JP2024085734A - Composition and photosensitive composition - Google Patents

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JP2024085734A
JP2024085734A JP2022200421A JP2022200421A JP2024085734A JP 2024085734 A JP2024085734 A JP 2024085734A JP 2022200421 A JP2022200421 A JP 2022200421A JP 2022200421 A JP2022200421 A JP 2022200421A JP 2024085734 A JP2024085734 A JP 2024085734A
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一樹 浦川
拓郎 浅羽
秀樹 西條
博樹 千坂
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Abstract

【課題】ムラが抑制された硬化膜を与える組成物、及び感光性組成物と、当該感光性組成物の硬化物と、当該感光性組成物を用いた硬化膜の製造方法とを提供すること。
【解決手段】光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)とを含み、前記光重合性化合物(A)が、芳香環含有重合性化合物(A1)と、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)とを含む、組成物。
【選択図】なし
The present invention provides a composition that provides a cured film with reduced unevenness, a photosensitive composition, a cured product of the photosensitive composition, and a method for producing a cured film using the photosensitive composition.
[Solution] A composition comprising a photopolymerizable compound (A) and inorganic fine particles (B), wherein the photopolymerizable compound (A) comprises an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and a polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure.
[Selection diagram] None

Description

本発明は、光重合性化合物(A)と無機微粒子(B)とを含む組成物、及び感光性組成物と、当該感光性組成物の硬化物と、当該感光性組成物を用いた硬化膜の製造方法とに関する。 The present invention relates to a composition containing a photopolymerizable compound (A) and inorganic fine particles (B), a photosensitive composition, a cured product of the photosensitive composition, and a method for producing a cured film using the photosensitive composition.

従来より、光学部材の形成に、高屈折率材料が用いられている。高屈折材料として、例えば、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子を有機成分中に分散させた組成物が用いられている。
このような高屈折材料を形成するための組成物として、特定の粒子径の金属酸化物(A)と、(メタ)アクリレート(B)と、光重合開始剤(C)とを含有するエネルギー線硬化性組成物が提案されている(特許文献1参照)。
High refractive index materials have been used for forming optical members, such as compositions in which particles of metal oxides, such as titanium oxide or zirconium oxide, are dispersed in an organic component.
As a composition for forming such a highly refractive material, an energy ray-curable composition containing a metal oxide (A) having a specific particle size, a (meth)acrylate (B), and a photopolymerization initiator (C) has been proposed (see Patent Document 1).

特開2017-214465号公報JP 2017-214465 A

特許文献1に記載されているような感光性組成物において、感度を高めて良好な硬化膜を形成するために、多官能(メタ)アクリレート化合物を使用する場合がある。しかし、多官能(メタ)アクリレート化合物を使用した感光性組成物をインクジェット印刷法により塗布すると、硬化膜にムラが生じやすいという問題がある。 In photosensitive compositions such as those described in Patent Document 1, a multifunctional (meth)acrylate compound may be used to increase sensitivity and form a good cured film. However, when a photosensitive composition using a multifunctional (meth)acrylate compound is applied by inkjet printing, there is a problem that unevenness is likely to occur in the cured film.

本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、ムラが抑制された硬化膜を与える組成物、及び感光性組成物と、当該感光性組成物の硬化物と、当該感光性組成物を用いた硬化膜の製造方法とを提供することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of the above problems, and aims to provide a composition that gives a cured film with reduced unevenness, a photosensitive composition, a cured product of the photosensitive composition, and a method for producing a cured film using the photosensitive composition.

本発明者らは、光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)とを含む組成物、又は光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)と、開始剤(C)とを含む感光性組成物において、光重合性化合物(A)として、芳香環含有重合性化合物(A1)とともに、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)を用いることにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には本発明は以下のものを提供する。 The present inventors have found that the above problems can be solved by using a polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure together with an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) as the photopolymerizable compound (A) in a composition containing a photopolymerizable compound (A) and inorganic fine particles (B), or in a photosensitive composition containing a photopolymerizable compound (A), inorganic fine particles (B), and an initiator (C), and have thus completed the present invention. Specifically, the present invention provides the following.

[1]光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)とを含み、
前記光重合性化合物(A)が、芳香環含有重合性化合物(A1)と、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)とを含む、組成物。
[1] A photopolymerizable compound (A) and inorganic fine particles (B),
The composition, wherein the photopolymerizable compound (A) comprises an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and a polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure.

[2]前記重合性化合物(A2)が、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する(メタ)アクリレート化合物である、[1]に記載の組成物。 [2] The composition described in [1], in which the polymerizable compound (A2) is a (meth)acrylate compound having a hyperbranched structure or a dendrimer structure.

[3]前記芳香環含有重合性化合物(A1)が、下記式(A1-1)で表される化合物、下記式(A1-2)で表される化合物、下記式(A1-3)で表される化合物、及び下記式(A1-4)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種である、[1]又は[2]に記載の組成物。
a101-(Xa103-Xa102ma12-(Xa101ma11-Ara101-((Xa104ma13-(Xa105))ma14・・・(A1-1)
(式(A1-1)中、Ara101は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数7以上12以下である、(ma14+1)価の芳香族基であり、Ra101は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa101は、O、又はSであり、Xa102は、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基であり、Xa103は、O、又はSであり、Xa104は、O、又はSであり、Xa105は、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキル基であり、ma11は、0又は1であり、ma12は、0又は1であり、ma13は、0又は1であり、ma14は0以上の整数であり、Xa101、Xa103、及びXa104としてのO及び/又はSの数と、Xa102及びXa105に含まれるO及び/又はSの数との合計が3以上である。)
a201-Xa203-Ra202-(Xa201ma21-Ph21-S-Ph22-(Xa202ma22-Ra204-Xa204-Ra203・・・(A1-2)
(式(A1-2)中、Ra201、及びRa203は、それぞれ独立に、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Ra202、及びRa204は、それぞれ独立に、1以上のO、及び/又はSで中断されていてもよいアルキレン基であり、Xa201、Xa202、Xa203、及びXa204は、それぞれ独立にO又はSであり、Ph21、及びPh22は、それぞれ独立に、炭素原子数1以上5以下のアルキル基で置換されていてもよいフェニレン基であり、ma21は、0又は1であり、ma22は、0又は1であり、前記式(A1-2)で表される化合物は、ラジカル重合性基含有基、及びカチオン重合性基含有基を同時に有さない。)
a301-Ra302-Xa301-Ph31-CO-O-Ra303・・・(A1-3)
(式(A1-3)中、Ra301は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa301は、O又はSであり、Ra302は、単結合、又は2価の連結基であり、Ra303は、ベンジル基、又はフェネチル基であり、Ph31は、フェニレン基である。)
(Ra401-Xa401-Ra402ma41-Ara401-C(=O)-Ara402-(Ra403-Xa402-Ra404ma42・・・(A1-4)
(式(A1-4)中、Ara401は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数6以上12以下である、(ma41+1)価の芳香族基であり、Ara402は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数6以上12以下である、(ma42+1)価の芳香族基であり、Ra401、及びRa404は、それぞれ独立に、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa401、及びXa402は、それぞれ独立に、O、又はSであり、Ra402、及びRa403は、それぞれ独立に、アルキレン基であり、ma41は、1以上3以下の整数であり、ma42は、0以上3以下の整数である。)
[3] The composition according to [1] or [2], wherein the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) is at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (A1-1), a compound represented by the following formula (A1-2), a compound represented by the following formula (A1-3), and a compound represented by the following formula (A1-4):
R a101 - (X a103 -X a102 ) ma12 - (X a101 ) ma11 - Ar a101 - ( (X a104 ) ma13 - (X a105 ) ) ma14 ... (A1-1)
(In formula (A1-1), Ar a101 is an aromatic group having 7 to 12 carbon atoms and a valence of (ma14+1), which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; R a101 is a radical polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group; X a101 is O or S; X a102 is an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S; X a103 is O or S; X a104 is O or S; X a105 is an alkyl group which may be interrupted by one or more O and/or S; ma11 is 0 or 1; ma12 is 0 or 1; ma13 is 0 or 1; ma14 is an integer of 0 or greater; X a101 , X a103 , and X The total number of O and/or S as a104 and the number of O and/or S contained in X a102 and X a105 is 3 or more.
R a201 -X a203 -R a202 -(X a201 ) m a21 -Ph 21 -S-Ph 22 -(X a202 ) m a22 -R a204 -X a204 -R a203 ... (A1-2)
(In formula (A1-2), R a201 and R a203 are each independently a radical polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group, R a202 and R a204 are each independently an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S, X a201 , X a202 , X a203 and X a204 are each independently O or S, Ph 21 and Ph 22 are each independently a phenylene group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, ma21 is 0 or 1, ma22 is 0 or 1, and the compound represented by formula (A1-2) does not simultaneously have a radical polymerizable group-containing group and a cationically polymerizable group-containing group.)
R a301 -R a302 -X a301 -Ph 31 -CO-O-R a303 ... (A1-3)
(In formula (A1-3), R a301 is a radically polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group, X a301 is O or S, R a302 is a single bond or a divalent linking group, R a303 is a benzyl group or a phenethyl group, and Ph 31 is a phenylene group.)
(R a401 -X a401 -R a402 ) ma41 -Ar a401 -C(=O)-Ar a402 -(R a403 -X a402 -R a404 ) ma42 ... (A1-4)
In formula (A1-4), Ar a401 is an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms and a valence of (ma41+1) which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; Ar a402 is an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms and a valence of (ma42+1) which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; R a401 and R a404 are each independently a radical polymerizable group-containing group or a cation polymerizable group-containing group; X a401 and X a402 are each independently O or S; R a402 and R Each a403 is independently an alkylene group, ma41 is an integer of 1 or more and 3 or less, and ma42 is an integer of 0 or more and 3 or less.

[4]前記無機微粒子(B)が、金属酸化物微粒子(B1)を含み、
前記金属酸化物微粒子(B1)が、酸化チタン微粒子、酸化ジルコニウム微粒子、及び酸化ニオブ微粒子からなる群より選択される少なくとも1種を含む、[1]~[3]のいずれか1つに記載の組成物。
[4] The inorganic fine particles (B) contain metal oxide fine particles (B1),
The composition according to any one of [1] to [3], wherein the metal oxide fine particles (B1) include at least one selected from the group consisting of titanium oxide fine particles, zirconium oxide fine particles, and niobium oxide fine particles.

[5]溶媒(S)を含み、
インクジェットインクとして用いられる、[1]~[4]のいずれか1つに記載の組成物。
[5] A solvent (S),
The composition according to any one of [1] to [4], which is used as an ink-jet ink.

[6]光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)と、開始剤(C)とを含み、
前記光重合性化合物(A)が、芳香環含有重合性化合物(A1)と、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)とを含む、感光性組成物。
[6] A composition comprising a photopolymerizable compound (A), inorganic fine particles (B), and an initiator (C),
The photosensitive composition, wherein the photopolymerizable compound (A) comprises an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and a polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure.

[7][6]に記載の感光性組成物の硬化物。 [7] A cured product of the photosensitive composition described in [6].

[8][6]に記載の感光性組成物を基板上に塗布して塗布膜を成形することと、
前記塗布膜を露光することと、
を含む硬化膜の製造方法。
[8] Coating the photosensitive composition according to [6] on a substrate to form a coating film;
exposing the coating film to light;
A method for producing a cured film comprising the steps of:

[9]前記感光性組成物の塗布が、インクジェット印刷法により行われる、[8]に記載の硬化膜の製造方法。 [9] The method for producing a cured film according to [8], in which the photosensitive composition is applied by an inkjet printing method.

本発明によれば、ムラが抑制された硬化膜を与える組成物、及び感光性組成物と、当該感光性組成物の硬化物と、当該感光性組成物を用いた硬化膜の製造方法とを提供することができる。 The present invention provides a composition that provides a cured film with reduced unevenness, a photosensitive composition, a cured product of the photosensitive composition, and a method for producing a cured film using the photosensitive composition.

≪組成物≫
組成物は、光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)とを含む。かかる組成物は、実質的に無機微粒子分散組成物であり、適宜、光重合性化合物(A)を硬化させる開始剤を配合された後に、無機微粒子(B)の種類に応じた性質を有する機能性材料の形成に用いられる。
光重合性化合物(A)は、芳香環含有重合性化合物(A1)と、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)とを含む。
組成物が、芳香環含有重合性化合物(A1)に加えて、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)を含むことにより、ムラが抑制された硬化膜を与える。
以下、組成物が含みうる、必須、又は任意の成分について説明する。
<Composition>
The composition contains a photopolymerizable compound (A) and inorganic fine particles (B). Such a composition is essentially an inorganic fine particle dispersion composition, and is used to form a functional material having properties according to the type of inorganic fine particles (B) after appropriately blending an initiator for curing the photopolymerizable compound (A).
The photopolymerizable compound (A) contains an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and a polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure.
The composition contains the polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure in addition to the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1), and thus provides a cured film with reduced unevenness.
The following describes essential and optional components that the composition may contain.

<光重合性化合物(A)>
組成物は、光重合性化合物(A)を含む。光重合性化合物(A)は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基を有する化合物である。
<Photopolymerizable Compound (A)>
The composition contains a photopolymerizable compound (A). The photopolymerizable compound (A) is a compound having a radical polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group.

ラジカル重合性基含有基としては、典型的には、エチレン性不飽和二重結合を含有する基が挙げられる。エチレン性不飽和二重結合含有基としては、ビニル基、及びアリル基等のアルケニル基を含むアルケニル基含有基が好ましく、(メタ)アクリロイル基含有基がより好ましい。
カチオン重合性基含有基としては、典型的には、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、ビニルオキシ基含有基、及びビニルチオ基含有基等が挙げられる。これらの中では、エポキシ基含有基、及びビニルオキシ基含有基が好ましい。エポキシ基含有基としては、脂環式エポキシ基含有基や、グリシジル基が好ましい。なお、脂環式エポキシ基とは、脂肪族環式基において隣接する環構成原子としての2つの炭素原子が酸素原子を介して結合している脂肪族環式基である。つまり、脂環式エポキシ基は、脂肪族環上に、2つの炭素原子と1つの酸素原子とからなる3員環を含むエポキシ基を有する。
The radical polymerizable group-containing group typically includes a group containing an ethylenically unsaturated double bond. As the ethylenically unsaturated double bond-containing group, a vinyl group or an alkenyl group-containing group including an alkenyl group such as an allyl group is preferable, and a (meth)acryloyl group-containing group is more preferable.
The cationic polymerizable group-containing group typically includes an epoxy group-containing group, an oxetanyl group-containing group, a vinyloxy group-containing group, and a vinylthio group-containing group. Among these, the epoxy group-containing group and the vinyloxy group-containing group are preferred. As the epoxy group-containing group, an alicyclic epoxy group-containing group and a glycidyl group are preferred. Note that the alicyclic epoxy group is an aliphatic cyclic group in which two carbon atoms as adjacent ring constituent atoms in the aliphatic cyclic group are bonded via an oxygen atom. In other words, the alicyclic epoxy group has an epoxy group containing a three-membered ring consisting of two carbon atoms and one oxygen atom on the aliphatic ring.

本出願の明細書及び特許請求の範囲において、(メタ)アクリルは、アクリル、及びメタクリルの双方を意味し、(メタ)アクリロイルは、アクリロイル、及びメタクリロイルの双方を意味し、(メタ)アクリレートは、アクリレート、及びメタクリレートの双方を意味する。 In the specification and claims of this application, (meth)acrylic means both acrylic and methacrylic, (meth)acryloyl means both acryloyl and methacryloyl, and (meth)acrylate means both acrylate and methacrylate.

〔芳香環含有重合性化合物(A1)〕
前述の通り、光重合性化合物(A)は、芳香環含有重合性化合物(A1)を含む。
芳香環含有重合性化合物(A1)において、1分子中のラジカル重合性基含有基、及びカチオン重合性基含有基の数の合計は、特に限定されないが、例えば6以下、4以下、又は2以下である。
[Aromatic Ring-Containing Polymerizable Compound (A1)]
As described above, the photopolymerizable compound (A) contains an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1).
In the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1), the total number of radically polymerizable group-containing groups and cationic polymerizable group-containing groups in one molecule is not particularly limited, but is, for example, 6 or less, 4 or less, or 2 or less.

芳香環含有重合性化合物(A1)が含有する芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、ビフェニル環等の芳香族炭化水素環;フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環などの芳香族複素環;が挙げられる。なかでも、芳香族炭化水素環が好ましく、ベンゼン環、ビフェニル環がより好ましい。 Examples of the aromatic ring contained in the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) include aromatic hydrocarbon rings such as a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a biphenyl ring; and aromatic heterocycles such as a furan ring, a pyrrole ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a thiazole ring, and a benzothiazole ring. Among these, aromatic hydrocarbon rings are preferred, and a benzene ring and a biphenyl ring are more preferred.

芳香環含有重合性化合物(A1)において、1分子中のO原子、及びS原子の数の合計は、好ましくは1以上、より好ましくは2以上、さらに好ましくは3以上である。上記合計の上限は、特に限定されないが、例えば10である。 In the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1), the total number of O atoms and S atoms in one molecule is preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and even more preferably 3 or more. The upper limit of the total is not particularly limited, but is, for example, 10.

芳香環含有重合性化合物(A1)は、本発明の効果がより良好に得られやすい点から、下記式(A1-1)で表される化合物、下記式(A1-2)で表される化合物、下記式(A1-3)で表される化合物、及び下記式(A1-4)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。 From the viewpoint of more easily achieving the effects of the present invention, the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) is preferably at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (A1-1), a compound represented by the following formula (A1-2), a compound represented by the following formula (A1-3), and a compound represented by the following formula (A1-4).

本出願の明細書において、式(A1-1)で表される化合物を「化合物(A1-1)」、式(A1-2)で表される化合物を「化合物(A1-2)」、式(A1-3)で表される化合物を「化合物(A1-3)」、式(A1-4)で表される化合物を「化合物(A1-4)」とも記す。 In the specification of this application, the compound represented by formula (A1-1) is also referred to as "compound (A1-1)", the compound represented by formula (A1-2) is also referred to as "compound (A1-2)", the compound represented by formula (A1-3) is also referred to as "compound (A1-3)", and the compound represented by formula (A1-4) is also referred to as "compound (A1-4)".

[化合物(A1-1)]
a101-(Xa103-Xa102ma12-(Xa101ma11-Ara101-((Xa104ma13-(Xa105))ma14・・・(A1-1)
(式(A1-1)中、Ara101は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数7以上12以下である、(ma14+1)価の芳香族基であり、Ra101は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa101は、O、又はSであり、Xa102は、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基であり、Xa103は、O、又はSであり、Xa104は、O、又はSであり、Xa105は、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキル基であり、ma11は、0又は1であり、ma12は、0又は1であり、ma13は、0又は1であり、ma14は0以上の整数であり、Xa101、Xa103、及びXa104としてのO及び/又はSの数と、Xa102及びXa105に含まれるO及び/又はSの数との合計が3以上である。)
[Compound (A1-1)]
R a101 - (X a103 -X a102 ) ma12 - (X a101 ) ma11 - Ar a101 - ( (X a104 ) ma13 - (X a105 ) ) ma14 ... (A1-1)
(In formula (A1-1), Ar a101 is an aromatic group having 7 to 12 carbon atoms and a valence of (ma14+1), which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; R a101 is a radical polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group; X a101 is O or S; X a102 is an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S; X a103 is O or S; X a104 is O or S; X a105 is an alkyl group which may be interrupted by one or more O and/or S; ma11 is 0 or 1; ma12 is 0 or 1; ma13 is 0 or 1; ma14 is an integer of 0 or greater; X a101 , X a103 , and X The total number of O and/or S as a104 and the number of O and/or S contained in X a102 and X a105 is 3 or more.

式(A1-1)中、Ara101は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数7以上12以下である、(ma14+1)価の芳香族基である。
当該芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても、芳香族複素環基であってもよい。
当該芳香族基としては、ナフタレン、及びビフェニル等の芳香族炭化水素から(ma14+1)個の水素原子を除いた基や、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、キナゾリン、フタラジン、ナフチリジン、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、イソインドール、及びイソベンゾフラン等の芳香族複素環化合物から(ma14+1)個の水素原子を除いた基が挙げられる。
In formula (A1-1), Ar a101 is a (ma14+1)-valent aromatic group having 7 to 12 carbon atoms and which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom.
The aromatic group may be an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group.
Examples of the aromatic group include groups obtained by removing (ma14+1) hydrogen atoms from aromatic hydrocarbons such as naphthalene and biphenyl, and groups obtained by removing (ma14+1) hydrogen atoms from aromatic heterocyclic compounds such as quinoline, isoquinoline, quinoxaline, cinnoline, quinazoline, phthalazine, naphthyridine, benzoxazole, benzothiazole, benzimidazole, indole, benzofuran, benzothiophene, isoindole, and isobenzofuran.

Ara101としての芳香族基は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよい。
Ara101としての芳香族基に結合する、置換基の数は特に限定されない。
炭素原子数1以上5以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、sec-ペンチル基、及びtert-ペンチル基が挙げられる。これらの基の中では、メチル基、及びエチル基が好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
以上説明したAra101としての芳香族基としては、ナフタレン、ビフェニル、キノリン、及びベンゾチアゾールから(ma14+1)個の水素原子を除いた基が好ましい。
また、組成物を用いて形成される材料に高屈折率を付与したい場合、Ara101としての芳香族基が、シアノ基で置換されているのが好ましい。
The aromatic group represented by Ar a101 may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having from 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom.
The number of substituents bonded to the aromatic group represented by Ar a101 is not particularly limited.
Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a sec-pentyl group, and a tert-pentyl group. Of these groups, a methyl group and an ethyl group are preferred.
Halogen atoms include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms.
As the aromatic group represented by Ar a101 described above, groups in which (ma14+1) hydrogen atoms have been removed from naphthalene, biphenyl, quinoline, and benzothiazole are preferred.
When it is desired to impart a high refractive index to a material formed using the composition, the aromatic group represented by Ar a101 is preferably substituted with a cyano group.

a101は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基である。ラジカル重合性基、及びカチオン重合性基については前述した通りである。Ra101としてのラジカル重合性基含有基としては、(メタ)アクリロイル基含有基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。Ra101としてのカチオン重合性基含有基としては、ビニル基、ビニルオキシ基含有基、及びエポキシ基含有基が好ましく、ビニル基、エポキシ基含有基がより好ましく、脂環式エポキシ基含有基、及びグリシジル基が好ましい。
ビニル基は、一般的にはラジカル重合性基であるが、式(A1-1)において、Ra101がビニル基である場合、当該ビニル基は、O又はSであるXa103とともに、カチオン重合性基である、ビニルオキシ基、又はビニルチオ基を形成する。このため、式(A1-1)において、Ra101としてのビニル基は、ラジカル重合性基ではなく、カチオン重合性基とする。
R a101 is a radical polymerizable group-containing group or a cationic polymerizable group-containing group. The radical polymerizable group and the cationic polymerizable group are as described above. The radical polymerizable group as R a101 is preferably a (meth)acryloyl group-containing group, more preferably a (meth)acryloyl group. The cationic polymerizable group as R a101 is preferably a vinyl group, a vinyloxy group-containing group, or an epoxy group-containing group, more preferably a vinyl group or an epoxy group-containing group, and is preferably an alicyclic epoxy group-containing group or a glycidyl group.
A vinyl group is generally a radically polymerizable group, but in formula (A1-1), when R a101 is a vinyl group, the vinyl group forms a cationically polymerizable group, that is, a vinyloxy group or a vinylthio group, together with X a103 which is O or S. For this reason, in formula (A1-1), the vinyl group as R a101 is a cationically polymerizable group, not a radically polymerizable group.

a102は、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基である。Xa102は、1以上のO、及び/又はSで中断されたアルキレン基であるのが好ましい。
a105は、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキル基である。Xa105は、1以上のO、及び/又はSで中断されたアルキル基であるのが好ましい。
a102としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基、及びXa105としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキル基の炭素原子数は、それぞれ、所望する効果が損なわれない範囲で特に限定されない。
X a102 is an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S. X a102 is preferably an alkylene group interrupted by one or more O and/or S.
X a105 is an alkyl group which may be interrupted by one or more O and/or S. X a105 is preferably an alkyl group interrupted by one or more O and/or S.
The number of carbon atoms in the alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S as Xa102 and the alkyl group which may be interrupted by one or more O and/or S as Xa105 are each not particularly limited as long as the desired effect is not impaired.

a102としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基、及びXa105としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキル基は、それぞれ、炭素原子数1以上4以下のアルキレン基、炭素原子数1以上4以下のアルカントリイル基、及び炭素原子数1以上4以下のアルキル基から選択されるma個の脂肪族鎖状飽和炭化水素基と、ma個の前記脂肪族鎖状飽和炭化水素基を連結する(ma-1)個のO及び/又はSとからなる基であるのが好ましい。
ここで、maは2以上6以下の整数である。
The alkylene group as Xa102 which may be interrupted by one or more O and/or S, and the alkyl group as Xa105 which may be interrupted by one or more O and/or S, are each preferably a group consisting of ma aliphatic chain saturated hydrocarbon groups selected from an alkylene group having from 1 to 4 carbon atoms, an alkanetriyl group having from 1 to 4 carbon atoms, and an alkyl group having from 1 to 4 carbon atoms, and (ma-1) O and/or S linking the ma aliphatic chain saturated hydrocarbon groups.
Here, ma is an integer between 2 and 6.

炭素原子数1以上4以下のアルキレン基の好適な例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,2-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、及びブタン-1,4-ジイル基が挙げられる。これらの基の中では、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)、プロパン-1,2-ジイル基、及びプロパン-1,3-ジイル基が好ましい。
炭素原子数1以上4以下のアルカントリイル基の好ましい例としては、プロパン-1,2,3-トリイル基、ブタン-1,2,3-トリイル基、及びブタン-1,2,4-トリイル基が挙げられる。これらの基の中では、プロパン-1,2,3-トリイル基が好ましい。
炭素原子数1以上4以下のアルキル基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、及びtert-ブチル基が挙げられる。これらの基の中はでは、メチル基、及びエチル基が好ましい。
Suitable examples of the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms include a methylene group, an ethane-1,2-diyl group (ethylene group), a propane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,2-diyl group, a butane-1,3-diyl group, and a butane-1,4-diyl group. Of these groups, an ethane-1,2-diyl group (ethylene group), a propane-1,2-diyl group, and a propane-1,3-diyl group are preferred.
Preferred examples of the alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms include a propane-1,2,3-triyl group, a butane-1,2,3-triyl group, and a butane-1,2,4-triyl group. Of these groups, a propane-1,2,3-triyl group is preferred.
Preferred examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Among these groups, a methyl group and an ethyl group are preferred.

a102としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基は、ma個の炭素原子数1以上4以下のアルキレン基と、ma個のアルキレン基を連結する(ma-1)個のO及び/又はSとからなる基であるのが好ましい。
a105としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキル基は、(ma-1)個の炭素原子数1以上4以下のアルキレン基と、1個の炭素原子数1以上4以下のアルキル基と、(ma-1)個の炭素原子数1以上4以下の前記アルキレン基、及び1個の炭素原子数1以上4以下の前記アルキル基を連結する(ma-1)個のO及び/又はSとからなる基であるのが好ましい。
ここで、maは2以上6以下の整数である。
The alkylene group optionally interrupted by one or more O and/or S as X a102 is preferably a group consisting of ma alkylene groups having 1 to 4 carbon atoms and (ma-1) O and/or S linking the ma alkylene groups.
The alkyl group, which may be interrupted by one or more O and/or S, as X a105 is preferably a group consisting of (ma-1) alkylene groups having from 1 to 4 carbon atoms, one alkyl group having from 1 to 4 carbon atoms, and (ma-1) O and/or S linking the (ma-1) alkylene groups having from 1 to 4 carbon atoms and the one alkyl group having from 1 to 4 carbon atoms.
Here, ma is an integer between 2 and 6.

a102としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基の好適な具体例としては、以下の基が挙げられる。
-CHCH-O-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-C(CH)HCH-O-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-CHCHCH-O-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-CHC(OCH)HCH
-CHC(OCHCH)HCH
-CHC(OCHCHCH)HCH
-CHC(OCHCHCHCH)HCH
-CHCH-S-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-C(CH)HCH-S-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-CHCHCH-S-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-CHC(SCH)HCH
-CHC(SCHCH)HCH
-CHC(SCHCHCH)HCH
-CHC(SCHCHCHCH)HCH
Preferable specific examples of the alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S, as X a102 , include the following groups.
-CH2CH2 - O - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 2 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 3 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 4 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 5 - CH2CH2-
-C( CH3 ) HCH2 -O-C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 2 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 3 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 4 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 5 -C( CH3 ) HCH2-
--CH2CH2CH2 - O - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 2 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 3 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 4 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 5 - CH2CH2CH2-
-CH2C( OCH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2CH2 - S - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 2 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 3 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 4 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 5 - CH2CH2-
-C( CH3 ) HCH2 -S-C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 2 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 3 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 4 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 5 -C( CH3 ) HCH2-
-CH2CH2CH2 - S - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 2 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 3 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 4 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 5 - CH2CH2CH2-
-CH2C( SCH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH2CH2CH3 ) HCH2-

これらの基の中では、
-CHCH-O-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-CHCHCH-O-CHCHCH-、
-CHCH-S-CHCH-、
-(CHCH-S)-CHCH-、及び
-(CHCH-S)-CHCH-が好ましく、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-S)-CHCH-、及び
-(CHCH-S)-CHCH-がより好ましい。
Among these groups,
-CH2CH2 - O - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 -O ) 2 - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - O) 3 -CH2CH2- ,
-CH2CH2CH2 - O - CH2CH2CH2- ,
-CH2CH2 - S - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - S) 2 -CH2CH2- and -( CH2CH2 - S) 3 -CH2CH2- are preferred,
-( CH2CH2 -O ) 2 - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - O) 3 -CH2CH2- ,
--(CH 2 CH 2 --S) 2 --CH 2 CH 2 -- and --(CH 2 CH 2 --S) 3 --CH 2 CH 2 -- are more preferred.

a105としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基の好適な具体例としては、以下の基が挙げられる。
-CHCH-O-CH
-CHCH-O-CHCH
-(CHCH-O)-CH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CH
-(CHCH-O)-CHCH
-C(CH)HCH-O-CH
-C(CH)HCH-O-CHCH
-(C(CH)HCH-O)-CH
-(C(CH)HCH-O)-CHCH
-(C(CH)HCH-O)-CH
-(C(CH)HCH-O)-CHCH
-(C(CH)HCH-O)-CH
-(C(CH)HCH-O)-CHCH
-(C(CH)HCH-O)-CH
-(C(CH)HCH-O)-CHCH
-CHC(CH)H-O-CH
-CHC(CH)H-O-CHCH
-(CHC(CH)H-O)-CH
-(CHC(CH)H-O)-CHCH
-(CHC(CH)H-O)-CH
-(CHC(CH)H-O)-CHCH
-(CHC(CH)H-O)-CH
-(CHC(CH)H-O)-CHCH
-(CHC(CH)H-O)-CH
-(CHC(CH)H-O)-CHCH
-CHCH-S-CH
-CHCH-S-CHCH
-(CHCH-S)-CH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CH
-(CHCH-S)-CHCH
-C(CH)HCH-S-CH
-C(CH)HCH-S-CHCH
-(C(CH)HCH-S)-CH
-(C(CH)HCH-S)-CHCH
-(C(CH)HCH-S)-CH
-(C(CH)HCH-S)-CHCH
-(C(CH)HCH-S)-CH
-(C(CH)HCH-S)-CHCH
-(C(CH)HCH-S)-CH
-(C(CH)HCH-S)-CHCH
-CHC(CH)H-S-CH
-CHC(CH)H-S-CHCH
-(CHC(CH)H-S)-CH
-(CHC(CH)H-S)-CHCH
-(CHC(CH)H-S)-CH
-(CHC(CH)H-S)-CHCH
-(CHC(CH)H-S)-CH
-(CHC(CH)H-S)-CHCH
-(CHC(CH)H-S)-CH
-(CHC(CH)H-S)-CHCH
Preferable specific examples of the alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S, as X a105 , include the following groups.
-CH2CH2 - O - CH3
-CH2CH2 - O - CH2CH3
-( CH2CH2 - O) 2 - CH3
-( CH2CH2 - O) 2 - CH2CH3
-( CH2CH2 - O) 3 - CH3
-( CH2CH2 - O) 3 - CH2CH3
-( CH2CH2 - O) 4 - CH3
-( CH2CH2 - O) 4 - CH2CH3
-( CH2CH2 - O) 5 - CH3
-( CH2CH2 - O) 5 - CH2CH3
-C( CH3 ) HCH2 -O- CH3
-C( CH3 ) HCH2 -O - CH2CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 2 - CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 2 - CH2CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 3 - CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 3 - CH2CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 4 - CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 4 - CH2CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 5 - CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 5 - CH2CH3
-CH2C ( CH3 )H-O- CH3
-CH2C ( CH3 )H-O - CH2CH3
-( CH2C ( CH3 )H-O) 2 - CH3
-( CH2C ( CH3 )H-O) 2 - CH2CH3
-( CH2C ( CH3 )H-O) 3 - CH3
-( CH2C ( CH3 )H-O) 3 - CH2CH3
-( CH2C ( CH3 )H-O) 4 - CH3
-( CH2C ( CH3 )H-O) 4 - CH2CH3
-( CH2C ( CH3 )H-O) 5 - CH3
-( CH2C ( CH3 )H-O) 5 - CH2CH3
-CH2CH2 - S - CH3
-CH2CH2 - S - CH2CH3
-( CH2CH2 - S) 2 - CH3
-( CH2CH2 - S) 2 - CH2CH3
-( CH2CH2 - S) 3 - CH3
-( CH2CH2 - S) 3 - CH2CH3
-( CH2CH2 - S) 4 - CH3
-( CH2CH2 - S) 4 - CH2CH3
-( CH2CH2 - S) 5 - CH3
-( CH2CH2 - S) 5 - CH2CH3
-C( CH3 ) HCH2 -S- CH3
-C( CH3 )HCH2 - S - CH2CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 2 - CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 2 - CH2CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 3 - CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 3 - CH2CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 4 - CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 4 - CH2CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 5 - CH3
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 5 - CH2CH3
-CH2C ( CH3 )H-S- CH3
-CH2C ( CH3 )H-S - CH2CH3
-( CH2C ( CH3 )H-S) 2 - CH3
-( CH2C ( CH3 )H-S) 2 - CH2CH3
-( CH2C ( CH3 )H-S) 3 - CH3
-( CH2C ( CH3 )H-S) 3 - CH2CH3
-( CH2C ( CH3 )H-S) 4 - CH3
-( CH2C ( CH3 )H-S) 4 - CH2CH3
-( CH2C ( CH3 )H-S) 5 - CH3
-( CH2C ( CH3 )H-S) 5 - CH2CH3

式(A1-1)において、Xa103は、O、又はSであり、Xa104は、O、又はSである。 In formula (A1-1), X a103 is O or S, and X a104 is O or S.

