JP2527902B2 - Processing tank - Google Patents

Processing tank

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JP2527902B2
JP2527902B2 JP5114667A JP11466793A JP2527902B2 JP 2527902 B2 JP2527902 B2 JP 2527902B2 JP 5114667 A JP5114667 A JP 5114667A JP 11466793 A JP11466793 A JP 11466793A JP 2527902 B2 JP2527902 B2 JP 2527902B2
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豊 毛戸
徳雄 前田
禎男 竹村
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Toho Kasei Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置などに
おいて使用され、高温処理液によりウェハに所定の処理
を施すための処理槽に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing tank used in a semiconductor manufacturing apparatus or the like for performing a predetermined processing on a wafer with a high temperature processing liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の処理槽としては種々の構
造のものが知られている。例えば、図4〜6に示すよう
に、処理槽本体51aの上端堰部51bを越えてオーバ
ーフローした高温処理液は、処理槽の一側に隣接した排
出口53より処理槽本体外へ排出して、清浄化及び濃度
調整等を行ったのち、再び処理槽本体51aの底部供給
口51cから処理槽本体51a内に供給するようにして
いる。この処理槽は、石英製の上側のケーシング51と
フッ素樹脂又はポリプロピレン等の樹脂製の下側ケーシ
ング52とから大略構成されており、上側のケーシング
51には上記処理槽本体51aが一体的に連結されてお
り、この上側ケーシング51が下側ケーシング52の縁
にシール部材56を介して載置され支持されて構成され
ている。なお、54は処理槽本体の外側に配置され該処
理槽本体内に保持される高温処理液を保温のために加熱
するヒータ、55はヒータ54の外側及び処理槽本体5
1aの外側を覆う断熱材である。上記処理槽本体51a
の底部の供給口部分は下側ケーシング52の底部の開口
部分の上に載置されて支持されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, various types of treatment tanks of this type have been known. For example, as shown in FIGS. 4 to 6, the high temperature processing liquid that overflows beyond the upper end dam 51b of the processing tank main body 51a is discharged to the outside of the processing tank main body from the discharge port 53 adjacent to one side of the processing tank. After performing cleaning, concentration adjustment, etc., the gas is supplied again from the bottom supply port 51c of the processing tank main body 51a into the processing tank main body 51a. This processing tank is roughly composed of an upper casing 51 made of quartz and a lower casing 52 made of a resin such as fluororesin or polypropylene. The processing casing main body 51a is integrally connected to the upper casing 51. The upper casing 51 is mounted on and supported by the edge of the lower casing 52 via a seal member 56. In addition, 54 is a heater which is arranged outside the processing bath main body and heats the high temperature processing liquid held in the processing bath main body for heat retention, and 55 is outside the heater 54 and the processing bath main body 5
It is a heat insulating material that covers the outside of 1a. The processing tank main body 51a
The supply port portion at the bottom of the lower casing 52 is placed and supported on the opening portion at the bottom of the lower casing 52.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
造のものでは、処理槽本体51aからオーバーフローし
た高温処理液を排出口53から排出するとき、空気を不
用意に吸い込まないようにするため、処理槽本体51a
の堰部51bの周囲のオーバーフロー槽部51dはある
程度処理液を溜めることができるようにする必要があ
る。よって、堰部51bの高さを大きくする必要が生
じ、上側ケーシング51が大型化してその重量が大きく
なり、下側ケーシング52に過負荷がかかり、下側ケー
シング52が破損する可能性がある。従って、本発明の
目的は、上記問題を解決することにあって、処理槽ケー
シングを破損させることなく処理槽本体の堰部の高さを
低くすることができる処理槽を提供することにある。
However, in the case of the above structure, when the high temperature processing liquid overflowing from the processing tank main body 51a is discharged from the discharge port 53, air is not inadvertently sucked in, so that the processing tank is Body 51a
The overflow tank portion 51d around the weir portion 51b needs to be able to store the treatment liquid to some extent. Therefore, it is necessary to increase the height of the dam portion 51b, the upper casing 51 becomes large and its weight becomes large, the lower casing 52 is overloaded, and the lower casing 52 may be damaged. Therefore, an object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a processing tank in which the height of the dam portion of the processing tank main body can be reduced without damaging the processing tank casing.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、処理槽本体の周囲のオーバーフロー槽部
の排出口付近に処理液溜部を形成して処理槽本体の堰部
の高さを小さくできるように構成する。すなわち、外側
面及び外底面にそれぞれ処理液保温用ヒータを設けて処
理液を保持する処理槽本体の上端堰部の周囲にオーバー
フロー槽部を形成し、該オーバーフロー槽部の一部に処
理液排出口を形成して、上記処理槽本体に供給された処
理液が上記処理槽本体の堰部よりオーバーフローしたと
き、オーバーフローした処理液を上記オーバーフロー槽
部を介して上記排出口より上記処理槽本体外に排出する
ようにした処理槽において、上記オーバーフロー槽部の
排出口付近をへこませて処理液溜部を形成するように構
成する。上記構成においては、上記処理槽本体の外側面
のうち上記処理液溜部に対向する外側面と上記処理液溜
部の外側面との間に両外側面を接続する支持部材を備え
るように構成することもできる。
In order to achieve the above object, the present invention is directed to forming a processing liquid reservoir near the outlet of an overflow tank around the processing tank main body to form a weir of the processing tank main body. Configure so that the height can be reduced. That is, an overflow tank is formed around the upper end weir of the processing tank main body for holding the processing liquid by providing heaters for keeping the processing liquid on the outer side surface and the outer bottom surface, respectively, and the processing solution drainage part is provided in the overflow tank part. When the processing liquid supplied to the processing tank main body overflows from the weir portion of the processing tank main body by forming an outlet, the overflowing processing liquid is discharged from the discharge port through the overflow tank portion to the outside of the processing tank main body. In the processing tank which is designed to discharge, the processing liquid reservoir is formed by denting the vicinity of the discharge port of the overflow tank. In the above configuration, a configuration is provided in which a support member that connects both outer side surfaces of the outer side surface of the processing tank body between the outer side surface facing the processing liquid storage section and the outer side surface of the processing liquid storage section is provided. You can also do it.

