JP2024044239A - Hollow resin particles and method for producing hollow resin particles - Google Patents

Hollow resin particles and method for producing hollow resin particles Download PDF

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Abstract

【課題】シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子であって、低誘電率化、低誘電正接化が達成でき、優れた耐熱性を発現できる、中空樹脂粒子を提供する。また、そのような中空樹脂粒子を簡易に製造する方法を提供する。さらに、そのような中空樹脂粒子の用途を提供する。【解決手段】本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子であって、該シェル部が、多環芳香族系炭化水素構造単位を有するポリマー(P)を含む。【選択図】図1[Problem] To provide hollow resin particles having a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion, which can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and exhibit excellent heat resistance. Also provided is a method for easily producing such hollow resin particles. Furthermore, to provide uses of such hollow resin particles. [Solution] The hollow resin particles according to an embodiment of the present invention are hollow resin particles having a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion, and the shell portion contains a polymer (P) having a polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit. [Selected Figure] Figure 1

Description

本発明は、中空樹脂粒子および中空樹脂粒子の製造方法に関する。 The present invention relates to hollow resin particles and a method for producing hollow resin particles.

電子機器を用いた情報処理の高速化を図るため、多層プリント基板の絶縁層を低誘電率化、低誘電正接化する試みがなされている。その一環として、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空粒子を熱硬化性樹脂に混在させることで、樹脂層に空域を導入し、低誘電率化、低誘電正接化を図る検討がなされている。 In order to increase the speed of information processing using electronic devices, attempts have been made to reduce the dielectric constant and dielectric loss tangent of the insulating layers of multilayer printed circuit boards. As part of this, hollow particles having a shell part and a hollow part surrounded by the shell part are mixed in the thermosetting resin, thereby introducing air space into the resin layer and lowering the dielectric constant and dielectric loss tangent. It is being considered.

このような用途に使用される中空樹脂粒子には、例えば、該中空樹脂粒子が混在する熱硬化性樹脂を成型加工する際やはんだを使用する際に加熱されても、該中空樹脂粒子に実質的な変化が生じないような高い耐熱性が求められている。 Hollow resin particles used in such applications are required to have high heat resistance so that the hollow resin particles do not undergo substantial change even when heated, for example, during molding of the thermosetting resin in which the hollow resin particles are mixed or during use of solder.

さらに、中空樹脂粒子を熱硬化性樹脂に混在させる場合、従来の中空樹脂粒子においては、混練時に熱硬化性樹脂が中空樹脂粒子内部へ侵入してしまい、中空樹脂粒子内部の空域が維持できないという問題がある。 Furthermore, when hollow resin particles are mixed with a thermosetting resin, with conventional hollow resin particles, there is a problem that the thermosetting resin penetrates into the hollow resin particles during kneading, making it impossible to maintain the air space inside the hollow resin particles.

従来の中空樹脂粒子として、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートやジペンタエリスリトールヘキサアクリレートをはじめとするアクリル系多官能モノマーを主成分としたモノマーを疎水性溶剤と共に懸濁重合することでアクリル系中空樹脂粒子が得られることが報告されている(特許文献1)。しかし、アクリル系樹脂は、誘電率、誘電正接の数値が高く、耐熱性が不十分である。このことから、特許文献1に記載のアクリル系中空樹脂粒子は、樹脂層の低誘電率化、低誘電正接化を図る目的、樹脂層に高い耐熱性を付与する目的に対しては不向きである。 It has been reported that conventional hollow resin particles can be obtained by suspension polymerization of a monomer mainly composed of an acrylic polyfunctional monomer such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate or dipentaerythritol hexaacrylate together with a hydrophobic solvent (Patent Document 1). However, acrylic resins have high values of dielectric constant and dielectric dissipation factor, and insufficient heat resistance. For this reason, the acrylic hollow resin particles described in Patent Document 1 are unsuitable for the purpose of lowering the dielectric constant and dielectric dissipation factor of the resin layer, or for the purpose of imparting high heat resistance to the resin layer.

従来の中空樹脂粒子として、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートを始めとするアクリル系多官能モノマーと、メチルメタクリレートを始めとするアクリル系単官能モノマーを主成分としたモノマーを、分散安定剤を含む極性溶剤と共に懸濁重合することで、多孔質中空ポリマー粒子が得られることが報告されている(特許文献2)。しかし、アクリル系樹脂は、誘電率、誘電正接の数値が高く、耐熱性が不十分である。このことから、特許文献1に記載のアクリル系中空樹脂粒子と同様、特許文献2に記載の多孔質中空ポリマー粒子は、樹脂層の低誘電率化、低誘電正接化を図る目的、樹脂層に高い耐熱性を付与する目的に対しては不向きである。さらに、多孔質中空ポリマー粒子はシェル表層部が薄く、熱硬化性樹脂が多孔質中空ポリマー粒子内部へ侵入しやすい。 It has been reported that conventional hollow resin particles can be obtained by suspension polymerization of a monomer mainly composed of an acrylic polyfunctional monomer such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate and an acrylic monofunctional monomer such as methyl methacrylate together with a polar solvent containing a dispersion stabilizer to obtain porous hollow polymer particles (Patent Document 2). However, acrylic resins have high values of dielectric constant and dielectric loss tangent, and insufficient heat resistance. For this reason, like the acrylic hollow resin particles described in Patent Document 1, the porous hollow polymer particles described in Patent Document 2 are not suitable for the purpose of lowering the dielectric constant and dielectric loss tangent of the resin layer, or for the purpose of imparting high heat resistance to the resin layer. Furthermore, the shell surface layer of the porous hollow polymer particles is thin, and the thermosetting resin easily penetrates into the porous hollow polymer particles.

従来の中空樹脂粒子として、多官能モノマーと単官能モノマーを重合して得られる中空樹脂粒子を樹脂に配合することで、絶縁特性に優れ、低誘電率かつ低誘電正接の有機絶縁材とすることが報告され、具体的なモノマーとしては、スチレン、メチルメタクリレート、ジビニルベンゼン、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどが使用されている(特許文献3)。しかし、特許文献3に記載の中空樹脂粒子は、スチレン系モノマーと、誘電率、誘電正接の数値の高いアクリル系モノマーを併用しているため、樹脂層の低誘電率化、低誘電正接化が不十分である。また、特許文献3には、耐熱性の指針として、窒素雰囲気化、10℃/分の昇温条件でのTG-DTA測定による10%重量減少温度が示されているが、耐熱性が不十分である。 It has been reported that conventional hollow resin particles obtained by polymerizing a polyfunctional monomer and a monofunctional monomer are blended with a resin to produce an organic insulating material with excellent insulating properties, low dielectric constant, and low dielectric loss tangent. Specific monomers used include styrene, methyl methacrylate, divinylbenzene, and trimethylolpropane tri(meth)acrylate (Patent Document 3). However, the hollow resin particles described in Patent Document 3 use a styrene-based monomer in combination with an acrylic-based monomer with a high dielectric constant and dielectric loss tangent, so the resin layer does not have a sufficiently low dielectric constant and low dielectric loss tangent. Patent Document 3 also shows the 10% weight loss temperature measured by TG-DTA in a nitrogen atmosphere at a temperature rise rate of 10°C/min as a guideline for heat resistance, but the heat resistance is insufficient.

従来の中空樹脂粒子として、シェルが架橋性モノマーの重合体及び共重合体、及び該架橋性モノマーと単官能性モノマーとの共重合体のいずれかでなり、単相構造を有する、代表的には、ジビニルベンゼンを炭素数8~18の飽和炭化水素類(より具体的には、ヘキサデカン)と共に懸濁重合することで得られるスチレン系中空樹脂粒子が報告されており、該中空樹脂粒子と熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物が、電子機器等に用いられる多層プリント基板の製造に好適であることが報告されている(特許文献4)。しかし、特許文献4に記載の中空樹脂粒子は、その製造に炭素数8~18の飽和炭化水素類(より具体的には、ヘキサデカン)を使用しているため、蒸留等による中空部分からの溶媒除去が難しく、得られるスチレン系中空樹脂粒子中に炭素数8~18の飽和炭化水素類が残存しており、中空部分を完全に空気に置換したスチレン系中空樹脂粒子が得られ難い。また、中空部分を完全に空気に置換したスチレン系中空樹脂粒子とするためには、上記のような溶媒除去のために製造コストがかかる。さらに、特許文献4に記載のスチレン系中空樹脂粒子は、耐熱性が不十分である。 As conventional hollow resin particles, a shell is formed of either a polymer or copolymer of a crosslinkable monomer, or a copolymer of the crosslinkable monomer and a monofunctional monomer, and has a single-phase structure. Representatively, styrene-based hollow resin particles obtained by suspension polymerization of divinylbenzene with saturated hydrocarbons having 8 to 18 carbon atoms (more specifically, hexadecane) have been reported, and it has been reported that a resin composition containing the hollow resin particles and a thermosetting resin is suitable for the manufacture of multilayer printed circuit boards used in electronic devices and the like (Patent Document 4). However, since the hollow resin particles described in Patent Document 4 use saturated hydrocarbons having 8 to 18 carbon atoms (more specifically, hexadecane) in their manufacture, it is difficult to remove the solvent from the hollow parts by distillation or the like, and saturated hydrocarbons having 8 to 18 carbon atoms remain in the obtained styrene-based hollow resin particles, making it difficult to obtain styrene-based hollow resin particles in which the hollow parts are completely replaced with air. In addition, in order to obtain styrene-based hollow resin particles in which the hollow parts are completely replaced with air, production costs are incurred for the above-mentioned solvent removal. Furthermore, the styrene-based hollow resin particles described in Patent Document 4 have insufficient heat resistance.

従来の中空樹脂粒子として、ビニル系モノマー単位およびリン酸エステル系モノマー単位を含む重合体からなり、体積平均粒子径が0.5~1000μmである中空樹脂粒子が報告されている(特許文献5)。しかし、特許文献5に記載の中空樹脂粒子は、特許文献3に記載の中空樹脂粒子と同様、スチレン系モノマーと、誘電率、誘電正接の数値の高いアクリル系モノマーを併用しているため、樹脂層の低誘電率化、低誘電正接化が不十分であり、耐熱性も不十分である。 As conventional hollow resin particles, hollow resin particles made of a polymer containing vinyl monomer units and phosphate ester monomer units and having a volume average particle diameter of 0.5 to 1000 μm have been reported (Patent Document 5). . However, similar to the hollow resin particles described in Patent Document 3, the hollow resin particles described in Patent Document 5 use a styrene monomer and an acrylic monomer with high dielectric constant and dielectric loss tangent, so the resin The dielectric constant and dielectric loss tangent of the layer are insufficiently low, and the heat resistance is also insufficient.

従来の中空樹脂粒子として、ウレア結合及び/又はウレタン結合を有するポリマーで形成されたシェル部と、該シェル部に囲まれた中空部とを有する中空樹脂粒子が報告されている(特許文献6)。しかし、特許文献6に記載の中空樹脂粒子は、ウレタン系樹脂組成の中空樹脂粒子であるため、誘電率、誘電正接の数値が高く、耐熱性が不十分である。 As conventional hollow resin particles, hollow resin particles having a shell portion formed of a polymer having urea bonds and/or urethane bonds and a hollow portion surrounded by the shell portion have been reported (Patent Document 6). . However, since the hollow resin particles described in Patent Document 6 are hollow resin particles of a urethane resin composition, the values of the dielectric constant and the dielectric loss tangent are high, and the heat resistance is insufficient.

特許第6513273号公報Patent No. 6513273 特許第4445495号公報Patent No. 4445495 特開2000-313818号公報Japanese Patent Application Publication No. 2000-313818 特許第4171489号公報Patent No. 4171489 国際公開第2020/054816号パンフレットInternational Publication No. 2020/054816 特許第6924533号公報Patent No. 6924533

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子であって、低誘電率化、低誘電正接化が達成でき、優れた耐熱性を発現できる、中空樹脂粒子を提供することにある。また、そのような中空樹脂粒子を簡易に製造する方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and its main purpose is to provide hollow resin particles having a shell part and a hollow part surrounded by the shell part, and to provide a hollow resin particle with a low dielectric constant and a low dielectric constant. The object of the present invention is to provide hollow resin particles that can achieve dielectric loss tangent and exhibit excellent heat resistance. Another object of the present invention is to provide a method for easily manufacturing such hollow resin particles.