式(A1-1)において、ma11は、0又は1であり、ma12は、0又は1であり、ma13は、0又は1であり、ma14は0以上の整数である。
化合物(A1-1)を用いることにより所望する効果を得やすいことから、ma11、及びma12がともに1であるのが好ましい。
ma14の上限は特に限定されない。ma14の値は、Ara101としての芳香族基の構造を勘案して適宜定められる。ma14の値は、0以上2以下が好ましく、0又は1がより好ましい。化合物(A1-1)の入手や合成が容易であることから、ma14が0であるのが好ましい。
In formula (A1-1), ma11 is 0 or 1, ma12 is 0 or 1, ma13 is 0 or 1, and ma14 is an integer of 0 or greater.
It is preferable that ma11 and ma12 are both 1, since the desired effect can be easily obtained by using the compound (A1-1).
The upper limit of ma14 is not particularly limited. The value of ma14 is appropriately determined in consideration of the structure of the aromatic group as Ar a101 . The value of ma14 is preferably 0 or more and 2 or less, more preferably 0 or 1. In view of the ease of availability and synthesis of the compound (A1-1), ma14 is preferably 0.

式(A1-1)において、Xa101、Xa103、及びXa104としてのO及び/又はSの数と、Xa102及びXa105に含まれるO及び/又はSの数との合計が3以上である。
化合物(A1-1)が、O及び/又はSを所定の部分に、特定量以上含むことによって、組成物が加熱された場合の溶媒以外の成分の重量の過度の減少を抑制でき、組成物における無機微粒子(B)の分散を安定させることができる。
a101、Xa103、及びXa104としてのO及び/又はSの数と、Xa102及びXa105に含まれるO及び/又はSの数との合計の上限は、所望する効果が損なわれない限り特に限定されない。
a101、Xa103、及びXa104としてのO及び/又はSの数と、Xa102及びXa105に含まれるO及び/又はSの数との合計は、例えば、3以上10以下が好ましく、4以上8以下がより好ましく、4以上6以下がさらに好ましい。
In formula (A1-1), the total number of O and/or S as X a101 , X a103 and X a104 and the number of O and/or S contained in X a102 and X a105 is 3 or more.
When the compound (A1-1) contains O and/or S in a specific amount or more in a specific portion, excessive loss in weight of components other than the solvent when the composition is heated can be suppressed, and dispersion of the inorganic fine particles (B) in the composition can be stabilized.
There is no particular upper limit on the total number of O and/or S as Xa101 , Xa103 , and Xa104 , and the total number of O and/or S contained in Xa102 and Xa105 , as long as the desired effect is not impaired.
The total number of O and/or S as Xa101 , Xa103 , and Xa104 and the number of O and/or S contained in Xa102 and Xa105 is, for example, preferably 3 or more and 10 or less, more preferably 4 or more and 8 or less, and even more preferably 4 or more and 6 or less.

化合物(A1-1)の好ましい具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
下記の化合物において、アクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基と、アリールオキシ基、アリールチオ基、ヘテロアリールオキシ基、又はヘテロアリールチオ基とを連結する連結基を、-CHCH-O-CHCH-、-(CHCH-O)-CHCH-、-(CHCH-O)-CHCH-、-CHCHCH-O-CHCHCH-、-CHCH-S-CHCH-、
-(CHCH-S)-CHCH-、又は-(CHCH-S)-CHCH-に変更した化合物も、化合物(A1-1)として好ましい。

Figure 2024085734000001
Preferable specific examples of the compound (A1-1) include the following compounds.
In the following compounds, the linking group linking an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group with an aryloxy group, an arylthio group, a heteroaryloxy group or a heteroarylthio group is -CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -, -(CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 -, -(CH 2 CH 2 -O) 3 -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 -S-CH 2 CH 2 -,
Compounds in which the substituent is changed to --(CH 2 CH 2 --S) 2 --CH 2 CH 2 -- or --(CH 2 CH 2 --S) 3 --CH 2 CH 2 -- are also preferred as compound (A1-1).
Figure 2024085734000001

Figure 2024085734000002
Figure 2024085734000002

[化合物(A1-2)]
a201-Xa203-Ra202-(Xa201ma21-Ph21-S-Ph22-(Xa202ma22-Ra204-Xa204-Ra203・・・(A1-2)
(式(A1-2)中、Ra201、及びRa203は、それぞれ独立に、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Ra202、及びRa204は、それぞれ独立に、1以上のO、及び/又はSで中断されていてもよいアルキレン基であり、Xa201、Xa202、Xa203、及びXa204は、それぞれ独立にO又はSであり、Ph21、及びPh22は、それぞれ独立に、炭素原子数1以上5以下のアルキル基で置換されていてもよいフェニレン基であり、ma21は、0又は1であり、ma22は、0又は1であり、前記式(A1-2)で表される化合物は、ラジカル重合性基含有基、及びカチオン重合性基含有基を同時に有さない。)
[Compound (A1-2)]
R a201 -X a203 -R a202 -(X a201 ) m a21 -Ph 21 -S-Ph 22 -(X a202 ) m a22 -R a204 -X a204 -R a203 ... (A1-2)
(In formula (A1-2), R a201 and R a203 are each independently a radical polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group, R a202 and R a204 are each independently an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S, X a201 , X a202 , X a203 and X a204 are each independently O or S, Ph 21 and Ph 22 are each independently a phenylene group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, ma21 is 0 or 1, ma22 is 0 or 1, and the compound represented by formula (A1-2) does not simultaneously have a radical polymerizable group-containing group and a cationically polymerizable group-containing group.)

式(A1-2)中、Ph21、及びPh22は、それぞれ独立に、炭素原子数1以上5以下のアルキル基で置換されていてもよいフェニレン基である。Ph21、及びPh22としてのフェニレン基は、o-フェニレン基、m-フェニレン基、及びp-フェニレン基のいずれでもよく、p-フェニレン基であるのが好ましい。 In formula (A1-2), Ph 21 and Ph 22 each independently represent a phenylene group which may be substituted with an alkyl group having from 1 to 5 carbon atoms. The phenylene group represented by Ph 21 and Ph 22 may be any one of an o-phenylene group, an m-phenylene group, and a p-phenylene group, and is preferably a p-phenylene group.

Ph21、及びPh22としてのフェニレン基に結合する、置換基としてのアルキル基の数は特に限定されない。
炭素原子数1以上5以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、sec-ペンチル基、及びtert-ペンチル基が挙げられる。これらの基の中では、メチル基、及びエチル基が好ましい。
The number of alkyl groups as substituents bonded to the phenylene groups as Ph 21 and Ph 22 is not particularly limited.
Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a sec-pentyl group, and a tert-pentyl group. Of these groups, a methyl group and an ethyl group are preferred.

a201、及びRa203は、それぞれ独立に、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基である。ラジカル重合性基、及びカチオン重合性基については前述した通りである。Ra201、及びRa203としてのラジカル重合性基含有基としては、(メタ)アクリロイル基含有基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。Ra201、及びRa203としてのカチオン重合性基含有基としては、ビニル基、ビニルオキシ基含有基、及びエポキシ基含有基が好ましく、ビニル基、エポキシ基含有基がより好ましく、脂環式エポキシ基含有基、及びグリシジル基が好ましい。
ビニル基は、一般的にはラジカル重合性基であるが、式(A1-2)において、Ra201、及びRa203がビニル基である場合、当該ビニル基は、O又はSであるXa203、又はXa204とともに、カチオン重合性基である、ビニルオキシ基、又はビニルチオ基を形成する。このため、式(A1-2)において、Ra201、及びRa203としてのビニル基は、ラジカル重合性基ではなく、カチオン重合性基とする。
R a201 and R a203 are each independently a radical polymerizable group-containing group or a cationic polymerizable group-containing group. The radical polymerizable group and cationic polymerizable group are as described above. The radical polymerizable group-containing group of R a201 and R a203 is preferably a (meth)acryloyl group-containing group, more preferably a (meth)acryloyl group. The cationic polymerizable group-containing group of R a201 and R a203 is preferably a vinyl group, a vinyloxy group-containing group, and an epoxy group-containing group, more preferably a vinyl group and an epoxy group-containing group, and is preferably an alicyclic epoxy group-containing group and a glycidyl group.
A vinyl group is generally a radically polymerizable group, but in formula (A1-2), when R a201 and R a203 are vinyl groups, the vinyl groups form cationically polymerizable groups, that is, vinyloxy groups or vinylthio groups, together with X a203 or X a204 which is O or S. For this reason, in formula (A1-2), the vinyl groups as R a201 and R a203 are cationically polymerizable groups, not radically polymerizable groups.

a202、及びRa204は、それぞれ独立に、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基である。Ra202、及びRa204は、アルキレン基であってもよいし、1以上のO、及び/又はSで中断されたアルキレン基であってもよい。
a202、及びRa204としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基の炭素原子数は、それぞれ、所望する効果が損なわれない範囲で特に限定されないが、Ra202、及びRa204が、アルキレン基である場合、該アルキレン基の炭素原子数は、例えば1以上10以下、又は1以上4以下である。
R a202 and R a204 are each independently an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S. R a202 and R a204 may be an alkylene group or an alkylene group interrupted by one or more O and/or S.
The number of carbon atoms of the alkylene group, which may be interrupted by one or more O and/or S, represented by R a202 and R a204 is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired. When R a202 and R a204 are alkylene groups, the number of carbon atoms of the alkylene group is, for example, 1 or more and 10 or less, or 1 or more and 4 or less.

a202、及びRa204としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基は、炭素原子数1以上4以下のアルキレン基、炭素原子数1以上4以下のアルカントリイル基、及び炭素原子数1以上4以下のアルキル基から選択されるma個の脂肪族鎖状飽和炭化水素基と、ma個の前記脂肪族鎖状飽和炭化水素基を連結する(ma-1)個のO及び/又はSとからなる基であるのが好ましい。
ここで、maは2以上6以下の整数である。
The alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S as R a202 and R a204 is preferably a group consisting of ma aliphatic chain saturated hydrocarbon groups selected from an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, an alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and (ma-1) O and/or S linking the ma aliphatic chain saturated hydrocarbon groups.
Here, ma is an integer between 2 and 6.

炭素原子数1以上4以下のアルキレン基の好適な例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,2-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、及びブタン-1,4-ジイル基が挙げられる。これらの基の中では、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)、プロパン-1,2-ジイル基、及びプロパン-1,3-ジイル基が好ましい。
炭素原子数1以上4以下のアルカントリイル基の好ましい例としては、プロパン-1,2,3-トリイル基、ブタン-1,2,3-トリイル基、及びブタン-1,2,4-トリイル基が挙げられる。これらの基の中では、プロパン-1,2,3-トリイル基が好ましい。
炭素原子数1以上4以下のアルキル基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、及びtert-ブチル基が挙げられる。これらの基の中では、メチル基、及びエチル基が好ましい。
Suitable examples of the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms include a methylene group, an ethane-1,2-diyl group (ethylene group), a propane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,2-diyl group, a butane-1,3-diyl group, and a butane-1,4-diyl group. Of these groups, an ethane-1,2-diyl group (ethylene group), a propane-1,2-diyl group, and a propane-1,3-diyl group are preferred.
Preferred examples of the alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms include a propane-1,2,3-triyl group, a butane-1,2,3-triyl group, and a butane-1,2,4-triyl group. Of these groups, a propane-1,2,3-triyl group is preferred.
Preferred examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Of these groups, a methyl group and an ethyl group are preferred.

a202、及びRa204としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基は、ma個の炭素原子数1以上4以下のアルキレン基と、ma個のアルキレン基を連結する(ma-1)個のO及び/又はSとからなる基であるのが好ましい。
ここで、maは2以上6以下の整数である。
The alkylene group optionally interrupted by one or more O and/or S as R a202 and R a204 is preferably a group consisting of ma alkylene groups having 1 to 4 carbon atoms and (ma-1) O and/or S linking the ma alkylene groups.
Here, ma is an integer between 2 and 6.

a202、及びRa204としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基の好適な具体例としては、以下の基が挙げられる。
-CH
-CHCH
-CHCHCH
-CHCH-O-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-C(CH)HCH-O-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-CHCHCH-O-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-CHC(OCH)HCH
-CHC(OCHCH)HCH
-CHC(OCHCHCH)HCH
-CHC(OCHCHCHCH)HCH
-CHCH-S-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-C(CH)HCH-S-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-CHCHCH-S-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-CHC(SCH)HCH
-CHC(SCHCH)HCH
-CHC(SCHCHCH)HCH
-CHC(SCHCHCHCH)HCH
Preferable specific examples of the alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S as R a202 and R a204 include the following groups.
-CH2-
-CH2CH2-
-CH2CH2CH2-
-CH2CH2 - O - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 2 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 3 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 4 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 5 - CH2CH2-
-C( CH3 ) HCH2 -O-C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 2 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 3 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 4 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 5 -C( CH3 ) HCH2-
--CH2CH2CH2 - O - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 2 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 3 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 4 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 5 - CH2CH2CH2-
-CH2C( OCH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2CH2 - S - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 2 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 3 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 4 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 5 - CH2CH2-
-C( CH3 ) HCH2 -S-C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 2 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 3 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 4 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 5 -C( CH3 ) HCH2-
-CH2CH2CH2 - S - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 2 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 3 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 4 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 5 - CH2CH2CH2-
-CH2C( SCH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH2CH2CH3 ) HCH2-

これらの基の中では、
-CH
-CHCH-O-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-CHCHCH-O-CHCHCH-、
-CHCH-S-CHCH-、
-(CHCH-S)-CHCH-、及び
-(CHCH-S)-CHCH-が好ましく、
-CH
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-S)-CHCH-、及び
-(CHCH-S)-CHCH-がより好ましい。
Among these groups,
-CH2-
-CH2CH2 - O - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 -O ) 2 - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - O) 3 -CH2CH2- ,
-CH2CH2CH2 - O - CH2CH2CH2- ,
-CH2CH2 - S - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - S) 2 -CH2CH2- and -( CH2CH2 - S) 3 -CH2CH2- are preferred,
-CH2-
-( CH2CH2 -O ) 2 - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - O) 3 -CH2CH2- ,
--(CH 2 CH 2 --S) 2 --CH 2 CH 2 -- and --(CH 2 CH 2 --S) 3 --CH 2 CH 2 -- are more preferred.

式(A1-2)において、Xa201、Xa202、Xa203、及びXa204は、それぞれ独立に、O、又はSである。 In formula (A1-2), X a201 , X a202 , X a203 , and X a204 each independently represent O or S.

式(A1-2)において、ma21は、0又は1であり、ma22は、0又は1である。 In formula (A1-2), ma21 is 0 or 1, and ma22 is 0 or 1.

式(A1-2)において、Ra202としてのアルキレン基に含まれるO及び/又はSの数と、Ra204としてのアルキレン基に含まれるO及び/又はSの数との合計が2以上であることが好ましい。
化合物(A1-2)が、O及び/又はSを所定の部分に、特定量以上含むことによって、組成物が加熱された場合の溶媒以外の成分の重量の過度の減少を抑制でき、組成物における無機微粒子(B)の分散を安定させやすい。
a202としてのアルキレン基に含まれるO及び/又はSの数と、Ra204としてのアルキレン基に含まれるO及び/又はSの数との合計の上限は、所望する効果が損なわれない限り特に限定されない。
a202としてのアルキレン基に含まれるO及び/又はSの数と、Ra204としてのアルキレン基に含まれるO及び/又はSの数との合計は、例えば、2以上10以下が好ましく、2以上8以下がより好ましく、2以上6以下がさらに好ましい。
In formula (A1-2), the total number of O and/or S contained in the alkylene group as R a202 and the number of O and/or S contained in the alkylene group as R a204 is preferably 2 or more.
When the compound (A1-2) contains O and/or S in a specific amount or more in a specific portion, excessive loss in weight of components other than the solvent when the composition is heated can be suppressed, and dispersion of the inorganic fine particles (B) in the composition can be easily stabilized.
There is no particular upper limit on the total number of O and/or S groups contained in the alkylene group represented by R a202 and the total number of O and/or S groups contained in the alkylene group represented by R a204 , as long as the desired effect is not impaired.
The total number of O and/or S contained in the alkylene group represented by R a202 and the number of O and/or S contained in the alkylene group represented by R a204 is, for example, preferably 2 or more and 10 or less, more preferably 2 or more and 8 or less, and even more preferably 2 or more and 6 or less.

化合物(A1-2)の好ましい具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
下記の化合物において、アクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基と、アリールオキシ基、アリールチオ基、ヘテロアリールオキシ基、又はヘテロアリールチオ基とを連結する連結基を、-CHCH-O-CHCH-、-(CHCH-O)-CHCH-、-(CHCH-O)-CHCH-、-CHCHCH-O-CHCHCH-、-CHCH-S-CHCH-、
-(CHCH-S)-CHCH-、又は-(CHCH-S)-CHCH-に変更した化合物も、化合物(A1-2)として好ましい。

Figure 2024085734000003
Preferable specific examples of the compound (A1-2) include the following compounds.
In the following compounds, the linking group linking an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group with an aryloxy group, an arylthio group, a heteroaryloxy group or a heteroarylthio group is -CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -, -(CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 -, -(CH 2 CH 2 -O) 3 -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 -S-CH 2 CH 2 -,
Compounds in which the substituent is changed to --(CH 2 CH 2 --S) 2 --CH 2 CH 2 -- or --(CH 2 CH 2 --S) 3 --CH 2 CH 2 -- are also preferred as compound (A1-2).
Figure 2024085734000003

[化合物(A1-3)]
a301-Ra302-Xa301-Ph31-CO-O-Ra303・・・(A1-3)
(式(A1-3)中、Ra301は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa301は、O又はSであり、Ra302は、単結合、又は2価の連結基であり、Ra303は、ベンジル基、又はフェネチル基であり、Ph31は、フェニレン基である。)
[Compound (A1-3)]
R a301 -R a302 -X a301 -Ph 31 -CO-O-R a303 ... (A1-3)
(In formula (A1-3), R a301 is a radically polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group, X a301 is O or S, R a302 is a single bond or a divalent linking group, R a303 is a benzyl group or a phenethyl group, and Ph 31 is a phenylene group.)

式(A1-3)中、Ph31は、フェニレン基である。Ph31としてのフェニレン基は、o-フェニレン基、m-フェニレン基、及びp-フェニレン基のいずれでもよく、p-フェニレン基であるのが好ましい。 In formula (A1-3), Ph 31 is a phenylene group. The phenylene group represented by Ph 31 may be any one of an o-phenylene group, an m-phenylene group, and a p-phenylene group, and is preferably a p-phenylene group.

a301は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基である。ラジカル重合性基、及びカチオン重合性基については前述した通りである。Ra301としてのラジカル重合性基含有基としては、(メタ)アクリロイル基含有基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。Ra301としてのカチオン重合性基含有基としては、ビニル基、ビニルオキシ基含有基、及びエポキシ基含有基が好ましく、ビニル基、エポキシ基含有基がより好ましく、脂環式エポキシ基含有基、及びグリシジル基が好ましい。
ビニル基は、一般的にはラジカル重合性基であるが、式(A1-3)において、Ra301がビニル基であり、Ra302が単結合である場合、当該ビニル基は、O又はSであるXa301とともに、カチオン重合性基である、ビニルオキシ基、又はビニルチオ基を形成する。このため、式(A1-3)において、Ra302が単結合である場合、Ra301としてのビニル基は、ラジカル重合性基ではなく、カチオン重合性基とする。
R a301 is a radical polymerizable group-containing group or a cationic polymerizable group-containing group. The radical polymerizable group and the cationic polymerizable group are as described above. As the radical polymerizable group as R a301 , a (meth)acryloyl group-containing group is preferable, and a (meth)acryloyl group is more preferable. As the cationic polymerizable group as R a301 , a vinyl group, a vinyloxy group-containing group, and an epoxy group-containing group are preferable, a vinyl group and an epoxy group-containing group are more preferable, and an alicyclic epoxy group-containing group and a glycidyl group are preferable.
A vinyl group is generally a radically polymerizable group, but in formula (A1-3), when R a301 is a vinyl group and R a302 is a single bond, the vinyl group forms a cationically polymerizable group, that is, a vinyloxy group or a vinylthio group, together with X a301 which is O or S. For this reason, in formula (A1-3), when R a302 is a single bond, the vinyl group as R a301 is a cationically polymerizable group rather than a radically polymerizable group.

a302は、単結合、又は2価の連結基である。2価の連結基の構造は、所望する効果が損なわれない限りにおいて特に限定されない。2価の連結基は、芳香族基を含まないのが好ましい。
a302としての2価の連結基としては、下記式(A1-3-1):
-Xa302-Ra304-・・・(A1-3-1)
(式(A1-3-1)中、Ra304は、1以上のO、及び/又はSで中断されていてもよいアルキレン基であり、Xa302は、O又はSである。)
で表される基が好ましい。
なお、式(A1-3-1)で表される2価の基におけるRa304が、Xa301と結合する。
化合物(A1-3)を用いることによる所望する効果を得やすいことから、式(A1-3-1)において、Ra304は、1以上のO、及び/又はSで中断されたアルキレン基であるのが好ましく、1以上のOで中断されたアルキレン基であるのがより好ましい。
化合物(A1-3)を用いることによる所望する効果を得やすいことから、Ra304が、1以上のO、及び/又はSで中断されたアルキレン基である場合に、1以上のO、及び/又はSで中断されたアルキレン基である場合に含まれる、O及びSの数の合計は、1以上10以下が好ましく、1以上8以下がより好ましく、1以上6以下がさらに好ましく、1以上4以下がさらにより好ましく、1以上3以下が特に好ましい。
a304としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基の炭素原子数は、それぞれ、所望する効果が損なわれない範囲で特に限定されない。
R a302 is a single bond or a divalent linking group. The structure of the divalent linking group is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired. It is preferable that the divalent linking group does not contain an aromatic group.
The divalent linking group represented by R a302 is a group represented by the following formula (A1-3-1):
-X a302 -R a304 - ... (A1-3-1)
(In formula (A1-3-1), R a304 is an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S, and X a302 is O or S.)
A group represented by the following formula is preferred.
In addition, R a304 in the divalent group represented by formula (A1-3-1) is bonded to X a301 .
In formula (A1-3-1), R a304 is preferably an alkylene group interrupted by one or more O and/or S, and more preferably an alkylene group interrupted by one or more O, because the desired effects can be easily obtained by using compound (A1-3).
Since the desired effects can be easily obtained by using compound (A1-3), when R a304 is an alkylene group interrupted by one or more O and/or S, the total number of O and S contained in the alkylene group interrupted by one or more O and/or S is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 8 or less, even more preferably 1 or more and 6 or less, still more preferably 1 or more and 4 or less, and particularly preferably 1 or more and 3 or less.
The number of carbon atoms of the alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S as R a304 is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired.

a304としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基は、炭素原子数1以上4以下のアルキレン基、炭素原子数1以上4以下のアルカントリイル基、及び炭素原子数1以上4以下のアルキル基から選択されるma個の脂肪族鎖状飽和炭化水素基と、ma個の前記脂肪族鎖状飽和炭化水素基を連結する(ma-1)個のO及び/又はSとからなる基であるのが好ましい。
ここで、maは2以上6以下の整数である。
The alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S as R a304 is preferably a group consisting of ma aliphatic chain saturated hydrocarbon groups selected from an alkylene group having from 1 to 4 carbon atoms, an alkanetriyl group having from 1 to 4 carbon atoms, and an alkyl group having from 1 to 4 carbon atoms, and (ma-1) O and/or S linking the ma aliphatic chain saturated hydrocarbon groups.
Here, ma is an integer between 2 and 6.

炭素原子数1以上4以下のアルキレン基の好適な例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、ブタン-1,2-ジイル基、ブタン-1,3-ジイル基、及びブタン-1,4-ジイル基が挙げられる。これらの基の中では、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)、プロパン-1,2-ジイル基、及びプロパン-1,3-ジイル基が好ましい。
炭素原子数1以上4以下のアルカントリイル基の好ましい例としては、プロパン-1,2,3-トリイル基、ブタン-1,2,3-トリイル基、及びブタン-1,2,4-トリイル基が挙げられる。これらの基の中では、プロパン-1,2,3-トリイル基が好ましい。
炭素原子数1以上4以下のアルキル基の好ましい例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、及びtert-ブチル基が挙げられる。これらの基の中はでは、メチル基、及びエチル基が好ましい。
Suitable examples of the alkylene group having 1 to 4 carbon atoms include a methylene group, an ethane-1,2-diyl group (ethylene group), a propane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,2-diyl group, a butane-1,3-diyl group, and a butane-1,4-diyl group. Of these groups, an ethane-1,2-diyl group (ethylene group), a propane-1,2-diyl group, and a propane-1,3-diyl group are preferred.
Preferred examples of the alkanetriyl group having 1 to 4 carbon atoms include a propane-1,2,3-triyl group, a butane-1,2,3-triyl group, and a butane-1,2,4-triyl group. Of these groups, a propane-1,2,3-triyl group is preferred.
Preferred examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Among these groups, a methyl group and an ethyl group are preferred.

a304としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基は、ma個の炭素原子数1以上4以下のアルキレン基と、ma個のアルキレン基を連結する(ma-1)個のO及び/又はSとからなる基であるのが好ましい。
ここで、maは2以上6以下の整数である。
The alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S as R a304 is preferably a group consisting of ma alkylene groups having 1 to 4 carbon atoms and (ma-1) O and/or S linking the ma alkylene groups.
Here, ma is an integer between 2 and 6.

a304としての、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基の好適な具体例としては、以下の基が挙げられる。
-CHCH-O-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-(CHCH-O)-CHCH
-C(CH)HCH-O-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-O)-C(CH)HCH
-CHCHCH-O-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-(CHCHCH-O)-CHCHCH
-CHC(OCH)HCH
-CHC(OCHCH)HCH
-CHC(OCHCHCH)HCH
-CHC(OCHCHCHCH)HCH
-CHCH-S-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-(CHCH-S)-CHCH
-C(CH)HCH-S-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-(C(CH)HCH-S)-C(CH)HCH
-CHCHCH-S-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-(CHCHCH-S)-CHCHCH
-CHC(SCH)HCH
-CHC(SCHCH)HCH
-CHC(SCHCHCH)HCH
-CHC(SCHCHCHCH)HCH
Preferable specific examples of the alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S, as R a304 , include the following groups.
-CH2CH2 - O - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 2 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 3 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 4 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - O) 5 - CH2CH2-
-C( CH3 ) HCH2 -O-C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 2 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 3 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 4 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -O) 5 -C( CH3 ) HCH2-
--CH2CH2CH2 - O - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 2 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 3 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 4 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - O ) 5 - CH2CH2CH2-
-CH2C( OCH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( OCH2CH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2CH2 - S - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 2 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 3 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 4 - CH2CH2-
-( CH2CH2 - S) 5 - CH2CH2-
-C( CH3 ) HCH2 -S-C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 2 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 3 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 4 -C( CH3 ) HCH2-
-(C( CH3 ) HCH2 -S) 5 -C( CH3 ) HCH2-
-CH2CH2CH2 - S - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 2 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 3 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 4 - CH2CH2CH2-
- ( CH2CH2CH2 - S ) 5 - CH2CH2CH2-
-CH2C( SCH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH2CH3 ) HCH2-
-CH2C ( SCH2CH2CH2CH3 ) HCH2-

これらの基の中では、
-CHCH-O-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-CHCHCH-O-CHCHCH-、
-CHCH-S-CHCH-、
-(CHCH-S)-CHCH-、及び
-(CHCH-S)-CHCH-が好ましく、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-O)-CHCH-、
-(CHCH-S)-CHCH-、及び
-(CHCH-S)-CHCH-がより好ましい。
Among these groups,
-CH2CH2 - O - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 -O ) 2 - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - O) 3 -CH2CH2- ,
-CH2CH2CH2 - O - CH2CH2CH2- ,
-CH2CH2 - S - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - S) 2 -CH2CH2- and -( CH2CH2 - S) 3 -CH2CH2- are preferred,
-( CH2CH2 -O ) 2 - CH2CH2- ,
-( CH2CH2 - O) 3 -CH2CH2- ,
--(CH 2 CH 2 --S) 2 --CH 2 CH 2 -- and --(CH 2 CH 2 --S) 3 --CH 2 CH 2 -- are more preferred.

