JP2505804B2 - Optical recording medium and manufacturing method thereof - Google Patents

Optical recording medium and manufacturing method thereof

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JP2505804B2
JP2505804B2 JP62094955A JP9495587A JP2505804B2 JP 2505804 B2 JP2505804 B2 JP 2505804B2 JP 62094955 A JP62094955 A JP 62094955A JP 9495587 A JP9495587 A JP 9495587A JP 2505804 B2 JP2505804 B2 JP 2505804B2
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、レーザ光により情報記録ビットを読み取る
リード・オンリ・メモリ(ROM)タイプ、レーザ光によ
り書き込みが可能なダイレクト・リード・アフタ・ライ
ト(DRAW)タイプ、或いは消去、書き込みが可能なタイ
プの光記録体およびその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a read only memory (ROM) type for reading information recording bits with a laser beam, and a direct read after write capable of writing with a laser beam. The present invention relates to a (DRAW) type or an erasable / writable optical recording body and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のROMタイプの光記録体の例を第7図により説明
すると、光カード50上には、光反射部分51に体して低反
射部分52からなる情報記録ビット53が形成されている。
該光カード50は透明基板54上に写真製版法(フォト・リ
ソ法)により情報記録ビットとして光反射材料55を形成
し、これを接着剤56により、予め黒色の印刷層57を形成
した基板58に接着することにより形成されている。
An example of a conventional ROM type optical recording medium will be described with reference to FIG. 7. On the optical card 50, an information recording bit 53 composed of a low reflection portion 52 is formed so as to cover the light reflection portion 51.
In the optical card 50, a light reflection material 55 is formed as an information recording bit on a transparent substrate 54 by a photolithography method (photolithography method), and a substrate 58 on which a black printing layer 57 is previously formed by an adhesive 56 is formed. It is formed by adhering to.

また、特公昭58−48357号公報に示されているROMタイ
プの例を第8図により説明すると、基材上にハロゲン化
銀乳剤の膜60を形成し、この膜60に対してパターン露光
および特殊現像により、周囲の部分61と光反射率の異な
る情報記録ビット62を形成している。
An example of the ROM type shown in JP-B-58-48357 will be explained with reference to FIG. 8. A silver halide emulsion film 60 is formed on a substrate, and the film 60 is subjected to pattern exposure and By special development, the information recording bit 62 having a light reflectance different from that of the surrounding portion 61 is formed.

一方、従来のDRAWタイプの光記録体を第9図により説
明すると、フォトポリマ71の片面を凹凸状に形成し、こ
の凹凸面に沿ってTe等の光記録材料72の薄膜を設け、こ
れを接着剤73により基板74に接着すると共に、フォトポ
リマ71の上面いは光透過性のアクリル樹脂75等を積層す
ることにより光記録体が形成されている。そして、第10
図に示すように、例えば一本のレーザビーム76により光
記録材料72の凹凸分を走査して、例えば凸部に焦点を合
わせて位置を確認した後、光記録材料72の凸部にビット
情報を書き込んでいる。
On the other hand, a conventional DRAW type optical recording medium will be described with reference to FIG. 9. One side of a photopolymer 71 is formed in an uneven shape, and a thin film of an optical recording material 72 such as Te is provided along the uneven surface. An optical recording body is formed by adhering it to a substrate 74 with an adhesive 73 and stacking a light-transmitting acrylic resin 75 or the like on the upper surface of the photopolymer 71. And the tenth
As shown in the figure, for example, by scanning the uneven portion of the optical recording material 72 with a single laser beam 76, for example after confirming the position by focusing on the convex portion, bit information on the convex portion of the optical recording material 72. I am writing.

また、特公昭58−48357号公報に示されている従来のD
RAWタイプの光記録体を第11図により説明すると、基材
上にハロゲン化銀乳剤の膜80を形成し、この膜80に対し
てパターン露光および特殊現像により、光反射率の異な
る部分81および82を形成し、光の反射率の相違により部
分81の位置を確認して、部分81上にビット情報を書き込
むものである。
In addition, the conventional D disclosed in Japanese Patent Publication No. 58-48357
A RAW type optical recording medium will be described with reference to FIG. 11. A silver halide emulsion film 80 is formed on a base material, and the film 80 is subjected to pattern exposure and special development to obtain a portion 81 and a portion having different light reflectances. 82 is formed, the position of the portion 81 is confirmed by the difference in light reflectance, and bit information is written on the portion 81.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、上記第7図に示した写真製版法により
情報記録ビットを形成する光記録体においては、反射材
料のパターニングを強酸等の湿式エッチングにより行う
ため、 エッチング液の水洗、乾燥等の工程が繁雑である。
However, in the optical recording body for forming information recording bits by the photoengraving method shown in FIG. 7, since the patterning of the reflective material is performed by wet etching with a strong acid or the like, the steps of washing with an etching solution and drying are complicated. Is.

エッチング液の洗浄に時間がかかり、また、もし洗浄
が不十分の場合にはカード完成後も経時的に腐食が進行
するため、カードの寿命を短縮させる。
It takes a long time to clean the etching solution, and if the cleaning is insufficient, the corrosion of the card progresses with time even after the completion of the card, which shortens the life of the card.

エッチング液のPH管理が困難であると共に、エッチン
グ液中の異物による障害が発生する。
It is difficult to control the pH of the etching solution, and a foreign matter in the etching solution causes trouble.

等の問題を有している。Have problems such as.

また、第8図に示した例においては、特殊現像を行う
ため、工程が繁雑であり管理が難しく黒色部分の濃度が
出しにくいと共に、ハロゲン化銀乳剤等の特定の写真材
料を必要とするため、製造コストが増大するという問題
を有している。
Further, in the example shown in FIG. 8, since special development is performed, the process is complicated, management is difficult, and it is difficult to obtain the density of the black portion, and a specific photographic material such as a silver halide emulsion is required. However, there is a problem that the manufacturing cost increases.