【0005】また、上記構成においては、上記オーバー
フロー槽部の底面は、上記処理液溜部に向けて下向きに
傾斜するように構成することもできる。また、上記構成
においては、上記処理槽本体及び上記処理液溜部とを上
側ケーシングに備えるとともに、該上側ケーシングは下
側ケーシングにより支持され、上記上側ケーシングと上
記下側ケーシングとの間には上下2層の断熱材を備え、
上記下側の断熱材が上記上側の断熱材よりも固く、上記
下側の断熱材は上記上側ケーシングの上記処理槽本体の
底部外面及び上記処理液溜部の底部外面をそれぞれ支持
するとともに、上記上側の断熱材は上記処理槽本体の外
側面と上記処理液溜部の外側面とをそれぞれ包み込むよ
うに構成することもできる。また、上記構成において
は、上記上側ケーシングの上記処理槽本体及び上記処理
液溜部の各外側を上記下側ケーシングの外壁部により包
囲するとともに、上記上側ケーシングの縁部が載置され
てこれを支持する上記下側ケーシングの上記外壁部の縁
部は、上記処理槽本体の堰部よりも上方の位置に配置さ
れるように構成することもできる。また、上記構成にお
いては、上記上側ケーシングの上記処理槽本体の底部に
は、処理液供給口を構成する筒部が上記底部より下向き
に突出し、一方、この筒部が挿入される上記下側ケーシ
ングの底部の筒部は上向きに突出して形成するように構
成することもできる。
Further, in the above construction, the bottom surface of the overflow tank portion may be inclined downward toward the processing liquid reservoir portion. Further, in the above configuration, the treatment tank body and the treatment liquid reservoir are provided in the upper casing, the upper casing is supported by the lower casing, and the upper casing and the lower casing are vertically separated from each other. With two layers of insulation,
The lower heat insulating material is harder than the upper heat insulating material, and the lower heat insulating material supports the bottom outer surface of the processing tank body and the bottom outer surface of the processing liquid reservoir of the upper casing, respectively, and The upper heat insulating material may be configured to wrap the outer surface of the processing tank body and the outer surface of the processing liquid reservoir, respectively. Further, in the above-mentioned configuration, each outer side of the processing tank main body and the processing liquid reservoir of the upper casing is surrounded by the outer wall portion of the lower casing, and the edge portion of the upper casing is placed and The edge portion of the outer wall portion of the lower casing to be supported may be arranged above the dam portion of the processing tank body. Further, in the above configuration, at the bottom of the processing tank main body of the upper casing, a tubular portion that constitutes a processing liquid supply port projects downward from the bottom portion, while the lower casing into which the tubular portion is inserted. The bottom cylindrical portion may be formed so as to project upward.

