JP2024010886A - sensor device - Google Patents

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sensor device
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実 柿沼
Minoru Kakinuma
博信 矢尾
Hironobu Yao
健 鈴木
Takeshi Suzuki
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Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sensor device which suppresses influence of a parasitic capacitance and heat stress.
SOLUTION: A sensor device includes a physical quantity sensor, a conversion circuit for converting a signal detected by the physical quantity sensor into a voltage signal, a first substrate provided with at least a part of the conversion circuit and the physical quantity sensor, and a second substrate electrically connected to the first substrate, wherein a change rate to the temperature or humidity of a parasitic capacitance formed between at least a part of the conversion circuit and the first substrate is smaller than a change rate to the temperature, humidity or pressure of a parasitic capacitance formed between at least the part of the conversion circuit and the second substrate.
SELECTED DRAWING: Figure 2
COPYRIGHT: (C)2024,JPO&INPIT

Description

本発明は、センサ装置に関する。 The present invention relates to a sensor device.

特許文献1には、「検出回路と検出素子を接続する配線の寄生容量を低減し、センサ精度をより向上させる」と記載されている(要約書)。
特許文献2には、「高精度の角速度検出が可能な圧電式角速度センサを提供する」と記載されている(要約書)。
[先行技術文献]
[特許文献]
[特許文献1] 特開2007-101533号公報
[特許文献2] 特開平11-325908号公報
Patent Document 1 states that "parasitic capacitance of wiring connecting a detection circuit and a detection element is reduced, and sensor accuracy is further improved" (abstract).
Patent Document 2 states that "a piezoelectric angular velocity sensor capable of highly accurate angular velocity detection is provided" (abstract).
[Prior art documents]
[Patent document]
[Patent Document 1] JP-A-2007-101533 [Patent Document 2] JP-A-11-325908

センサ装置においては、寄生容量および熱応力の影響を抑制することが好ましい。 In a sensor device, it is preferable to suppress the effects of parasitic capacitance and thermal stress.

本発明の第1の態様においては、センサ装置を提供する。センサ装置は、物理量センサと、物理量センサにより検出された信号を電圧信号に変換する変換回路と、変換回路の少なくとも一部分および物理量センサが設けられた第1基板と、第1基板と電気的に接続された第2基板とを備える。変換回路の少なくとも一部分と第1基板との間に形成される寄生容量の温度または湿度に対する変化率が、変換回路の少なくとも一部分と第2基板との間に形成される寄生容量の温度または湿度に対する変化率よりも小さい。 In a first aspect of the invention, a sensor device is provided. The sensor device includes a physical quantity sensor, a conversion circuit that converts a signal detected by the physical quantity sensor into a voltage signal, a first substrate provided with at least a portion of the conversion circuit and the physical quantity sensor, and electrically connected to the first substrate. and a second substrate. The rate of change of the parasitic capacitance formed between at least a portion of the conversion circuit and the first substrate with respect to temperature or humidity is the rate of change of the parasitic capacitance formed between at least a portion of the conversion circuit and the second substrate with respect to temperature or humidity. less than the rate of change.

第1基板の吸湿率は、第2基板の吸湿率よりも小さくてよい。 The moisture absorption rate of the first substrate may be lower than the moisture absorption rate of the second substrate.

第1基板は、セラミックで形成されていてよい。 The first substrate may be made of ceramic.

第2基板は、有機材料を含んでよい。 The second substrate may include an organic material.

第1基板は、第2基板上に固定されていてよい。 The first substrate may be fixed onto the second substrate.

変換回路は、増幅回路、および、増幅回路と物理量センサとを接続する配線を有してよい。増幅回路と配線とは、第1基板に設けられてよい。 The conversion circuit may include an amplifier circuit and wiring that connects the amplifier circuit and the physical quantity sensor. The amplifier circuit and wiring may be provided on the first substrate.

変換回路は、増幅回路、および、増幅回路と物理量センサとを接続する配線を有してよい。配線の少なくとも一部は、第1基板に設けられてよい。増幅回路は、第2基板に設けられてよい。 The conversion circuit may include an amplifier circuit and wiring that connects the amplifier circuit and the physical quantity sensor. At least a portion of the wiring may be provided on the first substrate. The amplifier circuit may be provided on the second substrate.

第1基板の熱膨張率と、第2基板の熱膨張率とは、異なっていてよい。 The coefficient of thermal expansion of the first substrate and the coefficient of thermal expansion of the second substrate may be different.

センサ装置は、第1基板と第2基板とを電気的に接続するリードフレームをさらに備えてよい。 The sensor device may further include a lead frame that electrically connects the first substrate and the second substrate.

第1基板は、リードフレームに固定されてよい。第1基板およびリードフレームの共振周波数は、物理量センサの共振周波数よりも高くてよい。 The first substrate may be fixed to the lead frame. The resonant frequency of the first substrate and the lead frame may be higher than the resonant frequency of the physical quantity sensor.

センサ装置は、第1基板が固定され、第1基板および第2基板を収容する筐体と、第1基板と第2基板とを電気的に接続する接続部とをさらに備えてよい。 The sensor device may further include a casing to which the first substrate is fixed and which accommodates the first and second substrates, and a connection portion that electrically connects the first and second substrates.

第1基板は、可撓性を有する接合材により筐体に固定されていてよい。 The first substrate may be fixed to the housing using a flexible bonding material.

第1基板および接合材の共振周波数は、物理量センサの共振周波数よりも高くてよい。 The resonance frequency of the first substrate and the bonding material may be higher than the resonance frequency of the physical quantity sensor.

なお、上記の発明の概要は、本発明の特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。 Note that the above summary of the invention does not list all the features of the invention. Furthermore, subcombinations of these features may also constitute inventions.

本発明の一つの実施形態に係るセンサシステム200の一例を示す図である。1 is a diagram illustrating an example of a sensor system 200 according to one embodiment of the present invention. 本発明の一つの実施形態に係るセンサ装置100の一例を示す図である。1 is a diagram showing an example of a sensor device 100 according to one embodiment of the present invention. 図2に示されるセンサ装置100をY軸方向に見た図である。3 is a diagram of the sensor device 100 shown in FIG. 2 viewed in the Y-axis direction. FIG. 図2および図3に示される物理量センサ10の詳細の一例を示す図である。4 is a diagram showing an example of details of the physical quantity sensor 10 shown in FIGS. 2 and 3. FIG. 図4に示される物理量センサ10のa-a'断面の一例を示す図である。5 is a diagram showing an example of the aa' cross section of the physical quantity sensor 10 shown in FIG. 4. FIG. 比較例のセンサ装置300を示す図である。It is a figure showing sensor device 300 of a comparative example. 図6に示されるセンサ装置300をY軸方向に見た図である。7 is a diagram of the sensor device 300 shown in FIG. 6 viewed in the Y-axis direction. FIG. センサ装置100の回路図の一例を示す図である。1 is a diagram showing an example of a circuit diagram of a sensor device 100. FIG. 変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。5 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T. FIG. 変換回路40-2の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。5 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T. FIG. 変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。5 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T. FIG. 変換回路40-2の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。5 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T. FIG. 変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の他の一例を示す図である。7 is a diagram showing another example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T. FIG. センサ装置100の回路図の他の一例を示す図である。7 is a diagram showing another example of a circuit diagram of the sensor device 100. FIG. 本発明の一つの実施形態に係るセンサ装置100の他の一例を示す図である。It is a figure showing another example of sensor device 100 concerning one embodiment of the present invention. 図15のb-b'線における断面図である。16 is a sectional view taken along line bb' in FIG. 15. FIG. センサ装置100が図15および図16の例である場合における、変換回路40-1の出力と時間との関係の一例を示す図である。17 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and time when the sensor device 100 is the example shown in FIGS. 15 and 16. FIG. センサ装置100が図15および図16の例である場合における、変換回路40-2の出力と時間との関係の一例を示す図である。17 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and time when the sensor device 100 is the example shown in FIGS. 15 and 16. FIG. 変換回路40-1の出力が図17の状態である場合における、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。18 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T when the output of the conversion circuit 40-1 is in the state shown in FIG. 17. FIG. 変換回路40-2の出力が図18の状態である場合における、変換回路40-2の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。19 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T when the output of the conversion circuit 40-2 is in the state shown in FIG. 18. FIG. センサ装置100が図2および図3の例である場合における、変換回路40-1の出力と時間との関係の一例を示す図である。4 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and time when the sensor device 100 is the example shown in FIGS. 2 and 3. FIG. センサ装置100が図2および図3の例である場合における、変換回路40-2の出力と時間との関係の一例を示す図である。4 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and time when the sensor device 100 is the example shown in FIGS. 2 and 3. FIG. 変換回路40-1の出力が図21の状態である場合における、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。22 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T when the output of the conversion circuit 40-1 is in the state shown in FIG. 21. FIG. 変換回路40-2の出力が図22の状態である場合における、変換回路40-2の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。23 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T when the output of the conversion circuit 40-2 is in the state shown in FIG. 22. FIG. 本発明の一つの実施形態に係るセンサ装置100の他の一例を示す図である。It is a figure showing another example of sensor device 100 concerning one embodiment of the present invention. 図25に示されるセンサ装置100を説明する他の図である。26 is another diagram illustrating the sensor device 100 shown in FIG. 25. FIG.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。 Hereinafter, the present invention will be described through embodiments of the invention, but the following embodiments do not limit the invention according to the claims. Furthermore, not all combinations of features described in the embodiments are essential to the solution of the invention.

