JP2502724B2 - Cooking oven - Google Patents

Cooking oven

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JP2502724B2
JP2502724B2 JP1015441A JP1544189A JP2502724B2 JP 2502724 B2 JP2502724 B2 JP 2502724B2 JP 1015441 A JP1015441 A JP 1015441A JP 1544189 A JP1544189 A JP 1544189A JP 2502724 B2 JP2502724 B2 JP 2502724B2
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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    • F24C15/2007Removing cooking fumes from oven cavities
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、調理室の壁面に付着した汚れを高温で焼き
切る機能を備えた調理用オーブンの焼き切り制御方法に
関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a burning control method for a cooking oven having a function of burning dirt adhering to a wall surface of a cooking chamber at a high temperature.

従来の技術 通常の調理ができるのみならず、通常の調理中に庫壁
上に蓄積した食品汚れを熱的に除去できる電気オーブ
ン、ガスオーブン、オーブンレンジが多く用いられてい
る。この汚れ除去は二つのプロセスから成る。第一は、
440℃以上の高温のクリーニング温度に1〜4時間保た
れた調理室内で食品汚れが熱的に分解するプロセスであ
る。このプロセスで煙り、臭気、ガスが発生する。第二
は、煙り、臭気、ガスを含む調理室雰囲気が排気通路を
通り周囲雰囲気に排気されるとき、排気通路中に配置さ
れた酸化触媒により煙り、臭気、ガスが酸化されるプロ
セスである。この汚れ除去プロセスがセルフクリーニン
グと呼ばれ、米国特許3、428、434,米国特許3、536、
457,米国特許4、292,501に示されている。
2. Description of the Related Art Electric ovens, gas ovens, and microwave ovens are often used that can not only perform normal cooking but also thermally remove food stains accumulated on the storage wall during normal cooking. This decontamination consists of two processes. The first is
It is a process in which food stains are thermally decomposed in a cooking chamber kept at a high cleaning temperature of 440 ° C or higher for 1 to 4 hours. This process produces smoke, odors and gases. The second is a process in which when a cooking chamber atmosphere containing smoke, odor, and gas is exhausted to the ambient atmosphere through the exhaust passage, the oxidation catalyst arranged in the exhaust passage oxidizes smoke, odor, and gas. This dirt removal process is called self-cleaning and is referred to in US Pat. No. 3,428,434, US Pat.
457, U.S. Pat. No. 4,292,501.

発明が解決しようとする課題 従来、クリーニング温度は自動的に470℃に制御され
ていた。しかし、クリーニング時間は、米国特許3、12
1、158に示されるように、タイマ設定により決められて
いた。クリーニング時間は、加熱開始から調理室温度が
クリーニング温度にクリーニング時間保たれた後加熱停
止により調理室温度が約300℃に下がるまでの時間とし
て定義される。クリーニング時間はクリーニング温度と
食品汚れの量に依存する。クリーニング温度が高くなれ
ばなるほど、クリーニング時間は短くなる。しかし、ク
リーニング温度は、オーブン毎に470±30℃でばらつい
ていた。最低クリーニング温度440℃で必要なクリーニ
ング時間は最高クリーニング温度500℃で必要なクリー
ニング時間の約1.5倍である。このことは、たとえ食品
汚れの量が一定であっても、各オーブン毎にクリーニン
グ時間を正確に決めることが困難であることを示す。
Problems to be Solved by the Invention Conventionally, the cleaning temperature has been automatically controlled to 470 ° C. However, the cleaning time is US Pat.
It was determined by the timer settings, as shown in 1,158. The cleaning time is defined as the time from the start of heating until the temperature of the cooking chamber is kept at the cleaning temperature for a period of time and then the temperature of the cooking chamber is lowered to about 300 ° C. by stopping the heating. The cleaning time depends on the cleaning temperature and the amount of food stains. The higher the cleaning temperature, the shorter the cleaning time. However, the cleaning temperature varied from 470 to 30 ° C for each oven. The cleaning time required at the minimum cleaning temperature of 440 ° C is about 1.5 times the cleaning time required at the maximum cleaning temperature of 500 ° C. This indicates that it is difficult to accurately determine the cleaning time for each oven even if the amount of food stains is constant.

更に、実用状態での食品汚れの量は大きくばらつく。
軽い汚れの場合、調理室温度がクリーニング温度に到達
した後、調理室への熱供給を停止して直ちに調理室温度
を下げることが充分なクリーニングプロセスである。こ
の場合、約1時間のクリーニング時間(約1/2時間はヒ
ートアップ、約1/2時間は冷却)が必要である。他方、
ひどい汚れの場合、調理室温度はクリーニング温度に約
3時間保たれる。この場合、約4時間のクリーニング時
間(約1/2時間はヒートアップ、約3時間はクリーニン
グ温度に保持、約1/2時間は冷却)が必要である。実用
状態では、おおくの中間的食品汚れが存在する。これら
のことは、たとえクリーニング温度が一定に制御されて
も、クリーニング時間を実用食品汚れ毎に正確に決める
ことは困難であることを示す。このようにクリーニング
時間を正確に決められないので、不十分な汚れ除去を避
けるために、多くのクリーニング時間を必要とし、ま
た、無駄なエネルギを消費していた。
Furthermore, the amount of food stains in practical use varies greatly.
In the case of light dirt, it is a sufficient cleaning process to stop the heat supply to the cooking chamber and reduce the cooking chamber temperature immediately after the cooking chamber temperature reaches the cleaning temperature. In this case, a cleaning time of about 1 hour (heating up for about 1/2 hour, cooling for about 1/2 hour) is required. On the other hand,
In the case of heavy dirt, the cooking chamber temperature is kept at the cleaning temperature for about 3 hours. In this case, a cleaning time of about 4 hours (heating up for about 1/2 hour, holding at the cleaning temperature for about 3 hours, cooling for about 1/2 hour) is required. Under practical conditions, there are many intermediate food stains. These facts indicate that even if the cleaning temperature is controlled to be constant, it is difficult to accurately determine the cleaning time for each practical food stain. Since the cleaning time cannot be accurately determined in this way, a large amount of cleaning time is required and wasteful energy is consumed in order to avoid insufficient stain removal.

そこで、本発明は、クリーニング温度が470±30℃ば
らついてもクリーニング時間を自動的に正確に検出する
ことにより、セルフクリーニングを自動化できる制御手
段を提供することを目的としている。
Therefore, an object of the present invention is to provide a control means capable of automating self-cleaning by automatically and accurately detecting the cleaning time even if the cleaning temperature varies by 470 ± 30 ° C.