【0006】[0006]

【発明の効果】本発明の構成によれば、上記処理槽本体
の堰部の周囲のオーバーフロー槽部の排出口付近をへこ
ませて処理液溜部を形成するようにしたので、堰部を低
くしても排出口の付近に処理液を確実に溜ることがで
き、空気の吸い込みを防止できるとともに、堰部を低く
する結果として処理槽本体を小型化することができ軽量
化を図ることができる。また、処理槽本体を上側ケーシ
ングに備えるようにするとともに、上記処理液溜部を設
けたことにより堰部を低くすることができて処理槽本体
よって上側ケーシングの軽量化が図れるのに加えて、上
側ケーシングは下側ケーシングにより直接支えられるの
ではなく、断熱材を介して支持されるようにすれば、下
側ケーシングに上側ケーシングより過負荷が作用するこ
ともなく、下側ケーシングの破損を効果的に防止でき
る。また、処理液溜部と処理槽本体との間に支持部材を
設けるようにすれば、処理槽本体と処理液溜部との間の
補強を図るとともに、処理槽本体の処理液溜部に対向す
る外側面にヒータを設けるためのスペースを確実に確保
できる。よって、上記処理槽本体の外側面がヒータを設
けることができないためこの側面が放熱板のような作用
をしてしまい、処理液の温度制御が困難なものとなると
いった不具合を防止することができる。
According to the structure of the present invention, since the processing liquid reservoir is formed by denting the vicinity of the outlet of the overflow tank around the dam of the processing tank main body, the dam is formed. Even if it is lowered, the treatment liquid can be reliably collected in the vicinity of the discharge port, air can be prevented from being sucked in, and as a result of lowering the weir portion, the treatment tank main body can be made smaller and lighter in weight. it can. In addition to providing the processing tank main body in the upper casing and providing the processing liquid reservoir, the dam portion can be lowered, and in addition to the weight reduction of the upper casing by the processing tank main body, If the upper casing is not directly supported by the lower casing but is supported by a heat insulating material, the lower casing will not be overloaded than the upper casing and damage to the lower casing will be effective. Can be prevented. Further, if a supporting member is provided between the processing liquid reservoir and the processing bath main body, the reinforcing between the processing bath main body and the processing liquid reservoir is achieved, and the processing liquid reservoir is opposed to the processing liquid reservoir. It is possible to reliably secure a space for providing the heater on the outer side surface. Therefore, since it is not possible to provide a heater on the outer side surface of the processing bath main body, this side surface acts as a heat dissipation plate, and it is possible to prevent a problem that the temperature control of the processing liquid becomes difficult. .

【0007】[0007]

【実施例】以下に、本発明にかかる実施例を図1〜図3
に基づいて詳細に説明する。本実施例にかかる処理槽
は、図1に示すように、例えば150〜170℃程度の
高温のリン酸などの処理液を保持する処理槽本体2aの
上端堰部2bの周囲に大略四角枠状のオーバーフロー槽
部2eを形成し、該オーバーフロー槽部2eの一部に処
理液排出口21を形成する一方、上記処理槽本体2aの
底部に処理液供給口20を形成して、上記処理槽本体2
aの堰部2bよりオーバーフローした処理液を上記オー
バーフロー槽部2eを介して上記排出口21より排出す
る一方、上記供給口20より処理液を上記処理槽本体内
に新たに供給するとともに、上記オーバーフロー槽部2
eの排出口付近をへこませて処理液溜部2fを形成して
大略構成する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
It will be described in detail based on. As shown in FIG. 1, the treatment tank according to the present embodiment has a substantially rectangular frame shape around the upper end dam portion 2b of the treatment tank main body 2a that holds a treatment liquid such as phosphoric acid at a high temperature of about 150 to 170 ° C., for example. Of the overflow tank 2e, and the processing solution discharge port 21 is formed in a part of the overflow tank 2e, while the processing solution supply port 20 is formed in the bottom of the processing tank body 2a. Two
The processing liquid overflowing from the weir portion 2b of a is discharged from the discharge port 21 through the overflow tank portion 2e, while the processing liquid is newly supplied into the processing tank main body from the supply port 20 and the overflow is caused. Tank part 2
The processing liquid reservoir 2f is formed by denting the vicinity of the outlet of e.

