JP2513623B2 - Static memory - Google Patents

Static memory

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JP2513623B2 JP61042907A JP4290786A JP2513623B2 JP 2513623 B2 JP2513623 B2 JP 2513623B2 JP 61042907 A JP61042907 A JP 61042907A JP 4290786 A JP4290786 A JP 4290786A JP 2513623 B2 JP2513623 B2 JP 2513623B2
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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は半導体メモリに係り、特にスタティック型メ
モリにおけるビット線電位測定・設定用回路に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory, and more particularly to a bit line potential measuring / setting circuit in a static memory.

(従来の技術) 第4図は従来のスタティック型メモリにおけるメモリ
セルアレイとその周辺回路を概略的に示している。メモ
リセルアレイは、複数個のスタティック型のメモリセル
1…がマトリクス状に配置され、ロー選択信号およびカ
ラム選択信号により任意に1つのメモリセル1が選択さ
れるようになっている。そして、各メモリセル1…の2
つのデータ入出力ノードに一対のビット線BL,▲▼
が接続されており、それぞれのビット線BL,▲▼対
にはプリチャージ回路2、センスアンプおよび書込み回
路3が接続されている。上記センスアンプおよび書込み
回路3には、メモリセル1…への書込みデータを伝達す
るデータ入力線4およびメモリセル1…からの読出しデ
ータを外部へ伝達するデータ出力線5が接続されてい
る。
(Prior Art) FIG. 4 schematically shows a memory cell array and its peripheral circuits in a conventional static memory. In the memory cell array, a plurality of static type memory cells 1 ... Are arranged in a matrix, and one memory cell 1 is arbitrarily selected by a row selection signal and a column selection signal. 2 of each memory cell 1 ...
One data input / output node has a pair of bit lines BL, ▲ ▼
, And a precharge circuit 2, a sense amplifier and a write circuit 3 are connected to each bit line BL, ▲ ▼ pair. A data input line 4 for transmitting write data to the memory cells 1 ... And a data output line 5 for transmitting read data from the memory cells 1 ... Are connected to the sense amplifier and write circuit 3.

上記スタティック型メモリの動作は良く知られてお
り、その概要は次の通りである。読出し時には、プリチ
ャージ回路2によってビット線BL,▲▼の電位はメ
モリ電源電圧の近くまでそれぞれ等しく充電され、任意
のメモリセルが選択されると同時にそれに接続されてい
る一対のビット線BL,▲▼に電位差がつき、次いで
この電位差がセンスアンプによってセンス増幅され、こ
の増幅出力が外部へ出力される。書込み時には、書込み
回路3によって予めビット線BL,▲▼に相反する電
位が設定され、任意のメモリセルが選択されると同時に
それに接続されている一対のビット線BL,▲▼の電
位によってメモリセルにデータが書込まれる。
The operation of the static memory is well known, and its outline is as follows. At the time of reading, the potentials of the bit lines BL, ▲ ▼ are equally charged to near the memory power supply voltage by the precharge circuit 2, and an arbitrary memory cell is selected and at the same time a pair of bit lines BL, ▲ connected to it. A potential difference is added to ▼, and this potential difference is sense-amplified by a sense amplifier, and this amplified output is output to the outside. At the time of writing, the write circuit 3 sets in advance potentials contradictory to the bit lines BL and ▲ ▼, so that an arbitrary memory cell is selected and at the same time, the potential of the pair of bit lines BL and ▲ ▼ connected to it causes the memory cell The data is written in.

