JP2024025273A - Toner, and image formation method - Google Patents

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JP2024025273A JP2022128585A JP2022128585A JP2024025273A JP 2024025273 A JP2024025273 A JP 2024025273A JP 2022128585 A JP2022128585 A JP 2022128585A JP 2022128585 A JP2022128585 A JP 2022128585A JP 2024025273 A JP2024025273 A JP 2024025273A
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徹 高橋
Toru Takahashi
伸 北村
Shin Kitamura
龍一郎 松尾
Ryuichiro Matsuo
隆二 村山
Ryuji Murayama
仁思 佐野
Hitoshi Sano
尚邦 小堀
Naokuni Kobori
吉寛 小川
Yoshihiro Ogawa
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a toner excellent in suppression of an external clinging additive ghost while suppressing scratches to a photoreceptor and toner fusion.
SOLUTION: A toner includes toner particles and an external additive including silica fine particles subjected to surface treatment and titanic acid compound particles on the surfaces of the toner particles. The DD/MAS measurement of solid 29 Si-NMR of the silica particles observes a peak PD1 corresponding to a silicon atom in the D1 structure of a siloxane chain and a peak PD2 corresponding to a silicon atom in the D2 structure of the siloxane chain; when setting the area of the peak PD1 to SD1 and the area of the peak PD2 to SD2, SD1 and SD2 satisfy 1.2≤(SD1+SD2)/SD1≤10.0; the number average particle size of the primary particles of the titanic acid compound fine particles is 10 nm or more and 100 nm or less; and the average circularity of the primary particles of the titanic acid compound fine particles is 0.700 or more and 1.00 or less.
SELECTED DRAWING: None
COPYRIGHT: (C)2024,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子写真方式、静電記録方式、及び、静電印刷方式などに用いられるトナー及び画像形成方法に関する。 The present invention relates to toners and image forming methods used in electrophotographic systems, electrostatic recording systems, electrostatic printing systems, and the like.

近年、電子写真方式のフルカラー複写機が広く普及し、印刷市場への適用が始まっている。印刷市場では、高速化と共に高画質、高安定性が要求されるようになってきている。
高画質化の為には、トナーの帯電特性を安定化する必要がある。トナーの帯電特性を安定化する為に、外添剤の検討が種々行われている。例えば、特許文献1では、環状シロキサンにより表面処理を行ったシリカ粒子を外添することで帯電特性を向上させたトナーが開示されている。特許文献2には、一次粒子の個数平均粒径が10nm以上95nm以下であり、X線回折における回折角の半値幅が特定の数値を有するチタン酸ストロンチウムを外添することで帯電安定性を向上させたトナーが開示されている。
一方で、高安定性の為には、転写されずに感光体に残ったトナー及び外添剤を除去するクリーニング工程が重要となる。感光体上のトナーは、高温下にさらされると感光体にトナーが融着して画像不良を引き起こす。また、トナーに外添した外添剤は、一部脱離して、感光体上に付着する。特許文献3では、ランタンをドープしたチタン酸化合物粒子を外添することで、丸みを帯びたチタン酸化合物粒子が感光体へ脱離することを利用して、クリーニング工程において、感光体へ傷をつけずに、感光体上に付着したトナーや外添剤を研磨する効果を向上させたトナーが開示されている。
In recent years, electrophotographic full-color copying machines have become widespread and are beginning to be applied to the printing market. In the printing market, there is a growing demand for high speed, high image quality, and high stability.
In order to achieve high image quality, it is necessary to stabilize the charging characteristics of toner. In order to stabilize the charging characteristics of toner, various studies have been conducted on external additives. For example, Patent Document 1 discloses a toner with improved charging characteristics by externally adding silica particles whose surface has been treated with cyclic siloxane. Patent Document 2 discloses that charging stability is improved by externally adding strontium titanate, in which the number average particle diameter of primary particles is 10 nm or more and 95 nm or less, and the half width of the diffraction angle in X-ray diffraction has a specific value. A toner that has been used has been disclosed.
On the other hand, in order to achieve high stability, a cleaning process for removing toner and external additives remaining on the photoreceptor without being transferred is important. When the toner on the photoreceptor is exposed to high temperatures, the toner fuses to the photoreceptor, causing image defects. Furthermore, some of the external additives added to the toner are detached and adhered onto the photoreceptor. In Patent Document 3, by externally adding lanthanum-doped titanate compound particles, the rounded titanate compound particles are detached from the photoreceptor, thereby preventing scratches on the photoreceptor in the cleaning process. A toner has been disclosed that has an improved effect of polishing toner and external additives adhering to a photoconductor without the need to apply the toner.

特開2016-167029号公報Japanese Patent Application Publication No. 2016-167029 特開2022-22414号公報Japanese Patent Application Publication No. 2022-22414 特開2022-34384号公報JP2022-34384A

しかしながら、高速化に伴い、特許文献2及び特許文献3のような、粒子径が小さく、形状が丸い外添剤を用いると、画像ムラが生じる場合があることが分かった。
画像ムラの発生原因としては以下のように考えられる。画像部と非画像部が明確に分かれた画像を連続で出力した場合、外添剤が、クリーニング工程をすり抜けて感光体上を連れ周る量に違いが発生する。その状態で、ハーフトーン画像を出力した場合、画像ムラ(以下、外添剤連れ周りゴーストともいう)が生じてしまう場合があることが分かった。
外添剤連れ周りゴーストは、トナーから脱離して感光体上に付着した外添剤が、クリーニング工程において除去されずに感光体上を連れ周ることで発生する画像不良である。
感光体のクリーニング工程は、ブレードクリーニングが好ましく用いられている。ブレードで感光体上をクリーニングする場合、ブレードを感光体へ押し当てる角度や圧力が重要であるが、圧力が弱すぎるとクリーニングニップ部でトナーや外添剤を除去することができず、逆に、圧力が高すぎるとブレードのビビりが発生して、トナーや外添剤がすり抜ける。ブレードを適切な角度や圧力に設定することでトナーや外添剤を除去することが可能となるが、外添剤の粒径が小さく、形状が丸くなるに従い、クリーニング工程での除去が困難となり、すり抜ける量が増える。
感光体への傷やトナー融着を抑制しつつ、外添剤連れ周りゴーストを抑制する為には、トナーの更なる改良が必要不可欠であった。
However, as speeds increase, it has been found that when external additives with small particle diameters and round shapes, such as those disclosed in Patent Documents 2 and 3, are used, image unevenness may occur.
Possible causes of image unevenness are as follows. When images with clearly separated image areas and non-image areas are output continuously, a difference occurs in the amount of external additive that passes through the cleaning process and travels around on the photoreceptor. It has been found that when a halftone image is output in this state, image unevenness (hereinafter also referred to as external additive ghost) may occur.
The external additive entrainment ghost is an image defect that occurs when the external additive detached from the toner and adhered to the photoreceptor is not removed in the cleaning process and continues to circulate on the photoreceptor.
Blade cleaning is preferably used in the photoconductor cleaning process. When cleaning the photoreceptor with a blade, the angle and pressure at which the blade is pressed against the photoreceptor are important; however, if the pressure is too weak, the cleaning nip will not be able to remove toner or external additives; If the pressure is too high, the blade will chatter, allowing toner and external additives to slip through. It is possible to remove toner and external additives by setting the blade at an appropriate angle and pressure, but as the particle size of external additives becomes smaller and their shape becomes rounder, removal during the cleaning process becomes more difficult. , the amount that passes through increases.
Further improvements to the toner were essential in order to suppress scratches on the photoreceptor and toner fusion, as well as ghosts caused by external additives.

本発明は、トナー粒子及び該トナー粒子表面の外添剤を有するトナーであって、
該外添剤は、シリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子を有し、
該シリカ微粒子は、表面処理された処理シリカ微粒子であって、
該シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、下記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1と、下記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2とが観測され、該ピークPD1の面積をSD1とし、該ピークPD2の面積をSD2としたとき、該SD1および該SD2が、
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
を満たし、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、10nm以上100nm以下であり、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の平均円形度が、0.700以上1.00以下であることを特徴とするトナーに関する。
The present invention provides a toner comprising toner particles and an external additive on the surface of the toner particles,
The external additive has silica fine particles and titanic acid compound fine particles,
The silica fine particles are surface-treated treated silica fine particles,
In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, there is a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the following formula (1), and a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by the following formula (2). A peak PD2 corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure is observed, and when the area of the peak PD1 is SD1 and the area of the peak PD2 is SD2, the SD1 and the SD2 are
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
The filling,
The number average particle diameter of the primary particles of the titanate compound fine particles is 10 nm or more and 100 nm or less,
The present invention relates to a toner characterized in that the primary particles of the titanic acid compound fine particles have an average circularity of 0.700 or more and 1.00 or less.

Figure 2024025273000001
(式(1)及び式(2)中、Rは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基を表す。)
また、本発明は、感光体の表面の帯電を行う帯電工程、帯電された該感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程、該静電潜像をトナーによって現像して該感光体表面にトナー画像を形成する現像工程、該トナー画像を、記録媒体に転写する転写工程、記録媒体上のトナー像を定着する定着工程、および該感光体にクリーニングブレードを当接し、該感光体上の残留トナーを除去するクリーニング工程、を有する画像形成方法において、
該トナーは、上記構成のトナーであることを特徴とする画像形成方法に関する。
Figure 2024025273000001
(In formula (1) and formula (2), R each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.)
The present invention also relates to a charging process of charging the surface of a photoconductor, an electrostatic latent image forming process of forming an electrostatic latent image on the charged photoconductor, and a process of developing the electrostatic latent image with toner. A developing step for forming a toner image on the surface of the photoreceptor, a transfer step for transferring the toner image onto a recording medium, a fixing step for fixing the toner image on the recording medium, and a cleaning blade is brought into contact with the photoreceptor to remove the toner image from the photoreceptor. An image forming method comprising a cleaning step of removing residual toner on the body,
The present invention relates to an image forming method characterized in that the toner has the above-mentioned structure.

本発明によれば、感光体への傷やトナー融着を抑制しつつ、外添剤連れ周りゴースト抑制が良好なトナーを提供することができる。また本発明の画像形成方法によっても、その効果を同様に発揮することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a toner that suppresses scratches on the photoreceptor and toner fusion, and also suppresses ghosts caused by external additives. Furthermore, the same effect can be achieved by the image forming method of the present invention.

トナー粒子の表面におけるシリカ微粒子の埋没率の算出に必要な、シリカ微粒子の直径aとシリカ微粒子が埋没している部分bの説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of a diameter a of silica particles and a portion b where silica particles are buried, which are necessary for calculating the embedding rate of silica particles on the surface of a toner particle. シリカ微粒子が外添混合されたトナー粒子を熱風により表面処理するのに好適な熱処理装置の概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram of a heat treatment apparatus suitable for surface-treating toner particles to which fine silica particles have been externally added and mixed with hot air.

本発明において、数値範囲を示す「○○以上××以下」や「○○~××」の記載は、特に断りのない限り、端点である下限及び上限を含む数値範囲を意味する。 In the present invention, the descriptions such as "from XX to XX" and "XX to XX" indicating a numerical range mean a numerical range including the lower limit and upper limit, which are the endpoints, unless otherwise specified.

〔本発明の特徴〕
本発明者らは、更なる高速化においても、高画質、高安定性を得られるトナーの検討を行った結果、本発明の構成を有するシリカ微粒子及びチタン酸化合物を外添したトナーを用いることにより、長期にわたり、感光体への傷やトナー融着を抑制しつつ、外添剤連れ周りゴースト抑制が良好となることを見出した。
[Features of the present invention]
The inventors of the present invention have investigated toners that can provide high image quality and high stability even at higher speeds, and have found that a toner containing silica fine particles and a titanic acid compound having the structure of the present invention is used. It has been found that, over a long period of time, damage to the photoreceptor and toner fusion can be suppressed, and ghosts caused by external additives can be effectively suppressed.

本発明の効果が得られた理由は以下のように考えている。 The reason why the effects of the present invention were obtained is considered as follows.

感光体への傷やトナー融着を抑制する為には、チタン酸化合物微粒子を外添し、該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、10nm以上100nm以下であり、該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の平均円形度が、0.700以上1.00以下であることが必要である。 In order to suppress scratches and toner fusion on the photoreceptor, titanate compound fine particles are added externally, and the number average particle size of the primary particles of the titanate compound fine particles is 10 nm or more and 100 nm or less, and the titanate compound fine particles are It is necessary that the average circularity of the primary particles of the compound fine particles is 0.700 or more and 1.00 or less.

チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、10nm以上100nm以下であることにより、トナーから脱離して感光体表面に付着した際、感光体表面に均一に付着しやすくなり、感光体表面に対して良好な研磨効果を発現し、感光体へのトナー融着を防止できる。 Since the number average particle size of the primary particles of the titanic acid compound fine particles is 10 nm or more and 100 nm or less, when they are detached from the toner and attached to the photoreceptor surface, they tend to adhere uniformly to the photoreceptor surface, and the photoreceptor surface It exhibits a good polishing effect against the toner and prevents toner from adhering to the photoreceptor.

更に、一次粒子の平均円形度が0.700以上とは、チタン酸化合物の形状が丸いことを意味しており、感光体への傷を抑制でき、更に良好な研磨効果を発現する為、感光体へのトナー融着を防止できる。 Furthermore, if the average circularity of the primary particles is 0.700 or more, it means that the shape of the titanic acid compound is round, which can suppress scratches on the photoreceptor and produce a better polishing effect. It can prevent toner from adhering to the body.

しかしながら、個数平均粒径が100nm以下で、形状が丸い外添剤がトナーから脱離して、感光体上に付着すると、クリーニング工程で除去することが困難となり、すり抜け量が多くなる。そして、画像部と非画像部が明確に分かれた画像を連続で出力した場合、画像部には、トナーから脱離したチタン酸化合物微粒子成分が多く存在し、かつすり抜け量が多くなるため、外添剤連れ周りゴーストが発生する。 However, if an external additive with a number average particle diameter of 100 nm or less and a round shape is detached from the toner and adheres to the photoreceptor, it becomes difficult to remove in a cleaning process, and the amount of the additive slips through increases. When images with clearly separated image areas and non-image areas are output continuously, there are many titanate compound fine particle components detached from the toner in the image areas, and the amount of particles that slip through increases. A ghost appears around the additive.

本発明者らは、外添剤連れ周りゴーストを抑制する為に鋭意検討を行った結果、該チタン酸化合物微粒子を本発明の構成を有するシリカ微粒子と共に外添して用いることで外添剤成分のすり抜け量を抑制し、外添剤連れ周りゴースト抑制が良好になることを見出した。 The present inventors have conducted intensive studies to suppress ghosts caused by external additives, and have found that by using the titanic acid compound fine particles externally added together with silica fine particles having the structure of the present invention, the external additive component can be reduced. It has been found that the amount of particles that slip through can be suppressed, and ghost suppression caused by external additives can be better suppressed.

本発明のシリカ微粒子は、表面処理された処理シリカ微粒子であって、固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、下記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1と、下記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2とが観測され、該ピークPD1の面積をSD1とし、該ピークPD2の面積をSD2としたとき、該SD1および該SD2が、
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
を満たすことが特徴である。
The silica fine particles of the present invention are surface-treated treated silica fine particles, and in solid 29 Si-NMR DD/MAS measurement, the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the following formula (1) A corresponding peak PD1 and a peak PD2 corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure represented by the following formula (2) are observed, the area of the peak PD1 is defined as SD1, and the area of the peak PD2 is defined as When SD2 is defined, the SD1 and the SD2 are
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
It is characterized by satisfying the following.

Figure 2024025273000002
(式(1)及び式(2)中、Rは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基を表す。)
Figure 2024025273000002
(In formula (1) and formula (2), R each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.)

本発明のシリカ微粒子を用いることで外添剤連れ周りゴースト抑制が良好となった理由は、該シリカ微粒子によって、クリーニングブレードのニップ部にシリカ微粒子とチタン酸化合物微粒子の層が強固に形成された為と考える。 The reason why the use of the silica fine particles of the present invention improved the suppression of ghosts accompanied by external additives is that the silica fine particles formed a strong layer of silica fine particles and titanate compound fine particles in the nip part of the cleaning blade. I think it's for the sake of it.

その結果、シリカ微粒子とチタン酸化合物微粒子のすり抜け量が減少して、外添剤すり抜けゴースト抑制が改善されたと考える。更に、チタン酸化合物微粒子が、外添剤の層に留まることによって、感光体への研磨性がより効果的に発現し、感光体へのトナー融着抑制が良好となった。 As a result, the amount of silica particles and titanate compound particles that slip through is reduced, and it is believed that the suppression of external additive slip-through ghosts is improved. Furthermore, since the titanic acid compound fine particles remained in the external additive layer, polishing properties on the photoreceptor were more effectively exhibited, and toner fusion adhesion to the photoreceptor was better suppressed.

該シリカ微粒子によって、シリカ微粒子とチタン酸化合物微粒子の層が強固に形成された理由は明確ではないが以下のように考えられる。 The reason why the silica fine particles formed a strong layer of silica fine particles and titanic acid compound fine particles is not clear, but it is thought to be as follows.

該シリカ微粒子は、表面処理されたシリカ微粒子であって、式(1)や式(2)で表されるシロキサン鎖を有することが特徴である。シロキサン鎖は固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、式(1)の如きD1単位構造と式(2)の如きD2単位構造に区別することができる。D1単位構造は表面処理分子の末端基を示している為、本発明における1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0とは、シロキサン鎖の長さを表す指標となる。 The silica fine particles are surface-treated silica fine particles, and are characterized by having siloxane chains represented by formula (1) or formula (2). The siloxane chain can be distinguished into a D1 unit structure as shown in formula (1) and a D2 unit structure as shown in formula (2) in solid state 29 Si-NMR DD/MAS measurement. Since the D1 unit structure indicates the terminal group of the surface treatment molecule, 1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0 in the present invention is an index representing the length of the siloxane chain.

シリカ微粒子の層がクリーニングニップ部で強固に形成されるためには、シリカ微粒子が最密充填構造に近い形で圧密され、且つシリカの付着力が高い必要があると考える。 In order for a layer of fine silica particles to be firmly formed in the cleaning nip, it is believed that the fine silica particles must be compacted in a form close to a close-packed structure and the adhesion of the silica must be high.

本発明のシリカ微粒子は、シロキサン鎖末端基のD1単位構造を有する。D1単位構造は、末端に極性基O-R(R=水素原子、メチル基又はエチル基)を有する為、圧密された際、極性基に由来する引力が強く働くと考える。極性基に由来する引力を活用する為には、立体配置上、ある程度のシロキサン鎖の長さが分子運動性上は必要となる一方、シロキサン鎖が長すぎると、極性基との接触頻度が低下する。 The silica fine particles of the present invention have a D1 unit structure of siloxane chain terminal groups. Since the D1 unit structure has a polar group OR (R=hydrogen atom, methyl group, or ethyl group) at the terminal, it is considered that the attractive force derived from the polar group acts strongly when it is compacted. In order to utilize the attractive force derived from polar groups, a certain length of siloxane chain is required for molecular mobility due to steric configuration, but if the siloxane chain is too long, the frequency of contact with polar groups decreases. do.

本発明のシリカ微粒子は、1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0でシロキサン鎖の長さを制御することにより、圧密された際のシリカ微粒子の引力により、クリーニングニップ部で強固な層を形成することができた。 By controlling the length of the siloxane chain at 1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0, the silica fine particles of the present invention form a strong layer at the cleaning nip due to the attractive force of the silica fine particles when compacted. was able to form.

(SD1+SD2)/SD1は、1.2以上6.3以下であることが好ましく、1.2以上3.8以下であることがより好ましい。(SD1+SD2)/SD1が上記範囲であると、極性基との接触頻度が高まり、より強固な層を形成することができる。 (SD1+SD2)/SD1 is preferably 1.2 or more and 6.3 or less, more preferably 1.2 or more and 3.8 or less. When (SD1+SD2)/SD1 is within the above range, the frequency of contact with the polar group increases and a stronger layer can be formed.

(SD1+SD2)/SD1の値は、シロキサン結合を含む表面処理剤の種類を変更することや、表面処理の温度、時間を変更することなどによって調整することができる。 The value of (SD1+SD2)/SD1 can be adjusted by changing the type of surface treatment agent containing a siloxane bond, or by changing the temperature and time of surface treatment.

また、シリカ微粒子基体の表面には、シリカ微粒子基体と化学的に結合したシロキサン鎖が存在し、そのようなシロキサン鎖が十分に存在することが好ましい。 Furthermore, siloxane chains chemically bonded to the silica fine particle substrate are present on the surface of the silica fine particle substrate, and it is preferable that such siloxane chains exist in sufficient quantity.

シロキサン鎖の存在量は、固体29Si-NMRのDD/MAS測定の結果を用いて以下のように表すことができる。固体29Si-NMRのDD/MAS測定における、下記式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQが観測され、該ピークPQの面積をSQとしたとき、SD1、SD2、及びSQを用いて、シロキサン鎖の存在量(Ca)は、下式(a)で与えられる。
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100 (a)
The amount of siloxane chains present can be expressed as follows using the results of DD/MAS measurement of solid 29 Si-NMR. In the DD/MAS measurement of solid 29 Si-NMR, a peak PQ corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by the following formula (3) is observed, and when the area of the peak PQ is taken as SQ , SD1, SD2, and SQ, the abundance (Ca) of siloxane chains is given by the following formula (a).
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100 (a)

Figure 2024025273000003
Figure 2024025273000003

該シリカ微粒子は、Caが1.0以上であることが好ましい。またCaは4.0以上であることがより好ましく、5.0以上であることがさらに好ましい。上記存在量の上限値は、表面処理であることを踏まえると、Caは30.0以下である。 The silica fine particles preferably have Ca of 1.0 or more. Further, Ca is more preferably 4.0 or more, and even more preferably 5.0 or more. The upper limit of the amount of Ca present is 30.0 or less, considering that it is a surface treatment.

なお、「式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子」は、いわゆる、Q単位構造を有するケイ素原子のことであり、上記の式(a)は、Q単位構造を有するケイ素原子の量に対する、D単位構造を有するケイ素原子の量の割合を意味する。シリカ微粒子基体中のケイ素原子は、Q単位構造となっており、ほぼD単位構造のケイ素原子は存在しない。そのため、D単位構造のケイ素原子は表面処理剤に由来するものと考えられ、上記の割合が表面処理に由来するシロキサン鎖の量を表すこととなる。 The "silicon atom represented by Si c in the structure represented by formula (3)" refers to a silicon atom having a so-called Q unit structure, and the above formula (a) is a silicon atom having a Q unit structure. It means the ratio of the amount of silicon atoms having the D unit structure to the amount of silicon atoms having the D unit structure. The silicon atoms in the silica fine particle base have a Q unit structure, and almost no silicon atoms have a D unit structure. Therefore, the silicon atoms of the D unit structure are considered to be derived from the surface treatment agent, and the above ratio represents the amount of siloxane chains derived from the surface treatment.

シロキサン鎖がシリカ微粒子の表面に化学的に結合していることは、溶剤(例えば、ヘキサン)でシリカ微粒子を洗浄し、洗浄前後において、上記の処理剤量の変化が小さいことを確認することで検証できる。 The fact that the siloxane chains are chemically bonded to the surface of the silica particles can be confirmed by washing the silica particles with a solvent (e.g., hexane) and confirming that the change in the amount of the treatment agent described above is small before and after washing. Can be verified.

具体的な確認方法は以下のとおりである。 The specific confirmation method is as follows.

シリカ微粒子1.0gを50mlのスクリュー管に秤量し、ノルマルヘキサン20mlを加える。その後、超音波式ホモジナイザー(TAITEC社製VP-050)にて強度20(出力10W)で10分間抽出する。得られた抽出液を遠心分離器にて分離し、上澄みを除去し、得られた湿潤試料に対してエバポレーターにてノルマルヘキサンの留去を行い、ヘキサン洗浄後のシリカ微粒子を得る。 Weigh 1.0 g of silica fine particles into a 50 ml screw tube, and add 20 ml of n-hexane. Thereafter, extraction was performed using an ultrasonic homogenizer (VP-050 manufactured by TAITEC) at intensity 20 (output 10 W) for 10 minutes. The obtained extract is separated using a centrifuge, the supernatant is removed, and normal hexane is distilled off from the obtained wet sample using an evaporator to obtain silica particles washed with hexane.

ヘキサンで洗浄した後のシリカ微粒子を用いて、固体29Si-NMRのDD/MAS測定を行い、式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1wの面積SD1wと、式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2wの面積SD2wと、式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQwの面積SQwとを得る。得られた面積SD1w、面積SD2w及び面積SQwを用いて、下式(b)からヘキサン洗浄後のシロキサン鎖の存在量(Cb)を算出する。
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100 (b)
DD/MAS measurement of solid 29 Si-NMR was performed using the silica fine particles washed with hexane, and the area of the peak PD1w corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by formula (1) was determined. SD1w, the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure represented by formula (2), and the silicon atom represented by Si c in the structure represented by formula (3). The area SQw of the corresponding peak PQw is obtained. Using the obtained area SD1w, area SD2w, and area SQw, the abundance (Cb) of siloxane chains after hexane washing is calculated from the following formula (b).
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100 (b)

上記Ca及びCbと、下式(c1)から、ヘキサン洗浄前に対するヘキサン洗浄後のシロキサン鎖の存在量の減少率ΔCを求める。
ΔC(%)=(Ca-Cb)/Ca×100 (c1)
From the above Ca and Cb and the following formula (c1), the rate of decrease ΔC in the amount of siloxane chains present after hexane washing relative to before hexane washing is determined.
ΔC (%) = (Ca-Cb)/Ca×100 (c1)

この減少率ΔCは、シリカ微粒子基体の表面に存在するシロキサン鎖の量に対する、シリカ微粒子の表面に化学的に結合していないシロキサン鎖の量の割合と考えられ、本発明においては、30%以下であることが好ましい。すなわち、Ca及びCbは、下記式(c)を満たす。
(Ca-Cb)/Ca×100≦30 (c)
This reduction rate ΔC is considered to be the ratio of the amount of siloxane chains that are not chemically bonded to the surface of the silica fine particles to the amount of siloxane chains present on the surface of the silica fine particle substrate, and in the present invention, it is 30% or less. It is preferable that That is, Ca and Cb satisfy the following formula (c).
(Ca-Cb)/Ca×100≦30 (c)

また、減少率ΔCは、0%以上20%以下であることが好ましく、0%以上5.0%以下であることがより好ましく、0%以上1.0%以下であることがさらに好ましい。 Further, the reduction rate ΔC is preferably 0% or more and 20% or less, more preferably 0% or more and 5.0% or less, and even more preferably 0% or more and 1.0% or less.

上記したシリカ微粒子にかかる物性の測定に際して、トナー粒子からシリカ微粒子を分離する必要がある場合、後述する方法にて分離した後に測定することができる。後述の分離方法では、水系媒体中で分離を行うため、ケイ素化合物の媒体への溶出が生じない。その結果、分離工程前のシリカ微粒子の物性を維持したままで、トナー粒子からのシリカ微粒子の分離を行うことができる。そのため、トナー粒子から分離したシリカ微粒子を用いて測定される各物性の値は、外添前のシリカ微粒子を用いて測定される各物性の値と、実質的に同じになる。 When measuring the physical properties of the above-mentioned silica fine particles, if it is necessary to separate the silica fine particles from the toner particles, the measurement can be performed after separation by the method described below. In the separation method described below, since the separation is performed in an aqueous medium, the silicon compound does not elute into the medium. As a result, the silica particles can be separated from the toner particles while maintaining the physical properties of the silica particles before the separation step. Therefore, the values of each physical property measured using the silica fine particles separated from the toner particles are substantially the same as the values of each physical property measured using the silica fine particles before external addition.

(トナー粒子からのシリカ微粒子の分離方法)
50mL容量のバイアルに「コンタミノンN」(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤)の10質量%水溶液20gを秤量し、トナー1gと混合する。
(Method for separating silica particles from toner particles)
Weigh out 20 g of a 10% by mass aqueous solution of "Contaminon N" (pH 7 neutral detergent for cleaning precision measuring instruments, consisting of nonionic surfactant, anionic surfactant, and organic builder) into a 50 mL vial, and add 1 g of toner. Mix with.

いわき産業(株)製「KM Shaker」(model: V.SX)にセットし、speedを50に設定して30秒間振とうする。これにより、シリカ微粒子がトナー粒子表面から、水溶液側へ移行する。その後、磁性体を含有する磁性トナーの場合は、ネオジム磁石を用いてトナー粒子を拘束した状態で、上澄み液に移行したシリカ微粒子を分離させ、沈殿しているトナーを真空乾燥(40℃/24時間)することで乾固させて、シリカ微粒子を得る。 Set in "KM Shaker" (model: V.SX) manufactured by Iwaki Sangyo Co., Ltd., set the speed to 50, and shake for 30 seconds. As a result, the silica fine particles migrate from the toner particle surface to the aqueous solution side. After that, in the case of magnetic toner containing a magnetic material, the toner particles are restrained using a neodymium magnet, the silica fine particles that have migrated to the supernatant liquid are separated, and the precipitated toner is vacuum-dried (40°C/24°C). The mixture is dried by drying for an hour) to obtain fine silica particles.

また、非磁性トナーの場合は、遠心分離機(H-9R;株式会社コクサン社製)(1000rpmにて5分間)にて、トナーと上澄み液に移行したシリカ微粒子を分離する。 In the case of non-magnetic toner, fine silica particles transferred to the toner and supernatant liquid are separated using a centrifuge (H-9R; manufactured by Kokusan Co., Ltd.) at 1000 rpm for 5 minutes.