図1は、本発明の一つの実施形態に係るセンサシステム200の一例を示す図である。本例のセンサシステム200は、センサ装置100、制御部30、周波数発振器50、LPF(ローパスフィルタ)52、AD変換器(アナログ-デジタル変換器)54、記憶部70およびインターフェース部58を備える。センサ装置100は、物理量センサ10および変換回路40を備える。 FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a sensor system 200 according to one embodiment of the present invention. The sensor system 200 of this example includes a sensor device 100, a control section 30, a frequency oscillator 50, an LPF (low pass filter) 52, an AD converter (analog-digital converter) 54, a storage section 70, and an interface section 58. The sensor device 100 includes a physical quantity sensor 10 and a conversion circuit 40.

物理量センサ10は、対象物の物理量を検出する。物理量センサ10は、加速度センサであってよく、圧力センサであってもよい。当該加速度センサは、静電容量型の加速度センサ(後述)であってよい。変換回路40は、物理量センサ10により検出された信号を電圧信号に変換する。変換回路40は、アナログ信号処理回路であってよい。 The physical quantity sensor 10 detects a physical quantity of an object. The physical quantity sensor 10 may be an acceleration sensor or a pressure sensor. The acceleration sensor may be a capacitance type acceleration sensor (described later). The conversion circuit 40 converts the signal detected by the physical quantity sensor 10 into a voltage signal. Conversion circuit 40 may be an analog signal processing circuit.

周波数発振器50は、周期Tのクロック信号CKを生成する。物理量センサ10は、クロック信号CKに基づく時刻において、対象物の物理量を検出する。AD変換器54は、クロック信号CKに基づく時刻において、物理量センサ10からの信号を取得する。クロック信号CKに基づく時刻とは、例えばクロック信号CKが立ち上がる時刻である。センサシステム200には、給電ハブ130により電圧が供給されてよい。 A frequency oscillator 50 generates a clock signal CK with a period T. The physical quantity sensor 10 detects the physical quantity of the object at a time based on the clock signal CK. The AD converter 54 acquires the signal from the physical quantity sensor 10 at a time based on the clock signal CK. The time based on the clock signal CK is, for example, the time when the clock signal CK rises. Sensor system 200 may be supplied with voltage by power supply hub 130 .

制御部30は、センサ装置100における信号処理を制御する。制御部30は、いわゆるCPU(Central Processing Unit)であってよい。記憶部70は、物理量センサ10により検出された物理量データを記憶してよい。 The control unit 30 controls signal processing in the sensor device 100. The control unit 30 may be a so-called CPU (Central Processing Unit). The storage unit 70 may store physical quantity data detected by the physical quantity sensor 10.

LPF52は、変換回路40から出力された電圧信号における高周波ノイズを除去する。AD変換器54は、LPF52により高周波ノイズが除去されたアナログ電圧信号を、クロック信号CKのタイミングでデジタル信号に変換する。制御部30は、AD変換器54にトリガ信号を送信してよい。AD変換器54は、当該トリガ信号を受信したタイミングでアナログ-デジタル変換を開始してよい。 The LPF 52 removes high frequency noise in the voltage signal output from the conversion circuit 40. The AD converter 54 converts the analog voltage signal from which high frequency noise has been removed by the LPF 52 into a digital signal at the timing of the clock signal CK. The control unit 30 may transmit a trigger signal to the AD converter 54. The AD converter 54 may start analog-to-digital conversion at the timing of receiving the trigger signal.

センサシステム200は、インターフェース部58を備えてよい。インターフェース部58は、給電ハブ130により供給される電源を受電してよい。インターフェース部58は、給電ハブ130と制御部30との間の通信を仲介してよい。インターフェース部58は、通信線150によりコンピュータ110およびNTPサーバ140に接続されてよい。 Sensor system 200 may include an interface section 58 . The interface unit 58 may receive power supplied by the power feeding hub 130. The interface unit 58 may mediate communication between the power feeding hub 130 and the control unit 30. The interface unit 58 may be connected to the computer 110 and the NTP server 140 via a communication line 150.

図2は、本発明の一つの実施形態に係るセンサ装置100の一例を示す図である。センサ装置100は、第1基板20および第2基板22を備える。第1基板20には、変換回路40(図1参照)の少なくとも一部分、および、物理量センサ10が設けられる。変換回路40は、増幅回路42を有してよい。本例においては、増幅回路42は第1基板20に設けられている。第2基板22は、第1基板と電気的に接続されている。第1基板20は、第2基板22上に固定されていてよい。 FIG. 2 is a diagram showing an example of the sensor device 100 according to one embodiment of the present invention. The sensor device 100 includes a first substrate 20 and a second substrate 22. At least a portion of the conversion circuit 40 (see FIG. 1) and the physical quantity sensor 10 are provided on the first substrate 20. The conversion circuit 40 may include an amplifier circuit 42. In this example, the amplifier circuit 42 is provided on the first substrate 20. The second substrate 22 is electrically connected to the first substrate. The first substrate 20 may be fixed onto the second substrate 22.

第1基板20の吸湿率は、第2基板22の吸湿率よりも小さくてよい。基板の吸湿率とは、湿気を吸収していない基板の質量を第1質量とし、湿気の吸収が飽和状態である基板の質量を第2質量とした場合において、第1質量に対する、第2質量と第1質量との差分の割合であってよい。 The moisture absorption rate of the first substrate 20 may be smaller than the moisture absorption rate of the second substrate 22. The moisture absorption rate of a substrate is defined as the second mass relative to the first mass, where the first mass is the mass of the substrate that has not absorbed moisture, and the second mass is the mass of the substrate whose moisture absorption is saturated. and the first mass.

第1基板20の熱膨張率と第2基板22の熱膨張率とは、異なっていてよい。基板の熱膨張率とは、基板の線膨張率であってよい。基板の線膨張率とは、温度上昇前の基板の面内方向における一の方向の長さを第1長さとし、温度が単位温度(1K)上昇後の基板における当該一の方向の長さを第2長さとした場合において、第1長さに対する、第2長さと第1長さとの差分の割合であってよい。基板の熱膨張率とは、基板の体積膨張率であってもよい。基板の体積膨張率とは、温度上昇前の基板の体積を第1体積とし、温度が単位温度(1K)上昇後の基板の体積を第2体積とした場合において、第1体積に対する、第2体積と第1体積との差分の割合であってよい。 The coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 may be different. The coefficient of thermal expansion of the substrate may be the coefficient of linear expansion of the substrate. The coefficient of linear expansion of a substrate is defined as the first length, which is the length in one direction in the in-plane direction of the substrate before the temperature rises, and the length in the one direction of the substrate after the temperature rises by a unit temperature (1K). In the case of the second length, it may be the ratio of the difference between the second length and the first length to the first length. The coefficient of thermal expansion of the substrate may be the coefficient of volumetric expansion of the substrate. The coefficient of volumetric expansion of a substrate is defined as the volumetric expansion coefficient of a substrate with respect to the first volume, where the volume of the substrate before the temperature rise is the first volume, and the volume of the substrate after the temperature has increased by a unit temperature (1K) is the second volume. It may be a ratio of the difference between the volume and the first volume.

第1基板20は、セラミックで形成されていてよい。第1基板20は、所謂セラミック基板であってよい。第1基板20は、アルミナおよび非金属の少なくとも一方で形成されていてよい。第1基板20は、無機材料で形成されていてよい。第1基板20は、有機材料を含まなくてよい。 The first substrate 20 may be made of ceramic. The first substrate 20 may be a so-called ceramic substrate. The first substrate 20 may be formed of at least one of alumina and nonmetal. The first substrate 20 may be made of an inorganic material. The first substrate 20 does not need to contain an organic material.