ところで、上記従来のスタティック型メモリにおいて
は、読出し時における選択されたメモリセルに接続され
ている一対のビット線BL,▲▼に生じる電位差は小
さいので、センスアンプによるセンス動作に誤りが生じ
て読出し不良が生じるおそれがある。特に、近年におけ
る回路素子の微細化に伴なってメモリセル内のMOSトラ
ンジスタの性能が低下し、上記電位差が小さくなること
により読出し不良が発生する傾向が強くなる。また、上
記回路素子の微細化に伴なって製造プロセスの僅かなバ
ラツキによって回路の動作余裕度に大きな影響が生じ、
回路の誤動作が生じ易くなることも考えられる。そこ
で、メモリ特性の評価を行なおうとするとき、従来のス
タティック型メモリでは種種のテスト方法を用いてある
程度の予測が可能であるが、必らずしも十分に回路動作
の確認(特に、ビット線電位の確認が重要である)を行
なうことができず、また上記評価に多大の時間を費やす
ことになる等の問題がある。しかも、従来のスタティッ
ク型メモリは、開発段階でのメモリ特性の不良解析に際
して、ビット線電位をメモリ外部から強制的に設定する
ことができなかった。
By the way, in the above-mentioned conventional static type memory, since the potential difference generated between the pair of bit lines BL, ▲ ▼ connected to the selected memory cell at the time of reading is small, an error occurs in the sense operation by the sense amplifier and the read operation is performed. There may be defects. Particularly, with the recent miniaturization of circuit elements, the performance of the MOS transistor in the memory cell deteriorates, and the potential difference becomes small, so that the read failure tends to occur. In addition, with the miniaturization of the above circuit elements, a slight variation in the manufacturing process has a great influence on the operational margin of the circuit.
It is also conceivable that malfunction of the circuit is likely to occur. Therefore, when trying to evaluate the memory characteristics, it is possible to make some predictions by using various test methods in the conventional static memory, but it is inevitable to confirm the circuit operation (especially for bit It is not possible to confirm the line potential), and a large amount of time is required for the above evaluation. Moreover, the conventional static type memory cannot forcibly set the bit line potential from the outside of the memory during the failure analysis of the memory characteristics at the development stage.

(発明が解決しようとする問題点) 本発明は上記したようなビット線電位の測定あるいは
強制的な設定を行なうことができないという問題点を解
決すべくなされたもので、ビット線電位の測定あるいは
外部からの強制的な設定が可能であり、メモリ特性の評
価あるいは不良解析の容易化およびそのための所要時間
の短縮化を図り得るスタティック型メモリを提供するこ
とを目的とするものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention has been made to solve the above-described problem that the bit line potential cannot be measured or forcibly set. It is an object of the present invention to provide a static memory which can be forcedly set from the outside and which can facilitate the evaluation of memory characteristics or the failure analysis and the time required therefor.

〔発明の構成〕[Structure of Invention]

(問題点を解決するための手段) 本発明のスタティック型メモリは、メモリセルアレイ
の各ビット線にそれぞれMOSスイッチの一端を接続し、
これらのMOSスイッチの全てあるいは少なくとも1カラ
ム分に対応する一部をメモリ外部からの制御信号に基い
て同じ状態にスイッチ制御し得るようにし、上記MOSス
イッチの他端に対してメモリ外部で電位の測定あるいは
メモリ外部から強制的に電位の設定を行ない得るように
したことを特徴とするものである。
(Means for Solving Problems) In the static memory of the present invention, one end of each MOS switch is connected to each bit line of the memory cell array,
All or part of these MOS switches corresponding to at least one column can be switch-controlled to the same state on the basis of a control signal from the outside of the memory, and the other end of the MOS switch can be controlled to have a potential outside the memory. It is characterized in that the potential can be forcibly set from the outside of the measurement or the memory.

(作用) MOSスイッチは、メモリ特性の評価あるいは不良解析
に際してオン状態に制御され、評価に際してはビット線
電位が外部に読み出され、不良解析に際しては外部から
所定の電位がビット線に強制的に印加される。また、メ
モリの通常動作に際しては、MOSスイッチはオフ状態に
制御されるのでメモリ動作に影響しない。
(Function) The MOS switch is controlled to the ON state during memory characteristic evaluation or failure analysis, the bit line potential is read out during evaluation, and a prescribed potential is forced from the outside to the bit line during failure analysis. Is applied. Further, during the normal operation of the memory, the MOS switch is controlled to be in the off state, so that the memory operation is not affected.

したがって、メモリ特性の評価あるいは不良解析を容
易に行なうことが可能になり、そのための所要時間が短
縮される。しかも、上記したようなビット線電位測定・
設定のために必要な付加回路は僅かで済む。
Therefore, it becomes possible to easily evaluate the memory characteristic or analyze the failure, and the time required therefor can be shortened. Moreover, the bit line potential measurement as described above
Only a few additional circuits are required for the setting.

(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明
する。
Embodiment An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図はスタティック型メモリの一部を示しており、
第4図を参照して前述した従来のスタティック型メモリ
に対してビット線電位測定・設定用回路10が付加された
ものであり、その他の部分は第4図と同じであるので同
一符号を付してその説明を省略する。
Figure 1 shows a part of static memory,
A bit line potential measuring / setting circuit 10 is added to the conventional static memory described with reference to FIG. 4, and the other parts are the same as those in FIG. And its description is omitted.