【0008】上記処理槽本体2aは、多数のウェハ9,
…,9を収納可能なキャリアケース10をセット載置で
きる支持台14をその内側に備え、底部に向かうに従い
先すぼまりな四角錐状に形成され、かつその上端堰部2
bは、その端面に多数の切欠2c,…,2cが形成され
て、処理槽本体2aより処理液がオーバーフローしやす
くしている。この処理槽本体2aの底部中央部開口の周
囲には、下向きに突出した筒部2dを形成して処理液供
給口20を構成する。なお、処理槽本体2aの底面も図
3に示すように供給口20に向けて下向きに傾斜させ
て、供給口20より処理液を抜き出すときにより抜き出
しやすくなるようにしている。また、処理槽本体2aの
4個の外側面及び外底面にはヒータ11を貼り付けて、
処理槽本体2a内に保持する処理液を保温して温度制御
できるようにしている。上記オーバーフロー槽部2eの
排出口付近をへこませて形成された処理液溜部2fは、
上記処理槽本体2aに隣接し、処理槽本体2aの深さと
大略同じ深さを有し、図3においてオーバーフロー槽部
2eの幅寸法と大略同じ幅寸法を有している。この処理
液溜部2fの底部中央部開口の周囲には、下向きに突出
した筒部2gを形成して処理液排出口21を構成する。
なお、上記オーバーフロー槽部2eの底面は、上記処理
液溜部2fに向けて下向きに傾斜させるのが、オーバー
フロー槽部2e内の処理液を円滑に排出する上で、好ま
しい。
The processing tank main body 2a has a large number of wafers 9,
A support base 14 on which a carrier case 10 capable of accommodating 9, can be set and mounted is provided inside thereof, and is formed in a quadrangular pyramid shape that is tapered toward the bottom, and its upper end dam portion 2
2b has a large number of notches 2c, ..., 2c formed on its end surface, so that the processing liquid easily overflows from the processing bath main body 2a. A processing liquid supply port 20 is formed by forming a downwardly projecting tubular portion 2d around the bottom central opening of the processing bath main body 2a. The bottom surface of the processing tank main body 2a is also inclined downward toward the supply port 20 as shown in FIG. 3 so that the process liquid can be more easily extracted from the supply port 20. Further, heaters 11 are attached to the four outer surfaces and outer bottom surfaces of the processing tank body 2a,
The temperature of the treatment liquid held in the treatment tank main body 2a can be controlled by keeping it warm. The processing liquid reservoir 2f formed by denting the vicinity of the outlet of the overflow tank 2e is
Adjacent to the processing bath main body 2a, it has a depth substantially the same as the depth of the processing bath main body 2a, and has a width dimension substantially the same as the width dimension of the overflow bath portion 2e in FIG. A processing liquid discharge port 21 is formed by forming a downwardly projecting cylindrical portion 2g around the opening in the center of the bottom of the processing liquid reservoir 2f.
In addition, it is preferable that the bottom surface of the overflow tank 2e is inclined downward toward the processing liquid reservoir 2f in order to smoothly discharge the processing liquid in the overflow tank 2e.

【0009】上記処理槽本体2aの上記処理液溜部2f
に対向する外側面と上記処理液溜部2fの外側面2hと
の間には、両外側面を接続すつる支持部材2jを備え
る。この支持部材2jは、図3において処理槽本体2a
の幅寸法と同寸法の板材より構成する。これにより、処
理液溜部2fと処理槽本体2a間の補強を行い、かつ、
処理槽本体2aの上記処理液溜部2fに対向する外側面
にヒータ11を設けるスペースを確保することができる
とともに、後述する上側ケーシング2の支持面積をより
大きくすることができて、より安定して後述する断熱材
7で上側ケーシング2を支持することができる。上記処
理槽本体2a及び上記処理液溜部2fは石英などからな
る上側ケーシング2aに一体的に備えられるとともに、
該上側ケーシング2aはフッソ樹脂やポリプロピレンな
どからなる下側ケーシング12に載置されて支持され
る。上記下側ケーシング12内には上下2層の断熱材
8,7を備える。上記下側の断熱材7が上記上側の断熱
材8よりも固くして、上記下側の断熱材7は、下側ケー
シング12の底部12bの上に配置されて上記上側ケー
シング2の上記処理槽本体2aの底部外面及び上記処理
液溜部2fの底部外面をそれぞれ支持する。一方、上記
上側の断熱材8は、上記処理槽本体2aの外側面及びヒ
ータ11,…,11と上記処理液溜部2fの外側面とを
それぞれ包み込む。このような下側断熱材7の一例とし
ては、アルミナの長繊維を固めたものが好ましい。ま
た、上側断熱材8の一例としては、アルミナの長繊維を
固めずに綿状にしたものが好ましい。
The processing liquid reservoir 2f of the processing tank body 2a.
A supporting member 2j is provided between the outer side surface facing the outer side surface and the outer side surface 2h of the processing liquid reservoir 2f so as to connect both outer side surfaces. This support member 2j is the processing tank main body 2a in FIG.
It is composed of a plate material having the same width as the width. This reinforces the processing liquid reservoir 2f and the processing tank main body 2a, and
It is possible to secure a space for providing the heater 11 on the outer surface of the treatment tank main body 2a facing the treatment liquid reservoir 2f, and it is possible to further increase the support area of the upper casing 2 which will be described later, and to stabilize the treatment. The upper casing 2 can be supported by a heat insulating material 7, which will be described later. The processing tank body 2a and the processing liquid reservoir 2f are integrally provided in an upper casing 2a made of quartz or the like, and
The upper casing 2a is placed and supported on a lower casing 12 made of fluorine resin, polypropylene or the like. Inside the lower casing 12, upper and lower two layers of heat insulating materials 8 and 7 are provided. The lower heat insulating material 7 is harder than the upper heat insulating material 8, and the lower heat insulating material 7 is disposed on the bottom portion 12b of the lower casing 12 and is disposed in the processing tank of the upper casing 2. The bottom outer surface of the main body 2a and the bottom outer surface of the processing liquid reservoir 2f are supported. On the other hand, the upper heat insulating material 8 wraps the outer surface of the processing tank body 2a, the heaters 11, ..., 11 and the outer surface of the processing liquid reservoir 2f, respectively. As an example of such a lower heat insulating material 7, it is preferable to solidify long filaments of alumina. In addition, as an example of the upper heat insulating material 8, it is preferable to use a long fiber of alumina which is made into a cotton shape without being solidified.

