JP2514703B2 - Active matrix substrate - Google Patents
Active matrix substrateInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は，例えば，液晶と組合わせて画像を形成する
アクティブマトリクス基板に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an active matrix substrate that forms an image by being combined with a liquid crystal, for example.
（従来の技術） 近時，液晶を用いてカラー表示する際に，絶縁性基板
上に多数の薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor:T
FT）がマトリクス状に配設されたアクティブマトリクス
基板が使用される。(Prior Art) Recently, when performing color display using liquid crystal, a large number of thin film transistors (TFTs) are formed on an insulating substrate.
An active matrix substrate in which FT) are arranged in a matrix is used.
このアクティブマトリクス基板は，例えば，絶縁性基
板上に，多数の絵素電極が配設されており，また，各絵
素電極に１つのTFTのドレイン電極が接続されるよう
に，多数のTFTがマトリクス状に配設されている。各TFT
は電気的に接続されたそれぞれの絵素電極のスイッチン
グ素子として機能する。In this active matrix substrate, for example, a large number of pixel electrodes are arranged on an insulating substrate, and a large number of TFTs are connected so that the drain electrode of one TFT is connected to each pixel electrode. They are arranged in a matrix. Each TFT
Serves as a switching element for each picture element electrode electrically connected.
一方向に列をなすTFTの各ゲート電極はその方向に延
びる１本の電極線であるゲート配線（信号線）に電気的
に接続され，他方向に列をなすTFTの各ソース電極は，
その方向に延びる１本の電極線であるソース配線（走査
線）に電気的に接続されている。そして，各ゲート配線
には走査信号がそれぞれ入力され，各ソース配線にはデ
ータ信号がそれぞれ入力され，両入力信号が入力された
TFTが動作して，該TFTに接続された絵素電極に電圧が印
加される。Each gate electrode of the TFTs arranged in one direction is electrically connected to the gate wiring (signal line) which is one electrode line extending in that direction, and each source electrode of the TFTs arranged in another direction is
It is electrically connected to a source wiring (scanning line) which is one electrode line extending in that direction. Then, a scanning signal is input to each gate wiring, a data signal is input to each source wiring, and both input signals are input.
The TFT operates and a voltage is applied to the pixel electrode connected to the TFT.
アクティブマトリクス基板を用いてカラー表示する際
には，赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）の三原色の
絵素が，同一色が相隣せずに，しかも三角状に三原色の
各絵素が相隣するように配列されたいわゆるデルタ型配
列のカラーフィルタが使用される。つまり，該カラーフ
ィルタは，所定の順番となった赤色，緑色、青色の三原
色の絵素が一方向に所定のピッチで並設された複数の絵
素列を，相隣する絵素列における各絵素の配設ピッチが
半ピッチずれるように構成されている。そして，このよ
うなカラーフィルタを用いたカラー液晶表示装置用のア
クティブマトリクス基板は，第３図に示すように，透明
基板75に，カラーフィルタの各絵素にそれぞれの絵素電
極が対抗するように配設されて構成される。所定ピッチ
で絵素電極72が並設された絵素電極列の間にはゲート配
線71が各絵素電極列に並行して配線されている。１本の
ゲート配線71は,1本の絵素電極列の各絵素電極72にドレ
イン電極が接続された各TFT 74のゲート電極にそれぞれ
電気的に接続されている。他方，ソース配線73は，各絵
素電極列におけるそれぞれの絵素電極72間を通過するよ
うに配線されるが，相隣する絵素電極列の各絵素電極が
半ピッチずれて配列されているために，各絵素電極72間
では，各ゲート配線71と並行するように直角に屈曲され
る。各ソース配線73は，各絵素電極列の各絵素電極72間
を通過する都度，屈曲方向が反対になっている。その結
果，相隣する絵素電極列を通過する１本のソース配線73
の外側の各側方域には，同色の絵素に対向する絵素電極
72が位置しており，その各絵素電極72がそれぞれTFT 74
を介して１本のソース配線73に電気的に接続されてい
る。When performing color display using an active matrix substrate, the picture elements of the three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) do not have the same colors next to each other, and each of the three primary colors is triangular. A so-called delta type color filter in which picture elements are arranged adjacent to each other is used. In other words, the color filter includes a plurality of picture element rows in which the picture elements of the three primary colors of red, green, and blue arranged in a predetermined order are arranged in parallel in one direction at a predetermined pitch. The arrangement pitch of the picture elements is shifted by a half pitch. An active matrix substrate for a color liquid crystal display device using such a color filter, as shown in FIG. 3, has a transparent