上記メモリにおいては、ビット線BL1,▲▼,
…,BLn,▲▼のそれぞれにMOSスイッチ(たとえ
ばNチャネルエンハンスメント型のMOSトランジスタ
T1,,…,Tn,)の各一端が接続されている。
そして、上記MOSスイッチのうち正相側のビット線BL1
…BLnに接続されているMOSスイッチの各他端は第1の信
号線11に共通接続され、残りの逆相側のビット線▲
▼,…,▲▼に接続されているMOSスイッチの
各他端は第2の信号線12に共通接続されている。さら
に、上記MOSスイッチそれぞれのゲートはスイッチ制御
信号線13に共通接続されている。
In the above memory, the bit line BL 1 , ▲ ▼,
…, BL n , and ▲ ▼ each have a MOS switch (for example, N-channel enhancement type MOS transistor).
One end of each of T 1 , ..., T n ,) is connected.
Then, of the MOS switches, the bit line BL 1 on the positive phase side,
... The other ends of the MOS switches connected to BL n are commonly connected to the first signal line 11, and the remaining bit lines on the opposite phase side ▲
The other ends of the MOS switches connected to ▼, ..., ▲ ▼ are commonly connected to the second signal line 12. Further, the gates of the MOS switches are commonly connected to the switch control signal line 13.

上記メモリにおいては、スイッチ制御信号線13に与え
られるスイッチ制御信号によりMOSスイッチそれぞれが
オン状態またはオフ状態に設定することが可能である。
In the memory, each of the MOS switches can be turned on or off by a switch control signal applied to the switch control signal line 13.

したがって、メモリ特性の評価に際して、MOSスイッ
チそれぞれをオン状態に設定することにより、そのとき
のビット線BL1,…,BLnおよび▲▼,…,▲
▼の電位がMOSトランジスタT1,…,Tnおよび▲
▼,…,▲▼を通じて第1の信号線11および第2の
信号線12に出力されるようになり、この出力電位を直接
にあるいは他の回路素子を通してメモリ外部に導き出す
ことによってビット線電位を測定することが可能にな
る。この場合、第1の信号線11には正相側のビット線BL
1,…BLnの各電位の平衡がとられた値が出力し、第2の
信号線12には逆相側のビット線▲▼,…,▲
▼の各電位の平衡がとられた値が出力する。同様に、
メモリ特性の不良解析に際してもMOSスイッチそれぞれ
をオン状態に設定することにより、メモリ外部から第1
の信号線11および第2の信号線12にそれぞれ所定の電位
を直接にあるいは他の回路素子を通して強制的に印加す
ることによって、MOSトランジスタT1,…,Tnを通じて
正相側のビット線BL1,…,BLnまたMOSトランジスタ▲
▼,…,▲▼を通じて逆相側のビット線▲
▼,…,▲▼の各電位を設定することが可能に
なる。
Therefore, when the memory characteristics are evaluated, by setting each of the MOS switches to the ON state, the bit lines BL 1 , ..., BL n and ▲ ▼, ..., ▲ at that time are set.
The potential of ▼ is MOS transistor T 1 ,…, T n and ▲
The signals are output to the first signal line 11 and the second signal line 12 through ▼, ..., ▲ ▼, and the output potential of the bit line is led to the outside of the memory either directly or through another circuit element to change the bit line potential. It becomes possible to measure. In this case, the positive signal side bit line BL is used as the first signal line 11.
The balanced value of each potential of 1 , ... BL n is output, and the bit line on the opposite phase side ▲ ▼,…, ▲ is output to the second signal line 12.
The balanced value of each potential of ▼ is output. Similarly,
Even when analyzing memory characteristic defects, by setting each MOS switch to the ON state, the first
Of the bit line BL on the positive phase side through the MOS transistors T 1 , ..., T n by forcibly applying a predetermined potential to the signal line 11 and the second signal line 12 directly or through other circuit elements. 1 ,…, BL n Also MOS transistor ▲
Bit line on the opposite phase side through ▼,…, ▲ ▼
It becomes possible to set each potential of ▼,…, ▲ ▼.

なお、MOSスイッチそれぞれをオフ状態に設定してお
くことによってメモリの通常動作に際して従来と同様に
可能である。
By setting each MOS switch to the off state, it is possible to perform the normal operation of the memory as in the conventional case.