なお、シリカ微粒子以外の外添剤がトナーに外添されている場合には、上述の方法でトナーから分離した外添剤に対して、遠心分離処理を行うことで、シリカ微粒子と他の外添剤を分離することができる。複数種のシリカ微粒子がトナーに外添されている場合であっても、粒径範囲が異なるものであれば、遠心分離処理で分離が可能であり、例えば、CS120FNX;株式会社日立工機社製を用いて、40000rpm、20分間の条件で分離を行うことができる。 If external additives other than silica particles are externally added to the toner, the silica particles and other external additives can be separated by centrifuging the external additives separated from the toner using the method described above. Additives can be separated. Even if multiple types of silica fine particles are externally added to the toner, if they have different particle size ranges, they can be separated by centrifugation.For example, CS120FNX; manufactured by Hitachi Koki Co., Ltd. Separation can be carried out using the following conditions: 40,000 rpm for 20 minutes.

(固体29Si-NMRの測定方法)
固体29Si-NMRの測定条件は、具体的には下記の通りである。
装置:JNM-ECA400 (JEOL RESONANCE)
校正:TMS(テトラメチルシラン)を0ppm
温度:室温
測定法:DD/MAS法 29Si 45°
試料管:ジルコニア8.0mmφ
試料:試験管にシリカ微粒子を粉末状態で充填
試料回転数:6kHz
relaxation delay :90秒
Scan:5640
(Solid 29 Si-NMR measurement method)
The specific measurement conditions for solid state 29 Si-NMR are as follows.
Equipment: JNM-ECA400 (JEOL RESONANCE)
Calibration: TMS (tetramethylsilane) 0ppm
Temperature: Room temperature Measurement method: DD/MAS method 29 Si 45°
Sample tube: Zirconia 8.0mmφ
Sample: Test tube filled with silica fine particles in powder state Sample rotation speed: 6kHz
relaxation delay: 90 seconds Scan: 5640

上述のような測定で得られたNMRスペクトルにおいて、-20ppm付近に現れるシロキサン鎖に対応するピークをピーク分離することにより、D1単位構造を有するケイ素原子に対応するピークPD1及びD2単位構造を有するケイ素原子に対応するピークPD2を得て、それぞれのピークから、ピーク面積SD1、SD2を求める。ピーク分離は以下のような手順で行う。 In the NMR spectrum obtained by the above measurement, by peak-separating the peak corresponding to the siloxane chain appearing around -20 ppm, the peak corresponding to the silicon atom having the D1 unit structure and the silicon having the PD1 and D2 unit structure are obtained. A peak PD2 corresponding to the atom is obtained, and the peak areas SD1 and SD2 are determined from each peak. Peak separation is performed using the following procedure.

(ピーク分離方法)
上述の方法で得られたNMRスペクトルのデータを、解析することによりピーク分離を行う。ピーク分離は以下に述べる手順で行えば、市販のソフトを用いてもよいし、独自に作成したプログラムを用いて行ってもよい。
(Peak separation method)
Peak separation is performed by analyzing the NMR spectrum data obtained by the above method. Peak separation may be performed using commercially available software or an independently created program as long as it is performed according to the procedure described below.

ピークPD1の位置として-18.2ppmに、ピークPD2の位置として-21.0ppmに、それぞれのピーク位置を固定し、フォークト関数を用いてピーク分離処理を行う。 The peak positions are fixed at -18.2 ppm as the position of peak PD1 and -21.0 ppm as the position of peak PD2, and peak separation processing is performed using the Voigt function.

シリカ微粒子は、下記式(4)で示される構造を有していると考えられる。下記式(4)において、一番左のケイ素原子(Q単位構造)は、シリカ微粒子基体のケイ素であって、それに結合する部分(D1単位構造、D2単位構造)が、シリカ微粒子基体の表面に化学的に結合した表面処理剤に由来する部位(シロキサン鎖)である。式(4)中のnの値は特定されていないが、(SD1+SD2)/SD1が1.2以上3.8以下であり、WD2が0.1ppm以上6.0ppm以下であることを考慮すると、n=1又は2がnの値の分布の中心となっており、nの値の分布はn=0~5程度の範囲に収まっているものと推測される。 It is thought that the silica fine particles have a structure represented by the following formula (4). In the following formula (4), the leftmost silicon atom (Q unit structure) is the silicon of the silica fine particle substrate, and the portion bonded to it (D1 unit structure, D2 unit structure) is on the surface of the silica fine particle substrate. This is a site (siloxane chain) derived from a chemically bonded surface treatment agent. Although the value of n in formula (4) is not specified, considering that (SD1+SD2)/SD1 is 1.2 or more and 3.8 or less, and WD2 is 0.1 ppm or more and 6.0 ppm or less, It is assumed that n=1 or 2 is the center of the distribution of the value of n, and the distribution of the value of n is within the range of about n=0 to 5.

Figure 2024025273000004
(式中のRは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、nは0以上(好ましくは0以上5以下)の整数である。)
Figure 2024025273000004
(R in the formula each independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and n is an integer of 0 or more (preferably 0 or more and 5 or less).)

〔シリカ微粒子〕
本発明におけるシリカ微粒子について説明する。
[Silica fine particles]
The silica fine particles in the present invention will be explained.

シリカ微粒子は、その表面にシロキサン構造を有する化合物を有することが好ましい。また、シロキサン結合を含む表面処理剤を用いてシリカ微粒子基体の表面を処理することにより得ることが好ましい。すなわち、シリカ微粒子は、シロキサン結合を含む表面処理剤による処理物であることが好ましい。 The silica fine particles preferably have a compound having a siloxane structure on their surfaces. Moreover, it is preferable to obtain it by treating the surface of a silica fine particle substrate using a surface treatment agent containing a siloxane bond. That is, the silica fine particles are preferably treated with a surface treatment agent containing a siloxane bond.

本発明において、シリカ微粒子がシロキサン結合を含む表面処理剤で表面処理されている場合、表面処理剤由来の部分を含めてシリカ微粒子という。表面処理前のシリカ微粒子を「シリカ微粒子基体」ということもある。 In the present invention, when silica fine particles are surface-treated with a surface treatment agent containing a siloxane bond, the part derived from the surface treatment agent is referred to as silica fine particles. Silica fine particles before surface treatment are sometimes referred to as "silica fine particle base."

シロキサン結合を含む表面処理剤は特に限定されるものではなく公知の材料を用いることができる。上記物性を得やすくするために、シリカ微粒子基体の表面処理を行うことが好ましい。 The surface treatment agent containing a siloxane bond is not particularly limited, and any known material can be used. In order to easily obtain the above-mentioned physical properties, it is preferable to perform a surface treatment on the silica fine particle substrate.

シロキサン結合を含む表面処理剤は、例えば、ジメチルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル;メチルハイドロジェンシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、アルキル変性シリコーンオイル、クロロアルキル変性シリコーンオイル、クロロフェニル変性シリコーンオイル、脂肪酸変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アルコキシ変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイルなどのジメチルシリコーンオイルの側鎖又は末端を有機基で変性したシリコーンオイル;ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンなどの環状シロキサンである。 Surface treatment agents containing siloxane bonds include, for example, silicone oil such as dimethyl silicone oil; methyl hydrogen silicone oil, methylphenyl silicone oil, alkyl-modified silicone oil, chloroalkyl-modified silicone oil, chlorophenyl-modified silicone oil, fatty acid-modified silicone oil. , polyether-modified silicone oil, alkoxy-modified silicone oil, carbinol-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, fluorine-modified silicone oil, and other silicone oils in which the side chains or terminals of dimethyl silicone oil are modified with organic groups; hexamethylcyclotri These are cyclic siloxanes such as siloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, and decamethylcyclopentasiloxane.

シロキサン結合を含む表面処理剤は、好ましくは環状シロキサンである。より好ましくは10員環までの環状シロキサンである。環状シロキサンは、ケイ素原子に結合しているメチル基の一部が置換基を有するものであってもよい。また、環状シロキサンの中でも、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン及びデカメチルシクロペンタシロキサンからなる群から選択される少なくとも一であることが好ましい。(SD1+SD2)/SD1の制御のしやすさ及び精製の容易さの観点から、オクタメチルシクロテトラシロキサンを含むことがより好ましい。 The surface treatment agent containing a siloxane bond is preferably a cyclic siloxane. More preferred is a cyclic siloxane having up to 10-membered rings. In the cyclic siloxane, some of the methyl groups bonded to silicon atoms may have substituents. Moreover, among the cyclic siloxanes, at least one selected from the group consisting of hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, and decamethylcyclopentasiloxane is preferable. From the viewpoint of ease of control of (SD1+SD2)/SD1 and ease of purification, it is more preferable to include octamethylcyclotetrasiloxane.

シリカ微粒子基体の表面処理を行う方法は特に限定されず、シロキサン結合を含む表面処理剤をシリカ微粒子基体に接触させることにより行うことができる。シリカ微粒子基体の表面を均一に処理し、上記物性を容易に達成する観点から、表面処理剤を乾式でシリカ微粒子基体に接触させることが好ましい。後述するように、表面処理剤の蒸気をシリカ微粒子基体に接触させる方法、又は表面処理剤の原液若しくは各種溶媒による希釈液を噴霧してシリカ微粒子基体に接触させる方法が挙げられる。 The method for surface treating the silica fine particle substrate is not particularly limited, and can be carried out by bringing a surface treatment agent containing a siloxane bond into contact with the silica fine particle substrate. From the viewpoint of uniformly treating the surface of the silica fine particle substrate and easily achieving the above-mentioned physical properties, it is preferable to bring the surface treatment agent into contact with the silica fine particle substrate in a dry manner. As will be described later, examples include a method in which the vapor of the surface treatment agent is brought into contact with the silica fine particle substrate, or a method in which a undiluted solution of the surface treatment agent or a diluted solution with various solvents is sprayed and brought into contact with the silica fine particle substrate.

処理温度は、用いる表面処理剤の反応性などによっても異なるため特に制限されない。シリカ微粒子基体及び表面処理剤を混合し、300℃以上の温度で加熱処理することが好ましい。より好ましくは310℃以上380℃以下である。 The treatment temperature is not particularly limited, as it varies depending on the reactivity of the surface treatment agent used. It is preferable to mix the silica fine particle substrate and the surface treatment agent and heat-treat the mixture at a temperature of 300° C. or higher. More preferably, the temperature is 310°C or more and 380°C or less.

処理時間は、処理温度や用いた表面処理剤の反応性によっても異なるが、好ましくは5分以上300分以下、より好ましくは30分以上240分以下、さらに好ましくは60分以上200分以下である。表面処理の処理温度及び処理時間が上述の範囲であると、処理剤をシリカ微粒子基体と十分に反応させる観点、(SD1+SD2)/SD1の制御のしやすさ及び生産効率の観点からも好ましい。 The treatment time varies depending on the treatment temperature and the reactivity of the surface treatment agent used, but is preferably 5 minutes or more and 300 minutes or less, more preferably 30 minutes or more and 240 minutes or less, and even more preferably 60 minutes or more and 200 minutes or less. . It is preferable that the treatment temperature and treatment time of the surface treatment are within the above ranges from the viewpoint of sufficiently reacting the treatment agent with the silica fine particle substrate, ease of control of (SD1+SD2)/SD1, and production efficiency.

表面処理剤のシリカ微粒子基体への接触は、減圧下、又は窒素雰囲気などの不活性ガス雰囲気下において、表面処理剤の蒸気を接触させる方法が好ましい。蒸気を接触させる方法を用いることにより、シリカ微粒子表面と反応しない表面処理剤を除去しやすい。表面処理剤の蒸気を接触させる方法を用いる場合、表面処理剤の沸点以上の処理温度で処理することが好ましい。蒸気の接触は複数回(例えば2~3回)に分けて実施してもよい。 The surface treatment agent is preferably brought into contact with the silica fine particle substrate by contacting the vapor of the surface treatment agent under reduced pressure or in an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere. By using the method of contacting with steam, it is easy to remove the surface treatment agent that does not react with the surface of the silica fine particles. When using a method of contacting with vapor of a surface treatment agent, it is preferable to perform the treatment at a treatment temperature equal to or higher than the boiling point of the surface treatment agent. The contact with steam may be carried out in multiple steps (for example, 2 to 3 times).

シリカ微粒子は、シリカ微粒子基体を環状シロキサンで処理されたものであり、特に、300℃以上の処理温度で処理されたものであることがより好ましい。 The silica fine particles are obtained by treating a silica fine particle base with a cyclic siloxane, particularly preferably at a treatment temperature of 300° C. or higher.

環状シロキサンは、シリカ微粒子基体の表面のSiOH基と開環反応で反応する為、D1単位構造を効果的に得ることができると共に、(SD1+SD2)/SD1の制御が容易となる。 Since the cyclic siloxane reacts with the SiOH group on the surface of the silica fine particle substrate through a ring-opening reaction, the D1 unit structure can be effectively obtained, and (SD1+SD2)/SD1 can be easily controlled.

一方で、開環に伴い発生する、末端のD1単位構造を有するケイ素原子は、他の環状シロキサンとの反応点になりやすく、鎖長が長くなりやすいが、処理温度が300℃以上であることでシロキサン結合の生成と切断との両方が起こる。その結果、シロキサン鎖は、鎖長が短く、かつ、均一にそろった状態となり、(SD1+SD2)/SD1の値が所定の範囲内となる。 On the other hand, the silicon atom having the terminal D1 unit structure that is generated due to ring opening tends to become a reaction point with other cyclic siloxanes, and the chain length tends to become long, but the treatment temperature must be 300°C or higher. Both the formation and cleavage of siloxane bonds occur. As a result, the siloxane chains have short chain lengths and are uniformly aligned, and the value of (SD1+SD2)/SD1 falls within a predetermined range.

環状シロキサンを表面処理剤として用いる場合、表面処理剤の量は、シリカ微粒子基体100質量部に対して、40質量部以上150質量部以下が好ましく、70質量部以上140質量部以下がより好ましい。特に、環状シロキサンを蒸気により接触させる方法で表面処理する場合は、シリカ微粒子基体100質量部に対して70質量部以上添加することが好ましく、100質量部以上添加することがより好ましい。これにより、シリカ微粒子基体をより均一に表面処理することができ、シロキサン鎖の存在量(Ca)を1.0以上に制御することができる。 When a cyclic siloxane is used as a surface treatment agent, the amount of the surface treatment agent is preferably 40 parts by mass or more and 150 parts by mass or less, more preferably 70 parts by mass or more and 140 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the silica fine particle substrate. In particular, when the surface is treated by contacting the cyclic siloxane with steam, it is preferably added in an amount of 70 parts by mass or more, more preferably 100 parts by mass or more, per 100 parts by mass of the silica fine particle substrate. Thereby, the silica fine particle substrate can be surface-treated more uniformly, and the amount of siloxane chains present (Ca) can be controlled to 1.0 or more.

また、減圧下で表面処理を行う場合は、容器内の表面処理剤の蒸気による圧力が0.1Pa以上100.0Pa以下となるようにすることが好ましく、1.0Pa以上10.0Pa以下がさらに好ましい。前記圧力範囲とすることで、表面処理剤の蒸気分子が互いに接触する頻度が低減され表面処理剤同士の化学的反応を抑制し、シリカ微粒子基体の表面に接触した表面処理剤とシリカ微粒子基体との化学的反応を優先的に行うことができる。 In addition, when surface treatment is performed under reduced pressure, it is preferable that the pressure due to the vapor of the surface treatment agent in the container is 0.1 Pa or more and 100.0 Pa or less, and more preferably 1.0 Pa or more and 10.0 Pa or less. preferable. By setting the pressure within the above range, the frequency at which the vapor molecules of the surface treatment agent come into contact with each other is reduced, and chemical reactions between the surface treatment agents are suppressed. chemical reactions can be carried out preferentially.

さらに、シリカ微粒子基体と表面処理剤との化学的反応で発生した反応副生成物を、シリカ微粒子の表面近傍から除去しやすく、表面処理剤がシリカ微粒子基体の表面により接触させやすくなり、シリカ微粒子基体をより均一に表面処理することができる。 Furthermore, reaction by-products generated by the chemical reaction between the silica fine particle substrate and the surface treatment agent can be easily removed from near the surface of the silica fine particle, making it easier for the surface treatment agent to come into contact with the surface of the silica fine particle substrate. The substrate can be surface-treated more uniformly.

また、減圧下で表面処理を行う場合は、表面処理剤をシリカ微粒子基体の表面に接触させる前に、シリカ微粒子基体を減圧下で加熱を行い、シリカ微粒子基体の表面に吸着した水分などを除去する脱気処理を行うことが好ましい。このようにすることで、表面処理剤がシリカ微粒子基体の表面により接触しやすくなり、シリカ微粒子基体をより均一に表面処理することができる。また、表面処理剤をシリカ微粒子基体の表面により接触しやすくする観点から、脱気処理と、表面処理剤によるシリカ微粒子の表面処理とを繰り返し行うことも好ましい。 In addition, when performing surface treatment under reduced pressure, before bringing the surface treatment agent into contact with the surface of the silica fine particle substrate, heat the silica fine particle substrate under reduced pressure to remove moisture etc. adsorbed on the surface of the silica fine particle substrate. It is preferable to perform deaeration treatment. By doing so, the surface treatment agent can more easily come into contact with the surface of the silica fine particle substrate, and the silica fine particle substrate can be surface-treated more uniformly. Furthermore, from the viewpoint of making it easier for the surface treatment agent to come into contact with the surface of the silica fine particle substrate, it is also preferable to repeat the degassing treatment and the surface treatment of the silica fine particles with the surface treatment agent.

シリコーンオイルを表面処理剤として用いる場合、表面処理剤の量は、シリカ微粒子基体100質量部に対して、3質量部以上25質量部以下が好ましく、5質量部以上20質量部以下がより好ましい。上記添加量にすることで、シリカ微粒子の表面を均一に処理することができる。 When silicone oil is used as a surface treatment agent, the amount of the surface treatment agent is preferably 3 parts by mass or more and 25 parts by mass or less, more preferably 5 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the silica fine particle substrate. By using the above addition amount, the surface of the silica fine particles can be uniformly treated.

シリコーンオイルの温度25℃における動粘度は、シリカ微粒子の表面を均一に処理する観点で、30mm2/s以上500mm2/s以下が好ましく、30mm2/s以上200mm2/s以下がより好ましい。 The kinematic viscosity of the silicone oil at a temperature of 25° C. is preferably from 30 mm 2 /s to 500 mm 2 /s, more preferably from 30 mm 2 /s to 200 mm 2 /s, from the viewpoint of uniformly treating the surface of the silica particles.

上述のような方法により、(SD1+SD2)/SD1が1.2以上10.0以下となるシロキサン鎖をシリカ微粒子の表面に形成することが可能となる。 By the method described above, it is possible to form siloxane chains in which (SD1+SD2)/SD1 is 1.2 or more and 10.0 or less on the surface of silica fine particles.

また、本発明の規定を満たす範囲内であれば、上述のような方法でシリカ微粒子を得た後に、上述したシロキサン結合を含む表面処理剤を用いてさらなる処理を行ってもよい。処理を行う方法は特に限定されず、例えば、シロキサン結合を含む表面処理剤をシリカ微粒子に接触させることにより行うことができる。 Furthermore, within the range that satisfies the provisions of the present invention, after obtaining silica fine particles by the method described above, further treatment may be performed using the surface treatment agent containing the siloxane bond described above. The method for carrying out the treatment is not particularly limited, and can be carried out, for example, by bringing a surface treatment agent containing a siloxane bond into contact with silica fine particles.

シリカ微粒子は、シリカ微粒子基体のシラノール基の水素原子が、上記シロキサン鎖で置換されたものであって、高い疎水性を有する。シリカ微粒子の疎水性は、シリカ微粒子の水分吸着量を測定することによって見積もることができる。シリカ微粒子は、温度30℃、相対湿度80%における、BET比表面積1m2当たりの水分吸着量が、0.010cm3/m2以上0.100cm3/m2以下であることが好ましく、0.020cm3/m2以上0.070cm3/m2以下であることがより好ましく、0.030cm3/m2以上0.060cm3/m2以下であることがさらに好ましい。 The silica fine particles have high hydrophobicity because the hydrogen atoms of the silanol groups of the silica fine particle base are substituted with the above-mentioned siloxane chains. The hydrophobicity of fine silica particles can be estimated by measuring the amount of water adsorbed by the fine silica particles. The silica fine particles preferably have a moisture adsorption amount of 0.010 cm 3 /m 2 or more and 0.100 cm 3 / m 2 or less per m 2 of BET specific surface area at a temperature of 30° C. and a relative humidity of 80%. It is more preferably 0.020 cm 3 /m 2 or more and 0.070 cm 3 /m 2 or less, and even more preferably 0.030 cm 3 /m 2 or more and 0.060 cm 3 /m 2 or less.

トナーの製造方法は、好ましくはシリカ微粒子を調製する工程、及びシリカ微粒子とトナー粒子とを混合しトナーを得る工程を含む。また、トナーの製造方法は、下記工程で得られたシリカ微粒子を用意する工程を有することが好ましい。 The toner manufacturing method preferably includes a step of preparing silica fine particles and a step of mixing silica fine particles and toner particles to obtain a toner. Further, it is preferable that the toner manufacturing method includes a step of preparing silica fine particles obtained in the following step.

シリカ微粒子を調製する工程は、好ましくは、シリカ微粒子基体とシロキサン結合を含む表面処理剤(好ましくは環状シロキサン)とを混合し、300℃以上の温度で加熱処理を行い、シリカ微粒子基体の表面を、シロキサン結合を含む表面処理剤により表面処理して、シリカ微粒子を調製する工程、を有する。 Preferably, in the step of preparing silica fine particles, a silica fine particle substrate is mixed with a surface treatment agent containing a siloxane bond (preferably a cyclic siloxane), and a heat treatment is performed at a temperature of 300°C or higher to coat the surface of the silica fine particle substrate. , a step of preparing silica fine particles by surface treating with a surface treating agent containing a siloxane bond.

シリカ微粒子基体は、例えば、ケイ素化合物、特にケイ素のハロゲン化物、一般にはケイ素の塩化物、通常は精製した四塩化ケイ素を酸水素火炎中で燃焼して製造されたフュームドシリカ、水ガラスから製造される湿式シリカ、湿式法により得られるゾルゲル法シリカ粒子、ゲル法シリカ粒子、水性コロイダルシリカ粒子、アルコール性シリカ粒子、気相法により得られる溶融シリカ粒子、爆燃法シリカ粒子等が挙げられる。好ましくはフュームドシリカである。 The silica particulate substrate can be produced, for example, from fumed silica produced by burning a silicon compound, particularly a silicon halide, generally a silicon chloride, usually purified silicon tetrachloride, in an oxyhydrogen flame, or water glass. Examples include wet silica obtained by a wet method, sol-gel method silica particles, gel method silica particles, aqueous colloidal silica particles, alcoholic silica particles, fused silica particles obtained by a gas phase method, and deflagration method silica particles. Preferably it is fumed silica.

シリカ微粒子は、例えば、球状シリカ微粒子であることが好ましい。「球状」とは、わずかに楕円体になった形状や、一部がわずかに欠けたような形状など略球状も含む。シリカ微粒子の平均円形度は、好ましくは0.900以上1.000以下であり、より好ましくは0.930以上0.990以下である。 It is preferable that the silica fine particles are, for example, spherical silica fine particles. "Spherical" includes substantially spherical shapes such as slightly ellipsoidal shapes and shapes with slightly chipped parts. The average circularity of the silica fine particles is preferably 0.900 or more and 1.000 or less, more preferably 0.930 or more and 0.990 or less.

<水分吸着量の測定方法>
シリカ微粒子の水分吸着量は、吸着平衡測定装置(BELSORP-aqua3:日本ベル株式会社製)によって測定する。この装置は、対象とする気体(水蒸気)の吸着量を測定する装置である。
<Measurement method of water adsorption amount>
The amount of moisture adsorbed by the silica fine particles is measured using an adsorption equilibrium measuring device (BELSORP-aqua3: manufactured by Bell Japan Co., Ltd.). This device measures the adsorption amount of a target gas (water vapor).

(脱気)
測定前にサンプルに吸着している水分を脱気する。セル、フィラーロット、キャップをつけて、空の重さを量る。サンプルを0.3g量りセルへ投入する。フィラーロットをセル内へ入れ、キャップを取り付けて、脱気ポートへ取り付ける。測定するセルを全て脱気ポートへ取り付けたら、ヘリウムの弁を開ける。脱気するポートのボタンをONにし、「VAC」ボタンを押す。これで1日以上脱気を行う。
(deaeration)
Degas the moisture adsorbed on the sample before measurement. Attach cell, filler lot, and cap and weigh empty. Weigh 0.3g of the sample and put it into the cell. Place the filler rod into the cell, attach the cap, and attach it to the degassing port. After attaching all the cells to be measured to the degassing ports, open the helium valve. Turn on the button for the port to be degassed and press the "VAC" button. This allows deaeration for over a day.

(測定)
定部本体の電源をON(本体後ろ側にスイッチがある)にする。同時に真空ポンプも起動する。循環水用の本体及び操作盤の電源をONにする。PC画面中央部にある「BELaqua3.exe」(測定用ソフト)を立ち上げる。空気高温槽の温度制御:「流路図」ウインドウ上の「TIC1」の枠にある「SV」をダブルクリックし、「温度設定」ウインドウを開く。温度(80℃)を入力して、設定をクリックする。
(measurement)
Turn on the power to the main unit (there is a switch on the back of the main unit). At the same time, the vacuum pump is also started. Turn on the power to the circulating water main body and operation panel. Launch "BELaqua3.exe" (measurement software) located in the center of the PC screen. Temperature control of the air high temperature tank: Double-click "SV" in the "TIC1" frame on the "Flow path diagram" window to open the "Temperature setting" window. Enter the temperature (80°C) and click Settings.

吸着温度の制御:「流路図」ウインドウの「吸着温度」の「SV」をダブルクリックし、「SV値」(吸着温度)を入力する。「循環開始」及び「外温制御」をクリックし、設定をクリックする。 Adsorption temperature control: Double-click "SV" of "Adsorption temperature" in the "Flow path diagram" window and enter the "SV value" (adsorption temperature). Click "Circulation start" and "External temperature control" and click settings.

「PURGE」ボタンを押し、脱気を止め、ポートのボタンをOFFにしてサンプルを取り外し、キャップ2を取り付けて、サンプルの重さを量った後、本体測定部にサンプルを取り付ける。PC上で、「測定条件」をクリックし、「測定条件設定」ウインドウを開く。測定条件は以下の通り。 Press the "PURGE" button to stop degassing, turn off the port button, remove the sample, attach cap 2, weigh the sample, and then attach the sample to the measuring section of the main body. On the PC, click "Measurement conditions" to open the "Measurement condition settings" window. The measurement conditions are as follows.

空気恒温槽温度:80.0℃、吸着温度:30.0℃、吸着質名称:H2O、平衡時間:500sec、温度待ち:60min、飽和蒸気圧:4.245kPa、サンプル管排気速度:普通、化学吸着測定:しない、初期導入量:0.20cm3(STP)・g-1、測定相対圧範囲数:4 Air constant temperature chamber temperature: 80.0°C, adsorption temperature: 30.0°C, adsorbate name: H 2 O, equilibrium time: 500 sec, temperature waiting: 60 min, saturated vapor pressure: 4.245 kPa, sample tube pumping speed: normal , Chemical adsorption measurement: No, Initial introduction amount: 0.20cm 3 (STP)・g -1 , Number of measurement relative pressure ranges: 4

測定検体数を選択し、「測定データファイル名」と「サンプル重量」を入力する。測定をスタートする。 Select the number of samples to be measured and enter the "measurement data file name" and "sample weight." Start measurement.

(解析)
解析ソフトを立ち上げて解析し、相対水蒸気圧80%における単位質量あたりの水分吸着量(cm3/g)を算出する。算出された単位質量あたりの水分吸着量を、以下に述べる方法で得られるシリカ微粒子のBET比表面積で除することにより、表面積あたりの水分吸着量(cm3/m2)を求める。
(analysis)
Launch analysis software, perform analysis, and calculate the amount of water adsorption per unit mass (cm 3 /g) at a relative water vapor pressure of 80%. By dividing the calculated amount of water adsorption per unit mass by the BET specific surface area of the silica fine particles obtained by the method described below, the amount of water adsorption per surface area (cm 3 /m 2 ) is determined.

<BET比表面積の測定>
シリカ微粒子のBET比表面積は、BET法(BET多点法)に従って、動的定圧法による低温ガス吸着法により求めることができる。比表面積測定装置(商品名:ジェミニ2375 Ver.5.0、(株)島津製作所製)を用いて、試料表面に窒素ガスを吸着させ、BET多点法を用いて測定することにより、BET比表面積(m2/g)を算出することができる。
<Measurement of BET specific surface area>
The BET specific surface area of silica fine particles can be determined by a low-temperature gas adsorption method using a dynamic constant pressure method according to the BET method (BET multipoint method). Using a specific surface area measuring device (product name: Gemini 2375 Ver. 5.0, manufactured by Shimadzu Corporation), nitrogen gas is adsorbed onto the sample surface, and the BET ratio is determined by measuring using the BET multipoint method. The surface area (m 2 /g) can be calculated.

シリカ微粒子の一次粒子の個数平均粒径は、5nm以上500nm以下が好ましく、8nm以上310nm以下がより好ましく、50nm以上300nm以下がさらに好ましく、50nm以上200nm以下が特に好ましい。これにより、シリカ微粒子がトナー粒子を適切に被覆できると共に、感光体上に付着したシリカ微粒子がクリーニングニップ部において最密充填構造を取りやすくなる。その結果、外添剤のすり抜けを抑制でき、外添剤連れ周りゴースト抑制が良好となる。 The number average particle diameter of the primary particles of silica fine particles is preferably 5 nm or more and 500 nm or less, more preferably 8 nm or more and 310 nm or less, even more preferably 50 nm or more and 300 nm or less, and particularly preferably 50 nm or more and 200 nm or less. As a result, the silica particles can appropriately cover the toner particles, and the silica particles attached to the photoreceptor can easily form a close-packed structure in the cleaning nip portion. As a result, it is possible to suppress the external additive from slipping through, and the ghost surrounding the external additive can be effectively suppressed.