化合物(A1-3)の好ましい具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
下記の化合物において、アクリロイルオキシ基、又はメタクリロイルオキシ基と、ベンジルオキシカルボニル基で置換されたフェノキシ基、フェネチルオキシカルボニル基で置換されたフェノキシ基、又はベンジルオキシカルボニル基で置換されたフェニルチオ基とを連結する連結基を、-CHCH-O-CHCH-、-(CHCH-O)-CHCH-、-(CHCH-O)-CHCH-、-CHCHCH-O-CHCHCH-、-CHCH-S-CHCH-、-(CHCH-S)-CHCH-、又は-(CHCH-S)-CHCH-に変更した化合物も、化合物(A1-3)として好ましい。

Figure 2024085734000004
Preferable specific examples of the compound (A1-3) include the following compounds.
In the following compounds, the linking group linking an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group to a phenoxy group substituted with a benzyloxycarbonyl group, a phenoxy group substituted with a phenethyloxycarbonyl group, or a phenylthio group substituted with a benzyloxycarbonyl group is -CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 -, -(CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 -, -(CH 2 CH 2 -O) 3 -CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH 2 -S-CH 2 CH 2 -, -(CH 2 CH 2 -S) 2 -CH 2 CH 2 -, or -(CH 2 CH 2 -S ) 3 The compound in which --CH 2 CH 2 -- is changed is also preferred as the compound (A1-3).
Figure 2024085734000004

Figure 2024085734000005
Figure 2024085734000005

[化合物(A1-4)]
(Ra401-Xa401-Ra402ma41-Ara401-C(=O)-Ara402-(Ra403-Xa402-Ra404ma42・・・(A1-4)
(式(A1-4)中、Ara401は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数6以上12以下である、(ma41+1)価の芳香族基であり、Ara402は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数6以上12以下である、(ma42+1)価の芳香族基であり、Ra401、及びRa404は、それぞれ独立に、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa401、及びXa402は、それぞれ独立に、O、又はSであり、Ra402、及びRa403は、それぞれ独立に、アルキレン基であり、ma41は、1以上3以下の整数であり、ma42は、0以上3以下の整数である。)
[Compound (A1-4)]
(R a401 -X a401 -R a402 ) ma41 -Ar a401 -C(=O)-Ar a402 -(R a403 -X a402 -R a404 ) ma42 ... (A1-4)
In formula (A1-4), Ar a401 is an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms and a valence of (ma41+1) which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; Ar a402 is an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms and a valence of (ma42+1) which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; R a401 and R a404 are each independently a radical polymerizable group-containing group or a cation polymerizable group-containing group; X a401 and X a402 are each independently O or S; R a402 and R Each a403 is independently an alkylene group, ma41 is an integer of 1 or more and 3 or less, and ma42 is an integer of 0 or more and 3 or less.

式(A1-4)中、Ara401は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数6以上12以下である、(ma41+1)価の芳香族基である。また、Ara402は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数6以上12以下である、(ma42+1)価の芳香族基である。
当該芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても、芳香族複素環基であってもよい。
当該芳香族基としては、ベンゼン、ナフタレン、及びビフェニル等の芳香族炭化水素から(ma41+1)又は(ma42+1)個の水素原子を除いた基や、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、キナゾリン、フタラジン、ナフチリジン、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、インドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、イソインドール、及びイソベンゾフラン等の芳香族複素環化合物から(ma41+1)個又は(ma42+1)個の水素原子を除いた基が挙げられる。
In formula (A1-4), Ar a401 is a (ma41+1)-valent aromatic group having 6 to 12 carbon atoms and which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom. Ar a402 is a (ma42+1)-valent aromatic group having 6 to 12 carbon atoms and which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom.
The aromatic group may be an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group.
Examples of the aromatic group include groups obtained by removing (ma41+1) or (ma42+1) hydrogen atoms from aromatic hydrocarbons such as benzene, naphthalene, and biphenyl, and groups obtained by removing (ma41+1) or (ma42+1) hydrogen atoms from aromatic heterocyclic compounds such as quinoline, isoquinoline, quinoxaline, cinnoline, quinazoline, phthalazine, naphthyridine, benzoxazole, benzothiazole, benzimidazole, indole, benzofuran, benzothiophene, isoindole, and isobenzofuran.

Ara401、及びAra402としての芳香族基は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよい。
Ara401、及びAra402としての芳香族基に結合する、置換基の数は特に限定されない。
炭素原子数1以上5以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、sec-ペンチル基、及びtert-ペンチル基が挙げられる。これらの基の中では、メチル基、及びエチル基が好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
以上説明したAra401、及びAra402としての芳香族基としては、ベンゼン又はナフタレンから(ma41+1)個又は(ma42+1)個の水素原子を除いた基が好ましく、ベンゼンから(ma41+1)個又は(ma42+1)個の水素原子を除いた基がより好ましい。
The aromatic groups represented by Ar a401 and Ar a402 may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having from 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom.
The number of substituents bonded to the aromatic groups represented by Ar a401 and Ar a402 is not particularly limited.
Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a sec-pentyl group, and a tert-pentyl group. Of these groups, a methyl group and an ethyl group are preferred.
Halogen atoms include fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms, and iodine atoms.
The aromatic groups represented by Ar a401 and Ar a402 described above are preferably groups in which (ma41+1) or (ma42+1) hydrogen atoms have been removed from benzene or naphthalene, and more preferably groups in which (ma41+1) or (ma42+1) hydrogen atoms have been removed from benzene.

a401、及びRa404は、それぞれ独立に、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基である。ラジカル重合性基、及びカチオン重合性基については前述した通りである。Ra401、及びRa404としてのラジカル重合性基含有基としては、(メタ)アクリロイル基含有基が好ましく、(メタ)アクリロイル基がより好ましい。Ra401、及びRa404としてのカチオン重合性基含有基としては、ビニル基、ビニルオキシ基含有基、及びエポキシ基含有基が好ましく、ビニル基、エポキシ基含有基がより好ましく、脂環式エポキシ基含有基、及びグリシジル基が好ましい。
ビニル基は、一般的にはラジカル重合性基であるが、式(A1-4)において、Ra401、及びRa404がビニル基である場合、当該ビニル基は、O又はSであるXa401、及びXa402とともに、カチオン重合性基である、ビニルオキシ基、又はビニルチオ基を形成する。このため、式(A1-4)において、Ra401、及びRa404としてのビニル基は、ラジカル重合性基ではなく、カチオン重合性基とする。
R a401 and R a404 are each independently a radical polymerizable group-containing group or a cationic polymerizable group-containing group. The radical polymerizable group and the cationic polymerizable group are as described above. The radical polymerizable group-containing group of R a401 and R a404 is preferably a (meth)acryloyl group-containing group, more preferably a (meth)acryloyl group. The cationic polymerizable group-containing group of R a401 and R a404 is preferably a vinyl group, a vinyloxy group-containing group, and an epoxy group-containing group, more preferably a vinyl group and an epoxy group-containing group, and is preferably an alicyclic epoxy group-containing group and a glycidyl group.
A vinyl group is generally a radically polymerizable group, but in formula (A1-4), when R a401 and R a404 are vinyl groups, the vinyl groups form cationically polymerizable groups, that is, vinyloxy groups or vinylthio groups, together with X a401 and X a402 which are O or S. For this reason, in formula (A1-4), the vinyl groups as R a401 and R a404 are cationically polymerizable groups, not radically polymerizable groups.

a402、及びRa403は、それぞれ独立に、アルキレン基である。
当該アルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
当該アルキレン基の炭素原子数としては、1以上20以下が好ましく、1以上10以下がより好ましく、1以上5以下がさらに好ましい。
当該アルキレン基の好適な例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、プロパン-1,1-ジイル基、プロパン-2,2-ジイル基、n-ブタン-1,4-ジイル基、n-ペンタン-1,5-ジイル基、n-ヘキサン-1,6-ジイル基、n-ヘプタン-1,7-ジイル基、n-オクタン-1,8-ジイル基、n-ノナン-1,9-ジイル基、及びn-デカン-1,10-ジイル基が挙げられる。これらの中では、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基が好ましい。
R a402 and R a403 each independently represents an alkylene group.
The alkylene group may be linear or branched.
The alkylene group has preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and further preferably 1 or more and 5 or less, in number of carbon atoms.
Suitable examples of the alkylene group include methylene, ethane-1,2-diyl, ethane-1,1-diyl, propane-1,3-diyl, propane-1,2-diyl, propane-1,1-diyl, propane-2,2-diyl, n-butane-1,4-diyl, n-pentane-1,5-diyl, n-hexane-1,6-diyl, n-heptane-1,7-diyl, n-octane-1,8-diyl, n-nonane-1,9-diyl, and n-decane-1,10-diyl. Of these, methylene, ethane-1,2-diyl, and propane-1,3-diyl are preferred.

式(A1-4)において、Xa401、及びXa402は、それぞれ独立に、O、又はSである。 In formula (A1-4), X a401 and X a402 each independently represent O or S.

式(A1-4)において、ma41は、1以上3以下の整数であり、ma42は、0以上3以下の整数である。
化合物(A1-4)を用いることにより所望する効果を得やすいことから、ma41は、好ましくは1又は2であり、ma42は、好ましくは0又は1である。
In formula (A1-4), ma41 is an integer of 1 or more and 3 or less, and ma42 is an integer of 0 or more and 3 or less.
Since the desired effect can be easily obtained by using the compound (A1-4), ma41 is preferably 1 or 2, and ma42 is preferably 0 or 1.

化合物(A1-4)の好ましい具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 2024085734000006
Preferable specific examples of the compound (A1-4) include the following compounds.
Figure 2024085734000006

Figure 2024085734000007
Figure 2024085734000007

他の芳香環含有重合性化合物(A1)としては、例えば、2-フェノキシ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルフタレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Other examples of aromatic ring-containing polymerizable compounds (A1) include 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-(meth)acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, half (meth)acrylates of phthalic acid derivatives, 2,2-bis(4-(meth)acryloxydiethoxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-(meth)acryloxypolyethoxyphenyl)propane, phthalic acid diglycidyl ester di(meth)acrylate, etc. These monofunctional compounds can be used alone or in combination of two or more.

光重合性化合物(A)の質量に対する、芳香環含有重合性化合物(A1)の質量の比率は、10質量%以上90質量%以下が好ましく、20質量%以上80質量%以下がより好ましく、30質量%以上70質量%以下がさらに好ましく、40質量%以上60質量%以下が特に好ましい。 The ratio of the mass of the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) to the mass of the photopolymerizable compound (A) is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, even more preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or more and 60% by mass or less.

〔ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)〕
前述の通り、感光性組成物は、芳香環含有重合性化合物(A1)とともにハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)を含む。
[Polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure]
As described above, the photosensitive composition contains the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and the polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure.

デンドリマー構造とは、分岐した構造がさらに分岐して多重の分岐構造を形成し、前記分岐構造が放射状に広がった構造を意味する。
ハイパーブランチ構造とは、前記多重の分岐構造が放射状ではなく、所定の一方向又は二以上の方向に分岐状に延びる構造を意味する。
The dendrimer structure means a structure in which a branched structure is further branched to form multiple branched structures, and the branched structures spread out radially.
The hyperbranch structure means a structure in which the multiple branched structures extend in a branched manner in a predetermined direction or in two or more directions, rather than in a radial manner.

芳香環含有重合性化合物(A1)が、ラジカル重合性基含有基を有する場合、重合性化合物(A2)もラジカル重合性基含有基を有する。芳香環含有重合性化合物(A1)がカチオン重合性基含有基を有する場合、重合性化合物(A2)もカチオン重合性基含有基を有する。 When the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) has a radical polymerizable group-containing group, the polymerizable compound (A2) also has a radical polymerizable group-containing group. When the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) has a cationic polymerizable group-containing group, the polymerizable compound (A2) also has a cationic polymerizable group-containing group.

重合性化合物(A2)は、本発明の効果がより良好に得られやすい点から、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。 The polymerizable compound (A2) is preferably a (meth)acrylate compound having a hyperbranched structure or a dendrimer structure, since the effects of the present invention can be more easily obtained.

重合性化合物(A2)は多重の分岐構造の複数の先端部分に重合性基を有する多官能重合性化合物である。
硬化性の点から、重合性基の数は、好ましくは4以上、より好ましくは6以上である。また、硬化収縮の点から、重合性基の数は、好ましくは18以下、より好ましくは16以下である。
The polymerizable compound (A2) is a polyfunctional polymerizable compound having polymerizable groups at a plurality of ends of a multi-branched structure.
From the viewpoint of curability, the number of polymerizable groups is preferably at least 4, more preferably at least 6. From the viewpoint of cure shrinkage, the number of polymerizable groups is preferably at most 18, more preferably at most 16.

重合性化合物(A2)は、公知の製造方法により製造したものを用いてもよいし、市販のものを用いてもよい。重合性化合物(A2)の製造方法としては、例えば、特開2016-190998号公報に記載の方法が挙げられる。 The polymerizable compound (A2) may be one produced by a known production method, or a commercially available one. Examples of the production method of the polymerizable compound (A2) include the method described in JP-A-2016-190998.

デンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)としては、例えば、大阪有機化学工業株式会社製のビスコート(登録商標)#1000、SIRIUS-501、SUBARU-501等を挙げることができる。
ハイパーブランチ構造を有する重合性化合物(A2)としては、例えば、Arkema社社製のCN2302、CN2303、CN2304等を挙げることができる。
Examples of the polymerizable compound (A2) having a dendrimer structure include Viscoat (registered trademark) #1000, SIRIUS-501, and SUBARU-501 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Ltd.
Examples of the polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure include CN2302, CN2303, and CN2304 manufactured by Arkema.

重合性化合物(A2)の質量平均分子量(Mw)は、好ましくは5000以下、より好ましくは3000以下である。また、上記質量平均分子量(Mw)は、好ましくは500以上、より好ましくは1000以上である。
なお、質量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定した標準ポリスチレン換算の値である。
The polymerizable compound (A2) has a mass average molecular weight (Mw) of preferably 5000 or less, more preferably 3000 or less. The mass average molecular weight (Mw) is preferably 500 or more, more preferably 1000 or more.
The weight average molecular weight (Mw) is a value calculated in terms of standard polystyrene, measured by gel permeation chromatography (GPC).

重合性化合物(A2)の20℃における粘度(以下、「粘度(20℃)」とも記す。)は、好ましくは10000mPa・s以下、より好ましくは7000mPa・s以下、更に好ましくは4000mPa・s以下である。また、重合性化合物(A2)の粘度(20℃)は、好ましくは10mPa・s以上、より好ましくは20mPa・s以上、更に好ましくは40mPa・s以上である。
重合性化合物(A2)の粘度(20℃)は、E型粘度計により測定される値である。
The viscosity of the polymerizable compound (A2) at 20° C. (hereinafter also referred to as “viscosity (20° C.)”) is preferably 10,000 mPa·s or less, more preferably 7,000 mPa·s or less, and even more preferably 4,000 mPa·s or less. The viscosity of the polymerizable compound (A2) at 20° C. is preferably 10 mPa·s or more, more preferably 20 mPa·s or more, and even more preferably 40 mPa·s or more.
The viscosity (20° C.) of the polymerizable compound (A2) is a value measured by an E-type viscometer.

光重合性化合物(A)の質量に対する、重合性化合物(A2)の質量の比率は、10質量%以上90質量%以下が好ましく、20質量%以上80質量%以下がより好ましく、30質量%以上70質量%以下がさらに好ましく、40質量%以上60質量%以下が特に好ましい。 The ratio of the mass of the polymerizable compound (A2) to the mass of the photopolymerizable compound (A) is preferably 10% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, even more preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or more and 60% by mass or less.

〔他の光重合性化合物(A3)〕
光重合性化合物(A)は、所望する効果が損なわれない範囲で、以上説明した芳香環含有重合性化合物(A1)、及びハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)以外に、他の光重合性化合物(A3)を含んでいてもよい。芳香環含有重合性化合物(A1)が、ラジカル重合性基含有基を有する場合、化合物(A3)もラジカル重合性基含有基を有する。芳香環含有重合性化合物(A1)がカチオン重合性基含有基を有する場合、化合物(A3)もカチオン重合性基含有基を有する。
[Other photopolymerizable compounds (A3)]
The photopolymerizable compound (A) may contain other photopolymerizable compounds (A3) in addition to the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and the polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure described above, as long as the desired effect is not impaired. When the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) has a radical polymerizable group-containing group, the compound (A3) also has a radical polymerizable group-containing group. When the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) has a cationic polymerizable group-containing group, the compound (A3) also has a cationic polymerizable group-containing group.

他の光重合性化合物(A3)が、ラジカル重合性基含有基を有する場合、他の光重合性化合物(A3)は、1つのラジカル重合性基を有する単官能化合物であっても、2つ以上のラジカル重合性基を有する多官能化合物であってもよく、多官能化合物が好ましい。
ラジカル重合性基含有基を有する他の光重合性化合物(A3)としては、(メタ)アクリレート化合物や(メタ)アクリルアミド化合物等の1以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましく、1以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリレート化合物がより好ましい。
When the other photopolymerizable compound (A3) has a radically polymerizable group-containing group, the other photopolymerizable compound (A3) may be a monofunctional compound having one radically polymerizable group or a polyfunctional compound having two or more radically polymerizable groups, and a polyfunctional compound is preferred.
As the other photopolymerizable compound (A3) having a radical polymerizable group-containing group, a compound having one or more (meth)acryloyl groups, such as a (meth)acrylate compound or a (meth)acrylamide compound, is preferable, and a (meth)acrylate compound having one or more (meth)acryloyl groups is more preferable.

ラジカル重合性基含有基を有する単官能化合物としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、tert-ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Examples of monofunctional compounds having a radical polymerizable group-containing group include (meth)acrylamide, methylol (meth)acrylamide, methoxymethyl (meth)acrylamide, ethoxymethyl (meth)acrylamide, propoxymethyl (meth)acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth)acrylamide, N-methylol (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, (meth)acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, and tert-butylacrylamide. Examples of such compounds include sulfonic acid, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, glycerin mono(meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, dimethylamino (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl (meth)acrylate, and 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth)acrylate. These monofunctional compounds can be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合性基含有基を有する多官能化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(すなわち、トリレンジイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN-メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能化合物や、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Examples of polyfunctional compounds having radical polymerizable groups include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, butylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexane glycol di(meth)acrylate, dimethylol tricyclodecane di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate. Examples of suitable polyfunctional compounds include polyvinyl alcohol, ...

これらのラジカル重合性基含有基を有する他の光重合性化合物(A3)の中でも、組成物を用いて形成される材料の強度を高める傾向にある点から、3官能以上の多官能化合物が好ましく、4官能以上の多官能化合物がより好ましく、5官能以上の多官能化合物がさらに好ましい。 Among these other photopolymerizable compounds (A3) having a radical polymerizable group, polyfunctional compounds having three or more functional groups are preferred, polyfunctional compounds having four or more functional groups are more preferred, and polyfunctional compounds having five or more functional groups are even more preferred, because they tend to increase the strength of the material formed using the composition.

組成物は、後述する無機微粒子(B)を含む。組成物の組成によっては、組成物を用いて形成される膜中に、無機微粒子(B)がリッチな層と、無機粒子(B)がプアな層とが形成されるような無機微粒子(B)の局在化が生じる場合がある。
かかる局在化を抑制する観点からは、組成物は、ラジカル重合性基含有基を有する他の光重合性化合物(A3)として、下記式(A-2a)、又は下記式(A-2b)で表される化合物を含むのが好ましい。

Figure 2024085734000008
(MA-(O-Ra1na1-X-CH-CH-X-(Ra1-O)na1-MA・・・(A-2b)
(式(A-2a)、及び式(A-2b)中、MAは、それぞれ独立に、(メタ)アクリロイル基であり、Xは、それぞれ独立に、酸素原子、-NH-、又は-N(CH)-であり、Ra1は、それぞれ独立に、エタン-1,2-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、又はプロパン-1,3-ジイル基であり、Ra2は、水酸基、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、又は-X-(Ra1-O)na1-MAで表される基であり(Xは前記と同様であり)、na1、及びna2は、それぞれ独立に、0又は1である。) The composition contains inorganic fine particles (B) described later. Depending on the composition of the composition, localization of the inorganic fine particles (B) may occur in a film formed using the composition, such that a layer rich in the inorganic fine particles (B) and a layer poor in the inorganic particles (B) are formed.
From the viewpoint of suppressing such localization, the composition preferably contains a compound represented by the following formula (A-2a) or the following formula (A-2b) as the other photopolymerizable compound (A3) having a radical polymerizable group-containing group:
Figure 2024085734000008
(MA-(O-R a1 ) na1 -X-CH 2 ) 2 -CH-X-(R a1 -O) na1 -MA... (A-2b)
(In formula (A-2a) and formula (A-2b), each MA is independently a (meth)acryloyl group; each X is independently an oxygen atom, -NH-, or -N(CH 3 )-; each R a1 is independently an ethane-1,2-diyl group, a propane-1,2-diyl group, or a propane-1,3-diyl group; R a2 is a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a group represented by -X-(R a1 -O) na1 -MA (X is the same as above); and each na1 and na2 is independently 0 or 1.)

式(A-2a)において、Ra2としての炭素原子数1以上4以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、及びtert-ブチル基が挙げられる。これらのアルキル基の中では、メチル基、及びエチル基が好ましい。 In formula (A-2a), examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as R a2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Of these alkyl groups, a methyl group and an ethyl group are preferred.

式(A-2a)で表される化合物、及び式(A-2b)で表される化合物の好ましい例としては、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、及び下記の1)~32)の化合物が挙げられる。下記1)~32)の化合物においてMAは(メタ)アクリロイル基である。
1)(MA-NH-CH-C
2)(MA-N(CH)-CH-C
3)(MA-O-CHCHCH-O-CH-C
4)(MA-O-CHCH-O-CH-C
5)(MA-O-CHCHCH-NH-CH-C
6)(MA-O-CHCH-NH-CH-C
7)(MA-O-CHCHCH-N(CH)-CH-C
8)(MA-O-CHCH-N(CH)-CH-C
9)(MA-NH-CH-C-CH-O-CH-C-(CH-NH-MA)
10)(MA-N(CH)-CH-C-CH-O-CH-C-(CH-N(CH)-MA)
11)(MA-O-CHCHCH-O-CH-C-CH-O-CH-C-(CH-O-CHCHCH-O-MA)
12)(MA-O-CHCH-O-CH-C-CH-O-CH-C-(CH-O-CHCH-O-MA)
13)(MA-O-CHCHCH-NH-CH-C-CH-O-CH-C-(CH-NH-CHCHCH-O-MA)
14)(MA-O-CHCH-NH-CH-C-CH-O-CH-C-(CH-NH-CHCH-O-MA)
15)(MA-O-CHCHCH-N(CH)-CH-C-CH-O-CH-C-(CH-N(CH)-CHCHCH-O-MA)
16)(MA-O-CHCH-N(CH)-CH-C-CH-O-CH-C-(CH-N(CH)-CHCH-O-MA)
17)(MA-NH-CH-CH-NH-MA
18)(MA-N(CH)-CH-CH-N(CH)-MA
19)(MA-O-CHCHCH-O-CH-CH-O-CHCHCH-O-MA
20)(MA-O-CHCH-O-CH-CH-C-O-CHCH-O-MA
21)(MA-O-CHCHCH-NH-CH-CH-NH-CHCHCH-O-MA
22)(MA-O-CHCH-NH-CH-CH-NH-CHCH-O-MA
23)(MA-O-CHCHCH-N(CH)-CH-CH-N(CH)-CHCHCH-O-MA
24)(MA-O-CHCH-N(CH)-CH-CH-N(CH)-CHCH-O-MA
25)(MA-NH-CH-C-CHCH
26)(MA-N(CH)-CH-C-CHCH
27)(MA-O-CHCHCH-O-CH-C-CHCH
28)(MA-O-CHCH-O-CH-C-CHCH
29)(MA-O-CHCHCH-NH-CH-C-CHCH
30)(MA-O-CHCH-NH-CH-C-CHCH
31)(MA-O-CHCHCH-N(CH)-CH-C-CHCH
32)(MA-O-CHCH-N(CH)-CH-C-CHCH
Preferred examples of the compound represented by formula (A-2a) and the compound represented by formula (A-2b) include pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, glycerin tri(meth)acrylate, and the following compounds 1) to 32), in which MA is a (meth)acryloyl group.
1) (MA-NH- CH2 ) 4 -C
2) (MA-N( CH3 ) -CH2 ) 4 -C
3) (MA-O- CH2CH2CH2 - O- CH2 ) 4 - C
4) (MA-O- CH2CH2 - O- CH2 ) 4 -C
5) (MA-O- CH2CH2CH2 - NH - CH2 ) 4 -C
6) (MA-O- CH2CH2 - NH - CH2 ) 4 -C
7) (MA-O- CH2CH2CH2 - N ( CH3 ) -CH2 ) 4 -C
8) (MA-O- CH2CH2 - N( CH3 ) -CH2 ) 4 -C
9) (MA-NH- CH2 ) 3 -C- CH2 -O-CH2 - C-( CH2 -NH-MA) 3
10) (MA-N( CH3 ) -CH2 ) 3 -C- CH2- O-CH2 - C-( CH2 -N( CH3 )-MA) 3
11) (MA-O- CH2CH2CH2 -O- CH2 ) 3 - C- CH2 - O -CH2 - C-( CH2 - O - CH2CH2CH2 -O-MA) 3
12) (MA-O- CH2CH2 -O- CH2 ) 3 -C- CH2 - O-CH2 - C-( CH2 -O- CH2CH2 - O -MA) 3
13) (MA-O- CH2CH2CH2 -NH- CH2 ) 3 - C- CH2 - O- CH2- C-( CH2 -NH - CH2CH2CH2 - O -MA) 3
14) (MA-O- CH2CH2 -NH- CH2 ) 3 -C- CH2 - O- CH2- C- ( CH2 -NH- CH2CH2 -O-MA) 3
15) (MA-O- CH2CH2CH2 - N ( CH3 ) -CH2 ) 3 -C- CH2 - O - CH2- C-( CH2 - N(CH3 ) -CH2CH2CH2 -O-MA) 3
16) (MA-O- CH2CH2 - N( CH3 ) -CH2 ) 3 - C- CH2 -O- CH2- C-(CH2 - N( CH3 ) -CH2CH2 -O-MA) 3
17) (MA-NH- CH2 ) 2 -CH-NH-MA
18) (MA-N( CH3 ) -CH2 ) 2- CH-N( CH3 )-MA
19) (MA-O- CH2CH2CH2 - O - CH2 ) 2 - CH - O- CH2CH2CH2 -O-MA
20) (MA-O- CH2CH2 - O - CH2 ) 2 -CH-C-O- CH2CH2 - O -MA
21) (MA-O - CH2CH2CH2 -NH- CH2 ) 2 - CH -NH - CH2CH2CH2 -O-MA
22) (MA-O- CH2CH2 - NH - CH2 ) 2 - CH2 -NH - CH2CH2- O -MA
23) (MA-O-CH2CH2CH2 - N ( CH3 ) -CH2 ) 2 - CH2 - N( CH3 ) -CH2CH2CH2 -O-MA
24) (MA-O- CH2CH2 - N( CH3 ) -CH2 ) 2 - CH2 -N( CH3 )-CH2CH2- O -MA
25) (MA-NH- CH2 ) 3 -C - CH2CH3
26) (MA-N( CH3 ) -CH2 ) 3 -C - CH2CH3
27) (MA-O- CH2CH2CH2 - O - CH2 ) 3 -C - CH2CH3
28) (MA-O- CH2CH2 - O- CH2 ) 3 -C - CH2CH3
29) (MA-O- CH2CH2CH2 - NH - CH2 ) 3 -C - CH2CH3
30) (MA-O- CH2CH2 - NH - CH2 ) 3 -C - CH2CH3
31) (MA-O- CH2CH2CH2 - N ( CH3 ) -CH2 ) 3 - C - CH2CH3
32) (MA-O- CH2CH2 - N( CH3 ) -CH2 ) 3 -C - CH2CH3

組成物における光重合性化合物(A)の含有量は、所望する効果が阻害されない範囲で特に限定されない。組成物における光重合性化合物(A)の含有量は、後述する溶媒(S)の質量を除いた組成物の質量を100質量部としたときに、0.1質量部以上50質量部以下が好ましく、0.5質量部以上40質量部以下がより好ましく、1質量部以上25質量部以下が特に好ましい。 The content of the photopolymerizable compound (A) in the composition is not particularly limited as long as the desired effect is not inhibited. The content of the photopolymerizable compound (A) in the composition is preferably 0.1 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass or more and 40 parts by mass or less, and particularly preferably 1 part by mass or more and 25 parts by mass or less, when the mass of the composition excluding the mass of the solvent (S) described below is taken as 100 parts by mass.