第2基板22は、有機材料を含んでよい。当該有機材料は、例えばエポキシ材料である。第2基板22は、所謂ガラスエポキシ基板であってよい。 The second substrate 22 may include an organic material. The organic material is, for example, an epoxy material. The second substrate 22 may be a so-called glass epoxy substrate.

第1基板20の熱膨張率を熱膨張率te1とし、第2基板22の熱膨張率を熱膨張率te2とする。物理量センサ10の熱膨張率を、熱膨張率tsとする。熱膨張率te1は、熱膨張率te2よりも小さくてよい。物理量センサ10がMEMS加速度センサである場合、MEMS加速度センサはSi(シリコン)およびガラスで形成され得る。MEMS加速度センサがSi(シリコン)およびガラスで形成され、第2基板22がガラスエポキシ基板である場合、熱膨張率tsは熱膨張率te2よりも小さい。このため、熱膨張率te1、熱膨張率tsおよび熱膨張率te2は、ts<te1<te2の関係にあることが好ましい。 Let the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 be a coefficient of thermal expansion te1, and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 be a coefficient of thermal expansion te2. Let the coefficient of thermal expansion of the physical quantity sensor 10 be the coefficient of thermal expansion ts. The coefficient of thermal expansion te1 may be smaller than the coefficient of thermal expansion te2. When the physical quantity sensor 10 is a MEMS acceleration sensor, the MEMS acceleration sensor may be formed of Si (silicon) and glass. When the MEMS acceleration sensor is made of Si (silicon) and glass and the second substrate 22 is a glass epoxy substrate, the thermal expansion coefficient ts is smaller than the thermal expansion coefficient te2. Therefore, it is preferable that the coefficient of thermal expansion te1, the coefficient of thermal expansion ts, and the coefficient of thermal expansion te2 have a relationship of ts<te1<te2.

本明細書においては、X軸、Y軸およびZ軸の直交座標軸を用いて技術的事項を説明する場合がある。本明細書において、第1基板20の板面に平行な面をXY面とする。本明細書において、第1基板20の板面に垂直な方向をZ軸方向とする。本明細書において、XY面内における所定の方向をX軸方向とし、XY面内においてX軸に直交する方向をY軸方向とする。XY面は、水平面であってよい。Z軸は、鉛直方向に平行であってよい。 In this specification, technical matters may be explained using orthogonal coordinate axes of the X-axis, Y-axis, and Z-axis. In this specification, a plane parallel to the plate surface of the first substrate 20 is referred to as an XY plane. In this specification, the direction perpendicular to the plate surface of the first substrate 20 is defined as the Z-axis direction. In this specification, a predetermined direction within the XY plane is referred to as the X-axis direction, and a direction perpendicular to the X-axis within the XY plane is referred to as the Y-axis direction. The XY plane may be a horizontal plane. The Z axis may be parallel to the vertical direction.

図3は、図2に示されるセンサ装置100をY軸方向に見た図である。本例において、物理量センサ10および増幅回路42は、第1基板20上に設けられている。センサ装置100は、蓋部21を備えてよい。蓋部21は、第1基板20と同じ材料で形成されていてよい。蓋部21は、セラミックで形成されていてよい。物理量センサ10および増幅回路42は、第1基板20および蓋部21により囲われていてよい。 FIG. 3 is a diagram of the sensor device 100 shown in FIG. 2 viewed in the Y-axis direction. In this example, the physical quantity sensor 10 and the amplifier circuit 42 are provided on the first substrate 20. The sensor device 100 may include a lid part 21. The lid portion 21 may be made of the same material as the first substrate 20. The lid portion 21 may be made of ceramic. The physical quantity sensor 10 and the amplifier circuit 42 may be surrounded by the first substrate 20 and the lid part 21.

図4は、図2および図3に示される物理量センサ10の詳細な一例を示す図である。本例の物理量センサ10は、静電容量型のMEMS加速度センサである。本例の物理量センサ10は、固定電極11、固定電極12、可動電極13、固定枠14および弾性部15を有する。可動電極13は、板状の部材であってよい。 FIG. 4 is a diagram showing a detailed example of the physical quantity sensor 10 shown in FIGS. 2 and 3. As shown in FIG. The physical quantity sensor 10 of this example is a capacitive MEMS acceleration sensor. The physical quantity sensor 10 of this example includes a fixed electrode 11, a fixed electrode 12, a movable electrode 13, a fixed frame 14, and an elastic part 15. The movable electrode 13 may be a plate-shaped member.

本例の物理量センサ10は、2つの固定電極11(固定電極11-1および固定電極11-2)を有する。本例において、固定電極11-1は予め定められた方向(本例においてはX軸方向)における可動電極13の一方側に隣り合って配置され、固定電極11-2はX軸方向における可動電極13の他方側に隣り合って配置されている。固定電極11と可動電極13とのX軸方向における間には、空隙が設けられている。即ち、固定電極11と可動電極13とは、接していない。 The physical quantity sensor 10 of this example has two fixed electrodes 11 (fixed electrode 11-1 and fixed electrode 11-2). In this example, the fixed electrode 11-1 is arranged adjacent to one side of the movable electrode 13 in a predetermined direction (X-axis direction in this example), and the fixed electrode 11-2 is a movable electrode in the X-axis direction. They are arranged adjacent to each other on the other side of 13. A gap is provided between the fixed electrode 11 and the movable electrode 13 in the X-axis direction. That is, the fixed electrode 11 and the movable electrode 13 are not in contact with each other.

本例の物理量センサ10は、2つの固定電極12(固定電極12-1および固定電極12-2)を有する。本例において、固定電極12-1は予め定められた方向(本例においてはY軸方向)における可動電極13の一方側に隣り合って配置され、固定電極12-2はY軸方向における可動電極13の他方側に隣り合って配置されている。固定電極12と可動電極13とのY軸方向における間には、空隙が設けられている。即ち、固定電極12と可動電極13とは、接していない。 The physical quantity sensor 10 of this example has two fixed electrodes 12 (fixed electrode 12-1 and fixed electrode 12-2). In this example, the fixed electrode 12-1 is arranged adjacent to one side of the movable electrode 13 in a predetermined direction (Y-axis direction in this example), and the fixed electrode 12-2 is a movable electrode 13 in the Y-axis direction. They are arranged adjacent to each other on the other side of 13. A gap is provided between the fixed electrode 12 and the movable electrode 13 in the Y-axis direction. That is, the fixed electrode 12 and the movable electrode 13 are not in contact with each other.

固定枠14は、XY面内において固定電極11、固定電極12、可動電極13および弾性部15を囲うように設けられていてよい。本例において、固定電極11および固定電極12は、固定枠14に固定されている。固定電極11および固定電極12と、固定枠14とは、電気的に絶縁されている。本例において、弾性部15の一端は固定枠14に固定され、弾性部15の他端は可動電極13に固定されている。弾性部15の当該一端と固定枠14とは電気的に絶縁されている。 The fixed frame 14 may be provided so as to surround the fixed electrode 11, the fixed electrode 12, the movable electrode 13, and the elastic part 15 in the XY plane. In this example, the fixed electrode 11 and the fixed electrode 12 are fixed to a fixed frame 14. Fixed electrode 11 and fixed electrode 12 and fixed frame 14 are electrically insulated. In this example, one end of the elastic section 15 is fixed to the fixed frame 14, and the other end of the elastic section 15 is fixed to the movable electrode 13. The one end of the elastic portion 15 and the fixed frame 14 are electrically insulated.

センサ装置100(図2および図3参照)は、電圧印加部90を有してよい。電圧印加部90は、弾性部15を通じ、可動電極13にキャリア信号を印加する。当該キャリア信号は、予め定められた周波数fの交流信号であってよい。当該周波数fは、例えば100kHzである。 The sensor device 100 (see FIGS. 2 and 3) may include a voltage application section 90. Voltage application section 90 applies a carrier signal to movable electrode 13 through elastic section 15 . The carrier signal may be an alternating current signal with a predetermined frequency f. The frequency f is, for example, 100 kHz.

図5は、図4に示される物理量センサ10のa-a'断面の一例を示す図である。a-a'線は、固定枠14、固定電極11-1、可動電極13および固定電極11-2を通るXZ断面である。 FIG. 5 is a diagram showing an example of the aa' cross section of the physical quantity sensor 10 shown in FIG. The aa' line is an XZ cross section passing through the fixed frame 14, fixed electrode 11-1, movable electrode 13, and fixed electrode 11-2.

