JP2523271B2 - Magnetic recording media - Google Patents

Magnetic recording media

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JP2523271B2
JP2523271B2 JP60109656A JP10965685A JP2523271B2 JP 2523271 B2 JP2523271 B2 JP 2523271B2 JP 60109656 A JP60109656 A JP 60109656A JP 10965685 A JP10965685 A JP 10965685A JP 2523271 B2 JP2523271 B2 JP 2523271B2
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magnetic
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magnetic recording
acid
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Description

【発明の詳細な説明】 I 発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体、特に金属薄膜型の磁気記録
媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium, particularly to a metal thin film type magnetic recording medium.

先行技術とその問題点 ビデオ用、オーディオ用等の磁気記録媒体として、テ
ープ化して巻回したときコンパクト性等から、金属薄膜
型の磁性層を有するものの開発が活発に行われている。
2. Description of the Related Art Prior Art and Problems There are active developments of magnetic recording media for video, audio, etc., which have a metal thin film type magnetic layer because of their compactness when formed into a tape and wound.

このような金属薄膜型の媒体の磁性層としては、基体
法線に対し所定の傾斜角にて蒸着を行う、いわゆる斜め
蒸着法によって形成したCo系、Co−Ni系等からなる蒸着
膜や、Co−Cr系のスパッタないし蒸着膜からなる垂直磁
化膜等種々のものがある。
As the magnetic layer of such a metal thin film type medium, vapor deposition at a predetermined inclination angle with respect to the normal to the substrate, a Co-based film formed by a so-called oblique vapor deposition method, a Co-Ni-based vapor deposition film, or the like, There are various types such as a perpendicular magnetization film made of a Co-Cr-based sputter or vapor deposition film.

このような媒体では、小型化、長時間記録等のため、
例えば厚さ10μm以下の薄手のフィルムを用いると、走
行性、カールや片伸びの発生、機械的強度等の点で問題
が生じる。
In such media, due to downsizing, long-time recording, etc.,
For example, when a thin film having a thickness of 10 μm or less is used, problems occur in terms of running property, occurrence of curl and half stretch, mechanical strength and the like.

そこで、これらの不都合を解消するため、フィルム裏
面に金属薄膜補強層を設ける旨の提案がなされている
(特開昭56−16939号、同58−97131号、同57−78627
号、同57−37737号等)。
Therefore, in order to eliminate these disadvantages, it has been proposed to provide a metal thin film reinforcing layer on the back surface of the film (JP-A-56-16939, JP-A-58-97131, and JP-A-57-78627).
No. 57-37737 etc.).

これらの提案によれば、裏地層としての金属薄膜によ
り、媒体のヤング率が向上し、走行性、カール、機械的
強度等は改善される。
According to these proposals, the thin metal film as the backing layer improves the Young's modulus of the medium and improves the running property, curl, mechanical strength and the like.

しかし、上記諸公報記載の技術では、最適ヤング率設
計がなされるには至っておらず、ヘッドタッチ不良から
発生する出力低下、エンベロープ不良等が発生し、また
エッヂ折れや片伸び等のテープダメージが発生し、さら
には保存によっていわゆるスキューが発生する。
However, in the techniques described in the above-mentioned publications, the optimum Young's modulus design has not been made, output reduction caused by head touch failure, envelope failure, etc. occur, and tape damage such as edge folds and half stretch occurs. This occurs, and further, so-called skew occurs due to storage.

あるいは、走行により、磁性層にクラックや磁性層ケ
ズレが生じたり、ヘッド摩耗量が増大したり、ドロップ
アウトが増加する。
Alternatively, traveling causes cracks in the magnetic layer, scratches in the magnetic layer, increased head wear, and increased dropout.

II 発明の目的 本発明の目的は、金属薄膜型の薄手フィルム支持体を
用いた磁気記録媒体において、所定の裏地層構造を形成
することにより媒体の機械的強度、特に曲げ剛性、ヤン
グ率を最適なものとし、ヘッドタッチを向上し、出力低
下やエンベロープ不良を解消し、エッヂ折れや片伸び等
のテープダメージを解消し、保存によるスキューの発生
を解消し、さらには、走行性を著しく向上させて、しか
も走行による磁性層のクラックやケズレを解消し、ヘッ
ド摩耗量を減少し、ドロップアウトを減少することにあ
る。
II Object of the Invention The object of the present invention is to optimize the mechanical strength of a magnetic recording medium using a metal thin film type thin film support, particularly bending rigidity and Young's modulus by forming a predetermined backing layer structure. In addition, it improves head touch, eliminates output drop and envelope defect, eliminates tape damage such as edge fold and half stretch, eliminates skew due to storage, and further improves runnability. In addition, cracks and scratches on the magnetic layer due to running are eliminated, head wear is reduced, and dropout is reduced.

III 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によって達成され
る。
III Disclosure of the Invention Such an object is achieved by the present invention described below.

すなわち第1の発明は、厚さ10μm以下のプラスチッ
クフィルムの一方の面上に強磁性金属薄膜の磁性層を有
し、他方の面上に、平均粒径50〜5000Åの微粒子を配設
し、この上に裏地層を有し、さらに、媒体の曲げ剛性値
EIを下記式により算出したとき、EIが3.0×10-3〜1.2×
10-2g・cmであることを特徴とする磁気記録媒体であ
る。
That is, the first invention has a magnetic layer of a ferromagnetic metal thin film on one surface of a plastic film having a thickness of 10 μm or less, and fine particles having an average particle size of 50 to 5000 Å are arranged on the other surface, There is a lining layer on top of this, and the bending stiffness value of the medium is also
When EI is calculated by the following formula, EI is 3.0 × 10 -3 to 1.2 ×
The magnetic recording medium is characterized by having a concentration of 10 −2 g · cm.

(ここに、Wは、磁気シートを裁断して作製した半径ac
m、幅bcmの輪状試験片に対し、径方向変位d=0.2πa
を生じる荷重である。) また、第2の発明は、厚さ10μm以下のプラスチック
フィルムの一方の面上に強磁性金属薄膜の磁性層を有
し、他方の面上に、平均粒径50〜5000Åの微粒子を配設
し、この上に裏地層を有し、この裏地層上に裏面層を有
し、媒体の曲げ剛性値EIを下記式により算出したとき、
EIが3.0×10-3〜1.2×10-2g・cmであることを特徴とす
る磁気記録媒体である。
formula (W is the radius ac produced by cutting the magnetic sheet.
Radial displacement d = 0.2πa for a ring-shaped test piece of m and width bcm
Is the load that causes The second invention has a magnetic layer of a ferromagnetic metal thin film on one surface of a plastic film having a thickness of 10 μm or less, and fine particles having an average particle size of 50 to 5000 Å are arranged on the other surface. Then, it has a backing layer on it, and has a backing layer on this backing layer, and when the bending stiffness value EI of the medium is calculated by the following formula,
The magnetic recording medium is characterized by having an EI of 3.0 × 10 −3 to 1.2 × 10 −2 g · cm.

(ここに、Wは、磁気シートを裁断して作製した半径ac
m、幅bcmの輪状試験片に対し、径方向変位d=0.2πa
を生じる荷重である。) さらにまた、第3の発明は、厚さ10μm以下のプラス
チックフィルムの一方の面上に強磁性金属薄膜の磁性層
を有し、この磁性層上に表面層を有し、他方の面上に、
平均粒径50〜5000Åの微粒子を配設し、この上に裏地層
を有し、この裏地層上に裏面層を有し、媒体の曲げ剛性
値EIを下記式により算出したとき、EIが3.0×10-3〜1.2
×10-2g・cmであることを特徴とする磁気記録媒体であ
る。
formula (W is the radius ac produced by cutting the magnetic sheet.
Radial displacement d = 0.2πa for a ring-shaped test piece of m and width bcm
Is the load that causes ) Furthermore, the third invention has a magnetic layer of a ferromagnetic metal thin film on one surface of a plastic film having a thickness of 10 μm or less, a surface layer on the magnetic layer, and another surface on the other surface. ,
Fine particles having an average particle size of 50 to 5000 Å are arranged, a backing layer is provided on the backing layer, and a backing layer is provided on the backing layer. When the bending rigidity value EI of the medium is calculated by the following formula, EI is 3.0 × 10 -3 ~ 1.2
The magnetic recording medium is characterized by having a density of × 10 -2 g · cm.

(ここに、Wは、磁気シートを裁断して作製した半径ac
m、幅bcmの輪状試験片に対し、径方向変位d=0.2πa
を生じる荷重である。) なお、上記の諸公報には、上記本発明の曲げ剛性値に
合致するものはない。わずかに、これに近いものとして
特開昭56−16939号の実施例1の試料3に、複合ヤング
率1340Kg/mm2、推定曲げ剛性値EI約2.9g・cmのものが記
載されている程度である。
formula (W is the radius ac produced by cutting the magnetic sheet.
Radial displacement d = 0.2πa for a ring-shaped test piece of m and width bcm
Is the load that causes Note that none of the above publications matches the flexural rigidity value of the present invention. Slightly close to this, Sample 3 of Example 1 of JP-A-56-16939 describes a composite Young's modulus of 1340 Kg / mm 2 , and an estimated bending rigidity value EI of about 2.9 g · cm. Is.

本発明における上記の曲げ剛性値範囲は臨界的なもの
であって、後記から明らかになるように、この範囲をは
ずれると本発明の効果は実現しない。
The above-mentioned bending rigidity value range in the present invention is critical, and as will become apparent from the later description, the effect of the present invention cannot be realized if it is out of this range.

IV 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。IV Specific Configuration of the Invention Hereinafter, the specific configuration of the present invention will be described in detail.

本発明の磁気記録媒体は、非磁性のプラスチックフィ
ルム上に磁性層を有する。
The magnetic recording medium of the present invention has a magnetic layer on a non-magnetic plastic film.

磁性層は、連続薄膜型の強磁性金属薄膜の種々のもの
であってよい。
The magnetic layer may be a variety of continuous thin film type ferromagnetic metal thin films.