シリカ微粒子の一次粒子の個数平均粒径は、シリカ微粒子の製造工程における反応工程、粉砕工程、分級工程などの条件を制御することにより調整することができる。 The number average particle diameter of the primary particles of silica fine particles can be adjusted by controlling the conditions of the reaction step, crushing step, classification step, etc. in the silica fine particle manufacturing process.

〔チタン酸化合物微粒子〕
本発明におけるチタン酸化合物微粒子は、該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、10nm以上100nm以下であり、該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の平均円形度が、0.700以上1.00以下であることが感光体への傷を抑制しつつ、感光体表面に対して良好な研磨効果を発現する上で必要である。
[Titanic acid compound fine particles]
The titanate compound fine particles in the present invention have a number average particle size of primary particles of the titanate compound fine particles of 10 nm or more and 100 nm or less, and an average circularity of the primary particles of the titanate compound fine particles of 0.700 or more and 1 A value of .00 or less is necessary in order to suppress scratches on the photoreceptor and to achieve a good polishing effect on the surface of the photoreceptor.

該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径は、10nm以上70nm以下が好ましく、10nm以上50nm以下がより好ましい。チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径は、原料の濃度や反応温度及び反応時間により制御できる。 The number average particle diameter of the primary particles of the titanate compound fine particles is preferably 10 nm or more and 70 nm or less, more preferably 10 nm or more and 50 nm or less. The number average particle size of the primary particles of the titanic acid compound fine particles can be controlled by the concentration of the raw materials, the reaction temperature, and the reaction time.

一方、該チタン酸化合物微粒子の平均円形度は、0.800以上0.930以下が好ましく、0.800以上0.900以下がより好ましい。平均円形度を上記範囲に制御することで、感光体への傷、研磨効果、及び外添剤すり抜けゴースト抑制が良好となる。 On the other hand, the average circularity of the titanic acid compound fine particles is preferably 0.800 or more and 0.930 or less, more preferably 0.800 or more and 0.900 or less. By controlling the average circularity within the above range, scratches on the photoreceptor, polishing effect, and ghost suppression caused by external additives passing through can be better suppressed.

本発明におけるシリカ微粒子の個数平均粒径Aは、該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径Bに対して、A>Bの関係であることが好ましい。シリカ微粒子の個数平均粒径Aがチタン酸化合物微粒子の個数平均粒径Bよりも大きいことで、クリーニングニップ部のシリカの層に対して、チタン酸化合物微粒子が効果的に捕集され、すり抜けを抑制すると共に感光体の研磨効果を高めることができる。 In the present invention, the number average particle diameter A of the silica fine particles preferably has a relationship of A>B with respect to the number average particle diameter B of the primary particles of the titanic acid compound fine particles. Since the number average particle size A of the silica fine particles is larger than the number average particle size B of the titanate compound fine particles, the titanate compound fine particles are effectively captured by the silica layer in the cleaning nip, preventing them from slipping through. It is possible to suppress this and enhance the polishing effect of the photoreceptor.

チタン酸化合物微粒子の含有量は、トナー粒子100質量部に対し0.05質量部以上2.0質量部以下であることが好ましく、0.1質量部以上1.5質量部以下であることがより好ましい。 The content of the titanic acid compound fine particles is preferably 0.05 parts by mass or more and 2.0 parts by mass or less, and preferably 0.1 parts by mass or more and 1.5 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the toner particles. More preferred.

チタン酸化合物微粒子は、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、チタン酸マグネシウム、チタン酸鉛、チタン酸アルミニウム、チタン酸リチウム等が用いられる。特に、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウムが感光体への研磨効果を得る上で好ましい。 As the titanate compound fine particles, potassium titanate, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, magnesium titanate, lead titanate, aluminum titanate, lithium titanate, etc. are used. In particular, strontium titanate and calcium titanate are preferred in terms of obtaining a polishing effect on the photoreceptor.

チタン酸化合物微粒子は、必要に応じ、疎水化、摩擦帯電性コントロールの目的で、表面処理されていることが好ましい。すなわち、処理剤としては、未変性のシリコーンワニス、各種変性シリコーンワニス、未変性のシリコーンオイル、各種変性シリコーンオイル、シランカップリング剤、官能基を有するシラン化合物又は、その他の有機ケイ素化合物などが挙げられる。種々の処理剤を併用してもよい。この中でも特にシランカップリング剤で処理されていることが好ましい。すなわち、チタン酸化合物微粒子がシランカップリング剤による表面処理微粒子であることが好ましい。 The titanic acid compound fine particles are preferably surface-treated for the purpose of hydrophobization and triboelectrification control, if necessary. That is, examples of the treatment agent include unmodified silicone varnish, various modified silicone varnishes, unmodified silicone oil, various modified silicone oils, silane coupling agents, silane compounds having functional groups, and other organosilicon compounds. It will be done. Various processing agents may be used in combination. Among these, treatment with a silane coupling agent is particularly preferred. That is, it is preferable that the titanic acid compound fine particles are surface-treated fine particles with a silane coupling agent.

シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β-メトキシエトキシ)シラン、β-(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、n-ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、n-ヘキシルトリメトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、n-デシルトリメトキシシラン、ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、n-ヘキサデシルトリメトキシシラン、n-オクタデシルトリメトキシシラン、トリフロロプロピルトリメトキシシラン及びこれらの加水分解物等を挙げることができる。 Examples of the silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(β-methoxyethoxy)silane, β-(3,4epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. Silane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, methyltrimethoxy Silane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, n-butyltrimethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, trimethylmethoxysilane , n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, hydroxypropyltrimethoxysilane, n-hexadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltrimethoxysilane, Examples include trifluoropropyltrimethoxysilane and hydrolysates thereof.

このなかでも、n-オクチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、トリフロロプロピルトリメトキシシランが好ましく、イソブチルトリメトキシシランがより好ましい。また、これらの処理剤は、一種類を単独で使用してもよいし二種類以上を併用してもよい。 Among these, n-octyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, and trifluoropropyltrimethoxysilane are preferred, and isobutyltrimethoxysilane is more preferred. Further, these processing agents may be used alone or in combination of two or more.

チタン酸化合物微粒子は、チタン酸塩を構成している元素以外の金属元素がドープされていても良い。ドープする金属元素は特に制限はないが、例えばランタン、シリコン、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、マンガン、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、タンタル、クロム、アンチモン、ニッケル、ロジウム、ニオブなどが挙げられる。これらの中でも円形度を制御する上でランタンが好ましい。 The titanate compound fine particles may be doped with a metal element other than the element constituting the titanate. The metal element to be doped is not particularly limited, and examples thereof include lanthanum, silicon, aluminum, magnesium, calcium, manganese, rhodium, ruthenium, iridium, tantalum, chromium, antimony, nickel, rhodium, and niobium. Among these, lanthanum is preferred in terms of controlling circularity.

チタン酸化合物微粒子は、その調製法は特に制限はないが、例えば、チタン酸ストロンチウムならば、以下の方法で製造される。硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーのpHを調整して得たチタニアゾルの分散液に、硝酸ストロンチウム、塩化ストロンチウム等を添加して、反応温度まで加温した後、アルカリ水溶液を添加することで合成することができる。なお、反応温度は60~100℃が好ましい。 There are no particular restrictions on the method for preparing the titanate compound fine particles, but for example, strontium titanate is produced by the following method. Strontium nitrate, strontium chloride, etc. are added to a dispersion of titania sol obtained by adjusting the pH of a hydrous titanium oxide slurry obtained by hydrolyzing an aqueous titanyl sulfate solution, and after heating to the reaction temperature, an aqueous alkali solution is added. It can be synthesized by adding. Note that the reaction temperature is preferably 60 to 100°C.

一次粒子の個数平均粒径及び円形度を制御するために、アルカリ水溶液を添加する工程において、アルカリ水溶液の添加にかける時間は60分以下にすることが好ましい。さらに、アルカリ水溶液を添加する工程において、超音波振動を加えながら添加を行うことが円形度を制御する上で好ましい。 In order to control the number average particle size and circularity of the primary particles, in the step of adding the alkaline aqueous solution, it is preferable that the time required for adding the alkaline aqueous solution is 60 minutes or less. Furthermore, in the step of adding the alkaline aqueous solution, it is preferable to perform the addition while applying ultrasonic vibration in order to control the circularity.

また、アルカリ水溶液を添加して反応を終えた水溶液を急冷することが一次粒径及び円形度を制御する上で好ましい。急冷する方法としては、例えば10℃以下に冷やした純水を所望の温度になるまで添加する方法等が挙げられる。急冷することで、冷却工程で円形度を高く制御することができる。 Further, it is preferable to add an alkaline aqueous solution and rapidly cool the aqueous solution after the reaction is completed in order to control the primary particle size and circularity. Examples of the rapid cooling method include a method of adding pure water cooled to 10° C. or lower until the desired temperature is reached. By rapidly cooling, circularity can be highly controlled in the cooling process.

<外添剤の個数平均粒径>
トナー粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察し、トナー粒子表面に存在しているシリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子の個数及び粒径(最大径)を計測して求めることができる。この際、SEMに付随のエネルギー分散型X線分析(EDS)を用いて計測対象物がシリカ微粒子又はチタン酸化合物微粒子であることを確認することができる。なお、トナー粒子100個について計測して平均した値を個数平均粒径とする。
<Number average particle size of external additive>
It can be determined by observing the toner particles using a scanning electron microscope (SEM) and measuring the number and particle diameter (maximum diameter) of the silica particles and titanic acid compound particles present on the surface of the toner particles. At this time, it can be confirmed that the object to be measured is a silica fine particle or a titanic acid compound fine particle using energy dispersive X-ray analysis (EDS) accompanying the SEM. Note that the value measured and averaged for 100 toner particles is defined as the number average particle diameter.

<外添剤の平均円形度の測定>
シリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子を走査型電子顕微鏡(SEM)により像倍率25000倍、画素数1280×960(1画素のサイズが約4nm×約4nmとなる)で撮像し、取得した像を画像解析ソフトウェアであるImage J(https://imagej.nih.gov/ij/より入手可能)を用いて解析し円形度を求める。
<Measurement of average circularity of external additives>
Silica fine particles and titanate compound fine particles are imaged using a scanning electron microscope (SEM) with an image magnification of 25,000 times and a pixel count of 1280 x 960 (the size of one pixel is approximately 4 nm x approximately 4 nm), and the acquired images are analyzed. The circularity is determined by analysis using the software Image J (available from https://imagej.nih.gov/ij/).

まず、シリカ微粒子又はチタン酸化合物微粒子の輪郭抽出を行い投影面積Sとその周囲長Lを計測する。 First, the outline of the silica fine particles or the titanic acid compound fine particles is extracted, and the projected area S and the peripheral length L thereof are measured.

次に、上記面積Sと周囲長Lを用いて円相当径と円形度を求める。円相当径とは、粒子像の投影面積と同じ面積を持つ円の直径のことであり、円形度は、円相当径から求めた円の周囲長を粒子投影像の周囲長で割った値として定義され、次式で算出される。
円形度=2×(π×S)1/2/L
Next, the equivalent circle diameter and circularity are determined using the area S and the perimeter L. Equivalent circle diameter is the diameter of a circle that has the same area as the projected area of the particle image, and circularity is calculated as the value obtained by dividing the perimeter of the circle found from the equivalent circle diameter by the perimeter of the projected particle image. It is defined and calculated using the following formula.
Circularity = 2 x (π x S) 1/2 /L

上記の円形度を少なくともシリカ微粒子100個について算出し、その算術平均値をシリカ微粒子又はチタン酸化合物微粒子の平均円形度とする。 The above circularity is calculated for at least 100 silica fine particles, and the arithmetic mean value thereof is taken as the average circularity of the silica fine particles or titanic acid compound fine particles.

〔トナー粒子の構成素材〕
(結着樹脂)
トナー粒子は結着樹脂を含有し、トナー粒子には公知の結着樹脂を用いることができる。例えば、結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。
[Materials of toner particles]
(Binder resin)
The toner particles contain a binder resin, and a known binder resin can be used for the toner particles. For example, examples of the binder resin include the following.

スチレン系樹脂、スチレン系共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フェノール樹脂、天然樹脂変性フェノール樹脂、天然樹脂変性マレイン酸樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、ポリビニルブチラール、テルペン樹脂、クマロンインデン樹脂、石油系樹脂。好ましく用いられる樹脂として、スチレン系共重合樹脂、ポリエステル樹脂、及びポリエステル樹脂とスチレン系共重合樹脂が混合又は両者が一部反応したハイブリッド樹脂が挙げられる。好ましくは、ポリエステル樹脂が用いられる。 Styrene resin, styrene copolymer resin, polyester resin, polyol resin, polyvinyl chloride resin, phenol resin, natural resin-modified phenol resin, natural resin-modified maleic acid resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl acetate, silicone resin, Polyurethane resin, polyamide resin, furan resin, epoxy resin, xylene resin, polyvinyl butyral, terpene resin, coumaron indene resin, petroleum resin. Preferably used resins include styrene copolymer resins, polyester resins, and hybrid resins in which polyester resins and styrene copolymer resins are mixed or partially reacted. Preferably, polyester resin is used.

ポリエステル樹脂を構成する成分について詳述する。なお、以下の成分は種類や用途に応じて種々のものを一種又は二種以上用いることができる。 The components constituting the polyester resin will be explained in detail. Note that one or more of various components can be used as the following components depending on the type and use.

ポリエステル樹脂を構成する2価のカルボン酸成分としては、以下のジカルボン酸又はその誘導体が挙げられる。フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、無水フタル酸のようなベンゼンジカルボン酸類又はその無水物若しくはその低級アルキルエステル;コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸のようなアルキルジカルボン酸類又はその無水物若しくはその低級アルキルエステル;炭素数の平均値が1以上50以下のアルケニルコハク酸類又はアルキルコハク酸類、又はその無水物若しくはその低級アルキルエステル;フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸のような不飽和ジカルボン酸類又はその無水物若しくはその低級アルキルエステル。 Examples of the divalent carboxylic acid component constituting the polyester resin include the following dicarboxylic acids or derivatives thereof. Benzenedicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and phthalic anhydride or their anhydrides or lower alkyl esters; Alkyldicarboxylic acids or their anhydrides or their anhydrides such as succinic acid, adipic acid, sebacic acid, and azelaic acid; Lower alkyl esters thereof; alkenylsuccinic acids or alkylsuccinic acids having an average carbon number of 1 or more and 50 or less, or anhydrides or lower alkyl esters thereof; unsaturated such as fumaric acid, maleic acid, citraconic acid, and itaconic acid Dicarboxylic acids or their anhydrides or their lower alkyl esters.

該低級アルキルエステル中のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。 Examples of the alkyl group in the lower alkyl ester include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group.

一方、ポリエステル樹脂を構成する2価のアルコール成分としては、以下のものが挙げられる。 On the other hand, examples of the dihydric alcohol component constituting the polyester resin include the following.

エチレングリコール、ポリエチレングリコール、1,2-プロパンジオール、1,3-プロパンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、2-メチル-1,3-プロパンジオール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、1,4-シクロヘキサンジメタノール(CHDM)、水素化ビスフェノールA、式(I-1)で表されるビスフェノール及びその誘導体:及び式(I-2)で示されるジオール類。 Ethylene glycol, polyethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,5 -Pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol (CHDM), hydrogenated Bisphenol A, bisphenol represented by formula (I-1) and its derivatives: and diols represented by formula (I-2).

Figure 2024025273000005
(式(I-1)中、Rはエチレン基又はプロピレン基であり、x、yはそれぞれ0以上の整数であり、かつ、x+yの平均値は0以上10以下である。)
Figure 2024025273000005
(In formula (I-1), R is an ethylene group or a propylene group, x and y are each an integer of 0 or more, and the average value of x+y is 0 or more and 10 or less.)

Figure 2024025273000006
(式(I-2)中、R’はエチレン基又はプロピレン基であり、x’、y’はそれぞれ0以上の整数であり、かつ、x’+y’の平均値は0以上10以下である。)
Figure 2024025273000006
(In formula (I-2), R' is an ethylene group or a propylene group, x' and y' are each an integer of 0 or more, and the average value of x'+y' is 0 or more and 10 or less. .)

該ポリエステル樹脂の構成成分は、上述の2価のカルボン酸成分及び2価のアルコール成分以外に、3価以上のカルボン酸成分、3価以上のアルコール成分を含有してもよい。 The constituent components of the polyester resin may include a trivalent or higher carboxylic acid component and a trivalent or higher alcohol component in addition to the above-mentioned divalent carboxylic acid component and divalent alcohol component.

3価以上のカルボン酸成分としては、特に制限されないが、トリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸などが挙げられる。また、3価以上のアルコール成分としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリンなどが挙げられる。 Examples of the trivalent or higher carboxylic acid component include, but are not particularly limited to, trimellitic acid, trimellitic anhydride, pyromellitic acid, and the like. In addition, examples of trivalent or higher alcohol components include trimethylolpropane, pentaerythritol, glycerin, and the like.

ポリエステル樹脂の構成成分は、上述した化合物以外に、1価のカルボン酸成分及び1価のアルコール成分を構成成分として含有してもよい。具体的には、1価のカルボン酸成分としては、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸、テトラコンタン酸、ペンタコンタン酸などが挙げられる。 The constituent components of the polyester resin may contain a monovalent carboxylic acid component and a monovalent alcohol component in addition to the above-mentioned compounds. Specifically, monovalent carboxylic acid components include palmitic acid, stearic acid, arachidic acid, behenic acid, cerotic acid, heptacanoic acid, montanic acid, melisic acid, lactacic acid, tetracontanoic acid, pentacontanoic acid, etc. Can be mentioned.

また、1価のアルコール成分としては、ベヘニルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコール、テトラコンタノールなどが挙げられる。 Further, examples of the monohydric alcohol component include behenyl alcohol, ceryl alcohol, mericyl alcohol, and tetracontanol.

(着色剤)
トナーは、磁性一成分トナー、非磁性一成分トナー、非磁性二成分トナーのいずれのトナーとしても使用できる。
(colorant)
The toner can be used as a magnetic one-component toner, a non-magnetic one-component toner, or a non-magnetic two-component toner.

磁性一成分トナーとして用いる場合、着色剤としては、磁性酸化鉄粒子が好ましく用いられる。磁性一成分トナーに含まれる磁性酸化鉄粒子としては、マグネタイト、マグヘマイト、フェライトのような磁性酸化鉄、及び他の金属酸化物を含む磁性酸化鉄;Fe,Co,Niのような金属、あるいは、これらの金属とAl,Co,Cu,Pb,Mg,Ni,Sn,Zn,Sb,Be,Bi,Cd,Ca,Mn,Se,Ti,W,Vのような金属との合金、及びこれらの混合物が挙げられる。磁性酸化鉄粒子の含有量は、結着樹脂100質量部に対し、30質量部以上150質量部以下が好ましい。 When used as a magnetic one-component toner, magnetic iron oxide particles are preferably used as the colorant. The magnetic iron oxide particles contained in the magnetic single-component toner include magnetic iron oxides such as magnetite, maghemite, and ferrite, and magnetic iron oxides containing other metal oxides; metals such as Fe, Co, and Ni; Alloys of these metals with metals such as Al, Co, Cu, Pb, Mg, Ni, Sn, Zn, Sb, Be, Bi, Cd, Ca, Mn, Se, Ti, W, and V; Mixtures may be mentioned. The content of the magnetic iron oxide particles is preferably 30 parts by mass or more and 150 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the binder resin.

非磁性一成分トナー、及び非磁性二成分トナーとして用いる場合の着色剤としては、以下のものが挙げられる。 Examples of colorants used in non-magnetic one-component toners and non-magnetic two-component toners include the following.

黒色の顔料としては、ファーネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、ランプブラックなどのカーボンブラックが用いられ、また、マグネタイト、フェライトなどの磁性粉も用いられる。 As the black pigment, carbon black such as furnace black, channel black, acetylene black, thermal black, and lamp black is used, and magnetic powder such as magnetite and ferrite is also used.

イエロー色に好適な着色剤としては、顔料又は染料を用いることができる。顔料としては、C.I.ピグメントイエロー1,2,3,4,5,6,7,10,11,12、13、14、15、17、23、62、65、73、74、81、83、93、94、95、97、98、109、110、111、117、120、127、128、129、137、138、139、147、151、154、155、167、168、173、174、176、180、181、183、191、C.I.バットイエロー1,3,20が挙げられる。染料としては、C.I.ソルベントイエロー19、44、77、79、81、82、93、98、103、104、112、162などが挙げられる。これらのものを単独又は2以上を併用して用いる。 Pigments or dyes can be used as coloring agents suitable for yellow color. As a pigment, C. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 17, 23, 62, 65, 73, 74, 81, 83, 93, 94, 95, 97, 98, 109, 110, 111, 117, 120, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 151, 154, 155, 167, 168, 173, 174, 176, 180, 181, 183, 191, C. I. Bat Yellow 1, 3, and 20 are listed. As a dye, C. I. Examples include Solvent Yellow 19, 44, 77, 79, 81, 82, 93, 98, 103, 104, 112, 162 and the like. These materials may be used alone or in combination of two or more.

シアン色に好適な着色剤としては、顔料又は染料を用いることができる。顔料としては、C.I.ピグメントブルー1、7、15、15;1、15;2、15;3、15;4、16、17、60、62、66など、C.I.バットブルー6、C.I.アシッドブルー45が挙げられる。染料としては、C.I.ソルベントブルー25、36、60、70、93、95などが挙げられる。これらのものを単独又は2以上を併用して用いる。 Pigments or dyes can be used as colorants suitable for cyan color. As a pigment, C. I. Pigment Blue 1, 7, 15, 15; 1, 15; 2, 15; 3, 15; 4, 16, 17, 60, 62, 66, etc., C.I. I. Bat Blue 6, C. I. Acid Blue 45 is mentioned. As a dye, C. I. Examples include Solvent Blue 25, 36, 60, 70, 93, and 95. These materials may be used alone or in combination of two or more.

マゼンタ色に好適な着色剤としては、顔料又は染料を用いることができる。顔料としては、C.I.ピグメントレッド1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11,12,13,14,15,16,17,18,19,21,22,23,30,31,32,37,38,39,40,41,48,48;2、48;3、48;4、49,50,51,52,53,54,55,57,57;1、58,60,63,64,68,81,81;1、83,87,88,89,90,112,114,122,123,144、146,150,163,166、169、177、184,185,202,206,207,209,220、221、238、254など、C.I.ピグメントバイオレット19;C.I.バットレッド1,2,10,13,15,23,29,35が挙げられる。 Pigments or dyes can be used as colorants suitable for magenta color. As a pigment, C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 39, 40, 41, 48, 48; 2, 48; 3, 48; 4, 49, 50, 51, 52, 53, 54, 55, 57, 57; 1, 58, 60, 63, 64, 68, 81, 81; 1, 83, 87, 88, 89, 90, 112, 114, 122, 123, 144, 146, 150, 163, 166, 169, 177, 184, 185, 202, 206, 207, 209, 220, 221, 238, 254, etc., C. I. Pigment Violet 19; C. I. Bat Red 1, 2, 10, 13, 15, 23, 29, and 35 are mentioned.

マゼンタ用染料としては、C.I.ソルベントレッド1,3,8,23,24,25,27,30,49,52、58、63、81,82,83,84,100,109,111、121、122など、C.I.ディスパースレッド9、C.I.ソルベントバイオレット8,13,14,21,27など、C.I.ディスパースバイオレット1などの油溶染料、C.I.ベーシックレッド1,2,9,12,13,14,15,17,18,22,23,24,27,29,32,34,35,36,37,38,39,40など、C.I.ベーシックバイオレット1,3,7,10,14,15,21,25,26,27,28などの塩基性染料などが挙げられる。これらのものを単独又は2以上を併用して用いる。 As magenta dye, C. I. Solvent red 1, 3, 8, 23, 24, 25, 27, 30, 49, 52, 58, 63, 81, 82, 83, 84, 100, 109, 111, 121, 122, etc., C.I. I. Disperse Red 9, C. I. Solvent Violet 8, 13, 14, 21, 27, etc., C.I. I. Oil-soluble dyes such as Disperse Violet 1, C.I. I. Basic Red 1, 2, 9, 12, 13, 14, 15, 17, 18, 22, 23, 24, 27, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 38, 39, 40, etc. I. Examples include basic dyes such as basic violet 1, 3, 7, 10, 14, 15, 21, 25, 26, 27, and 28. These materials may be used alone or in combination of two or more.

着色剤の含有量は、結着樹脂100質量部に対し、1質量部以上20質量部以下が好ましい。 The content of the colorant is preferably 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

(離型剤)
トナーに離型性を与えるために、離型剤(ワックス)を用いてもよい。
(Release agent)
A release agent (wax) may be used to impart release properties to the toner.

ワックスの一例としては、次のものが挙げられる。低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレン、オレフィン共重合体、マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、フィッシャートロプシュワックスなどの脂肪族炭化水素系ワックス;酸化ポリエチレンワックスなどの脂肪族炭化水素系ワックスの酸化型ワックス;カルナバワックス、ベヘン酸ベヘニル、モンタン酸エステルワックスなどの脂肪酸エステルを主成分とするワックス類;及び脱酸カルナバワックスのような脂肪酸エステルを一部又は全部を脱酸化したものなどが挙げられる。 Examples of waxes include: Aliphatic hydrocarbon waxes such as low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, olefin copolymers, microcrystalline wax, paraffin wax, and Fischer-Tropsch wax; Oxidized waxes of aliphatic hydrocarbon waxes such as oxidized polyethylene wax; Carnauba wax , waxes mainly composed of fatty acid esters such as behenyl behenate, and montanate wax; and waxes that are partially or completely deoxidized from fatty acid esters such as deoxidized carnauba wax.

さらに、パルミチン酸、ステアリン酸、モンタン酸などの飽和直鎖脂肪酸類;ブラシジン酸、エレオステアリン酸、バリナリン酸などの不飽和脂肪酸類;ステアリルアルコール、アラルキルアルコール、ベヘニルアルコール、カルナウビルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコールなどの飽和アルコール類;ソルビトールなどの多価アルコール類;リノール酸アミド、オレイン酸アミド、ラウリン酸アミドなどの脂肪酸アミド類;メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミドなどの飽和脂肪酸ビスアミド類;エチレンビスオレイン酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、N,N’-ジオレイルアジピン酸アミド、N,N’-ジオレイルセバシン酸アミドなどの不飽和脂肪酸アミド類;m-キシレンビスステアリン酸アミド、N,N’-ジステアリルイソフタル酸アミドなどの芳香族系ビスアミド類;ステアリン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなどの脂肪酸金属塩(一般に金属石けんといわれているもの);脂肪族炭化水素系ワックスにスチレンやアクリル酸などのビニル系共重合モノマーを用いてグラフト化させたワックス類;ベヘニン酸モノグリセリドなどの脂肪酸と多価アルコールの部分エステル化物;植物性油脂の水素添加などによって得られるヒドロキシ基を有するメチルエステル化合物などが挙げられる。 In addition, saturated straight chain fatty acids such as palmitic acid, stearic acid, and montanic acid; unsaturated fatty acids such as brassic acid, eleostearic acid, and valinaric acid; stearyl alcohol, aralkyl alcohol, behenyl alcohol, carnaubil alcohol, and seryl alcohol. , saturated alcohols such as mericyl alcohol; polyhydric alcohols such as sorbitol; fatty acid amides such as linoleic acid amide, oleic acid amide, lauric acid amide; methylene bisstearic acid amide, ethylene biscapric acid amide, ethylene bislauric acid amide Acid amide, saturated fatty acid bisamides such as hexamethylene bisstearic acid amide; ethylene bisoleic acid amide, hexamethylene bisoleic acid amide, N,N'-dioleyladipic acid amide, N,N'-dioleylsebacic acid amide Unsaturated fatty acid amides such as m-xylene bisstearamide, aromatic bisamides such as N,N'-distearyl isophthalic acid amide; fatty acids such as calcium stearate, calcium laurate, zinc stearate, magnesium stearate, etc. Metal salts (generally referred to as metal soaps); Waxes made by grafting aliphatic hydrocarbon waxes with vinyl copolymer monomers such as styrene and acrylic acid; Fatty acids and polyhydric acids such as behenic acid monoglyceride Examples include partially esterified alcohols; methyl ester compounds having a hydroxyl group obtained by hydrogenating vegetable oils and fats.

特に好ましく用いられるワックスは、脂肪族炭化水素系ワックスである。例えば、アルキレンを高圧下でラジカル重合あるいは低圧下でチーグラー触媒、メタロセン触媒で重合した低分子量の炭化水素;石炭又は天然ガスから合成されるフィッシャートロプシュワックス;パラフィンワックス;高分子量のオレフィンポリマーを熱分解して得られるオレフィンポリマー;一酸化炭素及び水素を含む合成ガスからアーゲ法により得られる炭化水素の蒸留残分から得られる合成炭化水素ワックス、あるいはこれらを水素添加して得られる合成炭化水素ワックスが好ましい。 Particularly preferably used waxes are aliphatic hydrocarbon waxes. For example, low molecular weight hydrocarbons obtained by radical polymerization of alkylene under high pressure or polymerization under low pressure with Ziegler catalyst or metallocene catalyst; Fischer-Tropsch wax synthesized from coal or natural gas; paraffin wax; thermal decomposition of high molecular weight olefin polymers. Olefin polymers obtained by: Synthetic hydrocarbon waxes obtained from distillation residues of hydrocarbons obtained by the Age method from synthesis gas containing carbon monoxide and hydrogen, or synthetic hydrocarbon waxes obtained by hydrogenating these are preferred. .