[1]本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子であって、該シェル部が、多環芳香族系炭化水素構造単位を有するポリマー(P)を含む。
[2]上記[1]に記載の中空樹脂粒子において、上記多環芳香族系炭化水素構造単位が、式(1)により表される構造単位であってもよい。
[3]上記[1]または[2]に記載の中空樹脂粒子において、上記ポリマー(P)が、重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素であるモノマー(A)と該モノマー(A)と反応するモノマー(M)の反応によって得られるポリマーであってもよい。
[4]上記[3]に記載の中空樹脂粒子において、上記モノマー(A)と上記モノマー(M)の比率が、該モノマー(A)と該モノマー(M)の合計量を100重量部とした場合、重量部比(モノマー(A):モノマー(M))で、(30重量部~70重量部):(70重量部~30重量部)であってもよい。
[5]上記[3]または[4]に記載の中空樹脂粒子において、上記モノマー(A)がアセナフチレンであってもよい。
[6]上記[3]から[5]までのいずれかに記載の中空樹脂粒子において、上記モノマー(M)がリン酸エステル構造とラジカル反応性基を有する化合物(B)を含んでいてもよい。
[7]上記[1]から[6]までのいずれかに記載の中空樹脂粒子において、上記中空樹脂粒子は、体積平均粒子径が0.1μm~100μmであってもよい。
[8]上記[7]に記載の中空樹脂粒子において、上記体積平均粒子径が0.1μm~10μmであってもよい。
[9]上記[1]から[8]までのいずれかに記載の中空樹脂粒子において、上記中空部分が1つの中空領域からなるものであってもよい。
[10]上記[1]から[8]までのいずれかに記載の中空樹脂粒子において、上記中空部分が複数の中空領域からなるものであってもよい。
[11]上記[1]から[10]までのいずれかに記載の中空樹脂粒子において、上記中空樹脂粒子を窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度が300℃以上であってもよい。
[12]上記[1]から[11]までのいずれかに記載の中空樹脂粒子において、上記中空樹脂粒子は、半導体部材用樹脂組成物に用いるものであってもよい。
[13]本発明の実施形態による中空樹脂粒子の製造方法は、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子の製造方法であって、重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素であるモノマー(A)30重量部~70重量部と該モノマー(A)と反応するモノマー(M)70重量部~30重量部(モノマー(A)とモノマー(M)の合計量を100重量部とする)を、非反応性溶剤の存在下、水系媒体中で反応させ、該モノマー(M)がリン酸エステル構造とラジカル反応性基を有する化合物(B)を含む。
[1] The hollow resin particle according to the embodiment of the present invention is a hollow resin particle having a shell part and a hollow part surrounded by the shell part, and the shell part has a polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit. Contains a polymer (P) with
[2] In the hollow resin particles described in [1] above, the polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit may be a structural unit represented by formula (1).
[3] In the hollow resin particles described in [1] or [2] above, the polymer (P) comprises a monomer (A) which is a polycyclic aromatic hydrocarbon having a polymerization-reactive group; ) and a monomer (M) that reacts with the polymer.
[4] In the hollow resin particles described in [3] above, the ratio of the monomer (A) to the monomer (M) is such that the total amount of the monomer (A) and the monomer (M) is 100 parts by weight. In this case, the weight part ratio (monomer (A):monomer (M)) may be (30 parts by weight to 70 parts by weight):(70 parts by weight to 30 parts by weight).
[5] In the hollow resin particles described in [3] or [4] above, the monomer (A) may be acenaphthylene.
[6] In the hollow resin particle according to any one of [3] to [5] above, the monomer (M) may contain a compound (B) having a phosphate ester structure and a radically reactive group. .
[7] In the hollow resin particles according to any one of [1] to [6] above, the hollow resin particles may have a volume average particle diameter of 0.1 μm to 100 μm.
[8] In the hollow resin particles described in [7] above, the volume average particle diameter may be 0.1 μm to 10 μm.
[9] In the hollow resin particle according to any one of [1] to [8] above, the hollow portion may consist of one hollow region.
[10] In the hollow resin particle according to any one of [1] to [8] above, the hollow portion may consist of a plurality of hollow regions.
[11] In the hollow resin particles according to any one of [1] to [10] above, the 5% weight loss temperature when the hollow resin particles are heated at a rate of 10°C/min in a nitrogen atmosphere is 300°C. It may be more than that.
[12] In the hollow resin particles according to any one of [1] to [11] above, the hollow resin particles may be used in a resin composition for semiconductor members.
[13] A method for producing hollow resin particles according to an embodiment of the present invention is a method for producing hollow resin particles having a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion, the method comprising: a polycyclic aromatic particle having a polymerization-reactive group; 30 to 70 parts by weight of a monomer (A) that is a group hydrocarbon and 70 to 30 parts by weight of a monomer (M) that reacts with the monomer (A) (total amount of monomer (A) and monomer (M) (100 parts by weight) are reacted in an aqueous medium in the presence of a non-reactive solvent, and the monomer (M) contains a compound (B) having a phosphate ester structure and a radically reactive group.

本発明の実施形態によれば、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子であって、低誘電率化、低誘電正接化が達成でき、優れた耐熱性を発現できる、中空樹脂粒子を提供することができる。また、そのような中空樹脂粒子を簡易に製造する方法を提供することができる。 According to an embodiment of the present invention, the hollow resin particle has a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion, and can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and can exhibit excellent heat resistance. , hollow resin particles can be provided. Furthermore, a method for easily manufacturing such hollow resin particles can be provided.

実施例1で得られた粒子(1)の断面写真図である。1 is a cross-sectional photographic diagram of particles (1) obtained in Example 1. 実施例2で得られた粒子(2)の断面写真図である。2 is a cross-sectional photographic diagram of particles (2) obtained in Example 2. FIG. 実施例3で得られた粒子(3)の断面写真図である。3 is a cross-sectional photographic diagram of particles (3) obtained in Example 3. FIG. 実施例4で得られた粒子(4)の断面写真図である。FIG. 1 is a cross-sectional photograph of particle (4) obtained in Example 4. 実施例5で得られた粒子(5)の断面写真図である。3 is a cross-sectional photographic diagram of particles (5) obtained in Example 5. FIG. 実施例6で得られた粒子(6)の断面写真図である。FIG. 1 is a cross-sectional photograph of particle (6) obtained in Example 6. 実施例7で得られた粒子(7)の断面写真図である。FIG. 3 is a cross-sectional photographic diagram of particles (7) obtained in Example 7. 実施例8で得られた粒子(8)の断面写真図である。FIG. 1 is a cross-sectional photograph of particle (8) obtained in Example 8. 実施例9で得られた粒子(9)の断面写真図である。FIG. 1 is a cross-sectional photograph of particle (9) obtained in Example 9. 比較例1で得られた粒子(C1)の断面写真図である。2 is a cross-sectional photographic diagram of particles (C1) obtained in Comparative Example 1. FIG. 実施例8で得られた粒子(8)を用いて製造したフィルムの断面写真図である。FIG. 1 is a cross-sectional photograph of a film produced using particles (8) obtained in Example 8.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。 The following describes embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to these embodiments.

本明細書中で「(メタ)アクリル」との表現がある場合は、「アクリルおよび/またはメタクリル」を意味し、「(メタ)アクリレート」との表現がある場合は、「アクリレートおよび/またはメタクリレート」を意味し、「(メタ)アリル」との表現がある場合は、「アリルおよび/またはメタリル」を意味し、「(メタ)アクロレイン」との表現がある場合は、「アクロレインおよび/またはメタクロレイン」を意味する。また、本明細書中で「酸(塩)」との表現がある場合は、「酸および/またはその塩」を意味する。塩としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩が挙げられ、具体的には、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩などが挙げられる。 In this specification, the term "(meth)acrylic" means "acrylic and/or methacrylic", the term "(meth)acrylate" means "acrylate and/or methacrylate", the term "(meth)allyl" means "allyl and/or methallyl", and the term "(meth)acrolein" means "acrolein and/or methacrolein". In addition, in this specification, the term "acid (salt)" means "acid and/or its salt". Examples of salts include alkali metal salts and alkaline earth metal salts, and specific examples include sodium salts and potassium salts.

≪≪1.中空樹脂粒子≫≫
≪1-1.中空樹脂粒子の構造と特性≫
本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子である。ここでいう中空とは、内部が樹脂以外の物質、例えば、気体や液体等で満たされている状態を意味し、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、気体で満たされている状態を意味する。
≪≪1. Hollow resin particles≫≫
≪1-1. Structure and properties of hollow resin particles≫
The hollow resin particle according to the embodiment of the present invention is a hollow resin particle having a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion. The term "hollow" as used herein refers to a state in which the interior is filled with a substance other than resin, such as gas or liquid, and is preferably filled with gas in order to further enhance the effects of the present invention. It means the state of being.

中空部分は、1つの中空領域からなるものであってもよいし、複数の中空領域からなるもの(多孔質構造)であってもよい。 The hollow portion may consist of one hollow region or multiple hollow regions (porous structure).

本発明の実施形態による中空樹脂粒子の体積平均粒子径は、好ましくは0.1μm~100μmであり、より好ましくは0.1μm~50μmであり、さらに好ましくは0.1μm~30μmであり、特に好ましくは0.1μm~20μmである。本発明の実施形態による中空樹脂粒子の体積平均粒子径が上記範囲内にあれば、本発明の効果がより発現し得る。本発明の実施形態による中空樹脂粒子の体積平均粒子径が上記範囲を外れて小さすぎる場合、シェル部の厚みが相対的に薄くなるため、十分な強度を有する中空樹脂粒子とならないおそれがあり、また、中空樹脂粒子を熱硬化性樹脂に混練した場合に該熱硬化性樹脂が中空樹脂粒子内部へ侵入するおそれがある。本発明の実施形態による中空樹脂粒子の平均粒子径が上記範囲を外れて大きすぎる場合、懸濁重合中にモノマー成分が重合して生じるポリマーと溶剤との相分離が生じにくくなるおそれがあり、これによってシェル部の形成が困難となるおそれがある。 The volume average particle diameter of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention is preferably 0.1 μm to 100 μm, more preferably 0.1 μm to 50 μm, still more preferably 0.1 μm to 30 μm, and particularly preferably is 0.1 μm to 20 μm. If the volume average particle diameter of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention is within the above range, the effects of the present invention can be more effectively exhibited. If the volume average particle diameter of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention is outside the above range and is too small, the thickness of the shell portion will be relatively thin, so there is a risk that the hollow resin particles will not have sufficient strength. Furthermore, when hollow resin particles are kneaded with a thermosetting resin, there is a risk that the thermosetting resin may invade inside the hollow resin particles. If the average particle diameter of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention is too large outside the above range, there is a risk that phase separation between the polymer and the solvent resulting from polymerization of the monomer components during suspension polymerization may become difficult to occur. This may make it difficult to form the shell portion.

本発明の実施形態による中空樹脂粒子の粒子径の変動係数(CV値)は、好ましくは10%~50%であり、より好ましくは15%~45%であり、さらに好ましくは18%~45%であり、特に好ましくは20%~45%である。本発明の実施形態による中空樹脂粒子の粒子径の変動係数(CV値)が上記範囲内にあれば、本発明の効果がより発現し得る。本発明の実施形態による中空樹脂粒子の粒子径の変動係数(CV値)が上記範囲を外れて小さすぎる場合、中空樹脂粒子を熱硬化性樹脂に混練した際、該中空樹脂粒子が該熱硬化性樹脂内で分散し難く、例えば、樹脂組成物から樹脂層とした場合に、厚みにバラつきが生じるおそれがある。本発明の実施形態による中空樹脂粒子の粒子径の変動係数(CV値)が上記範囲を外れて大きすぎる場合、粗大粒子量の増加により、例えば、樹脂組成物から樹脂層とした場合に、薄膜困難化や厚みにバラツキが生じるおそれがある。 The coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention is preferably 10% to 50%, more preferably 15% to 45%, even more preferably 18% to 45%, and particularly preferably 20% to 45%. If the coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention is within the above range, the effects of the present invention can be more effectively achieved. If the coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention is too small outside the above range, the hollow resin particles are difficult to disperse in the thermosetting resin when kneaded with the thermosetting resin, and for example, when a resin layer is made from the resin composition, there is a risk of variation in thickness. If the coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention is too large outside the above range, there is a risk of difficulty in forming a thin film or variation in thickness when, for example, a resin layer is made from the resin composition due to an increase in the amount of coarse particles.

本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度が、好ましくは300℃以上であり、より好ましくは320℃以上であり、さらに好ましくは340℃以上であり、特に好ましくは360℃以上である。上記5%重量減少温度の上限は、現実的には、好ましくは500℃以下である。本発明の実施形態による中空樹脂粒子の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度が上記範囲内にあれば、本発明の実施形態による中空樹脂粒子は優れた耐熱性を発現できる。本発明の実施形態による中空樹脂粒子の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度が、上記範囲を外れて小さすぎる場合、例えば、中空樹脂粒子を熱硬化性樹脂と混練した場合、硬化反応のための加熱により中空樹脂粒子に変形が生じてしまい、中空部分が失われることで、低誘電効果、低誘電正接化効果が低下してしまうおそれがある。 The hollow resin particles according to the embodiment of the present invention preferably have a 5% weight loss temperature of 300°C or more, more preferably 320°C or more, even more preferably 340°C or more, and particularly preferably 360°C or more, when heated in a nitrogen atmosphere at 10°C/min. The upper limit of the 5% weight loss temperature is preferably 500°C or less in reality. If the 5% weight loss temperature of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention when heated in a nitrogen atmosphere at 10°C/min is within the above range, the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention can exhibit excellent heat resistance. If the 5% weight loss temperature of the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention when heated in a nitrogen atmosphere at 10°C/min is too small outside the above range, for example, when the hollow resin particles are kneaded with a thermosetting resin, the hollow resin particles are deformed by heating for the curing reaction, and the hollow portion is lost, which may reduce the low dielectric effect and low dielectric tangent effect.

≪1-2.シェル部≫
シェル部は、多環芳香族系炭化水素構造単位を有するポリマー(P)を含む。シェル部がこのような構造単位を有するポリマー(P)を含むことにより、本発明の効果がより発現し得る。
≪1-2. Shell part≫
The shell portion contains a polymer (P) having a polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit. When the shell portion contains a polymer (P) having such a structural unit, the effects of the present invention can be more effectively exhibited.

ポリマー(P)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The number of polymers (P) may be one, or two or more.

シェル部中のポリマー(P)の含有割合は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは60重量%~100重量%であり、より好ましくは70重量%~100重量%であり、さらに好ましくは80重量%~100重量%であり、特に好ましくは90重量%~100重量%である。 The content ratio of the polymer (P) in the shell part is preferably 60% to 100% by weight, more preferably 70% to 100% by weight, in order to better express the effects of the present invention. More preferably, it is 80% to 100% by weight, particularly preferably 90% to 100% by weight.

多環芳香族系炭化水素構造単位は、ポリマー(P)を構成する単量体単位の中の少なくとも1種であって、多環芳香族系炭化水素構造を有する単量体単位である。 The polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit is at least one of the monomer units constituting the polymer (P) and is a monomer unit having a polycyclic aromatic hydrocarbon structure.

ポリマー(P)を構成する単量体単位の中の多環芳香族系炭化水素構造単位の含有割合は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは60重量%~100重量%であり、より好ましくは70重量%~100重量%であり、さらに好ましくは80重量%~100重量%であり、特に好ましくは90重量%~100重量%である。 The content of polycyclic aromatic hydrocarbon structural units among the monomer units constituting the polymer (P) is preferably 60% by weight to 100% by weight, more preferably 70% by weight to 100% by weight, even more preferably 80% by weight to 100% by weight, and particularly preferably 90% by weight to 100% by weight, in order to further exert the effects of the present invention.