また、第9図に示す凹凸面に沿って光記録材料を形成
するDRAWタイプの光記録体においては、凸面の形成にお
いて、その高さ、幅等の精度が要求されることから、そ
の制御方式が困難になるという問題を有し、また、製造
工程が複雑化しコストが増大するという問題を有してい
る。
Further, in the DRAW type optical recording medium in which the optical recording material is formed along the concave-convex surface shown in FIG. 9, since accuracy such as height and width is required in forming the convex surface, the control method thereof is However, the manufacturing process is complicated and the cost is increased.

また、上記第11図に示す例においては、トラックの幅
のみの精度が要求される点においては、上記の第9図に
示すものより製造は容易であるが、特殊なハロゲン化銀
乳剤等の特定の写真材料を必要とするため、製造コスト
が増大するという問題を有している。
Further, in the example shown in FIG. 11, the manufacturing is easier than that shown in FIG. 9 in that the accuracy of only the track width is required. Since it requires a specific photographic material, there is a problem that the manufacturing cost increases.

本発明は上記問題を解決するものであって、製造工程
が簡単であり、かつ、特定の光記録材料に限定されるこ
となく製造コストを低減できる光記録体およびその製造
方法を提供することを目的とするものである。
The present invention solves the above problems, and provides an optical recording body and a manufacturing method thereof, which can be manufactured by a simple manufacturing process and can reduce the manufacturing cost without being limited to a specific optical recording material. It is intended.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

そのために本発明の光記録体は、基材上に周囲に対し
て光反射率の異なる情報記録パターンを形成してなる光
記録体において、着色層が形成された基板と光透過性基
材との間に光反射材料層または光記録材料層が形成され
ていることを特徴とする。
Therefore, the optical recording medium of the present invention is an optical recording medium formed by forming information recording patterns having different light reflectances with respect to the surroundings on the substrate, in which the substrate on which the colored layer is formed and the light transmissive substrate. A light-reflecting material layer or an optical recording material layer is formed between them.

また、本発明の光記録体の製造方法は、基材上に周囲
に対して光反射率の異なる情報記録パターンを形成して
なる光記録体であって、着色層が形成された基板と光透
過性基材との間に光反射材料層または光記録材料層が形
成される光記録体の製造方法において、前記器材上にフ
ォトレジストを塗布し、マスク露光および現像により前
記情報記録パターンを除く部分にフォトレジストを残し
た後、全面に光反射材料層または光記録材料層を設け、
次いで該光反射材料層または光記録材料層をフォトレジ
ストと共に除去することを特徴とし、さらには、前記基
材上に光反射材料層または光記録材料層を設け、該光反
射材料層または光記録材料層の上にフォトレジストを塗
布し、マスク露光および現像により前記情報記録パター
ン部分にフォトレジストを残し、次に、これを腐食性ガ
スによるグロー放電領域にさらすことにより前記情報記
録パターンを除く部分の光反射材料層または光記録材料
層を除去することを特徴とする。
Further, the method for producing an optical recording medium of the present invention is an optical recording medium in which an information recording pattern having different light reflectance with respect to the surroundings is formed on a substrate, and a substrate on which a colored layer is formed and an optical recording medium In a method for producing an optical recording body in which a light reflecting material layer or an optical recording material layer is formed between a transparent substrate and a substrate, a photoresist is applied on the equipment, and the information recording pattern is removed by mask exposure and development. After leaving the photoresist on the part, provide a light reflection material layer or an optical recording material layer on the entire surface,
Next, the light reflecting material layer or the optical recording material layer is removed together with a photoresist, and further, the light reflecting material layer or the optical recording material layer is provided on the base material, and the light reflecting material layer or the optical recording material is provided. A portion excluding the information recording pattern by applying a photoresist on the material layer, leaving the photoresist in the information recording pattern portion by mask exposure and development, and then exposing it to a glow discharge area by a corrosive gas. The light-reflecting material layer or the optical recording material layer is removed.

〔作用〕[Action]

本発明においては、例えば第4図に示すように、光透
過性の基材10から光が入射されると、例えば、高反射率
部分13bにおいては光が強く反射され、低反射率部分13c
においては反射率が低下することになる。そして、ROM
タイプの光記録体を製造する場合には、層13として光反
射材料を採用することにより、低反射率部分13cに第1
図で示した情報記録ビット4を形成し、一方、DRAWタイ
プの光記録体を製造する場合には、層13として光記録材
料を採用することにより、高反射率部分13bに第2図で
示した光記録トラック8を形成し、低反射率部分13cに
案内トラック9を形成するものである。
In the present invention, for example, as shown in FIG. 4, when light is incident from the light-transmissive base material 10, for example, the light is strongly reflected in the high reflectance portion 13b and the low reflectance portion 13c.
In, the reflectance will decrease. And ROM
When manufacturing a type optical recording medium, by adopting a light-reflecting material as the layer 13, the low reflectance portion 13c can be formed into a first layer.
On the other hand, when the information recording bit 4 shown in the figure is formed and, on the other hand, when an optical recording body of DRAW type is manufactured, an optical recording material is adopted as the layer 13 so that the high reflectance portion 13b is shown in FIG. The optical recording track 8 is formed, and the guide track 9 is formed in the low reflectance portion 13c.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ説明
する。第1図は本発明の光記録体の1実施例であるROM
タイプの光カードを示す図で(a)は平面図、(b)は
斜視図、第2図は本発明の光記録体の他の実施例である
DRAWタイプの光カードを示す図、第3図は同じく他の実
施例であるROMタイプ、DRAWタイプ併用の光カードを示
す図、第4図は本発明の光記録体の製造方法の1実施例
を説明するための図、第5図は本発明の光記録体の製造
方法の他の実施例を説明するための図、第6図は本発明
の光記録体の書き込み方式を説明するための図である。
図中、1は光カード、4は情報記録ビット、8は光記録
トラック、9は案内トラック、10は光透過性基材、11は
フォトレジスト層、12はフォトマスク、13は光反射材料
または光記録材料、13bは高反射率部分、13cは低反射率
部分、14は黒色印刷層、15は基板を示す。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a ROM showing an embodiment of the optical recording medium of the present invention.
(A) is a plan view, (b) is a perspective view, and FIG. 2 is another embodiment of the optical recording medium of the present invention.
FIG. 3 is a diagram showing a DRAW type optical card, FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of an optical card used in combination with a ROM type and a DRAW type, and FIG. 4 is one embodiment of a method for manufacturing an optical recording medium of the present invention. 5 is a diagram for explaining another embodiment of the method for manufacturing an optical recording medium of the present invention, and FIG. 6 is a diagram for explaining a writing method of the optical recording medium of the present invention. It is a figure.
In the figure, 1 is an optical card, 4 is an information recording bit, 8 is an optical recording track, 9 is a guide track, 10 is a light transmissive substrate, 11 is a photoresist layer, 12 is a photomask, 13 is a light reflecting material or An optical recording material, 13b is a high reflectance portion, 13c is a low reflectance portion, 14 is a black printing layer, and 15 is a substrate.

