JP2024014617A - Manufacturing method of pressure sensitive adhesive sheet and manufacturing method of optical film having pressure sensitive adhesive sheet - Google Patents

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Yu Morimoto
陽 久保田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique suitable for manufacturing a pressure sensitive adhesive sheet with a low environmental load.
SOLUTION: A manufacturing method of a pressure sensitive adhesive sheet includes: a step A of using a release liner and irradiating with light a laminate including a base material sheet, a coating layer containing a photo-curable composition and the release liner in this order to form a pressure sensitive adhesive sheet from the coating layer; and a step B of removing the release liner from the pressure sensitive adhesive sheet. In the manufacturing method, using the release liner removed at the step B, the step A and the step B are repeatedly carried out. As the release liner, a sheet is used in which a peel force PS3 from the pressure sensitive adhesive sheet measured after having removed from the pressure sensitive adhesive sheet three times from an unused state is less than 1.0 N/50 mm.
SELECTED DRAWING: Figure 1
COPYRIGHT: (C)2024,JPO&INPIT

Description

本発明は、粘着シートの製造方法、及び粘着シート付き光学フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an adhesive sheet and a method for manufacturing an optical film with an adhesive sheet.

液晶表示装置及びエレクトロルミネセンス(EL)表示装置に代表される各種の画像表示装置は、一般に、偏光フィルム等の光学フィルムと粘着シートとを含む光学積層体を備えている。光学積層体に含まれる光学フィルム間の接合や、光学積層体と画像表示パネルとの接合には、通常、粘着シートが使用される。粘着シートとしては、アクリル単量体やシリコーン単量体等を含む単量体群を重合及び架橋により硬化させたシートが典型的である。特許文献1には、基材シート、光硬化性組成物を含む塗布層及びはく離ライナーをこの順に含む積層体に光を照射して塗布層から粘着シートを形成する方法が開示されている。この方法では、基材シート及びはく離ライナーによって塗布層の双方の主面が覆われるため、酸素による光硬化反応の阻害を抑えることができる。 Various image display devices, typified by liquid crystal display devices and electroluminescent (EL) display devices, generally include an optical laminate including an optical film such as a polarizing film and an adhesive sheet. Adhesive sheets are usually used for bonding between optical films included in an optical laminate and for bonding an optical laminate and an image display panel. A typical pressure-sensitive adhesive sheet is a sheet obtained by curing a group of monomers including acrylic monomers, silicone monomers, etc. by polymerization and crosslinking. Patent Document 1 discloses a method in which a laminate including a base sheet, a coating layer containing a photocurable composition, and a release liner in this order is irradiated with light to form a pressure-sensitive adhesive sheet from the coating layer. In this method, since both main surfaces of the coating layer are covered with the base sheet and the release liner, inhibition of the photocuring reaction by oxygen can be suppressed.

特開2016-155981号公報JP2016-155981A

硬化による粘着シートの形成には、通常、熱や光等のエネルギーが必要である。光を利用する方法(光硬化法)によれば、例えば粘着剤組成物及び溶剤を含む塗布層をオーブンにより熱硬化させる方法(熱硬化法)に比べて、粘着シートの形成に必要なエネルギーの量を削減できる。しかし、粘着シート製造時の環境負荷を低減する観点からは、塗布層の硬化に必要なエネルギー量に着目するだけでは不十分である。 Formation of a pressure-sensitive adhesive sheet by curing usually requires energy such as heat or light. According to a method that uses light (photocuring method), the energy required to form an adhesive sheet is lower than, for example, a method of thermally curing a coating layer containing an adhesive composition and a solvent in an oven (thermal curing method). The amount can be reduced. However, from the viewpoint of reducing the environmental load during the production of pressure-sensitive adhesive sheets, it is insufficient to focus only on the amount of energy required to cure the coating layer.

本発明は、低環境負荷での粘着シートの製造に適した技術の提供を目的とする。 The present invention aims to provide a technology suitable for manufacturing pressure-sensitive adhesive sheets with low environmental impact.

本発明は、
はく離ライナーを用いて、基材シート、光硬化性組成物を含む塗布層、及び前記はく離ライナーをこの順に含む積層体に光を照射して、前記塗布層から粘着シートを形成する工程Aと、
前記粘着シートから前記はく離ライナーを剥離する工程Bと、を含み、
前記工程Bで剥離された前記はく離ライナーを用いて前記工程A及び前記工程Bが繰り返し実施され、
前記はく離ライナーとして、未使用の状態から数えて前記粘着シートから3回剥離させた後に測定した前記粘着シートとの剥離力PS3が1.0N/50mm未満であるシートを用いる、
粘着シートの製造方法、
を提供する。
The present invention
Step A of irradiating a laminate including a base sheet, a coating layer containing a photocurable composition, and the release liner in this order using a release liner to form an adhesive sheet from the coating layer;
Step B of peeling off the release liner from the adhesive sheet,
The step A and the step B are repeatedly performed using the release liner peeled off in the step B,
As the release liner, use a sheet whose peel force PS 3 with the adhesive sheet is less than 1.0 N/50 mm, measured after peeling from the adhesive sheet three times from the unused state.
Method for manufacturing adhesive sheet,
I will provide a.

別の側面において、本発明は、
上記本発明の粘着シートの製造方法によって形成された粘着シートの露出面に光学フィルムを配置して粘着シート付き光学フィルムを形成することを含む、粘着シート付き光学フィルムの製造方法、
を提供する。
In another aspect, the invention provides:
A method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet, the method comprising forming an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet by disposing an optical film on the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive sheet formed by the method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention;
I will provide a.

本発明によれば、低環境負荷での粘着シートの製造に適した技術を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a technique suitable for manufacturing pressure-sensitive adhesive sheets with low environmental impact.

本発明の粘着シートの製造方法の一例を説明するための模式図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an example of a method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. 本発明の粘着シートの製造方法に使用しうるはく離ライナーの一例を模式的に示す断面図である。1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a release liner that can be used in the method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. 本発明の粘着シートの製造方法の一例を説明するための模式図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an example of a method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. 本発明の粘着シートの製造方法の一例を説明するための模式図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an example of a method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. 本発明の粘着シート付き光学フィルムの製造方法の一例を説明するための模式図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an example of a method for manufacturing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. 本発明の粘着シート付き光学フィルムの製造方法の一例を説明するための模式図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an example of a method for manufacturing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. 本発明の粘着シート付き光学フィルムの製造方法の一例を説明するための模式図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an example of a method for manufacturing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention.

本発明の第1態様にかかる粘着シートの製造方法は、
はく離ライナーを用いて、基材シート、光硬化性組成物を含む塗布層、及び前記はく離ライナーをこの順に含む積層体に光を照射して、前記塗布層から粘着シートを形成する工程Aと、
前記粘着シートから前記はく離ライナーを剥離する工程Bと、を含み、
前記工程Bで剥離された前記はく離ライナーを用いて前記工程A及び前記工程Bが繰り返し実施され、
前記はく離ライナーとして、未使用の状態から数えて前記粘着シートから3回剥離させた後に測定した前記粘着シートとの剥離力PS3が1.0N/50mm未満であるシートを用いる。
The method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to the first aspect of the present invention includes:
Step A of irradiating a laminate including a base sheet, a coating layer containing a photocurable composition, and the release liner in this order using a release liner to form an adhesive sheet from the coating layer;
Step B of peeling off the release liner from the adhesive sheet,
The step A and the step B are repeatedly performed using the release liner peeled off in the step B,
As the release liner, a sheet is used that has a peeling force PS 3 of less than 1.0 N/50 mm with respect to the adhesive sheet, which is measured after peeling from the adhesive sheet three times, counting from the unused state.

本発明の第2態様において、例えば、第1態様にかかる粘着シートの製造方法では、
前記はく離ライナーは、未使用の状態で測定した前記粘着シートとの剥離力PS0が0.01N/50mm以上である。
In the second aspect of the present invention, for example, in the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to the first aspect,
The release liner has a peel force PS 0 of 0.01 N/50 mm or more with respect to the pressure-sensitive adhesive sheet when measured in an unused state.

本発明の第3態様において、例えば、第1又は第2態様にかかる粘着シートの製造方法では、
前記はく離ライナーは、未使用の状態で測定した前記粘着シートとの剥離力PS0に対する前記剥離力PS3の比PS3/PS0が10以下である。
In the third aspect of the present invention, for example, in the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to the first or second aspect,
The release liner has a ratio PS 3 /PS 0 of the release force PS 3 to the release force PS 0 with respect to the pressure-sensitive adhesive sheet, measured in an unused state, of 10 or less.

本発明の第4態様において、例えば、第1から第3態様のいずれか1つの態様にかかる粘着シートの製造方法では、
前記はく離ライナーは、未使用の状態で測定した前記粘着シートとの剥離力PS0に対する、未使用の状態から数えて前記粘着シートから1回剥離させた後に測定した前記粘着シートとの剥離力PS1の比PS1/PS0が10以下である。
In the fourth aspect of the present invention, for example, in the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of the first to third aspects,
The release liner has a peeling force PS 0 with the adhesive sheet measured in an unused state versus a peeling force PS 0 with the adhesive sheet measured after peeling the adhesive sheet once from the unused state. The ratio PS 1 /PS 0 of 1 is 10 or less.

本発明の第5態様において、例えば、第1から第4態様のいずれか1つの態様にかかる粘着シートの製造方法では、
前記はく離ライナーは、前記塗布層の側の面に離型層を備え、
前記離型層の厚さは110nm以下である。
In the fifth aspect of the present invention, for example, in the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of the first to fourth aspects,
The release liner includes a release layer on a side of the coating layer,
The thickness of the release layer is 110 nm or less.

本発明の第6態様において、例えば、第1から第5態様のいずれか1つの態様にかかる粘着シートの製造方法では、
前記はく離ライナーと前記粘着シートとの剥離力は、前記基材シートと前記粘着シートとの剥離力に比べて小さい。
In the sixth aspect of the present invention, for example, in the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of the first to fifth aspects,
The peeling force between the release liner and the adhesive sheet is smaller than the peeling force between the base sheet and the adhesive sheet.

本発明の第7態様において、例えば、第1から第6態様のいずれか1つの態様にかかる粘着シートの製造方法では、
前記光硬化性組成物が(メタ)アクリル系単量体を含む単量体群及び/又は前記単量体群の部分重合物を含む。
In the seventh aspect of the present invention, for example, in the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of the first to sixth aspects,
The photocurable composition contains a monomer group containing a (meth)acrylic monomer and/or a partial polymer of the monomer group.

本発明の第8態様において、例えば、第7態様にかかる粘着シートの製造方法では、
前記(メタ)アクリル系単量体がカルボキシル基含有単量体を含む。
In the eighth aspect of the present invention, for example, in the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to the seventh aspect,
The (meth)acrylic monomer includes a carboxyl group-containing monomer.

本発明の第9態様にかかる粘着シート付き光学フィルムの製造方法は、
第1から第8態様のいずれか1つの態様にかかる粘着シートの製造方法によって形成された粘着シートの露出面に光学フィルムを配置して粘着シート付き光学フィルムを形成することを含む。
The method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet according to the ninth aspect of the present invention includes:
The method includes arranging an optical film on the exposed surface of a pressure-sensitive adhesive sheet formed by the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet according to any one of the first to eighth aspects to form an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet.

本発明の第10態様において、例えば、第9態様にかかる粘着シート付き光学フィルムの製造方法では、
前記光学フィルムが、偏光フィルム及び位相差フィルムからなる群から選ばれる少なくとも1つのフィルムを含む。
In the tenth aspect of the present invention, for example, in the method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet according to the ninth aspect,
The optical film includes at least one film selected from the group consisting of a polarizing film and a retardation film.

以下に本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。 The present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to the following embodiments, and can be implemented with arbitrary modifications without departing from the gist of the present invention.