さらにプレス発汗法、溶剤法、真空蒸留の利用や分別結晶方式により炭化水素ワックスの分別を行ったものが、より好ましく用いられる。特にパラフィンワックスの中でも直鎖成分が主であるn-パラフィンワックスやフィッシャートロプシュワックスが分子量分布の観点から好ましい。 Furthermore, those obtained by fractionating the hydrocarbon wax by using a press perspiration method, a solvent method, a vacuum distillation method, or a fractional crystallization method are more preferably used. Among paraffin waxes, n-paraffin wax and Fischer-Tropsch wax, which mainly contain linear components, are particularly preferred from the viewpoint of molecular weight distribution.

これらワックスは、一種類を単独で使用してもよいし二種類以上を併用して使用してもよい。ワックスは、結着樹脂100質量部に対して、1質量部以上20質量部以下添加することが好ましい。 These waxes may be used alone or in combination of two or more. The wax is preferably added in an amount of 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the binder resin.

(荷電制御剤)
トナーには、荷電制御剤を用いてもよい。荷電制御剤としては既知のものを用いることができる。例えば、アゾ系鉄化合物、アゾ系クロム化合物、アゾ系マンガン化合物、アゾ系コバルト化合物、アゾ系ジルコニウム化合物、カルボン酸誘導体のクロム化合物、カルボン酸誘導体の亜鉛化合物、カルボン酸誘導体のアルミ化合物、カルボン酸誘導体のジルコニウム化合物が挙げられる。前記カルボン酸誘導体は、芳香族ヒドロキシカルボン酸が好ましい。また、荷電制御樹脂も用いることもできる。必要に応じて一種類又は二種類以上の荷電制御剤を併用してもよい。荷電制御剤は結着樹脂100質量部に対して0.1質量部以上10質量部以下使用することが好ましい。
(Charge control agent)
A charge control agent may be used in the toner. Known charge control agents can be used. For example, azo iron compounds, azo chromium compounds, azo manganese compounds, azo cobalt compounds, azo zirconium compounds, chromium compounds of carboxylic acid derivatives, zinc compounds of carboxylic acid derivatives, aluminum compounds of carboxylic acid derivatives, carboxylic acids Examples include derivative zirconium compounds. The carboxylic acid derivative is preferably an aromatic hydroxycarboxylic acid. Further, a charge control resin can also be used. If necessary, one type or two or more types of charge control agents may be used in combination. The charge control agent is preferably used in an amount of 0.1 parts by mass or more and 10 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the binder resin.

〔外添剤のトナー粒子への添加〕
(添加量・添加方法)
トナーは、トナー粒子及びトナー粒子の表面のシリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子を有する。トナーは、トナー粒子にシリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子を外添剤として外添して得ることができる。トナーにおけるシリカ微粒子の含有量は、トナー粒子100質量部に対して、0.01質量部以上10.00質量部以下が好ましく、1.00質量部以上8.00質量部以下がより好ましく、3.00質量部以上6.00質量部以下がさらに好ましい。
[Addition of external additive to toner particles]
(Additional amount/addition method)
The toner has toner particles and fine silica particles and fine titanate compound particles on the surface of the toner particles. The toner can be obtained by externally adding silica particles and titanic acid compound particles as external additives to toner particles. The content of silica fine particles in the toner is preferably 0.01 parts by mass or more and 10.00 parts by mass or less, more preferably 1.00 parts by mass or more and 8.00 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of toner particles. More preferably .00 parts by mass or more and 6.00 parts by mass or less.

これにより、シリカ微粒子がトナー粒子をより十分に被覆することができ、且つ感光体への付着量を適切に制御することができ、クリーニングニップ部により強固な層を形成することができ、外添剤連れ周りゴースト抑制が良好となる。 This allows the silica fine particles to cover the toner particles more fully, and also allows the amount of adhesion to the photoreceptor to be appropriately controlled, allowing a stronger layer to be formed in the cleaning nip area, and allowing external additives to coat the toner particles more fully. Good suppression of ghosts around drugs.

また、トナーにおけるチタン酸化合物微粒子の含有量は、トナー粒子100質量部に対して、0.05質量部以上2.00質量部以下が好ましく、0.10質量部以上1.50質量部以下がより好ましい。 The content of the titanic acid compound fine particles in the toner is preferably 0.05 parts by mass or more and 2.00 parts by mass or less, and 0.10 parts by mass or more and 1.50 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of toner particles. More preferred.

トナー粒子へのシリカ微粒子やチタン酸化合物微粒子などの外添剤の外添は、トナー粒子と外添剤の以下のような混合機による混合で行うことができる。 External addition of external additives such as silica fine particles and titanic acid compound fine particles to toner particles can be carried out by mixing the toner particles and the external additive using a mixer as described below.

混合機としては、以下のものが挙げられる。ヘンシェルミキサー(三井鉱山社製);スーパーミキサー(カワタ社製);リボコーン(大川原製作所社製);ナウターミキサー、タービュライザー、サイクロミックス(ホソカワミクロン社製);スパイラルピンミキサー(太平洋機工社製);レーディゲミキサー(マツボー社製)。 Examples of mixers include: Henschel mixer (manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd.); Super mixer (manufactured by Kawata Co., Ltd.); Ribocone (manufactured by Okawara Seisakusho Co., Ltd.); Nauta mixer, turbulizer, cyclomix (manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.); Spiral pin mixer (manufactured by Taiheiyo Kiko Co., Ltd.) ; Loedige mixer (manufactured by Matsubo).

(シリカ微粒子の埋没率)
シリカ微粒子の一部が、トナー粒子の表面に埋没していることが好ましい。トナー粒子の表面に埋没したシリカ微粒子において、シリカ微粒子のトナー粒子に対する埋没率は、5%以上50%以下であることが好ましく、5%以上40%以下であることがより好ましく、10%以上30%以下であることがさらに好ましく、12%以上25%以下であることが特に好ましく、14%以上20%以下であることが殊更好ましい。
(Burial rate of silica particles)
It is preferable that a portion of the silica particles be buried in the surface of the toner particles. Regarding the silica particles embedded in the surface of the toner particles, the embedding ratio of the silica particles to the toner particles is preferably 5% or more and 50% or less, more preferably 5% or more and 40% or less, and 10% or more and 30% or more. % or less, particularly preferably 12% or more and 25% or less, and particularly preferably 14% or more and 20% or less.

埋没率が上記範囲であることにより、感光体表面に付着したトナーの付着力を効果的に下げることができ、トナー融着を抑制することができる。 When the burial rate is within the above range, the adhesion force of toner adhering to the surface of the photoreceptor can be effectively lowered, and toner fusion can be suppressed.

<トナー粒子の表面におけるシリカ微粒子の埋没率の算出>
まず、前処理として、埋没していない、若しくは埋没率の小さいシリカ微粒子をトナーから分離する。50mL容量のバイアルに「コンタミノンN」(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤)の10質量%水溶液20gを秤量し、トナー1gと混合する。
<Calculation of burying rate of silica particles on the surface of toner particles>
First, as a pretreatment, silica fine particles that are not buried or have a small burial rate are separated from the toner. Weigh out 20 g of a 10% by mass aqueous solution of "Contaminon N" (pH 7 neutral detergent for cleaning precision measuring instruments, consisting of nonionic surfactant, anionic surfactant, and organic builder) into a 50 mL vial, and add 1 g of toner. Mix with.

いわき産業(株)製「KM Shaker」(model: V.SX)にセットし、speedを50に設定して30秒間振とうする。これにより、埋没していないシリカ微粒子がトナー粒子表面から、水溶液側へ移行する。 Set in "KM Shaker" (model: V.SX) manufactured by Iwaki Sangyo Co., Ltd., set the speed to 50, and shake for 30 seconds. As a result, the unburied silica fine particles move from the toner particle surface to the aqueous solution side.

その後、磁性体を含有する磁性トナーの場合は、ネオジム磁石を用いてトナー粒子を拘束した状態で、上澄み液に移行したシリカ微粒子を分離させ、沈殿しているトナー粒子を真空乾燥(40℃/24時間)することで乾固させてサンプルとする。 After that, in the case of magnetic toner containing a magnetic material, the toner particles are restrained using a neodymium magnet, the silica particles that have migrated to the supernatant liquid are separated, and the precipitated toner particles are vacuum-dried (40°C/ 24 hours) to dry it and use it as a sample.

なお、非磁性トナーの場合は、遠心分離機(H-9R;株式会社コクサン社製)(1000rpmにて5分間)にて、トナー粒子と上澄み液に移行した埋没していなかったシリカ微粒子を分離する。残ったトナー粒子を吸引濾過することによりトナー粒子の粉末を採取し乾燥させる。 In the case of non-magnetic toner, use a centrifuge (H-9R; manufactured by Kokusan Co., Ltd.) (1000 rpm for 5 minutes) to separate the toner particles and the unburied silica particles that have migrated to the supernatant liquid. do. The remaining toner particles are filtered by suction to collect powder of toner particles and dried.

トナー粒子を、電子顕微鏡の試料台にカーボンテープを用いて固定し、以下の条件でトナー粒子を観察する。トナー粒子表面の傾斜角度が大きいところ(例えば、70~110°、好ましくは90°程度)を選んで像を撮影する。
・使用装置:日立ハイテクノロジーズ社製 SU8220
加速電圧:2kV
放射電流:10μA
像取得:2次電子検出器
像倍率:50000倍
画素数:1280×960(1画素のサイズが約2nm×約2nmとなる)
The toner particles are fixed on a sample stage of an electron microscope using carbon tape, and the toner particles are observed under the following conditions. An image is taken by selecting a location where the toner particle surface has a large inclination angle (for example, 70 to 110 degrees, preferably about 90 degrees).
・Equipment used: SU8220 manufactured by Hitachi High Technologies
Acceleration voltage: 2kV
Emission current: 10μA
Image acquisition: Secondary electron detector Image magnification: 50,000 times Number of pixels: 1280 x 960 (1 pixel size is approximately 2 nm x approximately 2 nm)

取得した像を画像解析ソフトウェアであるImage J(https://imagej.nih.gov/ij/より入手可能)を用いて解析を行う。図1のように、シリカ微粒子を真円でフィッティング([Oval selections](shiftキーを押しながら操作すると真円で形状固定される)により真円を作成)し、シリカ微粒子の直径aと、シリカ微粒子が埋没している部分の長さbから、以下の式で埋没率を算出する。長さbは、真円でフィッティングしたシリカ微粒子において、埋没した側の深さ方向の頂部と、シリカ微粒子の中心と、を通る直線上で測定するものとする。
埋没率(%)=シリカ微粒子が埋没している部分の長さb/シリカ微粒子の直径a
The acquired image is analyzed using image analysis software Image J (available from https://imagej.nih.gov/ij/). As shown in Figure 1, fit the silica particles in a perfect circle (create a perfect circle using [Oval selections] (operate while holding down the shift key to fix the shape to a perfect circle)), and set the diameter a of the silica particles and the silica particles. The burying rate is calculated from the length b of the part where the fine particles are buried using the following formula. The length b shall be measured on a straight line passing through the top of the buried side in the depth direction and the center of the silica fine particle in a perfectly circular fitted silica fine particle.
Burial rate (%) = length b of the part where the silica fine particles are buried / diameter a of the silica fine particles

上記の埋没率を少なくともシリカ微粒子100個について算出し、その算術平均値をシリカ微粒子の埋没率とする。 The above-mentioned burial rate is calculated for at least 100 silica fine particles, and the arithmetic mean value thereof is taken as the burial rate of the silica fine particles.

シリカ微粒子の埋没率は、例えばトナー粒子とシリカ微粒子を前述のような混合器で混合する際の温度を調整することにより制御できる。又は、トナー粒子とシリカ微粒子を混合した後に、トナー粒子の表面処理(シリカ微粒子の埋没処理)を行い、その条件(処理雰囲気の温度や、処理空間の排気風量)を調整することによって制御できる。表面処理は熱処理が好ましい。例えば熱風により処理する方法が挙げられる。トナー粒子とシリカ微粒子を混合する際に、チタン酸化合物微粒子も混合しても良い。 The embedding rate of the silica particles can be controlled, for example, by adjusting the temperature when toner particles and silica particles are mixed in the mixer as described above. Alternatively, after mixing toner particles and silica particles, surface treatment of the toner particles (silica particle embedding treatment) can be performed, and the control can be performed by adjusting the conditions (temperature of the processing atmosphere, exhaust air volume of the processing space). The surface treatment is preferably heat treatment. For example, a method of processing with hot air can be mentioned. When mixing toner particles and silica particles, titanic acid compound particles may also be mixed.

(トナー粒子の表面処理)
トナー粒子の表面処理は以下のような装置で行うことができる。ハイブリタイゼーションシステム(奈良機械製作所製)、ノビルタ(ホソカワミクロン社製)、メカノフージョンシステム(ホソカワミクロン社製)、ファカルティ(ホソカワミクロン社製)、イノマイザ(ホソカワミクロン社製)、シータコンポーザ(徳寿工作所社製)、メカノミル(岡田精工社製)、メテオレインボー MR Type(日本ニューマチック社製)。
(Surface treatment of toner particles)
Surface treatment of toner particles can be performed using the following apparatus. Hybridization System (manufactured by Nara Kikai Seisakusho), Nobilta (manufactured by Hosokawa Micron), Mechano Fusion System (manufactured by Hosokawa Micron), Faculty (manufactured by Hosokawa Micron), Innomizer (manufactured by Hosokawa Micron), Theta Composer (manufactured by Tokuju Kosho) , Mechano Mill (manufactured by Okada Seiko Co., Ltd.), Meteor Rainbow MR Type (manufactured by Nippon Pneumatic Co., Ltd.).

なお、シリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子は、上述のような方法で埋没処理工程を行った後に、シリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子をさらに外添してもよい。 Incidentally, after the silica fine particles and the titanic acid compound fine particles are subjected to the embedding treatment step in the manner described above, the silica fine particles and the titanic acid compound fine particles may be further externally added.

以下、図2に示す熱処理装置を用いて、トナー粒子(例えば、シリカ微粒子が外添混合されたトナー粒子)を熱風により表面処理する方法を具体的に例示する。該例示においてトナー粒子を被処理物と記載する。 Hereinafter, a method of surface treating toner particles (for example, toner particles to which fine silica particles are externally added and mixed) with hot air using the heat treatment apparatus shown in FIG. 2 will be specifically illustrated. In this example, toner particles are referred to as the object to be processed.

原料定量供給手段1により定量供給された被処理物は、圧縮気体流量調整手段2により調整された圧縮気体によって、原料供給手段の鉛直線上に設置された導入管3に導かれる。導入管3を通過した被処理物は、原料供給手段の中央部に設けられた円錐状の突起状部材4により均一に分散され、放射状に広がる8方向の供給管5に導かれ熱処理が行われる処理室6に導かれる。 The material to be treated is quantitatively supplied by the raw material quantitative supply means 1 and guided by compressed gas adjusted by the compressed gas flow rate adjustment means 2 to the introduction pipe 3 installed on the vertical line of the raw material supply means. The material to be treated that has passed through the introduction pipe 3 is uniformly dispersed by a conical protruding member 4 provided at the center of the raw material supply means, and is guided to supply pipes 5 extending in eight directions that extend radially to undergo heat treatment. It is guided to the processing chamber 6.

このとき、処理室6に供給された被処理物は、処理室6内に設けられた被処理物の流れを規制するための規制手段9によって、その流れが規制される。このため処理室6に供給された被処理物は、処理室6内を旋回しながら熱処理された後、冷却される。 At this time, the flow of the processed material supplied to the processing chamber 6 is regulated by a regulating means 9 provided in the processing chamber 6 for regulating the flow of the processed material. Therefore, the object to be processed supplied to the processing chamber 6 is heat-treated while rotating inside the processing chamber 6, and then cooled.

供給された被処理物を熱処理するための熱風は、熱風供給手段7から供給され、分配部材12で分配され、熱風を旋回させるための旋回部材13により、処理室6内に熱風を螺旋状に旋回させて導入される。その構成としては、熱風を旋回させるための旋回部材13が、複数のブレードを有しており、その枚数や角度により、熱風の旋回を制御することができる(なお、11は熱風供給手段出口を示す)。 The supplied hot air for heat-treating the object to be processed is supplied from the hot air supply means 7 and distributed by the distribution member 12, and the hot air is spiraled into the processing chamber 6 by the swirling member 13 for swirling the hot air. It is introduced by rotating it. As for its structure, the rotating member 13 for swirling the hot air has a plurality of blades, and the swirling of the hot air can be controlled by the number and angle of the blades (note that 11 indicates the outlet of the hot air supply means). show).

処理室6内に供給される熱風は、熱風供給手段7の出口部における温度が100℃以上300℃以下であることが好ましく、130℃以上190℃以下であることがより好ましい。熱風供給手段7の出口部における温度が上記の範囲内であれば、被処理物を加熱しすぎることによる融着や合一を防止しつつ、シリカ微粒子の埋没率を好ましい範囲にすることができる。熱風は熱風供給手段7から供給される。 The temperature of the hot air supplied into the processing chamber 6 at the outlet of the hot air supply means 7 is preferably 100°C or more and 300°C or less, more preferably 130°C or more and 190°C or less. If the temperature at the outlet of the hot air supply means 7 is within the above range, it is possible to prevent fusion and coalescence caused by overheating the object to be treated, and to maintain the embedding rate of the silica particles within a preferable range. . Hot air is supplied from hot air supply means 7.

さらに熱処理された熱処理樹脂粒子は冷風供給手段8から供給される冷風によって冷却される。冷風供給手段8から供給される冷風の温度は-20℃以上30℃以下であることが好ましい。冷風の温度が上記の範囲内であれば、熱処理した被処理物を効率的に冷却することができ、被処理物の融着や合一が生じにくいと考えられる。また、冷風の絶対水分量は、0.5g/m3以上15.0g/m3以下であることが好ましい。 Further, the heat-treated resin particles are cooled by the cold air supplied from the cold air supply means 8. The temperature of the cold air supplied from the cold air supply means 8 is preferably -20°C or more and 30°C or less. If the temperature of the cold air is within the above range, the heat-treated workpiece can be efficiently cooled, and it is thought that fusion or coalescence of the workpiece is unlikely to occur. Further, the absolute moisture content of the cold air is preferably 0.5 g/m 3 or more and 15.0 g/m 3 or less.

次に、冷却された被処理物は、処理室6の下端にある回収手段10によって回収される。なお、回収手段10の先にはブロワー(不図示)が設けられ、それにより吸引搬送される構成となっている。 Next, the cooled object to be processed is recovered by a recovery means 10 located at the lower end of the processing chamber 6. Note that a blower (not shown) is provided at the tip of the collecting means 10, and the collecting means 10 is configured to be sucked and transported by the blower (not shown).

また、粉体粒子供給口14は、供給された被処理物の旋回方向と熱風の旋回方向が同方向になるように設けられており、回収手段10も、旋回された被処理物の旋回方向を維持するように、処理室6の外周部に接線方向に設けられている。さらに、冷風供給手段8から供給される冷風は、装置外周部から処理室内周面に、水平且つ接線方向から供給されるよう構成されている。 Further, the powder particle supply port 14 is provided so that the swirling direction of the supplied processed material and the swirling direction of the hot air are the same, and the collecting means 10 is also provided in the rotating direction of the swirled processed material. It is provided in the tangential direction on the outer periphery of the processing chamber 6 so as to maintain . Furthermore, the cold air supplied from the cold air supply means 8 is configured to be supplied horizontally and tangentially from the outer peripheral part of the apparatus to the peripheral surface of the processing chamber.

粉体粒子供給口14から供給される被処理物の旋回方向、冷風供給手段8から供給された冷風の旋回方向、熱風供給手段7から供給された熱風の旋回方向がすべて同方向である。そのため、処理室内で乱流が起こらず、装置内の旋回流が強化され、熱処理前の被処理物に強力な遠心力がかかり分散性がさらに向上するため、合一粒子の少ないトナー粒子が得られやすい。 The swirling direction of the object to be processed supplied from the powder particle supply port 14, the swirling direction of the cold air supplied from the cold air supply means 8, and the swirling direction of the hot air supplied from the hot air supply means 7 are all the same direction. Therefore, turbulence does not occur in the processing chamber, the swirling flow within the device is strengthened, and a strong centrifugal force is applied to the processed material before heat treatment, further improving dispersibility, resulting in toner particles with fewer coalesced particles. It's easy to get caught.

〔トナー粒子の製造方法〕
トナー粒子を得る工程において、トナー粒子の製造方法としては、特に限定されず、公知の方法によって製造することができる。例えば、粉砕法、乳化凝集法、懸濁重合法、溶解懸濁法などが挙げられる。
[Method for manufacturing toner particles]
In the step of obtaining toner particles, the method for producing toner particles is not particularly limited, and any known method can be used. Examples include a pulverization method, an emulsion aggregation method, a suspension polymerization method, a dissolution suspension method, and the like.

(粉砕法)
粉砕法により製造されるトナー粒子は、例えば下記のようにして製造される。
(Crushing method)
Toner particles produced by the pulverization method are produced, for example, as follows.

結着樹脂、着色剤及び必要に応じてその他の添加剤などを、ヘンシェルミキサー、ボールミルのような混合機により充分混合する。混合物を二軸混練押出機、加熱ロール、ニーダー、エクストルーダーのような熱混練機を用いて溶融混練する。その際、ワックス、磁性酸化鉄粒子及び含金属化合物を添加することもできる。 A binder resin, a colorant, and other additives as necessary are sufficiently mixed using a mixer such as a Henschel mixer or a ball mill. The mixture is melt-kneaded using a heat kneader such as a twin-screw extruder, heated roll, kneader, or extruder. At that time, wax, magnetic iron oxide particles, and metal-containing compounds can also be added.

溶融混練物を冷却固化した後、粉砕及び分級を行い、トナー粒子を得る。この際、微粉砕時の排気温度を調整することで、トナー粒子表面のシリカ微粒子の埋没率を制御することができる。トナー粒子とシリカ微粒子などの外添剤をヘンシェルミキサーのような混合機により混合し、トナーを得ることができる。 After the melt-kneaded product is cooled and solidified, it is pulverized and classified to obtain toner particles. At this time, by adjusting the exhaust temperature during pulverization, the embedding rate of the silica fine particles on the surface of the toner particles can be controlled. A toner can be obtained by mixing toner particles and external additives such as silica particles using a mixer such as a Henschel mixer.

混合機としては、以下のものが挙げられる。ヘンシェルミキサー(三井鉱山社製);スーパーミキサー(カワタ社製);リボコーン(大川原製作所社製);ナウターミキサー、タービュライザー、サイクロミックス(ホソカワミクロン社製);スパイラルピンミキサー(太平洋機工社製);レーディゲミキサー(マツボー社製)。 Examples of mixers include: Henschel mixer (manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd.); Super mixer (manufactured by Kawata Co., Ltd.); Ribocone (manufactured by Okawara Seisakusho Co., Ltd.); Nauta mixer, turbulizer, cyclomix (manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.); Spiral pin mixer (manufactured by Taiheiyo Kiko Co., Ltd.) ; Loedige mixer (manufactured by Matsubo).

混練機としては、以下のものが挙げられる。KRCニーダー(栗本鉄工所社製);ブス・コ・ニーダー(Buss社製);TEM型押し出し機(東芝機械社製);TEX二軸混練機(日本製鋼所社製);PCM混練機(池貝鉄工所社製);三本ロールミル、ミキシングロールミル、ニーダー(井上製作所社製);ニーデックス(三井鉱山社製);MS式加圧ニーダー、ニーダールーダー(森山製作所社製);バンバリーミキサー(神戸製鋼所社製)。 Examples of the kneading machine include the following. KRC kneader (manufactured by Kurimoto Iron Works); Bussco kneader (manufactured by Buss); TEM extruder (manufactured by Toshiba Machinery Co., Ltd.); TEX twin-screw kneader (manufactured by Japan Steel Works, Ltd.); PCM kneader (manufactured by Ikegai) (manufactured by Tekkosho Co., Ltd.); Three roll mill, mixing roll mill, kneader (manufactured by Inoue Seisakusho Co., Ltd.); Kneedex (manufactured by Mitsui Mining Co., Ltd.); MS type pressure kneader, kneader-ruder (manufactured by Moriyama Seisakusho Co., Ltd.); Banbury mixer (manufactured by Kobe Steel Co., Ltd.) (manufactured by Shosha).

粉砕機としては、以下のものが挙げられる。カウンタージェットミル、ミクロンジェット、イノマイザ(ホソカワミクロン社製);IDS型ミル、PJMジェット粉砕機(日本ニューマチック工業社製);クロスジェットミル(栗本鉄工所社製);ウルマックス(日曹エンジニアリング社製);SKジェット・オー・ミル(セイシン企業社製);クリプトロン(川崎重工業社製);ターボミル(ターボ工業社製);スーパーローター(日清エンジニアリング社製)。 Examples of the crusher include the following: Counter jet mill, Micron jet, Innomizer (manufactured by Hosokawa Micron); IDS type mill, PJM jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Industries); Cross jet mill (manufactured by Kurimoto Iron Works); Ulmax (manufactured by Nisso Engineering) ); SK Jet-O-Mill (manufactured by Seishin Enterprises); Kryptron (manufactured by Kawasaki Heavy Industries); Turbo Mill (manufactured by Turbo Industries); Super Rotor (manufactured by Nisshin Engineering).

また、必要に応じて、粉砕後に、ハイブリタイゼーションシステム(奈良機械製作所製)、ノビルタ(ホソカワミクロン社製)、メカノフージョンシステム(ホソカワミクロン社製)、ファカルティ(ホソカワミクロン社製)、イノマイザ(ホソカワミクロン社製)、シータコンポーザ(徳寿工作所社製)、メカノミル(岡田精工社製)、メテオレインボー MR Type(日本ニューマチック社製)を用いて、トナー粒子の表面処理を行い、トナー粒子表面のシリカ微粒子の埋没率を制御することもできる。 In addition, after crushing, if necessary, hybridization system (manufactured by Nara Kikai Seisakusho), Nobilta (manufactured by Hosokawa Micron), Mechano Fusion System (manufactured by Hosokawa Micron), Faculty (manufactured by Hosokawa Micron), Innomizer (manufactured by Hosokawa Micron), , Theta Composer (manufactured by Tokuju Kosho Co., Ltd.), Mechanomill (manufactured by Okada Seiko Co., Ltd.), and Meteor Rainbow MR Type (manufactured by Nippon Pneumatic Co., Ltd.) are used to perform surface treatment on toner particles, and bury silica particles on the surface of toner particles. You can also control the rate.

分級機としては、以下のものが挙げられる。クラッシール、マイクロンクラッシファイアー、スペディッククラシファイアー(セイシン企業社製);ターボクラッシファイアー(日清エンジニアリング社製);ミクロンセパレータ、ターボプレックス(ATP)、TSPセパレータ(ホソカワミクロン社製);エルボージェット(日鉄鉱業社製)、ディスパージョンセパレータ(日本ニューマチック工業社製);YMマイクロカット(安川商事社製)。 Examples of classifiers include the following: Cruseal, Micron Crusifier, Spedic Classifier (manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.); Turbo Crusifier (manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd.); Micron Separator, Turboplex (ATP), TSP Separator (manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.); Elbow Jet (manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd.); dispersion separator (manufactured by Nippon Pneumatic Industries); YM Microcut (manufactured by Yaskawa Shoji).

粗粒子をふるい分けるために用いられる篩い装置としては、以下のものが挙げられる。ウルトラソニック(晃栄産業社製);レゾナシーブ、ジャイロシフター(徳寿工作所社);バイブラソニックシステム(ダルトン社製);ソニクリーン(新東工業社製);ターボスクリーナー(ターボエ業社製);ミクロシフター(槙野産業社製);円形振動篩い。 Sieving devices used to screen out coarse particles include the following: Ultrasonic (manufactured by Koei Sangyo Co., Ltd.); Resona Sieve, Gyro Shifter (manufactured by Tokuju Kogyo Co., Ltd.); Vibrasonic System (manufactured by Dalton Co., Ltd.); Sonic Clean (manufactured by Shinto Kogyo Co., Ltd.); Turbo Screener (manufactured by Turbo Egyo Co., Ltd.); Microsifter (manufactured by Makino Sangyo Co., Ltd.); circular vibrating sieve.

(乳化凝集法)
乳化凝集法により、トナー粒子は、例えば下記のようにして製造される。
(Emulsification aggregation method)
Toner particles are produced by the emulsion aggregation method, for example, as follows.

・樹脂微粒子分散液を調製する工程(調製工程):
例えば、結着樹脂成分として、ポリエステル樹脂や、スチレンアクリル樹脂を、有機溶媒に溶解し、均一な溶解液を形成する。その後、必要に応じて塩基性化合物や界面活性剤を添加する。この溶解液にホモジナイザーなどによりせん断力を付与しながら水系媒体をゆっくり添加し結着樹脂の樹脂微粒子を形成する。最後に有機溶媒を除去し樹脂微粒子が分散された樹脂微粒子分散液を作製する。
・Process of preparing resin fine particle dispersion (preparation process):
For example, as a binder resin component, polyester resin or styrene acrylic resin is dissolved in an organic solvent to form a uniform solution. Thereafter, a basic compound and a surfactant are added as necessary. An aqueous medium is slowly added to this solution while applying shear force using a homogenizer or the like to form resin fine particles of a binder resin. Finally, the organic solvent is removed to prepare a resin particle dispersion in which the resin particles are dispersed.

