JP2024037711A - タンクに適したシール膜を洗浄するための方法および対応する装置 - Google Patents

Abstract

【課題】液化ガスを収容することが意図されたタンクに適したシール膜を洗浄するための方法を提供する。【解決手段】移動装置と移動装置に装着された洗浄部材とを使用して、液化ガスを収容することが意図されたタンクに適したシール膜を洗浄するための方法であって、シール膜を所定経路に沿って洗浄するステップ５００を備え、洗浄ステップは、移動装置および／または移動装置における洗浄部材の設定を変更するサブステップを備え、また、所定経路を被洗浄ゾーンに分解した内訳を記憶する事前ステップ４００を備え、洗浄ステップは、被洗浄ゾーンに対して連続的に実施され、設定変更サブステップ５０２は、被洗浄ゾーンとは別個の被洗浄ゾーンの洗浄に各々対応する２つの洗浄シーケンスの間に実施される、シール膜を洗浄するための方法に関する。【選択図】図６

Description

本発明は、液化天然ガス（ＬＮＧ）等の液化ガス用、特に海上輸送用または河川輸送用のタンク、または陸上タンクの分野に関する。より具体的には、本発明は、このようなタンクに適したシール膜を洗浄するための方法、および関連する洗浄装置に関する。

液化ガス輸送タンクは、液化ガスの数千立方メートルまたは液化ガスの数万立方メートルの容量を各々有する。液化ガス輸送船は、これらのタンクを収容するように特別に構成されたシムを有し、それらのくさびは、多くの場合複数のタンクに仕切られている。このようなタンクは、液化天然ガスを地上で貯蔵するように船外で製造され得る。ガスは、ＬＮＧの場合、例えば大気圧では－１６３℃（摂氏度）で液体状態に保持される。したがって、ガスはシールされて熱的に遮断される必要がある。このため、このようなタンクの内面は、一般に互いに溶接された金属製（典型的にはステンレス鋼製）のシールプレートのアセンブリから構成されたシール膜で被覆されている。各シールプレートは、タンクのシール膜の一部である。

これらの金属プレートを互いに溶接するために、溶接機械が使用される。オペレータは、ガイドレールを使用して、互いに隣り合って対として配置されたこれらのシールプレートの縁部をフォローする必要がある（重ね溶接）。オペレータは、溶接トーチが装備された機械上でプログラムを開始する。溶接トーチは、機械に装着された位置センサを使用してトーチと被溶接部との間の距離を絶えず調節しつつ、シールプレートの縁部をこれらの縁部に沿って延びるように溶接する。

この作業の後に溶接ビードの洗浄が続く。これは、溶接作業によりシールプレートの縁部に金属酸化物が生じることにより、膜の完全性が最終的に損なわれ得る（腐食）ためである。洗浄作業は、位置センサとレーザ洗浄ヘッドとが装備された機械を使用する。この機械は、同一のガイドレールを使用して、溶接機械によって生じた溶接ビードを前進しながら洗浄する。位置センサにより、機械がレール上を前進しながら、レーザ洗浄ヘッドを位置決めすることができる。

この洗浄作業は、実施に非常に時間がかかる。シール膜の浮き上がりを考慮しなければならないため、機械は被洗浄シールプレートの縁部に沿って静かに移動する。レーザ洗浄ヘッドの正しい位置決めには時間がかかり、洗浄作業が遅くなる。洗浄の質にも影響が及ぶ。

したがって、液化ガス輸送タンクのシール膜を洗浄するための作業の質および実施時間を改善する必要がある。

本発明は、シール膜の洗浄を容易にするシール膜を洗浄するための方法およびシール膜を洗浄するための装置を提供することにより、従来技術の欠点を少なくとも部分的に改善する。

この目的のために、本発明は、移動装置と前記移動装置に装着された少なくとも１つの洗浄部材とを使用して、液化ガスを収容することが意図されたタンクに適したシール膜を洗浄するための方法であって、前記方法は、前記移動装置の所定経路に沿って前記シール膜を前記洗浄部材により洗浄するステップを備え、前記洗浄ステップは、前記移動装置および／または前記移動装置における前記洗浄部材の前記設定を変更する少なくとも１つのサブステップを備え、
前記方法は、前記所定経路を被洗浄ゾーンに分解した内訳を記憶して、前記シール膜に対する前記移動装置の第１通過工程の間における前記シール膜の非連続的な洗浄に対応する順序で前記被洗浄ゾーンを順序付ける事前ステップを備え、複数の通過工程が、前記所定経路において前記シール膜全体を洗浄するために必要であり、前記洗浄のステップは、前記被洗浄ゾーンに対して連続的に実施され、前記設定を変更する少なくとも１つの前記サブステップは、前記被洗浄ゾーンとは別個の被洗浄ゾーンの前記洗浄に各々対応する２つの洗浄シーケンスの間に実施される、
ことを特徴とするシール膜を洗浄するための方法を提案する。

「非連続的な洗浄」とは、この非連続的な洗浄に対応する順序に従って被洗浄ゾーンを連続的に洗浄する間に、この非連続的な洗浄の間に互いに続く被洗浄ゾーンが、必ずしもシール膜の隣り合うゾーン、したがって互いに接触するゾーンに対応しないということを意味すると理解される。

所定経路を被洗浄ゾーンに分解した内訳の事前記憶ステップにより、移動装置および／または洗浄部材の設定をこれらの被洗浄ゾーンに応じて適合させることが可能となる。したがって、本発明による洗浄方法を実施する洗浄装置において、洗浄に必要な設定変更は、前以てプログラミングされ得る。したがって、洗浄装置は、移動装置が所定経路上で前進する毎に、設定変更が必要かどうかを確認する必要がない。これにより、先行技術に比較して実行速度を上昇させることができる。

所定経路の被洗浄ゾーンへの分解を実施するために、所定経路上のシール膜のプロファイルに関する予備知識が必要な場合がある。したがって、所定経路の分解は、洗浄方法の前に、リモートサーバで、シール膜の予め記録されたテンプレート、またはシール膜に対して手動でなされた測定を利用して実施される。あるいは、洗浄装置に例えばシール膜の表面形状測定手段が設けられている場合には、分解は、洗浄装置それ自体により実施される。

所定経路を被洗浄ゾーンに分解することにより、連続的な洗浄処理が可能とされる。各洗浄シーケンスは、好ましくは、移動装置および／または洗浄部材の設定の変更が必要ない被洗浄ゾーンに対応する。設定を変更するこのようなサブステップは、各洗浄シーケンス間でのみ実施される。

したがって、被洗浄ゾーンは、シール膜の洗浄時間を最短にし得る処理順序に従って順序付けられ得る。この順序は、シール膜上における移動装置の第１通過工程の間におけるシール膜の非連続的な洗浄に対応し得る。複数の通過工程が、所定経路に亘ってシール膜全体を洗浄するために必要である。