ところで、上記実施例では全てのビット線対に対して
共通に電位測定あるいは電位設定を行ない得るようにし
たが、これに限らず任意に1つのビット線対を選択して
それぞれオン状態に設定することによって上記1つのビ
ット線対の電位測定あるいは電位設定を行ない得るよう
に、メモリセルアレイの各カラム単位でビット線対と前
記第1,第2の信号線11,12との間の経路をスイッチ制御
し得るように変更してもよい。
By the way, in the above embodiment, the potential measurement or the potential setting can be performed commonly for all the bit line pairs, but the present invention is not limited to this, and one bit line pair is arbitrarily selected and set to the ON state. Thus, the path between the bit line pair and the first and second signal lines 11 and 12 is switched in each column unit of the memory cell array so that the potential of the one bit line pair can be measured or set. It may be modified to be controllable.

このためには、第2図に示すように、各カラムにおけ
る一対のビット線BL,▲▼と前記第1,第2の信号線1
1,12との間にそれぞれ1個づつ接続されている一対のMO
SスイッチTi,▲▼を、各カラムで共通に使用され
る前記スイッチ制御信号線13の信号とメモリセルアレイ
のカラム選択を行なうためのカラム選択信号CDとを2入
力アンド回路21に入力して論理積をとった出力によりス
イッチ制御するように変更すればよい。あるいは、第3
図に示すように、各カラムにおける一対のビット線BL,
▲▼と前記第1,第2の信号線11,12との間に、それ
ぞれ直列接続された2個のMOSスイッチTi,Ti′および
▲▼,▲▼を接続し、各一方のMOSスイッチ
Ti,▲▼(またはTi′,▲▼)を前記スイッ
チ制御信号線13のスイッチ制御信号によりスイッチ制御
し、残りのMOSスイッチTi′,▲▼(またはTi
▲▼)をカラム選択信号線のカラム選択信号CDによ
りスイッチ制御するように変更すればよい。なお、第2
図および第3図において、1はメモリセル、6はロー選
択信号線である。
To this end, as shown in FIG. 2, a pair of bit lines BL, ▲ ▼ and the first and second signal lines 1 in each column are provided.
A pair of MOs connected to 1 and 12 respectively
The S switches T i and ▲ ▼ are input to the 2-input AND circuit 21 by inputting the signal of the switch control signal line 13 commonly used in each column and the column selection signal CD for selecting the column of the memory cell array. It may be changed so as to control the switch by the output of the logical product. Alternatively, the third
As shown in the figure, a pair of bit lines BL in each column,
Two MOS switches T i and T i ′ and ▲ ▼ and ▲ ▼ connected in series are connected between ▲ ▼ and the first and second signal lines 11 and 12, and one of the MOS switches is connected. switch
T i , ▲ ▼ (or T i ′, ▲ ▼) is switch-controlled by the switch control signal of the switch control signal line 13, and the remaining MOS switches T i ′, ▲ ▼ (or T i ,
▲ ▼) may be changed so as to be switch-controlled by the column selection signal CD of the column selection signal line. The second
In FIG. 3 and FIG. 3, 1 is a memory cell, and 6 is a row selection signal line.

なお、上記各実施例では、MOSスイッチとしてそれぞ
れNチャネルMOSトランジスタを用いたが、これに限ら
ず、PチャネルMOSトランジスタ、その他のMOSスイッチ
回路を用いてもよい。
Although the N-channel MOS transistors are used as the MOS switches in each of the above embodiments, the present invention is not limited to this, and P-channel MOS transistors and other MOS switch circuits may be used.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