本発明者は、剥離後直ちに廃棄されていたはく離ライナーを再使用することにより、粘着シートの製造プロセスにおける環境負荷をさらに低減することを着想し、この着想に基づいて検討を進め、本発明を完成させた。粘着シートから剥離した後のはく離ライナーの剥離力は、未使用の状態よりも大きくなる。一方、本発明者の検討によると、剥離力の増加の程度は、はく離の回数を重ねると小さくなる傾向にある。未使用の状態から数えて粘着シートから3回剥離させた後の剥離力PS3は、剥離力の増加を反映した指標として有用である。剥離力PS3が1.0N/50mm未満であるはく離ライナーは、繰り返し使用することに適している。繰り返して使用すればそれだけ、廃棄されるはく離ライナーは減少し、環境負荷は低減できる。 The present inventor came up with the idea of further reducing the environmental load in the manufacturing process of pressure-sensitive adhesive sheets by reusing the release liner, which had been discarded immediately after peeling. Based on this idea, the inventor proceeded with studies and developed the present invention. Completed. The release force of the release liner after being peeled off from the adhesive sheet is greater than that of the unused state. On the other hand, according to studies by the present inventors, the degree of increase in peeling force tends to decrease as the number of peeling increases. The peeling force PS 3 after peeling from the pressure-sensitive adhesive sheet three times from the unused state is useful as an index reflecting the increase in peeling force. Release liners with a release force PS 3 of less than 1.0 N/50 mm are suitable for repeated use. The more the release liner is used repeatedly, the less release liner will be discarded, and the environmental impact will be reduced.

[粘着シートの製造方法]
図1を参照して、本発明の粘着シートの製造方法の一例を説明する。この例では、基材シート11、光硬化性組成物を含む塗布層12、及びはく離ライナー13をこの順に含む第1の積層体10に光14を照射して、塗布層12から粘着シート1を形成する(工程A)。光14は、はく離ライナー13を透過して塗布層12に到達し、塗布層12を硬化させる。ただし、光14の照射は、基材シート11の側から実施してもよいし、はく離ライナー13及び基材シート11の双方の側から実施してもよい。工程Aでは、はく離ライナー13を用いて粘着シート1を形成している。形成された粘着シート1は、はく離ライナー13が剥離されるまでは、基材シート11及びはく離ライナー13によって挟持されて第2の積層体17の一部を構成している。工程Aの後、粘着シート1からはく離ライナー13を剥離する(工程B)。図1の方法では、工程Bで剥離されたはく離ライナー13を用いて、工程A及び工程Bが繰り返し実施される。剥離されたはく離ライナー13を用いた工程Aは、基材シート11、塗布層12、及び剥離されたはく離ライナー13をこの順に含む第1の積層体10を形成し、形成した第1の積層体10に光14を照射して実施される。
[Method for manufacturing adhesive sheet]
An example of the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention will be described with reference to FIG. In this example, a first laminate 10 including a base sheet 11, a coating layer 12 containing a photocurable composition, and a release liner 13 in this order is irradiated with light 14 to separate the adhesive sheet 1 from the coating layer 12. Form (Step A). The light 14 passes through the release liner 13, reaches the coating layer 12, and cures the coating layer 12. However, the light 14 may be irradiated from the base sheet 11 side, or from both sides of the release liner 13 and the base sheet 11. In step A, the adhesive sheet 1 is formed using the release liner 13. The formed adhesive sheet 1 is sandwiched between the base sheet 11 and the release liner 13 and constitutes a part of the second laminate 17 until the release liner 13 is peeled off. After step A, the release liner 13 is peeled off from the adhesive sheet 1 (step B). In the method of FIG. 1, using the release liner 13 peeled off in step B, steps A and B are repeatedly performed. In step A using the released release liner 13, a first laminate 10 including the base sheet 11, the coating layer 12, and the released release liner 13 in this order is formed, and the formed first laminate is 10 is irradiated with light 14.

図1の方法では、はく離ライナー13として、未使用の状態から数えて粘着シート1から3回剥離させた後に測定した粘着シート1との剥離力PS3が1.0N/50mm未満であるシートを用いる。工程Aの実施に伴い、粘着シート1に対するはく離ライナー13の剥離力は、通常、増大する。剥離力の増大は、はく離ライナー13における塗布層12の側の面に存在する官能基やラジカルの量が光14の照射によって増加するためと推定される。上記増加は、光14の照射によってはく離ライナー13と粘着シート1との間に化学的な結合が生じ、その一部や結合の分解により形成された基が粘着シート1の剥離後にも上記面に残留することで生じている可能性がある。 In the method of FIG. 1, the release liner 13 is a sheet whose peel force PS 3 with the adhesive sheet 1 is less than 1.0 N/50 mm as measured after peeling from the adhesive sheet 1 three times from the unused state. use As Step A is carried out, the peeling force of the release liner 13 against the adhesive sheet 1 usually increases. It is presumed that the increase in peeling force is due to an increase in the amount of functional groups and radicals present on the surface of the release liner 13 on the side of the coating layer 12 due to the irradiation with the light 14. The above increase is due to the fact that a chemical bond is formed between the release liner 13 and the adhesive sheet 1 due to the irradiation of the light 14, and some of the bonds and groups formed by decomposition of the bond remain on the surface even after the adhesive sheet 1 is peeled off. This may be caused by residual substances.

<工程A>
(はく離ライナー)
はく離ライナー13の剥離力PS3は、0.9N/50mm以下、0.8N/50mm以下、0.7N/50mm以下、0.6N/50mm以下、0.5N/50mm以下、0.4N/50mm以下、0.3N/50mm以下、0.2N/50mm以下、さらには0.15N/50mm以下であってもよい。剥離力PS3の下限は、例えば0.01N/50mm以上であり、0.03N/50mm以上、0.05N/50mm以上、0.08N/50mm以上、さらには0.1N/50mm以上であってもよい。
<Process A>
(Release liner)
The release force PS 3 of the release liner 13 is 0.9 N/50 mm or less, 0.8 N/50 mm or less, 0.7 N/50 mm or less, 0.6 N/50 mm or less, 0.5 N/50 mm or less, 0.4 N/50 mm. Below, it may be 0.3 N/50 mm or less, 0.2 N/50 mm or less, or even 0.15 N/50 mm or less. The lower limit of the peeling force PS 3 is, for example, 0.01 N/50 mm or more, 0.03 N/50 mm or more, 0.05 N/50 mm or more, 0.08 N/50 mm or more, and further 0.1 N/50 mm or more. Good too.

はく離ライナー13は、未使用の状態で測定した粘着シート1との剥離力PS0が0.01N/50mm以上であってもよく、0.02N/50mm以上、さらには0.03N/50mm以上であってもよい。剥離力PS0の上限は、例えば0.2N/50mm以下であり、0.17N/50mm以下、0.15N/50mm以下、0.12N/50mm以下、さらには0.1N/50mm以下であってもよい。 The release liner 13 may have a peel force PS 0 of 0.01 N/50 mm or more, 0.02 N/50 mm or more, and more preferably 0.03 N/50 mm or more, when measured in an unused state. There may be. The upper limit of the peeling force PS 0 is, for example, 0.2 N/50 mm or less, 0.17 N/50 mm or less, 0.15 N/50 mm or less, 0.12 N/50 mm or less, and further 0.1 N/50 mm or less. Good too.

はく離ライナー13は、未使用の状態で測定した粘着シート1との剥離力PS0に対する剥離力PS3の比PS3/PS0が10以下であってもよく、7以下、5以下、4以下、3以下、2以下、さらには1.8以下であってもよい。比PS3/PS0の下限は、例えば、1.1以上、さらには1.2以上である。 The release liner 13 may have a ratio PS 3 /PS 0 of release force PS 3 to the release force PS 0 with respect to the adhesive sheet 1 measured in an unused state, PS 3 /PS 0 , of 10 or less, 7 or less, 5 or less, 4 or less. , 3 or less, 2 or less, or even 1.8 or less. The lower limit of the ratio PS 3 /PS 0 is, for example, 1.1 or more, more preferably 1.2 or more.

はく離ライナー13は、未使用の状態で測定した粘着シート1との剥離力PS0に対する、未使用の状態から数えて粘着シート1から1回剥離させた後に測定した粘着シート1との剥離力PS1の比PS1/PS0が10以下であってもよく、7以下、5以下、4以下、3以下、2以下、1.8以下、さらには1.7以下であってもよい。比PS1/PS0の下限は、例えば、1.05以上、さらには1.1以上である。 The release liner 13 has a peeling force PS 0 with the adhesive sheet 1 measured in an unused state and a peeling force PS 0 with the adhesive sheet 1 measured after being peeled once from the adhesive sheet 1 counting from the unused state. The ratio PS 1 /PS 0 of 1 may be 10 or less, 7 or less, 5 or less, 4 or less, 3 or less, 2 or less, 1.8 or less, or even 1.7 or less. The lower limit of the ratio PS 1 /PS 0 is, for example, 1.05 or more, more preferably 1.1 or more.

未使用の状態から数えて粘着シート1からn回剥離させた後の剥離力PSn(nは剥離の数に対応する0以上の整数;n=0のときには未使用の状態の剥離力PS0)は、評価対象のはく離ライナーを用いて工程A及び工程Bをn回実施し、さらに(n+1)回目の工程Aを実施して形成した第2の積層体17を幅50mmに切り出して試験片を作製し、作製した試験片からはく離ライナー13のみを引きはがす180°引きはがし試験を実施して評価できる。引きはがし試験は、粘着シート1の形成から0.5~1時間程度の時間が経過した後に実施する。粘着シート1の形成から引きはがし試験の実施まで、第2の積層体17及び試験片は23℃±5℃の大気雰囲気に置く。引きはがし試験には引張試験機を利用できる。より具体的には、試験片における基材シート11の側の面の全体を両面粘着テープにより固定板(例えばSUS板)に固定した後、固定板の長さ方向の一方の端部を引張試験機の上部チャックに固定し、はく離ライナー13における上部チャック側の端部を剥離して180°折り返し、引張試験機の下部チャックに固定して実施できる。固定板には、引きはがし試験を安定して実施できるだけの十分な機械的強度を有するものを使用できる。両面粘着テープには、引きはがし試験を実施する間、基材シート11が固定板から剥がれるのを防ぐのに十分な粘着力を有するものを使用できる。引きはがし試験の引きはがし速度は300mm/分、試験温度は23℃±5℃とする。第2の積層体17の幅が50mmに満たない場合は、原幅での測定値を幅50mmあたりの値に換算してもよい。塗布層12の形成方向を判別できる場合は、その方向であるMDに対して面内に垂直なTDを試験片の幅方向として定めることができる。基材シート11及びはく離ライナー13が長尺状である場合は、その幅方向を試験片の幅方向とすることができる。 Peeling force PS n after peeling n times from the adhesive sheet 1 counting from the unused state ( n is an integer greater than or equal to 0 corresponding to the number of peels; when n = 0, the peeling force PS 0 in the unused state ) is a test piece by performing Step A and Step B n times using the release liner to be evaluated, and then cutting out the second laminate 17 formed by performing Step A for the (n+1)th time to a width of 50 mm. can be evaluated by performing a 180° peel test in which only the release liner 13 is peeled off from the prepared test piece. The peel test is carried out after approximately 0.5 to 1 hour has elapsed from the formation of the adhesive sheet 1. From the formation of the adhesive sheet 1 to the implementation of the peel test, the second laminate 17 and the test piece are placed in an air atmosphere at 23° C.±5° C. A tensile tester can be used for the peel test. More specifically, after fixing the entire surface of the test piece on the base sheet 11 side to a fixing plate (for example, a SUS plate) with double-sided adhesive tape, one longitudinal end of the fixing plate was subjected to a tensile test. This can be carried out by fixing the liner to the upper chuck of a tensile testing machine, peeling off the end of the release liner 13 on the upper chuck side, folding it back 180°, and fixing it to the lower chuck of a tensile testing machine. As the fixing plate, one having sufficient mechanical strength to stably perform the peel test can be used. The double-sided adhesive tape may have sufficient adhesive strength to prevent the base sheet 11 from being peeled off from the fixed plate during the peel test. The peeling speed of the peeling test is 300 mm/min, and the test temperature is 23°C±5°C. If the width of the second laminate 17 is less than 50 mm, the measured value at the original width may be converted to a value per 50 mm width. When the direction in which the coating layer 12 is formed can be determined, the TD perpendicular to the MD, which is the direction, can be determined as the width direction of the test piece. When the base sheet 11 and release liner 13 are elongated, the width direction thereof can be the width direction of the test piece.