樹脂微粒子分散液の調製に際し、有機溶媒に溶解させる樹脂成分の添加量は、有機溶媒100質量部に対して、10質量部以上50質量部以下であることが好ましく、30質量部以上50質量部以下であることがより好ましい。 When preparing the resin fine particle dispersion, the amount of the resin component to be dissolved in the organic solvent is preferably 10 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, and 30 parts by mass or more and 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the organic solvent. It is more preferable that it is below.

有機溶媒としては、樹脂成分を溶解できるものであればどのようなものでも使用可能であるが、トルエン、キシレン、酢酸エチルなどのオレフィン系樹脂に対する溶解度の高い溶媒が好ましい。 Any organic solvent can be used as long as it can dissolve the resin component, but solvents with high solubility for olefin resins such as toluene, xylene, and ethyl acetate are preferred.

界面活性剤は、特に限定されない。例えば、硫酸エステル塩系、スルホン酸塩系、カルボン酸塩系、リン酸エステル系、せっけん系のアニオン界面活性剤;アミン塩型、4級アンモニウム塩型などのカチオン界面活性剤;ポリエチレングリコール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物系、多価アルコール系の非イオン系界面活性剤が挙げられる。 The surfactant is not particularly limited. For example, sulfate-based, sulfonate-based, carboxylate-based, phosphate-based, soap-based anionic surfactants; cationic surfactants such as amine salts and quaternary ammonium salts; polyethylene glycol-based, Examples include alkylphenol ethylene oxide adduct-based and polyhydric alcohol-based nonionic surfactants.

塩基性化合物としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどの無機塩基やトリエチルアミン、トリメチルアミン、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノエタノールなどの有機塩基が挙げられる。該塩基性化合物は1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the basic compound include inorganic bases such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, and organic bases such as triethylamine, trimethylamine, dimethylaminoethanol, and diethylaminoethanol. These basic compounds may be used alone or in combination of two or more.

・凝集工程:
凝集工程は、例えば、上記樹脂微粒子分散液に、必要に応じて、着色剤微粒子分散液、ワックス微粒子分散液、及びシリコーンオイル乳化液を混合し、混合液を調製し、ついで、調製された混合液中に含まれる微粒子を凝集して、凝集体粒子を形成させる工程である。
・Agglomeration process:
In the aggregation step, for example, a colorant fine particle dispersion, a wax fine particle dispersion, and a silicone oil emulsion are mixed with the resin fine particle dispersion to prepare a mixed liquid, and then the prepared mixture This is a process in which fine particles contained in a liquid are aggregated to form aggregate particles.

凝集体粒子を形成させる方法としては、凝集剤を上記混合液中に添加及び混合し、温度を上げたり、機械的動力などを適宜加えたりする方法が好適に例示できる。 A suitable example of a method for forming aggregate particles is a method in which a flocculant is added and mixed into the above-mentioned liquid mixture, and the temperature is increased or mechanical power is appropriately applied.

着色剤微粒子分散液は、上述した着色剤を分散させて調製される。着色剤微粒子は公知の方法で分散されるが、例えば、回転せん断型ホモジナイザー、ボールミル、サンドミル、アトライターなどのメディア式分散機、高圧対向衝突式の分散機などが好ましく用いられる。また、必要に応じて分散安定性を付与する界面活性剤や高分子分散剤を添加することができる。 The colorant fine particle dispersion is prepared by dispersing the colorant described above. The colorant fine particles are dispersed by a known method, and for example, a rotary shear type homogenizer, a media type dispersion machine such as a ball mill, a sand mill, an attritor, a high pressure opposing collision type disperser, etc. are preferably used. Further, a surfactant or a polymer dispersant that imparts dispersion stability can be added as necessary.

ワックス微粒子分散液、及びシリコーンオイル乳化液は、各材料を水系媒体中に分散させて調製する。各材料は公知の方法で分散されるが、例えば、回転せん断型ホモジナイザー、ボールミル、サンドミル、アトライターなどのメディア式分散機、高圧対向衝突式の分散機などが好ましく用いられる。また、必要に応じて分散安定性を付与する界面活性剤や高分子分散剤を添加することができる。 The wax fine particle dispersion and the silicone oil emulsion are prepared by dispersing each material in an aqueous medium. Each material is dispersed by a known method, for example, a rotary shear type homogenizer, a media type disperser such as a ball mill, a sand mill, an attritor, a high-pressure opposed collision type disperser, etc. are preferably used. Further, a surfactant or a polymer dispersant that imparts dispersion stability can be added as necessary.

凝集剤としては、例えば、ナトリウム、カリウムなどの1価の金属の金属塩;カルシウム、マグネシウムなどの2価の金属の金属塩;鉄、アルミニウムなどの3価の金属の金属塩;ポリ塩化アルミニウムなどの多価金属塩が挙げられる。凝集工程の粒子径制御性の観点から塩化カルシウムや硫酸マグネシウムなどの2価の金属の金属塩が好ましい。 Examples of flocculants include metal salts of monovalent metals such as sodium and potassium; metal salts of divalent metals such as calcium and magnesium; metal salts of trivalent metals such as iron and aluminum; polyaluminum chloride, etc. Examples include polyvalent metal salts. From the viewpoint of particle size controllability in the aggregation step, metal salts of divalent metals such as calcium chloride and magnesium sulfate are preferred.

該凝集剤の添加及び混合は、室温から75℃までの温度範囲で行うことが好ましい。この温度条件下で上記混合を行うと、凝集が安定した状態で進行する。上記混合は、公知の混合装置、ホモジナイザー、ミキサーなどを用いて行うことができる。 The addition and mixing of the flocculant is preferably carried out at a temperature range from room temperature to 75°C. When the above-mentioned mixing is performed under this temperature condition, aggregation proceeds in a stable state. The above mixing can be performed using a known mixing device, homogenizer, mixer, etc.

・融合工程:
融合工程は、該凝集体粒子を、好ましくはオレフィン系樹脂の融点以上に加熱し融合することで、凝集体粒子表面を平滑化した粒子を製造する工程である。
・Fusion process:
The fusion step is a step in which the aggregate particles are preferably heated to a temperature higher than the melting point of the olefin resin and fused to produce particles with smoothed aggregate particle surfaces.

融合工程に入る前に、得られた樹脂粒子間の融着を防ぐため、キレート剤、pH調整剤、界面活性剤などを適宜投入することができる。 Before entering the fusion step, a chelating agent, a pH adjuster, a surfactant, etc. can be added as appropriate to prevent fusion between the obtained resin particles.

キレート剤の例としては、エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)及びそのNa塩などのアルカリ金属塩、グルコン酸ナトリウム、酒石酸ナトリウム、クエン酸カリウム及びクエン酸ナトリウム、ニトリロトリアセテート(NTA)塩、COOH及びOHの両方の官能性を含む多くの水溶性ポリマー類(高分子電解質)が挙げられる。 Examples of chelating agents include ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) and its alkali metal salts such as its Na salt, sodium gluconate, sodium tartrate, potassium and sodium citrate, nitrilotriacetate (NTA) salts, both COOH and OH. A number of water-soluble polymers (polyelectrolytes) containing the functionality of

融合工程の時間は、加熱温度が高ければ短い時間で足り、加熱温度が低ければ長い時間が必要である。すなわち、加熱融合の時間は、加熱の温度に依存するので一概に規定することはできないが、一般的には10分~10時間程度である。 A short time is sufficient for the fusion process if the heating temperature is high, and a long time is required if the heating temperature is low. That is, the time for heating and fusion depends on the heating temperature and cannot be absolutely defined, but it is generally about 10 minutes to 10 hours.

・冷却工程:
融合工程で得られた樹脂粒子を含む水系媒体の温度を冷却する工程である。特に限定されないが具体的な冷却速度は、0.1~50℃/分程度である。
・Cooling process:
This is a step of cooling the temperature of the aqueous medium containing the resin particles obtained in the fusion step. Although not particularly limited, a specific cooling rate is about 0.1 to 50°C/min.

・洗浄工程:
上記工程を経て作製した樹脂粒子を、洗浄及びろ過を繰り返すことにより、樹脂粒子中の不純物を除去することができる。
・Cleaning process:
By repeatedly washing and filtering the resin particles produced through the above steps, impurities in the resin particles can be removed.

具体的には、エチレンジアミンテトラ酢酸(EDTA)及びそのNa塩などのキレート剤を含有した水溶液を用いて樹脂粒子を洗浄し、さらに純水で洗浄することが好ましい。 Specifically, it is preferable to wash the resin particles using an aqueous solution containing a chelating agent such as ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) and its Na salt, and then wash the resin particles with pure water.

純水での洗浄とろ過を複数回繰り返すことにより、樹脂粒子中の金属塩や界面活性剤などを除くことができる。ろ過の回数は3~20回が製造効率の点から好ましく、3~10回がより好ましい。 By repeating washing with pure water and filtration multiple times, metal salts, surfactants, etc. in the resin particles can be removed. The number of times of filtration is preferably 3 to 20 times from the viewpoint of production efficiency, and more preferably 3 to 10 times.

・乾燥及び分級工程:
洗浄された樹脂粒子の乾燥を行い、適宜分級することによりトナー粒子を得ることができる。
・Drying and classification process:
Toner particles can be obtained by drying the washed resin particles and appropriately classifying them.

(溶解懸濁法)
溶解懸濁法により製造されるトナー粒子は、例えば下記のように製造される。
(dissolution suspension method)
Toner particles produced by the dissolution/suspension method are produced, for example, as follows.

溶解懸濁法では、ポリエステル樹脂や、スチレンアクリル樹脂などの、結着樹脂成分を有機溶媒に溶解して得られた樹脂組成物を、水系媒体に分散させて該樹脂組成物の粒子を造粒した後、該樹脂組成物の該粒子に含まれる該有機溶媒を除去することにより、トナー粒子を製造する。 In the dissolution/suspension method, a resin composition obtained by dissolving a binder resin component such as polyester resin or styrene acrylic resin in an organic solvent is dispersed in an aqueous medium to granulate particles of the resin composition. After that, toner particles are manufactured by removing the organic solvent contained in the particles of the resin composition.

該溶解懸濁法は、有機溶剤に溶解する樹脂成分であれば適応することが可能であることに加え、脱溶剤時の条件により形状制御が容易である。 The dissolution/suspension method can be applied to any resin component that dissolves in an organic solvent, and the shape can be easily controlled depending on the conditions at the time of solvent removal.

以下、溶解懸濁法を用いたトナーの製造方法を具体的に記載するが、これに限定されるものではない。 Hereinafter, a method for producing toner using the dissolution/suspension method will be specifically described, but the present invention is not limited thereto.

・樹脂成分溶解工程:
樹脂成分溶解工程では結着樹脂、並びに、必要に応じて、着色剤、ワックス及びシリコーンオイルなどの他の成分を有機溶媒に溶解又は分散して樹脂組成物を調製する。
・Resin component dissolution process:
In the resin component dissolving step, a resin composition is prepared by dissolving or dispersing the binder resin and, if necessary, other components such as a colorant, wax, and silicone oil in an organic solvent.

使用される有機溶媒は、樹脂成分を溶解し得る有機溶媒であれば任意の溶媒を使用できる。具体的には、トルエン、キシレン、クロロホルム、塩化メチレン及び酢酸エチルなどが挙げられる。なお、結晶性樹脂の結晶化促進性及び溶媒除去の容易性からトルエン、酢酸エチルを使用することが好ましい。 Any organic solvent can be used as long as it can dissolve the resin component. Specific examples include toluene, xylene, chloroform, methylene chloride, and ethyl acetate. Note that toluene and ethyl acetate are preferably used from the viewpoint of promoting crystallization of the crystalline resin and ease of solvent removal.

該有機溶媒の使用量には制限がないが、樹脂組成物が水などの貧媒体中に分散し、造粒できる粘度となる量であればよい。具体的には、樹脂成分、並びに、必要に応じて、着色剤、ワックス及びシリコーンオイルなどの他の成分と有機溶媒の質量比が10/90~50/50が後述の造粒性及びトナー粒子の生産効率の観点から好ましい。 There is no limit to the amount of the organic solvent used, but it may be used as long as it has a viscosity that allows the resin composition to be dispersed in a poor medium such as water and granulated. Specifically, the mass ratio of the resin component and, if necessary, other components such as colorant, wax, and silicone oil to the organic solvent is 10/90 to 50/50 to improve the granulation properties and toner particles described below. preferred from the viewpoint of production efficiency.

一方、着色剤、ワックス及びシリコーンオイルは有機溶媒に溶解している必要はなく、分散していてもよい。着色剤、ワックス及びシリコーンオイルを分散状態で使用する場合は、ビーズミルなどの分散機を使用して分散させることが好ましい。 On the other hand, the colorant, wax, and silicone oil do not need to be dissolved in the organic solvent, but may be dispersed. When using a colorant, wax, and silicone oil in a dispersed state, it is preferable to disperse them using a dispersing machine such as a bead mill.

・造粒工程:
造粒工程は、得られた樹脂組成物を水系媒体に、所定のトナー粒子径になるように、分散剤を用いて分散させて、樹脂組成物の粒子を調製する工程である。
・Pelletization process:
The granulation step is a step of preparing particles of the resin composition by dispersing the obtained resin composition in an aqueous medium using a dispersant so as to have a predetermined toner particle size.

水系媒体としては、主に水が用いられる。 Water is mainly used as the aqueous medium.

また、該水系媒体は、1価の金属塩を1質量%以上30質量%以下含有することが好ましい。1価の金属塩を含有していることにより、樹脂組成物中の有機溶媒が水系媒体中へ拡散することが抑制され、得られたトナー粒子に含まれる樹脂成分の結晶性が高まる。 Further, the aqueous medium preferably contains a monovalent metal salt in an amount of 1% by mass or more and 30% by mass or less. By containing the monovalent metal salt, diffusion of the organic solvent in the resin composition into the aqueous medium is suppressed, and the crystallinity of the resin component contained in the obtained toner particles is increased.

その結果、トナーの耐ブロッキング性が良好になりやすく、かつトナーの粒度分布が良好になりやすい。 As a result, the blocking resistance of the toner tends to be good, and the particle size distribution of the toner tends to be good.

1価の金属塩としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化リチウム、臭化カリウムが例示でき、これらのうち、塩化ナトリウム、塩化カリウムが好ましい。 Examples of monovalent metal salts include sodium chloride, potassium chloride, lithium chloride, and potassium bromide, and among these, sodium chloride and potassium chloride are preferred.

また、水系媒体と樹脂組成物の混合比(質量比)は、水系媒体/樹脂組成物=90/10~50/50が好ましい。 Further, the mixing ratio (mass ratio) of the aqueous medium and the resin composition is preferably aqueous medium/resin composition = 90/10 to 50/50.

上記分散剤は特に限定されないが、有機系分散剤として、陽イオンタイプ、陰イオンタイプ及びノニオンタイプの界面活性剤が用いられ、陰イオンタイプのものが好ましい。 The above dispersant is not particularly limited, but cationic, anionic, and nonionic surfactants are used as organic dispersants, with anionic surfactants being preferred.

例えば、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、α-オレフィンスルホン酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウムなどが挙げられる。一方、無機系分散剤としてリン酸三カルシウム、ヒドロキシアパタイト、炭酸カルシウム微粒子、酸化チタン微粒子及びシリカ微粒子などが挙げられる。 Examples include sodium alkylbenzene sulfonate, sodium α-olefin sulfonate, sodium alkyl sulfonate, and sodium alkyl diphenyl ether disulfonate. On the other hand, examples of inorganic dispersants include tricalcium phosphate, hydroxyapatite, calcium carbonate fine particles, titanium oxide fine particles, and silica fine particles.

これらのうち、無機系分散剤のリン酸三カルシウムが好ましい。その理由は、造粒性及びその安定性、さらには得られるトナーの特性に対する悪影響が極めて少ないためである。 Among these, tricalcium phosphate, which is an inorganic dispersant, is preferred. The reason for this is that there is very little adverse effect on the granulation properties and stability thereof, as well as on the properties of the resulting toner.

分散剤の添加量は造粒物の粒子径に応じて決定され、分散剤の添加量が増加すれば粒子径が小さくなる。そのために、所望の粒子径によって分散剤の添加量は異なるが、樹脂組成物に対して0.1質量%以上15.0質量%以下の範囲で用いられるのが好ましい。 The amount of the dispersant added is determined according to the particle size of the granulated material, and as the amount of the dispersant added increases, the particle size becomes smaller. For this reason, the amount of the dispersant added varies depending on the desired particle size, but it is preferably used in a range of 0.1% by mass or more and 15.0% by mass or less based on the resin composition.

また、水系媒体中で樹脂組成物の粒子を調製する際は、高速剪断下で行われるのが好ましい。高速剪断を与える装置としては各種の高速分散機や超音波分散機が挙げられる。 Further, when preparing particles of the resin composition in an aqueous medium, it is preferable to perform the preparation under high-speed shearing. Examples of devices that apply high-speed shear include various high-speed dispersers and ultrasonic dispersers.

・脱溶剤工程:
脱溶剤工程では、得られた樹脂組成物の粒子に含まれる有機溶媒を除去し、トナー粒子を製造する。該有機溶媒の除去は、撹拌しながら、実施するとよい。
・Solvent removal process:
In the solvent removal step, the organic solvent contained in the particles of the obtained resin composition is removed to produce toner particles. The organic solvent may be removed while stirring.

・洗浄乾燥及び分級工程:
該脱溶剤工程の後に、水などで複数回洗浄し、トナー粒子をろ過及び乾燥する洗浄乾燥工程を実施してもよい。また、分散剤にリン酸三カルシウムなどの酸性条件で溶解する分散剤を使用した場合は、塩酸などで洗浄後に水洗することが好ましい。洗浄を行うことで造粒のために使用した分散剤を除去することができる。洗浄後、ろ過乾燥を行い、適宜分級することによりトナー粒子を得ることができる。
・Washing drying and classification process:
After the solvent removal step, a washing and drying step may be performed in which the toner particles are washed multiple times with water or the like, and the toner particles are filtered and dried. Further, when a dispersant such as tricalcium phosphate that dissolves under acidic conditions is used, it is preferable to wash with hydrochloric acid or the like and then wash with water. By washing, the dispersant used for granulation can be removed. After washing, toner particles can be obtained by filtering and drying and appropriately classifying.

(懸濁重合法)
懸濁重合法により、トナー粒子は、例えば下記のように製造される。
(Suspension polymerization method)
By the suspension polymerization method, toner particles are manufactured, for example, as follows.

結着樹脂を生成する重合性単量体、着色剤、ワックス成分、及び重合開始剤などを、ホモジナイザー、ボールミル、超音波分散機などの分散機によって均一に溶解又は分散させた重合性単量体組成物を調製する。重合性単量体組成物を水系媒体中に分散して重合性単量体組成物の粒子を造粒後、重合性単量体組成物からなる粒子中の重合性単量体を重合させることによりトナー粒子を得る。 Polymerizable monomers in which the polymerizable monomers that produce the binder resin, colorants, wax components, polymerization initiators, etc. are uniformly dissolved or dispersed using a dispersion machine such as a homogenizer, ball mill, or ultrasonic dispersion machine. Prepare the composition. After dispersing the polymerizable monomer composition in an aqueous medium and granulating particles of the polymerizable monomer composition, polymerizing the polymerizable monomers in the particles made of the polymerizable monomer composition. to obtain toner particles.

この際に、重合性単量体組成物は、着色剤を第1の重合性単量体(あるいは一部の重合性単量体)に分散させた分散液を、少なくとも第2の重合性単量体(あるいは残りの重合性単量体)と混合して調製されたものであることが好ましい。すなわち、着色剤を第1の重合性単量体に十分に分散させた状態にした後に、他のトナー材料と共に第2の重合性単量体と混合することにより、着色剤をより良好な分散状態で重合粒子中に存在させることができる。 At this time, in the polymerizable monomer composition, a dispersion in which a colorant is dispersed in a first polymerizable monomer (or some polymerizable monomers) is mixed with at least a second polymerizable monomer. It is preferable that the monomer be prepared by mixing it with the polymerizable monomer (or the remaining polymerizable monomer). That is, by sufficiently dispersing the colorant in the first polymerizable monomer and then mixing it with the second polymerizable monomer together with other toner materials, the colorant can be better dispersed. It can be present in the polymer particles in the form of

得られたトナー粒子を、必要に応じて公知の方法によって濾過、洗浄、乾燥、分級してもよい。 The obtained toner particles may be filtered, washed, dried, and classified according to known methods, if necessary.

(トナー粒子への外添剤添加工程)
上述したような方法により得られたトナー粒子と外添剤とをヘンシェルミキサーのような混合機により混合し、トナーを得ることができる。
(Step of adding external additives to toner particles)
A toner can be obtained by mixing the toner particles obtained by the method described above with an external additive using a mixer such as a Henschel mixer.

トナーの重量平均粒径(D4)は、4.0μm以上15.0μm以下であることが好ましい。また、4.0μm以上9.0μm以下であることがより好ましく、6.0μm以上8.0μm以下であることが更に好ましい。 The weight average particle diameter (D4) of the toner is preferably 4.0 μm or more and 15.0 μm or less. Moreover, it is more preferable that it is 4.0 micrometers or more and 9.0 micrometers or less, and it is still more preferable that it is 6.0 micrometers or more and 8.0 micrometers or less.

トナーの重量平均粒径(D4)は、例えばトナー粒子の分級により調整することができる。 The weight average particle diameter (D4) of the toner can be adjusted, for example, by classifying the toner particles.

<トナーの重量平均粒径(D4)の測定方法>
トナーの重量平均粒径(D4)は、100μmのアパーチャーチューブを備えた細孔電気抵抗法による精密粒度分布測定装置「コールター・カウンター Multisizer3」(登録商標、ベックマン・コールター社製)と、測定条件設定及び測定データ解析をするための付属の専用ソフト「ベックマン・コールター Multisizer 3 Version3.51」(ベックマン・コールター社製)を用いて、実効測定チャンネル数2万5千チャンネルで測定し、測定データの解析を行い、算出する。
<Method for measuring weight average particle diameter (D4) of toner>
The weight average particle diameter (D4) of the toner was measured using a precise particle size distribution measuring device "Coulter Counter Multisizer 3" (registered trademark, manufactured by Beckman Coulter) equipped with a 100 μm aperture tube using the pore electrical resistance method, and measurement condition settings. Using the included dedicated software "Beckman Coulter Multisizer 3 Version 3.51" (manufactured by Beckman Coulter) to analyze the measurement data, measurements were taken with 25,000 effective measurement channels, and the measurement data was analyzed. and calculate.

測定に使用する電解水溶液は、特級塩化ナトリウムをイオン交換水に溶解して濃度が約1質量%となるようにしたもの、例えば、「ISOTON II」(ベックマン・コールター社製)が使用できる。 The electrolytic aqueous solution used in the measurement can be one in which special grade sodium chloride is dissolved in ion-exchanged water to have a concentration of about 1% by mass, such as "ISOTON II" (manufactured by Beckman Coulter).

なお、測定、解析を行う前に、以下のように専用ソフトの設定を行う。 In addition, before performing measurement and analysis, configure the dedicated software as follows.

専用ソフトの「標準測定方法(SOM)を変更画面」において、コントロールモードの総カウント数を50000粒子に設定し、測定回数を1回、Kd値は「標準粒子10.0μm」(ベックマン・コールター社製)を用いて得られた値を設定する。閾値/ノイズレベルの測定ボタンを押すことで、閾値とノイズレベルを自動設定する。また、カレントを1600μAに、ゲインを2に、電解液をISOTON IIに設定し、測定後のアパーチャーチューブのフラッシュにチェックを入れる。 On the "Change standard measurement method (SOM) screen" of the dedicated software, set the total count in control mode to 50,000 particles, set the number of measurements to 1, and set the Kd value to "standard particle 10.0 μm" (Beckman Coulter) Set the value obtained using By pressing the threshold/noise level measurement button, the threshold and noise level are automatically set. Also, set the current to 1600 μA, the gain to 2, the electrolyte to ISOTON II, and check the aperture tube flush after measurement.

専用ソフトの「パルスから粒径への変換設定画面」において、ビン間隔を対数粒径に、粒径ビンを256粒径ビンに、粒径範囲を2μm以上60μm以下に設定する。 On the "Pulse to particle size conversion setting screen" of the dedicated software, set the bin interval to logarithmic particle size, the particle size bin to 256 particle size bins, and the particle size range to 2 μm or more and 60 μm or less.

具体的な測定法は以下の通りである。
(1)Multisizer 3専用のガラス製250ml丸底ビーカーに前記電解水溶液約200mlを入れ、サンプルスタンドにセットし、スターラーロッドの撹拌を反時計回りで24回転/秒にて行う。そして、専用ソフトの「アパーチャーチューブのフラッシュ」機能により、アパーチャーチューブ内の汚れと気泡を除去しておく。
(2)ガラス製の100ml平底ビーカーに前記電解水溶液約30mlを入れ、この中に分散剤として「コンタミノンN」(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤の10質量%水溶液、和光純薬工業社製)をイオン交換水で3質量倍に希釈した希釈液を約0.3ml加える。
(3)発振周波数50kHzの発振器2個を、位相を180度ずらした状態で内蔵し、電気的出力120Wの超音波分散器「Ultrasonic Dispersion System Tetora150」(日科機バイオス社製)の水槽内に所定量のイオン交換水を入れ、この水槽中に前記コンタミノンNを約2ml添加する。
(4)前記(2)のビーカーを前記超音波分散器のビーカー固定穴にセットし、超音波分散器を作動させる。そして、ビーカー内の電解水溶液の液面の共振状態が最大となるようにビーカーの高さ位置を調整する。
(5)前記(4)のビーカー内の電解水溶液に超音波を照射した状態で、トナー約10mgを少量ずつ前記電解水溶液に添加し、分散させる。そして、さらに60秒間超音波分散処理を継続する。なお、超音波分散にあたっては、水槽の水温が10℃以上40℃以下となる様に適宜調節する。
(6)サンプルスタンド内に設置した前記(1)丸底ビーカーに、ピペットを用いてトナーを分散した前記(5)電解水溶液を滴下し、測定濃度が約5%となるように調整する。そして、測定粒子数が50000個になるまで測定を行う。
(7)測定データを装置付属の前記専用ソフトにて解析を行い、重量平均粒径(D4)を算出する。なお、専用ソフトでグラフ/体積%と設定したときの、分析/体積統計値(算術平均)画面の「平均径」が重量平均粒径(D4)である。
The specific measurement method is as follows.
(1) Approximately 200 ml of the above electrolyte aqueous solution is placed in a 250 ml round-bottom glass beaker exclusively for Multisizer 3, set on a sample stand, and stirred with a stirrer rod counterclockwise at 24 revolutions/second. Then, use the dedicated software's ``Aperture Tube Flush'' function to remove dirt and air bubbles from inside the aperture tube.
(2) Pour about 30 ml of the above electrolytic aqueous solution into a 100 ml glass flat-bottomed beaker, and add "Contaminon N" as a dispersant (precision measurement of pH 7 consisting of nonionic surfactant, anionic surfactant, and organic builder). Approximately 0.3 ml of a diluted solution prepared by diluting a 10% by mass aqueous solution of a neutral detergent for cleaning utensils (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) by 3 times by mass with ion-exchanged water is added.
(3) Two oscillators with an oscillation frequency of 50 kHz are built in with their phases shifted by 180 degrees, and are placed in the water tank of an ultrasonic dispersion device "Ultrasonic Dispersion System Tetora 150" (manufactured by Nikkaki Bios Co., Ltd.) with an electrical output of 120 W. A predetermined amount of ion-exchanged water is poured into the water tank, and approximately 2 ml of the contaminon N is added to the water tank.
(4) Set the beaker of (2) above in the beaker fixing hole of the ultrasonic disperser, and operate the ultrasonic disperser. Then, the height position of the beaker is adjusted so that the resonance state of the liquid level of the electrolytic aqueous solution in the beaker is maximized.
(5) While the electrolytic aqueous solution in the beaker of (4) is irradiated with ultrasonic waves, about 10 mg of toner is added little by little to the electrolytic aqueous solution and dispersed. Then, the ultrasonic dispersion treatment is continued for another 60 seconds. In addition, in the ultrasonic dispersion, the water temperature in the water tank is appropriately adjusted to be 10° C. or more and 40° C. or less.
(6) Using a pipette, drop the electrolytic aqueous solution (5) in which toner is dispersed into the round bottom beaker (1) placed in the sample stand, and adjust the measured concentration to about 5%. Then, the measurement is continued until the number of particles to be measured reaches 50,000.
(7) Analyze the measurement data using the dedicated software attached to the device and calculate the weight average particle diameter (D4). Note that when the dedicated software is set to graph/volume %, the "average diameter" on the analysis/volume statistics (arithmetic mean) screen is the weight average particle diameter (D4).

〔磁性キャリア〕
上記トナーは、磁性キャリアと混合して二成分現像剤として使用してもよい。磁性キャリアとしては、通常のフェライト、マグネタイトなどの磁性キャリアや樹脂コートキャリアを使用することができる。また、樹脂成分中に磁性体紛が分散された磁性体分散型樹脂粒子、又は空隙部に樹脂を含有する多孔質磁性コア粒子を用いることができる。
[Magnetic carrier]
The above toner may be mixed with a magnetic carrier and used as a two-component developer. As the magnetic carrier, a normal magnetic carrier such as ferrite or magnetite or a resin-coated carrier can be used. Further, magnetic material-dispersed resin particles in which magnetic powder is dispersed in a resin component, or porous magnetic core particles containing resin in the voids can be used.

