JP2516263B2 - Optical information recording medium and manufacturing method thereof - Google Patents
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば光デイスクなどの光情報記録媒体と
その製造方法に係り、特に透明基板の片面に形成される
樹脂層の吸湿，膨潤防止手段に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical information recording medium such as an optical disc and a method for manufacturing the same, and particularly to prevent moisture absorption and swelling of a resin layer formed on one surface of a transparent substrate. Regarding means.
従来より、CAV（角速度一定）回転駆動方式の光デイ
スクよりも記録容量が大きく、かつCLV（線速度一定）
回転駆動方式の光デイスクよりも高速アクセスが可能な
光デイスクとして、MCAV（準角速度一定）回転駆動方式
もしくはMCLV（準線速度一定）回転駆動方式の光デイス
クが知られている。Conventionally, the recording capacity is larger than that of an optical disk of CAV (constant angular velocity) rotation drive method, and CLV (constant linear velocity).
An MCAV (constant constant angular velocity) rotary drive system or an MCLV (constant constant linear velocity) rotary drive system is known as an optical disc that can be accessed at a higher speed than a rotary drive type optical disc.
第18図および第19図従来より提案されているMCAV方式
もしくはMCLV方式の光デイスクの一例を示す。FIG. 18 and FIG. 19 show an example of a conventionally proposed MCAV or MCLV optical disc.
第18図はこの光デイスクの平面図であつて、センタ孔
１を有する円形の基板２の最内周部および最外周部を除
くリング状の領域３が記録領域になつている。前記記録
領域３は、半径領域が異なる複数のブロツク4a,4b,4c…
……4xに分割され、さらに前記各ブロツク4a,4b,4c……
…4xの周方向が複数のセクタ5a,5b,5c………5xに分割さ
れている。各セクタ5a,5b,5c………5xの長さはほぼ均等
に形成され、かつ最外周のブロツク4xのセクタ数が最内
周のブロツク4aのセクタ数の約２倍になるように設計さ
れている。FIG. 18 is a plan view of this optical disk, in which the ring-shaped area 3 excluding the innermost peripheral portion and the outermost peripheral portion of the circular substrate 2 having the center hole 1 is the recording area. The recording area 3 has a plurality of blocks 4a, 4b, 4c ...
...... Divided into 4x, and the blocks 4a, 4b, 4c mentioned above are further divided.
The circumferential direction of 4x is divided into a plurality of sectors 5a, 5b, 5c ... 5x. The length of each sector 5a, 5b, 5c ……… 5x is formed almost evenly, and the number of sectors in the outermost block 4x is designed to be about twice the number of sectors in the innermost block 4a. ing.
前記記録領域３には、最内周部から最外周部に至るま
で、トラツクピツチが一定で線幅が0.3μｍ〜0.8μｍ程
度の微細な案内溝が同心円状もしくは渦巻状に形成され
ており（第18図には図示せず）、記録／再生用光のトラ
ツキングを可能にしている。この案内溝上もしくは相隣
接する２条の案内溝の間の前記各セクタ5a,5b,5c………
5xの先頭部分には、当該セクタのアドレス等を表示する
プリピツトが形成される。これらのプリピツトの集合
は、光デイスクを平面方向から見たとき、符号６で示す
ように、各セクタの区切りに沿つて直線状に観察され
る。In the recording area 3, fine guide grooves having a constant track pitch and a line width of about 0.3 μm to 0.8 μm are formed concentrically or spirally from the innermost peripheral portion to the outermost peripheral portion ( (Not shown in FIG. 18), which enables tracking of recording / reproducing light. Each sector 5a, 5b, 5c on this guide groove or between two adjacent guide grooves.
At the beginning of 5x, a prepit for displaying the address of the sector is formed. When the optical disk is viewed from the plane direction, the set of these pits is linearly observed along the division of each sector, as indicated by reference numeral 6.
前記したようにMCAV方式もしくはMCLV方式の光デイス
クは、記録領域を複数のブロツク4a,4b,4c………に分割
し、さらに各ブロツクを異なるセクタ数に分割したの
で、CAV方式の光デイスクのようにプリピツトが記録領
域の最内周部から最外周部まで一直線状には配列され
ず、第18図に示すように、各ブロツク4a,4b,4c………4x
の境界部分にプリピツトと案内溝とが隣接して配置され
る領域７が形成される。As described above, the MCAV or MCLV type optical disk has a recording area divided into a plurality of blocks 4a, 4b, 4c, ... And each block is divided into a different number of sectors. As shown in FIG. 18, the prepets are not arranged in a straight line from the innermost circumference to the outermost circumference of the recording area. As shown in FIG. 18, the blocks 4a, 4b, 4c ……… 4x
A region 7 in which the prepit and the guide groove are arranged adjacent to each other is formed at the boundary portion of.
第19図はこの光デイスクの領域７部分の要部断面図で
あつて、円形平板状のガラス板にて形成された基板２の
片面に、プリピツト８および案内溝（プリグループ）９
が転写された光硬化性樹脂層10が設けられ、この上に少
なくとも記録膜または反射膜を含む薄膜層11が成膜され
ている。プリピツト８は、記録／再生用光の波長をλ、
光硬化性樹脂層10の屈折率をｎとしたとき、λ/4nの深
さを有する台形溝状に形成され、案内溝９は、記録／再
生用光の波長をλ、光硬化性樹脂層10の屈折率ｎとした
とき、約λ/6n〜λ/8nの深さを有するＶ溝状に形成され
る。FIG. 19 is a cross-sectional view of an essential part of the area 7 of the optical disk. The pit 8 and the guide groove (pregroup) 9 are formed on one surface of the substrate 2 formed of a circular flat glass plate.
A photocurable resin layer 10 to which is transferred is provided, and a thin film layer 11 including at least a recording film or a reflective film is formed thereon. The prepit 8 sets the wavelength of the recording / reproducing light to λ,
When the refractive index of the photocurable resin layer 10 is n, it is formed in a trapezoidal groove shape having a depth of λ / 4n, and the guide groove 9 has a wavelength of the recording / reproducing light of λ, and the photocurable resin layer. When the refractive index n is 10, the V-shaped groove is formed with a depth of about λ / 6n to λ / 8n.
MCAV方式は、前記の光デイスクを角速度一定で回転駆
動し、外周のブロツクほど同一信号長さのデータ信号に
対する書き込み信号長さを短縮することによつて記録容
量の増大を図る。In the MCAV system, the optical disk is driven to rotate at a constant angular velocity, and the write signal length for a data signal having the same signal length is shortened as the outer peripheral block increases the recording capacity.
一方、MCLV方式は、内外周にかかわらず同一信号長さ
のデータ信号に対する書き込み信号長さを一定とし、外
周のブロツクほどデイスクの回転数を低下短縮すること
によつて記録容量の増大を図る。On the other hand, in the MCLV method, the write signal length for a data signal having the same signal length is made constant regardless of the inner and outer circumferences, and the recording speed is increased by decreasing and shortening the number of revolutions of the disk toward the outer circumference block.
ところで、前記記録膜を含む薄膜層11は、成膜効率が
良好であることおよび薄膜の均質性が高いことなどから
一般にスパツタ法や真空蒸着法によつて形成されるが、
ターゲツトからのスパツタ粒子や蒸発源からの蒸発物質
は回り込みが少ないため、プリピツト８の側面8aにスパ
ツタ粒子または蒸発物質が堆積されにくく、第19図に示
すように、該部の膜厚が他に比べて極端に薄くなる。By the way, the thin film layer 11 including the recording film is generally formed by a sputtering method or a vacuum evaporation method because of its good film forming efficiency and high thin film homogeneity.
Since the spatter particles from the target and the evaporative substances from the evaporation source are less entangled, the spatter particles or the evaporative substances are less likely to be deposited on the side surface 8a of the prepit 8, and as shown in FIG. Compared to extremely thin.
薄膜11が不透水性である場合、基板２側および薄膜層
11が所望の厚さに形成される部分からの透水は防止され
る。然るに、従来の光デイスクに使用されている光硬化
性樹脂は、吸水率が２〜３％と高いため、前記の光デイ
スクを空気中に放置しておくと、第20図に矢印Ａで示す
ように、薄膜層11が極端に薄いプリピツト８の側面8aか
ら空気中の水分が光硬化性樹脂層10内に浸透し、光硬化
性樹脂層10が局部的に膨潤する。When the thin film 11 is impermeable, the substrate 2 side and the thin film layer
Water permeation from the portion where 11 is formed to a desired thickness is prevented. However, since the photocurable resin used in the conventional optical disc has a high water absorption rate of 2 to 3%, if the optical disc is left in the air, it is indicated by an arrow A in FIG. As described above, the moisture in the air penetrates into the photocurable resin layer 10 from the side surface 8a of the prepit 8 where the thin film layer 11 is extremely thin, and the photocurable resin layer 10 locally swells.
このため、前記したMCAV方式もしくはMCLV方式の光デ
イスクのように、プリピツト８と隣接トラツクの案内溝
９とが隣接して配置される光デイスクにおいては、第20
図に示すように、このプリピツト８に隣接する領域の近
傍を通る複数の記録トラツクの案内溝９が径方向に傾斜
する。Therefore, in the optical disc in which the prepit 8 and the guide groove 9 of the adjacent track are arranged adjacent to each other like the above-mentioned MCAV type or MCLV type optical disc,
As shown in the drawing, the guide grooves 9 of the plurality of recording tracks passing near the area adjacent to the prepit 8 are inclined in the radial direction.
このような現象を生じると、Ｖ溝状に形成された案内
溝９の各面からの反射光強度または透過光強度がアンバ
ランスになり、第21図に示すようなトラツクオフセツト
12を生じ、トラツキングノイズを発生する。その結果、
隣接トラツクに片寄つた形で記録部（ピツトもしくは磁
化ドメイン等）が形成され、クロストークを生じたり、
最悪の場合には信号の記録、再生が不可能になるといつ
た不都合を生じる。When such a phenomenon occurs, the intensity of the reflected light or the intensity of the transmitted light from each surface of the guide groove 9 formed in the V-groove shape becomes unbalanced, and the track offset set as shown in FIG.
12 and causes tracking noise. as a result,
The recording part (pit or magnetized domain, etc.) is formed with a bias to the adjacent track, causing crosstalk,
In the worst case, it becomes inconvenient if the recording and reproducing of the signal become impossible.
なお、前記においてはMCAV方式およびMCLV方式の光デ
イスクを例にとつて説明したが、同心円状もしくは渦巻
状に案内溝が形成され、この案内溝に沿つてプリピツト
が等間隔に形成された所謂CLV方式（線速度一定方式）
の光デイスクについてもこれと同様の問題を生じる。ま
た、孔あけ方式の記録膜を有する光デイスクにおいて
は、記録後に記録ピツトと隣接トラツクの案内溝とが隣
接する領域を生じるので、前記と同様の不都合を生じう
る。また、カード状に形成された光情報記録媒体におい
ても、案内溝とプリピツトとが隣接して配列される領域
を有するようにプリフオーマツトされたものについては
同様の不都合を生じうる。In the above description, the MCAV and MCLV optical discs are described as an example, but so-called CLV in which concentric or spiral guide grooves are formed, and pits are formed at equal intervals along the guide grooves. Method (constant linear velocity method)
The same problem occurs for the optical disk of. Further, in the optical disc having the recording film of the perforation method, since the region where the recording pit and the guide groove of the adjacent track are adjacent to each other is formed after recording, the same inconvenience as described above may occur. Further, even in the optical information recording medium formed in a card shape, the same disadvantage may occur in a preformatted medium having a region in which the guide groove and the prepit are arranged adjacent to each other.
本発明は、前記した従来技術の欠点を解消するために
なされたものであつて、その第１の目的は記録容量が大
きくかつ信頼性の高い光情報記録媒体を提供することに
あり、またその第２の目的はそのような光情報記録媒体
を製造するための製造方法を提供することにある。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and its first object is to provide an optical information recording medium having a large recording capacity and high reliability. The second object is to provide a manufacturing method for manufacturing such an optical information recording medium.
前述の目的を達成するため、本発明は、少なくとも透
明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオーマツ
トパターンの転写層と、その転写層上に形成された薄膜
層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基板と接
する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層に形成された
密閉型あるいは通気型の光情報記録媒体を対象とするも
のである。そして前記樹脂層の成膜時の膜厚ｄに対する
樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量Δｄの割合を示す膨潤率
Δd/dが0.1％以下に規制されていることを特徴とするも
のである。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the above The present invention is intended for a hermetically sealed or ventilated optical information recording medium in which the surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin. The swelling ratio Δd / d, which represents the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer to the film thickness d when the resin layer is formed, is regulated to 0.1% or less.