本発明による洗浄方法の有利な特徴によれば、前記分解の内訳を記憶する前記事前ステップに先行して、前記所定経路を備える前記シール膜の少なくとも一部のプロファイルを生成するステップが実施され、前記分解の内訳は、このようにして生成された前記プロファイルの関数である。シール膜のプロファイル生成を利用して分解を実施することにより、被洗浄ゾーンの正確な位置決めが保証される。

また、プロファイル生成ステップにより、または、シール膜プロファイルをより正確に考慮した分解により、洗浄ステップは、洗浄部材とシール膜との間の距離を決定すること、および膜に対する洗浄部材の位置を決定することを目的とする位置センサを、洗浄ステップが選択的に例えば所定経路に沿った洗浄部材の位置を確認するための他のセンサを使用する場合であっても、使用しない。

本発明による洗浄方法の有利な特徴によれば、前記シール膜の少なくとも前記一部の前記プロファイルを生成する前記ステップに続いて、前記所定経路を決定するステップが実施される。したがって、プロファイル生成ステップにより、被洗浄シール膜の一部を精緻化することができる。

本発明による洗浄方法の一実施形態において、プロファイルを生成する前記事前ステップに先行して、移動支持体に配置された位置センサを前記シール膜の上方で通過させるステップが実施され、
前記ステップの間に、
‐前記位置センサの基準点と前記シール膜の一部の少なくとも１つの点との間の距離を決定するサブステップと、
‐決定された前記距離を記録するサブステップと、
‐前記移動支持体を移動させるサブステップと、
が繰り返され、
前記プロファイルを生成する前記事前ステップは、前記記録サブステップの間に記録された前記距離を利用して前記プロファイルを生成する。

位置センサが光学センサである場合、距離を決定するサブステップは、
‐初期光学信号をシール膜の表面の点に送信するサブステップと、
‐初期光学信号に対応する戻り光学信号を受信するサブステップと、
‐位置センサの基準点とシール膜の表面の点との間の距離を、初期光学信号および戻り光学信号の関数として決定するサブステップと、
を備える。

移動装置は、好ましくは移動支持体でもあるため、位置センサおよび洗浄部材の両方を備えている。しかしながら、洗浄ステップの間に、位置センサは使用されない。洗浄装置は、選択的に、移動装置が移動するレール、および／またはリモートサーバを備える。

生成されたプロファイルは、例えば、シール膜の一部の主延在平面に直交する平面における、シール膜の一部の少なくとも二次元プロファイルである。

本発明による洗浄方法の一実施形態において、前記所定経路は、前記シール膜の第１シールプレートの縁部に沿っており、前記シール膜の第２シールプレートの縁部が、第１シールプレートの前記縁部に溶接されており、前記被洗浄ゾーンは、前記第１シールプレートの前記縁部と前記第２シールプレートの前記縁部とを接合する少なくとも１つの溶接ビードを覆う。

シールプレートの縁部において、シールプレートの周縁ゾーンを備える必要がある。より具体的には、シールプレートの縁部は、他方のシールプレートの一部分上に配置される（この部分はプレートの縁部と称され得るが、その後必ずしもプレートの周縁になくてもよい）。特にここでは、第２シールプレートは、第１シールプレートの下方において、この第２プレートの縁部を備えるこの第２プレートの一部分に配置される。

本発明による洗浄方法の本実施形態において、移動支持体は、例えば、シール膜に固定されたレール上に、第１シールプレートの縁部および第２シールプレートの縁部に沿って装着される。シール膜がタンクの変形を補助するための手段を備え、これらの起伏部がシール膜上でグリッドを形成する場合、レールは、例えば、グリッドの少なくとも２つのノードに堅固に接続する。シール膜のシールプレートの縁部とレールとの間の距離は、実質的に一定、すなわち＋／－３ミリメートル以内で一定である。

位置センサがスキャンレーザセンサである場合、距離を決定するサブステップは、移動支持体の同一位置に対する複数の距離を決定するサブステップに対応する。そして、生成ステップは、シール膜の一部の三次元プロファイルを作製する。シール膜の一部が互いに接触して配置されたシールプレートの２つの縁部を備える場合、この三次元プロファイルは、したがって、このシール膜の一部の各シールプレート縁部のプロファイルを含む。

本発明による洗浄方法の有利な特徴によれば、前記設定を変更する前記サブステップは、前記移動装置および／または前記洗浄部材の移動を生成し、前記設定を変更する前記サブステップの間、前記洗浄は中断される。換言すれば、設定を変更するサブステップは、移動装置および／または洗浄部材からの「ブランク」移動、すなわち洗浄を伴わない移動に対応する。したがって、移動装置または洗浄部材の移動は、移動装置または洗浄部材が被洗浄ゾーンを洗浄しつつ移動しなければならない場合に比較して、はるかに速い速度で行われる。

本発明による洗浄方法の一実施形態において、前記設定を変更する前記サブステップは、前記シール膜に対する前記洗浄部材の高さ、および／または前記シール膜の主延在平面に対して直交する軸に対する前記洗浄部材の角度、および／または前記所定経路に沿って前記移動装置の位置を変更するステップを備える。

したがって、設定を変更するサブステップにより、洗浄部材を、それが被洗浄ゾーンを完璧に洗浄できるように位置決めすることが可能となる。特に、洗浄部材がレーザ洗浄ヘッドである場合、レーザ洗浄ヘッドは、設定を変更するサブステップの間に、レーザ洗浄ヘッドが投射するレーザビームの衝突点が、設定を変更するこのサブステップの直後に続く洗浄シーケンスに対応して被洗浄ゾーン全体を清掃できるように位置決めされる。

本発明による洗浄方法の一実施形態において、前記シール膜は、前記シール膜上でグリッドを形成する起伏部を備え、各起伏部は、前記被洗浄ゾーンからの少なくとも１つの独立した被洗浄ゾーンで各々覆われる２つの傾斜部を備え、前記洗浄のステップは、前記所定経路に沿う第１通過工程に従って、かつ前記第１通過工程に対して前記反対方向における第２通過工程に従って実施され、前記第１通過工程の間に、各起伏部は、前記起伏部の傾斜部を覆う単数または複数の前記被洗浄ゾーンのみにおいて洗浄され、前記第２通過工程の間に、前記起伏部は、その他方の傾斜部を覆う単数または複数の前記被洗浄ゾーンのみにおいて洗浄される。傾斜部の各々を覆う被洗浄ゾーンは、当然ながら、起伏底部または起伏頂点部を備え得る。

所定経路に沿った２つの通過工程における洗浄により、通過工程の各々において洗浄部材を小さい回転角度で回転させるだけでよいことにより、実行速度が上昇し得る。実際に、洗浄部材は、例えばその通過工程方向において上向きの傾斜部の方向にのみ配向されるため、その回転は、２つの通過工程の各々において９０°未満である。