本例の物理量センサ10は、固定電極16を有する。固定電極16は、Z軸方向における可動電極13の一方側に隣り合って配置されてよい。可動電極13のZ軸方向における両側には、空間17が設けられている。空間17-1は、可動電極13と固定電極16とのZ軸方向における間に設けられている。空間17-2は、Z軸方向において、可動電極13を基準に空間17-1とは反対側に設けられている。可動電極13と固定電極16とは、接していない。 The physical quantity sensor 10 of this example has a fixed electrode 16. The fixed electrode 16 may be arranged adjacent to one side of the movable electrode 13 in the Z-axis direction. Spaces 17 are provided on both sides of the movable electrode 13 in the Z-axis direction. The space 17-1 is provided between the movable electrode 13 and the fixed electrode 16 in the Z-axis direction. The space 17-2 is provided on the opposite side of the space 17-1 with respect to the movable electrode 13 in the Z-axis direction. The movable electrode 13 and the fixed electrode 16 are not in contact with each other.

可動電極13は、加速度により変位する。本例の物理量センサ10は、可動電極13が変位することによる、固定電極11、固定電極12および固定電極16と、可動電極13との間における静電容量の変化を検出する。静電容量の当該変化は、増幅回路42(図2および図3参照)により電圧信号に変換されてよい。 The movable electrode 13 is displaced by acceleration. The physical quantity sensor 10 of this example detects a change in capacitance between the movable electrode 13 and the fixed electrode 11, the fixed electrode 12, and the fixed electrode 16 due to the displacement of the movable electrode 13. This change in capacitance may be converted into a voltage signal by an amplifier circuit 42 (see FIGS. 2 and 3).

物理量センサ10が静電容量の変化を検出する場合において、可動電極13には、電圧印加部90(図4参照)によりキャリア信号が印加されてよい。本例の物理量センサ10は、固定電極11、固定電極12および固定電極16と、可動電極13との間における静電容量の変化を検出することにより加速度を検出する。 When the physical quantity sensor 10 detects a change in capacitance, a carrier signal may be applied to the movable electrode 13 by the voltage application section 90 (see FIG. 4). The physical quantity sensor 10 of this example detects acceleration by detecting changes in capacitance between the fixed electrodes 11, 12, 16, and the movable electrode 13.

本例の物理量センサ10は、固定電極11(図4参照)と可動電極13との間における静電容量の変化を検出することにより、加速度のX軸方向の成分を検出する。本例の物理量センサ10は、固定電極12(図4参照)と可動電極13との間における静電容量の変化を検出することにより、加速度のY軸方向の成分を検出する。本例の物理量センサ10は、固定電極16と可動電極13との間における静電容量の変化を検出することにより、加速度のZ軸方向の成分を検出する。 The physical quantity sensor 10 of this example detects the component of acceleration in the X-axis direction by detecting a change in capacitance between the fixed electrode 11 (see FIG. 4) and the movable electrode 13. The physical quantity sensor 10 of this example detects a component of acceleration in the Y-axis direction by detecting a change in capacitance between a fixed electrode 12 (see FIG. 4) and a movable electrode 13. The physical quantity sensor 10 of this example detects a component of acceleration in the Z-axis direction by detecting a change in capacitance between the fixed electrode 16 and the movable electrode 13.

固定電極11(図4参照)、固定電極12(図4参照)および固定電極16には、それぞれ配線92(図4参照)、配線93(図4参照)および配線94が接続されている。本例においては、固定電極11-1および固定電極11-2にそれぞれ配線92-1および配線92-2が接続され、固定電極12-1および固定電極12-2にそれぞれ配線93-1および配線93-2が接続され、固定電極16に配線94が接続されている。 Wiring 92 (see FIG. 4), wiring 93 (see FIG. 4), and wiring 94 are connected to fixed electrode 11 (see FIG. 4), fixed electrode 12 (see FIG. 4), and fixed electrode 16, respectively. In this example, wiring 92-1 and wiring 92-2 are connected to fixed electrode 11-1 and fixed electrode 11-2, respectively, and wiring 93-1 and wiring are connected to fixed electrode 12-1 and fixed electrode 12-2, respectively. 93-2 is connected, and a wiring 94 is connected to the fixed electrode 16.

センサ装置100(図2および図3参照)は、複数の変換回路40を備えてよい。本例においては、センサ装置100は三つの変換回路40(変換回路40-1~変換回路40-3)を備える。本例において、配線92(図4参照)は変換回路40-1に接続され、配線93(図4参照)は変換回路40-2に接続され、配線94は変換回路40-3に接続されている。本例においては、変換回路40は、物理量センサ10により検出された、固定電極11、固定電極12および固定電極16と、可動電極13との間における静電容量の変化を、電圧信号に変換する。 The sensor device 100 (see FIGS. 2 and 3) may include a plurality of conversion circuits 40. In this example, the sensor device 100 includes three conversion circuits 40 (conversion circuits 40-1 to 40-3). In this example, wiring 92 (see FIG. 4) is connected to conversion circuit 40-1, wiring 93 (see FIG. 4) is connected to conversion circuit 40-2, and wiring 94 is connected to conversion circuit 40-3. There is. In this example, the conversion circuit 40 converts changes in capacitance detected by the physical quantity sensor 10 between the fixed electrodes 11, 12, and 16 and the movable electrode 13 into voltage signals. .

図6は、比較例のセンサ装置300を示す図である。図7は、図6に示されるセンサ装置300をY軸方向に見た図である。センサ装置300においては、増幅回路42は第2基板22に設けられている。センサ装置300は、係る点でセンサ装置100と異なる。 FIG. 6 is a diagram showing a sensor device 300 of a comparative example. FIG. 7 is a diagram of the sensor device 300 shown in FIG. 6 viewed in the Y-axis direction. In the sensor device 300, the amplifier circuit 42 is provided on the second substrate 22. Sensor device 300 differs from sensor device 100 in this respect.

図8は、センサ装置100の回路図の一例を示す図である。図8においては、物理量センサ10の容量を示すコンデンサC1およびコンデンサC2が示されている。コンデンサC1は、例えば、図4に示される固定電極12-1と可動電極13との間に形成される容量である。コンデンサC2は、例えば、図4に示される固定電極12-2と可動電極13との間に形成される容量である。コンデンサC1およびコンデンサC2の容量は、例えば10pFである。 FIG. 8 is a diagram showing an example of a circuit diagram of the sensor device 100. In FIG. 8, a capacitor C1 and a capacitor C2 indicating the capacitance of the physical quantity sensor 10 are shown. The capacitor C1 is, for example, a capacitor formed between the fixed electrode 12-1 and the movable electrode 13 shown in FIG. The capacitor C2 is, for example, a capacitor formed between the fixed electrode 12-2 and the movable electrode 13 shown in FIG. The capacitance of capacitor C1 and capacitor C2 is, for example, 10 pF.

本例の変換回路40は、コンデンサCa1~コンデンサCa3、抵抗Ra1、抵抗Ra2および増幅回路42を有する。本例の変換回路は、チャージアンプである。増幅回路42は、例えばオペアンプである。 The conversion circuit 40 of this example includes capacitors Ca1 to Ca3, a resistor Ra1, a resistor Ra2, and an amplifier circuit . The conversion circuit in this example is a charge amplifier. The amplifier circuit 42 is, for example, an operational amplifier.

配線92~配線94は、増幅回路42と物理量センサ10とを接続する。本例においては、配線92-1はコンデンサC1、コンデンサCa1、抵抗Ra1および増幅回路42に接続され、配線92-2はコンデンサC2、コンデンサCa2、コンデンサCa3、抵抗Ra2および増幅回路42に接続されている。配線93-1および配線94は、図8と同様に、コンデンサC1、コンデンサCa1、抵抗Ra1および増幅回路42に接続されている。配線93-2は、図8と同様に、コンデンサC2、コンデンサCa2、コンデンサCa3、抵抗Ra2および増幅回路42に接続されている。 Wiring 92 to wiring 94 connect amplifier circuit 42 and physical quantity sensor 10. In this example, the wiring 92-1 is connected to the capacitor C1, the capacitor Ca1, the resistor Ra1, and the amplifier circuit 42, and the wire 92-2 is connected to the capacitor C2, the capacitor Ca2, the capacitor Ca3, the resistor Ra2, and the amplifier circuit 42. There is. The wiring 93-1 and the wiring 94 are connected to the capacitor C1, the capacitor Ca1, the resistor Ra1, and the amplifier circuit 42, as in FIG. The wiring 93-2 is connected to the capacitor C2, the capacitor Ca2, the capacitor Ca3, the resistor Ra2, and the amplifier circuit 42, as in FIG.