剥離力PS0、PSn及び剥離を繰り返すことによるPSnの増大の程度は、例えば、光硬化性組成物の組成、形成する粘着シート1の組成、形成条件及び厚さ、はく離ライナー13の材料、厚さ及び剥離面の状態、並びに、はく離ライナー13が備えうる離型層の組成、形成条件及び厚さ等により変化しうる。 The peeling force PS 0 , PS n and the degree of increase in PS n by repeating peeling depend on, for example, the composition of the photocurable composition, the composition, formation conditions and thickness of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 to be formed, and the material of the release liner 13. , the thickness and condition of the release surface, and the composition, formation conditions, and thickness of the release layer that the release liner 13 may include.

はく離ライナー13の基材(以下「ライナー基材」)の例は、樹脂フィルムである。ライナー基材に含まれうる樹脂の例は、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル、アセテート樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、(メタ)アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリアリレート、並びにポリフェニレンサルファイドである。樹脂は、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルである。 An example of the base material of the release liner 13 (hereinafter referred to as "liner base material") is a resin film. Examples of resins that can be included in the liner base material are polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resins, polyether sulfones, polycarbonates, polyamides, polyimides, polyolefins, (meth)acrylic resins, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride. , polystyrene, polyvinyl alcohol, polyarylate, and polyphenylene sulfide. The resin is preferably a polyester such as polyethylene terephthalate.

はく離ライナー13は、工程Aで照射する光14の透過性に優れることが好ましい。 It is preferable that the release liner 13 has excellent transparency for the light 14 irradiated in step A.

はく離ライナー13の厚さは、例えば10~200μmであり、25~150μmであってもよい。 The thickness of the release liner 13 is, for example, 10 to 200 μm, and may be 25 to 150 μm.

はく離ライナー13は、ライナー基材以外の層を備えていてもよい。はく離ライナー13は、離型層を備えていてもよい。図2のはく離ライナー13は、ライナー基材131と、ライナー基材131の一方の面に形成された離型層132とを備える。図2のはく離ライナー13は、離型層132が塗布層12の側となるように使用できる。 Release liner 13 may include layers other than the liner base material. The release liner 13 may include a release layer. The release liner 13 in FIG. 2 includes a liner base material 131 and a release layer 132 formed on one surface of the liner base material 131. The release liner 13 shown in FIG. 2 can be used so that the release layer 132 is on the coating layer 12 side.

離型層132は、典型的には、離型剤を含む離型剤組成物の硬化層である。離型剤には、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤、長鎖アルキル系離型剤、脂肪酸アミド系離型剤、シリカ粉等の種々の離型剤を使用できる。はく離ライナー13は、シリコーン系離型剤を主成分として含む離型剤組成物の硬化層(以下「シリコーン離型層」)を備えていてもよい。シリコーン離型層は、アクリル系の粘着シート1に対する密着性及び剥離性の両立に特に適している。なお、本明細書において主成分とは、最も含有率の大きな成分を意味する。 The release layer 132 is typically a cured layer of a release agent composition containing a release agent. Various mold release agents can be used as the mold release agent, such as a silicone mold release agent, a fluorine mold release agent, a long chain alkyl mold release agent, a fatty acid amide mold release agent, and silica powder. The release liner 13 may include a cured layer of a release agent composition containing a silicone release agent as a main component (hereinafter referred to as "silicone release layer"). The silicone release layer is particularly suitable for achieving both adhesion and releasability to the acrylic pressure-sensitive adhesive sheet 1. In addition, in this specification, the main component means the component with the largest content rate.

シリコーン系離型剤は、例えば、付加反応型、縮合反応型、紫外線硬化型、電子線硬化型、無溶媒型等の各種の硬化型シリコーン材料であり、付加反応硬化型シリコーン材料が好ましい。付加反応硬化型シリコーン材料は、アクリル系の粘着シート1に対する密着性及び剥離性の両立した離型層の形成に特に適している。硬化型シリコーン材料は、ウレタン、エポキシ、アルキッド樹脂等の有機樹脂にグラフト重合等により反応性シリコーンを導入したシリコーン変性樹脂であってもよい。 The silicone mold release agent is, for example, various types of curable silicone materials such as addition reaction type, condensation reaction type, ultraviolet curable type, electron beam curable type, and solvent-free type, with addition reaction curable silicone materials being preferred. The addition reaction-curable silicone material is particularly suitable for forming a release layer that has both adhesion and releasability to the acrylic pressure-sensitive adhesive sheet 1. The curable silicone material may be a silicone-modified resin in which reactive silicone is introduced into an organic resin such as urethane, epoxy, or alkyd resin by graft polymerization or the like.

付加反応硬化型シリコーン材料の例は、ビニル基又はアルケニル基を分子内に有するポリオルガノシロキサンである。付加反応硬化型シリコーン材料は、ヒドロシリル基を有さなくてもよい。アルケニル基の例は、3-ブテニル基、4-ペンテニル基、5-ヘキセニル基、6-ヘプテニル基、7-オクテニル基、8-ノネニル基、9-デセニル基、10-ウンデセニル基、及び11-ドデセニル基である。ポリオルガノシロキサンの例は、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン及びポリメチルエチルシロキサン等のポリアルキルアルキルシロキサン、ポリアルキルアリールシロキサン、並びにポリ(ジメチルシロキサン-ジエチルシロキサン)等の複数種のSi原子含有モノマーの共重合体である。ポリオルガノシロキサンは、好ましくはポリジメチルシロキサンである。 An example of an addition reaction-curable silicone material is a polyorganosiloxane having a vinyl group or an alkenyl group in the molecule. The addition reaction curable silicone material does not need to have a hydrosilyl group. Examples of alkenyl groups are 3-butenyl, 4-pentenyl, 5-hexenyl, 6-heptenyl, 7-octenyl, 8-nonenyl, 9-decenyl, 10-undecenyl, and 11-dodecenyl. It is the basis. Examples of polyorganosiloxanes include polyalkylalkylsiloxanes such as polydimethylsiloxane, polydiethylsiloxane, and polymethylethylsiloxane, polyalkylarylsiloxanes, and a plurality of Si atom-containing monomers such as poly(dimethylsiloxane-diethylsiloxane). It is a copolymer. The polyorganosiloxane is preferably polydimethylsiloxane.

シリコーン系離型剤を主成分として含む離型剤組成物(以下「シリコーン離型剤組成物」)は、通常、架橋剤を含む。架橋剤の例は、ヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサンである。架橋剤は、一分子中に2以上のヒドロシリル基を有していてもよい。 A mold release agent composition containing a silicone mold release agent as a main component (hereinafter referred to as a "silicone mold release agent composition") usually contains a crosslinking agent. Examples of crosslinking agents are polyorganosiloxanes containing hydrosilyl groups. The crosslinking agent may have two or more hydrosilyl groups in one molecule.

シリコーン離型剤組成物は、硬化触媒を含んでいてもよい。硬化触媒の例は、白金系触媒である。白金系触媒の例は、塩化白金酸、白金のオレフィン錯体、塩化白金酸のオレフィン錯体である。白金系触媒の使用量は、組成物の全固形分に対して、例えば10~1000ppm(重量基準、白金換算)である。 The silicone mold release agent composition may also include a curing catalyst. An example of a curing catalyst is a platinum-based catalyst. Examples of platinum-based catalysts are chloroplatinic acid, olefin complexes of platinum, and olefin complexes of chloroplatinic acid. The amount of the platinum-based catalyst used is, for example, 10 to 1000 ppm (by weight, in terms of platinum) based on the total solid content of the composition.

シリコーン離型剤組成物は、添加剤を含んでいてもよい。添加剤の例は、剥離コントロール剤及び密着性向上剤である。剥離コントロール剤の例は未反応性のシリコーン樹脂であり、より具体的な例は、オクタメチルシクロテトラシロキサン等のオルガノシロキサン、及びMQレジンである。剥離コントロール剤及び密着性向上剤の使用量は、組成物の全固形分に対して合計で、例えば1~30重量%である。添加剤のさらなる例は、充填剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤及び着色剤である。さらなる添加剤の使用量は、組成物の全固形分に対して合計で、例えば10重量%以下である。 The silicone mold release agent composition may also contain additives. Examples of additives are release control agents and adhesion promoters. Examples of release control agents are unreacted silicone resins, and more specific examples are organosiloxanes such as octamethylcyclotetrasiloxane, and MQ resins. The total amount of the peel control agent and adhesion improver used is, for example, 1 to 30% by weight based on the total solid content of the composition. Further examples of additives are fillers, antistatic agents, antioxidants, UV absorbers, plasticizers and colorants. The amount of further additives used is, for example, up to 10% by weight in total, based on the total solids content of the composition.

シリコーン離型剤組成物は、有機溶媒を含んでいてもよい。有機溶媒の例は、シクロヘキサン、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の炭化水素系溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒である。2種以上の有機溶媒が含まれていてもよい。有機溶媒の使用量は、好ましくは、シリコーン離型剤組成物の80~99.9重量%である。 The silicone mold release agent composition may include an organic solvent. Examples of organic solvents include hydrocarbon solvents such as cyclohexane, n-hexane, and n-heptane; aromatic solvents such as toluene and xylene; ester solvents such as ethyl acetate and methyl acetate; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone. Solvent: Alcohol solvent such as methanol, ethanol, butanol. Two or more types of organic solvents may be included. The amount of organic solvent used is preferably 80 to 99.9% by weight of the silicone mold release agent composition.

離型層132は、例えば、ライナー基材131上に形成した離型剤組成物を含む塗布膜を加熱及び乾燥して形成できる。離型剤組成物の塗布には、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコート等の各種の塗布方法を適用できる。加熱及び乾燥には、例えば熱風乾燥を適用できる。加熱温度及び時間は、ライナー基材の耐熱性により異なるが、通常、80~150℃及び10秒~10分程度である。必要に応じて、紫外線等の活性エネルギー線の照射を併用してもよい。 The release layer 132 can be formed, for example, by heating and drying a coating film containing a release agent composition formed on the liner base material 131. Application of the release agent composition includes roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, and die coating. Various coating methods such as can be applied. For example, hot air drying can be used for heating and drying. The heating temperature and time vary depending on the heat resistance of the liner base material, but are usually about 80 to 150°C and about 10 seconds to 10 minutes. If necessary, irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays may be used in combination.

離型層132の厚さは、例えば10~300nmである。厚さの上限は、200nm以下、150nm以下、120nm以下、110nm以下、100nm以下、100nm未満、90nm以下、80nm以下、70nm以下、70nm未満、さらには65nm以下であってもよい。厚さの下限は、15nm以上、20nm以上、25nm以上、30nm以上、35nm以上、40nm以上、45nm以上、さらには50nm以上であってもよい。離型層132の厚さは110nm以下であってもよく、換言すれば、はく離ライナー13は塗布層12の側の面に離型層132を備え、離型層132の厚さは110nm以下であってもよい。 The thickness of the release layer 132 is, for example, 10 to 300 nm. The upper limit of the thickness may be 200 nm or less, 150 nm or less, 120 nm or less, 110 nm or less, 100 nm or less, less than 100 nm, 90 nm or less, 80 nm or less, 70 nm or less, less than 70 nm, or even 65 nm or less. The lower limit of the thickness may be 15 nm or more, 20 nm or more, 25 nm or more, 30 nm or more, 35 nm or more, 40 nm or more, 45 nm or more, or even 50 nm or more. The thickness of the release layer 132 may be 110 nm or less; in other words, the release liner 13 may include the release layer 132 on the surface facing the coating layer 12, and the thickness of the release layer 132 may be 110 nm or less. There may be.

はく離ライナー13は、枚葉状であっても長尺状であってもよい。 The release liner 13 may be sheet-like or elongated.

(基材シート)
基材シート11の例は、樹脂フィルムである。基材シート11に含まれる樹脂の例は、ライナー基材に含まれうる樹脂の例と同じである。
(Base sheet)
An example of the base sheet 11 is a resin film. Examples of resins included in the base sheet 11 are the same as examples of resins that can be included in the liner base material.