強磁性金属薄膜には、鉄、コバルト、ニッケルその他
の強磁性金属、あるいはFe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−
Rh、Fe−Cu、Fe−Au、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co−L
a、Co−Pr、Co−P、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−C
u、Co−Ni−P、Fe−Co−Nd、Mn−Bi、Mn−Sb、Mn−A
l、Fe−Co−Cr、Co−Ni−Cr等の磁性合金を挙げること
ができる。
Ferromagnetic metal thin films include iron, cobalt, nickel and other ferromagnetic metals, or Fe-Co, Fe-Ni, Co-Ni, Fe-
Rh, Fe-Cu, Fe-Au, Co-Cu, Co-Au, Co-Y, Co-L
a, Co-Pr, Co-P, Co-Gd, Co-Sm, Co-Pt, Ni-C
u, Co-Ni-P, Fe-Co-Nd, Mn-Bi, Mn-Sb, Mn-A
Magnetic alloys such as l, Fe-Co-Cr, and Co-Ni-Cr can be cited.

あるいは、垂直磁化膜として知られているCoCr、Co
V、CoNiP、CoP、MnBi、MnAlGe、NdFe、NdCo、CoO、MnS
b、MnCuBi、GdFe、GdCo、PtCo、TbCo、TbFeCo、GdFeC
o、TbFeO3、GdIG、GdTbFe、GdTbFeCoBi、CoFe2O4等のい
ずれであってもよい。
Alternatively, CoCr, Co, which is known as a perpendicular magnetization film,
V, CoNiP, CoP, MnBi, MnAlGe, NdFe, NdCo, CoO, MnS
b, MnCuBi, GdFe, GdCo, PtCo, TbCo, TbFeCo, GdFeC
Any of o, TbFeO 3 , GdIG, GdTbFe, GdTbFeCoBi, CoFe 2 O 4 and the like may be used.

そして、これらの磁性層は、プラスチックフィルム上
に真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティン
グ法、メッキ法等の方法で直接形成してもよく、あるい
は下地層を介して設層してもよい。
Then, these magnetic layers may be directly formed on the plastic film by a method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method or a plating method, or may be provided via an underlayer.

この場合、本発明においては、Coを必須成分とし、C
o、Co+Ni、Co+OまたはCo+Ni+Oからなることが好
ましい。
In this case, in the present invention, Co is an essential component, and C
It is preferably composed of o, Co + Ni, Co + O or Co + Ni + O.

すなわち、Co単独からなってもよく、CoとNiとからな
ってもよい。
That is, it may be composed of Co alone, or may be composed of Co and Ni.

Co+Niである場合、Co/Niの重量比は、1.5以上である
ことが好ましい。
When Co + Ni, the weight ratio of Co / Ni is preferably 1.5 or more.

さらに、CoまたはCo+Niに加え、Oが含まれていても
よい。Oが含まれたときには電磁変換特性や走行耐久性
の点で、より好ましい結果をうる。
Further, O may be contained in addition to Co or Co + Ni. When O is contained, more preferable results can be obtained in terms of electromagnetic conversion characteristics and running durability.

このような場合、O/Co(Niが含まれない場合)あるい
はO/(Co+Ni)の原子比は、0.6以下、特に0.15〜0.5で
あることが好ましい。
In such a case, the atomic ratio of O / Co (when Ni is not included) or O / (Co + Ni) is 0.6 or less, and preferably 0.15 to 0.5.

一方、磁性層中には、Co、Co+Ni、Co+OあるいはCo
+Ni+Oに加え、Crが含有されると、より一層好ましい
結果を得る。
On the other hand, in the magnetic layer, Co, Co + Ni, Co + O or Co
Inclusion of Cr in addition to + Ni + O gives even more favorable results.

これは、電磁変換特性が向上し、出力およびS/N比が
向上し、さらに膜強度が向上するからである。
This is because the electromagnetic conversion characteristics are improved, the output and the S / N ratio are improved, and the film strength is further improved.

このような場合、Cr/Co(Niが含まれない場合)ある
いはCr/(Co+Ni)の重量比は、0.001〜0.1であること
が好ましい。
In such a case, the weight ratio of Cr / Co (when Ni is not included) or Cr / (Co + Ni) is preferably 0.001 to 0.1.

この場合Cr/CoあるいはCr/(Co+Ni)の重量比は0.00
5〜0.05であると、より一層好ましい結果を得る。
In this case, the weight ratio of Cr / Co or Cr / (Co + Ni) is 0.00
Even more preferable results are obtained when it is 5 to 0.05.

なお、このような磁性層中には、さらに他の微量成
分、特に遷移金属元素、例えばFe、Mn、V、Zr、Nb、T
a、Mo、W、Ti、Cu、Zn等が含まれていてもよい。
In such a magnetic layer, other trace components, especially transition metal elements such as Fe, Mn, V, Zr, Nb and T
It may contain a, Mo, W, Ti, Cu, Zn or the like.

このようなCo−Ni系の磁性層は、通常、基体主面の法
線に対して傾斜した柱状結晶構造の粒子の集合体である
ことが好ましい。これにより、電磁変換特性が向上す
る。
Generally, such a Co—Ni-based magnetic layer is preferably an aggregate of particles having a columnar crystal structure inclined with respect to the normal to the main surface of the substrate. Thereby, the electromagnetic conversion characteristics are improved.

このような場合、柱状結晶構造の粒子は、基体の主面
の法線に対して20〜60°の範囲で傾斜していることが好
ましい。
In such a case, the particles having a columnar crystal structure are preferably tilted within a range of 20 to 60 ° with respect to the normal line of the main surface of the substrate.

また、各柱状結晶粒子は、通常、磁性層の厚さ方向全
域に亘る長さをもち、その短径は一般に、50〜500Å程
度とされる。
Each columnar crystal particle usually has a length over the entire area in the thickness direction of the magnetic layer, and its minor axis is generally about 50 to 500 °.

そして、Coと必要に応じ添加されるNi、Cr等は、この
柱状結晶粒子自体を構成するものであり、Oが添加され
たとき、Oは通常、各柱状結晶粒子の表面に、主として
酸化物の形で存在している。
Then, Co and Ni, Cr, etc., which are added as necessary, constitute the columnar crystal particles themselves, and when O is added, O is usually mainly present on the surface of each columnar crystal particle mainly as an oxide. Exists in the form of.

このようなCo−Ni系磁性層は、通常、斜め蒸着法によ
って形成される。
Such a Co—Ni based magnetic layer is usually formed by the oblique vapor deposition method.

用いる斜め蒸着法としては、公知の斜め蒸着法を用い
ればよく、基体法線に対する入射角の最小値は、30°以
上とすることが好ましい。
As the oblique deposition method to be used, a known oblique deposition method may be used, and the minimum value of the incident angle with respect to the normal to the substrate is preferably 30 ° or more.

なお、蒸着条件および後処理法等は、公知の条件およ
び方法に従えばよい。この場合、有効な後処理法として
は、磁性層中へのO導入のための公知の各処理法等があ
る。
The vapor deposition conditions and the post-treatment method may be according to known conditions and methods. In this case, effective post-treatment methods include known treatment methods for introducing O into the magnetic layer.

このような磁性層は通常、0.05〜0.5μm、より好ま
しくは0.1〜0.25μmの厚さが電磁変換特性上、好まし
い。
The thickness of such a magnetic layer is usually 0.05 to 0.5 μm, more preferably 0.1 to 0.25 μm in terms of electromagnetic conversion characteristics.

この場合、磁性層は、プラスチックフィルム上に直接
設けられていてもよく、あるいはプラスチックフィルム
上に下地層を介して設けられていてもよい。
In this case, the magnetic layer may be directly provided on the plastic film, or may be provided on the plastic film via an underlayer.

また、磁性層は通常、単一の層として形成されるが、
場合によっては中間層を介して、複数の層を積層して形
成されていてもよい。
Also, the magnetic layer is usually formed as a single layer,
Depending on the case, it may be formed by laminating a plurality of layers via an intermediate layer.

このような磁性層は、例えばポリエステルフィルム、
ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム等の各種プラ
スチックフィルム上に、上述したような方法で形成する
ことができる。
Such a magnetic layer is, for example, a polyester film,
It can be formed on various plastic films such as polyamide film and polyimide film by the method described above.

本発明で用いるプラスチックフィルムの厚さは10μm
以下、好ましくは5〜10μm、より好ましくは6〜10μ
m、最も好ましくは6〜8μmである。
The thickness of the plastic film used in the present invention is 10 μm
The following, preferably 5 to 10 μm, more preferably 6 to 10 μm
m, most preferably 6 to 8 μm.

この厚さが10μmをこえると、媒体の小型化、長時間
記録等の目的は達成されない。またこの厚さがあまり薄
くなりすぎると後述する媒体の曲げ剛性値EIが小さくな
って本発明の設定範囲外となり、走行性、出力低下等の
問題は解決されず、たとえ後述する裏地層を必要以上に
厚くして、EI値を本発明の設定範囲内にしたとしても、
この場合には磁性面がケズレたり、ヘッド摩耗がはげし
くなったり、出力が安定しない等の問題が生じる。
If the thickness exceeds 10 μm, the objectives of downsizing the medium and recording for a long time cannot be achieved. If this thickness is too thin, the bending rigidity value EI of the medium described below will be too small to fall outside the setting range of the present invention, and problems such as runnability and output reduction will not be solved, and even if a backing layer described below is required. Even if it is made thicker than above and the EI value is within the setting range of the present invention,
In this case, the magnetic surface may be damaged, the head may be worn out more easily, and the output may not be stable.

このようなプラスチックフィルム上に磁性層が設けら
れていない他方の面上には微粒子が配設される。
Fine particles are arranged on the other surface of the plastic film on which the magnetic layer is not provided.

配設される微粒子は、50〜5000Å、より好ましくは80
〜2000Åの平均粒径を有するものである。
The fine particles to be arranged are 50 to 5000 Å, more preferably 80
It has an average particle size of ~ 2000Å.

平均粒径が5000Åをこえると磁性面への裏形転写によ
り媒体の電磁変換特性が低下するという不都合が生じ、
また、50Å未満となると走行摩擦係数が大きくなり、媒
体の耐久走行性が悪化し、実用に耐えないという不都合
が生じる。
If the average particle size exceeds 5000Å, the inconvenience that the electromagnetic conversion characteristics of the medium deteriorates due to the backside transfer to the magnetic surface,
On the other hand, if it is less than 50Å, the running friction coefficient becomes large, the durability running property of the medium deteriorates, and there is a problem that it cannot be put to practical use.