シェル部は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の成分を含んでいてもよい。 The shell portion may contain any other appropriate components as long as they do not impair the effects of the present invention.

多環芳香族系炭化水素構造単位としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な多環芳香族系炭化水素構造単位を採用し得る。本発明の効果をより発現させ得る点で、多環芳香族系炭化水素構造単位は、好ましくは、式(1)により表される構造単位である。
As the polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit, any appropriate polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit may be adopted as long as it does not impair the effects of the present invention. In terms of being able to further exhibit the effects of the present invention, the polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit is preferably a structural unit represented by formula (1).

ポリマー(P)は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素であるモノマー(A)と該モノマー(A)と反応するモノマー(M)の反応によって得られるポリマーである。 The polymer (P) preferably contains a monomer (A) that is a polycyclic aromatic hydrocarbon having a polymerization-reactive group, and a monomer that reacts with the monomer (A), in order to further exhibit the effects of the present invention. This is a polymer obtained by the reaction of (M).

モノマー(A)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The number of monomers (A) may be one, or two or more.

モノマー(M)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The number of monomers (M) may be one, or two or more.

モノマー(A)とモノマー(M)の比率は、該モノマー(A)と該モノマー(M)の合計量を100重量部とした場合、重量部比(モノマー(A):モノマー(M))で、好ましくは(30重量部~70重量部):(70重量部~30重量部)であり、より好ましくは(35重量部~65重量部):(65重量部~35重量部)であり、さらに好ましくは(40重量部~60重量部):(60重量部~40重量部)である。モノマー(A)の含有割合が、上記範囲を外れて小さすぎると、例えば、耐熱性が不十分となるおそれがある。モノマー(A)の含有割合が、上記範囲を外れて大きすぎると、例えば、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分の形成が困難となるおそれがある。 The ratio of monomer (A) to monomer (M) is preferably (30 parts by weight to 70 parts by weight): (70 parts by weight to 30 parts by weight), more preferably (35 parts by weight to 65 parts by weight): (65 parts by weight to 35 parts by weight), and even more preferably (40 parts by weight to 60 parts by weight): (60 parts by weight to 40 parts by weight). If the content of monomer (A) is too small outside the above range, for example, there is a risk that heat resistance will be insufficient. If the content of monomer (A) is too large outside the above range, for example, there is a risk that it will be difficult to form a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion.

モノマー(A)としては、重合反応によって多環芳香族系炭化水素構造単位を構築できるモノマーであれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なモノマーを採用し得る。このようなモノマー(A)としては、例えば、アセナフチレン、アルキルアセナフチレン類、ハロゲン化アセナフチレン類、フェニルアセナフチレン類などのアセナフチレン化合物が挙げられる。アルキルアセナフチレン類としては、例えば、1-メチルアセナフチレン、3-メチルアセナフチレン、1-エチルアセナフチレン、3-エチルアセナフチレン、1,2-ジプロピルアセナフチレンが挙げられる。ハロゲン化アセナフチレン類としては、例えば、1-クロロアセナフチレン、3-クロロアセナフチレン、4-クロロアセナフチレン、5-クロロアセナフチレン、1-ブロモアセナフチレン、3-ブロモアセナフチレンが挙げられる。フェニルアセナフチレン類としては、例えば、1-フェニルアセナフチレン、3-フェニルアセナフチレン、4-フェニルアセナフチレン、5-フェニルアセナフチレンが挙げられる。アセナフチレン化合物としては、上述したような、分子中にアセナフチレン構造を1個有する単官能アセナフチレン化合物であってもよいし、分子中にアセナフチレン構造を2個以上有する多官能アセナフチレン化合物であってもよい。本発明の効果をより発現し得る点で、このようなモノマー(A)としては、好ましくは、重合反応によって式(1)により表される多環芳香族系炭化水素構造単位を構築できるモノマーが挙げられ、より好ましくは、アセナフチレンである。 As the monomer (A), any suitable monomer may be employed as long as it is a monomer that can construct a polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit through a polymerization reaction, as long as it does not impair the effects of the present invention. Examples of such monomers (A) include acenaphthylene compounds such as acenaphthylene, alkylacenaphthylenes, halogenated acenaphthylenes, and phenylacenaphthylenes. Examples of the alkylacenaphthylenes include 1-methylacenaphthylene, 3-methylacenaphthylene, 1-ethylacenaphthylene, 3-ethylacenaphthylene, and 1,2-dipropylacenaphthylene. . Examples of halogenated acenaphthylenes include 1-chloroacenaphthylene, 3-chloroacenaphthylene, 4-chloroacenaphthylene, 5-chloroacenaphthylene, 1-bromoacenaphthylene, and 3-bromoacenaphthylene. can be mentioned. Examples of the phenylacenaphthylenes include 1-phenylacenaphthylene, 3-phenylacenaphthylene, 4-phenylacenaphthylene, and 5-phenylacenaphthylene. The acenaphthylene compound may be a monofunctional acenaphthylene compound having one acenaphthylene structure in the molecule, as described above, or a polyfunctional acenaphthylene compound having two or more acenaphthylene structures in the molecule. In order to more effectively exhibit the effects of the present invention, such a monomer (A) is preferably a monomer that can construct a polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit represented by formula (1) through a polymerization reaction. More preferred is acenaphthylene.

モノマー(M)としては、モノマー(A)と反応するモノマーであれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なモノマーを採用し得る。このようなモノマー(M)としては、例えば、架橋性モノマー、単官能モノマーが挙げられる。 As the monomer (M), any appropriate monomer may be used as long as it reacts with the monomer (A) and does not impair the effects of the present invention. Examples of such monomers (M) include crosslinkable monomers and monofunctional monomers.

架橋性モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリル酸エステル;N,N’-メチレンビス(メタ)アクリルアミド、N,N’-エチレンビス(メタ)アクリルアミド等の多官能アクリルアミド誘導体;ジアリルアミン、テトラアリロキシエタン等の多官能アリル誘導体;ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、ジアリルフタレート等の芳香族系架橋性モノマー;が挙げられる。本発明の効果をより発現し得る点で、架橋性モノマーとしては、芳香族系架橋性モノマーが好ましく、ジビニルベンゼンがより好ましい。架橋性モノマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Examples of crosslinkable monomers include polyfunctional (meth)acrylic acid esters such as ethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, and glycerin tri(meth)acrylate; N,N'-methylenebis(meth)acrylate; Polyfunctional acrylamide derivatives such as acrylamide and N,N'-ethylenebis(meth)acrylamide; polyfunctional allyl derivatives such as diallylamine and tetraallyloxyethane; aromatic crosslinking monomers such as divinylbenzene, divinylnaphthalene, and diallyl phthalate; can be mentioned. As the crosslinking monomer, aromatic crosslinking monomers are preferable, and divinylbenzene is more preferable, since the effects of the present invention can be more effectively expressed. The number of crosslinkable monomers may be one, or two or more.

架橋性モノマーの使用割合は、本発明の効果をより発現し得る点で、モノマー(A)100重量部に対して、好ましくは25重量部~75重量部であり、より好ましくは30重量部~70重量部であり、さらに好ましくは35重量部~65重量部である。 The proportion of the crosslinkable monomer used is preferably 25 to 75 parts by weight, more preferably 30 to 70 parts by weight, and even more preferably 35 to 65 parts by weight, per 100 parts by weight of monomer (A), in order to more effectively exhibit the effects of the present invention.

単官能モノマーとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート等の炭素数1~16のアルキル(メタ)アクリル酸エステル;スチレン、α-メチルスチレン、エチルビニルベンゼン、ビニルトルエン、o-クロロスチレン、m-クロロスチレン、p-クロロスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン等の芳香族系単官能モノマー;ジメチルマレエート、ジエチルフマレート、ジメチルフマレート、ジエチルフマレート等のジカルボン酸エステル系モノマー;無水マレイン酸;N-ビニルカルバゾール;(メタ)アクリロニトリル;が挙げられる。本発明の効果をより発現し得る点で、単官能モノマーとしては、芳香族系単官能モノマーが好ましく、スチレン、エチルビニルベンゼンがより好ましい。単官能モノマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Examples of monofunctional monomers include alkyl (meth)acrylates having 1 to 16 carbon atoms such as methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, and cetyl (meth)acrylate; styrene, α - Aromatic monofunctional monomers such as methylstyrene, ethylvinylbenzene, vinyltoluene, o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, vinylbiphenyl, vinylnaphthalene; dimethyl maleate, diethyl fumarate, dimethyl fuma dicarboxylic acid ester monomers such as diethyl fumarate; maleic anhydride; N-vinylcarbazole; (meth)acrylonitrile; As the monofunctional monomer, aromatic monofunctional monomers are preferable, and styrene and ethylvinylbenzene are more preferable, since they can more effectively exhibit the effects of the present invention. The number of monofunctional monomers may be one, or two or more.

単官能モノマーの使用割合は、本発明の効果をより発現し得る点で、モノマー(A)100重量部に対して、好ましくは0重量部~30重量部であり、より好ましくは0重量部~25重量部であり、さらに好ましくは0重量部~20重量部である。 The proportion of the monofunctional monomer to be used is preferably 0 to 30 parts by weight, more preferably 0 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of monomer (A), in order to better express the effects of the present invention. The amount is 25 parts by weight, more preferably 0 to 20 parts by weight.

モノマー(M)は、リン酸エステル構造とラジカル反応性基を有する化合物(B)を含んでいてもよい。 The monomer (M) may contain a compound (B) having a phosphate ester structure and a radically reactive group.

リン酸エステル構造とラジカル反応性基を有する化合物(B)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The number of compounds (B) having a phosphoric acid ester structure and a radically reactive group may be one, or two or more.

リン酸エステル構造は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The number of phosphoric acid ester structures may be one, or two or more.

リン酸エステル構造は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、式(2)により表される。

Figure 2024044239000004
The phosphate structure is preferably represented by formula (2) in that the effects of the present invention can be more effectively exhibited.
Figure 2024044239000004

式(2)中、R、Rは、それぞれ独立に有機基または水素原子を表す。式(2)中のR、Rが採り得る有機基とは、炭素原子を含む基であり、無機原子を含んでいてもよい。 In formula (2), R 1 and R 2 each independently represent an organic group or a hydrogen atom. The organic group that can be taken as R 1 and R 2 in formula (2) is a group containing a carbon atom, and may also contain an inorganic atom.

式(2)中のR、Rが採り得る有機基は、本発明の効果をより発現させ得る点で、より好ましくは、式(3)により表される。

Figure 2024044239000005
The organic group which can be taken by R 1 and R 2 in formula (2) is more preferably represented by formula (3) in that the effect of the present invention can be more effectively exhibited.
Figure 2024044239000005

式(3)中、R、Rは、それぞれ独立に有機基または水素原子を表す。式(3)中のR、Rが採り得る有機基とは、炭素原子を含む基であり、無機原子を含んでいてもよい。式(3)中、Rは炭素数1~30の直鎖または分岐アルキレン基であり、mは1~300を表す。 In formula (3), R 1 and R 2 each independently represent an organic group or a hydrogen atom. The organic group that R 1 and R 2 in formula (3) can take is a group containing a carbon atom and may contain an inorganic atom. In formula (3), R 3 is a linear or branched alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and m is 1 to 300.

式(3)中、Rは、好ましくは、炭素数1~20の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、より好ましくは、炭素数1~10の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、さらに好ましくは、炭素数1~8の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、特に好ましくは、炭素数1~6の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、最も好ましくは、炭素数1~4の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基である。 In formula (3), R 3 is preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, even more preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and most preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

式(3)中、mは、好ましくは1~100であり、より好ましくは1~50であり、さらに好ましくは1~40であり、特に好ましくは1~30である。 In formula (3), m is preferably 1 to 100, more preferably 1 to 50, even more preferably 1 to 40, and particularly preferably 1 to 30.

リン酸エステル構造は、リン酸モノエステル構造(R、Rのいずれもが水素原子)であってもよいし、リン酸ジエステル構造(R、Rの一方が有機基でもう一方が水素原子)であってもよいし、リン酸トリエステル構造(R、Rのいずれもが有機基)であってもよい。本発明の効果をより発現させ得る点で、リン酸エステル構造は、好ましくは、リン酸モノエステル構造またはリン酸ジエステル構造である。 The phosphoric acid ester structure may be a phosphoric acid monoester structure (both R 1 and R 2 are hydrogen atoms), or a phosphoric diester structure (one of R 1 and R 2 is an organic group and the other is a hydrogen atom). hydrogen atom) or a phosphoric acid triester structure (both R 1 and R 2 are organic groups). The phosphoric acid ester structure is preferably a phosphoric acid monoester structure or a phosphoric diester structure in that the effects of the present invention can be more fully expressed.

ラジカル反応性基としては、ラジカル反応性基として一般に知られる基であれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なポリマーを採用し得る。本発明の効果をより発現し得る点で、このようなラジカル反応性基としては、好ましくは、炭素-炭素不飽和二重結合を有する基が挙げられ、具体的には、例えば、ビニル基、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、アリル基が挙げられる。 As the radical reactive group, any appropriate polymer may be used as long as it is a group generally known as a radical reactive group and does not impair the effects of the present invention. In terms of being able to more effectively exhibit the effects of the present invention, such radical reactive groups are preferably groups having a carbon-carbon unsaturated double bond, and specific examples include vinyl groups, acrylic groups, methacrylic groups, acrylamide groups, and allyl groups.

ラジカル反応性基は、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは、式(4)で表される構造を有する。

Figure 2024044239000006
The radical-reactive group preferably has a structure represented by formula (4) in that it can more effectively exhibit the effects of the present invention.
Figure 2024044239000006

式(4)中、Rはメチル基または水素原子を表す。 In formula (4), R 4 represents a methyl group or a hydrogen atom.