substrate 75 so that each picture element electrode opposes each picture element of the color filter. And is configured. Between the picture element electrode rows in which the picture element electrodes 72 are arranged in parallel at a predetermined pitch, a gate wiring 71 is arranged in parallel with each picture element electrode row. One gate wiring 71 is electrically connected to each gate electrode of each TFT 74 in which a drain electrode is connected to each picture element electrode 72 of one picture element electrode array. On the other hand, the source wiring 73 is wired so as to pass between the respective picture element electrodes 72 in each picture element electrode row, but the picture element electrodes of the adjacent picture element electrode rows are arranged with a shift of a half pitch. Therefore, the pixel electrodes 72 are bent at right angles so as to be parallel to the gate wirings 71. The source wirings 73 are bent in opposite directions each time they pass between the picture element electrodes 72 of each picture element electrode row. As a result, one source wiring 73 that passes through the adjacent pixel electrode rows 73
In each side area outside the pixel, pixel electrodes facing the same color pixel
72 is located, and each pixel electrode 72 is a TFT 74.
It is electrically connected to one source wiring 73 via.
このようなアクティブマトリクス基板を用いたカラー
液晶表示装置の一例を，第４図に示す。該カラー液晶表
示装置は，透明の絶縁性基板75上に透明電極でなる絵素
電極72が前述のように設けられたアクティブマトリクス
基板70と，対向基板80との間に液晶91が封入されてい
る。アクティブマトリクス基板70には，絵素電極72を覆
うように絶縁層76が積層されており，該絶縁層76が配向
膜77にて覆われている。他方，該アクティブマトリクス
基板70に対向して設けられた対向基板80は，透明な絶縁
性基板81の一面に，前述のように三原色の絵素がデルタ
型に配列されたカラーフィルタ82が配設されており，該
透明基板81に，カラーフィルタ82を覆うように対向電極
83が積層され，さらに該対向電極83に配向膜84が配設さ
れている。そして，アクティブマトリクス基板70の配向
膜77と対向基板80の配向膜84とが相互に対向した状態
で，両者が適当な間隙をあけるように，アクティブマト
リクス基板70および対向基板80の間にスペーサ92が設け
られており，その間隙内に液晶91が封入されている。An example of a color liquid crystal display device using such an active matrix substrate is shown in FIG. In the color liquid crystal display device, a liquid crystal 91 is enclosed between an active matrix substrate 70 in which a pixel electrode 72 made of a transparent electrode is provided on a transparent insulating substrate 75 as described above, and a counter substrate 80. There is. An insulating layer 76 is laminated on the active matrix substrate 70 so as to cover the pixel electrodes 72, and the insulating layer 76 is covered with an alignment film 77. On the other hand, the counter substrate 80 provided so as to face the active matrix substrate 70 is provided with the color filter 82 in which the picture elements of the three primary colors are arranged in the delta type on one surface of the transparent insulating substrate 81 as described above. A counter electrode is formed on the transparent substrate 81 so as to cover the color filter 82.
83 are laminated, and an alignment film 84 is provided on the counter electrode 83. Then, with the alignment film 77 of the active matrix substrate 70 and the alignment film 84 of the counter substrate 80 facing each other, a spacer 92 is provided between the active matrix substrate 70 and the counter substrate 80 so that an appropriate gap is provided therebetween. Is provided, and the liquid crystal 91 is enclosed in the gap.
アクティブマトリクス基板70の絵素電極72配設面とは
反対側面には，偏光層78が積層され，また，対向基板80
のカラーフィルタ82配設面とは反対側面にも偏光層85が
積層されている。A polarizing layer 78 is laminated on the side surface of the active matrix substrate 70 opposite to the surface on which the picture element electrodes 72 are arranged.
A polarizing layer 85 is also laminated on the side opposite to the side where the color filter 82 is disposed.
