JP2024028139A - Resin film, method for creating resin film, display device, optical member, and polarizing member - Google Patents

Resin film, method for creating resin film, display device, optical member, and polarizing member Download PDF

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JP2024028139A JP2023114734A JP2023114734A JP2024028139A JP 2024028139 A JP2024028139 A JP 2024028139A JP 2023114734 A JP2023114734 A JP 2023114734A JP 2023114734 A JP2023114734 A JP 2023114734A JP 2024028139 A JP2024028139 A JP 2024028139A
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毅 大山
恵紘 横手
ネウォン ジャン
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Abstract

【課題】防眩性と鮮鋭度との双方が良好な樹脂膜等を提供する。【解決手段】樹脂膜は、アンチグレア層16と、低屈折率層17とを備える。低屈折率層17は、アンチグレア層16に積層される。また、低屈折率層17は、1.40以下の屈折率を有する。アンチグレア層16は、散乱粒子162と、バインダ161とを含む。散乱粒子162は、表面に凹凸163が形成されている。バインダ161は、散乱粒子162を分散する樹脂からなる。また、アンチグレア層16は、平坦部16aと、突出部16bとを含む。突出部16bは、平坦部16aから散乱粒子162が突出している。【選択図】図2An object of the present invention is to provide a resin film etc. that has both good anti-glare properties and sharpness. A resin film includes an anti-glare layer and a low refractive index layer. The low refractive index layer 17 is laminated on the anti-glare layer 16. Further, the low refractive index layer 17 has a refractive index of 1.40 or less. Anti-glare layer 16 includes scattering particles 162 and binder 161. The scattering particles 162 have irregularities 163 formed on their surfaces. Binder 161 is made of resin that disperses scattering particles 162. Further, the anti-glare layer 16 includes a flat portion 16a and a protruding portion 16b. In the protruding portion 16b, scattering particles 162 protrude from the flat portion 16a. [Selection diagram] Figure 2

Description

本発明は、樹脂膜等に関する。より詳しくは、表示装置の表示手段の表面に設ける樹脂膜等に関する。 The present invention relates to resin films and the like. More specifically, the present invention relates to a resin film and the like provided on the surface of a display means of a display device.

液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)、プラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)等の表示装置が知られている。また、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD:Electroluminescence Display)、フィールドエミッションディスプレイ(FED:Field Emission Display)等の表示装置が知られている。これらの表示装置では、画像表示面に反射防止部材を設けることで、画像の視認性を高めている。
反射防止部材としては、凹凸形状を有するアンチグレア層上に、低屈折率層等の反射防止層を積層したものが存在する。
Display devices such as liquid crystal displays (LCDs) and plasma displays (PDPs) are known. Display devices such as electroluminescence displays (ELD) and field emission displays (FED) are also known. In these display devices, the visibility of the image is improved by providing an antireflection member on the image display surface.
As an antireflection member, there is one in which an antireflection layer such as a low refractive index layer is laminated on an antiglare layer having an uneven shape.

特許文献1には、基材上に、防眩層及び低屈折率層を有する防眩性反射防止部材が開示されている。この防眩性反射防止部材では、防眩層が、バインダー樹脂および粒子を有し、凹凸形状を備えた層である。また、この防眩性反射部材では、低屈折率層が、防眩層の凸部上の膜厚が薄い一方で、平坦部上の膜厚が厚い。そして、低屈折率層の膜厚さをΔdと定義した際に、Δdの値が7.0nm以上40.0nm以下の範囲となっている。 Patent Document 1 discloses an anti-glare anti-reflection member having an anti-glare layer and a low refractive index layer on a base material. In this anti-glare and anti-reflection member, the anti-glare layer is a layer containing a binder resin and particles and having an uneven shape. Further, in this anti-glare reflective member, the low refractive index layer is thin on the convex portions of the anti-glare layer, but thick on the flat portions. When the film thickness of the low refractive index layer is defined as Δd, the value of Δd is in the range of 7.0 nm or more and 40.0 nm or less.

特許文献2には、防眩層の上に積層された低屈折率層(反射防止層)を有する光学積層体が開示されている。この光学積層体では、低波長領域の反射率を抑制するために、防眩層表面および低屈折率層表面のスキューネスRskを0未満とし、防眩層および低屈折率層の表面形状を、谷が多く、かつ細長く急峻な谷を有する表面形状(細長く急峻な山が少ない形状)としている。 Patent Document 2 discloses an optical laminate having a low refractive index layer (antireflection layer) laminated on an antiglare layer. In this optical laminate, in order to suppress the reflectance in the low wavelength region, the skewness Rsk of the anti-glare layer surface and the low refractive index layer surface is set to be less than 0, and the surface shape of the anti-glare layer and the low refractive index layer is It has a surface shape with many slender, steep valleys (a shape with few elongated, steep peaks).

特許文献3には、基材の表層に、凹凸構造を有し、防眩機能を有するアンチグレア層と、反射防止層とが積層された防眩・反射防止部材が開示されている。この防眩・反射防止部材では、アンチグレア層上にスパッタリング法やCVD(Chemical Vapor Deposition)法により、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層された多層膜からなる反射防止層を形成している。 Patent Document 3 discloses an anti-glare/anti-reflection member in which an anti-glare layer having an uneven structure and an anti-reflection layer and an anti-reflection layer are laminated on the surface layer of a base material. In this anti-glare/anti-reflection member, an anti-reflection layer consisting of a multilayer film in which low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated is formed on the anti-glare layer by sputtering method or CVD (Chemical Vapor Deposition) method. are doing.

国際公開2021/182424号International Publication 2021/182424 特開2022-15702号公報Japanese Patent Application Publication No. 2022-15702 特開2018-97379号公報Japanese Patent Application Publication No. 2018-97379

アンチグレア層および低屈折率層を備える樹脂膜による防眩性を高め、表示手段に対する外部光等の映り込みを抑制するためには、アンチグレア層表面の凹凸を大きくすることが好ましい。その一方で、アンチグレア層表面の凹凸が大きい場合、アンチグレア層上に積層される低屈折率層の塗工性が低下し、均一な厚さを有する低屈折率層を得ることが難しくなる場合がある。この場合、表示手段に表示される画像が白くぼけた状態となって鮮鋭度が低下する場合がある。
本発明は、防眩性と鮮鋭度との双方が良好な樹脂膜等を提供することを目的とする。
In order to enhance the anti-glare properties of the resin film including the anti-glare layer and the low refractive index layer and to suppress the reflection of external light on the display means, it is preferable to increase the irregularities on the surface of the anti-glare layer. On the other hand, if the surface of the anti-glare layer has large irregularities, the coatability of the low refractive index layer laminated on the anti-glare layer may deteriorate, making it difficult to obtain a low refractive index layer with a uniform thickness. be. In this case, the image displayed on the display unit may become white and blurred, resulting in a decrease in sharpness.
An object of the present invention is to provide a resin film etc. that has good anti-glare properties and good sharpness.

本発明の樹脂膜は、アンチグレア層と、低屈折率層とを備える。低屈折率層は、アンチグレア層に積層される。また、低屈折率層は、1.40以下の屈折率を有する。アンチグレア層は、散乱粒子と、バインダとを含む。散乱粒子は、表面に凹凸が形成されている。バインダは、散乱粒子を分散する樹脂からなる。また、アンチグレア層は、平坦部と、突出部とを含む。突出部は、平坦部から散乱粒子が突出している。 The resin film of the present invention includes an anti-glare layer and a low refractive index layer. The low refractive index layer is laminated to the anti-glare layer. Further, the low refractive index layer has a refractive index of 1.40 or less. The anti-glare layer includes scattering particles and a binder. The scattering particles have irregularities formed on their surfaces. The binder consists of a resin that disperses the scattering particles. Further, the anti-glare layer includes a flat portion and a protruding portion. In the protruding part, the scattering particles protrude from the flat part.

ここで、アンチグレア層は、低屈折率層が積層される方向から見て、突出部の面積に対する平坦部の面積の比率(平坦部の面積/突出部の面積)が、2.0以上30以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、平均粒子径が1μm以上10μm以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、BET法で算出した比表面積が5m/g以上であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、粒径が20μm以上である粒子の割合が1質量%以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、粒度分布の変動係数が30%以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、平均粒子径が異なる複数の粒子を含むようにすることができる。
また、散乱粒子は、複数の粒子の平均粒子径の差が2.0μm以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダの屈折率と散乱粒子の屈折率との差が0.15以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダと散乱粒子との界面が相溶するようにすることができる。
また、アンチグレア層は、バインダの屈折率が1.50以上1.60以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層は、散乱粒子の屈折率が1.44以上1.60以下であるようにすることができる。
また、散乱粒子は、シリカ粒子、PMMA粒子、メラミン粒子、酢酸セルロース粒子のうちの少なくとも1つを含むようにすることができる。
また、散乱粒子は、シリコーン粒子を含むようにすることができる。
また、アンチグレア層は、さらに平均粒子径が100nm以下のナノ粒子を含むようにすることができる。
また、アンチグレア層は、さらに前記バインダから突出しない粒子を含むようにすることができる。
また、低屈折率層は、屈折率が1.34以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層は、中空粒子と、樹脂とを含む。樹脂は、中空粒子を分散する。
また、低屈折率層の平均膜厚が80nm以上120nm以下であるようにすることができる。
また、アンチグレア層と低屈折率層との間に、高屈折率層をさらに備えるようにすることができる。高屈折率層は、1.60以上の屈折率を有する。
また、外部ヘイズ値が20%以上であるようにすることができる。
また、内部ヘイズ値が15%以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層側から入射角60°で測定したグロス値が10以下であるようにすることができる。
また、低屈折率層側から入射角85°で測定したグロス値が50以下であるようにすることができる。
Here, the anti-glare layer has a ratio of the area of the flat part to the area of the protruding part (area of the flat part/area of the protruding part) of 2.0 or more and 30 or less, when viewed from the direction in which the low refractive index layer is laminated. can be made so that
Further, the scattering particles can have an average particle diameter of 1 μm or more and 10 μm or less.
Further, the scattering particles can have a specific surface area calculated by the BET method of 5 m 2 /g or more.
Further, the scattering particles can be configured such that the proportion of particles having a particle size of 20 μm or more is 1% by mass or less.
Furthermore, the scattering particles can have a particle size distribution coefficient of variation of 30% or less.
Further, the scattering particles can include a plurality of particles having different average particle diameters.
Furthermore, the scattering particles can be such that the difference in average particle diameter of the plurality of particles is 2.0 μm or less.
Further, the anti-glare layer can be configured such that the difference between the refractive index of the binder and the refractive index of the scattering particles is 0.15 or less.
Further, the anti-glare layer can be made such that the interface between the binder and the scattering particles is compatible.
Further, in the anti-glare layer, the binder can have a refractive index of 1.50 or more and 1.60 or less.
Further, in the anti-glare layer, the refractive index of the scattering particles can be 1.44 or more and 1.60 or less.
Furthermore, the scattering particles can include at least one of silica particles, PMMA particles, melamine particles, and cellulose acetate particles.
The scattering particles can also include silicone particles.
Further, the anti-glare layer can further include nanoparticles having an average particle diameter of 100 nm or less.
Additionally, the anti-glare layer may further include particles that do not protrude from the binder.
Further, the low refractive index layer can have a refractive index of 1.34 or less.
Further, the low refractive index layer includes hollow particles and resin. The resin disperses the hollow particles.
Further, the average thickness of the low refractive index layer can be set to be 80 nm or more and 120 nm or less.
Furthermore, a high refractive index layer may be further provided between the anti-glare layer and the low refractive index layer. The high refractive index layer has a refractive index of 1.60 or more.
Further, the external haze value can be set to 20% or more.
Further, the internal haze value can be set to 15% or less.
Further, the gloss value measured from the low refractive index layer side at an incident angle of 60° can be set to 10 or less.
Further, the gloss value measured from the low refractive index layer side at an incident angle of 85° can be set to 50 or less.

また、本発明の樹脂膜は、アンチグレア層と、低屈折率層とを備える。低屈折率層は、アンチグレア層に積層される。また、低屈折率層は、1.40以下の屈折率を有する。アンチグレア層は、平坦部と、平坦部から突出した突出部とを有する。また、アンチグレア層は、低屈折率層が積層される方向から見て、突出部の面積に対する平坦部の面積の比率(平坦部の面積/突出部の面積)が、2.0以上30以下である。さらに、アンチグレア層は、突出部における表面粗さが平坦部における表面粗さより大きい。 Further, the resin film of the present invention includes an anti-glare layer and a low refractive index layer. The low refractive index layer is laminated to the anti-glare layer. Further, the low refractive index layer has a refractive index of 1.40 or less. The anti-glare layer has a flat portion and a protruding portion protruding from the flat portion. In addition, the anti-glare layer has a ratio of the area of the flat part to the area of the protruding part (area of the flat part/area of the protruding part) of 2.0 or more and 30 or less when viewed from the direction in which the low refractive index layer is laminated. be. Furthermore, in the anti-glare layer, the surface roughness at the protruding portions is greater than that at the flat portions.

また、本発明の樹脂膜の作成方法は、アンチグレア層作成工程と、低屈折率層作成工程とを含む。アンチグレア層作成工程は、散乱粒子と、バインダとを用いて、平坦部と、突出部とを有するアンチグレア層を作成する。散乱粒子は、表面に凹凸が形成されている。バインダは、散乱粒子を分散する樹脂からなる。突出部は、平坦部から散乱粒子が突出している。低屈折率層作成工程は、1.40以下の屈折率を有する低屈折率層を作成する。
ここで、低屈折率層作成工程は、低屈折率層をウェットコーティング法により製膜することができる。
Moreover, the method for creating a resin film of the present invention includes an anti-glare layer creation step and a low refractive index layer creation step. In the anti-glare layer creation step, an anti-glare layer having flat portions and protruding portions is created using scattering particles and a binder. The scattering particles have irregularities formed on their surfaces. The binder consists of a resin that disperses the scattering particles. In the protruding part, the scattering particles protrude from the flat part. In the low refractive index layer creation step, a low refractive index layer having a refractive index of 1.40 or less is created.
Here, in the low refractive index layer forming step, the low refractive index layer can be formed by a wet coating method.

また、本発明の表示装置は、画像の表示を行う表示手段と、表示手段の表面に設けられる上記樹脂膜とを備える。
また、本発明の光学部材は、基材と、基材上に設けられる上記樹脂膜とを備える。
ここで、基材は、可視光波長領域における内部ヘイズ値の最大値が0.5%以下であるようにすることができる。
また、本発明の偏光部材は、光を偏光させる偏光手段と、偏光手段上に設けられる上記樹脂膜とを備える。
Further, the display device of the present invention includes display means for displaying an image, and the resin film provided on the surface of the display means.
Moreover, the optical member of the present invention includes a base material and the resin film provided on the base material.
Here, the base material can have a maximum internal haze value of 0.5% or less in the visible light wavelength region.
Moreover, the polarizing member of the present invention includes a polarizing means for polarizing light and the resin film provided on the polarizing means.

本発明によれば、防眩性と鮮鋭度との双方が良好な樹脂膜等を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a resin film etc. that have both good anti-glare properties and good sharpness.

(a)は、本実施の形態が適用される表示装置について説明した図である。(b)は、図1(a)のIb―Ib断面図であり、本実施の形態が適用される液晶パネルの構成の一例を示したものである。(a) is a diagram illustrating a display device to which this embodiment is applied. (b) is a sectional view taken along line Ib-Ib in FIG. 1(a), and shows an example of the configuration of a liquid crystal panel to which this embodiment is applied. 反射防止フィルムについて示した図であり、反射防止フィルムを各層の積層方向に沿って切断した断面図である。It is a diagram showing an antireflection film, and is a cross-sectional view of the antireflection film cut along the lamination direction of each layer. 反射防止フィルムにおけるアンチグレア層の拡大図である。It is an enlarged view of an anti-glare layer in an anti-reflection film. (a)~(b)は、反射防止フィルムの変形例について示した図である。(a) to (b) are diagrams showing modified examples of the antireflection film. (a)~(b)は、異方拡散層の他の形態を説明する図である。(a) to (b) are diagrams illustrating other forms of the anisotropic diffusion layer. 反射防止フィルムの他の変形例について示した図である。It is a figure shown about another modification of an antireflection film. (a)~(b)は、本実施の形態が適用される偏光板の構成例について示した図である。(a) to (b) are diagrams showing exemplary configurations of polarizing plates to which this embodiment is applied. (a)は、反射防止フィルムの作成方法の一例を示したフローチャートであり、(b)は、反射防止フィルムにおけるアンチグレア層および低屈折率層の作成方法を示したフローチャートである。(a) is a flowchart showing an example of a method for creating an antireflection film, and (b) is a flowchart showing a method for creating an antiglare layer and a low refractive index layer in the antireflection film.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定するものではない。またその要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。さらに使用する図面は本実施の形態を説明するためのものであり、実際の大きさを表すものではない。 EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the form for implementing this invention is demonstrated in detail. Note that the present invention is not limited to the following embodiments. In addition, various modifications can be made within the scope of the gist. Furthermore, the drawings used are for explaining the present embodiment and do not represent the actual size.

<表示装置1の説明>
図1(a)は、本実施の形態が適用される表示装置1について説明した図である。
図示する表示装置1は、例えばPC(Personal Computer)用の液晶ディスプレイ、あるいは液晶テレビなどである。表示装置1は、液晶パネル1aに画像を表示する。
<Description of display device 1>
FIG. 1A is a diagram illustrating a display device 1 to which this embodiment is applied.
The illustrated display device 1 is, for example, a liquid crystal display for a PC (Personal Computer) or a liquid crystal television. The display device 1 displays images on a liquid crystal panel 1a.

<液晶パネル1aの説明>
図1(b)は、図1(a)のIb―Ib断面図であり、本実施の形態が適用される液晶パネル1aの構成の一例を示したものである。
液晶パネル1aは、画像の表示を行う表示手段の一例である。本実施の形態の液晶パネル1aは、例えば、VA型液晶パネルである。図示する液晶パネル1aは、バックライトユニット11と、偏光フィルム12aとを有する。また、液晶パネル1aは、位相差フィルム13aと、液晶14と、位相差フィルム13bと、偏光フィルム12bとを有する。さらに、液晶パネル1aは、反射防止フィルム10を有する。そして、これらは、この順で、液晶パネル1aの内部側から表面側に向けて積層する構造となっている。なお、以下では、偏光フィルム12aと偏光フィルム12bとを区別しない場合には、単に偏光フィルム12と表記することがある。同様に、位相差フィルム13aと位相差フィルム13bとを区別しない場合には、単に位相差フィルム13と表記することがある。
また、詳細については、後述するが、反射防止フィルム10は、基材15と、アンチグレア層16と、低屈折率層17とが、この順で、液晶パネル1aの内部側から表面側に向けて積層する構造となっている。本実施形態では、反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16と低屈折率層17との積層体が、樹脂膜の一例である。また、アンチグレア層16および低屈折率層17に加えて基材15を含む反射防止フィルム10も、樹脂膜の一例である。
<Description of liquid crystal panel 1a>
FIG. 1(b) is a sectional view taken along line Ib-Ib in FIG. 1(a), and shows an example of the configuration of a liquid crystal panel 1a to which this embodiment is applied.
The liquid crystal panel 1a is an example of a display unit that displays images. The liquid crystal panel 1a of this embodiment is, for example, a VA type liquid crystal panel. The illustrated liquid crystal panel 1a includes a backlight unit 11 and a polarizing film 12a. Further, the liquid crystal panel 1a includes a retardation film 13a, a liquid crystal 14, a retardation film 13b, and a polarizing film 12b. Furthermore, the liquid crystal panel 1a has an antireflection film 10. These are stacked in this order from the inside of the liquid crystal panel 1a toward the front surface. In addition, below, when the polarizing film 12a and the polarizing film 12b are not distinguished, they may be simply written as the polarizing film 12. Similarly, when the retardation film 13a and the retardation film 13b are not distinguished, they may be simply referred to as retardation film 13.
Further, although details will be described later, the antireflection film 10 includes a base material 15, an anti-glare layer 16, and a low refractive index layer 17 in this order from the inside side of the liquid crystal panel 1a toward the surface side. It has a layered structure. In this embodiment, the laminate of the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17 in the anti-reflection film 10 is an example of a resin film. Furthermore, the antireflection film 10 that includes the base material 15 in addition to the antiglare layer 16 and the low refractive index layer 17 is also an example of a resin film.

バックライトユニット11は、液晶14に対し光を照射する。バックライトユニット11は、例えば、冷陰極蛍光ランプや白色LED(Light Emitting Diode)、青色LED等の光源を有する。また、バックライトユニット11は、光の均一性を制御する拡散シートやプリズムシート、色を制御する量子ドット色変換シート等を有していてもよい。
偏光フィルム12aおよび偏光フィルム12bは、光を偏光させる偏光手段の一例である。偏光フィルム12aと偏光フィルム12bとは、偏光方向が互いに直交するようになっている。偏光フィルム12aおよび偏光フィルム12bは、例えば、ポリビニルアルコール(PVA:poly-vinyl alcohol)にヨウ素化合物分子を含ませた樹脂フィルムを備える。そしてこれをトリアセチルセルロース(TAC:triacetylcellulose)からなる樹脂フィルムで挟み接着したものである。ヨウ素化合物分子を含ませることで光が偏光する。
The backlight unit 11 irradiates the liquid crystal 14 with light. The backlight unit 11 includes a light source such as, for example, a cold cathode fluorescent lamp, a white LED (Light Emitting Diode), or a blue LED. Further, the backlight unit 11 may include a diffusion sheet or a prism sheet that controls the uniformity of light, a quantum dot color conversion sheet that controls color, and the like.
The polarizing film 12a and the polarizing film 12b are examples of polarizing means for polarizing light. The polarizing film 12a and the polarizing film 12b have polarization directions perpendicular to each other. The polarizing film 12a and the polarizing film 12b include, for example, a resin film made of polyvinyl alcohol (PVA) containing iodine compound molecules. This is then sandwiched and bonded between resin films made of triacetylcellulose (TAC). The inclusion of iodine compound molecules polarizes the light.

位相差フィルム13a、13bは、液晶パネル1aの視野角依存性を補償する。液晶14を透過した光は、直線偏光から楕円偏光に偏光状態が変化する。例えば、黒表示させた場合、液晶パネル1aを鉛直方向から見たときは、黒色に見える。一方、液晶パネル1aを斜め方向から見たときは、液晶14のリタデーションが発生する。また、偏光フィルム12の軸が90°ではなくなる。そのため、光抜けが生じて、コントラストが低下するという問題が生じる。即ち、液晶パネル1aに視野角依存性が生じる。位相差フィルム13a、13bは、この楕円偏光を直線偏光に戻す機能を有する。これにより、位相差フィルム13a、13bは、液晶パネル1aの視野角依存性を補償することができる。 The retardation films 13a and 13b compensate for the viewing angle dependence of the liquid crystal panel 1a. The polarization state of the light transmitted through the liquid crystal 14 changes from linearly polarized light to elliptically polarized light. For example, when displaying black, the liquid crystal panel 1a appears black when viewed from the vertical direction. On the other hand, when the liquid crystal panel 1a is viewed from an oblique direction, retardation of the liquid crystal 14 occurs. Further, the axis of the polarizing film 12 is no longer 90°. Therefore, a problem arises in that light leakage occurs and contrast deteriorates. That is, viewing angle dependence occurs in the liquid crystal panel 1a. The retardation films 13a and 13b have a function of returning this elliptically polarized light to linearly polarized light. Thereby, the retardation films 13a and 13b can compensate for the viewing angle dependence of the liquid crystal panel 1a.

