JP2024096247A - Improved Manufacturing for Virtual and Augmented Reality Systems and Components - Google Patents

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ディー. テコルステ ロバート
エー. クルグ マイケル
エム. グレコ ポール
ティー. ショーウェンゲルト ブライアン
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Abstract

【課題】仮想および拡張現実システムおよび構成要素のための改良された製造の提供。
【解決手段】3Dディスプレイシステムのための改良された回折構造が開示される。改良された回折構造は、導波管基板と上部格子表面との間にある中間層を含む。上部格子表面は、第1の屈折率値に対応する第1の材料を備え、下層は、第2の屈折率値に対応する第2の材料を備え、基板は、第3の屈折率値に対応する第3の材料を備えている。追加の実施形態によると、改良されたアプローチが、転写材料の堆積を基板上に実装するために提供され、それは、任意の数の基板表面上への異なる転写パターンの非常に精密な分布および堆積を可能にする。
【選択図】図19

The present invention provides improved manufacturing for virtual and augmented reality systems and components.
An improved diffractive structure for a 3D display system is disclosed. The improved diffractive structure includes an intermediate layer between a waveguide substrate and an upper grating surface. The upper grating surface comprises a first material corresponding to a first refractive index value, the underlayer comprises a second material corresponding to a second refractive index value, and the substrate comprises a third material corresponding to a third refractive index value. According to additional embodiments, an improved approach is provided for implementing the deposition of a transfer material onto a substrate, which allows for very precise distribution and deposition of different transfer patterns onto any number of substrate surfaces.
[Selection] Figure 19

Description

本開示は、仮想現実および拡張現実結像ならびに視覚化システムに関する。 This disclosure relates to virtual reality and augmented reality imaging and visualization systems.

現代のコンピューティングおよびディスプレイ技術は、デジタル的に再現された画像またはその一部が、現実であるように見える様式、またはそのように知覚され得る様式においてユーザに提示される、いわゆる「仮想現実」または「拡張現実」体験のためのシステムの開発を促進している。仮想現実、すなわち、「VR」シナリオは、典型的には、他の実際の実世界の視覚的入力に対して透明性を伴わずに、デジタルまたは仮想画像情報の提示を伴う。拡張現実、すなわち、「AR」シナリオは、典型的には、ユーザの周囲の実際の世界の視覚化の拡張として、デジタルまたは仮想画像情報の提示を伴う。例えば、図1を参照すると、拡張現実場面(4)が、描写されており、AR技術のユーザは、人々、木々、背景としての建物、およびコンクリートのプラットフォーム(1120)を特徴とする実世界の公園のような設定(6)が見える。これらのアイテムに加え、AR技術のユーザはまた、実世界プラットフォーム(1120)上に立っているロボット像(1110)と、マルハナバチの擬人化のように見える、飛んでいる漫画のようなアバタキャラクタ(2)が「見えている」ことを知覚するが、これらの要素(2、1110)は、実世界には存在しない。結論から言うと、ヒトの視知覚系は、非常に複雑であり、他の仮想または実世界画像要素間における仮想画像要素の快適で自然のような感覚で豊かな提示を促進するVRまたはAR技術を生成することは、困難である。 Modern computing and display technologies have facilitated the development of systems for so-called "virtual reality" or "augmented reality" experiences in which digitally reproduced images or parts thereof are presented to a user in a manner that appears or can be perceived as real. Virtual reality, or "VR", scenarios typically involve the presentation of digital or virtual image information without transparency to other actual real-world visual inputs. Augmented reality, or "AR", scenarios typically involve the presentation of digital or virtual image information as an extension of the user's surrounding real-world visualization. For example, referring to FIG. 1, an augmented reality scene (4) is depicted in which a user of AR technology sees a real-world park-like setting (6) featuring people, trees, buildings as a background, and a concrete platform (1120). In addition to these items, a user of the AR technology also perceives that they "see" a robotic figure (1110) standing on a real-world platform (1120) and a flying cartoon-like avatar character (2) that appears to be an anthropomorphic bumblebee, although these elements (2, 1110) do not exist in the real world. In conclusion, the human visual perception system is highly complex, and it is difficult to create VR or AR technology that facilitates a comfortable, natural-like, and sensory-rich presentation of virtual image elements among other virtual or real-world image elements.

3D仮想コンテンツをARシステムのユーザに提示する場合、多数の課題が存在する。3Dコンテンツをユーザに提示することの大前提は、複数の深度の知覚の生成を伴う。言い換えると、いくつかの仮想コンテンツは、ユーザにより近いように見える一方、他の仮想コンテンツは、より遠くに生じるように見えることが望ましくあり得る。したがって、3D知覚を達成するために、ARシステムは、ユーザに対して異なる焦点面において仮想コンテンツを送達するように構成されるべきである。 There are numerous challenges when presenting 3D virtual content to a user of an AR system. A major premise of presenting 3D content to a user involves the generation of multiple depth perceptions. In other words, it may be desirable for some virtual content to appear closer to the user, while other virtual content appears to occur further away. Therefore, to achieve a 3D perception, the AR system should be configured to deliver virtual content at different focal planes to the user.

3Dディスプレイが、深度の真の感覚、より具体的には、表面深度のシミュレーションされた感覚をもたらすために、ディスプレイの視野内の各点に対して、その仮想深度に対応する遠近調節応答を生成することが望ましい。ディスプレイ点に対する遠近調節応答が、収束および立体視の両眼の深度手掛かりによって決定される、その点の仮想深度に対応しない場合、ヒトの視覚系は、遠近調節衝突を体験し、不安定な結像、有害な眼精疲労、頭痛、および遠近調節情報の不在下では、表面深度のほぼ完全な欠如をもたらし得る。 For a 3D display to provide a true sensation of depth, and more specifically, a simulated sensation of surface depth, it is desirable to generate, for each point in the display's field of view, an accommodation response that corresponds to that point's virtual depth. If the accommodation response to a display point does not correspond to that point's virtual depth, as determined by the binocular depth cues of convergence and stereopsis, the human visual system may experience accommodative conflicts, resulting in unstable imaging, deleterious eye strain, headaches, and, in the absence of accommodative information, a near-complete lack of surface depth.

したがって、従来のアプローチのこれらおよび他の問題を解決する3Dディスプレイを実装するための改良された技術の必要性がある。本明細書に説明されるシステムおよび技法は、典型的ヒトの視覚的構成と連動し、これらの課題に対処するように構成される。 Therefore, there is a need for improved techniques for implementing 3D displays that address these and other problems of conventional approaches. The systems and techniques described herein are configured to work with the typical human visual configuration and address these challenges.

本発明の実施形態は、1人以上のユーザのための仮想現実および/または拡張現実相互作用を促進するためのデバイス、システム、および方法を対象とする。 Embodiments of the present invention are directed to devices, systems, and methods for facilitating virtual reality and/or augmented reality interactions for one or more users.

いくつかの実施形態による、拡張現実コンテンツをユーザに送達するための拡張現実(AR)ディスプレイシステムは、画像データの1つ以上のフレームを提供するための画像発生源と、画像データの1つ以上のフレームに関連付けられた光を伝送するための光変調器と、画像データの1つ以上のフレームに関連付けられた光を受け取り、光をユーザの眼に向かわせるための回折光学要素(DOE)であって、DOEは、導波管屈折率に対応する導波管基板、表面格子、および導波管基板と表面格子との間に配置される中間層(本明細書では、「下層」とも称される)を有する回折構造を備え、下層は、導波管屈折率と異なる下層回折率に対応する、DOEとを備えている。 According to some embodiments, an augmented reality (AR) display system for delivering augmented reality content to a user includes an image source for providing one or more frames of image data, an optical modulator for transmitting light associated with the one or more frames of image data, and a diffractive optical element (DOE) for receiving the light associated with the one or more frames of image data and directing the light toward an eye of a user, the DOE comprising a diffractive structure having a waveguide substrate corresponding to a waveguide refractive index, a surface grating, and an intermediate layer (also referred to herein as a "lower layer") disposed between the waveguide substrate and the surface grating, the lower layer corresponding to a lower layer diffraction index different from the waveguide refractive index.

本発明のいくつかの実施形態によると、回折構造は、導波管基板と上部格子表面との間にある下層を含む、DOEのために採用される。上部格子表面は、第1の屈折率値に対応する第1の材料を備え、下層は、第2の屈折率値に対応する第2の材料を備え、基板は、第3の屈折率値に対応する第3の材料を備えている。 According to some embodiments of the present invention, a diffractive structure is employed for the DOE, which includes an underlayer between a waveguide substrate and an upper grating surface. The upper grating surface comprises a first material corresponding to a first refractive index value, the underlayer comprises a second material corresponding to a second refractive index value, and the substrate comprises a third material corresponding to a third refractive index value.

同一または異なる材料の任意の組み合わせが、構造のこれらの部分の各々を実装するために採用され得、例えば、全3つの材料は、異なり(かつ全3つの材料は、異なる屈折率値に対応する)、または、層のうちの2つは、同一材料を共有する(例えば、3つの材料のうちの2つは、同一であり、したがって、第3の材料の屈折率値と異なる共通の屈折率値を共有する)。任意の好適な材料のセットが、改良された回折構造の任意の層を実装するために使用され得る。 Any combination of the same or different materials may be employed to implement each of these portions of the structure, for example, all three materials are different (and all three materials correspond to different refractive index values), or two of the layers share the same material (for example, two of the three materials are the same and therefore share a common refractive index value that is different from the refractive index value of the third material). Any suitable set of materials may be used to implement any layer of the improved diffractive structure.

したがって、種々の組み合わせが、利用可能であり、ある屈折率の下層は、第3の屈折率の基板とともに、別の屈折率の上部格子と組み合わせられ、これらの相対的値の調節は、入射角への回折効率の依存性に多くの変動を提供する。異なる屈折率の層を伴う層状導波管が、提示される。種々の組み合わせおよび順列が、機能性を例証するために、関連性能データとともに提示される。利点として、角度の増加が挙げられ、それは、格子を用いて出力角度の増加を提供し、したがって、接眼レンズを用いて視野の増加を提供する。さらに、角度に伴う回折効率の正常低減に対抗する能力は、機能的に有益である。 Thus, various combinations are available, where an underlayer of one refractive index is combined with an overlayer grating of another refractive index along with a substrate of a third refractive index, and adjustment of these relative values provides much variation in the dependence of diffraction efficiency on the angle of incidence. Layered waveguides with layers of different refractive index are presented. Various combinations and permutations are presented along with associated performance data to illustrate functionality. Benefits include increased angle, which provides increased output angle with a grating and therefore increased field of view with an eyepiece. Additionally, the ability to counter the normal decrease in diffraction efficiency with angle is functionally beneficial.

追加の実施形態によると、改良されたアプローチが、回折を実装するためのパターンへの転写材料の転写とともに、基板上への転写材料の堆積を実装するために提供される。これらのアプローチは、任意の数の基板表面上への異なる転写材料/パターンの非常に精密な分布、堆積、および/または形成を可能にする。いくつかの実施形態によると、転写材料のパターン化された分布(例えば、パターン化されたインクジェット分布)が、基板上への転写材料の堆積を実装するために行われる。パターン化されたインクジェット分布を使用するこのアプローチは、堆積させられるべき材料にわたって非常に精密な体積制御を可能にする。加えて、このアプローチは、より小さく、より均一な基層を格子表面真下に提供する役割を果たすことができる。 According to additional embodiments, improved approaches are provided for implementing deposition of transfer material onto a substrate along with transfer of the transfer material into a pattern to implement diffraction. These approaches allow for very precise distribution, deposition, and/or formation of different transfer materials/patterns onto any number of substrate surfaces. According to some embodiments, a patterned distribution of transfer material (e.g., patterned inkjet distribution) is performed to implement deposition of transfer material onto a substrate. This approach using patterned inkjet distribution allows for very precise volumetric control over the material to be deposited. Additionally, this approach can serve to provide a smaller, more uniform underlayer beneath the grating surface.

いくつかの実施形態では、第2のより浅い深度構造のセットとともに第1のより深い深度構造のセットを有するテンプレートが提供される。転写材料を転写受け取り側上に堆積するとき、比較的より大きい体積の転写材料が、テンプレートのより深い深度構造に対応して堆積させられる。加えて、比較的により小さい体積の転写材料が、テンプレートのより浅い深度構造に対応して堆積させられる。このアプローチは、異なる特徴が転写受け取り側上に形成されるために、異なる厚さの材料の同時堆積を可能にする。このアプローチは、異なる深度および/または特徴パラメータを伴う構造のために意図的に非均一である分布、例えば、特徴構造は、同一基板上にあり、異なる厚さを有する分布を生成するためにとられることができる。これは、例えば、同一の下層厚を伴う可変深度の構造の同時転写を可能にする転写材料の空間的に分布された体積を生成するために使用されることができる。 In some embodiments, a template is provided having a first set of deeper depth structures along with a second set of shallower depth structures. When depositing the transfer material onto the transfer receiver, a relatively larger volume of the transfer material is deposited corresponding to the deeper depth structures of the template. In addition, a relatively smaller volume of the transfer material is deposited corresponding to the shallower depth structures of the template. This approach allows for simultaneous deposition of materials of different thicknesses for different features to be formed on the transfer receiver. This approach can be taken to generate distributions that are intentionally non-uniform for structures with different depths and/or feature parameters, e.g., feature structures are on the same substrate but have different thicknesses. This can be used, for example, to generate spatially distributed volumes of transfer material that allow for simultaneous transfer of structures of variable depths with the same underlayer thickness.

いくつかの実施形態は、基板上への複数のタイプの転写材料の同時堆積を実装するためのアプローチに関する。これは、光学特性を有する材料が、一度に基板の複数の部分にわたり同時に堆積させられることを可能にする。このアプローチはまた、特定の機能に関連付けられた(例えば、内部結合格子、直交瞳拡大素子(OPE)格子、または射出瞳拡大素子(EPE)格子として作用するための)局所エリアを調整する能力を提供する。異なるタイプの材料は、異なる光学特性を有する同一材料(例えば、異なる屈折率を有する同一材料の2つの変形)または2つの全く異なる材料を含み得る。材料の任意の光学特性、例えば、屈折率、不透明度、および/または吸光度は、本技法を採用するときに検討および選択されることができる。 Some embodiments relate to an approach for implementing simultaneous deposition of multiple types of transfer materials onto a substrate. This allows materials with optical properties to be simultaneously deposited across multiple portions of a substrate at once. This approach also provides the ability to tailor local areas associated with specific functions (e.g., to act as an internal coupling grating, an orthogonal pupil expansion element (OPE) grating, or an exit pupil expansion element (EPE) grating). The different types of materials may include the same material with different optical properties (e.g., two variants of the same material with different refractive indices) or two entirely different materials. Any optical properties of the materials, such as refractive index, opacity, and/or absorbance, can be considered and selected when employing the present technique.

別の実施形態によると、多側面転写が、採用され、光学構造の複数の側面に転写し得る。これは、転写が、光学要素の異なる側面上で生じ、ベース層体積を通して機能の多重化を実装することを可能にする。この方法において、異なる接眼レンズ機能が、格子構造機能に悪影響を及ぼさずに、実装されることができる。第1のテンプレートは、ある転写を基板/転写受け取り側の側面「A」上に生成し、第1の材料を有する第1のパターンを構造の側面A上に形成するために使用され得る。別のテンプレートは、第2の転写を同一基板の側面「B」上に生成するために使用され得、それは、第2の材料を有する第2のパターンを基板の側面B上に形成する。側面AおよびBは、同一もしくは異なるパターンを有し得、および/または同一もしくは異なるタイプの材料を有し得る。 According to another embodiment, multi-sided transfer may be employed to transfer to multiple sides of the optical structure. This allows transfers to occur on different sides of the optical element, implementing multiplexing of functions throughout the base layer volume. In this way, different eyepiece functions can be implemented without adversely affecting the grating structure function. A first template may be used to generate one transfer on side "A" of the substrate/transfer receiver, forming a first pattern with a first material on side A of the structure. Another template may be used to generate a second transfer on side "B" of the same substrate, which forms a second pattern with a second material on side B of the substrate. Sides A and B may have the same or different patterns and/or may have the same or different types of materials.

追加の実施形態は、多層重転写および/または多層分離/オフセット基板統合に関する。これらのアプローチのいずれか/両方では、以前に転写されたパターンが、再び、噴出させられ、印刷されることができる。接着剤が、第1の層上に噴出させられることができ、第2の基板がそれに接合され(おそらく空隙を伴って)、後続噴出プロセスが、第2の基板上に堆積させ、転写することができる。一連の転写されたパターンは、ロールツーロールプロセスにおいて順次互いに接合されることができる。多層重転写を実装するアプローチは、多層分離/オフセット基板統合アプローチとともに使用して、またはその代わりに使用され得ることに留意されたい。多層重転写に対して、第1の転写材料が、基板上に堆積させられ、転写された後、第2の転写材料の堆積が続き、第1の転写材料および第2の転写材料の両方を有する複合多層構造をもたらすことができる。多層分離/オフセット基板統合に対して、第1の基板1および第2の基板2の両方が、転写材料で転写され得、その後、基板1および基板2は、一実施形態では、おそらく、空隙を基板2の活性構造と基板1の裏側との間に提供するオフセット特徴(同様に転写される)を伴って、狭み込まれ、接合され得る。転写されたスペーサが、空隙を生成するために使用され得る。 Additional embodiments relate to multi-layer overlay transfer and/or multi-layer separation/offset substrate integration. In either/both of these approaches, a previously transferred pattern can be jetted and printed again. An adhesive can be jetted onto the first layer, a second substrate can be bonded to it (possibly with an air gap), and a subsequent jetting process can deposit and transfer onto the second substrate. A series of transferred patterns can be bonded to each other sequentially in a roll-to-roll process. It should be noted that approaches implementing multi-layer overlay transfer can be used in conjunction with or instead of the multi-layer separation/offset substrate integration approach. For multi-layer overlay transfer, a first transfer material can be deposited and transferred onto a substrate, followed by deposition of a second transfer material, resulting in a composite multi-layer structure having both the first and second transfer materials. For multi-layer separation/offset substrate integration, both the first substrate 1 and the second substrate 2 can be transferred with a transfer material, and then substrate 1 and substrate 2 can be sandwiched and bonded, in one embodiment, possibly with offset features (also transferred) that provide an air gap between the active structures of substrate 2 and the backside of substrate 1. Transferred spacers can be used to create the air gap.

さらに別の実施形態によると、基板にわたり分布される材料の可変体積堆積を実装するためのアプローチが開示され、それは、表面不均一性の先験的知識に依存し得る。これは、望ましくない平行度をもたらし、不良光学性能を生じさせ得る基板の表面不均一性を補正する。転写材料の可変体積堆積が、下層トポグラフィまたは物理的特徴セットから独立して、堆積させられるべき転写材料の水平分布を提供するために採用され得る。例えば、基板は、真空チャックによって平坦に引っ張られ、原位置計測が、例えば、低コヒーレンスまたはレーザベースの接触測定プローブを用いて、表面高さを査定するために行われることができる。転写材料の分配体積は、測定データに応じて変動させられ、再現に応じて、より均一な層をもたらすことができる。厚さ変動および/またはくぼみ、ピーク、もしくは他の異常、もしくは基板上の局所位置に関連付けられた特徴の存在等の任意のタイプの不均一性も、本発明の本実施形態によって対処され得る。 According to yet another embodiment, an approach is disclosed for implementing a variable volume deposition of a material distributed across a substrate, which may rely on a priori knowledge of the surface non-uniformity. This compensates for surface non-uniformity of the substrate that may result in undesired parallelism and poor optical performance. Variable volume deposition of transfer material may be employed to provide a horizontal distribution of the transfer material to be deposited independent of the underlying topography or physical feature set. For example, the substrate may be pulled flat by a vacuum chuck and in-situ metrology may be performed to assess the surface height, for example, using a low-coherence or laser-based contact measurement probe. The dispensed volume of the transfer material may be varied in response to the measurement data, resulting in a more uniform layer in response to the reproduction. Any type of non-uniformity, such as thickness variations and/or the presence of dips, peaks, or other anomalies or features associated with local locations on the substrate, may also be addressed by this embodiment of the invention.