課題を解決するための手段 そして上記目的を達成するために本発明は、酸化触媒
により煙り、臭気、ガスの一部または全部が酸化された
後の雰囲気の中にガスセンサを配置して、そのセンサ信
号の傾きを検知し、その傾き信号に基づいてクリーニン
グ時間を自動的に制御するものである。
Means for Solving the Problems And in order to achieve the above object, the present invention provides a gas sensor in an atmosphere after smoke, odor, or part or all of gas is oxidized by an oxidation catalyst, and the sensor The signal inclination is detected, and the cleaning time is automatically controlled based on the inclination signal.

作用 セルフクリーニングプロセスのあいだに、種々のガ
ス、臭気、煙りを含む多量の分解生成物が発生する。更
に、これら分解生成物が周囲雰囲気へと排気通路を通る
あいだに酸化触媒により酸化されるとき、酸化生成物と
して多量の水蒸気や二酸化炭素が発生し、また酸化剤と
して多量の酸素もまた消費される。
Action During the self-cleaning process, a large amount of decomposition products including various gases, odors and smoke are generated. Further, when these decomposition products are oxidized by the oxidation catalyst while passing through the exhaust passage to the ambient atmosphere, a large amount of water vapor and carbon dioxide are generated as an oxidation product, and a large amount of oxygen is also consumed as an oxidant. It

初期段階のセルフクリーニングプロセスで、庫壁に蓄
積した食品汚れが分解し始めると、分解生成物、酸化生
成物、消費される酸素の量(以下、単に消費酸素量)は
加熱と共に増加する。しかし、一定時間加熱した中間段
階では、熱的分解の進行のために加熱と共に食品汚れの
量が減少するので、分解生成物、酸化生成物、消費酸素
量は減少する。最終段階で食品汚れが少量の残さを除き
完全に分解すると、分解生成物、酸化生成物は発生せ
ず、また酸素もまた消費されない。本発明ではガスセン
サが、加熱時間経過に対する酸化生成物消費酸素量の変
化を検知できるので、正確な加熱時間が求められる。
In the initial stage self-cleaning process, when food stains accumulated on the storage wall start to decompose, the amounts of decomposition products, oxidation products, and oxygen consumed (hereinafter, simply consumed oxygen amount) increase with heating. However, in the intermediate step of heating for a certain period of time, the amount of food stains decreases with heating due to the progress of thermal decomposition, so that the decomposition products, oxidation products, and oxygen consumption amount decrease. When the food stain is completely decomposed in the final stage except for a small amount of residue, no decomposition products and oxidation products are generated, and oxygen is not consumed either. In the present invention, the gas sensor can detect a change in the oxygen consumption of the oxidation product with respect to the heating time, so that an accurate heating time is required.

実施例 以下、本発明を添付図面にもとづいて説明する。第1
図は本発明の一実施例による調理用オーブンの構成図
で、この調理用オーブンは、庫壁1と前面のドア2で囲
まれた調理室3と、上部電気加熱素子4と、下部電気加
熱素子5と、排気通路6と、酸化触媒7と、ガスセンサ
8と、調理室温度センサ9と制御装置10とから成る。ガ
スセンサ8、上部と下部電気加熱素子4、5、調理室温
度センサ9は、それぞれリード線11,12,13,14により制
御装置10に電気的に接続される。ガスセンサ8は排気通
路6の中で酸化触媒7より後方に配置される。上部と下
部電気加熱素子4,5から成る加熱手段は調理室1に熱を
供給する。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. First
The drawing is a block diagram of a cooking oven according to an embodiment of the present invention, which includes a cooking chamber 3 surrounded by a storage wall 1 and a front door 2, an upper electric heating element 4, and a lower electric heating. It comprises an element 5, an exhaust passage 6, an oxidation catalyst 7, a gas sensor 8, a cooking chamber temperature sensor 9 and a controller 10. The gas sensor 8, the upper and lower electric heating elements 4, 5 and the cooking chamber temperature sensor 9 are electrically connected to the controller 10 by leads 11, 12, 13, 14 respectively. The gas sensor 8 is arranged behind the oxidation catalyst 7 in the exhaust passage 6. A heating means consisting of upper and lower electric heating elements 4, 5 supplies heat to the cooking chamber 1.

制御装置10は、調理室温度センサ9の信号に基づき温
度を検知する温度検知手段106と、この検知された温度
とクリーニング温度とを比較する温度比較手段107と、
ガスセンサ8の信号からガス濃度傾き信号を発生するた
めのガス濃度傾き信号発生手段101と、ガス濃度の増加
から減少に変化する点もしくは減少から増加に変化する
点を検知するための前記傾き信号の符号検知手段102
と、この変化点の検知後、ガス濃度の減少もしくは増加
の屈曲点を検知するための屈曲点検知手段103と、この
屈曲点出力に基づいてクリーニング時間を決めるための
タイマ手段104と、このタイマ手段104の出力および前記
温度比較手段107の出力に基づいて前記加熱手段への制
御信号を出力するためのヒータ制御手段105とから構成
されている。
The control device 10 includes a temperature detecting means 106 for detecting the temperature based on the signal from the cooking chamber temperature sensor 9, and a temperature comparing means 107 for comparing the detected temperature with the cleaning temperature.
Gas concentration gradient signal generating means 101 for generating a gas concentration gradient signal from the signal of the gas sensor 8 and the gradient signal for detecting the point where the gas concentration changes from increasing to decreasing or decreasing to increasing. Code detection means 102
After this change point is detected, a bending point detection means 103 for detecting a bending point where the gas concentration decreases or increases, a timer means 104 for determining a cleaning time based on the output of the bending point, and this timer It is composed of a heater control means 105 for outputting a control signal to the heating means based on the output of the means 104 and the output of the temperature comparison means 107.