本発明による洗浄方法の一実施形態において、前記第１通過工程の間に、前記所定経路上の２つの起伏部の間に含まれる前記シール膜の平坦ゾーンの第１半体が洗浄され、前記第２通過工程の間に、前記平坦ゾーンの第２半体が洗浄される。したがって、洗浄部材がレーザ洗浄ヘッドである場合、レーザ洗浄ヘッドは、移動装置におけるその配向を変更することなく、レーザ清掃のみを使用して、平坦ゾーンの半体の各々の汚れを落とすことができる。この平坦ゾーンの長さに応じて、被洗浄ゾーンは、当然ながら、例えば所定経路におけるシール膜の一部の全体の洗浄の実行速度を最適化するように適合される。代替的に、平坦ゾーンは、同一または異なる長さを有する３つまたは４つの部分に分割され、これらの部分のうちの１つ以上が、第１通過工程または第２通過工程の間に洗浄される。

本発明による洗浄方法の一実施形態において、前記所定経路上の波面は、前記経路上の前記傾斜部の底部を覆う被洗浄ゾーンに、および前記傾斜部の頂点部を覆う被洗浄ゾーンに少なくとも関連付けられる。この分解により、洗浄部材を、これが傾斜部の底部または傾斜部の最上部の曲率半径に対して実質的に直交するように配向することができる。したがって、これらの被洗浄ゾーンに対する洗浄は、より効果的になる。

本発明による洗浄方法の一実施形態において、前記被洗浄ゾーンは、部分的に重なり合う。これにより、膜が所定経路に沿って非連続的になることなく洗浄されることが保証される。

また、本発明は、移動装置と前記移動装置に装着された洗浄部材とを備える、液化ガスを収容することが意図されたタンクに適したシール膜を洗浄するための装置であって、前記洗浄装置は、前記移動装置および／または前記移動装置における前記洗浄部材の前記設定を変更するための手段を備え、
前記洗浄装置は、前記シール膜に対する前記移動装置の所定経路を被洗浄ゾーンに分解した内訳を記憶して、前記シール膜に対する前記移動装置の第１通過工程の間における前記シール膜の非連続的な洗浄に対応する順序に従って被洗浄ゾーンを順序付ける手段を備え、複数の通過工程が、前記所定経路において前記シール膜全体を洗浄するために必要であり、前記分解した内訳は、各被洗浄ゾーンに対する別個の洗浄シーケンスを規定し、したがって、２つの洗浄シーケンスの間に前記設定変更手段を起動する手段が規定される、ことを特徴とする洗浄装置に関する。

本発明による洗浄方法の一実施形態において、前記設定変更手段は、前記変更手段により起動されたときに、前記移動装置および／または前記洗浄部材を移動させるが、前記移動の間に前記シール膜を洗浄しないように構成される。

本発明による洗浄装置は、本発明による洗浄方法と同様の利点を有する。

本発明の他の特徴および利点は、以下に続く説明および添付の概略図面を参照して例示の目的とした非限定的ないくつかの例示的な実施形態の両者から明らかになるであろう。

図１は、本発明の実施形態において、位置センサをシール膜の上方で通過させるステップの間に使用される、少なくとも１つのシール膜の一部のプロファイルを生成するための装置を示す。 図２は、本発明の一実施形態において使用される、少なくとも１つのシール膜の一部のプロファイルを生成するための方法のステップを示す。 図３は、本発明の一実施形態においてシール膜を洗浄するステップを実施する、本発明によるシール膜の洗浄装置を示す。 図４は、図３の洗浄装置のレーザビームの衝突ゾーンを示す。 図５は、反射モジュールを備える、図４の洗浄装置のレーザビーム洗浄ヘッドを示す。 図６は、本発明の一実施形態における、本発明によるシール膜を洗浄するための方法のステップを示す。 図７は、図５の洗浄方法の洗浄ステップにおいて実施される、シール膜の起伏部の洗浄を示す。 図８は、図５の洗浄方法により実施されるシール膜を洗浄するステップを示す。

本発明による洗浄方法の一実施形態によれば、洗浄方法の洗浄ステップを実施する前に、図１に示すプロファイル生成装置１を使用して、液化ガスを収容することが意図されたタンクに適合するシール膜２の一部のプロファイルを生成する。本発明の本実施形態におけるこのシール膜２は、１．２ミリメートル厚さの金属プレートから構成されている。したがって、シール膜２は、一体に溶接された複数の金属シールプレートからなる。

タンクは、典型的には、輸送船の内部シェルにより区画され、数千立方メートルの液化ガス、または数万立方メートルの液化ガスの容量を有している。シール膜２は、このような輸送船のタンクの内面全体を覆う。特に熱変動や航行状態によるタンクの変形を補償するため、シール膜２は、シール膜２の表面で交差するリブまたは起伏部２４を備えている。したがって、長手方向Ｌおよび長手方向Ｌに対して直交する横方向Ｔに対して平行な平面で横から見て、シール膜は、平坦ゾーン２２と起伏部２４とを備えている。

プロファイル生成装置１は、装置の基準点を膜上の衝突点から隔てる距離を測定する位置センサ１２を設けられた移動支持体１１を備えている。ここで、位置センサ１２は、クラス２のレーザ距離センサであり、３００～６００Ｈｚ（ヘルツ）の測定周波数を有する。代替的に、位置センサ１２は、ＬＶＤＴ（線形可変差動変圧器）タイプのセンサであってもよい。

本発明の本実施形態において、移動支持体１１は、シール膜２の表面から約１０センチメートル上方に配置されたレール３に、シール膜２のシールプレート２‐１の縁部に対して装着されている。実際に、本発明の本実施形態において、シール膜２のシールプレート２‐１の縁部のプロファイルが生成される。

レール３は、長手方向Ｌにおいて配置されたシールプレート２‐１のこの縁部に沿っている。シールプレート２‐１の縁部とレール３との間の距離は、数センチメートル以内で一定である。レールは、潜在的に数十メートル、例えば３０メートルの長さを有し、選択的に複数のピースから構成されている。レール３は、例えばシール膜２の起伏部により形成されたグリッドのノードに取り付けられたクランプ４により保持されている。

シールプレート２‐１の縁部のプロファイルを生成するための方法は、生成装置１によるソフトウェアおよび／またはハードウェアで実施され、図２に示されている。

プロファイルを生成するための方法の第１ステップ１００は、位置センサ１２をシールプレート２‐１の縁部の上方で通過させるステップである。

位置センサを通過させるステップ１００は、位置センサ１２の基準点とシールプレート２‐１の表面における点との間の距離ｄを決定する第１サブステップ１０２を備えている。シールプレート２‐１の表面における点は、位置センサ１２に対して垂直である。実際に、本発明の本実施形態において、位置センサ１２は、位置センサ１２に対する鉛直方向Ｖにおいて測定を実施する。鉛直方向Ｖは、長手方向Ｌおよび横方向Ｔに対して直交する。この決定サブステップ１０２において、生成装置１は、位置センサ１２に記録された測定値を読み取る。実際に、生成装置１は、位置センサ１２の入力および出力とインターフェース接続するソフトウェアを備えている。したがって、サブステップ１０２それ自体は、本発明の本実施形態において、位置センサ１２が実施するサブステップを備えている。これらは、
‐初期光学信号をシールプレート２‐１の縁部の表面における点に送信するサブステップ１０２２であって、この初期光学信号は例えばレーザであるサブステップ１０２２、
‐初期光学信号に対応する戻り光学信号を受信するサブステップ１０２４であって、当該戻り光学信号は、例えばシールプレート２‐１の表面に最初に送信されたレーザパルスの反射であるサブステップ１０２４、および
‐位置センサ１２の基準点とシールプレート２‐１の縁部の表面における点との間の距離ｄを、初期光学信号および戻り光学信号の関数として測定するサブステップ１０２６であって、この測定は、典型的にはレーザパルスの送信と反射したレーザパルスの受信との間の時間を利用するサブステップ１０２６、
である。