前述の実施形態のいずれも、一緒に組み合わせられ得ることに留意されたい。さらに、本発明の追加のおよび他の目的、特徴、ならびに利点は、発明を実施するための形態、図、および請求項に説明される。
例えば、本願は以下の項目を提供する。
(項目1)
回折光学要素を製造する方法であって、
1つ以上の材料のセットを基板上に堆積することと、
テンプレートを識別することであって、前記テンプレートは、その上に形成された転写パターンを有する、ことと、
前記テンプレートを用いて、前記転写パターンを前記基板上の前記1つ以上の材料のセットの中に転写することと
を含み、
前記転写パターンは、前記回折光学要素のための回折パターンを備えている、方法。
(項目2)
前記基板上の前記1つ以上の材料のセットは、材料の第1の部分および材料の第2の部分を備え、
前記テンプレートは、第1の深度構造のセットおよび第2の深度構造のセットを備え、前記第1の深度構造のセットは、前記第2の深度構造のセットと異なる深度を有し、
前記転写パターンは、第1のパターンおよび第2のパターンを備え、
前記第1のパターンおよび前記第2のパターンを前記基板上に同時に形成すること、前記テンプレートは、前記第1の深度構造のセットを伴う前記第1のパターンを前記材料の前記第1の部分上に転写し、前記テンプレートは、前記第2の深度構造のセットを伴う前記第2のパターンを前記材料の前記第2の部分上に転写する、項目1に記載の方法。
(項目3)
前記第1のパターンは、第1の回折格子パターンに対応し、前記第2のパターンは、第2の回折格子パターンに対応する、項目1~2のいずれかに記載の方法。
(項目4)
前記材料の前記第1および第2の部分は、前記基板上への前記材料の非均一な分布に対応する、項目1~3のいずれかに記載の方法。
(項目5)
前記基板は、均一厚の下層を形成しており、前記第1および第2のパターンは、可変深度構造を前記均一厚の下層上に形成する、項目1~4のいずれかに記載の方法。
(項目6)
前記基板上の前記1つ以上の材料のセットは、材料の第1の部分および材料の第2の部分を備え、前記材料の前記第1の部分は、前記材料の前記第2の部分と異なる光学特性を有する、項目1~5のいずれかに記載の方法。
(項目7)
前記材料の前記第1の部分と前記材料の前記第2の部分との間の異なる光学特性は、異なる屈折率、不透明度、または吸光度に対応する、項目1~6のいずれかに記載の方法。
(項目8)
前記材料の前記第1の部分は、転写前に、前記材料の前記第2の部分の上方に堆積させられる、項目1~7のいずれかに記載の方法。
(項目9)
前記基板上の前記1つ以上の材料のセットは、材料の第1の部分および材料の第2の部分を備え、前記材料の前記第1の部分は、前記基板の第1の面上にあり、前記材料の前記第2の部分は、前記基板の第2の面上にあり、
第1のパターンを前記基板の前記第1の面上の前記材料の第1の部分の中に転写することと、
第2のパターンを前記基板の前記第2の面上の前記材料の第2の部分の中に転写することと、
項目1~8のいずれかに記載の方法。
(項目10)
前記第1のパターンは、前記第2のパターンと異なる、項目1~9のいずれかに記載の方法。
(項目11)
前記材料の第1の部分は、前記材料の第2の部分と異なる材料である、項目1~10のいずれかに記載の方法。
(項目12)
前記基板上の前記1つ以上の材料のセットは、材料の第1の部分および材料の第2の部分を備え、前記材料の前記第1の部分は、前記材料の前記第2の部分の堆積前に堆積させられ、転写される、項目1~11のいずれかに記載の方法。
(項目13)
転写が、前記材料の前記第2の部分上に行われる、項目1~12のいずれかに記載の方法。
(項目14)
第1の転写されたパターンを有する前記第1の基板は、第2の転写パターンを有する前記第2の基板上に重ね合わせられる、項目1~13のいずれかに記載の方法。
(項目15)
前記第1の転写されたパターンを有する前記第1の基板は、前記第2の転写パターンを有する前記第2の基板に接合される、項目1~14のいずれかに記載の方法。
(項目16)
スペーサが、前記第1の転写されたパターンを有する前記第1の基板と前記第2の転写されたパターンを有する前記第2の基板との間に空隙を形成する、項目1~15のいずれかに記載の方法。
(項目17)
前記1つ以上の材料のセットの可変レベルが、前記基板上に堆積させられる、項目1~16のいずれかに記載の方法。
(項目18)
前記基板上に堆積させられる前記1つ以上の材料のセットの前記可変レベルは、前記基板の表面均一性の変動性を測定することによって識別される、項目1~17のいずれかに記載の方法。
(項目19)
前記1つ以上の材料のセットは、インクジェット堆積によって前記基板上に堆積させられる、項目1~18のいずれかに記載の方法。
(項目20)
項目1~19のいずれかに記載の方法を使用して形成される回折光学要素。
It should be noted that any of the above-mentioned embodiments may be combined together. Furthermore, additional and other objects, features, and advantages of the present invention are set forth in the detailed description, drawings, and claims.
For example, the present application provides the following:
(Item 1)
1. A method of manufacturing a diffractive optical element, comprising the steps of:
depositing a set of one or more materials onto a substrate;
identifying a template, the template having an imprint pattern formed thereon;
and transferring the transfer pattern into the set of one or more materials on the substrate using the template;
The method, wherein the transferred pattern comprises a diffractive pattern for the diffractive optical element.
(Item 2)
the set of one or more materials on the substrate comprises a first portion of material and a second portion of material;
the template comprises a first set of depth structures and a second set of depth structures, the first set of depth structures having a different depth than the second set of depth structures;
the transfer pattern comprises a first pattern and a second pattern;
2. The method of claim 1, further comprising forming the first pattern and the second pattern simultaneously on the substrate, the template transferring the first pattern with the first set of depth structures onto the first portion of the material, and the template transferring the second pattern with the second set of depth structures onto the second portion of the material.
(Item 3)
3. The method of any of items 1 to 2, wherein the first pattern corresponds to a first diffraction grating pattern and the second pattern corresponds to a second diffraction grating pattern.
(Item 4)
4. The method of any of items 1 to 3, wherein the first and second portions of the material correspond to a non-uniform distribution of the material on the substrate.
(Item 5)
5. The method of any of items 1 to 4, wherein the substrate forms an underlayer of uniform thickness, and the first and second patterns form variable depth structures on the underlayer of uniform thickness.
(Item 6)
6. The method of claim 1, wherein the set of one or more materials on the substrate comprises a first portion of material and a second portion of material, the first portion of material having different optical properties than the second portion of material.
(Item 7)
7. The method of any of items 1 to 6, wherein the different optical properties between the first portion of material and the second portion of material correspond to different refractive indices, opacities, or absorbances.
(Item 8)
8. The method of any of the preceding claims, wherein the first portion of the material is deposited above the second portion of the material prior to transfer.
(Item 9)
the set of one or more materials on the substrate comprises a first portion of material and a second portion of material, the first portion of material being on a first side of the substrate and the second portion of material being on a second side of the substrate;
transferring a first pattern into a first portion of the material on the first side of the substrate;
transferring a second pattern into a second portion of the material on the second side of the substrate;
The method according to any one of items 1 to 8.
(Item 10)
10. The method of any of items 1 to 9, wherein the first pattern is different from the second pattern.
(Item 11)
11. The method of any of the preceding claims, wherein the first portion of material is a different material than the second portion of material.
(Item 12)
12. The method of any of the preceding claims, wherein the set of one or more materials on the substrate comprises a first portion of material and a second portion of material, the first portion of material being deposited and transferred prior to deposition of the second portion of material.
(Item 13)
13. The method of any of the preceding claims, wherein transfer is performed onto the second portion of the material.
(Item 14)
14. The method according to any of items 1 to 13, wherein the first substrate having a first transferred pattern is superimposed onto the second substrate having a second transferred pattern.
(Item 15)
Item 15. The method according to any of items 1 to 14, wherein the first substrate having the first transferred pattern is bonded to the second substrate having the second transferred pattern.
(Item 16)
Item 16. The method of any of items 1 to 15, wherein a spacer forms a gap between the first substrate having the first transferred pattern and the second substrate having the second transferred pattern.
(Item 17)
17. The method of any of the preceding claims, wherein varying levels of the set of one or more materials are deposited on the substrate.
(Item 18)
18. The method of any of the preceding claims, wherein the variable levels of the set of one or more materials deposited on the substrate are identified by measuring variability in a surface uniformity of the substrate.
(Item 19)
19. The method of any of the preceding claims, wherein the set of one or more materials is deposited on the substrate by inkjet deposition.
(Item 20)
20. A diffractive optical element formed using the method of any of items 1 to 19.

図1は、一図示される実施形態における、装着式ARユーザデバイスを通した拡張現実(AR)のユーザのビューを図示する。FIG. 1 illustrates a user's view of augmented reality (AR) through a wearable AR user device in one illustrated embodiment. 図2は、従来の立体視的3Dシミュレーションディスプレイシステムを図示する。FIG. 2 illustrates a conventional stereoscopic 3D simulation display system. 図3は、本発明のいくつかの実施形態による、立体視的3Dシミュレーションディスプレイシステムを実装するための改良されたアプローチを図示する。FIG. 3 illustrates an improved approach for implementing a stereoscopic 3D simulation display system according to some embodiments of the present invention. 図4A-4Dは、ヒトVRおよび/またはARのための高品質で快適に知覚されるディスプレイシステムを提供する目的に対処するための種々のシステム、サブシステム、および構成要素を図示する。4A-4D illustrate various systems, subsystems, and components to address the objective of providing a high quality, comfortably perceived display system for human VR and/or AR. 図4A-4Dは、ヒトVRおよび/またはARのための高品質で快適に知覚されるディスプレイシステムを提供する目的に対処するための種々のシステム、サブシステム、および構成要素を図示する。4A-4D illustrate various systems, subsystems, and components to address the objective of providing a high quality, comfortably perceived display system for human VR and/or AR. 図4A-4Dは、ヒトVRおよび/またはARのための高品質で快適に知覚されるディスプレイシステムを提供する目的に対処するための種々のシステム、サブシステム、および構成要素を図示する。4A-4D illustrate various systems, subsystems, and components to address the objective of providing a high quality, comfortably perceived display system for human VR and/or AR. 図4A-4Dは、ヒトVRおよび/またはARのための高品質で快適に知覚されるディスプレイシステムを提供する目的に対処するための種々のシステム、サブシステム、および構成要素を図示する。4A-4D illustrate various systems, subsystems, and components to address the objective of providing a high quality, comfortably perceived display system for human VR and/or AR. 図5は、改良された回折構造を利用するシステムの例示的構成の平面図を図示する。FIG. 5 illustrates a plan view of an exemplary configuration of a system utilizing an improved diffractive structure. 図6は、スタックされた導波管アセンブリを図示する。FIG. 6 illustrates a stacked waveguide assembly. 図7は、DOEを図示する。FIG. 7 illustrates a DOE. 図8および9は、例示的回折パターンを図示する。8 and 9 illustrate exemplary diffraction patterns. 図8および9は、例示的回折パターンを図示する。8 and 9 illustrate exemplary diffraction patterns. 図10および11は、その中にビームが投入される、2つの導波管を図示する。10 and 11 illustrate two waveguides into which the beams are launched. 図10および11は、その中にビームが投入される、2つの導波管を図示する。10 and 11 illustrate two waveguides into which the beams are launched. 図12は、導波管のスタックを図示する。FIG. 12 illustrates a stack of waveguides. 図13Aは、導波管基板および上部格子表面を有するが、下層を伴わない回折構造を実装するための例示的アプローチを図示する。FIG. 13A illustrates an example approach for implementing a diffractive structure having a waveguide substrate and a top grating surface, but no underlayer. 図13Bは、例示的シミュレーション結果のチャートを示す。FIG. 13B shows a chart of exemplary simulation results. 図13Cは、図13Aの注釈付きバージョンを示す。FIG. 13C shows an annotated version of FIG. 13A. 図14Aは、導波管基板、下層、および上部格子表面を有する回折構造を実装するための例示的アプローチを図示する。FIG. 14A illustrates an example approach for implementing a diffractive structure having a waveguide substrate, an underlayer, and an upper grating surface. 図14Bは、導波管基板、下層、格子表面、および上部表面を有する回折構造を実装するための例示的アプローチを図示する。FIG. 14B illustrates an example approach for implementing a diffractive structure having a waveguide substrate, an underlayer, a grating surface, and an upper surface. 図14Cは、導波管基板、下層、格子表面、および上部表面を有する回折構造のスタックを実装するための例示的アプローチを図示する。FIG. 14C illustrates an example approach for implementing a stack of diffractive structures having a waveguide substrate, an underlayer, a grating surface, and a top surface. 図15Aは、高屈折率導波管基板、低屈折率下層、および低屈折率上部格子表面を有する回折構造を実装するための例示的アプローチを図示する。FIG. 15A illustrates an example approach for implementing a diffractive structure having a high index waveguide substrate, a low index underlayer, and a low index top grating surface. 図15Bは、例示的シミュレーション結果のチャートを示す。FIG. 15B shows a chart of exemplary simulation results. 図16Aは、低屈折率導波管基板、高屈折率下層、および低屈折率上部格子表面を有する回折構造を実装するための例示的アプローチを図示する。FIG. 16A illustrates an example approach for implementing a diffractive structure having a low index waveguide substrate, a high index underlayer, and a low index top grating surface. 図16Bは、例示的シミュレーション結果のチャートを示す。FIG. 16B shows a chart of exemplary simulation results. 図17Aは、低屈折率導波管基板、媒体屈折率下層、および高屈折率上部格子表面を有する回折構造を実装するための例示的アプローチを図示する。FIG. 17A illustrates an example approach for implementing a diffractive structure having a low index waveguide substrate, a medium index underlayer, and a high index upper grating surface. 図17Bは、例示的シミュレーション結果のチャートを示す。FIG. 17B shows a chart of exemplary simulation results. 図18A-Dは、下層特性の修正を図示する。18A-D illustrate modification of the underlayer properties. 図18A-Dは、下層特性の修正を図示する。18A-D illustrate modification of the underlying properties. 図18A-Dは、下層特性の修正を図示する。18A-D illustrate modification of the underlying properties. 図18A-Dは、下層特性の修正を図示する。18A-D illustrate modification of the underlying properties. 図19は、単一基板上への転写材料の精密な可変体積堆積を実装するためのアプローチを図示する。FIG. 19 illustrates an approach for implementing precise variable volume deposition of transferred material onto a single substrate. 図20は、いくつかの実施形態による、同一層内への複数の異なる転写材料の指向性同時堆積を実装するためのアプローチおよび転写ステップを図示する。FIG. 20 illustrates an approach and transfer steps for implementing directional co-deposition of multiple different transfer materials into the same layer, according to some embodiments. 図21A-Bは、全内部反射回折光学要素の状況における、2側面転写を実装するための例示的アプローチを図示する。21A-B illustrate an example approach for implementing two-sided printing in the context of a total internal reflection diffractive optical element. 図22は、図21A-Bに示されるアプローチを使用して形成される構造を図示する。FIG. 22 illustrates a structure formed using the approach shown in FIGS. 21A-B. 図23は、多層重転写を実装するためのアプローチを図示する。FIG. 23 illustrates an approach for implementing multi-layer overprinting. 図24は、多層分離/オフセット基板統合を実装するためのアプローチを図示する。FIG. 24 illustrates an approach for implementing multi-layer isolation/offset substrate integration. 図25は、表面不均一性に対処するために、基板にわたり分布される材料の可変体積堆積を実装するためのアプローチを図示する。FIG. 25 illustrates an approach for implementing variable volume deposition of distributed material across a substrate to address surface non-uniformities.

本発明のいくつかの実施形態によると、回折構造が、採用され、回折構造は、導波管基板と上部格子表面との間にある下層/中間層を含む。上部格子表面は、第1の屈折率値に対応する第1の材料を備え、下層は、第2の屈折率値に対応する第2の材料を備え、基板は、第3の屈折率値に対応する第3の材料を備えている。 According to some embodiments of the present invention, a diffractive structure is employed, the diffractive structure including an underlayer/intermediate layer between a waveguide substrate and an upper grating surface. The upper grating surface comprises a first material corresponding to a first refractive index value, the underlayer comprises a second material corresponding to a second refractive index value, and the substrate comprises a third material corresponding to a third refractive index value.

このアプローチの1つの利点は、3つの層のための相対的屈折率の適切な選択によって、最小全内部反射角度が屈折率が増加させられるにつれて低減させられるという事実から、構造がより広範囲の入射光のためのより広い視野を得ることを可能にすることである。回折効率は、増加させられ、画像視認デバイスのディスプレイへの「より明るい」光の出力を可能にすることができる。 One advantage of this approach is that by appropriate selection of the relative refractive indices for the three layers, the structure can obtain a wider field of view for a wider range of incident light due to the fact that the minimum total internal reflection angle is reduced as the refractive index is increased. The diffraction efficiency can be increased, allowing for a "brighter" light output to the display of the image viewing device.

種々の組み合わせが、利用可能であり、ある屈折率の下層は、第3の屈折率の基板とともに、別の屈折率の上部格子と組み合わせられ、これらの相対的値を調節することは、入射角への回折効率の依存性に多くの変動を提供する。異なる屈折率の層を伴う層状導波管が、提示される。種々の組み合わせおよび順列が、機能性を例証するために、関連性能データとともに提示される。利点は、角度の増加を含み、それは、格子を用いて出力角度の増加を提供し、したがって、接眼レンズを用いて視野の増加を提供する。さらに、角度に伴う回折効率における通常の低減に対抗する能力は、機能的に有益である。 Various combinations are available, where a bottom layer of one refractive index is combined with a top grating of another refractive index along with a substrate of a third refractive index, and adjusting these relative values provides much variation in the dependence of diffraction efficiency on the angle of incidence. Layered waveguides with layers of different refractive index are presented. Various combinations and permutations are presented along with associated performance data to illustrate functionality. Benefits include increased angle, which provides increased output angle with a grating and therefore increased field of view with an eyepiece. Additionally, the ability to counter the normal decrease in diffraction efficiency with angle is functionally beneficial.

(いくつかの実施形態によるディスプレイシステム)
本開示の本部分は、本発明の改良された回折構造と併用され得る、例示的ディスプレイシステムを説明する。
Display Systems According to Some Embodiments
This portion of the disclosure describes exemplary display systems that can be used with the improved diffractive structures of the present invention.

図2は、典型的には、それぞれ、眼からの固定半径方向焦点距離10における、各眼4および6に対する別個のディスプレイ74および76を有する従来の立体視的3Dシミュレーションディスプレイシステムを図示する。この従来のアプローチは、遠近調節手掛かりを含む、3次元における深度を検出および解釈するためにヒトの眼および脳によって利用される有用な手掛かりの多くを考慮することができない。 Figure 2 illustrates a conventional stereoscopic 3D simulation display system that typically has separate displays 74 and 76 for each eye 4 and 6, respectively, at a fixed radial focal distance 10 from the eye. This conventional approach fails to take into account many of the useful cues utilized by the human eye and brain to detect and interpret depth in three dimensions, including accommodation cues.

実際、典型的ヒトの眼は、半径方向距離に基づいて、多数の深度の層を解釈可能であり、例えば、約12の深度の層を解釈可能である。約0.25メートルの近視野限界は、ほぼ最も近い焦点深度であり、約3メートルの遠視野限界は、ヒトの眼から約3メートルを上回って離れたいかなるアイテムも無限焦点を受けることを意味する。焦点の層は、眼に近づくほど、ますます薄くなる。言い換えると、眼は、眼に比較的近いほど非常に小さい焦点距離の差異を知覚可能であり、この効果は、オブジェクトが眼からより離れるにつれて、消散する。無限オブジェクト場所では、焦点深度/光屈折間隔値は、約1/3ジオプトリである。 In fact, a typical human eye can interpret multiple layers of depth based on radial distance, for example, about 12 layers of depth. A near vision limit of about 0.25 meters is approximately the closest depth of focus, and a far vision limit of about 3 meters means that any item more than about 3 meters away from the human eye will receive infinite focus. The layers of focus become thinner and thinner the closer to the eye. In other words, the eye can perceive very small differences in focal length relatively close to the eye, and this effect dissipates as the object becomes more distant from the eye. At an infinite object location, the depth of focus/dioptric spacing value is about 1/3 diopter.