通常調理のあいだに、庫壁2と前ドア3の内面に食品
汚れ15が蓄積する。この食品汚れ15を除去する必要が生
じたとき、調理室1の雰囲気温度として定義される調理
室温度は室温から約470℃のクリーニング温度に上昇し
始める。以下の記述では、軽い食品汚れ15およびひどい
食品汚れ15として、タール化されたサラダ油約をそれぞ
れ約1gおよび約20g、庫壁2にランダムに塗布した。調
理室温度が約400℃以上に達すると、食品汚れ15は分解
し始め、分解生成物16が発生する。この分解生成物16
は、メタン、エタン、水蒸気、一酸化炭素、二酸化炭
素、ハイドロカーボンなどのガス、臭気、煙りから成
る。分解生成物16を含む調理室雰囲気は排気通路6を通
り周囲雰囲気に排気される。この調理室雰囲気は酸化触
媒7に接触するので、分解生成物16は酸化触媒7により
酸化され、水蒸気と二酸化炭素に転換され、また酸素が
消費される。その結果、汚い分解生成物16を含まない清
浄雰囲気17が周囲雰囲気に排気される。ガスセンサ8は
排気通路6の中で酸化触媒7の後方に配置されているの
で、ガスセンサ8は清浄雰囲気17の中のガス成分を検出
する。本実施例は、この清浄雰囲気17のガス成分を検知
して、クリーニング時間を自動的に検知できる。分解生
成物16の酸化により発生した水蒸気や二酸化炭素がそれ
ぞれ清浄雰囲気17の中に存在するので、あるいは酸化に
より酸素が消費され、清浄雰囲気17中の酸素濃度が減少
するので、ガスセンサ8として湿度センサ、二酸化炭素
センサ、酸素センサが望ましい。
During normal cooking, food stains 15 accumulate on the inner surfaces of the storage wall 2 and the front door 3. When it becomes necessary to remove this food stain 15, the cooking chamber temperature, defined as the ambient temperature of the cooking chamber 1, begins to rise from room temperature to a cleaning temperature of about 470 ° C. In the following description, about 1 g and about 20 g of tarred salad oil was randomly applied to the storage wall 2 as light food stain 15 and severe food stain 15, respectively. When the temperature of the cooking chamber reaches about 400 ° C. or higher, the food stain 15 begins to decompose, and a decomposition product 16 is generated. This decomposition product 16
Consists of gases such as methane, ethane, water vapor, carbon monoxide, carbon dioxide, hydrocarbons, odors and smoke. The cooking chamber atmosphere containing the decomposition products 16 is exhausted to the ambient atmosphere through the exhaust passage 6. Since this cooking chamber atmosphere contacts the oxidation catalyst 7, the decomposition products 16 are oxidized by the oxidation catalyst 7, converted into water vapor and carbon dioxide, and oxygen is consumed. As a result, the clean atmosphere 17 free of the dirty decomposition products 16 is exhausted to the ambient atmosphere. Since the gas sensor 8 is arranged behind the oxidation catalyst 7 in the exhaust passage 6, the gas sensor 8 detects the gas component in the clean atmosphere 17. In this embodiment, the cleaning time can be automatically detected by detecting the gas component of the clean atmosphere 17. Since the water vapor and carbon dioxide generated by the oxidation of the decomposition products 16 are present in the clean atmosphere 17, or the oxygen is consumed by the oxidation and the oxygen concentration in the clean atmosphere 17 is reduced, the gas sensor 8 serves as a humidity sensor. , Carbon dioxide sensor and oxygen sensor are desirable.

ガスセンサ8は、排気通路6の中で雰囲気温度が300
℃以下の位置に配置されることが望ましい。排気通路6
の雰囲気温度は、分解生成物16の燃焼熱により酸化触媒
7近傍で約600℃弱の最高温度から清浄雰囲気17の出口
近傍の約200℃弱の最低温度までの範囲にある。ガスセ
ンサ8はその周囲温度よりも高い温度で動作することが
求められる。高温動作が求められると、信頼性の低下、
リード線接続が困難になる、熱酸化など多くの点で不利
である。このことは、ガスセンサ8の周囲温度はできる
だけ低い方が望ましいことを示す。しかし、排気通路6
の最低雰囲気温度は200℃弱(排気通路6の出口近傍温
度)であるので、調理用オーブンの設計容易性を考える
とガスセンサ8は周囲温度300℃以下の場所に配置され
ることが望ましい。
The gas sensor 8 has an ambient temperature of 300 in the exhaust passage 6.
It is desirable to be placed at a temperature below ℃. Exhaust passage 6
Due to the heat of combustion of the decomposition products 16, the ambient temperature is in the range from a maximum temperature of about 600 ° C. near the oxidation catalyst 7 to a minimum temperature of about 200 ° C. near the outlet of the clean atmosphere 17. The gas sensor 8 is required to operate at a temperature higher than its ambient temperature. When high temperature operation is required, reliability is reduced,
It has many disadvantages such as difficulty in connecting lead wires and thermal oxidation. This indicates that it is desirable that the ambient temperature of the gas sensor 8 is as low as possible. However, the exhaust passage 6
Since the minimum ambient temperature is less than 200 ° C. (temperature near the outlet of the exhaust passage 6), it is desirable that the gas sensor 8 is arranged at a place where the ambient temperature is 300 ° C. or lower in consideration of designing ease of the cooking oven.

前述したように、代表的ガスセンサ8は湿度センサで
ある。多くの湿度センサの中で絶対湿度センサが好まし
い。これは、湿度センサの周囲温度が200〜300℃と高い
ために排気通路6の中の相対湿度が測定困難なほど低い
からである。更に、好ましくは、周囲温度300℃以下の
場所にセンサが配置されることから、絶対湿度センサは
300℃以上の高温で動作することが望ましい。代表的絶
対湿度センサとして、対向する第一と第二の表面にRuO2
に電極膜の形成された平板状ZrO2−MgOセラミックがあ
る。このZrO2−MgO絶対湿度センサは500〜600℃の高温
で動作する。
As mentioned above, the typical gas sensor 8 is a humidity sensor. Of the many humidity sensors, the absolute humidity sensor is preferred. This is because the ambient temperature of the humidity sensor is as high as 200 to 300 ° C., and the relative humidity in the exhaust passage 6 is so low that it is difficult to measure. Furthermore, since the sensor is preferably arranged in a place where the ambient temperature is 300 ° C. or less, the absolute humidity sensor is
It is desirable to operate at a high temperature of 300 ° C or higher. As a typical absolute humidity sensor, RuO 2 on the opposite first and second surfaces
There is a plate-shaped ZrO 2 -MgO ceramic with an electrode film formed on it. This ZrO 2 -MgO absolute humidity sensor operates at high temperature of 500-600 ℃.

