at the edge thereof.

【0011】一方、上記画素電極群の同色の画素を表示
するための各画素電極列にそれぞれ対応するデータライ
ンLdは、上記ゲート絶縁膜4の上に形成したSi N等
からなる層間絶縁膜(図示せず)の上に、ジグザグに配
列している画素電極列に対応させて蛇行配線されてお
り、このデータラインLdは、前記層間絶縁膜に設けた
コンタクト孔において上記薄膜トランジスタ3のドレイ
ン電極dに接続されている。
On the other hand, the data line Ld corresponding to each pixel electrode column for displaying pixels of the same color of the pixel electrode group is formed by an interlayer insulating film (SiN, etc.) formed on the gate insulating film 4 ( (Not shown) is arranged in a zigzag pattern so as to correspond to the pixel electrode columns, and the data line Ld is connected to the drain electrode d of the thin film transistor 3 in a contact hole provided in the interlayer insulating film. It is connected to the.

【0012】このデータラインLdの配線状態を、赤色
画素を表示するための画素電極列に対応するデータライ
ンについて説明すると、このデータラインLdは、ジグ
ザグに配列している各画素電極2Rのうち、左方向にず
れている画素電極2Rの右側縁と、右方向にずれている
画素電極2Rの左側縁とに沿わせて蛇行配線されてい
る。すなわち、このデータラインLdは、列方向に沿う
縦行ライン部Ldyと、この縦行ライン部Ldyから行
方向に沿って屈曲する横行ライン部Ldxとが交互に連
続するように配線されている。
Explaining the wiring state of the data line Ld with respect to the data line corresponding to the pixel electrode column for displaying the red pixel, the data line Ld among the pixel electrodes 2R arranged in zigzag. The meandering wiring is arranged along the right side edge of the pixel electrode 2R which is displaced to the left and the left side edge of the pixel electrode 2R which is displaced to the right. That is, the data line Ld is wired such that the vertical line portion Ldy along the column direction and the horizontal line portion Ldx bent from the vertical line portion Ldy along the row direction are alternately continuous.

【0013】なお、データラインLdを、左方向にずれ
ている画素電極2Rの右側縁と右方向にずれている画素
電極2Rの左側縁とに沿わせて配線しているのは、行方
向に沿う横行ライン部Ldxの長さを短くし、データラ
インLdの引き回しを簡単にするためである。
The data line Ld is arranged along the right side edge of the pixel electrode 2R displaced leftward and the left side edge of the pixel electrode 2R displaced rightward in the row direction. This is for shortening the length of the transverse line portion Ldx along the line Ldx and simplifying the routing of the data line Ld.

【0014】ただし、上記のようにデータラインLdを
配線すると、左方向にずれている画素電極2Rに対応す
る薄膜トランジスタ3に対するデータラインLdの位置
と、右方向にずれている画素電極2Rに対応する薄膜ト
ランジスタ3に対するデータラインLdの位置とが互い
に逆になってしまう。
However, when the data line Ld is wired as described above, the position of the data line Ld with respect to the thin film transistor 3 corresponding to the pixel electrode 2R displaced leftward and the position of the pixel electrode 2R displaced rightward are corresponded. The position of the data line Ld with respect to the thin film transistor 3 is opposite to each other.

【0015】そこで、このTFTパネルでは、左方向に
ずれている画素電極2Rに対応する薄膜トランジスタ3
と、右方向にずれている画素電極2Rに対応する薄膜ト
ランジスタ3とのソース,ドレイン電極s,dの位置関
係を互いに逆にし、これら薄膜トランジスタ3のソース
電極sに画素電極2Rを接続し、ドレイン電極dにデー
タラインLdを接続している。
Therefore, in this TFT panel, the thin film transistor 3 corresponding to the pixel electrode 2R displaced to the left is provided.
And the source and drain electrodes s and d with respect to the thin film transistor 3 corresponding to the pixel electrode 2R displaced to the right, the positional relationship is reversed, and the pixel electrode 2R is connected to the source electrode s of these thin film transistors 3. The data line Ld is connected to d.

【0016】上記データラインLdの配線状態は、緑色
画素を表示するための画素電極列に対応するデータライ
ンおよび青色画素を表示するための画素電極列に対応す
るデータラインにおいても同様であり、また、緑色画素
を表示するための画素電極2Gに対応する薄膜トランジ
スタ3も、青色画素を表示するための画素電極2Bに対
応する薄膜トランジスタ3も、左方向にずれている画素
電極に対応するものと右方向にずれている画素電極に対
応するものとでソース,ドレイン電極s,dの位置関係
を互いに逆にして、そのソース電極sに画素電極2G,
2Bを接続し、ドレイン電極dにデータラインLdを接
続している。
The wiring state of the data line Ld is the same for the data line corresponding to the pixel electrode column for displaying the green pixel and the data line corresponding to the pixel electrode column for displaying the blue pixel. , The thin film transistor 3 corresponding to the pixel electrode 2G for displaying the green pixel and the thin film transistor 3 corresponding to the pixel electrode 2B for displaying the blue pixel both correspond to the pixel electrode displaced to the left and the right direction. The source and drain electrodes s and d have a positional relationship opposite to that of the pixel electrode corresponding to the pixel electrode 2G,
2B is connected, and the data line Ld is connected to the drain electrode d.