図3は、本発明のいくつかの実施形態による、立体視的3Dシミュレーションディスプレイシステムを実装するための改良されたアプローチを図示し、2つの複合画像が、各眼4および6に対して1つずつ表示され、各画像の種々の側面(14)のための種々の半径方向焦点深度(12)が、各眼に知覚される画像内の3次元深度階層化の知覚を提供するために利用され得る。複数の焦点面(例えば、12の焦点面)がユーザの眼と無限遠との間に存在するので、これらの焦点面および描写される関係内のデータは、仮想要素をユーザの視認のための拡張現実シナリオ内に位置付けるために利用され得る。なぜなら、ヒトの眼は、常に動き回り、焦点面を利用して深度を知覚するからである。この図は、種々の深度における特定の数の焦点面を示すが、本発明の実装は、所望の特定の用途のための必要に応じて、任意の数の焦点面を使用し得、本発明は、したがって、本開示における図のいずれかに示される特定の数の焦点面のみを有するデバイスに限定されないことに留意されたい。 Figure 3 illustrates an improved approach to implementing a stereoscopic 3D simulation display system according to some embodiments of the present invention, where two composite images are displayed, one for each eye 4 and 6, and various radial focal depths (12) for various sides (14) of each image can be utilized to provide the perception of three-dimensional depth layering in the image perceived by each eye. Since multiple focal planes (e.g., 12 focal planes) exist between the user's eyes and infinity, data within these focal planes and the depicted relationships can be utilized to position virtual elements within an augmented reality scenario for the user's viewing, since the human eye is constantly moving around and utilizes focal planes to perceive depth. It should be noted that while this figure shows a specific number of focal planes at various depths, implementations of the present invention may use any number of focal planes as needed for the particular application desired, and the present invention is therefore not limited to devices having only the specific number of focal planes shown in any of the figures in this disclosure.

図4A-4Dを参照すると、本発明のいくつかの実施形態による、いくつかの一般的構成要素選択肢が、図示される。図4A-4Dの議論に続く詳細な説明の一部では、種々のシステム、サブシステム、および構成要素が、ヒトVRおよび/またはARのための高品質で快適に知覚されるディスプレイシステムを提供する目的に対処するために提示される。 With reference to Figures 4A-4D, some general component options are illustrated according to some embodiments of the present invention. In the portion of the detailed description that follows the discussion of Figures 4A-4D, various systems, subsystems, and components are presented to address the objective of providing a high quality, comfortably perceived display system for human VR and/or AR.

図4Aに示されるように、ARシステムユーザ(60)が、ユーザの眼の正面に位置付けられるディスプレイシステム(62)に結合される、フレーム(64)構造を装着した状態で描写される。スピーカ(66)が、描写される構成では、フレーム(64)に結合され、ユーザの外耳道に隣接して位置付けられる(一実施形態では、図示されない別のスピーカが、ユーザの他方の外耳道に隣接して位置付けられ、ステレオ/成形可能音制御を提供する)。ディスプレイ(62)は、有線導線または無線接続等によって、ローカル処理およびデータモジュール(70)に動作可能に結合され(68)、データモジュール(70)は、フレーム(64)に固定して取り付けられること、図4Bの実施形態に示されるように、ヘルメットまたは帽子(80)に固定して取り付けられること、ヘッドホン内に埋め込まれること、図4Cの実施形態に示されるように、リュック式構成でユーザ(60)の胴体(82)に取り外し可能に取り付けられること、または図4Dの実施形態に示されるように、ベルト結合式構成でユーザ(60)の腰(84)に取り外し可能に取り付けられること等、種々の構成で搭載され得る。 As shown in FIG. 4A, an AR system user (60) is depicted wearing a frame (64) structure coupled to a display system (62) positioned in front of the user's eyes. Speakers (66), in the depicted configuration, are coupled to the frame (64) and positioned adjacent the user's ear canals (in one embodiment, another speaker, not shown, is positioned adjacent the user's other ear canal to provide stereo/shapeable sound control). The display (62) is operatively coupled (68), such as by wired or wireless connection, to a local processing and data module (70), which may be mounted in a variety of configurations, such as fixedly attached to the frame (64), fixedly attached to a helmet or hat (80) as shown in the embodiment of FIG. 4B, embedded within headphones, removably attached to the torso (82) of the user (60) in a backpack-style configuration as shown in the embodiment of FIG. 4C, or removably attached to the waist (84) of the user (60) in a belt-coupled configuration as shown in the embodiment of FIG. 4D.

ローカル処理およびデータモジュール(70)は、省電力プロセッサまたはコントローラと、フラッシュメモリ等のデジタルメモリとを備え得、両方とも、データの処理、キャッシュ、および記憶を補助するために利用され得る。データは、a)画像捕捉デバイス(カメラ等)、マイクロホン、慣性測定ユニット、加速度計、コンパス、GPSユニット、無線デバイス、および/またはジャイロスコープ等、フレーム(64)に動作可能に結合され得るセンサから捕捉されたデータ、および/または、b)おそらく、処理または読み出し後にディスプレイ(62)へ渡すために、遠隔処理モジュール(72)および/または遠隔データリポジトリ(74)を使用して取得および/または処理されたデータである。ローカル処理およびデータモジュール(70)は、有線または無線通信リンク等を介して、遠隔処理モジュール(72)および遠隔データリポジトリ(74)に動作可能に結合され得る76、78)、これらの遠隔モジュール(72、74)は、互いに動作可能に結合され、ローカル処理およびデータモジュール(70)へのリソースとして利用可能である。 The local processing and data module (70) may include a low power processor or controller and digital memory, such as flash memory, both of which may be utilized to aid in processing, caching, and storing data. The data may be a) data captured from sensors, such as image capture devices (such as cameras), microphones, inertial measurement units, accelerometers, compasses, GPS units, wireless devices, and/or gyroscopes, that may be operably coupled to the frame (64), and/or b) data acquired and/or processed using a remote processing module (72) and/or a remote data repository (74), possibly for processing or retrieval and then passing to the display (62). The local processing and data module (70) may be operably coupled to the remote processing module (72) and the remote data repository (74) via wired or wireless communication links, etc. (76, 78), and these remote modules (72, 74) are operably coupled to each other and available as resources to the local processing and data module (70).

一実施形態では、遠隔処理モジュール(72)は、データおよび/または画像情報を分析し、処理するように構成される1つ以上の比較的に強力なプロセッサまたはコントローラを備え得る。一実施形態では、遠隔データリポジトリ(74)は、「クラウド」リソース構成におけるインターネットまたは他のネットワーキング構成を通して利用可能であり得る比較的に大規模なデジタルデータ記憶設備を備え得る。一実施形態では、ローカル処理およびデータモジュールにおいて、全てのデータが記憶され、全ての計算が行われ、任意の遠隔モジュールからの完全自律使用を可能にする。 In one embodiment, the remote processing module (72) may comprise one or more relatively powerful processors or controllers configured to analyze and process the data and/or image information. In one embodiment, the remote data repository (74) may comprise a relatively large digital data storage facility that may be available through the Internet or other networking configurations in a "cloud" resource configuration. In one embodiment, all data is stored and all calculations are performed in the local processing and data module, allowing for fully autonomous use from any remote module.

Z軸差(すなわち、光学軸に沿って眼からの直線距離)の知覚が、可変焦点光学要素構成と共に導波管をすることによって、促進され得る。ディスプレイからの画像情報が、コリメートされ、導波管の中に投入され、当業者に公知の任意の好適な基板誘導光学方法を使用して、大射出瞳様式で分布され得、次いで、可変焦点光学要素能力が、導波管から現れる光の波面の焦点を変化させ、眼に、導波管から生じる光が特定の焦点距離からのものであるという知覚を提供するために利用され得る。言い換えると、入射光は、全内部反射導波管構成における課題を回避するためにコリメートされているので、それは、コリメートされた方式で出射し、視認者の眼が、遠点に遠近調節し、それを網膜上に集中させることを要求し、必然的に、何らかの他の介入が、光が再集中され、異なる視認距離からとして知覚されるようにしない限り、それは、光学無限遠からであるように解釈されるであろう。好適なそのような介入の1つは、可変焦点レンズである。 The perception of Z-axis difference (i.e., linear distance from the eye along the optical axis) can be facilitated by using a waveguide with a variable focus optics configuration. Image information from a display can be collimated and injected into a waveguide and distributed in a large exit pupil fashion using any suitable substrate-guided optics method known to those skilled in the art, and then the variable focus optics capabilities can be utilized to change the focus of the wavefront of the light emerging from the waveguide and provide the eye with the perception that the light emerging from the waveguide is from a particular focal distance. In other words, since the incoming light is collimated to avoid the issues in total internal reflection waveguide configurations, it exits in a collimated manner, requiring the viewer's eye to accommodate to a far point and focus it on the retina, which will necessarily be interpreted as being from optical infinity unless some other intervention causes the light to be refocused and perceived as being from a different viewing distance. One such suitable intervention is a variable focus lens.

いくつかの実施形態では、コリメートされた画像情報は、それが全内部反射し、隣接する導波管の中に通されるような角度で、ガラスまたは他の材料片の中に投入される。導波管は、ディスプレイからのコリメートされた光が、導波管の長さに沿って、反射体または回折特徴の分布にわたりほぼ均一に出射するよう分布されるように構成され得る。眼に向かう出射時、出射光は、可変焦点レンズ要素に通され、可変焦点レンズ要素の制御された焦点に応じて、可変焦点レンズ要素から出射し、眼に入射する光は、種々のレベルの焦点を有するであろう(コリメートされた平坦波面は、光学無限遠を表し、ビーム発散/波面曲率が大きいほど、眼58に対してより近い視認距離を表す)。 In some embodiments, the collimated image information is launched into a piece of glass or other material at an angle such that it undergoes total internal reflection and is passed into an adjacent waveguide. The waveguide may be configured such that the collimated light from the display is distributed to exit approximately uniformly across a distribution of reflectors or diffractive features along the length of the waveguide. Upon exiting towards the eye, the exiting light is passed through a variable focus lens element, and depending on the controlled focus of the variable focus lens element, the light exiting the variable focus lens element and entering the eye will have different levels of focus (a collimated flat wavefront represents optical infinity, and larger beam divergence/wavefront curvature represents closer viewing distances to the eye 58).

「フレーム順次」構成では、順次の2次元画像のスタックが、コンピュータ断層撮影システムがスタックされた画像スライスを使用して3次元構造を表す様式と同様の様式で、ディスプレイに順次供給され、3次元知覚を経時的に生成し得る。一連の2次元画像スライスは、各々が眼に対して異なる焦点距離で、眼に提示され得、眼/脳は、そのようなスタックをコヒーレント3次元ボリュームの知覚の中に統合するであろう。ディスプレイタイプに応じて、行毎またはさらにピクセル毎の順序付けが、3次元視認の知覚を生成するために行われ得る。例えば、走査光ディスプレイ(走査ファイバディスプレイまたは走査鏡ディスプレイ等)では、ディスプレイは、導波管に、順次方式で一度に1つの線または1つのピクセルを提示する。 In a "frame sequential" configuration, a stack of sequential two-dimensional images may be fed sequentially to the display in a manner similar to how computed tomography systems use stacked image slices to represent three-dimensional structures over time, creating a three-dimensional perception. A series of two-dimensional image slices may be presented to the eye, each at a different focal length relative to the eye, and the eye/brain will integrate such stacks into the perception of a coherent three-dimensional volume. Depending on the display type, row-by-row or even pixel-by-pixel sequencing may be performed to create the perception of three-dimensional viewing. For example, in a scanning optical display (such as a scanning fiber display or a scanning mirror display), the display presents the waveguide one line or one pixel at a time in a sequential manner.

図6を参照すると、スタックされた導波管アセンブリ(178)が、複数の導波管(182、184、186、188、190)および複数の弱レンズ(198、196、194、192)を有することによって、3次元知覚を眼/脳に提供するために利用され得、複数の導波管および複数の弱レンズは、その導波管レベルに対して知覚されるべき焦点距離を示す各導波管レベルのための種々のレベルの波面曲率で画像情報を眼に送信するように一緒に構成されている。複数のディスプレイ(200、202、204、206、208)、または別の実施形態では、単一多重化ディスプレイが、導波管(182、184、186、188、190)の中にコリメートされた画像情報を投入するために利用され得、導波管の各々は、前述のように、眼に出射するために、各導波管の長さにわたり入射光を実質的に等しく分布させるように構成され得る。 With reference to FIG. 6, a stacked waveguide assembly (178) may be utilized to provide a three-dimensional perception to the eye/brain by having multiple waveguides (182, 184, 186, 188, 190) and multiple weak lenses (198, 196, 194, 192) configured together to transmit image information to the eye with various levels of wavefront curvature for each waveguide level that indicates the focal length to be perceived for that waveguide level. Multiple displays (200, 202, 204, 206, 208), or in another embodiment, a single multiplexed display, may be utilized to inject collimated image information into the waveguides (182, 184, 186, 188, 190), each of which may be configured to distribute the incoming light substantially equally over the length of each waveguide for output to the eye, as previously described.

眼に最も近い導波管(182)は、そのような導波管(182)の中に投入されるにつれて、光学無限遠焦点面を表し得るコリメートされた光を眼に送達するように構成される。次の上方導波管(184)は、眼(58)に到達し得る前に、第1の弱レンズ(192;例えば、弱い負のレンズ)を通過する、コリメートされた光を送信するように構成される。そのような第1の弱レンズ(192)は、眼/脳が、その次の上方導波管(184)から生じる光を光学無限遠から人に向かって内向きにより近い第1の焦点面から生じているように解釈するように、若干の凸面波面曲率を作成するように構成され得る。同様に、第3の上方導波管(186)は、眼(58)に到達する前に、その出力光を第1(192)および第2(194)レンズを通過させる。第1(192)および第2(194)レンズの組み合わせられた屈折力は、眼/脳が、その上方の第3の導波管(186)から生じている光を次の上方導波管(184)からの光より光学無限遠から人に向かってさらにより内向きに近い第2の焦点面から生じているように解釈するように、別の漸増量の波面発散を作成するように構成され得る。 The waveguide (182) closest to the eye is configured to deliver collimated light to the eye that may represent an optical infinity focal plane as it is launched into such waveguide (182). The next upper waveguide (184) is configured to transmit collimated light that passes through a first weak lens (192; e.g., a weak negative lens) before it can reach the eye (58). Such a first weak lens (192) may be configured to create a slight convex wavefront curvature such that the eye/brain interprets the light emerging from the next upper waveguide (184) as originating from a first focal plane closer to optical infinity inward toward the person. Similarly, the third upper waveguide (186) passes its output light through a first (192) and second (194) lenses before reaching the eye (58). The combined refractive power of the first (192) and second (194) lenses can be configured to create another incremental amount of wavefront divergence such that the eye/brain interprets the light emerging from the upper third waveguide (186) as emerging from a second focal plane that is closer to optical infinity and even more inward toward the person than the light from the next upper waveguide (184).

他の導波管層(188、190)および弱レンズ(196、198)も同様に、構成され、スタック内の最高導波管(190)は、人に最も近い焦点面を表す総焦点力のために、その出力をそれと眼との間の弱レンズの全てを通して送信する。スタックされた導波管アセンブリ(178)の他の側の世界(144)から生じる光を視認/解釈するとき、レンズ(198、196、194、192)のスタックを補償するために、補償レンズ層(180)が、スタックの上部に配置され、下方のレンズスタック(198、196、194、192)の総屈折力を補償する。そのような構成は、前述のように、利用可能な導波管/レンズ対と同じ数の知覚される焦点面に、再び、比較的に大きな射出瞳構成を提供する。導波管の反射側面およびレンズの焦点合わせ側面は両方とも、静的であり得る(すなわち、動的または電気活性ではない)。代替実施形態では、動的であり、前述のように、電気活性特徴を使用し、少数の導波管が、時系列方式で多重化され、より多数の有効焦点面を生成することを可能にし得る。 The other waveguide layers (188, 190) and weak lenses (196, 198) are similarly configured, with the highest waveguide (190) in the stack sending its output through all of the weak lenses between it and the eye for a total focal power that represents the focal plane closest to the person. To compensate the stack of lenses (198, 196, 194, 192) when viewing/interpreting light originating from the world (144) on the other side of the stacked waveguide assembly (178), a compensation lens layer (180) is placed on top of the stack to compensate for the total refractive power of the lower lens stack (198, 196, 194, 192). Such a configuration again provides a relatively large exit pupil configuration for as many perceived focal planes as there are waveguide/lens pairs available, as previously described. Both the reflective sides of the waveguides and the focusing sides of the lenses can be static (i.e., not dynamic or electroactive). In an alternative embodiment, which is dynamic and uses electro-active features as described above, a small number of waveguides may be multiplexed in a time-sequential manner to generate a larger number of effective focal planes.

種々の回折構成が、コリメートされたビームを焦点合わせすることおよび/または向け直すことのために採用されることができる。例えば、コリメートされたビームをブラッググレーティング等の線形回折パターンに通すことは、ビームを偏向、すなわち、「操向」させるであろう。コリメートされたビームを半径方向対称回折パターン、すなわち、「フレネルゾーンプレート」に通すことは、ビームの焦点を変化させるであろう。線形および半径方向要素の両方を有する組み合わせ回折パターンが、コリメートされた入力ビームの偏向および焦点合わせの両方を生成するように採用されることができる。これらの偏向および焦点合わせ効果は、反射ならびに透過性モードで生成されることができる。 Various diffractive configurations can be employed to focus and/or redirect a collimated beam. For example, passing a collimated beam through a linear diffraction pattern, such as a Bragg grating, will deflect, or "steer," the beam. Passing a collimated beam through a radially symmetric diffraction pattern, i.e., a "Fresnel zone plate," will change the focus of the beam. A combination diffraction pattern having both linear and radial elements can be employed to produce both deflection and focusing of a collimated input beam. These deflection and focusing effects can be produced in reflective as well as transmissive modes.

これらの原理は、追加の光学系制御を可能にするための導波管構成とともに適用され得る。図7に示されるように、回折パターン(220)、すなわち、「回折光学要素」(または「DOE」)が、コリメートされたビームが平面導波管(216)に沿って全内部反射されるにつれて、それが多数の場所において回折パターン(220)に交差するように、平面導波管(216)内に埋め込まれている。構造はまた、その中にビームが投入され得る(例えば、プロジェクタまたはディスプレイによって)、別の導波管(218)を含み得、DOE(221)が、この別の導波管(218)内に埋め込まれる。 These principles can be applied with waveguide configurations to allow for additional optical system control. As shown in FIG. 7, a diffraction pattern (220), i.e., a "diffractive optical element" (or "DOE"), is embedded within a planar waveguide (216) such that as a collimated beam is totally internally reflected along the planar waveguide (216), it intersects the diffraction pattern (220) at multiple locations. The structure can also include another waveguide (218) into which a beam can be launched (e.g., by a projector or display), with a DOE (221) embedded within this other waveguide (218).

好ましくは、DOE(220)は、ビームの光の一部のみ、DOE(220)の各交差点を用いて、眼(58)に向かって偏向させられる一方、残りは、全内部反射を介して、平面導波管(216)を通って移動し続けるように、比較的に低回折効率を有する。画像情報を搬送する光は、したがって、多数の場所において導波管から出射する、いくつかの関連光ビームに分割され、結果は、図8に示されるように、平面導波管(216)内で跳ね返るこの特定のコリメートされたビームに対する眼(58)に向かう非常に均一なパターンの出射放出である。眼(58)に向かう出射ビームは、この場合、DOE(220)が、線形回折パターンのみを有するので、実質的に平行として図8に示される。しかしながら、この線形回折パターンピッチに対する変化は、出射平行ビームを制御可能に偏向させ、それによって、走査またはタイル表示機能性を生成するために利用され得る。 Preferably, the DOE (220) has a relatively low diffraction efficiency so that only a portion of the light in the beam is deflected toward the eye (58) with each intersection of the DOE (220), while the remainder continues to travel through the planar waveguide (216) via total internal reflection. The light carrying the image information is thus split into several related light beams that exit the waveguide at multiple locations, and the result is a very uniform pattern of exit emission toward the eye (58) for this particular collimated beam bouncing within the planar waveguide (216), as shown in FIG. 8. The exit beam toward the eye (58) is shown in FIG. 8 as substantially parallel, since in this case the DOE (220) has only a linear diffraction pattern. However, variations to this linear diffraction pattern pitch can be exploited to controllably deflect the exiting parallel beam, thereby creating scanning or tiling functionality.