ZrO2−MgO絶対湿度センサを用いて、第2図に示すよ
うに代表的な絶対湿度の加熱時間依存性を測定した。
尚、第2図には調理室温度の加熱時間依存性も示されて
いる。加熱時間は、調理室1に加熱エネルギが供給され
はじめた時以降の加熱時間として定義される。調理室温
度は、曲線Aで示されるように、約1/2時間で約470℃の
クリーニング温度に達し、そのクリーニング温度に保持
された。調理室温度センサ9はこの温度制御に用いられ
た。軽い食品汚れ15およびひどい食品汚れ15の場合、絶
対湿度はそれぞれ曲線BとCで示されるように加熱時間
と共に変化した。絶対湿度は両方の場合とも最初増加
し、約40分および約80分の加熱時間の後、それぞれ約15
g/m3、約60g/m3の最大濃度(点B′およびC′で示され
ている)に達した。それから絶対湿度は逆に減少し始
め、それぞれ約1時間および約2.5時間の加熱時間後、
約10g/m3一定の初期絶対湿度(屈曲点B″およびC″で
示されている)に達した。曲線BとCで示される絶対湿
度の振舞は次のプロセスに帰結される。調理室温度が上
昇し始めると、食品汚れ15の分解速度が初期加熱時の調
理室温度上昇と共に増加する。分解生成物16の触媒酸化
により水蒸が発生するので、食品汚れ15の分解速度の増
加と共に絶対湿度もまた増加する。しかし、クリーニン
グ温度で、ある一定時間加熱された後の中間段階では、
分解速度は逆に減少する。このため絶対湿度もまた減少
する。これは、熱分解の進行のために食品汚れ15の量が
加熱時間と共に減少することによる。最終加熱段階で
は、食品汚れ15が少量の残さを除き完全に分解される
と、水蒸気はもはや発生しない。この結果、絶対湿度は
初期の低い絶対湿度になる。
Using a ZrO 2 -MgO absolute humidity sensor, the heating time dependence of typical absolute humidity was measured as shown in FIG.
Note that FIG. 2 also shows the heating time dependency of the cooking chamber temperature. The heating time is defined as the heating time after the heating energy is supplied to the cooking chamber 1. The cooking chamber temperature reached and was maintained at a cleaning temperature of about 470 ° C. in about 1/2 hour, as shown by curve A. The cooking chamber temperature sensor 9 was used for this temperature control. For light food stains 15 and heavy food stains 15, the absolute humidity changed with heating time as shown by curves B and C, respectively. Absolute humidity initially increased in both cases, after about 40 minutes and about 80 minutes heating time, about 15 each
A maximum concentration of g / m 3 , about 60 g / m 3 was reached (indicated by points B'and C '). Then the absolute humidity, on the contrary, begins to decrease, after about 1 hour and about 2.5 hours of heating time respectively
An initial absolute humidity of about 10 g / m 3 (indicated by inflection points B ″ and C ″) was reached. The absolute humidity behavior shown by curves B and C results in the following process. When the temperature of the cooking chamber starts to rise, the decomposition rate of the food stain 15 increases with the temperature of the cooking chamber during the initial heating. Since water vaporization occurs due to the catalytic oxidation of the decomposition products 16, the absolute humidity also increases as the decomposition rate of the food soil 15 increases. However, at the cleaning temperature, in the intermediate stage after being heated for a certain time,
On the contrary, the decomposition rate decreases. This also reduces absolute humidity. This is because the amount of food stain 15 decreases with heating time due to the progress of thermal decomposition. In the final heating stage, when the food soil 15 is completely decomposed except for a small amount of residue, steam is no longer generated. As a result, the absolute humidity becomes the initial low absolute humidity.

このように屈曲点B″やC″に対応した初期加熱時間
tbは絶対湿度センサの信号により決めることができる。
軽い食品汚れ15の場合約1時間、重い食品汚れ15の場合
約2.5時間の初期加熱時間tbの後、食品汚れ15は大部分
除去されるが、少量の残留食品汚れ15が庫壁2に付着
し、冷却後軽い拭き取りで除去することは困難であっ
た。しかし、軽い食品汚れ15対しても、重い食品汚れ15
に対しても約1/2時間の追加加熱により、少量の残留食
品汚れ15も冷却後軽い拭き取りで完全に除去されること
が見いだされた。これらのことから食品汚れ15を完全に
除去するには、初期加熱時間tbと追加加熱時間tbを含む
クリーニング時間が必要であることが分かる。
In this way, the initial heating time corresponding to the bending points B ″ and C ″
t b may be determined by the signal of the absolute humidity sensor.
After the initial heating time t b of about 1 hour for light food stains 15 and about 2.5 hours for heavy food stains 15, most of the food stains 15 are removed, but a small amount of residual food stains 15 remains on the storage wall 2. It adhered and was difficult to remove by cooling with a light wipe. However, even for light food stains 15, heavy food stains 15
It was also found that a small amount of residual food stain 15 was completely removed by cooling with light wiping after additional heating for about 1/2 hour. From these facts, it is understood that the cleaning time including the initial heating time t b and the additional heating time t b is required to completely remove the food stain 15.

軽い食品汚れ15の場合、少量の残留食品汚れ15が庫壁
2に残り、冷却後軽い拭き取りで除去することは困難で
あるが、少量の残留食品汚れ15は通常の実用調理に害を
及ぼさないので、調理室1への加熱エネルギを約1時間
の初期加熱時間tb後停止することが望ましい。もちろ
ん、前述したように、この初期加熱時間tbは絶対湿度セ
ンサの信号から自動的に決められることは明らかであ
る。このセルフクリーニングプロセスでは、約1/2時間
の冷却時間が付加されるので、クリーニング時間は約1.
5時間である。しかし、少量の残留食品汚れ15を、冷却
後の軽い拭き取りで除去することが求められたときは、
初期加熱時間tbと約1/2時間の追加加熱時間taを含む加
熱時間の後に加熱エネルギを停止することが望ましい。
このセルフクリーニングプロセスでは、クリーニング時
間は約2時間である。ひどい食品汚れ15の場合にも、軽
い食品汚れ15の場合に述べたと同様の方法でクリーニン
グ時間を決めることができる。
In the case of light food stains 15, a small amount of residual food stains 15 remains on the storage wall 2 and is difficult to remove by cooling with a light wipe, but a small amount of residual food stains 15 does not harm normal practical cooking. Therefore, it is desirable to stop the heating energy to the cooking chamber 1 after the initial heating time t b of about 1 hour. Of course, as described above, the initial heating time t b it is clear that is automatically determined from the signal of the absolute humidity sensor. This self-cleaning process adds about 1/2 hour of cooling time, so cleaning time is about 1.
5 hours. However, when it is required to remove a small amount of residual food stains 15 with a light wipe after cooling,
It is desirable to stop heating energy after a heating time including the initial heating time t b and about 1/2 hour of additional heating time t a.
In this self-cleaning process, the cleaning time is about 2 hours. For severe food stains 15, the cleaning time can be determined in the same manner as described for light food stains 15.