【0017】また、上記データラインLdの横行ライン
部Ldxは、上記ゲートラインLgの上を避けてその側
方に配線されており、各画素電極2R,2G,2Bは、
その列間にデータラインLdの縦行ライン部Ldyの配
線スペースを確保し、行間にデータラインLdの横行ラ
イン部LdxとゲートラインLgとの2つの配線スペー
スを確保して配列されている。
Further, the transverse line portion Ldx of the data line Ld is arranged on the side of the gate line Lg while avoiding the gate line Lg, and the pixel electrodes 2R, 2G, 2B are
A wiring space for the vertical line portion Ldy of the data line Ld is secured between the columns, and two wiring spaces for the horizontal line portion Ldx and the gate line Lg of the data line Ld are secured between the rows.

【0018】また、図4において、Lcは、各画素電極
2R,2G,2Bの電位を保持するための補償容量(ス
トレージキャパシタ)を構成するキャパシタラインであ
り、このキャパシタラインLcは、各画素電極行にそれ
ぞれ対応させて配線されている。
Further, in FIG. 4, Lc is a capacitor line forming a compensation capacitance (storage capacitor) for holding the potential of each pixel electrode 2R, 2G, 2B, and this capacitor line Lc is each pixel electrode. Wiring is made to correspond to each row.

【0019】このキャパシタラインLcは、基板1上
に、各行の画素電極2R,2G,2Bの一端縁部(ゲー
トラインLgの配線側とは反対側の縁部)に対向させて
配線されており、上記補償容量は、画素電極2R,2
G,2Bと前記キャパシタラインLcとその間のゲート
絶縁膜4とで構成されている。
The capacitor line Lc is arranged on the substrate 1 so as to oppose one end edge portion (edge portion on the side opposite to the wiring side of the gate line Lg) of the pixel electrodes 2R, 2G, 2B in each row. , The above-mentioned compensation capacitance is the pixel electrodes 2R, 2
G, 2B, the capacitor line Lc, and the gate insulating film 4 between them.

【0020】なお、図4に示したTFTパネルでは、十
分な容量値の補償容量を形成するため、キャパシタライ
ンLcに画素電極2R,2G,2Bの両側縁部に対向す
る突出部を形成して、キャパシタラインLcと画素電極
2R,2G,2Bとの対向面積を大きくしている。
In the TFT panel shown in FIG. 4, in order to form a compensation capacitance having a sufficient capacitance value, the capacitor line Lc is formed with protrusions facing both side edges of the pixel electrodes 2R, 2G and 2B. The facing area between the capacitor line Lc and the pixel electrodes 2R, 2G, 2B is increased.

【0021】また、上記キャパシタラインLcは、一般
には薄膜トランジスタ3のゲート電極gおよびゲートラ
インLgと同じ不透明金属膜で形成されるが、このキャ
パシタラインLcはITO等の透明導電膜で形成される
こともある。
The capacitor line Lc is generally formed of the same opaque metal film as the gate electrode g and the gate line Lg of the thin film transistor 3, but the capacitor line Lc is formed of a transparent conductive film such as ITO. There is also.

【0022】[0022]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のTFTパネルは、蛇行配線するデータラインLdの
横行ライン部Ldxを、ゲートラインLgの上を避けて
その側方に配線しているため、各画素電極2R,2G,
2Bを、その行間にデータラインLdの横行ライン部L
dxとゲートラインLgとの2つの配線スペースを確保
して配列しなければならず、そのためには画素電極2
R,2G,2Bの面積(キャパシタラインLcを不透明
金属膜で形成した場合はキャパシタラインLcと対向す
る部分を除く面積)を小さくしなければならないから、
液晶表示素子の開口率が低下するという問題をもってい
た。
However, in the above-mentioned conventional TFT panel, since the traverse line portion Ldx of the data line Ld to be meandering is arranged on the side of the gate line Lg while avoiding the top of the gate line Lg. Pixel electrodes 2R, 2G,
2B, the horizontal line portion L of the data line Ld between the rows
Two wiring spaces for the dx and the gate line Lg must be secured and arranged, and for that purpose, the pixel electrode 2
Since the area of R, 2G, 2B (the area excluding the portion facing the capacitor line Lc when the capacitor line Lc is formed of an opaque metal film) must be reduced,
There is a problem that the aperture ratio of the liquid crystal display device is reduced.