基材シート11は、工程Aで照射する光14の透過性を有していてもよく、はく離ライナー13と同程度の光14の透過性を有していてもよい。 The base sheet 11 may have transparency to the light 14 irradiated in step A, or may have the same level of transparency to the light 14 as the release liner 13 .

基材シート11の厚さは、例えば10~200μmであり、25~150μmであってもよい。 The thickness of the base sheet 11 is, for example, 10 to 200 μm, and may be 25 to 150 μm.

基材シート11は、塗布層12の側の面に離型層を備えていてもよい。基材シート11が備えうる離型層及びその製法の例は、はく離ライナー13が備えうる離型層及びその製法の例と同じである。はく離ライナー13及び基材シート11の双方が離型層を備えていてもよい。この場合、双方の離型層は、同じ離型剤を主成分として含む離型剤組成物から形成されていてもよい。また、双方の離型層の厚さは異なっていてもよく、例えば、基材シート11が備える離型層の方が厚くてもよい。 The base sheet 11 may include a release layer on the surface facing the coating layer 12 . Examples of the release layer that the base sheet 11 can include and its manufacturing method are the same as the examples of the release layer that the release liner 13 can include and its manufacturing method. Both the release liner 13 and the base sheet 11 may be provided with a release layer. In this case, both mold release layers may be formed from mold release agent compositions containing the same mold release agent as a main component. Further, the thicknesses of both release layers may be different, and for example, the release layer included in the base sheet 11 may be thicker.

基材シート11には、通常、粘着シート1との剥離力がはく離ライナー13に比べて大きなシートを選択できる。 As the base sheet 11, a sheet can usually be selected that has a greater peel strength with respect to the adhesive sheet 1 than the release liner 13.

基材シート11は、枚葉状であっても長尺状であってもよい。 The base sheet 11 may be sheet-shaped or elongated.

(光硬化性組成物)
光硬化性組成物は、光14の照射によって塗布層12から粘着シート1が形成されうる組成物である。光硬化性組成物は、例えば、(メタ)アクリル系単量体を含む単量体群及び/又は当該単量体群の部分重合物を含む。光硬化性組成物における(メタ)アクリル系成分、すなわち(メタ)アクリル系単量体及びその部分重合物、の含有率は、50重量%以上、60重量%以上、70重量%以上、さらには80重量%以上であってもよく、この場合、(メタ)アクリル重合体及びその架橋物を主成分とするアクリル系の粘着シート1を形成できる。ただし、光硬化性組成物は上記例に限定されない。本明細書において(メタ)アクリルとは、アクリル及びメタクリルを意味する。(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリルレートを意味する。
(Photocurable composition)
The photocurable composition is a composition from which the adhesive sheet 1 can be formed from the coating layer 12 by irradiation with the light 14. The photocurable composition includes, for example, a monomer group containing a (meth)acrylic monomer and/or a partial polymer of the monomer group. The content of the (meth)acrylic component in the photocurable composition, that is, the (meth)acrylic monomer and its partial polymer, is 50% by weight or more, 60% by weight or more, 70% by weight or more, and even The content may be 80% by weight or more, and in this case, an acrylic pressure-sensitive adhesive sheet 1 containing a (meth)acrylic polymer and a crosslinked product thereof as main components can be formed. However, the photocurable composition is not limited to the above example. In this specification, (meth)acrylic means acrylic and methacryl. (Meth)acrylate means acrylate and methacrylate.

(メタ)アクリル系単量体の例は、炭素数1~20のアルキル基を側鎖に有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルである。アルキル基の炭素数は、7以下、6以下、5以下、さらには4以下であってもよい。アルキル基は、直鎖状であっても分岐を有していてもよい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルの例は、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、s-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、n-ペンチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、n-へキシル(メタ)アクリレート、イソヘキシル(メタ)アクリレート、イソヘプチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、n-ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、n-デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、n-ドデシル(メタ)アクリレート(ラウリル(メタ)アクリレート)、n-トリデシル(メタ)アクリレート、n-テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート及びオクタデシル(メタ)アクリレートである。(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、n-ブチル(メタ)アクリレートであってもよい。 An example of the (meth)acrylic monomer is a (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in the side chain. The number of carbon atoms in the alkyl group may be 7 or less, 6 or less, 5 or less, or even 4 or less. The alkyl group may be linear or branched. Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters are methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate. , t-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, isohexyl (meth)acrylate, isoheptyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, n-nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, n-decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, n-dodecyl (meth)acrylate (lauryl (meth)acrylate), n-tridecyl (meth)acrylate, n-tetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate and octadecyl (meth)acrylate. The (meth)acrylic acid alkyl ester may be n-butyl (meth)acrylate.

単量体群における(メタ)アクリル酸アルキルエステルの含有率は、例えば40重量%以上であり、50重量%以上、60重量%以上、70重量%以上、80重量%以上、85重量%以上、90重量%以上、さらには95重量%以上であってもよい。なお、含有率の計算にあたり、部分重合物の重量は、重合前の各単量体としての重量に換算する。 The content of (meth)acrylic acid alkyl ester in the monomer group is, for example, 40% by weight or more, 50% by weight or more, 60% by weight or more, 70% by weight or more, 80% by weight or more, 85% by weight or more, It may be 90% by weight or more, or even 95% by weight or more. In calculating the content, the weight of the partially polymerized product is converted to the weight of each monomer before polymerization.

単量体群は、カルボキシル基含有単量体を含んでいてもよい。カルボキシル基含有単量体は(メタ)アクリル系単量体であってもよく、換言すれば、(メタ)アクリル系単量体がカルボキシル基含有単量体を含んでいてもよい。カルボキシル基含有単量体の例は、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸及びクロトン酸である。単量体群におけるカルボキシル基含有単量体の含有率は、例えば10重量%以下であり、9重量%以下、8重量%以下、7重量%以下、6重量%以下、5.5重量%以下、さらには5重量%以下であってもよい。含有率の下限は、例えば0.1重量%以上であり、0.5重量%以上、さらには1重量%以上であってもよい。単量体群は、カルボキシル基含有単量体を含んでいなくてもよい。 The monomer group may include carboxyl group-containing monomers. The carboxyl group-containing monomer may be a (meth)acrylic monomer, or in other words, the (meth)acrylic monomer may include a carboxyl group-containing monomer. Examples of carboxyl group-containing monomers are (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and crotonic acid. The content of the carboxyl group-containing monomer in the monomer group is, for example, 10% by weight or less, 9% by weight or less, 8% by weight or less, 7% by weight or less, 6% by weight or less, 5.5% by weight or less. , and further may be 5% by weight or less. The lower limit of the content may be, for example, 0.1% by weight or more, 0.5% by weight or more, or even 1% by weight or more. The monomer group does not need to contain carboxyl group-containing monomers.

光14の照射によるカルボキシル基含有単量体の重合及び硬化の速度は、カルボキシル基を含有しない(メタ)アクリル酸アルキルエステルに比べて、通常、大きい。上記速度が大きいことは、粘着シート1の弾性率を高めて変形力に対する寸法安定性を向上できる一方で、粘着シート1に対するはく離ライナーの剥離力が大きくなりやすいことを意味する。このため、剥離力PS3が抑制されたはく離ライナー13の使用は、カルボキシル基含有単量体を光硬化性組成物が含む場合に特に有利である。 The rate of polymerization and curing of a carboxyl group-containing monomer by irradiation with light 14 is usually higher than that of a (meth)acrylic acid alkyl ester that does not contain a carboxyl group. The high speed means that while the elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive sheet 1 can be increased and the dimensional stability against deformation force can be improved, the peeling force of the release liner against the pressure-sensitive adhesive sheet 1 tends to be large. Therefore, the use of the release liner 13 with suppressed release force PS 3 is particularly advantageous when the photocurable composition contains a carboxyl group-containing monomer.

単量体群は、ヒドロキシ基含有単量体を含んでいてもよい。ヒドロキシ基含有単量体は(メタ)アクリル系単量体であってもよく、換言すれば、(メタ)アクリル系単量体がヒドロキシ基含有単量体を含んでいてもよい。ヒドロキシ基含有単量体は、粘着シート1の凝集力向上に寄与しうる。ヒドロキシ基含有単量体の例は、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシラウリル及び(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシル)-メチルアクリレートである。ヒドロキシ基含有単量体は、好ましくは、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチルである。単量体群におけるヒドロキシ基含有単量体の含有率は、例えば5重量%以下であり、4重量%以下、3重量%以下、2重量%以下、1重量%以下、0.8重量%以下、0.5重量%以下、0.3重量%以下、0.2重量%以下、さらには0.1重量%以下であってもよい。含有率の下限は、例えば0.01重量%以上であり、0.03重量%以上、さらには0.05重量%以上であってもよい。単量体群は、ヒドロキシ基含有単量体を含んでいなくてもよい。 The monomer group may include a hydroxy group-containing monomer. The hydroxy group-containing monomer may be a (meth)acrylic monomer, or in other words, the (meth)acrylic monomer may include a hydroxy group-containing monomer. The hydroxy group-containing monomer can contribute to improving the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive sheet 1. Examples of hydroxy group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, They are 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methyl acrylate. The hydroxy group-containing monomer is preferably 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or 4-hydroxybutyl (meth)acrylate. The content of the hydroxy group-containing monomer in the monomer group is, for example, 5% by weight or less, 4% by weight or less, 3% by weight or less, 2% by weight or less, 1% by weight or less, 0.8% by weight or less. , 0.5% by weight or less, 0.3% by weight or less, 0.2% by weight or less, or even 0.1% by weight or less. The lower limit of the content may be, for example, 0.01% by weight or more, 0.03% by weight or more, and even 0.05% by weight or more. The monomer group does not need to contain hydroxy group-containing monomers.

光硬化性組成物において、上述した各単量体は部分重合物として含まれていてもよい。部分重合物は、単一重合体及び共重合体のいずれであってもよい。部分重合物は、光硬化性組成物の粘度を適度に増大させることで、塗布層12の安定した形成に寄与しうる。 In the photocurable composition, each of the monomers mentioned above may be contained as a partially polymerized product. The partial polymer may be either a homopolymer or a copolymer. The partial polymer can contribute to stable formation of the coating layer 12 by appropriately increasing the viscosity of the photocurable composition.

光硬化性組成物は、通常、光重合開始剤を含有する。光重合開始剤の例は、波長450nmよりも短い波長の可視光及び/又は紫外線によりラジカルを発生する光ラジカル発生剤である。 A photocurable composition usually contains a photopolymerization initiator. An example of the photopolymerization initiator is a photoradical generator that generates radicals using visible light and/or ultraviolet light having a wavelength shorter than 450 nm.

光重合開始剤の例は、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾインエーテル類;アニソールメチルエーテル等の置換ベンゾインエーテル;2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン等の置換アセトフェノン;1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン等のα-ヒドロキシアルキルフェノン;2-メチル-2-ヒドロキシプロピオフェノン等の置換アルファーケトール;2-ナフタレンスルホニルクロライド等の芳香族スルホニルクロライド;1-フェニル-1,1-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)-オキシム等の光活性オキシム;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’-テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;チオキサントン、2-クロルチオキサントン、2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物;2,4,6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-トリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-ピペロニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-スチリル-s-トリアジン、2-(ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシ-ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-トリクロロメチル-(ピペロニル)-6-トリアジン、2,4-トリクロロメチル-(4’-メトキシスチリル)-6-トリアジン等のトリアジン系化合物;1,2-オクタンジオン,1-〔4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)〕、O-(アセチル)-N-(1-フェニル-2-オキソ-2-(4’-メトキシ-ナフチル)エチリデン)ヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物;ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物;9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物;ボレート系化合物;カルバゾール系化合物;イミダゾール系化合物;並びにチタノセン系化合物である。光硬化性組成物は、1種又は2種以上の光重合開始剤を含んでいてもよい。 Examples of photopolymerization initiators include benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzyl dimethyl ketal; substituted benzoin ethers such as anisole methyl ether; 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2- Substituted acetophenones such as phenylacetophenone; α-hydroxyalkylphenones such as 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone; substituted alphaketols such as 2-methyl-2-hydroxypropiophenone; aromatic sulfonyl chlorides such as 2-naphthalenesulfonyl chloride; Photoactive oximes such as 1-phenyl-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)-oxime; benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, Benzophenone compounds such as 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone; thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropyl Thioxanthone compounds such as thioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone; 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine , 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-piperonyl- 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl )-s-triazine, 2-(4-methoxy-naphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-trichloromethyl-(piperonyl)-6-triazine, 2 , 4-trichloromethyl-(4'-methoxystyryl)-6-triazine and other triazine compounds; 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-,2-(O-benzoyloxime)], Oxime ester compounds such as O-(acetyl)-N-(1-phenyl-2-oxo-2-(4'-methoxy-naphthyl)ethylidene) hydroxylamine; bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenyl Phosphine compounds such as phosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; Quinone compounds such as 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, and ethyl anthraquinone; Borate compounds; Carbazole compounds; Imidazole compounds compounds; and titanocene compounds. The photocurable composition may contain one or more photopolymerization initiators.