液晶14には、図示しない電源が接続され、この電源により電圧を印加すると液晶14の配列方向が変化する。そして液晶14は、これにより、光の透過状態を制御する。
VA型液晶パネルの場合、液晶14に電圧を印加していないとき(電圧OFF)は、液晶分子が、図中垂直方向に配列する。そして、バックライトユニット11から光を照射すると、まず、偏光フィルム12aを光が通過して偏光となる。そして、偏光は、液晶14をそのまま通過する。さらに、偏光フィルム12bは、偏光方向が異なるため、この偏光を遮断する。この場合、液晶パネル1aを見るユーザは、この光を視認できない。即ち、液晶14に電圧を印加しない状態では、液晶の色は、「黒」となる。
A power supply (not shown) is connected to the liquid crystal 14, and when a voltage is applied from this power supply, the alignment direction of the liquid crystal 14 changes. The liquid crystal 14 thereby controls the state of light transmission.
In the case of a VA type liquid crystal panel, when no voltage is applied to the liquid crystal 14 (voltage OFF), liquid crystal molecules are aligned in the vertical direction in the figure. When light is emitted from the backlight unit 11, the light first passes through the polarizing film 12a and becomes polarized light. Then, the polarized light passes through the liquid crystal 14 as it is. Furthermore, since the polarizing film 12b has different polarization directions, it blocks this polarized light. In this case, the user viewing the liquid crystal panel 1a cannot visually recognize this light. That is, when no voltage is applied to the liquid crystal 14, the color of the liquid crystal is "black."

対して、液晶14に最大電圧を印加しているときは、液晶分子が、図中水平方向に配列する。そして、偏光フィルム12aを通過した偏光は、液晶14の作用により偏光の方向が90°回転する。そのため、偏光フィルム12bは、この偏光を遮断せず、透過させる。この場合、液晶パネル1aを見るユーザは、この光を視認できる。即ち、液晶14に最大電圧を印加している状態では、液晶の色は、「白」となる。また、電圧は、電圧OFFと最大電圧の間とすることもできる。この場合、液晶14は、図中上下方向と図中上下方向に対する垂直方向との間の状態となる。即ち、液晶14は、上下方向および垂直方向の双方に交差する方向である斜め方向に配列する。この状態では、液晶の色は、「グレー」となる。よって、液晶14に印加する電圧をOFFから最大電圧の間で調整することで、黒、白の他に、中間階調が表現できる。そして、液晶パネル1aは、これにより画像を表示する。
なお、図示はしていないが、カラーフィルタを使用することでカラー画像を表示することもできる。
On the other hand, when the maximum voltage is applied to the liquid crystal 14, the liquid crystal molecules are aligned in the horizontal direction in the figure. Then, the direction of polarized light that has passed through the polarizing film 12a is rotated by 90 degrees due to the action of the liquid crystal 14. Therefore, the polarizing film 12b does not block this polarized light but allows it to pass through. In this case, the user viewing the liquid crystal panel 1a can visually recognize this light. That is, when the maximum voltage is applied to the liquid crystal 14, the color of the liquid crystal becomes "white". Also, the voltage can be between the voltage OFF and the maximum voltage. In this case, the liquid crystal 14 is in a state between the vertical direction in the figure and the direction perpendicular to the vertical direction in the figure. That is, the liquid crystals 14 are arranged in an oblique direction, which is a direction that intersects both the vertical direction and the vertical direction. In this state, the color of the liquid crystal becomes "gray". Therefore, by adjusting the voltage applied to the liquid crystal 14 between OFF and the maximum voltage, not only black and white but also intermediate gradations can be expressed. The liquid crystal panel 1a then displays an image.
Although not shown, a color image can also be displayed by using a color filter.

<反射防止フィルム10の説明>
続いて、反射防止フィルム10を構成する各層について説明する。
図2は、反射防止フィルム10について示した図であり、反射防止フィルム10を各層の積層方向に沿って切断した断面図である。図3は、反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の拡大図である。
反射防止フィルム10は、上述したように、液晶パネル1a(図1参照)の偏光フィルム12b(図1参照)上に設けられる。反射防止フィルム10は、基材15と、基材15上に積層されるアンチグレア層16と、アンチグレア層16上に積層される低屈折率層17とを備える。
<Description of antireflection film 10>
Next, each layer constituting the antireflection film 10 will be explained.
FIG. 2 is a diagram showing the antireflection film 10, and is a cross-sectional view of the antireflection film 10 taken along the lamination direction of each layer. FIG. 3 is an enlarged view of the anti-glare layer 16 in the anti-reflection film 10.
As described above, the antireflection film 10 is provided on the polarizing film 12b (see FIG. 1) of the liquid crystal panel 1a (see FIG. 1). The antireflection film 10 includes a base material 15, an anti-glare layer 16 laminated on the base material 15, and a low refractive index layer 17 laminated on the anti-glare layer 16.

<基材15の説明>
基材15は、アンチグレア層16および低屈折率層17を形成するための支持体である。基材15は、光の透過率が高い材料であることが好ましく、全光線透過率が85%以上である透明基材であることが好ましい。基材15としては、例えば、トリアセチルセルロース(TAC:triacetylcellulose)が用いられる。また、基材15としては、これらに限られるものではなく、ポリエチレンテレフタラート(PET:polyethylene terephthalate)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA:polymethyl methacrylate)、シクロオレフィンポリマー(COP:cycloolefin polymer)等を使用することもできる。さらにまた、基材15としてPETを用いる場合、大きな複屈折率を有するようにPETを延伸したフィルムである超複屈折率フィルム(SRF:super reflection film)を使用してもよい。ただし、本実施の形態では、偏光フィルム12bに貼り合わせた際の着色むらやモアレの発生を抑制する観点から、基材15としては、TACやPETからなるフィルムをより好適に使用することができる。基材15は、例えば、20μm以上200μm以下の厚さを有する。また、アンチグレア層16との密着性を確保するため、基材15の表面には易接着層が形成されていてもよい。基材15の表面に易接着層が形成されている場合、易接着層の屈折率は、アンチグレア層16の後述するバインダ161の屈折率との差が小さいことが好ましい。
<Description of base material 15>
The base material 15 is a support for forming the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17. The base material 15 is preferably made of a material with high light transmittance, and is preferably a transparent base material with a total light transmittance of 85% or more. As the base material 15, triacetylcellulose (TAC) is used, for example. In addition, the base material 15 is not limited to these materials, and polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate (PMMA), cycloolefin polymer (COP), etc. can be used as the base material 15. You can also do that. Furthermore, when PET is used as the base material 15, a super birefringence film (SRF), which is a film obtained by stretching PET to have a large birefringence, may be used. However, in this embodiment, a film made of TAC or PET can be more preferably used as the base material 15 from the viewpoint of suppressing the occurrence of color unevenness and moiré when bonded to the polarizing film 12b. . The base material 15 has a thickness of, for example, 20 μm or more and 200 μm or less. Further, in order to ensure adhesion with the anti-glare layer 16, an easily adhesive layer may be formed on the surface of the base material 15. When an easily adhesive layer is formed on the surface of the base material 15, it is preferable that the refractive index of the easily adhesive layer has a small difference from the refractive index of a binder 161 of the anti-glare layer 16, which will be described later.

また、基材15は、可視光領域(波長380nm以上780nm以下の範囲)における内部ヘイズ値の上限値が、0.8%以下であることが好ましく、0.5%以下であることがより好ましく、0.3%以下であることがより好ましい。また、基材15の視光領域における内部ヘイズ値の下限値は、特に限定されないが、例えば、0.05%以上であることが好ましい。基材15の可視光領域における内部ヘイズ値が高い場合、反射防止フィルム10の拡散反射成分(SCE)が上昇し、反射防止フィルム10のSCI(Specular Component Include)や反射色度(a/b)が悪化するおそれがある。この傾向は、アンチグレア層16に散乱性の高い粒子(後述する散乱粒子162)を用いた場合に、特に顕著となる。なお、反射防止フィルム10のSCEとは、反射防止フィルム10の正反射成分を除いた反射率である。
基材15の内部ヘイズ値は、例えば、基材15の屈折率に近い液体を介して基材15をガラスに挟んだ状態で、ヘイズを測定することにより得ることができる。また、基材15の内部ヘイズ値の波長依存性は、分光ヘイズメーター(例えば、日本電色工業社製SH7000)を用いて測定することができる。
Further, the upper limit of the internal haze value of the base material 15 in the visible light region (wavelength range of 380 nm to 780 nm) is preferably 0.8% or less, more preferably 0.5% or less. , more preferably 0.3% or less. Further, the lower limit of the internal haze value in the viewing area of the base material 15 is not particularly limited, but is preferably, for example, 0.05% or more. When the internal haze value of the base material 15 in the visible light region is high, the diffuse reflection component (SCE) of the antireflection film 10 increases, and the SCI (Specular Component Include) and reflection chromaticity (a * / b) of the antireflection film 10 increase. * ) may worsen. This tendency becomes particularly noticeable when highly scattering particles (scattering particles 162 described later) are used in the anti-glare layer 16. Note that the SCE of the antireflection film 10 is the reflectance of the antireflection film 10 excluding the regular reflection component.
The internal haze value of the base material 15 can be obtained, for example, by measuring the haze in a state where the base material 15 is sandwiched between glass plates via a liquid having a refractive index close to that of the base material 15. Further, the wavelength dependence of the internal haze value of the base material 15 can be measured using a spectroscopic haze meter (for example, SH7000 manufactured by Nippon Denshoku Industries).

<アンチグレア層16の説明>
アンチグレア層16は、外部からの光を散乱させ、液晶パネル1aへの光の映り込みを抑制して、反射防止フィルム10の防眩性を高めるための層である。
本実施形態のアンチグレア層16は、バインダ161と、散乱粒子162とを含む。詳細については後述するが、アンチグレア層16は、例えば、バインダ161と散乱粒子162とを含む塗布溶液から形成することが可能である。また、アンチグレア層16は、バインダ161および散乱粒子162の他に、重合開始剤、連鎖移動剤、レベリング剤、消泡剤、表面改質剤、紫外線吸収剤、増粘剤、酸化防止剤、難燃剤等の他の添加剤を含んでいてもよい。
本実施形態のアンチグレア層16は、図2および図3に示すように、主にバインダ161からなり平坦な表面形状を有する平坦部16aと、平坦部16aの表面から散乱粒子162の一部が突出することで形成された突出部16bとを有している。なお、突出部16bは、平坦部16aの表面から、図中上方、すなわち液晶パネル1aの表面側に突出している。
<Description of anti-glare layer 16>
The anti-glare layer 16 is a layer for scattering external light, suppressing reflection of light on the liquid crystal panel 1a, and enhancing the anti-glare properties of the anti-reflection film 10.
The anti-glare layer 16 of this embodiment includes a binder 161 and scattering particles 162. Although details will be described later, the anti-glare layer 16 can be formed from a coating solution containing a binder 161 and scattering particles 162, for example. In addition to the binder 161 and the scattering particles 162, the anti-glare layer 16 also includes a polymerization initiator, a chain transfer agent, a leveling agent, an antifoaming agent, a surface modifier, an ultraviolet absorber, a thickener, an antioxidant, a Other additives such as fuel agents may also be included.
As shown in FIGS. 2 and 3, the anti-glare layer 16 of this embodiment includes a flat portion 16a which is mainly made of a binder 161 and has a flat surface shape, and a portion of scattering particles 162 protrudes from the surface of the flat portion 16a. It has a protrusion 16b formed by doing so. Note that the protruding portion 16b protrudes from the surface of the flat portion 16a upward in the figure, that is, toward the surface side of the liquid crystal panel 1a.

バインダ161は、散乱粒子を分散する樹脂を含む。バインダ161を構成する樹脂としては、硬化性樹脂を用いることができる。硬化性樹脂の中でも、アンチグレア層16の機械的強度を高める観点および良好な光特性を得る観点から、光硬化性樹脂を用いることが好ましい。
光硬化性樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、(メタ)アクリルウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。これらの光硬化性樹脂として、より具体的には、1または複数の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。1の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N-ビニルピロリドン等が挙げられる。複数の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、複数の不飽和結合を有するオリゴマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
また、バインダ161の樹脂としては、後述する低屈折率層17のバインダ171として例示する樹脂と同様のものを用いてもよい。
Binder 161 includes a resin that disperses scattering particles. As the resin constituting the binder 161, a curable resin can be used. Among the curable resins, it is preferable to use photocurable resins from the viewpoint of increasing the mechanical strength of the anti-glare layer 16 and obtaining good optical properties.
Examples of the photocurable resin include (meth)acrylic resin, urethane resin, (meth)acrylic urethane resin, epoxy resin, and silicone resin. More specifically, these photocurable resins include compounds having one or more unsaturated bonds. Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth)acrylate, ethylhexyl (meth)acrylate, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone. Examples of compounds having multiple unsaturated bonds include polymethylolpropane tri(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra( Examples include meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, neopentylglycol di(meth)acrylate, and the like. Moreover, examples of the oligomer having a plurality of unsaturated bonds include urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, polyether (meth)acrylate, and polyester (meth)acrylate. These may be used alone or in combination.
Moreover, as the resin for the binder 161, the same resin as the resin exemplified as the binder 171 of the low refractive index layer 17, which will be described later, may be used.

バインダ161の屈折率は、1.50以上であることが好ましく、1.55以上であることがより好ましい。また、バインダ161の屈折率は、1.60以下であることが好ましい。
なお、詳細については後述するが、バインダ161の屈折率は、散乱粒子162の屈折率との差が小さいことが好ましい。
The refractive index of the binder 161 is preferably 1.50 or more, more preferably 1.55 or more. Moreover, it is preferable that the refractive index of the binder 161 is 1.60 or less.
Although details will be described later, it is preferable that the difference between the refractive index of the binder 161 and the refractive index of the scattering particles 162 is small.

散乱粒子162は、図3に示すように、主にバインダ161によって構成される平坦部16aから突出した状態で存在する。この突出形状により、外部からの光が散乱される。さらに散乱粒子162は、表面に凹凸163が形成されている。散乱粒子162の表面に形成された凹凸163により、外部からの光がより散乱されやすくなる。
散乱粒子162の平均粒子径は、アンチグレア層16において、バインダ161により形成される平坦部16aの表面から散乱粒子162の一部が突出して突出部16bが形成される範囲に設定される。したがって、散乱粒子162の平均粒子径は、バインダ161に対する散乱粒子162の配合量、平坦部16aの厚さ等によっても異なるが、例えば、1μm以上10μm以下とすることができる。散乱粒子162の平均粒子径が1μm未満である場合、平坦部16aの表面から散乱粒子162が突出しにくくなり、突出部16bにより光を散乱させることによる映り込みを抑制する効果が不十分となりやすい。一方、散乱粒子162の平均粒子径が10μmを超える場合、アンチグレア層16における突出部16bの面積が大きくなって、アンチグレア層16に対する低屈折率層17の塗工性が低下するおそれがある。
また、散乱粒子162は、粗大粒子を含まないほうが好ましい。具体的には、散乱粒子162は、粒径20μm以上の粒子が1質量%以下であることが好ましく、粒径16μm以上の粒子が0.5質量%以下であることがより好ましく、粒径12μm以上の粒子が0.2質量%以下であることがさらに好ましい。散乱粒子162が粗大粒子を多く含むと、アンチグレア層16に対する低屈折率層17の塗工性が低下し、低屈折率層17に粗大粒子を中心とした斑点状の外観不良が発生しやすくなる。散乱粒子162の粒度分布は、コールターカウンター等を用いて測定することができる。
As shown in FIG. 3, the scattering particles 162 exist in a state protruding from the flat portion 16a mainly constituted by the binder 161. This protruding shape scatters light from the outside. Further, the scattering particles 162 have irregularities 163 formed on their surfaces. The unevenness 163 formed on the surface of the scattering particles 162 makes it easier to scatter light from the outside.
The average particle diameter of the scattering particles 162 is set in a range in which a portion of the scattering particles 162 protrudes from the surface of the flat portion 16a formed by the binder 161 to form a protrusion 16b in the anti-glare layer 16. Therefore, the average particle diameter of the scattering particles 162 can be, for example, 1 μm or more and 10 μm or less, although it varies depending on the amount of the scattering particles 162 mixed with the binder 161, the thickness of the flat portion 16a, and the like. When the average particle diameter of the scattering particles 162 is less than 1 μm, the scattering particles 162 are difficult to protrude from the surface of the flat portion 16a, and the effect of suppressing reflection caused by scattering light by the protrusions 16b is likely to be insufficient. On the other hand, if the average particle diameter of the scattering particles 162 exceeds 10 μm, the area of the protrusions 16b in the anti-glare layer 16 becomes large, and there is a possibility that the coatability of the low refractive index layer 17 to the anti-glare layer 16 may deteriorate.
Further, it is preferable that the scattering particles 162 do not include coarse particles. Specifically, the scattering particles 162 preferably contain particles with a particle size of 20 μm or more at 1% by mass or less, more preferably contain particles with a particle size of 16 μm or more at 0.5% by mass or less, and contain particles with a particle size of 12 μm or less. It is more preferable that the amount of the above particles is 0.2% by mass or less. If the scattering particles 162 contain many coarse particles, the coatability of the low refractive index layer 17 to the anti-glare layer 16 will be reduced, and the low refractive index layer 17 will be more likely to have spot-like appearance defects mainly composed of coarse particles. . The particle size distribution of the scattering particles 162 can be measured using a Coulter counter or the like.

また、散乱粒子162は、粒度分布が狭いほうが好ましい。具体的には、散乱粒子162の粒度分布を測定した際の変動係数(CV値)が35%以下であることが好ましく、30%以下であることがより好ましく、25%以下であることがさらに好ましい。変動係数の下限については特に限定されないが、例えば、5%以上であることが好ましい。散乱粒子162の粒度分布の変動係数が35%を上回ると、散乱粒子162を含むアンチグレア層16表面の凹凸が不均一となる。この場合、アンチグレア層16に対する低屈折率層17の塗工性が低下し、低屈折率層17を塗工した際に斑点状の塗工不良が発生しやすくなる。また、散乱粒子162の粒度分布の変動係数が35%を上回ると、反射防止フィルム10の表面の耐摩耗性が低下しやすい。 Further, it is preferable that the scattering particles 162 have a narrow particle size distribution. Specifically, the coefficient of variation (CV value) when measuring the particle size distribution of the scattering particles 162 is preferably 35% or less, more preferably 30% or less, and even more preferably 25% or less. preferable. The lower limit of the coefficient of variation is not particularly limited, but is preferably 5% or more, for example. When the coefficient of variation of the particle size distribution of the scattering particles 162 exceeds 35%, the unevenness of the surface of the anti-glare layer 16 including the scattering particles 162 becomes non-uniform. In this case, the coatability of the low refractive index layer 17 to the anti-glare layer 16 is reduced, and spotty coating defects are likely to occur when the low refractive index layer 17 is coated. Furthermore, when the coefficient of variation of the particle size distribution of the scattering particles 162 exceeds 35%, the abrasion resistance of the surface of the antireflection film 10 tends to decrease.

さらに、アンチグレア層16は、平均粒子径の異なる2種類以上の散乱粒子162を含んでもよい。また、アンチグレア層16は、散乱粒子162に加えて、散乱粒子162とは平均粒子径が異なり、表面に凹凸163が形成されていない他の粒子を含んでもよい。
アンチグレア層16が平均粒子径の異なる2種類以上の粒子を含む場合、これらの平均粒子径の差は、3.5μm以下が好ましく、2.0μm以下がより好ましく、1.5μm以下がさらに好ましい。また、アンチグレア層16が平均粒子径の異なる2種類以上の粒子を含む場合、これらの平均粒子径の差は、0.5μm以上が好ましく、1.0μm以上がより好ましい。平均粒子径の差を上記の範囲内とすることで、反射防止フィルム10のSCIの悪化を招くことなく、防眩性を向上させることができる。また、反射防止フィルム10の反射色度を低減させることができる。
Further, the anti-glare layer 16 may include two or more types of scattering particles 162 having different average particle diameters. Further, in addition to the scattering particles 162, the anti-glare layer 16 may include other particles that have a different average particle diameter from the scattering particles 162 and do not have irregularities 163 formed on their surfaces.
When the anti-glare layer 16 includes two or more types of particles having different average particle diameters, the difference in these average particle diameters is preferably 3.5 μm or less, more preferably 2.0 μm or less, and even more preferably 1.5 μm or less. Further, when the anti-glare layer 16 includes two or more types of particles having different average particle diameters, the difference in these average particle diameters is preferably 0.5 μm or more, and more preferably 1.0 μm or more. By setting the difference in average particle diameter within the above range, the antiglare properties can be improved without causing deterioration of the SCI of the antireflection film 10. Moreover, the reflection chromaticity of the antireflection film 10 can be reduced.

なお、本実施形態の説明において、平均粒子径は、個数平均一次粒子径を意味する。散乱粒子162の平均一次粒子径は、散乱粒子162を分散させた粒子分散液の乾燥膜のSEM(Scanning Electron Microscope)、TEM(Transmission Electron Microscope)およびSTEM(Scanning Transmission Electron Microscope)を用いた観察像により測定することが可能である。なお、散乱粒子162は表面に凹凸163を有するため、平均一次粒子径は、上記の観察像において、散乱粒子162の表面の凹凸163のうちの凸部を散乱粒子162の外周面と近似して測定する。 In addition, in the description of this embodiment, the average particle diameter means the number average primary particle diameter. The average primary particle diameter of the scattering particles 162 is determined by an observation image using an SEM (Scanning Electron Microscope), a TEM (Transmission Electron Microscope), and a STEM (Scanning Transmission Electron Microscope) of a dry film of a particle dispersion liquid in which the scattering particles 162 are dispersed. It is possible to measure by Note that since the scattering particles 162 have irregularities 163 on the surface, the average primary particle diameter is determined by approximating the convex portions of the irregularities 163 on the surface of the scattering particles 162 to the outer peripheral surface of the scattering particles 162 in the above observation image. Measure.

散乱粒子162の表面に形成される凹凸163の表面粗さ、すなわち、アンチグレア層16の突出部16bにおける表面粗さは、アンチグレア層16の平坦部16aにおける表面粗さよりも大きい。
また、平坦部16aの表面粗さ(Ra)は、平坦部16aに対する低屈折率層17の塗工性を向上させる観点から、小さいほど好ましい。
平坦部16aおよび突出部16bにおける表面粗さは、原子間力顕微鏡(AFM)等を用いて測定することができる。
The surface roughness of the irregularities 163 formed on the surface of the scattering particles 162, that is, the surface roughness at the protruding portions 16b of the anti-glare layer 16 is greater than the surface roughness at the flat portions 16a of the anti-glare layer 16.
Further, the surface roughness (Ra) of the flat portion 16a is preferably as small as possible from the viewpoint of improving the coatability of the low refractive index layer 17 on the flat portion 16a.
The surface roughness of the flat portion 16a and the protruding portion 16b can be measured using an atomic force microscope (AFM) or the like.

散乱粒子162の表面に形成される凹凸163は、散乱粒子162の比表面積によって規定することができる。散乱粒子162の表面に形成される凹凸163の形状が複雑で凹凸163による光の散乱性が大きいほど、散乱粒子162の比表面積が大きくなる。本実施形態では、散乱粒子162の比表面積は、5m/g以上が好ましく、50m/g以上がより好ましく、80m/g以上がさらに好ましい。また、散乱粒子162の比表面積の上限値は特に定めるものではないが、500m/g以下を例示することができる。比表面積が5m/g未満の散乱粒子162を用いた場合、反射防止フィルム10の防眩性を確保するために、アンチグレア層16に散乱粒子162を多量に配合する必要がある。この場合、アンチグレア層16における突出部16bの面積が大きくなって、アンチグレア層16に対する低屈折率層17の塗工性が低下するおそれがある。散乱粒子162の比表面積は、例えば、粒子への気体分子の吸着量から粒子の比表面積を測定するBET法により算出することができる。 The unevenness 163 formed on the surface of the scattering particles 162 can be defined by the specific surface area of the scattering particles 162. The more complex the shape of the unevenness 163 formed on the surface of the scattering particle 162 and the greater the light scattering property of the unevenness 163, the larger the specific surface area of the scattering particle 162 becomes. In this embodiment, the specific surface area of the scattering particles 162 is preferably 5 m 2 /g or more, more preferably 50 m 2 /g or more, and even more preferably 80 m 2 /g or more. Further, although the upper limit of the specific surface area of the scattering particles 162 is not particularly determined, an example of the upper limit is 500 m 2 /g or less. When scattering particles 162 having a specific surface area of less than 5 m 2 /g are used, it is necessary to incorporate a large amount of scattering particles 162 into the anti-glare layer 16 in order to ensure the anti-glare properties of the anti-reflection film 10. In this case, the area of the protrusions 16b in the anti-glare layer 16 increases, and there is a possibility that the coatability of the low refractive index layer 17 to the anti-glare layer 16 may deteriorate. The specific surface area of the scattering particles 162 can be calculated, for example, by the BET method, which measures the specific surface area of the particles from the amount of gas molecules adsorbed onto the particles.