【0023】本発明は、同じデータラインに対応する各
画素電極をジグザグに配列し、前記データラインをジグ
ザグに配列している画素電極列に対応させて蛇行配線し
たものでありながら、画素電極の面積を大きくして、液
晶表示素子の開口率を向上させることができるTFTパ
ネルを提供することを目的としたものである。
According to the present invention, the pixel electrodes corresponding to the same data line are arranged in a zigzag pattern, and the data lines are arranged in a zigzag pattern in a meandering manner. It is an object of the present invention to provide a TFT panel capable of increasing the area and improving the aperture ratio of a liquid crystal display element.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】本発明のアクティブマト
リックスパネルは、透明基板上に、複数の画素電極を行
方向および列方向に配列した画素電極群と、この画素電
極群の各画素電極にそれぞれ接続された複数のスイッチ
ング素子と、前記画素電極群の各画素電極行にそれぞれ
対応させて配線され前記スイッチング素子に走査信号を
供給する複数の走査ラインと、前記画素電極群の各画素
電極列にそれぞれ対応させて配線され前記スイッチング
素子にデータ信号を供給する複数のデータラインとを形
成してなり、かつ、同じデータラインに対応する各画素
電極を、各行ごとに一方向と他方向とに交互にずらして
ジグザグに配列し、前記データラインを、ジグザグに配
列している画素電極列に対応させて蛇行配線するととも
に、前記データラインの前記行方向に沿って延在する横
行ライン部と前記走査ラインとを何れか一方の領域に他
方が含まれる配置で上下に対向させて配線したことを特
徴とするものである。
An active matrix panel according to the present invention includes a pixel electrode group in which a plurality of pixel electrodes are arranged in a row direction and a column direction on a transparent substrate, and each pixel electrode of the pixel electrode group. A plurality of connected switching elements, a plurality of scanning lines wired corresponding to each pixel electrode row of the pixel electrode group to supply a scanning signal to the switching element, and a plurality of pixel electrode columns of the pixel electrode group. A plurality of data lines, which are wired in correspondence with each other and supply a data signal to the switching element, are formed, and the pixel electrodes corresponding to the same data line are alternately arranged in each row in one direction and the other direction. The data lines are arranged in a zigzag pattern, and the data lines are arranged in a zigzag pattern so as to correspond to the pixel electrode columns. It is characterized in that the emission of the row direction and transverse line portion extending along the said scan line either in one region so as to face up and down arrangements included the other wire.

【0025】[0025]

【作用】本発明のTFTパネルにおいては、蛇行配線す
るデータラインの横行ライン部をゲートラインと上下に
対向させて配線しているため、各画素電極の行間に確保
する配線スペースは1つの配線分でよく、したがって、
画素電極の面積を大きくして、液晶表示素子の開口率を
向上させることができる。
In the TFT panel of the present invention, since the transverse line portion of the data line to be meandered is vertically opposed to the gate line, the wiring space secured between the rows of the pixel electrodes is one wiring. And therefore,
The area of the pixel electrode can be increased to improve the aperture ratio of the liquid crystal display element.

【0026】[0026]

【実施例】以下、本発明の一実施例を、赤,緑,青の画
素をモザイク状の配列パターンで表示する方式のアクテ
ィブマトリックス液晶表示素子に用いられるTFTパネ
ルについて図1〜図3を参照し説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A TFT panel used in an active matrix liquid crystal display device of a system in which red, green and blue pixels are displayed in a mosaic array pattern will be described below with reference to FIGS. I will explain.

【0027】図1はTFTパネルの一部分の平面図、図
2は図1のII−II線に沿う拡大断面図、図3は図1の I
II−III 線に沿う拡大断面図である。なお、図におい
て、図4に示した従来のTFTパネルに対応するものに
は同符号を付し、従来のTFTパネルと同じ部分につい
てはその説明を省略する。
FIG. 1 is a plan view of a part of the TFT panel, FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line II-II of FIG. 1, and FIG. 3 is I of FIG.
It is an expanded sectional view which follows the II-III line. In the figure, those corresponding to the conventional TFT panel shown in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and the description of the same parts as those of the conventional TFT panel is omitted.