図9を参照すると、埋め込まれるDOE(220)の半径方向対称回折パターン成分の変化に伴って、出射ビームパターンは、より発散性となり、それは、眼がより近い距離に対して遠近調節を行い、出射ビームパターンを網膜上に焦点を合わせることを要求し、出射ビームパターンは、光学無限遠より眼に近い視認距離からの光として脳によって解釈されるであろう。 Referring to FIG. 9, as the radially symmetric diffraction pattern components of the embedded DOE (220) change, the output beam pattern becomes more divergent, which requires the eye to accommodate to closer distances and focus the output beam pattern onto the retina, and the output beam pattern will be interpreted by the brain as light from a viewing distance closer to the eye than optical infinity.

図10を参照すると、その中にビームが投入され得る(例えば、プロジェクタまたはディスプレイによって)他の導波管(218)の追加に伴って、線形回折パターン等のこの他の導波管(218)内に埋め込まれたDOE(221)は、より大きい平面導波管(216)全体にわたり光を拡散させるように機能し得、それは、稼働中の特定のDOE構成に従って、より大きい平面導波管(216)から出射する入射光の非常に大きな入射場、例えば、大型のアイボックスを眼(58)に提供するように機能する。 Referring to FIG. 10, with the addition of another waveguide (218) into which a beam may be launched (e.g., by a projector or display), a DOE (221) embedded within this other waveguide (218), such as a linear diffraction pattern, may function to spread the light throughout the larger planar waveguide (216), which, depending on the particular DOE configuration in operation, may function to provide a very large incident field of the incident light exiting the larger planar waveguide (216), e.g., a large eyebox, at the eye (58).

DOE(220、221)は、関連付けられた導波管(216、218)を二分するように描写されるが、これは、そうである必要はない。それらは、同一機能性を有するように、導波管(216、218)のうちのいずれかのいずれか側により近く、またはその上に設置されることもできる。したがって、図11に示されるように、単一のコリメートされたビームの投入に伴って、クローン化されたコリメートビームの場全体が、眼(58)に向かって向かわせられ得る。加えて、前述のもの等の組み合わせられた線形回折パターン/半径方向対称回折パターンシナリオでは、Z軸焦点合わせ能力を伴うビーム分布導波管光学(射出瞳の機能的拡張等の機能性のために、図11のそれ等の構成で、射出瞳は、光学要素自体と同じ大きさであることができ、それは、ユーザ快適性および人間工学のために非常に有意な利点であり得る)が、提示され、クローン化されたビームの発散角度および各ビームの波面曲率は両方とも、光学無限遠より近い点から生じる光を表す。 Although the DOEs (220, 221) are depicted as bisecting the associated waveguides (216, 218), this need not be the case. They can be placed closer to or on either side of either of the waveguides (216, 218) to have the same functionality. Thus, as shown in FIG. 11, with the injection of a single collimated beam, the entire field of cloned collimated beams can be directed towards the eye (58). In addition, in a combined linear diffraction pattern/radially symmetric diffraction pattern scenario such as the one described above, beam distribution waveguide optics with Z-axis focusing capability (due to functionality such as functional expansion of the exit pupil, in a configuration such as that of FIG. 11, the exit pupil can be as large as the optical element itself, which can be a very significant advantage for user comfort and ergonomics) are presented, where the divergence angle of the cloned beams and the wavefront curvature of each beam both represent light originating from a point closer than optical infinity.

一実施形態では、1つ以上のDOEは、能動的に回折する「オン」状態と、有意に回折しない「オフ」状態との間で切り替え可能である。例えば、切り替え可能DOEは、高分子分散型液晶の層を備え得、高分子分散型液晶の層において、微小液滴が、ホスト媒体内の回折パターンを備え、微小液滴の屈折率が、ホスト材料の屈折率に実質的に一致するように切り替えられることができるか(その場合、パターンは、入射光を著しく回折しない)、または、微小液滴が、ホスト媒体のものに一致しない屈折率に切り替えられることができる(その場合、パターンは、入射光を能動的に回折する)。さらに、回折項に対する動的変化に伴って、ビーム走査またはタイル表示機能性が、達成され得る。前述のように、DOE(220、221)の各々に比較的低い回折グレーティング効率を有することが望ましい。なぜなら、それが光の分布を促進するからであり、さらに、望ましく送光される導波管を通り抜けて来る光(例えば、拡張現実構成では、世界144から眼58に向かって生じる光)が、それが交差するDOE(220)の回折効率がより低い場合、あまり影響を受けず、したがって、そのような構成を通して実世界のより優れたビューが達成されるからである。 In one embodiment, one or more DOEs are switchable between an "on" state in which they actively diffract and an "off" state in which they do not significantly diffract. For example, a switchable DOE may comprise a layer of polymer-dispersed liquid crystal in which microdroplets comprise a diffractive pattern within a host medium, and the refractive index of the microdroplets can be switched to substantially match that of the host material (in which case the pattern does not significantly diffract incident light) or to a refractive index that does not match that of the host medium (in which case the pattern actively diffracts incident light). Additionally, with dynamic changes to the diffraction terms, beam scanning or tiling functionality can be achieved. As previously mentioned, it is desirable to have a relatively low diffraction grating efficiency in each of the DOEs (220, 221). This is because it facilitates the distribution of light, and further because the light coming through the waveguide that is desirably transmitted (e.g., in an augmented reality configuration, light originating from the world 144 towards the eye 58) is less affected by the lower diffraction efficiency of the DOE (220) that it intersects, and therefore a better view of the real world is achieved through such a configuration.

本明細書に図示されるもの等の構成は、好ましくは、時系列アプローチにおける画像情報の投入に伴って駆動され、フレーム順次駆動は、最も実装が簡単である。例えば、光学無限遠における空の画像が、時間1で投入され得、光のコリメートを保持する回折グレーティングが、利用され得る。その後、より近い木の枝の画像が、時間2で投入され得る一方、DOEが、例えば、1ジオプタまたは1メートル離れて、焦点変化を制御可能に与え、眼/脳に、枝の光情報がより近い焦点距離から生じているという知覚を提供する。この種類のパラダイムは、眼/脳が、入力が同一画像の全部分であることを知覚するような高速時系列方式で繰り返されることができる。これは、2つの焦点面の例にすぎない。好ましくは、システムは、より多くの焦点面を含み、オブジェクトとその焦点距離との間のより平滑な遷移を提供するであろう。この種類の構成は、概して、DOEが比較的に低速で(すなわち、数十~数百サイクル/秒の範囲内で画像を投入するディスプレイのフレームレートと同期して)切り替えられることを仮定する。 Configurations such as those illustrated herein are preferably driven with the input of image information in a time-sequential approach, with frame-sequential driving being the simplest to implement. For example, an image of the sky at optical infinity can be input at time 1, and a diffraction grating can be utilized to keep the light collimated. An image of a closer tree branch can then be input at time 2, while the DOE controllably applies a focus change, say one diopter or one meter away, to provide the eye/brain with the perception that the branch's light information is coming from a closer focal distance. This kind of paradigm can be repeated in a fast time-sequential manner such that the eye/brain perceives the input as being all parts of the same image. This is just an example of two focal planes. Preferably, the system would include more focal planes, providing a smoother transition between the object and its focal distance. This kind of configuration generally assumes that the DOE is switched relatively slowly (i.e., in sync with the frame rate of the display inputting the image, in the range of tens to hundreds of cycles per second).

正反対のものは、DOE要素が、数十~数百MHz以上で焦点をシフトさせることができ、ピクセルが、走査光ディスプレイタイプのアプローチを使用して、眼(58)の中に走査されるにつれて、ピクセル毎ベースでDOE要素の焦点状態の切り替えを促進する構成であり得る。これは、全体的ディスプレイフレームレートが非常に低く保たれ得る(「フリッカ」が問題ではない(約60~120フレーム/秒の範囲内である)ことを確実にするために十分に低い)ことを意味するので、望ましい。 The polar opposite could be a configuration in which the DOE elements can shift focus at tens to hundreds of MHz or more, facilitating switching of the focus state of the DOE elements on a pixel-by-pixel basis as the pixels are scanned into the eye (58) using a scanning light display type approach. This is desirable because it means that the overall display frame rate can be kept very low (low enough to ensure that "flicker" is not an issue (in the range of about 60-120 frames/sec)).

これらの範囲の間において、DOEがKHzレートで切り替えられ得る場合、行毎ベースで、各走査線上の焦点が調節され得、それは、ユーザに、例えば、ディスプレイに対する眼運動の中の時間的アーチファクトの観点から目に見える利点を与え得る。例えば、ある場面における異なる焦点面は、この方法でインタリーブされ、頭部の運動に応答して、目に見えるアーチファクトを最小限にし得る(本開示の後半で詳細に論じられるように)。行毎焦点変調器が、グレーティング光弁ディスプレイ等の線走査ディスプレイに動作可能に結合され得、線走査ディスプレイにおいて、ピクセルの線形アレイが、掃引され、画像を形成する。行毎焦点変調器は、ファイバ走査ディスプレイおよび鏡走査光ディスプレイ等の走査光ディスプレイに動作可能に結合され得る。 Between these ranges, if the DOE can be switched at KHz rates, the focus on each scan line can be adjusted on a row-by-row basis, which can give the user a visible advantage, for example, in terms of temporal artifacts in eye movement relative to the display. For example, different focal planes in a scene can be interleaved in this manner to minimize visible artifacts in response to head movement (as discussed in detail later in this disclosure). The row-by-row focus modulator can be operatively coupled to a line-scanning display, such as a grating light valve display, in which a linear array of pixels is swept to form an image. The row-by-row focus modulator can be operatively coupled to a scanning light display, such as a fiber scanning display and a mirror scanning light display.

図6のものに類似するスタックされた構成は、動的DOEを使用して、多平面焦点合わせを同時に提供し得る。例えば、3つの同時焦点面を用いて、主要焦点平面(例えば、測定された眼遠近調節に基づいて)が、ユーザに提示され得、+マージンおよび-マージン(すなわち、1つのより近い焦点面、1つのより遠い焦点面)が、平面の更新が必要とされる前に、ユーザが遠近調節することができる大きな焦点範囲を提供するために利用され得る。この増加した焦点範囲は、ユーザが、より近いまたはより遠い焦点(すなわち、遠近調節測定によって決定されるように)に切り替える場合、時間的利点を提供することができ、新しい焦点の平面が、中央の焦点深度にされ得、+および-マージンは、再び、システムが追い付く間、いずれか一方への高速切り替えのために準備される。 A stacked configuration similar to that of FIG. 6 can provide multi-plane focusing simultaneously using a dynamic DOE. For example, with three simultaneous focal planes, a primary focal plane (e.g., based on measured ocular accommodation) can be presented to the user, and + and - margins (i.e., one closer, one farther) can be utilized to provide a large range of focus to which the user can accommodate before a plane update is required. This increased focus range can provide a time advantage if the user switches to a closer or farther focus (i.e., as determined by accommodation measurements), the new focal plane can be brought to the center depth of focus, and the + and - margins are again prepared for a fast switch to either side while the system catches up.

図12を参照すると、それぞれ、反射体(254、256、258、260、262)を端部に有し、ディスプレイ(224、226、228、230、232)によって一端に投入されたコリメートされた画像情報が、反射体までの全内部反射によって跳ね返り、その時点で、光の一部または全部が、眼もしくは他の標的に向かって反射されるように構成される平面導波管(244、246、248、250、252)のスタック(222)が、示される。反射体の各々は、全て、出射光を瞳孔等の共通目的地に向かって反射させるように、若干異なる角度を有し得る。レンズ(234、236、238、240、242)は、ビーム操向および/または焦点合わせのために、ディスプレイと導波管との間に挿入され得る。 Referring to FIG. 12, a stack (222) of planar waveguides (244, 246, 248, 250, 252) is shown, each with a reflector (254, 256, 258, 260, 262) at each end, configured so that collimated image information launched at one end by a display (224, 226, 228, 230, 232) bounces back by total internal reflection to the reflector, at which point some or all of the light is reflected toward the eye or other target. Each of the reflectors may have a slightly different angle to all reflect the outgoing light toward a common destination, such as the pupil. Lenses (234, 236, 238, 240, 242) may be inserted between the display and the waveguide for beam steering and/or focusing.

前述のように、光学無限遠におけるオブジェクトは、実質的に平面波面を作成する一方、眼から1m等、より近いオブジェクトは、湾曲波面(約1m凸面曲率半径を伴う)を作成する。眼の光学系は、最終的に網膜上に焦点を合わせられる(凸面波面は、凹面に変えられ、次いで、網膜上の焦点に至る)ように、光の入射光線を曲げるために十分な屈折力を有する必要がある。これらは、眼の基本機能である。 As mentioned before, an object at optical infinity creates a substantially plane wavefront, while an object closer, say 1m from the eye, creates a curved wavefront (with a convex radius of curvature of about 1m). The optical system of the eye needs to have enough refractive power to bend the incoming ray of light so that it is ultimately focused on the retina (the convex wavefront is turned into a concave one, which then leads to a focus on the retina). These are the basic functions of the eye.

前述の実施形態の多くでは、眼に向かわせられる光は、1つの連続波面の一部として取り扱われ、それらのうちのある一部が、特定の眼の瞳孔に衝突するであろう。別のアプローチでは、眼に向かわせられる光は、複数のビームレットまたは個々の光線に効果的に離散化もしくは分割され得、それらの各々は、ビームレットまたは光線の集合によって機能的に作成され得るより大きな集合波面の一部として、約0.5mm未満の直径と固有の伝搬経路とを有する。例えば、湾曲波面は、各々が所望の集合波面の曲率半径の中心に一致する原点を表すための適切な角度から眼に接近する複数の個別の近隣のコリメートされたビームを集合することによって近似され得る。 In many of the aforementioned embodiments, the light directed to the eye is treated as part of one continuous wavefront, some portion of which will impinge on the pupil of a particular eye. In another approach, the light directed to the eye can be effectively discretized or split into multiple beamlets or individual rays, each of which has a diameter of less than about 0.5 mm and a unique propagation path, as part of a larger aggregate wavefront that can be functionally created by an aggregation of beamlets or rays. For example, a curved wavefront can be approximated by aggregating multiple individual, nearby collimated beams that each approach the eye from an appropriate angle to represent an origin that coincides with the center of the radius of curvature of the desired aggregate wavefront.

ビームレットは、約0.5mm以下の直径を有する場合、それは、ピンホールレンズ構成を通して生じているかのようであり、それは、各個々のビームレットが、常時、眼の遠近調節状態から独立して、網膜上の相対焦点にあるが、しかしながら、各ビームレットの軌道が、遠近調節状態によって影響されるであろうことを意味する。例えば、ビームレットが、眼に平行に接近し、離散化されたコリメートされた集合波面を表す場合、無限遠に正しく遠近調節される眼は、全てが網膜上の同一共有スポットに収束するように、ビームレットを偏向させ、焦点が合って見えるであろう。眼が、例えば、1mに遠近調節する場合、ビームは、網膜の正面のスポットに収束され、経路を交差させ、網膜上の複数の近隣または部分的重複スポットに当たり、ぼけて見えるであろう。 If the beamlets have a diameter of about 0.5 mm or less, it is as if they are coming through a pinhole lens configuration, which means that each individual beamlet is always at a relative focus on the retina, independent of the accommodation state of the eye, however the trajectory of each beamlet will be affected by the accommodation state. For example, if the beamlets approach the eye parallel and represent a discretized collimated collective wavefront, an eye that is correctly accommodated to infinity will deflect the beamlets so that they all converge to the same shared spot on the retina, and will appear in focus. If the eye accommodates to, say, 1 m, the beams will converge to a spot in front of the retina, cross paths, and hit multiple nearby or partially overlapping spots on the retina, appearing blurred.

ビームレットが、発散性構成において眼に接近し、共有原点が視認者から1メートルの場合、1mの遠近調節は、ビームを網膜上の単一スポットに操向し、焦点が合って見えるであろう。視認者が、無限遠に遠近調節する場合、ビームレットは、網膜の背後のスポットに収束し、複数の近隣または部分的重複スポットを網膜上に生成し、ぼけた画像を生成するであろう。より一般的に述べると、眼の遠近調節は、網膜上のスポットの重複度を決定し、所与のピクセルは、スポットの全てが網膜上の同一スポットに向かわせられると、「焦点が合っており」、スポットが互いからオフセットされていると、「焦点がぼけている」。0.5mm以下の直径のビームレットが全て、常時、焦点が合っており、コヒーレント波面と実質的に同一であるかのように眼/脳によって知覚されるように集合され得るというこの概念は、快適な3次元仮想または拡張現実知覚のための構成を生成することにおいて利用され得る。 If the beamlets approach the eye in a divergent configuration, with the shared origin 1 meter from the viewer, then 1 meter of accommodation will steer the beam to a single spot on the retina, which will appear in focus. If the viewer accommodates to infinity, the beamlets will converge to a spot behind the retina, producing multiple nearby or partially overlapping spots on the retina, producing a blurred image. More generally, the eye's accommodation determines the degree of overlap of the spots on the retina, and a given pixel is "in focus" if all of the spots are directed to the same spot on the retina, and "out of focus" if the spots are offset from each other. This concept that beamlets of diameter 0.5 mm or less can all be assembled to be perceived by the eye/brain as being in focus at all times and substantially identical to a coherent wavefront can be exploited in generating configurations for comfortable 3D virtual or augmented reality perception.

言い換えると、複数の狭ビームのセットが、より大きい直径可変焦点ビームを用いる状態を模倣するために使用され得、ビームレット径が、最大約0.5mmに保たれる場合、必要な場合、比較的に静的焦点レベルを維持し、焦点がずれた知覚を生成するために、ビームレット角度軌道が、より大きい焦点ずれビームに類似する効果を作成するように選択され得る(そのような焦点ぼけ処理は、より大きいビームに対するようなガウスぼかし処理と同一ではない場合があるが、ガウスぼかしと類似方式で解釈され得る、多峰性点拡がり関数を作成するであろう)。 In other words, a set of multiple narrow beams can be used to mimic the conditions with a larger diameter variable focus beam, and if necessary, the beamlet diameter can be kept to a maximum of about 0.5 mm, and the beamlet angular trajectories can be selected to create an effect similar to a larger defocused beam in order to maintain a relatively static focus level and generate the perception of defocus (such a defocus process may not be identical to a Gaussian blur process as for larger beams, but would create a multimodal point spread function that can be interpreted in a similar manner to a Gaussian blur).

いくつかの実施形態では、ビームレットは、この集合焦点効果を形成するように機械的に偏向させられず、むしろ、眼が、ビームレットが瞳孔を交差する多数の入射角度および多数の場所の両方を含む、多くのビームレットの上位セットを受光する。特定の視認距離からの所与のピクセルを表すために、適切な入射角度および瞳孔との交差点を備えている、上位セットからのビームレットの一部(空間内の同一共有原点から放出されているかのように)が、集合波面を表すために、一致する色および強度を伴ってオンにされる一方、共有原点と一貫しない上位セット内のビームレットは、その色および強度を伴ってオンにされない(但し、そのうちの一部は、ある他の色および強度レベルでオンにされ、例えば、異なるピクセルを表し得る)。 In some embodiments, the beamlets are not mechanically deflected to create this collective focus effect; rather, the eye receives a superset of many beamlets that includes both multiple angles of incidence and multiple locations where the beamlets intersect the pupil. To represent a given pixel from a particular viewing distance, some of the beamlets from the superset that have the appropriate angles of incidence and intersection points with the pupil (as if emanating from the same shared origin in space) are turned on with a matching color and intensity to represent the collective wavefront, while beamlets in the superset that are not consistent with the shared origin are not turned on with that color and intensity (although some of them may be turned on with some other color and intensity level, e.g., to represent a different pixel).