散乱粒子162の配合量は、散乱粒子162の平均粒子径等によっても異なるが、アンチグレア層16の固形分に対して、2質量%以上40質量%以下であることが好ましく、3質量%以上30質量%以下であることがより好ましく、4質量%以上20質量%以下であることがさらに好ましい。散乱粒子162の配合量が2質量%未満である場合、突出した散乱粒子162の密度が低下し、突出部16bの面積が小さくなる。この場合、アンチグレア層16において、突出部16bにより光を散乱させることによる映り込みを抑制する効果が不十分となりやすい。一方、散乱粒子162の配合量が40質量%を超える場合、アンチグレア層16における突出部16bの面積が大きくなって、アンチグレア層16に対する低屈折率層17の塗工性が低下するおそれがある。
ここで、反射防止フィルム10を表示装置1に用いる場合、アンチグレア層16に含まれる散乱粒子162は、表示装置1に表示される画像のコントラストの低下を招く場合がある。表示装置1において画像の高コントラストが要求される場合には、アンチグレア層16における散乱粒子162の配合量は、上述した範囲よりもさらに少ないほうが好ましい。具体的には、散乱粒子162の配合量は、アンチグレア層16の固形分に対して、15質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましく、7質量%以下がさらに好ましい。
Although the amount of the scattering particles 162 varies depending on the average particle diameter of the scattering particles 162, it is preferably 2% by mass or more and 40% by mass or less, and 3% by mass or more and 30% by mass or less, based on the solid content of the anti-glare layer 16. It is more preferably at most 4% by mass and at most 20% by mass. When the blending amount of the scattering particles 162 is less than 2% by mass, the density of the protruding scattering particles 162 decreases, and the area of the protrusions 16b decreases. In this case, in the anti-glare layer 16, the effect of suppressing reflection due to scattering of light by the protrusions 16b tends to be insufficient. On the other hand, if the blending amount of the scattering particles 162 exceeds 40% by mass, the area of the protrusions 16b in the anti-glare layer 16 becomes large, and there is a possibility that the coatability of the low refractive index layer 17 to the anti-glare layer 16 may deteriorate.
Here, when the antireflection film 10 is used in the display device 1, the scattering particles 162 included in the antiglare layer 16 may cause a decrease in the contrast of the image displayed on the display device 1. When high image contrast is required in the display device 1, the amount of scattering particles 162 in the anti-glare layer 16 is preferably smaller than the above range. Specifically, the blending amount of the scattering particles 162 is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and even more preferably 7% by mass or less, based on the solid content of the anti-glare layer 16.

散乱粒子162としては、無機粒子を用いてもよく、有機粒子を用いてもよい。散乱粒子162としては、シリカ粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、PMMA粒子、ポリスチレン粒子、ポリエチレン粒子、メラミン粒子、ナイロン粒子、酢酸セルロース粒子、シリコーン粒子、PTFE粒子などが挙げられる。このうち、屈折率および機械強度の観点から、シリカ粒子、PMMA粒子、メラミン粒子、酢酸セルロース粒子、シリコーン粒子のうち少なくとも1つを含むことが好ましい。
また、散乱粒子162の形状は、特に限定されず、例えば、球状、楕円体状、針状、不定形状等が挙げられるが、球状であることが好ましい。散乱粒子162が球状である場合、散乱粒子162がバインダ161に均一に分散されやすくなり、アンチグレア層16において突出部16bが偏在しにくくなる。
As the scattering particles 162, inorganic particles or organic particles may be used. Examples of the scattering particles 162 include silica particles, alumina particles, titania particles, PMMA particles, polystyrene particles, polyethylene particles, melamine particles, nylon particles, cellulose acetate particles, silicone particles, and PTFE particles. Among these, from the viewpoint of refractive index and mechanical strength, it is preferable that at least one of silica particles, PMMA particles, melamine particles, cellulose acetate particles, and silicone particles is included.
Further, the shape of the scattering particles 162 is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, an ellipsoidal shape, a needle shape, an irregular shape, etc., but a spherical shape is preferable. When the scattering particles 162 are spherical, the scattering particles 162 are more likely to be uniformly dispersed in the binder 161, and the protrusions 16b are less likely to be unevenly distributed in the anti-glare layer 16.

散乱粒子162の屈折率は、1.44以上であることが好ましい。また、散乱粒子162の屈折率は、1.60以下であることが好ましい。
また、アンチグレア層16では、バインダ161の屈折率と散乱粒子162の屈折率との差が小さいことが好ましい。具体的には、バインダ161の屈折率と散乱粒子162の屈折率との差が0.15以下であることが好ましく、0.10以下であることがより好ましい。バインダ161の屈折率と散乱粒子162の屈折率との差が小さいことで、バインダ161と散乱粒子162との界面での光の散乱を低減できる。これにより、アンチグレア層16の内部ヘイズ値の上昇を抑制することができ、反射防止フィルム10にした際のSCI(Specular Component Include)を小さくしやすくなる。
The refractive index of the scattering particles 162 is preferably 1.44 or more. Furthermore, the refractive index of the scattering particles 162 is preferably 1.60 or less.
Further, in the anti-glare layer 16, it is preferable that the difference between the refractive index of the binder 161 and the refractive index of the scattering particles 162 is small. Specifically, the difference between the refractive index of the binder 161 and the refractive index of the scattering particles 162 is preferably 0.15 or less, more preferably 0.10 or less. Since the difference between the refractive index of the binder 161 and the refractive index of the scattering particles 162 is small, scattering of light at the interface between the binder 161 and the scattering particles 162 can be reduced. Thereby, an increase in the internal haze value of the anti-glare layer 16 can be suppressed, and SCI (Specular Component Include) when used as the anti-reflection film 10 can be easily reduced.

また、同様の観点から、アンチグレア層16は、バインダ161と散乱粒子162との界面(図3にて符号Xで示す部分)が相溶していることが好ましい。これにより、バインダ161と散乱粒子162との界面での屈折率が連続して変化し、界面での後方散乱を低減することができる。そして、内部ヘイズをさらに小さくしやすくなる。
相溶している部分では、散乱粒子162の表面に形成された凹凸163が小さくなるものの、バインダ161の表面から突出した散乱粒子162の凹凸163は維持される。したがって、アンチグレア層16では、バインダ161と散乱粒子162との界面が相溶している場合であっても、散乱粒子162の凹凸163により光を散乱させる作用は維持される。
バインダ161と散乱粒子162との界面を相溶させる方法としては、相溶化剤を配合する方法が挙げられる。また、詳しくは後述するが、アンチグレア層16を作成する塗布溶液の塗布(塗工)時に、散乱粒子162の成分を溶解する溶剤を配合する方法が挙げられる。バインダ161と散乱粒子162との界面が相溶していることは、アンチグレア層16の断面を走査電子顕微鏡(SEM)等で観察することにより確認できる。
Further, from the same viewpoint, in the anti-glare layer 16, it is preferable that the interface between the binder 161 and the scattering particles 162 (the part indicated by the symbol X in FIG. 3) be compatible with each other. Thereby, the refractive index at the interface between the binder 161 and the scattering particles 162 changes continuously, and backscattering at the interface can be reduced. And it becomes easier to further reduce internal haze.
Although the unevenness 163 formed on the surface of the scattering particles 162 becomes smaller in the compatible portion, the unevenness 163 of the scattering particles 162 protruding from the surface of the binder 161 is maintained. Therefore, in the anti-glare layer 16, even if the interfaces between the binder 161 and the scattering particles 162 are compatible, the effect of scattering light by the unevenness 163 of the scattering particles 162 is maintained.
As a method of making the interface between the binder 161 and the scattering particles 162 compatible, a method of blending a compatibilizer can be mentioned. Further, as will be described in detail later, there is a method in which a solvent that dissolves the components of the scattering particles 162 is added at the time of application (coating) of the coating solution for forming the anti-glare layer 16. The fact that the interface between the binder 161 and the scattering particles 162 is compatible can be confirmed by observing the cross section of the anti-glare layer 16 using a scanning electron microscope (SEM) or the like.

上述したように、アンチグレア層16は、平坦な表面形状を有する平坦部16aと、平坦部16aの表面から散乱粒子162の一部が突出することで形成された突出部16bとを有している。そして、突出部16bには、散乱粒子162に由来する凹凸163が形成されている。
ここで、一般に、アンチグレア層16による防眩性を高くするためには、アンチグレア層16表面の凹凸を大きくし、外部ヘイズ値を高くすることが挙げられる。しかしながら、アンチグレア層16表面の凹凸を単純に大きくすると、アンチグレア層16上に積層する低屈折率層17等の塗工性が低下する。例えば、アンチグレア層16表面の凹凸が大きいと、アンチグレア層16上にウェットコーティング法などによって低屈折率層17を均一に塗工することが困難になる。この場合、低屈折率層17によって、アンチグレア層16と低屈折率層17との界面での光の反射量が低減されにくくなる。そして、液晶パネル1aに表示される画像が白くぼけた状態となり、画像の鮮鋭度が下がる場合がある。
なお、スパッタリング法や蒸着法などでコーティングを行う場合、表面の凹凸が大きいアンチグレア層16上に対しても均一な低屈折率層17を作成することが可能である。しかしながら、これらの方法で形成可能な低屈折率層17は屈折率が高いため、十分な反射防止特性を確保するためには高屈折率層との積層(例えば4層)が必要となる。その結果、反射防止フィルム10を斜めから観察した際に着色が見られる。また、製造コストも大幅に上がってしまう。
As described above, the anti-glare layer 16 has a flat portion 16a having a flat surface shape and a protruding portion 16b formed by a portion of the scattering particles 162 protruding from the surface of the flat portion 16a. . Further, irregularities 163 originating from the scattering particles 162 are formed on the protruding portion 16b.
In general, in order to improve the anti-glare properties of the anti-glare layer 16, it is possible to increase the irregularities on the surface of the anti-glare layer 16 to increase the external haze value. However, simply increasing the irregularities on the surface of the anti-glare layer 16 deteriorates the coatability of the low refractive index layer 17 and the like laminated on the anti-glare layer 16. For example, if the surface of the anti-glare layer 16 has large irregularities, it becomes difficult to uniformly apply the low refractive index layer 17 on the anti-glare layer 16 by a wet coating method or the like. In this case, the low refractive index layer 17 makes it difficult to reduce the amount of light reflected at the interface between the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17. Then, the image displayed on the liquid crystal panel 1a becomes white and blurred, and the sharpness of the image may decrease.
Note that when coating is performed using a sputtering method, a vapor deposition method, or the like, it is possible to create a uniform low refractive index layer 17 even on the anti-glare layer 16 whose surface is highly uneven. However, since the low refractive index layer 17 that can be formed by these methods has a high refractive index, it is necessary to stack it with a high refractive index layer (for example, four layers) in order to ensure sufficient antireflection properties. As a result, when the antireflection film 10 is observed from an angle, coloring is visible. Furthermore, manufacturing costs will also increase significantly.

これに対し、本実施形態では、アンチグレア層16が上述した構成を有することで、アンチグレア層16の外部ヘイズ値を高めて、反射防止フィルム10の防眩性を高くすることができる。さらに、アンチグレア層16に対する低屈折率層17の塗工性の低下を抑制することができる。
すなわち、アンチグレア層16には、散乱粒子162の一部が突出することで、複数の突出部16bが形成されている。そして、それぞれの突出部16bの表面には、散乱粒子162に由来する凹凸163が形成されている。付言すると、突出部16bの表面粗さは、平坦部16aの表面粗さよりも大きい。これにより、例えば突出部16bの表面に凹凸163が形成されない場合と比べて、アンチグレア層16の外部ヘイズ値が高くなり、アンチグレア層16の表面にて外部からの光が散乱しやすくなる。この結果、液晶パネル1aへの光の映り込みが抑制され、反射防止フィルム10の防眩性を高めることができる。
On the other hand, in this embodiment, the anti-glare layer 16 has the above-described configuration, so that the external haze value of the anti-glare layer 16 can be increased and the anti-glare properties of the anti-reflection film 10 can be increased. Furthermore, it is possible to suppress deterioration in the coatability of the low refractive index layer 17 to the anti-glare layer 16.
That is, a plurality of protrusions 16b are formed in the anti-glare layer 16 by partially protruding the scattering particles 162. In addition, irregularities 163 originating from the scattering particles 162 are formed on the surface of each protrusion 16b. In addition, the surface roughness of the protruding portion 16b is greater than that of the flat portion 16a. As a result, the external haze value of the anti-glare layer 16 becomes higher, and light from the outside is more likely to be scattered on the surface of the anti-glare layer 16, compared to, for example, a case where the unevenness 163 is not formed on the surface of the protruding portion 16b. As a result, reflection of light onto the liquid crystal panel 1a is suppressed, and the anti-glare properties of the anti-reflection film 10 can be improved.

また、アンチグレア層16には、表面形状が平坦な平坦部16aが形成されている。これにより、アンチグレア層16の平坦部16a上に低屈折率層17を作成することで、アンチグレア層16に対する低屈折率層17の塗工性の低下が抑制される。付言すると、ウェットコーティング法を用いて低屈折率層17を作成する場合であっても、低屈折率層17を均一に塗工することが可能となる。この結果、低屈折率層17によって液晶パネル1aの反射率を低下させ、液晶パネル1aに表示される画像の鮮鋭度を高めることが可能となる。 Further, the anti-glare layer 16 has a flat portion 16a having a flat surface. Thereby, by forming the low refractive index layer 17 on the flat portion 16a of the anti-glare layer 16, deterioration in the coatability of the low refractive index layer 17 on the anti-glare layer 16 is suppressed. In addition, even when creating the low refractive index layer 17 using a wet coating method, it is possible to uniformly apply the low refractive index layer 17. As a result, it becomes possible to reduce the reflectance of the liquid crystal panel 1a by the low refractive index layer 17 and increase the sharpness of the image displayed on the liquid crystal panel 1a.

アンチグレア層16は、低屈折率層17が積層される方向(上方)から見た場合に、突出部16bの面積に対する平坦部16aの面積の比率(平坦部16aの面積/突出部16bの面積)が、2.0以上30以下であることが好ましく、5.0以上20以下であることがより好ましい。
突出部16bの面積に対する平坦部16aの面積の比率が2.0未満である場合、アンチグレア層16において表面形状が平坦な部分の面積が小さくなるため、低屈折率層17の塗工性が低下するおそれがある。また、突出部16bの面積に対する平坦部16aの面積の比率が30を超える場合、突出部16bの面積が相対的に小さくなるため、突出部16bの表面に形成された凹凸163により光を散乱しにくくなる場合がある。
The anti-glare layer 16 has a ratio of the area of the flat part 16a to the area of the protruding part 16b (area of the flat part 16a/area of the protruding part 16b) when viewed from the direction (above) in which the low refractive index layer 17 is laminated. is preferably 2.0 or more and 30 or less, more preferably 5.0 or more and 20 or less.
If the ratio of the area of the flat portion 16a to the area of the protruding portion 16b is less than 2.0, the area of the portion with a flat surface shape in the anti-glare layer 16 becomes small, so that the coatability of the low refractive index layer 17 decreases. There is a risk of Furthermore, if the ratio of the area of the flat portion 16a to the area of the protruding portion 16b exceeds 30, the area of the protruding portion 16b becomes relatively small, so that light is scattered by the unevenness 163 formed on the surface of the protruding portion 16b. It may become difficult.

アンチグレア層16における平坦部16aの膜厚は、1μm以上10μm以下が好ましく、2μm以上6μm以下がより好ましい。平坦部16aの膜厚が1μm未満である場合、平坦部16aを構成するバインダ161による散乱粒子162の保持力が低くなりやすい。また、鉛筆硬度などのアンチグレア層16に必要な機械特性が不十分となる。一方、平坦部16aの膜厚が10μmを超える場合、散乱粒子162が平坦部16aの表面から突出しにくくなり、突出部16bが形成されにくくなる。この場合、アンチグレア層16において、突出部16bにより光を散乱させることによる映り込みを抑制する効果が不十分となりやすい。
また、突出部16bにおいて散乱粒子162が平坦部16aの表面から突出する高さは、例えば、散乱粒子162の粒子径の20%以上80%以下であり、30%以上70%以下であることが好ましい。
The thickness of the flat portion 16a in the anti-glare layer 16 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, more preferably 2 μm or more and 6 μm or less. When the film thickness of the flat portion 16a is less than 1 μm, the holding power of the scattering particles 162 by the binder 161 forming the flat portion 16a tends to be low. Moreover, the mechanical properties necessary for the anti-glare layer 16, such as pencil hardness, become insufficient. On the other hand, when the film thickness of the flat portion 16a exceeds 10 μm, the scattering particles 162 are difficult to protrude from the surface of the flat portion 16a, and the protruding portion 16b is difficult to be formed. In this case, in the anti-glare layer 16, the effect of suppressing reflection due to scattering of light by the protrusions 16b tends to be insufficient.
Further, the height at which the scattering particles 162 protrude from the surface of the flat portion 16a in the protruding portion 16b is, for example, 20% or more and 80% or less of the particle diameter of the scattering particles 162, and may be 30% or more and 70% or less. preferable.

なお、本実施形態のアンチグレア層16では、突出部16bの表面に低屈折率層17が積層されず、散乱粒子162の表面の凹凸163が露出しているが、これに限られない。散乱粒子162の表面の凹凸163が低屈折率層17によって被覆されていてもよい。 In addition, in the anti-glare layer 16 of this embodiment, the low refractive index layer 17 is not laminated on the surface of the protrusion part 16b, and the unevenness|corrugation 163 of the surface of the scattering particle 162 is exposed, but it is not limited to this. The unevenness 163 on the surface of the scattering particles 162 may be covered with the low refractive index layer 17.

また、アンチグレア層16は、さらに、平均粒子径が小さい粒子を含んでいてもよい。平均粒子径が小さい粒子とは、アンチグレア層16におけるバインダ161の厚み(すなわち、平坦部16aの膜厚)よりも平均粒子径が小さい粒子を意味する。以下、この平均粒子径が小さい粒子を微小粒子と表記する。微小粒子の材質としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、スチレン、ポリアクリル-スチレン共重合体、メラミン樹脂、シリコーン、フッ素樹脂、シリカ、アルミナ等が挙げられる。本実施形態では、微小粒子を配合することで、散乱粒子162の過度な凝集が抑制された均一なアンチグレア層16を形成することが可能となる。 Further, the anti-glare layer 16 may further include particles having a small average particle diameter. Particles having a small average particle diameter mean particles having an average particle diameter smaller than the thickness of the binder 161 in the anti-glare layer 16 (that is, the thickness of the flat portion 16a). Hereinafter, particles having a small average particle diameter will be referred to as microparticles. Examples of the material for the microparticles include polymethyl (meth)acrylate, styrene, polyacrylic-styrene copolymer, melamine resin, silicone, fluororesin, silica, alumina, and the like. In this embodiment, by blending fine particles, it is possible to form a uniform anti-glare layer 16 in which excessive aggregation of the scattering particles 162 is suppressed.

アンチグレア層16の平坦部16aの膜厚をTとすると、微小粒子の平均粒子径は、0.1T以上0.9T以下が好ましく、0.2T以上0.8T以下がより好ましく、0.3T以上0.7T以下がさらに好ましい。また、具体的な微小粒子の平均粒子径としては、0.5μm以上3.0μm以下が好ましく、0.8μm以上2.3μm以下がより好ましい。微小粒子の平均粒子径が上記範囲を下回ると、アンチグレア層16への入射光の後方散乱が大きくなり、反射率が悪化する。また、微小粒子の平均粒子径が上記範囲を上回ると、バインダ161の表面に微小粒子が突出してしまい、低屈折率層17を均一に塗工することが困難になる。この場合、低屈折率層17によって液晶パネル1aの反射率を低下させることが困難になる。 When the thickness of the flat portion 16a of the anti-glare layer 16 is T, the average particle diameter of the fine particles is preferably 0.1T or more and 0.9T or less, more preferably 0.2T or more and 0.8T or less, and 0.3T or more. More preferably, it is 0.7T or less. Further, the specific average particle diameter of the fine particles is preferably 0.5 μm or more and 3.0 μm or less, more preferably 0.8 μm or more and 2.3 μm or less. If the average particle diameter of the microparticles is below the above range, back scattering of light incident on the anti-glare layer 16 will increase, and the reflectance will deteriorate. Furthermore, if the average particle diameter of the fine particles exceeds the above range, the fine particles will protrude from the surface of the binder 161, making it difficult to uniformly apply the low refractive index layer 17. In this case, it becomes difficult to reduce the reflectance of the liquid crystal panel 1a by the low refractive index layer 17.

また、アンチグレア層16は、さらに、ナノ粒子を含んでいてもよい。ナノ粒子とは、平均粒子径が100nm以下の粒子である。ナノ粒子の材質としては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、酸化インジウム等が挙げられるが、中でもバインダ161との屈折率の差が小さいシリカが好ましい。本実施形態のアンチグレア層16では、ナノ粒子がバインダ161内に含まれることで、バインダ161の比重および粘度が増加し、アンチグレア層16における散乱粒子162同士の凝集を防ぐことができる。
ナノ粒子の含有量は、アンチグレア層16の固形分に対して、1質量%以上40質量%以下が好ましく、3質量%以上30質量%以下がより好ましい。ナノ粒子の含有量を上記の範囲内にすることで、アンチグレア層16においてナノ粒子同士の凝集を発生させることなく、ナノ粒子による上記の効果を得ることができる。
Moreover, the anti-glare layer 16 may further contain nanoparticles. Nanoparticles are particles with an average particle diameter of 100 nm or less. Examples of the material of the nanoparticles include silica, alumina, zirconia, titania, indium oxide, etc. Among them, silica is preferable because it has a small difference in refractive index from the binder 161. In the anti-glare layer 16 of this embodiment, the inclusion of nanoparticles in the binder 161 increases the specific gravity and viscosity of the binder 161, and can prevent the scattering particles 162 from aggregating in the anti-glare layer 16.
The content of nanoparticles is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 30% by mass or less, based on the solid content of the anti-glare layer 16. By setting the content of nanoparticles within the above range, the above effects of the nanoparticles can be obtained without causing aggregation of nanoparticles in the anti-glare layer 16.

<低屈折率層17の説明>
低屈折率層17は、液晶パネル1aの反射率を低減させるための層である。本実施形態では、低屈折率層17は、アンチグレア層16における平坦部16a上に積層されている。
低屈折率層17は、相対的に屈折率が小さい層である。具体的には、低屈折率層17は、屈折率が1.40以下であることが必要である。また、低屈折率層17は、屈折率が、1.20以上1.34以下であることが好ましい。低屈折率層17の屈折率がこの範囲であることで、液晶パネル1aでの反射率をより低減することができる。
低屈折率層17は、単層で形成しても多層で形成してもよいが、製造コストの観点からなるべく少ない層数で形成することが好ましい。
<Description of low refractive index layer 17>
The low refractive index layer 17 is a layer for reducing the reflectance of the liquid crystal panel 1a. In this embodiment, the low refractive index layer 17 is laminated on the flat portion 16a of the anti-glare layer 16.
The low refractive index layer 17 is a layer with a relatively low refractive index. Specifically, the low refractive index layer 17 needs to have a refractive index of 1.40 or less. Further, the low refractive index layer 17 preferably has a refractive index of 1.20 or more and 1.34 or less. When the refractive index of the low refractive index layer 17 is within this range, the reflectance on the liquid crystal panel 1a can be further reduced.
The low refractive index layer 17 may be formed as a single layer or as a multilayer, but from the viewpoint of manufacturing cost, it is preferable to form it with as few layers as possible.

低屈折率層17の厚さは、50nm以上500nm以下であり、80nm以上120nm以下であることが好ましい。付言すると、低屈折率層17の厚さ(平均膜厚)は、アンチグレア層16における散乱粒子162の粒径、およびアンチグレア層16の突出部16bの高さと比べて、十分に小さいことが好ましい。 The thickness of the low refractive index layer 17 is 50 nm or more and 500 nm or less, preferably 80 nm or more and 120 nm or less. In addition, it is preferable that the thickness (average thickness) of the low refractive index layer 17 is sufficiently smaller than the particle size of the scattering particles 162 in the anti-glare layer 16 and the height of the protrusion 16b of the anti-glare layer 16.