<無機微粒子(B)>
組成物は、無機微粒子(B)を含む。無機微粒子(B)の材質は、無機材料であれば特に限定されない。無機微粒子(B)は、金属酸化物微粒子(B1)、及び金属微粒子(B2)からなる群より選択される1種以上であるのが好ましい。
組成物が金属酸化物微粒子(B1)を含む場合、組成物を用いて屈折率の高い材料を形成しやすい。組成物が金属微粒子(B2)を含む場合、組成物を用いて形成される材料に導電性が付与されたり、組成物を用いて形成される材料の特定波長の光吸収を強めたりする。このため、金属微粒子(B2)を含む組成物は、バンドパスフィルターに適用し得る材料の形成に用いられる。
金属酸化物微粒子(B1)を構成する金属酸化物の種類は、所望する効果が損なわれない限り特に限定されない。金属酸化物微粒子(B1)の好ましい例としては、酸化ジルコニウム微粒子、酸化チタン微粒子、チタン酸バリウム微粒子、酸化セリウム微粒子、及び酸化ニオブ微粒子からなる群より選択される少なくとも1種が挙げられる。
金属微粒子(B2)構成する金属の種類は、所望する効果が損なわれない限り特に限定されない。金属微粒子(B2)を構成する金属は、単体であっても、合金であってもよい。金属微粒子(B2)の好ましい例としては、金微粒子、及び白金微粒子が挙げられる。その他の好ましい無機微粒子(B)としては、半金属微粒子であるシリコン微粒子(SiNC(シリコンナノ粒子))が挙げられる。
以上説明した無機微粒子の具体例の中では、金属酸化物微粒子(B1)である酸化チタン微粒子、酸化ジルコニウム微粒子、及び酸化ニオブ微粒子からなる群より選択される少なくとも1種が特に好ましい。
組成物は、これらの無機微粒子(B)のうちの1種を単独で含んでもよく、2種以上を組み合わせて含んでいてもよい。
<Inorganic fine particles (B)>
The composition contains inorganic fine particles (B). The material of the inorganic fine particles (B) is not particularly limited as long as it is an inorganic material. The inorganic fine particles (B) are preferably one or more selected from the group consisting of metal oxide fine particles (B1) and metal fine particles (B2).
When the composition contains metal oxide fine particles (B1), it is easy to form a material with a high refractive index using the composition. When the composition contains metal fine particles (B2), the material formed using the composition is given electrical conductivity, or the light absorption of a specific wavelength of the material formed using the composition is enhanced. For this reason, the composition containing metal fine particles (B2) is used to form a material that can be applied to a bandpass filter.
The type of metal oxide constituting the metal oxide fine particles (B1) is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired. Preferred examples of the metal oxide fine particles (B1) include at least one selected from the group consisting of zirconium oxide fine particles, titanium oxide fine particles, barium titanate fine particles, cerium oxide fine particles, and niobium oxide fine particles.
The type of metal constituting the metal fine particles (B2) is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired. The metal constituting the metal fine particles (B2) may be a simple substance or an alloy. Preferred examples of the metal fine particles (B2) include gold fine particles and platinum fine particles. Other preferred examples of the inorganic fine particles (B) include silicon fine particles (SiNC (silicon nanoparticles)), which are semimetallic fine particles.
Among the specific examples of the inorganic fine particles explained above, at least one selected from the group consisting of titanium oxide fine particles, zirconium oxide fine particles, and niobium oxide fine particles, which are metal oxide fine particles (B1), is particularly preferred.
The composition may contain one type of these inorganic fine particles (B) alone or two or more types in combination.

無機微粒子(B)の平均粒子径は、組成物を用いて形成される材料の透明性の点や、組成物中での無機微粒子(B)の分散の安定性の点から、500nm以下が好ましく、2nm以上100nm以下が好ましい。 The average particle size of the inorganic fine particles (B) is preferably 500 nm or less, and more preferably 2 nm or more and 100 nm or less, from the viewpoints of the transparency of the material formed using the composition and the dispersion stability of the inorganic fine particles (B) in the composition.

金属酸化物微粒子(B1)について、その表面が、エチレン性不飽和二重結合含有基で修飾されているものが好ましい。
金属酸化物微粒子(B1)の表面がエチレン性不飽和二重結合含有基で修飾されている場合、金属酸化物微粒子(B1)の凝集が起こりにくくなるため、金属酸化物微粒子(B1)の表面がエチレン性不飽和二重結合含有基で修飾されていると、組成物を用いて形成される材料における金属酸化物微粒子(B1)の局在を特に抑制しやすい。
The metal oxide fine particles (B1) are preferably those whose surfaces are modified with an ethylenically unsaturated double bond-containing group.
When the surface of the metal oxide fine particles (B1) is modified with an ethylenically unsaturated double bond-containing group, aggregation of the metal oxide fine particles (B1) is less likely to occur. Therefore, when the surface of the metal oxide fine particles (B1) is modified with an ethylenically unsaturated double bond-containing group, localization of the metal oxide fine particles (B1) in a material formed using the composition is particularly easily suppressed.

例えば、金属酸化物微粒子(B1)の表面に、エチレン性不飽和二重結合を含むキャッピング剤を作用させることにより、共有結合等の化学結合を介してその表面が、エチレン性不飽和二重結合含有基で修飾された金属酸化物微粒子(B1)が得られる。 For example, by applying a capping agent containing an ethylenically unsaturated double bond to the surface of metal oxide fine particles (B1), metal oxide fine particles (B1) whose surface is modified with an ethylenically unsaturated double bond-containing group via a chemical bond such as a covalent bond can be obtained.

金属酸化物微粒子(B1)の表面に、エチレン性不飽和二重結合を含むキャッピング剤を、共有結合等の化学結合を介して結合させる方法は特に限定されない。金属酸化物微粒子(B1)の表面には通常、水酸基が存在している。かかる水酸基とキャッピング剤が有する反応性基とを反応させることにより、金属酸化物微粒子(B1)の表面にキャッピング剤が共有結合する。
キャッピング剤が有する反応性基の好ましい例としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシリル基等のトリアルコキシシリル基;ジメトキシシリル基、ジエトキシシリル基等のジアルコキシシリル基;モノメトキシシリル基、モノエトキシシリル基等のモノアルコキシシリル基;トリクロロシリル基等のトリハロシリル基;ジクロロシリル基等のジハロシリル基;モノクロロシリル基等のモノハロシリル基;カルボキシ基;クロロカルボニル基等のハロカルボニル基;水酸基;ホスホノ基(-P(=O)(OH));ホスフェート基(-O-P(=O)(OH))が挙げられる。
There is no particular limitation on the method for bonding the capping agent containing an ethylenically unsaturated double bond to the surface of the metal oxide fine particles (B1) via a chemical bond such as a covalent bond. Hydroxyl groups are usually present on the surface of the metal oxide fine particles (B1). The capping agent is covalently bonded to the surface of the metal oxide fine particles (B1) by reacting the hydroxyl groups with reactive groups of the capping agent.
Preferred examples of the reactive group possessed by the capping agent include trialkoxysilyl groups such as trimethoxysilyl group and triethoxyl group; dialkoxysilyl groups such as dimethoxysilyl group and diethoxysilyl group; monoalkoxysilyl groups such as monomethoxysilyl group and monoethoxysilyl group; trihalosilyl groups such as trichlorosilyl group; dihalosilyl groups such as dichlorosilyl group; monohalosilyl groups such as monochlorosilyl group; carboxy group; halocarbonyl groups such as chlorocarbonyl group; hydroxyl group; phosphono group (-P(=O)(OH) 2 ); and phosphate group (-O-P(=O)(OH) 2 ).

トリアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、モノアルコキシシリル基、トリハロシリル基、ジハロシリル基、及びモノハロシリル基は、金属酸化物ナノ粒子(B)の表面とシロキサン結合を形成する。
カルボキシ基、及びハロカルボニル基は、金属酸化物微粒子(B1)の表面と、(金属酸化物-O-CO-)で表される結合を形成する。
水酸基は、金属酸化物微粒子(B)の表面と、(金属酸化物-O-)で表される結合を形成する。
ホスホノ基、及びホスフェート基は、金属酸化物微粒子(B1)の表面と、(金属酸化物-O-P(=O)<)で表される結合を形成する。
The trialkoxysilyl group, the dialkoxysilyl group, the monoalkoxysilyl group, the trihalosilyl group, the dihalosilyl group, and the monohalosilyl group form a siloxane bond with the surface of the metal oxide nanoparticles (B).
The carboxy group and the halocarbonyl group form a bond represented by (metal oxide --O--CO--) with the surface of the metal oxide fine particles (B1).
The hydroxyl group forms a bond represented by (metal oxide-O-) with the surface of the metal oxide fine particles (B).
The phosphono group and the phosphate group form a bond represented by (metal oxide-O--P(=O)<) with the surface of the metal oxide fine particles (B1).

キャッピング剤において、上記の反応性基に結合する基としては、水素原子と、種々の有機基が挙げられる。有機基は、O、N、S、P、B、Si、ハロゲン原子等のヘテロ原子を含んでいてもよい。
上記の反応性基に結合する基としては、例えば、直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、酸素原子(-O-)で中断されていてもよいアルキル基、直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、酸素原子(-O-)で中断されていてもよいアルケニル基、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、酸素原子(-O-)で中断されていてもよいアルキニル基、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、及び複素環基等が挙げられる。
これらの基は、ハロゲン原子、グリシジル基等のエポキシ基含有基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、(メタ)アクリロイル基、及びイソシアネート基等の置換基で置換されていてもよい。また、置換基の数は特に限定されない。
In the capping agent, the group that bonds to the reactive group may be a hydrogen atom or various organic groups, which may contain heteroatoms such as O, N, S, P, B, Si, or halogen atoms.
Examples of the group that bonds to the reactive group include an alkyl group which may be linear or branched and may be interrupted by an oxygen atom (-O-), an alkenyl group which may be linear or branched and may be interrupted by an oxygen atom (-O-), an alkynyl group which may be linear or branched and may be interrupted by an oxygen atom (-O-), a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclic group.
These groups may be substituted with a substituent such as a halogen atom, an epoxy group-containing group such as a glycidyl group, a hydroxyl group, a mercapto group, an amino group, a (meth)acryloyl group, an isocyanate group, etc. The number of the substituents is not particularly limited.

また、上記の反応性基に結合する基としては、-(SiRb1b2-O-)-(SiRb3b4-O-)-Rb5で表される基も好ましい。Rb1、Rb2、Rb3、及びRb4は、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい有機基である。有機基の好適な例としては、メチル基、エチル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基等のアルケニル基;フェニル基、ナフチル基、トリル基等の芳香族炭化水素基;3-グリシドキシプロピル基等のエポキシ基含有基;(メタ)アクリロイルオキシ基等が挙げられる。
上記式中Rb5としては、例えば、-Si(CH、-Si(CHH、-Si(CH(CH=CH)、及び-Si(CH(CHCHCHCH)等の末端基が挙げられる。
上記式中のr及びsは、それぞれ独立に0以上60以下の整数である。上記式中のr及びsは双方が0であることはない。
Furthermore, as the group bonded to the above reactive group, a group represented by -(SiR b1 R b2 -O-) r -(SiR b3 R b4 -O-) s -R b5 is also preferred. R b1 , R b2 , R b3 and Rb4 are each an organic group which may be the same or different. Suitable examples of the organic group include alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group; alkenyl groups such as a vinyl group and an allyl group; aromatic hydrocarbon groups such as a phenyl group, a naphthyl group and a tolyl group; epoxy group-containing groups such as a 3-glycidoxypropyl group; and a (meth)acryloyloxy group.
In the above formula, examples of R b5 include terminal groups such as -Si(CH 3 ) 3 , -Si(CH 3 ) 2 H, -Si(CH 3 ) 2 (CH=CH 2 ), and -Si(CH 3 ) 2 (CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ).
In the above formula, r and s are each independently an integer of 0 to 60. In the above formula, r and s cannot both be 0.

キャッピング剤の好適な具体例としては、ビニルトリメトキシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、1-ヘキセニルトリメトキシシラン,1-ヘキセニルトリエトキシシラン、1-オクテニルトリメトキシシラン、1-オクテニルトリエトキシシラン、3-アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、等の不飽和基含有アルコキシシラン;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、アリルアルコール、エチレングリコールモノアリルエーテル、プロピレングリコールモノアリルエーテル、及び3-アリルオキシプロパノール等の不飽和基含有アルコール類;(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸クロライド等の(メタ)アクリル酸ハライド等が挙げられる。 Specific examples of suitable capping agents include unsaturated group-containing alkoxysilanes such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, 1-hexenyltrimethoxysilane, 1-hexenyltriethoxysilane, 1-octenyltrimethoxysilane, 1-octenyltriethoxysilane, 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloylpropyltriethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, and 3-methacryloyloxypropyltriethoxysilane; unsaturated group-containing alcohols such as 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, allyl alcohol, ethylene glycol monoallyl ether, propylene glycol monoallyl ether, and 3-allyloxypropanol; (meth)acrylic acid; and (meth)acrylic acid halides such as (meth)acrylic acid chloride.

金属酸化物微粒子(B1)の表面に、キャッピング剤を共有結合等の化学結合を介して結合させる際のキャッピング剤の使用量は特に限定されない。好ましくは、金属酸化物微粒子(B1)の表面の水酸基のほぼ全てと反応するのに十分な量のキャッピング剤が使用される。 The amount of capping agent used when bonding the capping agent to the surface of the metal oxide fine particles (B1) via a chemical bond such as a covalent bond is not particularly limited. Preferably, a sufficient amount of capping agent is used to react with almost all of the hydroxyl groups on the surface of the metal oxide fine particles (B1).

組成物中の無機微粒子(B)の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。組成物中の無機微粒子(B)の含有量は、組成物の溶媒(S)の質量を除いた質量に対して、5質量%以上95質量%以下が好ましく、35質量%以上93質量%以下がより好ましく、40質量%以上90質量%以下がさらに好ましい。
組成物中の無機微粒子(B)の含有量が上記の範囲内であることにより、無機微粒子(B)が安定して分散した組成物を得やすく、また、組成物を用いて、無機微粒子(B)の使用によりもたらされる所望する効果を有する材料を形成しやすい。
無機微粒子(B)が、金属酸化物微粒子(B1)である場合、特に屈折率が高い材料を形成しやすい点からは、組成物中の金属酸化物微粒子(B1)の含有量は、組成物の溶媒(S)の質量を除いた質量に対して、90質量%以上が好ましく、90質量%以上98質量%以下がより好ましく、90質量%以上95質量%以下がさらに好ましい。
なお、金属酸化物微粒子(B1)の表面に、エチレン性不飽和二重結合含有基で修飾されている場合、金属酸化物微粒子(B1)の表面に存在するエチレン性不飽和二重結合含有基を有するキャッピング剤の質量を、金属酸化物微粒子(B1)の質量に含める。
The content of the inorganic fine particles (B) in the composition is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. The content of the inorganic fine particles (B) in the composition is preferably 5% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 35% by mass or more and 93% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or more and 90% by mass or less, based on the mass of the composition excluding the mass of the solvent (S).
When the content of the inorganic fine particles (B) in the composition is within the above range, it is easy to obtain a composition in which the inorganic fine particles (B) are stably dispersed, and it is also easy to form a material having the desired effects brought about by the use of the inorganic fine particles (B) using the composition.
When the inorganic fine particles (B) are metal oxide fine particles (B1), from the viewpoint of facilitating the formation of a material having a high refractive index, the content of the metal oxide fine particles (B1) in the composition is preferably 90 mass% or more, more preferably 90 mass% or more and 98 mass% or less, and even more preferably 90 mass% or more and 95 mass% or less, relative to the mass of the composition excluding the mass of the solvent (S).
In addition, when the surface of the metal oxide fine particles (B1) is modified with an ethylenically unsaturated double bond-containing group, the mass of the capping agent having an ethylenically unsaturated double bond-containing group present on the surface of the metal oxide fine particles (B1) is included in the mass of the metal oxide fine particles (B1).

〔可塑剤(D)〕
組成物は、可塑剤(D)を含んでいてもよい。可塑剤(D)は、組成物を用いて形成される材料の高屈折率等の諸物性を大きく損なうことなく、組成物を低粘度化させる成分である。
[Plasticizer (D)]
The composition may contain a plasticizer (D). The plasticizer (D) is a component that reduces the viscosity of the composition without significantly impairing the physical properties, such as the high refractive index, of a material formed using the composition.

可塑剤(D)としては、下記式(d-1)で表される化合物が好ましい。
d1-Rd3 -X-Rd4 -Rd2・・・(d-1)
(式(d-1)中、Rd1、及びRd2は、それぞれ独立に、1以上5以下の置換基を有してもよいフェニル基であり、前記置換基が、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基、及びハロゲン原子から選択され、Rd3、及びRd4は、それぞれ独立にメチレン基、又はエタン-1,2-ジイル基であり、r、及びsは、それぞれ独立に0、又は1であり、Xは、酸素原子、又は硫黄原子である。)
The plasticizer (D) is preferably a compound represented by the following formula (d-1):
R d1 -R d3 r -X d -R d4 s -R d2 ... (d-1)
(In formula (d-1), R d1 and R d2 each independently represent a phenyl group which may have 1 to 5 substituents, and the substituents are selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom; R d3 and R d4 each independently represent a methylene group or an ethane-1,2-diyl group; r and s each independently represent 0 or 1; and X d represents an oxygen atom or a sulfur atom.)

組成物がかかる可塑剤(D)を含むことにより、組成物を用いて形成される材料の高屈折率等の諸物性を大きく損なうことなく、組成物が低粘度化される。
組成物の低粘度化の観点で、可塑剤(D)の、25℃においてE型粘度計により測定される粘度は、10cP以下が好ましく、8cP以下がより好ましく、6cP以下がさらに好ましい。
また、可塑剤(D)が揮発しにくく、組成物の低粘度化の効果を維持しやすい点から、可塑剤(D)の大気圧下での沸点が250℃以上であるのが好ましく、260℃以上であるのがより好ましい。可塑剤(D)の大気圧下での沸点の上限は特に限定されないが、例えば、300℃以下でよく、350℃以下でもよい。
By including such a plasticizer (D) in the composition, the viscosity of the composition can be reduced without significantly impairing the physical properties, such as the high refractive index, of a material formed using the composition.
From the viewpoint of reducing the viscosity of the composition, the viscosity of the plasticizer (D) measured at 25° C. with an E-type viscometer is preferably 10 cP or less, more preferably 8 cP or less, and even more preferably 6 cP or less.
In addition, in order to prevent the plasticizer (D) from volatilizing easily and to easily maintain the effect of reducing the viscosity of the composition, the boiling point of the plasticizer (D) under atmospheric pressure is preferably 250° C. or higher, and more preferably 260° C. or higher. The upper limit of the boiling point of the plasticizer (D) under atmospheric pressure is not particularly limited, but may be, for example, 300° C. or lower, or 350° C. or lower.

式(d-1)におけるRd1、及びRd2は、それぞれ独立に、1以上5以下の置換基を有してもよいフェニル基である。フェニル基に結合する置換基は、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基、及びハロゲン原子から選択される基である。フェニル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。置換基の数は、1以上5以下であり、1又は2が好ましく、1が好ましい。組成物の低粘度化の観点からは、Rd1、及びRd2がそれぞれ無置換のフェニル基であるのが好ましい。 R d1 and R d2 in formula (d-1) are each independently a phenyl group which may have 1 to 5 substituents. The substituent bonded to the phenyl group is a group selected from an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a halogen atom. When the phenyl group has a substituent, the number of the substituents is not particularly limited. The number of the substituents is 1 to 5, preferably 1 or 2, and more preferably 1. From the viewpoint of reducing the viscosity of the composition, it is preferable that R d1 and R d2 are each an unsubstituted phenyl group.

置換基としての炭素原子数1以上4以下のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、及びtert-ブチル基が挙げられる。置換基としての炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、及びtert-ブチルオキシ基が挙げられる。置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。 Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms as a substituent include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms as a substituent include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, and a tert-butyloxy group. Examples of the halogen atom as a substituent include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

式(d-1)におけるRd3、及びRd4は、それぞれ独立にメチレン基、又はエタン-1,2-ジイル基である。また、r、及びsは、それぞれ独立に0、又は1である。
式(d-1)におけるXは、酸素原子、又は硫黄原子である。
In formula (d-1), R d3 and R d4 each independently represent a methylene group or an ethane-1,2-diyl group.
In formula (d-1), Xd is an oxygen atom or a sulfur atom.

以上説明した式(d-1)で表される化合物の好ましい具体例としては、ジフェニルエーテル、ジフェニルスルフィド、ジベンジルエーテル、ジベンジルスルフィド、ジフェネチルエーテル、及びジフェネチルスルフィドが挙げられる。これらの中では、ジフェニルスルフィド、及び/又はジベンジルエーテルがより好ましい。 Specific preferred examples of the compound represented by formula (d-1) described above include diphenyl ether, diphenyl sulfide, dibenzyl ether, dibenzyl sulfide, diphenethyl ether, and diphenethyl sulfide. Among these, diphenyl sulfide and/or dibenzyl ether are more preferred.

組成物の可塑剤(D)の含有量は、組成物全体の質量に対して、粘度調整と無機微粒子(B)の分散性との両立の点で、0質量%超35質量%以下が好ましく、5質量%以上15質量%以下がより好ましい。 The content of the plasticizer (D) in the composition is preferably more than 0% by mass and not more than 35% by mass, more preferably 5% by mass or more and not more than 15% by mass, in terms of achieving both viscosity adjustment and dispersibility of the inorganic fine particles (B) relative to the mass of the entire composition.

〔含窒素化合物(E)〕
組成物を用いて形成される材料における無機微粒子(B)の局在を抑制しやすくする目的で、組成物は、下記式(e1)で表されるアミン化合物(E1)、及び/又は下記式(e2)で表されるイミン化合物(E2)を、含窒素化合物(E)として含んでいてもよい。
NRe1e2e3・・・(e1)
(式(e1)中、Re1、Re2、及びRe3は、それぞれ独立に水素原子、又は有機基である。)
e4-N=CRe5e6・・・(e2)
(式(e2)中、Re4、Re5、及びRde6は、それぞれ独立に水素原子、又は有機基である。)
[Nitrogen-containing compound (E)]
For the purpose of easily suppressing localization of the inorganic fine particles (B) in a material formed using the composition, the composition may contain, as a nitrogen-containing compound (E), an amine compound (E1) represented by the following formula (e1) and/or an imine compound (E2) represented by the following formula (e2):
NR e1 R e2 R e3 ... (e1)
In formula (e1), R e1 , R e2 , and R e3 each independently represent a hydrogen atom or an organic group.
R e4 −N═CR e5 R e6 . . . (e2)
(In formula (e2), R e4 , R e5 , and R de6 each independently represent a hydrogen atom or an organic group.)

式(e1)、及び式(e2)において、Re1、Re2、Re3、Re4、Re5、及びRde6が有機基である場合、当該有機基は、所望する効果が損なわれない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、1以上の炭素原子、並びにH、O、S、Se、N、B、P、Si、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、1以上50以下が好ましく、1以上20以下がより好ましい。
有機基の好適な例としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基等が挙げられる。
In formula (e1) and formula (e2), when R e1 , R e2 , R e3 , R e4 , R e5 , and R de6 are organic groups, the organic groups can be selected from various organic groups within the scope of not impairing the desired effect. As the organic group, a carbon atom-containing group is preferable, and a group consisting of one or more carbon atoms and one or more atoms selected from the group consisting of H, O, S, Se, N, B, P, Si, and halogen atoms is more preferable. The number of carbon atoms of the carbon atom-containing group is not particularly limited, and is preferably 1 to 50, more preferably 1 to 20.
Suitable examples of the organic group include an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, and a heterocyclyl group which may have a substituent.

有機基としてのアルキル基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。アルキル基の構造は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、イソノニル基、n-デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 The number of carbon atoms of the alkyl group as an organic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 6. The structure of the alkyl group may be linear or branched. Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, isopentyl, sec-pentyl, tert-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, isooctyl, sec-octyl, tert-octyl, n-nonyl, isononyl, n-decyl, and isodecyl. The alkyl group may also contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of alkyl groups having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

有機基としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、3以上10以下が好ましく、3以上6以下がより好ましい。シクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。 The number of carbon atoms in the cycloalkyl group as an organic group is preferably 3 to 10, more preferably 3 to 6. Specific examples of cycloalkyl groups include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, and cyclooctyl groups.

有機基としてのフェニルアルキル基の炭素原子数は、7以上20以下が好ましく、7以上10以下がより好ましい。また、有機基としてのナフチルアルキル基の炭素原子数は、11以上20以下が好ましく、11以上14以下がより好ましい。フェニルアルキル基の具体例としては、ベンジル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、及び4-フェニルブチル基が挙げられる。ナフチルアルキル基の具体例としては、α-ナフチルメチル基、β-ナフチルメチル基、2-(α-ナフチル)エチル基、及び2-(β-ナフチル)エチル基が挙げられる。フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 The number of carbon atoms of the phenylalkyl group as an organic group is preferably 7 to 20, more preferably 7 to 10. The number of carbon atoms of the naphthylalkyl group as an organic group is preferably 11 to 20, more preferably 11 to 14. Specific examples of the phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples of the naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. The phenylalkyl group or the naphthylalkyl group may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

有機基としてのヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、式(c3)中のRc4がヘテロシクリル基である場合と同様であり、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。 In the case where the organic group is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is the same as when R c4 in formula (c3) is a heterocyclyl group, and the heterocyclyl group may further have a substituent.

有機基としてのヘテロシクリル基は、脂肪族複素環基であっても、芳香族複素環基であってもよい。ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基であるのが好ましい。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。 The heterocyclyl group as an organic group may be an aliphatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group. The heterocyclyl group is preferably a 5- or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, or O, or a heterocyclyl group in which such monocyclic rings are condensed with each other, or such a monocyclic ring is condensed with a benzene ring. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings is up to 3. Examples of heterocyclic rings constituting such heterocyclyl groups include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran.

上記の有機基中に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、炭素原子数1以上6以下のハロゲン化アルキル基、炭素原子数1以上6以下のハロゲン化アルコキシ基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上7以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、ベンゾイル基、ハロゲン原子、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
有機基中に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が置換基を有する場合、その置換基の数は、特に限定されず、1以上4以下が好ましい。有機基中に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。
When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in the above organic group have a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having from 1 to 6 carbon atoms, a halogenated alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms, a halogenated alkoxy group having from 1 to 6 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having from 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having from 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having from 2 to 7 carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms, a dialkylamino group having an alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms, a benzoyl group, a halogen atom, a nitro group, and a cyano group.
When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in the organic group have a substituent, the number of the substituents is not particularly limited, and is preferably from 1 to 4. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in the organic group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.

式(e1)中、Re1、Re2、及びRe3は、それぞれ独立に水素原子、又は有機基であり、Re1、Re2、及びRe3の少なくとも1つが芳香族基含有基である。
また、式(e2)中、Re4、Re5、及びRde6は、それぞれ独立に水素原子、又は有機基であり、Re4、Re5、及びRde6の少なくとも1つが芳香族基含有基である。
芳香族基含有基中の芳香環は、芳香族炭化水素環でも、芳香族複素環でもよい。芳香族基含有基としては、炭化水素基が好ましい。芳香族基含有基としては、芳香族炭化水素基(アリール基)、及びアラルキル基が好ましい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフタレン-1-イル基、及びナフタレン-2-イル基が挙げられる。これらの芳香族炭化水素基の中では、フェニル基が好ましい。
アラルキル基としては、ベンジル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、及び4-フェニルブチル基が挙げられる。
In formula (e1), R e1 , R e2 and R e3 each independently represent a hydrogen atom or an organic group, and at least one of R e1 , R e2 and R e3 is an aromatic group-containing group.
In addition, in formula (e2), R e4 , R e5 , and R de6 each independently represent a hydrogen atom or an organic group, and at least one of R e4 , R e5 , and R de6 is an aromatic group-containing group.
The aromatic ring in the aromatic group-containing group may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle. The aromatic group-containing group is preferably a hydrocarbon group. The aromatic group-containing group is preferably an aromatic hydrocarbon group (aryl group) or an aralkyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthalene-1-yl group, and a naphthalene-2-yl group. Of these aromatic hydrocarbon groups, a phenyl group is preferred.
Aralkyl groups include benzyl, 2-phenylethyl, 3-phenylpropyl, and 4-phenylbutyl groups.

式(e1)において、Re1、Re2、及びRe3の少なくとも1つがAre1-CH-で表される基であるのが好ましい。また、式(d2)において、Re4がAre1-CH-で表される基であるのが好ましい。Are1は、置換基を有してもよい芳香族基である。
Are1としての芳香族基は、芳香族炭化水素基でも、芳香族複素環基でもよい。Are1としての芳香族基としては、芳香族炭化水素基が好ましい。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフタレン-1-イル基、及びナフタレン-2-イル基が挙げられる。これらの芳香族炭化水素基の中では、フェニル基が好ましい。
Are1としての芳香族基が有してもよい置換基は、Re1、Re2、Re3、Re4、Re5、及びRe6としての有機基がフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基である場合に、これらの基が有してもよい置換基と同様である。
In formula (e1), at least one of R e1 , R e2 and R e3 is preferably a group represented by Ar e1 -CH 2 -. In formula (d2), R e4 is preferably a group represented by Ar e1 -CH 2 -. Ar e1 is an aromatic group which may have a substituent.
The aromatic group represented by Ar e1 may be an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group. The aromatic group represented by Ar e1 is preferably an aromatic hydrocarbon group. Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthalene-1-yl group, and a naphthalene-2-yl group. Of these aromatic hydrocarbon groups, a phenyl group is preferred.
The substituents that the aromatic group represented by Ar e1 may have are the same as the substituents that the organic groups represented by R e1 , R e2 , R e3 , R e4 , R e5 , and R e6 may have when they are a phenyl group, a naphthyl group, or a heterocyclyl group.

式(e1)で表されるアミン化合物の好適な具体例としては、トリフェニルアミン、N,N-ジフェニルベンジルアミン、N-フェニルジベンジルアミン、トリベンジアルミン、N,N-ジメチルフェニルアミン、N-メチルジフェニルアミン、N,N-ジメチルベンジルアミン、N-メチルジベンジルアミン、N-メチル-N-ベンジルフェニルアミン、N,N-ジエチルフェニルアミン、N-エチルジフェニルアミン、N,N-ジエチルベンジルアミン、N-エチルジベンジルアミン、及びN-エチル-N-ベンジルフェニルアミンが挙げられる。 Specific examples of suitable amine compounds represented by formula (e1) include triphenylamine, N,N-diphenylbenzylamine, N-phenyldibenzylamine, tribendialumine, N,N-dimethylphenylamine, N-methyldiphenylamine, N,N-dimethylbenzylamine, N-methyldibenzylamine, N-methyl-N-benzylphenylamine, N,N-diethylphenylamine, N-ethyldiphenylamine, N,N-diethylbenzylamine, N-ethyldibenzylamine, and N-ethyl-N-benzylphenylamine.