代替的に、他のタイプのセンサ、例えば、光学式赤外線センサまたは静電容量式センサを使用することができる。

位置センサ１２を通過させる第１ステップ１００の後続のサブステップ１０４は、サブステップ１０２で決定した距離ｄを、生成装置１のメモリに記録するステップである。

最後に、位置センサ１２を通過させる第１ステップ１００の最終サブステップ１０６は、移動支持体１１を移動させるステップである。このために、生成装置１は、移動支持体１１のアクチュエータとインターフェース接続するソフトウェアを備えている。移動支持体１１の移動速度とレーザビームのパルス周波数との組み合わせにより、移動ステップ、例えば、１０分の１ミリメートルの移動ステップがもたらされる。移動支持体の移動速度は、本発明の本実施形態において、１００～２００ｍｍ／ｓ（毎秒ミリメートル）である。

位置センサ１２を通過させる第１ステップ１００のサブステップ１０２～１０６は、移動支持体１１がレール３の終点に到達する、または停止命令または指示があるまで繰り返される。

レールの終点に到達したことが、生成装置１により、例えばレール３上のストッパの検出により、または生成装置１において予め定められプログラミングされたレール３上での走行距離の検出により検出されると、生成装置１は、シールプレート２‐１の縁部のプロファイルを、記録サブステップ１０４の間に記録した距離の関数として生成するステップ２００を実施する。生成ステップ２００は、リモートサーバを含み得る生成装置１のソフトウェアモジュールで実行される。

この生成ステップ２００の間に、本発明の本実施形態において、生成装置１は、シール膜２の主延在平面に対して直交する平面、すなわち鉛直方向Ｖおよび長手方向Ｌに対して平行な平面に配置された基準フレームにおける点の形態において、シールプレート２‐１の縁部のプロファイルを生成する。したがって、生成されたプロファイルは、少なくとも２つの寸法、すなわち、レール３上の移動支持体１１の位置に対応する一方の寸法と、移動支持体１１がレール３上の当該位置にある際に生成装置１がサブステップ１０２の間に決定した距離ｄに対応する他方の寸法と、を有するプロファイルである。

生成されたプロファイルの用途に応じて、生成装置１は、サブステップ１０４の間に記録された距離ｄをフィルタリングする。そして、生成されたプロファイルは、例えば平坦ゾーン２２の境界で記録された距離ｄ、およびシール膜２の起伏部２４の頂点部に対応する特定の点のみを備える。

本発明の変形実施形態において、位置センサ１２はスキャンレーザセンサである。スキャンレーザセンサは、レール３上の位置センサ１２の同一位置について、位置センサ１２と、横方向Ｔに対して平行なセグメントに配置されたシール膜２の表面上のいくつかの異なる点との間の距離の測定を実施する。これらの距離は、位置センサ１２を通過する横方向Ｔおよび鉛直方向Ｖに対して平行な鉛直平面において測定される。この代替実施形態において、生成装置１は、各サブステップ１０２において、移動支持体１１の同一位置に対する距離ベクトルを決定し、このベクトルをサブステップ１０４の間に記録する。したがって、この代替実施形態において、ステップ２００で生成されるプロファイルは、シールプレート２‐１の縁部の三次元プロファイルである。

第１シールプレート２‐１の縁部が第２シールプレート２‐２の縁部に配置されている（図４に示す）、例えば、この他方の縁部に溶接されている場合、この別の代替実施形態で生成される三次元プロファイルは、例えば、第１シールプレート２‐１の縁部および第２シールプレート２‐２の縁部のプロファイルである。

本発明の別の代替実施形態において、移動支持体１１は、レール３上に配置されておらず、移動支持体１１がその経路で遭遇する障害物に応じた所定のまたは適応的な経路に従って、シール膜２の表面に対して直接的に移動することにより、シール膜２の少なくとも一部を通過して走行する。

次に、本発明による洗浄方法をハードウェアおよび／またはソフトウェアで実施する、図３に示す洗浄装置５について説明する。洗浄装置５は、本発明の本実施形態において、第１シールプレート２‐１の縁部と第２シールプレート２‐２の縁部との間の溶接ビード２６を洗浄するために使用される。

洗浄装置５は、シールプレート２‐１の縁部に沿うレール３と、生成装置１の移動支持体１１からなる移動装置と、を備えている。したがって、移動装置は、位置センサ１２（図３で示さず）およびレーザ洗浄ヘッド５２の両方を備えている。洗浄装置５は、選択的にリモートサーバも備えている。本発明による本実施形態において、プロファイル生成装置１と洗浄装置５とは、組み合わされている。一変形例において、異なる装置が、プロファイルの生成および洗浄のために使用され得る。

有利には、洗浄装置５は、吸引ノズルをさらに備え得る。これにより、シール膜２の洗浄中に除去された酸化物や不純物の塵を吸引することができる。

代替実施形態において、洗浄装置５は、プロファイル生成装置１の移動支持体１１とは別個の移動装置を備える。

レーザ洗浄ヘッド５２は、移動支持体１１上で傾動可能であるため、レーザビーム６を、シール膜２の表面の法線２５に対しておよそ数度の入射角２７において投射することができる。これにより、レーザ洗浄ヘッド５２が投射したレーザビーム６が反射して入射ビームが戻ってくることによりヘッドがダメージを受けることが防止される。実際に、レーザ洗浄ヘッド５２は、好適には出力が２０Ｗ～２００Ｗに含まれるクラス４（ＩＥＣ６０８２５－１規格による）のレーザビーム６を投射し、好適には１００ｋＨｚ～２００ｋＨｚの周波数のパルスを発するとともに、１０６４ｎｍのレーザビームを生成する。レーザビーム６のこのような特性により、溶接ビード２６上に形成された不純物層または酸化層２８を洗浄することができる。

移動支持体１１は、レーザ洗浄ヘッド５２と一体の回転シャフト５１を回転させ得る電気モータ５３を備えている。したがって、レーザ洗浄ヘッド５２は、移動支持体１１に対して回転移動可能である。これにより、シール膜２の表面の法線２５に対するレーザビーム６の入射角２７を変更することができる。