低屈折率層17は、バインダ171と、バインダ171中に分布する中空粒子の一例としての中空シリカ粒子172とを含む。また、図示は省略するが、低屈折率層17は、バインダ171の表面側(図2における上側)に主に分布する表面改質剤をさらに含む。 The low refractive index layer 17 includes a binder 171 and hollow silica particles 172 as an example of hollow particles distributed in the binder 171. Although not shown, the low refractive index layer 17 further includes a surface modifier mainly distributed on the surface side of the binder 171 (upper side in FIG. 2).

バインダ171は、3次元架橋構造となっており、中空シリカ粒子172同士を連結する。バインダ171は、主成分として樹脂を含む。樹脂としては、含フッ素樹脂を含んでいてもよい。この場合、樹脂は、全て含フッ素樹脂でもよく、一部が含フッ素樹脂であってもよい。含フッ素樹脂は、フッ素を含む樹脂であり、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)である。また、例えば、パーフルオロアルコキシアルカン(PFA)である。さらに、例えば、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー(FEP)、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー(ETFE)である。含フッ素樹脂は、屈折率が低い。そのため、含フッ素樹脂を使用することで、低屈折率層17が、より低屈折率になりやすく、反射率をより低減することができる。 The binder 171 has a three-dimensional crosslinked structure and connects the hollow silica particles 172 to each other. Binder 171 contains resin as a main component. The resin may include a fluorine-containing resin. In this case, all of the resin may be a fluororesin, or a portion thereof may be a fluororesin. The fluororesin is a resin containing fluorine, and is, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE). Also, for example, perfluoroalkoxyalkane (PFA). Furthermore, for example, perfluoroethylene propene copolymer (FEP), ethylene tetrafluoroethylene copolymer (ETFE). Fluorine-containing resins have a low refractive index. Therefore, by using a fluorine-containing resin, the low refractive index layer 17 tends to have a lower refractive index, and the reflectance can be further reduced.

また、含フッ素樹脂は、光硬化性含フッ素樹脂であることがさらに好ましい。光硬化性含フッ素樹脂は、下記一般式(1)~(2)で示す光重合性含フッ素モノマーが光重合したものである。そして、構造単位Mを、0.1モル%以上100モル%以下含む。また構造単位Aを、0モル%を超え99.9モル%以下含む。さらに数平均分子量が30,000以上1,000,000以下である。 Moreover, it is more preferable that the fluororesin is a photocurable fluororesin. The photocurable fluorine-containing resin is obtained by photopolymerizing photopolymerizable fluorine-containing monomers represented by the following general formulas (1) to (2). The structural unit M is contained in an amount of 0.1 mol% or more and 100 mol% or less. It also contains more than 0 mol% and less than 99.9 mol% of structural unit A. Furthermore, the number average molecular weight is 30,000 or more and 1,000,000 or less.

Figure 2024028139000002
Figure 2024028139000002

一般式(1)中、構造単位Mは、一般式(2)で示す含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位である。また、構造単位Aは、一般式(2)で示す含フッ素エチレン性単量体と共重合可能な単量体に由来する構造単位である。
一般式(2)中、XおよびXは、HまたはFである。また、XはH、F、CHまたはCFである。XおよびXは、H、FまたはCFである。Rfは、炭素数1以上40以下の含フッ素アルキル基または炭素数2以上100以下のエーテル結合を有する含フッ素アルキル基に、Yが1個以上3個以下結合している有機基である。なおYは末端にエチレン性炭素-炭素二重結合を有する炭素数2以上10以下の1価の有機基である。また、aは0、1、2または3であり、bおよびcは、0または1である。
光重合性含フッ素樹脂としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のOPTOOL AR-110を例示することができる。また、ダイセルオルネクス社製のEBECRYL8110、共栄社化学社製のLINCシリーズなどを例示することができる。
また、フッ素原子を含まないバインダの具体例としては、共栄社化学製のライトアクリレートPOB-A、NP-A、DCP-A、TMP-A、UA-306I、UA-306Hが挙げられる。さらに、新中村化学社製のNKエステルA-DOD-N、A-200、A-BPE-4が挙げられる。またさらに、東亞合成社製のアロニックスM-315、M-306、M-408が挙げられる。またさらに、日本化薬社製のKAYARAD DPHA、DPEA-12などが挙げられる。これらのバインダは、膜強度を向上させる上で有効である。
In the general formula (1), the structural unit M is a structural unit derived from the fluorine-containing ethylenic monomer shown in the general formula (2). Further, the structural unit A is a structural unit derived from a monomer copolymerizable with the fluorine-containing ethylenic monomer represented by the general formula (2).
In general formula (2), X 1 and X 2 are H or F. Moreover, X3 is H, F, CH3 or CF3 . X4 and X5 are H, F or CF3 . Rf is an organic group in which 1 to 3 Y 1 is bonded to a fluorine-containing alkyl group having 1 to 40 carbon atoms or a fluorine-containing alkyl group having 2 to 100 carbon atoms and having an ether bond. Note that Y 1 is a monovalent organic group having 2 to 10 carbon atoms and having an ethylenic carbon-carbon double bond at the end. Further, a is 0, 1, 2 or 3, and b and c are 0 or 1.
As the photopolymerizable fluororesin, for example, OPTOOL AR-110 manufactured by Daikin Industries, Ltd. can be exemplified. Further, examples include EBECRYL8110 manufactured by Daicel Allnex, LINC series manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., and the like.
Specific examples of binders that do not contain fluorine atoms include light acrylates POB-A, NP-A, DCP-A, TMP-A, UA-306I, and UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical. Further examples include NK esters A-DOD-N, A-200, and A-BPE-4 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Further examples include Aronix M-315, M-306, and M-408 manufactured by Toagosei. Further examples include KAYARAD DPHA and DPEA-12 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. These binders are effective in improving film strength.

中空シリカ粒子172は、外殻層を有し、外殻層の内部は中空または多孔質体となっている。外殻層及び多孔質体は、主に酸化ケイ素(SiO)にて構成する。また外殻層の表面側には、光重合性基および水酸基が多数結合している。光重合性基と外殻層とは、Si-O-Si結合及び水素結合のうち、少なくとも一方の結合を介して結合している。光重合性基としては、アクリロイル基及びメタクリロイル基を挙げることができる。すなわち、中空シリカ粒子172は、光重合性基として、アクリロイル基及びメタクリロイル基のうち少なくとも一方を含む。光重合性基は、電離放射線硬化性基とも称する。中空シリカ粒子172は少なくとも光重合性基を有していればよく、これらの官能基の数、種類は特に限定しない。 The hollow silica particles 172 have an outer shell layer, and the inside of the outer shell layer is hollow or porous. The outer shell layer and the porous body are mainly composed of silicon oxide (SiO 2 ). Furthermore, a large number of photopolymerizable groups and hydroxyl groups are bonded to the surface side of the outer shell layer. The photopolymerizable group and the outer shell layer are bonded through at least one of a Si--O--Si bond and a hydrogen bond. Examples of the photopolymerizable group include an acryloyl group and a methacryloyl group. That is, the hollow silica particles 172 contain at least one of an acryloyl group and a methacryloyl group as a photopolymerizable group. Photopolymerizable groups are also referred to as ionizing radiation curable groups. The hollow silica particles 172 only need to have at least a photopolymerizable group, and the number and type of these functional groups are not particularly limited.

中空シリカ粒子172の平均一次粒子径は、35nm以上120nm以下であることが好ましい。また、中空シリカ粒子172の平均一次粒子径は、40nm以上90nm以下であることがより好ましい。平均一次粒子径が35nm未満の場合、中空シリカ粒子172の空隙率が小さくなりやすい。そのため、低屈折率層17の屈折率を下げる効果が生じにくくなる。また、中空シリカ粒子172の平均一次粒子径が120nmを超える場合、低屈折率層17の表面の凹凸が顕著になりやすい。そのため、防汚性や耐擦傷性が低下しやすい。 The average primary particle diameter of the hollow silica particles 172 is preferably 35 nm or more and 120 nm or less. Further, the average primary particle diameter of the hollow silica particles 172 is more preferably 40 nm or more and 90 nm or less. When the average primary particle diameter is less than 35 nm, the porosity of the hollow silica particles 172 tends to become small. Therefore, the effect of lowering the refractive index of the low refractive index layer 17 is less likely to occur. Further, when the average primary particle diameter of the hollow silica particles 172 exceeds 120 nm, the surface irregularities of the low refractive index layer 17 tend to become noticeable. Therefore, stain resistance and scratch resistance tend to deteriorate.

中空シリカ粒子172の平均一次粒子径は、粒子分散液の乾燥膜のSEM(Scanning Electron Microscope)、TEM(Transmission Electron Microscope)およびSTEM(Scanning Transmission Electron Microscope)を用いた観察像により測定することが可能である。 The average primary particle diameter of the hollow silica particles 172 can be measured by observing an image of a dried film of the particle dispersion using an SEM (Scanning Electron Microscope), a TEM (Transmission Electron Microscope), or a STEM (Scanning Transmission Electron Microscope). It is.

中空シリカ粒子172の配合量は、低屈折率層17の中で30質量%以上65質量%以下であることが好ましい。中空シリカ粒子172の配合量が30質量%未満であると、低屈折率層17の屈折率が高くなり、反射防止フィルム10の反射率が高くなりやすい。また、中空シリカ粒子172の配合量が65質量%を超えると、膜強度が低下しやすくなる。さらに、付着物が目立ちやすく、拭き取りがしにくくなる。 The content of the hollow silica particles 172 in the low refractive index layer 17 is preferably 30% by mass or more and 65% by mass or less. When the amount of hollow silica particles 172 is less than 30% by mass, the refractive index of the low refractive index layer 17 becomes high, and the reflectance of the antireflection film 10 tends to become high. Furthermore, when the content of hollow silica particles 172 exceeds 65% by mass, the film strength tends to decrease. Furthermore, deposits are more noticeable and difficult to wipe off.

また、中空シリカ粒子172は、中空シリカ粒子172の粒径に対する頻度曲線(粒度分布曲線)に複数の極大値を有するようにすることができる。つまり、この場合、中空シリカ粒子172は、粒径分布の異なる複数のものからなる。例えば、中空シリカ粒子172の平均一次粒子径が、30nm、60nm、75nmのものの中から複数選択し、混合して使用する。 Further, the hollow silica particles 172 can have a plurality of maximum values in a frequency curve (particle size distribution curve) with respect to the particle size of the hollow silica particles 172. That is, in this case, the hollow silica particles 172 are composed of a plurality of particles having different particle size distributions. For example, a plurality of hollow silica particles 172 having an average primary particle diameter of 30 nm, 60 nm, and 75 nm are selected and mixed for use.

表面改質剤は、バインダ171の表面側に主に分布し、低屈折率層17の表面を改質する。即ち、表面改質剤は、低屈折率層17の表面側に偏析している。なお、表面改質剤は、バインダ171の内部に存在しても、低屈折率層17の機能を損なうものではない。
本実施の形態では、表面改質剤は、撥油性の表面改質剤および親油性の表面改質剤を含む。
The surface modifier is mainly distributed on the surface side of the binder 171 and modifies the surface of the low refractive index layer 17. That is, the surface modifier is segregated on the surface side of the low refractive index layer 17. Note that even if the surface modifier exists inside the binder 171, it does not impair the function of the low refractive index layer 17.
In this embodiment, the surface modifier includes an oil-repellent surface modifier and a lipophilic surface modifier.

撥油性の表面改質剤は、バインダ171等に配合し表面に偏析することで、膜表面の撥油性を向上させる役割を担う。撥油性の表面改質剤の効果は、オレイン酸等の接触角を測定することで確認することができる。この場合、撥油性の表面改質剤の添加時と未添加時との膜表面の接触角の差(添加時の接触角-未添加時の接触角)により、効果を確認できる。この場合、撥油性の表面改質剤を添加すると接触角は、大きくなる。そして、接触角の差が、10°以上のものが好ましい。また、接触角の差が、20°以上のものがより好ましく、30°以上のものがさらに好ましい。 The oil-repellent surface modifier plays a role in improving the oil-repellency of the film surface by being mixed with the binder 171 and the like and segregated on the surface. The effect of the oil-repellent surface modifier can be confirmed by measuring the contact angle of oleic acid, etc. In this case, the effect can be confirmed by the difference in contact angle on the membrane surface between when the oil-repellent surface modifier is added and when it is not added (contact angle when added - contact angle when not added). In this case, the contact angle increases when an oil-repellent surface modifier is added. The difference in contact angle is preferably 10° or more. Further, the difference in contact angle is more preferably 20° or more, and even more preferably 30° or more.

撥油性の表面改質剤は、光重合性基を有するフッ素系化合物であることが好ましい。
具体的な撥油性の表面改質剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製のKY-1203、KY-1207が挙げられる。また、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツールDAC-HPが挙げられる。さらに、例えば、DIC株式会社製のメガファックF-477、F-554、F-556、F-570、RS-56、RS-58、RS-75、RS-78、RS-90が挙げられる。またさらに、例えば、株式会社フロロテクノロジー製のFS-7024、FS-7025、FS-7026、FS-7031、FS-7032が挙げられる。またさらに、例えば、第一工業製薬株式会社製のH-3593、H-3594が挙げられる。さらに、例えば、AGC株式会社製のSURECO AF Seriesが挙げられる。そして、例えば、株式会社ネオス製のフタージェントF-222F、M-250、601AD、601ADH2が挙げられる。
The oil-repellent surface modifier is preferably a fluorine-based compound having a photopolymerizable group.
Specific oil-repellent surface modifiers include, for example, KY-1203 and KY-1207 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Another example is Optool DAC-HP manufactured by Daikin Industries, Ltd. Further examples include Megafac F-477, F-554, F-556, F-570, RS-56, RS-58, RS-75, RS-78, and RS-90 manufactured by DIC Corporation. Furthermore, examples include FS-7024, FS-7025, FS-7026, FS-7031, and FS-7032 manufactured by Fluoro Technology Co., Ltd. Furthermore, examples include H-3593 and H-3594 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Furthermore, for example, SURECO AF Series manufactured by AGC Corporation can be mentioned. Examples include Ftergent F-222F, M-250, 601AD, and 601ADH2 manufactured by NEOS Corporation.

親油性の表面改質剤は、バインダ171等に配合し表面に偏析することで、膜表面の親油性を向上させる役割を担う。親油性の表面改質剤の効果は、オレイン酸等の接触角を測定することで確認することができる。この場合、親油性の表面改質剤の未添加時と添加時との膜表面の接触角の差(未添加時の接触角-添加時の接触角)により、効果を確認できる。この場合、親油性の表面改質剤を添加すると接触角は、小さくなる。そして、接触角の差が、3°以上のものが好ましい。また、接触角の差が、5°以上のものがより好ましく、7°以上のものがさらに好ましい。 The lipophilic surface modifier plays a role in improving the lipophilicity of the membrane surface by being blended with the binder 171 and the like and segregated on the surface. The effect of a lipophilic surface modifier can be confirmed by measuring the contact angle of oleic acid, etc. In this case, the effect can be confirmed by the difference in contact angle on the membrane surface between when the lipophilic surface modifier is not added and when it is added (contact angle when not added - contact angle when added). In this case, when a lipophilic surface modifier is added, the contact angle becomes smaller. The difference in contact angle is preferably 3° or more. Further, the difference in contact angle is more preferably 5° or more, and even more preferably 7° or more.

具体的な親油性の表面改質剤としては、例えば、三洋化成工業株式会社製のメルクリア350Lが挙げられる。また、例えば、株式会社ネオス製のフタージェント730LM、602A、650A、650ACが挙げられる。 A specific example of the lipophilic surface modifier is Mercuria 350L manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd. Further, examples include Ftergent 730LM, 602A, 650A, and 650AC manufactured by NEOS Corporation.

低屈折率層17は、皮脂等の付着物が付着しても、付着物が目立ちにくい。また、付着物の拭き取り除去が容易である。これは、中空シリカ粒子172を多く含有させても同様である。 Even if deposits such as sebum adhere to the low refractive index layer 17, the deposits are not easily noticeable. In addition, it is easy to wipe off deposits. This is the same even if a large amount of hollow silica particles 172 are contained.

<反射防止フィルム10の特性>
続いて、アンチグレア層16と低屈折率層17とが積層された反射防止フィルム10の特性について説明する。
反射防止フィルム10は、内部ヘイズ値と外部ヘイズ値とを合わせたヘイズ値(トータルヘイズ値)が、20%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましい。反射防止フィルム10のヘイズ値は、JIS K7136:2000に準拠して測定することができる。また、反射防止フィルム10は、ヘイズ値が80%以下であることが好ましく、60%以下であることがより好ましい。反射防止フィルム10のヘイズ値が20%未満である場合、反射防止フィルム10の防眩性が不十分となり、液晶パネル1aに光の映り込みが生じやすくなる。
<Characteristics of antireflection film 10>
Next, the characteristics of the antireflection film 10 in which the antiglare layer 16 and the low refractive index layer 17 are laminated will be explained.
The antireflection film 10 preferably has a haze value (total haze value) that is a combination of an internal haze value and an external haze value, and is more preferably 20% or more, and more preferably 30% or more. The haze value of the antireflection film 10 can be measured in accordance with JIS K7136:2000. Further, the antireflection film 10 preferably has a haze value of 80% or less, more preferably 60% or less. If the haze value of the antireflection film 10 is less than 20%, the antiglare properties of the antireflection film 10 will be insufficient, and light will likely be reflected on the liquid crystal panel 1a.

また、反射防止フィルム10は、外部ヘイズ値が、15%以上であることが好ましく、20%以上であることがより好ましい。外部ヘイズ値は、反射防止フィルム10の表面形状に由来し、外部ヘイズ値が大きいほど反射防止フィルム10の表面で光が散乱しやすくなる。本実施形態では、外部ヘイズ値は、アンチグレア層16の突出部16b、および突出部16b(散乱粒子162)の表面に形成された凹凸163に由来する。
反射防止フィルム10の外部ヘイズ値が15%以上であることで、液晶パネル1aへの光の映り込みが抑制され、反射防止フィルム10の防眩性をより高めることができる。
反射防止フィルム10の外部ヘイズ値は、トータルヘイズ値から、後述する方法で測定した内部ヘイズ値を減算して得ることができる。
Further, the antireflection film 10 preferably has an external haze value of 15% or more, more preferably 20% or more. The external haze value originates from the surface shape of the antireflection film 10, and the larger the external haze value, the more easily light is scattered on the surface of the antireflection film 10. In this embodiment, the external haze value originates from the protrusion 16b of the anti-glare layer 16 and the unevenness 163 formed on the surface of the protrusion 16b (scattering particles 162).
When the external haze value of the antireflection film 10 is 15% or more, reflection of light on the liquid crystal panel 1a is suppressed, and the antiglare properties of the antireflection film 10 can be further improved.
The external haze value of the antireflection film 10 can be obtained by subtracting the internal haze value measured by the method described later from the total haze value.

さらに、反射防止フィルム10は、内部ヘイズ値が、15%以下であることが好ましく、7%以下であることがより好ましい。内部ヘイズ値は、反射防止フィルム10を構成する各層の組成等に由来し、内部ヘイズ値が小さいほど、反射防止フィルム10内で光が散乱しにくくなる。
反射防止フィルム10の内部ヘイズ値が15%以下であることで、反射防止フィルム10内で光が散乱することによって液晶パネル1aに表示される画像の鮮鋭度が低下することが抑制される。
反射防止フィルム10の内部ヘイズ値は、反射防止フィルム10の表面に露出する突出部16bの凹凸163を、アンチグレア層16(散乱粒子162)を溶解することなく、且つ屈折率がほぼ同一な液体で充填して平坦にした状態で、JIS K7136:2000に準拠して測定することができる。
Further, the antireflection film 10 preferably has an internal haze value of 15% or less, more preferably 7% or less. The internal haze value is derived from the composition of each layer constituting the antireflection film 10, and the smaller the internal haze value is, the more difficult it is for light to be scattered within the antireflection film 10.
When the internal haze value of the antireflection film 10 is 15% or less, it is suppressed that the sharpness of the image displayed on the liquid crystal panel 1a is reduced due to scattering of light within the antireflection film 10.
The internal haze value of the anti-reflection film 10 is such that the unevenness 163 of the protrusion 16b exposed on the surface of the anti-reflection film 10 can be covered with a liquid having almost the same refractive index without dissolving the anti-glare layer 16 (scattering particles 162). In a filled and flat state, measurement can be performed in accordance with JIS K7136:2000.

また、反射防止フィルム10は、低屈折率層17側から入射角60°で測定したグロス値が10以下であることが好ましく、5以下であることがより好ましい。
さらに、反射防止フィルム10は、低屈折率層17側から入射角85°で測定したグロス値が50以下であることが好ましく、40以下であることがより好ましい。
反射防止フィルム10のグロス値が低いほど、反射防止フィルム10の表面にて光が散乱しやすくなり、液晶パネル1aへの光の映り込みが抑制される。本実施形態では、反射防止フィルム10の低屈折率層17側から入射角60°で測定したグロス値を10以下とし、低屈折率層17側から入射角85°で測定したグロス値を50以下とすることで、反射防止フィルム10の防眩性をより高めることができる。
Further, the antireflection film 10 preferably has a gloss value of 10 or less, more preferably 5 or less, as measured from the low refractive index layer 17 side at an incident angle of 60°.
Further, the antireflection film 10 preferably has a gloss value of 50 or less, more preferably 40 or less, as measured from the low refractive index layer 17 side at an incident angle of 85°.
The lower the gloss value of the antireflection film 10, the more easily light is scattered on the surface of the antireflection film 10, and the reflection of light on the liquid crystal panel 1a is suppressed. In this embodiment, the gloss value measured from the low refractive index layer 17 side of the antireflection film 10 at an incident angle of 60° is 10 or less, and the gloss value measured from the low refractive index layer 17 side at an incident angle of 85° is 50 or less. By doing so, the anti-glare properties of the anti-reflection film 10 can be further improved.

<異方拡散層18を備える変形例についての説明>
続いて、反射防止フィルム10の変形例について説明する。反射防止フィルム10の層構造は、図2に示したものに限られない。
図4(a)~(b)は、反射防止フィルム10の変形例について示した図である。図4(a)~(b)では、図2と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図4(a)~(b)に示す反射防止フィルム10は、基材15(基材15a、15b)、アンチグレア層16および低屈折率層17に加えて、異方拡散層18を備えている点で、図2に示した反射防止フィルム10とは異なっている。
<Description of modification including anisotropic diffusion layer 18>
Next, modified examples of the antireflection film 10 will be described. The layer structure of the antireflection film 10 is not limited to that shown in FIG. 2.
FIGS. 4(a) to 4(b) are diagrams showing modified examples of the antireflection film 10. In FIGS. 4(a) to 4(b), the same reference numerals are used for the same components as in FIG. 2, and detailed description thereof will be omitted here.
The antireflection film 10 shown in FIGS. 4(a) and 4(b) includes an anisotropic diffusion layer 18 in addition to a base material 15 (base materials 15a, 15b), an anti-glare layer 16, and a low refractive index layer 17. This is different from the antireflection film 10 shown in FIG. 2 in this point.

図4(a)に示す反射防止フィルム10は、基材15、異方拡散層18、アンチグレア層16および低屈折率層17が、この順で積層されている。
また、図4(b)に示す反射防止フィルム10は、基材15a、異方拡散層18、基材15b、アンチグレア層16および低屈折率層17が、この順で積層されている。付言すると、図4(b)に示す例では、異方拡散層18が粘着性を有しており、基材15aと基材15bとが異方拡散層18を介して貼り合わされている。
In the antireflection film 10 shown in FIG. 4A, a base material 15, an anisotropic diffusion layer 18, an anti-glare layer 16, and a low refractive index layer 17 are laminated in this order.
Further, in the antireflection film 10 shown in FIG. 4(b), a base material 15a, an anisotropic diffusion layer 18, a base material 15b, an anti-glare layer 16, and a low refractive index layer 17 are laminated in this order. In addition, in the example shown in FIG. 4(b), the anisotropic diffusion layer 18 has adhesive properties, and the base material 15a and the base material 15b are bonded together with the anisotropic diffusion layer 18 interposed therebetween.