実用的には樹脂層の膜厚ｄが５〜300μｍで使用され
るが、特に30〜100μｍが一般的に広く用いられるの
で、この膜厚ｄにおいて、Δd/dの値を0.1％に規制する
ことに特徴がある。Although the film thickness d of the resin layer is practically used in the range of 5 to 300 μm, in particular, 30 to 100 μm is generally widely used. Therefore, in this film thickness d, the value of Δd / d is regulated to 0.1%. It is characterized by this.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層に形成
され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記薄
膜層が大気と遮断された構造になつている光情報記録媒
体の製造方法において、 前記樹脂層の成膜時の膜厚ｄが30〜100μｍで、その
膜厚ｄに対する当該光情報記録媒体の組立中に生じる樹
脂層の吸湿による膜厚膨潤量Δｄの割合を示す膨潤率Δ
d/dが0.1％以下に規制されていることを特徴とするもの
である。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. The surface of the transfer layer, which is in contact with the transparent substrate, is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and when the optical information recording medium is completely assembled, the thin film layer is structured to be shielded from the atmosphere. In the method of manufacturing a recording medium, the film thickness d of the resin layer during film formation is 30 to 100 μm, and the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium with respect to the film thickness d Swelling ratio Δ indicating the ratio
It is characterized in that d / d is regulated to 0.1% or less.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記
薄膜層が大気と遮断された構造となつている光情報記録
媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物
と光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂
層に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜
厚ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報
記録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤
量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であること
を特徴とするものである。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. A surface of the transfer layer, which is in contact with the transparent substrate, is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and when the optical information recording medium is completely assembled, the thin film layer has a structure in which it is shielded from the atmosphere. In the method for producing an information recording medium, a resin layer is formed by a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer. The film thickness d during film formation is from 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during the assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1. Be less than or equal to It is an butterfly.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記
薄膜層が大気と遮断された構造になつている光情報記録
媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物
と光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂
層に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜
厚ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報
記録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤
量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であること
を特徴とするものである。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. The surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and the thin film layer has a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere when the optical information recording medium is completely assembled. In the method for producing an information recording medium, a resin layer is formed by a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer. The film thickness d during film formation is from 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during the assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1. Be less than or equal to It is an butterfly.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記
薄膜層が大気と遮断された構造になつている光情報記録
媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物
と光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂
層に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜
厚ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報
記録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤
量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であること
を特徴とするものである。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. The surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and the thin film layer has a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere when the optical information recording medium is completely assembled. In the method for producing an information recording medium, a resin layer is formed by a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer. The film thickness d during film formation is from 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during the assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1. Be less than or equal to It is an butterfly.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記
薄膜層が大気と遮断された構造になつている光情報記録
媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物
と光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂
層に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜
厚ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報
記録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤
量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であること
を特徴とするものである。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. The surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and the thin film layer has a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere when the optical information recording medium is completely assembled. In the method for producing an information recording medium, a resin layer is formed by a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer. The film thickness d during film formation is from 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during the assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1. Be less than or equal to It is an butterfly.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記
薄膜層が大気と遮断された構造になつている光情報記録
媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物
と光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂
層に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜
厚ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報
記録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤
量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であること
を特徴とするものである。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. The surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and the thin film layer has a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere when the optical information recording medium is completely assembled. In the method for producing an information recording medium, a resin layer is formed by a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer. The film thickness d during film formation is from 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during the assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1. Be less than or equal to It is an butterfly.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記
薄膜層が大気と遮断された構造になつている光情報記録
媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物
と光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂
層に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜
厚ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報
記録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤
量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であること
を特徴とするものである。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. The surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and the thin film layer has a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere when the optical information recording medium is completely assembled. In the method for producing an information recording medium, a resin layer is formed by a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer. The film thickness d during film formation is from 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during the assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1. Be less than or equal to It is an butterfly.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記
薄膜層が大気と遮断された構造になつている光情報記録
媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物
と光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂
層に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜
厚ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報
記録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤
量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であること
を特徴とするものである。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. The surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and the thin film layer has a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere when the optical information recording medium is completely assembled. In the method for producing an information recording medium, a resin layer is formed by a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer. The film thickness d during film formation is from 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during the assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1. Be less than or equal to It is an butterfly.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成され、当該光情報記録媒体の組立完了状態では、前記
薄膜層が大気と遮断された構造になつている光情報記録
媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物
と光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その層に
紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚ｄ
が30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記録
媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量Δ
ｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを特
徴とするものである。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. The surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and the thin film layer has a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere when the optical information recording medium is completely assembled. In the method for producing an information recording medium, a resin layer is formed with a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer. Film thickness d during film formation
Is 30 to 100 μm, and the film thickness swelling amount Δ due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium with respect to the film thickness d
The swelling ratio Δd / d indicating the ratio of d is 0.1% or less.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成された光情報記録媒体において、前記樹脂層を構成す
る紫外線硬化樹脂が、 （ａ）．末端にアクリル基もしくはメタクリル基を有
し、かつ分子内にポリブタジエン骨格またはポリ−１−
ブテン骨格をもつ有機化合物と、 （ｂ）．アクリル基基もしくはメタクリル基を１分子中
に１個有し、分子中に水酸基、カルボキシル基、チオー
ル基、アミン基などの極性をもたない有機化合物と、 （ｃ）．アクリル基もしくはメタクリル基を１分子中に
２個以上有し、分子中に水酸基、カルボキシル基、チオ
ール基、アミン基などの極性基をもたない有機化合物
と、 （ｄ）．光重合剤と を配合して組成物を硬化してなることを特徴とするもの
である。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. In the optical information recording medium in which the surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, the ultraviolet curable resin forming the resin layer comprises (a). Having an acrylic group or a methacrylic group at the terminal and having a polybutadiene skeleton or poly-1-
An organic compound having a butene skeleton, (b). An organic compound having one acrylic group or methacrylic group in one molecule and having no polarity such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a thiol group, or an amine group in the molecule, (c). An organic compound having two or more acryl groups or methacryl groups in one molecule and not having a polar group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a thiol group or an amine group in the molecule, (d). It is characterized in that the composition is mixed with a photopolymerizing agent and the composition is cured.
前述の目的を達成するため、さらに本発明は、少なく
とも透明基板と、その透明基板上に形成されたプリフオ
ーマツトパターンの転写層と、その転写層上に形成され
た薄膜層とを備え、少なくとも前記転写層の前記透明基
板と接する面が紫外線硬化性樹脂から成る樹脂層にて形
成された光情報記録媒体において、前記樹脂層を構成す
る１ないし複数のうちの不透水性を有する少なくとも１
つの薄膜を、前記転写面の全面すなわちプリピツトの側
面を含む全ての面に空気中の水分を遮断可能な厚さに形
成した。In order to achieve the above-mentioned object, the present invention further comprises at least a transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer. In an optical information recording medium in which a surface of the transfer layer in contact with the transparent substrate is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, at least one of water-impermeable one of a plurality of the resin layers is formed.
Two thin films were formed on the entire surface of the transfer surface, that is, on all surfaces including the side surface of the prepit, to a thickness capable of blocking moisture in the air.
また、前記不透水性の薄膜層をスパツタ法にて形成す
る場合には、真空槽内のガス圧を５×10-1パスカル以上
に調整し、また前記不透水性の薄膜層を真空蒸着法にて
形成する場合には、蒸発源に対する前記転写面の設定角
度を時間とともに変動するようにした。さらに、前記不
透水性の薄膜層の成膜方法としてプラズマケミカルベー
パーデイポジヨン法（以下、プラズマCVD法という）を
適用した。When the impermeable thin film layer is formed by the sputtering method, the gas pressure in the vacuum chamber is adjusted to 5 × 10 -1 Pascal or more, and the impermeable thin film layer is formed by the vacuum vapor deposition method. In the case of forming by, the set angle of the transfer surface with respect to the evaporation source was changed with time. Further, a plasma chemical vapor deposition method (hereinafter referred to as plasma CVD method) was applied as a method for forming the impermeable thin film layer.
樹脂層の成膜時の厚さｄに対する当該樹脂層の吸湿に
よる膜厚膨潤量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dを0.1％以
下に規制すると、樹脂層の膨潤によるトラツキングノイ
ズを実用上問題とならない程度のレベルに押さえること
ができ、記録容量の低下を防止することができる。When the swelling ratio Δd / d, which indicates the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer to the film thickness d when the resin layer is formed, is regulated to 0.1% or less, tracking noise due to the swelling of the resin layer is practically used. It can be suppressed to a level that does not cause a problem, and a decrease in recording capacity can be prevented.
また、前述の各分子構造式で表される有機化合物等を
混合することによつて得られる樹脂材料にて形成さた樹
脂層は、成膜時の厚さｄに対する当該樹脂層の吸湿によ
る膜厚膨潤量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dを0.1％以下
に規制することができる。よつて、樹脂層の膨潤による
トラツキングノイズを実用上問題とならない程度のレベ
ルに押さえることができ、記録容量の低下を防止するこ
とができる。Further, the resin layer formed of the resin material obtained by mixing the organic compound represented by each of the above-mentioned molecular structural formulas is a film formed by moisture absorption of the resin layer with respect to the thickness d during film formation. The swelling ratio Δd / d, which represents the ratio of the thick swelling amount Δd, can be regulated to 0.1% or less. Therefore, the tracking noise due to the swelling of the resin layer can be suppressed to a level that does not pose a practical problem, and the recording capacity can be prevented from lowering.
また、前述の（ａ）有機化合物、（ｂ）有機化合物、
（ｃ）有機化合物ならびに（ｄ）有機化合物を含む組成
物を硬化した樹脂層は、吸水率が0.3％と極めて低い。
またこの他に前記（ａ）有機化合物は樹脂層に適当な強
靭性を付与し、前記（ｂ）有機化合物は樹脂層中の応力
を低減して透明基板との接着性を増し、さらに（ｃ）有
機化合物は樹脂層に適当な剛性を付与して、スタンパか
らの剥離性を良くすることができる。Further, the above-mentioned (a) organic compound, (b) organic compound,
The resin layer obtained by curing the composition containing the organic compound (c) and the organic compound (d) has an extremely low water absorption rate of 0.3%.
In addition to the above, the (a) organic compound imparts appropriate toughness to the resin layer, and the (b) organic compound reduces the stress in the resin layer to increase the adhesiveness to the transparent substrate. The organic compound can impart appropriate rigidity to the resin layer and improve the releasability from the stamper.
このようなことから、樹脂層の吸湿による膨潤を抑制
することができ、その結果トラツキングノイズを低減し
て信頼性の高い光情報記録媒体を得ることができる。As a result, swelling of the resin layer due to moisture absorption can be suppressed, and as a result, tracking noise can be reduced and a highly reliable optical information recording medium can be obtained.
また、薄膜層を構成する１ないし複数の薄膜のうち不
透水性を有する少なくとも１つの薄膜を、前記転写面の
全面すなわちプリピツトの側面を含む全ての面に空気中
の水分を遮断可能な厚さに形成すると、吸湿性を有する
信号パターンの転写面が不透水性の薄膜層にて完全に包
被され、プリピツトの側面から空気中の水分が侵入して
樹脂層を局部的に膨潤するといつた現象を生じない。よ
つて、隣接トラツクにトラツクオフセツトを生じること
がなく、クロストークや信号の記録、再生不能といつた
不都合を解消することができる。In addition, at least one thin film having water impermeability among one or a plurality of thin films forming the thin film layer has a thickness capable of blocking moisture in the air over the entire transfer surface, that is, all surfaces including the side surface of the prepit. When it is formed, the transfer surface of the signal pattern having hygroscopicity is completely covered with the impermeable thin film layer, and moisture in the air invades from the side surface of the pit to locally swell the resin layer. No phenomenon occurs. Therefore, it is possible to eliminate the inconvenience such as crosstalk, signal recording and reproduction failure, without causing a track offset to the adjacent track.
一方、真空槽内のガス圧を５×10-1パスカル以上の高
圧に調整して不透水性の薄膜層をスパツタリングする方
法によると、ターゲツトから叩き出された粒子が導入ガ
スの粒子と衝突し易くなつてそのスパツタ粒子の進行方
向が拡散されるため、薄膜層を凹凸状の信号パターンの
転写面にほぼ均一な厚さに堆積することができる。On the other hand, according to the method of adjusting the gas pressure in the vacuum chamber to a high pressure of 5 × 10 -1 Pascal or more and sputtering the impermeable thin film layer, the particles knocked out from the target collide with the particles of the introduced gas. Since the traveling direction of the sputter particles is easily diffused, the thin film layer can be deposited with a substantially uniform thickness on the transfer surface of the uneven signal pattern.
また、蒸発源に対する信号パターンの転写面の設定角
度を時間とともに変動しながら不透水性の薄膜層を真空
蒸着する方法によると、蒸発粒子の進行方向に対して凹
凸状をなす信号パターンの転写面の各面をまんべんなく
正対させることができ、前記転写面上に不透水性の薄膜
層をほぼ均一な厚さに堆積することができる。Further, according to the method of vacuum-depositing a water-impermeable thin film layer while changing the set angle of the signal pattern transfer surface with respect to the evaporation source with time, the transfer surface of the signal pattern having an uneven shape in the traveling direction of the evaporation particles The respective surfaces can be evenly faced, and an impermeable thin film layer can be deposited on the transfer surface to a substantially uniform thickness.
さらに、プラズマCVD法は、成膜原料がほぼ均一に分
布したガス中で成膜を行うので、凹部内への成膜材料の
回り込みが良好であり、凹凸状の信号パターンの転写面
に薄膜層をほぼ均一な厚さに堆積することができる。Further, in the plasma CVD method, since the film forming raw material is formed in a gas in which the film forming raw material is almost evenly distributed, the film forming material can easily flow into the recesses, and the thin film layer can be formed on the transfer surface of the uneven signal pattern. Can be deposited to a substantially uniform thickness.
よつて、デツドゾーンの発生原因となるプリフオーマ
ツトパターンの変形が小さく、記録容量の高い光情報記
録媒体を提供することができる。Therefore, it is possible to provide an optical information recording medium with a high recording capacity, in which the deformation of the pre-format pattern that causes a dead zone is small.
以下、本発明の第１例を第１図ないし第６図に基づい
て説明する。A first example of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 6.
本発明の第１例で使用される紫外線硬化樹脂は、後記
の分子構造式（Ａ）〜（Ｊ）を有する有機化合物の２種
以上の混合物に、２−ヒドロキシ−２メチル−１−フエ
ニルプロパン−１−オンを光重合開始剤として添加し、
混合物が均一になるまでかき混ぜることによつて得られ
る。The ultraviolet curing resin used in the first example of the present invention is prepared by adding 2-hydroxy-2methyl-1-phenyl to a mixture of two or more organic compounds having the following molecular structural formulas (A) to (J). Propan-1-one is added as a photopolymerization initiator,
It is obtained by stirring until the mixture is homogeneous.