したがって、洗浄装置５は、シール膜２の表面の法線２５に対するレーザ洗浄ヘッド５２の傾きを変更するための手段を備えている。

洗浄装置５は、移動支持体１１における回転シャフト５１の高さ、したがって、鉛直方向におけるレーザ洗浄ヘッド５２の高さを変更するための図示しない手段も備えている。

レーザ洗浄ヘッド５２の傾きおよび高さを変更するためのこれらの手段は、移動支持体１１におけるレーザ洗浄ヘッド５２の設定を変更するための手段である。

代替的に、洗浄装置５は、レール３に対する移動支持体１１の高さを変更するための手段を備える。洗浄装置５は、移動支持体１１をレール３上で移動させる手段も備えている。これは、プロファイル生成装置１において使用されるもの、すなわち移動支持体１１の少なくとも１つのアクチュエータとインターフェース接続するソフトウェアと同一である。

レーザ洗浄ヘッド５２は、焦点距離が８０ｍｍ～３６０ｍｍに含まれる少なくとも１つの集束レンズ５４を備えている。これにより、レーザビーム６をシール膜２の表面における衝突ゾーン６１に集束させることができる。レーザビーム６は、この衝突ゾーン６１を心拍数の速度でスキャンし、各々は図４に示す衝突点６３を形成する。衝突点６３が重なり合うことで、溶接ビード２６が完全に洗浄されることが補償されている。衝突ゾーン６１が約２センチメートルの（横方向Ｔにおける）幅を有することにより、幅が約１センチメートルの溶接ビード２６を完全に洗浄することができる。

このスキャンは、図５に示すレーザ洗浄ヘッド５２の構造により可能とされている。洗浄装置５は、レーザビーム発生器５６を備えている。レーザビーム発生器５６は、レーザビーム６を、レーザ洗浄ヘッド５２の自由端部にある反射モジュール５７に投射する。レーザ洗浄ヘッド５２を、その説明を簡単にすべく非常に単純化して図５に示す。実は、レーザビーム発生器５６は、実際にはレーザ洗浄ヘッド５２の外部にあり、レーザ洗浄ヘッド５２で発生したビームを導くのはファイバ９である。反射モジュール５７は、例えばミラーのセットである。ミラーのセットは、ビーム発生器の出力におけるレーザビーム６の軌跡を、長手方向Ｌおよび鉛直方向Ｖに対して平行な平面に含まれる方向Ｄ１において、または横方向Ｔおよび鉛直方向Ｖに対して平行な平面に含まれる方向Ｄ２において偏向させる。代替的に、反射モジュールは、レーザ洗浄ヘッド５２の外部にある移動支持体１１に配置される。したがって、洗浄装置５は、レーザ洗浄ヘッド５２の配向とは無関係にレーザビーム６の配向を変更するための手段を備えている。

次に、本発明による洗浄方法を、図６に関して説明する。洗浄方法の第１ステップは、図１および図２に関して既に説明したプロファイルを生成するための方法を実施して、シールプレート２‐１の縁部のプロファイルを生成するステップ２００である。上述のように、シールプレート２‐１の縁部のプロファイルを生成するステップ２００は、任意である。実際に、このプロファイルは、シール膜の予め記録されたテンプレートを使用することにより、またはシール膜を手動で測定することにより得ることができる。

次のステップ４００は、ステップ２００の間に生成した（または事前に得た）プロファイルに従って、レール３に沿った洗浄装置５の所定経路（これは、シール膜２の被処理部分に沿った経路に対応する）を、被洗浄ゾーンに分解するステップである。このために、当該被洗浄ゾーンを洗浄する前に、レーザ洗浄ヘッド５２または移動支持体１１を再設定する必要がある。

実際に、シールプレート２‐１および２‐２の縁部を洗浄する速度をｍｍ／ｓで上昇させるためには、移動支持体およびレーザ洗浄ヘッド５２の移動を可能な限り制限することが好適である。このため、洗浄方法は、ステップ４００における分解で得た被洗浄ゾーンを順次洗浄する。これらの被洗浄ゾーンは、これらの被洗浄ゾーンの各々について、移動支持体１１またはレーザ洗浄ヘッド５２をさらに移動させることなく、反射モジュール５７により可能とされるレーザ清掃のみを利用した洗浄を可能とするように構成されている。このため、所定の被洗浄ゾーンのサイズにより、入射角２７を非常に小さく維持することが可能となり、被洗浄ゾーンの効果的な洗浄が可能とされる。特に、この入射角により、集束レンズ５４の焦点距離を許容可能な許容差で維持することができる。例えば、３３０ｍｍ（ミリメートル）の焦点距離を有する集束レンズ５４の場合、この許容差は＋／－３ｍｍである。

したがって、このステップ４００において、平坦ゾーン２２は、独立した被洗浄ゾーンにそれぞれ対応する２つの半体２２１および２２２（図８参照）に各々分割され、起伏部２４は、図７に示すように、６つの被洗浄ゾーンに各々分割される。より具体的には、移動支持体１１が長手方向ラインＬの第１方向５５において移動する場合には、起伏部２４の左側の傾斜部２４１がまず洗浄される。形容詞「左側の」は、図面における起伏部の傾斜部の状況に関する。左側の傾斜部２４１を効果的に洗浄するために、反射モジュール５７の出力におけるレーザビームは、起伏部２４の表面の法線に対しておよそ数度の入射角２７を有している。このために、レーザ洗浄ヘッド５２は回転シャフト５１を使用する。これにより、レーザビーム６は、レーザ洗浄ヘッド５２の出口において、鉛直方向に対して反時計回りに７０°または５０°の角度を有し得る。

したがって、起伏底部２４３と呼ばれる左側の傾斜部２４１の底部にある第１被洗浄ゾーン２４３は、レーザビーム６が鉛直方向Ｖに対して６５°～７５°、例えば７０°の角度で衝突するように定められる。これにより、起伏部２４の底部の曲率半径を数度以内とすることができる。

中央ゾーン２４５と呼ばれる左側の傾斜部２４１の中央にある第２被洗浄ゾーン２４５も同様に、レーザビーム６が鉛直方向Ｖに対して４５°～５５°、例えば５０°の角度で衝突するように定められる。これにより、左側の傾斜部２４１の中央ゾーンに対する起伏部の表面の法線の半径を数度以内とすることができる。

最後に、頂点部ゾーン２４７と呼ばれる左側の傾斜部２４１の頂点部にある第３被洗浄ゾーン２４７は、したがって、レーザビーム６が鉛直方向Ｖに対して４５°～５５°、例えば５０°の角度で衝突するように定められる。これにより、起伏部２４の頂点部の曲率半径を数度以内とすることができる。

そして、図８に詳述するように、次の被洗浄ゾーンは、対応する平坦ゾーンである。

図７に示す被洗浄ゾーンは、概略的に示されていることに留意すべきである。第１ゾーンは、特に導波管および起伏部の傾斜部の一部を含み得る。第２ゾーンは、起伏部の頂点部に向かってわずかにオフセットし得る。