本発明の効果をより発現し得る点で、このようなリン酸エステル構造とラジカル反応性基を有する化合物(B)としては、好ましくは、式(5)で表される化合物である。

Figure 2024044239000007
The compound (B) having such a phosphate ester structure and a radical-reactive group is preferably a compound represented by formula (5), since it can more effectively exhibit the effects of the present invention.
Figure 2024044239000007

式(5)中、R、Rは炭素数1~30の直鎖または分岐アルキレン基であり、Rはメチル基または水素原子を表す。式(5)中、mは1~300を表す。式(5)中、nは1~3を表す。式(5)中、aは0または1であり、bは0~300であり、cは0または1である。 In formula (5), R 3 and R 5 are straight chain or branched alkylene groups having 1 to 30 carbon atoms, and R 4 represents a methyl group or a hydrogen atom. In formula (5), m represents 1 to 300. In formula (5), n represents 1 to 3. In formula (5), a is 0 or 1, b is 0 to 300, and c is 0 or 1.

式(5)中、Rは、好ましくは、炭素数1~20の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、より好ましくは、炭素数1~10の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、さらに好ましくは、炭素数1~8の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、特に好ましくは、炭素数1~6の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、最も好ましくは、炭素数1~4の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基である。 In formula (5), R 3 is preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. An alkylene group having a chain, more preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. or a branched alkylene group, most preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

式(5)中、Rは、好ましくは、炭素数1~20の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、より好ましくは、炭素数1~10の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、さらに好ましくは、炭素数1~8の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、特に好ましくは、炭素数1~6の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基であり、最も好ましくは、炭素数1~4の直鎖状または分岐鎖を有しているアルキレン基である。 In formula (5), R 5 is preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. An alkylene group having a chain, more preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, particularly preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. or a branched alkylene group, most preferably a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.

式(5)中、mは、好ましくは1~100であり、より好ましくは1~50であり、さらに好ましくは1~40であり、特に好ましくは1~30である。 In formula (5), m is preferably 1 to 100, more preferably 1 to 50, still more preferably 1 to 40, particularly preferably 1 to 30.

式(5)中、bは、好ましくは0~100であり、より好ましくは0~50であり、さらに好ましくは0~10であり、特に好ましくは0~5であり、最も好ましくは0または1である。 In formula (5), b is preferably 0 to 100, more preferably 0 to 50, even more preferably 0 to 10, particularly preferably 0 to 5, and most preferably 0 or 1. It is.

化合物(B)としては、市販品として入手できるものを採用してもよい。このような化合物(B)としては、例えば、相溶性の観点から、商品名「KAYAMER(登録商標)PM-21」(日本化薬株式会社製)が挙げられる。 As the compound (B), those available as commercial products may be employed. As such a compound (B), for example, from the viewpoint of compatibility, the trade name "KAYAMER (registered trademark) PM-21" (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) may be mentioned.

モノマー(A)とモノマー(M)の合計量を100重量部としたときに、該合計量に対する化合物(B)の量は、好ましくは0.0001重量部~0.0190重量部であり、より好ましくは0.0005重量部~0.0190重量部であり、さらに好ましくは0.0010重量部~0.0170重量部であり、特に好ましくは0.0015重量部~0.0150重量部である。化合物(B)の量が上記範囲を外れて小さすぎると、平均粒子径の小径化や油滴の分散安定性が不十分になり、重合塊状物や粗大粒子の形成が多発するおそれがある。化合物(B)の含有割合が、上記範囲を外れて大きすぎると、シェル部と該シェル部により囲まれた中空部分の形成が困難となるおそれがある。 When the total amount of monomer (A) and monomer (M) is taken as 100 parts by weight, the amount of compound (B) relative to the total amount is preferably 0.0001 to 0.0190 parts by weight, more preferably 0.0005 to 0.0190 parts by weight, even more preferably 0.0010 to 0.0170 parts by weight, and particularly preferably 0.0015 to 0.0150 parts by weight. If the amount of compound (B) is too small outside the above range, the average particle size may become small and the dispersion stability of the oil droplets may become insufficient, and the formation of polymerized lumps or coarse particles may occur frequently. If the content ratio of compound (B) is too large outside the above range, it may be difficult to form a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion.

ポリマー(P)は、好ましくは、モノマー(A)とモノマー(M)の反応によって形成し得る。 Polymer (P) may preferably be formed by reaction of monomer (A) and monomer (M).

モノマー(A)とモノマー(M)の反応は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な反応によって行うことができる。このような反応としては、好ましくは、懸濁重合反応である。 The reaction between monomer (A) and monomer (M) can be carried out by any appropriate reaction within a range that does not impair the effects of the present invention. Such a reaction is preferably a suspension polymerization reaction.

懸濁重合反応を行う際には、代表的には、水相に油相を加えて懸濁させて重合反応を行う。水相や油相には、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な溶剤を含んでいてもよい。このような溶剤としては、例えば、後述するような水系媒体や非反応性溶剤が挙げられる。溶剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 When performing a suspension polymerization reaction, typically, an oil phase is added to an aqueous phase and suspended, and the polymerization reaction is performed. The aqueous phase and oil phase may contain any suitable solvent as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such a solvent include an aqueous medium and a non-reactive solvent as described below. The number of solvents may be one, or two or more.

モノマー(A)とモノマー(M)の反応を行う際には、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー(A)及びモノマー(M)のいずれにも該当しない任意の適切な添加剤(C)を用いてもよい。添加剤(C)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。ここでいう添加剤(C)には、後述するような水系媒体や非反応性溶剤などの溶剤、分散安定剤は含まない。 When reacting monomer (A) with monomer (M), any suitable additive (C) that does not fall under either monomer (A) or monomer (M) may be used within a range that does not impair the effects of the present invention. The additive (C) may be of only one type or of two or more types. The additive (C) does not include solvents such as aqueous media and non-reactive solvents, as described below, and dispersion stabilizers.

添加剤(C)の含有割合は、モノマー(A)とモノマー(M)の合計量に対して、好ましくは0重量%~40重量%であり、より好ましくは0重量%~30重量%であり、さらに好ましくは0重量%~20重量%であり、特に好ましくは0重量%~10重量%である。 The content of additive (C) is preferably 0% to 40% by weight, more preferably 0% to 30% by weight, even more preferably 0% to 20% by weight, and particularly preferably 0% to 10% by weight, based on the total amount of monomer (A) and monomer (M).

添加剤(C)としては、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー(A)およびモノマー(M)のいずれにも該当しない任意の適切な添加剤を採用し得る。このような添加剤(C)としては、例えば、非架橋性ポリマー、重合開始剤が挙げられる。 As the additive (C), any suitable additive that does not fall under either the monomer (A) or the monomer (M) may be used as long as it does not impair the effects of the present invention. Examples of such additives (C) include non-crosslinkable polymers and polymerization initiators.

添加剤(C)として非架橋性ポリマーを含むことにより、反応進行に伴い生成するポリマー(P)と溶剤との相分離が促され、シェル形成が促進し得る。 By including a non-crosslinkable polymer as the additive (C), phase separation between the polymer (P) generated as the reaction progresses and the solvent can be promoted, and shell formation can be promoted.

非架橋性ポリマーとしては、例えば、ポリオレフィン、スチレン系ポリマー、(メタ)アクリル酸系ポリマー、スチレン-(メタ)アクリル酸系ポリマーからなる群から選択される少なくとも1種が挙げられる。 Examples of the non-crosslinkable polymer include at least one selected from the group consisting of polyolefins, styrene polymers, (meth)acrylic acid polymers, and styrene-(meth)acrylic acid polymers.

ポリオレフィンとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリα-オレフィンなどが挙げられる。モノマー組成物への溶解性の観点から、原料に長鎖のα-オレフィンを使用した側鎖結晶性ポリオレフィン、メタロセン触媒で製造された低分子量ポリオレフィンやオレフィンオリゴマーの使用が好ましい。 Examples of polyolefins include polyethylene, polypropylene, and poly-α-olefins. From the viewpoint of solubility in the monomer composition, it is preferable to use side-chain crystalline polyolefins using long-chain α-olefins as raw materials, and low-molecular-weight polyolefins and olefin oligomers produced with metallocene catalysts.

スチレン系ポリマーとしては、例えば、ポリスチレン、スチレン-アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合体などが挙げられる。 Examples of the styrene polymer include polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, and the like.

(メタ)アクリル酸系ポリマーとしては、例えば、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート、ポリプロピル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。 Examples of the (meth)acrylic acid polymer include polymethyl (meth)acrylate, polyethyl (meth)acrylate, polybutyl (meth)acrylate, and polypropyl (meth)acrylate.

スチレン-(メタ)アクリル酸系ポリマーとしては、例えば、スチレン-メチル(メタ)アクリレート共重合体、スチレン-エチル(メタ)アクリレート共重合体、スチレン-ブチル(メタ)アクリレート共重合体、スチレン-プロピル(メタ)アクリレート共重合体などが挙げられる。 Examples of styrene-(meth)acrylic acid polymers include styrene-methyl (meth)acrylate copolymers, styrene-ethyl (meth)acrylate copolymers, styrene-butyl (meth)acrylate copolymers, and styrene-propyl (meth)acrylate copolymers.

モノマー(A)とモノマー(M)の反応を行う際には、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー(A)及びモノマー(M)のいずれにも該当しない任意の適切な分散安定剤(D)を用いてもよい。分散安定剤(D)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 When reacting monomer (A) and monomer (M), any appropriate dispersion stabilizer (not applicable to either monomer (A) or monomer (M)) may be used within the range that does not impair the effects of the present invention. D) may also be used. The number of dispersion stabilizers (D) may be one, or two or more.

分散安定剤(D)は、水系媒体100重量部に対して、0.5重量部~10重量部が好ましい。分散安定剤(D)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The dispersion stabilizer (D) is preferably used in an amount of 0.5 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the aqueous medium. The dispersion stabilizer (D) may be used in a single type or in a combination of two or more types.

分散安定剤(D)としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカルボン酸、セルロース類(ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等)、ポリビニルピロリドン、トリポリリン酸ナトリウム等の無機系水溶性高分子化合物が挙げられる。また、分散安定剤(D)としては、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、リン酸アルミニウム、リン酸亜鉛等のリン酸塩;ピロリン酸カルシウム、ピロリン酸マグネシウム、ピロリン酸アルミニウム、ピロリン酸亜鉛等のピロリン酸塩;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、メタケイ酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、コロイダルシリカ等の難水溶性無機化合物;も挙げられる。これらの中でも、中空樹脂粒子からの除去が比較的容易であり、中空樹脂粒子の表面に残存しにくいことから、ピロリン酸マグネシウムが好ましい。 Examples of the dispersion stabilizer (D) include inorganic water-soluble polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polycarboxylic acids, celluloses (hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, etc.), polyvinylpyrrolidone, sodium tripolyphosphate, and the like. Further, as the dispersion stabilizer (D), phosphates such as calcium phosphate, magnesium phosphate, aluminum phosphate, zinc phosphate; pyrophosphates such as calcium pyrophosphate, magnesium pyrophosphate, aluminum pyrophosphate, zinc pyrophosphate; Also included are poorly water-soluble inorganic compounds such as calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, calcium metasilicate, calcium sulfate, barium sulfate, and colloidal silica. Among these, magnesium pyrophosphate is preferred because it is relatively easy to remove from the hollow resin particles and is unlikely to remain on the surface of the hollow resin particles.

≪1-3.中空樹脂粒子の用途≫
本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、各種用途に採用し得る。本発明の効果をより活用し得る点で、本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、半導体部材に好適であり、代表的には、半導体部材用樹脂組成物に好適に用い得る。また、本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、上記の半導体部材用樹脂組成物への用途の他に、例えば、塗料組成物、化粧料、紙被覆組成物、断熱性組成物、光拡散性組成物、光拡散フィルム等の用途へも適用し得る。
1-3. Uses of hollow resin particles
The hollow resin particles according to the embodiment of the present invention can be used in various applications. In that the effects of the present invention can be more effectively utilized, the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention are suitable for semiconductor members, and can be typically used in resin compositions for semiconductor members. In addition, the hollow resin particles according to the embodiment of the present invention can be used in applications such as paint compositions, cosmetics, paper coating compositions, heat insulating compositions, light diffusing compositions, and light diffusing films, in addition to the above-mentioned applications for resin compositions for semiconductor members.

<半導体部材用樹脂組成物>
本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、低誘電率化、低誘電正接化が達成でき、優れた耐熱性を発現できるので、半導体部材用樹脂組成物に好適に用い得る。
<Resin composition for semiconductor members>
The hollow resin particles according to the embodiment of the present invention can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and exhibit excellent heat resistance, and therefore can be suitably used in a resin composition for a semiconductor member.

本発明の実施形態による半導体部材用樹脂組成物は、本発明の実施形態による中空樹脂粒子を含む。 A resin composition for a semiconductor member according to an embodiment of the present invention includes hollow resin particles according to an embodiment of the present invention.

半導体部材とは、半導体を構成する部材を意味し、例えば、半導体パッケージや半導体モジュールが挙げられる。本明細書において、半導体部材用樹脂組成物とは、半導体部材に用いる樹脂組成物を意味する。 Semiconductor components refer to components that constitute semiconductors, such as semiconductor packages and semiconductor modules. In this specification, a resin composition for semiconductor components refers to a resin composition used for semiconductor components.

半導体パッケージとは、ICチップを必須構成部材として、モールド樹脂、アンダーフィル材、モールドアンダーフィル材、ダイボンド材、半導体パッケージ基板用プリプレグ、半導体パッケージ基板用金属張積層板、及び半導体パッケージ用プリント回路基板のビルドアップ材料から選ばれる少なくとも1種の部材を用いて構成されるものである。 A semiconductor package is constructed using an IC chip as an essential component and at least one material selected from mold resin, underfill material, mold underfill material, die bond material, prepreg for semiconductor package substrates, metal-clad laminate for semiconductor package substrates, and build-up material for printed circuit boards for semiconductor packages.