第1図は本発明の光記録体のROMタイプの光カードを
示す図であり、光カード1上には、高反射部分2に対し
て低反射部分3からなる情報記録ビット4が形成されて
いる。該光カード1は透明基材5と黒色印刷層7aを有す
る基板6との間に光反射材料7bが形成され、該黒色印刷
層7aからなる情報記録ビット4がパターニングされてい
る。
FIG. 1 is a view showing a ROM type optical card of an optical recording medium of the present invention, in which an information recording bit 4 consisting of a high reflection portion 2 and a low reflection portion 3 is formed on the optical card 1. There is. In the optical card 1, a light reflecting material 7b is formed between a transparent base material 5 and a substrate 6 having a black printed layer 7a, and information recording bits 4 formed of the black printed layer 7a are patterned.

第2図は本発明の光記録体のDRAWタイプの光カードを
示す図であり、光カード1上には、高反射率部分を形成
し光により書き込み可能な光記録トラック8と、低反射
率部分を形成する案内トラック9が形成されている。な
お、上記実施例においては、光記録トラック8と案内ト
ラック9が交互に形成されているが、案内トラック9の
本数を減少させることも可能である。
FIG. 2 is a view showing a DRAW type optical card of the optical recording medium of the present invention, in which an optical recording track 8 in which a high reflectance portion is formed on the optical card 1 and which can be written by light, and a low reflectance A guide track 9 forming a part is formed. Although the optical recording tracks 8 and the guide tracks 9 are alternately formed in the above embodiment, the number of the guide tracks 9 can be reduced.

第3図は第1図のROMタイプ、第2図はDRAWタイプ併
用の光カードを示す図であり、光カード1の左右に情報
記録ビット4、4が形成され、中央部に光記録トラック
8および案内トラック9が形成されている。なお、情報
記録ビット4および光記録トラック8の位置は任意に設
定可能である。
FIG. 3 is a diagram showing an optical card used in combination with the ROM type shown in FIG. 1, and FIG. 2 is a diagram showing an optical card used in combination with the DRAW type. And a guide track 9 is formed. The positions of the information recording bit 4 and the optical recording track 8 can be set arbitrarily.

第4図および第5図は上記ROMタイプ或いはDRAMタイ
プの光記録体の製造方法の1実施例を示している。図
中、高反射率部分13bと低反射率部分13cは凹凸状に図示
されているが、これらの凹凸差は数μm程度であり、実
際上はほぼ平面或いは同一平面として形成されるもので
ある。
4 and 5 show an embodiment of a method of manufacturing the ROM type or DRAM type optical recording body. In the figure, the high-reflectance portion 13b and the low-reflectance portion 13c are shown in a concavo-convex shape, but the difference between the concavities and convexities is about several μm, and in reality, they are formed to be substantially flat or flush. .