異方拡散層18は、光を異方拡散させる層である。ここで、「異方拡散」とは、特定方向に強い光拡散性を有する性質である。そして、「異方拡散層」は、特定方向に強い光拡散性を有する拡散層である。異方拡散層を有する部材にレーザ光等の等方的な光(円形状の光)を照射した場合、その透過光は、直線状または楕円状となる。 The anisotropic diffusion layer 18 is a layer that anisotropically diffuses light. Here, "anisotropic diffusion" is a property of having strong light diffusivity in a specific direction. The "anisotropic diffusion layer" is a diffusion layer that has strong light diffusivity in a specific direction. When a member having an anisotropic diffusion layer is irradiated with isotropic light (circular light) such as a laser beam, the transmitted light has a linear or elliptical shape.

異方拡散層18は、少なくとも、樹脂部181と、異方性粒子182とを備える。
樹脂部181は、異方性粒子182を分散する樹脂からなる。よって、樹脂部181は、異方性粒子182を、長軸方向が一方向に沿って配列するように固定する分散層であると言うこともできる。
異方性粒子182は、異方形状を有し、樹脂部181内で長軸方向が一方向に沿うように配列する。この場合、図4(a)~(b)に示すように、異方性粒子182は、長軸方向が、異方拡散層18の面内方向に沿って配列する。
The anisotropic diffusion layer 18 includes at least a resin portion 181 and anisotropic particles 182.
The resin portion 181 is made of resin in which anisotropic particles 182 are dispersed. Therefore, the resin portion 181 can also be said to be a dispersion layer that fixes the anisotropic particles 182 so that the long axis direction is aligned in one direction.
The anisotropic particles 182 have an anisotropic shape and are arranged in the resin part 181 so that their long axis direction is along one direction. In this case, as shown in FIGS. 4(a) and 4(b), the anisotropic particles 182 are arranged with their major axes along the in-plane direction of the anisotropic diffusion layer 18.

樹脂部181は、上述したように樹脂からなる。樹脂部181の屈折率が1.45以上1.65以下であることが好ましい。異方拡散層18の正反射光成分を除いた反射率であるSCE(Specular Component Exclude)は、1.0%以下であることが好ましい。樹脂部181の屈折率を、この範囲とすることで、SCEが1.0%以下になりやすくなる。対して、この範囲を外れると、SCEが1.0%を越えやすくなる。 The resin portion 181 is made of resin as described above. It is preferable that the refractive index of the resin portion 181 is 1.45 or more and 1.65 or less. The SCE (Specular Component Exclude), which is the reflectance of the anisotropic diffusion layer 18 excluding the specularly reflected light component, is preferably 1.0% or less. By setting the refractive index of the resin portion 181 within this range, the SCE tends to be 1.0% or less. On the other hand, outside this range, the SCE tends to exceed 1.0%.

樹脂部181を構成する樹脂としては、例えば、(メタ)アクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂を使用することができる。また、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂を使用することができる。
なお、図4(b)に示す例のように、異方拡散層18が粘着性を有する場合、樹脂部181を構成する樹脂として粘着性を有する樹脂を選択すればよい。
As the resin constituting the resin portion 181, for example, (meth)acrylic resin, polyethylene resin, or polypropylene resin can be used. Further, for example, polystyrene resin, polyurethane resin, polycarbonate resin, polyester resin, and silicone resin can be used.
Note that when the anisotropic diffusion layer 18 has adhesiveness as in the example shown in FIG. 4(b), a resin having adhesiveness may be selected as the resin constituting the resin portion 181.

異方性粒子182は、異方形状であり、本実施の形態では、楕円球形状をなす。そして、異方性粒子182は、この形状に起因して、長軸方向の屈折率と短軸方向の屈折率とが異なる。これにより、異方拡散層18に、異方拡散性が発現する。また、異方性粒子182の有する屈折率と、樹脂部181との屈折率は、異なる。なお、異方性粒子182の形状は、異方形状であれば、特に限られるものではない。例えば、紡錘形状、針状形状、繊維状形状、円筒形状、円盤形状などであってもよい。 The anisotropic particles 182 have an anisotropic shape, and in this embodiment, have an ellipsoidal shape. Due to this shape, the anisotropic particles 182 have different refractive indexes in the major axis direction and in the minor axis direction. As a result, the anisotropic diffusion layer 18 exhibits anisotropic diffusivity. Further, the refractive index of the anisotropic particles 182 and the refractive index of the resin portion 181 are different. Note that the shape of the anisotropic particles 182 is not particularly limited as long as it is an anisotropic shape. For example, the shape may be a spindle shape, a needle shape, a fibrous shape, a cylindrical shape, a disk shape, or the like.

ここで、異方性粒子182の長軸方向の屈折率をnax、短軸方向の屈折率をnay、樹脂部181の屈折率をnとする。異方性粒子182による異方拡散方向が短軸方向である場合、異方性粒子182の長軸方向の屈折率naxと樹脂部181の屈折率nとの差は、小さい方が好ましい。また、異方性粒子182による異方拡散方向が長軸方向である場合、異方性粒子182の短軸方向の屈折率nayと樹脂部181の屈折率nとの差は、小さい方が好ましい。つまり、異方拡散方向の垂直方向の異方性粒子182の屈折率nax、nayと、樹脂部181の屈折率nとの差は、小さい方が好ましい。
さらに具体的には、下記(I)および(II)の関係の少なくとも一方が成り立つことが好ましい。異方性粒子182と樹脂部181との屈折率を以下の範囲内とすることで、異方拡散方向と垂直な方向の後方散乱を抑制する。そして、異方拡散層18のSCEを低くすることが可能となる。
Here, the refractive index of the anisotropic particle 182 in the major axis direction is nax , the refractive index in the minor axis direction is nay , and the refractive index of the resin portion 181 is nb . When the anisotropic diffusion direction by the anisotropic particles 182 is in the minor axis direction, the difference between the refractive index n ax of the anisotropic particles 182 in the major axis direction and the refractive index n b of the resin portion 181 is preferably smaller. . Further, when the anisotropic diffusion direction by the anisotropic particles 182 is in the major axis direction, the difference between the refractive index n ay of the anisotropic particles 182 in the minor axis direction and the refractive index n b of the resin portion 181 is smaller. is preferred. That is, it is preferable that the difference between the refractive index nax , nay of the anisotropic particles 182 and the refractive index nb of the resin portion 181 in the direction perpendicular to the anisotropic diffusion direction be small.
More specifically, it is preferable that at least one of the following relationships (I) and (II) holds true. By setting the refractive index of the anisotropic particles 182 and the resin portion 181 within the following range, backscattering in the direction perpendicular to the anisotropic diffusion direction is suppressed. Then, it becomes possible to lower the SCE of the anisotropic diffusion layer 18.

(I)|n-nax|<0.04かつ0.04<|n-nay|<0.50
(II)|n-nay|<0.04かつ0.04<|n-nax|<0.50
(I) |n b -n ax |<0.04 and 0.04<|n b -n ay |<0.50
(II) |n b -n ay |<0.04 and 0.04<|n b -n ax |<0.50

また、異方拡散層18のSCEを、1.0%以下にするため、異方拡散層18の長さやアスペクト比が下記の範囲であることが好ましい。そしてこの範囲を外れると、SCEが1.0%を越えやすくなる。
即ち、異方性粒子182は、長軸方向の長さが、0.5μm以上500μm以下であることが好ましい。また、異方性粒子182は、長軸方向の長さが、1μm以上200μm以下であることがさらに好ましい。
そして、異方性粒子182は、短軸方向の長さが、0.05μm以上30μm以下であることが好ましい。また、異方性粒子182は、短軸方向の長さが、0.1μm以上10μm以下であることがさらに好ましい。
異方性粒子182を、このようなサイズにすることで、良好な異方拡散性を確保しつつ、異方性粒子182と樹脂部181との界面での後方散乱を抑制し、異方拡散層のSCEを低減しやすくなる。
Further, in order to make the SCE of the anisotropic diffusion layer 18 1.0% or less, it is preferable that the length and aspect ratio of the anisotropic diffusion layer 18 are within the following ranges. Outside this range, the SCE tends to exceed 1.0%.
That is, the anisotropic particles 182 preferably have a length in the major axis direction of 0.5 μm or more and 500 μm or less. Further, it is more preferable that the length of the anisotropic particles 182 in the major axis direction is 1 μm or more and 200 μm or less.
The length of the anisotropic particles 182 in the minor axis direction is preferably 0.05 μm or more and 30 μm or less. Furthermore, it is more preferable that the length of the anisotropic particles 182 in the minor axis direction is 0.1 μm or more and 10 μm or less.
By making the anisotropic particles 182 such a size, while ensuring good anisotropic diffusivity, backscattering at the interface between the anisotropic particles 182 and the resin part 181 is suppressed, and anisotropic diffusion is improved. It becomes easier to reduce the SCE of the layer.

さらに、異方性粒子182の長軸方向の長さと短軸方向の長さとの比であるアスペクト比が、10以上であることが好ましい。また、アスペクト比が、20以上であることがさらに好ましい。異方性粒子182のアスペクト比をこの範囲とすることで、ディスプレイの視野角特性を向上させることが可能な異方拡散性を確保しやすくなる。 Furthermore, it is preferable that the aspect ratio, which is the ratio of the length in the major axis direction and the length in the minor axis direction, of the anisotropic particles 182 is 10 or more. Moreover, it is more preferable that the aspect ratio is 20 or more. By setting the aspect ratio of the anisotropic particles 182 within this range, it becomes easier to ensure anisotropic diffusivity that can improve the viewing angle characteristics of the display.

また、同様の観点から、異方性粒子182と樹脂部181との界面が相溶していることが好ましい。これにより、両者の界面での屈折率が、連続して変化し、後方散乱を低減することが可能となる。そして、SCEをさらに小さくしやすくなる。なお、この場合、異方性粒子182と樹脂部181と境界は、相溶しているため、曖昧である。しかしこの場合でも異方性粒子182は、樹脂部181中に粒子として存在することは、明らかである。界面の相溶化の方法としては、相溶化剤を配合する方法が挙げられる。界面が相溶していることは、異方拡散層18の断面を走査電子顕微鏡(SEM)で確認することができる。 Further, from the same viewpoint, it is preferable that the interface between the anisotropic particles 182 and the resin portion 181 be compatible with each other. As a result, the refractive index at the interface between the two changes continuously, making it possible to reduce backscattering. Then, it becomes easier to further reduce the SCE. In this case, the boundary between the anisotropic particles 182 and the resin portion 181 is ambiguous because they are compatible with each other. However, even in this case, it is clear that the anisotropic particles 182 exist as particles in the resin portion 181. As a method for making the interface compatibilizing, a method of blending a compatibilizing agent can be mentioned. The fact that the interfaces are compatible can be confirmed by scanning a cross section of the anisotropic diffusion layer 18 using a scanning electron microscope (SEM).

異方性粒子182は、例えば、金属酸化物、炭酸塩化合物、水酸化化合物およびリン酸塩化合物のうち少なくとも1つを含む。金属酸化物は、例えば、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛などである。また、異方性粒子182は、例えば、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、炭化窒素、塩基性硫酸マグネシウムなどの化合物である。また、異方性粒子182は、ガラスファイバ、(メタ)アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂などである。 The anisotropic particles 182 include, for example, at least one of a metal oxide, a carbonate compound, a hydroxide compound, and a phosphate compound. Examples of metal oxides include silica, titanium oxide, aluminum oxide, and zinc oxide. Furthermore, the anisotropic particles 182 are, for example, compounds such as calcium carbonate, silicon carbide, nitrogen carbonate, and basic magnesium sulfate. Further, the anisotropic particles 182 are made of glass fiber, (meth)acrylic resin, polystyrene resin, melamine resin, or the like.

異方拡散層18は、ヘイズ値が20%以上80%以下であることが好ましい。また、ヘイズ値が30%以上65%以下であることがさらに好ましい。これにより、異方拡散層18をディスプレイに搭載した際にぎらつきの少ないシャープな画質を確保することが可能となる。 The anisotropic diffusion layer 18 preferably has a haze value of 20% or more and 80% or less. Moreover, it is more preferable that the haze value is 30% or more and 65% or less. This makes it possible to ensure sharp image quality with less glare when the anisotropic diffusion layer 18 is mounted on a display.

なお、異方拡散層18の異方拡散性は、変角光度計(ゴニオフォトメーター)で測定することが可能である。光線を異方拡散層18に対し入射角0°(垂直方向)で照射した際の透過光を、受光角を変化させながら取得する。そしてこれにより、透過散乱光の強度分布状態を測定する。これを異方拡散方向と異方拡散方向に対して垂直な方向とで取得することで異方拡散性を定量的に評価することが可能となる。本実施の形態では、異方拡散性は、異方拡散度(ADV)にて評価する。異方拡散度は、以下の数式により算出できる。そして、異方拡散層18は、異方拡散度(ADV)が3以上であることが好ましい。また、ADVは、15以上であることがより好ましく、25以上であることがさらに好ましい。 Note that the anisotropic diffusivity of the anisotropic diffusion layer 18 can be measured with a variable angle photometer (goniophotometer). The transmitted light when a light beam is irradiated onto the anisotropic diffusion layer 18 at an incident angle of 0° (vertical direction) is acquired while changing the light receiving angle. Accordingly, the intensity distribution state of the transmitted scattered light is measured. By acquiring this in the anisotropic diffusion direction and in a direction perpendicular to the anisotropic diffusion direction, it becomes possible to quantitatively evaluate the anisotropic diffusivity. In this embodiment, anisotropic diffusivity is evaluated by anisotropic diffusivity (ADV). The anisotropic diffusivity can be calculated using the following formula. The anisotropic diffusion layer 18 preferably has an anisotropic diffusion degree (ADV) of 3 or more. Moreover, it is more preferable that ADV is 15 or more, and it is still more preferable that it is 25 or more.

ADV=(変角光度計で測定した異方拡散方向の5°透過光量)/(変角光度計で測定した異方拡散方向と垂直方向の5°透過光量) ADV = (Amount of transmitted light at 5 degrees in the anisotropic diffusion direction measured by a variable angle photometer) / (Amount of transmitted light at 5 degrees perpendicular to the anisotropic diffusion direction measured by a variable angle photometer)

ここで、異方拡散層18は、光を異方拡散することができれば、図4(a)~(b)に示したような樹脂部181と異方性粒子182とを有する形態には限定されない。
図5(a)~(b)は、異方拡散層18の他の形態を説明する図である。
図5(a)に示す異方拡散層18は、空孔183aを含有するコア層183と、コア層183を保護するためのスキン層184とを有する。コア層183内の空孔183aは、略直線状の形状を有するクレーズであり、クレーズ加工等により形成される。この異方拡散層18では、コア層183を構成する樹脂と空孔183aとの界面で入射光が異方的に拡散し、反射防止フィルム10の視野角の拡大に寄与する。このような異方拡散層18の具体例としては、国際公開第2019/156003号の実施例1~5等が挙げられる。
Here, the anisotropic diffusion layer 18 is limited to a form having a resin part 181 and anisotropic particles 182 as shown in FIGS. 4(a) and 4(b) as long as it can anisotropically diffuse light. Not done.
FIGS. 5A and 5B are diagrams illustrating other forms of the anisotropic diffusion layer 18.
The anisotropic diffusion layer 18 shown in FIG. 5A includes a core layer 183 containing pores 183a and a skin layer 184 for protecting the core layer 183. The pores 183a in the core layer 183 are crazes having a substantially linear shape, and are formed by craze processing or the like. In this anisotropic diffusion layer 18, incident light is anisotropically diffused at the interface between the resin constituting the core layer 183 and the holes 183a, contributing to expanding the viewing angle of the antireflection film 10. Specific examples of such an anisotropic diffusion layer 18 include Examples 1 to 5 of International Publication No. 2019/156003.

また、図5(b)に示す異方拡散層18は、層内に凹凸状の界面185を有する。界面185は、例えば屈折率の異なる樹脂により形成される。このような異方拡散層18では、界面185で入射光が異方的に拡散し、反射防止フィルム10の視野角の拡大に寄与する。このような異方拡散層18の具体例としては、特開2020-16881号公報に記載された例が挙げられる。 Further, the anisotropic diffusion layer 18 shown in FIG. 5(b) has an uneven interface 185 within the layer. The interface 185 is formed of resins having different refractive indexes, for example. In such an anisotropic diffusion layer 18, incident light is anisotropically diffused at the interface 185, contributing to expanding the viewing angle of the antireflection film 10. A specific example of such an anisotropic diffusion layer 18 is an example described in JP-A No. 2020-16881.

<高屈折率層19を備える変形例についての説明>
続いて、反射防止フィルム10の他の変形例について説明する。
図6は、反射防止フィルム10の他の変形例について示した図である。なお、図6では、図2と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図6に示す反射防止フィルム10は、基材15、アンチグレア層16、高屈折率層19および低屈折率層17が、この順で積層されている。付言すると、図6に示す反射防止フィルム10は、高屈折率層19を備えている点で、図2に示した反射防止フィルム10とは異なっている。
<Description of modification including high refractive index layer 19>
Next, other modifications of the antireflection film 10 will be described.
FIG. 6 is a diagram showing another modification of the antireflection film 10. Note that in FIG. 6, the same components as in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted here.
In the antireflection film 10 shown in FIG. 6, a base material 15, an antiglare layer 16, a high refractive index layer 19, and a low refractive index layer 17 are laminated in this order. In addition, the antireflection film 10 shown in FIG. 6 differs from the antireflection film 10 shown in FIG. 2 in that it includes a high refractive index layer 19.

高屈折率層19は、液晶パネル1aの反射率をさらに低減させるための層である。
高屈折率層19は、低屈折率層17の下層、付言すると、アンチグレア層16の平坦部16aと低屈折率層17との間に設けられる。
高屈折率層19は、バインダと高屈折率粒子とを含む。高屈折率層19は、例えば、バインダと高屈折率粒子とを含んだ塗布溶液から形成することが可能である。高屈折率層19は、単層で形成しても多層で形成してもよいが、製造コストの観点からなるべく少ない層数で形成することが好ましい。
The high refractive index layer 19 is a layer for further reducing the reflectance of the liquid crystal panel 1a.
The high refractive index layer 19 is provided below the low refractive index layer 17, specifically between the flat portion 16a of the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17.
High refractive index layer 19 includes a binder and high refractive index particles. The high refractive index layer 19 can be formed, for example, from a coating solution containing a binder and high refractive index particles. The high refractive index layer 19 may be formed as a single layer or as a multilayer, but from the viewpoint of manufacturing cost, it is preferable to form the layer with as few layers as possible.

液晶パネル1aの反射率をより低減させるためには、高屈折率層19の屈折率は高くすることが好ましい。高屈折率層19の屈折率としては、1.55以上1.80以下が好ましく、1.60以上1.75以下とすることがより好ましい。
また、高屈折率層19の厚みの上限としては、500nm以下が好ましい。また、350nm以下がより好ましく、200nm以下がさらに好ましい。そして、高屈折率層19の厚みの下限としては、50nm以上が好ましい。また、80nm以上がより好ましく、100nm以上がさらに好ましい。
In order to further reduce the reflectance of the liquid crystal panel 1a, it is preferable to increase the refractive index of the high refractive index layer 19. The refractive index of the high refractive index layer 19 is preferably 1.55 or more and 1.80 or less, more preferably 1.60 or more and 1.75 or less.
Further, the upper limit of the thickness of the high refractive index layer 19 is preferably 500 nm or less. Further, the thickness is more preferably 350 nm or less, and even more preferably 200 nm or less. The lower limit of the thickness of the high refractive index layer 19 is preferably 50 nm or more. Further, the thickness is more preferably 80 nm or more, and even more preferably 100 nm or more.

高屈折率粒子としては、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化スズ、酸化イットリウム、チタン酸バリウム、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、リンドープ酸化スズ(PTO)、インジウムドープ酸化スズ(ITO)、硫化亜鉛などが挙げられる。耐久安定性の観点から、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、リンドープ酸化スズ(PTO)、インジウムドープ酸化スズ(ITO)が特に好ましい。 Examples of high refractive index particles include zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, tin oxide, yttrium oxide, barium titanate, antimony-doped tin oxide (ATO), and phosphorus-doped tin oxide ( PTO), indium-doped tin oxide (ITO), and zinc sulfide. From the viewpoint of durability and stability, zirconium oxide, barium titanate, antimony-doped tin oxide (ATO), phosphorous-doped tin oxide (PTO), and indium-doped tin oxide (ITO) are particularly preferred.

高屈折率粒子の一次粒子の平均粒子径(平均一次粒子径)は、1nm以上200nm以下が好ましい。また、3nm以上100nm以下がより好ましく、5nm以上50nm以下がさらに好ましい。
高屈折率粒子の平均一次粒子径は、粒子分散液の乾燥膜のSEM(Scanning Electron Microscope)、TEM(Transmission Electron Microscope)およびSTEM(Scanning Transmission Electron Microscope)を用いた観察像により測定することが可能である。
The average particle diameter (average primary particle diameter) of the primary particles of the high refractive index particles is preferably 1 nm or more and 200 nm or less. Further, the thickness is more preferably 3 nm or more and 100 nm or less, and even more preferably 5 nm or more and 50 nm or less.
The average primary particle diameter of high refractive index particles can be measured by observing an image of a dry film of a particle dispersion using a SEM (Scanning Electron Microscope), TEM (Transmission Electron Microscope), or STEM (Scanning Transmission Electron Microscope). It is.

上記高屈折率粒子は、凝集を抑制する観点で分散安定化処理が施されていることが好ましい。分散安定化の手段としては、粒子を表面処理したものを用いたり、分散剤を添加したりする手段が挙げられる。また、高屈折率粒子よりも表面電荷量の少ない別の粒子を添加する手段も挙げられる。 The high refractive index particles are preferably subjected to dispersion stabilization treatment from the viewpoint of suppressing agglomeration. Examples of means for stabilizing dispersion include using surface-treated particles and adding a dispersant. Another method is to add another particle having a smaller amount of surface charge than the high refractive index particles.

高屈折率粒子の含有量は、バインダ100質量部に対して、20質量部以上500質量部以下であることが好ましい。また、50質量部以上400質量部以下であることがより好ましく、100質量部以上300質量部以下であることがさらに好ましい。 The content of the high refractive index particles is preferably 20 parts by mass or more and 500 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the binder. Further, it is more preferably 50 parts by mass or more and 400 parts by mass or less, and even more preferably 100 parts by mass or more and 300 parts by mass or less.

ただし、高屈折率粒子の含有量を低減するためにバインダの屈折率は1.50以上1.70以下程度であることが好ましい。
高屈折率層19は、バインダ、高屈折率粒子の他に必要に応じて、他の成分を含有してもよい。例えば、重合開始剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、界面活性剤等の添加剤および希釈溶媒を含んでいてもよい。レベリング剤や界面活性剤等の添加により高屈折率層19の表面状態を制御する、その結果、上層の性能を改善することが可能となる。この場合、上層は、例えば、低屈折率層17である。
However, in order to reduce the content of high refractive index particles, the refractive index of the binder is preferably about 1.50 or more and 1.70 or less.
The high refractive index layer 19 may contain other components as necessary in addition to the binder and the high refractive index particles. For example, it may contain additives such as a polymerization initiator, ultraviolet absorber, leveling agent, surfactant, and a diluting solvent. By adding a leveling agent, a surfactant, etc., the surface condition of the high refractive index layer 19 can be controlled, and as a result, the performance of the upper layer can be improved. In this case, the upper layer is, for example, the low refractive index layer 17.

なお、図示は省略するが、図6に示した高屈折率層19は、図4(a)~(b)、図5(a)~(b)に示した異方拡散層18を有する反射防止フィルム10に適用してもよい。付言すると、図4(a)~(b)、図5(a)~(b)に示した異方拡散層18を有する反射防止フィルム10は、図6と同様に、アンチグレア層16と低屈折率層17との間に、さらに高屈折率層19を備えてもよい。 Although not shown, the high refractive index layer 19 shown in FIG. 6 is a reflective layer having the anisotropic diffusion layer 18 shown in FIGS. It may be applied to the prevention film 10. In addition, the antireflection film 10 having the anisotropic diffusion layer 18 shown in FIGS. A high refractive index layer 19 may be further provided between the high refractive index layer 17 and the high refractive index layer 17 .