【0028】このTFTパネルは、基板1上に、複数の
画素電極2R,2G,2Bを行方向および列方向に配列
した画素電極群と、この画素電極群の各画素電極2R,
2G,2Bにそれぞれ接続された複数の薄膜トランジス
タ3と、前記画素電極群の各画素電極行にそれぞれ対応
させて配線され前記薄膜トランジスタ3にゲート信号を
供給する複数のゲートラインLgと、前記画素電極群の
各画素電極列にそれぞれ対応させて配線され前記薄膜ト
ランジスタ3にデータ信号を供給する複数のデータライ
ンLdと、前記各画素電極2R,2G,2Bとの間に補
償容量を形成するキャパシタラインLcとを形成したも
ので、各画素電極2R,2G,2Bは従来のTFTパネ
ルと同様に、各行ごとに一方向と他方向とに1.5ピッ
チずつ交互にずらしてジグザグに配列され、またゲート
ラインLgとキャパシタラインLcも従来のTFTパネ
ルと同様に配線されている。
This TFT panel includes a pixel electrode group in which a plurality of pixel electrodes 2R, 2G, 2B are arranged in a row direction and a column direction on a substrate 1, and each pixel electrode 2R,
2G, 2B, a plurality of thin film transistors 3 connected respectively, a plurality of gate lines Lg wired corresponding to each pixel electrode row of the pixel electrode group and supplying a gate signal to the thin film transistor 3, and the pixel electrode group. A plurality of data lines Ld wired corresponding to the respective pixel electrode columns to supply a data signal to the thin film transistor 3, and a capacitor line Lc forming a compensation capacitance between the respective pixel electrodes 2R, 2G, 2B. The pixel electrodes 2R, 2G, and 2B are arranged in a zigzag pattern by alternately shifting each row by 1.5 pitches in one direction and the other direction, similarly to the conventional TFT panel, and the gate lines. Lg and the capacitor line Lc are also wired as in the conventional TFT panel.

【0029】一方、このTFTパネルでは、上記画素電
極群の各画素電極2R,2G,2Bにそれぞれ対応する
薄膜トランジスタ3を次のような構造とするとともに、
ジグザグに配列している画素電極列に対応させて蛇行配
線するデータラインLdを、その横行ライン部Ldxを
ゲートラインLgと上下に対向させて配線している。
On the other hand, in this TFT panel, the thin film transistor 3 corresponding to each pixel electrode 2R, 2G, 2B of the above pixel electrode group has the following structure.
The data line Ld, which is meanderingly wired in correspondence with the pixel electrode columns arranged in a zigzag manner, is wired with its traverse line portion Ldx vertically facing the gate line Lg.

【0030】まず、上記薄膜トランジスタ3の構造を説
明すると、この薄膜トランジスタ3は、図1および図3
に示すように、上記ゲートラインLgにその一側に張出
させて一体に形成されたゲート電極gと、このゲート電
極gを覆うSi N等からなるゲート絶縁膜4と、このゲ
ート絶縁膜4の上に前記ゲート電極gと対向させて形成
されたa−Si からなるi型半導体膜5と、このi型半
導体膜5の上にn型不純物をドープしたa−Si からな
るn型半導体膜6を介して形成されたソース電極sおよ
びドレイン電極dとで構成されている。
First, the structure of the thin film transistor 3 will be described.
As shown in FIG. 4, the gate electrode g formed integrally with the gate line Lg so as to project to one side thereof, the gate insulating film 4 made of Si 3 N or the like for covering the gate electrode g, and the gate insulating film 4 An i-type semiconductor film 5 made of a-Si formed facing the gate electrode g, and an n-type semiconductor film made of a-Si doped with an n-type impurity on the i-type semiconductor film 5. It is composed of a source electrode s and a drain electrode d which are formed via the electrode 6.

【0031】そして、このTFTパネルにおいては、上
記薄膜トランジスタ3を、ソース電極sとドレイン電極
dとを、従来のTFTパネルの薄膜トランジスタとは9
0°異なる向きに形成した構造としている。すなわち、
図4に示した従来のTFTパネルでは、薄膜トランジス
タ3を、ソース電極sとドレイン電極dとをゲートライ
ンLgに沿う方向に配置した構造としているが、この実
施例のTFTパネルでは、薄膜トランジスタ3のソース
電極sとドレイン電極dとを、ゲートラインLgと直交
する方向に配置している。
In this TFT panel, the thin film transistor 3 is the source electrode s and the drain electrode d, and the thin film transistor of the conventional TFT panel is 9
The structure is formed in different directions by 0 °. That is,
In the conventional TFT panel shown in FIG. 4, the thin film transistor 3 has a structure in which the source electrode s and the drain electrode d are arranged in the direction along the gate line Lg. In the TFT panel of this embodiment, the source of the thin film transistor 3 is used. The electrode s and the drain electrode d are arranged in the direction orthogonal to the gate line Lg.

【0032】なお、図1および図3では、薄膜トランジ
スタ3のゲート電極gをi型半導体膜5の面積より若干
大きく形成しているが、ゲート電極gの面積は、i型半
導体膜5と同じにしてもよいし、また、i型半導体膜5
のチャンネル領域より小さくならない範囲でi型半導体
膜5より小さくしてもよい。
Although the gate electrode g of the thin film transistor 3 is formed slightly larger than the area of the i-type semiconductor film 5 in FIGS. 1 and 3, the area of the gate electrode g is the same as that of the i-type semiconductor film 5. Or the i-type semiconductor film 5
It may be smaller than the i-type semiconductor film 5 as long as it is not smaller than the channel region.