第4図(a)において光透過性の基材10は、ポリメチ
ルメタクリレート(PMMA)、ポリカーボネイト、ポリエ
ステル、エポキシ、ポリオレフィン、ポリスチレン等の
所望の精度に加工可能であり、かつ、途中の工程で腐食
しない高分子材料等から形成され、この光透過性の基材
10上に回転式フォトレジスト塗布基によりフォトレジス
ト層11を4000〜15000Åの厚さで均一に塗布する。次に
マスク合わせ装置を用いて、情報記録パターンに応じて
形成したフォトマスク12をフォトレジスト層11に重ね合
わせた後、露光する。次に(b)図に示すように、フォ
トレジスト層11を現像すると、ポジタイプのレジストで
は、紫外線の当たったところのフォトレジストは流れ去
り、当たらない部分のレジストが残り、フォトマスク12
のパターンが光透過性の基材10上に転写され、これによ
りフォトレジスト層11が、第1図で示した情報記録ビッ
ト4或いは第2図で示した案内トラック9の形状とし
て、例えば、幅5μ程度、ピッチ15μ程度で形成され、
次に(c)図に示すように、後述する光反射材料または
光記録材料13の薄膜層を蒸着、スパッタリング或いは科
学的方法等により形成させる。次に(d)図に示すよう
に、光透過性の基材10の下側から残りのフォトレジスト
層11を露光させた後、(e)図に示すように、現像によ
りフォトレジスト層11を除去し、フォトレジスト層11上
に形成された光反射材料または光記録材料13をリフトオ
フさせることにより、光透過性の基材10上に情報記録パ
ターン13bを形成させる。このように形成された光透過
性の基材10に(f)図に示すように、黒色等の印刷層14
を形成したポリ塩化ビニール等の基板15を接着し、高反
射率部分13bと低反射率部分13cを有する光記録体を製造
する。
In FIG. 4 (a), the light-transmissive substrate 10 can be processed to a desired precision such as polymethylmethacrylate (PMMA), polycarbonate, polyester, epoxy, polyolefin, polystyrene, etc., and is corroded during the process. This light-transmissive base material is made of non-polymer material
A photoresist layer 11 is evenly coated on the substrate 10 by a rotary photoresist coating substrate to a thickness of 4000 to 15000Å. Next, using a mask aligning device, a photomask 12 formed according to the information recording pattern is superimposed on the photoresist layer 11, and then exposed. Next, as shown in FIG. 3B, when the photoresist layer 11 is developed, in the positive type resist, the photoresist where the ultraviolet rays are exposed flows away, and the resist where the ultraviolet rays are not exposed remains, and the photomask 12
Pattern is transferred onto a light-transmissive base material 10, whereby the photoresist layer 11 has a shape, for example, a width of the information recording bit 4 shown in FIG. 1 or the guide track 9 shown in FIG. It is formed with a pitch of 5μ and a pitch of 15μ.
Next, as shown in FIG. 3C, a thin film layer of a light reflecting material or an optical recording material 13 described later is formed by vapor deposition, sputtering, a scientific method or the like. Next, as shown in FIG. 3D, the remaining photoresist layer 11 is exposed from the lower side of the light transmissive substrate 10, and then the photoresist layer 11 is developed by development as shown in FIG. By removing and lifting off the light reflection material or the optical recording material 13 formed on the photoresist layer 11, the information recording pattern 13b is formed on the light transmissive base material 10. On the light-transmissive base material 10 thus formed, as shown in FIG.
The substrate 15 made of polyvinyl chloride or the like having the above is adhered to produce an optical recording body having a high reflectance portion 13b and a low reflectance portion 13c.

この光記録体は、光透過性の基材10から光が入射され
ると、例えば、広範射率部分13bにおいては光が強く反
射され、低反射率部分13cにおいては反射率が低下する
ことになる。そして、ROMタイプの光記録体を製造する
場合には、層13として光反射材料を採用することによ
り、低反射率部分13cに第1図で示した情報記録ビット
4を形成し、一方、DRAWタイプの光記録体を製造する場
合には、層13として光記録材料を採用することにより、
高反射率部分13bに第2図で示した光記録トラック8を
形成し、低反射率部分13cに案内トラック9を形成する
ものである。
In this optical recording medium, when light is incident from the light-transmissive base material 10, for example, light is strongly reflected in the wide emissivity portion 13b, and the reflectance is reduced in the low reflectance portion 13c. Become. When a ROM type optical recording medium is manufactured, the information recording bit 4 shown in FIG. 1 is formed in the low reflectance portion 13c by adopting a light reflecting material as the layer 13, while the DRAW is used. When manufacturing a type of optical recording material, by adopting an optical recording material as the layer 13,
The optical recording track 8 shown in FIG. 2 is formed on the high reflectance portion 13b, and the guide track 9 is formed on the low reflectance portion 13c.

上記ROMタイプに用いる光反射材料としては、基材と
屈折率が異なる材料であればいずれの材料でも使用可能
であり、例えば、Al、Ti、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、S
e、Mo、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、Pt、Au等の金属及び
これらの合金、化合物、その他TiO2、TiN等に代表され
る酸化物、窒化物、有機系色素薄膜等光反射率の高い材
料を使用する。
As the light-reflecting material used in the ROM type, any material can be used as long as the material has a different refractive index from the base material, for example, Al, Ti, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, S.
Metals such as e, Mo, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te, Pt, Au and their alloys, compounds, and other oxides, nitrides, organic dye thin films represented by TiO 2 , TiN, etc. Use a material with high light reflectance.

また、上記DRAWRタイプに用いる光記録材料として
は、例えば、金属系(TaBi、In、Al、C/Al、Cr/Al、Zn/
Al、Si、Ge、SmS等)、カルゴン系(Te、Te−As、Te−S
e、Te−Se−As、Te−CS2、Te−C、Te複合物、As−Se−
S−Ge等)、酸化物系(TeOx、GeOx、MoOx、VO2等)、
有機物系(色素薄膜+樹脂、Ag+ポリマー、熱可塑性樹
脂、Cu−Pc/Te等)が用いられる。
Examples of the optical recording material used for the DRAWR type include metal-based materials (TaBi, In, Al, C / Al, Cr / Al, Zn /
Al, Si, Ge, SmS, etc., Calgon system (Te, Te-As, Te-S
e, Te-Se-As, Te-CS 2, Te-C, Te composites, As-Se-
S-Ge, etc.), oxides (TeO x , GeO x , MoO x , VO 2, etc.),
Organic substances (dye thin film + resin, Ag + polymer, thermoplastic resin, Cu-Pc / Te, etc.) are used.

なお、消去、書き込みが可能なタイプに用いる光記録
材料としては、光照射により膜を構成する原子間の秩序
状態が可逆的に変化し、かつ、両者間の光反射率が異な
る材料として、例えば、Te−As、Te−Se、Te−Se−As、
Te−CS2、Te−C、As−Se−S−Ge等の材料が用いられ
る。
As an optical recording material used for the erasable and writable type, for example, a material in which the ordered state between atoms forming the film is reversibly changed by light irradiation and the light reflectance between them is different, for example, , Te-As, Te-Se, Te-Se-As,
Te-CS 2, Te-C , materials such as As-Se-S-Ge is used.

さらに、フォトレジスト11としては、オルソキノンジ
アジド/ノボラック系、アジド/ゴム系、p−ジアゾジ
フェニルアミン・パラホルムアルデヒド縮合系、アジド
ポリマー系、ポリケイ皮酸ビニル系、ポリシンナミリデ
ン酢酸ビニル系等の材料が用いられる。
Further, as the photoresist 11, materials such as orthoquinone diazide / novolak type, azide / rubber type, p-diazodiphenylamine / paraformaldehyde condensation type, azido polymer type, polyvinyl cinnamate type, and polycinnamylidene vinyl acetate type are used. Used.