半導体モジュールとは、半導体パッケージを必須構成部材として、プリント回路基板用プリプレグ、プリント回路基板用金属張積層板、プリント回路基板用ビルドアップ材料、ソルダーレジスト材、カバーレイフィルム、電磁波シールドフィルム、及びプリント回路基板用接着シートから選ばれる少なくとも1種の部材を用いて構成されるものである。 A semiconductor module is constructed using a semiconductor package as an essential component and at least one member selected from prepregs for printed circuit boards, metal-clad laminates for printed circuit boards, build-up materials for printed circuit boards, solder resist materials, coverlay films, electromagnetic shielding films, and adhesive sheets for printed circuit boards.

<塗料組成物>
本発明の実施形態による中空樹脂粒子は、それを含む塗膜に優れた外観を付与し得るため、塗料組成物に好適に用い得る。
<Coating composition>
The hollow resin particles according to the embodiments of the present invention can impart an excellent appearance to a coating film containing the particles, and therefore can be suitably used in a coating composition.

本発明の実施形態による塗料組成物は、本発明の実施形態による中空樹脂粒子を含む。 A coating composition according to an embodiment of the invention includes hollow resin particles according to an embodiment of the invention.

本発明の実施形態による塗料組成物は、好ましくは、バインダー樹脂およびUV硬化性樹脂から選ばれる少なくとも1種を含む。バインダー樹脂は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。UV硬化性樹脂は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The coating composition according to the embodiment of the present invention preferably contains at least one selected from a binder resin and a UV curable resin. Only one type of binder resin may be used, or two or more types may be used. Only one type of UV curable resin may be used, or two or more types may be used.

バインダー樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なバインダー樹脂を採用し得る。このようなバインダー樹脂としては、例えば、有機溶剤または水に可溶な樹脂、水中に分散できるエマルション型の水性樹脂が挙げられる。バインダー樹脂としては、具体的には、例えば、アクリル樹脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩素化ポリオレフィン樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂が挙げられる。 As the binder resin, any suitable binder resin may be used as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such binder resins include resins that are soluble in organic solvents or water, and emulsion-type aqueous resins that can be dispersed in water. Specific examples of the binder resin include acrylic resin, alkyd resin, polyester resin, polyurethane resin, chlorinated polyolefin resin, and amorphous polyolefin resin.

UV硬化性樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なUV硬化性樹脂を採用し得る。このようなUV硬化性樹脂としては、例えば、多官能(メタ)アクリレート樹脂、多官能ウレタンアクリレート樹脂が挙げられ、多官能(メタ)アクリレート樹脂が好ましく、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート樹脂がより好ましい。1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレート樹脂としては、具体的には、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4-シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサアクリレートが挙げられる。 As the UV curable resin, any suitable UV curable resin may be used as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such UV-curable resins include polyfunctional (meth)acrylate resins and polyfunctional urethane acrylate resins, and polyfunctional (meth)acrylate resins are preferred, with three or more (meth)acrylate resins in one molecule. More preferred is a polyfunctional (meth)acrylate resin having an acryloyl group. Specifically, the polyfunctional (meth)acrylate resin having three or more (meth)acryloyl groups in one molecule includes, for example, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, 1,2,4-cyclohexane tetra(meth)acrylate, pentaglycerol triacrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol tetra (meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, tripentaerythritol triacrylate, and tripentaerythritol hexaacrylate.

本発明の実施形態による塗料組成物が、バインダー樹脂およびUV硬化性樹脂から選ばれる少なくとも1種を含む場合、その含有割合は、目的に応じて、任意の適切な含有割合を採用し得る。代表的には、バインダー樹脂(エマルション型の水性樹脂の場合は固形分換算)およびUV硬化性樹脂から選ばれる少なくとも1種と本発明の実施形態による中空樹脂粒子との合計量に対して、本発明の実施形態による中空樹脂粒子が、好ましくは5重量%~50重量%であり、より好ましくは10重量%~50重量%であり、さらに好ましくは20重量%~40重量%である。 When the coating composition according to an embodiment of the present invention contains at least one selected from a binder resin and a UV-curable resin, the content ratio may be any appropriate content ratio depending on the purpose. Typically, the hollow resin particles according to an embodiment of the present invention are preferably 5% by weight to 50% by weight, more preferably 10% by weight to 50% by weight, and even more preferably 20% by weight to 40% by weight relative to the total amount of the binder resin (in terms of solids in the case of an emulsion-type aqueous resin) and at least one selected from a UV-curable resin and the hollow resin particles according to an embodiment of the present invention.

UV硬化性樹脂が用いられる場合には、好ましくは、光重合開始剤が併用される。光重合開始剤としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な光重合開始剤を採用し得る。このような光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、α-ヒドロキシアルキルフェノン類、α-アミノアルキルフェノン、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001-139663号公報等に記載)、2,3-ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、オニウム塩類、ボレート塩、活性ハロゲン化合物、α-アシルオキシムエステルが挙げられる。 When a UV-curable resin is used, a photopolymerization initiator is preferably used in combination. Any appropriate photopolymerization initiator may be used as long as it does not impair the effects of the present invention. Examples of such photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, α-hydroxyalkylphenones, α-aminoalkylphenones, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides (described in JP-A-2001-139663, etc.), 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfonium compounds, onium salts, borate salts, active halogen compounds, and α-acyloxime esters.

本発明の実施形態による塗料組成物は、溶剤を含んでいてもよい。溶剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。本発明の実施形態による塗料組成物が溶剤を含む場合、その含有割合は、目的に応じて、任意の適切な含有割合を採用し得る。 The coating composition according to the embodiment of the present invention may contain a solvent. The solvent may be one type only, or may be two or more types. When the coating composition according to the embodiment of the present invention contains a solvent, the content ratio of the solvent may be any appropriate content ratio depending on the purpose.

溶剤としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な溶剤を採用し得る。このような溶剤としては、好ましくは、バインダー樹脂またはUV硬化性樹脂を溶解または分散できる溶剤である。このような溶剤としては、油系塗料であれば、例えば、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶剤;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤;ジオキサン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル系溶剤;が挙げられ、水系塗料であれば、例えば、水、アルコール類が挙げられる。 As the solvent, any suitable solvent may be used as long as it does not impair the effects of the present invention. Such a solvent is preferably one that can dissolve or disperse the binder resin or UV-curable resin. For oil-based paints, such solvents include, for example, hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; and ether solvents such as dioxane, ethylene glycol diethyl ether, and ethylene glycol monobutyl ether. For water-based paints, such solvents include, for example, water and alcohols.

本発明の実施形態による塗料組成物は、必要に応じて粘度を調整するために、希釈が施されていてもよい。希釈剤としては、目的に応じて、任意の適切な希釈剤を採用し得る。このような希釈剤としては、前述した溶剤が挙げられる。希釈剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The coating composition according to the embodiment of the present invention may be diluted to adjust the viscosity as necessary. Any appropriate diluent may be used depending on the purpose. Examples of such diluents include the above-mentioned solvents. The diluent may be one type or two or more types.

本発明の実施形態による塗料組成物は、必要に応じて、他の成分、例えば、塗面調整剤、流動性調整剤、紫外線吸収剤、光安定剤、硬化触媒、体質顔料、着色顔料、金属顔料、マイカ粉顔料、染料が含まれていてもよい。 The coating composition according to the embodiment of the present invention may contain other components as necessary, such as a coating surface conditioner, a fluidity conditioner, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a curing catalyst, an extender pigment, a coloring pigment, a metal. Pigments, mica powder pigments, and dyes may also be included.

本発明の実施形態による塗料組成物を使用して塗膜を形成する場合、その塗工方法としては、目的に応じて、任意の適切な塗工方法を採用し得る。このような塗工方法としては、例えば、スプレー塗装法、ロール塗装法、ハケ塗り法、コーティングリバースロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法、コンマコート法、スプレーコート法が挙げられる。 When forming a coating film using the coating composition according to an embodiment of the present invention, any appropriate coating method may be used depending on the purpose. Examples of such coating methods include spray coating, roll coating, brush coating, coating reverse roll coating, gravure coating, die coating, comma coating, and spray coating.

本発明の実施形態による塗料組成物を使用して塗膜を形成する場合、その形成方法としては、目的に応じて、任意の適切な形成方法を採用し得る。このような形成方法としては、例えば、基材の任意の塗工面に塗工して塗工膜を作製し、この塗工膜を乾燥させた後、必要に応じて塗工膜を硬化させることによって、塗膜を形成する方法が挙げられる。基材としては、例えば、金属、木材、ガラス、プラスチック(PET(ポリエチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、アクリル樹脂、TAC(トリアセチルセルロース)など)が挙げられる。 When forming a coating film using the coating composition according to an embodiment of the present invention, any suitable formation method may be adopted depending on the purpose. For example, such a formation method includes a method in which a coating film is formed by applying the coating composition to any coating surface of a substrate, drying the coating film, and then curing the coating film as necessary to form a coating film. Examples of substrates include metal, wood, glass, and plastics (PET (polyethylene terephthalate), PC (polycarbonate), acrylic resin, TAC (triacetyl cellulose), etc.).

≪≪2.中空樹脂粒子の製造方法≫≫
本発明の実施形態による中空樹脂粒子の製造方法は、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子の製造方法であって、重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素であるモノマー(A)30重量部~70重量部と該モノマー(A)と反応するモノマー(M)70重量部~30重量部(モノマー(A)とモノマー(M)の合計量を100重量部とする)を、非反応性溶剤の存在下、水系媒体中で反応させ、該モノマー(M)がリン酸エステル構造とラジカル反応性基を有する化合物(B)を含む。
<<2. Method for producing hollow resin particles>>
A method for producing hollow resin particles according to an embodiment of the present invention is a method for producing hollow resin particles having a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion, which comprises reacting 30 to 70 parts by weight of monomer (A), which is a polycyclic aromatic hydrocarbon having a polymerization reactive group, with 70 to 30 parts by weight of monomer (M) that reacts with monomer (A) (the total amount of monomer (A) and monomer (M) being 100 parts by weight), in an aqueous medium in the presence of a non-reactive solvent, and wherein monomer (M) contains compound (B) having a phosphate ester structure and a radical reactive group.

上記製造方法によれば、本発明の実施形態による中空樹脂粒子を簡易に製造し得る。 The above manufacturing method makes it possible to easily manufacture hollow resin particles according to an embodiment of the present invention.

モノマー(A)とモノマー(M)を、非反応性溶剤の存在下、水系媒体中で反応させることにより、シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子であって、低誘電率化、低誘電正接化が達成でき、優れた耐熱性を発現できる、中空樹脂粒子が得られ得る。 By reacting monomer (A) and monomer (M) in an aqueous medium in the presence of a non-reactive solvent, hollow resin particles having a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion can be obtained, which can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent and can exhibit excellent heat resistance.

本発明の実施形態による中空樹脂粒子の製造方法においては、好ましくは、モノマー(A)とモノマー(M)を懸濁重合反応に供する。 In the method for producing hollow resin particles according to the embodiment of the present invention, monomer (A) and monomer (M) are preferably subjected to a suspension polymerization reaction.

懸濁重合は、代表的には、水系媒体を含む水相と、モノマー(A)とモノマー(M)と非反応性溶剤を含む油相とを用いた懸濁重合であり、好ましくは、水系媒体を含む水相にモノマー(A)とモノマー(M)と非反応性溶剤を含む油相を添加して分散させて加熱して懸濁重合を行う。 Suspension polymerization is typically performed using an aqueous phase containing an aqueous medium and an oil phase containing monomer (A), monomer (M) and a non-reactive solvent. Preferably, the oil phase containing monomer (A), monomer (M) and a non-reactive solvent is added to the aqueous phase containing an aqueous medium, dispersed, and heated to perform suspension polymerization.

分散は、水相中で油相を液滴状で存在させることができさえすれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な分散方法を採用し得る。このような分散方法としては、代表的には、ホモミキサーやホモジナイザーを用いた分散方法であり、例えば、ポリトロンホモジナイザー、超音波ホモジナイザーや高圧ホモジナイザーなどが挙げられる。 For dispersion, any suitable dispersion method may be employed as long as the oil phase can be present in the form of droplets in the aqueous phase, as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a dispersion method typically uses a homomixer or a homogenizer, such as a Polytron homogenizer, an ultrasonic homogenizer, or a high-pressure homogenizer.

重合温度は、懸濁重合に適した温度であれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な重合温度を採用し得る。このような重合温度としては、好ましくは30℃~80℃である。 As the polymerization temperature, any appropriate polymerization temperature may be adopted as long as it is a temperature suitable for suspension polymerization, as long as it does not impair the effects of the present invention. The polymerization temperature is preferably 30°C to 80°C.

重合時間は、懸濁重合に適した時間であれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な重合時間を採用し得る。このような重合時間としては、好ましくは1時間~48時間である。 As the polymerization time, any appropriate polymerization time may be adopted as long as it is a time suitable for suspension polymerization and does not impair the effects of the present invention. The polymerization time is preferably 1 hour to 48 hours.

重合後に好ましく行う後加熱は、完成度の高い中空樹脂粒子を得るために好適な処理である。 Post-heating, which is preferably carried out after polymerization, is a suitable treatment for obtaining hollow resin particles with a high degree of perfection.

重合後に好ましく行う後加熱の温度は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な温度を採用し得る。このような後加熱の温度としては、好ましくは70℃~120℃である。 The temperature of the post-heating preferably performed after polymerization may be any appropriate temperature within a range that does not impair the effects of the present invention. The temperature of such post-heating is preferably 70°C to 120°C.

重合後に好ましく行う後加熱の時間は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な時間を採用し得る。このような後加熱の時間としては、好ましくは1時間~24時間である。 As the time period for post-heating preferably carried out after polymerization, any appropriate time period can be adopted within a range that does not impair the effects of the present invention. The time for such post-heating is preferably 1 hour to 24 hours.

モノマー(A)、モノマー(M)、各種成分の含有割合としては、≪≪1.中空樹脂粒子≫≫の≪1-2.シェル部≫の項目における説明をそのまま援用し得る。 The content ratios of monomer (A), monomer (M), and various components are as follows: <<<1. Hollow resin particles≫≫≪1-2. The explanation in the item “Shell Portion” can be used as is.