同様に、移動支持体１１が長手方向ラインＬの第１方向５５と反対の第２方向５９において移動する場合、起伏部２４の左側の傾斜部２４１とは反対側の右側の傾斜部２４２が、起伏部２４の左側の傾斜部２４１の洗浄と同様の態様で洗浄される。特に、波長２４４と呼ばれる右側のヘッド２４２の底部にある第４ゾーン２４４から、鉛直方向Ｖに対して時計回り方向に７０°の角度を有するレーザビーム６で洗浄が開始される。次に、中央ゾーン２４６と呼ばれる右側の傾斜部２４２の中央にある第５ゾーン２４６が、鉛直方向Ｖに対して時計回り方向に５０°の角度を有するレーザビーム６で洗浄される。最後に、最上ゾーン２４８と呼ばれる右側の傾斜部２４２の最上部にある第６ゾーン２４８が、鉛直方向Ｖに対して時計回り方向に５０°の角度を有するレーザビーム６で洗浄される。

参照符号２４３、２４５、２４７、２４４、２４６、２４８で示す被洗浄ゾーンは、少なくとも部分的に、それらの横方向縁部のうちの少なくとも１つに亘って２つずつ重なり合っていることにより、洗浄は、所定経路上の溶接ビード２６全体に亘って不連続になることなく、すなわち全体的に実施される。

ステップ４００の終了時に、洗浄装置５は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）またはＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）メモリに、所定経路を被洗浄ゾーンに分解した内訳を記憶し、各被洗浄ゾーンは、移動支持体１１および／またはレーザ洗浄ヘッド５２の単一の設定に関連付けられる。実際に、ステップ４００から開始される被洗浄ゾーンの洗浄の間、移動支持体１１およびレーザ洗浄ヘッド５２は、不動のままである。被洗浄ゾーンは、洗浄装置５により、洗浄装置５によるシール膜の洗浄時間を最短にし得る処理順序に従うリストにおいて順序付けられる。以下に示すように、この構成は、所定経路上における連続的な洗浄に対応するものではない。変形例として、洗浄装置５とは別の装置が分解を実施する場合、洗浄装置５は、この別の装置が洗浄装置５に送信した被洗浄ゾーンを記憶する。

一変形例において、分解ステップ４００は、プロファイル生成ステップ２００と少なくとも部分的に平行して、すなわち同時に実施されることに留意すべきである。

次のステップは、洗浄装置５が所定経路に沿ってシール膜２を洗浄するステップ５００である。この洗浄ステップは、移動装置および／または洗浄部材の設定を変更する少なくとも１つのサブステップ、ここでは、移動支持体１１および／またはレーザ洗浄ヘッド５２の設定を変更するサブステップ５０２を備えている。

より正確には、洗浄ステップ５００の開始時に、洗浄装置５は、移動支持体１１をレール３上に長手方向に配置し、レーザ洗浄ヘッド５２を、移動支持体１１およびレーザ洗浄ヘッド５２をその後移動させることなく、分解ステップ４００からの被洗浄ゾーンのリストにおける第１被洗浄ゾーンが洗浄され得るように配向する。この移動支持体１１および／またはレーザ洗浄ヘッド５２の設定の変更は、ステップ５００の開始時に第１被洗浄ゾーンである現在の被洗浄ゾーンの設定を変更する第１サブステップ５０２に対応する。

洗浄ステップ５００の第２サブステップ５０４は、現在の被洗浄ゾーンを、現在の被洗浄ゾーンのレーザビーム６による清掃を利用して洗浄するステップである。一例として、本例示的実施形態において、洗浄速度は、７ｃｍ^２／ｓ（毎秒平方センチメートル）である。

最後に、洗浄ステップ５００の第３サブステップ５０６は、被洗浄ゾーンのリストが完全にカバーされていない場合には、現在の被洗浄ゾーンを変えるステップ、そうでなければ洗浄ステップ５００を終了させるステップである。被洗浄ゾーンのリストが完全にカバーされていない場合、現在の被洗浄ゾーンを、被洗浄ゾーンのリストにおいて現在の被洗浄ゾーンの直後の被洗浄ゾーンに代える。そして、洗浄ステップ５００の次のサブステップは、新たな被洗浄ゾーンを考慮して設定を変更する新たなサブステップ５０２である。

したがって、サブステップ５０２～５０６は、溶接ビード２６が完全に洗浄されるまで繰り返される。

設定を変更するサブステップ５０２は、本発明の利用例において、以下に対応する。
‐移動支持体１１を長手方向に移動させるステップ、および／または、
‐レーザ洗浄ヘッド５２の配向を変えるステップ、および／または、
‐シール膜２に対するレーザ洗浄ヘッド５２の高さを変えるステップ。

設定を変更するこれらのサブステップは、例えば、レーザビーム６を噴霧せずに実施されるため、「ブランク」である。洗浄時間が、従来技術に対して短縮される。

本発明の他の利用例において、このような設定変更サブステップ５０２は、他のタイプの移動ステップ、例えば、移動支持体１１および／または洗浄部材を横方向に移動させるステップを備え得る。

次に、洗浄方法の手順を、３つの起伏部２４および４つの平坦ゾーン２２を備えるシール膜の一部２について、図８に関して詳細に説明する。より具体的には、第２通過方向５９において、シール膜２は、第１平坦ゾーン２２‐１、第１起伏部２４－１、第２平坦ゾーン２２‐２、第２起伏部２４－２、第３平坦ゾーン２２‐３、第３起伏部２４－３、および第４平坦ゾーン２２‐４を連続的に備えている。

移動支持体１１は、ステップ１００の間、レール３上の所定経路に沿ってシールプレート２‐１の縁部上を継続的に通過する。この継続的な通過は、エンプティ状態で実施され、点線の矢印１００で示される。このステップ１００の間に、膜のプロファイルが、プロファイル生成装置１により記録され得る。代替的に、このようなプロファイルは、特にシールプレート２‐１、２‐２の製造中に実施された測定値または読取値により既知であり、洗浄装置５が利用可能となっている。

次いで、分解ステップ４００が洗浄装置５により実施され、そして洗浄装置５は、レーザ洗浄ヘッド５２を、レーザビーム６がシール膜２の第１起伏部２４－１の右側の傾斜部２４２の底部に、鉛直方向Ｖに対して時計回り方向に７０°の角度で到達し得るように配向する。レーザ洗浄ヘッド５２を配向するステップは、第１設定変更サブステップ５０２に対応する。

洗浄装置５は、次いでこの右側２４２の起伏底部２４４から被洗浄ゾーンを洗浄し、移動支持体１１を第２方向５９において長手方向に移動させ、レーザ洗浄ヘッド５２を膜に対して鉛直方向に高さｈだけ高く移動させるとともにこれをその前述の配向に対して反時計回り方向に２０°だけ回動させる。この新たな設定変更は、洗浄ステップ５００の間に第２方向５９において実施される移動支持体１１の第１通過工程５０３の第１点線矢印により示されている。

この第１通過工程５０３の点線矢印が示すすべての移動は、「ブランク」、すなわち洗浄なしでなされ、設定変更サブステップ５０２に対応する。これについての説明は以下に続く。太い実線は、被洗浄ゾーンの洗浄の種々のサブステップ５０４におけるレーザビーム６を示す。