第１図（ａ）〜（ｄ）は、実施例１に係る光デイスク
の記録単板の製造工程を説明するための工程図である。
同図の（ａ）に示すように、グループ（深さ0.09μｍ、
幅0.40μｍ）およびピツト（深さ0.16μｍ、幅0.60μ
ｍ）を有する外径300mmのニツケル製スタンパ12を用意
する。 FIGS. 1A to 1D are process diagrams for explaining a manufacturing process of the recording veneer of the optical disc according to the first embodiment.
As shown in (a) of the figure, the group (depth 0.09 μm,
Width 0.40 μm) and pit (depth 0.16 μm, width 0.60 μm)
A nickel stamper 12 having an outer diameter of 300 mm and having a m) is prepared.
シランカツプリング剤（γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン）を110℃で30分間焼付けた外径300
mm、厚さ1.2mmのガラス円板からなる透明基板２と前記
スタンパ12の間に、後述する紫外線硬化性樹脂10を介在
し、透明基板２をスタンパ１側に押しつけ、樹脂層10厚
さを約80μｍに保持する。Outside diameter 300 after baking silane coupling agent (γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane) at 110 ℃ for 30 minutes
mm, 1.2 mm thick glass-made transparent substrate 2 and the stamper 12, the ultraviolet curable resin 10 described below is interposed, the transparent substrate 2 is pressed to the stamper 1 side, and the thickness of the resin layer 10 is reduced. Hold at about 80 μm.
そして第１図（ｂ）に示すように、透明基板２側から
波長320〜400nmにおける光強度が150mw/cm2のエネルギ
ー線を高圧水銀灯13を用いて30秒間照射し、前記紫外線
硬化性樹脂層10を硬化させて転写層とする。Then, as shown in FIG. 1 (b), an energy ray having a light intensity of 150 mw / cm 2 at a wavelength of 320 to 400 nm is irradiated from the transparent substrate 2 side for 30 seconds by using a high pressure mercury lamp 13, and the ultraviolet curable resin layer 10 is cured to form a transfer layer.
次に第１図（ｃ）に示すように、スタンパ12を樹脂層
10（転写）から剥離し、プリフオーマツトパターン付き
の透明基板２を得る。しかる後、第１図（ｄ）に示す如
く樹脂層10上にTe−Sn−Pb系の記録層14を30nmの厚さに
真空蒸着する。Next, as shown in FIG. 1 (c), the stamper 12 is covered with a resin layer.
The transparent substrate 2 with a pre-formatted pattern is obtained by peeling from 10 (transfer). Thereafter, as shown in FIG. 1D, a Te—Sn—Pb type recording layer 14 is vacuum-deposited on the resin layer 10 to a thickness of 30 nm.
第２図（ａ）〜（ｄ）は記録単板の製造工程の変形例
を示す図で、第１図に示した製造工程と相違する点は、
樹脂層10と記録層14との間に、ニトロセルロースやポリ
テトラフルオロエチレン（フツ素樹脂）などの記録膜下
地層15が設けられている。2 (a) to 2 (d) are views showing a modified example of the manufacturing process of the recording veneer, and different from the manufacturing process shown in FIG.
A recording film underlayer 15 made of nitrocellulose, polytetrafluoroethylene (fluorine resin) or the like is provided between the resin layer 10 and the recording layer 14.
第３図ないし第６図は、これらの記録単板を用いた光
デイスクの断面図である。3 to 6 are sectional views of an optical disc using these recording single plates.
第３図の光デイスクの場合、２枚の記録単板の記録層
14側を互に内側にし、内周スペーサ16ならびに外周スペ
ーサ17を介して貼合せた両面記録式のエアサンドイツチ
型構造になつている。In the case of the optical disc of FIG. 3, the recording layer of two recording single plates
It has a double-sided recording type air-sun deer type structure in which the 14 sides are placed inside each other and the inner peripheral spacers 16 and the outer peripheral spacers 17 are bonded to each other.
第４図の光デイスクの場合、１枚の記録単板と１枚の
保護板18とを、記録層14が内側になるように、内周スペ
ーサ16ならびに外周スペーサ17を介して貼合せた片面記
録式のエアサンドイツチ型構造になつている。In the case of the optical disk shown in FIG. 4, one recording single plate and one protective plate 18 are attached to each other via the inner peripheral spacer 16 and the outer peripheral spacer 17 so that the recording layer 14 is inside. It has a record-type Air Sun Germany type structure.
第５図の光デイスクの場合、記録単板の記録層14上に
耐湿性の保護層19が塗布形成された単板型構造になつて
いる。The optical disc shown in FIG. 5 has a single-plate structure in which a moisture-resistant protective layer 19 is formed by coating on the recording layer 14 of the recording single plate.
第６図の光デイスクは、２枚の記録単板の記録層14を
接着剤で20にて直接貼り合せた両面記録式の密着貼り合
せ構造になつている。The optical disc shown in FIG. 6 has a double-sided recording type close-bonding structure in which the recording layers 14 of two recording single plates are directly bonded with an adhesive 20.
その他、記録単板と信号の記録に関与しない保護板と
を貼り合せることによつて、片面記録式の光デイスクを
構成することも可能である。また、エアサンドイツチ構
造の光デイスクにおいては、光デイスクの組立が完了し
た状態で、２枚の記録単板の間に形成される空気層が大
気と遮断された密封型に形成することもできるし、その
空気層が大気と流通可能な通気型に形成することもでき
る。In addition, it is also possible to construct a single-sided recording type optical disc by bonding a recording single plate and a protection plate not involved in signal recording. Further, in the optical disc having the air-sun-gate structure, the air layer formed between the two recording single plates can be formed in a hermetically sealed type in a state where the optical disc is assembled. Alternatively, the air layer can be formed into a ventilation type that can communicate with the atmosphere.
前記第５図ないし第６図の構造では、光デイスクの組
立てが完了した状態では、記録層14は大気と遮断された
密閉構造となつている。In the structure shown in FIGS. 5 to 6, the recording layer 14 has a closed structure that is shielded from the atmosphere when the optical disc is completely assembled.
前述の記録単板において、樹脂層10の成膜時における
膜厚ｄは30〜100μｍに規制する必要がある。すなわち
膜厚ｄが30μｍより薄くなると、厚みムラの比率が大と
なり、膜の平坦性が悪く、その結果ビームの追従性が悪
い。一方、膜厚ｄが100μｍを超えて厚くなり過ぎる
と、樹脂層10の硬化時に層が収縮する際に応力が発生
し、透明基板が反つてしまう。このようなことから、樹
脂層10の成膜時の膜厚ｄは30〜100μｍの範囲に規制す
る必要がある。In the above-mentioned recording veneer, the film thickness d of the resin layer 10 during film formation needs to be regulated to 30 to 100 μm. That is, when the film thickness d is smaller than 30 μm, the ratio of the thickness unevenness is large, the flatness of the film is poor, and as a result, the beam followability is poor. On the other hand, if the film thickness d exceeds 100 μm and becomes too thick, stress is generated when the resin layer 10 shrinks during curing, and the transparent substrate warps. For this reason, the film thickness d of the resin layer 10 at the time of film formation needs to be restricted to the range of 30 to 100 μm.
次に各実施例ならびに比較例での紫外線硬化性樹脂層
の組成を第１表に示す。なお表中の成分Ａ〜Ｊは前述の
分子構造式のものを示し、成分Ｋは次の分子構造式を示
す有機化合物である。Next, Table 1 shows the composition of the ultraviolet curable resin layer in each of Examples and Comparative Examples. The components A to J in the table have the above-mentioned molecular structural formulas, and the component K is an organic compound having the following molecular structural formulas.
次に各実施例ならびに比較例の成膜時における樹脂層
10の膜厚ｄと、それらの組立中に生じる樹脂層10の吸湿
による膜厚膨潤量Δｄと、膜厚ｄに対する膨潤量の比率
（膨潤率）Δd/dとを測定、計算して次の第２表に示
す。 Next, the resin layer at the time of film formation of each example and comparative example
The film thickness d of 10, the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer 10 generated during the assembly, and the ratio (swelling ratio) Δd / d of the swelling amount to the film thickness d are measured and calculated as follows. It is shown in Table 2.
なお、光デイスクの組立ては、いずれも20℃、50％RH
下で行なつた。The optical discs were assembled at 20 ℃ and 50% RH.
I went below.
各実施例ならびに比較例によつて得られた光デイスク
のトラツクノイズ、クロストークならびにピツト長読取
り特性を次の第３表に示す。なお、表中のクロストーク
ならびにピツト長読取り特性については、クロストーク
およびピツト長変化がデイスク内の書込みデータにエラ
ーを生じさせない状態を○印、エラーを生じさせた状態
を×印で示した。 The following Table 3 shows the track noise, crosstalk and pit length reading characteristics of the optical discs obtained in the respective Examples and Comparative Examples. Regarding the crosstalk and the pit length reading characteristics in the table, the state where the crosstalk and the pit length change do not cause an error in the write data in the disk is shown by a circle, and the state where the error occurs is shown by a cross.
この第３表から明らかなように、樹脂層の膨潤率（Δ
d/d）を0.1％以下、特に0.05％以下に規制することによ
り、トラツクノイズが低下し、トラツクオフセツトによ
るクロストークや読取りエラーなどの問題を解消するこ
とができ、信頼性の向上が図れる。なお、前記実施例に
おいては、薄膜層として記録層14を形成したが、例えば
反射膜など他の薄膜層を形成することもできる。 As is clear from Table 3, the swelling ratio of the resin layer (Δ
By controlling d / d) to 0.1% or less, especially 0.05% or less, track noise is reduced, problems such as crosstalk and read error due to track offset can be solved, and reliability can be improved. . Although the recording layer 14 is formed as a thin film layer in the above embodiment, another thin film layer such as a reflection film may be formed.
以下、本発明の第２例を第７図および第８図に基づい
て説明する。なお、第２例に係る光デイスク記録単板の
製造方法については、第１図および第２図に示したと同
じであり、重複を避けるため図示を省略する。A second example of the present invention will be described below with reference to FIGS. 7 and 8. The manufacturing method of the optical disk recording single plate according to the second example is the same as that shown in FIGS. 1 and 2, and the illustration thereof is omitted to avoid duplication.
第２例に係る光デイスク記録単板の特徴は、樹脂層10
を構成する紫外線硬化性樹脂として、 （ａ）．末端アクリル基もしくはメタクリル基を有し、
かつ分子内にポリブタジエン骨格またはポリ−１−ブデ
ン骨格をもつ有機化合物と、 （ｂ）．アクリル基もしくはメタクリル基を１分子中に
１個有し、分子中に水酸基、カルボキシル基、チオール
基、アミノ基などの極性基をもたない有機化合物と、 （ｃ）．アクリル基もしくはメタクリル基を１分子中に
２個以上有し、分子中に水酸基、カルボキシル基、チオ
ール基、アミン基などの極性基をもたない有機化合物
と、 （ｄ）．光重合剤と を配合して組成物を硬化したものから構成したことにあ
る。The characteristic of the optical disk recording single plate according to the second example is that the resin layer 10
As an ultraviolet curable resin constituting (a). Having a terminal acrylic group or methacrylic group,
And an organic compound having a polybutadiene skeleton or a poly-1-butene skeleton in the molecule, (b). An organic compound having one acryl group or methacryl group in one molecule and having no polar group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a thiol group or an amino group in the molecule, (c). An organic compound having two or more acryl groups or methacryl groups in one molecule and not having a polar group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a thiol group or an amine group in the molecule, (d). It is composed of a composition obtained by mixing a photopolymerizing agent and curing the composition.
前記（ａ）有機化合物中、分子内にポリブタジエン骨
格を有するものとしては、下記の式（１）または式
（２）に示す化合物がある。Among the organic compounds (a), those having a polybutadiene skeleton in the molecule include compounds represented by the following formula (1) or formula (2).
また前記（ａ）有機化合物中、分子内にポリ−１−ブ
デン骨格を有するものとしては、下記の式（３）に示す
化合物がある。 Further, among the organic compounds (a), compounds having a poly-1-butene skeleton in the molecule include compounds represented by the following formula (3).
前記（ａ）有機化合物平均分子量は、500〜10000のも
のが好適である。平均分子量が500未満では樹脂層10の
機械的強度が低下し、一方、平均分子量が10000を超え
ると光硬化性組成物の粘度が高くなり、そのために作業
性が低下する。 The average molecular weight of the organic compound (a) is preferably 500 to 10,000. If the average molecular weight is less than 500, the mechanical strength of the resin layer 10 will be reduced, while if the average molecular weight is more than 10,000, the viscosity of the photocurable composition will be high, and therefore the workability will be reduced.
前記（ｂ）有機化合物としては、例えばメチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イ
ソプロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレ
ート、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレ
ート、ｔ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシル
アクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、イ
ソデシルアクリレート、イソデシルメタクリレート、ラ
ウリルアクリレート、ラウリルメタクリレート、イソボ
ルニルアクリレート、インボルニルメタクリレートなど
が用いられる。Examples of the organic compound (b) include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate,
Ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-Ethylhexyl methacrylate, isodecyl acrylate, isodecyl methacrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, isobornyl acrylate, inbornyl methacrylate and the like are used.
前記（ｃ）有機化合物としては、例えばエチレングリ
コールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリ
レート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブ
タンジオールジメタクリレート、1,4−ブタンジオール
ジアクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジメタクリレート、ネオペンチグリコー
ルジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,10
−デカンジオールジアクリレート、1,10−デカンジオー
ルジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアク
リレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート
などが使用される。Examples of the organic compound (c) include ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, and 1,4. -Butanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,10
-Decanediol diacrylate, 1,10-decanediol dimethacrylate, tripropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol dimethacrylate, etc. are used.