アクティブマトリクス基板70には光源93からの光が直
接，あるいは，反射板94を介して照射されるようになっ
ている。該光源93および反射板94は，該カラー液晶表示
装置におけるコントラスト，輝度等の表示品質を向上さ
せるために設けられている。また，アクティブマトリク
ス基板70の偏光層78と光源93との間には光散乱板95が介
装されており，該光散乱板95により，光源93からの光路
長の違いによって生じる表示面の中心部と外周縁部との
輝度むらが抑制される。The active matrix substrate 70 is irradiated with the light from the light source 93 directly or via the reflecting plate 94. The light source 93 and the reflecting plate 94 are provided to improve display quality such as contrast and brightness in the color liquid crystal display device. A light scattering plate 95 is interposed between the polarizing layer 78 of the active matrix substrate 70 and the light source 93, and the light scattering plate 95 causes the center of the display surface caused by the difference in the optical path length from the light source 93. Unevenness between the edge portion and the outer peripheral edge portion is suppressed.
このような構成のカラー液晶表示装置では，例えば、
各偏光層78および85の偏光軸が直交している場合には，
液晶91に電圧が印加されていない状態，すなわち，アク
ティブマトリクス基板70に配設されたTFT 74がオフ状態
であれば液晶91の結晶分子の方向は配向膜77によって所
定の方向に配向されるため，結晶91に入射した光は，該
液晶91内を透過する間に所定方向に偏光されて外部に投
射される。従って，光源93配設側とは反対側から対向基
板80を見れば，カラーフィルタ82の各絵素部分は明状態
となり，その各絵素の色が表示される。反対に，アクテ
ィブマトリクス基板70のTFT 74がオンして絵素電極72に
電圧が印加されると，該絵素電極72と対向電極83との間
の液晶91の部分に電界が生じ，この部分の液晶分子の配
向が変化する。これにより，絵素電極72に入射した光の
方向は偏光層78の偏光方向とは異なり，外部へ投射され
ない。従って，オンしたTFT 74と接続された絵素電極72
に対向するカラーフィルタ82の絵素部分は，色が表示さ
れず暗状態となる。In the color liquid crystal display device having such a configuration, for example,
If the polarization axes of the polarizing layers 78 and 85 are orthogonal,
When the voltage is not applied to the liquid crystal 91, that is, when the TFT 74 arranged on the active matrix substrate 70 is in the off state, the crystal molecules of the liquid crystal 91 are oriented in a predetermined direction by the orientation film 77. The light incident on the crystal 91 is polarized in a predetermined direction while being transmitted through the liquid crystal 91 and projected to the outside. Therefore, when the counter substrate 80 is viewed from the side opposite to the side where the light source 93 is provided, each pixel portion of the color filter 82 is in a bright state, and the color of each pixel is displayed. On the contrary, when the TFT 74 of the active matrix substrate 70 is turned on and a voltage is applied to the picture element electrode 72, an electric field is generated in the part of the liquid crystal 91 between the picture element electrode 72 and the counter electrode 83, and this part is generated. The orientation of the liquid crystal molecules changes. As a result, the direction of the light incident on the pixel electrode 72 is different from the polarization direction of the polarization layer 78, and is not projected to the outside. Therefore, the pixel electrode 72 connected to the turned-on TFT 74 is
The color of the picture element portion of the color filter 82 opposed to is not displayed and is in a dark state.
このような原理により，該カラー液晶表示装置は，ア
クティブマトリクス基板70の多数の絵素電極72のそれぞ
れに電圧を印加することによって，所望のカラー画像あ
るいはカラー情報を表示し得る。Based on such a principle, the color liquid crystal display device can display a desired color image or color information by applying a voltage to each of the pixel electrodes 72 of the active matrix substrate 70.