ここで図5を参照して、改良された回折構造を使用するARシステムの例示的実施形態800が、ここで説明される。ARシステムは、概して、画像発生プロセッサ812と、少なくとも1つのFSD808(ファイバ走査デバイス)と、FSD回路810と、結合光学832と、以下に説明される改良された回折構造と一緒にスタックされる導波管を有する少なくとも1つの光学アセンブリ(DOEアセンブリ802)とを含む。システムは、眼追跡サブシステム806も含み得る。図5に示されるように、FSD回路は、マキシムチップCPU818を有する画像発生プロセッサ812と、温度センサ820と、圧電駆動/変換器822と、赤色レーザ826と、青色レーザ828と、緑色レーザ830と、全3つのレーザ826、828、830を組み合わせるファイバコンバイナと通信する回路810を備え得る。他のタイプの結像技術も、FSDデバイスの代わりに、使用可能であることに留意されたい。例えば、高分解能液晶ディスプレイ(「LCD」)システム、背面照明強誘電パネルディスプレイ、および/または高周波数DLPシステムは全て、本発明のいくつかの実施形態において使用され得る。 5, an exemplary embodiment 800 of an AR system using an improved diffractive structure is now described. The AR system generally includes an image generation processor 812, at least one FSD 808 (fiber scanning device), an FSD circuit 810, coupling optics 832, and at least one optical assembly (DOE assembly 802) having a waveguide stacked together with the improved diffractive structure described below. The system may also include an eye tracking subsystem 806. As shown in FIG. 5, the FSD circuit may include an image generation processor 812 having a Maxim chip CPU 818, a temperature sensor 820, a piezoelectric driver/transducer 822, a red laser 826, a blue laser 828, a green laser 830, and a circuit 810 in communication with a fiber combiner that combines all three lasers 826, 828, 830. It should be noted that other types of imaging technologies may also be used in place of the FSD device. For example, high resolution liquid crystal display ("LCD") systems, backlit ferroelectric panel displays, and/or high frequency DLP systems may all be used in some embodiments of the present invention.

画像発生プロセッサは、ユーザに最終的に表示される仮想コンテンツを発生させることに関与する。画像発生プロセッサは、仮想コンテンツに関連付けられた画像またはビデオを3Dにおいてユーザに投影され得るフォーマットに変換し得る。例えば、3Dコンテンツを発生させることにおいて、仮想コンテンツは、特定の画像の一部が特定の深度平面上に表示される一方、その他が、他の深度平面に表示されるように、フォーマットされる必要があり得る。または、画像は全て、特定の深度平面において発生され得る。または、画像発生プロセッサは、一緒に視認されると、仮想コンテンツがユーザの眼にコヒーレントかつ快適に現れるように、若干異なる画像を右および左眼にフィードするようにプログラムされ得る。1つ以上の実施形態では、画像発生プロセッサ812は、時系列様式で仮想コンテンツを光学アセンブリに送達する。仮想場面の第1の部分は、光学アセンブリが第1の部分を第1の深度平面において投影するように、最初に送達され得る。次いで、画像発生プロセッサ812は、光学アセンブリが第2の部分を第2の深度平面に投影するように、同一仮想場面の別の部分を送達し得る等。ここでは、Alvarezレンズアセンブリが、フレーム毎ベースで複数の側方平行移動(複数の深度平面に対応する)を生成するために十分に迅速に側方に平行移動され得る。 The image generation processor is responsible for generating the virtual content that is ultimately displayed to the user. The image generation processor may convert images or videos associated with the virtual content into a format that can be projected to the user in 3D. For example, in generating 3D content, the virtual content may need to be formatted so that some of a particular image is displayed on a particular depth plane, while others are displayed on other depth planes. Or the images may all be generated at a particular depth plane. Or the image generation processor may be programmed to feed slightly different images to the right and left eyes so that when viewed together, the virtual content appears coherent and comfortable to the user's eyes. In one or more embodiments, the image generation processor 812 delivers the virtual content to the optical assembly in a time-sequential manner. A first portion of the virtual scene may be delivered first, such that the optical assembly projects the first portion in the first depth plane. Then, the image generation processor 812 may deliver another portion of the same virtual scene, such that the optical assembly projects the second portion in the second depth plane, and so on. Here, the Alvarez lens assembly can be translated laterally quickly enough to generate multiple lateral translations (corresponding to multiple depth planes) on a frame-by-frame basis.

画像発生プロセッサ812はさらに、メモリ814と、CPU818と、GPU816と、画像発生および処理のための他の回路とを含み得る。画像発生プロセッサは、ARシステムのユーザに提示されるべき所望の仮想コンテンツを用いてプログラムされ得る。いくつかの実施形態では、画像発生プロセッサは、装着式ARシステム内に格納され得ることを理解されたい。他の実施形態では、画像発生プロセッサおよび他の回路は、装着式光学に結合されるベルトパック内に格納され得る。 The image generation processor 812 may further include memory 814, a CPU 818, a GPU 816, and other circuitry for image generation and processing. The image generation processor may be programmed with desired virtual content to be presented to a user of the AR system. It should be understood that in some embodiments, the image generation processor may be stored within the wearable AR system. In other embodiments, the image generation processor and other circuitry may be stored within a belt pack that is coupled to the wearable optics.

ARシステムは、光をFSDから光学アセンブリ802に向かわせるための結合光学832も含む。結合光学832は、光をDOEアセンブリの中に向かわせるために使用される1つ以上の従来のレンズを指し得る。ARシステムは、ユーザの眼を追跡し、ユーザの焦点を決定するように構成される眼追跡サブシステム806も含む。 The AR system also includes coupling optics 832 for directing light from the FSD to the optical assembly 802. The coupling optics 832 may refer to one or more conventional lenses used to direct the light into the DOE assembly. The AR system also includes an eye tracking subsystem 806 configured to track the user's eyes and determine the user's focus.

1つ以上の実施形態では、ソフトウェアぼかしが、仮想場面の一部としてぼかしを誘発するために使用され得る。ぼかしモジュールは、1つ以上の実施形態では、処理回路の一部であり得る。ぼかしモジュールは、DOEの中にフィードされている画像データの1つ以上のフレームの一部をぼかし得る。そのような実施形態では、ぼかしモジュールは、特定の深度フレームにおいてレンダリングされることを意図されないフレームの一部を完全にぼかし得る。前述の画像ディスプレイシステムおよびその中の構成要素を実装するために使用され得る、例示的アプローチは、米国特許出願第14/555,585号に説明される。 In one or more embodiments, software blurring may be used to induce blur as part of the virtual scene. A blur module may be part of the processing circuitry in one or more embodiments. The blur module may blur portions of one or more frames of image data being fed into the DOE. In such an embodiment, the blur module may completely blur portions of a frame that are not intended to be rendered at a particular depth frame. An exemplary approach that may be used to implement the aforementioned image display system and components therein is described in U.S. Patent Application Serial No. 14/555,585.

(改良された回折構造)
前述のように、コリメートされたビームが、平面導波管に沿って全内部反射され、ビームが、複数の場所において回折パターンを交差するように、回折パターンが平面導波管上に形成されることができる。この配列は、本発明のいくつかの実施形態による、立体視的3Dシミュレーションディスプレイシステム内の複数の焦点面に画像オブジェクトを提供するためにスタックされることができる。
Improved Diffractive Structure
As previously mentioned, a diffraction pattern can be formed on the planar waveguide such that a collimated beam is totally internally reflected along the planar waveguide and the beam intersects the diffraction pattern at multiple locations. This arrangement can be stacked to provide image objects at multiple focal planes in a stereoscopic 3D simulation display system according to some embodiments of the present invention.

図13Aは、導波管1302(本明細書では、「光ガイド」、「基板」、または「導波管基板」とも称される)の構造1300を実装するためにとられ得る、1つの可能なアプローチを図示し、外部結合格子(outcoupling grating)1304が、例えば、組み合わせられたモノリシック構造として、導波管1302の上部表面上に直接形成され、および/または両方とも同一材料から形成される(同一モノリシック構造から構築されない場合でも)。このアプローチでは、格子材料の屈折率は、導波管1302の屈折率と同一である。材料の屈折率n(または「屈折率」)は、光がその媒体を通して伝搬する程度を説明し、n=c/vとして定義され、cは、真空中の光のスピードであり、vは、媒体中の光の位相速度である。屈折率は、材料に進入するとき、光が曲げられる程度、または屈折させられる程度を決定する。 Figure 13A illustrates one possible approach that can be taken to implement a structure 1300 of a waveguide 1302 (also referred to herein as a "light guide", "substrate", or "waveguide substrate"), where an outcoupling grating 1304 is formed directly on the top surface of the waveguide 1302, for example as a combined monolithic structure, and/or both are formed from the same material (even if not constructed from the same monolithic structure). In this approach, the index of refraction of the grating material is the same as that of the waveguide 1302. The refractive index n (or "index of refraction") of a material describes the degree to which light propagates through that medium and is defined as n = c/v, where c is the speed of light in a vacuum and v is the phase velocity of light in the medium. The index of refraction determines the degree to which light is bent or refracted when entering the material.

図13Bは、光が導波管内を伝搬している角度の関数として、構造1300から出る光の効率の単一偏光に対する例示的シミュレーション結果のチャート1320を示す。このチャートは、構造1300に対して外部結合された(coutcoupled)光の回折効率が、より高い入射角において減少することを示す。図から分かるように、約43度の角度において、効率は、均一屈折率を伴う媒体内の入射角に基づく全内部反射率変動に起因して、描写されるプロット上で比較的に急降下する。 Figure 13B shows a chart 1320 of example simulation results for a single polarization of the efficiency of light exiting the structure 1300 as a function of the angle at which the light is propagating in the waveguide. The chart shows that the diffraction efficiency of light outcoupled to the structure 1300 decreases at higher angles of incidence. As can be seen, at an angle of about 43 degrees, the efficiency drops off relatively sharply on the depicted plot due to the total internal reflectance variation with angle of incidence in a medium with a uniform refractive index.

したがって、構成1300の使用可能範囲は、幾分限定され、したがって、跳ね返り間隔がより高い入射角において減少し得るので、望ましくなく、これはさらに、それらの角度において観察者によって見える輝度を低減させ得ることが可能である。回折効率は、最も浅い入射角では、より低くなり、それは、上部表面との相互作用間の跳ね返り間隔(図13C参照)が非常に離れ、光が外部結合する機会が非常に少ないので、全く望ましくない。したがって、より少ない外部結合されたサンプルを伴う調光信号が、この配列から生じることになり、この問題は、この偏光配向を用いたこれらの高角度においてより低い回折効率を有する格子によって悪化させられるであろう。本明細書および図で使用される場合、「1T」は、一次伝送回折次数を指すことに留意されたい。 The usable range of configuration 1300 is therefore somewhat limited and therefore undesirable as the bounce spacing may decrease at higher angles of incidence, which may further reduce the brightness seen by the observer at those angles. The diffraction efficiency will be lower at the shallowest angles of incidence, which is quite undesirable as the bounce spacing between interactions with the top surface (see FIG. 13C) is so far away that there is very little opportunity for light to outcouple. Thus, a dimming signal with fewer outcoupled samples would result from this arrangement, and this problem would be exacerbated by a grating that has a lower diffraction efficiency at these high angles with this polarization orientation. Note that as used herein and in the figures, "1T" refers to the first transmitted diffraction order.

前述のもの等の導波管ベースの光学システムまたは基板誘導光学システムのいくつかの実施形態では、基板誘導画像内の異なるピクセルは、導波管内を異なる角度で伝搬するビームによって表され、光は、全内部反射(TIR)によって導波管に沿って伝搬する。TIRによって導波管内に捕捉されたままであるビーム角度の範囲は、導波管と導波管の外側の媒体(例えば、空気)との間の屈折率の差異の関数である。屈折率の差異が高いほど、ビーム角度の数が大きくなる。ある実施形態では、導波管に沿って伝搬するビーム角度の範囲は、回折要素によって導波管の面の外へ結合される画像の視野と相関し、かつ光学システムによって支持される画像分解能と相関する。加えて、全内部反射が生じる角度範囲は、導波管の屈折率によって決定付けられる。いくつかの実施形態では、最小で約43度および実践的最大で約83度であり、したがって、40度の範囲である。 In some embodiments of a waveguide-based or substrate-guided optical system such as those described above, different pixels in the substrate-guided image are represented by beams propagating at different angles in the waveguide, with light propagating along the waveguide by total internal reflection (TIR). The range of beam angles that remain trapped in the waveguide by TIR is a function of the difference in refractive index between the waveguide and the medium outside the waveguide (e.g., air). The higher the difference in refractive index, the greater the number of beam angles. In some embodiments, the range of beam angles propagating along the waveguide correlates with the field of view of the image coupled out of the face of the waveguide by the diffractive element, and correlates with the image resolution supported by the optical system. In addition, the range of angles over which total internal reflection occurs is dictated by the refractive index of the waveguide. In some embodiments, the minimum is about 43 degrees and the practical maximum is about 83 degrees, thus in the range of 40 degrees.

図14Aは、本発明のいくつかの実施形態による、この問題に対処するためのアプローチを図示し、構造1400は、基板1302と上部格子表面1304との間にある中間層1406(本明細書では、「下層1406」と称される)を含む。上部表面1304は、第1の屈折率値に対応する第1の材料を備え、下層1406は、第2の屈折率値に対応する第2の材料を備え、基板1302は、第3の屈折率値に対応する第3の材料を備えている。同一または異なる材料の任意の組み合わせが、構造1400のこれらの部分の各々を実装するために採用され得、例えば、全3つの材料は、異なる(かつ全3つの材料は、異なる屈折率値に対応する)、または層のうちの2つは、同一材料を共有する(例えば、3つの材料のうちの2つは、同一であり、したがって、第3の材料の屈折率値と異なる共通の屈折率値を共有する)ことに留意されたい。屈折率値の任意の組み合わせが、採用され得る。例えば、一実施形態は、下層のために低屈折率を含み、表面格子および基板のためにより高い屈折率値を用いる。屈折率値の他の例証的組み合わせを有する、他の例示的構成は、以下に説明される。任意の好適な材料のセットが、構造1500を実装するために使用され得る。例えば、ポリマー、ガラス、およびサファイアは全て、構造1400の層のいずれかを実装するために選択され得る、材料の例である。 14A illustrates an approach to address this problem according to some embodiments of the present invention, where the structure 1400 includes an intermediate layer 1406 (referred to herein as "lower layer 1406") between the substrate 1302 and the upper grating surface 1304. The upper surface 1304 comprises a first material corresponding to a first refractive index value, the lower layer 1406 comprises a second material corresponding to a second refractive index value, and the substrate 1302 comprises a third material corresponding to a third refractive index value. Note that any combination of the same or different materials may be employed to implement each of these portions of the structure 1400, e.g., all three materials are different (and all three materials correspond to different refractive index values), or two of the layers share the same material (e.g., two of the three materials are the same and therefore share a common refractive index value that is different from the refractive index value of the third material). Any combination of refractive index values may be employed. For example, one embodiment includes a low refractive index for the underlayer and uses higher refractive index values for the surface grating and substrate. Other exemplary configurations having other illustrative combinations of refractive index values are described below. Any suitable set of materials may be used to implement structure 1500. For example, polymer, glass, and sapphire are all examples of materials that may be selected to implement any of the layers of structure 1400.

図15Aに示されるように、いくつかの実施形態では、比較的により高い屈折率基板を導波管基板1302として使用し、比較的により低い屈折率下層1406および比較的により低い屈折率上部格子表面1304を伴う、構造1500を実装することが、望ましくあり得る。これは、関係n1×sin(θ1)=n2×sin(90)を通して、屈折率が増加させられるにつれて、最小全内部反射角度が低減させられるという事実から、より広い視野を得ることが可能であり得るからである。屈折率1.5の基板に対して、臨界角は、41.8度である。しかしながら、1.7の基板屈折率に対して、臨界角は、36度である。 15A, in some embodiments, it may be desirable to implement the structure 1500 using a relatively higher index substrate as the waveguide substrate 1302, with a relatively lower index underlayer 1406 and a relatively lower index upper grating surface 1304. This is because it may be possible to obtain a wider field of view from the fact that the minimum total internal reflection angle is reduced as the index is increased through the relationship n1×sin(θ1)=n2×sin(90). For a substrate with an index of refraction of 1.5, the critical angle is 41.8 degrees. However, for a substrate index of 1.7, the critical angle is 36 degrees.

より高い屈折率の基板上に形成される格子は、格子を構成する材料の層が格子と基板との間で厚すぎない限り、それ自体がより低い屈折率を有する場合でも、光を外部結合するために利用され得る。これは、そのような構成を用いて、全内部反射(「TIR」)のためのより広範囲の角度を有することができるという事実に関連する。言い換えると、TIR角度は、そのような構成を用いて、より低い値まで降下する。加えて、現在のエッチングプロセスの多くは、高屈折率ガラスまで拡張させるためにあまり好適ではない場合があることに留意されたい。いくつかの実施形態では、外部結合層を確実かつ安価に複製することが望ましい。 Gratings formed on a substrate of higher refractive index can be utilized to outcouple light even if it itself has a lower refractive index, as long as the layer of material that makes up the grating is not too thick between the grating and the substrate. This is related to the fact that with such a configuration, one can have a wider range of angles for total internal reflection ("TIR"). In other words, the TIR angle drops to a lower value with such a configuration. In addition, it is noted that many of the current etching processes may not be well suited for extending to high index glasses. In some embodiments, it is desirable to replicate the outcoupling layer reliably and inexpensively.

下層1406の構成は、例えば、下層1406の厚さを変更することによって、構造1500の性能特性を改変するように調節され得る。図15Aの構成(構造体は、比較的低い屈折率材料を備えている格子構造1304を最上部に含み、関連付けられたより低い屈折率下層1406を伴い、それは、関連付けられた高屈折率光誘導基板1302も含む)は、図15Bに描写されるもの等のデータをもたらすようにモデル化され得る。この図を参照すると、左のプロット1502aは、ゼロ厚の下層1502を伴う構成に関連する。中央プロット1502bは、0.05ミクロン厚の下層1502に対するデータを示す。右のプロット1502cは、0.1ミクロン厚の下層1502に対するデータを示す。 The configuration of the underlayer 1406 can be adjusted to modify the performance characteristics of the structure 1500, for example, by changing the thickness of the underlayer 1406. The configuration of FIG. 15A (wherein the structure includes a lattice structure 1304 on top comprising a relatively low refractive index material with an associated lower refractive index underlayer 1406, which also includes an associated high refractive index light guiding substrate 1302) can be modeled to yield data such as that depicted in FIG. 15B. With reference to this figure, the left plot 1502a is associated with a configuration with a zero thickness underlayer 1502. The center plot 1502b shows data for a 0.05 micron thick underlayer 1502. The right plot 1502c shows data for a 0.1 micron thick underlayer 1502.

これらのプロットにおけるデータによって示されるように、下層厚が増加させられるにつれて、入射角の関数としての回折効率は、はるかに非線形となり、高角度において抑制され、それは、望ましくないこともある。したがって、この場合、下層の制御は、重要な機能的入力である。しかしながら、ゼロ厚の下層およびより低い屈折率を保有する格子特徴自体のみを用いる場合、構造によって支持される角度の範囲は、より低い屈折率の格子特徴材料ではなく、より高い屈折率ベース材料におけるTIR条件によって支配されることに留意されたい。 As shown by the data in these plots, as the underlayer thickness is increased, the diffraction efficiency as a function of incidence angle becomes much more nonlinear and suppressed at high angles, which may be undesirable. Therefore, control of the underlayer is an important functional input in this case. Note, however, that with a zero-thickness underlayer and only the grating features themselves possessing a lower refractive index, the range of angles supported by the structure is governed by the TIR conditions in the higher index base material, not the lower index grating feature material.