変換回路40の少なくとも一部分は、第1基板20(図2および図3参照)に設けられる。図8において、センサ装置100のうち第1基板20に設けられる範囲が一点鎖線枠で示されている。本例において、増幅回路42と配線92とは、第1基板20に設けられる。本例においては、センサ装置100の全てが第1基板20に設けられる。 At least a portion of the conversion circuit 40 is provided on the first substrate 20 (see FIGS. 2 and 3). In FIG. 8, the range provided on the first substrate 20 of the sensor device 100 is indicated by a dashed-dotted line frame. In this example, the amplifier circuit 42 and the wiring 92 are provided on the first substrate 20. In this example, the entire sensor device 100 is provided on the first substrate 20.

図9は、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。温度Tは、センサ装置100が配置されている空間の気温である。温度T0は、例えば0℃である。本例において、温度T1~温度T6は0℃より高い温度であり、温度T1'~温度T3'は0℃より低い温度である。温度T1~温度T6は、例えば10℃~60℃である。温度T1'~温度T3'は、例えば-10℃~-30℃である。図9では、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係を4回にわたり測定した結果が示されている。 FIG. 9 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T. Temperature T is the air temperature of the space in which the sensor device 100 is placed. The temperature T0 is, for example, 0°C. In this example, temperatures T1 to T6 are higher than 0°C, and temperatures T1' to T3' are lower than 0°C. The temperatures T1 to T6 are, for example, 10°C to 60°C. Temperature T1' to temperature T3' are, for example, -10°C to -30°C. FIG. 9 shows the results of measuring the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T four times.

図9において、0で示される出力は、変換回路40-1の出力の基準値である。当該基準値は、出力の測定開始時における出力であってよい。当該基準値は、所謂零点出力であってよい。当該零点出力とは、物理量センサ10がX軸方向およびY軸方向の加速度を有さず、Z軸方向に重力加速度のみを有する場合の出力を指す。図9において+Vmおよび-Vmで示される出力は、それぞれ出力の誤差として許容される上限値および下限値である。変換回路40-1の出力は、4回の測定のいずれにおいても、温度T3'~温度T6の温度範囲にわたり-Vm~+Vmの範囲に収まっている。 In FIG. 9, the output indicated by 0 is the reference value of the output of the conversion circuit 40-1. The reference value may be the output at the start of output measurement. The reference value may be a so-called zero point output. The zero point output refers to an output when the physical quantity sensor 10 has no acceleration in the X-axis direction or the Y-axis direction, but has only gravitational acceleration in the Z-axis direction. The outputs indicated by +Vm and -Vm in FIG. 9 are the upper and lower limits, respectively, of allowable output errors. The output of the conversion circuit 40-1 is within the range of -Vm to +Vm over the temperature range from temperature T3' to temperature T6 in all four measurements.

図10は、変換回路40-2の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。変換回路40-2の出力は、4回の測定のいずれにおいても、温度T3'~温度T6の温度範囲にわたり-Vm~+Vmの範囲に収まっている。図9および図10は、第1基板20に設けられる変換回路40の少なくとも一部分と、第1基板20との間に形成される寄生容量の温度に対する変化の影響を示している。 FIG. 10 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T. The output of the conversion circuit 40-2 is within the range of -Vm to +Vm over the temperature range from temperature T3' to temperature T6 in all four measurements. 9 and 10 show the influence of a change in temperature on the parasitic capacitance formed between at least a portion of the conversion circuit 40 provided on the first substrate 20 and the first substrate 20. FIG.

図11は、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。図11は、図8に示される変換回路40-1が第2基板22(図6および図7参照)に設けられる場合の例である。図11の例では、変換回路40-1の出力は、4回の測定にわたり-Vm~+Vmの範囲に収まっていない。変換回路40-1の出力の温度依存性は、図9の例よりも大きい。 FIG. 11 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T. FIG. 11 is an example in which the conversion circuit 40-1 shown in FIG. 8 is provided on the second substrate 22 (see FIGS. 6 and 7). In the example of FIG. 11, the output of the conversion circuit 40-1 does not fall within the range of -Vm to +Vm over the four measurements. The temperature dependence of the output of the conversion circuit 40-1 is greater than in the example of FIG.

図12は、変換回路40-2の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。図12の例も、変換回路40-2の出力は、4回の測定にわたり-Vm~+Vmの範囲に収まっていない。変換回路40-2の出力の温度依存性は、図10の例よりも大きい。図11および図12は、第2基板22に設けられる変換回路40の少なくとも一部分と、第2基板22との間に形成される寄生容量の温度に対する変化が、変換回路40の出力に与える影響を示している。 FIG. 12 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T. In the example of FIG. 12 as well, the output of the conversion circuit 40-2 does not fall within the range of -Vm to +Vm over the four measurements. The temperature dependence of the output of the conversion circuit 40-2 is greater than in the example of FIG. FIGS. 11 and 12 show the effect that a change in parasitic capacitance formed between at least a portion of the conversion circuit 40 provided on the second substrate 22 and the second substrate 22 with respect to temperature has on the output of the conversion circuit 40. Showing.

図13は、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の他の一例を示す図である。図13は、変換回路40-1が第2基板22に設けられている場合において、変換回路40-1が、センサシステム200(図1参照)を収納する筐体により乾燥封止されている場合、当該筐体により気密封止されている場合、および、当該筐体に封止されていない場合の例である。乾燥封止とは、乾燥空気が封入されている場合である。図13では、各3台のセンサ装置100(乾燥封止および気密封止の場合)および4台のセンサ装置100(封止せずの場合)について、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係が示されている。 FIG. 13 is a diagram showing another example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T. FIG. 13 shows a case where the conversion circuit 40-1 is provided on the second substrate 22, and the conversion circuit 40-1 is dry-sealed by a housing housing the sensor system 200 (see FIG. 1). This is an example of a case where the device is hermetically sealed by the casing, and a case where the device is not sealed by the casing. Dry sealing is when dry air is sealed. In FIG. 13, the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T are shown for each of three sensor devices 100 (in the case of dry sealing and airtight sealing) and four sensor devices 100 (in the case of no sealing). relationship is shown.

図13に示されるとおり、乾燥封止および気密封止の場合における変換回路40-1の出力は、-Vm~+Vmの範囲に収まっている。封止せずの場合における変換回路40-1の出力の一部は、-Vm~+Vmの範囲に収まらない場合がある。上記より、湿気の変化を抑制することにより零点の変動も抑制される事が理解される。 As shown in FIG. 13, the output of the conversion circuit 40-1 in the case of dry sealing and airtight sealing falls within the range of -Vm to +Vm. A part of the output of the conversion circuit 40-1 in the case of not being sealed may not fall within the range of -Vm to +Vm. From the above, it is understood that by suppressing changes in humidity, fluctuations in the zero point are also suppressed.

上述したとおり、センサ装置100においては変換回路40の少なくとも一部分が第1基板20に設けられる。センサ装置300においては、変換回路40の少なくとも一部分は第2基板22に設けられる。変換回路40の当該少なくとも一部分と第1基板20との間に形成される寄生容量の、温度または湿度に対する変化率は、変換回路40の当該少なくとも一部分と第2基板22との間に形成される寄生容量の、温度または湿度に対する変化率よりも小さい。変換回路40の当該少なくとも一部分とは、変換回路40のコンデンサCa1、コンデンサCa2、コンデンサCa3、抵抗Ra1、抵抗Ra2および増幅回路42を指してよい。変換回路40の当該少なくとも一部分には、変換回路40-1~変換回路40-3の場合における、それぞれ配線92、配線93および配線94が含まれてよい。 As described above, in the sensor device 100, at least a portion of the conversion circuit 40 is provided on the first substrate 20. In the sensor device 300, at least a portion of the conversion circuit 40 is provided on the second substrate 22. The rate of change of the parasitic capacitance formed between the at least part of the conversion circuit 40 and the first substrate 20 with respect to temperature or humidity is determined by the rate of change of the parasitic capacitance formed between the at least part of the conversion circuit 40 and the second substrate 22 Less than the rate of change of parasitic capacitance with temperature or humidity. The at least part of the conversion circuit 40 may refer to the capacitor Ca1, the capacitor Ca2, the capacitor Ca3, the resistor Ra1, the resistor Ra2, and the amplifier circuit 42 of the converter circuit 40. The at least part of the conversion circuit 40 may include the wiring 92, the wiring 93, and the wiring 94 in the case of the conversion circuits 40-1 to 40-3, respectively.