絶対湿度センサに代わり二酸化炭素センサを用いた場
合にも第2図と同様の測定結果が得られた。これは、湿
度も二酸化炭素も食品汚れ15の分解生成物16の酸化によ
り主として発生することを考慮すると当然である。
When a carbon dioxide sensor was used instead of the absolute humidity sensor, the same measurement results as in FIG. 2 were obtained. This is natural considering that both humidity and carbon dioxide are mainly generated by the oxidation of the decomposition product 16 of the food stain 15.

他の代表的ガスセンサとして、酸素センサがある。20
0℃以上の高温で動作する酸素センサとして、ボルタ電
池型酸素センサと限界電流型酸素センサがある。しか
し、前者は一定量の酸素を含む参照ガスを必要とするの
で、使用に適しない。他方、後者は参照ガスを必要とせ
ず、また優れた直線性を有するので、この場合の適用に
適している。酸素センサは絶対湿度センサと同様の位置
に配置されるので、酸素センサもまた300℃以上の高温
で動作することが望ましい。
Another typical gas sensor is an oxygen sensor. 20
There are a voltaic battery type oxygen sensor and a limiting current type oxygen sensor as an oxygen sensor that operates at a high temperature of 0 ° C. or higher. However, the former requires a reference gas containing a certain amount of oxygen and is not suitable for use. On the other hand, the latter does not require a reference gas and has excellent linearity, which makes it suitable for this application. Since the oxygen sensor is placed at the same position as the absolute humidity sensor, it is desirable that the oxygen sensor also operate at a high temperature of 300 ° C or higher.

限界電流型酸素センサを用いて、第2図に示すように
セルフクリーニング中の代表的な酸素濃度の加熱時間依
存性を測定した。尚、第2図には調理室温度の加熱時間
依存性も示されている。曲線Dで示されるように、調理
室温度は第2図の曲線Aで示される調理室温度と殆ど同
じになるように制御した。
A limiting current type oxygen sensor was used to measure the heating time dependence of a typical oxygen concentration during self-cleaning as shown in FIG. Note that FIG. 2 also shows the heating time dependency of the cooking chamber temperature. As shown by the curve D, the cooking chamber temperature was controlled to be almost the same as the cooking chamber temperature shown by the curve A in FIG.

軽い食品汚れ15およびひどく食品汚れ15の場合、酸素
濃度はそれぞれ曲線EとFで示されるように加熱時間と
共に変化した。酸素濃度は両方の場合とも最初、約21%
の初期濃度から低濃度に減少し、約40分および約80分の
加熱時間の後、それぞれ約20%、約11%の最低濃度(点
E′およびF′で示されている)に達した。それから酸
素濃度は逆に増加し始め、それぞれ約1時間および約2.
5時間の加熱時間後、初期濃度(屈曲点E″およびF″
で示されている)に達した。曲線EとFで示される酸素
濃度の振舞は第2図絶対湿度センサで述べたと同様のプ
ロセスに帰される。言い換えると、消費される酸素と発
生する湿度は分解生成物16の同じ触媒酸化に帰結され
る。その結果、曲線EとFは第2図の曲線BとCと対称
的な形になる。このことは、クリーニング時間が絶対湿
度センサの場合に前述したと同様の手段により酸素セン
サによっても決められることを示す。
For light food stains 15 and severe food stains 15, the oxygen concentration varied with heating time as shown by curves E and F, respectively. Oxygen concentration is about 21% initially in both cases
From a low concentration to a low concentration and reached a minimum concentration of about 20% and about 11% (indicated by points E'and F ') after heating times of about 40 minutes and about 80 minutes, respectively. . Then the oxygen concentration starts to increase, about 1 hour and about 2.
After heating for 5 hours, the initial concentration (flexion points E ″ and F ″
Reached). The oxygen concentration behavior shown by curves E and F is attributed to a process similar to that described for the absolute humidity sensor of FIG. In other words, the oxygen consumed and the humidity generated result in the same catalytic oxidation of the decomposition products 16. As a result, the curves E and F are symmetrical to the curves B and C in FIG. This means that the cleaning time can be determined by the oxygen sensor by the same means as described above in the case of the absolute humidity sensor.

第4図に示すように、分解生成物16は酸化触媒7の中
で酸化されるので、ガスセンサ8は酸化触媒7の中に配
置されてもよい。この場合、第2図、第3図に示したと
類似の絶対湿度あるいは酸素濃度の加熱時間依存性が得
られる。しかし、酸化触媒7の中の温度は600℃強の高
温になるので、ガスセンサ8は600℃強以上の高温で動
作することが求められる。ZrO2−MgO絶対湿度センサと
限界電流型酸素センサはそれぞれ500〜600℃、400〜100
0℃で動作するので、これらのセンサはこの配置でも有
用である。
As shown in FIG. 4, the decomposition product 16 is oxidized in the oxidation catalyst 7, so that the gas sensor 8 may be arranged in the oxidation catalyst 7. In this case, the heating time dependence of absolute humidity or oxygen concentration similar to that shown in FIGS. 2 and 3 is obtained. However, since the temperature inside the oxidation catalyst 7 becomes a high temperature of over 600 ° C., the gas sensor 8 is required to operate at a high temperature of over 600 ° C. or higher. ZrO 2 -MgO absolute humidity sensor and limiting current type oxygen sensor are 500 to 600 ℃ and 400 to 100, respectively.
Operating at 0 ° C, these sensors are also useful in this arrangement.