図16Aを参照すると、より低い屈折率の基板1302上の比較的に高屈折率の下層1406を特徴とする構造1600の実施形態が図示され、上部表面回折格子1304は、下層1406より低く、必ずしも等しくないが、基板1302の屈折率に匹敵する屈折率を有する。例えば、上部表面格子は、1.5の屈折率に対応し得、下層は、1.84の屈折率に対応し得、基板は、1.5の屈折率に対応し得る。この例に対して、周期は、0.43μmであり、λは、0.532μmに対応すると仮定されたい。 Referring to FIG. 16A, an embodiment of a structure 1600 is illustrated that features a relatively high refractive index underlayer 1406 on a lower refractive index substrate 1302, with a top surface grating 1304 having a refractive index lower than the underlayer 1406 and comparable, though not necessarily equal, to that of the substrate 1302. For example, the top surface grating may correspond to a refractive index of 1.5, the underlayer may correspond to a refractive index of 1.84, and the substrate may correspond to a refractive index of 1.5. For this example, assume that the period is 0.43 μm and λ corresponds to 0.532 μm.

そのような構成に関連するシミュレーションが、図16Bに提示される。この図に示されるように、0.3ミクロン厚の下層1406を伴うチャート1602aでは、回折効率は、前述の構成のように降下するが、次いで、角度範囲のより高い終点において上昇し始める。これは、チャート1602bに示されるように、0.5ミクロン厚の下層1406構成にも当てはまる。これらの(0.3ミクロン、0.5ミクロン)構成の各々において、効率が角度範囲のより高い極限において比較的に高くなることは、有益である。そのような機能性は、前述のよりまばらな跳ね返り間隔懸念に対抗する傾向となり得る。さらに、この図に示されるのは、90度回転偏光の例を特徴とする実施形態に対するチャート1602cであり、回折効率は、予期され得るように低いが、より浅い角度と比較してより急な角度においてより優れた効率を提供するという点において、望ましい挙動を示す。 Simulations related to such configurations are presented in FIG. 16B. As shown in this figure, in chart 1602a with a 0.3 micron thick underlayer 1406, the diffraction efficiency drops as in the previous configuration, but then begins to rise at the higher end of the angular range. This is also true for the 0.5 micron thick underlayer 1406 configuration, as shown in chart 1602b. It is beneficial that in each of these (0.3 micron, 0.5 micron) configurations, the efficiency is relatively high at the higher extremes of the angular range. Such functionality may tend to counter the sparser bounce spacing concerns mentioned above. Also shown in this figure is chart 1602c for an embodiment featuring an example of 90 degree rotated polarization, where the diffraction efficiency is low as might be expected, but exhibits desirable behavior in providing better efficiency at steeper angles compared to shallower angles.

実際、いくつかの実施形態では、回折効率対角度は、高角度において増加し得る。これは、より高い伝搬角度において生じ得るより低い跳ね返り間隔を補償することに役立つので、いくつかの実施形態に関して望ましい特徴であり得る。したがって、図16Aの構造構成は、より高い角度における回折効率対角度増加を促進するので、より低い跳ね返り間隔(より高い伝搬角度を用いて生じる)を補償することが望ましい実施形態において好ましくあり得、それは、前述のモノリシック構成に対して望ましい。 Indeed, in some embodiments, the diffraction efficiency versus angle may increase at high angles. This may be a desirable feature for some embodiments as it helps to compensate for the lower bounce spacing that may occur at higher propagation angles. Thus, the structural configuration of FIG. 16A may be preferred in embodiments where it is desirable to compensate for the lower bounce spacing (which occurs with higher propagation angles) as it promotes increased diffraction efficiency versus angle at higher angles, which is desirable relative to the monolithic configuration described above.

図17Aを参照すると、別の構造1700が、描写され、下層1406は、基板1302の屈折率より実質的に高い屈折率を有する。格子構造1304は、最上部にあり、格子構造1304も、下層1406の屈折率より高い屈折率を有する。例えば、上部表面格子は、1.86の屈折率に対応し得、下層は、1.79の屈折率に対応し得、基板は、1.5の屈折率に対応し得る。前述のように、この例に対して、周期は、0.43μmであり、λは、0.532μmに対応すると仮定されたい。 Referring to FIG. 17A, another structure 1700 is depicted in which the bottom layer 1406 has a refractive index substantially higher than that of the substrate 1302. The grating structure 1304 is on top, and the grating structure 1304 also has a refractive index higher than that of the bottom layer 1406. For example, the top surface grating may correspond to a refractive index of 1.86, the bottom layer may correspond to a refractive index of 1.79, and the substrate may correspond to a refractive index of 1.5. As before, for this example, assume that the period is 0.43 μm and λ corresponds to 0.532 μm.

図17Bを参照すると、チャート1702は、図17Aの構造1700に対して例証されるシミュレーションデータを示す。チャート1702に示されるように、結果として生じる回折効率対入射角のプロットは、比較的に高入射角において前述のより低い跳ね返り間隔を補償し、全般的により広範囲の角度にわたり合理的回折効率を保有することを補助する望ましい全般的挙動を実証する。 Referring to FIG. 17B, chart 1702 shows simulation data illustrated for structure 1700 of FIG. 17A. As shown in chart 1702, the resulting plot of diffraction efficiency versus incidence angle demonstrates desirable general behavior that helps compensate for the aforementioned lower bounce spacing at relatively high incidence angles and generally retains reasonable diffraction efficiency over a wider range of angles.

下層1406は、基板全体にわたり均一である必要はないことに留意されたい。下層1406の任意の特性は、下層1406の厚さ、組成物、および/または屈折率の相違等、基板の異なる場所において変動させられ得る。下層1406の特性を変動させるための1つの可能な理由は、ディスプレイ画像および/またはディスプレイシステム内の光の非均一送光のいずれかにおける既知の変動の存在下、均一ディスプレイ特性を促進するためである。 It should be noted that underlayer 1406 need not be uniform across the substrate. Any property of underlayer 1406 may be varied at different locations of the substrate, such as differences in thickness, composition, and/or refractive index of underlayer 1406. One possible reason for varying the properties of underlayer 1406 is to promote uniform display properties in the presence of known variations in either the display image and/or non-uniform delivery of light within the display system.

例えば、図18Aに示されるように、導波管構造が導波管上の単一内部結合場所1802において入射光を受け取る場合を検討する。入射光が導波管1302の中に投入されるに場合、ますます少ない光が、導波管1302の長さに沿って伝搬するにつれて残るであろう。これは、内部結合場所1802の近傍の出力光が、導波管1302の長さに沿ってより遠い出力光より「明るく」見える結果となり得ることを意味する。下層1406が、導波管1302の全長に沿って均一である場合、下層1406の光学効果は、基板にわたるこの不均一輝度レベルを増強し得る。 For example, consider the case where a waveguide structure receives incident light at a single internal coupling location 1802 on the waveguide, as shown in FIG. 18A. If incident light is launched into the waveguide 1302, less and less light will remain as it propagates along the length of the waveguide 1302. This means that the output light near the internal coupling location 1802 may end up appearing "brighter" than the output light further along the length of the waveguide 1302. If the underlayer 1406 is uniform along the entire length of the waveguide 1302, the optical effect of the underlayer 1406 may enhance this non-uniform brightness level across the substrate.

下層1406の特性は、基板1302にわたり調節され、出力光をより均一にすることができる。図18Bは、下層1406の厚さが、導波管基板1302の長さにわたり変動させられるアプローチを図示し、下層1406は、内部結合場所1802の近傍ではより薄く、場所1802から距離が離れるほど厚くなる。このように、より優れた回折効率を促進するための下層1406の効果は、少なくとも部分的に、導波管基板1302の長さに沿って光損失の影響を改善し、それによって、構造の全体にわたりより均一な光出力を促進することができる。 The properties of the underlayer 1406 can be tailored across the substrate 1302 to make the output light more uniform. FIG. 18B illustrates an approach in which the thickness of the underlayer 1406 is varied across the length of the waveguide substrate 1302, with the underlayer 1406 being thinner near the internal coupling location 1802 and thicker the further away from location 1802. In this manner, the effect of the underlayer 1406 to promote better diffraction efficiency can, at least in part, ameliorate the effects of light loss along the length of the waveguide substrate 1302, thereby promoting a more uniform light output throughout the structure.

図18Cは、下層1406の厚さは変動させられないが、下層1406の屈折率が基板1302にわたり変動する代替アプローチを図示する。例えば、場所1802の近傍の出力光が、場所1802から離れた場所でより明るくなる傾向にある問題に対処するために、下層1406のための屈折率は、場所1802に近い基板1302と同一または同様であるが、場所1802から離れた場所におけるそれらの屈折率値において増大する差異を有するように構成される。下層1406材料の組成は、異なる場所において変動させられ、異なる屈折率値をもたらすことができる。図18Dは、下層1406の厚さおよび屈折率の両方が基板1302にわたり変動させられる、ハイブリッドアプローチを図示する。この同一アプローチは、下層1406を変動させることと併せて、もしくはその代わりに、上部格子表面1304および/または基板1302の厚さおよび/または屈折率を変動させるために行われることができることに留意されたい。 18C illustrates an alternative approach in which the thickness of the underlayer 1406 is not varied, but the refractive index of the underlayer 1406 is varied across the substrate 1302. For example, to address the problem that the output light near the location 1802 tends to be brighter away from the location 1802, the refractive index for the underlayer 1406 is configured to be the same or similar to the substrate 1302 close to the location 1802, but with an increasing difference in their refractive index values away from the location 1802. The composition of the underlayer 1406 material can be varied at different locations, resulting in different refractive index values. FIG. 18D illustrates a hybrid approach in which both the thickness and refractive index of the underlayer 1406 are varied across the substrate 1302. Note that this same approach can be done to vary the thickness and/or refractive index of the upper grating surface 1304 and/or the substrate 1302 in conjunction with or instead of varying the underlayer 1406.

したがって、種々の組み合わせが、利用可能であり、ある屈折率の下層1406は、第3の屈折率の基板1302とともに、別の屈折率の上部格子1304と組み合わせられ、これらの相対的値の調節は、回折効率の入射角への依存性において多くの変動を提供する。異なる屈折率の層を伴う層状導波管が、提示される。種々の組み合わせおよび順列が、機能性を例証するために、関連性能データとともに提示される。利点は、角度の増加が挙げられ、それは、格子1304を用いて出力角度の増加を提供し、したがって、接眼レンズを用いて視野の増加を提供する。さらに、角度に伴う回折効率の通常の低減に対抗する能力は、機能的に有益である。 Thus, various combinations are available, where a bottom layer 1406 of one refractive index is combined with a top grating 1304 of another refractive index, along with a substrate 1302 of a third refractive index, and tuning these relative values provides much variation in the dependence of the diffraction efficiency on the angle of incidence. Layered waveguides with layers of different refractive index are presented. Various combinations and permutations are presented with associated performance data to illustrate functionality. Benefits include increased angle, which provides increased output angle with the grating 1304, and therefore increased field of view with the eyepiece. Additionally, the ability to counter the normal decrease in diffraction efficiency with angle is functionally beneficial.

図14Bは、材料1409の別の層(上部表面)が、格子層1304の上方に設置される実施形態を図示する。層1409は、異なる設計目標に対処するために構成可能に実装されることができる。例えば、層1409は、例えば、図14Cに示されるように、複数のスタックされた回折構造1401aと1401bとの間に介在層を形成することができる。図14Cに示されるように、この介在層1409は、任意の空隙/間隙を除去し、スタックされた回折構成要素のための支持構造を提供するために採用されることができる。この使用例では、層1409は、比較的低い屈折率、例えば、約1.1または1.2を有する材料から形成されることができる。この図には図示されないが、他の層(弱レンズ等)も、回折構造1401aと1401bとの間に設置され得る。 14B illustrates an embodiment in which another layer (top surface) of material 1409 is placed above the grating layer 1304. Layer 1409 can be implemented configurably to address different design goals. For example, layer 1409 can form an intervening layer between multiple stacked diffractive structures 1401a and 1401b, as shown in FIG. 14C. As shown in FIG. 14C, this intervening layer 1409 can be employed to eliminate any air gaps/gaps and provide a support structure for the stacked diffractive components. In this use case, layer 1409 can be formed from a material having a relatively low refractive index, for example, about 1.1 or 1.2. Although not shown in this figure, other layers (such as weak lenses) can also be placed between diffractive structures 1401a and 1401b.

加えて、層1409は、比較的に高屈折率を有する材料から形成されることができる。この状況では、入射光の全部またはかなりの量に対する回折効果を提供するであろうものは、格子表面1304ではなく、層1409上の格子である。 In addition, layer 1409 can be formed from a material having a relatively high refractive index. In this situation, it is the grating on layer 1409, rather than grating surface 1304, that will provide the diffractive effect for all or a significant amount of the incident light.

明白なように、所望の光学効果および結果を達成するために、屈折率値の異なる相対的組み合わせが、層1409を含む異なる層に対して選択されることができる。 As will be apparent, different relative combinations of refractive index values can be selected for different layers, including layer 1409, to achieve desired optical effects and results.

そのような構造は、任意の好適な製造技法を使用して、製造され得る。「MR174」として知られるもの等のある高屈折率ポリマーが、直接、エンボス加工、印刷、またはエッチングされ、所望のパターン化された構造を生成し得るが、そのような層の硬化収縮等に関連する課題が存在する。したがって、別の実施形態では、別の材料が、高屈折率ポリマー層(すなわち、MR174の層等)上に転写、エンボス加工、またはエッチングされ、機能的に同様の結果を生成し得る。現在最先端の印刷、エッチング(すなわち、従来の半導体プロセスにおいて利用されるものに類似するレジスト除去およびパターン化ステップを含み得る)、およびエンボス加工技法が、そのような印刷、エンボス加工、および/またはエッチングステップを遂行するために利用され、および/または組み合わせられ得る。例えば、DVDの生産において利用されるものに類似する成形技法も、ある複製ステップのために利用され得る。さらに、印刷および他の堆積プロセスにおいて利用されるあるジェット噴射または堆積技法も、精度を伴ってある層を堆積するために利用され得る。 Such structures may be fabricated using any suitable fabrication technique. Certain high refractive index polymers, such as those known as "MR174," may be directly embossed, printed, or etched to produce the desired patterned structures, but there are challenges associated with the cure shrinkage, etc., of such layers. Thus, in another embodiment, another material may be transferred, embossed, or etched onto the high refractive index polymer layer (i.e., such as a layer of MR174) to produce a functionally similar result. Current state-of-the-art printing, etching (i.e., which may include resist stripping and patterning steps similar to those utilized in conventional semiconductor processes), and embossing techniques may be utilized and/or combined to accomplish such printing, embossing, and/or etching steps. For example, molding techniques similar to those utilized in DVD production may also be utilized for certain replication steps. Additionally, certain jetting or deposition techniques utilized in printing and other deposition processes may also be utilized to deposit certain layers with precision.

本開示の以下の部分は、ここで、回折のための形成パターンを基板上に実装するための改良されたアプローチを説明し、堆積させられる転写材料(imprint material)の転写(imprinting)は、本発明のいくつかの実施形態に従って行われる。これらのアプローチは、転写材料の非常に精密な分布と任意の数の基板表面上への異なる転写パターンの非常に精密な形成とを可能にする。以下の説明は、前述の格子構成と共に使用され、それを実装するために使用されることができることに留意されたい。しかしながら、本発明の堆積アプローチは、他の構成と共にも同様に使用さ得ることに留意されたい。 The following portion of the disclosure now describes improved approaches for implementing formation patterns for diffraction on a substrate, where the imprinting of deposited imprint material is performed in accordance with some embodiments of the present invention. These approaches allow for very precise distribution of the imprint material and very precise formation of different imprint patterns on any number of substrate surfaces. It should be noted that the following description can be used with and to implement the grating configurations described above. However, it should be noted that the deposition approach of the present invention can be used with other configurations as well.

いくつかの実施形態によると、転写材料のパターン化された分布(例えば、パターン化されたインクジェット分布)が、転写材料の堆積を基板上に実装するために行われる。パターン化されたインクジェット分布を使用するこのアプローチは、堆積させられるべき材料に対する非常に精密な体積制御を可能にする。加えて、このアプローチは、より小さく、より均一なベース層を格子表面の真下に提供する役割を果たすことができ、前述のように、層のベース厚は、接眼レンズ/光学デバイスの性能に有意な影響を及ぼすことができる。 According to some embodiments, a patterned distribution of the transfer material (e.g., a patterned inkjet distribution) is performed to implement the deposition of the transfer material onto the substrate. This approach using a patterned inkjet distribution allows for very precise volumetric control over the material to be deposited. In addition, this approach can serve to provide a smaller, more uniform base layer beneath the grating surface, and as previously mentioned, the base thickness of the layer can have a significant impact on the performance of the eyepiece/optical device.

図19は、単一基板上への転写材料の精密な可変体積堆積を実装するためのアプローチを図示する。図に示されるように、第1のより深い深度構造1904のセットおよび第2のより浅い(例えば、標準)深度構造1906のセットを有するテンプレート1902が、提供される。転写材料を転写受け取り側1908上に堆積するとき、比較的より大きい体積の転写材料1910が、テンプレート1902のより深い深度構造1904を伴うテンプレートの部分に対応して堆積させられる。対照的に、比較的により小さい体積の転写材料1912は、テンプレート1902のより浅い深度構造1906に対応して堆積させられる。そして、テンプレートは、第1および第2の深度構造のセットを転写材料の中に転写し、異なる深度および/またはパターンを有するそれぞれの構造を転写材料内形成するために使用される。このアプローチは、したがって、転写受け取り側1908上への異なる特徴の同時形成を可能にする。 19 illustrates an approach for implementing precise variable volume deposition of transfer material onto a single substrate. As shown in the figure, a template 1902 is provided having a first set of deeper depth structures 1904 and a second set of shallower (e.g., standard) depth structures 1906. When depositing the transfer material onto a transfer receiver 1908, a relatively larger volume of transfer material 1910 is deposited corresponding to portions of the template with the deeper depth structures 1904 of the template 1902. In contrast, a relatively smaller volume of transfer material 1912 is deposited corresponding to the shallower depth structures 1906 of the template 1902. The template is then used to transfer the first and second sets of depth structures into the transfer material, forming respective structures with different depths and/or patterns in the transfer material. This approach thus allows for the simultaneous formation of different features on the transfer receiver 1908.

このアプローチは、異なる深度および/または特徴パラメータを伴う構造のために意図的に非均一である分布を生成するために利用されることができ、例えば、特徴構造は、同一基板上にあり、異なる厚さを有する。これは、例えば、同一下層厚を伴う可変深度の構造の同時転写を可能にする、転写材料の空間的に分布された体積を生成するために使用されることができる。 This approach can be utilized to generate distributions that are intentionally non-uniform for structures with different depths and/or feature parameters, e.g., feature structures on the same substrate but with different thicknesses. This can be used to generate spatially distributed volumes of transfer material, for example, allowing simultaneous transfer of structures of variable depths with the same underlayer thickness.

図19の底部は、前述の堆積技法/装置を用いて形成される構造1920を図示し、下層1922は、パターン深度および体積の差異にかかわらず、均一厚を有する。転写材料は、構造1920内に非均一な厚さを伴って堆積させられていることが分かる。ここでは、上部層1924は、第1の層厚のセットを有する第1の部分1926を含む一方、第2の部分1928は、第2の層厚のセットを有する。この例では、部分1926は、部分1928の標準/より浅い厚さと比較して、より厚い層に対応する。しかしながら、厚さの任意の組み合わせが、本発明の概念を使用して構築され得、標準厚さより厚いおよび/またはより薄いのいずれか/両方である厚さが、下層上に形成されることに留意されたい。 19 illustrates a structure 1920 formed using the deposition technique/apparatus described above, with the underlayer 1922 having a uniform thickness despite differences in pattern depth and volume. It can be seen that the transfer material has been deposited with a non-uniform thickness within the structure 1920. Here, the top layer 1924 includes a first portion 1926 having a first set of layer thicknesses, while the second portion 1928 has a second set of layer thicknesses. In this example, the portion 1926 corresponds to a thicker layer compared to the standard/shallower thickness of the portion 1928. However, it should be noted that any combination of thicknesses can be constructed using the concepts of the present invention, with thicknesses formed on the underlayer that are either/both thicker and/or thinner than the standard thickness.