【0010】上記上側ケーシング2の縁部2iは上記下
側ケーシング12の縁部12aに載置せず、両部材間に
はシール部材13を介在させている。また、上記下側ケ
ーシング12の縁12aが上記処理槽本体2aの堰部2
bよりも上方の位置に配置されるように、下側ケーシン
グ12の外壁部12dが延びている。この結果、下側ケ
ーシング12内に上側ケーシング2が収まり、上記処理
槽本体2a及び処理液溜部2fの外側のすべてが下側ケ
ーシング12により包囲されることになり、かつ、両縁
2iと12a間にシール材13を介在させるので、万が
一、上側ケーシング2の処理槽本体2aから処理液がこ
ぼれても下側ケーシング12と上側ケーシング2との間
に処理液が侵入するのを効果的に防止することができる
とともに、上側ケーシング2の外側の側面及び底面全体
を断熱材7,8により覆うことができて、処理液の保温
性能が向上する。上記上側ケーシング2の上記処理槽本
体2aの底部の供給口20を構成する筒部2dは該底部
より下向きに突出する。一方、この筒部2dが挿入され
る上記下側ケーシング12の底部の筒部12cは上向き
に突出して形成して、上記筒部2dの下端面より上記筒
部12cの上端面の方が上方に位置するようにする。こ
の上側ケーシング2の筒部2dと下側ケーシング12の
筒部12cとは、2つのフッソ樹脂製の接続管3,4及
びシール部材22,22により両部材間を密閉しつつ接
続される。よって、万が一、上側ケーシング2の筒部2
dに亀裂などが入り破損して処理液が筒部外周面に漏れ
ても、下側ケーシング12の筒部12c内であるから、
上側ケーシング2と下側ケーシング12との間には処理
液は侵入することがない。なお、この下側ケーシング1
2の筒部12cはその内側に上記上側ケーシング2の処
理槽本体2aの底部の筒部2dを挿入しているだけで、
この筒部12cにより上側ケーシング2を支えてはいな
いので、この筒部12cに上側ケーシング2より過負荷
が作用することはない。
The edge portion 2i of the upper casing 2 is not placed on the edge portion 12a of the lower casing 12, and a seal member 13 is interposed between both members. Further, the edge 12a of the lower casing 12 is the weir portion 2 of the processing tank body 2a.
The outer wall portion 12d of the lower casing 12 extends so as to be located above b. As a result, the upper casing 2 is housed in the lower casing 12, all the outside of the processing tank body 2a and the processing liquid reservoir 2f are surrounded by the lower casing 12, and both edges 2i and 12a are formed. Since the sealing material 13 is interposed therebetween, even if the processing liquid should be spilled from the processing tank main body 2a of the upper casing 2, it is possible to effectively prevent the processing liquid from entering between the lower casing 12 and the upper casing 2. In addition to this, the outer side surface and the entire bottom surface of the upper casing 2 can be covered with the heat insulating materials 7 and 8, and the heat retaining performance of the treatment liquid is improved. The cylindrical portion 2d constituting the supply port 20 at the bottom of the processing tank body 2a of the upper casing 2 projects downward from the bottom. On the other hand, the cylindrical portion 12c at the bottom of the lower casing 12 into which the cylindrical portion 2d is inserted is formed so as to project upward so that the upper end surface of the cylindrical portion 12c is higher than the lower end surface of the cylindrical portion 2d. To be located. The tubular portion 2d of the upper casing 2 and the tubular portion 12c of the lower casing 12 are connected by two connecting pipes 3 and 4 made of fluorine resin and sealing members 22 and 22 while sealing the both members. Therefore, by any chance, the tubular portion 2 of the upper casing 2
Even if a crack or the like is formed in d and the processing liquid leaks to the outer peripheral surface of the cylindrical portion, it is still in the cylindrical portion 12c of the lower casing 12,
The treatment liquid does not enter between the upper casing 2 and the lower casing 12. In addition, this lower casing 1
The cylindrical portion 12c of No. 2 has only the cylindrical portion 2d at the bottom of the processing tank body 2a of the upper casing 2 inserted therein.
Since the upper casing 2 is not supported by the tubular portion 12c, the tubular portion 12c is not overloaded by the upper casing 2.