上述したように本発明のスタティック型メモリによれ
ば、ビット線電位の測定あるいは外部からの強制的な設
定が可能になるので、メモリ特性の評価あるいは不良解
析を容易に且つ短時間に行なうことができる。しかも、
ビット線電位の測定あるいは外部からの強制的な操作を
可能とするために必要な回路構成は簡単で済む。
As described above, according to the static memory of the present invention, it is possible to measure the bit line potential or forcibly set it from the outside, so that the evaluation of memory characteristics or failure analysis can be performed easily and in a short time. it can. Moreover,
The circuit configuration necessary to enable the measurement of the bit line potential or the forced operation from the outside is simple.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明のスタティック型メモリの一実施例にお
ける一部を概略的に示す回路図、第2図および第3図は
それぞれ他の実施例における個個のカラムの一部を概略
的に示す回路図、第4図は従来のスタティック型メモリ
の一部を概略的に示す回路図である。 1…スタティック型メモリセル、10…ビット線電位測定
・設定用回路、11…第1の信号線、12…第2の信号線、
13…スイッチ制御信号線、21…アンド回路、T1,▲
▼,…▲▼,▲▼,Ti,▲▼,Ti′,▲
▼…MOSトランジスタ、BL1,▲▼,…,B
Ln,▲▼,BL,▲▼…ビット線、CD…カラム選
択信号。
FIG. 1 is a circuit diagram schematically showing a part of an embodiment of a static memory of the present invention, and FIGS. 2 and 3 are a part of individual columns in another embodiment respectively. FIG. 4 is a circuit diagram schematically showing a part of a conventional static type memory. 1 ... Static type memory cell, 10 ... Circuit for measuring / setting bit line potential, 11 ... First signal line, 12 ... Second signal line,
13 ... Switch control signal line, 21 ... AND circuit, T 1 , ▲
▼,… ▲ ▼, ▲ ▼, T i , ▲ ▼, T i ′, ▲
▼… MOS transistor, BL 1 , ▲ ▼,…, B
L n , ▲ ▼, BL, ▲ ▼ ... Bit line, CD ... Column selection signal.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数のカラムを有するメモリセルアレイ
と、 前記メモリセルアレイの各カラムに形成される正相側の
ビット線群及び逆相側のビット線群と、 各カラムに形成され、一端が前記正相側のビット線群に
直接接続される第1MOSトランジスタ群と、 各カラムに形成され、一端が前記逆相側のビット線群に
直接接続される第2MOSトランジスタ群と、 各カラムに形成され、前記第1及び第2MOSトランジスタ
群をオン状態にするためのスイッチ制御信号と前記メモ
リセルアレイのカラム選択を行うためのカラム選択信号
が入力され、前記第1及び第2MOSトランジスタ群のゲー
トに出力信号を出力する論理回路群と、 全てのカラムにおける前記第1MOSトランジスタ群の他端
に共通に接続される第1信号線と、 全てのカラムにおける前記第2MOSトランジスタ群の他端
に共通に接続される第2信号線と、 前記メモリセルアレイの各メモリセルに対してデータの
読出し及び書込みを行う読出し及び書込み回路と を具備し、 メモリの特性を評価する際には、前記論理回路群は、前
記スイッチ制御信号と前記カラム選択信号に基づいて、
選択されたカラムにおける第1及び第2MOSトランジスタ
をオン状態にし、選択されないカラムにおける第1及び
第2MOSトランジスタをオフ状態にするような論理をと
り、 前記第1の信号線は、選択されたカラムの正相側のビッ
ト線の電位をメモリ外部に出力し、前記第2の信号線
は、選択されたカラムの逆相側のビット線の電位をメモ
リ外部に出力し、 前記読出し及び書込み回路は、前記メモリの特性を評価
する際には動作せず、通常動作時に動作することを特徴
とするスタティック型メモリ。
1. A memory cell array having a plurality of columns, a positive phase side bit line group and a negative phase side bit line group formed in each column of the memory cell array, and one end formed in each column. A first MOS transistor group directly connected to the positive phase side bit line group and a second MOS transistor group formed in each column and having one end directly connected to the negative phase side bit line group and formed in each column A switch control signal for turning on the first and second MOS transistor groups and a column selection signal for performing column selection of the memory cell array are input, and output signals are output to gates of the first and second MOS transistor groups. , A first signal line commonly connected to the other end of the first MOS transistor group in all columns, and the second MOS transistor in all columns. A second signal line commonly connected to the other end of the memory group, and a read / write circuit for reading / writing data from / to each memory cell of the memory cell array. In the logic circuit group, based on the switch control signal and the column selection signal,
The logic is such that the first and second MOS transistors in the selected column are turned on and the first and second MOS transistors in the unselected column are turned off, and the first signal line is connected to the selected column. The potential of the bit line on the positive phase side is output to the outside of the memory, the second signal line outputs the potential of the bit line on the opposite phase side of the selected column to the outside of the memory, and the read / write circuit includes A static memory, which does not operate when evaluating the characteristics of the memory, but operates during normal operation.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01238000A (en) * 1988-03-18 1989-09-22 Fujitsu Ltd Semiconductor memory device
JP2007066392A (en) * 2005-08-30 2007-03-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory device
JP2010501966A (en) * 2006-08-22 2010-01-21 エヌエックスピー ビー ヴィ Method for inspecting static random access memory

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3795859A (en) * 1972-07-03 1974-03-05 Ibm Method and apparatus for determining the electrical characteristics of a memory cell having field effect transistors
JPS57105897A (en) * 1980-12-23 1982-07-01 Fujitsu Ltd Semiconductor storage device
JPS60217590A (en) * 1984-04-12 1985-10-31 Toshiba Corp Semiconductor circuit

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