水系媒体としては、例えば、水、水と低級アルコール(メタノール、エタノール等)との混合媒体などが挙げられる。 Examples of aqueous media include water and mixtures of water and lower alcohols (methanol, ethanol, etc.).

水系媒体の使用量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な量を採用し得る。このような水系媒体の使用量は、代表的には、水相に油相を加えて懸濁させて行う懸濁重合反応において該反応が適切に進行する量であり、モノマー(A)とモノマー(M)と非反応性溶剤の合計量100重量部に対して、好ましくは100重量部~5000重量部であり、より好ましくは150重量部~2000重量部である。 The amount of the aqueous medium to be used may be any appropriate amount within a range that does not impair the effects of the present invention. The amount of such aqueous medium to be used is typically such that the suspension polymerization reaction, which is carried out by adding and suspending an oil phase to an aqueous phase, allows the reaction to proceed appropriately. The amount is preferably from 100 parts by weight to 5,000 parts by weight, more preferably from 150 parts by weight to 2,000 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of (M) and the non-reactive solvent.

非反応性溶剤は、モノマー(A)とモノマー(M)とのいずれとも化学的な反応を起こさない溶剤であり、好ましくは、有機溶剤である。非反応性溶剤は、代表的には、粒子に空域を与える中空化剤として作用する。非反応性溶剤としては、例えば、ヘプタン、ヘキサン、トルエン、シクロヘキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、クロロホルム、四塩化炭素が挙げられる。中空樹脂粒子からの除去が容易である点で、非反応性溶剤の沸点は100℃未満であることが好ましい。 The non-reactive solvent is a solvent that does not chemically react with either the monomer (A) or the monomer (M), and is preferably an organic solvent. The non-reactive solvent typically acts as a hollowing agent that gives the particles air space. Examples of non-reactive solvents include heptane, hexane, toluene, cyclohexane, methyl acetate, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, chloroform, and carbon tetrachloride. In terms of ease of removal from the hollow resin particles, it is preferable that the boiling point of the non-reactive solvent is less than 100°C.

中空化剤としての非反応性溶剤は、単一溶剤であってもよいし、混合溶剤であってもよい。 The non-reactive solvent used as the hollowing agent may be a single solvent or a mixed solvent.

非反応性溶剤の添加量は、モノマー(A)とモノマー(M)の合計量100重量部に対して、好ましくは20重量部~250重量部である。 The amount of non-reactive solvent added is preferably 20 to 250 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of monomer (A) and monomer (M).

モノマー(A)とモノマー(M)の反応を行う際には、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー(A)及びモノマー(M)のいずれにも該当しない任意の適切な添加剤(C)を用いてもよい。添加剤(C)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。ここでいう添加剤(C)には、水系媒体や非反応性溶剤などの溶剤、分散安定剤は含まない。 When reacting monomer (A) with monomer (M), any suitable additive (C) that does not fall under either monomer (A) or monomer (M) may be used within a range that does not impair the effects of the present invention. The additive (C) may be of only one type, or of two or more types. The additive (C) does not include solvents such as aqueous media and non-reactive solvents, and dispersion stabilizers.

添加剤(C)の含有割合は、モノマー(A)とモノマー(M)の合計量に対して、好ましくは0重量%~~40重量%であり、より好ましくは0重量%~30重量%であり、さらに好ましくは0重量%~20重量%であり、特に好ましくは0重量%~10重量%である。 The content of additive (C) is preferably 0% to 40% by weight, more preferably 0% to 30% by weight, even more preferably 0% to 20% by weight, and particularly preferably 0% to 10% by weight, based on the total amount of monomer (A) and monomer (M).

添加剤(C)としては、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー(A)及びモノマー(M)のいずれにも該当しない任意の適切な添加剤を採用し得る。このような添加剤(C)としては、例えば、非架橋性ポリマー、重合開始剤が挙げられる。 As the additive (C), any suitable additive that does not fall under either the monomer (A) or the monomer (M) may be used as long as it does not impair the effects of the present invention. Examples of such additives (C) include non-crosslinkable polymers and polymerization initiators.

非架橋性ポリマーについては、≪≪1.中空樹脂粒子≫≫の≪1-2.シェル部≫の項目における説明をそのまま援用し得る。 For non-crosslinkable polymers, see ≪≪1. Hollow resin particles≫≫≪1-2. The explanation in the item “Shell Portion” can be used as is.

重合開始剤としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な重合開始剤を採用し得る。このような重合開始剤としては、例えば、過酸化ラウロイル、過酸化ベンゾイル、オルソクロロ過酸化ベンゾイル、オルソメトキシ過酸化ベンゾイル、3,5,5-トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、ジ-t-ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物;2,2'-アゾビスイソブチロニトリル、1,1'-アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、2,2'-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系化合物;などが挙げられる。重合開始剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 As the polymerization initiator, any suitable polymerization initiator may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such polymerization initiators include lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, orthochlorobenzoyl peroxide, orthomethoxybenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, and t-butylperoxy-2- Organic peroxides such as ethylhexanoate and di-t-butyl peroxide; 2,2'-azobisisobutyronitrile, 1,1'-azobiscyclohexane carbonitrile, 2,2'-azobis(2 , 4-dimethylvaleronitrile); and the like. The number of polymerization initiators may be one, or two or more.

重合開始剤の含有割合は、モノマー(A)とモノマー(M)の合計量に対して、0.1重量%~5重量%の範囲が好ましい。 The content of the polymerization initiator is preferably in the range of 0.1% to 5% by weight based on the total amount of monomer (A) and monomer (M).

モノマー(A)とモノマー(M)の反応を行う際には、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー(A)及びモノマー(M)のいずれにも該当しない任意の適切な分散安定剤(D)を用いてもよい。分散安定剤(D)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 When reacting monomer (A) and monomer (M), any appropriate dispersion stabilizer (not applicable to either monomer (A) or monomer (M)) may be used within the range that does not impair the effects of the present invention. D) may also be used. The number of dispersion stabilizers (D) may be one, or two or more.

分散安定剤(D)は、水系媒体100重量部に対して、0.5重量部~10重量部が好ましい。分散安定剤(D)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The dispersion stabilizer (D) is preferably used in an amount of 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the aqueous medium. The number of dispersion stabilizers (D) may be one, or two or more.

分散安定剤(D)の具体例としては、≪≪1.中空樹脂粒子≫≫の≪1-2.シェル部≫の項目における説明をそのまま援用し得る。 Specific examples of the dispersion stabilizer (D) include <<<1. Hollow resin particles≫≫≪1-2. The explanation in the item “Shell Portion” can be used as is.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「%」は「重量%」を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. In addition, unless otherwise specified, "parts" means "parts by weight" and "%" means "% by weight."

≪体積平均粒子径、変動係数の測定≫
粒子の体積平均粒子径の測定は、以下のようにしてコールター法により行った。
粒子の体積平均粒子径は、コールターMultisizer(登録商標)3(ベックマン・コールター株式会社製測定装置)により測定した。測定は、ベックマン・コールター株式会社発行のMultisizer(登録商標)3ユーザーズマニュアルに従って校正されたアパチャーを用いて実施した。なお、測定に用いるアパチャーは、測定する粒子の想定の体積平均粒子径が1μm以上10μm以下の場合は50μmのサイズを有するアパチャーを選択し、測定する粒子の想定の体積平均粒子径が10μmより大きく30μm以下の場合は100μmのサイズを有するアパチャーを選択し、粒子の想定の体積平均粒子径が30μmより大きく90μm以下の場合は280μmのサイズを有するアパチャーを選択し、粒子の想定の体積平均粒子径が90μmより大きく150μm以下の場合は400μmのサイズを有するアパチャーを選択する等、測定する粒子の大きさによって、適宜選択した。測定後の体積平均粒子径が想定の体積平均粒子径と異なった場合は、適正なサイズを有するアパチャーに変更して、再度測定を行った。Current(アパチャー電流)およびGain(ゲイン)は、選択したアパチャーのサイズによって、適宜設定した。例えば、50μmのサイズを有するアパチャーを選択した場合、Current(アパチャー電流)は-800、Gain(ゲイン)は4と設定し、100μmのサイズを有するアパチャーを選択した場合、Current(アパチャー電流)は-1600、Gain(ゲイン)は2と設定し、280μm及び400μmのサイズを有するアパチャーを選択した場合、Current(アパチャー電流)は-3200、Gain(ゲイン)は1と設定した。
測定用試料としては、粒子0.1gを0.1重量%ノニオン性界面活性剤水溶液10ml中にタッチミキサー(ヤマト科学株式会社製、「TOUCHMIXER MT-31」)および超音波洗浄器(株式会社ヴェルヴォクリーア製、「ULTRASONIC CLEANER VS-150」)を用いて分散させ、分散液としたものを使用した。測定中は、ビーカー内を気泡が入らない程度に緩く攪拌しておき、粒子を10万個測定した時点で測定を終了した。なお、粒子の体積平均粒子径は、10万個の粒子の体積基準の粒度分布における算術平均とした。
粒子の粒子径の変動係数(CV値)は、以下の数式によって算出した。
粒子の粒子径の変動係数(%)=(粒子の体積基準の粒度分布の標準偏差÷粒子の体積平均粒子径)×100(%)
≪Measurement of volume average particle diameter and coefficient of variation≫
The volume average particle diameter of the particles was measured by the Coulter method as follows.
The volume average particle diameter of the particles was measured using Coulter Multisizer (registered trademark) 3 (measurement device manufactured by Beckman Coulter, Inc.). Measurements were performed using an aperture calibrated according to the Multisizer® 3 User's Manual published by Beckman Coulter, Inc. In addition, for the aperture used in the measurement, if the assumed volume average particle diameter of the particles to be measured is 1 μm or more and 10 μm or less, select an aperture with a size of 50 μm, and if the assumed volume average particle diameter of the particles to be measured is larger than 10 μm. If the expected volume average particle size of the particles is 30 μm or less, select an aperture with a size of 100 μm; if the assumed volume average particle size of the particles is greater than 30 μm and 90 μm or less, select an aperture with a size of 280 μm; The aperture size was appropriately selected depending on the size of the particles to be measured, such as selecting an aperture having a size of 400 μm when the particle size was larger than 90 μm and less than 150 μm. If the volume average particle diameter after measurement was different from the expected volume average particle diameter, the aperture was changed to an appropriate size and the measurement was performed again. Current (aperture current) and Gain (gain) were appropriately set depending on the selected aperture size. For example, if you select an aperture with a size of 50 μm, Current (aperture current) is set to -800 and Gain (gain) is set to 4, and if you select an aperture with a size of 100 μm, Current (aperture current) is set to -800. 1600, Gain was set to 2, and when apertures having sizes of 280 μm and 400 μm were selected, Current (aperture current) was set to −3200, and Gain was set to 1.
As a sample for measurement, 0.1 g of particles was placed in 10 ml of a 0.1% by weight nonionic surfactant aqueous solution using a touch mixer (Yamato Scientific Co., Ltd., "TOUCHMIXER MT-31") and an ultrasonic cleaner (Vell Co., Ltd.). A dispersion liquid was prepared by dispersing the liquid using "ULTRASONIC CLEANER VS-150" (manufactured by Vokulea). During the measurement, the inside of the beaker was gently stirred to prevent air bubbles from entering, and the measurement was terminated when 100,000 particles were measured. The volume average particle diameter of the particles was the arithmetic mean of the volume-based particle size distribution of 100,000 particles.
The coefficient of variation (CV value) of the particle diameter of the particles was calculated using the following formula.
Coefficient of variation (%) of particle diameter of particles = (standard deviation of particle size distribution based on volume of particles ÷ volume average particle diameter of particles) x 100 (%)

≪断面観察≫
乾燥した粒子を光硬化性樹脂「D-800」(日本電子株式会社製)と混合し、紫外光を照射することで硬化物を得た。その後、硬化物をニッパーで裁断し、断面部分を、カッターを用いて平滑に加工し、日本電子株式会社製、「オートファインコータJFC-1300」スパッタ装置を用いて試料をコーティングした。次いで、試料の断面を株式会社日立ハイテクノロジーズ製、「SU1510」走査電子顕微鏡の二次電子検出器を用いて、撮影した。
≪Cross-sectional observation≫
The dried particles were mixed with a photocurable resin "D-800" (manufactured by JEOL Ltd.) and irradiated with ultraviolet light to obtain a cured product. Thereafter, the cured product was cut with nippers, the cross section was smoothed using a cutter, and the sample was coated using an "Auto Fine Coater JFC-1300" sputtering device manufactured by JEOL Ltd. Next, a cross section of the sample was photographed using a secondary electron detector of a "SU1510" scanning electron microscope manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.

≪窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度の測定≫
5%重量減少温度は、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製「TG/DTA6200、AST-2」示差熱熱重量同時測定装置を用いて測定した。サンプリング方法及び温度条件に関しては以下のように行った。
白金製測定容器の底に、すきまのないように試料を10.5±0.5mg充てんして、測定用のサンプルとした。窒素ガス流量230mL/分のもと、アルミナを基準物質として、5%重量減少温度を測定した。TG/DTA曲線は、昇温速度10℃/分で30℃から500℃までサンプルを昇温させて得た。この得られた曲線から装置付属の解析ソフトを用いて、5%重量減少時の温度を算出し、5%重量減少温度とした。
≪Measurement of 5% weight loss temperature when heating at 10°C/min in nitrogen atmosphere≫
The 5% weight loss temperature was measured using a differential thermogravimetry simultaneous measuring device "TG/DTA6200, AST-2" manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd. The sampling method and temperature conditions were as follows.
10.5±0.5 mg of the sample was filled in the bottom of a platinum measurement container without any gaps to prepare a sample for measurement. The 5% weight loss temperature was measured using alumina as a reference material under a nitrogen gas flow rate of 230 mL/min. The TG/DTA curve was obtained by heating the sample from 30°C to 500°C at a heating rate of 10°C/min. From this obtained curve, the temperature at 5% weight loss was calculated using analysis software attached to the apparatus, and was defined as the 5% weight loss temperature.