【0033】また、上記薄膜トランジスタ3のゲート絶
縁膜4は、従来のTFTパネルと同様に、ゲートライン
Lgも覆って基板1のほぼ全面に形成されており、各画
素電極2R,2G,2Bは前記ゲート絶縁膜4の上に形
成され、その縁部において前記薄膜トランジスタ3のソ
ース電極sに接続されている。
Further, the gate insulating film 4 of the thin film transistor 3 is formed on almost the entire surface of the substrate 1 so as to cover the gate line Lg as in the conventional TFT panel, and the pixel electrodes 2R, 2G and 2B are formed as described above. It is formed on the gate insulating film 4 and is connected to the source electrode s of the thin film transistor 3 at the edge thereof.

【0034】次に、上記データラインLdの配線状態
を、赤色画素を表示するための画素電極列に対応するデ
ータラインについて説明すると、このデータラインLd
は、その横行ライン部Ldxの長さを短くしてデータラ
インLdの引き回しを簡単にするために、ジグザグに配
列している各画素電極2Rのうち、左方向にずれている
画素電極2Rの右側縁と、右方向にずれている画素電極
2Rの左側縁とに沿わせて蛇行配線されている。すなわ
ち、このデータラインLdは、列方向に沿う縦行ライン
部Ldyと、この縦行ライン部Ldyから行方向に沿っ
て屈曲する横行ライン部Ldxとが交互に連続するよう
に配線されている。
Next, the wiring state of the data line Ld will be described with respect to the data line corresponding to the pixel electrode column for displaying the red pixel.
In order to shorten the length of the horizontal line portion Ldx and simplify the routing of the data line Ld, among the pixel electrodes 2R arranged in zigzag, the right side of the pixel electrode 2R that is displaced to the left The meandering wiring is provided along the edge and the left side edge of the pixel electrode 2R which is displaced to the right. That is, the data line Ld is wired such that the vertical line portion Ldy along the column direction and the horizontal line portion Ldx bent from the vertical line portion Ldy along the row direction are alternately continuous.

【0035】なお、このようにデータラインLdを配線
すると、左方向にずれている画素電極2Rに対応する薄
膜トランジスタ3に対するデータラインLdの位置と、
右方向にずれている画素電極2Rに対応する薄膜トラン
ジスタ3に対するデータラインLdの位置とが互いに逆
になってしまうが、このTFTパネルでは、上記薄膜ト
ランジスタ3を、ソース電極sとドレイン電極dとをゲ
ートラインLgと直交する方向に配置した構造としてい
るため、従来のTFTパネルのように、各列の薄膜トラ
ンジスタ3のソース,ドレイン電極s,dの位置関係を
互いに逆にする必要はない。
When the data line Ld is wired in this way, the position of the data line Ld with respect to the thin film transistor 3 corresponding to the pixel electrode 2R displaced to the left,
Although the position of the data line Ld with respect to the thin film transistor 3 corresponding to the pixel electrode 2R which is shifted to the right is opposite to each other, in this TFT panel, the thin film transistor 3 is provided with the source electrode s and the drain electrode d as gates. Since the structure is arranged in the direction orthogonal to the line Lg, it is not necessary to reverse the positional relationship between the source and drain electrodes s and d of the thin film transistors 3 in each column as in the conventional TFT panel.

【0036】上記データラインLdの配線状態は、緑色
画素を表示するための画素電極列に対応するデータライ
ンおよび青色画素を表示するための画素電極列に対応す
るデータラインにおいても同様である。
The wiring state of the data line Ld is the same for the data line corresponding to the pixel electrode column for displaying the green pixel and the data line corresponding to the pixel electrode column for displaying the blue pixel.

【0037】また、上記データラインLdには、各薄膜
トランジスタ3にそれぞれ対応させて突出部Ldaが一
体に形成されており、このデータラインLdは、前記突
出部Ldaにおいて薄膜トランジスタ3のドレイン電極
dに接続されている。
The data line Ld is integrally formed with a protrusion Lda corresponding to each thin film transistor 3, and the data line Ld is connected to the drain electrode d of the thin film transistor 3 at the protrusion Lda. Has been done.

【0038】なお、データラインLdは、図2に示すよ
うに、上記ゲート絶縁膜4の上に形成したSi N等から
なる層間絶縁膜7(図1では省略している)の上に配線
されている。この層間絶縁膜7は、データラインLdの
配線部だけでなく、図3に示したように薄膜トランジス
タ3も覆って形成されており、データラインLdの突出
部Ldaは、前記層間絶縁膜7に設けたコンタクト孔8
において薄膜トランジスタ3のドレイン電極dに接続さ
れている。
As shown in FIG. 2, the data line Ld is arranged on the interlayer insulating film 7 (not shown in FIG. 1) made of SiN or the like formed on the gate insulating film 4. ing. The interlayer insulating film 7 is formed so as to cover not only the wiring portion of the data line Ld but also the thin film transistor 3 as shown in FIG. 3, and the protruding portion Lda of the data line Ld is provided in the interlayer insulating film 7. Contact hole 8
At the drain electrode d of the thin film transistor 3.