この能力は、例えば、スペーサ要素としての役割を果たすためのより大きい体積の材料を堆積させ、例えば、多層回折光学要素の構築を補助するために使用されることができる。 This capability can be used, for example, to deposit larger volumes of material to act as spacer elements, for example, to aid in the construction of multi-layer diffractive optical elements.

いくつかの実施形態は、基板上への複数のタイプの転写材料の同時堆積を実装するためのアプローチに関する。これは、光学特性を有する材料が、一度に基板の複数の部分にわたり同時に堆積させられることを可能にする。このアプローチはまた、具体的機能に関連付けられた局所エリア(例えば、内部結合格子、直交瞳拡大素子(OPE)格子、または射出瞳拡大素子(EPE)格子としての役割を果たす)を調整するための能力を提供する。 Some embodiments relate to an approach for implementing simultaneous deposition of multiple types of transfer materials onto a substrate. This allows materials with optical properties to be simultaneously deposited across multiple portions of the substrate at once. This approach also provides the ability to tailor local areas associated with specific functions (e.g., to serve as an internal coupling grating, an orthogonal pupil expansion element (OPE) grating, or an exit pupil expansion element (EPE) grating).

図20は、いくつかの実施形態による、同一層内への複数の異なる転写材料の指向性同時堆積を実装するためのアプローチおよび転写ステップを図示する。図に示されるように、テンプレート2002は、転写受け取り側2008上の異なるタイプの転写材料2010および2012の中にパターンを転写するために提供される。材料2010および2012は、異なる光学特性を有する同一材料(例えば、異なる屈折率を有する同一材料の2つの変形)または2つの全く異なる材料を含み得る。 Figure 20 illustrates an approach and transfer steps for implementing directional co-deposition of multiple different transfer materials into the same layer, according to some embodiments. As shown in the figure, a template 2002 is provided for transferring a pattern into different types of transfer materials 2010 and 2012 on a transfer receiver 2008. Materials 2010 and 2012 may comprise the same material with different optical properties (e.g., two versions of the same material with different refractive indices) or two entirely different materials.

材料の任意の光学特性は、この技法を採用するときに検討および選択されることができる。例えば、図20の実施形態に示されるように、材料2010は、転写受け取り側2008のある区分内に堆積させられる高屈折率材料に対応する一方、同時に、材料2012は、第2の区分のエリア内に堆積させられるより低い屈折率材料に対応する。 Any optical properties of the materials can be considered and selected when employing this technique. For example, as shown in the embodiment of FIG. 20, material 2010 corresponds to a high refractive index material deposited in one section of the transfer receiver 2008, while at the same time, material 2012 corresponds to a lower refractive index material deposited in an area of a second section.

結果として生じる構造2020に示されるように、これは、高屈折率部分2026およびより低い屈折率部分2028を有する多機能回折光学要素を形成する。この場合、第1の機能に関する高屈折率部分2026および第2の機能に関する部分2028は、同時に転写された。 As shown in the resulting structure 2020, this forms a multi-function diffractive optical element having a high refractive index portion 2026 and a lower refractive index portion 2028. In this case, the high refractive index portion 2026 for a first function and the portion 2028 for a second function were transferred simultaneously.

この例は、材料を同時に堆積するときに「調整」すべき光学特性として材料の屈折率を例証的に識別するが、他の光学特性も、構造の異なる部分内に堆積するための材料のタイプを識別するときに検討され得ることに留意されたい。例えば、不透明度および吸光度は、構造の異なる部分内への堆積のための材料を識別し、最終製品の局所特性を調整するために使用され得る他の特性である。 While this example illustratively identifies the refractive index of the materials as the optical property to "tune" when simultaneously depositing materials, it should be noted that other optical properties may also be considered when identifying types of materials for deposition into different portions of a structure. For example, opacity and absorbance are other properties that may be used to identify materials for deposition into different portions of a structure and tune the local properties of the final product.

加えて、あるタイプの材料は、転写前に、別の材料の上方/下方に堆積させられ得る。例えば、ある屈折率材料は、転写直前に第2の屈折率材料の直下に堆積させられ、回折光学要素を形成するための屈折率勾配を生成し得る。これは、例えば、図17Aに示される構造(または前述または図中の他の関連構造のいずれか)を実装するために使用されることができる。 In addition, one type of material may be deposited above/below another material prior to transfer. For example, one refractive index material may be deposited directly below a second refractive index material immediately prior to transfer to create a refractive index gradient to form a diffractive optical element. This may be used, for example, to implement the structure shown in FIG. 17A (or any of the other related structures described above or in the figures).

別の実施形態によると、多側面転写が、光学構造の複数の側面に転写するために採用され得る。これは、転写が、光学要素の異なる側面上で生じ、ベース層体積を通した機能の多重化を実装することを可能にする。この方法において、異なる接眼レンズ機能が、格子構造機能に悪影響を及ぼさずに実装されることができる。 According to another embodiment, multi-sided printing can be employed to print onto multiple sides of the optical structure. This allows printing to occur on different sides of the optical element, implementing multiplexing of functions throughout the base layer volume. In this way, different eyepiece functions can be implemented without adversely affecting the grating structure function.

図21A-Bは、全内部反射回折光学要素の状況における、2側面転写を実装するための例示的アプローチを図示する。図21Aに図示されるように、第1のテンプレート2102aは、ある転写を基板/転写受け取り側2108の側面「A」上に生成するために使用され得る。これは、第1の材料を構造の側面A上に有する第1のパターン2112を形成する。 Figures 21A-B illustrate an example approach for implementing two-sided transfer in the context of a total internal reflection diffractive optical element. As illustrated in Figure 21A, a first template 2102a can be used to generate an transfer on side "A" of a substrate/transfer receiver 2108. This forms a first pattern 2112 having a first material on side A of the structure.

図21Bに図示されるように、テンプレート2102bは、第2の転写を同一基板の側面「B」上に生成するために使用され得る。これは、第2の材料を基板の側面B上に有する第2のパターン2114を形成する。 As illustrated in FIG. 21B, template 2102b can be used to generate a second transfer onto side "B" of the same substrate. This forms a second pattern 2114 having a second material on side B of the substrate.

側面AおよびBは、同一もしくは異なるパターンを有し得、および/または同一もしくは異なるタイプの材料を有し得ることに留意されたい。加えて、各側面上のパターンは、さまざまな層厚(例えば、図19のアプローチを使用して)を備え得、および/または異なる材料タイプを同一側面上に有し得る(例えば、図20のアプローチを使用して)。 Note that sides A and B may have the same or different patterns and/or the same or different types of materials. In addition, the patterns on each side may have various layer thicknesses (e.g., using the approach of FIG. 19) and/or different material types on the same side (e.g., using the approach of FIG. 20).

図22に示されるように、第1のパターン2112は、基板2108の側面A上に転写され、第2のパターン2114は、反対側面B上に転写されている。結果として生じる2側面転写された要素2200の複合機能が、ここで、実現されることができる。特に、入射光が、2側面転写された要素2200に印加されるとき、一部の光は、要素2200から出射し、第1の機能1を実装する一方、他の光は、出射し、第2の機能2を実装する。 22, a first pattern 2112 is transferred onto side A of substrate 2108, and a second pattern 2114 is transferred onto the opposite side B. A composite function of the resulting two-sided transferred element 2200 can now be realized. In particular, when incident light is applied to the two-sided transferred element 2200, some light exits the element 2200 and implements a first function 1, while other light exits and implements a second function 2.

追加の実施形態は、多層重転写および/または多層分離/オフセット基板統合に関する。これらのアプローチのいずれか/両方では、以前に転写されたパターンが、再び、噴出および印刷されることができる。接着剤が、第1の層上に噴出させられることができ、第2の基板がそれに接合され(おそらく空隙を伴って)、後続噴出プロセスが、第2の基板上に堆積させ、転写することができる。一連の転写されたパターンは、ロールツーロールプロセスにおいて順次互いに接合されることができる。多層重転写を実装するアプローチは、多層分離/オフセット基板統合アプローチと共に、またはその代わりに使用され得ることに留意されたい。 Additional embodiments relate to multi-layer overlay transfer and/or multi-layer separation/offset substrate integration. In either/both of these approaches, a previously transferred pattern can be jetted and printed again. Adhesive can be jetted onto a first layer, a second substrate can be bonded to it (possibly with an air gap), and a subsequent jetting process can deposit and transfer onto the second substrate. A series of transferred patterns can be bonded to each other sequentially in a roll-to-roll process. It should be noted that approaches implementing multi-layer overlay transfer can be used in conjunction with or instead of the multi-layer separation/offset substrate integration approach.

図23は、多層重転写を実装するためのアプローチを図示する。ここでは、第1の転写材料2301が、基板上2308に堆積させられ、転写されることができる。この後、第2の転写材料2302の堆積(および可能な転写)が続く。これは、第1の転写材料2301および第2の転写材料2302の両方を有する複合多層構造をもたらす。一実施形態では、後続転写が、第2の転写材料2302のために実装され得る。代替実施形態では、後続転写は、第2の転写材料2302のために実装されない。 Figure 23 illustrates an approach for implementing multi-layer over-transfer. Here, a first transfer material 2301 can be deposited and transferred onto a substrate 2308. This is followed by deposition (and possible transfer) of a second transfer material 2302. This results in a composite multi-layer structure having both the first transfer material 2301 and the second transfer material 2302. In one embodiment, a subsequent transfer can be implemented for the second transfer material 2302. In an alternative embodiment, a subsequent transfer is not implemented for the second transfer material 2302.

図24は、多層分離/オフセット基板統合を実装するためのアプローチを図示する。ここでは、第1の基板1および第2の基板2の両方が、転写材料で堆積させられ、次いで、転写され得る。その後、基板1および基板2は、挟み込まれ、接合され得、一実施形態では、おそらく、基板2の活性構造と基板1の裏側との間に空隙2402を提供するオフセット特徴(同様に転写される)を伴う。転写されたスペーサ2404が、空隙2402を生成するために使用され得る。 Figure 24 illustrates an approach for implementing multi-layer separation/offset substrate integration. Here, both a first substrate 1 and a second substrate 2 can be deposited with a transfer material and then transferred. Substrates 1 and 2 can then be sandwiched and bonded, in one embodiment, possibly with offset features (also transferred) that provide an air gap 2402 between the active structures of substrate 2 and the backside of substrate 1. Transferred spacers 2404 can be used to create the air gap 2402.

さらに別の実施形態によると、基板にわたり分布される材料の可変体積堆積を実装するためのアプローチが開示され、それは、表面不均一性の先験的知識に依存し得る。説明するために、図25に示される基板2502を検討する。示されるように、基板2502の表面不均一性は、望ましくない平行度をもたらし、不良光学性能を生じさせ得る。この場合、基板2502(または以前に転写された層)は、変動性に対して測定され得る。 According to yet another embodiment, an approach is disclosed for implementing variable volume deposition of distributed material across a substrate, which may rely on a priori knowledge of surface non-uniformity. To illustrate, consider substrate 2502 shown in FIG. 25. As shown, surface non-uniformity of substrate 2502 may result in undesirable parallelism, resulting in poor optical performance. In this case, substrate 2502 (or a previously transferred layer) may be measured for variability.

転写材料の可変体積堆積が、下層トポグラフィまたは物理的特徴セットから独立して、堆積させられるべき転写材料の水平分布を提供するために採用され得る。例えば、基板は、真空チャックによって平坦に引っ張られ、原位置計測が、例えば、低コヒーレンスまたはレーザベースの接触測定プローブを用いて、表面高さを査定するために行われることができる。転写材料の分配体積は、再現時、より均一な層をもたらすために測定データに応じて変動させられることができる。この例では、基板の部分2504aは、最高レベルの変動を有し、部分2504bは、中間レベルの変動を有し、部分2504cは、最低レベルの変動を有する。したがって、大体積の転写材料が、部分2504a内に堆積させられ得、中体積の転写材料が、部分2504bの中に堆積させられ、および小/標準体積転写材料が、部分2504cの中に堆積させられる。結果として生じる製品2506によって示されるように、これは、より均一な総基板/転写材料/転写パターン厚をもたらし、それは、ひいては、転写されたデバイスの性能を調整し、またはそれに恩恵をもたらし得る。 Variable volume deposition of transfer material can be employed to provide a horizontal distribution of the transfer material to be deposited independent of the underlying topography or physical feature set. For example, the substrate can be pulled flat by a vacuum chuck and in-situ metrology can be performed to assess the surface height, for example, using a low-coherence or laser-based contact measurement probe. The dispensed volume of the transfer material can be varied in response to the measurement data to provide a more uniform layer upon reproduction. In this example, portion 2504a of the substrate has the highest level of variation, portion 2504b has an intermediate level of variation, and portion 2504c has the lowest level of variation. Thus, a large volume of transfer material can be deposited in portion 2504a, a medium volume of transfer material is deposited in portion 2504b, and a small/standard volume of transfer material is deposited in portion 2504c. As shown by the resulting product 2506, this results in a more uniform overall substrate/transfer material/transfer pattern thickness, which in turn can tailor or benefit the performance of the transferred device.

例は、厚さの不均一性に起因する変動を示すが、他のタイプの不均一性も、本発明の本実施形態によって対処され得ることに留意されたい。別の実施形態では、そのような変動は、くぼみ、ピーク、もしくは他の異常、または基板上の局所位置に関連付けられた特徴の存在に起因し得る。 Note that while the examples show variations due to thickness non-uniformities, other types of non-uniformities may also be addressed by this embodiment of the invention. In another embodiment, such variations may be due to the presence of dips, peaks, or other anomalies or features associated with a local location on the substrate.

前述の明細書では、本発明は、その具体的実施形態を参照して説明された。しかしながら、本発明のより広範な精神および範囲から逸脱することなく、種々の修正ならびに変更がそこに行われ得ることは明白であろう。例えば、前述のプロセスフローは、プロセスアクションの特定の順序を参照して説明されている。しかしながら、説明されるプロセスアクションの多くの順序は、本発明の範囲または動作に影響を及ぼすことなく、変更され得る。本明細書および図面は、故に、制限的意味ではなく、例証的意味におけるものであると見なされる。 In the foregoing specification, the invention has been described with reference to specific embodiments thereof. It will be apparent, however, that various modifications and changes can be made therein without departing from the broader spirit and scope of the invention. For example, the foregoing process flows have been described with reference to a particular sequence of process actions. However, the sequence of many of the described process actions can be changed without affecting the scope or operation of the invention. The specification and drawings are therefore to be regarded in an illustrative rather than a restrictive sense.

種々の本発明の例示的実施形態が、本明細書で説明される。非限定的な意味で、これらの実施例が参照される。それらは、本発明のより広くて紀要可能な側面を例証するように提供される。種々の変更が、説明される本発明に行われ得、本発明の真の精神および範囲から逸脱することなく、同等物が置換され得る。加えて、特定の状況、材料、物質組成、プロセス、プロセス行為、またはステップを本発明の目的、精神、もしくは範囲に適合させるように、多くの修正が行われ得る。さらに、当業者によって理解されるように、本明細書で説明および例証される個々の変形例の各々は、本発明の範囲または精神から逸脱することなく、他のいくつかの実施形態のうちのいずれかの特徴から容易に分離され、またはそれらと組み合わせられ得る、離散構成要素および特徴を有する。全てのそのような修正は、本開示に関連付けられる請求項の範囲内にあることを目的としている。 Various exemplary embodiments of the present invention are described herein. Reference is made to these examples in a non-limiting sense. They are provided to illustrate the broader and more appreciable aspects of the present invention. Various changes may be made to the described invention, and equivalents may be substituted without departing from the true spirit and scope of the invention. In addition, many modifications may be made to adapt a particular situation, material, composition of matter, process, process acts, or steps to the objective, spirit, or scope of the present invention. Moreover, as will be understood by those skilled in the art, each of the individual variations described and illustrated herein has discrete components and features that may be readily separated from or combined with the features of any of the other several embodiments without departing from the scope or spirit of the present invention. All such modifications are intended to be within the scope of the claims associated with this disclosure.

本発明は、対象デバイスを使用して行われ得る方法を含む。方法は、そのような好適なデバイスを提供するという行為を含み得る。そのような提供は、エンドユーザによって行われ得る。換言すれば、「提供する」行為は、単に、エンドユーザが、対象方法において必須デバイスを提供するように、取得し、アクセスし、接近し、位置付けし、設定し、起動し、電源を入れ、または別様に作用することを要求する。本明細書で記載される方法は、論理的に可能である記載された事象の任意の順番で、ならびに事象の記載された順番で実行され得る。 The present invention includes methods that may be performed using the subject devices. The methods may include the act of providing such a suitable device. Such providing may be performed by an end user. In other words, the act of "providing" merely requires the end user to obtain, access, access, locate, configure, activate, power on, or otherwise act to provide the requisite device in the subject method. The methods described herein may be performed in any order of the described events that is logically possible, as well as in the described order of events.

本発明の例示的側面が、材料選択および製造に関する詳細とともに、上記で記載されている。本発明の他の詳細に関しては、これらは、上記で参照された特許および出版物と関連して理解されるとともに、概して、当業者によって公知または理解され得る。一般的または論理的に採用されるような追加の行為の観点から、本発明の方法ベースの側面に関して、同じことが当てはまり得る。 Exemplary aspects of the invention have been described above, along with details regarding material selection and manufacturing. As to other details of the invention, these may be understood in conjunction with the above-referenced patents and publications, and may generally be known or understood by those skilled in the art. The same may be true with respect to method-based aspects of the invention in terms of additional acts as would typically or logically be adopted.

加えて、本発明は、種々の特徴を随意的に組み込むいくつかの実施例を参照して説明されているが、本発明は、本発明の各変形例に関して考慮されるような説明および指示されるものに限定されるものではない。種々の変更が、説明される本発明に行われ得、本発明の真の精神および範囲から逸脱することなく、同等物(本明細書に記載されようと、いくらか簡単にするために含まれていなかろうと)が置換され得る。加えて、値の範囲が提供される場合、その範囲の上限と下限との間の全ての介在値、およびその規定範囲内の任意の他の規定または介在値が、本発明内に包含されることを理解されたい。 In addition, while the present invention has been described with reference to several embodiments that optionally incorporate various features, the present invention is not limited to those described and indicated as being considered with respect to each variation of the present invention. Various modifications may be made to the invention described, and equivalents (whether described herein or not included for some simplicity) may be substituted without departing from the true spirit and scope of the present invention. In addition, when a range of values is provided, it is to be understood that all intervening values between the upper and lower limits of that range, and any other stated or intervening values within that stated range, are encompassed within the present invention.

説明される本発明の変形例の任意の随意的な特徴が、独立して、または本明細書で説明される特徴のうちのいずれか1つ以上のものと組み合わせて、記載および請求され得ることも想定される。単数形のアイテムへの参照は、複数形の同一のアイテムが存在するという可能性を含む。より具体的には、本明細書で、および本明細書に関連付けられる請求項で使用されるように、「1つの(「a」、「an」)」、「該(said)」、および「the(the)」という単数形は、特に規定がない限り、複数形の指示対象を含む。換言すれば、冠詞の使用は、上記の説明ならびに本開示に関連付けられる請求項において、対象アイテムの「少なくとも1つ」を可能にする。さらに、そのような請求項は、任意の随意的な要素を除外するように起草され得ることに留意されたい。したがって、この記述は、請求項の要素の記載と関連して、「単に」、「のみ」等の排他的用語の使用、または「否定的」制限の使用のために、先行詞としての機能を果たすことを目的としている。 It is also envisioned that any optional features of the described variations of the invention may be described and claimed independently or in combination with any one or more of the features described herein. Reference to a singular item includes the possibility that the same items are present in plural. More specifically, as used herein and in the claims associated herewith, the singular forms "a," "an," "said," and "the" include plural referents unless otherwise specified. In other words, the use of articles allows for "at least one" of the subject item in the above description as well as in the claims associated herewith. Furthermore, it should be noted that such claims may be drafted to exclude any optional element. Thus, this statement is intended to serve as a predicate for the use of exclusive terms such as "solely," "only," and the like, or the use of "negative" limitations in connection with the recitation of claim elements.