磁性体分散型樹脂粒子に使用する磁性体成分としては、マグネタイト粒子粉末、マグヘマイト粒子粉末、又はこれらにケイ素の酸化物、ケイ素の水酸化物、アルミニウムの酸化物及びアルミニウムの水酸化物から選ばれる少なくとも1種が含まれる磁性鉄酸化物粒子粉末;バリウム、ストロンチウム又はバリウム-ストロンチウムを含むマグネトプランバイト型フェライト粒子粉末;マンガン、ニッケル、亜鉛、リチウム及びマグネシウムから選ばれた少なくとも1種を含むスピネル型フェライト粒子粉末などの各種磁性鉄化合物粒子粉末が使用できる。 The magnetic component used in the magnetic dispersed resin particles is selected from magnetite particles, maghemite particles, or silicon oxides, silicon hydroxides, aluminum oxides, and aluminum hydroxides. Magnetic iron oxide particle powder containing at least one type; magnetoplumbite type ferrite particle powder containing barium, strontium, or barium-strontium; spinel type containing at least one type selected from manganese, nickel, zinc, lithium, and magnesium Various magnetic iron compound particles such as ferrite particles can be used.

さらに磁性体成分の他に、ヘマタイト粒子粉末のような非磁性鉄酸化物粒子粉末、ゲータイト粒子粉末のような非磁性含水酸化第二鉄粒子粉末、酸化チタン粒子粉末、シリカ粒子粉末、タルク粒子粉末、アルミナ粒子粉末、硫酸バリウム粒子粉末、炭酸バリウム粒子粉末、カドミウムイエロー粒子粉末、炭酸カルシウム粒子粉末、亜鉛華粒子粉末などの非磁性無機化合物粒子粉末を、磁性鉄化合物粒子粉末と併用してもよい。 Furthermore, in addition to magnetic components, non-magnetic iron oxide particles such as hematite particles, non-magnetic hydrated ferric oxide particles such as goethite particles, titanium oxide particles, silica particles, and talc particles , non-magnetic inorganic compound particles such as alumina particles, barium sulfate particles, barium carbonate particles, cadmium yellow particles, calcium carbonate particles, and zinc white particles may be used in combination with magnetic iron compound particles. .

多孔質磁性コア粒子の材質としては、マグネタイト又はフェライトが挙げられる。フェライトの具体例を次の一般式で示す。
(M12O)x(M2O)y(Fe23Z
Examples of the material for the porous magnetic core particles include magnetite and ferrite. A specific example of ferrite is shown by the following general formula.
(M1 2 O) x (M2O) y (Fe 2 O 3 ) Z

上記の式中、M1は1価、M2は2価の金属であり、x+y+z=1.0としたとき、x及びyは、それぞれ0≦(x,y)≦0.8であり、zは、0.2<z<1.0である) In the above formula, M1 is a monovalent metal, M2 is a divalent metal, and when x+y+z=1.0, x and y are respectively 0≦(x,y)≦0.8, and z is , 0.2<z<1.0)

式中において、M1及びM2としては、Li、Fe、Mn、Mg、Sr、Cu、Zn、Ca、からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属原子を用いることが好ましい。そのほかにもNi、Co、Ba、Y、V、Bi、In、Ta、Zr、B、Mo、Na、Sn、Ti、Cr、Al、Si、希土類なども用いることができる。 In the formula, it is preferable to use at least one metal atom selected from the group consisting of Li, Fe, Mn, Mg, Sr, Cu, Zn, and Ca as M1 and M2. In addition, Ni, Co, Ba, Y, V, Bi, In, Ta, Zr, B, Mo, Na, Sn, Ti, Cr, Al, Si, rare earths, etc. can also be used.

磁性キャリアは、樹脂コートキャリアとして、磁性キャリアコア粒子と磁性キャリアコア粒子の表面の樹脂被覆層を有することが好ましい。樹脂被覆層は、例えば、磁性キャリアコア粒子の表面を被覆(コート)する。磁性キャリアコア粒子は、空隙部に樹脂を含有する多孔質磁性コア粒子であることが好ましい。 The magnetic carrier preferably has magnetic carrier core particles and a resin coating layer on the surface of the magnetic carrier core particles as a resin-coated carrier. The resin coating layer covers (coats) the surface of the magnetic carrier core particles, for example. The magnetic carrier core particles are preferably porous magnetic core particles containing resin in the voids.

多孔質磁性コア粒子の空隙に充填する樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂のどちらを用いてもよい。 As the resin filling the voids of the porous magnetic core particles, either a thermoplastic resin or a thermosetting resin may be used.

上記充填する樹脂として、熱可塑性樹脂としては、以下のものが挙げられる。ノボラック樹脂、飽和アルキルポリエステル樹脂、ポリアリレート、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂などが挙げられる。 Examples of thermoplastic resins to be filled include the following. Examples include novolak resin, saturated alkyl polyester resin, polyarylate, polyamide resin, acrylic resin, and the like.

また、熱硬化性樹脂としては、以下のものが挙げられる。フェノール系樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、などが挙げられる。 Furthermore, examples of thermosetting resins include the following. Examples include phenolic resins, epoxy resins, unsaturated polyester resins, and silicone resins.

磁性キャリアコア粒子の表面を樹脂で被覆する方法としては、特に限定されないが、浸漬法、スプレー法、ハケ塗り法、及び流動床のような塗布方法により被覆する方法が挙げられる。中でも、浸漬法が好ましい。 Methods for coating the surface of magnetic carrier core particles with resin include, but are not particularly limited to, coating methods such as dipping, spraying, brushing, and fluidized bed coating. Among these, the immersion method is preferred.

磁性キャリアコア粒子の表面を被覆する樹脂の量(樹脂被覆層の量)としては、磁性キャリアコア粒子100質量部に対し、0.1質量部以上5.0質量部以下であることがトナーへの帯電付与性をコントロールするために好ましい。 The amount of resin coating the surface of the magnetic carrier core particles (the amount of the resin coating layer) should be 0.1 parts by mass or more and 5.0 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the magnetic carrier core particles. It is preferable to control the charge imparting property.

樹脂被覆層に用いられる樹脂としては、アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂、スチレン-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-メタクリル酸エステル共重合体などのスチレン-アクリル系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体、モノクロロトリフルオロエチレン重合体、ポリフッ化ビニリデンなどのフッ素含有樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、アミノアクリレート樹脂、アイオモノマー樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂などが挙げられる。 Examples of resins used for the resin coating layer include acrylic resins such as acrylic ester copolymers and methacrylic ester copolymers, styrene resins such as styrene-acrylic ester copolymers, and styrene-methacrylic ester copolymers. Acrylic resins, polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene/hexafluoropropylene copolymers, monochlorotrifluoroethylene polymers, fluorine-containing resins such as polyvinylidene fluoride, silicone resins, polyester resins, polyamide resins, polyvinyl butyral, amino acrylates Examples include resin, iomonomer resin, polyphenylene sulfide resin, and the like.

これらの樹脂は、単独又は複数を併用して用いることができる。好ましくはアクリル系樹脂である。 These resins can be used alone or in combination. Acrylic resin is preferred.

この中でも、帯電安定性の観点から特に脂環式の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルを含有する共重合体であることが好ましい。樹脂被覆層における樹脂が、脂環式の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルによるモノマーユニットを有することが好ましい。すなわち樹脂被覆層の樹脂は、少なくとも脂環式の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルを含むモノマーの重合体を含有する。 Among these, a copolymer containing a (meth)acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group is particularly preferred from the viewpoint of charging stability. It is preferable that the resin in the resin coating layer has a monomer unit of (meth)acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group. That is, the resin of the resin coating layer contains a polymer of a monomer containing at least a (meth)acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group.

脂環式の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルは、好ましくは、アクリル酸シクロブチル、アクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ジシクロペンテニル、アクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸シクロブチル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸ジシクロペンテニル及びメタクリル酸ジシクロペンタニルなどが挙げられる。 The (meth)acrylic ester having an alicyclic hydrocarbon group is preferably cyclobutyl acrylate, cyclopentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cycloheptyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, Examples include cyclobutyl methacrylate, cyclopentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, cycloheptyl methacrylate, dicyclopentenyl methacrylate, and dicyclopentanyl methacrylate.

脂環式の炭化水素基は、シクロアルキル基であることが好ましく、炭素数は、3以上10以下が好ましく、4以上8以下がより好ましい。これらは、1種又は2種以上を選択して使用してもよい。 The alicyclic hydrocarbon group is preferably a cycloalkyl group, and the number of carbon atoms is preferably 3 or more and 10 or less, more preferably 4 or more and 8 or less. These may be used alone or in combination of two or more.

また、樹脂被覆層に用いられる共重合体中における、脂環式の炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルによるモノマーユニットの含有割合((メタ)アクリル酸エステルの質量基準の共重合割合)は、5.0質量%以上80.0質量%以下であることが好ましく、50.0質量%以上80.0質量%以下であることがより好ましく、70.0質量%以上80.0質量%以下であることがさらに好ましい。上記範囲であると、高温高湿環境における帯電性が良好となる。 In addition, the content ratio of monomer units based on (meth)acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group in the copolymer used for the resin coating layer (copolymerization ratio based on the mass of (meth)acrylic acid ester) is preferably 5.0 mass% or more and 80.0 mass% or less, more preferably 50.0 mass% or more and 80.0 mass% or less, and 70.0 mass% or more and 80.0 mass% It is more preferable that it is the following. Within the above range, charging properties in a high temperature and high humidity environment will be good.

さらに、帯電安定性の観点から、磁性キャリアコア粒子と樹脂被覆層との密着性を高め、樹脂被覆層の局所的な剥離などを抑制する観点から、樹脂被覆層における樹脂はマクロモノマーを共重合成分として含有することがより好ましい。具体的なマクロモノマーの一例を式(B)に示す。すなわち、樹脂被覆層における樹脂が、下記式(B)で示されるマクロモノマーによるモノマーユニットを有することが好ましい。 Furthermore, from the viewpoint of charging stability, the resin in the resin coating layer is copolymerized with a macromonomer to increase the adhesion between the magnetic carrier core particles and the resin coating layer, and to suppress local peeling of the resin coating layer. It is more preferable to include it as a component. A specific example of the macromonomer is shown in formula (B). That is, it is preferable that the resin in the resin coating layer has a monomer unit formed by a macromonomer represented by the following formula (B).

Figure 2024025273000007
Figure 2024025273000007

式(B)において、Aは、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸2-エチルヘキシル、スチレン、アクリロニトリル及びメタクリロニトリルからなる群から選択される少なくとも一の化合物の重合体を示す。R3は、H又はCH3である。 In formula (B), A is selected from the group consisting of methyl acrylate, methyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, styrene, acrylonitrile and methacrylonitrile. represents a polymer of at least one compound comprising: R3 is H or CH3 .

Aは、メタクリル酸メチルの重合体であることが好ましい。 Preferably, A is a polymer of methyl methacrylate.

磁性キャリアコア粒子と樹脂被覆層との密着性を向上するためには、マクロモノマーの重量平均分子量は、3,000以上10,000以下が好ましく、4,000以上7,000以下であることがより好ましい。 In order to improve the adhesion between the magnetic carrier core particles and the resin coating layer, the weight average molecular weight of the macromonomer is preferably 3,000 or more and 10,000 or less, and preferably 4,000 or more and 7,000 or less. More preferred.

磁性キャリアコア粒子と樹脂被覆層との密着性を向上するためには、樹脂被覆層に用いられる樹脂におけるマクロモノマーによるモノマーユニットの含有割合は、0.5質量%以上30.0質量%以下であることが好ましく、10.0質量%以上30.0質量%以下であることがより好ましく、20.0質量%以上25.0質量%以下であることがさらに好ましい。 In order to improve the adhesion between the magnetic carrier core particles and the resin coating layer, the content ratio of monomer units based on macromonomers in the resin used for the resin coating layer should be 0.5% by mass or more and 30.0% by mass or less. It is preferably at least 10.0% by mass and at most 30.0% by mass, even more preferably at least 20.0% by mass and at most 25.0% by mass.

<マクロモノマーの重量平均分子量の測定>
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用い、以下の手順で測定する。
<Measurement of weight average molecular weight of macromonomer>
The weight average molecular weight is measured using gel permeation chromatography (GPC) according to the following procedure.

まず、測定試料は以下のようにして作製する。 First, a measurement sample is prepared as follows.

試料(磁性キャリアから被覆用樹脂を分離し、分取装置で分取したもの)と、テトラヒドロフラン(THF)とを5mg/mlの濃度で混合し、室温にて24時間静置して、試料をTHFに溶解した。その後、サンプル処理フィルター(マイショリディスクH-25-2 東ソー社製)を通過させたものをGPCの試料とする。 The sample (coating resin was separated from the magnetic carrier and fractionated using a fractionator) and tetrahydrofuran (THF) were mixed at a concentration of 5 mg/ml, and the sample was left standing at room temperature for 24 hours. Dissolved in THF. Thereafter, the sample passed through a sample processing filter (Maishori Disc H-25-2 manufactured by Tosoh Corporation) is used as a sample for GPC.

次に、GPC測定装置(HLC-8120GPC 東ソー社製)を用い、前記装置の操作マニュアルに従い、下記の測定条件で測定する。 Next, measurements are performed using a GPC measuring device (HLC-8120GPC manufactured by Tosoh Corporation) under the following measurement conditions according to the operating manual of the device.

(測定条件)
装置:高速GPC「HLC8120 GPC」(東ソー社製)
カラム:Shodex KF-801、802、803、804、805、806、807の7連(昭和電工社製)
溶離液 :THF
流速 :1.0ml/min
オーブン温度:40.0℃
試料注入量 :0.10ml
また、試料の重量平均分子量の算出にあたって、検量線は、標準ポリスチレン樹脂(東ソー社製TSK スタンダード ポリスチレン F-850、F-450、F-288、F-128、F-80、F-40、F-20、F-10、F-4、F-2、F-1、A-5000、A-2500、A-1000、A-500)により作成した分子量較正曲線を使用する。
(Measurement condition)
Equipment: High-speed GPC “HLC8120 GPC” (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: 7 series of Shodex KF-801, 802, 803, 804, 805, 806, 807 (manufactured by Showa Denko)
Eluent: THF
Flow rate: 1.0ml/min
Oven temperature: 40.0℃
Sample injection amount: 0.10ml
In addition, in calculating the weight average molecular weight of the sample, the calibration curve was -20, F-10, F-4, F-2, F-1, A-5000, A-2500, A-1000, A-500).

〔画像形成方法〕
本発明のトナーは、公知の画像形成方法に用いることができる。具体的には、感光体の表面の帯電を行う帯電工程、帯電された該感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程、該静電潜像をトナーによって現像して該感光体表面にトナー画像を形成する現像工程、該トナー画像を、記録媒体に転写する転写工程、記録媒体上のトナー像を定着する定着工程、および該感光体にクリーニングブレードを当接し、該感光体上の残留トナーを除去するクリーニング工程、を有する画像形成方法に好適に用いられる。
[Image forming method]
The toner of the present invention can be used in known image forming methods. Specifically, the charging process involves charging the surface of the photoconductor, the electrostatic latent image forming process by which an electrostatic latent image is formed on the charged photoconductor, and the electrostatic latent image is developed with toner to form the photoconductor. A developing step for forming a toner image on the body surface, a transfer step for transferring the toner image onto a recording medium, a fixing step for fixing the toner image on the recording medium, and a cleaning blade is brought into contact with the photoreceptor to remove the toner image from the photoreceptor. It is suitably used in an image forming method that includes a cleaning step for removing residual toner on the image forming apparatus.

該感光体とクリーニングブレードの長手方向の単位長さ当たりの当接力が0.196N/cm以上0.490N/cm以下が好ましい。 The contact force per unit length in the longitudinal direction between the photoreceptor and the cleaning blade is preferably 0.196 N/cm or more and 0.490 N/cm or less.

該当接力を0.196N/cm以上とすることで、感光体に付着したトナー及び外添剤を効果的に除去することができる。一方、0.490N/cm以下とすることにより、感光体とクリーニングブレードとの摩擦熱を抑制し、トナー融着を防止できると共に、クリーニングブレードのビビりによる外添剤のすり抜けを抑制することができる。その結果、トナー融着及び外添剤のすり抜けを抑制し、外添剤連れ周りゴースト抑制が良好となる。 By setting the contact force to 0.196 N/cm or more, toner and external additives attached to the photoreceptor can be effectively removed. On the other hand, by setting it to 0.490 N/cm or less, it is possible to suppress the frictional heat between the photoreceptor and the cleaning blade, prevent toner fusion, and suppress the external additive from slipping through due to chatter of the cleaning blade. . As a result, toner fusion and slippage of external additives are suppressed, and ghosts caused by the external additives are effectively suppressed.

〔本発明の実施形態に含まれる構成〕
本実施形態の開示は、以下の構成を含む。
(構成1)トナー粒子及び該トナー粒子表面の外添剤を有するトナーであって、
該外添剤は、シリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子を有し、
該シリカ微粒子は、表面処理された処理シリカ微粒子であって、
該シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、上記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1と、上記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2とが観測され、該ピークPD1の面積をSD1とし、該ピークPD2の面積をSD2としたとき、該SD1および該SD2が、
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
を満たし、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、10nm以上100nm以下であり、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の平均円形度が、0.700以上1.00以下であることを特徴とするトナー。
(構成2)前記(SD1+SD2)/SD1が、1.2以上6.3以下である構成1に記載のトナー。
(構成3)前記シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、上記式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQが観測され、該ピークPQの面積をSQとしたとき、前記SD1、前記SD2および該SQが、
(SD1+SD2)/SQ×100≧1.0
を満たす構成1又は2に記載のトナー。
(構成4)前記シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定から得られる前記SD1、前記SD2および前記SQを用いて、下式:
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100
から算出されるCaと、
ヘキサンで洗浄した後のシリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定から得られる、前記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1wの面積SD1wと、前記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2wの面積SD2w、前記式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQwの面積SQwを用いて、下式:
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100
から算出されるCbとが、
(Ca-Cb)/Ca×100≦30
を満たす構成1~3のいずれかに記載のトナー。
(構成5)前記シリカ微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、5nm以上500nm以下である構成1~4のいずれかに記載のトナー。
(構成6)前記シリカ微粒子の含有量が、トナー粒子100質量部に対して、0.01質量部以上10.00質量部以下である構成1~5のいずれかに記載のトナー。
(構成7)前記チタン酸化合物微粒子は、チタン酸ストロンチウム粒子又はチタン酸カルシウム粒子である構成1~6のいずれかに記載のトナー。
(構成8)前記チタン酸化合物微粒子の含有量が、トナー粒子100質量部に対して、0.05質量部以上2.0質量部以下である構成1~7のいずれかに記載のトナー。
(構成9)前記シリカ微粒子の個数平均粒径Aは、前記チタン酸化合物微粒子の個数平均粒径Bに対して、
A>B
である構成1~8のいずれかに記載のトナー。
(構成10)前記シリカ微粒子は、温度30℃、相対湿度80%における、BET比表面積1m2当たりの水分吸着量が、0.01cm3/m2以上0.1cm3/m2以下である、構成1~9のいずれかに記載のトナー。
(構成11)前記シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、上記式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQが観測され、該ピークPQの面積をSQとしたとき、前記SD1、前記SD2および該SQが、
(SD1+SD2)/SQ×100≧1.0
を満たし、
前記シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定から得られる前記SD1、前記SD2および該SQを用いて、下式:
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100
から算出されるCaと、
ヘキサンで洗浄した後のシリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定から得られる、前記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1wの面積SD1wと、前記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2wの面積SD2w、前記式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQwの面積SQwを用いて、下式:
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100
から算出されるCbとが、
(Ca-Cb)/Ca×100≦30
を満たし、
前記シリカ微粒子は、温度30℃、相対湿度80%における、BET比表面積1m2当たりの水分吸着量が、0.01cm3/m2以上0.1cm3/m2以下である、構成1~10のいずれかに記載のトナー。
(構成12)感光体の表面の帯電を行う帯電工程、帯電された該感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程、該静電潜像をトナーによって現像して該感光体表面にトナー画像を形成する現像工程、該トナー画像を、記録媒体に転写する転写工程、記録媒体上のトナー像を定着する定着工程、および該感光体にクリーニングブレードを当接し、該感光体上の残留トナーを除去するクリーニング工程、を有する画像形成方法において、
該トナーは、トナー粒子及び該トナー粒子表面の外添剤を有するトナーであって、
該外添剤は、シリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子を有し、
該シリカ微粒子は、表面処理された処理シリカ微粒子であって、
該シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、上記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1と、上記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2とが観測され、該ピークPD1の面積をSD1とし、該ピークPD2の面積をSD2としたとき、該SD1および該SD2が、
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
を満たし、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、10nm以上100nm以下であり、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の平均円形度が、0.700以上1.00以下であることを特徴とする画像形成方法。
[Configuration included in the embodiment of the present invention]
The disclosure of this embodiment includes the following configurations.
(Structure 1) A toner having toner particles and an external additive on the surface of the toner particles,
The external additive has silica fine particles and titanic acid compound fine particles,
The silica fine particles are surface-treated treated silica fine particles,
In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, there is a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the above formula (1), and a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by the above formula (2). A peak PD2 corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure is observed, and when the area of the peak PD1 is SD1 and the area of the peak PD2 is SD2, the SD1 and the SD2 are
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
The filling,
The number average particle diameter of the primary particles of the titanic acid compound fine particles is 10 nm or more and 100 nm or less,
A toner characterized in that the primary particles of the titanic acid compound fine particles have an average circularity of 0.700 or more and 1.00 or less.
(Structure 2) The toner according to Structure 1, wherein the (SD1+SD2)/SD1 is 1.2 or more and 6.3 or less.
(Structure 3) In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, a peak PQ corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by the above formula (3) is observed; When the area of PQ is SQ, the SD1, the SD2 and the SQ are
(SD1+SD2)/SQ×100≧1.0
The toner according to configuration 1 or 2, which satisfies the following.
(Structure 4) Using the SD1, SD2 and SQ obtained from the solid 29 Si-NMR DD/MAS measurement of the silica fine particles, the following formula:
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100
Ca calculated from
The area SD1w of the peak PD1w corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the above formula (1) obtained from DD/MAS measurement of solid 29 Si-NMR of silica fine particles after washing with hexane and the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure represented by the above formula (2), and the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by the above formula (3). Using the area SQw of the corresponding peak PQw, the following formula:
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100
Cb calculated from
(Ca-Cb)/Ca×100≦30
The toner according to any one of configurations 1 to 3, which satisfies the following.
(Structure 5) The toner according to any one of Structures 1 to 4, wherein the primary particles of the fine silica particles have a number average particle diameter of 5 nm or more and 500 nm or less.
(Structure 6) The toner according to any one of Structures 1 to 5, wherein the content of the silica fine particles is 0.01 parts by mass or more and 10.00 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the toner particles.
(Structure 7) The toner according to any one of Structures 1 to 6, wherein the titanate compound fine particles are strontium titanate particles or calcium titanate particles.
(Structure 8) The toner according to any one of Structures 1 to 7, wherein the content of the titanic acid compound fine particles is 0.05 parts by mass or more and 2.0 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the toner particles.
(Structure 9) The number average particle diameter A of the silica fine particles is relative to the number average particle diameter B of the titanic acid compound fine particles.
A>B
The toner according to any one of configurations 1 to 8.
(Structure 10) The silica fine particles have a moisture adsorption amount of 0.01 cm 3 /m 2 or more and 0.1 cm 3 /m 2 or less per 1 m 2 of BET specific surface area at a temperature of 30° C. and a relative humidity of 80 % . The toner according to any one of configurations 1 to 9.
(Structure 11) In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, a peak PQ corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by the above formula (3) is observed; When the area of PQ is SQ, the SD1, the SD2 and the SQ are
(SD1+SD2)/SQ×100≧1.0
The filling,
Using the SD1, SD2 and SQ obtained from the solid 29 Si-NMR DD/MAS measurement of the silica fine particles, the following formula:
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100
Ca calculated from
The area SD1w of the peak PD1w corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the above formula (1) obtained from DD/MAS measurement of solid 29 Si-NMR of silica fine particles after washing with hexane and the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure represented by the above formula (2), and the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by the above formula (3). Using the area SQw of the corresponding peak PQw, the following formula:
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100
Cb calculated from
(Ca-Cb)/Ca×100≦30
The filling,
Structures 1 to 10, wherein the silica fine particles have a moisture adsorption amount of 0.01 cm 3 /m 2 or more and 0.1 cm 3 /m 2 or less per 1 m 2 of BET specific surface area at a temperature of 30° C. and a relative humidity of 80%. The toner described in any of the above.
(Structure 12) A charging step of charging the surface of a photoreceptor, an electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the charged photoreceptor, and a step of developing the electrostatic latent image with toner to form the electrostatic latent image on the photoreceptor. A developing step for forming a toner image on the surface, a transfer step for transferring the toner image onto a recording medium, a fixing step for fixing the toner image on the recording medium, and a cleaning blade is brought into contact with the photoreceptor, and the toner image is transferred onto the photoreceptor. An image forming method comprising: a cleaning step of removing residual toner;
The toner has toner particles and an external additive on the surface of the toner particles,
The external additive has silica fine particles and titanic acid compound fine particles,
The silica fine particles are surface-treated treated silica fine particles,
In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, there is a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the above formula (1), and a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by the above formula (2). A peak PD2 corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure is observed, and when the area of the peak PD1 is SD1 and the area of the peak PD2 is SD2, the SD1 and the SD2 are
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
The filling,
The number average particle diameter of the primary particles of the titanate compound fine particles is 10 nm or more and 100 nm or less,
An image forming method characterized in that the primary particles of the titanic acid compound fine particles have an average circularity of 0.700 or more and 1.00 or less.

以上、本開示の基本的な構成と特色について述べたが、以下、実施例に基づいて具体的に本開示について説明する。しかしながら、本開示は何らこれに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り部及び%は、質量基準である。 The basic configuration and features of the present disclosure have been described above, and the present disclosure will be specifically described below based on examples. However, the present disclosure is not limited thereto in any way. Note that unless otherwise specified, parts and percentages are based on mass.

<結着樹脂1の製造例>
・ビスフェノールAエチレンオキサイド(2.2モル付加物): 50.0モル部
・ビスフェノールAプロピレンオキサイド(2.2モル付加物): 50.0モル部
・テレフタル酸: 90.0モル部
・無水トリメリット酸: 10.0モル部
上記ポリエステルユニットを構成するモノマー100質量部をチタンテトラブトキシド500ppmと共に5リットルオートクレーブに混合した。
<Production example of binder resin 1>
・Bisphenol A ethylene oxide (2.2 mol adduct): 50.0 mol parts ・Bisphenol A propylene oxide (2.2 mol adduct): 50.0 mol parts ・Terephthalic acid: 90.0 mol parts ・Trianhydride Mellitic acid: 10.0 parts by mole 100 parts by mass of monomers constituting the above polyester unit were mixed in a 5-liter autoclave with 500 ppm of titanium tetrabutoxide.

そこに、還流冷却器、水分分離装置、N2ガス導入管、温度計及び撹拌装置を付し、オートクレーブ内にN2ガスを導入しながら230℃で縮重合反応を行った。所望の軟化点になるように反応時間を調整し、反応終了後、容器から取り出し、冷却、粉砕して結着樹脂1を得た。結着樹脂1の軟化点は130℃、Tgは57℃であった。 The autoclave was equipped with a reflux condenser, a water separator, a N 2 gas introduction tube, a thermometer, and a stirring device, and a polycondensation reaction was carried out at 230° C. while introducing N 2 gas into the autoclave. The reaction time was adjusted to reach the desired softening point, and after the reaction was completed, the mixture was taken out of the container, cooled, and crushed to obtain a binder resin 1. Binder Resin 1 had a softening point of 130°C and a Tg of 57°C.

軟化点は、以下のようにして測定した。 The softening point was measured as follows.

(軟化点の測定)
軟化点の測定は、定荷重押し出し方式の細管式レオメータ「流動特性評価装置 フローテスターCFT-500D」(島津製作所社製)を用い、装置付属のマニュアルに従って行う。本装置では、測定試料の上部からピストンによって一定荷重を加えつつ、シリンダに充填した測定試料を昇温させて溶融し、シリンダ底部のダイから溶融された測定試料を押し出し、この際のピストン降下量と温度との関係を示す流動曲線を得ることができる。
(Measurement of softening point)
The softening point is measured using a constant-load extrusion type capillary rheometer "Flow Characteristic Evaluation Device Flow Tester CFT-500D" (manufactured by Shimadzu Corporation) according to the manual attached to the device. In this device, a constant load is applied from the top of the measurement sample by a piston, the temperature of the measurement sample filled in the cylinder is raised and melted, and the molten measurement sample is pushed out from the die at the bottom of the cylinder. A flow curve can be obtained that shows the relationship between temperature and temperature.

「流動特性評価装置 フローテスターCFT-500D」に付属のマニュアルに記載の「1/2法における溶融温度」を軟化点とする。 The "melting temperature in the 1/2 method" described in the manual attached to the "Flow Tester CFT-500D" is defined as the softening point.

なお、1/2法における溶融温度とは、次のようにして算出されたものである。 Note that the melting temperature in the 1/2 method is calculated as follows.

まず、流出が終了した時点におけるピストンの降下量Smaxと、流出が開始した時点におけるピストンの降下量Sminとの差の1/2を求める(これをXとする。X=(Smax-Smin)/2)。そして、流動曲線においてピストンの降下量がXとSminの和となるときの流動曲線の温度が、1/2法における溶融温度である。 First, find 1/2 of the difference between the piston descent amount Smax at the time when the outflow ends and the piston descent amount Smin at the time the outflow starts (this is set as X. X = (Smax - Smin) / 2). The temperature of the flow curve when the amount of descent of the piston in the flow curve becomes the sum of X and Smin is the melting temperature in the 1/2 method.