<偏光板についての説明>
また、本実施形態のアンチグレア層16および低屈折率層17は、偏光板の表面フィルムとして使用することができる。
図7(a)~(b)は、本実施の形態が適用される偏光板の構成例について示した図である。なお、図7(a)~(b)では、図2と同様の構成については同じ符号を用い、ここでは詳細な説明は省略する。
図7(a)に示す偏光板は、基材15a、接着層21aおよび偏光フィルム12がこの順で積層されている。さらにその上に、接着層21b、基材15b、アンチグレア層16および低屈折率層17が積層する。なお、この場合、基材15および接着層21は、それぞれ2層形成されるが、同じ材料から構成されていてもよく、異なる材料から構成されていてもよい。
この場合、基材15a上に偏光フィルム12を接着層21aにより貼り合わせる。そして、さらにその上に、基材15b、および低屈折率層17からなる樹脂膜を、接着層21bにより貼り合わせる。接着層21a、21bは、例えば、UV(ultraviolet)接着剤による層である。また、接着層21a、21bは、PSA(Pressure Sensitive Adhesive:感圧接着剤)であってもよい。さらに、接着層21a、21bは、OCA(Optical Clear Adhesive)であってもよい。またさらに、接着層21a、21bは、OCR(Optical Clear Resin)であってもよい。そしてこの中でも、UV接着剤を好適に用いることができる。
<Explanation about polarizing plate>
Further, the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17 of this embodiment can be used as a surface film of a polarizing plate.
FIGS. 7(a) to 7(b) are diagrams showing configuration examples of polarizing plates to which this embodiment is applied. Note that in FIGS. 7A and 7B, the same components as in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and detailed explanations are omitted here.
In the polarizing plate shown in FIG. 7(a), a base material 15a, an adhesive layer 21a, and a polarizing film 12 are laminated in this order. Furthermore, an adhesive layer 21b, a base material 15b, an anti-glare layer 16, and a low refractive index layer 17 are laminated thereon. In this case, the base material 15 and the adhesive layer 21 are each formed in two layers, but they may be made of the same material or may be made of different materials.
In this case, the polarizing film 12 is bonded onto the base material 15a using the adhesive layer 21a. Then, a resin film consisting of a base material 15b and a low refractive index layer 17 is bonded thereon using an adhesive layer 21b. The adhesive layers 21a and 21b are, for example, layers made of UV (ultraviolet) adhesive. Further, the adhesive layers 21a and 21b may be PSA (Pressure Sensitive Adhesive). Furthermore, the adhesive layers 21a and 21b may be OCA (Optical Clear Adhesive). Furthermore, the adhesive layers 21a and 21b may be OCR (Optical Clear Resin). Among these, UV adhesive can be suitably used.

また、図7(b)に示す偏光板は、基材15a、接着層21aおよび偏光フィルム12が積層する。そして、その上に、接着層21bおよび基材15cが積層する。さらにその上に、接着層21c、基材15b、および低屈折率層17が積層する。つまり、図7(b)に示す偏光板は、図7(a)の偏光板に比較して、基材15c、接着層21cが加わる点が異なる。この場合、例えば、接着層21a、21bを、UV接着剤による層とし、接着層21cをPSAによる層とすることができる。 Moreover, the polarizing plate shown in FIG. 7(b) has a base material 15a, an adhesive layer 21a, and a polarizing film 12 laminated. Then, the adhesive layer 21b and the base material 15c are laminated thereon. Furthermore, the adhesive layer 21c, the base material 15b, and the low refractive index layer 17 are laminated thereon. That is, the polarizing plate shown in FIG. 7(b) is different from the polarizing plate shown in FIG. 7(a) in that a base material 15c and an adhesive layer 21c are added. In this case, for example, the adhesive layers 21a and 21b can be made of UV adhesive, and the adhesive layer 21c can be made of PSA.

なお、図示は省略するが、アンチグレア層16および低屈折率層17を偏光板に適用する場合に、上述した異方拡散層18(図4(a)~(b)、図5(a)~(b)参照)や高屈折率層19(図6参照)をさらに付加してもよい。 Although not shown in the drawings, when applying the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17 to a polarizing plate, the above-mentioned anisotropic diffusion layer 18 (FIGS. 4(a) to 4(b), FIG. 5(a) to (b)) or a high refractive index layer 19 (see FIG. 6) may be further added.

<反射防止フィルム10の作成方法の説明>
次に、反射防止フィルム10の作成方法について説明する。ここでは、図2に示したような層構造を有する反射防止フィルム10の作成方法を例に挙げて説明する。図8(a)は、反射防止フィルム10の作成方法の一例を示したフローチャートであり、図8(b)は、反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16および低屈折率層17の作成方法を示したフローチャートである。
<Description of how to create the antireflection film 10>
Next, a method for creating the antireflection film 10 will be described. Here, a method for producing an antireflection film 10 having a layered structure as shown in FIG. 2 will be described as an example. FIG. 8(a) is a flowchart showing an example of a method for creating the antireflection film 10, and FIG. 8(b) is a flowchart showing a method for creating the antiglare layer 16 and the low refractive index layer 17 in the antireflection film 10. It is a flowchart.

まず、基材15上に、アンチグレア層16を作成する(ステップ101:アンチグレア層作成工程)。例えば、基材15上に、アンチグレア層16の基となる塗布溶液を塗工することで、アンチグレア層16を作成する。
次に、アンチグレア層16上に、低屈折率層17を作成する(ステップ102:低屈折率層作成工程)。例えば、アンチグレア層16上に、低屈折率層17の基となる塗布溶液を塗工することで、低屈折率層17を作成する。この例では、アンチグレア層16における平坦部16a上に、低屈折率層17を作成する。
First, the anti-glare layer 16 is created on the base material 15 (step 101: anti-glare layer creation step). For example, the anti-glare layer 16 is created by coating the base material 15 with a coating solution that will become the base of the anti-glare layer 16 .
Next, a low refractive index layer 17 is created on the anti-glare layer 16 (step 102: low refractive index layer creation step). For example, the low refractive index layer 17 is created by applying a coating solution that will become the base of the low refractive index layer 17 on the anti-glare layer 16 . In this example, the low refractive index layer 17 is created on the flat portion 16a of the anti-glare layer 16.

アンチグレア層16および低屈折率層17の各層は、いずれもウェットコーティング法を用いて、以下のように作成することができる。
まず、各層を形成するための塗布溶液を準備する(ステップ201:準備工程)。ここで、「準備」とは、塗布溶液を作成することで準備する場合の他、塗布溶液を購入して準備する場合も含む。
Each of the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17 can be created as follows using a wet coating method.
First, a coating solution for forming each layer is prepared (step 201: preparation process). Here, "preparation" includes not only preparation by creating a coating solution but also preparation by purchasing a coating solution.

塗布溶液は、固形分と溶媒とからなる。
アンチグレア層16を作成する場合、固形分は、バインダ161の基となるモノマー、オリゴマーおよびポリマーを含む。固形分は、散乱粒子162を含む。モノマーおよび/またはオリゴマーは、重合することで、バインダ161に含まれる樹脂となる。本実施の形態では、重合は、光重合や熱重合等である。以下では、このモノマーおよび/またはオリゴマーを、「バインダ成分」と言うことがある。
低屈折率層17を作成する場合、固形分は、バインダ171の基となるバインダ成分を含む。また、固形分は、中空シリカ粒子172および表面改質剤を含む。
また、各層の固形分として、重合開始剤を含む。また、固形分として、分散剤、消泡剤、紫外線吸収剤、レベリング剤等の添加剤を含んでいてもよい。
そしてそれぞれの固形分を溶媒に投入し、攪拌することで、各層ごとの塗布溶液を作成する。
The coating solution consists of solids and a solvent.
When creating the anti-glare layer 16, the solid content includes monomers, oligomers, and polymers that are the basis of the binder 161. The solid content includes scattering particles 162. The monomer and/or oligomer becomes a resin contained in the binder 161 by polymerizing. In this embodiment, polymerization is photopolymerization, thermal polymerization, or the like. Hereinafter, this monomer and/or oligomer may be referred to as a "binder component".
When creating the low refractive index layer 17, the solid content includes a binder component that is the base of the binder 171. The solid content also includes hollow silica particles 172 and a surface modifier.
Moreover, a polymerization initiator is included as a solid content of each layer. Further, the solid content may include additives such as a dispersant, an antifoaming agent, an ultraviolet absorber, and a leveling agent.
Then, each solid content is added to a solvent and stirred to create a coating solution for each layer.

溶媒は、固形分を分散する。溶媒としては、例えば、塩化メチレン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトンを使用することができる。また、MEK(メチルエチルケトン:methyl ethyl ketone)、MIBK(メチルイソブチルケトン)、エタノール、メタノール、ノルマルプロピルアルコールを使用することができる。さらに、イソプロピルアルコール、Tert-ブチルアルコール、1-ブタノール、ミネラルスピリット、オレイン酸、シクロヘキサノンを使用することができる。またさらに、NMP(N-メチル-2-ピロリドン:N-methylpyrrolidone)、DMP(フタル酸ジメチル:dimethyl phthalate)、ジメチルカーボネート、ジオキソランを使用することができる。
塗布溶液の固形分濃度は、例えば2質量%以上80質量%以下とすることができる。
アンチグレア層16の塗布溶液は、散乱粒子162の平均粒子径や配合量等に応じて、アンチグレア層16において平坦部16aと突出部16bとの面積比が所望の範囲となるように固形分濃度を設定する。
また、低屈折率層17の塗布溶液は、塗工時の膜厚均一性が確保されるよう、アンチグレア層16と比べて固形分濃度を低くすることが好ましい。
The solvent disperses the solids. As the solvent, for example, methylene chloride, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, and acetone can be used. Further, MEK (methyl ethyl ketone), MIBK (methyl isobutyl ketone), ethanol, methanol, and normal propyl alcohol can be used. Furthermore, isopropyl alcohol, tert-butyl alcohol, 1-butanol, mineral spirits, oleic acid, cyclohexanone can be used. Furthermore, NMP (N-methylpyrrolidone), DMP (dimethyl phthalate), dimethyl carbonate, and dioxolane can be used.
The solid content concentration of the coating solution can be, for example, 2% by mass or more and 80% by mass or less.
The coating solution for the anti-glare layer 16 has a solid content concentration such that the area ratio between the flat portion 16a and the protruding portion 16b in the anti-glare layer 16 is within a desired range, depending on the average particle diameter and blending amount of the scattering particles 162. Set.
Further, the coating solution for the low refractive index layer 17 preferably has a lower solid content concentration than the anti-glare layer 16 so as to ensure film thickness uniformity during coating.

次に、塗布溶液を塗布(塗工)し、塗布膜を作成する(ステップ202:塗布工程)。塗布を行う方法は、特に限られるものではないが、ダイ方式やマイクログラビア方式で塗布する方法で行うことができる。また、塗布溶液を滴下し、回転させ、遠心力で、均一な厚さの膜状体を作成する方法を採用することもできる。塗布溶液は加温した状態で塗工してもよい。 Next, a coating solution is applied (coating) to create a coating film (step 202: coating process). The coating method is not particularly limited, but it can be applied by a die method or a microgravure method. Alternatively, a method may be adopted in which a coating solution is dropped, rotated, and centrifugal force is applied to create a film-like body with a uniform thickness. The coating solution may be applied in a heated state.

具体的には、基材15上にアンチグレア層16の塗布溶液を塗布(塗工)し、アンチグレア層16の基となる塗布膜を作成する。
また、アンチグレア層16上に低屈折率層17の塗布溶液を塗布(塗工)し、低屈折率層17の基となる塗布膜を作成する。ここで、アンチグレア層16では、散乱粒子162が突出した突出部16bが一部の領域に形成されており、突出部16b以外の部分は表面が平坦な平坦部16aとなっている。これにより、低屈折率層17の塗布溶液を、アンチグレア層16の平坦部16aに対して均一に塗布することが可能となる。
Specifically, a coating solution for the anti-glare layer 16 is applied (coated) onto the base material 15 to create a coating film that will become the base of the anti-glare layer 16.
Further, a coating solution for the low refractive index layer 17 is applied (coated) on the anti-glare layer 16 to create a coating film that will become the base of the low refractive index layer 17. Here, in the anti-glare layer 16, a protruding part 16b from which the scattering particles 162 protrude is formed in a part of the area, and a part other than the protruding part 16b is a flat part 16a with a flat surface. This makes it possible to uniformly apply the coating solution for the low refractive index layer 17 to the flat portion 16a of the anti-glare layer 16.

続いて、塗布した塗布膜を乾燥させる(ステップ203:乾燥工程)。乾燥は、室温で放置して、溶媒を揮発させる方法や、加熱または真空引きなどにより溶媒を強制的に除去する方法により行うことができる。 Subsequently, the applied coating film is dried (step 203: drying process). Drying can be carried out by leaving it at room temperature to evaporate the solvent, or by forcibly removing the solvent by heating or vacuuming.

続いて、紫外線や熱等のエネルギーを塗布膜に照射し、塗布膜中のバインダ成分を光重合させる(ステップ204:光重合工程)。これにより、塗布膜中のバインダ成分が硬化し、アンチグレア層16のバインダ161、低屈折率層17のバインダ171となる。
以上の工程により、アンチグレア層16および低屈折率層17の各層を作成することができる。なお、乾燥工程と光重合工程は、塗布した塗布溶液を硬化させる硬化工程として捉えることができる。
Subsequently, the coating film is irradiated with energy such as ultraviolet rays or heat to photopolymerize the binder component in the coating film (step 204: photopolymerization step). As a result, the binder component in the coating film is cured and becomes the binder 161 of the anti-glare layer 16 and the binder 171 of the low refractive index layer 17.
Through the above steps, each layer of the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17 can be created. Note that the drying step and the photopolymerization step can be regarded as a curing step for curing the applied coating solution.

以上説明したように、本実施の形態の反射防止フィルム10は、アンチグレア層16が、平坦な表面形状を有する平坦部16aと、平坦部16aの表面から散乱粒子162の一部が突出することで形成された突出部16bとを有している。そして、突出部16bには、散乱粒子162に由来する凹凸163が形成されている。
このような構成を有することで、アンチグレア層16の作用により、反射防止フィルム10の防眩性を高くすることができる。さらに、アンチグレア層16に対する低屈折率層17の塗工性の低下を抑制して、低屈折率層17の作用により、液晶パネル1aに表示される画像の鮮鋭度を高めることが可能となる。
As explained above, in the anti-reflection film 10 of the present embodiment, the anti-glare layer 16 has a flat portion 16a having a flat surface shape and a portion of the scattering particles 162 protruding from the surface of the flat portion 16a. It has a protrusion 16b formed therein. Further, irregularities 163 originating from the scattering particles 162 are formed on the protruding portion 16b.
With such a configuration, the anti-glare properties of the anti-reflection film 10 can be enhanced due to the action of the anti-glare layer 16. Furthermore, it is possible to suppress the deterioration in the coating properties of the low refractive index layer 17 on the anti-glare layer 16, and increase the sharpness of the image displayed on the liquid crystal panel 1a due to the action of the low refractive index layer 17.

なお、上述した例では、アンチグレア層16の突出部16bは、バインダ161の表面から散乱粒子162の一部が突出することで形成されているが、これに限られない。例えば、アンチグレア層16が散乱粒子162を有しない場合には、バインダ161が平坦部16aと、平坦部16aから突出し表面に凹凸形状が形成された突出部16bとを備えていればよい。この場合、アンチグレア層16は、突出部16bの面積に対する平坦部16aの面積の比率(平坦部16aの面積/突出部16bの面積)が、2.0以上30以下であり、且つ、突出部16bにおける表面粗さが、平坦部16aにおける表面粗さよりも大きければよい。
このようなアンチグレア層16は、例えば、平坦部16aと突出部16bとに対応する部分を有する型(モールド)を用いて、バインダ161を構成する樹脂を、インプリント技術により加工して作成できる。
In the example described above, the protruding portion 16b of the anti-glare layer 16 is formed by a portion of the scattering particles 162 protruding from the surface of the binder 161, but the present invention is not limited to this. For example, if the anti-glare layer 16 does not include the scattering particles 162, the binder 161 may include a flat portion 16a and a protruding portion 16b that protrudes from the flat portion 16a and has an uneven surface. In this case, the anti-glare layer 16 has a ratio of the area of the flat part 16a to the area of the protruding part 16b (area of the flat part 16a/area of the protruding part 16b) of 2.0 or more and 30 or less, and It is sufficient that the surface roughness at the flat portion 16a is greater than that at the flat portion 16a.
Such an anti-glare layer 16 can be created, for example, by processing the resin constituting the binder 161 using an imprint technique using a mold having portions corresponding to the flat portions 16a and the protruding portions 16b.

また、上述した例では、反射防止フィルム10は、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17が積層された層構造を有していたが、反射防止フィルム10は、必ずしも基材15を有していなくてもよい。
また、上述した例では、表示装置1は、液晶パネル1aにアンチグレア層16および低屈折率層17を形成する場合を示した。ただし、これに限るものではなく、例えば、有機ELやブラウン管に形成してもよい。
またこれらの層を、ガラスやプラスチックなどの材料からなるレンズなどの表面に形成してもよい。この場合、レンズ等は基材の一例である。また、アンチグレア層16および低屈折率層17を形成したレンズ等は、光学部材の一例である。
Further, in the above-described example, the anti-reflection film 10 had a layered structure in which the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17 were laminated on the base material 15; It does not have to have.
Furthermore, in the above-described example, the display device 1 shows the case where the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17 are formed on the liquid crystal panel 1a. However, the present invention is not limited to this, and may be formed in, for example, an organic EL or a cathode ray tube.
Further, these layers may be formed on the surface of a lens made of a material such as glass or plastic. In this case, a lens or the like is an example of the base material. Further, a lens and the like on which the anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 17 are formed are examples of optical members.

以下、本発明を、実施例を用いてより詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限りこれらの実施例により限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail using Examples. The present invention is not limited to these Examples unless they go beyond the gist thereof.

〔アンチグレア層16の作成〕
先ず、アンチグレア層16の作成方法について説明する。ここでは、表1~表3に示す組成で、アンチグレア層16の基となる塗布溶液A-1~A-21を作成した。
[Creation of anti-glare layer 16]
First, a method for creating the anti-glare layer 16 will be explained. Here, coating solutions A-1 to A-21, which are the basis of the anti-glare layer 16, were prepared with the compositions shown in Tables 1 to 3.

(塗布溶液A-1)
塗布溶液A-1は、バインダ161の基となるバインダ成分、散乱粒子162を含む。また、塗布溶液A-1は、光重合開始剤、表面改質剤、消泡剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、共栄社化学株式会社製のUA-306Hと、日本化薬株式会社製のKAYARAD PET-30とを使用した。また、散乱粒子162として、積水化成品工業株式会社製のテクポリマーMBPシリーズ(表面に凹凸を有するPMMA粒子。平均粒子径:4μm、屈折率:1.49、比表面積:110m/g)を使用した。さらに、光重合開始剤として、BASFジャパン株式会社製のイルガキュア184を使用した。さらにまた、レベリング剤として、DIC株式会社製のメガファックF-556を使用した。また、消泡剤として、ALTANA社製のBYK-066Nを使用した。これらは、塗布溶液A-1の固形分であり、配合比(質量配合比)は、表1に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるトルエンおよびイソプロピルアルコールの混合液に投入し、ホモジナイザーを用いて5分間攪拌処理を行い、塗布溶液A-1を得た。この際、得られる塗布溶液A-1の固形分濃度が50質量%となるようにした。溶媒の配合比は、表1に示した通りである。
(Coating solution A-1)
The coating solution A-1 contains a binder component that is the base of the binder 161 and scattering particles 162. Further, coating solution A-1 contains a photopolymerization initiator, a surface modifier, an antifoaming agent, and a solvent.
As binder components, UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. and KAYARAD PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. were used. In addition, as the scattering particles 162, Techpolymer MBP series manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd. (PMMA particles having irregularities on the surface. Average particle diameter: 4 μm, refractive index: 1.49, specific surface area: 110 m 2 /g) was used. used. Furthermore, Irgacure 184 manufactured by BASF Japan Co., Ltd. was used as a photopolymerization initiator. Furthermore, Megafac F-556 manufactured by DIC Corporation was used as a leveling agent. Furthermore, BYK-066N manufactured by ALTANA was used as an antifoaming agent. These are the solid contents of coating solution A-1, and the blending ratio (mass blending ratio) is as shown in Table 1.
Then, these solid contents were added to a mixed solution of toluene and isopropyl alcohol as a solvent, and stirred for 5 minutes using a homogenizer to obtain a coating solution A-1. At this time, the solid content concentration of the resulting coating solution A-1 was set to 50% by mass. The blending ratio of the solvents is as shown in Table 1.

(塗布溶液A-2)
散乱粒子162として、宇部興産株式会社製のPOMP605(表面に凹凸を有するナイロン粒子。平均粒子径:5μm、屈折率:1.54、比表面積:230m/g)を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-2を得た。
塗布溶液A-2における固形分および溶媒の配合比は、表1に示した通りである。
(Coating solution A-2)
Coating solution A except that POMP605 manufactured by Ube Industries, Ltd. (nylon particles with uneven surfaces; average particle diameter: 5 μm, refractive index: 1.54, specific surface area: 230 m 2 /g) was used as the scattering particles 162. Coating solution A-2 was obtained in the same manner as in Example 1-1.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-2 is as shown in Table 1.

(塗布溶液A-3)
散乱粒子162として、綜研化学株式会社製のMR-7GCP(表面に凹凸を有するPMMA粒子。平均粒子径:7μm、屈折率:1.49、比表面積:210m/g)を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-3を得た。
塗布溶液A-3における固形分および溶媒の配合比は、表1に示した通りである。
(Coating solution A-3)
As the scattering particles 162, MR-7GCP manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd. (PMMA particles with irregularities on the surface. Average particle diameter: 7 μm, refractive index: 1.49, specific surface area: 210 m 2 /g) was used. Coating solution A-3 was obtained in the same manner as solution A-1.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-3 is as shown in Table 1.

(塗布溶液A-4)
散乱粒子162として、AGCエスアイテック株式会社製のサンラブリー(表面に凹凸を有するシリカ粒子。平均粒子径:5μm、屈折率:1.45、比表面積:100m/g)を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-4を得た。
塗布溶液A-4における固形分および溶媒の配合比は、表1に示した通りである。
(Coating solution A-4)
As the scattering particles 162, Sunlovely (silica particles with uneven surface, average particle diameter: 5 μm, refractive index: 1.45, specific surface area: 100 m 2 /g) manufactured by AGC SI Tech Co., Ltd. was used. A coating solution A-4 was obtained in the same manner as solution A-1.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-4 is as shown in Table 1.

(塗布溶液A-5)
散乱粒子162として使用した積水化成品工業株式会社製のテクポリマーMBPシリーズの配合比を変更した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-5を得た。
塗布溶液A-5における固形分および溶媒の配合比は、表1に示した通りである。
(Coating solution A-5)
A coating solution A-5 was obtained in the same manner as the coating solution A-1 except that the blending ratio of the Techpolymer MBP series manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd. used as the scattering particles 162 was changed.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-5 is as shown in Table 1.

(塗布溶液A-6)
散乱粒子162として使用した積水化成品工業株式会社製のテクポリマーMBPシリーズの配合比を変更し、レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントFTX-218を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-6を得た。
塗布溶液A-6における固形分および溶媒の配合比は、表1に示した通りである。
(Coating solution A-6)
Coating solution A-1 was used except that the blending ratio of the Techpolymer MBP series manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd. used as scattering particles 162 was changed, and Ftergent FTX-218 manufactured by Neos Co., Ltd. was used as a leveling agent. In the same manner, coating solution A-6 was obtained.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-6 is as shown in Table 1.

(塗布溶液A-7)
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のUA-306Iと、日本化薬株式会社製のKAYARAD PET-30とを使用し、表面改質剤として、株式会社ネオス製のフタージェントFTX-218を使用し、溶媒として、トルエンおよびメチルイソブチルケトンの混合液を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-7を得た。
塗布溶液A-7における固形分および溶媒の配合比は、表1に示した通りである。
(Coating solution A-7)
As binder components, UA-306I manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. and KAYARAD PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. were used, and as a surface modifier, Ftergent FTX-218 manufactured by Neos Co., Ltd. was used. A coating solution A-7 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except that a mixture of toluene and methyl isobutyl ketone was used as the solvent.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-7 is as shown in Table 1.