前記（ｄ）有機化合物である光重合剤は、光照射によ
りラジカルを生じ、アクリル基またはメタクリル基をラ
ジカル重合させるものならば特に限定されないが、例え
ばベンジル類、ベンゾイン類、チオキサントン類、アン
トラキノン類、ベンジルケタール類、１−ヒドロキシク
ロヘキシシルフエニルケトンなどが有効である。The photopolymerization agent which is the organic compound (d) is not particularly limited as long as it produces a radical upon irradiation with light and radically polymerizes an acrylic group or a methacrylic group. For example, benzyls, benzoins, thioxanthones, anthraquinones, Benzyl ketals, 1-hydroxy chlorhexyl phenyl ketone, etc. are effective.
前述の記録膜下地層15に使用されるニトロセルロース
としては、窒素分が11.9〜12.2％、平均置換度が約2.1
〜2.3、固形分12.2％における粘度が850〜1000（秒）の
ニトロセルロース（旭化成社製 製品名HI−1000）が好
適である。The nitrocellulose used for the recording film underlayer 15 has a nitrogen content of 11.9 to 12.2% and an average substitution degree of about 2.1.
Nitrocellulose (product name: HI-1000 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) having a viscosity of 850 to 1000 (seconds) at a solid content of 12.3% and a solid content of 12.2% is suitable.
樹脂層10を作る組成物の具体的な組成（重量部）を第
７図に示す。なお図中の化合物１〜９は下記の有機化合
物である。The specific composition (parts by weight) of the composition for forming the resin layer 10 is shown in FIG. Compounds 1 to 9 in the figure are the following organic compounds.
化合物１ 両末端メタクリル基含有のポリ1,2ブタジエン（平均
分子量2000 日本槽達社製 製品名TE−2000） 化合物２ 両末端アクリル基含有のポリ−１−ブテン（平均分子
量1000 日本槽達社製 製品名TEAI−1000） 化合物３ 両末端アクリル基含有のポリ−１−ブテン（平均分子
量3000 日本槽達社製 製品名TEAI−3000） 分子構造式は、前記化合物３と同じ。Compound 1 Poly (1,2 butadiene) with methacryl groups on both ends (average molecular weight 2000, product name TE-2000, manufactured by Nippontanda Co., Ltd.) Compound 2 Poly-1-butene containing an acrylic group at both ends (average molecular weight 1000, product name TEAI-1000, manufactured by Nippon Tandan Co., Ltd.) Compound 3 Poly-1-butene having an acrylic group at both ends (average molecular weight 3000, product name TEAI-3000 manufactured by Nippon Tanka Co., Ltd.) The molecular structural formula is the same as that of the compound 3.
第７図に示す実施例１〜14について下記の各種テスト
を行ない、その結果を次の第４表に表す。 The following various tests were conducted on Examples 1 to 14 shown in FIG. 7, and the results are shown in Table 4 below.
（テスト項目） テスト1:20℃で７日間水中に浸漬した後の樹脂層の吸収
率。〔単位 ％〕 テスト2:記録層を蒸着して通気状態で20℃、50％RHの環
境下で24時間エージングしたのちのトラツクノイズ。
〔単位 ％〕 テスト3:基板と樹脂層とのクロスハツチ密着力テスト。
このテストは基板上に樹脂層を形成し、その樹脂層に1m
m間隔で11本の切れ目を直交するように、かつ切れ目を
基板上に達するまで入れ、100個の独立した正方形部分
を形成する。そして粘着テープで３回引き剥がし操作を
行なつて、残つた正方形部分の個数を調べた。〔JIS K
5400参照 単位 個〕 テスト4:スタンパからの剥離性テスト。(Test item) Test 1: Absorption rate of resin layer after immersion in water at 20 ° C for 7 days. [Unit:%] Test 2: Track noise after vapor deposition of the recording layer and aging for 24 hours in an environment of 20 ° C and 50% RH under aeration.
[Unit%] Test 3: Crosshatch adhesion test between substrate and resin layer.
This test forms a resin layer on the substrate and
Eleven cuts are orthogonally crossed at m intervals, and cuts are made until reaching the substrate to form 100 independent square portions. Then, the adhesive tape was peeled off three times, and the number of remaining square portions was examined. [JIS K
See 5400 Units] Test 4: Peelability test from stamper.
テスト5:スタンパからのパターンの転写性テスト。Test 5: Transferability test of pattern from stamper.
テスト6:記録膜下地層形成工程の作業性。Test 6: Workability of the recording film underlayer forming process.
なお、テスト４〜６中で、◎印は極めて良好な状態、
○印は良好な状態と判断したものを示す。In addition, in tests 4 to 6, the ⊚ mark indicates an extremely good condition,
The mark ○ indicates that it was judged to be in good condition.
第２図（ｄ）に示すように紫外線硬化性樹脂からなる
樹脂層10とニトロセルロースからなる下地層15を形成す
る光情報記録媒体の場合、樹脂層10を構成する組成物は
ニトロセルロースと実質的に相溶性のない材料を選択す
る方がよい。この明細書においてニトロセルロースと実
質的に相溶性のない材料とは、全く相溶性のない材料の
他に、若干の相溶性があつても反射率に影響を与えない
ものも含むことを意味する。 In the case of an optical information recording medium in which a resin layer 10 made of an ultraviolet curable resin and a base layer 15 made of nitrocellulose are formed as shown in FIG. 2 (d), the composition constituting the resin layer 10 is substantially nitrocellulose. It is better to select materials that are not compatible with each other. In this specification, a material that is substantially incompatible with nitrocellulose is meant to include, in addition to materials that are completely incompatible, materials that are slightly compatible but do not affect the reflectance. .
本発明者らはニトロセルロースに対して実質的に相溶
性のない組成物について種々検討した結果（ａ）有機組
成物については、前述の分子構造式で示されたものなど
が用いられ、（ｂ）有機化合物については下記の分子構
造式を有するものが使用できる。The present inventors have conducted various studies on compositions that are substantially incompatible with nitrocellulose. (A) As the organic composition, those represented by the above-mentioned molecular structural formula are used, and (b) As the organic compound, one having the following molecular structural formula can be used.
また（ｃ）有機化合物については、下記の分子構造式
を有するものが使用できる。 As the organic compound (c), one having the following molecular structural formula can be used.
なおこれらの分子構造中において、ＲはＨもしくはCH
3を示している。 In these molecular structures, R is H or CH.
3 is shown.
次にこれら各有機化合物の組成比について検討した結
果、第８図の点A,B,C,Dを結ぶ直線で囲まれる斜線の範
囲内のものが好適であることが分かつた。点A,B,C,Dの
各有機化合物（ａ），（ｂ），（ｃ）の組成比を示せば
次の第５表の通りである。Next, as a result of examining the composition ratio of each of these organic compounds, it was found that those within the range of the diagonal line surrounded by the straight line connecting points A, B, C and D in FIG. 8 are preferable. The composition ratios of the organic compounds (a), (b) and (c) at the points A, B, C and D are shown in Table 5 below.
前述の（ａ），（ｂ），（ｃ）有機化合物を用い、し
かも第８図点A,B,C,Dを結ぶ直線で囲まれる斜線の範囲
内で配合すれば、ニトロセルロースからなる下地層への
悪影響がない。記録層を形成した状態での平均反射率は
40％であり、前述の点Ａ〜Ｄを結ぶ直線で囲まれた斜線
の範囲内で配合された樹脂層を有する光デイスクの場
合、反射率のばらつき範囲を測定したところ約38〜42％
であつた。これに対して同じ（ａ）〜（ｃ）有機化合物
を用いても斜線の範囲外で配合された樹脂層を有する光
デイスクでは、反射率のばらつき範囲が約30〜42％と広
い結果が出た。 Using the organic compounds (a), (b) and (c) described above, and blending within the range of the diagonal line surrounded by the straight line connecting points A, B, C and D in FIG. There is no adverse effect on the stratum. The average reflectance with the recording layer formed is
40%, and in the case of an optical disk having a resin layer compounded within the range of the diagonal line surrounded by the straight line connecting the points A to D, the range of variation in reflectance was measured to be about 38 to 42%.
It was. On the other hand, even if the same organic compounds (a) to (c) are used, an optical disk having a resin layer compounded outside the range of the diagonal line shows a wide range of the reflectance variation range of about 30 to 42%. It was
従来公知にあたる樹脂層の組成を次の第６表に示す。
なお表中の化合物は次の通りである。The composition of the conventionally known resin layer is shown in Table 6 below.
The compounds in the table are as follows.
化合物８ 前記実施例で示した化合物８と同一物質 化合物10 ポリカーボネートジアクリレート（日本ポリウレタン社
製 製品名DN−981 分子量1000） 化合物11 ポリウレタンジアクリレート（住友バイエル社製 製
品名デスモフエン2020E 分子量2000） 各試料（比較例１〜３）の各種テスト結果を次の第７
表に示す。なお、各種のテスト条件は前記実施例で述べ
た条件と同一である。Compound 8 The same substance as compound 8 shown in the above-mentioned Example Compound 10 Polycarbonate diacrylate (product name: Nippon Polyurethanes, product name: DN-981, molecular weight 1000) Compound 11 Polyurethane diacrylate (Sumitomo Bayer product name: Desmofuen 2020E, molecular weight 2000) The various test results of each sample (Comparative Examples 1 to 3) are shown in the next 7th item.
Shown in the table. The various test conditions are the same as those described in the above embodiment.
この表から明らかなように、テスト４（剥離テス
ト）、テスト５（パターン転写性テスト）ならびにテス
ト６（作業性）は比較的良好な結果が得られているが、
透明基板（ガラス板）に対する密着性が悪く、記録層の
蒸着中に樹脂が基板から剥離するためトラツクノイズの
測定が不可能であつた。 As is clear from this table, the test 4 (peel test), the test 5 (pattern transfer test), and the test 6 (workability) have relatively good results.
Since the adhesion to the transparent substrate (glass plate) was poor and the resin was peeled off from the substrate during the vapor deposition of the recording layer, it was impossible to measure the track noise.
これに対して本発明のものは、基板との発着性が良い
ため樹脂層剥離がなく、さらに樹脂層の給水率が低いた
め、トラツキングノイズの発生が少なく、どのトラツク
でも表面状態が平坦で、ブロツク境界線近くでも全て使
用でき、記録容量の現少を防止し、CLV方式、MCAV方式
あるいはMCLV方式の特長が十分に発揮でき、信頼性の高
い光情報記録媒体を得ることができる。On the other hand, in the case of the present invention, since the adhesion to the substrate is good, there is no peeling of the resin layer, and since the water supply rate of the resin layer is low, the occurrence of tracking noise is small, and the surface condition is flat on any track. It is possible to use all near the block boundary, prevent the recording capacity from becoming small, and fully utilize the features of the CLV system, MCAV system, or MCLV system, and obtain a highly reliable optical information recording medium.
本例の記録単板からも第３図〜第６図に示した各種の
光デイスクを組立てることができる。Various optical disks shown in FIGS. 3 to 6 can be assembled from the recording single plate of this example.
以下、本発明の第３例を第９図ないし第16図に基づい
て説明する。The third embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 9 to 16.
第９図は本例に係る記録単板の第１変形例を示す断面
図であつて、２は透明基板、10は樹脂層、８はプリピツ
ト、９は案内溝（プリグループ）、11は薄膜層である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a first modified example of the recording veneer according to this example, in which 2 is a transparent substrate, 10 is a resin layer, 8 is a prepit, 9 is a guide groove (pregroup), and 11 is a thin film. It is a layer.
本変形例の薄膜層11は、樹脂層側より誘電体製の不透
水膜21と、記録感度を向上するための下地膜22と、ライ
トワンス方式の記録膜23から成る３層構造となつてい
る。The thin film layer 11 of this modification has a three-layer structure including a water impermeable film 21 made of a dielectric material from the resin layer side, a base film 22 for improving recording sensitivity, and a write-once recording film 23. There is.
前記不透水膜21を形成する誘電体としては、例えばSi
O,SiO2,Al2O3,Si3N4,AlN,ZnS,MgF2など、金属もしくは
半金属の酸化物、窒化物、硫化物、フツ化物から選択さ
れた物質を用いることができる。Examples of the dielectric material forming the water impermeable film 21 include Si
A substance selected from oxides, nitrides, sulfides, and fluorides of metals or semimetals such as O, SiO 2 , Al 2 O 3 , Si 3 N 4 , AlN, ZnS, and MgF 2 can be used.
前記下地層22としては、記録膜が孔あけ方式である場
合、例えばポリテトラフルオロエチレン膜など、記録膜
よりも低い温度で融解、分解、昇華等する物質を用いる
ことができる。When the recording film is of a perforation type, a material that melts, decomposes, sublimates, or the like at a temperature lower than that of the recording film can be used as the underlayer 22 when the recording film is of a perforation type.
前記記録膜23としては、例えばテルル系孔あけ方式の
記録膜や気泡形成を利用した記録膜などを用いることが
できる。As the recording film 23, for example, a tellurium-based perforation type recording film or a recording film utilizing bubble formation can be used.
これらの各膜21,22,23は、いずれも第９図および第10
図に示すように、ピリピツト８の側面8aを含む前記樹脂
層３の全表面およびこの転写面の端部からこれと隣接す
る基板の一部にかかる領域の全面にわたつてほぼ均一な
高さに形成さている。これらの各膜のうち不透水性を有
する前記不透水膜21および記録膜23については、空気中
の水分を遮断可能な厚さ、例えば前記不透水膜21につい
ては300オングストローム以上の厚さに形成される。Each of these films 21, 22 and 23 is shown in FIGS.