このような微粒子の配設は、基板に一定の密度で均一
に、あるいは、一定の周期をもたせて疎密に配設しても
よく特に限定されるものではない。本発明においては、
微粒子の平均配設密度は、105〜109個/mm2、より好ま
しくは2×106〜109個/mm2であることが好ましい。
The fine particles may be arranged uniformly on the substrate at a constant density, or may be arranged sparsely and densely with a constant period, and is not particularly limited. In the present invention,
The average arrangement density of the fine particles is preferably 10 5 to 10 9 particles / mm 2 , and more preferably 2 × 10 6 to 10 9 particles / mm 2 .

密度が105個/mm2未満となると、走行摩擦係数が大き
くなり、媒体の耐久走行性が悪化し、実用に耐えないと
いう不都合が生じる。
When the density is less than 10 5 pieces / mm 2 , the running friction coefficient becomes large, the durability running property of the medium deteriorates, and there is a disadvantage that it cannot be put to practical use.

また、この密度が109個/mm2をこえると、ドロップア
ウトが増加するという不都合が生じる。
Further, if the density exceeds 10 9 pieces / mm 2 , there is an inconvenience that the dropout increases.

なお、平均配設密度は、通常0.5μm2〜1mm2程度の視
野下、2点以上の平均値とする。
The average arrangement density is usually an average value of two or more points in the visual field of about 0.5 μm 2 to 1 mm 2 .

また、このような微粒子配設にともなう媒体裏面に形
成される突起の高さは20〜5000Å、特に50〜2000Å程度
とされる。
Further, the height of the protrusions formed on the back surface of the medium due to the disposition of such fine particles is set to about 20 to 5000Å, particularly about 50 to 2000Å.

用いる微粒子としては、通常、コロイド粒子として知
られているものであって、例えば、SiO2(コロイダルシ
リカ)、Al2O3(アルミナゾル)、Cr2O3、Y2O3、CeO2
MgO、TiO2、SnO2、Sb2O5、ZnO、Fe2O3、Fe3O4、ジルコ
ニア、ZrSiO4、CdO、NiO、CaWO4、CaCO3、BaCO3、CoC
O3、BaTiO3、Ti(チタンブラック)、Au、Ag、Cu、Ni、
Fe、各種ヒドロゾルや、樹脂粒子等が使用可能である。
この場合、特に無機物質を用いるのが好ましい。
The fine particles used are generally known as colloidal particles, and include, for example, SiO 2 (colloidal silica), Al 2 O 3 (alumina sol), Cr 2 O 3 , Y 2 O 3 , CeO 2 ,
MgO, TiO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 5 , ZnO, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , zirconia, ZrSiO 4 , CdO, NiO, CaWO 4 , CaCO 3 , BaCO 3 , CoC
O 3 , BaTiO 3 , Ti (titanium black), Au, Ag, Cu, Ni,
Fe, various hydrosols, resin particles and the like can be used.
In this case, it is particularly preferable to use an inorganic substance.

これらの微粒子顔料は、例えばSiO2の場合、 1)無水珪酸の超微粒子コロイド溶液(スノーテック
ス、水系、メタノールシリカゾル、日産化学) 2)精製四塩化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒
子状無水シリカ(標準品100Å)(アエロジル、日本ア
エロジル株式会社) などが挙げられる。
These fine particle pigments are, for example, in the case of SiO 2 , 1) ultrafine particle colloidal solution of silicic acid anhydride (Snowtex, water system, methanol silica sol, Nissan Chemical) 2) ultrafine particle anhydrous silica produced by combustion of purified silicon tetrachloride (Standard product 100Å) (Aerosil, Nippon Aerosil Co., Ltd.) and the like.

また、前記1)の超微粒子コロイド溶液、および2)
と同様の気相法で製造される超微粒子状の酸化アルミニ
ウム、ならびに酸化チタンおよび前述微粒子顔料が使用
され得る。
Further, the ultrafine particle colloidal solution of 1), and 2)
The ultrafine particulate aluminum oxide produced by the vapor phase method similar to the above, as well as titanium oxide and the above-mentioned particulate pigment may be used.

このような微粒子は、各種溶媒を用いて塗布液とし、
これをプラスチックフィルムの基板上に塗布、乾燥して
もよく、あるいは塗布液中に各種水性エマルジョン等の
樹脂分を添加したものを塗布、乾燥してもよい。
Such fine particles are used as a coating liquid using various solvents,
This may be coated and dried on a plastic film substrate, or a coating solution to which a resin component such as various aqueous emulsions is added may be coated and dried.

また、これら微粒子にもとづく微細突起に重畳してゆ
るやかな突起を設けることもできる。
Further, it is possible to provide a gentle protrusion by superimposing it on a fine protrusion based on these fine particles.

微粒子を配設するための下塗層にはバインダー分が含
有されることが好ましい。
The undercoat layer for disposing the fine particles preferably contains a binder component.

また、微粒子配設前に基板に下塗層を形成する場合も
ある。
In some cases, an undercoat layer may be formed on the substrate before disposing the fine particles.

このような場合、特に、放射線に感応する二重結合を
1分子中に少なくとも2個有する化合物が下塗り層に含
有され、放射線照射により下塗り層に架橋構造が形成さ
れている場合が好ましい。
In such a case, it is particularly preferable that the undercoat layer contains a compound having at least two double bonds sensitive to radiation in one molecule and a crosslinked structure is formed in the undercoat layer by irradiation with radiation.

放射線感応性の二重結合を2個以上有しているから、
放射線照射によって、その化合物自体から若しくは併用
した熱可塑性化合物等から生じる電離生成物のうち、主
に遊離ラジカルが開始種となって上記化合物の二重結合
に作用し、いわゆるラジカル重合反応を引起こして複雑
な網目状の三次元架橋構造が形成される。この架橋構造
によって下塗り層の耐溶剤性が向上し、粘着性が低下す
る上に、架橋構造中に併用した熱可塑性樹脂等が包含さ
れた状態で硬化するために層間粘着等の問題が生じな
い。しかもこの場合、下塗り後に直ちに放射線照射で架
橋を導入できるから、巻取り状の層間粘着や熱による変
形を一切防止できる。
Since it has two or more radiation-sensitive double bonds,
Of the ionization products generated from the compound itself or the thermoplastic compound used in combination by irradiation, mainly free radicals act as a starting species to act on the double bond of the above compound, causing a so-called radical polymerization reaction. And a complicated mesh-like three-dimensional crosslinked structure is formed. This cross-linking structure improves the solvent resistance of the undercoat layer and reduces the tackiness, and since it is cured while the thermoplastic resin used together in the cross-linking structure is included, problems such as inter-layer adhesion do not occur. . Moreover, in this case, since crosslinking can be introduced by irradiation with radiation immediately after undercoating, it is possible to prevent any winding-shaped interlayer adhesion and deformation due to heat.

このような化合物としては、二重結合数が2以上、望
ましくは3以上の反応性アクリルオリゴマー又はオリゴ
アクリレートが望ましい。
As such a compound, a reactive acrylic oligomer or oligoacrylate having two or more double bonds, preferably three or more, is desirable.

このアクリル系化合物の具体例として挙げられる例え
ばアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルとして
は、多価アルコールのポリアクリレート類及びポリメタ
クリレート類(ここで「ポリ」とはジアクリレート以上
を指す。)がある。
Examples of acrylic acid esters and methacrylic acid esters that can be mentioned as specific examples of the acrylic compound include polyacrylates and polymethacrylates of polyhydric alcohols (here, “poly” means diacrylate or higher).