【0039】そして、上記データラインLdの行方向に
沿って屈曲する横行ライン部Ldxは、ゲートラインL
gの真上にこのゲートラインLgと平行に配線されてお
り、このデータラインLdの横行ライン部Ldxとゲー
トラインLgとの間は、上記ゲート絶縁膜4と層間絶縁
膜7との二層の絶縁膜によって絶縁されている。
The transverse line portion Ldx bent along the row direction of the data line Ld has a gate line L.
The gate line Lg is provided right above the gate line Lg, and between the transverse line portion Ldx of the data line Ld and the gate line Lg, there are two layers of the gate insulating film 4 and the interlayer insulating film 7. It is insulated by the insulating film.

【0040】すなわち、上記TFTパネルは、同じデー
タラインLdに対応する各画素電極2R,2G,2B
を、各行ごとに一方向と他方向とに交互にずらしてジグ
ザグに配列し、前記データラインLdを、ジグザグに配
列している画素電極列に対応させて蛇行配線するととも
に、このデータラインLdの横行ライン部Ldxを、ゲ
ートラインLgと上下に対向させて配線したものであ
る。
That is, the TFT panel has pixel electrodes 2R, 2G, 2B corresponding to the same data line Ld.
Are arranged alternately in one direction and the other direction in each row and arranged in a zigzag manner, and the data lines Ld are arranged in a zigzag manner in a meandering manner, and the data lines Ld are arranged in zigzag. The transverse line portion Ldx is wired so as to face the gate line Lg vertically.

【0041】このTFTパネルにおいては、蛇行配線す
るデータラインLdの横行ライン部Ldxをゲートライ
ンLgと上下に対向させて配線しているため、各画素電
極2R,2G,2Bの行間に確保する配線スペースは1
つの配線分でよい。なお、各画素電極2R,2G,2B
の列間には、従来のTFTパネルと同様に、データライ
ンLdの縦行ライン部Ldyの配線スペースを確保すれ
ばよい。
In this TFT panel, since the transverse line portion Ldx of the data line Ld to be meandered is vertically opposed to the gate line Lg, the wiring is secured between the pixel electrodes 2R, 2G, 2B. Space is 1
One wiring line is enough. In addition, each pixel electrode 2R, 2G, 2B
Between the columns, the wiring space of the vertical line portion Ldy of the data line Ld may be secured as in the conventional TFT panel.

【0042】したがって、上記TFTパネルによれば、
同じデータラインLdに対応する各画素電極2R,2
G,2Bをジグザグに配列し、前記データラインLdを
ジグザグに配列している画素電極列に対応させて蛇行配
線したものでありながら、画素電極2R,2G,2Bの
面積を大きくして、液晶表示素子の開口率を向上させる
ことができる。
Therefore, according to the above TFT panel,
Each pixel electrode 2R, 2 corresponding to the same data line Ld
G and 2B are arranged in a zigzag pattern, and the data lines Ld are arranged in a zigzag pattern in a meandering manner, but the area of the pixel electrodes 2R, 2G, and 2B is increased to increase the liquid crystal. The aperture ratio of the display element can be improved.

【0043】ただし、このTFTパネルでは、データラ
インLdの横行ライン部LdxとゲートラインLgとが
ゲート絶縁膜4と層間絶縁膜7とを介して上下に対向し
ているために、データラインLdの横行ライン部Ldx
とゲートラインLgとの間に寄生容量が形成され、この
寄生容量が、ゲートラインLgおよびデータラインLd
での電圧降下の要因となる。
However, in this TFT panel, since the transverse line portion Ldx of the data line Ld and the gate line Lg are vertically opposed to each other via the gate insulating film 4 and the interlayer insulating film 7, the data line Ld of the data line Ld. Traverse line part Ldx
And a gate line Lg form a parasitic capacitance between the gate line Lg and the data line Ld.
Will cause a voltage drop at.

【0044】なお、図4に示した従来のTFTパネルに
おいても、データラインLdの縦行ライン部Ldyとゲ
ートラインLgとの交差部に上記寄生容量が形成される
が、上記実施例のTFTパネルでは、データラインLd
の横行ライン部LdxがゲートラインLgと対向してい
るため、その間に形成される寄生容量の値は従来のTF
Tパネルより大きい。
In the conventional TFT panel shown in FIG. 4, the parasitic capacitance is formed at the intersection of the vertical line portion Ldy of the data line Ld and the gate line Lg. Then, the data line Ld
Since the traverse line portion Ldx of the gate line Lg faces the gate line Lg, the value of the parasitic capacitance formed therebetween is the same as that of the conventional TF.
Larger than T-panel.