(塗布溶液A-8)
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のUA-306Hおよび日本化薬株式会社製のKAYARAD PET-30に加えて、大阪ガスケミカル株式会社製のOGSOL EA-0200を使用し、消泡剤を使用しなかった以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-8を得た。
塗布溶液A-8における固形分および溶媒の配合比は、表2に示した通りである。
(Coating solution A-8)
As binder components, in addition to UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. and KAYARAD PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., OGSOL EA-0200 manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. was used, and an antifoaming agent was used. Coating solution A-8 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except that there was no coating solution.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-8 is as shown in Table 2.

(塗布溶液A-9)
レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントFTX-218を使用し、さらに、日産化学株式会社製のオルガノシリカゾルPGM-AC-2140Yを添加した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-9を得た。
塗布溶液A-9における固形分および溶媒の配合比は、表2に示した通りである。
(Coating solution A-9)
The coating solution was prepared in the same manner as coating solution A-1, except that Ftergent FTX-218 manufactured by NEOS Co., Ltd. was used as a leveling agent, and organosilica sol PGM-AC-2140Y manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. was added. A-9 was obtained.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-9 is as shown in Table 2.

(塗布溶液A-10)
散乱粒子162として、積水化成品工業株式会社製のテクポリマーMBPシリーズと、綜研化学株式会社製のMR-7GCPとを使用し、レベリング剤として、株式会社ネオス製のフタージェントFTX-218を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-10を得た。
塗布溶液A-10における固形分および溶媒の配合比は、表2に示した通りである。
(Coating solution A-10)
As scattering particles 162, Techpolymer MBP series manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd. and MR-7GCP manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. were used, and as a leveling agent, Ftergent FTX-218 manufactured by Neos Co., Ltd. was used. Coating solution A-10 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except for that.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-10 is as shown in Table 2.

(塗布溶液A-11)
散乱粒子162として、綜研化学株式会社製のMX-500(表面が平滑な真球のPMMA粒子。平均粒子径:5μm、屈折率:1.49、比表面積:0.6m/g)を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-11を得た。
塗布溶液A-11における固形分および溶媒の配合比は、表2に示した通りである。
(Coating solution A-11)
As the scattering particles 162, MX-500 manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd. (true spherical PMMA particles with a smooth surface. Average particle diameter: 5 μm, refractive index: 1.49, specific surface area: 0.6 m 2 /g) is used. Coating solution A-11 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except for the following steps.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-11 is as shown in Table 2.

(塗布溶液A-12)
散乱粒子162として使用した綜研化学株式会社製のMX-500の配合比を変更した以外は塗布溶液A-11と同様にして、塗布溶液A-12を得た。
塗布溶液A-12における固形分および溶媒の配合比は、表2に示した通りである。
(Coating solution A-12)
Coating solution A-12 was obtained in the same manner as coating solution A-11 except that the blending ratio of MX-500 manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd. used as scattering particles 162 was changed.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-12 is as shown in Table 2.

(塗布溶液A-13)
散乱粒子162を使用しなかった以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-13を得た。
塗布溶液A-13における固形分および溶媒の配合比は、表2に示した通りである。
(Coating solution A-13)
Coating solution A-13 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except that scattering particles 162 were not used.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-13 is as shown in Table 2.

(塗布溶液A-14)
散乱粒子162として、根上工業株式会社製のART PEARL TE-812T(多孔質アクリル/ウレタン粒子。平均粒子径:6μm、屈折率:1.52、比表面積:55m/g)を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-14を得た。
塗布溶液A-14における固形分および溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution A-14)
Except that ART PEARL TE-812T (porous acrylic/urethane particles, average particle diameter: 6 μm, refractive index: 1.52, specific surface area: 55 m 2 /g) manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. was used as the scattering particles 162. Coating solution A-14 was obtained in the same manner as coating solution A-1.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-14 is as shown in Table 3.

(塗布溶液A-15)
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のUA-306Iと、日本化薬株式会社製のKAYARAD PET-30とを使用し、散乱粒子162として、日興リカ株式会社製のNH-RAS06(表面に凹凸を有するシリコーン/アルミナ粒子。平均粒子径:6μm、屈折率:1.43~1.50、比表面積:70m/g)を使用し、溶媒として、1-メトキシ-2-プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-15を得た。
塗布溶液A-15における固形分および溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution A-15)
As the binder components, UA-306I manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. and KAYARAD PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. were used, and as the scattering particles 162, NH-RAS06 manufactured by Nikko Rica Co., Ltd. (with irregularities on the surface) was used. Silicone/alumina particles (average particle size: 6 μm, refractive index: 1.43 to 1.50, specific surface area: 70 m 2 /g) were used, and a mixed solution of 1-methoxy-2-propanol and cyclohexanone was used as a solvent. Coating solution A-15 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except that .
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-15 is as shown in Table 3.

(塗布溶液A-16)
散乱粒子162として、日興リカ株式会社製のSilcrusta MKN03(表面に凹凸を有するシリコーン/PMMA粒子。平均粒子径:3μm、屈折率:1.43~1.50、比表面積:90m/g)を使用し、溶媒として、1-メトキシ-2-プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-16を得た。
塗布溶液A-16における固形分および溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution A-16)
As the scattering particles 162, Silcrusta MKN03 manufactured by Nikko Rica Co., Ltd. (silicone/PMMA particles with uneven surfaces. Average particle diameter: 3 μm, refractive index: 1.43 to 1.50, specific surface area: 90 m 2 /g) was used. Coating solution A-16 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except that a mixed solution of 1-methoxy-2-propanol and cyclohexanone was used as the solvent.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-16 is as shown in Table 3.

(塗布溶液A-17)
散乱粒子162として、日興リカ株式会社製のNH-RAS06および日興リカ株式会社製のSilcrusta MKN03を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、1-メトキシ-2-プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-17を得た。
塗布溶液A-17における固形分および溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution A-17)
NH-RAS06 manufactured by Nikko Rica Co., Ltd. and Silcrusta MKN03 manufactured by Nikko Rica Co., Ltd. were used as the scattering particles 162, and a mixed solution of methyl isobutyl ketone, 1-methoxy-2-propanol and cyclohexanone was used as the solvent. Coating solution A-17 was obtained in the same manner as coating solution A-1.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-17 is as shown in Table 3.

(塗布溶液A-18)
散乱粒子162として、日興リカ株式会社製のSilcrush A3500(表面に凹凸を有するシリコーン粒子。平均粒子径:3.7μm、屈折率:1.42、比表面積:50m/g)を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、1-メトキシ-2-プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用し、消泡剤を使用しなかった以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-17を得た。
塗布溶液A-18における固形分および溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution A-18)
As the scattering particles 162, Silcrush A3500 manufactured by Nikko Rica Co., Ltd. (silicone particles having irregularities on the surface. Average particle diameter: 3.7 μm, refractive index: 1.42, specific surface area: 50 m 2 /g) was used, and the solvent Coating solution A-17 was obtained in the same manner as coating solution A-1, except that a mixed solution of methyl isobutyl ketone, 1-methoxy-2-propanol and cyclohexanone was used, and no antifoaming agent was used. .
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-18 is as shown in Table 3.

(塗布溶液A-19)
散乱粒子162として、日興リカ株式会社製のSilcrusta MKN03を使用し、日産化学株式会社製のオルガノシリカゾルPGM-AC-2140Yを添加し、溶媒として、メチルイソブチルケトン、1-メトキシ-2-プロパノールおよびシクロヘキサノンの混合液を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-19を得た。
塗布溶液A-19における固形分および溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution A-19)
Silcrusta MKN03 manufactured by Nikko Rica Co., Ltd. was used as the scattering particles 162, organosilica sol PGM-AC-2140Y manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. was added, and methyl isobutyl ketone, 1-methoxy-2-propanol and cyclohexanone were used as the solvent. Coating solution A-19 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except that the mixed solution was used.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-19 is as shown in Table 3.

(塗布溶液A-20)
散乱粒子162として、根上工業株式会社製のART PEARL TE-812Tを使用し、散乱粒子162以外のその他の粒子として、綜研化学株式会社製SX-130H(単分散ポリスチレン粒子、平均粒子径:1.3μm)を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトンおよび1-メトキシ-2-プロパノールの混合液を使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-20を得た。
塗布溶液A-20における固形分および溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution A-20)
As the scattering particles 162, ART PEARL TE-812T manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd. was used, and as other particles other than the scattering particles 162, SX-130H manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. (monodisperse polystyrene particles, average particle diameter: 1. Coating solution A-20 was obtained in the same manner as coating solution A-1, except that a mixed solution of methyl isobutyl ketone and 1-methoxy-2-propanol was used as the solvent.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-20 is as shown in Table 3.

(塗布溶液A-21)
バインダ成分として、共栄社化学株式会社製のUA-306Hのみを用い、散乱粒子162として、日興リカ株式会社製のSilcrusta MKN03を使用し、散乱粒子162以外のその他の粒子として、綜研化学株式会社製SX-130Hを使用した以外は塗布溶液A-1と同様にして、塗布溶液A-21を得た。
塗布溶液A-21における固形分および溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution A-21)
As the binder component, only UA-306H manufactured by Kyoeisha Kagaku Co., Ltd. was used, as the scattering particles 162, Silcrusta MKN03 manufactured by Nikko Rica Co., Ltd. was used, and as other particles other than the scattering particles 162, SX manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. Coating solution A-21 was obtained in the same manner as coating solution A-1 except that -130H was used.
The blending ratio of solid content and solvent in coating solution A-21 is as shown in Table 3.

Figure 2024028139000003
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Figure 2024028139000004
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Figure 2024028139000005
Figure 2024028139000005

〔低屈折率層17の作成〕
次に、低屈折率層17の作成方法について説明する。ここでは、表4に示す組成で、低屈折率層17の基となる塗布溶液B-1、B-2を作成した。
[Creation of low refractive index layer 17]
Next, a method for creating the low refractive index layer 17 will be explained. Here, coating solutions B-1 and B-2, which are the basis of the low refractive index layer 17, were prepared with the compositions shown in Table 4.

(塗布溶液B-1)
塗布溶液B-1は、バインダ171の基となるバインダ成分、中空シリカ粒子172を含む。また、塗布溶液B-1は、中実シリカ粒子を含む。さらに、塗布溶液B-1は、光重合開始剤、表面改質剤、消泡剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、ダイキン工業株式会社製のAR-100と、日本化薬株式会社製のKAYARAD PET-30とを使用した。また、中空シリカ粒子172としては、平均粒子径が75nmのものを使用した。さらに、中実シリカ粒子としては、平均粒子径が10nmのものを使用した。さらにまた、光重合開始剤としては、BASFジャパン株式会社製のイルガキュア184を使用した。また、表面改質剤としては、信越化学工業株式会社製のKY-1203、DIC株式会社製のメガファックRS-58、および株式会社ネオス製のフタージェント650Aを使用した。さらに、消泡剤としては、ALTANA社製のBYK-066Nを使用した。これらは、塗布溶液B-1の固形分であり、配合比は、表4に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるメチルイソブチルケトンおよびn-ブチルアルコールの混合液に投入し、5分間攪拌処理を行い、塗布溶液B-1を得た。この際、得られる塗布溶液B-1の固形分濃度が2.5質量%となるようにした。溶媒の配合比は、表3に示した通りである。
(Coating solution B-1)
The coating solution B-1 contains a binder component that is the base of the binder 171 and hollow silica particles 172. Further, coating solution B-1 contains solid silica particles. Furthermore, coating solution B-1 contains a photopolymerization initiator, a surface modifier, an antifoaming agent, and a solvent.
As binder components, AR-100 manufactured by Daikin Industries, Ltd. and KAYARAD PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. were used. Moreover, as the hollow silica particles 172, those having an average particle diameter of 75 nm were used. Furthermore, solid silica particles having an average particle diameter of 10 nm were used. Furthermore, Irgacure 184 manufactured by BASF Japan Co., Ltd. was used as a photopolymerization initiator. Further, as surface modifiers, KY-1203 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Megafac RS-58 manufactured by DIC Corporation, and Ftergent 650A manufactured by Neos Corporation were used. Furthermore, BYK-066N manufactured by ALTANA was used as an antifoaming agent. These are the solid contents of coating solution B-1, and the blending ratio is as shown in Table 4.
Then, these solid contents were added to a mixed solution of methyl isobutyl ketone and n-butyl alcohol as a solvent, and stirred for 5 minutes to obtain a coating solution B-1. At this time, the solid content concentration of the resulting coating solution B-1 was set to 2.5% by mass. The blending ratio of the solvents is as shown in Table 3.

(塗布溶液B-2)
バインダ成分として、日本化薬株式会社製のKAYARAD PET-30と、新中村化学株式会社製のNKエステルA-200とを使用し、中空シリカ粒子172として平均粒子径が60nmのものを使用し、光重合開始剤として、BASFジャパン株式会社製のイルガキュア127を使用し、表面改質剤として、信越化学工業株式会社製のKY-1203およびDIC株式会社製のメガファックRS-90を使用し、溶媒として、メチルイソブチルケトンおよびtert-ブチルアルコールの混合液を使用した以外は塗布溶液B-1と同様にして、塗布溶液B-2を得た。
塗布溶液B-2における固形分濃度および溶媒の配合比は、表4に示した通りである。
(Coating solution B-2)
As binder components, KAYARAD PET-30 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. and NK Ester A-200 manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. were used, and hollow silica particles 172 with an average particle diameter of 60 nm were used. Irgacure 127 manufactured by BASF Japan Co., Ltd. was used as a photopolymerization initiator, KY-1203 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and Megafac RS-90 manufactured by DIC Corporation were used as surface modifiers, and the solvent Coating solution B-2 was obtained in the same manner as coating solution B-1 except that a mixed solution of methyl isobutyl ketone and tert-butyl alcohol was used.
The solid content concentration and solvent blending ratio in coating solution B-2 are as shown in Table 4.

Figure 2024028139000006
Figure 2024028139000006

〔高屈折率層19の作成〕
次に、高屈折率層19の作成方法について説明する。ここでは、表5に示す組成で、高屈折率層19の基となる塗布溶液C-1を作成した。
[Creation of high refractive index layer 19]
Next, a method for creating the high refractive index layer 19 will be explained. Here, a coating solution C-1, which is the basis of the high refractive index layer 19, was prepared with the composition shown in Table 5.

(塗布溶液C-1)
塗布溶液C-1は、バインダの基となるバインダ成分、高屈折率粒子を含む。また、塗布溶液C-1は、光重合開始剤、表面改質剤、および溶媒を含む。
バインダ成分としては、日本化薬株式会社製のKAYARAD DPHAを使用した。また、高屈折率粒子としては、酸化ジルコニアのナノ粒子(平均粒子径:10nm)を使用した。さらに、光重合開始剤としては、BASFジャパン株式会社製のイルガキュア184を使用した。これらは塗布溶液C-1の固形分であり、配合比は、表5に示した通りである。
そして、これらの固形分を、溶媒であるメチルイソブチルケトンに投入し、5分間攪拌処理を行い、塗布溶液を得た。この際、得られる塗布溶液C-1の固形分濃度が8質量%となるようにした。
(Coating solution C-1)
The coating solution C-1 contains a binder component serving as a base of the binder and high refractive index particles. Furthermore, the coating solution C-1 contains a photopolymerization initiator, a surface modifier, and a solvent.
As the binder component, KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. was used. Further, as the high refractive index particles, oxidized zirconia nanoparticles (average particle diameter: 10 nm) were used. Furthermore, Irgacure 184 manufactured by BASF Japan Co., Ltd. was used as a photopolymerization initiator. These are the solid contents of coating solution C-1, and the blending ratio is as shown in Table 5.
Then, these solid contents were added to methyl isobutyl ketone as a solvent and stirred for 5 minutes to obtain a coating solution. At this time, the solid content concentration of the resulting coating solution C-1 was set to 8% by mass.

Figure 2024028139000007
Figure 2024028139000007

〔反射防止フィルム10の作成〕
続いて、得られた各塗布溶液を用いて、反射防止フィルム10を作成した。
(実施例1)
PETからなる基材15(東洋紡株式会社製のコスモシャインSRF、厚さ80μm)上に、塗布溶液A-1を、ワイヤバーを用いて塗工した。続いて、90℃で2分間加熱乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照度100mW/cmで3秒間照射して塗布溶液A-1を硬化させた。これにより、基材15上に、膜厚3.3μmのアンチグレア層16を形成した。
[Creation of anti-reflection film 10]
Subsequently, an antireflection film 10 was created using each of the obtained coating solutions.
(Example 1)
Coating solution A-1 was applied onto a base material 15 made of PET (Cosmoshine SRF manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 80 μm) using a wire bar. Subsequently, after heating and drying at 90° C. for 2 minutes, coating solution A-1 was cured by irradiating ultraviolet rays at an illuminance of 100 mW/cm 2 for 3 seconds using a high-pressure mercury lamp. As a result, an anti-glare layer 16 having a thickness of 3.3 μm was formed on the base material 15.

続いて、得られたアンチグレア層16上に、塗布溶液B-1を、ワイヤバーを用いて塗工した。続いて、50℃で3分間加熱乾燥した後、窒素ガス環境下(酸素濃度0.1%未満)で、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照度100mW/cmで3秒間照射して塗布溶液B-1を硬化させた。これにより、アンチグレア層16上に、膜厚98nmの低屈折率層17を形成した。
以上により、基材15と、アンチグレア層16と、低屈折率層17とがこの順で積層された反射防止フィルム10を得た。
Subsequently, coating solution B-1 was applied onto the obtained anti-glare layer 16 using a wire bar. Subsequently, after heating and drying at 50°C for 3 minutes, the coating solution was irradiated with ultraviolet rays at an illuminance of 100 mW/cm 2 for 3 seconds using a high-pressure mercury lamp in a nitrogen gas environment (oxygen concentration less than 0.1%). B-1 was cured. As a result, a 98 nm thick low refractive index layer 17 was formed on the anti-glare layer 16.
Through the above steps, an antireflection film 10 was obtained in which the base material 15, the anti-glare layer 16, and the low refractive index layer 17 were laminated in this order.

(実施例2)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-2を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.8μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 2)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-2 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.8 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例3)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-3を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は4.6μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 3)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-3 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 4.6 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例4)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-4を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は4.6μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 4)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-4 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 4.6 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例5)
アンチグレア層16の膜厚を変更した以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は2.7μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 5)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the anti-glare layer 16 was changed, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 2.7 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例6)
アンチグレア層16の膜厚を変更した以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は4.2μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 6)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the anti-glare layer 16 was changed, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 4.2 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例7)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-5を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は5.0μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 7)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-5 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 5.0 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例8)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-6を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は6.0μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 8)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-6 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 6.0 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例9)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-7を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 9)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-7 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例10)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-8を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 10)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-8 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例11)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-9を用い、低屈折率層17の作成に塗布溶液B-2を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 11)
The anti-glare layer 16 and the low refractive index layer 16 were coated on the base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-9 was used to create the anti-glare layer 16 and coating solution B-2 was used to create the low refractive index layer 17. A refractive index layer 17 was formed to obtain an antireflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例12)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-10を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 12)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-10 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例13)
塗布溶液A-1を用い、実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16を作成した。続いて、塗布溶液C-1を用い、実施例1の低屈折率層17の作成と同様にして、アンチグレア層16上に高屈折率層19を作成した。続いて、塗布溶液B-1を用い、実施例1と同様にして、高屈折率層19上に低屈折率層17を作成した。
以上により、基材15と、アンチグレア層16と、高屈折率層19と、低屈折率層17とがこの順で積層された反射防止フィルム10を得た。得られた反射防止フィルム10のけるアンチグレア層16の膜厚は3.3μmであり、高屈折率層19の膜厚は145μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 13)
An anti-glare layer 16 was formed on the base material 15 in the same manner as in Example 1 using the coating solution A-1. Subsequently, a high refractive index layer 19 was formed on the anti-glare layer 16 in the same manner as the low refractive index layer 17 of Example 1 using the coating solution C-1. Subsequently, a low refractive index layer 17 was formed on the high refractive index layer 19 in the same manner as in Example 1 using coating solution B-1.
Through the above steps, an antireflection film 10 was obtained in which the base material 15, the anti-glare layer 16, the high refractive index layer 19, and the low refractive index layer 17 were laminated in this order. The anti-glare layer 16 of the obtained anti-reflection film 10 had a thickness of 3.3 μm, the high refractive index layer 19 had a thickness of 145 μm, and the low refractive index layer 17 had a thickness of 98 nm.

(実施例14)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-14を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は4.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 14)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-14 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 4.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例15)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-15を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は4.5μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 15)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-15 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 4.5 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例16)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-16を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は1.8μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 16)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-16 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 1.8 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例17)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-17を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は4.5μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 17)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-17 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 4.5 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例18)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-18を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は2.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 18)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-18 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 2.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例19)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-19を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は1.9μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 19)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-19 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 1.9 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例20)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-20を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は4.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 20)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-20 was used to create the anti-glare layer 16, to obtain an anti-reflection film 10.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 4.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例21)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-21を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は1.9μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 21)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-21 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 1.9 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例22)
PETからなる基材15(TORAY社製のLumirror、厚さ50μm)を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 22)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on the base material 15 in the same manner as in Example 1 except that a base material 15 made of PET (Lumirror manufactured by TORAY, thickness 50 μm) was used to prevent reflection. Film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例23)
TACからなる基材15(FUJIFILM社製のFUJITAC、厚さ60μm)を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 23)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on the base material 15 in the same manner as in Example 1 except that a base material 15 made of TAC (FUJITAC manufactured by FUJIFILM, thickness 60 μm) was used to prevent reflection. Film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(実施例24)
PMMAからなる基材15(大倉工業社製のOXIS、厚さ40μm)を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.3μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Example 24)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on the base material 15 in the same manner as in Example 1, except that a base material 15 made of PMMA (OXIS manufactured by Okura Kogyo Co., Ltd., thickness 40 μm) was used. A prevention film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.3 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(比較例1)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-11を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は2.5μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Comparative example 1)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-11 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 2.5 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(比較例2)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-12を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は2.5μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Comparative example 2)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-12 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 2.5 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(比較例3)
アンチグレア層16の膜厚を変更した以外は比較例2と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は3.7μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Comparative example 3)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Comparative Example 2, except that the thickness of the anti-glare layer 16 was changed, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 3.7 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

(比較例4)
アンチグレア層16の膜厚を変更した以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は6.0μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。なお、比較例4のアンチグレア層16では、アンチグレア層16の膜厚が厚く、散乱粒子162がバインダ161内に埋没しており、突出部16bが形成されていなかった。
(Comparative example 4)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the anti-glare layer 16 was changed, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 6.0 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm. In addition, in the anti-glare layer 16 of Comparative Example 4, the film thickness of the anti-glare layer 16 was thick, the scattering particles 162 were buried in the binder 161, and the protrusion part 16b was not formed.

(比較例5)
アンチグレア層16の作成に塗布溶液A-13を用いた以外は実施例1と同様にして、基材15上にアンチグレア層16および低屈折率層17を形成し、反射防止フィルム10を得た。
得られた反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の膜厚は2.5μmであり、低屈折率層17の膜厚は98nmであった。
(Comparative example 5)
An anti-glare layer 16 and a low refractive index layer 17 were formed on a base material 15 in the same manner as in Example 1, except that coating solution A-13 was used to create the anti-glare layer 16, and an anti-reflection film 10 was obtained.
In the obtained antireflection film 10, the thickness of the antiglare layer 16 was 2.5 μm, and the thickness of the low refractive index layer 17 was 98 nm.

〔評価方法〕
実施例1~実施例21および比較例1~比較例5で得られた反射防止フィルム10について、以下の項目について評価を行った。
(アンチグレア層16におけるバインダ161および散乱粒子162の屈折率)
アンチグレア層16におけるバインダ161および散乱粒子162のそれぞれについて、屈折率を測定した。具体的には、株式会社アタゴ製のアッベ屈折計(DR-A1)を用いて、バインダ161および散乱粒子162の屈折率を測定した。このとき、同一サンプル内で、n=3点で屈折率を測定し、平均値を採用した。
〔Evaluation methods〕
The antireflection films 10 obtained in Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 to 5 were evaluated on the following items.
(Refractive index of binder 161 and scattering particles 162 in anti-glare layer 16)
The refractive index of each of the binder 161 and the scattering particles 162 in the anti-glare layer 16 was measured. Specifically, the refractive index of the binder 161 and the scattering particles 162 was measured using an Abbe refractometer (DR-A1) manufactured by Atago Co., Ltd. At this time, the refractive index was measured at n=3 points within the same sample, and the average value was adopted.