多価アルコールとしては、ポリエチレングリコール、
ポリプロピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイド、
ポリシクロヘキセンオキサイド、ポリエチレンオキサイ
ド、プロピレンオキサイド、ポリスチレンオキサイド、
ポリオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、シクロヘキ
サンジオール、キシリレンジオール、ジ−(β−ヒドロ
キシエトキシ)ベンゼン、グリセリン、ジグリセリン、
ネオペンサルギリコール、トリメチロールプロパン、ト
リエチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペン
タエリスリトール、ソルビタン、ソルビトール、ブタン
ジオール、ブタントリオール、2−プテン−1,4−ジオ
ール、2−n−ブチル−2−エチル−プロパンジオー
ル、2−ブテン−1,4−ジオール、3−クロル−1,2−プ
ロパノジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、
3−シクロヘキセン−1,1−ジメタノール、デカリンジ
オール、2,3−ジブニム−2−ブテン−1,4−ジオール、
2,2−ジエチル−1,3、プロパンジオール、1,5−ジヒド
ロキシ−1,2,3,4−ナトラヒドロナフタレン、2,5−ジメ
チル−2,5−ヘキサンジオール、2,2−ジメチル−1,3−
プロパンジオール、2,2−ジフエニル−1,3−プロパンジ
オール、ドデカンジオール、メゾエリスリトール、2−
エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−エチル−2−
(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、2−
エチル−2−メチル−1,3−プロパンジオール、ヘプタ
ンジオール、ヘキサンジオール、3−ヘキセン−2,5−
ジオール、ヒドロキシベンジルアルコール、ヒドロキシ
エチルレゾルシノール、2−メチル−1,4−ブタンジオ
ール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、ノナンジ
オール、オクタンジオール、ペンタンジオール、1−フ
ェニル−1,2−エンタンジオール、プロパンジオール、
2,2,4,4−テトラメチル−1,3−シクロブタンジオール、
2,3,5,6−テトラメチル−p−キシレン−α,α′−ジ
オール、1,1,4,4−テトラフェニル−1,4−ブタンジオー
ル、1,1,4,4−テトラフェニル−2−ブチン−1、4−
ジオール、1,2,6−トリヒドロキシヘキサン、1,1′−ビ
−2−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、1,1′−
メチレンジ−2−ナフトール、1,2,4−ベンゼントリオ
ール、ビフニノール、2,2′−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン、ビス(ヒドロキシフェニル)メタ
ン、カテコール、4−クロルレゾルシノール、3,4−ジ
ヒドロキシハイドロシンナミックアシッド、ハイドロキ
ノン、ヒドロキシベンジルアルコール、メチルハイドロ
キノン、メチル−2,4,6−トリヒドロキシベンゾエー
ト、フロログルシノール、ヒロガロール、レゾルシノー
ル、グルコース、α−(1−アミノエチル)−p−ヒド
ロキシベンジルアルコール、2−アミノ−2−エチル−
1,3−プロパンジオール、2−アミノ−2−メチル−1,3
−プロパンジオール、3−アミノ−1,2−プロパンジオ
ール、N−(3−アミノプロピル)−ジエタノールアミ
ン、N,N′−ビス−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジ
ン、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)、2,2′,2″−ニト
リロトリエタノール、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)
プロピオニックアシッド、1,3−ビス(ヒドロキシメチ
ル)ウレア、1,2−ビス(4−ピリジル)−1,2−エタン
ジオール、N−n−ブチルジエタノールアミン、ジエタ
ノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、3−メ
ルカプト−1,2−プロパンジオール、3−ピペリジノ−
1,2−プロパンジオール、2−(2−ピリジル)−1、
3−プロパンジオール、トリエタノールアミン、α−
(1−アミノエチル)−p−ヒドロキシベンジルアルコ
ール、3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル、スルホン
などがある。
As the polyhydric alcohol, polyethylene glycol,
Polypropylene oxide, polybutylene oxide,
Polycyclohexene oxide, polyethylene oxide, propylene oxide, polystyrene oxide,
Polyoxetane, polytetrahydrofuran, cyclohexanediol, xylylenediol, di- (β-hydroxyethoxy) benzene, glycerin, diglycerin,
Neopensargyricol, trimethylolpropane, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, sorbitan, sorbitol, butanediol, butanetriol, 2-ptene-1,4-diol, 2-n-butyl-2-ethyl -Propanediol, 2-butene-1,4-diol, 3-chloro-1,2-propanodiol, 1,4-cyclohexanedimethanol,
3-cyclohexene-1,1-dimethanol, decalin diol, 2,3-dibunim-2-butene-1,4-diol,
2,2-diethyl-1,3, propanediol, 1,5-dihydroxy-1,2,3,4-naphthahydronaphthalene, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 2,2-dimethyl- 1,3-
Propanediol, 2,2-diphenyl-1,3-propanediol, dodecanediol, mezoerythritol, 2-
Ethyl-1,3-hexanediol, 2-ethyl-2-
(Hydroxymethyl) -1,3-propanediol, 2-
Ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, heptanediol, hexanediol, 3-hexene-2,5-
Diol, hydroxybenzyl alcohol, hydroxyethyl resorcinol, 2-methyl-1,4-butanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, nonanediol, octanediol, pentanediol, 1-phenyl-1,2-entane Diol, propanediol,
2,2,4,4-tetramethyl-1,3-cyclobutanediol,
2,3,5,6-tetramethyl-p-xylene-α, α'-diol, 1,1,4,4-tetraphenyl-1,4-butanediol, 1,1,4,4-tetraphenyl -2-butyne-1,4-
Diol, 1,2,6-trihydroxyhexane, 1,1'-bi-2-naphthol, dihydroxynaphthalene, 1,1'-
Methylenedi-2-naphthol, 1,2,4-benzenetriol, bifnynol, 2,2'-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, bis (hydroxyphenyl) methane , Catechol, 4-chlororesorcinol, 3,4-dihydroxyhydrocinnamic acid, hydroquinone, hydroxybenzyl alcohol, methylhydroquinone, methyl-2,4,6-trihydroxybenzoate, phloroglucinol, hirogallol, resorcinol, glucose, α -(1-Aminoethyl) -p-hydroxybenzyl alcohol, 2-amino-2-ethyl-
1,3-propanediol, 2-amino-2-methyl-1,3
-Propanediol, 3-amino-1,2-propanediol, N- (3-aminopropyl) -diethanolamine, N, N'-bis- (2-hydroxyethyl) piperazine, 2,2-bis (hydroxymethyl) , 2,2 ', 2 "-Nitrilotriethanol, 2,2-bis (hydroxymethyl)
Propionic acid, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,2-bis (4-pyridyl) -1,2-ethanediol, Nn-butyldiethanolamine, diethanolamine, N-ethyldiethanolamine, 3- Mercapto-1,2-propanediol, 3-piperidino-
1,2-propanediol, 2- (2-pyridyl) -1,
3-propanediol, triethanolamine, α-
(1-aminoethyl) -p-hydroxybenzyl alcohol, 3-amino-4-hydroxyphenyl, sulfone and the like.

これらのアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エス
テル類のうち好ましいものは、その入手の容易さから、
エチレンジメタクリレート、エチレングリコールジアク
リレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、ポ
リエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、グリセリントリアクリレート、ジグリセリンジメタ
クリレート、1,3−プロパンジオールアクリレート、1,
2,4−プタントリオールトリメタクリレート、1,4−シク
ロヘキサンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジ
オールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、エチレンオキサイド付加したトリメチロール
プロパンのトリアクリル酸エステル等である。
Among these acrylic acid esters and methacrylic acid esters, preferred ones are, because of their easy availability,
Ethylene dimethacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, glycerin triacrylate, diglycerin dimethacrylate, 1,3-propanediol acrylate , 1,
2,4-Putanetriol trimethacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 1,5-pentanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, ethylene oxide-added trimethylolpropane triacrylate, and the like.

またアクリル系化合物として使用可能なアクリルアミ
ド類及びメタクリルアミド類としては、メチレンビスア
クリルアミド、メチレンビスメタクリルアミドのほか、
エチレンジアミン、ジアミノプロパン、ジアミノブタ
ン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレン、ビス
(2−アミノプロピル)アミン、ジエチレントリアミン
ジアミン、ヘブタメチレンジアミン、オクタメチレンジ
アミン、異種原子により中断されたポリアミン、環を有
するポリアミン〔例えばフェニレンジアミン、キシリレ
ンジアミン、β−(4−アミノフェニル)エチルアミ
ン、ジアミノベンゾイックアシッド、ジアミノトルエ
ン、ジアミノアントラキノン、ジアミノフルオレンな
ど〕のポリアクリルアミド及びポリメタクリルアミドが
ある。
As acrylamides and methacrylamides that can be used as acrylic compounds, methylenebisacrylamide and methylenebismethacrylamide,
Ethylenediamine, diaminopropane, diaminobutane, pentamethylenediamine, hexamethylene, bis (2-aminopropyl) amine, diethylenetriaminediamine, hebutamethylenediamine, octamethylenediamine, polyamines interrupted by heteroatoms, polyamines having a ring [eg Phenylenediamine, xylylenediamine, β- (4-aminophenyl) ethylamine, diaminobenzoic acid, diaminotoluene, diaminoanthraquinone, diaminofluorene, etc.] and polymethacrylamide.

また、N−β−ヒドロキシエチル−β−(メタクリル
アミド)エチルアクリレート、N,N−ビス(β−メタク
リロキシエチル)アクリルアミド、アリルメタクリレー
トなどの如く、異なった付加重合性不飽和結合を2つ以
上有する化合物も下塗り層用のアクリル系化合物として
好適である。
Also, two or more different addition-polymerizable unsaturated bonds such as N-β-hydroxyethyl-β- (methacrylamido) ethyl acrylate, N, N-bis (β-methacryloxyethyl) acrylamide, allyl methacrylate, etc. The compound having is also suitable as the acrylic compound for the undercoat layer.

更に、アクリル系化合物として使用可能なものとし
て、トリメチロールプロパンモノアクリレートとヘキサ
ンジオールとアジピン酸との反応によって得られる各種
重合度のポリエステル強重合体がある。この場合、トリ
メチロールプロパンモノアクリレートに換えて、ペンタ
エリスリトール等の脂肪族ポリオールのジアクリレート
や、脂環式ジグリシジルエーテルのジアクリレート等を
使用してよい。またヘキサンジオールに換えて、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパン
ジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、
ジプロピレングリコール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペ
ンタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、
ビスフェノールAのエチレンオキシド付加物及びプロピ
レンオキシド付加物、水素化ビスフェノールAのエチレ
ンオキシド付加物及びプロピレンオキシド付加物、ポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコール等を使用してよい。トリメチ
ロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、
ペンタエリスリトール等のトリ及びテトラオールを少量
併用してよい。更にアジピン酸に換えて、テレフタル
酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、1,5−ナフタル酸
等の芳香族ジカルボン酸;p−オキシ安息香酸、p−(ヒ
ドロキシエトキシ)安息香酸等の芳香族オキシカルボン
酸;コハク酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジ
カルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸等を使用してよい。
この場合、芳香族カルボン酸と脂肪族カルボン酸とを併
用するときには、それラのモル比は50/50〜100/0であ
り、芳香族カルボン酸の少なくとも30モル%がテレフタ
ル酸であることが望ましい。トリメリット酸、トリメシ
ン酸、ピロメリット酸等のトリ及びテトラカルボン酸を
少量併用してよい。なおアジピン酸等の酸成分はトリレ
ンジイソシアネート等の芳香族又は脂肪族のジイソシア
ネートと置換えてポリウレタンとしてもよい。また上記
アクリレートとポリオールとの割合は、モル比で、アク
リレートがモノアクリレートの場合は80/20〜10/90、ア
クリレートがジアクリレートの場合は40/60〜5/95であ
るのが望ましい。
Further, as an acrylic compound that can be used, there is a polyester strong polymer having various degrees of polymerization obtained by a reaction of trimethylolpropane monoacrylate, hexanediol and adipic acid. In this case, a diacrylate of an aliphatic polyol such as pentaerythritol or a diacrylate of an alicyclic diglycidyl ether may be used instead of trimethylolpropane monoacrylate. Also, instead of hexanediol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, diethylene glycol,
Dipropylene glycol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol,
Ethylene oxide adducts and propylene oxide adducts of bisphenol A, ethylene oxide adducts and propylene oxide adducts of hydrogenated bisphenol A, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol and the like may be used. Trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin,
A small amount of tri- and tetraols such as pentaerythritol may be used together. Further, in place of adipic acid, aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid and 1,5-naphthalic acid; aromatic oxycarboxylic acids such as p-oxybenzoic acid and p- (hydroxyethoxy) benzoic acid Aliphatic carboxylic acids such as succinic acid, azelaic acid, sebacic acid and dodecanedicarboxylic acid may be used.
In this case, when the aromatic carboxylic acid and the aliphatic carboxylic acid are used in combination, the molar ratio thereof is 50/50 to 100/0, and at least 30 mol% of the aromatic carboxylic acid may be terephthalic acid. desirable. A small amount of tri- and tetracarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid and pyromellitic acid may be used in combination. The acid component such as adipic acid may be replaced with an aromatic or aliphatic diisocyanate such as tolylene diisocyanate to obtain polyurethane. Further, the molar ratio of the acrylate to the polyol is preferably 80/20 to 10/90 when the acrylate is a monoacrylate and 40/60 to 5/95 when the acrylate is a diacrylate.