第5図は、ガスセンサ8として絶対湿度センサを用い
たときの屈曲点検知方法を示す。この方法では絶対湿度
Hがガス濃度の傾き信号発生器101により一定の時間ピ
ッチΔtで毎回のサンプリング時間ごとに測定される。
絶対湿度の傾き信号ΔHは、式ΔH=Hm−Hm-1により計
算される。ここで、Hmはm回目に測定された絶対湿度で
ある。ΔH=Hm−Hm-1≦0になると、絶対湿度は第5図
の点B′で示される最大絶対湿度を通過して増加傾向か
ら減少傾向に変化しつつあることが傾き信号の符号検知
器102により見いだされる。負の傾き信号ΔHは引き続
き測定され、下式に示すように負の設定値ΔHoより大き
くなったとき、その点が屈曲点B′であると屈曲検知器
103により判定される。
FIG. 5 shows a bending point detection method when an absolute humidity sensor is used as the gas sensor 8. In this method, the absolute humidity H is measured by the gas concentration gradient signal generator 101 at a constant time pitch Δt at every sampling time.
The absolute humidity slope signal ΔH is calculated by the formula ΔH = H m −H m−1 . Here, H m is the absolute humidity measured m times. When ΔH = H m −H m−1 ≦ 0, the absolute humidity is passing through the maximum absolute humidity shown by point B ′ in FIG. 5 and is changing from an increasing tendency to a decreasing tendency. Found by detector 102. The negative slope signal ΔH is continuously measured, and when it becomes larger than the negative set value ΔH o as shown in the following equation, that point is the bending point B ′ and the bending detector.
Determined by 103.

ΔH=Hn−Hn-1≧ΔHo ここでHnはn回目に測定された絶対湿度であり、また
n》mである。
ΔH = H n −H n−1 ≧ ΔH o where H n is the absolute humidity measured at the n-th time, and n >> m.

少量の残留食品汚れ15を冷却後軽い拭き取りで除去す
る必要がある場合、追加加熱時間taはタイマ105により
設定される。代表的な追加加熱時間taは約1/2時間であ
る。しかし、加熱開始から第5図の屈曲点B″が得られ
るに必要な初期加熱時間tbと関連して追加加熱時間ta
決めてもよい。例えば、追加加熱時間taはta=ktbのよ
うにして決められる。ここでkは定数である。追加加熱
定数taが経過した後、ヒータ制御回路105が電気加熱素
子4,5への加熱エネルギ供給を停止する。
If you need to remove a small amount of residual food soil 15 after cooling light wiping, additional heating time t a is set by the timer 105. Typical additional heating time t a is about 1/2 hour. However, it may be determined an additional heating time t a from the start of heating associated with the initial heating time t b required bending point of FIG. 5 B "is obtained. For example, additional heating time t a is t a = it is determined as kt b. where k after a constant. additional heating constant t a has passed, the heater control circuit 105 stops the heating energy supply to the electrical heating elements 4 and 5.

尚、調理室温度はセルフクリーニングプロセスのあい
だ次のように制御される。まず最初に加熱エネルギが電
気加熱素子4,5に供給され、そして調理室温度が徐々に
上昇する。調理室温度は、調理室温度センサ9の信号が
入力される調理室温度検知器106により測定される。測
定された調理室温度はコンパレータ107により、設定ク
リーニング温度と比較される。このコンパレータ107の
出力信号に従ってヒータ制御回路105は電気加熱素子4,5
への加熱エネルギ供給を制御する。ヒータ制御回路105
はサイリスタの点弧角方法によりヒータ電流の連続調整
するように構成することが好ましい。このヒータ電流の
連続制御はどんな小さな加熱電力でも得られる点で有効
である。オン・オフリレーを用いる簡単な調整もまた有
効である。この調理室温度は、追加加熱時間taが経過
し、加熱エネルギの供給が停止されるまでクリーニング
温度に保持される。
The cooking chamber temperature is controlled as follows during the self-cleaning process. First of all, heating energy is supplied to the electric heating elements 4 and 5, and the temperature of the cooking chamber is gradually increased. The cooking chamber temperature is measured by the cooking chamber temperature detector 106 to which the signal from the cooking chamber temperature sensor 9 is input. The measured cooking chamber temperature is compared with the set cleaning temperature by the comparator 107. According to the output signal of the comparator 107, the heater control circuit 105 causes the electric heating elements 4,5
Control heating energy supply to the. Heater control circuit 105
It is preferable that the heater current is continuously adjusted by the firing angle method of the thyristor. This continuous control of the heater current is effective in that any small heating power can be obtained. A simple adjustment using an on / off relay is also valid. The cooking chamber temperature, elapsed additional heating time t a is the supply of heat energy is retained on the cleaning temperature until stopped.

上述した複雑な制御システムはマイクロコンピュータ
を用いて実現される。第6図は、絶対湿度センサをガス
センサ8として用いたとき、上記動作を実現するための
マイクロコンピュータのフローチャートを示す。
The complex control system described above is implemented using a microcomputer. FIG. 6 shows a flowchart of a microcomputer for realizing the above operation when the absolute humidity sensor is used as the gas sensor 8.

第6図において、 ブロック“Sub|"は、通常調理のサブルーチンを示し ブロック“Sub‖”は、式ΔH=Hm−Hm-1(またはΔH
/Δt=(Hm−Hm-1)/Δt)で定義される絶対湿度傾
き信号ΔHを求めるサブルーチンを示す。
In FIG. 6, the block “Sub |” indicates a normal cooking subroutine, and the block “Sub |” represents the formula ΔH = H m −H m-1 (or ΔH
9 shows a subroutine for obtaining an absolute humidity gradient signal ΔH defined by / Δt = (H m −H m−1 ) / Δt).

セルフクリーニングプロセスが必要なとき、まず最初
にそのプロセスを決めるボタンがマニュアルで選択さ
る。次に調理室温度センサ9により調理室温度Tc測定を
開始し、また加熱エネルギもまた電気加熱素子4,5に供
給開始される。調理室温度Tcが参照温度Toを越すまで、
第6図に示すループIを通して調理室温度Tcが繰り返し
測定される。このループプロセスは分解生成物16の触媒
酸化と無関係な水蒸気による誤動作を除去するために必
要である。例えば、結露水や台所からたまたま飛んでき
た庫壁2上の水の蒸発に帰結される水蒸気がある。その
ような水は、調理室温度Tcが200℃以下の温度に達する
までに完全に蒸発するので、代表的な参照温度Toは約20
0℃に設定されることが望ましい。
When a self-cleaning process is required, the first button that determines the process is manually selected. Next, the cooking chamber temperature sensor 9 starts measuring the cooking chamber temperature T c , and heating energy is also supplied to the electric heating elements 4 and 5. Until the cooking chamber temperature T c exceeds the reference temperature T o ,
The cooking chamber temperature T c is repeatedly measured through loop I shown in FIG. This loop process is necessary to eliminate steam malfunctions that are unrelated to the catalytic oxidation of cracked products 16. For example, there is condensed water or water vapor that results from the evaporation of water on the storage wall 2 that happens to fly from the kitchen. Such water evaporates completely by the time the cooking chamber temperature T c reaches a temperature below 200 ° C., so a typical reference temperature T o is about 20.
It is desirable to set it to 0 ° C.