As shown in the figure, there is a substantially uniform height over the entire surface of the resin layer 3 including the side surfaces 8a of the pyrite 8 and the entire area of the area from the end of the transfer surface to a part of the substrate adjacent to the transfer surface. Is formed. Of these films, the water-impermeable film 21 and the recording film 23 having water impermeability have a thickness capable of blocking moisture in the air, for example, the water-impermeable film 21 has a thickness of 300 angstroms or more. To be done.
第９図に示すような均一な厚さの薄膜層11を形成する
手段としては、ガス圧が５×10-1パスカル以上の高圧
に調整された真空槽内で、各薄膜層材料をスパツタリン
グする、蒸発源に対する前記転写面の設定角度を時間
とともに変動するようにしながら各薄膜層材料を真空蒸
着する、真空成膜法としてプラズマCVD法を用いるな
どの手段を採ることができる。As a means for forming a thin film layer 11 having a uniform thickness as shown in FIG. 9, each thin film layer material is sputtered in a vacuum chamber whose gas pressure is adjusted to a high pressure of 5 × 10 −1 Pascal or more. It is possible to adopt means such as vacuum deposition of each thin film layer material while varying the set angle of the transfer surface with respect to the evaporation source with time, and use of a plasma CVD method as a vacuum film forming method.
なお、本第１変形例の光情報記録媒体は、MCAV方式、
MCLV方式、CAV方式、CLV方式など、任意のプリフオーマ
ツト方式を有する光デイスクに適用することができる。
また、光デイスクのみならず、光カードなど任意の形状
の光情報記録媒体に適用することができる。The optical information recording medium of the first modified example is the MCAV system,
It can be applied to an optical disk having any pre-formatted system such as MCLV system, CAV system and CLV system.
Further, not only the optical disc but also an optical information recording medium of any shape such as an optical card can be applied.
前記第１変形例の光情報記録媒体は、吸湿性を有する
信号パターンの転写面を不透水性の不透水膜21および記
録膜23を含む３つの膜で完全に包被したので、プリピツ
トの側面から空気中の水分が侵入して樹脂層を局部的に
膨潤するといつた現象を生じることがない。よつて、隣
接トラツクにトラツクオフセツトを生じることがなく、
クロストークや信号の記録、再生不能といつた不都合を
解消することができる。In the optical information recording medium of the first modified example, the transfer surface of the hygroscopic signal pattern is completely covered with three films including the water-impermeable impermeable film 21 and the recording film 23. When the moisture in the air penetrates from there to locally swell the resin layer, no phenomenon occurs. Therefore, the track offset does not occur in the adjacent track,
It is possible to solve problems such as crosstalk, signal recording, and reproduction failure.
なお、前記３つの薄膜21,22,23のうち透水性を有する
下地膜22については必ずしも前記転写面の全表面にわた
つて均一の厚さに形成することを要さず、プリピツト８
の側面8a部分が薄になつても、不透水性を有する膜の膜
厚の合計が所定の値以上になつていれば前記第１変形例
と同様の効果を奏することができる。Of the three thin films 21, 22, and 23, the water-permeable base film 22 does not necessarily have to be formed to have a uniform thickness over the entire transfer surface.
Even if the side surface 8a is thin, if the total film thickness of the water-impermeable film is equal to or more than a predetermined value, the same effect as the first modification can be obtained.
次に、本例の第２変形例を第11図に基づいて説明す
る。第２変形例の光情報記録媒体は、第１変形例の光情
報記録媒体における不透水膜21を省略したものであつ
て、第１図と対応する部分にはそれと同一の符号が表示
されている。Next, a second modification of this example will be described with reference to FIG. The optical information recording medium of the second modified example is the optical information recording medium of the first modified example in which the water impermeable film 21 is omitted, and the same reference numerals are displayed in the portions corresponding to FIG. There is.
第11図に示すように、本変形例の薄膜層11は、樹脂層
10側より記録感度を向上するための下地膜22と、ライト
ワンス方式の記録膜23から成る２層構造となつている。
そして、第10図に示すように、これらの各膜22,23が、
プリピツト８の側面8aを含む樹脂層の全表面およびこの
樹脂層10の端部からこれと隣接する基板２の一部にかか
る領域の全面にわたつてほぼ均一な厚さに形成されてい
る。As shown in FIG. 11, the thin film layer 11 of this modification is a resin layer.
It has a two-layer structure including a base film 22 for improving recording sensitivity from the 10 side and a write-once recording film 23.
Then, as shown in FIG. 10, each of these films 22 and 23 is
It is formed to have a substantially uniform thickness over the entire surface of the resin layer including the side surface 8a of the prepit 8 and the entire area of the resin layer 10 extending from the end portion to a portion of the substrate 2 adjacent thereto.
その他、この光情報記録媒体を構成する各部分の材
質，形状、寸法，それにプリフオーマツトパターンの転
写方法、各薄膜の膜厚、および各薄膜の形成方法等に関
しては、第９図に揚げた前出の光情報記録媒体と同じで
ある。In addition, the material, shape, and size of each part constituting the optical information recording medium, the transfer method of the pre-format pattern, the film thickness of each thin film, and the forming method of each thin film are shown in FIG. This is the same as the optical information recording medium described above.
本第２変形例は、例えば完全に脱水処理がなされた密
封形エアサンドイツチ構造の光情報記録媒体のように、
記録ピツトからの透水をあまり問題にせず、プリピツト
８からの透水を主として問題にする光情報記録媒体に適
用することができる。The second modified example is, for example, an optical information recording medium of a hermetically sealed air-sun germany structure that has been completely dehydrated.
It can be applied to an optical information recording medium in which water permeation from the recording pit is not a serious problem and water permeation from the prepit 8 is a main problem.
なお、前記２つの薄膜22,23のうち透水性を有する下
地膜22については必ずしも前記樹脂層10の全表面にわた
つて均一の厚さに形成することを要さず、プリピツト８
の側面8a部分が薄くなつても前記第１実施例と同様の効
果を奏することができる。The water-permeable underlying film 22 of the two thin films 22 and 23 does not necessarily have to be formed to have a uniform thickness over the entire surface of the resin layer 10.
Even if the side surface 8a is thin, the same effect as in the first embodiment can be obtained.
次に、本例の第３変形例を第12図に基づいて説明す
る。第12図において、25はエンハンス膜、26は光磁気記
録膜を示し、その他第１図と対応する部分にはそれと同
一の符号が表示されている。Next, a third modified example of this example will be described with reference to FIG. In FIG. 12, 25 is an enhancement film, 26 is a magneto-optical recording film, and the other parts corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals.
第12図に示すように、本変形例の薄膜層11は、樹脂層
10側より前記基板２よりも高い光の屈折率を有する誘電
体製のエンハンス膜25と光磁気記録膜26と、前記基板２
とほぼ等しい光の屈折率を有する誘電体製の不透水膜21
から成る３層構造となつている。As shown in FIG. 12, the thin film layer 11 of this modification is a resin layer.
A dielectric enhancement film 25 and a magneto-optical recording film 26 having a higher refractive index of light than the substrate 2 from the 10 side, and the substrate 2
Impermeable film 21 made of a dielectric material having a refractive index of light substantially equal to
It has a three-layer structure.
前記エンハンス膜25を形成する誘電体としては、例え
ばSiO,Al2O3,Si3N4,AlN,ZnSなど、不透水膜21を形成す
ると同様の物質を用いることができる。このエンハンス
膜25は、再生用光の波長をλ、当該エンハンス膜25の光
の屈折率をｎとしたとき、λ/4nの厚さに形成される。As the dielectric material forming the enhance film 25, the same substance as that used to form the water impermeable film 21 can be used, such as SiO, Al 2 O 3 , Si 3 N 4 , AlN, ZnS. The enhancement film 25 is formed with a thickness of λ / 4n, where λ is the wavelength of the reproducing light and n is the refractive index of the light of the enhancement film 25.
光磁気記録膜26としては、例えばテルビウム−鉄−コ
バルト系合金で代表される遷移金属と希土類金属とのア
モルフス合金など、公知に属するものを用いることがで
きる。As the magneto-optical recording film 26, a well-known one such as an amorphous alloy of a transition metal represented by a terbium-iron-cobalt alloy and a rare earth metal can be used.
これらの各膜25,26,21は、いずれも第12図に示すよう
に、プリピツト８の側面8aを含む前記樹脂層10の全面お
よびこの転写面の端部からこれと隣接する基板の一部に
かかる領域の全面にわたつてほぼ均一な厚さに形成され
ている（第10図参照） その他、この光情報記録媒体を構成する各部分の材
質、形状、寸法、それにプリフオーマツトパターンの転
写方法、各薄膜の膜厚、および各薄膜の形成方法等に関
しては、第９図に揚げた前出の光情報記録媒体と同じで
ある。As shown in FIG. 12, each of these films 25, 26, 21 is formed on the entire surface of the resin layer 10 including the side surface 8a of the prepit 8 and a part of the substrate adjacent to the end portion of the transfer surface. It is formed to have a substantially uniform thickness over the entire area (see Fig. 10). In addition, the material, shape and dimensions of each part that constitutes this optical information recording medium, and the transfer of the pre-format pattern The method, the film thickness of each thin film, the method of forming each thin film, and the like are the same as those of the above-described optical information recording medium shown in FIG.
本変形例の光情報記録媒体は記録時記録膜26に孔があ
かないので、記録ピツト（磁化ドメイン）からの透水が
問題になることはない。プリピツト部８からの透水につ
いては、前記第１の変形例の光情報記録媒体と同様の効
果がある。In the optical information recording medium of this modified example, since there is no hole in the recording film 26 during recording, there is no problem of water permeation from the recording pit (magnetization domain). Regarding the water permeation from the prepit portion 8, the same effect as the optical information recording medium of the first modified example is obtained.
なお、前記３つの薄膜25,26,21はいずれも不透水性が
ある。従つて、前記第３変形例のように全ての薄膜を前
記樹脂層10の全表面にわたつて均一の厚さに形成するこ
とは必ずしも必要ではなく、このうちの少なくとも１つ
の膜を均厚に形成するか、不透水性を有する膜の膜厚の
合計が所定の値以上になるようにすれば、前記第１変形
例と同様の効果を奏することができる。The three thin films 25, 26 and 21 are impermeable to water. Therefore, it is not always necessary to form all the thin films to have a uniform thickness over the entire surface of the resin layer 10 as in the third modified example, and at least one of these films should have a uniform thickness. The same effect as that of the first modification can be obtained by forming or by making the total film thickness of the water-impermeable film to be a predetermined value or more.
次に、本発明の第４変形例を第13図に基づいて説明す
る。第13図において、25はエンハンス膜、26は光磁気記
録膜、27はエンハンス機能のある保護膜、28は反射膜を
示し、その他第９図と対応する部分にはそれと同一の符
号が表示されている。Next, a fourth modified example of the present invention will be described with reference to FIG. In FIG. 13, reference numeral 25 is an enhancement film, 26 is a magneto-optical recording film, 27 is a protective film having an enhancement function, 28 is a reflection film, and other parts corresponding to FIG. ing.
第13図に示すように、本変形例の薄膜層11は、樹脂層
10側より前記基板２よりも高い光の屈折率を有する誘電
体製のエンハンス膜25と、光磁気記録膜26と、エンハン
ス機能のある誘電体製の保護膜27、反射膜28とから成る
４層構造になつている。As shown in FIG. 13, the thin film layer 11 of this modification is a resin layer.
A dielectric enhancement film 25 having a refractive index of light higher than that of the substrate 2 from the 10 side, a magneto-optical recording film 26, a dielectric protection film 27 having an enhancement function, and a reflection film 28. It has a layered structure.
前記保護膜27を形成する誘電体としては、例えばSiO,
Al2O3,Si3N4,AlN,ZnSなど、エンハンス膜25を形成する
と同様の物質を用いることができる。この保護膜27は、
再生用光の波長をλ、当該保護膜27の光の屈折率をｎと
したとき、λ/4nの厚さに形成される。Examples of the dielectric material forming the protective film 27 include SiO,
When forming the enhancement film 25, similar substances such as Al 2 O 3 , Si 3 N 4 , AlN, and ZnS can be used. This protective film 27 is
The thickness of the light for reproduction is λ / 4n, where λ is the wavelength of the reproduction light and n is the refractive index of the light of the protective film 27.
反射膜28としては、例えばアルミニウムなどの金属膜
を用いることができる。As the reflective film 28, for example, a metal film such as aluminum can be used.
これらの各膜25〜28は、いずれも第13図に示すよう
に、プリピツト８の側面8aを含む前記樹脂層10の全表面
およびこの樹脂層10の端部からこれと隣接する基板２の
一部にかかる領域の全面にわたつてほぼ均一な厚さに形
成されている。（第10図参照） その他、この光情報記録媒体を構成する各部分の材
質、形状、寸法、それにプリフオーマツトパターンの転
写方法、各薄膜の膜厚、および各薄膜の形成方法等に関
しては、第９図および第11図に揚げた前出の光情報記録
媒体と同じである。As shown in FIG. 13, all of these films 25 to 28 are formed on the entire surface of the resin layer 10 including the side surface 8a of the prepit 8 and one end of the resin layer 10 and the substrate 2 adjacent thereto. It is formed to have a substantially uniform thickness over the entire surface of the part. (Refer to FIG. 10) In addition, regarding the material, shape and size of each part constituting the optical information recording medium, the method of transferring the pre-format pattern, the thickness of each thin film, the method of forming each thin film, etc., This is the same as the above-mentioned optical information recording medium shown in FIGS. 9 and 11.