これらの放射線感応性化合物は、具体的には柔軟性及
び接着性向上のためにポリウレタン、ポリエステル、ゴ
ム系(例えばAB)等の熱可塑性樹脂と混合されて使用さ
れてよい。この熱可塑性樹脂はアクリル変性(二重結合
が導入)されていてもよいし、そうでなくてもよい。ま
た、上記放射線感応性化合物のうち、活性水素基(例え
ば、−OH、−COOH、−NH2)を有するものは、官能基の
ある熱可塑性樹脂例えば、末端に−OCN、−OH等を有す
るポリウレタン又は末端に−OHを有するポリエステル又
はアクリロニトリル−ブタジエン系ポリマーと反応さ
せ、この反応生成物を使用してよい。
These radiation-sensitive compounds may be used by being mixed with a thermoplastic resin such as polyurethane, polyester, rubber (for example, AB) for improving flexibility and adhesiveness. This thermoplastic resin may or may not be acrylic-modified (double bond is introduced). Further, among the radiation-sensitive compound, the active hydrogen group (e.g., -OH, -COOH, -NH 2) those having the thermoplastic resin with a functional group e.g., with -OCN, an -OH or the like at the terminal This reaction product may be used by reacting with polyurethane or a polyester having -OH at the terminal or an acrylonitrile-butadiene-based polymer.

下塗り層で使用する放射線感応性化合物は、上述のア
クリル系化合物、または上記反応生成物であってよい
が、いずれの場合もアクリル系二重結合1個当りの分子
量は200〜20,000であるのが望ましい。即ち、分子量が2
00未満であると、架橋反応の進行が速くなりすぎて硬く
て脆い塗膜となり、接着等の面で問題がある。また、分
子量が20,000を越えると、三次元網目構造を充分に成長
させ難くなる。
The radiation-sensitive compound used in the undercoat layer may be the above-mentioned acrylic compound or the above-mentioned reaction product. In either case, the molecular weight per acrylic double bond is 200 to 20,000. desirable. That is, the molecular weight is 2
If it is less than 00, the crosslinking reaction proceeds too fast to form a hard and brittle coating film, which is problematic in terms of adhesion and the like. If the molecular weight exceeds 20,000, it becomes difficult to grow the three-dimensional network structure sufficiently.

下塗り層に照射する上述の放射線としては電子線、中
性子線、γ線等の電離性放射線を使用し、その照射量は
1〜10Mradがよく、1〜7Mradがより望ましく、またそ
の照射エネルギー(加速電圧)は100kv以上とするのが
よい。この照射量は上述のラジカル反応を引起こすに十
分なものである。
As the above-mentioned radiation for irradiating the undercoat layer, electron beam, neutron ray, ionizing radiation such as γ ray is used, and its irradiation amount is preferably 1 to 10 Mrad, more preferably 1 to 7 Mrad, and its irradiation energy (acceleration It is recommended that the voltage) be 100 kv or higher. This dose is sufficient to cause the radical reaction described above.

この下塗り層に対する放射線の照射処理は、塗布・乾
燥後に巻取る以前に行なうのが望ましいが、巻取り後に
行なってもよい。
This radiation treatment of the undercoat layer is preferably performed after coating and drying and before winding, but it may be performed after winding.

さらに、具体的には、 下塗り層が、1分子中に(メタ)アクリロイル基を2
個以上有し、(メタ)アクリロイル基1個当りの分子が
200以上であるオリゴマーもしくはポリマーの1種もし
くは2種以上、さらに必要に応じて溶剤もしくは光重合
開始剤を含有する放射線硬化性塗料を用い、放射線照射
により形成されてなることが好ましい。
Further, specifically, the undercoat layer contains 2 (meth) acryloyl groups in one molecule.
More than one, and the number of molecules per (meth) acryloyl group is
It is preferably formed by irradiation with a radiation curable coating material containing one or more oligomers or polymers of 200 or more, and optionally a solvent or a photopolymerization initiator.

このため、ラジカル重合により、三次元網目構造を有
する塗膜を形成する。
Therefore, a coating film having a three-dimensional network structure is formed by radical polymerization.

また、分子量が200以上であるオリゴマーもしくはポ
リマーの一種もしくは二種以上有するので、架橋硬化反
応時に大きな体積収縮がなく、プラスチックフィルムか
らなる基板のカールがなく、寸法安定性がよく、接着性
がよい。
Further, since it has one or two or more kinds of oligomers or polymers having a molecular weight of 200 or more, there is no large volume shrinkage during the cross-linking curing reaction, there is no curling of the substrate made of a plastic film, good dimensional stability, and good adhesiveness. .

乾燥硬化時の蒸発飛散もない。 There is no evaporation and scattering during drying and curing.

化合物の例としては、 I イソシアネート基と反応性を有する基を有する(メ
タ)アクリルエステル単量体とポリイソシアネート化合
物との反応生成物2モル以上と、分子中に2個以上の水
酸基を有する化合物1モルとの反応生成物あるいはこれ
等3者の反応性を変えて得られた反応生成物、 例えばプロピレングリコールにフロピレンオキサイド
を付加した二官能性のポリエーテル(アテカホリエーテ
ルP−1000旭電化社製)1モルにトルエンジイソシアネ
ート2モルを反応させ、その後2モルの2−ヒドロキシ
エチルメタクリレートを反応させ得た分子末端にアクリ
ル系二重結合を2個有する樹脂、フレホリマー、オリゴ
マーもしくはテロマーを挙げることができる。
Examples of the compound include: I A compound having 2 or more moles of a reaction product of a (meth) acrylic ester monomer having a group having reactivity with an isocyanate group and a polyisocyanate compound, and a compound having two or more hydroxyl groups in a molecule. A reaction product with 1 mol or a reaction product obtained by changing the reactivity of these three members, for example, a bifunctional polyether obtained by adding propylene glycol to propylene glycol (Ateca polyether P-1000 Asahi Denka Co., Ltd.). 1 mol of toluene diisocyanate is reacted with 1 mol, and then 2 mol of 2-hydroxyethyl methacrylate is reacted, and a resin having two acrylic double bonds at the terminal of the molecule, a fleholimer, an oligomer or a telomer is mentioned. You can

ここで、使用される水酸基を1個以上含有する化合物
としては、アデカポリエーテルP−700、アデカポリエ
ーテルP−1000、アデカポリエーテルG−1500(以上旭
電化社製)、ポリメグ1000、ポリメグ650(以上クォー
カー・コーツ社製)等の多官能性ポリエーテル類;ニト
ロセルローズ、アセチルセルローズ、エチルセルローズ
の様な繊維素誘導体;ビニライトVAGH(米国ユニオンカ
ーバイド社製)の様な水酸基を有する一部ケン化された
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;ポリビニルアルコー
ル;ポリビニルホルマール;ポリビニルブチラール;ポ
リカブロラクトンPCP−0200、ポリカブロラクトンPCP−
0240、ポリカブロラクトンPCP−0300(以上チッソ社
製)等の多官能性ポリエステルポリオール類;フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジビン酸、コハク
酸、セバチン酸のような飽和多塩基酸とエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジオール、
1,3−ブタンジオール、1,2−プロピレングリコール、ジ
プロピレングリコール、1,6−ヘキサングリコール、ネ
オベンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールフ
ロバン、ベンタエリスリットのような多価アルコールと
のエステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂;
水酸基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエ
ステルを少なくとも一種以上重合成分として含むアクリ
ル系重合体を挙げることができる。
Here, as the compound containing one or more hydroxyl groups used, Adeka polyether P-700, Adeka polyether P-1000, Adeka polyether G-1500 (all manufactured by Asahi Denka Co., Ltd.), Polymeg 1000, and Polymeg 650. (These are Quarker Coates Co.) and other polyfunctional polyethers; fibrin derivatives such as nitrocellulose, acetylcellulose and ethylcellulose; some kens having hydroxyl groups such as vinylite VAGH (US Union Carbide) Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer; polyvinyl alcohol; polyvinyl formal; polyvinyl butyral; polycaprolactone PCP-0200, polycaprolactone PCP-
Polyfunctional polyester polyols such as 0240, polycaprolactone PCP-0300 (all manufactured by Chisso Corporation); saturated polybasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, adibic acid, succinic acid, sebacic acid, and ethylene glycol. , Diethylene glycol, 1,4-butanediol,
Ester bond with polyhydric alcohols such as 1,3-butanediol, 1,2-propylene glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexane glycol, neobenthyl glycol, glycerin, trimethylolfroban, and Ventaerythritol A saturated polyester resin obtained by
An acrylic polymer containing at least one or more of a hydroxyl group-containing acrylic ester and methacrylic ester can be mentioned.

また、ここで使用されるポリイソシアネート化合物と
しては、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエ
ンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシアネー
ト、m−フェニレンジイソシアネート、p−フェニレン
ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、
イソオロンジイソシアネートやデスモジュールL、デス
モジュールIL(西ドイツ バイエル社製)等がある。
As the polyisocyanate compound used here, 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate,
There are iso-olon diisocyanate, Desmodur L, Desmodur IL (made by West Germany Bayer).