図11、図12、および、図13における封止せずの場合の例では、第2基板22が吸湿することにより、変換回路40の少なくとも一部分と第2基板22との間に形成される寄生容量が変化しやすい。当該寄生容量の変化により、センサ装置300の出力は変化しやすい。第1基板20は第2基板22よりも吸湿しにくいので、図9、図10の例では、変換回路40の少なくとも一部分と第1基板20との間に形成される寄生容量は、図11および図12の例よりも変化しにくい。このため、センサ装置100の出力は、センサ装置300の出力よりも変化しにくい。 In the non-sealed examples shown in FIGS. 11, 12, and 13, a parasitic capacitance is formed between at least a portion of the conversion circuit 40 and the second substrate 22 due to the second substrate 22 absorbing moisture. is easy to change. Due to the change in the parasitic capacitance, the output of the sensor device 300 tends to change. Since the first substrate 20 is less likely to absorb moisture than the second substrate 22, in the examples shown in FIGS. 9 and 10, the parasitic capacitance formed between at least a portion of the conversion circuit 40 and the first substrate 20 is It is less likely to change than the example shown in FIG. Therefore, the output of the sensor device 100 is less likely to change than the output of the sensor device 300.

図14は、図8に示されるセンサ装置100の他の一例を示す図である。配線92は、増幅回路42と物理量センサ10とを接続する。配線92の少なくとも一部は、第1基板20に設けられてよい。図14において、センサ装置100のうち第1基板20に設けられる範囲が一点鎖線枠で示されている。本例においては、配線92の一部が第1基板20に設けられ、配線92の他の一部は第2基板22に設けられる。本例においては、コンデンサC1、コンデンサC2、コンデンサCa2、コンデンサCa3および抵抗Ra2が第1基板20に設けられ、コンデンサCa1、抵抗Ra1および増幅回路42は第2基板22に設けられる。 FIG. 14 is a diagram showing another example of the sensor device 100 shown in FIG. 8. The wiring 92 connects the amplifier circuit 42 and the physical quantity sensor 10. At least a portion of the wiring 92 may be provided on the first substrate 20. In FIG. 14, the range provided on the first substrate 20 in the sensor device 100 is indicated by a dashed-dotted line frame. In this example, a portion of the wiring 92 is provided on the first substrate 20, and another portion of the wiring 92 is provided on the second substrate 22. In this example, the capacitor C1, the capacitor C2, the capacitor Ca2, the capacitor Ca3, and the resistor Ra2 are provided on the first substrate 20, and the capacitor Ca1, the resistor Ra1, and the amplifier circuit 42 are provided on the second substrate 22.

第1基板20がセラミック基板であり、第2基板22がガラスエポキシ基板である場合、第1基板20は、第2基板22よりも高価である蓋然性が高い。本例においては、変換回路40のうちコンデンサCa2、コンデンサCa3、抵抗Ra2および配線92の一部が第1基板20に設けられる。このため、変換回路40の全てが第1基板20に設けられる場合よりも、第1基板20の面積が小さくなりやすい。このため、変換回路40の全てが第1基板20に設けられる場合よりも、センサ装置100の製造コストが低くなりやすい。 If the first substrate 20 is a ceramic substrate and the second substrate 22 is a glass epoxy substrate, there is a high probability that the first substrate 20 is more expensive than the second substrate 22. In this example, the capacitor Ca2, the capacitor Ca3, the resistor Ra2, and part of the wiring 92 of the conversion circuit 40 are provided on the first substrate 20. Therefore, the area of the first substrate 20 tends to be smaller than when all of the conversion circuits 40 are provided on the first substrate 20. Therefore, the manufacturing cost of the sensor device 100 tends to be lower than when all of the conversion circuits 40 are provided on the first substrate 20.

図15は、本発明の一つの実施形態に係るセンサ装置100の他の一例を示す図である。本例のセンサ装置100は、リードフレーム60をさらに備える点で図2に示されるセンサ装置100と異なる。リードフレーム60は、第1基板20と第2基板22とを電気的に接続する。本例のリードフレーム60は、リード64を備える。リード64は、第1基板20と第2基板22とを電気的に接続する。 FIG. 15 is a diagram showing another example of the sensor device 100 according to one embodiment of the present invention. The sensor device 100 of this example differs from the sensor device 100 shown in FIG. 2 in that it further includes a lead frame 60. The lead frame 60 electrically connects the first substrate 20 and the second substrate 22. The lead frame 60 of this example includes leads 64. The leads 64 electrically connect the first substrate 20 and the second substrate 22.

図16は、図15のb-b'線における断面図である。b-b'線は、物理量センサ10、増幅回路42、第1基板20、リード64および第2基板22を通るXZ断面である。本例のリードフレーム60は、所謂Jリード型である。b-b'断面において、リード64の形状はJ字型である。 FIG. 16 is a sectional view taken along line bb' in FIG. 15. The bb' line is an XZ cross section passing through the physical quantity sensor 10, the amplifier circuit 42, the first substrate 20, the lead 64, and the second substrate 22. The lead frame 60 of this example is a so-called J-lead type. In the bb' cross section, the lead 64 has a J-shape.

第1基板20は、リードフレーム60に固定されていてよい。第1基板20と第2基板22とは、離隔していてよい。第1基板20と第2基板22とは、リード64により接続されてよい。 The first substrate 20 may be fixed to the lead frame 60. The first substrate 20 and the second substrate 22 may be separated from each other. The first substrate 20 and the second substrate 22 may be connected by a lead 64.

図17は、センサ装置100が図15および図16の例である場合における、変換回路40-1の出力と時間との関係の一例を示す図である。図18は、センサ装置100が図15および図16の例である場合における、変換回路40-2の出力と時間との関係の一例を示す図である。本例において、変換回路40-1の出力および変換回路40-2の出力は、周期的に変化している。 FIG. 17 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and time when the sensor device 100 is the example shown in FIGS. 15 and 16. FIG. 18 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and time when the sensor device 100 is the example shown in FIGS. 15 and 16. In this example, the output of conversion circuit 40-1 and the output of conversion circuit 40-2 change periodically.

図19は、変換回路40-1の出力が図17の状態である場合における、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。図20は、変換回路40-2の出力が図18の状態である場合における、変換回路40-2の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。図19および図20における温度T3'~温度T6は、図9~図13における温度T3'~温度T6と同じである。図19および図20においては、温度T6よりも高い温度T7および温度T8がさらに示されている。温度T6および温度T7は、例えば70℃および80℃である。 FIG. 19 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T when the output of the conversion circuit 40-1 is in the state shown in FIG. FIG. 20 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T when the output of the conversion circuit 40-2 is in the state shown in FIG. Temperatures T3' to T6 in FIGS. 19 and 20 are the same as temperatures T3' to T6 in FIGS. 9 to 13. In FIGS. 19 and 20, temperatures T7 and T8 which are higher than temperature T6 are further shown. Temperature T6 and temperature T7 are, for example, 70°C and 80°C.

第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数とは、異なり得る。第1基板20がセラミック基板である場合、当該セラミック基板の熱膨張係数は、例えば7.1×10-6/Kである。第2基板22がガラスエポキシ基板である場合、当該ガラスエポキシ基板の熱膨張係数は、例えば1.4×10-5~1.5×10-5/Kである。図14に示されるセンサ装置100のコンデンサCb1~コンデンサCb4の熱膨張係数は、例えば9×10-6/Kである。即ち、コンデンサCb1~コンデンサCb4の熱膨張係数とセラミック基板の熱膨張係数とは、近接している場合がある。 The coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 may be different. When the first substrate 20 is a ceramic substrate, the coefficient of thermal expansion of the ceramic substrate is, for example, 7.1×10 −6 /K. When the second substrate 22 is a glass epoxy substrate, the coefficient of thermal expansion of the glass epoxy substrate is, for example, 1.4×10 −5 to 1.5×10 −5 /K. The thermal expansion coefficients of the capacitors Cb1 to Cb4 of the sensor device 100 shown in FIG. 14 are, for example, 9×10 −6 /K. That is, the thermal expansion coefficients of the capacitors Cb1 to Cb4 and the thermal expansion coefficient of the ceramic substrate may be close to each other.

第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数とが異なる場合、センサ装置100の温度Tが変化すると、第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数との差に基づく応力が第1基板20に印加され得る。図14に示されるセンサ装置100の場合において、コンデンサCb1~コンデンサCb4の熱膨張係数とセラミック基板の熱膨張係数とが近接しており、且つ、第1基板20に当該応力が印加された場合、コンデンサCb1~コンデンサCb4の容量が当該応力により変化し得る。 When the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 are different, when the temperature T of the sensor device 100 changes, the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 are different. A stress may be applied to the first substrate 20 based on the difference between the two. In the case of the sensor device 100 shown in FIG. 14, when the coefficients of thermal expansion of the capacitors Cb1 to Cb4 and the coefficient of thermal expansion of the ceramic substrate are close to each other, and the stress is applied to the first substrate 20, The capacitances of capacitors Cb1 to Cb4 can change depending on the stress.