〔実施例1〕
重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素単量体(商品名「アセナフチレン」、JFEケミカル株式会社製)3.30g、ジビニルベンゼン(DVB)810(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製、81%含有品、19%はエチルビニルベンゼン(EVB))3.30g、シクロヘキサン3.30g、重合開始剤としての2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)(AIBN、富士フィルム和光純薬株式会社製)0.13g、リン酸基を有するラジカル重合性モノマーとしての「KAYAMER(登録商標)PM-21」(日本化薬株式会社製)0.03gを混合し、油相を作製した。
水相としてのピロリン酸マグネシウム2重量%水分散液32gに油相を加え、ポリトロンホモジナイザー「PT10-35」(株式会社セントラル科学貿易製)を用いて、7000rpmにて3分間分散させて、懸濁液を作製した。得られた懸濁液を70℃で24時間加熱撹拌することによって、重合反応を完了させた。得られたスラリーに塩酸を加え、ピロリン酸マグネシウムを分解させた後、ろ過による脱水で固形分を分離し、水洗を繰り返すことで精製を行った後、加熱乾燥することで、粒子(1)を得た。
得られた粒子(1)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(1)の断面写真図を図1に示す。得られた粒子(1)は、シェルにより囲われた中空が多孔質構造からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(1)の体積平均粒子径は10.3μm、変動係数は39.2%であった。
得られた粒子(1)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は342.8℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
Example 1
An oil phase was prepared by mixing 3.30 g of a polycyclic aromatic hydrocarbon monomer having a polymerization reactive group (product name "Acenaphthylene", manufactured by JFE Chemical Corporation), 3.30 g of divinylbenzene (DVB) 810 (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., 81% content, 19% is ethylvinylbenzene (EVB)), 3.30 g of cyclohexane, 0.13 g of 2,2'-azobis(isobutyronitrile) (AIBN, manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a polymerization initiator, and 0.03 g of "KAYAMER (registered trademark) PM-21" (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a radical polymerizable monomer having a phosphoric acid group.
The oil phase was added to 32 g of a 2 wt % aqueous dispersion of magnesium pyrophosphate as the aqueous phase, and dispersed at 7,000 rpm for 3 minutes using a Polytron homogenizer "PT10-35" (manufactured by Central Scientific Trading Co., Ltd.) to prepare a suspension. The resulting suspension was heated and stirred at 70°C for 24 hours to complete the polymerization reaction. Hydrochloric acid was added to the resulting slurry to decompose the magnesium pyrophosphate, and the solid content was separated by dehydration through filtration, purified by repeated washing with water, and then dried by heating to obtain particles (1).
When the obtained particles (1) were photographed with a scanning electron microscope (SEM), it was confirmed that the particle surface had no pores and was a smooth spherical particle.
A cross-sectional photograph of the obtained particle (1) is shown in Fig. 1. It was confirmed that the obtained particle (1) was a hollow resin particle having a porous structure surrounded by a shell.
The volume average particle size of the obtained particles (1) was 10.3 μm, and the variation coefficient was 39.2%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (1) was 342.8°C when the temperature was increased at 10°C/min in a nitrogen atmosphere.
The blend amounts and various measurement results are shown in Table 1.

〔実施例2〕
シクロヘキサン3.30gに代えてヘプタン3.30gを用い、2,2’-アゾビス(イソブチロニトリル)0.13gに代えて2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(ADVM、商品名「V-65」、富士フィルム和光純薬株式会社製)0.13gを用いた以外は、実施例1と同様に行い、粒子(2)を得た。
得られた粒子(2)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(2)の断面写真図を図2に示す。得られた粒子(2)は、シェルにより囲われた中空が多孔質構造からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(2)の体積平均粒子径は16.7μm、変動係数は46.9%であった。
得られた粒子(2)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は383.9℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
Example 2
Particles (2) were obtained in the same manner as in Example 1, except that 3.30 g of heptane was used instead of 3.30 g of cyclohexane, and 0.13 g of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (ADVM, trade name "V-65", manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used instead of 0.13 g of 2,2'-azobis(isobutyronitrile).
When the obtained particles (2) were photographed with a scanning electron microscope (SEM), it was confirmed that the particle surface had no pores and was a smooth spherical particle.
A cross-sectional photograph of the obtained particle (2) is shown in Fig. 2. It was confirmed that the obtained particle (2) was a hollow resin particle having a porous structure surrounded by a shell.
The volume average particle size of the obtained particles (2) was 16.7 μm, and the coefficient of variation was 46.9%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (2) was 383.9°C when the temperature was increased at 10°C/min in a nitrogen atmosphere.
The blend amounts and various measurement results are shown in Table 1.

〔実施例3〕
重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素単量体(商品名「アセナフチレン」、JFEケミカル株式会社製)の使用量を2.64gに変更し、ジビニルベンゼン(DVB)810(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製、81%含有品、19%はエチルビニルベンゼン(EVB))の使用量を3.96gに変更した以外は、実施例2と同様に行い、粒子(3)を得た。
得られた粒子(3)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(3)の断面写真図を図3に示す。得られた粒子(3)は、シェルにより囲われた中空が多孔質構造からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(3)の体積平均粒子径は10.9μm、変動係数は42.3%であった。
得られた粒子(3)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は382.3℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
Example 3
Particles (3) were obtained in the same manner as in Example 2, except that the amount of the polycyclic aromatic hydrocarbon monomer having a polymerization reactive group (product name "Acenaphthylene", manufactured by JFE Chemical Corporation) used was changed to 2.64 g, and the amount of divinylbenzene (DVB) 810 (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Corporation, 81% content, 19% is ethylvinylbenzene (EVB)) used was changed to 3.96 g.
When the obtained particles (3) were photographed with a scanning electron microscope (SEM), it was confirmed that the particle surface had no pores and was a smooth spherical particle.
A cross-sectional photograph of the obtained particle (3) is shown in Fig. 3. It was confirmed that the obtained particle (3) was a hollow resin particle having a porous structure surrounded by a shell.
The volume average particle size of the obtained particles (3) was 10.9 μm, and the variation coefficient was 42.3%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (3) was 382.3°C when the temperature was increased at 10°C/min in a nitrogen atmosphere.
The blend amounts and various measurement results are shown in Table 1.

〔実施例4〕
重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素単量体(商品名「アセナフチレン」、JFEケミカル株式会社製)の使用量を3.96gに変更し、ジビニルベンゼン(DVB)810(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製、81%含有品、19%はエチルビニルベンゼン(EVB))の使用量を2.64gに変更した以外は、実施例2と同様に行い、粒子(4)を得た。
得られた粒子(4)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(4)の断面写真図を図4に示す。得られた粒子(4)は、シェルにより囲われた中空が一つの中空領域からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(4)の体積平均粒子径は10.9μm、変動係数は36.7%であった。
得られた粒子(4)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は381.3℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
[Example 4]
The amount of polycyclic aromatic hydrocarbon monomer having a polymerization-reactive group (trade name "acenaphthylene", manufactured by JFE Chemical Corporation) was changed to 3.96 g, and the amount of divinylbenzene (DVB) 810 (Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was changed to 3.96 g. Particles (4) were obtained in the same manner as in Example 2, except that the amount of the product manufactured by & Materials Co., Ltd., containing 81% (19% ethylvinylbenzene (EVB)) was changed to 2.64 g.
When the obtained particle (4) was imaged using a scanning electron microscope (SEM), it was found that the particle surface had no pores and was a smooth spherical particle.
A cross-sectional photographic diagram of the obtained particles (4) is shown in FIG. It was confirmed that the obtained particles (4) were hollow resin particles consisting of one hollow area surrounded by a shell.
The volume average particle diameter of the obtained particles (4) was 10.9 μm, and the coefficient of variation was 36.7%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (4) when heated at a rate of 10°C/min in a nitrogen atmosphere was 381.3°C.
Table 1 shows the blending amount and various measurement results.

〔実施例5〕
重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素単量体(商品名「アセナフチレン」、JFEケミカル株式会社製)の使用量を2.50gに変更し、ジビニルベンゼン(DVB)810(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製、81%含有品、19%はエチルビニルベンゼン(EVB))の使用量を2.50gに変更し、ヘプタンの使用量を5.00gに変更し、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)の使用量を0.10gに変更した以外は、実施例2と同様に行い、粒子(5)を得た。
得られた粒子(5)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、表面に凹凸がある球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(5)の断面写真図を図5に示す。得られた粒子(5)は、シェルにより囲われた中空が一つの中空領域からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(5)の体積平均粒子径は12.8μm、変動係数は34.0%であった。
得られた粒子(5)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は389.4℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
Example 5
Particles (5) were obtained in the same manner as in Example 2, except that the amount of the polycyclic aromatic hydrocarbon monomer having a polymerization reactive group (product name "Acenaphthylene", manufactured by JFE Chemical Corporation) used was changed to 2.50 g, the amount of divinylbenzene (DVB) 810 (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Corporation, 81% content, 19% is ethylvinylbenzene (EVB)) used was changed to 2.50 g, the amount of heptane used was changed to 5.00 g, and the amount of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) used was changed to 0.10 g.
When the obtained particles (5) were photographed with a scanning electron microscope (SEM), it was confirmed that the particle surface had no pores and was a spherical particle having an uneven surface.
A cross-sectional photograph of the obtained particle (5) is shown in Fig. 5. It was confirmed that the obtained particle (5) was a hollow resin particle having one hollow region surrounded by a shell.
The volume average particle size of the obtained particles (5) was 12.8 μm, and the coefficient of variation was 34.0%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (5) was 389.4°C when the temperature was increased at 10°C/min in a nitrogen atmosphere.
The blend amounts and various measurement results are shown in Table 1.

〔実施例6〕
懸濁液を作製する際に、ポリトロンホモジナイザー「PT10-35」に代えて、超音波ホモジナイザー(BRANSON社、SONIFIER450、条件:DutyCycle=50%、OutputControl=5、処理時間3分)を用いた以外は、実施例2と同様に行い、粒子(6)を得た。
得られた粒子(6)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(6)の断面写真図を図6に示す。得られた粒子(6)は、シェルにより囲われた中空が多孔質構造からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(6)の体積平均粒子径は3.4μm、変動係数は44.8%であった。
得られた粒子(6)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は385.4℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
[Example 6]
Except that an ultrasonic homogenizer (BRANSON, SONIFIER 450, conditions: Duty Cycle = 50%, Output Control = 5, processing time 3 minutes) was used in place of the Polytron homogenizer "PT10-35" when preparing the suspension. Particles (6) were obtained in the same manner as in Example 2.
When the obtained particles (6) were imaged using a scanning electron microscope (SEM), it was found that there were no pores on the particle surface and that the particles were smooth spherical particles.
A cross-sectional photographic diagram of the obtained particles (6) is shown in FIG. It was confirmed that the obtained particles (6) were hollow resin particles in which a hollow surrounded by a shell had a porous structure.
The volume average particle diameter of the obtained particles (6) was 3.4 μm, and the coefficient of variation was 44.8%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (6) when heated at a rate of 10°C/min in a nitrogen atmosphere was 385.4°C.
Table 1 shows the blending amount and various measurement results.

〔実施例7〕
重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素単量体(商品名「アセナフチレン」、JFEケミカル株式会社製)の使用量を2.00gに変更し、ジビニルベンゼン(DVB)810(日鉄ケミカル&マテリアル株式会社製、81%含有品、19%はエチルビニルベンゼン(EVB))の使用量を3.00gに変更し、ヘプタンの使用量を5.00gに変更し、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)の使用量を0.10gに変更した以外は、実施例6と同様に行い、粒子(7)を得た。
得られた粒子(7)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(7)の断面写真図を図7に示す。得られた粒子(7)は、シェルにより囲われた中空が一つの中空領域からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(7)の体積平均粒子径は4.3μm、変動係数は30.7%であった。
得られた粒子(7)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は380.2℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
Example 7
Particles (7) were obtained in the same manner as in Example 6, except that the amount of the polycyclic aromatic hydrocarbon monomer having a polymerization reactive group (product name "Acenaphthylene", manufactured by JFE Chemical Corporation) used was changed to 2.00 g, the amount of divinylbenzene (DVB) 810 (manufactured by Nippon Steel Chemical & Material Corporation, 81% content, 19% is ethylvinylbenzene (EVB)) used was changed to 3.00 g, the amount of heptane used was changed to 5.00 g, and the amount of 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) used was changed to 0.10 g.
When the obtained particles (7) were photographed with a scanning electron microscope (SEM), it was confirmed that the particle surface had no pores and was a smooth spherical particle.
A cross-sectional photograph of the obtained particle (7) is shown in Fig. 7. It was confirmed that the obtained particle (7) was a hollow resin particle having one hollow region surrounded by a shell.
The volume average particle size of the obtained particles (7) was 4.3 μm, and the variation coefficient was 30.7%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (7) was 380.2°C when the temperature was increased at 10°C/min in a nitrogen atmosphere.
The blend amounts and various measurement results are shown in Table 1.

〔実施例8〕
ヘプタン5.00gに代えて、シクロヘキサン2.50g、酢酸エチル2.50gを用いた以外は、実施例7と同様に行い、粒子(8)を得た。
得られた粒子(8)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(8)の断面写真図を図8に示す。得られた粒子(8)は、シェルにより囲われた中空が多孔質構造からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(8)の体積平均粒子径は3.3μm、変動係数は38.0%であった。
得られた粒子(8)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は384.5℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
[Example 8]
Particles (8) were obtained in the same manner as in Example 7, except that 2.50 g of cyclohexane and 2.50 g of ethyl acetate were used instead of 5.00 g of heptane.
When the obtained particle (8) was imaged with a scanning electron microscope (SEM), it was found that the particle surface had no pores and was a smooth spherical particle.
A cross-sectional photographic diagram of the obtained particles (8) is shown in FIG. It was confirmed that the obtained particles (8) were hollow resin particles in which a hollow surrounded by a shell had a porous structure.
The volume average particle diameter of the obtained particles (8) was 3.3 μm, and the coefficient of variation was 38.0%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (8) when heated at a rate of 10°C/min in a nitrogen atmosphere was 384.5°C.
Table 1 shows the blending amount and various measurement results.