式(e2)で表されるイミン化合物の好適な具体例としては、N-ベンジルフェニルメタンイミン、N-ベンジルジフェニルメタンイミン、N-ベンジル-1-フェニルエタンイミン、及びN-ベンジルプロパン-2-イミンが挙げられる。 Specific examples of suitable imine compounds represented by formula (e2) include N-benzylphenylmethanimine, N-benzyldiphenylmethanimine, N-benzyl-1-phenylethanimine, and N-benzylpropan-2-imine.

組成物における含窒素化合物(E)の含有量は、所望する効果が損なわれない限り特に限定されない。含窒素化合物(E)の含有量は、光重合性化合物(A)の質量に対して、5質量%以上25質量%以下が好ましく、7質量%以上20質量%以下がより好ましい。 The content of the nitrogen-containing compound (E) in the composition is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired. The content of the nitrogen-containing compound (E) is preferably 5% by mass or more and 25% by mass or less, and more preferably 7% by mass or more and 20% by mass or less, relative to the mass of the photopolymerizable compound (A).

<トリアジン化合物(F)>
組成物を用いて形成される材料を高屈折率化させる目的で、組成物は、トリアジン化合物(F)として、下記式(F1)で表される化合物を含んでいてもよい。

Figure 2024085734000009
<Triazine Compound (F)>
For the purpose of increasing the refractive index of a material formed using the composition, the composition may contain a compound represented by the following formula (F1) as the triazine compound (F).
Figure 2024085734000009

式(F1)中、RF1、RF2、及びRF3は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい単環式芳香族基、又は置換基を有してもよい縮合式芳香族基である。
ただし、RF1、RF2、及びRF3は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基を含まない。
単環式芳香族基、又は縮合式芳香族基が置換基を有する場合、置換基が芳香環を含まない。
トリアジン環に結合している3つの-NH-基は、それぞれ、RF1、RF2、及び、RF3中の芳香環に結合する。
In formula (F1), R F1 , R F2 and R F3 each independently represent a monocyclic aromatic group which may have a substituent, or a fused aromatic group which may have a substituent.
However, R F1 , R F2 and R F3 do not contain a radically polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group.
When the monocyclic aromatic group or the fused aromatic group has a substituent, the substituent does not contain an aromatic ring.
The three --NH-- groups bonded to the triazine ring are bonded to aromatic rings in R F1 , R F2 , and R F3 , respectively.

F1、RF2、及びRF3としての単環式芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても、芳香族複素環基であってもよい。単環式芳香族基としては、フェニル基、ピリジニル基、ピミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、フラニル基、チエニル基、オキサゾリル基、及びチアゾリル基等が挙げられる。 The monocyclic aromatic group represented by R F1 , R F2 , and R F3 may be an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group. Examples of the monocyclic aromatic group include a phenyl group, a pyridinyl group, a pyrimidinyl group, a pyrazinyl group, a pyridazinyl group, a furanyl group, a thienyl group, an oxazolyl group, and a thiazolyl group.

単環式芳香族基が有してもよい置換基の例としては、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、及び1価の有機基が挙げられる。ただし、1価の有機基は、芳香環を含まない。
置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
1価の有機基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、及び脂肪族アシルチオ基等が挙げられる。
Examples of the substituent that the monocyclic aromatic group may have include a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a cyano group, a nitro group, and a monovalent organic group, provided that the monovalent organic group does not contain an aromatic ring.
Examples of the halogen atom as a substituent include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the monovalent organic group include an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkyl group, an aliphatic acyl group, an aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group, an alkylthio group, and an aliphatic acylthio group.

置換基としての1価の有機基の炭素原子数は、所望する効果が損なわれない限り特に限定されない。置換基としての1価の有機基の炭素原子数としては、例えば1以上20以下が好ましく、1以上12以下がより好ましく、1以上8以下がさらに好ましい。アルコキシアルキル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシアルキルチオ基、及び脂肪族アシルチオ基については、その炭素原子数の下限は2である。 The number of carbon atoms of the monovalent organic group as a substituent is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired. The number of carbon atoms of the monovalent organic group as a substituent is, for example, preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and even more preferably 1 to 8. For alkoxyalkyl groups, aliphatic acyl groups, aliphatic acyloxy groups, alkoxycarbonyl groups, alkoxyalkylthio groups, and aliphatic acylthio groups, the lower limit of the number of carbon atoms is 2.

置換基としてのアルキル基の好ましい具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-へプチル基、及びn-オクチル基が挙げられる。 Specific examples of preferred alkyl groups as substituents include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, and n-octyl groups.

置換基としてのアルコキシ基の好ましい具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、n-ペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-へプチルオキシ基、及びn-オクチルオキシ基が挙げられる。 Specific preferred examples of alkoxy groups as substituents include methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, n-butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, tert-butyloxy, n-pentyloxy, n-hexyloxy, n-heptyloxy, and n-octyloxy.

置換基としてのアルコキシアルキル基の好ましい具体例としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、n-プロピルオキシメチル基、n-ブチルオキシメチル基、2-メトキシエチル基、2-エトキシエチル基、2-n-プロピルオキシエチル基、2-n-ブチルオキシエチル基、3-メトキシ-n-プロピルオキシ基、3-エトキシ-n-プロピルオキシ基、3-n-プロピルオキシ-n-プロピルオキシ基、3-n-ブチルオキシ-n-プロピルオキシ基、4-メトキシ-n-ブチルオキシ基、4-エトキシ-n-ブチルオキシ基、4-n-プロピルオキシ-n-ブチルオキシ基、4-n-ブチルオキシ-n-ブチルオキシ基が挙げられる。 Specific examples of preferred alkoxyalkyl groups as substituents include methoxymethyl, ethoxymethyl, n-propyloxymethyl, n-butyloxymethyl, 2-methoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-n-propyloxyethyl, 2-n-butyloxyethyl, 3-methoxy-n-propyloxy, 3-ethoxy-n-propyloxy, 3-n-propyloxy-n-propyloxy, 3-n-butyloxy-n-propyloxy, 4-methoxy-n-butyloxy, 4-ethoxy-n-butyloxy, 4-n-propyloxy-n-butyloxy, and 4-n-butyloxy-n-butyloxy.

置換基としての脂肪族アシル基の好ましい具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、及びオクタノイル基が挙げられる。 Specific examples of preferred aliphatic acyl groups as substituents include acetyl, propionyl, butanoyl, pentanoyl, hexanoyl, heptanoyl, and octanoyl groups.

置換基としての脂肪族アシルオキシ基の好ましい具体例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、及びオクタノイルオキシ基が挙げられる。 Specific preferred examples of the aliphatic acyloxy group as a substituent include an acetoxy group, a propionyloxy group, a butanoyloxy group, a pentanoyloxy group, a hexanoyloxy group, a heptanoyloxy group, and an octanoyloxy group.

置換基としてのアルコキシカルボニル基の好ましい具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n-ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec-ブチルオキシカルボニル基、tert-ブチルオキシカルボニル基、n-ペンチルオキシカルボニル基、n-ヘキシルオキシカルボニル基、n-へプチルオキシカルボニル基、及びn-オクチルオキシカルボニル基が挙げられる。 Specific preferred examples of alkoxycarbonyl groups as substituents include methoxycarbonyl groups, ethoxycarbonyl groups, n-propyloxycarbonyl groups, isopropyloxycarbonyl groups, n-butyloxycarbonyl groups, isobutyloxycarbonyl groups, sec-butyloxycarbonyl groups, tert-butyloxycarbonyl groups, n-pentyloxycarbonyl groups, n-hexyloxycarbonyl groups, n-heptyloxycarbonyl groups, and n-octyloxycarbonyl groups.

置換基としてのアルキルチオ基の好ましい具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n-ブチルチオ基、イソブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、n-ヘキシルチオ基、n-へプチルチオ基、及びn-オクチルチオ基が挙げられる。 Specific preferred examples of alkylthio groups as substituents include methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio, n-butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, tert-butylthio, n-pentylthio, n-hexylthio, n-heptylthio, and n-octylthio.

置換基としての脂肪族アシルチオ基の好ましい具体例としては、アセチルチオ基、プロピオニルチオ基、ブタノイルチオ基、ペンタノイルチオ基、ヘキサノイルチオ基、ヘプタノイルチオ基、及びオクタノイルチオ基が挙げられる。 Specific preferred examples of the aliphatic acylthio group as a substituent include an acetylthio group, a propionylthio group, a butanoylthio group, a pentanoylthio group, a hexanoylthio group, a heptanoylthio group, and an octanoylthio group.

単環式芳香族基が置換基を有する場合、置換基の数は、所望する効果が損なわれない限りにおいて特に限定されない。単環式芳香族基が置換基を有する場合、置換基の数は、1以上4以下が好ましく、1又は2がより好ましく、1が特に好ましい。
単環式芳香族基が複数の置換基を有する場合、当該複数の置換基は互いに異なっていてもよい。
When the monocyclic aromatic group has a substituent, the number of the substituent is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired. When the monocyclic aromatic group has a substituent, the number of the substituent is preferably 1 or more and 4 or less, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
When the monocyclic aromatic group has multiple substituents, the multiple substituents may be different from each other.

以上説明した、置換基を有してもよい単環式芳香族基としては、フェニル基、4-シアノフェニル基、3-シアノフェニル基、2-シアノフェニル基、2,3-ジシアノフェニル基、2,4-ジシアノフェニル基、2,5-ジシアノフェニル基、2,6-ジシアノフェニル基、3,4-ジシアノフェニル基、3,5-ジシアノフェニル基、4-ニトロフェニル基、3-ニトロフェニル基、2-ニトロフェニル基、4-クロロフェニル基、3-クロロフェニル基、2-クロロフェニル基、4-ブロモフェニル基、3-ブロモフェニル基、2-ブロモフェニル基、4-ヨードフェニル基、3-ヨードフェニル基、2-ヨードフェニル基、4-メトキシフェニル基、3-メトキシフェニル基、2-メトキシフェニル基、4-メチルフェニル基、3-メチルフェニル基、及び2-メチルフェニル基が挙げられる。 The monocyclic aromatic groups which may have a substituent as described above include a phenyl group, a 4-cyanophenyl group, a 3-cyanophenyl group, a 2-cyanophenyl group, a 2,3-dicyanophenyl group, a 2,4-dicyanophenyl group, a 2,5-dicyanophenyl group, a 2,6-dicyanophenyl group, a 3,4-dicyanophenyl group, a 3,5-dicyanophenyl group, a 4-nitrophenyl group, a 3-nitrophenyl group, a 2-nitrophenyl group, a 4-chlorophenyl group, a 3-chlorophenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 4-bromophenyl group, a 3-bromophenyl group, a 2-bromophenyl group, a 4-iodophenyl group, a 3-iodophenyl group, a 2-iodophenyl group, a 4-methoxyphenyl group, a 3-methoxyphenyl group, a 2-methoxyphenyl group, a 4-methylphenyl group, a 3-methylphenyl group, and a 2-methylphenyl group.

これらの基の中では、フェニル基、4-シアノフェニル基、3-シアノフェニル基、2-シアノフェニル基、4-ニトロフェニル基、3-ニトロフェニル基、及び2-ニトロフェニル基が好ましく、フェニル基、及び4-シアノフェニル基がより好ましい。 Of these groups, phenyl, 4-cyanophenyl, 3-cyanophenyl, 2-cyanophenyl, 4-nitrophenyl, 3-nitrophenyl, and 2-nitrophenyl groups are preferred, with phenyl and 4-cyanophenyl groups being more preferred.

F1、RF2、及びRF3としての縮合式芳香族基は、2以上の芳香族単環が縮合した縮合多環から1つの水素原子を除いた基である。縮合式芳香族基を構成する芳香族単環の数は特に限定されない。縮合式芳香族基を構成する芳香族単環の数は、2又は3が好ましく、2がより好ましい。つまり、縮合式芳香族基としては、二環縮合式芳香族基、又は三環縮合式芳香族基が好ましく、二環縮合式芳香族基がより好ましい。
縮合式芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても、芳香族複素環基であってもよい。
The condensed aromatic group as R F1 , R F2 and R F3 is a group that removes one hydrogen atom from a condensed polycycle that is condensed with two or more aromatic monocycles.The number of aromatic monocycles that constitute the condensed aromatic group is not particularly limited.The number of aromatic monocycles that constitute the condensed aromatic group is preferably 2 or 3, more preferably 2.In other words, the condensed aromatic group is preferably a bicyclic condensed aromatic group or a tricyclic condensed aromatic group, and more preferably a bicyclic condensed aromatic group.
The fused aromatic group may be an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group.

二環縮合式芳香族基としては、例えば、ナフタレン-1-イル基、ナフタレン-2-イル基、キノリン-2-イル基、キノリン-3-イル基、キノリン-4-イル基、キノリン-5-イル基、キノリン-6-イル基、キノリン-7-イル基、キノリン-8-イル基、イソキノリン-1-イル、イソキノリン-3-イル基、イソキノリン-4-イル基、イソキノリン-5-イル基、イソキノリン-6-イル基、イソキノリン-7-イル基、及びイソキノリン-8-イル基、ベンゾオキサゾール-2-イル基、ベンゾオキサゾール-4-イル基、ベンゾオキサゾール-5-イル基、ベンゾオキサゾール-6-イル基、ベンゾオキサゾール-7-イル基、ベンゾチアゾール-2-イル基、ベンゾチアゾール-4-イル基、ベンゾチアゾール-5-イル基、ベンゾチアゾール-6-イル基、及びベンゾチアゾール-7-イル基等が挙げられる。 Examples of bicyclic condensed aromatic groups include naphthalene-1-yl, naphthalene-2-yl, quinolin-2-yl, quinolin-3-yl, quinolin-4-yl, quinolin-5-yl, quinolin-6-yl, quinolin-7-yl, quinolin-8-yl, isoquinolin-1-yl, isoquinolin-3-yl, isoquinolin-4-yl, isoquinolin-5-yl, isoquinolin-6-yl, isoquinolin Examples of the quinolin-7-yl group, and the isoquinolin-8-yl group, the benzoxazol-2-yl group, the benzoxazol-4-yl group, the benzoxazol-5-yl group, the benzoxazol-6-yl group, the benzoxazol-7-yl group, the benzothiazol-2-yl group, the benzothiazol-4-yl group, the benzothiazol-5-yl group, the benzothiazol-6-yl group, and the benzothiazol-7-yl group.

三環縮合式芳香族基としては、例えば、アントラセン-1-イル基、アントラセン-2-イル基、アントラセン-9-イル基、フェナントレン-1-イル基、フェナントレン-2-イル基、フェナントレン-3-イル基、フェナントレン-4-イル基、フェナントレン-9-イル基、アクリジン-1-イル基、アクリジン-2-イル基、アクリジン-3-イル基、アクリジン-4-イル基、及びアクリジン-9-イル基が挙げられる。 Examples of tricyclic fused aromatic groups include anthracen-1-yl, anthracen-2-yl, anthracen-9-yl, phenanthren-1-yl, phenanthren-2-yl, phenanthren-3-yl, phenanthren-4-yl, phenanthren-9-yl, acridine-1-yl, acridine-2-yl, acridine-3-yl, acridine-4-yl, and acridine-9-yl.

二環縮合式芳香族基、及び三環縮合式芳香族基等の多環縮合式芳香族基が有してもよい置換基は、単環式芳香族基が有してもよい置換基と同様である。 The substituents that may be possessed by polycyclic fused aromatic groups, such as bicyclic fused aromatic groups and tricyclic fused aromatic groups, are the same as those that may be possessed by monocyclic aromatic groups.

以上説明した、置換基を有してもよい縮合環式芳香族基としては、ナフタレン-1-イル基、ナフタレン-2-イル基、キノリン-2-イル基、キノリン-3-イル基、キノリン-4-イル基、キノリン-5-イル基、キノリン-6-イル基、キノリン-7-イル基、キノリン-8-イル基、ベンゾチアゾール-2-イル基、2-メルカプトベンゾチアゾール-6-イル基が好ましい。 As described above, the fused ring aromatic groups which may have a substituent are preferably naphthalene-1-yl, naphthalene-2-yl, quinolin-2-yl, quinolin-3-yl, quinolin-4-yl, quinolin-5-yl, quinolin-6-yl, quinolin-7-yl, quinolin-8-yl, benzothiazol-2-yl, and 2-mercaptobenzothiazol-6-yl.

これらの基の中では、ナフタレン-1-イル基、及びキノリン-3-イル基、キノリン-4-イル基、及び2-メルカプトベンゾチアゾール-6-イル基が好ましく、ナフタレン-1-イル基がより好ましい。 Of these groups, naphthalene-1-yl, quinolin-3-yl, quinolin-4-yl, and 2-mercaptobenzothiazol-6-yl groups are preferred, with naphthalene-1-yl groups being more preferred.

以上説明した式(F1)で表される化合物の中では、組成物を用いて形成される材料の屈折率と、表面外観と、耐熱性とがバランスよく優れることから、RF1、RF2、及びRF3のうちの1つ又は2つが、置換基を有してもよいナフチル基であり、RF1、RF2、及びRF3のうちの1つ又は2つが、4-シアノフェニル基、又はベンゾチアゾリル基である化合物が好ましい。置換基を有してもよいナフチル基としては、ナフタレン-1-イル基が好ましい。 Among the compounds represented by formula (F1) explained above, compounds in which one or two of R F1 , R F2 , and R F3 are naphthyl groups which may have a substituent, and one or two of R F1 , R F2 , and R F3 are 4-cyanophenyl groups or benzothiazolyl groups are preferred, because the refractive index, surface appearance, and heat resistance of the material formed using the composition are well balanced. As the naphthyl group which may have a substituent, a naphthalene-1-yl group is preferred.

式(F1)で表される化合物の好適な具体例としては、下記式の化合物が挙げられる。 Specific examples of suitable compounds represented by formula (F1) include compounds of the following formula:

Figure 2024085734000010
Figure 2024085734000010

式(F1)で表される化合物の製造方法は特に限定されない。典型的には、塩化シアヌル等のハロゲン化シアヌルを、RF1-NH、RF2-NH、及びRF3-NHで表される芳香族アミンと反応させることにより製造することができる。これらの複数種のアミンは、同時にハロゲン化シアヌルと反応させても、順次ハロゲン化シアヌルと反応させてもよく、順次ハロゲン化シアヌルと反応させるのが好ましい。 The method for producing the compound represented by formula (F1) is not particularly limited. Typically, the compound can be produced by reacting a cyanuric halide such as cyanuric chloride with an aromatic amine represented by R F1 -NH 2 , R F2 -NH 2 , and R F3 -NH 2. These multiple amines may be reacted with the cyanuric halide simultaneously or sequentially, and it is preferable to react them with the cyanuric halide sequentially.

式(F1)で表される化合物は、通常、有機溶媒中で合成される。かかる有機溶媒としては、ハロゲン化シアヌル、芳香族アミン、ラジカル重合性基、及びカチオン重合性基等と反応しない不活性な溶媒であれば特に限定されない。溶媒としては、後述する溶媒(S)の具体例として例示される有機溶媒等を用いることができる。
式(F1)で表される化合物を製造する際に、ハロゲン化シアヌルと、RF1-NH、RF2-NH、及びRF3-NHで表される芳香族アミン等の芳香族アミン類とを反応させる際の温度は特に限定されない。典型的には、反応温度は、0℃以上150℃以下が好ましい。
The compound represented by formula (F1) is usually synthesized in an organic solvent. Such an organic solvent is not particularly limited as long as it is an inert solvent that does not react with cyanuric halide, aromatic amine, radical polymerizable group, cationic polymerizable group, etc. As the solvent, the organic solvents exemplified as specific examples of the solvent (S) described later can be used.
In producing the compound represented by formula (F1), the temperature at which a cyanuric halide is reacted with an aromatic amine such as an aromatic amine represented by R F1 -NH 2 , R F2 -NH 2 , or R F3 -NH 2 is reacted is not particularly limited. Typically, the reaction temperature is preferably 0° C. or higher and 150° C. or lower.

組成物におけるトリアジン化合物(F)の含有量は、所望する効果が阻害されない範囲で特に限定されない。組成物におけるトリアジン化合物(F)の含有量は、後述する溶媒(S)の質量を除いた組成物の質量を100質量部としたときに、例えば、0.1質量部以上30質量部以下が好ましく、0.3質量部以上20質量部以下がより好ましく、0.5質量部以上15質量部以下がさらに好ましい。 The content of the triazine compound (F) in the composition is not particularly limited as long as the desired effect is not inhibited. The content of the triazine compound (F) in the composition is, for example, preferably 0.1 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, more preferably 0.3 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, and even more preferably 0.5 parts by mass or more and 15 parts by mass or less, when the mass of the composition excluding the mass of the solvent (S) described below is taken as 100 parts by mass.

<溶媒(S)>
組成物は、塗布性の調整の目的等で溶媒(S)を含んでいてもよい。溶媒(S)の種類は、所望する効果が阻害されない限り特に限定されない。
<Solvent (S)>
The composition may contain a solvent (S) for the purpose of adjusting the coatability, etc. The type of solvent (S) is not particularly limited as long as the desired effect is not impaired.

溶媒(S)の好適な例としては、としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-CHCHCH-O-CH)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-C(CH)HCH-O-CH、又はHC-O-C(CH)HCH-OH)、プロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-CHCHCH-O-CHCH)、プロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-C(CH)HCH-O-CHCH、又はHCHC-O-C(CH)HCH-OH)、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-CHCHCH-O-CHCHCH)、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-C(CH)HCH-O-CHCHCH、又はHCHCHC-O-C(CH)HCH-OH)、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-CHCHCH-O-CHCHCHCH)、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-C(CH)HCH-O-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-C(CH)HCH-OH)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CH)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CH、又はHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCH、又はHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCHCH、又はHCHCHC-O-(CHCHCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCHCH、又はHCHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-(CHCHCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(HC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCH、又はHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等のケトン類;2-ヒドロキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸n-ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸n-ブチル、酪酸エチル、酪酸n-プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n-ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n-プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられ、(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類が好ましい。 Suitable examples of the solvent (S) include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (HO-CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 3 ), propylene glycol monomethyl ether (HO-C(CH 3 )HCH 2 -O-CH 3 , or H 3 C-O-C(CH 3 )HCH 2 -OH), propylene glycol monoethyl ether (HO-CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 3 ), propylene glycol monoethyl ether (HO-C(CH 3 )HCH 2 -O-CH 2 CH 3 ), , or H 3 CH 2 C—O—C(CH 3 )HCH 2 —OH), propylene glycol mono-n-propyl ether (HO-CH 2 CH 2 CH 2 —O-CH 2 CH 2 CH 3 ), propylene glycol mono-n-propyl ether (HO-C(CH 3 )HCH 2 —O-CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 C—O—C(CH 3 )HCH 2 —OH), propylene glycol mono-n-butyl ether (HO-CH 2 CH 2 CH 2 —O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), propylene glycol mono-n-butyl ether (HO-C(CH 3 )HCH 2 —O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C—O—C(CH 3 )HCH 2 —OH), dipropylene glycol monoethyl ether (HO—(CH 2 CH 2 CH 2 —O) 2 —CH 3 ), dipropylene glycol monomethyl ether (HO—(C(CH 3 )HCH 2 —O) 2 —CH 3 , or H 3 C—O—(C(CH 3 )HCH 2 —O) 2 —H), dipropylene glycol monoethyl ether (HO—(CH 2 CH 2 CH 2 —O) 2 —CH 2 CH 3 ), dipropylene glycol monoethyl ether (HO—(C(CH 3 )HCH 2 —O) 2 —CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 C—O—(C(CH 3 )HCH 2 —O) 2 —H -H), dipropylene glycol mono-n-propyl ether (HO- ( CH2CH2CH2 - O ) 2 - CH2CH2CH3 , or H3CH2CH2C -O-(CH2CH2CH2 - O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-propyl ether (HO-(C( CH3 ) HCH2 - O ) 2 - CH2CH2CH3 , or H3CH2CH2C-O-(C( CH3 ) HCH2 - O ) 2 -H), dipropylene glycol mono - n-butyl ether (HO-( CH2CH2CH2 - O) 2 - CH2CH2CH2CH3, or H3CH2CH2CH2C -O-(C( CH3 ) HCH2 - O )2 - H ) . C—O—(CH 2 CH 2 CH 2 —O) 2 —H), dipropylene glycol mono-n-butyl ether (HO—(C(CH 3 )HCH 2 —O) 2 —CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C—O—(C(CH 3 )HCH 2 —O) 2 —H), tripropylene glycol monomethyl ether (HO—(CH 2 CH 2 CH 2 —O) 3 —CH 2 CH 3 ), tripropylene glycol monomethyl ether (H 3 C—O—(C(CH 3 )HCH 2 —O) 3 —H), tripropylene glycol monoethyl ether (HO—(CH 2 CH 2 CH 2 —O) 3 —CH 2 CH 3 ), tripropylene glycol monoethyl ether (HO-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 3 -CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 3 -H), and other (poly)alkylene glycol monoalkyl ether acetates; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and other (poly)alkylene glycol monoalkyl ether acetates; ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol methyl ethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, and other ethers; methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, and other ketones; 2-hydro alkyl lactic acid esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, acetic acid Examples of the esters include n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-pentyl formate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; and amides such as N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, and N,N-dimethylacetamide, with (poly)alkylene glycol monoalkyl ether acetates being preferred.

インクジェット印刷法による塗布を良好に行える点から、溶媒(S)が、大気圧下での沸点が140℃以上である溶媒を含むのが好ましく、大気圧下での沸点が170℃以上である高沸点溶媒(S1)を含むのがより好ましい。 In order to ensure good application by the inkjet printing method, it is preferable that the solvent (S) contains a solvent having a boiling point of 140°C or higher at atmospheric pressure, and it is more preferable that the solvent (S1) contains a high-boiling point solvent having a boiling point of 170°C or higher at atmospheric pressure.

大気圧下での沸点が140℃以上である溶媒の具体例としては、エチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-CHCHCH-O-CH)、プロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-CHCHCH-O-CHCH)、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-CHCHCH-O-CHCHCH)、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-C(CH)HCH-O-CHCHCH、又はHCHCHC-O-C(CH)HCH-OH)、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-CHCHCH-O-CHCHCHCH)、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-C(CH)HCH-O-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-C(CH)HCH-OH)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CH)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CH、又はHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCH、又はHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCHCH、又はHCHCHC-O-(CHCHCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCHCH、又はHCHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-(CHCHCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(HC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCH、又はHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酪酸n-ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸エチル、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、及びN,N-ジメチルアセトアミドが挙げられる。 Specific examples of the solvent having a boiling point of 140° C. or higher under atmospheric pressure include ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether (HO-CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 3 ), propylene glycol monoethyl ether (HO-CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 3 ), propylene glycol mono-n-propyl ether (HO-CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 3 ), propylene glycol mono-n-propyl ether (HO-C(CH 3 )HCH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 3 ) , or H 3 CH 2 CH 2 C—O—C(CH 3 )HCH 2 —OH), propylene glycol mono-n-butyl ether (HO—CH 2 CH 2 CH 2 —O—CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), propylene glycol mono-n-butyl ether (HO—C(CH 3 )HCH 2 —O—CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C—O—C(CH 3 )HCH 2 —OH), dipropylene glycol monoethyl ether (HO—(CH 2 CH 2 CH 2 —O) 2 —CH 3 ), dipropylene glycol monomethyl ether (HO—(C(CH 3 )HCH 2 —O) 2 —CH 3 , or H 3 C—O—(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol monoethyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 3 ), dipropylene glycol monoethyl ether (HO-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-propyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 C-O-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-propyl ether (HO-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-butyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C-O-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-butyl ether (HO-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2-H -H), tripropylene glycol monomethyl ether (HO-(CH2CH2CH2 - O) 3 -CH2CH3 ) , tripropylene glycol monomethyl ether ( H3C -O-(C( CH3 ) HCH2 - O) 3 -H), tripropylene glycol monoethyl ether (HO- ( CH2CH2CH2 - O) 3 - CH2CH3), tripropylene glycol monoethyl ether (HO-(C( CH3 ) HCH2 - O) 3 - CH2CH3 , or H3CH2C - O-(C( CH3 ) HCH2 - O ) 3 -H), diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, n-butyl butyrate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate, N-methylpyrrolidone, N,N-dimethylformamide, and N,N-dimethylacetamide.

高沸点溶媒(S1)の具体例としては、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-CHCHCH-O-CHCHCHCH)、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-C(CH)HCH-O-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-C(CH)HCH-OH)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CH)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CH、又はHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCH、又はHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCHCH、又はHCHCHC-O-(CHCHCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCHCH、又はHCHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-(CHCHCH-O)-H)、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCHCHCH、又はHCHCHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル(HC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(CHCHCH-O)-CHCH)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル(HO-(C(CH)HCH-O)-CHCH、又はHCHC-O-(C(CH)HCH-O)-H)、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ヒドロキシ酢酸エチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸エチル、及びN-メチルピロリドンが挙げられる。 Specific examples of the high boiling point solvent (S1) include ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether (HO-CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ), propylene glycol mono-n-butyl ether (HO-C(CH 3 )HCH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C-O-C(CH 3 )HCH 2 -OH), dipropylene glycol monoethyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 3 ), dipropylene glycol monomethyl ether (HO-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -CH 3 , or H 3 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol monoethyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 3 ), dipropylene glycol monoethyl ether (HO-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-propyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 C-O-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-propyl ether (HO-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-butyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C-O-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -H), dipropylene glycol mono-n-butyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O ) 2 -CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C-O-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 2 -H). -CH 2 CH 2 CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 CH 2 CH 2 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 2 -H), tripropylene glycol monomethyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 3 -CH 2 CH 3 ), tripropylene glycol monomethyl ether (H 3 C-O-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 3 -H), tripropylene glycol monoethyl ether (HO-(CH 2 CH 2 CH 2 -O) 3 -CH 2 CH 3 ), tripropylene glycol monoethyl ether (HO-(C(CH 3 )HCH 2 -O) 3 -CH 2 CH 3 , or H 3 CH 2 C-O-(C( CH )HCH 2 -O) 3 -H), diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, ethyl hydroxyacetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate, and N-methylpyrrolidone.