光硬化性組成物における光重合開始剤の配合量は、単量体群及びその部分重合物の合計100重量部に対して、例えば0.02~10重量部であり、0.05~5重量部であってもよい。 The amount of the photopolymerization initiator in the photocurable composition is, for example, 0.02 to 10 parts by weight, and 0.05 to 5 parts by weight, based on a total of 100 parts by weight of the monomer group and its partial polymer. It may be a department.

光硬化性組成物は、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤の例は、1分子中に2以上の重合性官能基を有する多官能単量体である。多官能単量体は(メタ)アクリル系単量体であってもよい。多官能単量体の例は、1分子中に2以上のC=C結合を有する単量体、及び1分子中に1以上のC=C結合と、1以上のエポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、ヒドラジン基、メチロール基等の重合性官能基とを有する単量体である。多官能単量体は、好ましくは、1分子中に2以上のC=C結合を有する単量体である。 The photocurable composition may contain a crosslinking agent. An example of a crosslinking agent is a polyfunctional monomer having two or more polymerizable functional groups in one molecule. The polyfunctional monomer may be a (meth)acrylic monomer. Examples of polyfunctional monomers include monomers having two or more C=C bonds in one molecule, and one or more C=C bonds in one molecule and one or more epoxy groups, aziridine groups, and oxazolines. It is a monomer having a polymerizable functional group such as a hydrazine group, a hydrazine group, or a methylol group. The polyfunctional monomer is preferably a monomer having two or more C═C bonds in one molecule.

架橋剤の例は、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2-エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート(NDDA)、1,12-ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート等の多官能アクリレート(多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物等);アリル(メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ブチルジ(メタ)アクリレート、ヘキシルジ(メタ)アクリレートである。多官能単量体は、好ましくは、多官能アクリレートであり、より好ましくは、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートである。 Examples of crosslinking agents are (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, ) acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,2-ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol diacrylate (NDDA), 1, Polyfunctional acrylates (ester compounds of polyhydric alcohol and (meth)acrylic acid, etc.) such as 12-dodecanediol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and tetramethylolmethane tri(meth)acrylate; allyl (meth)acrylate, vinyl (meth)acrylate, divinylbenzene, epoxy acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, butyl di(meth)acrylate, and hexyl di(meth)acrylate. The polyfunctional monomer is preferably a polyfunctional acrylate, more preferably trimethylolpropane tri(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, or dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.

架橋剤の配合量は、分子量や官能基数等により異なるが、単量体群及びその部分重合物の合計100重量部あたり、例えば5重量部以下であり、3重量部以下、2重量部以下、1重量部以下、さらには0.5重量部以下であってもよい。配合量の下限は、例えば0.01重量部以上であり、さらには0.05重量部%以上であってもよい。 The blending amount of the crosslinking agent varies depending on the molecular weight, the number of functional groups, etc., but is, for example, 5 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, per 100 parts by weight of the monomer group and its partial polymer. The amount may be 1 part by weight or less, or even 0.5 part by weight or less. The lower limit of the blending amount is, for example, 0.01 part by weight or more, and may even be 0.05 part by weight or more.

光硬化性組成物は、上述した以外の添加剤を含んでいてもよい。添加剤の例は、連鎖移動剤、シランカップリング剤、粘度調整剤、粘着付与剤、可塑剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤、着色剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤及び紫外線吸収剤である。 The photocurable composition may contain additives other than those mentioned above. Examples of additives are chain transfer agents, silane coupling agents, viscosity modifiers, tackifiers, plasticizers, softeners, anti-aging agents, fillers, colorants, antioxidants, surfactants, and antistatic agents. and an ultraviolet absorber.

光硬化性組成物における溶剤の含有率は、例えば5重量%以下であり、4重量%以下、3重量%以下、2重量%以下、1重量%以下、さらには0.5重量%以下であってもよい。光硬化性組成物は、溶剤を実質的に含まなくてもよい。溶剤を実質的に含まないとは、添加剤等に由来する溶剤等を、例えば0.1重量%以下、好ましくは0.05重量%以下、より好ましくは0.01重量%以下の含有率で許容する趣旨である。 The content of the solvent in the photocurable composition is, for example, 5% by weight or less, 4% by weight or less, 3% by weight or less, 2% by weight or less, 1% by weight or less, and even 0.5% by weight or less. It's okay. The photocurable composition may be substantially free of solvent. "Substantially free of solvent" means that the content of solvents derived from additives etc. is, for example, 0.1% by weight or less, preferably 0.05% by weight or less, more preferably 0.01% by weight or less. The intention is to allow it.

光硬化性組成物の粘度は、好ましくは、5~100ポイズである。上記範囲の粘度を有する光硬化性組成物は、塗布層12の形成に特に適している。 The viscosity of the photocurable composition is preferably 5 to 100 poise. A photocurable composition having a viscosity within the above range is particularly suitable for forming the coating layer 12.

(第1の積層体及びその形成)
第1の積層体10は、基材シート11、塗布層12及びはく離ライナー13以外のさらなる層を含んでいてもよい。上記さらなる層は、基材シート11及び/又ははく離ライナー13における塗布層12の側とは反対側に配置されていてもよい。塗布層12は、基材シート11及びはく離ライナー13と接していることが好ましい。
(First laminate and its formation)
The first laminate 10 may include further layers other than the base sheet 11, the coating layer 12, and the release liner 13. The further layer may be arranged on the side of the base sheet 11 and/or the release liner 13 opposite to the side of the coating layer 12. The coating layer 12 is preferably in contact with the base sheet 11 and the release liner 13.

第1の積層体10は、例えば、基材シート11(又ははく離ライナー13)の上に塗布層12を形成し、形成した塗布層12の上にはく離ライナー13(又は基材シート11)を配置して形成できる。また、互いの主面が向き合うように所定の間隔に保持された基材シート11及びはく離ライナー13の間の空間に光硬化性組成物を流しこむように塗布して第1の積層体10を形成してもよい。剥離させたはく離ライナー13は、剥離する直前の工程Aにおいて塗布層12の側にあった面、例えば離型層132側の面、が再び塗布層12の側となるように使用してもよい。 The first laminate 10 is constructed by, for example, forming a coating layer 12 on a base sheet 11 (or a release liner 13), and disposing a release liner 13 (or a base sheet 11) on the formed coating layer 12. It can be formed by Further, the first laminate 10 is formed by pouring and applying the photocurable composition into the space between the base sheet 11 and the release liner 13 which are held at a predetermined interval so that their main surfaces face each other. You may. The peeled release liner 13 may be used so that the surface that was on the coating layer 12 side in step A immediately before peeling, for example, the surface on the release layer 132 side, becomes the coating layer 12 side again. .

塗布層12の形成には、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコート等の各種の塗布方法を適用できる。 The coating layer 12 can be formed using a roll coat, a kiss roll coat, a gravure coat, a reverse coat, a roll brush, a spray coat, a dip roll coat, a bar coat, a knife coat, an air knife coat, a curtain coat, a lip coat, a die coat, etc. Various application methods can be applied.

塗布層12の厚さは、得たい粘着シート1の厚さに応じて調整でき、例えば5~100μmであり、5~50μm、5~25μm、さらには5~20μmであってもよい。 The thickness of the coating layer 12 can be adjusted depending on the desired thickness of the adhesive sheet 1, and may be, for example, 5 to 100 μm, 5 to 50 μm, 5 to 25 μm, or even 5 to 20 μm.

第1の積層体10は、長尺状の基材シート11、長尺状の塗布層12及び長尺状のはく離ライナー13を含んでいてもよく、換言すれば、長尺状であってもよい。長尺状の第1の積層体10は、例えば、巻回体から繰り出した基材シート11及びはく離ライナー13を搬送しながら両者の間に塗布層12を形成して得ることができる。 The first laminate 10 may include an elongated base sheet 11, an elongated coating layer 12, and an elongated release liner 13; in other words, even if it is elongated, good. The elongated first laminate 10 can be obtained, for example, by forming the coating layer 12 between the base sheet 11 and the release liner 13 that have been unwound from the roll while being conveyed.

(光の照射)
第1の積層体10に照射する光14は、例えば、波長450nmよりも短い波長を有する可視光又は紫外線である。光14は、光硬化性組成物が含む光重合開始剤の吸収波長と同じ領域の波長の光を含んでいてもよい。波長300nm以下の短波長光をフィルター等でカットした光14を照射してもよく、短波長光をカットすることは、光14によるはく離ライナー13の劣化の抑制に適している。光14の光源は、例えば紫外線照射ランプを備える光照射装置である。紫外線照射ランプの例は、紫外光LED、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、マイクロウエーブ励起水銀灯、ブラックライトランプ、ケミカルランプ、殺菌ランプ、低圧放電水銀ランプ、エキシマレーザーである。2以上の紫外線照射ランプが組み合わされていてもよい。
(Light irradiation)
The light 14 irradiated onto the first laminate 10 is, for example, visible light or ultraviolet light having a wavelength shorter than 450 nm. The light 14 may include light with a wavelength in the same region as the absorption wavelength of the photopolymerization initiator included in the photocurable composition. The light 14 may be irradiated by cutting short wavelength light of 300 nm or less with a filter or the like, and cutting off the short wavelength light is suitable for suppressing deterioration of the release liner 13 due to the light 14. The light source of the light 14 is, for example, a light irradiation device including an ultraviolet irradiation lamp. Examples of ultraviolet irradiation lamps include ultraviolet LEDs, low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, extra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, microwave-excited mercury lamps, black light lamps, chemical lamps, germicidal lamps, and low-pressure discharge mercury lamps. , an excimer laser. Two or more ultraviolet irradiation lamps may be combined.

光14の照射は、連続的であっても断続的であってもよい。 Irradiation of the light 14 may be continuous or intermittent.

光14の照射強度は、例えば1~20mW/cm2である。第1の積層体10に対する光14の積算光量は、例えば100~5000mJ/cm2である。 The irradiation intensity of the light 14 is, for example, 1 to 20 mW/cm 2 . The cumulative amount of light 14 to the first laminate 10 is, for example, 100 to 5000 mJ/cm 2 .

粘着シート1における単量体群の重合率は、好ましくは90%以上である。重合率は、95%以上、98%以上、さらには99%以上であってもよい。 The polymerization rate of the monomer group in the adhesive sheet 1 is preferably 90% or more. The polymerization rate may be 95% or more, 98% or more, or even 99% or more.

粘着シート1のゲル分率は、例えば50%以上であり、75%以上、80%以上、さらには85%以上であってもよい。 The gel fraction of the adhesive sheet 1 is, for example, 50% or more, and may be 75% or more, 80% or more, or even 85% or more.

<工程B>
工程Bでは、硬化後の第2の積層体17からはく離ライナー13を剥離する。第2の積層体17は、基材シート11、粘着シート1及びはく離ライナー13をこの順で含む。上記剥離により、はく離ライナー13と、基材シート11及び粘着シート1を含む第3の積層体15とが得られる。
<Process B>
In step B, the release liner 13 is peeled off from the second laminate 17 after curing. The second laminate 17 includes a base sheet 11, an adhesive sheet 1, and a release liner 13 in this order. By the above peeling, the release liner 13 and the third laminate 15 including the base sheet 11 and the adhesive sheet 1 are obtained.