測定試料は、約1.3gのサンプルを、25℃の環境下で、錠剤成型圧縮機(例えば、NT-100H、エヌピーエーシステム社製)を用いて10MPaで、60秒間圧縮成型し、直径約8mmの円柱状としたものを用いる。CFT-500Dの測定条件は、以下の通りである。
試験モード:昇温法
開始温度:50℃
到達温度:200℃
測定間隔:1.0℃
昇温速度:4.0℃/min
ピストン断面積:1.000cm2
試験荷重(ピストン荷重):10.0kgf/cm2(0.9807MPa)
予熱時間:300秒
ダイの穴の直径:1.0mm
ダイの長さ:1.0mm
The measurement sample was made by compression molding approximately 1.3 g of sample at 10 MPa for 60 seconds in an environment of 25° C. using a tablet molding and compressing machine (for example, NT-100H, manufactured by NP Systems), and having a diameter of approximately An 8 mm cylindrical piece is used. The measurement conditions of CFT-500D are as follows.
Test mode: Heating method Starting temperature: 50℃
Achieved temperature: 200℃
Measurement interval: 1.0℃
Temperature increase rate: 4.0℃/min
Piston cross-sectional area: 1.000cm 2
Test load (piston load): 10.0kgf/cm 2 (0.9807MPa)
Preheating time: 300 seconds Die hole diameter: 1.0mm
Die length: 1.0mm

<シリカ微粒子1の製造例>
個数平均粒径120nmのフュームドシリカ(シリカ微粒子基体)500gを、反応容器に入れ、窒素パージ下で加熱撹拌を行い、反応容器内の温度が330℃になるように制御した。
<Production example of silica fine particles 1>
500 g of fumed silica (silica fine particle base) having a number average particle diameter of 120 nm was placed in a reaction vessel, heated and stirred under nitrogen purge, and the temperature inside the reaction vessel was controlled to be 330°C.

次に、表面処理剤として、オクタメチルシクロテトラシロキサンの蒸気を、反応容器内に8g/分で60分間供給した。その後、120分間、加熱撹拌を行うことで、シリカ微粒子基体の表面処理を行った。その後、未反応の表面処理剤を除去するために反応容器内を窒素パージした後、シリカ微粒子1を得た。得られたシリカ微粒子1の物性を表2に示す。 Next, as a surface treatment agent, vapor of octamethylcyclotetrasiloxane was supplied into the reaction vessel at a rate of 8 g/min for 60 minutes. Thereafter, the silica fine particle substrate was surface-treated by heating and stirring for 120 minutes. Thereafter, the inside of the reaction vessel was purged with nitrogen to remove unreacted surface treatment agent, and then silica fine particles 1 were obtained. Table 2 shows the physical properties of the obtained silica fine particles 1.

<シリカ微粒子2~4の製造例>
表1に示すような個数平均粒径のフュームドシリカに対し、表1に示すように表面処理剤及び処理条件を変更した以外は、シリカ微粒子1と同様にして製造を行った。得られたシリカ微粒子2~4の物性を表2に示す。
<Production example of silica fine particles 2 to 4>
Fumed silica having the number average particle size shown in Table 1 was produced in the same manner as Silica Fine Particles 1, except that the surface treatment agent and treatment conditions were changed as shown in Table 1. Table 2 shows the physical properties of the obtained silica fine particles 2 to 4.

<シリカ微粒子5の製造例>
個数平均粒径200nmのフュームドシリカ(シリカ微粒子基体)500gを、反応容器に入れ、窒素パージ下で加熱撹拌を行い、反応容器内の温度が300℃になるように制御した。
<Production example of silica fine particles 5>
500 g of fumed silica (silica fine particle substrate) having a number average particle diameter of 200 nm was placed in a reaction vessel, heated and stirred under nitrogen purge, and the temperature inside the reaction vessel was controlled to be 300°C.

次に、表面処理剤として、オクタメチルシクロテトラシロキサンの蒸気を、反応容器内に8g/分で60分間供給した。その後、120分間、加熱撹拌を行うことで、シリカ微粒子基体の表面処理を行った。その後、未反応の表面処理剤を除去するために反応容器内を窒素パージした。 Next, as a surface treatment agent, vapor of octamethylcyclotetrasiloxane was supplied into the reaction vessel at a rate of 8 g/min for 60 minutes. Thereafter, the silica fine particle substrate was surface-treated by heating and stirring for 120 minutes. Thereafter, the inside of the reaction vessel was purged with nitrogen to remove unreacted surface treatment agent.

次に、表面処理剤として、ポリジメチルシロキサン(温度25℃における動粘度:50mm2/s、平均繰り返し単位数n=60)15gをヘキサン150gで希釈した溶液を、スプレー噴霧によって供給した。その後、120分間、加熱撹拌を行うことでシリカ微粒子表面処理を行い、シリカ微粒子5を得た。得られたシリカ微粒子5の物性を表2に示す。 Next, as a surface treatment agent, a solution prepared by diluting 15 g of polydimethylsiloxane (kinematic viscosity at 25° C.: 50 mm 2 /s, average number of repeating units n=60) with 150 g of hexane was supplied by spraying. Thereafter, the silica fine particles were surface-treated by heating and stirring for 120 minutes to obtain silica fine particles 5. Table 2 shows the physical properties of the obtained silica fine particles 5.

<シリカ微粒子6の製造例>
個数平均粒径300nmのフュームドシリカ(シリカ微粒子基体)500gを、反応容器に入れ、窒素パージ下で加熱撹拌を行い、反応容器内の温度が330℃になるように制御した。
<Production example of silica fine particles 6>
500 g of fumed silica (silica fine particle base) having a number average particle diameter of 300 nm was placed in a reaction vessel, heated and stirred under nitrogen purge, and the temperature inside the reaction vessel was controlled to be 330°C.

次に、表面処理剤として、ポリジメチルシロキサン(温度25℃における動粘度:50mm2/s、平均繰り返し単位数n=60)25gをヘキサン250gで希釈した溶液を、スプレー噴霧によって供給した。その後、30分間、加熱撹拌を行うことでシリカ微粒子基体の表面処理を行い、シリカ微粒子6を得た。得られたシリカ微粒子6の物性を表2に示す。 Next, as a surface treatment agent, a solution prepared by diluting 25 g of polydimethylsiloxane (kinematic viscosity at 25° C.: 50 mm 2 /s, average number of repeating units n=60) with 250 g of hexane was supplied by spraying. Thereafter, the silica fine particle substrate was surface-treated by heating and stirring for 30 minutes to obtain silica fine particles 6. Table 2 shows the physical properties of the obtained silica fine particles 6.

<シリカ微粒子7~10の製造例>
表1に示すような個数平均粒径のフュームドシリカに対し、表1に示すように表面処理剤及び処理条件を変更した以外は、シリカ微粒子6と同様にして製造を行い、シリカ微粒子7~10を得た。得られたシリカ微粒子7~10の物性を表2に示す。
<Production example of silica fine particles 7 to 10>
Fumed silica having the number average particle size shown in Table 1 was produced in the same manner as Silica Fine Particle 6, except that the surface treatment agent and treatment conditions were changed as shown in Table 1. Got 10. Table 2 shows the physical properties of the obtained silica fine particles 7 to 10.

<シリカ微粒子11の製造例>
表1に示すような個数平均粒径のフュームドシリカに対し、表1に示すように表面処理条件を変更した以外は、シリカ微粒子1と同様にして製造を行った。得られたシリカ微粒子11の物性を表2に示す。
<Production example of silica fine particles 11>
Fumed silica having the number average particle diameter as shown in Table 1 was produced in the same manner as Silica Fine Particles 1, except that the surface treatment conditions were changed as shown in Table 1. Table 2 shows the physical properties of the obtained silica fine particles 11.

Figure 2024025273000008
Figure 2024025273000008

表1中、処理剤量(部)は、シリカ微粒子基体100質量部に対する表面処理剤の質量部数を示す。 In Table 1, the amount of treatment agent (parts) indicates the number of parts by mass of the surface treatment agent relative to 100 parts by mass of the silica fine particle substrate.

Figure 2024025273000009
Figure 2024025273000009

表2中、SD1は、D1単位構造を有するケイ素原子に対応するピークの面積を示し、SD2は、D2単位構造を有するケイ素原子に対応するピークの面積を示し、Caは(SD1+SD2)/SQ×100であり、減少率ΔC(%)は、ヘキサン洗浄前に対するヘキサン洗浄後のシロキサン鎖の存在量の減少率を示す。 In Table 2, SD1 indicates the area of the peak corresponding to the silicon atom having the D1 unit structure, SD2 indicates the area of the peak corresponding to the silicon atom having the D2 unit structure, and Ca is (SD1+SD2)/SQ× 100, and the reduction rate ΔC (%) indicates the reduction rate of the amount of siloxane chains present after hexane washing compared to before hexane washing.

<チタン酸化合物微粒子1の製造例>
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーを、アルカリ水溶液で上澄み液の電気伝導度が50μS/cmになるまで洗浄して、不純物を低減、精製した。次に、前記含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、pHを0.7に調整してチタニアゾル分散液を得た。
<Production example of titanate compound fine particles 1>
A hydrous titanium oxide slurry obtained by hydrolyzing a titanyl sulfate aqueous solution was washed with an alkaline aqueous solution until the electrical conductivity of the supernatant liquid became 50 μS/cm to reduce impurities and purify it. Next, hydrochloric acid was added to the hydrous titanium oxide slurry to adjust the pH to 0.7 to obtain a titania sol dispersion.

前記チタニアゾル分散液2.2モル(酸化チタン換算)に対し、1.3倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン換算で1.1モル/Lになるように純水を加えた。 A 1.3-fold molar amount of an aqueous strontium chloride solution was added to 2.2 moles (in terms of titanium oxide) of the titania sol dispersion, and the mixture was placed in a reaction vessel and replaced with nitrogen gas. Furthermore, pure water was added so that the concentration was 1.1 mol/L in terms of titanium oxide.

次に、撹拌混合し、90℃に加温した後、超音波振動を加えながら、10N水酸化ナトリウム水溶液440mLを15分かけて添加し、その後、20分間反応を行った。反応後のスラリーに5℃の純水を加えて30℃以下になるまで急冷した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーにpH5.0の塩酸水溶液を加えて1時間撹拌し、炭酸ストロンチウムを溶解、除去した後、純水で洗浄を繰り返した。 Next, after stirring and mixing and heating to 90° C., 440 mL of a 10N aqueous sodium hydroxide solution was added over 15 minutes while applying ultrasonic vibration, and the mixture was reacted for 20 minutes. After the reaction, pure water at 5°C was added to the slurry and the slurry was rapidly cooled to 30°C or lower, and then the supernatant liquid was removed. Further, an aqueous hydrochloric acid solution having a pH of 5.0 was added to the slurry and stirred for 1 hour to dissolve and remove strontium carbonate, followed by repeated washing with pure water.

次いで、前記スラリーに、pH3.0の塩酸水溶液を加えた後、スラリーの固形分に対して7.0質量%のイソブチルトリメトキシシランを添加して10時間撹拌した。その後、水酸化ナトリウム水溶液にて中和して、ヌッチェで濾過を行い、純水で洗浄した。得られたケーキを乾燥し、チタン酸化合物微粒子1を得た。物性を表3に示す。 Next, an aqueous hydrochloric acid solution with a pH of 3.0 was added to the slurry, and then 7.0% by mass of isobutyltrimethoxysilane based on the solid content of the slurry was added and stirred for 10 hours. Thereafter, it was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, filtered through a Nutsche filter, and washed with pure water. The obtained cake was dried to obtain titanic acid compound fine particles 1. The physical properties are shown in Table 3.

<チタン酸化合物微粒子2の製造例>
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーを、アルカリ水溶液で上澄み液の電気伝導度が50μS/cmになるまで洗浄して、不純物を低減、精製した。次に、前記含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、pHを0.7に調整してチタニアゾル分散液を得た。
<Production example of titanic acid compound fine particles 2>
A hydrous titanium oxide slurry obtained by hydrolyzing a titanyl sulfate aqueous solution was washed with an alkaline aqueous solution until the electrical conductivity of the supernatant liquid became 50 μS/cm to reduce impurities and purify it. Next, hydrochloric acid was added to the hydrous titanium oxide slurry to adjust the pH to 0.7 to obtain a titania sol dispersion.

前記チタニアゾル分散液2.0モル(酸化チタン換算)に対し、1.2倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン濃度で1.0モル/Lになるように純水を加えた。 A 1.2-fold mole amount of strontium chloride aqueous solution was added to 2.0 moles (in terms of titanium oxide) of the titania sol dispersion, and the mixture was placed in a reaction vessel and replaced with nitrogen gas. Furthermore, pure water was added so that the titanium oxide concentration was 1.0 mol/L.

次に、撹拌混合し、85℃に加温した後、超音波振動を加えながら、5N水酸化ナトリウム水溶液800mLを20分かけて添加し、その後、20分間反応を行った。反応後のスラリーに5℃の純水を加えて30℃以下になるまで急冷した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーにpH5.0の塩酸水溶液を加えて1時間撹拌し、炭酸ストロンチウムを溶解、除去した後、純水で洗浄を繰り返した。 Next, after stirring and mixing and heating to 85° C., 800 mL of a 5N aqueous sodium hydroxide solution was added over 20 minutes while applying ultrasonic vibration, and the mixture was reacted for 20 minutes. After the reaction, pure water at 5°C was added to the slurry and the slurry was rapidly cooled to 30°C or lower, and then the supernatant liquid was removed. Further, an aqueous hydrochloric acid solution having a pH of 5.0 was added to the slurry and stirred for 1 hour to dissolve and remove strontium carbonate, followed by repeated washing with pure water.

次いで、前記スラリーに、pH3.0の塩酸水溶液を加えた後、スラリーの固形分に対して30.0質量%のイソブチルトリメトキシシランを添加して10時間撹拌した。その後、水酸化ナトリウム水溶液にて中和して、ヌッチェで濾過を行い、純水で洗浄した。得られたケーキを乾燥し、チタン酸化合物微粒子2を得た。物性を表3に示す。 Next, an aqueous hydrochloric acid solution with a pH of 3.0 was added to the slurry, and then 30.0% by mass of isobutyltrimethoxysilane based on the solid content of the slurry was added and stirred for 10 hours. Thereafter, it was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, filtered through a Nutsche filter, and washed with pure water. The obtained cake was dried to obtain titanic acid compound fine particles 2. The physical properties are shown in Table 3.

<チタン酸化合物微粒子3の製造例>
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーを、アルカリ水溶液で上澄み液の電気伝導度が100μS/cmになるまで洗浄して、不純物を低減、精製した。次に、前記含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、pHを0.7に調整してチタニアゾル分散液を得た。
<Production example of titanic acid compound fine particles 3>
A hydrous titanium oxide slurry obtained by hydrolyzing an aqueous titanyl sulfate solution was washed with an aqueous alkaline solution until the electrical conductivity of the supernatant became 100 μS/cm to reduce impurities and purify it. Next, hydrochloric acid was added to the hydrous titanium oxide slurry to adjust the pH to 0.7 to obtain a titania sol dispersion.

前記チタニアゾル分散液1.4モル(酸化チタン換算)に対し、1.1倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン濃度で0.7モル/Lになるように純水を加えた。 A 1.1-fold mole amount of strontium chloride aqueous solution was added to 1.4 moles (in terms of titanium oxide) of the titania sol dispersion, and the mixture was placed in a reaction vessel and replaced with nitrogen gas. Furthermore, pure water was added so that the titanium oxide concentration was 0.7 mol/L.

次に、撹拌混合し、80℃に加温した後、超音波振動を加えながら、20N水酸化ナトリウム水溶液500mLを5分かけて添加し、その後、20分間反応を行った。反応後のスラリーを1時間かけて30℃以下になるまで除冷した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーにpH5.0の塩酸水溶液を加えて1時間撹拌し、炭酸ストロンチウムを溶解、除去した後、純水で洗浄を繰り返した。 Next, after stirring and mixing and heating to 80° C., 500 mL of a 20N aqueous sodium hydroxide solution was added over 5 minutes while applying ultrasonic vibration, and the mixture was reacted for 20 minutes. After the reaction slurry was slowly cooled down to 30° C. or lower over 1 hour, the supernatant liquid was removed. Further, an aqueous hydrochloric acid solution having a pH of 5.0 was added to the slurry and stirred for 1 hour to dissolve and remove strontium carbonate, followed by repeated washing with pure water.

次いで、前記スラリーに、pH3.0の塩酸水溶液を加えた後、スラリーの固形分に対して2.0質量%のn-オクチルトリエトキシシランを添加して10時間撹拌した。その後、水酸化ナトリウム水溶液にて中和して、ヌッチェで濾過を行い、純水で洗浄した。得られたケーキを乾燥し、チタン酸化合物微粒子3を得た。物性を表3に示す。 Next, an aqueous hydrochloric acid solution with a pH of 3.0 was added to the slurry, and then 2.0% by mass of n-octyltriethoxysilane based on the solid content of the slurry was added and stirred for 10 hours. Thereafter, it was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, filtered through a Nutsche filter, and washed with pure water. The obtained cake was dried to obtain titanic acid compound fine particles 3. The physical properties are shown in Table 3.

<チタン酸化合物微粒子4の製造例>
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーを、アルカリ水溶液で上澄み液の電気伝導度が50μS/cmになるまで洗浄して、不純物を低減、精製した。次に、前記含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、pHを0.7に調整してチタニアゾル分散液を得た。
<Production example of titanic acid compound fine particles 4>
A hydrous titanium oxide slurry obtained by hydrolyzing a titanyl sulfate aqueous solution was washed with an alkaline aqueous solution until the electrical conductivity of the supernatant liquid became 50 μS/cm to reduce impurities and purify it. Next, hydrochloric acid was added to the hydrous titanium oxide slurry to adjust the pH to 0.7 to obtain a titania sol dispersion.

前記チタニアゾル分散液2.6モル(酸化チタン換算)に対し、1.2倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン濃度で1.3モル/Lになるように純水を加えた。 A 1.2-fold mole amount of strontium chloride aqueous solution was added to 2.6 moles (in terms of titanium oxide) of the titania sol dispersion, and the mixture was placed in a reaction vessel and replaced with nitrogen gas. Furthermore, pure water was added so that the titanium oxide concentration was 1.3 mol/L.

次に、撹拌混合し、95℃に加温した後、超音波振動を加えながら、15N水酸化ナトリウム水溶液312mLを5分かけて添加し、その後、20分間反応を行った。反応後のスラリーに5℃の純水を加えて30℃以下になるまで急冷した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーにpH5.0の塩酸水溶液を加えて1時間撹拌し、炭酸ストロンチウムを溶解、除去した後、純水で洗浄を繰り返した。 Next, after stirring and mixing and heating to 95° C., 312 mL of a 15N aqueous sodium hydroxide solution was added over 5 minutes while applying ultrasonic vibration, and then the reaction was carried out for 20 minutes. After the reaction, pure water at 5°C was added to the slurry and the slurry was rapidly cooled to 30°C or lower, and then the supernatant liquid was removed. Further, an aqueous hydrochloric acid solution having a pH of 5.0 was added to the slurry and stirred for 1 hour to dissolve and remove strontium carbonate, followed by repeated washing with pure water.

次いで、前記スラリーに、pH3.0の塩酸水溶液を加えた後、スラリーの固形分に対して5.0質量%のイソブチルトリメトキシシランを添加して10時間撹拌した。その後、水酸化ナトリウム水溶液にて中和して、ヌッチェで濾過を行い、純水で洗浄した。得られたケーキを乾燥し、チタン酸化合物微粒子4を得た。物性を表3に示す。 Next, an aqueous hydrochloric acid solution with a pH of 3.0 was added to the slurry, and then 5.0% by mass of isobutyltrimethoxysilane based on the solid content of the slurry was added and stirred for 10 hours. Thereafter, it was neutralized with an aqueous sodium hydroxide solution, filtered through a Nutsche filter, and washed with pure water. The obtained cake was dried to obtain titanic acid compound fine particles 4. The physical properties are shown in Table 3.

<チタン酸化合物微粒子5の製造例>
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーを、アルカリ水溶液で上澄み液の電気伝導度が100μS/cmになるまで洗浄して、不純物を低減、精製した。次に、前記含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、pHを0.7に調整してチタニアゾル分散液を得た。
<Production example of titanic acid compound fine particles 5>
A hydrous titanium oxide slurry obtained by hydrolyzing an aqueous titanyl sulfate solution was washed with an aqueous alkaline solution until the electrical conductivity of the supernatant became 100 μS/cm to reduce impurities and purify it. Next, hydrochloric acid was added to the hydrous titanium oxide slurry to adjust the pH to 0.7 to obtain a titania sol dispersion.

前記チタニアゾル分散液を0.6モル(酸化チタン換算)に対し、1.0倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン濃度で0.3モル/Lになるように純水を加えた。 An aqueous solution of strontium chloride in an amount of 1.0 times the mole of the titania sol dispersion was added to 0.6 moles (in terms of titanium oxide), and the mixture was placed in a reaction vessel, and the atmosphere was purged with nitrogen gas. Furthermore, pure water was added so that the titanium oxide concentration was 0.3 mol/L.

次に、撹拌混合し、70℃に加温した後、2N水酸化ナトリウム水溶液750mLを120分かけて添加し、その後、20分間反応を行った。反応後のスラリーを1時間かけて30℃以下になるまで除冷した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーに対して純水で洗浄を行い、乾燥した。 Next, after stirring and mixing and heating to 70° C., 750 mL of a 2N aqueous sodium hydroxide solution was added over 120 minutes, followed by a reaction for 20 minutes. After the reaction slurry was slowly cooled down to 30° C. or lower over 1 hour, the supernatant liquid was removed. Furthermore, the slurry was washed with pure water and dried.

次いで、前記無機微粒子を密閉型高速撹拌機に入れ、窒素置換しながら撹拌した。スラリーの固形分に対して2質量%のジメチルシリコーンオイルをヘキサンで6.5倍に希釈した処理剤を撹拌機内に噴霧した。処理剤を全量噴霧した後、撹拌しながら撹拌機内を350℃に昇温し、3時間撹拌した。撹拌しながら撹拌機内の温度を室温に戻し取り出した後、ピンミルで解砕処理をして、チタン酸化合物微粒子5を得た。物性を表3に示す。 Next, the inorganic fine particles were placed in a closed high-speed stirrer and stirred while purging with nitrogen. A processing agent prepared by diluting 2% by mass of dimethyl silicone oil with hexane to 6.5 times the solid content of the slurry was sprayed into the stirrer. After spraying the entire amount of the treatment agent, the temperature inside the stirrer was raised to 350° C. while stirring, and the mixture was stirred for 3 hours. While stirring, the temperature inside the stirrer was returned to room temperature and the mixture was taken out, followed by crushing with a pin mill to obtain titanate compound fine particles 5. The physical properties are shown in Table 3.

<チタン酸化合物微粒子6の製造例>
硫酸チタニル水溶液を加水分解して得られた含水酸化チタンスラリーを、アルカリ水溶液で上澄み液の電気伝導度が100μS/cmになるまで洗浄して、不純物を低減、精製した。次に、前記含水酸化チタンのスラリーに塩酸を添加して、pHを0.7に調整してチタニアゾル分散液を得た。
<Production example of titanic acid compound fine particles 6>
A hydrous titanium oxide slurry obtained by hydrolyzing an aqueous titanyl sulfate solution was washed with an aqueous alkaline solution until the electrical conductivity of the supernatant became 100 μS/cm to reduce impurities and purify it. Next, hydrochloric acid was added to the hydrous titanium oxide slurry to adjust the pH to 0.7 to obtain a titania sol dispersion.

前記チタニアゾル分散液を0.6モル(酸化チタン換算)に対し、1.0倍モル量の塩化ストロンチウム水溶液を加えて反応容器に入れ、窒素ガス置換した。さらに、酸化チタン濃度で0.3モル/Lになるように純水を加えた。 An aqueous solution of strontium chloride in an amount of 1.0 times the mole of the titania sol dispersion was added to 0.6 moles (in terms of titanium oxide), and the mixture was placed in a reaction vessel, and the atmosphere was purged with nitrogen gas. Furthermore, pure water was added so that the titanium oxide concentration was 0.3 mol/L.

次に、撹拌混合し、70℃に加温した後、2N水酸化ナトリウム水溶液750mLを120分かけて添加し、その後、20分間反応を行った。反応後のスラリーを1時間かけて30℃以下になるまで除冷した後、上澄み液を除去した。さらに、前記スラリーに対して純水で洗浄を行い、乾燥した。 Next, after stirring and mixing and heating to 70° C., 750 mL of a 2N aqueous sodium hydroxide solution was added over 120 minutes, followed by a reaction for 20 minutes. After the reaction slurry was slowly cooled down to 30° C. or lower over 1 hour, the supernatant liquid was removed. Furthermore, the slurry was washed with pure water and dried.

次いで、前記無機微粒子を密閉型高速撹拌機に入れ、窒素置換しながら撹拌した。スラリーの固形分に対して2質量%のジメチルシリコーンオイルをヘキサンで6.5倍に希釈した処理剤を撹拌機内に噴霧した。処理剤を全量噴霧した後、撹拌しながら撹拌機内を350℃に昇温し、3時間撹拌した。撹拌しながら撹拌機内の温度を室温に戻し取り出して、チタン酸化合物微粒子6を得た。物性を表3に示す。 Next, the inorganic fine particles were placed in a closed high-speed stirrer and stirred while purging with nitrogen. A processing agent prepared by diluting 2% by mass of dimethyl silicone oil with hexane to 6.5 times the solid content of the slurry was sprayed into the stirrer. After spraying the entire amount of the treatment agent, the temperature inside the stirrer was raised to 350° C. while stirring, and the mixture was stirred for 3 hours. While stirring, the temperature inside the stirrer was returned to room temperature and the mixture was taken out to obtain titanic acid compound fine particles 6. The physical properties are shown in Table 3.

Figure 2024025273000010
Figure 2024025273000010

<トナー1の製造例>
・結着樹脂1 100質量部
・パラフィンワックス(融点78℃) 4質量部
・C.I.ピグメントブルー 15:3 4質量部
上記材料をヘンシェルミキサー(商品名:FM-10C型、日本コークス(株)製)で予備混合した後、二軸混練押し出し機によって、160℃で溶融混練した。
<Production example of toner 1>
・Binder resin 1 100 parts by mass ・Paraffin wax (melting point 78°C) 4 parts by mass ・C. I. Pigment Blue 15:3 4 parts by mass The above materials were premixed using a Henschel mixer (trade name: FM-10C type, manufactured by Nippon Coke Co., Ltd.), and then melt-kneaded at 160° C. using a twin-screw kneading extruder.

得られた混練物を冷却し、ハンマーミルで粗粉砕した後、ターボミルで微粉砕した。 The obtained kneaded product was cooled, coarsely pulverized with a hammer mill, and then finely pulverized with a turbo mill.

得られた微粉砕物を、コアンダ効果を利用した多分割分級機を用いて分級し、重量平均粒径(D4)6.5μmのトナー母粒子1を得た。 The obtained finely pulverized product was classified using a multi-division classifier utilizing the Coanda effect to obtain toner base particles 1 having a weight average particle diameter (D4) of 6.5 μm.

(1回目の外添処理)
次に、得られたトナー母粒子1に対し、下記のように1回目の外添処理としてシリカ微粒子1の外添を行った。
(First external addition treatment)
Next, silica fine particles 1 were externally added to the obtained toner base particles 1 as a first external addition treatment as described below.

・トナー母粒子1:100質量部
・シリカ微粒子1:3.0質量部
上記材料をヘンシェルミキサー(商品名:FM-10C型、日本コークス(株)製)を用いて、回転数67s-1(4000rpm)、回転時間2min、加熱温度は室温とした。
- Toner base particles 1: 100 parts by mass - Silica fine particles 1: 3.0 parts by mass The above materials were mixed using a Henschel mixer (product name: FM-10C type, manufactured by Nippon Coke Co., Ltd.) at a rotation speed of 67 s -1 ( 4000 rpm), the rotation time was 2 min, and the heating temperature was room temperature.

(トナー粒子の表面処理)
その後、図2で示す表面熱処理装置によって熱処理を行い、シリカ微粒子1の一部をトナー母粒子表面に埋没させた。表面熱処理装置の運転条件はフィード量=1.0kg/hrとし、熱風温度=180℃、熱風流量=1.4m3/min.、冷風温度E=3℃、冷風流量=1.2m3/minとした。
(Surface treatment of toner particles)
Thereafter, heat treatment was performed using a surface heat treatment apparatus shown in FIG. 2, so that a portion of the silica fine particles 1 was buried in the surface of the toner base particles. The operating conditions of the surface heat treatment equipment are: feed rate = 1.0 kg/hr, hot air temperature = 180°C, hot air flow rate = 1.4 m 3 /min. , cold air temperature E = 3°C, and cold air flow rate = 1.2 m 3 /min.

次に、コアンダ効果を利用した風力分級機(「エルボージェットラボEJ-L3」、日鉄鉱業社製)で、微粉及び粗粉を同時に分級除去してシリカ微粒子1を表面に埋没させたトナー粒子1を得た。 Next, a wind classifier using the Coanda effect ("Elbow Jet Lab EJ-L3", manufactured by Nippon Steel Mining Co., Ltd.) is used to simultaneously classify and remove fine powder and coarse powder to form toner particles with silica fine particles 1 embedded in the surface. I got 1.