本変形例の光情報記録媒体は前記第１変形例の光情報
記録媒体と同様の効果を奏するほか、エンハンス機能が
ある膜を２重に形成したので、より再生感度が高いとい
う特徴がある。The optical information recording medium of this modification has the same effect as that of the optical information recording medium of the first modification, and is characterized in that the film having the enhancing function is doubled so that the reproduction sensitivity is higher.
なお、前記４つの薄膜25〜28はほずれも不透水性があ
る。従つて、前記第４実施例のように全ての薄膜を前記
樹脂層10の全表面にわたつて均一の厚さに形成すること
は必ずしも必要ではなく、このうちの少なくとも１つの
膜を均厚に形成するか、不透水性を有する膜の膜厚の合
計が所定の値以上になるようにすれば、前記第１変形例
と同様の効果を奏することができる。The four thin films 25 to 28 are impermeable to water. Therefore, it is not always necessary to form all the thin films to have a uniform thickness over the entire surface of the resin layer 10 as in the fourth embodiment, and at least one of these films should be made uniform. The same effect as that of the first modification can be obtained by forming or by making the total film thickness of the water-impermeable film to be a predetermined value or more.
次に、本例の第５変形例を第14図に基づいて説明す
る。第14図において、29は不透水性の記録膜または反射
膜を示し、その他第９図と対応する部分にはそれと同一
の符号が表示されている。Next, a fifth modified example of this example will be described with reference to FIG. In FIG. 14, reference numeral 29 designates a water-impermeable recording film or a reflective film, and other parts corresponding to those in FIG. 9 are designated by the same reference numerals.
第14図に示すように、本実施例においては薄膜層11が
不透水性の記録膜または反射膜29の１層から構成されて
いる。そして、この記録膜または反射膜が、プリピツト
８の側面8aを含む前記樹脂層10の全表面およびこの樹脂
層10の端部からこれと隣接する基板２の一部にかかる領
域の全面にわたつてほぼ均一な厚さに形成されている。As shown in FIG. 14, in this embodiment, the thin film layer 11 is composed of one impermeable recording film or reflective film 29. Then, the recording film or the reflective film extends over the entire surface of the resin layer 10 including the side surface 8a of the prepit 8 and the entire area of the resin layer 10 extending from the end portion to the part of the substrate 2 adjacent thereto. It is formed to have a substantially uniform thickness.
不透水性の記録膜としては、有機色素系の記録膜を除
くほとんどの記録膜を挙げることができる。また、不透
水性の反射膜としては、アルミニウム膜などの金属膜を
挙げることができる。As the water-impermeable recording film, almost all recording films except organic dye-based recording films can be mentioned. Further, as the water-impermeable reflective film, a metal film such as an aluminum film can be used.
その他，この光情報記録媒体を構成する各部分の材
質、形状、寸法、それにプリフオーマツトパターンの転
写方法、プリフオーマツトパターンのフオーマツト、各
薄膜の膜厚、および各薄膜の形成方法等に関しては、第
９図に掲げた前出の光情報記録媒体と同じである。In addition, regarding the material, shape and size of each part constituting this optical information recording medium, the method of transferring the pre-format pattern, the format of the pre-format pattern, the thickness of each thin film, the method of forming each thin film, etc. , Which is the same as the above-mentioned optical information recording medium shown in FIG.
本第５変形例の情報記録媒体も第１変形例の光情報記
録媒体とほぼ同一の効果を奏する。The information recording medium of the fifth modified example also has substantially the same effect as the optical information recording medium of the first modified example.
以下、本発明により具体的な実験例を挙げ、本発明の
効果に言及する。Hereinafter, the effects of the present invention will be described with reference to specific experimental examples according to the present invention.
所謂2P法によつて、ガラス基板の片面にMCAVフオーマ
ツトもしくはMCLVフオーマツトがプリフオーマツトされ
た光硬化性樹脂層を形成し、次いでこの光硬化性樹脂層
の信号パターン転写面にSi3N4製不透水膜、ポリテトラ
フルオロエチレン製下地膜、テルルーセレン−鉛系記録
膜を順次積層して、第９図に示す構造の光記録単板を作
製した。A so-called 2P method is used to form a photo-curable resin layer in which MCAV format or MCLV format is pre-formatted on one surface of a glass substrate, and then Si 3 N 4 impermeable water is formed on the signal pattern transfer surface of the photo-curable resin layer. An optical recording single plate having a structure shown in FIG. 9 was produced by sequentially laminating a film, a polytetrafluoroethylene base film, and a telluroselen-lead based recording film.
Si3N4製不透水膜は、ターゲツトとしてSi3N4を、スパ
ツタガスとして純アルゴンガスを用い、真空槽内のスパ
ツタガス圧を７×10-1パスカルに調整したのち、前記タ
ーゲツトに300ワツトの高周波パワーを印加して約400オ
ングストロームの膜厚に形成した。Si 3 N 4 made impermeable film, a Si 3 N 4 as Tagetsuto, using pure argon gas as Supatsutagasu, after adjusting the Supatsutagasu pressure in the vacuum chamber to 7 × 10 -1 Pascals, the 300 watt to the Tagetsuto High-frequency power was applied to form a film with a thickness of about 400 Å.
ポリテトラフルオロエチレン製下地膜は、ターゲツト
としてポリテトラフルオロエチレンを、スパツタガスと
して純アルゴンガスを用い、真空槽内にスパツタガス圧
を８×10-1パスカルに調整したのち、前記ターゲツトに
80ワツトの高周波パワーを印加して約400オングストロ
ームの膜厚に形成した。The base film made of polytetrafluoroethylene was prepared by using polytetrafluoroethylene as a target and pure argon gas as a spatula gas, and adjusting the spatula gas pressure to 8 × 10 -1 Pascal in the vacuum chamber.
A high-frequency power of 80 Watts was applied to form a film having a thickness of about 400 Å.
テルルーセレン−鉛系記録膜は、ターゲツトとしてテ
ルルーセレン−鉛系合金を、スパツタガスとして純アル
ゴンガスを用い、真空槽内のスパツタガス圧を５×10-1
パスカルに調整したのち、前記ターゲツトに80ワツトの
高周波パワーを印加して約210オングストロームの膜厚
に形成した。The telluroselen-lead based recording film uses telluroselen-lead based alloy as a target and pure argon gas as a spatula gas, and the spatula gas pressure in the vacuum chamber is 5 × 10 -1.
After adjusting to Pascal, a high frequency power of 80 watts was applied to the target to form a film having a thickness of about 210 Å.
記録膜形成後、前記記録単板を空気中でベーク処理
（80℃×１時間）し、記録膜の微結晶化を図つた。After forming the recording film, the recording single plate was baked in air (80 ° C. × 1 hour) to microcrystallize the recording film.
ベーク処理終了後、このようにして作製された２枚の
記録単板を金属製の内周スペーサ16および外周スペーサ
17を介して貼り合せ、第３図に示す密封形エアサンドイ
ツチ構造の光情報記録媒体を作製した。なお、記録単板
と内周スペーサ16および外周スペーサ17とを接着する接
着剤をしては、透水性の小さなエポキシ樹脂を用いた。After the bake process is completed, the two recording veneers thus produced are connected to the inner spacer 16 and the outer spacer made of metal.
The optical information recording medium having the hermetically sealed air-sea Germany structure shown in FIG. An epoxy resin having a small water permeability was used as an adhesive for bonding the recording single plate to the inner peripheral spacer 16 and the outer peripheral spacer 17.
前記と全く同様の条件の下で、SiN製不透水膜を有し
ない光情報記録媒体を作製した。Under exactly the same conditions as above, an optical information recording medium having no water impermeable film made of SiN was produced.
第15図に本発明の効果を示す。 FIG. 15 shows the effect of the present invention.
このグラフ図の横軸は、プリピツト形成部を中心とし
てその内周側および外周側に1.6μｍピツチで配列され
る記録トラツクのトラツク数を示し、縦軸はトラツクノ
イズすなわちトラツクジヤンプ信号の振幅に対するプリ
ピツトの膨潤に起因するノイズの大きさ（単位％）を示
している。そして、許容されるトラツクノイズレベル
（約５％）が破線にて表示されている。The abscissa of this graph shows the number of tracks of recording tracks arranged in 1.6 μm pitch on the inner and outer sides of the pit forming part as the center, and the ordinate shows the track noise, that is, the prepset with respect to the amplitude of the track jump signal. Shows the magnitude of noise (unit:%) due to the swelling of. The allowable track noise level (about 5%) is displayed by the broken line.
このグラフ図から明らかなように、比較例に係る光情
報記録媒体は、プリピツト形成部０を中心としてその内
周側で300トラツクが、また外周側で215トラツクが許容
されるトラツクノイズレベルを超えており、この領域が
デツドゾーンになつていることが判る。これに対して、
本発明の光情報記録媒体には許容されるトラツクノイズ
レベルを超える領域がなく、プリピツトの有無に拘らず
デツトゾーンが形成されないことが判る。As is clear from this graph, the optical information recording medium according to the comparative example has an allowable track noise level of 300 tracks on the inner peripheral side and 215 tracks on the outer peripheral side with the pit forming portion 0 as the center. It can be seen that this area is a dead zone. On the contrary,
It can be seen that the optical information recording medium of the present invention has no area exceeding the allowable track noise level, and the dead zone is not formed regardless of the presence or absence of the prepit.
なお、前記第２ないし第４変形例の光情報記録媒体に
ついても同様の結果が得られた。Similar results were obtained for the optical information recording media of the second to fourth modified examples.
前記各変形例においては、光デイスクを例にとつて説
明したが、本発明の要旨はこれに限定されるものではな
く、例えば案内溝が平行直線状に形成された光カードな
ど、公知に属する任意の光情報記録媒体について適用す
ることができる。In each of the modified examples, the optical disk has been described as an example, but the gist of the present invention is not limited to this, and it belongs to a publicly known art such as an optical card having guide grooves formed in parallel straight lines. It can be applied to any optical information recording medium.
また、前記各実施例においては、ガラス製基板の片面
に光硬化製樹脂相が形成された光情報記録媒体を例にと
つて説明したが、本発明の要旨はこれに限定されるもの
ではなく、第16図に示すように、プリピツト８および案
内溝９を有する基板33が透水製の樹脂にて形成され、こ
の基板33の信号面を除く全面に不透水処理34が施された
光情報記録媒体についても同様に適用することができ
る。Further, in each of the embodiments, the optical information recording medium in which the photocurable resin phase is formed on one surface of the glass substrate has been described as an example, but the gist of the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 16, an optical information recording in which a substrate 33 having a prepit 8 and a guide groove 9 is formed of a water-permeable resin, and the entire surface except the signal surface of the substrate 33 is impermeable to water 34 The same can be applied to the medium.
さらに、前記各変形例においては、プリフオーマツト
パターンの転写を樹脂層３単層にて形成し、この樹脂層
３の表面に下地層等の薄膜層18を形成するという構成に
なつているが、第２図（ａ）〜（ｄ）の製造方法を適用
することによつて、プリフオーマツトパターンの転写層
を樹脂層10と下地層15の２層構造とし、当該下地層の表
面に他の薄膜を形成するようにすることもできる。Further, in each of the above-mentioned modifications, the transfer of the pre-format pattern is formed by a single layer of the resin layer 3, and the thin film layer 18 such as an underlayer is formed on the surface of the resin layer 3. By applying the manufacturing method of FIGS. 2 (a) to (d), the transfer layer of the pre-format pattern has a two-layer structure of the resin layer 10 and the underlayer 15, and the surface of the underlayer is It is also possible to form a thin film of.
もちろん、本例の記録単板からも第３図〜第６図に示
した各種の光デイスクを組立てることができる。Of course, various optical disks shown in FIGS. 3 to 6 can be assembled from the recording single plate of this example.
以下、本発明に係る光情報記録媒体の第４例を第17図
に基づいて説明する。A fourth example of the optical information recording medium according to the present invention will be described below with reference to FIG.
第17図は本発明の第４例に係る光情報記録媒体を模式
的に示す断面図であつて、２は透明基板、10は樹脂層、
15は薄膜下地層、11は薄膜層、９はプリグループ、８は
プリピツト、41はシランカツプリング剤層を示してい
る。FIG. 17 is a sectional view schematically showing an optical information recording medium according to a fourth example of the present invention, in which 2 is a transparent substrate, 10 is a resin layer,
Reference numeral 15 is a thin film underlayer, 11 is a thin film layer, 9 is a pregroup, 8 is a prepite, and 41 is a silane coupling agent layer.
透明基板２は、例えばガラスなどの硬質透明材料をも
つて表裏面が平行かつ平滑な平板状に形成されている。
外形については、例えばデイスク状あるいはカード状な
ど任意の形状に形成することができ、また寸法について
も任意に設計することができる。The transparent substrate 2 is made of, for example, a hard transparent material such as glass, and is formed in a flat plate shape whose front and back surfaces are parallel and smooth.
The outer shape can be formed into an arbitrary shape such as a disk shape or a card shape, and the dimensions can be designed arbitrarily.
薄膜下地層15は、薄膜層11の記録感度を向上するため
などに付されるものであつて、例えばニトロセルロー
ス、ポリビニルアルコール、ニトロ化ポリビニルアルコ
ール、ポリテトラフルオロエチレン、グアニン、炭化水
素のプラズマ重合体などの有機化合物、あるいはこれら
の有機化合物群から先端された少なくとも１種類以上の
化合物を主成分とする物質（これを下地層材料という）
と、この下地層材料中に浸透した前記紫外線硬化性樹脂
とによつて形成される。The thin-film underlayer 15 is provided to improve the recording sensitivity of the thin-film layer 11, and is, for example, nitrocellulose, polyvinyl alcohol, nitrated polyvinyl alcohol, polytetrafluoroethylene, guanine, hydrocarbon plasma Organic compounds such as coalesced substances, or substances containing as a main component at least one or more compounds advanced from these organic compound groups (this is referred to as underlayer material)
And the ultraviolet curable resin that has penetrated into the underlayer material.