そして、上記のようにして製造したROMタイプの光記
録体においては、低反射率の情報記録ビットをラインセ
ンサ例えばCCDラインセンサ或いはレーザビームにより
読み取ることになる。なお、ROMタイプの光記録体にお
いては、案内トラックは必ずしも必要でなく、情報記録
ピット列を案内トラックとして使用できる。
Then, in the ROM-type optical recording body manufactured as described above, the information recording bit having a low reflectance is read by a line sensor such as a CCD line sensor or a laser beam. In the ROM type optical recording body, the guide track is not always necessary, and the information recording pit row can be used as the guide track.

また、上記のようにして製造したDRAWタイプの光記録
体においては、光記録トラック13bと案内トラック13cと
の光反射率を400〜700nmの白色光ランプを用いて測定し
た結果、例えば、光記録トラック13bは50%程度、案内
トラック13cは10%程度の光反射率となった。光記録媒
体にビット情報を書き込む場合には、2ビーム或いは3
ビームを用いるが、3ビームを用いる例においては第6
図に示すように、両側のビームA、Cにより案内トラッ
ク13cと光記録トラック13bの反射率の差を検出すること
により、案内トラック13c、13cの位置を確認にして左右
にずれないようにして、真中のビームBにより光記録ト
ラック13bにビット情報を書き込むもので、制御方式が
1ビームのものと比較して簡単となる。なお、案内トラ
ック13cは必ずしも光記録トラック13bと交互に形成する
ことなく、案内トラックの本数を間引いてもよい。この
場合には、案内トラック13cの距離を演算して光記録ト
ラック13bの位置を決め、ビット情報を書き込むもので
ある。
Further, in the DRAW type optical recording medium manufactured as described above, as a result of measuring the light reflectance of the optical recording track 13b and the guide track 13c using a white light lamp of 400 to 700 nm, for example, optical recording The light reflectance of the track 13b was about 50%, and the light reflectance of the guide track 13c was about 10%. When writing bit information on an optical recording medium, 2 beams or 3 beams are used.
A beam is used, but in the example using three beams, the sixth beam is used.
As shown in the figure, the difference between the reflectances of the guide track 13c and the optical recording track 13b is detected by the beams A and C on both sides, so that the positions of the guide tracks 13c and 13c can be confirmed to prevent the guide tracks 13c and 13c from shifting to the left and right. , The bit information is written in the optical recording track 13b by the middle beam B, which is simpler than the one beam control method. The guide tracks 13c are not necessarily formed alternately with the optical recording tracks 13b, and the number of guide tracks may be thinned out. In this case, the bit information is written by calculating the distance of the guide track 13c to determine the position of the optical recording track 13b.

(製造例) 厚さ0.4mm、サイズ100×100mmのPMMA基材を使用
し、 基材表面にフォトレジストを以下の条件で塗布し
た。
(Production Example) A PMMA base material having a thickness of 0.4 mm and a size of 100 × 100 mm was used, and a photoresist was applied to the surface of the base material under the following conditions.

スピンナーコート:3000rpm、20sec レジスト:シプレーマイクロポジット1400 厚み:5000Å 塗布後プレベークを90度C、20分で行った。Spinner coat: 3000 rpm, 20 sec Resist: Shipley Microposit 1400 Thickness: 5000 Å After application, prebaking was performed at 90 ° C for 20 minutes.

次に、パターン露光を以下の条件で行った。 Next, pattern exposure was performed under the following conditions.

マスク:Crスパッタマスク パターン:DRAWタイプ 案内トラック巾5μm 情報トラック巾10μm ROMタイプ 情報記録ビット巾5μm 長さ5〜20μm 超高圧水銀灯:4kw、8sec 露光後現像を以下の条件で行った。Mask: Cr sputter mask Pattern: DRAW type Guide track width 5 μm Information track width 10 μm ROM type Information recording bit width 5 μm Length 5 to 20 μm Ultra-high pressure mercury lamp: 4 kw, 8 sec After exposure, development was performed under the following conditions.

シプレーマイクロポジットデベロッパーに60sec、水洗 次に、記録層形成を以下の条件で形成した。Washing with a Shipley Microposite Developer for 60 sec. Next, a recording layer was formed under the following conditions.

直流2極スパッタリング装置を用いて厚さ500Åの層
を形成。
Form a layer with a thickness of 500Å using a DC bipolar sputtering device.

DRAWタイプ:Teスパッタリング ROMタイプ:Alスパッタリング 次に、PMMA基材側より全面露光を行う。DRAW type: Te sputtering ROM type: Al sputtering Next, the entire surface is exposed from the PMMA substrate side.

超高圧水銀灯:4kw、1分 現像(リフトオフ)を以下の条件で行った。Ultra-high pressure mercury lamp: 4 kw, 1 minute development (lift-off) was performed under the following conditions.

シプレーマイクロポジットデベロッパーに2分後、水
洗 基板と基材の接着は、接着剤として東レ製ハイソー
ルを用いて、黒色印刷層を設けた基板の塩ビ0.3mm厚を
上記で得られた基材にラミネートして一体化し、 カードのサイズに打ち抜いて、本発明の光記録体の
1例である光カードを得た。
2 minutes after washing with Shipley Microposite Developer, use a Toray high sole as an adhesive to bond the substrate and the substrate together. Laminate 0.3mm PVC of the substrate with the black printed layer on the substrate obtained above. Then, they were integrated and punched out into a card size to obtain an optical card as an example of the optical recording medium of the present invention.