イソシアネート基と反応する基および放射線硬化性不
飽和二重結合を有する単量体としては、アクリル酸ある
いはメタクリル酸の2−ヒドロキシエチルエステル、2
−ヒドロキシプロピルエステル、2−ヒドロキシオクチ
ルエステル等水酸基を有するエステル類;アクリルアマ
イド、メタクリルアマイド、N−メチロールアクリルア
マイド等のイソシアネート基と反応する活性水素を持ち
かつアクリル系二重結合を含有する単量体;更に、アリ
ルアルコール、マレイン酸多価アルコールエステル化合
物、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるいは
ジグリセリド等イソシアネート基と反応する活性水素を
持ちかつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を含有す
る単量体も含まれる。
Examples of the monomer having a group that reacts with an isocyanate group and a radiation-curable unsaturated double bond include 2-hydroxyethyl ester of acrylic acid or methacrylic acid, 2
-Hydroxypropyl ester, 2-hydroxyoctyl ester and other esters having a hydroxyl group; Acrylic amide, methacrylic amide, N-methylol acrylate and the like, which has active hydrogen that reacts with isocyanate groups and which contains an acrylic double bond Further, allyl alcohol, maleic acid polyhydric alcohol ester compound, mono- or diglyceride of long-chain fatty acid having unsaturated double bond, etc., and unsaturated double bond having active hydrogen which reacts with isocyanate group and having radiation curability Monomers containing are also included.

II 分子中にエポキシ基を2個以上含む化合物1分子
と、エポキシ基と反応する基および電子線硬化性不飽和
二重結合を有する単量体2分子以上との反応物、例え
ば、グリシジルメタクリルレートをラジカル重合させて
得たエポキシ基を含有する熱可塑性樹脂にアクリル酸を
反応させ、カルボキシル基とエポキシ基との開環反応に
より、分子中にアクリル系二重結合をペンタクトさせた
樹脂、プレポリマーもしくはオリゴマーを挙げることが
できる。
II A reaction product of one molecule of a compound containing two or more epoxy groups in a molecule and two or more molecules of a monomer having an epoxy group-reactive group and an electron beam-curable unsaturated double bond, for example, glycidyl methacrylate. A resin or prepolymer in which an acrylic double bond is pentacted in the molecule by reacting acrylic acid with a thermoplastic resin containing an epoxy group obtained by radical polymerization of carboxylic acid, and by ring-opening reaction between a carboxyl group and an epoxy group. Or an oligomer can be mentioned.

ここで分子中にエポキシ基を2酸以上含む化合物とし
ては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ートの如きエポキシ基を含むアクリルエステルあるいは
メタクリルエステルのホモポリマーあるいは他の重合性
モノマーとの共重合体;エビコート828、エビコート100
1、エビコート1007、エビコート1009(以上シェル化学
社製)等その他種々のタイプのエポキシ樹脂等がある。
Examples of the compound containing two or more epoxy groups in the molecule include homopolymers of acrylic ester or methacrylic ester containing epoxy groups such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, or copolymers with other polymerizable monomers; Ebicoat 828, Shrimp coat 100
1, Shrimp Coat 1007, Shrimp Coat 1009 (all manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.), and other various types of epoxy resin.

エポキシ基と反応する基および放射線硬化性不飽和二
重結合を有する単量体としてはアクリル酸、メタクリル
酸等のカルボキシル基を含有するアクリル系単量体、メ
チルアミノエチルアクリレート、メチルアミノメタクリ
レ−ト等の第1級もしくは第2級アミノ基を有するアク
リル単量体等が使用できる。
Examples of the monomer having a group that reacts with an epoxy group and a radiation-curable unsaturated double bond include acrylic monomers having a carboxyl group such as acrylic acid and methacrylic acid, methylaminoethyl acrylate, and methylaminomethacrylate. An acrylic monomer having a primary or secondary amino group such as g.

III 分子中にカルボキシル基を1個以上含む化合物1
分子とカルボキシル基と反応する基および放射線硬化性
不飽和二重結合を有する単量体1分子以上との反応物、
例えばメタクリル酸を溶液重合させて得たカルボキシル
基を含有する熱可塑性樹脂にグリシジルメタクリレート
を反応させ、第II項と同様にカルボキシル基とエポキシ
基の開環反応により分子中にアクリル系二重結合を導入
させた樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げることが
できる。
III Compound 1 containing one or more carboxyl groups in the molecule
A reaction product of a molecule and one or more molecules of a monomer having a group reactive with a carboxyl group and a radiation-curable unsaturated double bond,
For example, glycidyl methacrylate is reacted with a thermoplastic resin containing a carboxyl group obtained by solution polymerization of methacrylic acid, and an acrylic double bond is formed in the molecule by ring-opening reaction of a carboxyl group and an epoxy group in the same manner as in Section II. The introduced resin, prepolymer and oligomer can be mentioned.

分子中にカルボキシル基を1個以上含む化合物として
は、分子鎖中にまたは分子末端にカルボキシル基を含む
ポリエステル類;アクリル酸、メタクリル酸、無水マレ
イン酸、フマル酸等のラジカル重合性を持ち、かつカル
ボキシル基を有する単量体のホモポリマーあるいは他の
重合性モノマーとの共重合体等である。
Examples of the compound having one or more carboxyl groups in the molecule include polyesters having a carboxyl group in the molecular chain or at the terminal of the molecule; radically polymerizable such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and fumaric acid, and It is a homopolymer of a monomer having a carboxyl group or a copolymer with another polymerizable monomer.

カルボキシル基と反応する基および放射線硬化性不飽
和二重結合を有する単量体としてはグリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレート等がある。
Glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and the like are examples of the monomer having a group reactive with a carboxyl group and a radiation-curable unsaturated double bond.

必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶剤として
は特に剥離はないが、バインダーの溶解性および相浴性
等を考慮して適宜選択される。例えば、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類、ギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル類、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、ブタノール等のアルコール類、トルエン、
キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、イソ
プロピルエーテル、エチルエーテル、ジオキサン等のエ
ーテル類、テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラ
ン類等を単一溶剤またはこれらの混合溶剤として用いら
れる。
A non-reactive solvent is used if necessary. The solvent is not particularly peeled off, but is appropriately selected in consideration of the solubility of the binder and the compatibility. For example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone, ethyl formate, ethyl acetate, esters such as butyl acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene and ethylbenzene, ethers such as isopropyl ether, ethyl ether and dioxane, and furans such as tetrahydrofuran and furfural are used as a single solvent or a mixed solvent thereof.

上記の微粒子が配設されたその面上には裏地層が設層
される。
A lining layer is provided on the surface on which the fine particles are arranged.

裏地層はAl、Cu、W、Mo、Cr、Ti等の単一金属ないし
これらを含む合金、あるいはその酸化物等の薄膜である
ことが好ましい。
The backing layer is preferably a thin film of a single metal such as Al, Cu, W, Mo, Cr and Ti, an alloy containing these, or an oxide thereof.

上記の金属等の中では特に非磁性のものを用いるのが
好ましい。その理由としては、例えば裏地層を磁性金属
とすると、磁性面が磁化された状態で巻きとられた場
合、裏地層が磁性層の漏洩磁束により磁化されたり、あ
るいは裏地層が磁化された状態で磁性面再記録して再び
巻きとられると、裏地層の磁気の影響により磁性面の磁
化状態が乱れるためノイズが増加するなどの問題が生じ
うるからである。
Among the above metals, it is particularly preferable to use non-magnetic ones. The reason is that, for example, when the backing layer is made of magnetic metal, when the magnetic surface is wound in a magnetized state, the backing layer is magnetized by the leakage flux of the magnetic layer, or the backing layer is magnetized. This is because if the magnetic surface is re-recorded and then rewound, the magnetism of the backing layer disturbs the magnetization state of the magnetic surface, which may cause problems such as increased noise.

裏地層の形成方法は、例えば、蒸着、スパッタ、イオ
ンプレーティング等の真空薄膜形成法、さらには各種CV
D等の気相成長法、あるいはメッキ法等を用いればよ
い。
The method of forming the lining layer is, for example, vacuum thin film forming method such as vapor deposition, sputtering, ion plating, and various CVs.
A vapor phase growth method such as D or a plating method may be used.

このように形成された裏地層の膜厚は、0.05〜1.5μ
m、より好ましくは0.07〜0.9μm、さらにより好まし
くは0.07〜0.7μmとされる。この膜厚が1.5μmをこえ
ると後述の曲げ剛性値範囲をこえ、また、0.05μm未満
であると、後述の曲げ剛性値範囲未満となり、それぞれ
後述する不都合が生ずる。
The thickness of the backing layer thus formed is 0.05-1.5μ.
m, more preferably 0.07 to 0.9 μm, and even more preferably 0.07 to 0.7 μm. If this film thickness exceeds 1.5 μm, it exceeds the bending rigidity value range described below, and if it is less than 0.05 μm, it falls below the bending rigidity value range described below, causing the disadvantages described below.

このように構成される本発明の磁気記録媒体のプラス
チックフィルムの基体裏面上には、前述の微粒子が配設
され、媒体の裏面には、微細な突起が存在することにな
る。
The above-mentioned fine particles are arranged on the back surface of the substrate of the plastic film of the magnetic recording medium of the present invention configured as described above, and fine projections are present on the back surface of the medium.

そして、このような媒体裏面の突起は、微粒子径に対
応し、光学顕微鏡で観察でき、かつ触針型表面粗さ計で
測定できるものではなく、走査型電子顕微鏡にて観察で
きる程度のものである。
And, such a protrusion on the back surface of the medium corresponds to the particle diameter and can be observed with an optical microscope, and can not be measured with a stylus type surface roughness meter, but can be observed with a scanning electron microscope. is there.

このような本発明の媒体は、3.0×10-3〜1.2×10-2
・cm、より好ましくは3.5×10-3〜1.0×10-2g・cm、最
も好ましくは、3.5×10-3〜8×10-3g・cmの曲げ剛性
値EIをもつ。
Such a medium of the present invention has a concentration of 3.0 × 10 −3 to 1.2 × 10 −2 g.
· Cm, more preferably 3.5 × 10 -3 ~1.0 × 10 -2 g · cm, and most preferably has a flexural rigidity EI of 3.5 × 10 -3 ~8 × 10 -3 g · cm.

EIは、下記のように測定される。 EI is measured as follows.

測定は、ループ押込みによるy方向荷重と直径変化に
よる。
The measurement is based on y-direction load and diameter change due to loop indentation.