〔実施例9〕
ヘプタン5.00gに代えて、シクロヘキサン3.75g、酢酸エチル1.25gを用いた以外は、実施例7と同様に行い、粒子(9)を得た。
得られた粒子(9)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(9)の断面写真図を図9に示す。得られた粒子(9)は、シェルにより囲われた中空が一つの中空領域からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(9)の体積平均粒子径は3.8μm、変動係数は42.1%であった。
得られた粒子(9)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は378.7℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
Example 9
Particles (9) were obtained in the same manner as in Example 7, except that 3.75 g of cyclohexane and 1.25 g of ethyl acetate were used instead of 5.00 g of heptane.
When the obtained particles (9) were photographed with a scanning electron microscope (SEM), it was confirmed that the particle surface had no pores and was a smooth spherical particle.
A cross-sectional photograph of the obtained particle (9) is shown in Fig. 9. It was confirmed that the obtained particle (9) was a hollow resin particle having one hollow region surrounded by a shell.
The volume average particle size of the obtained particles (9) was 3.8 μm, and the variation coefficient was 42.1%.
The 5% weight loss temperature of the obtained particles (9) was 378.7°C when the temperature was increased at 10°C/min in a nitrogen atmosphere.
The blend amounts and various measurement results are shown in Table 1.

〔比較例1〕
メタクリル酸メチル2.0g、エチレングリコールジメタクリレート2.0g、シクロヘキサン4.0g、酢酸エチル40g、重合開始剤としての2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)(商品名「V-65」、富士フィルム和光純薬株式会社製)0.067g、リン酸基を有するラジカル重合性モノマーとしての「KAYAMER(登録商標)PM-21」(日本化薬株式会社製)0.024gを混合し、油相を作製した。
水相としてのピロリン酸マグネシウム2重量%水分散液32gに油相を加え、ポリトロンホモジナイザー「PT10-35」(株式会社セントラル科学貿易製)を用いて、7000rpmにて5分間分散させて、懸濁液を作製した。得られた懸濁液を55℃で24時間加熱撹拌することによって、重合反応を完了させた。得られたスラリーに塩酸を加え、ピロリン酸マグネシウムを分解させた後、ろ過による脱水で固形分を分離し、水洗を繰り返すことで精製を行った後、加熱乾燥することで粒子(C1)を得た。
得られた粒子(C1)を走査型電子顕微鏡(SEM)で撮像したところ、粒子表面には孔が無く、平滑な球状粒子であることが認められた。
得られた粒子(C1)の断面写真図を図10に示す。得られた粒子(10)は、シェルにより囲われた中空が多孔質構造からなる中空樹脂粒子であることが確認できた。
得られた粒子(C1)の体積平均粒子径は7.6μm、変動係数は26.8%であった。
得られた粒子(C1)の、窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度は240.0℃であった。
配合量および各種測定結果などを表1に示す。
[Comparative example 1]
2.0 g of methyl methacrylate, 2.0 g of ethylene glycol dimethacrylate, 4.0 g of cyclohexane, 40 g of ethyl acetate, 2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) (trade name "V-") as a polymerization initiator. 65'' (manufactured by Fuji Film Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.067 g, and 0.024 g of "KAYAMER (registered trademark) PM-21" (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) as a radically polymerizable monomer having a phosphoric acid group were mixed. Then, an oil phase was prepared.
The oil phase was added to 32 g of a 2% by weight aqueous dispersion of magnesium pyrophosphate as the aqueous phase, and dispersed for 5 minutes at 7000 rpm using a Polytron homogenizer "PT10-35" (manufactured by Central Kagaku Boeki Co., Ltd.) to suspend the water. A liquid was prepared. The resulting suspension was heated and stirred at 55° C. for 24 hours to complete the polymerization reaction. Hydrochloric acid was added to the resulting slurry to decompose magnesium pyrophosphate, the solid content was separated by dehydration by filtration, purified by repeated washing with water, and then heated and dried to obtain particles (C1). Ta.
When the obtained particles (C1) were imaged with a scanning electron microscope (SEM), it was found that there were no pores on the particle surface and that the particles were smooth spherical particles.
A cross-sectional photographic diagram of the obtained particles (C1) is shown in FIG. It was confirmed that the obtained particles (10) were hollow resin particles in which a hollow surrounded by a shell had a porous structure.
The volume average particle diameter of the obtained particles (C1) was 7.6 μm, and the coefficient of variation was 26.8%.
The obtained particles (C1) had a 5% weight loss temperature of 240.0°C when heated at a rate of 10°C/min in a nitrogen atmosphere.
Table 1 shows the blending amount and various measurement results.

≪性能評価:比誘電率・誘電正接評価≫
実施例、比較例にて得られた粒子0.425gと、酢酸エチル8.3gと、溶剤可溶型ポリイミドKPI-MX300F(河村産業株式会社製)1.7gを、遊星撹拌脱泡機(KURABO株式会社製、「マゼルスターKK-250」)を用いて脱泡撹拌し、評価用混合物を作製した。
評価用混合物を厚み5mmのガラス板にウエット厚250μmに設定したアプリケーターを用いて塗工した後、60℃で30分、90℃にて10分、150℃にて30分、200℃にて30分加熱することで酢酸エチルを除去した後、室温下まで冷却することで、各粒子を含むフィルムサンプルを得た。得られたフィルムの比誘電率・誘電正接評価を空洞共振法(測定周波数:5.8GHz)にて実施した。測定結果は粒子を含まないフィルムの測定値を100%にした相対割合(%)とした。結果を表2に示す。
≪Performance evaluation: Relative permittivity and dielectric loss tangent evaluation≫
0.425 g of particles obtained in Examples and Comparative Examples, 8.3 g of ethyl acetate, and 1.7 g of solvent-soluble polyimide KPI-MX300F (manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd.) were placed in a planetary stirring deaerator (KURABO). A mixture for evaluation was prepared by defoaming and stirring using a Mazerstar KK-250 (manufactured by Co., Ltd.).
After applying the evaluation mixture to a glass plate with a thickness of 5 mm using an applicator set to a wet thickness of 250 μm, the mixture was applied at 60°C for 30 minutes, at 90°C for 10 minutes, at 150°C for 30 minutes, and at 200°C for 30 minutes. After removing ethyl acetate by heating for minutes, a film sample containing each particle was obtained by cooling to room temperature. The dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained film were evaluated using the cavity resonance method (measurement frequency: 5.8 GHz). The measurement results were expressed as relative proportions (%) with the measured value of the film containing no particles taken as 100%. The results are shown in Table 2.

表2の結果から、本発明によって提供される中空樹脂粒子は、基材の比誘電率・誘電正接を下げる効果を有することが確認でき、半導体材料の低誘電率化、低誘電正接化を図る目的に対して有効であることがわかる。 The results in Table 2 confirm that the hollow resin particles provided by the present invention have the effect of lowering the relative dielectric constant and dielectric loss tangent of the substrate, and are therefore effective in reducing the dielectric constant and dielectric loss tangent of semiconductor materials.

≪フィルムの断面観察≫
比誘電率および誘電正接評価で使用した各粒子を含むフィルムの断面サンプルを、断面作製装置「IB-19500CP」(日本電子株式会社製)によるクロスセクションポリッシャ法にて作製し、株式会社日立ハイテクノロジーズ製「S-3400N」走査電子顕微鏡を用いて断面写真図を撮像し、断面観察した。
断面写真図において、白色部分はポリイミドを意味し、白色部分内に観察できる球状物質は中空樹脂粒子を意味している。また、中空樹脂粒子内部の黒色箇所は空気層を示している。
図11は、実施例8で得られた粒子(8)を用いて製造したフィルムの断面写真図である。図11のように、中空樹脂粒子内部が黒色で観察された場合は、ポリイミドフィルム内において、中空樹脂粒子の空隙維持ができていること、すなわち、樹脂(ポリイミド)が中空樹脂粒子内部に侵入していないことを意味している。
≪Cross-sectional observation of film≫
A cross-sectional sample of the film containing each particle used in the dielectric constant and dielectric loss tangent evaluation was prepared using the cross-section polisher method using a cross-section preparation device "IB-19500CP" (manufactured by JEOL Ltd.), and was manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. A cross-sectional photograph was taken using a scanning electron microscope "S-3400N" manufactured by Kabushiki Kaisha, Ltd., and the cross-section was observed.
In the cross-sectional photograph, the white part means polyimide, and the spherical substance that can be observed within the white part means hollow resin particles. Further, the black portion inside the hollow resin particle indicates an air layer.
FIG. 11 is a cross-sectional photographic diagram of a film produced using particles (8) obtained in Example 8. If the inside of the hollow resin particle is observed to be black as shown in Figure 11, it means that the voids of the hollow resin particle are maintained within the polyimide film, that is, the resin (polyimide) has not penetrated into the inside of the hollow resin particle. It means not.

本発明の実施形態による中空樹脂粒子、本発明の実施形態による製造方法により得られる中空樹脂粒子は、半導体材料などに利用可能である。本発明の実施形態による中空樹脂粒子、本発明の実施形態による製造方法により得られる中空樹脂粒子は、例えば、半導体部材用樹脂組成物の用途に適用し得る。
The hollow resin particles according to the embodiments of the present invention and the hollow resin particles obtained by the manufacturing method according to the embodiments of the present invention can be used for semiconductor materials and the like. The hollow resin particles according to the embodiments of the present invention and the hollow resin particles obtained by the manufacturing method according to the embodiments of the present invention can be applied, for example, to resin compositions for semiconductor members.

Claims (13)

シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子であって、
該シェル部が、多環芳香族系炭化水素構造単位を有するポリマー(P)を含む、
中空樹脂粒子。
A hollow resin particle having a shell part and a hollow part surrounded by the shell part,
The shell portion contains a polymer (P) having a polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit,
Hollow resin particles.
前記多環芳香族系炭化水素構造単位が、式(1)により表される構造単位である、請求項1に記載の中空樹脂粒子。
The hollow resin particle according to claim 1, wherein the polycyclic aromatic hydrocarbon structural unit is a structural unit represented by formula (1).
前記ポリマー(P)が、重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素であるモノマー(A)と該モノマー(A)と反応するモノマー(M)の反応によって得られるポリマーである、請求項1に記載の中空樹脂粒子。 A claim in which the polymer (P) is a polymer obtained by a reaction between a monomer (A) that is a polycyclic aromatic hydrocarbon having a polymerization-reactive group and a monomer (M) that reacts with the monomer (A). 1. The hollow resin particles according to 1. 前記モノマー(A)と前記モノマー(M)の比率が、該モノマー(A)と該モノマー(M)の合計量を100重量部とした場合、重量部比(モノマー(A):モノマー(M))で、(30重量部~70重量部):(70重量部~30重量部)である、請求項3に記載の中空樹脂粒子。 The ratio of the monomer (A) and the monomer (M) is based on the weight part ratio (monomer (A):monomer (M)) when the total amount of the monomer (A) and the monomer (M) is 100 parts by weight. ) and (30 parts by weight to 70 parts by weight): (70 parts by weight to 30 parts by weight), the hollow resin particles according to claim 3. 前記モノマー(A)がアセナフチレンである、請求項3に記載の中空樹脂粒子。 The hollow resin particles according to claim 3, wherein the monomer (A) is acenaphthylene. 前記モノマー(M)がリン酸エステル構造とラジカル反応性基を有する化合物(B)を含む、請求項3に記載の中空樹脂粒子。 The hollow resin particle according to claim 3, wherein the monomer (M) contains a compound (B) having a phosphate ester structure and a radically reactive group. 体積平均粒子径が0.1μm~100μmである、請求項1に記載の中空樹脂粒子。 The hollow resin particles according to claim 1, having a volume average particle diameter of 0.1 μm to 100 μm. 前記体積平均粒子径が0.1μm~10μmである、請求項7に記載の中空樹脂粒子。 The hollow resin particles according to claim 7, wherein the volume average particle diameter is 0.1 μm to 10 μm. 前記中空部分が1つの中空領域からなる、請求項1に記載の中空樹脂粒子。 The hollow resin particle according to claim 1, wherein the hollow portion consists of one hollow region. 前記中空部分が複数の中空領域からなる、請求項1に記載の中空樹脂粒子。 The hollow resin particle according to claim 1, wherein the hollow portion consists of a plurality of hollow regions. 前記中空樹脂粒子を窒素雰囲気下において10℃/分で昇温した際の5%重量減少温度が300℃以上である、請求項1に記載の中空樹脂粒子。 The hollow resin particles according to claim 1, wherein the 5% weight loss temperature when the hollow resin particles are heated at a rate of 10°C/min in a nitrogen atmosphere is 300°C or higher. 半導体部材用樹脂組成物に用いる、請求項1に記載の中空樹脂粒子。 The hollow resin particles according to claim 1, which are used in a resin composition for semiconductor members. シェル部と該シェル部により囲われた中空部分を有する中空樹脂粒子の製造方法であって、
重合反応性基を有する多環芳香族系炭化水素であるモノマー(A)30重量部~70重量部と該モノマー(A)と反応するモノマー(M)70重量部~30重量部(モノマー(A)とモノマー(M)の合計量を100重量部とする)を、非反応性溶剤の存在下、水系媒体中で反応させ、
該モノマー(M)がリン酸エステル構造とラジカル反応性基を有する化合物(B)を含む、
中空樹脂粒子の製造方法。
A method for producing hollow resin particles having a shell portion and a hollow portion surrounded by the shell portion, the method comprising:
30 to 70 parts by weight of a monomer (A) that is a polycyclic aromatic hydrocarbon having a polymerization-reactive group and 70 to 30 parts by weight of a monomer (M) that reacts with the monomer (A) ) and monomer (M) (total amount of 100 parts by weight) are reacted in an aqueous medium in the presence of a non-reactive solvent,
The monomer (M) contains a compound (B) having a phosphate ester structure and a radically reactive group,
Method for manufacturing hollow resin particles.
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