条件Tc≧Toが満足されると動作は次のステップに進行
して、調理室温度Tcがクリーニング温度Tsより高いかど
うか判定される。Tc<Tsの場合加熱エネルギは電気加熱
素子4,5に供給され、Tc≧Tsの場合加熱エネルギは電気
加熱素子4,5に供給されない。前述した両方のプロセス
の後、動作はSub‖ブロックに進行し、絶対湿度傾き信
号ΔHを検知する。第5図に示されるように、絶対湿度
Hは一定の時間ピッチΔtで毎回のサンプリング時間毎
に測定され、式ΔH=Hm−Hm-1で定義される傾き信号Δ
Hがガス濃度傾き信号発生器101により得られる。
When the condition T c ≧ T o is satisfied, the operation proceeds to the next step to determine whether the cooking chamber temperature T c is higher than the cleaning temperature T s . If T c <T s , heating energy is supplied to the electric heating elements 4 and 5, and if T c ≧ T s , heating energy is not supplied to the electric heating elements 4 and 5. After both of the processes described above, operation proceeds to the Sub.ltoreq. Block to detect the absolute humidity slope signal .DELTA.H. As shown in FIG. 5, the absolute humidity H is measured at a constant time pitch Δt at each sampling time, and the slope signal Δ defined by the formula ΔH = H m −H m−1.
H is obtained by the gas concentration gradient signal generator 101.

次のプロセスで、傾き信号ΔHの符号が傾き信号符号
検知器102により決められる。ΔH>0のとき、ループI
Iを通って時間ピッチΔt後、ステップは“Tc Input"ス
テップに戻り、ΔH≦0が得られるまで繰り返される。
In the next process, the sign of the slope signal ΔH is determined by the slope signal sign detector 102. When ΔH> 0, loop I
After a time pitch Δt through I, the step returns to the “Tc Input” step and is repeated until ΔH ≦ 0.

ΔH≦0が満足されると次のプロセスで、負の傾き信
号ΔHが負の参照傾き信号ΔHoより大きいかどうかが屈
曲点検知器103により決められる。
When ΔH ≦ 0 is satisfied, the bending point detector 103 determines whether or not the negative slope signal ΔH is larger than the negative reference slope signal ΔH o in the next process.

ΔH<ΔHoのとき、ループIIIを通って時間ピッチΔ
t後、ステップは“Tc Input"ステップに戻り、ΔH≧
ΔHoが得られるまで繰り返される。ΔH≧ΔHoが最初に
満足される点として定義される屈曲点B″が得られた
後、設定追加加熱時間taを持つタイマ104が動作開始す
る。追加加熱時間ta後、ヒータ制御回路105により加熱
エネルギの電気加熱素子4,5への供給が停止される。
When ΔH <ΔH o , the time pitch Δ passes through Loop III.
After t, the step returns to the “Tc Input” step, and ΔH ≧
Repeat until ΔH o is obtained. After [Delta] H ≧ [Delta] H o is first inflection point B, which is defined as the point to be satisfied "is obtained, a timer 104 with a set additional heating time t a is started operating. After additional heating time t a, the heater control circuit The supply of heating energy to the electric heating elements 4 and 5 is stopped by 105.

上述した実施例では、第5図、第6図の屈曲点B″に
基づいたクリーニング動作を示した。しかし、他のクリ
ーニング動作として、第5図の点B′で示される最大絶
対湿度点に基づいたクリーニング動作も有効である。例
えば、この動作では、追加加熱時間taは式ta=k′tm
従って決められる。ここでk′とtmはそれぞれ定数、加
熱開始から最大絶対湿度が得られるに必要な加熱時間で
ある。
In the above-described embodiment, the cleaning operation based on the bending point B ″ in FIGS. 5 and 6 is shown. However, as another cleaning operation, the maximum absolute humidity point indicated by point B ′ in FIG. 5 is set. based cleaning operation was also effective. For example, in this operation, additional heating time t a is determined according to the equation t a = k't m. here k 'and t m each is a constant, the maximum absolute humidity from the start of heating Is the heating time required to obtain

他方、第3図で述べたように、ガスセンサ8として酸
素センサもまた有効である。酸素濃度の加熱時間依存性
は絶対湿度のそれと比べ対称的であるので、第5図、第
6図で述べたと殆ど同じプロセスを用いることができ
る。このプロセスでは、分解生成物16の触媒酸化と無関
係な酸素が消費されることは無いので、第7図ループI
を用いる調理室温度Tcの繰り返し測定は不要である。こ
のことは、絶対湿度湿度センサを用いるプロセスに比べ
簡単なプロセスで充分であることを示す。
On the other hand, as described in FIG. 3, the oxygen sensor is also effective as the gas sensor 8. Since the heating time dependency of oxygen concentration is symmetrical with that of absolute humidity, almost the same process as described in FIGS. 5 and 6 can be used. This process does not consume oxygen, which is unrelated to the catalytic oxidation of the decomposition products 16, and therefore loop I of FIG.
It is not necessary to repeatedly measure the cooking chamber temperature T c using. This shows that a simpler process is sufficient than the process using absolute humidity and humidity sensor.