上述したとおり、本例のセンサ装置100において、第1基板20はリードフレーム60に固定されている。このため、第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数とが異なる場合であっても、第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数との差に基づく応力が、第1基板20に印加されにくくなる。このため、センサ装置100のX軸方向の加速度が図17に示されるように周期的に変化した場合であっても、図19に示されるとおり、センサ装置100のX軸方向の加速度と温度Tとの関係においてヒステリシスが抑制されやすくなる。同様に、センサ装置100のY軸方向の加速度が図18に示されるように周期的に変化した場合であっても、図20に示されるとおり、センサ装置100のY軸方向の加速度と温度Tとの関係においてヒステリシスが抑制されやすくなる。 As described above, in the sensor device 100 of this example, the first substrate 20 is fixed to the lead frame 60. Therefore, even if the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 are different, the difference between the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 This makes it difficult for stress based on this to be applied to the first substrate 20. Therefore, even if the acceleration in the X-axis direction of the sensor device 100 changes periodically as shown in FIG. 17, the acceleration in the X-axis direction and the temperature T of the sensor device 100 as shown in FIG. Hysteresis is more likely to be suppressed in the relationship with Similarly, even if the acceleration in the Y-axis direction of the sensor device 100 changes periodically as shown in FIG. 18, the acceleration in the Y-axis direction and the temperature T of the sensor device 100 as shown in FIG. Hysteresis is more likely to be suppressed in the relationship with

図21は、センサ装置100が図2および図3の例である場合における、変換回路40-1の出力と時間との関係の一例を示す図である。図22は、センサ装置100が図2および図3の例である場合における、変換回路40-2の出力と時間との関係の一例を示す図である。本例において、変換回路40-1の出力および変換回路40-2の出力は、周期的に変化している。 FIG. 21 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and time when the sensor device 100 is the example shown in FIGS. 2 and 3. FIG. 22 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and time when the sensor device 100 is the example shown in FIGS. 2 and 3. In this example, the output of conversion circuit 40-1 and the output of conversion circuit 40-2 change periodically.

図23は、変換回路40-1の出力が図21の状態である場合における、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。図24は、変換回路40-2の出力が図22の状態である場合における、変換回路40-2の出力と温度Tとの関係の一例を示す図である。図23および図24における温度T3'~温度T8は、図19および図20における温度T3'~温度T8と同じである。 FIG. 23 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T when the output of the conversion circuit 40-1 is in the state shown in FIG. FIG. 24 is a diagram showing an example of the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T when the output of the conversion circuit 40-2 is in the state shown in FIG. Temperatures T3' to T8 in FIGS. 23 and 24 are the same as temperatures T3' to T8 in FIGS. 19 and 20.

図2および図3に示されるセンサ装置100において、第1基板20は第2基板22に固定されている。このため、第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数とが異なる場合、第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数との差に基づく応力が第1基板20に印加されやすい。このため、変換回路40-1の出力が図21に示されるように周期的に変化した場合、図23に示されるとおり、変換回路40-1の出力と温度Tとの関係にヒステリシスが生じやすくなる。同様に、変換回路40-2の出力が図22に示されるように周期的に変化した場合、図24に示されるとおり、変換回路40-2の出力と温度Tとの関係にヒステリシスが生じやすくなる。 In the sensor device 100 shown in FIGS. 2 and 3, the first substrate 20 is fixed to the second substrate 22. Therefore, when the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 are different, the stress based on the difference between the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 is The voltage is easily applied to one substrate 20. Therefore, when the output of the conversion circuit 40-1 changes periodically as shown in FIG. 21, hysteresis tends to occur in the relationship between the output of the conversion circuit 40-1 and the temperature T, as shown in FIG. Become. Similarly, when the output of the conversion circuit 40-2 changes periodically as shown in FIG. 22, hysteresis tends to occur in the relationship between the output of the conversion circuit 40-2 and the temperature T, as shown in FIG. Become.

第1基板20およびリードフレーム60(図15および図16参照)の共振周波数を、共振周波数frとする。共振周波数frとは、第1基板20とリードフレーム60とを一体の振動体と見做した場合の共振周波数を指す。リード64のばね定数をk、第1基板20の質量をMとすると、共振周波数frは以下の式で表される。

Figure 2024010886000002
Let the resonant frequency of the first substrate 20 and the lead frame 60 (see FIGS. 15 and 16) be the resonant frequency fr. The resonance frequency fr refers to the resonance frequency when the first substrate 20 and the lead frame 60 are regarded as an integrated vibrating body. When the spring constant of the lead 64 is k and the mass of the first substrate 20 is M, the resonance frequency fr is expressed by the following formula.
Figure 2024010886000002

リードフレーム60がN個(Nは2以上の整数)のリード64を備える場合、リード64のばね定数kとは、N個のリード64を一つのリード64と見做した場合のばね定数を指す。リードフレーム60がN個(Nは2以上の整数)のリード64を備える場合、リード64の一個当たりのばね定数k'は、(k/N)である。 When the lead frame 60 includes N leads 64 (N is an integer of 2 or more), the spring constant k of the leads 64 refers to the spring constant when the N leads 64 are considered as one lead 64. . When the lead frame 60 includes N leads 64 (N is an integer of 2 or more), the spring constant k' of each lead 64 is (k/N).

第1基板20およびリードフレーム60(図15および図16参照)の共振周波数frは、物理量センサ10の共振周波数よりも高くてよい。リード64のばね定数を4×10N/m、第1基板20の質量を10gとすると、共振周波数frは約10kHzである。物理量センサ10の共振周波数は、例えば500~800Hzである。このため、第1基板20をリードフレーム60に固定することにより、共振周波数frは、物理量センサ10の共振周波数の10倍以上になり得る。このため、本例のセンサ装置100においては、物理量センサ10の周波数への共振周波数frの影響を抑制できる。 The resonant frequency fr of the first substrate 20 and the lead frame 60 (see FIGS. 15 and 16) may be higher than the resonant frequency of the physical quantity sensor 10. Assuming that the spring constant of the lead 64 is 4×10 7 N/m and the mass of the first substrate 20 is 10 g, the resonance frequency fr is approximately 10 kHz. The resonant frequency of the physical quantity sensor 10 is, for example, 500 to 800 Hz. Therefore, by fixing the first substrate 20 to the lead frame 60, the resonant frequency fr can become ten times or more the resonant frequency of the physical quantity sensor 10. Therefore, in the sensor device 100 of this example, the influence of the resonance frequency fr on the frequency of the physical quantity sensor 10 can be suppressed.

図25は、本発明の一つの実施形態に係るセンサ装置100の他の一例を示す図である。本例のセンサ装置100は、筐体80および接続部82をさらに備える。筐体80には、第1基板20が固定されている。接続部82は、第1基板20と第2基板22とを電気的に接続する。接続部82は、例えばリード線、フレキシブル基板等である。第1基板20は、可撓性を有する接合材83(後述)により筐体80に固定されていてよい。 FIG. 25 is a diagram showing another example of the sensor device 100 according to one embodiment of the present invention. The sensor device 100 of this example further includes a housing 80 and a connection section 82. The first substrate 20 is fixed to the casing 80. The connecting portion 82 electrically connects the first substrate 20 and the second substrate 22. The connecting portion 82 is, for example, a lead wire, a flexible board, or the like. The first substrate 20 may be fixed to the housing 80 with a flexible bonding material 83 (described later).

図26は、図25に示されるセンサ装置100を説明する他の図である。図26は、センサ装置100をY軸方向に見た図である。本例において、第1基板20および第2基板22は、筐体80に収容されている。第2基板22は、固定部材84により筐体80に固定されている。本例において、第1基板20と第2基板22とは、離隔している。このため、第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数とが異なる場合であっても、第1基板20の熱膨張係数と第2基板22の熱膨張係数との差に基づく応力が、第1基板20に印加されにくくなる。 FIG. 26 is another diagram illustrating the sensor device 100 shown in FIG. 25. FIG. 26 is a diagram of the sensor device 100 viewed in the Y-axis direction. In this example, the first substrate 20 and the second substrate 22 are housed in a housing 80. The second board 22 is fixed to the housing 80 by a fixing member 84. In this example, the first substrate 20 and the second substrate 22 are separated from each other. Therefore, even if the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 are different, the difference between the coefficient of thermal expansion of the first substrate 20 and the coefficient of thermal expansion of the second substrate 22 This makes it difficult for stress based on this to be applied to the first substrate 20.