【0045】そして、ゲートラインLgに印加されるゲ
ート信号の電圧は十分高いため、ゲートラインLgでの
電圧降下はほとんど問題にならないが、データラインL
dに印加されるデータ信号は画像データに応じた電圧の
信号であるため、データラインLdにおいてデータ信号
の電圧が降下すると、データラインLdの末端側(デー
タ信号の印加側に対して反対側)に近くなるほど、デー
タラインLdから薄膜トランジスタ3を介して画素電極
2R,2G,2Bに供給されるデータ信号の電圧が低く
なり、液晶表示素子に表示むらが発生する。
Since the voltage of the gate signal applied to the gate line Lg is sufficiently high, the voltage drop in the gate line Lg does not pose a problem, but the data line Lg.
Since the data signal applied to d is a voltage signal corresponding to the image data, when the voltage of the data signal drops on the data line Ld, the end side of the data line Ld (the opposite side to the data signal application side). The closer to, the lower the voltage of the data signal supplied from the data line Ld to the pixel electrodes 2R, 2G, 2B via the thin film transistor 3, and the display unevenness occurs on the liquid crystal display element.

【0046】しかし、上記実施例のTFTパネルにおい
ても、データラインLdをAl (アルミニウム)やAl
系合金等の低抵抗金属で形成すれば、データラインLd
での電圧降下を小さくして、液晶表示素子に表示むらの
ない良好な表示を行なわせることができる。
However, also in the TFT panel of the above embodiment, the data line Ld is set to Al (aluminum) or Al.
If it is made of a low resistance metal such as a series alloy, the data line Ld
It is possible to make the liquid crystal display element perform good display with no display unevenness by reducing the voltage drop at.

【0047】すなわち、上記データラインLdの全長に
おける電圧降下量は、このデータラインLdの抵抗値
と、データラインLd上に点在する上記寄生容量の合計
値との積によって決まるが、データラインLdをAl や
Al 系合金等の低抵抗金属で形成すれば、上記寄生容量
の値がある程度大きくても、データラインLdでの電圧
降下量を小さくすることができる(理論上は、データラ
インLdの抵抗値が0であれば、寄生容量の値にかかわ
らず、データラインLdでの電圧降下量が0になる)。
That is, the amount of voltage drop over the entire length of the data line Ld is determined by the product of the resistance value of the data line Ld and the total value of the parasitic capacitances scattered on the data line Ld. Is formed of a low resistance metal such as Al or an Al-based alloy, the amount of voltage drop in the data line Ld can be reduced even if the value of the parasitic capacitance is large to some extent (theoretically, If the resistance value is 0, the voltage drop amount on the data line Ld becomes 0 regardless of the value of the parasitic capacitance).

【0048】また、上記TFTパネルは、特に、中画面
や小画面の液晶表示素子に適しており、中画面や小画面
の液晶表示素子の場合は、データラインLdの長さが短
いために、このデータラインLdをAl やAl 系合金以
外の金属で形成してもその抵抗値は小さいし、また画素
数が少ないために、データラインLd上に点在する上記
寄生容量の数も少ないから、データラインLdでの電圧
降下は小さく、したがって、液晶表示素子に表示むらが
発生することはない。
The above TFT panel is particularly suitable for a liquid crystal display element of a medium screen or a small screen. In the case of a liquid crystal display element of a medium screen or a small screen, the length of the data line Ld is short, Even if the data line Ld is formed of a metal other than Al or an Al-based alloy, its resistance value is small, and since the number of pixels is small, the number of the parasitic capacitances scattered on the data line Ld is also small. Since the voltage drop in the data line Ld is small, display unevenness does not occur in the liquid crystal display element.

【0049】なお、上記実施例では、薄膜トランジスタ
3を、ソース電極sとドレイン電極dとをゲートライン
Lgと直交する方向に配置した構造としたが、この薄膜
トランジスタ3は、図4に示した従来のTFTパネルの
薄膜トランジスタ3と同様に、ソース電極sとドレイン
電極dとをゲートラインLgに沿う方向に配置した構造
としてもよい。
In the above embodiment, the thin film transistor 3 has the structure in which the source electrode s and the drain electrode d are arranged in the direction orthogonal to the gate line Lg. However, this thin film transistor 3 has the structure shown in FIG. Similar to the thin film transistor 3 of the TFT panel, the source electrode s and the drain electrode d may be arranged in the direction along the gate line Lg.

【0050】また、上記実施例のTFTパネルは、赤,
緑,青の画素をモザイク状の配列パターンで表示する方
式のアクティブマトリックス液晶表示素子に用いられる
ものであるが、本発明は、同じデータラインに対応する
各画素電極を各行ごとに一方向と他方向とに交互にずら
してジグザグに配列し、前記データラインをジグザグに
配列している画素電極列に対応させて蛇行配線している
ものであれば、他の方式のアクティブマトリックス液晶
表示素子に用いるTFTパネルにも適用することができ
る。
In addition, the TFT panel of the above embodiment is red,
The present invention is used for an active matrix liquid crystal display device of a type that displays green and blue pixels in a mosaic array pattern. However, the present invention provides that each pixel electrode corresponding to the same data line is arranged in one direction in each row and in another direction. It is used in an active matrix liquid crystal display device of another method as long as the data lines are arranged in zigzag alternately with respect to the direction, and the data lines are arranged in a zigzag pattern in a meandering manner. It can also be applied to a TFT panel.