なお、上記製造例において、DRAW、ROM併用カードを
製造する場合には、工程、において適宜DRAWとROM
の工程を組み合わせる。
In the above manufacturing example, when manufacturing a DRAW / ROM combined card, the DRAW and ROM are appropriately
Combine the steps.

次に、第5図により本発明の光記録体の製造方法の他
の実施例について説明する。図中、第4図の実施例と同
一個所には同一番号を付して詳しい説明は省略する。
Next, another embodiment of the method for manufacturing an optical recording medium of the present invention will be described with reference to FIG. In the figure, the same parts as those of the embodiment of FIG. 4 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

先ず、第5図(a)に示すように、厚さ400μmの光
透過性の基材10上に、膜厚5001000Åの光反射材料また
は光記録材料13の薄膜層を蒸着、スパッタリング或いは
化学的方法等により形成させる。次に、(b)図に示す
ように、光反射材料または光記録材料13上に回転式フォ
トレジスト塗布機によりフォトレジスト層11を4000〜15
000Åの厚さで均一に塗布した後、マスク合わせ装置を
用いてフォトマスク12をフォトレジスト層11に重ね合わ
せた後、露光する。次に(c)図に示すように、フォト
レジスト層11を現像すると、ポジタイプのレジストで
は、紫外線の当たったところのフォトレジストは流れ去
り、当たらない部分のレジストが残り、フォトマスク12
のパターンが転写され、これによりフォトレジスト層11
に幅5μ程度、ピッチ15μ程度の開口が形成される。こ
のように形成された基材10を平行電極間に挿入し、
(d)図に示すように、光透過性の基材10上に、含四塩
化炭素ガス中でグロー放電して、フォトレジストがなく
露出している部分の光反射材料または光記録材料13をド
ライエッチングにより光透過性の基材10から剥ぎ取る。
このときのエッチング条件の例としては、初期排気が6
×10-2Torr、真空度が2〜3×10-1Torrである。次に
(e)図に示すように、フォトレジスト層11を除去し、
光透過性の基材10上に情報記録パターン13bを形成させ
る。このように形成された光透過性の基材10に(f)図
に示すように、黒色等の印刷層14を形成したポリ塩化ビ
ニール等の基板15を接着し、高反射率部分13bと低反射
率部分13cを有する光記録体を製造する。
First, as shown in FIG. 5 (a), a thin film layer of a light reflecting material or an optical recording material 13 having a film thickness of 5001000Å is vapor-deposited, sputtered or chemically formed on a light transmissive substrate 10 having a thickness of 400 μm. And the like. Next, as shown in FIG. 2B, a photoresist layer 11 is applied on the light reflection material or the optical recording material 13 by a rotary photoresist coating machine to form 4000 to 15 layers.
After being uniformly applied with a thickness of 000Å, a photomask 12 is superposed on the photoresist layer 11 using a mask aligning device, and then exposed. Next, as shown in FIG. 3C, when the photoresist layer 11 is developed, in the positive type resist, the photoresist where the ultraviolet rays are exposed flows away, and the resist where the ultraviolet rays are not exposed remains, and the photomask 12
Pattern is transferred to the photoresist layer 11
Apertures with a width of about 5μ and a pitch of about 15μ are formed. Insert the base material 10 thus formed between the parallel electrodes,
(D) As shown in the figure, a light-reflecting material or an optical recording material 13 is exposed on a light-transmissive substrate 10 by glow discharge in a carbon tetrachloride-containing gas and exposed without a photoresist. It is stripped from the light-transmissive base material 10 by dry etching.
As an example of etching conditions at this time, initial exhaust is 6
× 10 -2 Torr , and the degree of vacuum is 2-3 × 10 -1 Torr . Next, as shown in FIG. 7E, the photoresist layer 11 is removed,
An information recording pattern 13b is formed on a light transmissive base material 10. As shown in (f), the substrate 15 made of polyvinyl chloride or the like on which the printing layer 14 of black color or the like is formed is adhered to the light-transmitting substrate 10 thus formed, and the high reflectance portion 13b and the low reflectance portion 13b are formed. An optical recording body having the reflectance portion 13c is manufactured.

(製造例) 厚さ0.4mm、サイズ100×100mmのPMMA基材を使用
し、 次に、記録層形成を以下の条件で形成した。直
流2極スパッタリング装置を用いて厚さ500Åの層を形
成。
(Production Example) A PMMA base material having a thickness of 0.4 mm and a size of 100 × 100 mm was used, and then a recording layer was formed under the following conditions. Form a layer with a thickness of 500Å using a DC bipolar sputtering device.

DRAWタイプ:Teスパッタリング ROMタイプ:Alスパッタリング 基材表面にフォトレジストを以下の条件で塗布し
た。
DRAW type: Te sputtering ROM type: Al sputtering A photoresist was applied on the surface of a substrate under the following conditions.

スピンナーコート:2000rpm、20sec レジスト:シプレーマイクロポジット1400 厚み:1μm 塗布後プレベークを90度C、60分で行った。Spinner coat: 2000 rpm, 20 sec Resist: Shipley Microposit 1400 Thickness: 1 μm After coating, prebaking was performed at 90 ° C. for 60 minutes.

次に、パターン露光を以下の条件で行った。 Next, pattern exposure was performed under the following conditions.

マスク:Crスパッタマスク パターン:DRAWタイプ 案内トラック巾5μm 情報トラック巾10μm ROMタイプ 情報記録ビット巾5μm 長さ5〜20μm 超高圧水銀灯:4kw、8sec 露光後現像を以下の条件で行った。Mask: Cr sputter mask Pattern: DRAW type Guide track width 5 μm Information track width 10 μm ROM type Information recording bit width 5 μm Length 5 to 20 μm Ultra-high pressure mercury lamp: 4 kw, 8 sec After exposure, development was performed under the following conditions.