はく離ライナー13と粘着シート1との剥離力は、基材シート11と粘着シート1との剥離力に比べて小さくてもよい。 The peeling force between the release liner 13 and the adhesive sheet 1 may be smaller than the peeling force between the base sheet 11 and the adhesive sheet 1.

粘着シート1に対する基材シート11の剥離力は、例えば0.1~10N/50mmであり、1~8N/50mm、2~7N/50mm、さらには3~5N/50mmであってもよい。 The peeling force of the base sheet 11 to the adhesive sheet 1 is, for example, 0.1 to 10 N/50 mm, and may be 1 to 8 N/50 mm, 2 to 7 N/50 mm, or even 3 to 5 N/50 mm.

はく離ライナー13を剥離して粘着シート1の製造に再利用する回数は、特に制限されないが、例えば、3回以上、5回以上、さらには7回以上であってもよい。回数の上限にも特段の制限はなく、例えば粘着シート1との剥離力PSnが3.0N/50mmを超えない範囲で使用を継続してもよい。 The number of times the release liner 13 is peeled off and reused for manufacturing the pressure-sensitive adhesive sheet 1 is not particularly limited, but may be, for example, 3 or more times, 5 or more times, or even 7 or more times. There is no particular restriction on the upper limit of the number of times, and for example, use may be continued as long as the peeling force PS n with the adhesive sheet 1 does not exceed 3.0 N/50 mm.

剥離されたはく離ライナー13は、巻き取ることで巻回体とした後に再利用してもよい。 The peeled release liner 13 may be reused after being wound up into a rolled body.

粘着シート1の厚さは、例えば2~70μmであり、2~50μm、5~40μm、10~30μm、10~25μm、さらには10~20μmであってもよい。 The thickness of the adhesive sheet 1 is, for example, 2 to 70 μm, and may be 2 to 50 μm, 5 to 40 μm, 10 to 30 μm, 10 to 25 μm, or even 10 to 20 μm.

粘着シート1は、例えば、光学フィルムを含む光学積層体に使用できる。換言すれば、粘着シート1は光学積層体用であってもよい。光学積層体は、粘着シート付き光学フィルムであってもよい。ただし、粘着シート1の用途は上記例に限定されない。 The adhesive sheet 1 can be used, for example, in an optical laminate including an optical film. In other words, the adhesive sheet 1 may be used for optical laminates. The optical laminate may be an optical film with an adhesive sheet. However, the use of the adhesive sheet 1 is not limited to the above example.

図3を参照して、本発明の粘着シートの製造方法の別の一例を説明する。この例では、巻回体31から繰り出した長尺状の基材シート11の片面に対して、塗布装置32により光硬化性組成物の塗布層12を形成する。次に、塗布層12の上に、巻回体33から繰り出した長尺状のはく離ライナー13を配置して、長尺状の第1の積層体10を形成する。次に、光照射装置34から第1の積層体10に光14を照射して、長尺状の粘着シート1を形成する。次に、粘着シート1を含む第2の積層体17からはく離ライナー13を剥離して巻回体35に巻き取る。以上の工程は、基材シート11及びはく離ライナー13を搬送しながら実施する。巻き取られたはく離ライナー13は、再利用される。はく離ライナー13の剥離により形成された第3の積層体15は、例えば、粘着シート付き光学フィルム又はその製造に使用できる。図3の方法は、粘着シート1の量産に特に適している。 Another example of the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention will be described with reference to FIG. In this example, a coating layer 12 of a photocurable composition is formed on one side of a long base sheet 11 fed out from a roll 31 using a coating device 32 . Next, the elongated release liner 13 unwound from the rolled body 33 is placed on the coating layer 12 to form the elongated first laminate 10. Next, the first laminate 10 is irradiated with light 14 from the light irradiation device 34 to form the elongated adhesive sheet 1. Next, the release liner 13 is peeled off from the second laminate 17 including the adhesive sheet 1 and wound up into a roll 35 . The above steps are performed while conveying the base sheet 11 and release liner 13. The rolled-up release liner 13 is reused. The third laminate 15 formed by peeling off the release liner 13 can be used, for example, to produce an optical film with an adhesive sheet or the production thereof. The method shown in FIG. 3 is particularly suitable for mass production of the adhesive sheet 1.

図4を参照して、本発明の粘着シートの製造方法の別の一例を説明する。この例は、第2の積層体17から剥離したはく離ライナー13を巻回体35に巻き取ることなく、粘着シート1の製造に再利用している以外は、図3の例と同じである。図4の方法は、粘着シート1の量産に特に適している。 Another example of the method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention will be described with reference to FIG. 4. This example is the same as the example shown in FIG. 3, except that the release liner 13 peeled off from the second laminate 17 is not wound up into the roll 35 and is reused for manufacturing the adhesive sheet 1. The method shown in FIG. 4 is particularly suitable for mass production of the adhesive sheet 1.

[はく離ライナー]
上記とは異なる側面によれば、本発明は、上記本発明の粘着シートの製造方法に用いるはく離ライナーを提供する。当該はく離ライナーの例は、粘着シートの製造方法の説明において上述した例と同じである。
[Release liner]
According to an aspect different from the above, the present invention provides a release liner used in the method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention. Examples of the release liner are the same as those described above in the description of the method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet.

[粘着シート付き光学フィルムの製造方法]
図5を参照して、本発明の粘着シート付き光学フィルムの製造方法の一例を説明する。この例では、基材シート11、粘着シート1及びはく離ライナー13をこの順で含む第2の積層体17からはく離ライナー13を剥離することで形成された粘着シート1の露出面18に光学フィルム2を配置して、粘着シート付き光学フィルム21を形成する。粘着シート付き光学フィルム21は、基材シート11、粘着シート1及び光学フィルム2をこの順で含む。第2の積層体17は、上記工程Aにより形成できる。はく離ライナー13の剥離は、上記工程Bとして実施してもよい。粘着シート付き光学フィルム21は、そのまま又は基材シート11を剥離した後に、例えば、粘着シート1と光学フィルム2とを備える光学積層体として画像表示装置等に使用できる。光学積層体は、粘着シート1を介して対象物(例えば画像形成パネル)に貼り合わせてもよい。ただし、粘着シート付き光学フィルム21の用途は、上記例に限定されない。粘着シート付き光学フィルム21から基材シート11を剥離して形成された露出面18には、光学フィルム等のさらなる部材を配置してもよく、一例として、光学フィルム2A、粘着シート1及び光学フィルム2Bをこの順で含む粘着シート付き光学フィルム22を形成できる(図6参照)。光学フィルム2A,2Bは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
[Method for producing optical film with adhesive sheet]
An example of the method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention will be described with reference to FIG. In this example, an optical film 2 is attached to the exposed surface 18 of the adhesive sheet 1, which is formed by peeling the release liner 13 from the second laminate 17 that includes the base sheet 11, the adhesive sheet 1, and the release liner 13 in this order. are arranged to form an optical film 21 with an adhesive sheet. Optical film with adhesive sheet 21 includes base sheet 11, adhesive sheet 1, and optical film 2 in this order. The second laminate 17 can be formed by the above step A. Peeling of the release liner 13 may be performed as step B above. The adhesive sheet-attached optical film 21 can be used as it is or after peeling off the base sheet 11, for example, as an optical laminate including the adhesive sheet 1 and the optical film 2 in an image display device or the like. The optical laminate may be attached to an object (for example, an image forming panel) via the adhesive sheet 1. However, the use of the adhesive sheet-attached optical film 21 is not limited to the above example. Further members such as an optical film may be arranged on the exposed surface 18 formed by peeling the base sheet 11 from the optical film 21 with an adhesive sheet. For example, the optical film 2A, the adhesive sheet 1, and the optical film An optical film 22 with an adhesive sheet containing 2B in this order can be formed (see FIG. 6). The optical films 2A and 2B may be the same or different from each other.

露出面18への光学フィルム2の配置は、直接的であっても間接的であってもよい。換言すれば、光学フィルム2は、露出面18に接するように配置されても、露出面18との間に他の層を挟んだ状態で配置されてもよい。 The optical film 2 may be placed on the exposed surface 18 directly or indirectly. In other words, the optical film 2 may be placed in contact with the exposed surface 18, or may be placed with another layer sandwiched between it and the exposed surface 18.

図7を参照して、本発明の粘着シート付き光学フィルムの製造方法の別の一例を説明する。この例では、図3の方法により形成された第3の積層体15における粘着シート1の露出面18に長尺状の光学フィルム2を配置して、長尺状の粘着シート付き光学フィルム21を形成する。光学フィルム2は、巻回体36から繰り出されて露出面18に配置される。図7に示すように、粘着シート1の形成と粘着シート付き光学フィルム21の形成とを連続的に実施してもよい。図7の方法は、粘着シート付き光学フィルム21の量産に特に適している。 Another example of the method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention will be described with reference to FIG. In this example, a long optical film 2 is placed on the exposed surface 18 of the adhesive sheet 1 in the third laminate 15 formed by the method shown in FIG. Form. The optical film 2 is unwound from the roll 36 and placed on the exposed surface 18. As shown in FIG. 7, the formation of the adhesive sheet 1 and the formation of the adhesive sheet-attached optical film 21 may be performed continuously. The method shown in FIG. 7 is particularly suitable for mass production of the optical film 21 with adhesive sheet.

光学フィルム2は、例えば、偏光フィルム及び位相差フィルムからなる群から選ばれる少なくとも1つを含むフィルムである。光学フィルム2は、偏光フィルム及び/又は位相差フィルムを含む積層フィルムであってもよい。光学フィルム2は、ガラス製のフィルムを含んでいてもよい。ただし、光学フィルム2は上記例に限定されない。 The optical film 2 is, for example, a film containing at least one selected from the group consisting of a polarizing film and a retardation film. The optical film 2 may be a laminated film including a polarizing film and/or a retardation film. The optical film 2 may include a glass film. However, the optical film 2 is not limited to the above example.

偏光フィルムは、偏光子を含む。偏光フィルムは、典型的には、偏光子及び保護フィルム(透明保護フィルム)を含む。保護フィルムは、例えば、偏光子の主面(最も広い面積を有する表面)に接して配置されている。偏光子は、2つの保護フィルムの間に配置されていてもよい。保護フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に配置されていてもよい。 A polarizing film includes a polarizer. A polarizing film typically includes a polarizer and a protective film (transparent protective film). The protective film is placed, for example, in contact with the main surface (the surface with the widest area) of the polarizer. A polarizer may be placed between two protective films. The protective film may be placed on at least one surface of the polarizer.

偏光子としては、特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素、二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの;ポリビニルアルコールの脱水処理物、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。偏光子は、典型的には、ポリビニルアルコール系フィルム(ポリビニルアルコール系フィルムには、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムが含まれる)、及び、ヨウ素等の二色性物質からなる。 The polarizer is not particularly limited, and examples include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol films, partially formalized polyvinyl alcohol films, partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films, iodine, and dichroism. Examples include those obtained by adsorbing dichroic substances such as dyes and uniaxially stretched; polyene-based oriented films such as dehydrated polyvinyl alcohol and dehydrochloric acid treated polyvinyl chloride. A polarizer typically consists of a polyvinyl alcohol film (polyvinyl alcohol films include partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films) and a dichroic substance such as iodine.

偏光子の厚さは、特に限定されず、例えば80μm以下であり、50μm以下、30μm以下、25μm以下、さらには20μm以下であってもよい。偏光子の厚さの下限は、特に限定されず、例えば1μm以上であり、5μm以上、10μm以上、さらには15μm以上であってもよい。薄型の偏光子(例えば、厚さ20μm以下)は、寸法変化が抑制されており、光学積層体の耐久性、特に高温下の耐久性、の向上に寄与しうる。 The thickness of the polarizer is not particularly limited, and may be, for example, 80 μm or less, 50 μm or less, 30 μm or less, 25 μm or less, or even 20 μm or less. The lower limit of the thickness of the polarizer is not particularly limited, and may be, for example, 1 μm or more, 5 μm or more, 10 μm or more, or even 15 μm or more. A thin polarizer (for example, 20 μm or less in thickness) has suppressed dimensional changes and can contribute to improving the durability of the optical laminate, especially the durability under high temperatures.