【0011】同様に、上記上側ケーシング2の上記処理
液溜部2fの底部の排出口21を構成する筒部2gは該
底部より下向きに突出する。一方、この筒部2gが挿入
される上記下側ケーシング12の底部の筒部12eは上
向きに突出して形成して、上記筒部2gの下端面より上
記筒部12eの上端面の方が上方に位置するようにす
る。この上側ケーシング2の筒部2gと下側ケーシング
12の筒部12eとは、2つのフッソ樹脂製の接続管
5,6及びシール部材23,23により両部材間を密閉
しつつ接続される。よって、万が一、上側ケーシング2
の筒部2gに亀裂などが入り破損して処理液が筒部外周
面に漏れても、下側ケーシング12の筒部12e内であ
るから、上側ケーシング2と下側ケーシング12との間
には処理液は侵入することがない。なお、この下側ケー
シング12の筒部12eはその内側に上記上側ケーシン
グ2の処理液溜部2fの底部の筒部2gを挿入している
だけで、この筒部12eにより上側ケーシング2を支え
てはいないので、この筒部12eに上側ケーシング2よ
り過負荷が作用することはない。
Similarly, the cylindrical portion 2g forming the discharge port 21 at the bottom of the processing liquid reservoir 2f of the upper casing 2 projects downward from the bottom. On the other hand, the cylindrical portion 12e at the bottom of the lower casing 12 into which the cylindrical portion 2g is inserted is formed so as to project upward, and the upper end surface of the cylindrical portion 12e is positioned higher than the lower end surface of the cylindrical portion 2g. To be located. The tubular portion 2g of the upper casing 2 and the tubular portion 12e of the lower casing 12 are connected by two connecting pipes 5 and 6 made of fluorine resin and seal members 23, 23 while hermetically sealing the both members. Therefore, by any chance, the upper casing 2
Even if a crack or the like is caused in the cylindrical portion 2g of the lower casing 12 and the processing liquid leaks to the outer peripheral surface of the cylindrical portion, since it is in the cylindrical portion 12e of the lower casing 12, there is a gap between the upper casing 2 and the lower casing 12. The processing liquid does not enter. It should be noted that the tubular portion 12e of the lower casing 12 is configured such that the tubular portion 12e supports the upper casing 2 only by inserting the tubular portion 2g at the bottom of the treatment liquid reservoir 2f of the upper casing 2 inside the tubular portion 12e. Therefore, the upper casing 2 does not overload the cylindrical portion 12e.