（発明が解決しようとする課題） このような，カラー液晶表示装置におけるアクティブ
マトリクス基板では,TFT 74に，ソース電極とドレイン
電極との間がリークすることにより該TFT 74が常にオン
状態となるリーク欠陥，あるいは該TFT 74が常にオフ状
態になる不導通欠陥が生じることがある。TFT 74にリー
ク欠陥が生じれば，そのTFT 74は常にオン状態になり，
該TFT 74が電気的に接続された絵素電極72に電圧が常に
印加される。その結果，カラー液晶表示装置では，該絵
素電極72と対向するカラーフィルタ82の絵素が常に暗状
態となった暗点欠陥が生じる。反対に,TFT 74に不導通
欠陥が生じると，該TFT 74は常にオフした状態になり，
該TFT 74に電気的に接続された絵素電極72には電圧が印
加されない。その結果，カラー液晶表示装置では，該絵
素電極72と対向するカラーフィルタ82の絵素が常に明状
態となった輝点欠陥が生じる。このような絵素欠陥は，
カラー液晶表示装置の表示品質を低下させ，甚しい場合
には，カラー液晶表示装置として実用に供し得ない。(Problems to be Solved by the Invention) In such an active matrix substrate in a color liquid crystal display device, a leak between the source electrode and the drain electrode in the TFT 74 causes the TFT 74 to always be in an ON state. A defect or a non-conduction defect in which the TFT 74 is always off may occur. If the TFT 74 has a leak defect, the TFT 74 will always be in the ON state,
A voltage is always applied to the pixel electrode 72 to which the TFT 74 is electrically connected. As a result, in the color liquid crystal display device, a dark spot defect occurs in which the picture element of the color filter 82 facing the picture element electrode 72 is always in the dark state. On the contrary, when the TFT 74 has a non-conducting defect, the TFT 74 is always turned off,
No voltage is applied to the pixel electrode 72 electrically connected to the TFT 74. As a result, in the color liquid crystal display device, a bright spot defect occurs in which the picture element of the color filter 82 facing the picture element electrode 72 is always in a bright state. Such pixel defects are
If the display quality of the color liquid crystal display device is deteriorated and it is serious, it cannot be put to practical use as a color liquid crystal display device.
カラー液晶表示装置では，通常，カラーフィルタの絵
素数は数万〜数十万となっており，今後さらにその絵素
数が増加する傾向にある。その結果，カラーフィルタの
各絵素に対向する絵素電極数も，当然に増加する傾向に
あり，上述のような絵素欠陥が発生する確率は一層高く
なる。その結果，カラー液晶表示装置の歩留りが低下す
るおそれがある。In a color liquid crystal display device, the number of picture elements of a color filter is usually tens of thousands to hundreds of thousands, and the number of picture elements tends to further increase in the future. As a result, the number of picture element electrodes facing each picture element of the color filter naturally tends to increase, and the probability of occurrence of the picture element defect as described above is further increased. As a result, the yield of the color liquid crystal display device may decrease.
本発明は上記従来の問題を解決するものでありその目
的は，絵素電極に電気的に接続されたスイッチング素子
に欠陥が生じても，その絵素電極が欠陥の生じたスイッ
チング素子により駆動されないように，容易に修正し得
るアクティブマトリクス基板を提供することにある。The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and an object thereof is to prevent a pixel element electrode from being driven by the defective switching element even if a switching element electrically connected to the pixel electrode has a defect. Thus, it is to provide an active matrix substrate that can be easily modified.
（課題を解決するための手段） 本発明のアクティブマトリクス基板は，絶縁性基板上
に格子状に配線された走査線および信号線と、該走査線
および信号線により囲まれた各絵素領域内にそれぞれ配
設された複数の分割絵素電極からなる表示用絵素部とを
有し、該表示用絵素部を構成する分割絵素電極の外形の
一部は該一部に隣接する同一絵素領域内の他の分割絵素
電極の一部と相互に嵌合する接続修正用のインターデジ
タルな形状とし、かつ、前記同一絵素領域内の分割絵素
電極それぞれには同一の前記走査線および信号線に接続
されたスイッチング素子が接続されていることを特徴と
するものであり、そのことにより上記目的が達成され
る。(Means for Solving the Problem) An active matrix substrate of the present invention is provided with a scanning line and a signal line arranged in a grid pattern on an insulating substrate, and in each pixel region surrounded by the scanning line and the signal line. A plurality of divided picture element electrodes respectively disposed on the display picture element portion, and a part of the outer shape of the divided picture element electrode which constitutes the display picture element portion is adjacent to the part. An interdigital shape for connection correction that fits with a part of other divided picture element electrodes in the picture element area, and the same scanning is applied to each of the divided picture element electrodes in the same picture element area. The switching element connected to the line and the signal line is connected, whereby the above object is achieved.