測定にあたって、まず本発明の媒体により、長さ31.4
mm×幅8mmのリボン状の試験片10を切り出す。次いで平
板状プレート75上の所定位置に第1図(a)に示すよう
に、両面テープ20を貼り、この後、磁性面を上側にし
て、上記試験片10の一端を上記両面テープ20上に貼り、
さらに第1図(b)、(c)のように、図で時計回りに
試験片10を曲げ、最後に試験片の他端を上記一端につき
合わせるようにして上記両面テープ20上に貼り合せて、
半径a、幅bの輪を作る。両面テープの貼り合せの際、
両面テープは1mm以下程度にカットしたものを使用し、
貼り合せの影響をできるだけ最小限におさえた。この場
合、aは5mmとなる。なお、EIは、a、bの値により変
動するが、aは2〜5mm、bは3〜8mmの間で固定するも
のとする。
For the measurement, first, with the medium of the present invention, a length of 31.4
Cut out a ribbon-shaped test piece 10 of mm × width 8 mm. Then, as shown in FIG. 1 (a), the double-sided tape 20 is attached at a predetermined position on the flat plate 75, and then one end of the test piece 10 is placed on the double-sided tape 20 with the magnetic surface facing upward. Paste,
Further, as shown in FIGS. 1 (b) and (c), the test piece 10 is bent clockwise in the drawing, and finally the other end of the test piece is attached to the double-sided tape 20 so that the other end is aligned with the one end. ,
Create a ring with radius a and width b. When sticking double-sided tape,
Use double-sided tape that is cut to about 1 mm or less,
The influence of bonding was minimized. In this case, a is 5 mm. Although EI varies depending on the values of a and b, a is fixed to 2 to 5 mm and b is fixed to 3 to 8 mm.

この輪状試験片10を、第1図(d)、(e)に示すよ
うに、平板状プレート71,75間にはさみ、一定のスピー
ド、特に5mm/minで圧縮し、変位d=0.2πaを生じたと
きの荷重曲げ剛性EIを算出する。
As shown in FIGS. 1 (d) and 1 (e), this ring-shaped test piece 10 is sandwiched between flat plate-shaped plates 71 and 75 and compressed at a constant speed, especially 5 mm / min, and a displacement d = 0.2πa is obtained. Calculate the load bending stiffness EI when it occurs.

なお、EIは、一般に、磁性層設層前のロールに巻かれ
たプラスチックフィルムの長手方向と幅方向とで異なる
ものであり、通常、長手方向で最大となる。そして、こ
のEIはテープ長手方向の値である。
The EI is generally different in the longitudinal direction and the width direction of the plastic film wound on the roll before the magnetic layer is formed, and usually has the maximum value in the longitudinal direction. Then, this EI is a value in the tape longitudinal direction.

このようなEIが3.0×10-3g・cm未満になると、走行
安定性が低下し、ヘッドタッチ不良が生じ、出力低下や
エンベロープ不良が生じる。また、エッヂ折れ、片伸び
等のテープダメージが生じる。そして走行ナキやジッタ
ーが増大し、保存によるスキューが増大する。
When such EI is less than 3.0 × 10 −3 g · cm, running stability is deteriorated, a head touch failure is caused, and output reduction and envelope failure are caused. In addition, tape damage such as edge breakage and half stretch occurs. Then, run-up and jitter increase, and skew due to storage increases.

他方、EIが2×10-2g・cmをこえると、走行によっ
て、磁性層のクラックや磁性面ケズレが生じる。また、
ヘッド摩耗量が増大する。そして、ドロップアウトが増
加する。
On the other hand, when the EI exceeds 2 × 10 -2 g · cm, cracks in the magnetic layer and scratches on the magnetic surface occur due to running. Also,
The amount of head wear increases. And dropouts increase.

このような曲げ剛性を有する本発明の媒体は、磁性層
形成面の他面側に配設された微粒子と裏地層を有するの
みでもよい。
The medium of the present invention having such bending rigidity may have only the fine particles and the backing layer arranged on the other surface side of the magnetic layer forming surface.

あるいは、裏地層上に、さらに裏面層を有していても
よい。
Alternatively, the backing layer may be further provided on the backing layer.

裏面層としては、公知のものはいずれも使用可能であ
り、各種高分子物質被膜であってもよく、これに各種潤
滑剤を含有させてもよい。あるいは、さらに、顔料、活
性剤等を含有させることもできる。
As the back surface layer, any known material can be used, and various polymer material coatings may be used, and various lubricants may be contained therein. Alternatively, a pigment, an activator or the like may be further contained.

また、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーン等の各種
潤滑剤の塗膜、気相被着膜等であってもよい。
Further, it may be a coating film of various lubricants such as fatty acids, fatty acid esters and silicones, a vapor deposition film or the like.

なお、裏面層は2.5μm以下、特に0.3〜1.5μm程度
の厚さとする。このとき、曲げ剛性は、裏面層を設層し
ないときとほとんどかわらない。
The back surface layer has a thickness of 2.5 μm or less, particularly about 0.3 to 1.5 μm. At this time, the bending rigidity is almost the same as when the back surface layer is not provided.

このような裏面層の設層により走行性はより一層向上
する。
By providing such a back surface layer, the runnability is further improved.

さらに、本発明の媒体は、磁性層上に表面層を設層し
て、走行性をより一層向上することもできる。
Further, in the medium of the present invention, a surface layer may be provided on the magnetic layer to further improve the running property.

表面層としては、公知の種々のものが適用でき、例え
ば、各種高分子物質被膜、ないしはこれに潤滑剤、酸化
防止剤、界面活性剤、無機微粒子等を含有させたもの
や、各種潤滑剤の塗膜ないし気相被着膜等がある。
As the surface layer, various known ones can be applied, for example, various polymer material coatings, or those containing a lubricant, an antioxidant, a surfactant, inorganic fine particles or the like, or various lubricants. There is a coating film or a vapor deposition film.

表面層の厚さは、5〜300Å程度とする。 The thickness of the surface layer is about 5 to 300 liters.

なお、プラスチックフィルム上にはさらに上記以外の
各種下地処理を施したり、プラスチックフィルムと磁性
層ないし裏地層間にはさらに下地層を形成することもで
きる。
It is also possible to further subject the plastic film to various undercoat treatments other than the above, or to form an undercoat layer between the plastic film and the magnetic layer or the backing layer.

V 発明の具体的作用効果 本発明によれば、曲げ剛性EIを所定の範囲に規制し、
媒体の裏面に微細な突起を存在させることにより、得ら
れた磁気記録媒体は走行安定性がきわめて高く、ヘッド
タッチが良好で、出力低下やエンベロープ不良がきわめ
て少ない。また、エッヂ折れや片伸び等のテープダメー
ジの発生もきわめて少ない。そして、走行ナキやジッタ
ーや保存によるスキューの発生はきわめて小さい。また
ロール巻き取り時における裏形転写がない。
According to the present invention, the bending rigidity EI is regulated within a predetermined range,
By providing fine projections on the back surface of the medium, the obtained magnetic recording medium has extremely high running stability, good head touch, and extremely low output drop and envelope defect. Also, the occurrence of tape damage such as edge breakage and half stretch is extremely small. Moreover, the occurrence of skew due to running pits, jitter, and storage is extremely small. Also, there is no reverse shape transfer at the time of winding the roll.

また、走行による磁性層のクラックや磁性面のケズレ
の発生がきわめて少なく、ヘッド摩耗量もきわめて少な
い。そして、ドロップアウトの発生もきわめて少ない。
In addition, the occurrence of cracks in the magnetic layer and scratches on the magnetic surface due to running is extremely small, and the amount of head wear is also extremely small. And dropouts are extremely rare.

このような効果は、上記のEI範囲でのみ臨界的に実現
するものである。
Such an effect is realized critically only in the above EI range.

VI 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに
詳細に説明する。
VI Specific Examples of the Invention Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing specific examples of the invention.

実施例1 下記表1に示す厚さのポリエステル(PET)フィルム
を円筒状、冷却キャンの周面に沿わせて移動させ、O2
Ar(容積比1:1)を毎分800ccの速さで流し真空度を1.0
×10-4Torrとしたチャンバー内で、Co80、Ni20(重量
比)の合金を溶融し、入射角90°〜30°の部分のみ斜め
蒸着し膜厚0.15μmのCo−Ni−O薄膜を形成した。
Example 1 A polyester (PET) film having a thickness shown in Table 1 below was moved along a peripheral surface of a cylindrical cooling can to give O 2 +.
Ar (volume ratio 1: 1) is flown at a speed of 800 cc / min and the degree of vacuum is 1.0
An alloy of Co80 and Ni20 (weight ratio) is melted in a chamber of × 10 -4 Torr, and only a portion with an incident angle of 90 ° to 30 ° is obliquely deposited to form a Co-Ni-O thin film with a thickness of 0.15 μm. did.

酸素はベースとの界面およびベースと反対側の表面に
多く偏在していた。また、ベースと反対側の表面はほぼ
酸化物のみで覆われていた。
A large amount of oxygen was unevenly distributed on the interface with the base and on the surface opposite to the base. Also, the surface opposite to the base was almost entirely covered with oxide.

Hc=1000 Oe。膜中の平均酸素量はCoとNiに対する原
子比 で40%であった。
Hc = 1000 Oe. The average oxygen content in the film is the atomic ratio to Co and Ni. Was 40%.

このフィルムの裏面に表1に示される平均粒子径を有
するコロイダルシリカを塗布(0.003%溶液、エポキシ
アクリレート/ポリカプロラクタン=1/1、溶液MEK/ト
ルエン=1/1)した。
The back surface of this film was coated with colloidal silica having the average particle size shown in Table 1 (0.003% solution, epoxy acrylate / polycaprolactane = 1/1, solution MEK / toluene = 1/1).

なお、この微粒子の平均配設密度は25×105個/mm2
した。
The average arrangement density of the fine particles was 25 × 10 5 particles / mm 2 .

さらにこの微粒子を配設した面上に、真空蒸着によ
り、下記表1に示す厚さのAl裏地層を形成した。
Further, an Al backing layer having a thickness shown in Table 1 below was formed on the surface provided with the fine particles by vacuum vapor deposition.

また、必要に応じ、Al裏地層上に、パルミチン酸を10
0Å厚に塗布して裏面層を形成した。
If necessary, add 10% palmitic acid on the Al backing layer.
It was applied to a thickness of 0Å to form a back surface layer.

さらに、必要に応じ、磁性層上に、ミリスチン酸を25
Å厚に塗布して表面層を形成した。
Furthermore, if necessary, add 25 myristic acid on the magnetic layer.
Å It was applied thickly to form a surface layer.