この新たな設定変更により、レーザビーム６は、第１起伏部２４－１の右側のヘッド２４１の中央ゾーン２４６に、鉛直方向Ｖに対して時計回り方向に５０°の角度で到達し得る。次いで、洗浄装置５は、この中央ゾーン２４６を洗浄し、移動支持体１１を第２方向５９において長手方向に移動させ、レーザ洗浄ヘッド５２を膜に対してわずか鉛直方向上方に移動させることにより、レーザビーム６は、中央ゾーン２４６の洗浄の場合と同一のレーザ洗浄ヘッド５２の配向を保ちつつ、第１起伏部２４－１の右側２４２の頂点部ゾーン２４８に到達し得る。こうして、第１起伏部２４－１の右側の傾斜部２４２の頂点部ゾーン２４８が洗浄される。

最後に、洗浄装置５は、移動支持体１１を第２方向５９において長手方向に、この第１通過工程５０３における第２通過工程方向５９において第１起伏部２４－１に先行する第１平坦ゾーン２２‐１の第１半体２２１の洗浄が可能となる位置まで移動させ、そしてレーザ洗浄ヘッド５２を膜に対して鉛直方向下方に移動させる。この第１半体２２１は、第１起伏部２４－１に直接的に隣り合うものではなく、第１平坦ゾーン２２‐１の第２半体２２２が第１平坦ゾーン２２‐１の第１半体２２１と第１起伏部２４－１との間に挿入されている。以下において、シールプレートの境界に位置しない限り、平坦ゾーンの第１半体は左側の起伏傾斜部と平坦ゾーンの第２半体との間に各々挿入されること、および平坦ゾーンの第２半体は右側の起伏傾斜部と平坦ゾーンの第１半体との間に各々挿入されることを理解されたい。

そして、洗浄装置５は、第１平坦ゾーン２２‐１のこの第１半体２２１を洗浄し、次いで移動支持体１１を第２方向５９において移動させ、レーザ洗浄ヘッド５２の鉛直方向における高さを変更して、レーザビーム６がシール膜２の第２起伏部２４－２の右側の傾斜部２４２の底部に鉛直方向Ｖに対して時計回り方向に７０°の角度で到達し得るように、レーザ洗浄ヘッド５２を再び配向する。

こうして、第２起伏部２４－２の右側の傾斜部２４１の洗浄が、第１起伏部２４－１の場合と同様に実施され、これに続いて、第１通過工程５０３の第２通過工程方向５９において第２起伏部２４－２に先行する第２平坦ゾーン２２‐２の第１半体２２１が洗浄される。同様に、第２起伏部２４－２の洗浄に続いて、第３起伏部２４－３、および第１通過工程５０３の第２通過工程方向５９において第３起伏部２４－３に先行する第３平坦ゾーン２２‐３の第１半体２２１が洗浄される。

最後に、被洗浄シール膜の一部２は第４起伏部２４を備えないため、洗浄装置５は、移動支持体１１を第２方向５９において移動させて、第４平坦ゾーン２２‐４の第１半体２２１を洗浄する位置に配置してこれを洗浄する。

移動支持体の第１通過工程５０３は、第２方向５９における長手方向移動で終了する。これにより、移動支持体１１は、長手方向ラインＬの第１方向５５において実施される移動支持体１１の第２通過工程５０５の始点に配置され得る。

この第２通過工程５０５は、特に第１通過工程５０３と対称的に実施される。
‐洗浄装置５は、第３起伏部２４－３の左側の傾斜部２４１の起伏底部２４３を最初に洗浄し、次いでこの左側の傾斜部２４１の中央ゾーン２４５を洗浄し、最後に第３起伏部２４－３のこの左側の傾斜部２４１の頂点部ゾーン２４７を洗浄する。
‐洗浄装置５は、第４平坦ゾーン２２‐４の第２半体２２２を洗浄し、次いで第２起伏部２４－２の左側の傾斜部２４１を洗浄し、第３平坦ゾーン２２‐３の第２半体２２２を洗浄し、最後に第１起伏部２４－１の左側の傾斜部２４１を洗浄する。
‐最後に、洗浄装置５は、第２平坦ゾーン２２‐２の第２半体２２２を洗浄し、第１平坦ゾーン２２‐１の第２半体２２２を洗浄する。

したがって、第２通過工程５０５の終了時には、溶接ビード２６全体が、レール３に沿って配置されたシールプレート２‐１および２‐２の縁部上で洗浄される。

洗浄装置５は、第１通過工程５０３を最初に実施し、次に第２通過工程５０５を実施する。第１通過工程５０３の間に、洗浄装置５は、この第１通過工程５０３の第２方向５９において上向きの傾斜部である起伏部２４の左側の起伏部２４１を洗浄する。第２通過工程５０５の間に、洗浄装置５は、この第２通過工程５０５の第１方向５５において上向きの傾斜部である起伏部２４の右側の起伏部２４２を洗浄する。この事実により、洗浄方法の実行速度を上昇させることが可能となり、特にレーザ洗浄ヘッド５２の回転に費やす時間が節約されるとともに、洗浄装置の「ブランク」往復（すなわち、洗浄せずに移動するのみ）が回避される。実際に、洗浄装置５がレール３に沿って単一の一方向通過工程において各起伏部２４を洗浄する場合、レーザ洗浄ヘッド５２は、数回の１４０°の回転およびさらに多くのブランク往復をすることになるが、図８の例ではそのようなことはない。図８の手順に従う洗浄方法は、長手方向移動に関して、かつレーザ洗浄ヘッド５２の回転に関して、所定経路の被洗浄ゾーンへの同一の分解のために最適化されている。

当然ながら、本発明による洗浄方法の他の代替実施形態が可能である。特に、変形例として、シール膜２の起伏部２４が、４つのみの被洗浄ゾーンに分解され、各左側の傾斜部２４１および右側の傾斜部２４２が、２つの被洗浄ゾーン、すなわち、左側の傾斜部２４１または右側の傾斜部２４２の底部をカバーする一方の被洗浄ゾーンと、左側の傾斜部２４１または右側の傾斜部２４２の頂点部をカバーする他方の被洗浄ゾーンとに分解される。本例において、起伏底部に対応する被洗浄ゾーンは、鉛直方向Ｖに対して７０°のレーザビーム角度で洗浄され、起伏頂点部に対応する被洗浄ゾーンは、鉛直方向Ｖに対して５０°のレーザビーム角度で洗浄される。

当然ながら、本発明は上述の例に限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱することなく、これらの例に多くの変更が加えられ得る。

Claims (13)