（実施例） 以下に本発明を実施例について説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
本発明のアクティブマトリクス基板は，第１図に示す
ように，例えばホウ硅酸ガラスを用いた光透過性の絶縁
性基板10上に，相互に平行になるように複数の電極線と
して走査線であるゲート配線30,30,…が適当な間隔をあ
けて配線されている。また，該絶縁性基板10上には，各
ゲート配線30,30…とは相互に直交するように，複数の
電極線として信号線であるソース配線40,40…が，適当
な間隔をあけてそれぞれが平行に配線されている。各ゲ
ート配線30と各ソース配線40との交差部は絶縁状態にな
っている。As shown in FIG. 1, the active matrix substrate of the present invention is provided with a plurality of scanning lines as electrode lines which are parallel to each other on a light-transmissive insulating substrate 10 using, for example, borosilicate glass. Certain gate wirings 30, 30, ... Are laid out at appropriate intervals. Further, on the insulating substrate 10, source wirings 40, 40, which are signal lines as a plurality of electrode lines, are spaced at appropriate intervals so as to be orthogonal to the respective gate wirings 30, 30. Each is wired in parallel. The intersection of each gate line 30 and each source line 40 is in an insulating state.
相隣する一対のゲート配線30および30と，相隣する一
対のソース配線40および40とにより囲まれた絶縁性基板
10上の絵素領域内には，例えば，ソース配線40の延設方
向に並設された一対の絵素電極20および20がそれぞれ配
設されている。Insulating substrate surrounded by a pair of adjacent gate wirings 30 and 30 and a pair of adjacent source wirings 40 and 40
In the picture element region above 10, for example, a pair of picture element electrodes 20 and 20 arranged side by side in the extending direction of the source wiring 40 are arranged, respectively.
各絵素電極20には，該絵素電極20と,1本のゲート配線
30およびソース配線40とにそれぞれ電気的に接続された
TFT 50および50がそれぞれ配設されている。各TFT 50
は，第２図に示すように，光透過性の絶縁性基板10上に
積層されたゲート配線30から，各絵素電極20間のソース
配線40部分と平行するように延出するTa等よりなるゲー
ト電極51を有する。該ゲート電極51は陽極酸化膜52にて
覆われており，該陽極酸化膜52は，絶縁性基板10上面と
共に,SiNx等でなるゲート絶縁膜53にて覆われている。
そして，該ゲート絶縁膜53における陽極酸化膜52を被覆
する部分にはａ−Si膜54が被覆されており，該ａ−Si膜
54の中央部を除く各側部上には,a−Si（n+）膜55がそれ
ぞれ積層されている。そして，一方のａ−Si（n+）膜55
上にソース配線40から延出するソース電極57が積層され
ており，他方のａ−Si（n+）膜55上にドレイン電極56が
積層されている。該ドレイン電極56には，ゲート絶縁膜
53上に積層された透明な絵素電極20の一部が積層され
て，該絵素電極20とドレイン電極56とが電気的に接続さ
れている。Each picture element electrode 20 has one picture element electrode 20 and one gate wiring
30 and source wiring 40 electrically connected respectively
TFTs 50 and 50 are provided respectively. Each TFT 50
As shown in FIG. 2, from Ta etc. extending from the gate wiring 30 laminated on the light-transmissive insulating substrate 10 so as to be parallel to the source wiring 40 portion between each pixel electrode 20, The gate electrode 51 is formed. The gate electrode 51 is covered with an anodized film 52, and the anodized film 52 is covered with a gate insulating film 53 made of SiNx or the like together with the upper surface of the insulating substrate 10.
The portion of the gate insulating film 53 that covers the anodic oxide film 52 is covered with the a-Si film 54.
An a-Si (n + ) film 55 is laminated on each side portion except the central portion of 54. Then, one a-Si (n + ) film 55
A source electrode 57 extending from the source wiring 40 is laminated on the upper side, and a drain electrode 56 is laminated on the other a-Si (n + ) film 55. A gate insulating film is formed on the drain electrode 56.
A part of the transparent picture element electrode 20 laminated on 53 is laminated so that the picture element electrode 20 and the drain electrode 56 are electrically connected.
１つの絵素領域内に並設された各絵素電極20および20
におけるTFT 50配設側とは反対側の側部は，その対向部
において，それぞれが相互に嵌合する凹凸状に成形され
て，インターデジナルな形状になっている。Each pixel electrode 20 and 20 arranged side by side in one pixel region
The side portion on the side opposite to the side where the TFT 50 is arranged is formed into an uneven shape in which the side portions facing each other are fitted into each other to form an interdigital shape.