発明の効果 以上、実施例から明らかなように本発明は、酸化触媒
により食品汚れの分解生成物が酸化されるときに発生す
る水蒸気、二酸化炭素あるいは消費される酸素をセンサ
で検知し、それらガス濃度の傾き信号発生手段、その符
号検知手段、屈曲点検知手段によりクリーニング時間を
判定し、この判定結果に基づき加熱手段へのエネルギ供
給を制御するように構成したものであるから、クリーニ
ング温度がばらつきてもクリーニング時間を自動的に正
確に決めることができる。従って、セルフクリーニング
の自動化が可能になると共に、最小のエネルギと時間で
充分なクリーニング効果が得られる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, as is apparent from the examples, the present invention detects water vapor generated when a decomposition product of food stains is oxidized by an oxidation catalyst, carbon dioxide or oxygen consumed by a sensor, and detects those gases. Since the cleaning time is judged by the density gradient signal generating means, its sign detecting means, and the inflection point detecting means, and the energy supply to the heating means is controlled based on this judgment result, the cleaning temperature varies. However, the cleaning time can be automatically and accurately determined. Therefore, the self-cleaning can be automated, and a sufficient cleaning effect can be obtained with the minimum energy and time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例による調理用オーブンの構成
図、第2図はセルフクリーニングプロセスのあいだの代
表的絶対湿度と調理室温度の加熱時間依存性を示す図、
第3図はセルフクリーニングプロセスのあいだの代表的
酸素濃度と調理室温度の加熱時間依存性を示す図、第4
図は本発明のオーブンの他の実施例の構成図、第5図は
屈曲点を決めるための本発明の原理と動作を説明する絶
対湿度の加熱時間依存性を示す図、第6図はクリーニン
グ時間制御動作の一例を示すフローチャートである。 1……調理室、2……庫壁、3……前面ドア、4,5……
ヒータ、6……排気通路、7……酸化触媒、8……ガス
センサ、9……調理室温度センサ、101……ガス濃度傾
き信号発生手段、102……傾き信号の符号検知手段、103
……屈曲点検知手段、104……タイマ手段、105……ヒー
タ制御手段、106……温度検知手段、107……温度比較手
段。
FIG. 1 is a configuration diagram of a cooking oven according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing heating time dependence of typical absolute humidity and cooking chamber temperature during a self-cleaning process,
FIG. 3 is a diagram showing heating time dependence of typical oxygen concentration and cooking chamber temperature during the self-cleaning process, and FIG.
FIG. 6 is a configuration diagram of another embodiment of the oven of the present invention, FIG. 5 is a diagram showing the heating time dependency of absolute humidity for explaining the principle and operation of the present invention for determining a bending point, and FIG. 6 is a cleaning process. It is a flow chart which shows an example of time control operation. 1 ... Cooking room, 2 ... Storage wall, 3 ... Front door, 4, 5 ...
Heater, 6 ... Exhaust passage, 7 ... Oxidation catalyst, 8 ... Gas sensor, 9 ... Cooking room temperature sensor, 101 ... Gas concentration gradient signal generating means, 102 ... Inclination signal sign detecting means, 103
...... Bending point detection means, 104 ...... timer means, 105 ...... heater control means, 106 ...... temperature detection means, 107 ...... temperature comparison means.

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】庫壁と前面ドアで囲まれた調理室と、前記
調理室に熱を供給する加熱手段と、セルフクリーニング
中に食品汚れの分解により発生する煙り、臭気、ガスを
含む調理室雰囲気が周囲雰囲気に排気されるときに通る
排気通路と、前記排気通路に配置された酸化触媒と、前
記煙り、臭気、ガスの一部または全部が前記酸化触媒に
より酸化された後の雰囲気の中に配置されたガスセンサ
と、前記調理室の中もしくは近傍に配置された調理室温
度センサと、前記調理室温度センサの信号に基づき温度
を検知する温度検知手段と、前記温度検知手段で検知さ
れた温度とクリーニング温度とを比較する温度比較手段
と、前記ガスセンサの信号からガス濃度傾き信号を発生
するためのガス濃度傾き信号発生手段と、ガス濃度の増
加から減少に変化する点もしくは減少から増加に変化す
る点を検知するための前記傾き信号の符号検知手段と、
前記変化点の検知後、ガス濃度の減少もしくは増加の屈
曲点を検知するための屈曲点検知手段と、前記屈曲点出
力に基づいてクリーニング時間を決めるためのタイマ手
段と、前記タイマ手段の出力および前記温度比較手段の
出力に基づいて前記加熱手段への制御信号を出力するた
めのヒータ制御回路手段とを備えたことを特徴とする調
理用オーブン。
1. A cooking chamber surrounded by a storage wall and a front door, heating means for supplying heat to the cooking chamber, and a cooking chamber containing smoke, odor, and gas generated by decomposition of food stains during self-cleaning. An exhaust passage through which the atmosphere is exhausted to the ambient atmosphere, an oxidation catalyst arranged in the exhaust passage, and an atmosphere after a part or all of the smoke, odor, and gas is oxidized by the oxidation catalyst. A gas sensor disposed in the cooking chamber, a cooking chamber temperature sensor disposed in or near the cooking chamber, a temperature detection unit that detects a temperature based on a signal from the cooking chamber temperature sensor, and a temperature detection unit that detects the temperature. Temperature comparing means for comparing the temperature and the cleaning temperature, gas concentration gradient signal generating means for generating a gas concentration gradient signal from the signal of the gas sensor, and change from increase in gas concentration to decrease A code detection unit of the tilt signal for detecting a point at which changes to increase that point or from a decrease,
After the change point is detected, a bending point detecting means for detecting a bending point where the gas concentration decreases or increases, a timer means for determining a cleaning time based on the bending point output, and an output of the timer means and A cooking oven, comprising: heater control circuit means for outputting a control signal to the heating means based on the output of the temperature comparison means.
【請求項2】隣合うサンプリング時間でのガス濃度間で
ガス濃度傾き信号を発生するために、あるサンプリング
時間ピッチでガス濃度信号をサンプリングするように構
成されたガス濃度傾き信号発生器と、ガス濃度傾き信号
が参照傾きを越えるときを検知するように構成された屈
曲点検知器と、前記屈曲点の検知後、追加加熱時間を含
むように構成されたタイマ手段とから成る特許請求の範
囲(1)項記載の調理用オーブン。
2. A gas concentration gradient signal generator configured to sample a gas concentration signal at a certain sampling time pitch to generate a gas concentration gradient signal between gas concentrations at adjacent sampling times, and a gas. Claims: A bending point detector configured to detect when a concentration gradient signal exceeds a reference gradient, and timer means configured to include an additional heating time after detection of the bending point. A cooking oven according to the item 1).
【請求項3】ガスセンサが酸素センサである特許請求の
範囲(1)項記載の調理用オーブン。
3. The cooking oven according to claim 1, wherein the gas sensor is an oxygen sensor.
【請求項4】酸素センサが限界電流型酸素センサである
特許請求の範囲(2)項記載の調理用オーブン。
4. The cooking oven according to claim 2, wherein the oxygen sensor is a limiting current type oxygen sensor.
【請求項5】ガスセンサが絶対湿度センサである特許請
求の範囲(1)項記載の調理用オーブン。
5. The cooking oven according to claim 1, wherein the gas sensor is an absolute humidity sensor.
【請求項6】ガスセンサが二酸化炭素センサである特許
請求の範囲(1)記載の調理用オーブン。
6. The cooking oven according to claim 1, wherein the gas sensor is a carbon dioxide sensor.
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