所望する効果を得やすい点で、溶媒(S)の質量に対する、沸点140℃以上の溶媒、又は沸点170℃以上の高沸点溶媒(S1)の質量の比率は、20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましく、50質量%以上がさらに好ましく、70質量%以上がさらにより好ましく、90質量%以上が特に好ましく、100質量%が最も好ましい。 In terms of making it easier to obtain the desired effect, the ratio of the mass of the solvent having a boiling point of 140°C or higher, or the mass of the high-boiling point solvent (S1) having a boiling point of 170°C or higher to the mass of the solvent (S) is preferably 20% by mass or higher, more preferably 30% by mass or higher, even more preferably 50% by mass or higher, even more preferably 70% by mass or higher, particularly preferably 90% by mass or higher, and most preferably 100% by mass.

溶媒(S)の含有量は、組成物の溶媒(S)以外の成分の濃度が1質量%以上99質量%以下となる量が好ましく、5質量%以上50質量%以下となる量がより好ましく、10質量%以上30質量%以下がさらに好ましい。 The content of the solvent (S) is preferably such that the concentration of the components other than the solvent (S) in the composition is 1% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or more and 30% by mass or less.

<その他の成分>
組成物は、必要に応じて、上記の成分以外のその他成分として各種の添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、増感剤、硬化促進剤、充填剤、分散剤、シランカップリング剤等の密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等が挙げられる。
これらの添加剤の使用量は、組成物においてこれらの添加剤が通常使用される量を勘案して適宜定められる。
<Other ingredients>
The composition may contain various additives as other components other than the above components, as necessary, such as sensitizers, curing accelerators, fillers, dispersants, adhesion promoters such as silane coupling agents, antioxidants, aggregation inhibitors, thermal polymerization inhibitors, defoamers, surfactants, etc.
The amounts of these additives used are appropriately determined taking into consideration the amounts in which these additives are usually used in the composition.

≪感光性組成物≫
感光性組成物は、光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)と、開始剤(C)を含む。開始剤(C)は、光重合性化合物を硬化させる成分である。
光重合性化合物(A)、及び無機微粒子(B)の好適な態様、及び使用量は、それぞれ、上記の組成物について前述した通りある。
<Photosensitive composition>
The photosensitive composition contains a photopolymerizable compound (A), inorganic fine particles (B), and an initiator (C). The initiator (C) is a component that cures the photopolymerizable compound.
The preferred embodiments and amounts of the photopolymerizable compound (A) and the inorganic fine particles (B) used are as described above for the above composition.

感光性組成物は、さらに、それぞれ上記の組成物に前述した、可塑剤(D)、含窒素化合物(E)トリアジン化合物(F)、溶媒(S)、及びその他の成分からなる群より選択される1種以上の成分を含んでいてもよい。これらの成分の好適な態様、及び使用量は、それぞれ、上記の組成物について前述した通りである。 The photosensitive composition may further contain one or more components selected from the group consisting of the plasticizer (D), the nitrogen-containing compound (E), the triazine compound (F), the solvent (S), and other components described above for the above compositions. The preferred aspects and amounts of these components used are as described above for the above compositions.

<開始剤(C)>
光重合性化合物(A)を硬化させるために、感光性組成物は、開始剤(C)を含む。光重合性化合物(A)が、ラジカル重合性基を有する場合、開始剤(C)として、ラジカル重合開始剤(C1)が使用される。光重合性化合物(A)が、カチオン重合性基を有する場合、開始剤(C)として、カチオン重合開始剤(C2)が使用される。感光性組成物の位置選択的な硬化を行うことができたり、感光性組成物の成分の熱による劣化、揮発、昇華等の懸念が無い点等から、開始剤(C)としては光開始剤が使用される。
開始剤(C)としては、特に限定されず、従来公知の種々の重合開始剤を用いることができる。
<Initiator (C)>
In order to cure the photopolymerizable compound (A), the photosensitive composition contains an initiator (C). When the photopolymerizable compound (A) has a radical polymerizable group, a radical polymerization initiator (C1) is used as the initiator (C). When the photopolymerizable compound (A) has a cationic polymerizable group, a cationic polymerization initiator (C2) is used as the initiator (C). A photoinitiator is used as the initiator (C) because it can perform position-selective curing of the photosensitive composition and there is no concern about deterioration, volatilization, sublimation, etc., of the components of the photosensitive composition due to heat.
The initiator (C) is not particularly limited, and various conventionally known polymerization initiators can be used.

ラジカル重合開始剤(C1)として有用な光ラジカル重合開始剤としては、具体的には、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-〔4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル〕-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、ビス(4-ジメチルアミノフェニル)ケトン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン、O-アセチル-1-[6-(2-メチルベンゾイル)-9-エチル-9H-カルバゾール-3-イル]エタノンオキシム、(9-エチル-6-ニトロ-9H-カルバゾール-3-イル)[4-(2-メトキシ-1-メチルエトキシ)-2-メチルフェニル]メタノンO-アセチルオキシム、2-(ベンゾイルオキシイミノ)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1-オクタノン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-ベンゾイル-4’-メチルジメチルスルフィド、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4-ジメチルアミノ-2-エチルヘキシル安息香酸、4-ジメチルアミノ-2-イソアミル安息香酸、ベンジル-β-メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(O-エトキシカルボニル)オキシム、o-ベンゾイル安息香酸メチル、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2-クロロチオキサンテン、2,4-ジエチルチオキサンテン、2-メチルチオキサンテン、2-イソプロピルチオキサンテン、2-エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)-イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、p,p’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、3,3-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン-n-ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-tert-ブチルトリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルジクロロアセトフェノン、α,α-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス-(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス-(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス-(9-アクリジニル)プロパン、p-メトキシトリアジン、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(フラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-エトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-n-ブトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジン等が挙げられる。これらの光ラジカル重合開始剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Specific examples of photoradical polymerization initiators useful as the radical polymerization initiator (C1) include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis(4-dimethylaminophenyl)ketone, 2-methyl-1-[4-( methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, O-acetyl-1-[6-(2-methylbenzoyl)-9-ethyl-9H-carbazol-3-yl]ethanone oxime, (9-ethyl-6-nitro-9H-carbazol-3-yl)[4-(2-methoxy-1-methylethoxy)-2-methylphenyl]methanone O-acetyl oxime, 2-(benzoyloxyimino)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1-octanone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4-benzoyloxyimino Zoyl-4'-methyl dimethyl sulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β-methoxyethyl acetal, benzyl dimethyl ketal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2-(O-ethoxycarbonyl)oxime, methyl o-benzoylbenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxane thion, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene hydroperoxide, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-(o-chlorophenyl)-4,5-di(m-methoxyphenyl)-imidazolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzil, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone acetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert-butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α,α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosuberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1,7-bis-(9-acridinyl)heptane, 1,5-bis-(9-acridinyl)pentane, 1,3-bis-(9-acridinyl)propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris(trichloromethyl )-s-triazine, 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(4-diethylamino-2-methylphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine styrylphenyl-s-triazine, 2-(4-ethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-n-butoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(2-bromo-4-methoxy)phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(3-bromo-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6-(2-bromo-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine, etc. These photoradical polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

光ラジカル重合開始剤の中では、感光性組成物の感度の点で、オキシムエステル化合物が好ましい。
オキシムエステル化合物としては、下記式(c1)で表される部分構造を有する化合物が好ましい。
Among the photoradical polymerization initiators, oxime ester compounds are preferred in terms of the sensitivity of the photosensitive composition.
The oxime ester compound is preferably a compound having a partial structure represented by the following formula (c1).

Figure 2024085734000011
(式(c1)中、
n1は、0、又は1であり、
c2は、一価の有機基であり、
c3は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1以上20以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、
*は結合手である。)
Figure 2024085734000011
(In formula (c1),
n1 is 0 or 1,
R c2 is a monovalent organic group;
R c3 is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having from 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent,
* is a bond.)

式(c1)で表される部分構造を有する化合物は、カルバゾール骨格、フルオレン骨格、ジフェニルエーテル骨格や、フェニルスルフィド骨格を有することが好ましい。
式(c1)で表される部分構造を有する化合物は、式(c1)で表される部分構造を1つ又は2つ有することが好ましい。
The compound having the partial structure represented by formula (c1) preferably has a carbazole skeleton, a fluorene skeleton, a diphenyl ether skeleton, or a phenyl sulfide skeleton.
The compound having the partial structure represented by formula (c1) preferably has one or two partial structures represented by formula (c1).

式(c1)で表される部分構造を有する化合物としては、下記式(c2)で表される化合物が挙げられる。 An example of a compound having a partial structure represented by formula (c1) is a compound represented by the following formula (c2).

Figure 2024085734000012
(式(c2)中、Rc1は、下記式(c3)、(c4)、又は(c5)で表される基であり、
n1は、0、又は1であり、
c2は、一価の有機基であり、
c3は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1以上20以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基である。)
Figure 2024085734000012
In formula (c2), R c1 is a group represented by the following formula (c3), (c4), or (c5):
n1 is 0 or 1,
R c2 is a monovalent organic group;
R c3 is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.

Figure 2024085734000013
(式(c3)中、Rc4及びRc5は、それぞれ独立に、1価の有機基であり、
n2は、0以上3以下の整数であり、
n2が2又は3の場合、複数のRc5は同一でも異なっていてもよく、複数のRc5は互いに結合して環を形成してもよい。
*は結合手である。)
Figure 2024085734000013
In formula (c3), R c4 and R c5 each independently represent a monovalent organic group.
n2 is an integer of 0 to 3,
When n2 is 2 or 3, multiple R c5 may be the same or different, and multiple R c5 may be bonded to each other to form a ring.
* is a bond.)

Figure 2024085734000014
(式(c4)中、Rc6及びRc7は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、
c6とRc7とは互いに結合して環を形成してもよく、
c7とフルオレン骨格中のベンゼン環とが互いに結合して環を形成してもよく、
c8は、ニトロ基、又は1価の有機基、であり、
n3は、0以上4以下の整数であり、
*は結合手である。)
Figure 2024085734000014
In formula (c4), R c6 and R c7 each independently represent a chain alkyl group which may have a substituent, a chain alkoxy group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom;
R c6 and R c7 may be bonded to each other to form a ring;
R c7 and a benzene ring in the fluorene skeleton may be bonded to each other to form a ring,
R c8 is a nitro group or a monovalent organic group;
n3 is an integer of 0 to 4,
* is a bond.)

Figure 2024085734000015
(式(c5)中、Rc9は、1価の有機基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基であり、
Aは、S又はOであり、
n4は、0以上4以下の整数であり、
*は結合手である。)
Figure 2024085734000015
In formula (c5), R c9 represents a monovalent organic group, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group;
A is S or O;
n4 is an integer from 0 to 4,
* is a bond.)

式(c3)中、Rc4は、1価の有機基である。Rc4は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、1以上の炭素原子、並びにH、O、S、Se、N、B、P、Si、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、1以上50以下が好ましく、1以上20以下がより好ましい。
c4の好適な例としては、炭素原子数1以上20以下の置換基を有してもよいアルキル基、炭素原子数3以上20以下の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素原子数2以上20以下の置換基を有してもよい飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上20以下の置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7以上20以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11以上20以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。
In formula (c3), R c4 is a monovalent organic group. R c4 can be selected from various organic groups as long as it does not impair the object of the present invention. As the organic group, a carbon atom-containing group is preferable, and a group consisting of one or more carbon atoms and one or more atoms selected from the group consisting of H, O, S, Se, N, B, P, Si, and halogen atoms is more preferable. The number of carbon atoms of the carbon atom-containing group is not particularly limited, and is preferably 1 to 50, more preferably 1 to 20.
Suitable examples of R c4 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and optionally having a substituent, a cycloalkyl group having 3 to 20 carbon atoms and optionally having a substituent, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms and optionally having a substituent, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms and optionally having a substituent, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms and optionally having a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms and optionally having a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent.

c4の中では、炭素原子数1以上20以下のアルキル基が好ましい。当該アルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。式(c3)で表される化合物の感光性組成物中での溶解性が良好である点から、Rc4としてのアルキル基の炭素原子数は、2以上が好ましく、5以上がより好ましく、7以上が特に好ましい。また、感光性組成物中での、式(c3)で表される化合物と、他の成分との相溶性が良好である点から、Rc4としてのアルキルの基の炭素原子数は、15以下が好ましく、10以下がより好ましい。 Among R c4 , an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferred. The alkyl group may be linear or branched. In view of good solubility of the compound represented by formula (c3) in the photosensitive composition, the number of carbon atoms of the alkyl group represented by R c4 is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 7 or more. In view of good compatibility of the compound represented by formula (c3) with other components in the photosensitive composition, the number of carbon atoms of the alkyl group represented by R c4 is preferably 15 or less, more preferably 10 or less.

c4が置換基を有する場合、当該置換基の好適な例としては、水酸基、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、炭素原子数1以上20以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上20以下の脂肪族アシル基、炭素原子数2以上20以下の脂肪族アシルオキシ基、フェノキシ基、ベンゾイル基、ベンゾイルオキシ基、-PO(OR)で表される基(Rは炭素原子数1以上6以下のアルキル基)、ハロゲン原子、シアノ基、ヘテロシクリル基等が挙げられる。 When R c4 has a substituent, suitable examples of the substituent include a hydroxyl group, an alkyl group having from 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having from 1 to 20 carbon atoms, an aliphatic acyl group having from 2 to 20 carbon atoms, an aliphatic acyloxy group having from 2 to 20 carbon atoms, a phenoxy group, a benzoyl group, a benzoyloxy group, a group represented by -PO(OR) 2 (R is an alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms), a halogen atom, a cyano group, and a heterocyclyl group.

c4が、ヘテロシクリル基である場合、当該ヘテロシクリル基は、脂肪族複素環基であっても、芳香族複素環基であってもよい。Rc4がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。
c4がヘテロシクリル基である場合、当該ヘテロシクリル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
When R c4 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may be an aliphatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group. When R c4 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocyclic ring containing one or more N, S, or O, or a heterocyclyl group in which such monocyclic rings are fused together or such a monocyclic ring is fused with a benzene ring. When the heterocyclyl group is a fused ring, the number of rings is up to 3. Examples of heterocycles constituting such heterocyclyl groups include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran.
When R c4 is a heterocyclyl group, examples of the substituent that the heterocyclyl group may have include a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and the like.

以上説明したRc4の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ペンタン-3-イル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、及び2-エチルヘキシル基が挙げられる。
また、感光性組成物中での式(c3)で表される化合物の溶解性が良好である点から、n-オクチル基、及び2-エチルヘキシル基が好ましく、2-エチルヘキシル基がより好ましい。
Specific preferred examples of R c4 described above include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a pentan-3-yl group, a sec-pentyl group, a tert-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, and a 2-ethylhexyl group.
Furthermore, from the viewpoint of good solubility of the compound represented by formula (c3) in the photosensitive composition, an n-octyl group and a 2-ethylhexyl group are preferred, and a 2-ethylhexyl group is more preferred.

式(c3)中、Rc5は、1価の有機基である。Rc5は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、1以上の炭素原子、並びにH、O、S、Se、N、B、P、Si、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、1以上50以下が好ましく、1以上20以下がより好ましい。
c5として好適な1価の有機基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、HXC-又はHXC-で表される基を含む置換基(ただし、Xは、各々独立に、ハロゲン原子である)等が挙げられる。
In formula (c3), R c5 is a monovalent organic group. R c5 can be selected from various organic groups as long as it does not impair the object of the present invention. As the organic group, a carbon atom-containing group is preferable, and a group consisting of one or more carbon atoms and one or more atoms selected from the group consisting of H, O, S, Se, N, B, P, Si, and halogen atoms is more preferable. The number of carbon atoms of the carbon atom-containing group is not particularly limited, and is preferably 1 to 50, more preferably 1 to 20.
Examples of monovalent organic groups suitable for R c5 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, a phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, a benzoyloxy group which may have a substituent, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, an amino group substituted with 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, HX 2 C- or H 2 Examples of the substituent include a substituent containing a group represented by XC- (wherein each X is independently a halogen atom).

c5がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。また、Rc5がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc5がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、イソノニル基、n-デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc5がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c5 is an alkyl group, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 6 or less. When R c5 is an alkyl group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of when R c5 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a sec-pentyl group, a tert-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, an isooctyl group, a sec-octyl group, a tert-octyl group, an n-nonyl group, an isononyl group, an n-decyl group, and an isodecyl group. When R c5 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

c5がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。また、Rc5がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc5がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、n-ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec-ペンチルオキシ基、tert-ペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-ヘプチルオキシ基、n-オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec-オクチルオキシ基、tert-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc5がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c5 is an alkoxy group, the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less. When R c5 is an alkoxy group, it may be a straight chain or a branched chain. Specific examples of when R c5 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group, an n-pentyloxy group, an isopentyloxy group, a sec-pentyloxy group, a tert-pentyloxy group, an n-hexyloxy group, an n-heptyloxy group, an n-octyloxy group, an isooctyloxy group, a sec-octyloxy group, a tert-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an isononyloxy group, an n-decyloxy group, and an isodecyloxy group. In addition, when R c5 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

c5がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3以上10以下が好ましく、3以上6以下がより好ましい。Rc5がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rc5がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R c5 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, more preferably 3 to 6. Specific examples of when R c5 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples of when R c5 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.

c5が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2以上21以下が好ましく、2以上7以下がより好ましい。Rc5が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n-ブタノイル基、2-メチルプロパノイル基、n-ペンタノイル基、2,2-ジメチルプロパノイル基、n-ヘキサノイル基、n-ヘプタノイル基、n-オクタノイル基、n-ノナノイル基、n-デカノイル基、n-ウンデカノイル基、n-ドデカノイル基、n-トリデカノイル基、n-テトラデカノイル基、n-ペンタデカノイル基、及びn-ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rc5が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、2-メチルプロパノイルオキシ基、n-ペンタノイルオキシ基、2,2-ジメチルプロパノイルオキシ基、n-ヘキサノイルオキシ基、n-ヘプタノイルオキシ基、n-オクタノイルオキシ基、n-ノナノイルオキシ基、n-デカノイルオキシ基、n-ウンデカノイルオキシ基、n-ドデカノイルオキシ基、n-トリデカノイルオキシ基、n-テトラデカノイルオキシ基、n-ペンタデカノイルオキシ基、及びn-ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R c5 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms in the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably from 2 to 21, and more preferably from 2 to 7. Specific examples of when R c5 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, a n-butanoyl group, a 2-methylpropanoyl group, a n-pentanoyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group, a n-hexanoyl group, a n-heptanoyl group, a n-octanoyl group, a n-nonanoyl group, a n-decanoyl group, a n-undecanoyl group, a n-dodecanoyl group, a n-tridecanoyl group, a n-tetradecanoyl group, a n-pentadecanoyl group, and a n-hexadecanoyl group. Specific examples of when R c5 is a saturated aliphatic acyloxy group include an acetyloxy group, a propanoyloxy group, a n-butanoyloxy group, a 2-methylpropanoyloxy group, a n-pentanoyloxy group, a 2,2-dimethylpropanoyloxy group, a n-hexanoyloxy group, a n-heptanoyloxy group, a n-octanoyloxy group, a n-nonanoyloxy group, a n-decanoyloxy group, a n-undecanoyloxy group, a n-dodecanoyloxy group, a n-tridecanoyloxy group, a n-tetradecanoyloxy group, a n-pentadecanoyloxy group, and a n-hexadecanoyloxy group.

c5がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2以上20以下が好ましく、2以上7以下がより好ましい。Rc5がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n-ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec-ブチルオキシカルボニル基、tert-ブチルオキシカルボニル基、n-ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec-ペンチルオキシカルボニル基、tert-ペンチルオキシカルボニル基、n-ヘキシルオキシカルボニル基、n-ヘプチルオキシカルボニル基、n-オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec-オクチルオキシカルボニル基、tert-オクチルオキシカルボニル基、n-ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n-デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R c5 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxycarbonyl group preferably has 2 or more and 20 or less, and more preferably has 2 or more and 7 or less carbon atoms. Specific examples of when R c5 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propyloxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, an n-butyloxycarbonyl group, an isobutyloxycarbonyl group, a sec-butyloxycarbonyl group, a tert-butyloxycarbonyl group, an n-pentyloxycarbonyl group, an isopentyloxycarbonyl group, a sec-pentyloxycarbonyl group, a tert-pentyloxycarbonyl group, an n-hexyloxycarbonyl group, an n-heptyloxycarbonyl group, an n-octyloxycarbonyl group, an isooctyloxycarbonyl group, a sec-octyloxycarbonyl group, a tert-octyloxycarbonyl group, an n-nonyloxycarbonyl group, an isononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.

c5がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7以上20以下が好ましく、7以上10以下がより好ましい。また、Rc5がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11以上20以下が好ましく、11以上14以下がより好ましい。Rc5がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、及び4-フェニルブチル基が挙げられる。Rc5がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α-ナフチルメチル基、β-ナフチルメチル基、2-(α-ナフチル)エチル基、及び2-(β-ナフチル)エチル基が挙げられる。Rc5が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rc5は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。 When R c5 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 or more and 20 or less, more preferably 7 or more and 10 or less. When R c5 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11 or more and 20 or less, more preferably 11 or more and 14 or less. Specific examples of when R c5 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples of when R c5 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2-(α-naphthyl)ethyl group, and a 2-(β-naphthyl)ethyl group. When R c5 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R c5 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.

c5がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、式(c3)中のRc4がヘテロシクリル基である場合と同様であり、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。
c5がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Rc5がヘテロシクリル基である場合と同様である。
When R c5 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is the same as when R c4 in formula (c3) is a heterocyclyl group, and the heterocyclyl group may further have a substituent.
When R c5 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R c5 is a heterocyclyl group.

c5が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、炭素原子数3以上10以下のシクロアルキル基、炭素原子数2以上21以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7以上20以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11以上20以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rc5と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、ジ-n-プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、ジ-n-ブチルアミノ基、n-ペンチルアミノ基、n-ヘキシルアミノ基、n-ヘプチルアミノ基、n-オクチルアミノ基、n-ノニルアミノ基、n-デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n-ブタノイルアミノ基、n-ペンタノイルアミノ基、n-ヘキサノイルアミノ基、n-ヘプタノイルアミノ基、n-オクタノイルアミノ基、n-デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α-ナフトイルアミノ基、及びβ-ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R c5 is an amino group substituted with one or two organic groups, suitable examples of the organic group include an alkyl group having from 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having from 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having from 2 to 21 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl group having from 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having from 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a heterocyclyl group, etc. Specific examples of these suitable organic groups are the same as those of R c5 . Specific examples of the amino group substituted with one or two organic groups include a methylamino group, an ethylamino group, a diethylamino group, an n-propylamino group, a di-n-propylamino group, an isopropylamino group, an n-butylamino group, a di-n-butylamino group, an n-pentylamino group, an n-hexylamino group, an n-heptylamino group, an n-octylamino group, an n-nonylamino group, an n-decylamino group, a phenylamino group, a naphthylamino group, an acetylamino group, a propanoylamino group, an n-butanoylamino group, an n-pentanoylamino group, an n-hexanoylamino group, an n-heptanoylamino group, an n-octanoylamino group, an n-decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.

c5に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、HXC-又はHXC-で表される基を含む置換基(例えば、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルキル基)、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上7以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、ベンゾイル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc5に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されず、1以上4以下が好ましい。Rc5に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 Examples of the substituent when the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c5 further have a substituent include a substituent containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- (for example, a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-, a halogenated alkyl group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-), an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a benzoyl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c5 further have a substituent, the number of the substituents is not limited as long as it does not impair the object of the present invention, and is preferably from 1 to 4. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c5 have multiple substituents, the multiple substituents may be the same or different.

c5に含まれる、ベンゾイル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、2-テノイル基(チオフェン-2-イルカルボニル基)、フラン-3-イルカルボニル基及びフェニル基等が挙げられる。 When the benzoyl group included in R c5 further has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a 2-thenoyl group (thiophen-2-ylcarbonyl group), a furan-3-ylcarbonyl group, and a phenyl group.

Xで表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。 The halogen atom represented by X may be a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc., and is preferably a fluorine atom.

HXC-又はHXC-で表される基を含む置換基としては、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルキル基、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルキル基を有する基等が挙げられ、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、又はHXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基であることがより好ましい。 Examples of the substituent containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- include a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-, a group having a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-, a halogenated alkyl group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-, and a group having a halogenated alkyl group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-. Of these, a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-, or a group having a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- is more preferred.

HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルキル基を有する基としては、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されている芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されているシクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)等が挙げられ、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルキル基で置換されている芳香族基であることが好ましい。 Examples of groups having a halogenated alkyl group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- include aromatic groups substituted with a halogenated alkyl group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- (e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.), and cycloalkyl groups substituted with a halogenated alkyl group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), with aromatic groups substituted with a halogenated alkyl group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- being preferred.

HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基を有する基としては、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されている芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されているアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基等)、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されているシクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)等が挙げられ、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基で置換されている芳香族基であることが好ましい。 Examples of groups having a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- include aromatic groups substituted with a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- (e.g., phenyl group, naphthyl group, etc.), alkyl groups substituted with a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- (e.g., methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, etc.), and cycloalkyl groups substituted with a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), and the like. An aromatic group substituted with a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC- is preferred.

また、Rc5としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Rc5に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 Also preferred as R c5 are a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. The substituents which the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituents which the phenyl group included in R c5 may have.

1価の有機基の中でも、Rc5としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数1以上20以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数1以上8以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1以上4以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、2-メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、5以上10以下が好ましく、5以上8以下がより好ましく、5又は6が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1以上8以下が好ましく、1以上4以下がより好ましく、2が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1以上8以下が好ましく、1以上4以下がより好ましく、2が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、2-(4-クロロフェニルチオ)エチル基が好ましい。 Among the monovalent organic groups, R c5 is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferred, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferred, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferred, and a methyl group is most preferred. Among the phenyl groups which may have a substituent, a methylphenyl group is preferred, and a 2-methylphenyl group is more preferred. The number of carbon atoms in the cycloalkylalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. The number of carbon atoms in the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2. Among the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. The number of carbon atoms in the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring is preferably 1 to 8, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2-(4-chlorophenylthio)ethyl group is preferred.

式(c3)で表される基において、Rc5が複数存在し、複数のRc5が互いに結合して環を形成する場合、形成される環としては、炭化水素環や、複素環等が挙げられる。複素環に含まれるヘテロ原子としては、例えば、N、OやSが挙げられる。複数のRc5が互いに結合して形成する環としては、特に芳香族環が好ましい。かかる芳香族環は、芳香族炭化水素環であっても、芳香族複素環であってもよい。かかる芳香族環としては、芳香族炭化水素環が好ましい。式(c3)において、複数のRc5が互いに結合してベンゼン環を形成した場合の具体例を、以下に示す。 In the group represented by formula (c3), when a plurality of R c5 are present and the plurality of R c5 are bonded to each other to form a ring, examples of the ring formed include a hydrocarbon ring and a heterocycle. Examples of heteroatoms contained in a heterocycle include N, O, and S. A particularly preferred ring formed by bonding a plurality of R c5 to each other is an aromatic ring. Such an aromatic ring may be an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle. Such an aromatic ring is preferably an aromatic hydrocarbon ring. Specific examples of the case where a plurality of R c5 are bonded to each other to form a benzene ring in formula (c3) are shown below.

Figure 2024085734000016
Figure 2024085734000016

式(c4)で表される基において、Rc8は、ニトロ基又は1価の有機基である。Rc8は、式(c4)中の縮合環上で、-(CO)n1-で表される基に結合する芳香環とは異なる6員芳香環に、結合する。式(c4)中、Rc8の結合位置は特に限定されない。式(c4)で表される基が1以上のRc8を有する場合、式(c4)で表される化合物の合成が容易であること等から、1以上のRc8のうちの1つが、フルオレン骨格の7位の位置に結合することが好ましい。すなわち、式(c4)で表される基が1以上のRc8を有する場合、式(c4)で表される基は、下記式(c6)で示されることが好ましい。Rc8が複数の場合、複数のRc8は同一であっても異なっていてもよい。 In the group represented by formula (c4), R c8 is a nitro group or a monovalent organic group. R c8 is bonded to a 6-membered aromatic ring different from the aromatic ring bonded to the group represented by -(CO) n1 - on the fused ring in formula (c4). In formula (c4), the bonding position of R c8 is not particularly limited. When the group represented by formula (c4) has one or more R c8 , it is preferable that one of the one or more R c8 is bonded to the 7th position of the fluorene skeleton, because the synthesis of the compound represented by formula (c4) is easy. That is, when the group represented by formula (c4) has one or more R c8 , the group represented by formula (c4) is preferably represented by the following formula (c6). When there are multiple R c8s , the multiple R c8s may be the same or different.

Figure 2024085734000017
(式(c6)中、Rc6、Rc7、Rc8、n3は、それぞれ式(c4)におけるRc6、Rc7、Rc8、n3と同様である。)
Figure 2024085734000017
(In formula (c6), R c6 , R c7 , R c8 , and n3 are the same as R c6 , R c7 , R c8 , and n3 in formula (c4), respectively.)

c8が1価の有機基である場合、Rc8は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、1以上の炭素原子、並びにH、O、S、Se、N、B、P、Si、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、1以上50以下が好ましく、1以上20以下がより好ましい。
c8が1価の有機基である場合の好適な例としては、式(c3)中のRc5としての1価の有機基の好適な例と同様の基が挙げられる。
When R c8 is a monovalent organic group, R c8 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. As the organic group, a carbon atom-containing group is preferable, and a group consisting of one or more carbon atoms and one or more atoms selected from the group consisting of H, O, S, Se, N, B, P, Si, and halogen atoms is more preferable. The number of carbon atoms of the carbon atom-containing group is not particularly limited, and is preferably 1 to 50, more preferably 1 to 20.
When R c8 is a monovalent organic group, preferred examples thereof include the same groups as the preferred examples of the monovalent organic group as R c5 in formula (c3).

式(c4)中、Rc6及びRc7は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい鎖状アルコキシ基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Rc6及びRc7とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Rc6及びRc7として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Rc6及びRc7が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。 In formula (c4), R c6 and R c7 are each a chain alkyl group which may have a substituent, a chain alkoxy group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom. R c6 and R c7 may be bonded to each other to form a ring. Among these groups, R c6 and R c7 are preferably a chain alkyl group which may have a substituent. When R c6 and R c7 are a chain alkyl group which may have a substituent, the chain alkyl group may be a straight chain alkyl group or a branched chain alkyl group.

c6及びRc7が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上10以下がより好ましく、1以上6以下が特に好ましい。Rc6及びRc7が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、イソノニル基、n-デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc6及びRc7がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R c6 and R c7 are chain alkyl groups having no substituents, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. Specific examples of the chain alkyl group when R c6 and R c7 are chain alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, n-decyl group, and isodecyl group. In addition, when R c6 and R c7 are alkyl groups, the alkyl group may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.

c6及びRc7が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上10以下がより好ましく、1以上6以下が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。 When R c6 and R c7 are chain alkyl groups having a substituent, the number of carbon atoms in the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. In this case, the number of carbon atoms in the substituent is not included in the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The chain alkyl group having a substituent is preferably linear.

アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Rc8がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Rc8がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Rc8がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。 The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. Suitable examples of the substituent include an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are preferred. Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as the suitable examples when R c8 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as the suitable examples when R c8 is a heterocyclyl group. When R c8 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, and is preferably linear. The alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group preferably has 1 or more and 10 or less, and more preferably has 1 or more and 6 or less, carbon atoms.

鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、1以上20以下であり、1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。 When the chain alkyl group has a substituent, the number of the substituents is not particularly limited. The preferred number of the substituents varies depending on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of the substituents is typically 1 to 20, preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6.

c6及びRc7が置換基を持たない鎖状アルコキシ基である場合、鎖状アルコキシ基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上10以下がより好ましく、1以上6以下が特に好ましい。Rc6及びRc7が鎖状アルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、n-ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec-ペンチルオキシ基、tert-ペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-ヘプチルオキシ基、n-オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec-オクチルオキシ基、tert-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc6及びRc7がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R c6 and R c7 are chain alkoxy groups having no substituents, the number of carbon atoms in the chain alkoxy group is preferably from 1 to 20, more preferably from 1 to 10, and particularly preferably from 1 to 6. Specific examples of when R c6 and R c7 are chain alkoxy groups include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group, an n-pentyloxy group, an isopentyloxy group, a sec-pentyloxy group, a tert-pentyloxy group, an n-hexyloxy group, an n-heptyloxy group, an n-octyloxy group, an isooctyloxy group, a sec-octyloxy group, a tert-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an isononyloxy group, an n-decyloxy group, and an isodecyloxy group. In addition, when R c6 and R c7 are alkoxy groups, the alkoxy groups may contain an ether bond (-O-) in the carbon chain. Examples of alkoxy groups having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.

c6及びRc7が置換基を有する鎖状アルコキシ基である場合に、アルコキシ基が有してもよい置換基は、Rc6及びRc7が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R c6 and R c7 are chain alkoxy groups having a substituent, the substituent that the alkoxy group may have is the same as when R c6 and R c7 are chain alkyl groups.

c6及びRc7が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Rc6及びRc7が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Rc6及びRc7が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R c6 and R c7 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. Examples of the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. When R c6 and R c7 are cyclic organic groups, the substituents that the cyclic organic group may have are the same as those when R c6 and R c7 are chain alkyl groups.

c6及びRc7が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素-炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、3以下が好ましく、2以下がより好ましく、1が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。 When R c6 and R c7 are aromatic hydrocarbon groups, the aromatic hydrocarbon group is preferably a phenyl group, a group formed by bonding multiple benzene rings via carbon-carbon bonds, or a group formed by condensing multiple benzene rings. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensing multiple benzene rings, the number of benzene rings contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited, and is preferably 3 or less, more preferably 2 or less, and particularly preferably 1. Specific preferred examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.

c6及びRc7が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、3以上20以下が好ましく、3以上10以下がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。 When R c6 and R c7 are alicyclic hydrocarbon groups, the alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms of the alicyclic hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably 3 to 20, more preferably 3 to 10. Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, norbornyl, isobornyl, tricyclononyl, tricyclodecyl, tetracyclododecyl, and adamantyl.

c6及びRc7がヘテロシクリル基である場合、式(c3)中のRc5としてのヘテロシクリル基と同様の基が挙げられる。 When R c6 and R c7 are heterocyclyl groups, examples of the heterocyclyl group include the same groups as the heterocyclyl group as R c5 in formula (c3).

c6及びRc7とは相互に結合して環を形成してもよい。Rc6及びRc7とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Rc6及びRc7とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、5員環~6員環であるのが好ましく、5員環であるのがより好ましい。 R c6 and R c7 may be bonded to each other to form a ring. The group consisting of the ring formed by R c6 and R c7 is preferably a cycloalkylidene group. When R c6 and R c7 are bonded to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered to 6-membered ring, more preferably a 5-membered ring.

c7とフルオレン骨格のベンゼン環と環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。 When R c7 forms a ring together with the benzene ring of the fluorene skeleton, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring.

c6及びRc7が結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、1以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by combining Rc6 and Rc7 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be fused with one or more other rings. Examples of the ring that may be fused with the cycloalkylidene group include a benzene ring, a naphthalene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, and a pyrimidine ring.

以上説明したRc6及びRc7の中でも好適な基の例としては、式-A-Aで表される基が挙げられる。式中、Aは直鎖アルキレン基であり、Aは、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。 Among the above-described R c6 and R c7 , a suitable example of the group is a group represented by the formula -A 1 -A 2. In the formula, A 1 is a linear alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.

の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。Aがアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。Aがハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Aがハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Aが環状有機基である場合、環状有機基の例は、Rc6及びRc7が置換基として有する環状有機基と同様である。Aがアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Rc6及びRc7が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。 The number of carbon atoms of the linear alkylene group of A 1 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, and linear is preferred. The number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 6. When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom is preferred, and a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom is more preferred. When A 2 is a halogenated alkyl group, the halogen atom contained in the halogenated alkyl group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom is more preferred. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and linear is preferred. When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic groups that R c6 and R c7 have as substituents. When A2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl groups which Rc6 and Rc7 have as substituents.

c6及びRc7の好適な具体例としては、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、及びn-オクチル基等のアルキル基;2-メトキシエチル基、3-メトキシ-n-プロピル基、4-メトキシ-n-ブチル基、5-メトキシ-n-ペンチル基、6-メトキシ-n-ヘキシル基、7-メトキシ-n-ヘプチル基、8-メトキシ-n-オクチル基、2-エトキシエチル基、3-エトキシ-n-プロピル基、4-エトキシ-n-ブチル基、5-エトキシ-n-ペンチル基、6-エトキシ-n-ヘキシル基、7-エトキシ-n-ヘプチル基、及び8-エトキシ-n-オクチル基等のアルコキシアルキル基;2-シアノエチル基、3-シアノ-n-プロピル基、4-シアノ-n-ブチル基、5-シアノ-n-ペンチル基、6-シアノ-n-ヘキシル基、7-シアノ-n-ヘプチル基、及び8-シアノ-n-オクチル基等のシアノアルキル基;2-フェニルエチル基、3-フェニル-n-プロピル基、4-フェニル-n-ブチル基、5-フェニル-n-ペンチル基、6-フェニル-n-ヘキシル基、7-フェニル-n-ヘプチル基、及び8-フェニル-n-オクチル基等のフェニルアルキル基;2-シクロヘキシルエチル基、3-シクロヘキシル-n-プロピル基、4-シクロヘキシル-n-ブチル基、5-シクロヘキシル-n-ペンチル基、6-シクロヘキシル-n-ヘキシル基、7-シクロヘキシル-n-ヘプチル基、8-シクロヘキシル-n-オクチル基、2-シクロペンチルエチル基、3-シクロペンチル-n-プロピル基、4-シクロペンチル-n-ブチル基、5-シクロペンチル-n-ペンチル基、6-シクロペンチル-n-ヘキシル基、7-シクロペンチル-n-ヘプチル基、及び8-シクロペンチル-n-オクチル基等のシクロアルキルアルキル基;2-メトキシカルボニルエチル基、3-メトキシカルボニル-n-プロピル基、4-メトキシカルボニル-n-ブチル基、5-メトキシカルボニル-n-ペンチル基、6-メトキシカルボニル-n-ヘキシル基、7-メトキシカルボニル-n-ヘプチル基、8-メトキシカルボニル-n-オクチル基、2-エトキシカルボニルエチル基、3-エトキシカルボニル-n-プロピル基、4-エトキシカルボニル-n-ブチル基、5-エトキシカルボニル-n-ペンチル基、6-エトキシカルボニル-n-ヘキシル基、7-エトキシカルボニル-n-ヘプチル基、及び8-エトキシカルボニル-n-オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基;2-クロロエチル基、3-クロロ-n-プロピル基、4-クロロ-n-ブチル基、5-クロロ-n-ペンチル基、6-クロロ-n-ヘキシル基、7-クロロ-n-ヘプチル基、8-クロロ-n-オクチル基、2-ブロモエチル基、3-ブロモ-n-プロピル基、4-ブロモ-n-ブチル基、5-ブロモ-n-ペンチル基、6-ブロモ-n-ヘキシル基、7-ブロモ-n-ヘプチル基、8-ブロモ-n-オクチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロ-n-ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。 Preferable specific examples of R c6 and R c7 include alkyl groups such as an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, and an n-octyl group; alkoxyalkyl groups such as a 2-methoxyethyl group, a 3-methoxy-n-propyl group, a 4-methoxy-n-butyl group, a 5-methoxy-n-pentyl group, a 6-methoxy-n-hexyl group, a 7-methoxy-n-heptyl group, an 8-methoxy-n-octyl group, a 2-ethoxyethyl group, a 3-ethoxy-n-propyl group, a 4-ethoxy-n-butyl group, a 5-ethoxy-n-pentyl group, a 6-ethoxy-n-hexyl group, a 7-ethoxy-n-heptyl group, and an 8-ethoxy-n-octyl group; cyanoalkyl groups such as 2-phenylethyl group, 3-phenyl-n-propyl group, 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and 8-phenyl-n-octyl group; phenylalkyl groups such as 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n-heptyl group, and 8-cyclohexyl-n-octyl group; 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n-heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, cycloalkylalkyl groups such as 4-cyclopentyl-n-butyl group, 5-cyclopentyl-n-pentyl group, 6-cyclopentyl-n-hexyl group, 7-cyclopentyl-n-heptyl group, and 8-cyclopentyl-n-octyl group; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxycarbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxycarbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-ethoxycarbonyl alkoxycarbonylalkyl groups such as 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5-chloro-n-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, and 8-ethoxycarbonyl-n-octyl group; and halogenated alkyl groups such as 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5-chloro-n-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4-bromo-n-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.

c6及びRc7として、上記の中でも好適な基は、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、2-メトキシエチル基、2-シアノエチル基、2-フェニルエチル基、2-シクロヘキシルエチル基、2-メトキシカルボニルエチル基、2-クロロエチル基、2-ブロモエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロ-n-ペンチル基である。 Among the above, preferred groups for R c6 and R c7 are an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-cyanoethyl group, a 2-phenylethyl group, a 2-cyclohexylethyl group, a 2-methoxycarbonylethyl group, a 2-chloroethyl group, a 2-bromoethyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group, and a 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.

式(c5)中、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、AはSであることが特に好ましい。 In formula (c5), it is particularly preferable that A is S, since this makes it easier to obtain a photopolymerization initiator with excellent sensitivity.

式(c5)中、Rc9は、1価の有機基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基である。
式(c5)におけるRc9が1価の有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、1以上の炭素原子、並びにH、O、S、Se、N、B、P、Si、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、1以上50以下が好ましく、1以上20以下がより好ましい。
式(c5)においてRc9が有機基である場合の好適な例としては、式(c3)中のRc5としての1価の有機基と同様の基が挙げられる。
In formula (c5), R c9 represents a monovalent organic group, a halogen atom, a nitro group, or a cyano group.
When R c9 in formula (c5) is a monovalent organic group, it can be selected from various organic groups as long as it does not impair the object of the present invention. As the organic group, a carbon atom-containing group is preferable, and a group consisting of one or more carbon atoms and one or more atoms selected from the group consisting of H, O, S, Se, N, B, P, Si, and halogen atoms is more preferable. The number of carbon atoms in the carbon atom-containing group is not particularly limited, and is preferably 1 to 50, more preferably 1 to 20.
In formula (c5), when R c9 is an organic group, suitable examples thereof include the same monovalent organic groups as R c5 in formula (c3).

c9の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1以上6以下のアルキル基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基;置換基を有していてもよいベンゾフラニルカルボニル基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2-メチルフェニルカルボニル基;4-(ピペラジン-1-イル)フェニルカルボニル基;4-(フェニル)フェニルカルボニル基がより好ましい。 Among R c9 , a benzoyl group, a naphthoyl group, a benzoyl group substituted with a group selected from the group consisting of an alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group, a nitro group, and a benzofuranylcarbonyl group which may have a substituent, are preferred, and a benzoyl group, a naphthoyl group, a 2-methylphenylcarbonyl group, a 4-(piperazin-1-yl)phenylcarbonyl group, and a 4-(phenyl)phenylcarbonyl group are more preferred.

また、式(c5)において、n4は、0以上3以下の整数が好ましく、0以上2以下の整数がより好ましく、0、又は1であるのが特に好ましい。n4が1である場合、Rc9の結合する位置は、Rc9が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。 In addition, in formula (c5), n4 is preferably an integer of 0 or more and 3 or less, more preferably an integer of 0 or more and 2 or less, and particularly preferably 0 or 1. When n4 is 1, the position at which R c9 is bonded is preferably the para position with respect to the bond at which the phenyl group to which R c9 is bonded is bonded to an oxygen atom or a sulfur atom.

式(c1)及び(c2)中、Rc2としての1価の有機基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。有機基としては、炭素原子含有基が好ましく、1以上の炭素原子、並びにH、O、S、Se、N、B、P、Si、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の原子からなる基がより好ましい。炭素原子含有基の炭素原子数は特に限定されず、1以上50以下が好ましく、1以上20以下がより好ましい。
c2としての1価の有機基の好適な例としては、式(c3)中のRc5としての1価の有機基と同様の基が挙げられる。これらの基の具体例は、式(c3)中のRc5について説明した基と同様である。
また、Rc2としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、式(c3)中のRc5に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基と同様である。
In formulas (c1) and (c2), the monovalent organic group represented by R c2 is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention. As the organic group, a carbon atom-containing group is preferable, and a group consisting of one or more carbon atoms and one or more atoms selected from the group consisting of H, O, S, Se, N, B, P, Si, and halogen atoms is more preferable. The number of carbon atoms in the carbon atom-containing group is not particularly limited, and is preferably 1 to 50, more preferably 1 to 20.
Suitable examples of the monovalent organic group as R c2 include the same groups as the monovalent organic group as R c5 in formula (c3). Specific examples of these groups are the same as those described for R c5 in formula (c3).
Also preferred as R c2 are a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. The substituents which the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituents when the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R c5 in formula (c3) further have a substituent.

有機基の中でも、Rc2としては、上記HXC-又はHXC-で表される基を含む置換基、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数、シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数、シクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数、又は芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基については、式(c3)のRc5と同様である。 Among the organic groups, R c2 is preferably a substituent containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-, an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a cycloalkylalkyl group, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. The alkyl group, the phenyl group which may have a substituent, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group, the number of carbon atoms of the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group, the cycloalkylalkyl group, the number of carbon atoms of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, or the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are the same as R c5 in formula (c3).

また、Rc2としては、-A-CO-O-Aで表される基も好ましい。Aは、2価の有機基であり、2価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Aは、1価の有機基であり、1価の炭化水素基であるのが好ましい。 Also preferred as R c2 is a group represented by -A 3 -CO-O-A 4. A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group. A 4 is a monovalent organic group, preferably a monovalent hydrocarbon group.

がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Aがアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましく、1以上4以下が特に好ましい。 When A3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear. When A3 is an alkylene group, the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, and particularly preferably 1 to 4.

の好適な例としては、炭素原子数1以上10以下のアルキル基、炭素原子数7以上20以下のアラルキル基、及び炭素原子数6以上20以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。Aの好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-ナフチルメチル基、及びβ-ナフチルメチル基等が挙げられる。 Suitable examples of A4 include an alkyl group having from 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having from 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having from 6 to 20 carbon atoms. Suitable specific examples of A4 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a benzyl group, a phenethyl group, an α-naphthylmethyl group, and a β-naphthylmethyl group.

-A-CO-O-Aで表される基の好適な具体例としては、2-メトキシカルボニルエチル基、2-エトキシカルボニルエチル基、2-n-プロピルオキシカルボニルエチル基、2-n-ブチルオキシカルボニルエチル基、2-n-ペンチルオキシカルボニルエチル基、2-n-ヘキシルオキシカルボニルエチル基、2-ベンジルオキシカルボニルエチル基、2-フェノキシカルボニルエチル基、3-メトキシカルボニル-n-プロピル基、3-エトキシカルボニル-n-プロピル基、3-n-プロピルオキシカルボニル-n-プロピル基、3-n-ブチルオキシカルボニル-n-プロピル基、3-n-ペンチルオキシカルボニル-n-プロピル基、3-n-ヘキシルオキシカルボニル-n-プロピル基、3-ベンジルオキシカルボニル-n-プロピル基、及び3-フェノキシカルボニル-n-プロピル基等が挙げられる。 Specific preferred examples of the group represented by -A 3 -CO-O-A 4 include a 2-methoxycarbonylethyl group, a 2-ethoxycarbonylethyl group, a 2-n-propyloxycarbonylethyl group, a 2-n-butyloxycarbonylethyl group, a 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, a 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, a 2-benzyloxycarbonylethyl group, a 2-phenoxycarbonylethyl group, a 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, a 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, a 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, a 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, a 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group, a 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, a 3-benzyloxycarbonyl-n-propyl group, and a 3-phenoxycarbonyl-n-propyl group.

また、Rc2としては、下記式(c7)又は(c8)で表される基も好ましい。

Figure 2024085734000018
(式(c7)及び(c8)中、Rc10及びRc11は、それぞれ独立に、1価の有機基であり、
n5は0以上4以下の整数であり、
c10及びRc11がベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Rc10とRc11とが互いに結合して環を形成してもよく、
c12は、1価の有機基であり、
n6は1以下8以下の整数であり、
n7は1以上5以下の整数であり、
n8は0以上(n7+3)以下の整数である。) Furthermore, as R c2 , a group represented by the following formula (c7) or (c8) is also preferable.
Figure 2024085734000018
In formulas (c7) and (c8), R c10 and R c11 each independently represent a monovalent organic group.
n5 is an integer of 0 to 4,
When R c10 and R c11 are present at adjacent positions on the benzene ring, R c10 and R c11 may be bonded to each other to form a ring;
R c12 is a monovalent organic group;
n6 is an integer of 1 to 8,
n7 is an integer of 1 to 5,
n8 is an integer between 0 and (n7+3).

式(c7)中のRc10及びRc11としての有機基は、式(c4)中のRc8と同様である。Rc10としては、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルコキシ基、HXC-又はHXC-で表される基を含むハロゲン化アルキル基、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Rc10とRc11とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式(c7)で表される基であって、Rc10とRc11とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン-1-イル基や、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-5-イル基等が挙げられる。
上記式(c7)中、n5は0以上4以下の整数であり、0又は1であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。
The organic groups represented by R c10 and R c11 in formula (c7) are the same as R c8 in formula (c4). R c10 is preferably a halogenated alkoxy group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-, a halogenated alkyl group containing a group represented by HX 2 C- or H 2 XC-, an alkyl group, or a phenyl group. When R c10 and R c11 are bonded to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Suitable examples of the group represented by formula (c7) in which R c10 and R c11 form a ring include a naphthalene-1-yl group and a 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-5-yl group.
In the above formula (c7), n5 is an integer of 0 or more and 4 or less, preferably 0 or 1, and more preferably 0.

上記式(c8)中、Rc12は有機基である。有機基としては、式(c4)中のRc8について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は1以上10以下が好ましく、1以上5以下がより好ましく、1以上3以下が特に好ましい。Rc12としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (c8), R c12 is an organic group. Examples of the organic group include the same groups as those described for R c8 in formula (c4). Among the organic groups, an alkyl group is preferred. The alkyl group may be linear or branched. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 3. Preferred examples of R c12 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group, and among these, a methyl group is more preferred.

上記式(c8)中、n7は1以上5以下の整数であり、1以上3以下の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式(c8)中、n8は0以上(n7+3)以下であり、0以上3以下の整数が好ましく、0以上2以下の整数がより好ましく、0が特に好ましい。
上記式(c8)中、n6は1以上8以下の整数であり、1以上5以下の整数が好ましく、1以上3以下の整数がより好ましく、1又は2が特に好ましい。
In the above formula (c8), n7 is an integer of 1 or more and 5 or less, preferably an integer of 1 or more and 3 or less, and more preferably 1 or 2. In the above formula (c8), n8 is an integer of 0 or more and (n7+3) or less, preferably an integer of 0 or more and 3 or less, more preferably an integer of 0 or more and 2 or less, and particularly preferably 0.
In the above formula (c8), n6 is an integer of 1 or more and 8 or less, preferably an integer of 1 or more and 5 or less, more preferably an integer of 1 or more and 3 or less, and particularly preferably 1 or 2.

式(c2)中、Rc3は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1以上20以下の脂肪族炭化水素基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Rc3が脂肪族炭化水素基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。 In formula (c2), R c3 is a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. When R c3 is an aliphatic hydrocarbon group, preferred examples of the substituent which it may have include a phenyl group and a naphthyl group.

式(c1)及び(c2)中、Rc3としては、水素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、2-シクロペンチルエチル基、2-シクロブチルエチル基、シクロヘキシルメチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In formulas (c1) and (c2), preferred examples of R c3 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a 2-cyclopentylethyl group, a 2-cyclobutylethyl group, a cyclohexylmethyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, and a naphthyl group. Of these, a methyl group or a phenyl group is more preferred.

式(c2)で表され、且つRc1として式(c3)で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 2024085734000019
Preferable specific examples of the compound represented by formula (c2) and having a group represented by formula (c3) as R c1 include the following compounds.
Figure 2024085734000019

Figure 2024085734000020
Figure 2024085734000020

Figure 2024085734000021
Figure 2024085734000021

Figure 2024085734000022
Figure 2024085734000022

式(c2)で表され、且つRc1として式(c4)で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 2024085734000023
Preferable specific examples of the compound represented by formula (c2) and having a group represented by formula (c4) as R c1 include the following compounds.
Figure 2024085734000023

Figure 2024085734000024
Figure 2024085734000024

Figure 2024085734000025
Figure 2024085734000025

Figure 2024085734000026
Figure 2024085734000026

Figure 2024085734000027
Figure 2024085734000027

式(c2)で表され、且つRc1として式(c5)で表される基を有する化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。

Figure 2024085734000028
Preferable specific examples of the compound represented by formula (c2) and having a group represented by formula (c5) as R c1 include the following compounds.
Figure 2024085734000028

ラジカル重合開始剤(C1)としては、感光性組成物の深部硬化性が良好である点から、フォスフィンオキサイド化合物も好ましい。フォスフィンオキサイド化合物としては、下記式(c9)で表される部分構造を含むフォスフィンオキサイド化合物が好ましい。

Figure 2024085734000029
式(c9)中、Rc21及びRc22は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、炭素原子数2以上20以下の脂肪族アシル基、又は炭素原子数7以上20以下の芳香族アシル基である。ただし、Rc21及びRc22の双方が脂肪族アシル基又は芳香族アシル基ではない。 As the radical polymerization initiator (C1), a phosphine oxide compound is also preferred because it provides good deep curing properties for the photosensitive composition. As the phosphine oxide compound, a phosphine oxide compound containing a partial structure represented by the following formula (c9) is preferred.
Figure 2024085734000029
In formula (c9), R c21 and R c22 are each independently an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, or an aromatic acyl group having 7 to 20 carbon atoms, provided that both R c21 and R c22 are not aliphatic acyl groups or aromatic acyl groups.

c21及びRc22としてのアルキル基の炭素原子数は、1以上12以下が好ましく、1以上8以下がより好ましく、1以上4以下がさらに好ましい。Rc21及びRc22としてのアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、2,4,4,-トリメチルペンチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、及びn-ドデシル基が挙げられる。
The number of carbon atoms of the alkyl group represented by R c21 and R c22 is preferably 1 or more and 12 or less, more preferably 1 or more and 8 or less, and still more preferably 1 or more and 4 or less. The alkyl group represented by R c21 and R c22 may be linear or branched.
Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group, a tert-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, an n-octyl group, a 2,4,4-trimethylpentyl group, a 2-ethylhexyl group, an n-nonyl group, an n-decyl group, an n-undecyl group, and an n-dodecyl group.

c21及びRc22としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、5以上12以下が好ましい。シクロアルキル基の具体例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、及びシクロドデシル基が挙げられる。 The number of carbon atoms in the cycloalkyl group represented by Rc21 and Rc22 is preferably 5 to 12. Specific examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, a cycloundecyl group, and a cyclododecyl group.

c21及びRc22としてのアリール基の炭素原子数は、6以上12以下が好ましい。アリール基は置換基を有してもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基等が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、及びナフチル基が挙げられる。 The number of carbon atoms of the aryl group represented by R c21 and R c22 is preferably 6 or more and 12 or less. The aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.

c21及びRc22としての脂肪族アシル基の炭素原子数は、2以上20以下であり、2以上12以下が好ましく、2以上8以下がより好ましく、2以上6以下がさらに好ましい。脂肪族アシル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
脂肪族アシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、ノナデカノイル基、及びイコサノイル基が挙げられる。
The number of carbon atoms of the aliphatic acyl group represented by R c21 and R c22 is 2 or more and 20 or less, preferably 2 or more and 12 or less, more preferably 2 or more and 8 or less, and still more preferably 2 or more and 6 or less. The aliphatic acyl group may be linear or branched.
Specific examples of the aliphatic acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butanoyl group, a pentanoyl group, a hexanoyl group, a heptanoyl group, an octanoyl group, a nonanoyl group, a decanoyl group, an undecanoyl group, a dodecanoyl group, a tridecanoyl group, a tetradecanoyl group, a pentadecanoyl group, a hexadecanoyl group, a heptadecanoyl group, an octadecanoyl group, a nonadecanoyl group, and an icosanoyl group.

c21及びRc22としての芳香族アシル基の炭素原子数は、7以上20以下である。芳香族アシル基は置換基を有してもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基等が挙げられる。芳香族アシル基の具体例としては、ベンゾイル基、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、2,6-ジメチルベンゾイル基、2,6-ジメトキシベンゾイル基、2,4,6-トリメチルベンゾイル基、α-ナフトイル基、及びβ-ナフトイル基が挙げられる。 The number of carbon atoms in the aromatic acyl group represented by R c21 and R c22 is 7 or more and 20 or less. The aromatic acyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. Specific examples of the aromatic acyl group include a benzoyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a 2,6-dimethylbenzoyl group, a 2,6-dimethoxybenzoyl group, a 2,4,6-trimethylbenzoyl group, an α-naphthoyl group, and a β-naphthoyl group.

式(c9)で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物の好ましい具体例としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド、及びビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
感光性組成物の深部硬化性の観点からは、式(c9)で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物は、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノンのようなα-ヒドロキシアルキルフェノン系の開始剤とともに使用されるのも好ましい。
式(c9)で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物と、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノンのようなα-ヒドロキシアルキルフェノン系の開始剤とを併用する場合、両者の質量の合計に対する、式(c9)で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物の質量の比率は、20質量%以上80質量%以下が好ましく、30質量%以上70質量%以下がより好ましく、40質量%以上60質量%以下がさらに好ましい。
Preferable specific examples of the phosphine oxide compound containing the structural portion represented by formula (c9) include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, and bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide.
From the viewpoint of deep curing properties of the photosensitive composition, it is also preferable that the phosphine oxide compound containing the structural moiety represented by formula (c9) is used together with an α-hydroxyalkylphenone initiator such as 2-hydroxy-2-methylpropiophenone.
When a phosphine oxide compound having a structural moiety represented by formula (c9) is used in combination with an α-hydroxyalkylphenone-based initiator such as 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, the ratio of the mass of the phosphine oxide compound having a structural moiety represented by formula (c9) to the total mass of both is preferably 20 mass% or more and 80 mass% or less, more preferably 30 mass% or more and 70 mass% or less, and even more preferably 40 mass% or more and 60 mass% or less.

カチオン重合開始剤(C2)としては、従来知られるカチオン重合開始剤を特に限定なく用いることができる。カチオン重合開始剤(C2)の典型的な例としては、オニウム塩類が挙げられる。カチオン重合開始剤(C2)としては、オキソニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、及びヨードニウム塩が挙げられ、スルホニウム塩、及びヨードニウム塩が好ましく、スルホニウム塩がより好ましい。 As the cationic polymerization initiator (C2), any conventionally known cationic polymerization initiator can be used without any particular limitation. Typical examples of the cationic polymerization initiator (C2) include onium salts. Examples of the cationic polymerization initiator (C2) include oxonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, and iodonium salts, with sulfonium salts and iodonium salts being preferred, and sulfonium salts being more preferred.

感光性組成物における、開始剤(C)の含有量は、特に限定されない。開始剤(C)の含有量は、ラジカル重合性基、又はカチオン重合性基の種類や、開始剤(C)の種類に応じて適宜決定される。
感光性組成物における開始剤(C)の含有量は、後述する溶媒(S)の質量を除いた感光性組成物の質量を100質量部としたときに、0.01質量部以上20質量部以下が好ましく、0.1質量部以上15質量部以下がより好ましく、1質量部以上10質量部以下がさらに好ましい。
The content of the initiator (C) in the photosensitive composition is not particularly limited. The content of the initiator (C) is appropriately determined depending on the type of the radical polymerizable group or the cationic polymerizable group and the type of the initiator (C).
The content of the initiator (C) in the photosensitive composition is preferably 0.01 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, more preferably 0.1 parts by mass or more and 15 parts by mass or less, and even more preferably 1 part by mass or more and 10 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the photosensitive composition excluding the mass of the solvent (S) described below.

光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)と、開始剤(C)と、必要に応じて配合される任意成分とを、それぞれ所望する量、均一に、混合、分散させることにより感光性組成物が得られる。 The photosensitive composition is obtained by uniformly mixing and dispersing the desired amounts of the photopolymerizable compound (A), inorganic fine particles (B), initiator (C), and optional components that are added as needed.

≪硬化物の製造方法≫
以上説明した感光性組成物を、所望する形状に成形した後、開始剤(C)の種類に応じて感光性組成物に対して露光を行うことにより硬化物を製造できる。
<Production method of cured product>
The photosensitive composition described above is molded into a desired shape, and then exposed to light depending on the type of initiator (C) to produce a cured product.

感光性組成物の成形方法としては特に限定されず、硬化物の形状に応じて適宜選択される。成形方法としては、例えば、塗布や、型への注型等が挙げられる。
以下、硬化物の製造方法の代表例として、硬化膜の製造方法について説明する。
The method for molding the photosensitive composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the shape of the cured product. Examples of the molding method include coating and casting into a mold.
Hereinafter, a method for producing a cured film will be described as a representative example of a method for producing a cured product.