保護フィルムの材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂)、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及び、これらの混合物が挙げられる。保護フィルムの材料は、(メタ)アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化性樹脂又は紫外線硬化型樹脂であってもよい。偏光フィルムが2つの保護フィルムを有する場合、2つの保護フィルムの材料は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。例えば、偏光子の一方の主面に対して、接着剤を介して、熱可塑性樹脂で構成された保護フィルムが貼り合わされ、偏光子の他方の主面に対して、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化型樹脂で構成された保護フィルムが貼り合わされていてもよい。保護フィルムは、任意の添加剤を1種類以上含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤等が挙げられる。 As a material for the protective film, for example, a thermoplastic resin having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropy, etc. is used. Specific examples of such thermoplastic resins include cellulose resins such as triacetylcellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth)acrylic resins, and cyclic resins. Examples include polyolefin resins (norbornene resins), polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, and mixtures thereof. The material of the protective film may be a thermosetting resin or an ultraviolet curing resin such as (meth)acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone. When the polarizing film has two protective films, the materials of the two protective films may be the same or different. For example, a protective film made of a thermoplastic resin is attached to one main surface of a polarizer via an adhesive, and a protective film made of a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin is attached to the other main surface of the polarizer. A protective film made of molded resin may be attached. The protective film may contain one or more types of arbitrary additives. Examples of additives include ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, plasticizers, mold release agents, color inhibitors, flame retardants, nucleating agents, antistatic agents, pigments, colorants, and the like.

保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄膜性等の点より10~200μm程度である。 The thickness of the protective film can be determined as appropriate, but is generally about 10 to 200 μm from the viewpoint of strength, workability such as handling, thin film properties, etc.

偏光子と保護フィルムとは通常、水系接着剤等を介して密着している。水系接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。上記の接着剤以外の他の接着剤としては、紫外線硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型偏光板用接着剤は、各種の保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。接着剤は、金属化合物フィラーを含んでいてもよい。 The polarizer and the protective film are usually in close contact with each other via a water-based adhesive or the like. Examples of water-based adhesives include isocyanate adhesives, polyvinyl alcohol adhesives, gelatin adhesives, vinyl latex, water-based polyurethanes, and water-based polyesters. Examples of adhesives other than the above adhesives include ultraviolet curable adhesives and electron beam curable adhesives. Electron beam-curable adhesives for polarizing plates exhibit suitable adhesion to various types of protective films. The adhesive may include a metal compound filler.

偏光フィルムでは、保護フィルムに代えて、位相差フィルム等を偏光子上に形成することもできる。保護フィルム上には、さらに別の保護フィルムを設けること、位相差フィルム等を設けること等もできる。 In the polarizing film, a retardation film or the like may be formed on the polarizer instead of the protective film. It is also possible to provide another protective film, a retardation film, etc. on the protective film.

保護フィルムについて、偏光子と接着している表面と対向する表面には、ハードコート層が設けられていてもよく、反射防止、スティッキング防止、拡散、アンチグレア等を目的とした処理を施すこともできる。 Regarding the protective film, a hard coat layer may be provided on the surface opposite to the surface bonded to the polarizer, and treatments for the purpose of anti-reflection, anti-sticking, diffusion, anti-glare, etc. can also be applied. .

偏光フィルムは、円偏光フィルムであってもよい。 The polarizing film may be a circularly polarizing film.

位相差フィルムとしては、高分子フィルムを延伸させて得られるものや液晶材料を配向、固定化させたものを用いることができる。位相差フィルムは、例えば、面内及び/又は厚さ方向に複屈折を有する。 As the retardation film, one obtained by stretching a polymer film or one obtained by aligning and fixing a liquid crystal material can be used. The retardation film has, for example, birefringence in the plane and/or in the thickness direction.

位相差フィルムには、反射防止用位相差フィルム(特開2012-133303号公報〔0221〕、〔0222〕、〔0228〕参照)、視野角補償用位相差フィルム(特開2012-133303号公報〔0225〕、〔0226〕参照)、視野角補償用の傾斜配向位相差フィルム(特開2012-133303号公報〔0227〕参照)等が含まれる。 The retardation film includes a retardation film for antireflection (see JP-A-2012-133303 [0221], [0222], and [0228]) and a retardation film for viewing angle compensation (see JP-A 2012-133303 [0221], [0222], and [0228]). 0225], [0226]), an obliquely oriented retardation film for viewing angle compensation (see JP-A-2012-133303 [0227]), and the like.

位相差フィルムの具体的な構成、例えば、位相差値、配置角度、3次元複屈折率、単層か多層か等は特に限定されず、公知の位相差フィルムを使用することができる。 The specific structure of the retardation film, for example, retardation value, arrangement angle, three-dimensional birefringence, single layer or multilayer, etc., is not particularly limited, and any known retardation film can be used.

位相差フィルムの厚さは、好ましくは20μm以下であり、より好ましくは10μm以下であり、さらに好ましくは1~9μmであり、特に好ましくは3~8μmである。 The thickness of the retardation film is preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less, still more preferably 1 to 9 μm, particularly preferably 3 to 8 μm.

位相差フィルムは、例えば、液晶材料が配向、固定化された1/4波長板及び/又は1/2波長板を含んでいてもよい。 The retardation film may include, for example, a quarter-wave plate and/or a half-wave plate in which a liquid crystal material is oriented and fixed.

上記製法により形成した粘着シート付き光学フィルムを用いて、画像表示装置を形成してもよい。画像表示装置は、例えば、粘着シート付き光学フィルム21,22と画像表示パネルとを接合して形成できる。接合は、粘着シート1により行ってもよい。画像表示装置は、有機ELディスプレイであってもよく、液晶ディスプレイであってもよい。ただし、画像表示装置は上記例に限定されない。画像表示装置は、エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PD)、電界放出ディスプレイ(FED:Field Emission Display)等であってもよい。画像表示装置は、家電用途、車載用途、パブリックインフォメーションディスプレイ(PID)用途等に用いることができる。 An image display device may be formed using an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet formed by the above manufacturing method. The image display device can be formed by, for example, joining optical films 21 and 22 with adhesive sheets and an image display panel. The bonding may be performed using the adhesive sheet 1. The image display device may be an organic EL display or a liquid crystal display. However, the image display device is not limited to the above example. The image display device may be an electroluminescence (EL) display, a plasma display (PD), a field emission display (FED), or the like. The image display device can be used for household appliances, in-vehicle applications, public information displays (PID), and the like.

以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、以下に示す実施例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. The invention is not limited to the examples shown below.

(製造例1:光硬化性組成物の調製)
n-ブチルアクリレート(BA)100重量部、アクリル酸(AA)5重量部、及び2-ヒドロキシエチルアクリレート(2HEA)0.1重量部と、光重合開始剤としてOmnirad184及びOmnirad651(いずれもIGM Resins製)を各々0.05重量部とを4つロフラスコに投入し、窒素雰囲気下で紫外線を照射することによって、部分的に光重合したモノマーシロップを得た。紫外線の照射は、フラスコ内の溶液の粘度(計測条件:BH粘度計No.5ローター、10rpm、測定温度30℃)が約20Pa・sになるまで実施した。次に、モノマーシロップ100重量部に対して架橋剤として1,9-ノナンジオールジアクリレート(NDDA)0.1重量部を均一に混合し、光硬化性組成物を得た。
(Production Example 1: Preparation of photocurable composition)
100 parts by weight of n-butyl acrylate (BA), 5 parts by weight of acrylic acid (AA), and 0.1 part by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA), and Omnirad 184 and Omnirad 651 (both manufactured by IGM Resins) as photopolymerization initiators. 0.05 parts by weight of each were put into a Lof flask and irradiated with ultraviolet rays under a nitrogen atmosphere to obtain a partially photopolymerized monomer syrup. The ultraviolet irradiation was carried out until the viscosity of the solution in the flask (measurement conditions: BH viscometer No. 5 rotor, 10 rpm, measurement temperature 30° C.) reached approximately 20 Pa·s. Next, 0.1 part by weight of 1,9-nonanediol diacrylate (NDDA) as a crosslinking agent was uniformly mixed with 100 parts by weight of the monomer syrup to obtain a photocurable composition.

(製造例2:はく離ライナーAの作製)
付加反応硬化型シリコーン(ヘキセニル基含有ポリオルガノシロキサンを含むLTC761、30重量%トルエン溶液、東レ・ダウコーニング製)100重量部、剥離コントロール剤(未反応性シリコーン樹脂を含むBY24-850、東レ・ダウコーニング製)0.9重量部、及び硬化触媒(白金触媒を含むSRX212、東レ・ダウコーニング製)2重量部、及び希釈溶媒としてトルエン/ヘキサン混合溶媒(体積比1:1)を混合して、シリコーン系離型剤組成物Aを得た。離型剤組成物Aにおけるシリコーン固形分の濃度は、1.0重量%であった。次に、ライナー基材(ポリエステルフィルムであるルミラー38R75、厚さ38μm)の片面に離型剤組成物Aをワイヤーバーにより塗布し、130℃で1分間加熱して、離型層(厚さ60nm)を片面に備えるはく離ライナーAを作製した。
(Production Example 2: Production of release liner A)
100 parts by weight of addition reaction-curing silicone (LTC761 containing hexenyl group-containing polyorganosiloxane, 30% by weight toluene solution, manufactured by Toray Dow Corning), release control agent (BY24-850 containing unreacted silicone resin, Toray Dow Corning) (manufactured by Corning), 2 parts by weight of a curing catalyst (SRX212 containing platinum catalyst, manufactured by Dow Corning Toray), and a mixed solvent of toluene/hexane (volume ratio 1:1) as a diluting solvent. Silicone mold release agent composition A was obtained. The concentration of silicone solids in mold release agent composition A was 1.0% by weight. Next, mold release agent composition A was applied to one side of the liner base material (Lumirror 38R75, a polyester film, thickness 38 μm) using a wire bar, heated at 130°C for 1 minute, and a mold release layer (60 nm thickness) was applied. ) was prepared on one side.

(製造例3:はく離ライナーBの作製)
ライナー基材に塗布する離型剤組成物Aの厚さを変更した以外は製造例2と同様にして、離型層(厚さ120nm)を片面に備えるはく離ライナーBを作製した。
(Production Example 3: Production of release liner B)
A release liner B having a release layer (thickness 120 nm) on one side was produced in the same manner as Production Example 2 except that the thickness of the release agent composition A applied to the liner base material was changed.

(製造例4:はく離ライナーCの作製)
付加反応硬化型シリコーン(ビニル基含有ポリオルガノシロキサンを含むKS-847T、30重量%トルエン溶液、信越化学製)33.3重量部、及び硬化触媒(白金触媒を含むCAT-PL-50T、信越化学製)1重量部、及び希釈溶媒としてトルエン/ヘキサン混合溶媒(体積比1:1)を混合して、シリコーン系離型剤組成物Cを得た。離型剤組成物Cにおけるシリコーン固形分の濃度は、1.0重量%であった。次に、ライナー基材(ポリエステルフィルムであるルミラー38R75、厚さ38μm)の片面に離型剤組成物Cをワイヤーバーにより塗布し、130℃で1分間加熱して、離型層(厚さ100nm)を片面に備えるはく離ライナーCを作製した。
(Production Example 4: Production of release liner C)
33.3 parts by weight of addition reaction-curing silicone (KS-847T containing vinyl group-containing polyorganosiloxane, 30% by weight toluene solution, manufactured by Shin-Etsu Chemical) and curing catalyst (CAT-PL-50T containing platinum catalyst, manufactured by Shin-Etsu Chemical) Silicone mold release agent composition C was obtained by mixing 1 part by weight of the silicone-based mold release agent composition C) and a toluene/hexane mixed solvent (volume ratio 1:1) as a diluting solvent. The concentration of silicone solids in mold release agent composition C was 1.0% by weight. Next, mold release agent composition C was applied to one side of the liner base material (Lumirror 38R75, which is a polyester film, thickness 38 μm) using a wire bar, and heated at 130°C for 1 minute to form a mold release layer (thickness 100 nm). ) was prepared on one side.