シプレーマイクロポジットデベロッパーに60sec、水洗 次にRFドライエッチング装置の平行電極間に挿入し
てドライエッチングを行う。
Rinse with water for 60 seconds on Shipley Microposit Developer, then insert between parallel electrodes of RF dry etching equipment to perform dry etching.

初期排気:6×10-2Torr 四塩化炭素ガス導入 真空度:2×10-1Torr グロー放電によりレジストで覆われていない部分の記
録層を除去する。
Initial exhaustion: 6 × 10 -2 Torr carbon tetrachloride gas introduction Vacuum degree: 2 × 10 -1 Torr The recording layer in the portion not covered with the resist is removed by glow discharge.

次に、PMMA基材側より全面露光を行う。 Next, the entire surface is exposed from the PMMA substrate side.

超高圧水銀灯:4kw、1分 現像(レジスト除去)を以下の条件で行ったシプレ
ーマイクロポジットデベロッパーに2分、水洗 基板と基材の接着は、接着剤として東レ製ハイソー
ルを用いて、黒色印刷層を設けた基板の塩ビ0.3mm厚を
上記で得られた基材にラミネートして一体化し、 カードのサイズに打ち抜いて、本発明の光記録体の
1例である光カードを得た。
Ultra high pressure mercury lamp: 4kw, 1 minute Development (resist removal) under the following conditions for Shipley Microposite Developer for 2 minutes, water washing Adhesion between substrate and substrate is Toray Hisol as an adhesive, black printing layer A 0.3 mm thick vinyl chloride film of the substrate provided with was laminated on the base material obtained above and integrated, and punched into a card size to obtain an optical card as an example of the optical recording medium of the present invention.

そして、第4図の実施例と同様に、ROMタイプの光記
録体を製造する場合には、層13として光反射材料を採用
することにより、低反射率部分13cに第1図で示した情
報記録ビート4を形成し、一方、DRAWタイプの光記録体
を製造する場合には、層13として光記録材料を採用する
ことにより、高反射率部分13bに第2図で示した光記録
トラック8を形成し、低反射率部分13cに案内トラック
9を形成するものである。
When manufacturing a ROM type optical recording medium, as in the embodiment of FIG. 4, by adopting a light reflecting material as the layer 13, the information shown in FIG. On the other hand, when the recording beat 4 is formed and, on the other hand, an optical recording material of DRAW type is manufactured, an optical recording material is adopted as the layer 13 so that the optical recording track 8 shown in FIG. And the guide track 9 is formed on the low reflectance portion 13c.

なお、本発明は上記実施例に限定されるものではな
く、種々の変形が可能であることは勿論である。例え
ば、上記実施例においては、黒色印刷層14を形成して低
反射率部分13cとしているが、黒色に限定されるもので
はなく例えば白色等、高反射率部分13bの反射率と異な
る印刷層であればよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, and it goes without saying that various modifications can be made. For example, in the above embodiment, the black print layer 14 is formed as the low reflectance portion 13c, but it is not limited to black and, for example, a print layer having a reflectance different from the reflectance of the high reflectance portion 13b such as white. I wish I had it.

そして、本発明の光記録体はフレキシブルディスク、
カード、テープ等として利用することができ、例えば以
下の用途に適用される。
The optical recording medium of the present invention is a flexible disk,
It can be used as a card, a tape, etc., and is applied to the following uses, for example.

(1)金融流通産業:キャッシングカード、クレジット
カード、プリペイドカード。
(1) Financial distribution industry: cashing cards, credit cards, prepaid cards.

(2)医療健康産業:健康証書、カルテ、医療カード、
緊急カード。
(2) Medical health industry: health certificate, medical chart, medical card,
Emergency card.

(3)娯楽産業:ソフトウェア媒体、会員カード、入場
券、遊戯機械制御媒体、テレビゲーム用媒体、カラオケ
用媒体。
(3) Entertainment industry: software media, membership cards, admission tickets, game machine control media, video game media, karaoke media.

(4)運輸旅行産業:旅行者カード、免許証、定期券、
パスポート。
(4) Transport travel industry: traveler card, license, commuter pass,
passport.

(5)出版産業:電子出版。(5) Publishing industry: Electronic publishing.

(6)情報処理産業:電子機械の外部記録装置、ファイ
リング。
(6) Information processing industry: external recording devices for electronic machines, filing.

(7)教育産業:教材プログラム、成績管理カード、図
書館の入出管理および書籍管理。
(7) Education industry: teaching material programs, grade management cards, library entry / exit management, and book management.

(8)自動車産業:整備記録、運行管理。(8) Automotive industry: maintenance records, operation management.

(9)FA:MC、NC、ロボット等のプログラム記録媒体。(9) FA: Program recording medium such as MC, NC, robot, etc.