このような構成の本発明のアクティブマトリクス基板
では，例えば，絶縁性基板10上に，各TFT 50のゲート電
極51および各ゲート配線30を構成するTa等の導電性材料
を積層してパターニングすることにより，ゲート電極51
とゲート配線30とが一体となって形成される。In the active matrix substrate of the present invention having such a configuration, for example, a conductive material such as Ta forming the gate electrode 51 of each TFT 50 and each gate wiring 30 is laminated on the insulating substrate 10 and patterned. The gate electrode 51
And the gate wiring 30 are integrally formed.
本発明のアクティブマトリクス基板は，第４図に示す
カラー液晶表示装置と同様に，該アクティブマトリクス
基板と所定の間隔をあけて対向基板を配設し，両者の間
に液晶を封入することによりカラー液晶表示装置とされ
る。Similar to the color liquid crystal display device shown in FIG. 4, the active matrix substrate of the present invention is provided with a counter substrate at a predetermined distance from the active matrix substrate, and a liquid crystal is sealed between them to form a color display. It is a liquid crystal display device.
該アクティブマトリクス基板を用いたカラー液晶表示
装置において,1つの絵素領域内に配設された一方の絵素
電極20に接続されたTFT 50が正常に動作するものの，他
方の絵素電極20に接続されたTFT 50が不導通になった場
合には，不導通の該TFT 50が接続された絵素電極20には
電圧が印加されない。従って，その絵素電極20に対向す
る液晶層部分は，例えば，常に光が透過し，液晶表示装
置では常に明状態となった輝点欠陥が生じる。この場合
には，不導通となったTFT 50が接続された絵素電極20と
同一絵素領域内にある絵素電極20とのインターデジタル
な部分を，例えばレーザデポジションによりその凹凸が
並設された方向に直線状に形成される導電性膜61（第１
図参照）により電気的に接続する。この導電性膜61は，
各絵素電極20のインターデジタルな部分とは，少なくと
も３つの電気的接点が形成されることになり，不導通と
なったTFT 50が接続された絵素電極20は，同一絵素領域
内の正常な絵素電極20のオン，オフに基づきオン，オフ
される。その結果，不導通のTFT 50により絵素領域内の
半分の領域が常に明状態となる輝点欠陥は解消される。
第１図に示す実施例では，各絵素電極20におけるインタ
ーデジタルな部分は,2組の凹凸がそれぞれ形成されてい
るため，直線状の導電性膜61とは,4つの電気的接点が形
成される。In a color liquid crystal display device using the active matrix substrate, although the TFT 50 connected to one picture element electrode 20 arranged in one picture element region operates normally, When the connected TFT 50 becomes non-conductive, no voltage is applied to the pixel electrode 20 to which the non-conductive TFT 50 is connected. Therefore, in the liquid crystal layer portion facing the pixel electrode 20, for example, light is always transmitted, and in the liquid crystal display device, a bright spot defect that is always in a bright state occurs. In this case, the interdigital portion between the picture element electrode 20 to which the non-conducting TFT 50 is connected and the picture element electrode 20 in the same picture element region is provided with the concavities and convexities in parallel by, for example, laser deposition. The conductive film 61 (first
(Refer to the figure). This conductive film 61 is
At least three electrical contacts are formed with the interdigital portion of each pixel electrode 20, and the pixel electrode 20 to which the non-conducting TFT 50 is connected is in the same pixel area. It is turned on / off based on the normal on / off of the pixel electrode 20. As a result, the non-conducting TFT 50 eliminates the bright spot defect in which half of the pixel area is always in the bright state.
In the embodiment shown in FIG. 1, the interdigital portion of each picture element electrode 20 is formed with two sets of unevenness, and therefore four linear electrical contacts are formed with the linear conductive film 61. To be done.