(アンチグレア層16の膜厚)
アンチグレア層16の膜厚を測定した。具体的には、株式会社日立ハイテク製の走査電子顕微鏡(SU8600)を用いて、反射防止フィルム10におけるアンチグレア層16の断面を2000倍で観察し、バインダ161で形成された平坦部16aの膜厚を測定した。このとき、同一サンプル内で、n=20点で膜厚を測定し、平均値を採用した。
(Thickness of anti-glare layer 16)
The thickness of the anti-glare layer 16 was measured. Specifically, using a scanning electron microscope (SU8600) manufactured by Hitachi High-Tech Corporation, the cross section of the anti-glare layer 16 in the anti-reflection film 10 was observed at 2000 times, and the film thickness of the flat part 16a formed by the binder 161 was measured. was measured. At this time, the film thickness was measured at n=20 points within the same sample, and the average value was adopted.

(低屈折率層17および高屈折率層19の屈折率および膜厚)
低屈折率層17および高屈折率層19の屈折率および膜厚を、J.W.Woollam社製の分光エリプソメーター(VUV-VASE)を用いて測定した。このとき、同一サンプル内で、n=3点で屈折率および膜厚を測定し、平均値を採用した。
(Refractive index and film thickness of low refractive index layer 17 and high refractive index layer 19)
The refractive index and film thickness of the low refractive index layer 17 and the high refractive index layer 19 were determined according to J. W. Measurement was performed using a spectroscopic ellipsometer (VUV-VASE) manufactured by Woollam. At this time, the refractive index and film thickness were measured at n=3 points within the same sample, and the average value was adopted.

(トータルヘイズ値)
反射防止フィルム10のトータルヘイズ値を、日本電色工業株式会社製のヘイズメーターNDH5000Wを用いて、JIS K7136:2000に準拠して測定した。このとき、同一サンプル内で、n=3点でトータルヘイズ値を測定し、平均値を採用した。
(Total haze value)
The total haze value of the antireflection film 10 was measured using a haze meter NDH5000W manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with JIS K7136:2000. At this time, the total haze value was measured at n=3 points within the same sample, and the average value was adopted.

(内部ヘイズ値および外部ヘイズ値)
アンチグレア層16の表面に形成された凹凸163を、アンチグレア層16と屈折率がほぼ同一な液体モノマーで充填して平坦にした状態で、日本電色工業株式会社製のヘイズメーターNDH5000Wを用いて、内部ヘイズ値を測定した。このとき、同一サンプル内でn=3点で内部ヘイズ値を測定し、平均値を採用した。
また、トータルヘイズ値から内部ヘイズ値を減算した値を外部ヘイズ値とした。
(internal haze value and external haze value)
With the unevenness 163 formed on the surface of the anti-glare layer 16 filled with a liquid monomer having almost the same refractive index as the anti-glare layer 16 and flattened, using a haze meter NDH5000W manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., The internal haze value was measured. At this time, internal haze values were measured at n=3 points within the same sample, and the average value was used.
Further, the value obtained by subtracting the internal haze value from the total haze value was defined as the external haze value.

(入射角85°でのグロス値)
反射防止フィルム10の入射角85°でのグロス値を測定した。具体的には、反射防止フィルム10の裏面(基材15)上に黒色のPETフィルムを貼り付け、BYK社製のグロスメータを用いて、反射防止フィルム10の表面(低屈折率層17)側から入射角85°でのグロス値を測定した。
(Gross value at an incident angle of 85°)
The gloss value of the antireflection film 10 at an incident angle of 85° was measured. Specifically, a black PET film is pasted on the back surface (base material 15) of the anti-reflection film 10, and the surface (low refractive index layer 17) side of the anti-reflection film 10 is pasted using a BYK gloss meter. The gloss value was measured at an incident angle of 85°.

(アンチグレア層16における平坦部16aおよび突出部16bの面積)
アンチグレア層16における平坦部16aおよび突出部16bの面積を、株式会社キーエンス製のレーザ顕微鏡VK-X1100を用いて測定した。具体的には、倍率150倍の対物レンズを使用し、アンチグレア層16表面の97μm×73μmの領域の形状データを取得した。取得した形状データにおける高さ情報を用いて、平坦部16aと突出部16bとを区別し、それぞれの面積を算出した。
そして、突出部16bの面積に対する平坦部16aの面積の比率(平坦部16aの面積/突出部16bの面積)を算出した。
(Area of flat portion 16a and protruding portion 16b in anti-glare layer 16)
The areas of the flat portions 16a and protrusions 16b in the anti-glare layer 16 were measured using a laser microscope VK-X1100 manufactured by Keyence Corporation. Specifically, shape data of a 97 μm×73 μm area on the surface of the anti-glare layer 16 was obtained using an objective lens with a magnification of 150 times. Using the height information in the acquired shape data, the flat portion 16a and the protruding portion 16b were distinguished, and the area of each was calculated.
Then, the ratio of the area of the flat portion 16a to the area of the protruding portion 16b (area of the flat portion 16a/area of the protruding portion 16b) was calculated.

(SCI反射率)
反射防止フィルム10のSCI反射率を測定した。具体的には、反射防止フィルム10の裏面(基材15)上に黒色のPETフィルムを貼り付け、コニカミノルタ株式会社製のCM-2600dを用いて、反射防止フィルム10のSCI反射率を測定した。
反射防止フィルム10のSCI反射率は小さいほど好ましく、具体的には、1.8%以下であることが好ましい。
(SCI reflectance)
The SCI reflectance of the antireflection film 10 was measured. Specifically, a black PET film was pasted on the back surface (substrate 15) of the anti-reflection film 10, and the SCI reflectance of the anti-reflection film 10 was measured using CM-2600d manufactured by Konica Minolta, Inc. .
The smaller the SCI reflectance of the antireflection film 10 is, the more preferable it is, and specifically, it is preferably 1.8% or less.

(映り込み評価)
反射防止フィルム10を、粘着フィルムを用いて55インチサイズのディスプレイに貼り合わせた。また、ディスプレイから斜め45°に2m離れたところに白熱電球を備えたランプを配置した。そして、ディスプレイを点灯して映像を表示させた状態で、ディスプレイの正面方向に1m離れた場所からディスプレイを目視にて観察し、ディスプレイへの白熱電球の映り込み、およびディスプレイに表示される映像の視認性を評価した。
評価は以下の基準で行った。
A:外光の映り込みが非常に少なく、映像の視認性に優れる。
B:多少外光の映り込みが確認できるが、映像の視認性への影響はほとんどない。
C:外光の映り込みが目立ち、表示される映像の視認性の低下が確認される。
D:外光の映り込みが激しく、映像の視認性が悪い。
そして、評価がAまたはBの場合を合格とし、評価がCまたはDの場合を不合格とした。
(Reflection evaluation)
The antireflection film 10 was attached to a 55-inch display using an adhesive film. In addition, a lamp equipped with an incandescent light bulb was placed 2 meters away from the display at an angle of 45 degrees. Then, with the display turned on and an image displayed, visually observe the display from a distance of 1 meter in front of the display to check for the reflection of the incandescent light bulb on the display and the difference in the image displayed on the display. Visibility was evaluated.
Evaluation was performed based on the following criteria.
A: There is very little reflection of external light, and the visibility of the image is excellent.
B: Some reflection of external light can be seen, but there is almost no effect on the visibility of the image.
C: Reflection of external light is noticeable, and it is confirmed that the visibility of the displayed image is reduced.
D: Visibility of the image is poor due to strong reflection of external light.
A case where the evaluation was A or B was judged as a pass, and a case where the evaluation was C or D was judged as a failure.

(外観評価)
明視野下の条件で、反射防止フィルム10を貼り付けたディスプレイの外観を目視にて観察し、評価した。ディスプレイは、映り込み評価に用いたのと同様のものを用い、外観の観察は、ディスプレイが非点灯の状態で行った。
評価は以下の基準で行った。
A:光沢感のない黒が感じられる。
B:光沢感のある黒が若干感じられる。
C:散乱光による白みが若干感じられる。
D:散乱光による白みが感じられる。
そして、評価がAまたはBの場合を合格とし、評価がCまたはDの場合を不合格とした。
(Appearance evaluation)
The appearance of the display to which the antireflection film 10 was attached was visually observed and evaluated under bright field conditions. A display similar to that used for reflection evaluation was used, and the appearance was observed with the display not lit.
Evaluation was performed based on the following criteria.
A: A black color with no luster is felt.
B: A glossy black color is slightly felt.
C: Some whitishness due to scattered light is perceived.
D: Whiteness due to scattered light is felt.
A case where the evaluation was A or B was judged as a pass, and a case where the evaluation was C or D was judged as a failure.

〔評価結果〕
実施例1~実施例21および比較例1~比較例5の反射防止フィルム10の評価結果について、表6~表9に示す。
〔Evaluation results〕
The evaluation results of the antireflection films 10 of Examples 1 to 21 and Comparative Examples 1 to 5 are shown in Tables 6 to 9.

Figure 2024028139000008
Figure 2024028139000008

Figure 2024028139000009
Figure 2024028139000009

Figure 2024028139000010
Figure 2024028139000010

Figure 2024028139000011
Figure 2024028139000011

表6~表8に示すように、実施例1~実施例21の反射防止フィルム10では、映り込み評価および外観評価の結果がいずれもAまたはBであり、合格の範囲となった。 As shown in Tables 6 to 8, in the antireflection films 10 of Examples 1 to 21, the results of reflection evaluation and appearance evaluation were both A or B, which was within the acceptable range.

これに対し、アンチグレア層16に含まれる散乱粒子162が表面に凹凸を有していない比較例1~比較例3の反射防止フィルム10は、映り込み評価および外観評価の少なくとも一方の結果が不合格となった。
また、アンチグレア層16の膜厚(平坦部16aの膜厚)が厚く、散乱粒子162がバインダ161から突出せずに突出部16bが形成されていない比較例4の反射防止フィルム10は、外観評価の結果は合格であるものの、映り込み評価の結果が不合格であった。
さらに、アンチグレア層16が散乱粒子162を含まない比較例5の反射防止フィルム10は、外観評価の結果は合格であるものの、映り込み評価の結果が不合格であった。
On the other hand, the anti-reflection films 10 of Comparative Examples 1 to 3, in which the scattering particles 162 included in the anti-glare layer 16 do not have irregularities on the surface, failed in at least one of the reflection evaluation and appearance evaluation. It became.
In addition, the anti-reflection film 10 of Comparative Example 4, in which the anti-glare layer 16 has a large thickness (the thickness of the flat portion 16a) and the scattering particles 162 do not protrude from the binder 161 and the protruding portion 16b is not formed, was evaluated for appearance. Although the result was a pass, the result of the reflection evaluation was a fail.
Further, the antireflection film 10 of Comparative Example 5 in which the anti-glare layer 16 did not include the scattering particles 162 passed the appearance evaluation, but failed the reflection evaluation.

また、実施例1~実施例13を比べると、入射角85°でのグロス値が40以下である実施例1~実施例5、実施例7~実施例13の反射防止フィルム10は、入射角85°でのグロス値が40を超える実施例6の反射防止フィルム10と比べて、映り込み評価の結果が良好であることが確認された。
さらに、突出部16bの面積に対する平坦部16aの面積の比率(平坦部16aの面積/突出部16bの面積)が2.0以上30以下である実施例1~実施例7、実施例9~実施例13の反射防止フィルム10は、突出部16bの面積に対する平坦部16aの面積の比率(平坦部16aの面積/突出部16bの面積)が2.0未満である実施例8の反射防止フィルム10と比べて、外観評価の結果が良好であることが確認された。
Further, when comparing Examples 1 to 13, it is found that the antireflection films 10 of Examples 1 to 5 and Examples 7 to 13, which have a gloss value of 40 or less at an incident angle of 85°, It was confirmed that the results of the reflection evaluation were better than the antireflection film 10 of Example 6, which had a gloss value of more than 40 at 85°.
Furthermore, Examples 1 to 7 and Examples 9 to 20 have a ratio of the area of the flat part 16a to the area of the protrusion 16b (area of the flat part 16a/area of the protrusion 16b) from 2.0 to 30. The antireflection film 10 of Example 13 is the antireflection film 10 of Example 8 in which the ratio of the area of the flat portion 16a to the area of the protrusion 16b (area of the flat portion 16a/area of the protrusion 16b) is less than 2.0. It was confirmed that the results of the appearance evaluation were good compared to the above.

〔基材15の違いによる評価〕
基材15が互いに異なる実施例1、実施例22~実施例24で得られた反射防止フィルム10について、以下の項目について評価、比較を行った。
(基材15の内部ヘイズ値)
実施例1、実施例22~実施例24で用いた基材15の可視光領域における内部ヘイズ値を、日本電色工業株式会社製の分光ヘイズメーターSH7000を用いて測定した。実施例1の基材15(東洋紡株式会社製のコスモシャインSRF)については、可視光領域として波長440nmでの内部ヘイズ値を測定した。また、実施例22の基材15(TORAY社製のLumirror)、実施例23の基材15((FUJIFILM社製のFUJITAC)、および実施例24の基材15(大倉工業社製のOXIS)については、可視光領域として波長380nmでの内部ヘイズ値を測定した。
[Evaluation based on differences in base material 15]
The antireflection films 10 obtained in Example 1 and Examples 22 to 24 in which the base materials 15 were different from each other were evaluated and compared with respect to the following items.
(Internal haze value of base material 15)
The internal haze value in the visible light region of the base material 15 used in Examples 1 and 22 to 24 was measured using a spectral haze meter SH7000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. Regarding the base material 15 (Cosmoshine SRF manufactured by Toyobo Co., Ltd.) of Example 1, the internal haze value at a wavelength of 440 nm in the visible light region was measured. Further, regarding the base material 15 of Example 22 (Lumirror manufactured by TORAY), the base material 15 of Example 23 (FUJITAC manufactured by FUJIFILM), and the base material 15 of Example 24 (OXIS manufactured by Okura Industries) measured the internal haze value at a wavelength of 380 nm in the visible light region.

(SCI反射率、反射色度(a/b))
実施例1、実施例22~実施例24で得られた反射防止フィルム10のSCI反射率および反射色度(a/b)を、コニカミノルタ株式会社製のCM-2600dを用いて測定した。
上述したように、反射防止フィルム10のSCI反射率が小さいほど好ましい。また、反射防止フィルム10の反射色度(a/b)は、絶対値が小さいほど好ましい。
(SCI reflectance, reflected chromaticity (a * /b * ))
The SCI reflectance and reflective chromaticity (a * / b * ) of the antireflection film 10 obtained in Example 1, Example 22 to Example 24 were measured using CM-2600d manufactured by Konica Minolta, Inc. .
As mentioned above, it is preferable that the SCI reflectance of the antireflection film 10 is smaller. Moreover, the smaller the absolute value of the reflection chromaticity (a * /b * ) of the antireflection film 10, the more preferable it is.

実施例1、実施例22~実施例24の反射防止フィルム10の評価結果について、表10に示す。 Table 10 shows the evaluation results of the antireflection films 10 of Examples 1 and 22 to 24.

Figure 2024028139000012
Figure 2024028139000012

表10に示すように、基材15の可視光領域における内部ヘイズ値が0.5%以下である実施例22~実施例24の反射防止フィルム10では、基材15の可視光領域の内部ヘイズ値が0.5%を超える実施例1の反射防止フィルム10と比較して、SCI(Specular Component Include)、反射色度(a/b)の絶対値が小さくなることが確認された。 As shown in Table 10, in the antireflection films 10 of Examples 22 to 24 in which the base material 15 has an internal haze value of 0.5% or less in the visible light region, the internal haze value of the base material 15 in the visible light region is 0.5% or less. It was confirmed that the absolute values of SCI (Specular Component Include) and reflection chromaticity (a * /b * ) were smaller than the antireflection film 10 of Example 1 whose value exceeded 0.5%.

1…表示装置、1a…液晶パネル、10…反射防止フィルム、11…バックライト、12…偏光フィルム、13…位相差フィルム、14…液晶、15…基材、16…アンチグレア層、16a…平坦部、16b…突出部、17…低屈折率層、18…異方拡散層、19…高屈折率層、161…バインダ、162…散乱粒子、163…凹凸 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Display device, 1a... Liquid crystal panel, 10... Antireflection film, 11... Backlight, 12... Polarizing film, 13... Retardation film, 14... Liquid crystal, 15... Base material, 16... Anti-glare layer, 16a... Flat part , 16b... protrusion, 17... low refractive index layer, 18... anisotropic diffusion layer, 19... high refractive index layer, 161... binder, 162... scattering particle, 163... unevenness

Claims (31)

表面に凹凸が形成された散乱粒子と、当該散乱粒子を分散する樹脂からなるバインダとを含むアンチグレア層と、
前記アンチグレア層に積層され、1.40以下の屈折率を有する低屈折率層と
を備え、
前記アンチグレア層は、平坦部と、当該平坦部から前記散乱粒子が突出している突出部とを有する樹脂膜。
an anti-glare layer including scattering particles having irregularities formed on the surface and a binder made of a resin that disperses the scattering particles;
a low refractive index layer laminated on the anti-glare layer and having a refractive index of 1.40 or less,
The anti-glare layer is a resin film having a flat part and a protruding part from which the scattering particles protrude from the flat part.
前記アンチグレア層は、前記低屈折率層が積層される方向から見て、前記突出部の面積に対する前記平坦部の面積の比率(平坦部の面積/突出部の面積)が、2.0以上30以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The anti-glare layer has a ratio of the area of the flat portion to the area of the protrusion (area of the flat portion/area of the protrusion) of 2.0 or more and 30 The resin film according to claim 1, which is as follows. 前記散乱粒子は、平均粒子径が1μm以上10μm以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the scattering particles have an average particle diameter of 1 μm or more and 10 μm or less. 前記散乱粒子は、BET法で算出した比表面積が5m/g以上である請求項3に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 3, wherein the scattering particles have a specific surface area of 5 m 2 /g or more calculated by the BET method. 前記散乱粒子は、粒径が20μm以上である粒子の割合が1質量%以下である請求項3に記載の樹脂膜。 4. The resin film according to claim 3, wherein the proportion of particles having a particle size of 20 μm or more in the scattering particles is 1% by mass or less. 前記散乱粒子は、粒度分布の変動係数が30%以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the scattering particles have a coefficient of variation in particle size distribution of 30% or less. 前記散乱粒子は、平均粒子径が異なる複数の粒子を含む請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the scattering particles include a plurality of particles having different average particle diameters. 前記散乱粒子は、前記複数の粒子の平均粒子径の差が2.0μm以下である請求項7に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 7, wherein the scattering particles have a difference in average particle diameter of the plurality of particles of 2.0 μm or less. 前記アンチグレア層は、前記バインダの屈折率と前記散乱粒子の屈折率との差が0.15以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the anti-glare layer has a difference between the refractive index of the binder and the refractive index of the scattering particles of 0.15 or less. 前記アンチグレア層は、前記バインダと前記散乱粒子との界面が相溶している請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein in the anti-glare layer, interfaces between the binder and the scattering particles are compatible with each other. 前記アンチグレア層は、前記バインダの屈折率が1.50以上1.60以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein in the anti-glare layer, the binder has a refractive index of 1.50 or more and 1.60 or less. 前記アンチグレア層は、前記散乱粒子の屈折率が1.44以上1.60以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein in the anti-glare layer, the scattering particles have a refractive index of 1.44 or more and 1.60 or less. 前記散乱粒子は、シリカ粒子、PMMA粒子、メラミン粒子、酢酸セルロース粒子のうちの少なくとも1つを含む請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the scattering particles include at least one of silica particles, PMMA particles, melamine particles, and cellulose acetate particles. 前記散乱粒子は、シリコーン粒子を含む請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the scattering particles include silicone particles. 前記アンチグレア層は、さらに平均粒子径が100nm以下のナノ粒子を含む請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the anti-glare layer further includes nanoparticles having an average particle size of 100 nm or less. 前記アンチグレア層は、さらに前記バインダから突出しない粒子を含む請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the anti-glare layer further includes particles that do not protrude from the binder. 前記低屈折率層は、屈折率が1.34以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the low refractive index layer has a refractive index of 1.34 or less. 前記低屈折率層は、中空粒子と、当該中空粒子を分散する樹脂とを含む請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the low refractive index layer includes hollow particles and a resin that disperses the hollow particles. 前記低屈折率層の平均膜厚が80nm以上120nm以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the average thickness of the low refractive index layer is 80 nm or more and 120 nm or less. 前記アンチグレア層と前記低屈折率層との間に、1.60以上の屈折率を有する高屈折率層をさらに備える請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, further comprising a high refractive index layer having a refractive index of 1.60 or more between the anti-glare layer and the low refractive index layer. 外部ヘイズ値が20%以上である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, having an external haze value of 20% or more. 内部ヘイズ値が15%以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, having an internal haze value of 15% or less. 前記低屈折率層側から入射角60°で測定したグロス値が10以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the resin film has a gloss value of 10 or less when measured at an incident angle of 60° from the low refractive index layer side. 前記低屈折率層側から入射角85°で測定したグロス値が50以下である請求項1に記載の樹脂膜。 The resin film according to claim 1, wherein the resin film has a gloss value of 50 or less when measured from the low refractive index layer side at an incident angle of 85°. 平坦部と、当該平坦部から突出した突出部とを有するアンチグレア層と、
前記アンチグレア層に積層され、1.40以下の屈折率を有する低屈折率層とを備え、
前記アンチグレア層は、前記低屈折率層が積層される方向から見て、前記突出部の面積に対する前記平坦部の面積の比率(平坦部の面積/突出部の面積)が、2.0以上30以下であり、且つ、当該突出部における表面粗さが、当該平坦部における表面粗さより大きい樹脂膜。
an anti-glare layer having a flat portion and a protruding portion protruding from the flat portion;
a low refractive index layer laminated on the anti-glare layer and having a refractive index of 1.40 or less,
The anti-glare layer has a ratio of the area of the flat portion to the area of the protrusion (area of the flat portion/area of the protrusion) of 2.0 or more and 30 or less, and the surface roughness at the protruding portion is greater than the surface roughness at the flat portion.
表面に凹凸が形成された散乱粒子と、当該散乱粒子を分散する樹脂からなるバインダとを用いて、平坦部と、当該平坦部から前記散乱粒子が突出している突出部とを有するアンチグレア層を作成するアンチグレア層作成工程と、
前記アンチグレア層上に、1.40以下の屈折率を有する低屈折率層を作成する低屈折率層作成工程と
を含む樹脂膜の作成方法。
An anti-glare layer having a flat part and a protruding part from which the scattering particles protrude from the flat part is created by using scattering particles having an uneven surface and a binder made of a resin that disperses the scattering particles. An anti-glare layer creation process,
A method for forming a resin film, comprising: forming a low refractive index layer having a refractive index of 1.40 or less on the anti-glare layer.
前記低屈折率層作成工程は、前記低屈折率層をウェットコーティング法により製膜する請求項26に記載の樹脂膜の作成方法。 27. The method for forming a resin film according to claim 26, wherein the low refractive index layer forming step forms the low refractive index layer by a wet coating method. 画像の表示を行う表示手段と、
前記表示手段の表面に設けられ、請求項1乃至25のいずれか1項に記載の樹脂膜と
を有する表示装置。
a display means for displaying an image;
A display device comprising: a resin film according to any one of claims 1 to 25, provided on a surface of the display means.
基材と、
前記基材上に設けられ、請求項1乃至25のいずれか1項に記載の樹脂膜と
を有する光学部材。
base material and
An optical member provided on the base material and comprising the resin film according to any one of claims 1 to 25.
前記基材は、可視光波長領域における内部ヘイズ値の最大値が0.5%以下である請求項29に記載の光学部材。 The optical member according to claim 29, wherein the base material has a maximum internal haze value of 0.5% or less in the visible light wavelength region. 光を偏光させる偏光手段と、
前記偏光手段上に設けられ、請求項1乃至25のいずれか1項に記載の樹脂膜と
を有する偏光部材。
a polarizing means for polarizing the light;
A polarizing member provided on the polarizing means and comprising the resin film according to any one of claims 1 to 25.
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