【0012】上記構成によれば、上記処理槽本体2aの
堰部2bよりオーバーフローした処理液を上記オーバー
フロー槽部2eを介して上記処理液溜部2fにある程度
溜めるようにしつつ、排出口21より処理液を排出す
る。一方、上記供給口20より処理液を上記処理槽本体
内に新たに供給して、処理液の循環を行う。上記実施例
によれば、上記処理槽本体2aの堰部2bの周囲のオー
バーフロー槽部2eの排出口付近をへこませて処理液溜
部2fを形成するようにしたので、堰部2bを低くして
も排出口21の付近に処理液を確実に溜ることができ、
空気の吸い込みを防止できるとともに、堰部2bを低く
する結果として上側ケーシング2を小型化することがで
き軽量化を図ることができる。また、上側ケーシング2
の軽量化が図れるのに加えて、上側ケーシング2は下側
ケーシング12により直接支えられるのではなく、断熱
材7を介して支持されるので、下側ケーシング12に上
側ケーシング2より過負荷が作用することもなく、下側
ケーシング12の破損を効果的に防止できる。また、処
理液溜部2fと処理槽本体2aとの間に支持部材2jを
設けて、補強を図るとともに、処理槽本体2aの処理液
溜部2fに対向する外側面にヒータ11を設けるための
スペースを確実に確保できるようにしたので、上記処理
槽本体2aの外側面がヒータ11を設けることができな
いためこの側面が放熱板のような作用をしてしまい、処
理液の温度制御が困難なものとなるといった不具合を防
止することができる。なお、本発明は上記実施例に限定
されるものではなく、その他種々の態様で実施できる。
例えば、上記処理槽本体2aに対して処理液を上側ケー
シング2の上方から供給するようにしてもよい。
According to the above construction, the processing liquid overflowing from the dam portion 2b of the processing tank main body 2a is stored in the processing liquid storage portion 2f through the overflow tank portion 2e to some extent and is processed from the discharge port 21. Drain the liquid. On the other hand, the processing liquid is newly supplied into the processing tank main body from the supply port 20 to circulate the processing liquid. According to the above embodiment, the processing liquid reservoir 2f is formed by recessing the vicinity of the outlet of the overflow tank 2e around the dam 2b of the processing tank main body 2a to form the processing liquid reservoir 2f. Even if the processing liquid can be reliably collected near the discharge port 21,
Air intake can be prevented, and as a result of lowering the weir portion 2b, the upper casing 2 can be downsized and the weight can be reduced. Also, the upper casing 2
In addition to reducing the weight of the upper casing 2, the upper casing 2 is not directly supported by the lower casing 12 but is supported via the heat insulating material 7, so that the lower casing 12 is overloaded by the upper casing 2. It is possible to effectively prevent the lower casing 12 from being damaged. Further, a support member 2j is provided between the processing liquid reservoir 2f and the processing bath main body 2a for reinforcement, and a heater 11 is provided on the outer surface of the processing bath main body 2a facing the processing liquid storage portion 2f. Since the space can be surely secured, the outside surface of the processing tank main body 2a cannot be provided with the heater 11, and this side surface acts as a heat dissipation plate, which makes it difficult to control the temperature of the processing liquid. It is possible to prevent a problem such as a problem. The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented in various other modes.
For example, the treatment liquid may be supplied to the treatment tank body 2a from above the upper casing 2.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の一実施例にかかる処理槽の断面側面
図である。
FIG. 1 is a sectional side view of a processing tank according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1の処理槽の断面正面図である。FIG. 2 is a sectional front view of the processing tank of FIG.

【図3】 図1の処理槽の平面図である。3 is a plan view of the processing tank of FIG. 1. FIG.

【図4】 従来の処理槽の断面側面図である。FIG. 4 is a sectional side view of a conventional processing tank.

【図5】 図4の処理槽の断面正面図である。5 is a sectional front view of the processing tank of FIG.

【図6】 図4の処理槽の平面図である。FIG. 6 is a plan view of the processing tank of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…処理槽、2…上側ケーシング、2a…処理槽本体、
2b…堰部、2c…切欠、2d,2g…筒部、2e…オー
バーフロー槽部、2f…処理液溜部、2h…処理液溜部
外側面、2i…縁、2j…支持部材、3,4,5,6…
接続管、7…下側の断熱材、8…上側の断熱材、9…ウ
ェハ、10…キャリアケース、11…ヒータ、12…下
側ケーシング、12a…縁、12b…底部、12c,1
2e…筒部、12d…外壁部、13,22,23…シー
ル部材、14…支持台、20…供給口、21…排出口。
1 ... Processing tank, 2 ... Upper casing, 2a ... Processing tank main body,
2b ... Weir portion, 2c ... Notch, 2d, 2g ... Cylindrical portion, 2e ... Overflow tank portion, 2f ... Treatment liquid reservoir portion, 2h ... Treatment liquid reservoir outer surface, 2i ... Edge, 2j ... Support member, 3, 4 , 5, 6 ...
Connection pipe, 7 ... Lower heat insulating material, 8 ... Upper heat insulating material, 9 ... Wafer, 10 ... Carrier case, 11 ... Heater, 12 ... Lower casing, 12a ... Edge, 12b ... Bottom portion, 12c, 1
Reference numeral 2e ... Cylindrical portion, 12d ... Outer wall portion, 13, 22, 23 ... Seal member, 14 ... Support base, 20 ... Supply port, 21 ... Discharge port.