なお、下地層材料としてニトロセルロースを用いる場
合には、スタンパへの塗布性が良好であること、および
記録感度を向上する効果が高いことなどから、窒素分が
11.9〜12.2（％），平均置換度が2.1〜2.3,粘度が850〜
1000（秒）のものが特に好適である。When nitrocellulose is used as the material of the underlayer, the nitrogen content is high because it has good coatability on the stamper and has a high effect of improving the recording sensitivity.
11.9 to 12.2 (%), average degree of substitution 2.1 to 2.3, viscosity 850 to
Those of 1000 (seconds) are particularly suitable.
プリグループ９は、デイスク状の透明基板２について
は当該透明基板２の回転中心を中心とする渦巻状または
同心円状にて形成され、カード状の透明基板２について
は平行線状に形成することができる。The pre-group 9 may be formed in a spiral shape or a concentric shape about the rotation center of the transparent substrate 2 for the disk-shaped transparent substrate 2, and may be formed in a parallel line shape for the card-shaped transparent substrate 2. it can.
プリピツト８は、前記プリグループ９上に重ねて形成
することもできるし、相隣接するプリグループ９の間に
形成することもできる。The prepit 8 may be formed on the pregroup 9 in a superposed manner, or may be formed between the pregroups 9 adjacent to each other.
薄膜層11としては、穴あけ形（例えば、低融点合金系
や有機色素系）、光磁気形（例えば、遷移金属と希土類
金属を主成分とする非晶質合金または結晶質合金）、そ
れに相変化形（例えば、非晶質結晶質の相変化を利用し
たもの）など、公知に属する任意の記録膜材料もしくは
アルミニウムなどの反射膜材料等を用いて形成すること
ができる。The thin film layer 11 is a perforated type (for example, low melting point alloy type or organic dye type), a magneto-optical type (for example, amorphous alloy or crystalline alloy containing transition metal and rare earth metal as main components), and phase change. It can be formed using any known recording film material such as a shape (for example, one utilizing a phase change of amorphous crystalline) or a reflective film material such as aluminum.
本発明は、光デイスクのほか、例えば光カードなどの
光情報記録媒体についても適用することができる。ま
た、本例においても、第17図に示した記録単板から第３
図〜第６図に示した各種の光デイスクを組立てることが
できる。The present invention can be applied to an optical information recording medium such as an optical card as well as an optical disk. Also in this example, the recording single plate shown in FIG.
Various optical disks shown in FIGS. 6 to 6 can be assembled.
以上説明したように、本発明の光情報記録媒体は、樹
脂層を吸湿性が低い紫外線硬化性樹脂にて形成するか、
あるいは樹脂層の表面を不透水性の薄膜層にてしたの
で、樹脂層が局部的に膨潤して隣接トラツクにトラツク
オフセツトを生じるといつた現象を生じることがなく、
クロストークや進行の記録、再生不能といつた不都合が
解消される。As described above, in the optical information recording medium of the present invention, the resin layer is formed of an ultraviolet curable resin having low hygroscopicity,
Alternatively, since the surface of the resin layer is a water-impermeable thin film layer, no phenomenon occurs when the resin layer locally swells and causes a track offset to an adjacent track,
The inconvenience of crosstalk, recording of progress, and inability to reproduce is eliminated.
第１図ないし第６図は本発明の第１実施例図であつて、 第１図（ａ）〜（ｄ）は記録単板の製造工程図、第２図
（ａ）〜（ｄ）は記録単板の変形例を示す製造工程図、
第３図〜第６図は本発明の実施例に係る光デイスクの断
面図である。 第７図および第８図は本発明の第２実施例図であつて、
第７図は樹脂層を構造する紫外線硬化性樹脂の組成を示
す表図、第８図は同グラフ図である。 第９図ないし第16図は本発明の第３実施例図であつて、
第９図は第１変形例の要部断面図、第10図は記録単板の
断面図、第11図ないし第14図、および第16図は第２〜第
５変形例の要部断面図、第15図は第３実施例の効果を示
すグラフである。 第17図は第４実施例に係る記録単板の要部断面図であ
る。 第18図ないし第21図は従来技術を説明するための図であ
つて、第18図は従来より知られている光デイスクの平面
図、第19図は第18図の要部拡大断面ず、第20図は光硬化
性樹脂層が局部的に膨潤した状態を示す要部断面図、第
21図は従来技術の問題点を説明する要部平面図である。 ２……透明基板、10……樹脂層、11……薄膜層、15……
下地層、８……プリピツト、９……案内溝。1 to 6 are diagrams of a first embodiment of the present invention, wherein FIGS. 1 (a) to (d) are manufacturing process diagrams of a recording veneer, and FIGS. 2 (a) to (d) are Manufacturing process drawing showing a modification of the recording veneer,
3 to 6 are sectional views of an optical disk according to an embodiment of the present invention. FIG. 7 and FIG. 8 are diagrams of a second embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a table showing the composition of the ultraviolet curable resin that constitutes the resin layer, and FIG. 8 is a graph showing the same. 9 to 16 are views of a third embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a cross-sectional view of an essential part of the first modification, FIG. 10 is a cross-sectional view of a recording veneer, and FIGS. 11 to 14 and FIG. 16 are cross-sectional views of an essential part of the second to fifth modifications. , FIG. 15 is a graph showing the effect of the third embodiment. FIG. 17 is a cross-sectional view of the main parts of the recording veneer according to the fourth embodiment. FIGS. 18 to 21 are views for explaining the prior art, FIG. 18 is a plan view of a conventionally known optical disk, and FIG. 19 is an enlarged cross-sectional view of a main part of FIG. FIG. 20 is a cross-sectional view of an essential part showing a state where the photocurable resin layer is swollen locally,
FIG. 21 is a plan view of relevant parts for explaining the problems of the prior art. 2 ... Transparent substrate, 10 ... Resin layer, 11 ... Thin film layer, 15 ...
Underlayer, 8 ... Pripit, 9 ... Guide groove.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 11/10 ５４１ 9075−5Ｄ Ｇ１１Ｂ 11/10 ５４１Ｆ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G11B 11/10 541 9075-5D G11B 11/10 541F
Claims (34)
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層にて形成された光情報記録媒体において、 前記樹脂層の成膜時の膜厚ｄに対する樹脂層の吸湿によ
る膜厚膨潤量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下
に規制されていることを特徴とする光情報記録媒体。1. A transparent substrate, at least a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. In an optical information recording medium whose contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, a swelling ratio showing a ratio of a film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer to a film thickness d at the time of film formation of the resin layer. An optical information recording medium characterized in that Δd / d is regulated to 0.1% or less.
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層にて形成され、当該光情報記録媒体の組立
完了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造にな
つている光情報記録媒体において、 前記樹脂層の成膜時の膜厚ｄが30〜100μｍで、その膜
厚ｄに対する当該光情報記録媒体の組立中に生じる樹脂
層の吸湿による膜厚膨潤量Δｄの割合を示す膨潤率Δd/
dが0.1％以下に規制されていることを特徴とする光情報
記録媒体。2. A transparent substrate, at least a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. In the optical information recording medium having a structure in which the contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin and the thin film layer is shielded from the atmosphere when the optical information recording medium is completely assembled, the resin layer The film thickness d during film formation is 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / indicates the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d.
An optical information recording medium characterized in that d is regulated to 0.1% or less.
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層にて形成され、当該光情報記録媒体の組立
完了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造にな
つている光情報記録媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物と
光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂層
に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚
ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記
録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量
Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを
特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 3. A transparent substrate, at least a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. The contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and in a completed assembly state of the optical information recording medium, in the method for manufacturing an optical information recording medium having a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere, A resin layer is formed from a mixture of an ultraviolet-absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized, and a film thickness d when the resin layer is formed. Is 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1% or less. Of optical information recording medium Law.
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層にて形成され、当該光情報記録媒体の組立
完了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造にな
つている光情報記録媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物と
光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂層
に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚
ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記
録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量
Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを
特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 4. A transparent substrate, a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. The contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and in a completed assembly state of the optical information recording medium, in the method for manufacturing an optical information recording medium having a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere, A resin layer is formed from a mixture of an ultraviolet-absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized, and a film thickness d when the resin layer is formed. Is 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1% or less. Of optical information recording medium Law.
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層にて形成され、当該光情報記録媒体の組立
完了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造にな
つている光情報記録媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物と
光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂層
に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚
ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記
録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量
Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを
特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 5. A transparent substrate, a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, the transparent substrate of at least the transfer layer. The contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and in a completed assembly state of the optical information recording medium, in the method for manufacturing an optical information recording medium having a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere, A resin layer is formed from a mixture of an ultraviolet-absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized, and a film thickness d when the resin layer is formed. Is 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1% or less. Of optical information recording medium Law.
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層にて形成され、当該光情報記録媒体の組立
完了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造にな
つている光情報記録媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物と
光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂層
に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚
ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記
録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量
Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを
特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 6. A transparent substrate, a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. The contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and in a completed assembly state of the optical information recording medium, in the method for manufacturing an optical information recording medium having a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere, A resin layer is formed from a mixture of an ultraviolet-absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized to form a resin layer having a film thickness d. Is 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1% or less. Of optical information recording medium Law.
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層にて形成され、当該光情報記録媒体の組立
完了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造にな
つている光情報記録媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物と
光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂層
に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚
ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記
録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量
Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを
特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 7. A transparent substrate, a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. The contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and in a completed assembly state of the optical information recording medium, in the method for manufacturing an optical information recording medium having a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere, A resin layer is formed from a mixture of an ultraviolet-absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized, and a film thickness d when the resin layer is formed. Is 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1% or less. Of optical information recording medium Law.
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層にて形成され、当該光情報記録媒体の組立
完了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造にな
つている光情報記録媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物と
光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂層
に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚
ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記
録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量
Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを
特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 8. A transparent substrate, a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. The contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and in a completed assembly state of the optical information recording medium, in the method for manufacturing an optical information recording medium having a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere, A resin layer is formed from a mixture of an ultraviolet-absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized, and a film thickness d when the resin layer is formed. Is 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1% or less. Of optical information recording medium Law.
形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、その
転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前記
転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂か
ら成る樹脂層に形成され、当該光情報記録媒体の組立完
了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造になつ
ている光情報記録媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物と
光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂層
に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚
ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記
録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量
Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを
特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 9. A transparent substrate, at least a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. In the method for manufacturing an optical information recording medium, the contact surface is formed on a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and the thin film layer has a structure shielded from the atmosphere in the assembled state of the optical information recording medium. A resin layer is formed from a mixture of an ultraviolet absorbing organic compound having a molecular structural formula of and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized, and the film thickness d at the time of film formation of the resin layer is The swelling ratio Δd / d, which is 30 to 100 μm and indicates the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d, is 0.1% or less. How to manufacture optical information recording media .
に形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、そ
の転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前
記転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂
から成る樹脂層にて形成され、当該光情報記録媒体の組
立完了状態では、前記薄膜層が大気と遮断された構造に
なつている光情報記録媒体の製造方法において、 下記の分子構造式を有する紫外線吸収性の有機化合物と
光重合開始剤との混合物で樹脂層を形成し、その樹脂層
に紫外線を照射して重合せしめ、樹脂層の成膜時の膜厚
ｄが30〜100μｍで、その膜厚ｄに対する当該光情報記
録媒体の組立中に生じる樹脂層の吸湿による膜厚膨潤量
Δｄの割合を示す膨潤率Δd/dが0.1％以下であることを
特徴とする光情報記録媒体の製造方法。 10. A transparent substrate, at least a transfer layer of a preformat pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. The contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, and in a completed assembly state of the optical information recording medium, in the method for manufacturing an optical information recording medium having a structure in which the thin film layer is shielded from the atmosphere, A resin layer is formed from a mixture of an ultraviolet-absorbing organic compound having the following molecular structural formula and a photopolymerization initiator, and the resin layer is irradiated with ultraviolet rays to be polymerized, and a film thickness d when the resin layer is formed. Is 30 to 100 μm, and the swelling ratio Δd / d indicating the ratio of the film thickness swelling amount Δd due to moisture absorption of the resin layer generated during assembly of the optical information recording medium to the film thickness d is 0.1% or less. Of optical information recording media Method.
て、前記転写層の前記薄膜層と接する面が、ニトロセル
ロースやフツ素系樹脂などの有機化合物にて形成されて
いることを特徴とする光情報記録媒体。11. The method according to claim 1, wherein the surface of the transfer layer which is in contact with the thin film layer is formed of an organic compound such as nitrocellulose or a fluorine-based resin. Optical information recording medium.
て、前記透明基板と前記転写層との界面に、シランカツ
プリング剤層が介設されていることを特徴とする光情報
記録媒体。12. An optical information recording medium according to claim 1, wherein a silane coupling agent layer is provided at the interface between the transparent substrate and the transfer layer.
て、前記転写層の形成時、スタンパの表面に塗布された
ニトロセルロースやフツ素系樹脂などの有機化合物膜上
に前記樹脂層のもとになる樹脂を置き、この樹脂を前記
透明基板にて均一に屈伸するようにしたことを特徴とす
る光情報記録媒体の製造方法。13. The method according to claim 3, wherein when the transfer layer is formed, the resin layer is formed on the organic compound film such as nitrocellulose or fluorine resin applied on the surface of the stamper. A method for manufacturing an optical information recording medium, characterized in that a resin to be formed is placed and the resin is bent and stretched uniformly on the transparent substrate.