(製造例5:はく離ライナーDの作製)
付加反応硬化型シリコーン(ビニル基含有ポリオルガノシロキサンを含むKS-847H、30重量%トルエン溶液、信越化学製)66.6重量部、及び硬化触媒(白金触媒を含むCAT-PL-50T、信越化学製)0.2重量部、及び希釈溶媒としてトルエン/ヘキサン混合溶媒(体積比1:1)を混合して、シリコーン系離型剤組成物Dを得た。離型剤組成物Dにおけるシリコーン固形分の濃度は、1.0重量%であった。次に、ライナー基材(ポリエステルフィルムであるルミラー38R75、厚さ38μm)の片面に離型剤組成物Dをワイヤーバーにより塗布し、130℃で1分間加熱して、離型層(厚さ100nm)を片面に備えるはく離ライナーDを作製した。
(Production Example 5: Production of release liner D)
66.6 parts by weight of addition reaction-curing silicone (KS-847H containing vinyl group-containing polyorganosiloxane, 30% by weight toluene solution, manufactured by Shin-Etsu Chemical) and curing catalyst (CAT-PL-50T containing platinum catalyst, manufactured by Shin-Etsu Chemical) Silicone-based mold release agent composition D was obtained by mixing 0.2 parts by weight of the silicone-based mold release agent composition D) and a toluene/hexane mixed solvent (volume ratio 1:1) as a diluent solvent. The concentration of silicone solids in mold release agent composition D was 1.0% by weight. Next, mold release agent composition D was applied to one side of the liner base material (Lumirror 38R75, a polyester film, thickness 38 μm) using a wire bar, and heated at 130° C. for 1 minute to form a mold release layer (100 nm thick). ) was prepared on one side.

[剥離力PS0の評価]
基材シート(離型層を有さないポリエステルフィルムであるルミラー38R75、厚さ38μm)の片面に製造例1の光硬化性組成物をアプリケーターにより塗布し、塗布層を形成した。次に、形成した塗布層の上に製造例2~5の各はく離ライナーを配置して第1の積層体を得た。はく離ライナーは、離型層が塗布層に接するように配置した。次に、第1の積層体におけるはく離ライナーの側から、照度2.4mW/cm2及び積算光量2880mJ/cm2の条件で紫外線(ブラックライト光源)を照射し、塗布層を光硬化させて、基材シート、粘着シート(厚さ20μm)及びはく離ライナーにより構成される第2の積層体aを形成した。
[Evaluation of peeling force PS 0 ]
The photocurable composition of Production Example 1 was applied to one side of a base sheet (Lumirror 38R75, a polyester film without a release layer, thickness 38 μm) using an applicator to form a coating layer. Next, each release liner of Production Examples 2 to 5 was placed on the formed coating layer to obtain a first laminate. The release liner was placed so that the release layer was in contact with the coating layer. Next, from the release liner side of the first laminate, ultraviolet rays (black light source) are irradiated with an illuminance of 2.4 mW/cm 2 and an integrated light amount of 2880 mJ/cm 2 to photocure the coating layer, A second laminate a was formed consisting of a base sheet, an adhesive sheet (thickness: 20 μm), and a release liner.

形成した第2の積層体aから長さ220mm及び幅50mmの試験片(長さの方向は光硬化性組成物の塗布方向)を切り出した。基材シートの側の面の全体を固定板であるSUS板に固定した試験片に対して、引張試験機を用いてはく離ライナーのみを長さ方向に引きはがす180°引きはがし試験を実施して、剥離力PS0を評価した。引きはがし試験の条件は上述のとおりとした。 A test piece with a length of 220 mm and a width of 50 mm (the length direction is the direction in which the photocurable composition was applied) was cut out from the second laminate a. A 180° peel test was conducted using a tensile testing machine to peel off only the release liner in the length direction on a test piece whose entire side surface of the base sheet was fixed to a SUS plate that was a fixing plate. , the peeling force PS 0 was evaluated. The conditions for the peel test were as described above.

[剥離力PS1、PS2、PS3の評価]
試験片の採取箇所が含まれないように第2の積層体aの長さ方向の一部を切断により取り除いた後、再利用のためにはく離ライナーを剥離した。剥離したはく離ライナーを用いた以外は第2の積層体aの形成と同様にして、第2の積層体bを形成した。第2の積層体bから切り出した試験片を評価対象とした以外は剥離力PS0の評価と同様にして、剥離力PS1を評価した。次に、第2の積層体aからはく離ライナーを剥離し、剥離したはく離ライナーを再利用して第2の積層体bを形成する上記手法と同様にして、第2の積層体bから第2の積層体c(再利用2回目)を形成し、第2の積層体cから第2の積層体d(再利用3回目)を形成した。第2の積層体c及び第2の積層体dから切り出した試験片を評価対象とした以外は剥離力PS0の評価と同様にして、それぞれ、剥離力PS2及びPS3を評価した。
[Evaluation of peeling force PS 1 , PS 2 , PS 3 ]
A portion of the second laminate a in the length direction was removed by cutting so as not to include the sampled portion of the test piece, and then the release liner was peeled off for reuse. A second laminate b was formed in the same manner as the second laminate a, except that a peeled release liner was used. The peel force PS 1 was evaluated in the same manner as the evaluation of the peel force PS 0 except that a test piece cut out from the second laminate b was used as the evaluation target. Next, the release liner is peeled off from the second laminate a, and the second laminate b is removed from the second laminate b in the same manner as described above, in which the peeled release liner is reused to form the second laminate b. A laminate c (second reuse) was formed, and a second laminate d (third reuse) was formed from the second laminate c. Peeling forces PS 2 and PS 3 were evaluated in the same manner as in the evaluation of peeling force PS 0 , except that test pieces cut out from the second laminate c and the second laminate d were evaluated.

[端部のみ固定した状態でのはく離ライナーの剥離の容易性(剥離容易性)の評価]
第2の積層体dについて、長さ方向の双方の端部の各々のみを基材シートの側において両面粘着テープにより固定面に固定した状態で、一方の上記端部からはく離ライナーを剥離した。当該剥離の状態に応じて、以下のように剥離容易性を判定した。
A:第2の積層体における上記固定がなされていない部分が固定面から浮き上がることなく、はく離ライナーを容易に剥離できた。
B:第2の積層体における上記固定がなされていない部分の固定面からの浮きがわずかに見られたが、はく離ライナーの剥離は可能であった。
C:第2の積層体における上記固定がなされていない部分が固定面から浮き上がることで、はく離ライナーの剥離が困難であった。
[Evaluation of ease of peeling of the release liner with only the ends fixed (peelability)]
With respect to the second laminate d, the release liner was peeled off from one of the end portions while only each of both end portions in the length direction was fixed to the fixing surface with double-sided adhesive tape on the side of the base sheet. Depending on the state of peeling, ease of peeling was determined as follows.
A: The release liner could be easily peeled off without the unfixed portion of the second laminate rising from the fixing surface.
B: The part of the second laminate that was not fixed was slightly lifted from the fixed surface, but the release liner could be peeled off.
C: The unfixed portion of the second laminate rose from the fixing surface, making it difficult to peel off the release liner.

各はく離ライナーについて、剥離力及び剥離容易性の評価結果を以下の表1に示す。 The evaluation results of release force and ease of release for each release liner are shown in Table 1 below.

Figure 2024014617000002
Figure 2024014617000002

本発明の製造方法により得た粘着シートは、例えば、光学積層体や画像表示装置に使用できる。 The pressure-sensitive adhesive sheet obtained by the production method of the present invention can be used, for example, in optical laminates and image display devices.

1 粘着シート
2,2A,2B 光学フィルム
10 (第1の)積層体
11 基材シート
12 塗布層
13 はく離ライナー
131 ライナー基材
132 離型層
14 光
18 露出面
21,22 粘着シート付き光学フィルム
1 Adhesive sheets 2, 2A, 2B Optical film 10 (First) laminate 11 Base sheet 12 Coating layer 13 Release liner 131 Liner base material 132 Release layer 14 Light 18 Exposed surfaces 21, 22 Optical film with adhesive sheet

Claims (10)

はく離ライナーを用いて、基材シート、光硬化性組成物を含む塗布層、及び前記はく離ライナーをこの順に含む積層体に光を照射して、前記塗布層から粘着シートを形成する工程Aと、
前記粘着シートから前記はく離ライナーを剥離する工程Bと、を含み、
前記工程Bで剥離された前記はく離ライナーを用いて前記工程A及び前記工程Bが繰り返し実施され、
前記はく離ライナーとして、未使用の状態から数えて前記粘着シートから3回剥離させた後に測定した前記粘着シートとの剥離力PS3が1.0N/50mm未満であるシートを用いる、
粘着シートの製造方法。
Step A of irradiating a laminate including a base sheet, a coating layer containing a photocurable composition, and the release liner in this order using a release liner to form an adhesive sheet from the coating layer;
Step B of peeling off the release liner from the adhesive sheet,
The step A and the step B are repeatedly performed using the release liner peeled off in the step B,
As the release liner, use a sheet whose peel force PS 3 with the adhesive sheet is less than 1.0 N/50 mm, measured after peeling from the adhesive sheet three times from the unused state.
Method for manufacturing adhesive sheets.
前記はく離ライナーは、未使用の状態で測定した前記粘着シートとの剥離力PS0が0.01N/50mm以上である、請求項1に記載の粘着シートの製造方法。 The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the release liner has a peeling force PS 0 of 0.01 N/50 mm or more with respect to the pressure-sensitive adhesive sheet when measured in an unused state. 前記はく離ライナーは、未使用の状態で測定した前記粘着シートとの剥離力PS0に対する前記剥離力PS3の比PS3/PS0が10以下である、請求項1に記載の粘着シートの製造方法。 The production of the pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the release liner has a ratio PS 3 /PS 0 of the release force PS 3 to the release force PS 0 with the pressure-sensitive adhesive sheet measured in an unused state of 10 or less. Method. 前記はく離ライナーは、未使用の状態で測定した前記粘着シートとの剥離力PS0に対する、未使用の状態から数えて前記粘着シートから1回剥離させた後に測定した前記粘着シートとの剥離力PS1の比PS1/PS0が10以下である、請求項1に記載の粘着シートの製造方法。 The release liner has a peeling force PS 0 with the adhesive sheet measured in an unused state versus a peeling force PS 0 with the adhesive sheet measured after peeling the adhesive sheet once from the unused state. The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1 , wherein the ratio PS 1 /PS 0 of 1 is 10 or less. 前記はく離ライナーは、前記塗布層の側の面に離型層を備え、
前記離型層の厚さは110nm以下である、請求項1に記載の粘着シートの製造方法。
The release liner includes a release layer on a side of the coating layer,
The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the thickness of the release layer is 110 nm or less.
前記はく離ライナーと前記粘着シートとの剥離力は、前記基材シートと前記粘着シートとの剥離力に比べて小さい、請求項1に記載の粘着シートの製造方法。 The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein a peeling force between the release liner and the pressure-sensitive adhesive sheet is smaller than a peeling force between the base sheet and the pressure-sensitive adhesive sheet. 前記光硬化性組成物が(メタ)アクリル系単量体を含む単量体群及び/又は前記単量体群の部分重合物を含む、請求項1に記載の粘着シートの製造方法。 The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 1, wherein the photocurable composition contains a monomer group containing a (meth)acrylic monomer and/or a partial polymer of the monomer group. 前記(メタ)アクリル系単量体がカルボキシル基含有単量体を含む、請求項7に記載の粘着シートの製造方法。 The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 7, wherein the (meth)acrylic monomer includes a carboxyl group-containing monomer. 請求項1~8のいずれか1項に記載の製造方法によって形成された粘着シートの露出面に光学フィルムを配置して粘着シート付き光学フィルムを形成することを含む、粘着シート付き光学フィルムの製造方法。 Production of an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet, the method comprising forming an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet by disposing an optical film on the exposed surface of a pressure-sensitive adhesive sheet formed by the production method according to any one of claims 1 to 8. Method. 前記光学フィルムが、偏光フィルム及び位相差フィルムからなる群から選ばれる少なくとも1つのフィルムを含む、請求項9に記載の粘着シート付き光学フィルムの製造方法。 The method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet according to claim 9, wherein the optical film includes at least one film selected from the group consisting of a polarizing film and a retardation film.
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