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 外側面及び外底面にそれぞれ処理液保温
用ヒータ(11)を設けて処理液を保持する処理槽本体
(2a)の上端堰部(2b)の周囲にオーバーフロー槽
部(2e)を形成し、該オーバーフロー槽部(2e)の
一部に処理液排出口(21)を形成して、上記処理槽本
体(2a)に供給された処理液が上記処理槽本体(2
a)の堰部(2b)よりオーバーフローしたとき、オー
バーフローした処理液を上記オーバーフロー槽部(2
e)を介して上記排出口(21)より上記処理槽本体外
に排出するようにした処理槽において、 上記オーバーフロー槽部(2e)の排出口付近をへこま
せて処理液溜部(2f)を形成するようにしたことを特
徴とする処理槽。
1. An overflow tank section (2e) is provided around an upper end dam section (2b) of a processing tank body (2a) for holding a processing solution by providing heaters (11) for keeping the processing solution on the outer side surface and the outer bottom surface, respectively. To form a processing liquid discharge port (21) in a part of the overflow tank portion (2e), and the processing liquid supplied to the processing tank main body (2a) is supplied to the processing tank main body (2).
When it overflows from the weir (2b) of (a), the overflowed processing liquid is used as the overflow tank (2).
In the processing tank which is configured to be discharged to the outside of the processing tank main body from the discharging port (21) via the e), the processing liquid reservoir (2f) is dented near the discharging port of the overflow tank section (2e). A treatment tank characterized by being formed.
【請求項2】 上記処理槽本体(2a)の外側面のうち
上記処理液溜部(2f)に対向する外側面と上記処理液
溜部(2f)の外側面との間に両外側面を接続する支持
部材(2j)を備えるようにした請求項1に記載の処理
槽。
2. An outer surface of the processing tank body (2a), which is opposed to the processing liquid reservoir (2f), and an outer surface of the processing liquid reservoir (2f). The processing tank according to claim 1, further comprising a supporting member (2j) to be connected.
【請求項3】 上記オーバーフロー槽部(2e)の底面
は、上記処理液溜部(2f)に向けて下向きに傾斜した
請求項1又は2のいずれかに記載の処理槽。
3. The processing tank according to claim 1, wherein a bottom surface of the overflow tank portion (2e) is inclined downward toward the processing liquid reservoir portion (2f).
【請求項4】 上記処理槽本体(2a)及び上記処理液
溜部(2f)とを上側ケーシング(2)に備えるととも
に、該上側ケーシング(2)は下側ケーシング(12)
により支持され、上記上側ケーシング(2)と上記下側
ケーシング(12)との間には上下2層の断熱材(8,
7)を備え、上記下側の断熱材(7)が上記上側の断熱
材(8)よりも固く、上記下側の断熱材(7)は上記上
側ケーシング(2)の上記処理槽本体(2a)の底部外
面及び上記処理液溜部(2f)の底部外面をそれぞれ支
持するとともに、上記上側の断熱材(8)は上記処理槽
本体(2a)の外側面と上記処理液溜部(2f)の外側
面とをそれぞれ包み込むようにした上記請求項1〜3の
いずれかに記載の処理槽。
4. The upper casing (2) is provided with the treatment tank main body (2a) and the treatment liquid reservoir (2f), and the upper casing (2) is a lower casing (12).
Supported by the upper casing (2) and the lower casing (12) between the upper and lower two layers of heat insulating material (8,
7), the lower heat insulating material (7) is harder than the upper heat insulating material (8), and the lower heat insulating material (7) is the processing tank body (2a) of the upper casing (2). ) And the outer surface of the bottom of the processing liquid reservoir (2f) are respectively supported, and the upper heat insulating material (8) is provided on the outer surface of the processing tank body (2a) and the processing liquid reservoir (2f). The processing bath according to any one of claims 1 to 3, wherein the outer surface of the treatment tank is wrapped around the outer surface of the treatment tank.
【請求項5】 上記上側ケーシング(2)の上記処理槽
本体(2b)及び上記処理液溜部(2f)の各外側を上
記下側ケーシング(12)の外壁部(12d)により包
囲するとともに、上記上側ケーシング(2)の縁部(2
i)が載置されてこれを支持する上記下側ケーシング
(12)の上記外壁部(12d)の縁部(12a)は、
上記処理槽本体(2a)の堰部(2b)よりも上方の位
置に配置されるようにした請求項4に記載の処理槽。
5. The outer wall portion (12d) of the lower casing (12) is surrounded by the outer sides of the treatment tank body (2b) and the treatment liquid reservoir (2f) of the upper casing (2). The edge (2) of the upper casing (2)
The edge portion (12a) of the outer wall portion (12d) of the lower casing (12) on which i) is placed and supports the
The processing tank according to claim 4, wherein the processing tank main body (2a) is arranged at a position higher than a weir (2b).
【請求項6】 上記上側ケーシング(2)の上記処理槽
本体(2a)の底部には、処理液供給口(20)を構成
する筒部(2d)が上記底部より下向きに突出し、一
方、この筒部(2d)が挿入される上記下側ケーシング
(12)の底部の筒部(12c)は上向きに突出して形
成するようにした請求項1〜5のいずれかに記載の処理
槽。
6. A cylindrical portion (2d) constituting a processing liquid supply port (20) projects downward from the bottom of the processing tank body (2a) of the upper casing (2), while The processing tank according to any one of claims 1 to 5, wherein a cylindrical portion (12c) at the bottom of the lower casing (12) into which the cylindrical portion (2d) is inserted is formed so as to project upward.
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