て、表面にシランカツプリング剤層が設けられた透明基
板を作製し、この透明基板の片面に前記樹脂層を接着す
るようにしたことを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。14. The method according to claim 3, wherein a transparent substrate having a silane coupling agent layer on the surface thereof is prepared, and the resin layer is adhered to one surface of the transparent substrate. A method of manufacturing a featured optical information recording medium.
に形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、そ
の転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前
記転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂
から成る樹脂層にて形成された光情報記録媒体におい
て、 前記樹脂層を構成する紫外線硬化性樹脂が、 （ａ）．末端にアクリル基もしくはメタクリル基を有
し、かつ分子内にポリブタジエン骨格またはポリ−１−
ブテン骨格をもつ有機化合物と、 （ｂ）．アクリル基もしくはメタクリル基を１分子中に
１個有し、分子中に水酸基、カルボキシル基、チオール
基、アミン基などの極性をもたない有機化合物と、 （ｃ）．アクリル基もしくはメタクリル基を１分子中に
２個以上有し、分子中に水酸基、カルボキシル基、チオ
ール基、アミン基などの極性基をもたない有機化合物
と、 （ｄ）．光重合剤と を配合して組成物を硬化してなることを特徴とする光情
報記録媒体。15. A transparent substrate, at least a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. An optical information recording medium having a contact surface formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, wherein the ultraviolet curable resin constituting the resin layer comprises (a). Having an acrylic group or a methacrylic group at the terminal and having a polybutadiene skeleton or poly-1-
An organic compound having a butene skeleton, (b). An organic compound having one acrylic group or methacrylic group in one molecule and having no polarity such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a thiol group or an amine group in the molecule, (c). An organic compound having two or more acryl groups or methacryl groups in one molecule and not having a polar group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, a thiol group or an amine group in the molecule, (d). An optical information recording medium, characterized by comprising a photopolymerizing agent and curing the composition.
機化合物が下記の式（１）〜式（３）に示す分子構造式
を有していることを特徴とする光情報記録媒体。 16. The optical information recording medium according to claim 15, wherein the organic compound (a) has a molecular structural formula represented by the following formulas (1) to (3).
記薄膜層と接する面が、フツ素系樹脂にて形成されてい
ることを特徴とする光情報記録媒体。17. The optical information recording medium according to claim 15, wherein a surface of the transfer layer which is in contact with the thin film layer is formed of a fluorine resin.
記薄膜層と接する面がニトロセルロースにて形成されて
いることを特徴とする光情報記録媒体。18. The optical information recording medium according to claim 15, wherein the surface of the transfer layer that is in contact with the thin film layer is formed of nitrocellulose.
る紫外線硬化樹脂として、前記ニトロセルロースに対し
て実質的に相溶性のない材料を用いたことを特徴とする
光情報記録媒体。19. The optical information recording medium according to claim 18, wherein a material that is substantially incompatible with the nitrocellulose is used as the ultraviolet curable resin forming the resin layer.
機化合物が下記の式（４）または式（５）に示す分子構
造式を有し、前記（ｃ）の有機化合物が下記の式（６）
に示す分子構造式を有していることを特徴とする光情報
記録媒体。 ただし式中のＲはＨもしくはCH3。20. The organic compound according to claim 19, wherein the organic compound (b) has a molecular structural formula represented by the following formula (4) or (5), and the organic compound (c) has the following formula: (6)
An optical information recording medium having the molecular structural formula shown in. However, R in the formula is H or CH 3 .
成する紫外線硬化樹脂として、前記（ａ）の有機化合物
が10〜50重量％、前記（ｂ）の有機化合物が20〜75重量
％、前記（ｃ）の有機化合物が15〜50重量％となるよう
に配合されたものを用いたことを特徴とする光情報記録
媒体。21. The ultraviolet curable resin constituting the resin layer according to claim 20, wherein the organic compound (a) is 10 to 50% by weight, the organic compound (b) is 20 to 75% by weight, An optical information recording medium, characterized in that the organic compound (c) is blended in an amount of 15 to 50% by weight.
に形成されたプリフオーマツトパターンの転写層と、そ
の転写層上に形成された薄膜層とを備え、少なくとも前
記転写層の前記透明基板と接する面が紫外線硬化性樹脂
から成る樹脂層にて形成された光情報記録媒体におい
て、前記薄膜層を構成する１ないし複数の薄膜のうち不
透水性を有する少なくとも１つの薄膜を、前記転写層を
全表面およびこの転写層の端部からこれと隣接する基板
の一部にかかる領域の全面にわたつて空気中の水分を遮
断可能な厚さに形成したことを特徴とする光情報記録媒
体。22. At least a transparent substrate, a transfer layer of a pre-format pattern formed on the transparent substrate, and a thin film layer formed on the transfer layer, and at least the transparent substrate of the transfer layer. In an optical information recording medium whose contact surface is formed of a resin layer made of an ultraviolet curable resin, at least one thin film having water impermeability among the one or a plurality of thin films forming the thin film layer is replaced by the transfer layer. An optical information recording medium, characterized in that the optical information recording medium is formed to have a thickness capable of blocking moisture in the air over the entire surface and the entire area of an end of the transfer layer and a part of a substrate adjacent thereto.
て、前記薄膜層が前記転写層側より誘電体製の不透水膜
と記録感度を向上するための下地膜とライトワンス方式
の記録膜の３層構造になつており、これら３つの薄膜の
うち少なくとも前記不透水膜が前記転写層の表面および
転写層の端部からこれと隣接する基板の一部にかかる領
域の全面にわたつて空気中の水分を遮断可能な厚さに形
成したことを特徴とする光情報記録媒体。23. The optical information recording medium according to claim 22, wherein the thin film layer is a water impermeable film made of a dielectric material from the transfer layer side, a base film for improving recording sensitivity, and a write-once recording film. In the three-layer structure, at least the water-impermeable film among the three thin films is exposed in the air over the entire surface of the transfer layer and the region extending from the end of the transfer layer to a part of the substrate adjacent to the transfer layer. An optical information recording medium, characterized in that it is formed to a thickness capable of blocking the moisture of the.
て、前記薄膜層が前記転写層側より記録感度を向上する
ための下地膜とライトワンス方式の記録膜の２層構造に
なつており、これら２つの薄膜のうち少なくとも前記記
録膜が前記転写層の表面および転写層の端部からこれと
隣接する基板の一部にかかる領域の全面にわたつて空気
中の水分を遮断可能な厚さに形成したことを特徴とする
光情報記録媒体。24. The optical information recording medium according to claim 22, wherein the thin film layer has a two-layer structure of a base film for improving recording sensitivity from the transfer layer side and a write-once recording film. Of these two thin films, at least the recording film has a thickness capable of blocking water in the air from the surface of the transfer layer and the entire area of the end of the transfer layer to a part of the substrate adjacent thereto. An optical information recording medium characterized by being formed.
て、前記薄膜層が前記転写層側より、前記基板よりも高
い光の屈折率を有する誘電体製のエンハンス膜と光磁気
記録膜と誘電体製の不透水膜の３層構造になつており、
これら３つの薄膜のうち少なくとも１つの薄膜が前記転
写層の全表面およびこの転写層の端部からこれと隣接す
る基板の一部にかかる領域の全面にわたつて空気中の水
分を遮断可能な厚さに形成されていることを特徴とする
光情報記録媒体。25. The optical information recording medium according to claim 22, wherein the thin film layer has a refractive index of light higher than that of the substrate from the side of the transfer layer, and a dielectric enhancement film, a magneto-optical recording film, and a dielectric film. It has a three-layer structure of a body impermeable membrane,
At least one thin film of the three thin films has a thickness capable of blocking moisture in the air over the entire surface of the transfer layer and the entire surface of the region extending from the end portion of the transfer layer to a part of the substrate adjacent thereto. An optical information recording medium, characterized in that
て、前記薄膜層が前記転写層側より、前記基板よりも高
い光の屈折率を有する誘電体製エンハンス膜と光磁気記
録膜とエンハンス機能を有する保護膜と反射膜の４層構
造になつており、これら４つの薄膜の膜厚の合計が前記
転写層の表面および転写層の端部からこれと隣接する基
板の一部にかかる領域の全面にわたつて空気中の水分を
遮断可能な厚さに形成されていることを特徴とする光情
報記録媒体。26. The optical information recording medium according to claim 22, wherein the thin film layer has a refractive index of light higher than that of the substrate from the transfer layer side, a dielectric enhancement film, a magneto-optical recording film, and an enhancement function. Has a four-layer structure including a protective film and a reflective film, and the total film thickness of these four thin films covers the area from the surface of the transfer layer and the end of the transfer layer to a part of the substrate adjacent thereto. An optical information recording medium having a thickness capable of blocking moisture in the air across the entire surface.
て、前記薄膜層が記録膜または反射膜１層から成り、こ
の記録膜または反射膜が前記転写層の全表面およびこの
転写層の端部からこれと隣接する基板の一部にかかる領
域の全面にわたつて空気中の水分を遮断可能な厚さに形
成されていることを特徴とする光情報記録媒体。27. The optical information recording medium according to claim 22, wherein the thin film layer comprises a recording film or a reflective film, and the recording film or the reflective film covers the entire surface of the transfer layer and an end portion of the transfer layer. An optical information recording medium having a thickness capable of blocking moisture in the air over the entire area of the substrate adjacent to the substrate.
て、前記転写層の全表面およびこの転写層の端部からこ
れと隣接する基板の一部にかかる領域の全面にわたつて
形成される不透水性薄膜が、前記転写層表面のあらゆる
面において300オングストローム以上の厚さに形成され
ていることを特徴とする光情報記録媒体。28. The optical information recording medium according to claim 22, wherein the entire surface of the transfer layer and the entire area of an area from an end of the transfer layer to a part of a substrate adjacent thereto are formed. An optical information recording medium, wherein the water-permeable thin film is formed on all surfaces of the transfer layer to have a thickness of 300 angstroms or more.
て、前記透明基板としてガラス基板を用い、この基板の
片面に紫外線硬化性樹脂をもつて前記プリフオーマツト
パターンの転写層を形成したことを特徴とする光情報記
録媒体。29. The optical information recording medium according to claim 22, wherein a glass substrate is used as the transparent substrate, and a transfer layer for the preformat pattern is formed on one surface of the substrate with an ultraviolet curable resin. A characteristic optical information recording medium.
て、前記透明基板として前記信号パターンの転写面形成
側と反対の面に不透水処理が施された樹脂基板を用いた
ことを特徴とする光情報記録媒体。30. The optical information recording medium according to claim 22, wherein the transparent substrate is a resin substrate having a surface opposite to a surface on which a transfer surface of the signal pattern is formed is impermeable. Optical information recording medium.
て、ガラス基板の片面に紫外線硬化樹脂から成るプリフ
オーマツトパターンの転写層を設け、この転写層の全面
に誘電体製の不透水膜を約400オングストロームの厚さ
に形成し、この不透水膜の全面にポリテトラフルオロエ
チレン製の下地膜を約400オングストロームの厚さに形
成し、この下地膜の全面にライトワンス方式の記録膜を
約210オングストロームの厚さに形成したことを特徴と
する光情報記録媒体。31. The optical information recording medium according to claim 22, wherein a transfer layer having a preformat pattern made of an ultraviolet curable resin is provided on one surface of the glass substrate, and a dielectric water impermeable film is provided on the entire surface of the transfer layer. It is formed to a thickness of about 400 Å, a polytetrafluoroethylene base film is formed on the entire surface of this impermeable film to a thickness of about 400 Å, and a write-once recording film is formed on the entire surface of this base film. An optical information recording medium having a thickness of 210 Å.
少なくとも記録膜または反射膜を含む不透水性の薄膜層
をスパツタリングする工程を含む光情報記録媒体の製造
方法において、前記不透水性の薄膜層をスパツタリング
する際、真空槽内のガス圧を５×10-1パスカル以上に調
整したことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。32. A transfer surface of a pre-formatted pattern,
In a method for manufacturing an optical information recording medium, which comprises a step of sputtering an impermeable thin film layer including at least a recording film or a reflective film, when the impervious thin film layer is sputtered, the gas pressure in the vacuum chamber is set to 5 ×. A method of manufacturing an optical information recording medium, characterized by being adjusted to 10 -1 Pascal or more.
少なくとも記録膜または反射膜を含む不透水性の薄膜層
を真空蒸着する工程を含む光情報記録媒体の製造方法に
おいて、前記不透水性の薄膜僧を真空蒸着する際、蒸発
源に対する前記転写面の設定角度を時間とともに変動す
るようにしたことを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。33. A transfer surface of a pre-formatted pattern,
In a method for manufacturing an optical information recording medium, which comprises vacuum-depositing a water-impermeable thin film layer including at least a recording film or a reflective film, in vacuum-depositing the water-impermeable thin film layer, the transfer surface of the transfer surface to an evaporation source is A method for manufacturing an optical information recording medium, characterized in that a set angle is changed with time.
録膜または反射膜を含む不透水性の薄膜槽を成膜する工
程を含む光情報記録媒体の製造方法において、前記不透
水性の薄膜僧の成膜方法としてプラズマケミカルベーパ
ーデイポジシヨン法を用いたことを特徴とする光情報記
録媒体の製造方法。34. A method of manufacturing an optical information recording medium, which comprises the step of forming a water-impermeable thin film tank containing at least a recording film or a reflective film on a transfer surface of a signal pattern. A method of manufacturing an optical information recording medium, characterized in that a plasma chemical vapor deposition method is used as a film forming method.
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|---|---|---|---|
| JP1291530A JP2516263B2 (en) | 1988-11-09 | 1989-11-09 | Optical information recording medium and manufacturing method thereof |
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1989
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH02223034A (en) | 1990-09-05 |
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