(2回目の外添処理)
こうして得られた熱処理済のトナー粒子1に対し、下記のように2回目の外添処理としてシリカ微粒子の外添を行った。
・トナー粒子1: 100質量部
・シリカ微粒子1: 2.0質量部
・チタン酸化合物微粒子1: 1.2質量部
上記材料をヘンシェルミキサー(商品名:FM-10C型、日本コークス(株)製)を用いて、回転数67s-1(4000rpm)、回転時間2min、外添温度室温で混合した後、目開き54μmの超音波振動篩を通過させトナー1を得た。得られたトナー1のシリカ微粒子の埋没率を表4に示す。
(Second external addition treatment)
To the thus obtained heat-treated toner particles 1, silica fine particles were externally added as a second external addition treatment as described below.
- Toner particles 1: 100 parts by mass - Silica fine particles 1: 2.0 parts by mass - Titanic acid compound fine particles 1: 1.2 parts by mass The above materials were mixed in a Henschel mixer (product name: FM-10C type, manufactured by Nippon Coke Co., Ltd.) ), the mixture was mixed at a rotational speed of 67 s -1 (4000 rpm), a rotation time of 2 min, and an external addition temperature of room temperature, and then passed through an ultrasonic vibrating sieve with an opening of 54 μm to obtain Toner 1. Table 4 shows the embedding ratio of silica fine particles in the obtained Toner 1.

<トナー2~11の製造例>
1回目の外添処理、トナー粒子の表面処理および2回目の外添処理を、表4に示す処方および条件とする以外はトナー1の製造例と同様にして、トナー2~11を得た。トナー2~6のシリカ微粒子の埋没率も表4に示す。
<Production examples of toners 2 to 11>
Toners 2 to 11 were obtained in the same manner as in the production example of Toner 1, except that the first external addition treatment, the surface treatment of toner particles, and the second external addition treatment were performed under the formulation and conditions shown in Table 4. Table 4 also shows the embedding ratio of silica fine particles in Toners 2 to 6.

Figure 2024025273000011
Figure 2024025273000011

<磁性キャリアコア粒子1の製造例>
工程1(秤量・混合工程)
Fe23 68.3質量%
MnCO3 28.5質量%
Mg(OH)2 2.0質量%
SrCO3 1.2質量%
上記フェライト原材料を秤量し、フェライト原料80質量部に水20質量部を加え、その後、直径(φ)10mmのジルコニアを用いてボールミルで3時間湿式混合しスラリーを調製した。スラリーの固形分濃度は、80質量%とした。
<Production example of magnetic carrier core particles 1>
Process 1 (weighing/mixing process)
Fe 2 O 3 68.3% by mass
MnCO 3 28.5% by mass
Mg(OH) 2 2.0% by mass
SrCO 3 1.2% by mass
The above ferrite raw material was weighed, 20 parts by mass of water was added to 80 parts by mass of the ferrite raw material, and then wet-mixed for 3 hours in a ball mill using zirconia having a diameter (φ) of 10 mm to prepare a slurry. The solid content concentration of the slurry was 80% by mass.

工程2(仮焼成工程)
混合したスラリーをスプレードライヤー(大川原化工機社製)により乾燥した後、バッチ式電気炉で、窒素雰囲気下(酸素濃度1.0体積%)、温度1050℃で3.0時間焼成し、仮焼フェライトを作製した。
Process 2 (temporary firing process)
After drying the mixed slurry with a spray dryer (manufactured by Okawara Kakoki Co., Ltd.), it was calcined in a batch electric furnace at a temperature of 1050°C for 3.0 hours in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 1.0% by volume), and then calcined. Ferrite was produced.

工程3(粉砕工程)
仮焼フェライトをクラッシャーで0.5mm程度に粉砕した後に、水を加え、スラリーを調製した。スラリーの固形分濃度を70質量%とした。1/8インチのステンレスビーズを用いた湿式ボールミルで3時間粉砕し、スラリーを得た。さらにこのスラリーを直径1mmのジルコニアを用いた湿式ビーズミルで4時間粉砕し、体積基準の50%粒子径(D50)が1.3μmの仮焼フェライトスラリーを得た。
Process 3 (Crushing process)
After the calcined ferrite was crushed to about 0.5 mm using a crusher, water was added to prepare a slurry. The solid content concentration of the slurry was set to 70% by mass. The mixture was ground for 3 hours in a wet ball mill using 1/8 inch stainless steel beads to obtain a slurry. Further, this slurry was pulverized for 4 hours in a wet bead mill using zirconia with a diameter of 1 mm to obtain a calcined ferrite slurry having a volume-based 50% particle diameter (D50) of 1.3 μm.

工程4(造粒工程)
上記仮焼フェライトスラリー100質量部に対し、分散剤としてポリカルボン酸アンモニウム1.0部、バインダーとしてポリビニルアルコール1.5質量部を添加した後、スプレードライヤー(大川原化工機社製)で球状粒子に造粒、乾燥した。得られた造粒物に対して、粒度調整を行った後、ロータリー式電気炉を用いて700℃で2時間加熱し、分散剤やバインダーなどの有機物を除去した。
Process 4 (granulation process)
After adding 1.0 parts of ammonium polycarboxylate as a dispersant and 1.5 parts of polyvinyl alcohol as a binder to 100 parts by mass of the above calcined ferrite slurry, the mixture was dried into spherical particles using a spray dryer (manufactured by Okawara Kakoki Co., Ltd.). Granulated and dried. After adjusting the particle size of the obtained granules, they were heated at 700° C. for 2 hours using a rotary electric furnace to remove organic substances such as dispersants and binders.

工程5(焼成工程)
窒素雰囲気下(酸素濃度1.0体積%)で、室温から焼成温度(1100℃)になるまでの時間を2時間とし、温度1100℃で4時間保持し、焼成した。その後、8時間をかけて温度60℃まで降温し、窒素雰囲気から大気に戻し、温度40℃以下で取り出した。
Process 5 (baking process)
In a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 1.0% by volume), the time from room temperature to the firing temperature (1100°C) was 2 hours, and the temperature was maintained at 1100°C for 4 hours to perform firing. Thereafter, the temperature was lowered to 60°C over 8 hours, returned to the atmosphere from the nitrogen atmosphere, and taken out at a temperature of 40°C or lower.

工程6(選別工程)
凝集した粒子を解砕した後に、目開き150μmの篩で篩分して粗大粒子を除去、風力分級を行って微粉を除去し、さらに磁力選鉱により低磁力分を除去して多孔質磁性コア粒子を得た。
Process 6 (sorting process)
After crushing the aggregated particles, coarse particles are removed by sieving with a sieve with an opening of 150 μm, fine particles are removed by air classification, and low magnetic force components are removed by magnetic beneficiation to form porous magnetic core particles. I got it.

工程7(充填工程)
多孔質磁性コア粒子1を100質量部、混合撹拌機(ダルトン社製の万能撹拌機NDMV型)の撹拌容器内に入れ、60℃に温度を保ち、常圧でメチルシリコーンオリゴマー:95.0質量%、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン:5.0質量%からなる充填樹脂を5部滴下した。
Process 7 (filling process)
100 parts by mass of porous magnetic core particles 1 were placed in a stirring container of a mixing stirrer (all-purpose stirrer NDMV type manufactured by Dalton), the temperature was maintained at 60°C, and methyl silicone oligomer: 95.0 mass was added at normal pressure. %, γ-aminopropyltrimethoxysilane: 5 parts of a filled resin consisting of 5.0% by mass were added dropwise.

滴下終了後、時間を調整しながら撹拌を続け、70℃まで温度を上げ、各多孔質磁性コアの粒子内に樹脂組成物を充填した。 After the dropwise addition was completed, stirring was continued while adjusting the time, the temperature was raised to 70° C., and the resin composition was filled into the particles of each porous magnetic core.

冷却後得られた樹脂充填型磁性コア粒子を、回転可能な混合容器内にスパイラル羽根を有する混合機(杉山重工業社製のドラムミキサーUD-AT型)に移し、窒素雰囲気下で、2℃/分の昇温速度で、撹拌しながら140℃まで上昇させた。その後140℃で50分間加熱撹拌を続けた。 After cooling, the resin-filled magnetic core particles obtained were transferred to a mixer (drum mixer UD-AT type manufactured by Sugiyama Heavy Industries, Ltd.) having a spiral blade in a rotatable mixing container, and heated at 2°C/2°C under a nitrogen atmosphere. The temperature was raised to 140° C. with stirring at a temperature increase rate of 1.5 min. Thereafter, heating and stirring were continued at 140° C. for 50 minutes.

その後室温まで冷却し、樹脂が充填、硬化されたフェライト粒子を取り出し、磁力選鉱機を用いて、非磁性物を取り除いた。さらに、振動篩にて粗大粒子を取り除き樹脂が充填された磁性キャリアコア粒子1を得た。 Thereafter, it was cooled to room temperature, and the resin-filled and hardened ferrite particles were taken out, and non-magnetic materials were removed using a magnetic separator. Furthermore, coarse particles were removed using a vibrating sieve to obtain resin-filled magnetic carrier core particles 1.

(被覆樹脂の製造例)
・シクロヘキシルメタクリレートモノマー 26.8質量%
・メチルメタクリレートモノマー 0.2質量%
・メチルメタクリレートマクロモノマー 8.4質量%
(片末端にメタクリロイル基を有する重量平均分子量5000のマクロモノマー)
・トルエン 31.3質量%
・メチルエチルケトン 31.3質量%
・アゾビスイソブチロニトリル 2.0質量%
上記材料のうち、シクロヘキシルメタクリレートモノマー、メチルメタクリレートモノマー、メチルメタクリレートマクロモノマー、トルエン、及びメチルエチルケトンを、還流冷却器、温度計、窒素導入管及び撹拌装置を取り付けた四つ口のセパラブルフラスコに入れた。セパラブルフラスコ内に、窒素ガスを導入して充分に窒素雰囲気にした後、80℃まで加温し、アゾビスイソブチロニトリルを添加し、5時間還流して重合させた。
(Production example of coating resin)
・Cyclohexyl methacrylate monomer 26.8% by mass
・Methyl methacrylate monomer 0.2% by mass
・Methyl methacrylate macromonomer 8.4% by mass
(Macromonomer with a weight average molecular weight of 5000 having a methacryloyl group at one end)
・Toluene 31.3% by mass
・Methyl ethyl ketone 31.3% by mass
・Azobisisobutyronitrile 2.0% by mass
Of the above materials, cyclohexyl methacrylate monomer, methyl methacrylate monomer, methyl methacrylate macromonomer, toluene, and methyl ethyl ketone were placed in a four-necked separable flask equipped with a reflux condenser, thermometer, nitrogen inlet tube, and stirring device. . After nitrogen gas was introduced into the separable flask to create a sufficient nitrogen atmosphere, the mixture was heated to 80° C., azobisisobutyronitrile was added, and the mixture was refluxed for 5 hours for polymerization.

得られた反応物にヘキサンを注入して共重合体を沈殿析出させた。 Hexane was injected into the obtained reaction product to precipitate the copolymer.

得られた沈殿物を濾別後、真空乾燥して樹脂を得た。30質量部の該樹脂を、トルエン40質量部及びメチルエチルケトン30質量部の混合溶媒に溶解して、樹脂溶液(固形分濃度30%)を得た。 The obtained precipitate was filtered and dried under vacuum to obtain a resin. 30 parts by mass of the resin was dissolved in a mixed solvent of 40 parts by mass of toluene and 30 parts by mass of methyl ethyl ketone to obtain a resin solution (solid content concentration 30%).

(被覆樹脂溶液の調製)
・樹脂溶液(固形分濃度30%) 33.3質量%
・トルエン 66.4質量%
・カーボンブラック(Regal330;キャボット社製) 0.3質量%
(一次粒子の個数平均粒径:25nm、窒素吸着比表面積:94m2/g、DBP吸油量:75ml/100g)
上記材料を、ペイントシェーカーに投入し、直径0.5mmのジルコニアビーズを用いて、1時間分散を行った。得られた分散液を、5.0μmのメンブランフィルターで濾過を行い、被覆樹脂溶液を得た。
(Preparation of coating resin solution)
・Resin solution (solid content concentration 30%) 33.3% by mass
・Toluene 66.4% by mass
・Carbon black (Regal330; manufactured by Cabot Corporation) 0.3% by mass
(Number average particle diameter of primary particles: 25 nm, nitrogen adsorption specific surface area: 94 m 2 /g, DBP oil absorption: 75 ml/100 g)
The above materials were placed in a paint shaker and dispersed for 1 hour using zirconia beads with a diameter of 0.5 mm. The obtained dispersion liquid was filtered through a 5.0 μm membrane filter to obtain a coating resin solution.

<磁性キャリア1の製造例>
常温で維持されている真空脱気型ニーダーに、上記被覆樹脂溶液及び磁性キャリアコア粒子1を投入した(被覆樹脂溶液の投入量は、磁性キャリアコア粒子1を100質量部に対して、樹脂成分として2.5質量部とした)。
<Manufacturing example of magnetic carrier 1>
The above coating resin solution and magnetic carrier core particles 1 were charged into a vacuum degassing type kneader maintained at room temperature (the amount of coating resin solution charged was 100 parts by mass of magnetic carrier core particles 1, and the resin component (2.5 parts by mass).

投入後、回転速度30rpmで15分間撹拌し、溶媒が一定以上(80%)揮発した後、減圧混合しながら80℃まで昇温し、2時間かけてトルエンを留去した後に冷却した。 After the addition, the mixture was stirred at a rotational speed of 30 rpm for 15 minutes, and after a certain amount (80%) of the solvent had evaporated, the temperature was raised to 80° C. while mixing under reduced pressure, and the toluene was distilled off over 2 hours, followed by cooling.

得られた磁性キャリアを、磁力選鉱により低磁力品を分別し、開口70μmの篩を通した後、風力分級器で分級し、体積分布基準の50%粒径(D50)が38.2μmの磁性キャリア1を得た。 The obtained magnetic carrier was separated into low-magnetic products by magnetic separation, passed through a sieve with an opening of 70 μm, and then classified with an air classifier to obtain magnetic carriers with a 50% particle size (D50) based on volume distribution of 38.2 μm. I got career 1.

〔実施例1〕
<二成分現像剤1の調製>
トナー1と磁性キャリア1を、トナー濃度が8.0質量%になるように添加し、V型混合機(V-10型:株式会社徳寿製作所)を用いて、0.5s-1、回転時間5minの条件で混合して二成分現像剤1を調製した。
[Example 1]
<Preparation of two-component developer 1>
Toner 1 and magnetic carrier 1 were added so that the toner concentration was 8.0% by mass, and the rotation time was 0.5 s -1 using a V-type mixer (Model V-10: Tokuju Seisakusho Co., Ltd.). Two-component developer 1 was prepared by mixing for 5 minutes.

<評価>
得られた二成分現像剤1を用いて下記の画像形成装置にて以下の評価を行った。二成分現像剤1はいずれの評価もAであった。
<Evaluation>
Using the obtained two-component developer 1, the following evaluations were performed using the following image forming apparatus. Two-component developer 1 was rated A in all evaluations.

画像形成装置としてヤノン製フルカラー複写機imageRUNNERADVANCEC5560改造機を用いて、上記二成分系現像剤1を、画像形成装置のシアン用現像器に入れ、シアントナーボトルにトナー1を充てんして後述の評価を行った。 Using a modified Yanon full color copying machine imageRUNNERADVANCEC5560 as an image forming apparatus, the above two-component developer 1 was put into the cyan developing device of the image forming apparatus, and the cyan toner bottle was filled with toner 1, and the evaluation described below was carried out. went.

改造点は、現像器内部で過剰になった磁性キャリアを現像器から排出する機構を取り外したことと、画像形成速度がA4サイズで60枚/minであるのを80枚/minを出せるように改造した。また、クリーニングブレードの感光体に対する当接力は0.245N/cmに設定した。 The modifications were that the mechanism for discharging excess magnetic carrier inside the developing device was removed, and the image forming speed was increased from 60 sheets/min to 80 sheets/min for A4 size. Modified. Further, the contact force of the cleaning blade against the photoreceptor was set to 0.245 N/cm.

評価紙としては白色用紙(商品名:CS-814(A4、81.4g/m2)、キヤノンマーケティングジャパン社)を用いた。 As the evaluation paper, white paper (trade name: CS-814 (A4, 81.4 g/m 2 ), Canon Marketing Japan) was used.

[感光体傷の評価]
上記画像形成装置を用いて、温度10℃、湿度5%RH環境下において、A4横の印字率5%チャートを5枚間欠で100000枚出力した。その後、印字率30%のハーフトーン画像を出力した。一方で、感光体の表面上の傷を目視にて観察し、感光体の傷由来の画像欠陥の存在の判定を行った。
(評価基準)
A:感光体上の傷が画像不良として出ていない。
B:感光体上の傷が画像不良として出ている。
[Evaluation of photoreceptor scratches]
Using the above-mentioned image forming apparatus, 100,000 sheets of A4 horizontal 5% coverage charts were output intermittently on 5 sheets in an environment of a temperature of 10.degree. C. and a humidity of 5% RH. Thereafter, a halftone image with a printing rate of 30% was output. On the other hand, scratches on the surface of the photoreceptor were visually observed to determine the presence of image defects resulting from the scratches on the photoreceptor.
(Evaluation criteria)
A: Scratches on the photoreceptor did not appear as image defects.
B: Scratches on the photoreceptor appear as image defects.

[外添剤連れ周りゴーストの評価]
上記画像形成装置を用いて、常温低湿環境(温度23℃、湿度5%RH)において、A4横の印字率30%チャートを連続で100000枚出力した。その後、通紙方向に対して並行な縦帯と、縦帯以外の部分は白地部である画像を画像比率10%で100枚出力した。縦帯部分はFFh画像(ベタ画像)である。100枚通紙後、全面のハーフトーン画像(80h)を出力し、外添剤連れ周りゴーストの評価を行った。
[Evaluation of ghosts caused by external additives]
Using the above image forming apparatus, 100,000 sheets of A4 horizontal charts with a printing rate of 30% were continuously outputted in a normal temperature and low humidity environment (temperature: 23° C., humidity: 5% RH). Thereafter, 100 sheets of images were output at an image ratio of 10%, with vertical bands parallel to the paper feeding direction and areas other than the vertical bands being white. The vertical band portion is an FFh image (solid image). After passing 100 sheets, a halftone image (80h) of the entire surface was output, and ghosts caused by external additives were evaluated.

X-Riteカラー反射濃度計(500シリーズ:X-Rite社製)を使用し、ハーフトーン画像において、縦帯を出力していた部分と白地部を出力していた部分の画像濃度を測定し、両画像濃度の差Δから外添剤連れ周りゴーストを以下の基準で評価した。
(評価基準)
A:0.03未満
B:0.03以上0.06未満
C:0.06以上0.11未満
D:0.11以上
Using an X-Rite color reflection densitometer (500 series: manufactured by X-Rite), measure the image density of the halftone image in the area where vertical bands were output and the area where white background was output. Ghosts caused by external additives were evaluated based on the difference Δ between the two image densities based on the following criteria.
(Evaluation criteria)
A: Less than 0.03 B: 0.03 or more and less than 0.06 C: 0.06 or more and less than 0.11 D: 0.11 or more

[トナー融着]
上記画像形成装置を用いて、高温高湿環境(温度30℃、湿度80%RH)において、A4横の印字率30%チャートを連続で100000枚出力した。その後、A4評価紙全面にFFh画像(ベタ画像)を形成し、ベタ画像上に生ずる白点の個数を目視で評価した。
(評価基準)
A:0個
B:1個以上5個未満
C:6個以上10個未満
D:10個以上
[Toner fusion]
Using the image forming apparatus described above, 100,000 sheets of A4 horizontal charts with a printing rate of 30% were continuously outputted in a high temperature and high humidity environment (temperature: 30° C., humidity: 80% RH). Thereafter, an FFh image (solid image) was formed on the entire surface of A4 evaluation paper, and the number of white spots appearing on the solid image was visually evaluated.
(Evaluation criteria)
A: 0 pieces B: 1 piece or more and less than 5 pieces C: 6 pieces or more and less than 10 pieces D: 10 pieces or more

〔実施例2~7、比較例1~4〕
<二成分現像剤2~11の調製、及び評価>
トナー1をトナー2~11に代える以外は二成分現像剤1と同様に、二成分現像剤2~11を調製した。
[Examples 2 to 7, Comparative Examples 1 to 4]
<Preparation and evaluation of two-component developers 2 to 11>
Two-component developers 2-11 were prepared in the same manner as two-component developer 1 except that toner 1 was replaced with toners 2-11.

次いで、二成分現像剤2~11を用いた以外は、実施例1と同様にして評価を行った。評価結果を表5に示す。 Next, evaluation was performed in the same manner as in Example 1, except that two-component developers 2 to 11 were used. The evaluation results are shown in Table 5.

Figure 2024025273000012
Figure 2024025273000012

Claims (12)

トナー粒子及び該トナー粒子表面の外添剤を有するトナーであって、
該外添剤は、シリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子を有し、
該シリカ微粒子は、表面処理された処理シリカ微粒子であって、
該シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、下記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1と、下記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2とが観測され、該ピークPD1の面積をSD1とし、該ピークPD2の面積をSD2としたとき、該SD1および該SD2が、
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
を満たし、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、10nm以上100nm以下であり、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の平均円形度が、0.700以上1.00以下であることを特徴とするトナー。
Figure 2024025273000013
(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基またはエチル基を表す。)
A toner comprising toner particles and an external additive on the surface of the toner particles,
The external additive has silica fine particles and titanic acid compound fine particles,
The silica fine particles are surface-treated treated silica fine particles,
In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, there is a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the following formula (1), and a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by the following formula (2). A peak PD2 corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure is observed, and when the area of the peak PD1 is SD1 and the area of the peak PD2 is SD2, the SD1 and the SD2 are
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
The filling,
The number average particle diameter of the primary particles of the titanic acid compound fine particles is 10 nm or more and 100 nm or less,
A toner characterized in that the primary particles of the titanic acid compound fine particles have an average circularity of 0.700 or more and 1.00 or less.
Figure 2024025273000013
(In the formula, each R independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.)
前記(SD1+SD2)/SD1が、1.2以上6.3以下である請求項1に記載のトナー。 The toner according to claim 1, wherein the (SD1+SD2)/SD1 is 1.2 or more and 6.3 or less. 前記シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、下記式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQが観測され、該ピークPQの面積をSQとしたとき、前記SD1、前記SD2および該SQが、
(SD1+SD2)/SQ×100≧1.0
を満たす請求項1又は2に記載のトナー。
Figure 2024025273000014
In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, a peak PQ corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by the following formula (3) was observed, and the area of the peak PQ was When SQ, the SD1, the SD2, and the SQ are
(SD1+SD2)/SQ×100≧1.0
The toner according to claim 1 or 2, which satisfies the following.
Figure 2024025273000014
前記シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定から得られる前記SD1、前記SD2および前記SQを用いて、下式:
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100
から算出されるCaと、
ヘキサンで洗浄した後のシリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定から得られる、前記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1wの面積SD1wと、前記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2wの面積SD2w、前記式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQwの面積SQwを用いて、下式:
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100
から算出されるCbとが、
(Ca-Cb)/Ca×100≦30
を満たす請求項3に記載のトナー。
Using the SD1, SD2, and SQ obtained from the solid 29 Si-NMR DD/MAS measurement of the silica fine particles, the following formula:
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100
Ca calculated from
The area SD1w of the peak PD1w corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the above formula (1) obtained from DD/MAS measurement of solid 29 Si-NMR of silica fine particles after washing with hexane and the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure represented by the above formula (2), and the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by the above formula (3). Using the area SQw of the corresponding peak PQw, the following formula:
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100
Cb calculated from
(Ca-Cb)/Ca×100≦30
The toner according to claim 3, which satisfies the following.
前記シリカ微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、5nm以上500nm以下である請求項1又は2に記載のトナー。 The toner according to claim 1 or 2, wherein the number average particle diameter of the primary particles of the silica fine particles is 5 nm or more and 500 nm or less. 前記シリカ微粒子の含有量が、トナー粒子100質量部に対して、0.01質量部以上10.00質量部以下である請求項1又は2に記載のトナー。 The toner according to claim 1 or 2, wherein the content of the silica fine particles is 0.01 parts by mass or more and 10.00 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the toner particles. 前記チタン酸化合物微粒子は、チタン酸ストロンチウム粒子又はチタン酸カルシウム粒子である請求項1又は2に記載のトナー。 3. The toner according to claim 1, wherein the titanate compound fine particles are strontium titanate particles or calcium titanate particles. 前記チタン酸化合物微粒子の含有量が、トナー粒子100質量部に対して、0.05質量部以上2.0質量部以下である請求項1又は2に記載のトナー。 The toner according to claim 1 or 2, wherein the content of the titanic acid compound fine particles is 0.05 parts by mass or more and 2.0 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the toner particles. 前記シリカ微粒子の個数平均粒径Aは、前記チタン酸化合物微粒子の個数平均粒径Bに対して、
A>B
である請求項1又は2に記載のトナー。
The number average particle size A of the silica fine particles is equal to the number average particle size B of the titanic acid compound fine particles,
A>B
The toner according to claim 1 or 2.
前記シリカ微粒子は、温度30℃、相対湿度80%における、BET比表面積1m2当たりの水分吸着量が、0.01cm3/m2以上0.1cm3/m2以下である、請求項1又は2に記載のトナー。 2. The silica fine particles have a water adsorption amount of 0.01 cm 3 /m 2 or more and 0.1 cm 3 /m 2 or less per m 2 of BET specific surface area at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 80%. 2. The toner described in 2. 前記シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、下記式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQが観測され、該ピークPQの面積をSQとしたとき、前記SD1、前記SD2および該SQが、
(SD1+SD2)/SQ×100≧1.0
を満たし、
前記シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定から得られる前記SD1、前記SD2および該SQを用いて、下式:
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100
から算出されるCaと、
ヘキサンで洗浄した後のシリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定から得られる、前記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1wの面積SD1wと、前記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2wの面積SD2w、該式(3)で表される構造中のSicで示されるケイ素原子に対応するピークPQwの面積SQwを用いて、下式:
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100
から算出されるCbとが、
(Ca-Cb)/Ca×100≦30
を満たし、
前記シリカ微粒子は、温度30℃、相対湿度80%における、BET比表面積1m2当たりの水分吸着量が、0.01cm3/m2以上0.1cm3/m2以下である、請求項1又は2に記載のトナー。
Figure 2024025273000015
In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, a peak PQ corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by the following formula (3) was observed, and the area of the peak PQ was When SQ, the SD1, the SD2, and the SQ are
(SD1+SD2)/SQ×100≧1.0
The filling,
Using the SD1, SD2 and SQ obtained from the solid 29 Si-NMR DD/MAS measurement of the silica fine particles, the following formula:
Ca=(SD1+SD2)/SQ×100
Ca calculated from
The area SD1w of the peak PD1w corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the above formula (1) obtained from DD/MAS measurement of solid 29 Si-NMR of silica fine particles after washing with hexane and the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure represented by formula (2), and the area SD2w of the peak PD2w corresponding to the silicon atom represented by Si c in the structure represented by formula (3). Using the area SQw of the corresponding peak PQw, the following formula:
Cb=(SD1w+SD2w)/SQw×100
Cb calculated from
(Ca-Cb)/Ca×100≦30
The filling,
2. The silica fine particles have a moisture adsorption amount of 0.01 cm 3 /m 2 or more and 0.1 cm 3 /m 2 or less per m 2 of BET specific surface area at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 80%. 2. The toner described in 2.
Figure 2024025273000015
感光体の表面の帯電を行う帯電工程、帯電された該感光体に静電潜像を形成する静電潜像形成工程、該静電潜像をトナーによって現像して該感光体表面にトナー画像を形成する現像工程、該トナー画像を、記録媒体に転写する転写工程、記録媒体上のトナー像を定着する定着工程、および該感光体にクリーニングブレードを当接し、該感光体上の残留トナーを除去するクリーニング工程、を有する画像形成方法において、
該トナーは、トナー粒子及び該トナー粒子表面の外添剤を有するトナーであって、
該外添剤は、シリカ微粒子及びチタン酸化合物微粒子を有し、
該シリカ微粒子は、表面処理された処理シリカ微粒子であって、
該シリカ微粒子の固体29Si-NMRのDD/MAS測定において、下記式(1)で表される構造中のSiaで示されるケイ素原子に対応するピークPD1と、下記式(2)で表される構造中のSibで示されるケイ素原子に対応するピークPD2とが観測され、該ピークPD1の面積をSD1とし、該ピークPD2の面積をSD2としたとき、該SD1および該SD2が、
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
を満たし、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の個数平均粒径が、10nm以上100nm以下であり、
該チタン酸化合物微粒子の一次粒子の平均円形度が、0.700以上1.00以下であることを特徴とする画像形成方法。
Figure 2024025273000016
(式中、Rは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基またはエチル基を表す。)
A charging step of charging the surface of the photoreceptor, an electrostatic latent image forming step of forming an electrostatic latent image on the charged photoreceptor, and a toner image on the surface of the photoreceptor by developing the electrostatic latent image with toner. A developing process to form a toner image, a transfer process to transfer the toner image to a recording medium, a fixing process to fix the toner image on the recording medium, and a cleaning blade is brought into contact with the photoconductor to remove the residual toner on the photoconductor. In an image forming method comprising a cleaning step of removing,
The toner has toner particles and an external additive on the surface of the toner particles,
The external additive has silica fine particles and titanic acid compound fine particles,
The silica fine particles are surface-treated treated silica fine particles,
In the DD/MAS measurement of the solid 29 Si-NMR of the silica fine particles, there is a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by Si a in the structure represented by the following formula (1), and a peak PD1 corresponding to the silicon atom represented by the following formula (2). A peak PD2 corresponding to the silicon atom represented by Si b in the structure is observed, and when the area of the peak PD1 is SD1 and the area of the peak PD2 is SD2, the SD1 and the SD2 are
1.2≦(SD1+SD2)/SD1≦10.0
The filling,
The number average particle diameter of the primary particles of the titanic acid compound fine particles is 10 nm or more and 100 nm or less,
An image forming method characterized in that the primary particles of the titanic acid compound fine particles have an average circularity of 0.700 or more and 1.00 or less.
Figure 2024025273000016
(In the formula, each R independently represents a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group.)
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