このようにして形成した下記表1に示す各サンプルに
つき、下記の測定を行った。
The following measurements were performed on each of the samples shown in Table 1 below formed in this way.

1)EI(g・cm) テープ長手方向のEIを前記の押し込み法で測定した。
なお、サンプルは、長さ31.4mm、幅b8mmとし、aを5mm
とした。試験機はスティフネステスター(横浜システム
研究所(株)製 型番:SFT−700 SD型 引張試験機)
を用いた。
1) EI (g · cm) The EI in the longitudinal direction of the tape was measured by the indentation method described above.
The sample has a length of 31.4 mm and a width of b8 mm, and a is 5 mm.
And The tester is a stiffene tester (Yokohama System Research Institute Co., Ltd. model number: SFT-700 SD tensile tester)
Was used.

2)出力(dB) 中心周波数5MHzの出力を測定し、サンプルNo.1を0dB
としたときの値を求めた。
2) Output (dB) Measure the output of center frequency 5MHz and set sample No. 1 to 0dB.
Then, the value was calculated.

3)出力変動(%) ソニー(株)製CCD−V8デッキにて100回繰返し走行
後、そのサンプルを用い、出力変動を測定した。
3) Output fluctuation (%) After repeatedly running 100 times on a CCD-V8 deck manufactured by Sony Corporation, the output fluctuation was measured using the sample.

2)の出力の最大値を100%としたときの最小値を%
で表示した。
When the maximum value of the output in 2) is 100%, the minimum value is%
Displayed in.

4)エンベロープ変動(%) ソニー(株)製CCD−V8デッキにて100回繰返し走行
後、そのサンプルを用い、エンベロープ変動を測定し
た。
4) Envelope variation (%) After repeatedly running 100 times on a CCD-V8 deck manufactured by Sony Corporation, the envelope variation was measured using the sample.

各サンプルにおけるエンベロープ幅の最大値を100%
としたときの最小値を%で表示した。
100% maximum envelope width for each sample
The minimum value when was expressed as%.

5)ドロップアウト(個/分) ソニー(株)製CCD−V8デッキにて100回繰返し走行
後、そのサンプルを用い、ドロップアウトを測定した。
5) Dropout (units / minute) After repeatedly running 100 times on a CCD-V8 deck manufactured by Sony Corporation, the sample was used to measure the dropout.

15μsec、16dB以上のものを測定基準とした。 The measurement standard was 15 μsec, 16 dB or more.

6)ヘッド摩耗(μm) ソニー(株)製CCD−V8にて100時間連続走行後のヘッ
ドの摩耗量につき5回の測定を行いこれを平均した。
6) Head wear (μm) The amount of wear of the head after 100 hours of continuous running was measured 5 times with a CCD-V8 manufactured by Sony Corporation and averaged.

7)走行ナキ テープを40℃、80%RH雰囲気中で走行させ、ナキの有
無を確認した。そのレベル差を◎…無し、○…ほとんど
無し、△…やや有り、×…多発、で判断した。
7) Running Naki The tape was run in an atmosphere of 40 ° C and 80% RH, and the presence or absence of pakiness was confirmed. The level difference was judged to be ⊙: none, ∘: almost none, Δ: slightly present, ×: frequent occurrence.

8)ジッター(μsec) ソニー(株)製CCD−V8デッキにて100回繰返し走行
後、そのサンプルを用い、前記ヘッド摩耗測定時に用い
たデッキにジッターメーターを接続して測定した。
8) Jitter (μsec) After repeatedly running 100 times on a CCD-V8 deck manufactured by Sony Corp., the sample was used, and a jitter meter was connected to the deck used for measuring the head wear.

9)保存スキュー(μsec) 60℃相対湿度80%にて10日間保存した後、前記デッキ
を用いて測定した。
9) Storage skew (μsec) After storing at 60 ° C. and 80% relative humidity for 10 days, the skew was measured using the deck.

10)テープダメージ ソニー(株)製CCD−V8デッキにて100回繰返し走行
後、このテープ走行面(磁性層形成側の面)を光学顕微
鏡(×50、×400)にて観察した。
10) Tape damage After repeatedly running 100 times on a CCD-V8 deck manufactured by Sony Corporation, the tape running surface (surface on the magnetic layer forming side) was observed with an optical microscope (x50, x400).

そのレベル差を◎…ダメージほとんど無し、○…ダメ
ージ小、△…ダメージ中、×…ダメージ大、で判断し
た。
The level difference was judged as ◎ ... almost no damage, ○ ... small damage, △ ... during damage, × ... large damage.

11)デッキ耐久走行による出力安定性 ソニー(株)製CCD−V8デッキにて100回繰返し走行
後、そのサンプルを用い、出力安定性を測定した。磁性
層への裏形転写があると極端な出力低下が起こり、その
レベル差を◎…出力低下ほとんど無し、○…出力低下
小、△…出力低下中、×…出力低下大、で判断した。
11) Output stability due to durability running on deck After repeatedly running 100 times with CCD-V8 deck manufactured by Sony Corporation, the output stability was measured using the sample. When there is back-side transfer to the magnetic layer, an extreme decrease in output occurs, and the level difference is judged as ⊚ ... almost no decrease in output, ∘ ... small decrease in output, Δ ...

12)裏面側摺動面ダメージ ソニー(株)製CCD−V8デッキにて100回繰返し走行
後、そのサンプルを用い、裏面側摺動面のテープダメー
ジを光学顕微鏡(×50、×400)にて観察した。
12) Backside sliding surface damage After repeatedly running 100 times on a Sony CCD-V8 deck, using the sample, the backside sliding surface tape damage was observed with an optical microscope (× 50, × 400). I observed.

そのレベル差を◎…ダメージほとんど無し、○…ダメ
ージ小、×…ダメージ大、で判断した。
The level difference was judged as ◎ ... almost no damage, ○ ... small damage, × ... large damage.

これらの結果を表1に示す。 Table 1 shows the results.

表1に示す結果より、本発明の効果は明らかである。 From the results shown in Table 1, the effect of the present invention is clear.

【図面の簡単な説明】 第1図は、曲げ剛性値の測定法を説明するための概略図
である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a method of measuring a bending rigidity value.

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】厚さ10μm以下のプラスチックフィルムの
一方の面上に強磁性金属薄膜の磁性層を有し、他方の面
上に、平均粒径50〜5000Aの微粒子を配設し、この上に
裏地層を有し、さらに、媒体の曲げ剛性値EIを下記式に
より算出したとき、EIが3.0×10-3〜1.2×10-2g・cmで
あることを特徴とする磁気記録媒体。 (ここに、Wは、磁気シートを裁断して作製した半径ac
m、幅bcmの輪状試験片に対し、径方向変位d=0.2πa
を生じる荷重である。)
1. A plastic film having a thickness of 10 μm or less has a magnetic layer of a ferromagnetic metal thin film on one surface, and fine particles having an average particle size of 50 to 5000 A are arranged on the other surface. A magnetic recording medium having a backing layer and having an EI of 3.0 × 10 −3 to 1.2 × 10 −2 g · cm when the bending stiffness value EI of the medium is calculated by the following formula. (W is the radius ac produced by cutting the magnetic sheet.
Radial displacement d = 0.2πa for a ring-shaped test piece of m and width bcm
Is the load that causes )
【請求項2】裏地層が金属ないしその酸化物の膜である
特許請求の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the backing layer is a film of a metal or an oxide thereof.
【請求項3】裏地層の厚さが0.05μm〜1.5μmである
特許請求の範囲第1項または第2項に記載の磁気記録媒
体。
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the backing layer has a thickness of 0.05 μm to 1.5 μm.
【請求項4】微粒子配設密度が105〜109個/mmである特
許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれかに記載の磁
気記録媒体。
4. The magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 3, wherein the fine particle distribution density is 10 5 to 10 9 particles / mm.
【請求項5】厚さ10μm以下のプラスチックフィルムの
一方の面上に強磁性金属薄膜の磁性層を有し、他方の面
上に、平均粒径50〜5000Aの微粒子を配設し、この上に
裏地層を有し、この裏地層上に裏面層を有し、媒体の曲
げ剛性値EIを下記式により算出したとき、EIが3.0×10
-3〜1.2×10-2g・cmであることを特徴とする磁気記録
媒体。 (ここに、Wは、磁気シートを裁断して作製した半径ac
m、幅bcmの輪状試験片に対し、径方向変位d=0.2πa
を生じる荷重である。)
5. A plastic film having a thickness of 10 μm or less has a magnetic layer of a ferromagnetic metal thin film on one surface, and fine particles having an average particle size of 50 to 5000 A are arranged on the other surface. When the bending stiffness value EI of the medium is calculated by the following formula, the EI is 3.0 × 10
-3 to 1.2 × 10 -2 g · cm Magnetic recording medium. (W is the radius ac produced by cutting the magnetic sheet.
Radial displacement d = 0.2πa for a ring-shaped test piece of m and width bcm
Is the load that causes )
【請求項6】厚さ10μm以下のプラスチックフィルムの
一方の面上に強磁性金属薄膜の磁性層を有し、この磁性
層上に表面層を有し、他方の面上に、平均粒径50〜5000
Aの微粒子を配設し、この上に裏地層を有し、この裏地
層上に裏面層を有し、媒体の曲げ剛性値EIを下記式によ
り算出したとき、EIが3.0×10-3〜1.2×10-2g・cmであ
ることを特徴とする磁気記録媒体。 (ここに、Wは、磁気シートを裁断して作製した半径ac
m、幅bcmの輪状試験片に対し、径方向変位d=0.2πa
を生じる荷重である。)
6. A plastic film having a thickness of 10 μm or less having a magnetic layer of a ferromagnetic metal thin film on one surface, a surface layer on the magnetic layer, and an average particle size of 50 on the other surface. ~ 5000
Arranged fine particles A, having a backing layer thereon, having a backing layer on the backing layer, when calculating the flexural rigidity EI of the medium by the following equation, EI is 3.0 × 10 -3 ~ A magnetic recording medium having a capacity of 1.2 × 10 -2 g · cm. (W is the radius ac produced by cutting the magnetic sheet.
Radial displacement d = 0.2πa for a ring-shaped test piece of m and width bcm
Is the load that causes )
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