【0051】[0051]

【発明の効果】本発明のアクティブマトリックスパネル
によれば、蛇行配線するデータラインの横行ライン部と
走査ラインとを何れか一方の領域に他方が含まれる配置
で上下に対向させて配線しているため、各画素電極の行
間に確保する配線スペースは1つの配線分でよく、した
がって、同じデータラインに対応する各画素電極をジグ
ザグに配列している画素電極列に対応させて蛇行配線し
たものでありながら、画素電極の面積を大きくして、液
晶表示素子の開口率を向上させることができる。
According to the active matrix panel of the present invention, the traverse line portions of the data lines to be meandered and the scanning lines are arranged so as to vertically oppose each other in an arrangement in which one region includes the other. Therefore, the wiring space secured between the rows of the pixel electrodes may be one wiring, and therefore, the pixel electrodes corresponding to the same data line may be arranged in a zigzag pattern so as to meander. However, the area of the pixel electrode can be increased to improve the aperture ratio of the liquid crystal display element.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示すTFTパネルの一部分
の平面図。
FIG. 1 is a plan view of a part of a TFT panel showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1のII−II線に沿う拡大断面図。FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line II-II of FIG.

【図3】図1の III−III 線に沿う拡大断面図。FIG. 3 is an enlarged sectional view taken along line III-III in FIG.

【図4】従来のTFTパネルの一部分の平面図。FIG. 4 is a plan view of a part of a conventional TFT panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板 2R,2G,2B…画素電極 3…薄膜トランジスタ g…ゲート電極 4…ゲート絶縁膜 5…i型半導体層 6…n型半導体層 s…ソース電極 d…ドレイン電極 Lg…ゲートライン Lc…キャパシタライン 7…層間絶縁膜 Ld…データライン Ldx…横行ライン部 1 ... Substrate 2R, 2G, 2B ... Pixel electrode 3 ... Thin film transistor g ... Gate electrode 4 ... Gate insulating film 5 ... i-type semiconductor layer 6 ... N-type semiconductor layer s ... Source electrode d ... Drain electrode Lg ... Gate line Lc ... Capacitor Line 7 ... Interlayer insulating film Ld ... Data line Ldx ... Transverse line part

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明基板上に、複数の画素電極を行方向お
よび列方向に配列した画素電極群と、この画素電極群の
各画素電極にそれぞれ接続された複数のスイッチング素
と、前記画素電極群の各画素電極行にそれぞれ対応さ
せて配線され前記スイッチング素子走査信号を供給す
る複数の走査ラインと、前記画素電極群の各画素電極列
にそれぞれ対応させて配線され前記スイッチング素子
データ信号を供給する複数のデータラインとを形成して
なり、 かつ、同じデータラインに対応する各画素電極を、各行
ごとに一方向と他方向とに交互にずらしてジグザグに配
列し、前記データラインを、ジグザグに配列している画
素電極列に対応させて蛇行配線するとともに、 前記データラインの前記行方向に沿って延在する横行ラ
イン部と前記走査ラインとを何れか一方の領域に他方が
含まれる配置で上下に対向させて配線したことを特徴と
するアクティブマトリックスパネル。
1. A pixel electrode group in which a plurality of pixel electrodes are arranged in a row direction and a column direction on a transparent substrate, and a plurality of switching elements connected to each pixel electrode of the pixel electrode group.
And children, and the pixel electrode group of the plurality of scanning lines for supplying scanning signals to the switching elements are wired respectively corresponding to each pixel electrode row, respectively are wired to correspond to each pixel electrode row of said pixel electrodes A plurality of data lines for supplying a data signal to the switching element are formed, and each pixel electrode corresponding to the same data line is arranged in a zigzag pattern by staggering each row in one direction and the other direction. and, said data lines, together with the meandering lines to correspond to the pixel electrode columns are arranged in zigzag, either with said transverse line portion and the scanning line extending in the row direction of the data lines on the other hand In the area of
The active matrix panel is characterized in that the wirings are arranged so as to face each other vertically in the included arrangement .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6583471B1 (en) * 1999-06-02 2003-06-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device having first and second insulating films
KR100859467B1 (en) * 2002-04-08 2008-09-23 엘지디스플레이 주식회사 Liquid crystal display and driving method thereof
JP4686122B2 (en) * 2003-11-28 2011-05-18 東芝モバイルディスプレイ株式会社 Active matrix display device and manufacturing method thereof
US10394091B2 (en) * 2015-11-18 2019-08-27 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display device

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61190315A (en) * 1985-02-20 1986-08-25 Sharp Corp Color liquid-crystal display device
JPS6424229A (en) * 1987-07-20 1989-01-26 Seiko Epson Corp Liquid crystal panel

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