1. 移動装置（１１）と前記移動装置（１１）に装着された少なくとも１つの洗浄部材（５２）とを使用して、液化ガスを収容することが意図されたタンクに適合したシール膜（２）を洗浄するための方法であって、前記方法は、前記移動装置（１１）の所定経路に沿って前記シール膜（２）を前記洗浄部材（５２）により洗浄するステップ（５００）を備え、前記洗浄のステップ（５００）は、前記移動装置（１１）および／または前記移動装置（１１）における前記洗浄部材（５２）の前記設定を変更する少なくとも１つのサブステップ（５０２）を備え、
   前記方法は、前記所定経路を被洗浄ゾーン（２４１、２４３、２４５、２４４、２４６、２４８、２２１、２２２）に分解した内訳を記憶して、前記シール膜（２）に対する前記移動装置（１１）の第１通過工程の間における前記シール膜（２）の非連続的な洗浄に対応する順序に従って被洗浄ゾーンを順序付ける事前ステップ（４００）を備え、複数の通過工程が、前記所定経路において前記シール膜（２）全体を洗浄するために必要であり、前記洗浄ステップ（５００）は、前記被洗浄ゾーンに対して連続的に実施され、前記設定を変更する少なくとも１つの前記サブステップ（５０２）は、前記被洗浄ゾーン（２４１、２４３、２４５、２４４、２４６、２４８、２２１、２２２）とは別個の被洗浄ゾーンの前記洗浄に各々対応する２つの洗浄シーケンスの間に実施される、
   ことを特徴とするシール膜（２）を洗浄するための方法。
2. 前記分解の内訳を記憶する前記事前ステップ（４００）に先行して、前記所定経路を備える前記シール膜（２）の少なくとも一部のプロファイルを生成するステップ（２００）が実施され、
   前記分解の内訳は、このようにして生成された前記プロファイルの関数である、
   請求項１に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
3. 前記シール膜の少なくとも前記一部の前記プロファイルを生成する前記ステップ（２００）に続いて、前記所定経路を決定するステップが実施される、
   請求項２に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
4. プロファイルを生成する前記事前ステップ（２００）に先行して、移動支持体（１１）に配置された位置センサ（１２）を前記シール膜（２）の上方で通過させるステップ（１００）が実施され、
   前記ステップ（１００）の間に、
   ‐前記位置センサ（１２）の基準点と前記シール膜（２）の一部の少なくとも１つの点との間の距離（ｄ）を決定するサブステップ（１０２）と、
   ‐決定された前記距離（ｄ）を記録するサブステップ（１０４）と、
   ‐前記移動支持体（１１）を移動させるサブステップ（１０６）と、
   が繰り返され、
   前記プロファイルを生成する前記事前ステップ（２００）は、前記登録サブステップ（１０４）の間に記録された前記距離（ｄ）を利用して前記プロファイルを生成する、
   請求項２または３に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
5. 前記設定を変更する前記サブステップ（５０２）は、前記移動装置（１１）および／または前記洗浄部材（５２）の移動を生成し、前記設定を変更する前記サブステップ（５０２）の間、前記洗浄は中断される、
   請求項１～４のいずれか一項に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
6. 前記設定を変更する前記サブステップ（５０２）は、前記シール膜（２）に対する前記洗浄部材（５２）の高さ（ｈ）、および／または前記シール膜（２）の主延在平面に対する直交軸（２５）に対する前記洗浄部材（５２）の角度（２７）、および／または前記所定経路に沿って前記移動装置（１１）の位置を変更するステップを備える、
   請求項５に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
7. 前記所定経路は、前記シール膜（２）の第１シールプレート（２‐１）の縁部に沿っており、前記シール膜（２）の第２シールプレート（２‐２）の縁部が、第１シールプレート（２‐１）の前記縁部に溶接されており、前記被洗浄ゾーン（２４１、２４３、２４５、２４４、２４６、２４８、２２１、２２２）は、前記第１シールプレート（２‐１）の前記縁部と前記第２シールプレート（２‐２）の前記縁部とを接合する少なくとも１つの溶接ビーム（２６）を覆う、
   請求項１～６のいずれか一項に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
8. 前記シール膜（２）は、前記シール膜（２）上でグリッドを形成する起伏部（２４）を備え、各起伏部（２４）は、前記被洗浄ゾーン（２４１、２４３、２４５、２４４、２４６、２４８）のうちの少なくとも１つの独立した被洗浄ゾーンで各々覆われる２つの傾斜部（２４１、２４２）を備え、前記洗浄のステップ（５００）は、前記所定経路に沿う第１通過工程（５０３）に従って、かつ前記第１通過工程（５０３）に対して前記反対方向（５５）における第２通過工程（５０５）に従って実施され、前記第１通過工程（５０３）の間に、各起伏部（２４）は、前記起伏部（２４）の傾斜部（２４２）を覆う１つ以上の前記被洗浄ゾーン（２４４、２４６、２４８）のみにおいて洗浄され、前記第２通過工程（５０５）の間に、前記起伏部（２４）は、その他方の傾斜部（２４１）を覆う１つ以上の前記被洗浄ゾーン（２４３、２４５、２４７）のみにおいて洗浄される、
   請求項１～７のいずれか一項に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
9. 前記第１通過工程（５０３）の間に、前記所定経路上の２つの起伏部（２４）の間に含まれる前記シール膜（２）の平坦ゾーン（２２）の第１半体（２２１）が洗浄され、
   前記第２通過工程（５０５）の間に、前記平坦ゾーン（２２）の第２半体（２２２）が洗浄される、
   請求項８に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
10. 前記所定経路上の前記起伏部の傾斜部（２４１、２４２）は、前記経路上の前記傾斜部（２４１、２４２）の底部を覆う被洗浄ゾーン（２４３、２４４）に、および前記傾斜部（２４１、２４２）の頂点部を覆う被洗浄ゾーン（２４７、２４８）に少なくとも関連付けられる、
    請求項８または９に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
11. 前記被洗浄ゾーン（２４３、２４５、２４４、２４６、２４７、２４８、２２１、２２２）は、部分的に重なり合う、
    請求項１～１０のいずれか一項に記載のシール膜（２）を洗浄するための方法。
12. 移動装置（１１）と前記移動装置（１１）に装着された洗浄部材（５２）とを備える、液化ガスを収容することが意図されたタンクに適合したシール膜（２）を洗浄するための洗浄装置（５）であって、前記洗浄装置（５）は、前記移動装置（１１）および／または前記移動装置（１１）における前記洗浄部材（５２）の前記設定を変更するための手段（５３）を備え、前記洗浄装置（５）は、前記シール膜（２）に対する前記移動装置（１１）の所定経路を被洗浄ゾーン（２４３、２４５、２４４、２４６、２４７、２４８、２２１、２２２）に分解した内訳を記憶して、前記シール膜（２）に対する前記移動装置（１１）の第１通過工程における前記シール膜（２）の非連続的な洗浄に対応する順序に従って前記被洗浄ゾーンを順序付ける手段（５３）を備え、複数の通過工程が、前記シール膜（２）全体を洗浄するために必要であり、前記分解した内訳は、各被洗浄ゾーンに対する別個の洗浄シーケンスを規定し、したがって、２つの洗浄シーケンスの間に前記設定を変更するための前記手段（５３）を起動する手段が規定される、
    ことを特徴とする洗浄装置（５）。
13. 前記設定変更手段（５３）は、前記変更手段（５３）により起動されたときに、前記移動装置（１１）および／または前記洗浄部材（５２）を移動させるが、前記移動の間に前記シール膜（２）を洗浄しないように構成される、
    請求項１２に記載の洗浄装置（５）。