これに対し１つの絵素領域内における一方の絵素電極
20に接続されたTFT 50にリーク欠陥が発生し，該TFT 50
が常にオン状態になれば，該TFT 50が接続された絵素電
極20が対向する液晶層部分には，例えば常に光が透過せ
ず，液晶表示装置では常に暗状態となった暗点欠陥が生
じる。この場合には、リーク欠陥が生じたTFT 50を，該
TFT 50が接続された絵素電極20から電気的に分離し（第
１図に二点鎖線62で示す），該絵素電極20と同一絵素領
域内にある他方の絵素電極20のインターデジタルな部分
を，前記実施例と同様に，レーザディポジションにより
形成される直線状の導電性膜61にて電気的に接続する。
これにより，リーク欠陥が生じたTFT 50から電気的に分
離された絵素電極20は同一絵素領域内の正常なTFT 50に
て動作される絵素電極20のオン，オフに基づき，オン，
オフされる。その結果,TFT 50のリーク欠陥により絵素
領域の半分の領域が常に暗状態となる暗点欠陥が解消さ
れる。On the other hand, one picture element electrode in one picture element region
A leak defect occurs in the TFT 50 connected to the
Is always turned on, the liquid crystal layer portion facing the pixel electrode 20 connected to the TFT 50, for example, does not always transmit light, and a dark spot defect which is always in a dark state in a liquid crystal display device is generated. Occurs. In this case, the TFT 50 with the leak defect is
The TFT 50 is electrically separated from the connected picture element electrode 20 (shown by a chain double-dashed line 62 in FIG. 1), and the other picture element electrode 20 in the same picture element region as the picture element electrode 20 is electrically connected. The digital part is electrically connected by a linear conductive film 61 formed by laser deposition, as in the above embodiment.
As a result, the pixel electrode 20 electrically separated from the TFT 50 having the leak defect is turned on and off based on the on / off operation of the pixel electrode 20 operated by the normal TFT 50 in the same pixel region.
Turned off. As a result, the dark spot defect in which half of the pixel region is always in the dark state due to the leak defect of the TFT 50 is eliminated.
なお、上記実施例では,1つの絵素領域内に２つの絵素
電極を配設する構成としたが,3つ以上の絵素電極が設け
られていてもよい。また，上記実施例では，各絵素電極
20にスイッチング素子として１個のTFT 50を電気的に接
続する構成としたが、スイッチング素子は絵素電極を駆
動し得る素子であればよく,TFTに限るものではない。さ
らに，スイッチング素子は各絵素電極に１個ずつ設ける
構成に限らず，各絵素電極に複数のスイッチング素子を
設ける構成としてもよい。さらに，また，上記実施例で
は，絶縁性基板上に形成された各絵素領域は，相互に直
交する方向にそれぞれ等ピッチにて整然と配設されてい
るが，このような構成に限らず，所定方向に並設された
各絵素領域の配設ピッチが，近接して同方向に並設され
た各絵領域の配設ピッチに対して半ピッチずれた状態
（第３図参照）であってもよい。Although two picture element electrodes are arranged in one picture element region in the above embodiment, three or more picture element electrodes may be provided. Further, in the above embodiment, each pixel electrode
Although one TFT 50 is electrically connected to 20 as a switching element, the switching element is not limited to the TFT as long as it can drive the pixel electrode. Furthermore, the number of switching elements is not limited to one for each picture element electrode, and a plurality of switching elements may be provided for each picture element electrode. Furthermore, in the above embodiment, the picture element regions formed on the insulating substrate are arranged at equal pitches in the directions orthogonal to each other, but the invention is not limited to such a configuration. The arrangement pitch of the picture element regions arranged in parallel in the predetermined direction is shifted by a half pitch from the arrangement pitch of the picture regions arranged in close proximity and in the same direction (see FIG. 3). May be.