そのような排他的用語を使用することなく、本開示に関連付けられる請求項での「備えている」という用語は、所与の数の要素がそのような請求項で列挙されるか、または特徴の追加をそのような請求項に記載される要素の性質の変換として見なすことができるかにかかわらず、任意の追加の要素を含むことを可能にするものとする。本明細書で具体的に定義される場合を除いて、本明細書で使用される全ての技術および科学用語は、請求項の有効性を維持しながら、可能な限り広い一般的に理解されている意味を与えられるものである。 Without using such exclusive terms, the term "comprising" in the claims associated with this disclosure shall be construed as allowing for the inclusion of any additional elements, regardless of whether a given number of elements are recited in such claims or whether the addition of features can be considered as a change in the nature of the elements recited in such claims. Except as specifically defined herein, all technical and scientific terms used herein shall be given the broadest possible commonly understood meaning while maintaining the validity of the claims.

本発明の範疇は、提供される実施例および/または対象の明細書に限定されるものではなく、むしろ、本開示に関連付けられる請求項の言葉の範囲のみによって限定されるものである。 The scope of the present invention is not limited to the examples and/or subject specification provided, but rather is limited only by the scope of the language of the claims associated with this disclosure.

例証される実施形態の上記の説明は、排他的であること、または実施形態を開示される精密な形態に限定することを意図するものではない。具体的実施形態および実施例が、例証目的のために本明細書に説明されているが、種々の同等修正が、当業者によって認識されるであろうように、本開示の精神および範囲から逸脱することなく、行われることができる。種々の実施形態の本明細書に提供される教示は、必ずしも、概して上記に説明される例示的ARシステムではなく、仮想またはARもしくはハイブリッドシステムを実装する、および/またはユーザインターフェースを採用する、他のデバイスにも適用されることができる。 The above description of the illustrated embodiments is not intended to be exhaustive or to limit the embodiments to the precise forms disclosed. Although specific embodiments and examples have been described herein for illustrative purposes, various equivalent modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present disclosure, as will be recognized by those skilled in the art. The teachings provided herein of the various embodiments can be applied to other devices that implement virtual or AR or hybrid systems and/or employ user interfaces, not necessarily the exemplary AR system generally described above.

例えば、前述の詳細な説明は、ブロック図、概略図、および実施例の使用を介して、デバイスおよび/またはプロセスの種々の実施形態を記載している。そのようなブロック図、概略図、および実施例が、1つ以上の機能および/もしくは動作を含有する限り、そのようなブロック図、フロー図、または実施例内の各機能および/もしくは動作は、実装される、個々におよび/または集合的に、広範囲のハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、または事実上任意のそれらの組み合わせによって実装され得ることが、当業者によって理解されるであろう。 For example, the foregoing detailed description describes various embodiments of devices and/or processes through the use of block diagrams, schematic diagrams, and examples. To the extent that such block diagrams, schematic diagrams, and examples contain one or more functions and/or operations, it will be understood by those skilled in the art that each function and/or operation within such block diagrams, flow diagrams, or examples may be implemented, individually and/or collectively, by a wide range of hardware, software, firmware, or virtually any combination thereof.

一実施形態では、本主題は、特定用途向け集積回路(ASIC)を介して実装され得る。しかしながら、当業者は、本明細書に開示される実施形態は、全体的または部分的に、1つ以上のコンピュータによって実行される1つ以上のコンピュータプログラムとして(例えば、1つ以上のコンピュータシステム上で起動する1つ以上のプログラムとして)、1つ以上のコントローラ(例えば、マイクロコントローラ)によって実行される1つ以上のプログラムとして、1つ以上のプロセッサ(例えば、マイクロプロセッサ)によって実行される1つ以上のプログラムとして、ファームウェアとして、もしくは事実上任意のそれらの組み合わせとして、標準的集積回路内に同等に実装されることができ、ソフトウェアおよび/またはファームウェアのための回路の設計ならびに/もしくはコードの書込が、本開示の教示に照らして、十分に当業者の技術の範囲内にあるであろうことを認識するであろう。 In one embodiment, the subject matter may be implemented via an application specific integrated circuit (ASIC). However, those skilled in the art will recognize that the embodiments disclosed herein may equally be implemented in standard integrated circuits, in whole or in part, as one or more computer programs executed by one or more computers (e.g., as one or more programs running on one or more computer systems), as one or more programs executed by one or more controllers (e.g., microcontrollers), as one or more programs executed by one or more processors (e.g., microprocessors), as firmware, or as virtually any combination thereof, and that designing circuits and/or writing code for the software and/or firmware would be well within the skill of one of ordinary skill in the art in light of the teachings of the present disclosure.

論理が、ソフトウェアとして実装され、メモリ内に記憶されると、論理または情報は、任意のプロセッサ関連システムまたは方法による使用もしくはそれと関連した使用のために、任意のコンピュータ読み取り可能な媒体上に記憶されることができる。本開示の文脈では、メモリは、コンピュータおよび/またはプロセッサプログラムを含有もしくは記憶する、電子、磁気、光学、または他の物理的デバイスもしくは手段である、コンピュータ読み取り可能な媒体である。論理および/または情報は、命令実行システム、装置、もしくはデバイスから命令をフェッチし、論理および/または情報に関連付けられた命令を実行することができる、コンピュータベースのシステム、プロセッサ含有システム、または他のシステム等の命令実行システム、装置、またはデバイスによる使用もしくはそれと関連した使用のために、任意のコンピュータ読み取り可能な媒体において具現化されることができる。 When logic is implemented as software and stored in memory, the logic or information can be stored on any computer-readable medium for use by or in association with any processor-related system or method. In the context of this disclosure, memory is a computer-readable medium that is electronic, magnetic, optical, or other physical device or means that contains or stores a computer and/or processor program. The logic and/or information can be embodied in any computer-readable medium for use by or in association with an instruction execution system, apparatus, or device, such as a computer-based system, processor-containing system, or other system that can fetch instructions from the instruction execution system, apparatus, or device and execute the instructions associated with the logic and/or information.

本明細書の文脈では、「コンピュータ読み取り可能な媒体」は、命令実行システム、装置、および/またはデバイスによる使用もしくはそれと関連した使用のために、論理および/または情報に関連付けられたプログラムを記憶し得る、任意の要素であることができる。コンピュータ読み取り可能な媒体は、例えば、限定ではないが、電子、磁気、光学、電磁、赤外線、または半導体システム、装置、もしくはデバイスであることができる。コンピュータ読み取り可能な媒体のより具体的実施例(非包括的リスト)として、ポータブルコンピュータディケット(磁気、コンパクトフラッシュ(登録商標)カード、セキュアデジタル、または均等物)、ランダムアクセスメモリ(RAM)、読み取り専用メモリ(ROM)、消去可能プログラマブル読み取り専用メモリ(EPROM、EEPROM、またはフラッシュメモリ)、ポータブルコンパクトディスク読み取り専用メモリ(CDROM)、デジタルテープ、および他の非一過性媒体が挙げられるであろう。 In the context of this specification, a "computer-readable medium" can be any element that can store programs associated with logic and/or information for use by or in connection with an instruction execution system, apparatus, and/or device. A computer-readable medium can be, for example, but not limited to, an electronic, magnetic, optical, electromagnetic, infrared, or semiconductor system, apparatus, or device. More specific examples (non-exhaustive list) of computer-readable media would include portable computer diskettes (magnetic, compact flash cards, secure digital, or equivalent), random access memory (RAM), read-only memory (ROM), erasable programmable read-only memory (EPROM, EEPROM, or flash memory), portable compact disc read-only memory (CDROM), digital tape, and other non-transitory media.

本明細書に説明される方法の多くは、変形例とともに行われることができる。例えば、方法の多くは、追加の行為を含む、いくつかの行為を省略する、および/または例証もしくは説明されるものと異なる順序で行われ得る。 Many of the methods described herein can be performed with variations. For example, many of the methods can include additional acts, omit certain acts, and/or be performed in a different order than illustrated or described.

上記の種々の実施形態を組み合わせてさらなる実施形態を提供することができる。本明細書中において言及した、および/または出願データシートに列挙した米国特許、米国特許出願公開、米国特許出願、外国特許、外国特許出願および非特許刊行物は全て、本明細書の具体的教示および定義に矛盾しない限り、それらの全体が引用により本明細書に組み入れられる。実施形態の態様は、なおさらなる実施形態を提供するために、種々の特許、出願、および刊行物のシステム、回路、および概念を利用することが必要である場合には、改変されることができる。 The various embodiments described above can be combined to provide further embodiments. All U.S. patents, U.S. patent application publications, U.S. patent applications, foreign patents, foreign patent applications, and non-patent publications mentioned herein and/or listed in the Application Data Sheet are incorporated herein by reference in their entirety, to the extent not inconsistent with the specific teachings and definitions of this specification. Aspects of the embodiments can be modified, where necessary, to utilize systems, circuits, and concepts of the various patents, applications, and publications to provide still further embodiments.

これらおよび他の変更が、上記に詳述される説明に照らして、実施形態に成されることができる。概して、以下の請求項では、使用される用語は、請求項を、本明細書および請求項で開示される具体的実施形態に限定するように解釈されるべきではないが、そのような請求項が権利を持つ均等物の全範囲とともに、全ての可能な実施形態を含むように解釈されるべきである。故に、請求項は、本開示によって限定されない。 These and other changes can be made to the embodiments in light of the description detailed above. Generally, in the following claims, the terms used should not be construed to limit the claims to the specific embodiments disclosed in the specification and claims, but should be construed to include all possible embodiments, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled. Therefore, the claims are not limited by this disclosure.

さらに、上記で説明される種々の実施形態は、さらなる実施形態を提供するように組み合わせられることができる。その上さらなる実施形態を提供するために、種々の特許、出願、および出版物の概念を採用するように、必要であれば、実施形態の側面を修正されることができる。 Furthermore, the various embodiments described above can be combined to provide further embodiments. Moreover, aspects of the embodiments can be modified, if necessary, to employ concepts from the various patents, applications, and publications to provide further embodiments.

これらおよび他の変更が、上記に詳述される説明に照らして、実施形態に成されることができる。概して、以下の請求項では、使用される用語は、請求項を、本明細書および請求項で開示される具体的実施形態に限定するように解釈されるべきではないが、そのような請求項が権利を持つ均等物の全範囲とともに、全ての可能な実施形態を含むように解釈されるべきである。故に、請求項は、本開示によって限定されない。 These and other changes can be made to the embodiments in light of the description detailed above. Generally, in the following claims, the terms used should not be construed to limit the claims to the specific embodiments disclosed in the specification and claims, but should be construed to include all possible embodiments, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled. Therefore, the claims are not limited by this disclosure.

Claims (20)

3次元仮想現実ディスプレイシステムおよび/または拡張現実ディスプレイシステムにおける使用のための回折光学要素であって、1. A diffractive optical element for use in a three dimensional virtual reality and/or augmented reality display system, comprising:
前記回折光学要素は、The diffractive optical element comprises:
第1の基板であって、前記第1の基板は、第1の領域と第2の領域とを有する、第1の基板と、a first substrate, the first substrate having a first region and a second region;
前記第1の基板上に配置されている第1の層とa first layer disposed on the first substrate;
を備え、Equipped with
前記第1の層は、The first layer comprises:
第1の深度を有する第1の回折光学要素であって、前記第1の基板の前記第1の領域上に配置されている第1の回折光学要素と、a first diffractive optical element having a first depth, the first diffractive optical element being disposed on the first region of the first substrate;
第2の深度を有する第2の回折光学要素であって、前記第1の基板の前記第2の領域上に配置されている第2の回折光学要素とa second diffractive optical element having a second depth, the second diffractive optical element being disposed on the second region of the first substrate; and
を有し、having
前記第1の深度は、前記第2の深度とは異なる、回折光学要素。The first depth is different from the second depth.
前記第1の回折光学要素は、第1の光学指数を有し、the first diffractive optical element has a first optical index;
前記第2の回折光学要素は、前記第1の光学指数とは異なる第2の光学指数を有する、請求項1に記載の回折光学要素。The diffractive optical element of claim 1 , wherein the second diffractive optical element has a second optical index different from the first optical index.
前記第1の回折光学要素は、第1の回折パターンを有し、the first diffractive optical element has a first diffractive pattern;
前記第2の回折光学要素は、前記第1の回折パターンとは異なる第2の回折パターンを有する、請求項1に記載の回折光学要素。The diffractive optical element of claim 1 , wherein the second diffractive optical element has a second diffractive pattern that is different from the first diffractive pattern.
前記第1の回折光学要素は、第1の光学機能を有し、the first diffractive optical element has a first optical function;
前記第2の回折光学要素は、第2の光学機能を有する、請求項1に記載の回折光学要素。The diffractive optical element of claim 1 , wherein the second diffractive optical element has a second optical function.
前記第1の光学機能は、内部結合であり、the first optical function is internal coupling;
前記第2の光学機能は、直交瞳拡大または射出瞳拡大である、請求項4に記載の回折光学要素。The diffractive optical element of claim 4 , wherein the second optical function is orthogonal pupil expansion or exit pupil expansion.
前記第1の回折光学要素は、内部結合格子であり、the first diffractive optical element is an internal coupling grating;
前記第2の回折光学要素は、直交瞳拡大素子または射出瞳拡大素子である、請求項1に記載の回折光学要素。The diffractive optical element of claim 1 , wherein the second diffractive optical element is an orthogonal pupil expander or an exit pupil expander.
前記第1の回折光学要素は、第1の屈折率を有し、the first diffractive optical element has a first refractive index;
前記第2の回折光学要素は、前記第1の屈折率とは異なる第2の屈折率を有する、請求項1に記載の回折光学要素。The diffractive optical element of claim 1 , wherein the second diffractive optical element has a second refractive index different from the first refractive index.
前記第1の基板は、基板屈折率を有し、the first substrate has a substrate refractive index;
前記第1の屈折率の値は、前記第2の屈折率の値および前記第1の基板の前記基板屈折率よりも小さく、the first refractive index value is less than the second refractive index value and the substrate refractive index of the first substrate;
前記基板屈折率の値は、前記第2の屈折率の値よりも小さい、請求項7に記載の回折光学要素。The diffractive optical element of claim 7 , wherein the substrate refractive index value is less than the second refractive index value.
前記回折光学要素は、前記第1の層の上方に配置されている第2の層をさらに備え、the diffractive optical element further comprises a second layer disposed above the first layer;
前記第2の層は、The second layer comprises:
第1の屈折率を有する第1の材料を含む第1の領域と、a first region including a first material having a first refractive index;
第2の屈折率を有する第2の材料を含む第2の領域とa second region including a second material having a second refractive index;
を備え、Equipped with
前記第1の基板は、第3の屈折率を有する第3の材料を含み、the first substrate includes a third material having a third refractive index;
前記第1の屈折率の値および前記第2の屈折率の値および前記第3の屈折率の値は、回折効率に対する第1の要件、または、前記回折光学要素によって提供される視野に対する第2の要件に少なくとも部分的に基づいて選択される、請求項1に記載の回折光学要素。2. The diffractive optical element of claim 1, wherein the first refractive index value, the second refractive index value, and the third refractive index value are selected based at least in part on a first requirement for diffraction efficiency or a second requirement for a field of view provided by the diffractive optical element.
請求項1に記載の回折光学要素を備える接眼レンズ。An eyepiece comprising a diffractive optical element according to claim 1. 前記接眼レンズは、The eyepiece lens is
前記回折光学要素の上部にスタックされている第1のレンズと、a first lens stacked on top of the diffractive optical element; and
前記第1のレンズの上部にスタックされている第2の回折光学要素とa second diffractive optical element stacked on top of the first lens; and
をさらに備え、Further equipped with
前記回折光学要素は、前記第2の回折光学要素よりも視認者の眼に近い、請求項10に記載の接眼レンズ。The eyepiece of claim 10 , wherein the diffractive optical element is closer to the viewer's eye than the second diffractive optical element.
前記回折光学要素は、第1の焦点距離を伴う第1の焦点平面を画定し、the diffractive optical element defines a first focal plane with a first focal length;
前記第2の回折光学要素は、第2の基板を備え、前記第2の回折光学要素は、前記第1の焦点距離よりも小さい第2の焦点距離を伴う第2の焦点平面を画定し、the second diffractive optical element comprises a second substrate, the second diffractive optical element defining a second focal plane with a second focal length that is smaller than the first focal length;
前記第2の回折光学要素は、前記第1のレンズによって前記第1の回折光学要素から分離されている、請求項11に記載の接眼レンズ。The eyepiece of claim 11 , wherein the second diffractive optical element is separated from the first diffractive optical element by the first lens.
前記接眼レンズは、The eyepiece lens is
前記第2の回折光学要素の上部にスタックされている第2のレンズと、a second lens stacked on top of the second diffractive optical element; and
前記第2のレンズの上部にスタックされている第3の回折光学要素とa third diffractive optical element stacked on top of the second lens; and
をさらに備え、Further equipped with
前記第3の回折光学要素は、前記第2の回折光学要素よりも前記視認者の眼から離れて配置されている、請求項12に記載の接眼レンズ。The eyepiece of claim 12 , wherein the third diffractive optical element is positioned farther from the viewer's eye than the second diffractive optical element.
前記第3の回折光学要素は、前記第2の焦点距離よりも小さい第3の焦点距離を伴う第3の焦点平面を画定する、請求項13に記載の接眼レンズ。The eyepiece of claim 13 , wherein the third diffractive optical element defines a third focal plane with a third focal length that is smaller than the second focal length. 前記接眼レンズは、前記第3の回折光学要素の上部にスタックされている補償レンズをさらに備え、the eyepiece further comprises a compensation lens stacked on top of the third diffractive optical element;
前記補償レンズは、前記第1のレンズおよび前記第2のレンズの総屈折率に少なくとも部分的に基づいて選択される、請求項13に記載の接眼レンズ。The eyepiece of claim 13 , wherein the compensation lens is selected based at least in part on the total refractive index of the first lens and the second lens.
前記接眼レンズは、The eyepiece lens is
前記第3の回折光学要素の上部にスタックされている追加のレンズと、an additional lens stacked on top of the third diffractive optical element; and
前記追加のレンズの上部にスタックされている1つ以上の追加の回折光学要素とone or more additional diffractive optical elements stacked on top of the additional lens;
をさらに備える、請求項13に記載の接眼レンズ。The eyepiece of claim 13 further comprising:
前記接眼レンズは、前記1つ以上の追加の回折光学要素の上部にスタックされている補償レンズをさらに備え、the eyepiece further comprises a compensating lens stacked on top of the one or more additional diffractive optical elements;
前記補償レンズは、前記接眼レンズにおいて回折光学層を分離しているレンズの総屈折率に少なくとも部分的に基づいて選択される、請求項16に記載の接眼レンズ。17. The eyepiece of claim 16, wherein the compensating lens is selected based at least in part on the total refractive index of lenses separating diffractive optical layers in the eyepiece.
前記回折光学要素および前記第2の回折光学要素および前記第3の回折光学要素のうちの少なくとも2つは、前記第1の焦点平面および前記第2の焦点平面および前記第3の焦点平面に加えて、少なくとも1つの追加の焦点平面を作成するように多重化されている、請求項13に記載の接眼レンズ。14. The eyepiece of claim 13, wherein at least two of the diffractive optical element, the second diffractive optical element, and the third diffractive optical element are multiplexed to create at least one additional focal plane in addition to the first focal plane, the second focal plane, and the third focal plane. 前記第1の基板は、第1の転写パターンを有し、the first substrate has a first transfer pattern;
前記第2の基板は、第2の転写パターンを有する、請求項12に記載の接眼レンズ。The eyepiece of claim 12 , wherein the second substrate has a second transfer pattern.
前記接眼レンズは、前記第1の層が堆積されている表面とは反対側にある反対表面に配置されている第2の層をさらに備え、the eyepiece further comprises a second layer disposed on an opposing surface opposite the surface on which the first layer is disposed;
前記第2の層は、The second layer comprises:
第1の屈折率を有する第1の材料を含む第1の領域と、a first region including a first material having a first refractive index;
第2の屈折率を有する第2の材料を含む第2の領域とa second region including a second material having a second refractive index;
を備える、請求項10に記載の接眼レンズ。The eyepiece of claim 10, comprising:
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