第1基板20は、接合材83により筐体80に固定されていてよい。本例においては、第1基板20の下面と筐体80の底面とが、接合材83により接続されている。接合材83は、可撓性を有する。接合材83は、絶縁体であってよい。接合材83は、例えばシリコンゴム等である。 The first substrate 20 may be fixed to the housing 80 with a bonding material 83. In this example, the lower surface of the first substrate 20 and the bottom surface of the casing 80 are connected by a bonding material 83. The bonding material 83 has flexibility. The bonding material 83 may be an insulator. The bonding material 83 is, for example, silicone rubber.

第1基板20および接合材83の共振周波数を、共振周波数fr'とする。共振周波数fr'とは、第1基板20と接合材83とを一体の振動体と見做した場合の共振周波数を指す。 The resonance frequency of the first substrate 20 and the bonding material 83 is defined as a resonance frequency fr'. The resonant frequency fr' refers to the resonant frequency when the first substrate 20 and the bonding material 83 are regarded as an integrated vibrating body.

共振周波数fr'は、物理量センサ10の共振周波数よりも高くてよい。接合材83のばね定数を4×10N/m、第1基板20と接合材83との合計質量を100gとすると、共振周波数fr'は約100kHzである。このため、第1基板20が接合材83により筐体80に固定されることにより、共振周波数fr'は、物理量センサ10の共振周波数の100倍以上になり得る。このため、本例のセンサ装置100においては、物理量センサ10の周波数への共振周波数fr'の影響を抑制できる。 The resonant frequency fr' may be higher than the resonant frequency of the physical quantity sensor 10. Assuming that the spring constant of the bonding material 83 is 4×10 7 N/m and the total mass of the first substrate 20 and the bonding material 83 is 100 g, the resonance frequency fr' is approximately 100 kHz. Therefore, by fixing the first substrate 20 to the housing 80 with the bonding material 83, the resonant frequency fr' can be 100 times or more the resonant frequency of the physical quantity sensor 10. Therefore, in the sensor device 100 of this example, the influence of the resonance frequency fr' on the frequency of the physical quantity sensor 10 can be suppressed.

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。 Although the present invention has been described above using the embodiments, the technical scope of the present invention is not limited to the range described in the above embodiments. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or improvements can be made to the embodiments described above. It is clear from the claims that such modifications or improvements may be included within the technical scope of the present invention.

特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。 The order of execution of each process, such as the operation, procedure, step, and stage in the apparatus, system, program, and method shown in the claims, specification, and drawings, is specifically defined as "before" or "before". It should be noted that they can be implemented in any order unless the output of the previous process is used in the subsequent process. Even if the claims, specifications, and operational flows in the drawings are explained using "first," "next," etc. for convenience, this does not mean that it is essential to carry out the operations in this order. It's not a thing.

10・・・物理量センサ、11・・・固定電極、12・・・固定電極、13・・・可動電極、14・・・固定枠、15・・・弾性部、16・・・固定電極、17・・・空間、20・・・第1基板、21・・・蓋部、22・・・第2基板、30・・・制御部、40・・・変換回路、42・・・増幅回路、50・・・周波数発振器、52・・・LPF、54・・・AD変換器、58・・・インターフェース部、60・・・リードフレーム、64・・・リード、70・・・記憶部、80・・・筐体、82・・・接続部、83・・・接合材、84・・・固定部材、90・・・電圧印加部、92・・・配線、93・・・配線、94・・・配線、100・・・センサ装置、110・・・コンピュータ、130・・・給電ハブ、140・・・NTPサーバ、150・・・通信線、200・・・センサシステム、300・・・センサ装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Physical quantity sensor, 11... Fixed electrode, 12... Fixed electrode, 13... Movable electrode, 14... Fixed frame, 15... Elastic part, 16... Fixed electrode, 17 . . . Space, 20 . . . First substrate, 21 . . . Lid, 22 . . . Second substrate, 30 . Frequency oscillator, 52 LPF, 54 AD converter, 58 Interface section, 60 Lead frame, 64 Lead, 70 Storage section, 80... - Housing, 82... Connection portion, 83... Bonding material, 84... Fixing member, 90... Voltage application section, 92... Wiring, 93... Wiring, 94... Wiring , 100... Sensor device, 110... Computer, 130... Power feeding hub, 140... NTP server, 150... Communication line, 200... Sensor system, 300... Sensor device

Claims (13)

物理量センサと、
前記物理量センサにより検出された信号を電圧信号に変換する変換回路と、
前記変換回路の少なくとも一部分および前記物理量センサが設けられた第1基板と、
前記第1基板と電気的に接続された第2基板と、
を備え、
前記変換回路の前記少なくとも一部分と前記第1基板との間に形成される寄生容量の温度または湿度に対する変化率が、前記変換回路の前記少なくとも一部分と前記第2基板との間に形成される寄生容量の温度または湿度に対する変化率よりも小さい、
センサ装置。
physical quantity sensor,
a conversion circuit that converts the signal detected by the physical quantity sensor into a voltage signal;
a first substrate provided with at least a portion of the conversion circuit and the physical quantity sensor;
a second substrate electrically connected to the first substrate;
Equipped with
The rate of change of the parasitic capacitance formed between the at least part of the conversion circuit and the first substrate with respect to temperature or humidity is determined by the parasitic capacitance formed between the at least part of the conversion circuit and the second substrate. less than the rate of change of capacitance with temperature or humidity,
sensor device.
前記第1基板の吸湿率は、前記第2基板の吸湿率よりも小さい、請求項1に記載のセンサ装置。 The sensor device according to claim 1, wherein a moisture absorption rate of the first substrate is lower than a moisture absorption rate of the second substrate. 前記第1基板は、セラミックで形成されている、請求項2に記載のセンサ装置。 The sensor device according to claim 2, wherein the first substrate is made of ceramic. 前記第2基板は、有機材料を含む、請求項2または3に記載のセンサ装置。 The sensor device according to claim 2 or 3, wherein the second substrate includes an organic material. 前記第1基板は、前記第2基板上に固定されている、請求項4に記載のセンサ装置。 The sensor device according to claim 4, wherein the first substrate is fixed on the second substrate. 前記変換回路は、増幅回路、および、前記増幅回路と前記物理量センサとを接続する配線を有し、
前記増幅回路と前記配線とは、前記第1基板に設けられる、
請求項5に記載のセンサ装置。
The conversion circuit includes an amplifier circuit and wiring connecting the amplifier circuit and the physical quantity sensor,
The amplifier circuit and the wiring are provided on the first substrate,
The sensor device according to claim 5.
前記変換回路は、増幅回路、および、前記増幅回路と前記物理量センサとを接続する配線を有し、
前記配線の少なくとも一部は、前記第1基板に設けられ、
前記増幅回路は、前記第2基板に設けられる、
請求項5に記載のセンサ装置。
The conversion circuit includes an amplifier circuit and wiring connecting the amplifier circuit and the physical quantity sensor,
At least a portion of the wiring is provided on the first substrate,
The amplifier circuit is provided on the second substrate,
The sensor device according to claim 5.
前記第1基板の熱膨張率と、前記第2基板の熱膨張率とが異なる、請求項4に記載のセンサ装置。 The sensor device according to claim 4, wherein the first substrate has a different coefficient of thermal expansion and the second substrate has a different coefficient of thermal expansion. 前記第1基板と前記第2基板とを電気的に接続するリードフレームをさらに備える、請求項8に記載のセンサ装置。 The sensor device according to claim 8, further comprising a lead frame that electrically connects the first substrate and the second substrate. 前記第1基板は、前記リードフレームに固定され、
前記第1基板および前記リードフレームの共振周波数が、前記物理量センサの共振周波数よりも高い、
請求項9に記載のセンサ装置。
the first substrate is fixed to the lead frame,
a resonance frequency of the first substrate and the lead frame is higher than a resonance frequency of the physical quantity sensor;
The sensor device according to claim 9.
前記第1基板が固定され、前記第1基板および前記第2基板を収容する筐体と、
前記第1基板と前記第2基板とを電気的に接続する接続部と、
をさらに備える、請求項8に記載のセンサ装置。
a casing to which the first substrate is fixed and accommodates the first substrate and the second substrate;
a connection portion that electrically connects the first substrate and the second substrate;
The sensor device according to claim 8, further comprising:
前記第1基板は、可撓性を有する接合材により前記筐体に固定されている、請求項11に記載のセンサ装置。 The sensor device according to claim 11, wherein the first substrate is fixed to the casing with a flexible bonding material. 前記第1基板および前記接合材の共振周波数が、前記物理量センサの共振周波数よりも高い、請求項12に記載のセンサ装置。 The sensor device according to claim 12, wherein a resonance frequency of the first substrate and the bonding material is higher than a resonance frequency of the physical quantity sensor.
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