（発明の効果） 本発明のアクティブマトリクス基板は，所定の同一信
号線に接続される複数のスイッチング素子をそれぞれ介
して各分割絵素電極が同一絵素領域内にそれぞれ配設さ
れているため、スイッチング素子の一部に欠陥が生じて
も、その欠陥スイッチング素子に接続される分割絵素電
極を、他のスイッチング素子を介して、所定の同一信号
線からの本来の表示信号により正常に動作し得る同一絵
素領域内の分割絵素電極同士を電気的に接続することに
より、欠陥スイッチング素子による分割絵素電極の駆動
が行われないように容易に修正することができると共
に、表示用絵素をより正しく表示制御することができ
る。しかも、インターデジタルな形状部の接続修正をし
ない場合にも、少なくとも絵素領域の半分の領域につい
ては正常な画素表示をすることができる。しかも、同一
絵素領域内の各絵素電極は，それぞれの一部がインター
デジタルな形状となっているため，そのインターデジタ
ルな形状部分に導電性膜を形成することにより，導電性
膜は各絵素電極とは電気的な接点が３つ以上形成され，
各絵素電極の電気的接続がきわめて容易に，しかも確実
に行える。(Effects of the Invention) In the active matrix substrate of the present invention, since each divided picture element electrode is arranged in the same picture element region through each of a plurality of switching elements connected to the same predetermined signal line, Even if a defect occurs in a part of the switching element, the divided pixel electrode connected to the defective switching element can operate normally by the original display signal from the same predetermined signal line through another switching element. By electrically connecting the divided picture element electrodes in the same picture element area to be obtained, it is possible to easily correct the division picture element electrodes not to be driven by the defective switching element and to display the picture elements. Can be controlled more accurately. Moreover, even when the connection correction of the interdigital shape portion is not performed, normal pixel display can be performed in at least a half of the picture element area. Moreover, since each pixel electrode in the same pixel region has an interdigital shape, the conductive film is formed by forming a conductive film on the interdigital shape. Three or more electrical contacts are formed with the pixel electrodes,
Electrical connection of each pixel electrode can be performed very easily and reliably.
第１図は本発明のアクティブマトリクス基板の一例を示
す概略平面図，第２図は第１図のII−II線における断面
図，第３図は従来のアクティブマトリクス基板の概略平
面図，第４図はそのアクティブマトリクス基板を用いた
カラー液晶表示装置の概略断面図である。 10……絶縁性基板,20……絵素電極,30……ゲート配線,4
0……ソース配線,50……TFT,61,……導電性膜。FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of the active matrix substrate of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG. 1, and FIG. 3 is a schematic plan view of a conventional active matrix substrate. The figure is a schematic cross-sectional view of a color liquid crystal display device using the active matrix substrate. 10 …… Insulating substrate, 20 …… Pixel electrode, 30 …… Gate wiring, 4
0 …… source wiring, 50 …… TFT, 61, …… conductive film.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−101693（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−59383（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−235816（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−261774（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−279227（ＪＰ，Ａ)Continuation of the front page (56) Reference JP-A-59-101693 (JP, A) JP-A-60-59383 (JP, A) JP-A-61-235816 (JP, A) JP-A-61-261774 (JP , A) JP-A-63-279227 (JP, A)
Claims (1)
および信号線と、該走査線および信号線により囲まれた
各絵素領域内にそれぞれ配設された複数の分割絵素電極
からなる表示用絵素部とを有し、 該表示用絵素部を構成する分割絵素電極の外形の一部は
該一部に隣接する同一絵素領域内の他の分割絵素電極の
一部と相互に嵌合する接続修正用のインターデジタルな
形状とし、かつ、前記同一絵素領域内の分割絵素電極そ
れぞれには同一の前記走査線および信号線に接続された
スイッチング素子が接続されていることを特徴とするア
クティブマトリクス基板。1. A scanning line and a signal line arranged in a grid pattern on an insulating substrate, and a plurality of divided picture element electrodes respectively arranged in respective picture element regions surrounded by the scanning line and the signal line. And a part of the outer shape of the divided picture element electrode which constitutes the display picture element part is formed of another divided picture element electrode in the same picture element region adjacent to the part. Interdigital shape for connection correction that fits with a part of each other, and a switching element connected to the same scanning line and signal line is connected to each divided pixel electrode in the same pixel area. An active matrix substrate characterized in that
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30711288A JP2514703B2 (en) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | Active matrix substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30711288A JP2514703B2 (en) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | Active matrix substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02181123A JPH02181123A (en) | 1990-07-13 |
| JP2514703B2 true JP2514703B2 (en) | 1996-07-10 |
Family
ID=17965178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30711288A Expired - Lifetime JP2514703B2 (en) | 1988-12-05 | 1988-12-05 | Active matrix substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2514703B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP4596582B2 (en) * | 1999-11-05 | 2010-12-08 | 三洋電機株式会社 | Display device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61235816A (en) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Asahi Glass Co Ltd | Thin film active element |
-
1988
- 1988-12-05 JP JP30711288A patent/JP2514703B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02181123A (en) | 1990-07-13 |
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