まず、感光性組成物を、所望する基板上に塗布して塗布膜を形成した後に、必要に応じて、塗布膜から溶媒(S)の少なくとも一部を除去して塗布膜を形成する。 First, the photosensitive composition is applied onto a desired substrate to form a coating film, and then, if necessary, at least a portion of the solvent (S) is removed from the coating film to form a coating film.

基板上に感光性組成物を塗布する方法は、特に限定されない。例えば、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター、スリットコーター等の接触転写型塗布装置や、スピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて、硬化性組成物を基板上に所望の膜厚となるよう塗布して塗布膜を形成できる。
また、塗布膜の形成方法として、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法等の印刷法を適用することもできる。前述の通り、上記の感光性組成物は、急激に乾燥、インクジェットヘッドにおいて増粘したり固化したりしにくい。このため、上記の感光性組成物をインクジェットインクとして用いることにより、インクジェット印刷法による塗布を良好に行うことができる。
The method of applying the photosensitive composition onto the substrate is not particularly limited. For example, the curable composition can be applied onto the substrate to a desired thickness using a contact transfer type application device such as a roll coater, a reverse coater, a bar coater, or a slit coater, or a non-contact type application device such as a spinner (rotary application device) or a curtain flow coater to form a coating film.
In addition, printing methods such as screen printing and inkjet printing can also be used to form the coating film. As described above, the photosensitive composition is unlikely to dry rapidly, thicken, or solidify in an inkjet head. Therefore, by using the photosensitive composition as an inkjet ink, coating by inkjet printing can be performed well.

感光性組成物を基板上に塗布した後に、必要に応じて塗布膜をベークして、塗布膜から溶媒(S)の少なくとも一部を除去するのが好ましい。ベーク温度は、溶媒(S)の沸点等を勘案して適宜定められる。ベークは、減圧条件下に低温で行われてもよい。 After the photosensitive composition is applied onto the substrate, it is preferable to bake the coating film as necessary to remove at least a portion of the solvent (S) from the coating film. The baking temperature is appropriately determined taking into consideration the boiling point of the solvent (S) and the like. Baking may be performed at a low temperature under reduced pressure conditions.

ベークの方法としては、特に限定されず、例えばホットプレートを用いて80℃以上150℃以下、好ましくは85℃以上120℃以下の温度において60秒以上500秒以下の時間乾燥する方法が挙げられる。 The baking method is not particularly limited, and examples include a method of drying using a hot plate at a temperature of 80°C to 150°C, preferably 85°C to 120°C, for a time of 60 seconds to 500 seconds.

以上のようにして形成される塗布膜の膜厚は特に限定されない。塗布膜の膜厚は、硬化膜の用途に応じて適宜決定される。塗布膜の膜厚は、典型的には、好ましくは0.1μm以上10μm以下、より好ましくは0.2μm以上5μm以下の膜厚の硬化膜が形成されるように適宜調整される。 The thickness of the coating film formed in the above manner is not particularly limited. The thickness of the coating film is appropriately determined depending on the application of the cured film. The thickness of the coating film is typically adjusted appropriately so that a cured film having a thickness of preferably 0.1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 0.2 μm or more and 5 μm or less, is formed.

上記の方法により塗布膜を形成した後、塗布膜に対して露光を行うことにより、硬化膜を得ることができる。 After forming a coating film using the above method, a cured film can be obtained by exposing the coating film to light.

塗布膜を露光する条件は、硬化が良好に進行する限り特に限定されない。露光は、例えば、紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射することにより行われる。照射するエネルギー線量は特に制限はないが、例えば30mJ/cm以上5000mJ/cm以下が挙げられる。露光後には塗布後の加熱と同様の方法により、露光された塗布膜をベークしてもよい。 The conditions for exposing the coating film are not particularly limited as long as the curing proceeds well. The exposure is carried out, for example, by irradiating the coating film with active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light. The amount of energy radiation to be irradiated is not particularly limited, but may be, for example, 30 mJ/ cm2 or more and 5000 mJ/ cm2 or less. After the exposure, the exposed coating film may be baked by the same method as the heating after coating.

以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。 The present invention will be described in detail below with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples.

〔合成例1〕
容量300mLの反応器に、2-フェニルフェノール(20.0g,0.118mol)、炭酸カリウム(32.5g,0.235mol)、2-[2-(2-クロロエトキシ)エトキシ]エタノール(23.8g,0.141mol)、及びジメチルホルムアミド200mLを加えた。反応器内を窒素置換した後に、内温90℃で10時間、反応器内の反応液を撹拌して、2-フェニルフェノールと、2-[2-(2-クロロエトキシ)エトキシ]エタノールとを反応させた。
その後、反応液を室温まで冷却した。冷却された反応液に水を加えた後、さらに反応液にトルエンを加え、トルエン中に生成物を抽出した。分液されたトルエン層から溶媒を除去した後、溶媒除去後の残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物IM1を26.8g(収率75%)得た。
次に、容量300mLの反応器内で、化合物IM1(26.8g,0.089mol)、トリエチルアミン(10.8g,0.106mol)、及びテトラヒドロフラン270mLを混合した。得られた溶液を、氷浴で冷却した。冷却された溶液に、アクリル酸クロリド(9.60g,0.106mol)を、内温5℃以下に保持しながら滴下した。アクリル酸クロリドが添加された反応液を、室温で2時間撹拌した後、析出した塩をろ過した。得られたろ液から、溶媒をエバポレーターで除去して、粘性液体を得た。得られた粘性液体をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物1を無色液体として15.7g(収率50%)得た。化合物1のH-NMRの測定結果は以下の通りである。
H-NMR(DMSO):3.52(s、4H)、3.63(t、2H)、3.72(t、2H)、4.12(t、2H)、4.20(t、2H)、5.90(dd、1H)、6.12(dd、1H)、6.35(dd、1H)、7.05-7.60(m、9H)

Figure 2024085734000030
Synthesis Example 1
A 300 mL reactor was charged with 2-phenylphenol (20.0 g, 0.118 mol), potassium carbonate (32.5 g, 0.235 mol), 2-[2-(2-chloroethoxy)ethoxy]ethanol (23.8 g, 0.141 mol), and 200 mL of dimethylformamide. After the atmosphere in the reactor was replaced with nitrogen, the reaction solution in the reactor was stirred at an internal temperature of 90° C. for 10 hours to react 2-phenylphenol with 2-[2-(2-chloroethoxy)ethoxy]ethanol.
The reaction solution was then cooled to room temperature. Water was added to the cooled reaction solution, and toluene was then added to the reaction solution to extract the product into toluene. The solvent was removed from the separated toluene layer, and the residue after solvent removal was purified by silica gel chromatography to obtain 26.8 g (yield 75%) of compound IM1.
Next, in a 300 mL reactor, compound IM1 (26.8 g, 0.089 mol), triethylamine (10.8 g, 0.106 mol), and 270 mL of tetrahydrofuran were mixed. The resulting solution was cooled in an ice bath. Acryloyl chloride (9.60 g, 0.106 mol) was added dropwise to the cooled solution while maintaining the internal temperature at 5° C. or less. The reaction solution to which acrylic acid chloride was added was stirred at room temperature for 2 hours, and then the precipitated salt was filtered. The solvent was removed from the resulting filtrate using an evaporator to obtain a viscous liquid. The resulting viscous liquid was purified by silica gel chromatography to obtain 15.7 g (yield 50%) of compound 1 as a colorless liquid. The measurement results of 1 H-NMR of compound 1 are as follows.
1H -NMR (DMSO): 3.52 (s, 4H), 3.63 (t, 2H), 3.72 (t, 2H), 4.12 (t, 2H), 4.20 (t, 2H), 5.90 (dd, 1H), 6.12 (dd, 1H), 6.35 (dd, 1H), 7.05-7.60 (m, 9H).
Figure 2024085734000030

〔合成例2〕
容量300mLの反応器に、4,4’-チオビスベンゼンチオール(20.0g,0.080mol)、及び20%水酸化ナトリウム水溶液100mLを加えた。反応器内を窒素置換した後に、内温60℃で30分間、反応器の内容物を撹拌した。その後、エチレングリコールモノ-2-クロロエチルエーテル(23.2g,0.186mol)を反応器内に滴下し、内温90℃で4時間反応を行った。次いで、反応液を、撹拌しながら室温まで冷却した。冷却により析出した固体をろ取し、水で洗浄した。得られた固体を減圧乾燥して、化合物IM2を33.8g(収率99%)得た。
次に、容量500mLの反応器内で、化合物IM2(33.8g,0.079mol)、トリエチルアミン(19.2g,0.190mol)、ヒドロキノン(0.87g,0.008mol)、及びテトラヒドロフラン340mLを混合した。得られた溶液を、氷浴で冷却した。冷却された溶液に、アクリル酸クロリド(17.2g,0.190mol)を、内温5℃以下に保持しながら滴下した。アクリル酸クロリドが添加された溶液を、室温で2時間撹拌した後、析出した塩をろ過した。得られたろ液から、溶媒をエバポレーターで除去して粘性液体を得たた。得られた粘性液体をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物2を無色液体として22.1g(収率52%)得た。化合物2のH-NMRの測定結果は以下の通りである。
H-NMR(DMSO):3.27(t、4H)、3.63(t、4H)、3.77(t、4H)、4.27(t、4H)、5.80(dd、2H)、6.15(dd、2H)、6.41(dd、2H)、7.20(d、4H)、7.28(d、4H)

Figure 2024085734000031
Synthesis Example 2
4,4'-thiobisbenzenethiol (20.0 g, 0.080 mol) and 100 mL of 20% aqueous sodium hydroxide solution were added to a 300 mL reactor. After replacing the atmosphere in the reactor with nitrogen, the contents of the reactor were stirred at an internal temperature of 60°C for 30 minutes. Then, ethylene glycol mono-2-chloroethyl ether (23.2 g, 0.186 mol) was dropped into the reactor, and the reaction was carried out at an internal temperature of 90°C for 4 hours. Next, the reaction liquid was cooled to room temperature while stirring. The solid precipitated by cooling was filtered and washed with water. The obtained solid was dried under reduced pressure to obtain 33.8 g (yield 99%) of compound IM2.
Next, in a 500 mL reactor, compound IM2 (33.8 g, 0.079 mol), triethylamine (19.2 g, 0.190 mol), hydroquinone (0.87 g, 0.008 mol), and 340 mL of tetrahydrofuran were mixed. The resulting solution was cooled in an ice bath. Acryloyl chloride (17.2 g, 0.190 mol) was added dropwise to the cooled solution while maintaining the internal temperature at 5° C. or less. The solution to which acrylic acid chloride was added was stirred at room temperature for 2 hours, and then the precipitated salt was filtered. The solvent was removed from the obtained filtrate using an evaporator to obtain a viscous liquid. The obtained viscous liquid was purified by silica gel chromatography to obtain 22.1 g (yield 52%) of compound 2 as a colorless liquid. The measurement results of 1 H-NMR of compound 2 are as follows.
1H -NMR (DMSO): 3.27 (t, 4H), 3.63 (t, 4H), 3.77 (t, 4H), 4.27 (t, 4H), 5.80 (dd, 2H), 6.15 (dd, 2H), 6.41 (dd, 2H), 7.20 (d, 4H), 7.28 (d, 4H).
Figure 2024085734000031

〔合成例3〕
容量500mLの反応器に、フェニルスルフィド(50g、0.268mol)、パラホルムアルデヒド(32.2g、1.074mol)、及びHBr/HOAc400mLを加えた。反応器内を窒素置換した後に、内温50℃で10時間、反応器の内容物を撹拌した。その後、水400mLに注ぎ、固体をろ取し、水で洗浄した。得られた固体にメタノール100mLを加え、攪拌した。その後酢酸エチル・ヘプタン混合液(1:3)を500mL加えて懸濁洗浄し、固体をろ取し、少量のメタノールで洗浄し固体を得た。その固体を減圧乾燥して、化合物IM3を78.4g(収率78%)得た。
次に、容量1000mLの反応器内で、化合物IM3(78.4g、0.211mol)、炭酸カルシウム(87.4g,0.632mol)、アクリル酸(43.55g,0.632mol)、及びDMF400mLを混合し、内温40℃で2時間、反応器の内容物を攪拌した。得られた溶液を、室温まで冷却し、トルエン500mLを加え、水で分液した。得られたトルエン溶液から、溶媒をエバポレーターで除去して粘性液体を得た。得られた粘性液体をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、さらに減圧乾燥させて化合物3を無色液体として56.2g(収率79%)得た。

Figure 2024085734000032
Synthesis Example 3
Phenyl sulfide (50 g, 0.268 mol), paraformaldehyde (32.2 g, 1.074 mol), and 400 mL of HBr/HOAc were added to a 500 mL reactor. After replacing the inside of the reactor with nitrogen, the contents of the reactor were stirred at an internal temperature of 50° C. for 10 hours. Then, 400 mL of water was poured into the reactor, and the solid was filtered and washed with water. 100 mL of methanol was added to the obtained solid, and the mixture was stirred. Then, 500 mL of ethyl acetate/heptane mixture (1:3) was added to perform suspension washing, and the solid was filtered and washed with a small amount of methanol to obtain a solid. The solid was dried under reduced pressure to obtain 78.4 g (yield 78%) of compound IM3.
Next, in a 1000 mL reactor, compound IM3 (78.4 g, 0.211 mol), calcium carbonate (87.4 g, 0.632 mol), acrylic acid (43.55 g, 0.632 mol), and 400 mL of DMF were mixed, and the contents of the reactor were stirred at an internal temperature of 40° C. for 2 hours. The resulting solution was cooled to room temperature, 500 mL of toluene was added, and the mixture was separated with water. The solvent was removed from the resulting toluene solution using an evaporator to obtain a viscous liquid. The resulting viscous liquid was purified by silica gel chromatography and further dried under reduced pressure to obtain 56.2 g (79% yield) of compound 3 as a colorless liquid.
Figure 2024085734000032

〔合成例4〕
容量500mLの反応器に、2-ヒドロキシ安息香酸ベンジル(15.0g,0.066mol)、トリエチルアミン(7.98g,0.079mol)、及びテトラヒドロフラン300mLを加えた。次いで、得られた溶液を氷浴で冷却した。この溶液に、アクリル酸クロリド(7.14g,0.079mol)を内温5℃以下に保持しながら滴下した。アクリル酸クロリドが加えられた溶液を、室温で3時間撹拌した後、析出した塩をろ過した。得られたろ液からエバポレーターにより溶媒を除去した。溶媒除去後の残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物4を無色液体として14.6g(収率79%)得た。化合物4のH-NMRの測定結果は以下の通りである。
H-NMR(DMSO):5.22(s、2H)、5.74(dd、1H)、6.10(dd、1H)、6.41(dd、1H)、7.30-8.10(m、9H)

Figure 2024085734000033
Synthesis Example 4
Benzyl 2-hydroxybenzoate (15.0 g, 0.066 mol), triethylamine (7.98 g, 0.079 mol), and 300 mL of tetrahydrofuran were added to a 500 mL reactor. The resulting solution was then cooled in an ice bath. Acryloyl chloride (7.14 g, 0.079 mol) was added dropwise to this solution while maintaining the internal temperature at 5° C. or less. The solution to which acrylic chloride had been added was stirred at room temperature for 3 hours, and the precipitated salt was filtered. The solvent was removed from the resulting filtrate using an evaporator. The residue after the solvent removal was purified by silica gel chromatography to obtain 14.6 g (yield 79%) of compound 4 as a colorless liquid. The measurement results of 1 H-NMR of compound 4 are as follows.
1H -NMR(DMSO): 5.22(s, 2H), 5.74(dd, 1H), 6.10(dd, 1H), 6.41(dd, 1H), 7.30-8.10(m, 9H)
Figure 2024085734000033

〔合成例5〕
容量500mLの反応器に、炭酸カリウム(16.05g,0.12mol)、アクリル酸(8.37g,0.12mol)、及びNMP200mLを加えた。得られた溶液を室温で10分間攪拌した。この溶液に、4-(ブロモメチル)ベンゾフェノン(21.30g,0.08mol)を加えた。4-(ブロモメチル)ベンゾフェノンが加えられた溶液を、40℃で2時間攪拌した後、室温まで冷却し、水とトルエンで分液し、生成物を有機相に抽出した。有機相から溶媒を除去して得られた粗組成物を、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、化合物5を20.1g(収率97%)得た。化合物5のH-NMRの測定結果は以下の通りである。
H-NMR(DMSO):5.12(s、2H)、5.83(dd、1H)、6.12(dd、1H)、6.41(dd、1H)、7.30-7.81(m、9H)

Figure 2024085734000034
Synthesis Example 5
Potassium carbonate (16.05 g, 0.12 mol), acrylic acid (8.37 g, 0.12 mol), and 200 mL of NMP were added to a 500 mL reactor. The resulting solution was stirred at room temperature for 10 minutes. 4-(bromomethyl)benzophenone (21.30 g, 0.08 mol) was added to this solution. The solution to which 4-(bromomethyl)benzophenone had been added was stirred at 40° C. for 2 hours, cooled to room temperature, and separated with water and toluene, and the product was extracted into the organic phase. The crude composition obtained by removing the solvent from the organic phase was purified by silica gel chromatography to obtain 20.1 g (yield 97%) of compound 5. The measurement results of 1 H-NMR of compound 5 are as follows.
1H -NMR(DMSO): 5.12(s, 2H), 5.83(dd, 1H), 6.12(dd, 1H), 6.41(dd, 1H), 7.30-7.81(m, 9H)
Figure 2024085734000034

以下、実施例、及び比較例において、芳香環含有重合性化合物(A1)として、上記化合物1~5を用い、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)として、下記化合物7を用いた。また、芳香環含有重合性化合物(A1)に対する比較化合物として、下記化合物6を用い、重合性化合物(A2)に対する比較化合物として、下記化合物8を用いた。
化合物6:シクロヘキシルアクリレート
化合物7(CN2303):Arkema社製のCN2303(ハイパーブランチ構造を有する(メタ)アクリレート化合物、(メタ)アクリロイル基数:6、質量平均分子量(Mw):1400、粘度(20℃):320mPa・s)
化合物8(DPHA):ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
In the following Examples and Comparative Examples, the above-mentioned compounds 1 to 5 were used as the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1), and the following compound 7 was used as the polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure. In addition, the following compound 6 was used as a comparative compound for the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1), and the following compound 8 was used as a comparative compound for the polymerizable compound (A2).
Compound 6: Cyclohexyl acrylate compound 7 (CN2303): CN2303 manufactured by Arkema ((meth)acrylate compound having a hyperbranched structure, number of (meth)acryloyl groups: 6, mass average molecular weight (Mw): 1,400, viscosity (20°C): 320 mPa·s)
Compound 8 (DPHA): Dipentaerythritol hexaacrylate

無機微粒子(B)としては、平均粒子径10nmの表面処理された酸化チタン微粒子(TiO)と、平均粒子径10nmの表面処理された酸化ジルコニウム微粒子(ZrO)を用いた。
溶媒(S)としては、下記のS1~S3を用いた。
S1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
S2:ジプロピレングリコールモノメチルエーテル
S3:トリプロピレングリコールモノメチルエーテルと、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルとの等量(質量)混合溶媒
As the inorganic fine particles (B), surface-treated titanium oxide fine particles (TiO 2 ) having an average particle size of 10 nm and surface-treated zirconium oxide fine particles (ZrO 2 ) having an average particle size of 10 nm were used.
As the solvent (S), the following S1 to S3 were used.
S1: Propylene glycol monomethyl ether acetate S2: Dipropylene glycol monomethyl ether S3: Equal amounts (by mass) of tripropylene glycol monomethyl ether and dipropylene glycol monomethyl ether mixed solvent

〔実施例1~90、及び比較例1~4〕
それぞれ表1及び表2に記載の種類及び量の、芳香環含有重合性化合物(A1)、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)、及び無機微粒子(B)と、開始剤(C)としてのビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド1質量部とを、これらの成分の質量の合計が、感光性組成物の質量に対して10質量%であるように、表1~表3に記載の種類の溶媒(S)に溶解、分散させて、実施例1~90、及び比較例1~4の感光性組成物を得た。
[Examples 1 to 90 and Comparative Examples 1 to 4]
The types and amounts of aromatic ring-containing polymerizable compound (A1), polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure, and inorganic fine particles (B) each having the types and amounts shown in Tables 1 and 2, and 1 part by mass of bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide as an initiator (C) were dissolved and dispersed in the type of solvent (S) shown in Tables 1 to 3 such that the total mass of these components was 10 mass% based on the mass of the photosensitive composition, thereby obtaining photosensitive compositions of Examples 1 to 90 and Comparative Examples 1 to 4.

<膜ムラ評価>
ガラス基板(680×880mm)上に、インクジェット装置(UniJet社製のOmniJet 200)を用いて、感光性組成物をインクジェット塗布した。得られた塗布膜を100℃で2分間加熱し、露光量5J/cmで露光を行った。露光により得られた硬化膜について、表面状態を目視により確認し、乾燥ムラ(凹凸)、風ムラ、オレンジピール、モヤムラ、ピン跡、横段ムラの有無を確認した。以下の基準に従ってムラを評価した結果を表1~表3に記す。
◎:ピン跡以外のムラが確認されない
〇:ピン跡とともにモヤムラがわずかに確認される
×:ピン跡以外のムラ(モヤムラを含む)が明確に確認される
<Film unevenness evaluation>
A photosensitive composition was inkjet coated on a glass substrate (680 x 880 mm) using an inkjet device (OmniJet 200 manufactured by UniJet). The resulting coating film was heated at 100°C for 2 minutes and exposed to light at an exposure dose of 5 J/ cm2 . The surface condition of the cured film obtained by exposure was visually inspected to check for the presence or absence of drying unevenness (irregularities), wind unevenness, orange peel, hazy unevenness, pin marks, and horizontal stripe unevenness. The results of the evaluation of unevenness according to the following criteria are shown in Tables 1 to 3.
◎: No unevenness other than pin marks is observed. 〇: Pin marks and slight hazy unevenness are observed. ×: Unevenness other than pin marks (including hazy unevenness) is clearly observed.

Figure 2024085734000035
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実施例1~90と、比較例1~4との比較によれば、光重合性化合物(A)として、芳香環含有重合性化合物(A1)と、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)とを含む感光性組成物は、ムラが抑制された硬化膜を与えるのに対して、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)ではない化合物を含む感光性組成物は、硬化膜においてムラが抑制されていないことが分かる。 Comparing Examples 1 to 90 with Comparative Examples 1 to 4, it can be seen that photosensitive compositions containing, as the photopolymerizable compound (A), an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and a polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure give cured films with reduced unevenness, whereas photosensitive compositions containing a compound other than the polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure do not give cured films with reduced unevenness.

Claims (9)

光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)とを含み、
前記光重合性化合物(A)が、芳香環含有重合性化合物(A1)と、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)とを含む、組成物。
A photopolymerizable compound (A) and inorganic fine particles (B),
The composition, wherein the photopolymerizable compound (A) comprises an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and a polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure.
前記重合性化合物(A2)が、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する(メタ)アクリレート化合物である、請求項1に記載の組成物。 The composition according to claim 1, wherein the polymerizable compound (A2) is a (meth)acrylate compound having a hyperbranched structure or a dendrimer structure. 前記芳香環含有重合性化合物(A1)が、下記式(A1-1)で表される化合物、下記式(A1-2)で表される化合物、下記式(A1-3)で表される化合物、及び下記式(A1-4)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項1又は2に記載の組成物。
a101-(Xa103-Xa102ma12-(Xa101ma11-Ara101-((Xa104ma13-(Xa105))ma14・・・(A1-1)
(式(A1-1)中、Ara101は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数7以上12以下である、(ma14+1)価の芳香族基であり、Ra101は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa101は、O、又はSであり、Xa102は、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキレン基であり、Xa103は、O、又はSであり、Xa104は、O、又はSであり、Xa105は、1以上のO、及び/又はSで中断されてもよいアルキル基であり、ma11は、0又は1であり、ma12は、0又は1であり、ma13は、0又は1であり、ma14は0以上の整数であり、Xa101、Xa103、及びXa104としてのO及び/又はSの数と、Xa102及びXa105に含まれるO及び/又はSの数との合計が3以上である。)
a201-Xa203-Ra202-(Xa201ma21-Ph21-S-Ph22-(Xa202ma22-Ra204-Xa204-Ra203・・・(A1-2)
(式(A1-2)中、Ra201、及びRa203は、それぞれ独立に、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Ra202、及びRa204は、それぞれ独立に、1以上のO、及び/又はSで中断されていてもよいアルキレン基であり、Xa201、Xa202、Xa203、及びXa204は、それぞれ独立にO又はSであり、Ph21、及びPh22は、それぞれ独立に、炭素原子数1以上5以下のアルキル基で置換されていてもよいフェニレン基であり、ma21は、0又は1であり、ma22は、0又は1であり、前記式(A1-2)で表される化合物は、ラジカル重合性基含有基、及びカチオン重合性基含有基を同時に有さない。)
a301-Ra302-Xa301-Ph31-CO-O-Ra303・・・(A1-3)
(式(A1-3)中、Ra301は、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa301は、O又はSであり、Ra302は、単結合、又は2価の連結基であり、Ra303は、ベンジル基、又はフェネチル基であり、Ph31は、フェニレン基である。)
(Ra401-Xa401-Ra402ma41-Ara401-C(=O)-Ara402-(Ra403-Xa402-Ra404ma42・・・(A1-4)
(式(A1-4)中、Ara401は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数6以上12以下である、(ma41+1)価の芳香族基であり、Ara402は、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選択される1以上の基で置換されていてもよく、炭素原子数6以上12以下である、(ma42+1)価の芳香族基であり、Ra401、及びRa404は、それぞれ独立に、ラジカル重合性基含有基、又はカチオン重合性基含有基であり、Xa401、及びXa402は、それぞれ独立に、O、又はSであり、Ra402、及びRa403は、それぞれ独立に、アルキレン基であり、ma41は、1以上3以下の整数であり、ma42は、0以上3以下の整数である。)
The composition according to claim 1 or 2, wherein the aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) is at least one selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (A1-1), a compound represented by the following formula (A1-2), a compound represented by the following formula (A1-3), and a compound represented by the following formula (A1-4):
R a101 - (X a103 -X a102 ) ma12 - (X a101 ) ma11 - Ar a101 - ( (X a104 ) ma13 - (X a105 ) ) ma14 ... (A1-1)
(In formula (A1-1), Ar a101 is an aromatic group having 7 to 12 carbon atoms and a valence of (ma14+1), which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; R a101 is a radical polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group; X a101 is O or S; X a102 is an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S; X a103 is O or S; X a104 is O or S; X a105 is an alkyl group which may be interrupted by one or more O and/or S; ma11 is 0 or 1; ma12 is 0 or 1; ma13 is 0 or 1; ma14 is an integer of 0 or greater; X a101 , X a103 , and X The total number of O and/or S as a104 and the number of O and/or S contained in X a102 and X a105 is 3 or more.
R a201 -X a203 -R a202 -(X a201 ) m a21 -Ph 21 -S-Ph 22 -(X a202 ) m a22 -R a204 -X a204 -R a203 ... (A1-2)
(In formula (A1-2), R a201 and R a203 are each independently a radical polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group, R a202 and R a204 are each independently an alkylene group which may be interrupted by one or more O and/or S, X a201 , X a202 , X a203 and X a204 are each independently O or S, Ph 21 and Ph 22 are each independently a phenylene group which may be substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, ma21 is 0 or 1, ma22 is 0 or 1, and the compound represented by formula (A1-2) does not simultaneously have a radical polymerizable group-containing group and a cationically polymerizable group-containing group.)
R a301 -R a302 -X a301 -Ph 31 -CO-O-R a303 ... (A1-3)
(In formula (A1-3), R a301 is a radically polymerizable group-containing group or a cationically polymerizable group-containing group, X a301 is O or S, R a302 is a single bond or a divalent linking group, R a303 is a benzyl group or a phenethyl group, and Ph 31 is a phenylene group.)
(R a401 -X a401 -R a402 ) ma41 -Ar a401 -C(=O)-Ar a402 -(R a403 -X a402 -R a404 ) ma42 ... (A1-4)
In formula (A1-4), Ar a401 is an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms and a valence of (ma41+1) which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; Ar a402 is an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms and a valence of (ma42+1) which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a cyano group, and a halogen atom; R a401 and R a404 are each independently a radical polymerizable group-containing group or a cation polymerizable group-containing group; X a401 and X a402 are each independently O or S; R a402 and R Each a403 is independently an alkylene group, ma41 is an integer of 1 or more and 3 or less, and ma42 is an integer of 0 or more and 3 or less.
前記無機微粒子(B)が、金属酸化物微粒子(B1)を含み、
前記金属酸化物微粒子(B1)が、酸化チタン微粒子、酸化ジルコニウム微粒子、及び酸化ニオブ微粒子からなる群より選択される少なくとも1種を含む、請求項1又は2に記載の組成物。
The inorganic fine particles (B) contain metal oxide fine particles (B1),
The composition according to claim 1 or 2, wherein the metal oxide fine particles (B1) comprise at least one selected from the group consisting of titanium oxide fine particles, zirconium oxide fine particles, and niobium oxide fine particles.
溶媒(S)を含み、
インクジェットインクとして用いられる、請求項1又は2に記載の組成物。
A solvent (S),
The composition according to claim 1 or 2, which is used as an ink-jet ink.
光重合性化合物(A)と、無機微粒子(B)と、開始剤(C)とを含み、
前記光重合性化合物(A)が、芳香環含有重合性化合物(A1)と、ハイパーブランチ構造又はデンドリマー構造を有する重合性化合物(A2)とを含む、感光性組成物。
A photopolymerizable compound (A), inorganic fine particles (B), and an initiator (C),
The photosensitive composition, wherein the photopolymerizable compound (A) comprises an aromatic ring-containing polymerizable compound (A1) and a polymerizable compound (A2) having a hyperbranched structure or a dendrimer structure.
請求項6に記載の感光性組成物の硬化物。 A cured product of the photosensitive composition according to claim 6. 請求項6に記載の感光性組成物を基板上に塗布して塗布膜を成形することと、
前記塗布膜を露光することと、
を含む硬化膜の製造方法。
Coating the photosensitive composition according to claim 6 on a substrate to form a coating film;
exposing the coating film to light;
A method for producing a cured film comprising the steps of:
前記感光性組成物の塗布が、インクジェット印刷法により行われる、請求項8に記載の硬化膜の製造方法。 The method for producing a cured film according to claim 8, wherein the application of the photosensitive composition is performed by an inkjet printing method.
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