(10)その他:ビルコントロール、ホームコントロー
ル、IDカード、自動販売機用媒体。
(10) Others: media for building controls, home controls, ID cards, vending machines.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように本発明によれば、基材上に周囲に
対して光反射率の異なる情報記録パターンを形成してな
る光記録体において、着色層が形成された基板と光透過
性基材との間に光反射材料層または光記録材料層が形成
されているため、エッチング等による工程の繁雑化を避
けることができ、製造工程が簡単化しかつ、特定の光記
録材料に限定されることなく、製造コストを低減させる
ことができる。
As described above, according to the present invention, in an optical recording body in which information recording patterns having different light reflectances with respect to the surroundings are formed on a base material, a substrate on which a colored layer is formed and a light transmissive base material. Since a light-reflecting material layer or an optical recording material layer is formed between and, it is possible to avoid complication of the process due to etching, etc., simplify the manufacturing process, and limit to a specific optical recording material. Therefore, the manufacturing cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の光記録体の1実施例であるLOMタイプ
の光カードを示す図で(a)は平面図、(b)は斜視
図、第2図は本発明の光記録体の他の実施例であるDRAW
タイプの光カードを示す図、第3図は同じく他の実施例
であるLOMタイプ、DRAWタイプ併用の光カードを示す
図、第4図は本発明の光記録体の製造方法の1実施例を
説明するための図、第5図は本発明の光記録体の製造方
法の他の実施例を説明するための図、第6図は本発明の
光記録体の書き込み方式を説明するための図、第7図は
従来の光カードの1例を示し、(a)は平面図、(b)
は断面図、第8図は従来の光カードの他例を示す斜視
図、第9図は従来の光カードの他例を示す断面図、第10
図は第9図の書き込み方式を説明するための図、第11図
は従来の光記録体の他例を示す斜視図である。 1……光カード、4……情報記録ビット、8……光記録
トラック、9……案内トラック、10……光透過性基材、
11……フォトレジスト層、12……フォトマスク、13……
光反射材料または光記録材料、13b……高反射率部分、1
3c……低反射率部分、14……着色印刷層、15……基板。
FIG. 1 is a diagram showing an LOM type optical card which is one embodiment of the optical recording medium of the present invention. FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a perspective view, and FIG. 2 is an optical recording medium of the present invention. Another example, DRAW
Type optical card, FIG. 3 is a diagram showing another embodiment of an optical card used in combination with LOM type and DRAW type, and FIG. 4 is one example of a method for manufacturing an optical recording medium of the present invention. FIG. 5 is a diagram for explaining, FIG. 5 is a diagram for explaining another embodiment of the method for manufacturing an optical recording medium of the present invention, and FIG. 6 is a diagram for explaining a writing system of the optical recording medium of the present invention. , FIG. 7 shows an example of a conventional optical card, (a) is a plan view, (b)
Is a sectional view, FIG. 8 is a perspective view showing another example of a conventional optical card, FIG. 9 is a sectional view showing another example of a conventional optical card, and FIG.
FIG. 11 is a diagram for explaining the writing method of FIG. 9, and FIG. 11 is a perspective view showing another example of a conventional optical recording medium. 1 ... Optical card, 4 ... Information recording bit, 8 ... Optical recording track, 9 ... Guide track, 10 ... Light transmissive substrate,
11 …… photoresist layer, 12 …… photomask, 13 ……
Light-reflecting material or optical recording material, 13b ... High reflectance portion, 1
3c …… Low reflectance part, 14 …… Colored printing layer, 15 …… Substrate.

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基材上に周囲に対して光反射率の異なる情
報記録パターンを形成してなる光記録体において、着色
層が形成された基板と光透過性基材との間に光反射材料
層または光記録材料層が形成されていることを特徴とす
る光記録体。
1. An optical recording body comprising an information recording pattern having different light reflectance with respect to the surroundings formed on a base material, wherein light reflection is provided between a substrate on which a colored layer is formed and a light transmissive base material. An optical recording material comprising a material layer or an optical recording material layer.
【請求項2】上記情報記録パターンにはビット情報が形
成されることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
光記録体。
2. The optical recording medium according to claim 1, wherein bit information is formed in the information recording pattern.
【請求項3】上記情報記録パターンには複数組の光記録
トラックと案内トラックが形成されることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の光記録体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein a plurality of sets of optical recording tracks and guide tracks are formed on the information recording pattern.
【請求項4】上記情報記録パターンにはビット情報およ
び複数組の光記録トラックと案内トラックが形成される
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光記録
体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein bit information and a plurality of sets of optical recording tracks and guide tracks are formed in the information recording pattern.
【請求項5】基材上に周囲に対して光反射率の異なる情
報記録パターンを形成してなる光記録体であって、着色
層が形成された基板と光透過性基材との間に光反射材料
層または光記録材料層が形成される光記録体の製造方法
において、前記基材上にフォトレジストを塗布し、マス
ク露光および現像により前記情報記録パターンを除く部
分にフォトレジストを残した後、全面に光反射材料層ま
たは光記録材料層を設け、次いで該光反射材料層または
光記録材料層をフォトレジストと共に除去することを特
徴とする光記録体の製造方法。
5. An optical recording body comprising an information recording pattern having a different light reflectance with respect to the surroundings formed on a base material, which is provided between a substrate on which a colored layer is formed and a light transmissive base material. In a method of manufacturing an optical recording body in which a light-reflecting material layer or an optical recording material layer is formed, a photoresist is applied on the base material, and the photoresist is left in a portion except the information recording pattern by mask exposure and development. After that, a light reflecting material layer or an optical recording material layer is provided on the entire surface, and then the light reflecting material layer or the optical recording material layer is removed together with a photoresist, thereby producing an optical recording material.
【請求項6】基材上に周囲に対して光反射率の異なる情
報記録パターンを形成してなる光記録体であって、着色
層が形成された基板と光透過性基材との間に光反射材料
層または光記録材料層が形成される光記録体の製造方法
において、前記基材上に光反射材料層または光記録材料
層を設け、該光反射材料層または光記録材料層の上にフ
ォトレジストを塗布し、マスク露光および現像により前
記情報記録パターン部分にフォトレジストを残し、次
に、これを腐食性ガスによるグロー放電領域にさらすこ
とにより前記情報記録パターンを除く部分の光反射材料
層または光記録材料層を除去することを特徴とする光記
録体の製造方法。
6. An optical recording body comprising an information recording pattern having a different light reflectance with respect to the surroundings formed on a base material, the space being provided between a substrate having a colored layer and a light transmissive base material. In the method for producing an optical recording body in which a light reflecting material layer or an optical recording material layer is formed, a light reflecting material layer or an optical recording material layer is provided on the substrate, and the light reflecting material layer or the optical recording material layer is provided. A photoresist is applied to the surface of the information recording pattern by mask exposure and development to leave the photoresist on the area of the information recording pattern, and then exposed to a glow discharge area by a corrosive gas to remove the information recording pattern. A method for producing an optical recording material, which comprises removing the layer or the optical recording material layer.
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