JP2024007852A - Optical member having surface protective film, optical laminate, and manufacturing method of optical device - Google Patents

Optical member having surface protective film, optical laminate, and manufacturing method of optical device Download PDF

Info

Publication number
JP2024007852A
JP2024007852A JP2022109212A JP2022109212A JP2024007852A JP 2024007852 A JP2024007852 A JP 2024007852A JP 2022109212 A JP2022109212 A JP 2022109212A JP 2022109212 A JP2022109212 A JP 2022109212A JP 2024007852 A JP2024007852 A JP 2024007852A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical member
surface protection
protection film
meth
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2022109212A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
千尋 舟木
Chihiro FUNAKI
翔悟 佐々木
Shogo Sasaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP2022109212A priority Critical patent/JP2024007852A/en
Priority to KR1020230085483A priority patent/KR20240006448A/en
Priority to CN202310821702.5A priority patent/CN117369030A/en
Publication of JP2024007852A publication Critical patent/JP2024007852A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14Protective coatings, e.g. hard coatings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02Physical, chemical or physicochemical properties
    • B32B7/023Optical properties
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/8793Arrangements for polarized light emission
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/202LCD, i.e. liquid crystal displays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206Organic displays, e.g. OLED

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical member having a surface protective film capable of preventing a protrusion of a processed end part of an optical member when the thin optical member is laser-processed, to provide an optical laminate having such an optical member having a surface protective film, and to provide a manufacturing method of an optical device using such an optical member having a surface protective film.
SOLUTION: An optical member having a surface protective film includes a surface protective film (I) and an optical member. The surface protective film (I) includes a substrate (Ia) and an adhesive layer (Ib). The adhesive layer (Ib) and the optical member are directly laminated. Thickness of the optical member is 400 μm or less, and thickness of the substrate (Ia) is less than 60 μm.
SELECTED DRAWING: Figure 1
COPYRIGHT: (C)2024,JPO&INPIT

Description

本発明は、表面保護フィルム付き光学部材、光学積層体、および、光学デバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to an optical member with a surface protection film, an optical laminate, and a method for manufacturing an optical device.

光学デバイスに含まれる光学部材に剛性や耐衝撃性を付与するために、該光学部材の表面(代表的には、露出面)に予め補強用フィルム(粘着剤層が設けられた補強用基材)を貼り合せて補強しておく場合がある(特許文献1~3)。 In order to impart rigidity and impact resistance to an optical member included in an optical device, a reinforcing base material is provided with a reinforcing film (adhesive layer) on the surface (typically, the exposed surface) of the optical member in advance. ) may be reinforced by bonding them together (Patent Documents 1 to 3).

補強用フィルムは、通常、永久接着を目的としたものであり、一般に工程材として用いられる表面保護フィルム、すなわち、デバイス等の組み立て、加工、輸送等の状況において一時的に仮貼り付けされ、該デバイス等の使用前に再剥離されるものとは異なる。このため、補強用フィルムの粘着剤層を構成する粘着剤は、通常、永久接着を実現できるように設計されている。 Reinforcing films are usually intended for permanent adhesion, and are generally used as surface protection films as process materials. This is different from the one that is peeled off again before using the device. For this reason, the adhesive constituting the adhesive layer of the reinforcing film is usually designed to achieve permanent adhesion.

近年、有機ELパネル、LCDパネル、タッチパネル等に代表される光学デバイスの薄型化が求められている。他方、光学部材用の補強用フィルムは、最終的に光学デバイス中に残る。したがって、薄型化が求められる光学デバイスに含まれる光学部材用の補強用フィルムは、単に補強効果が発現できれば足りるというものではなく、薄型であることも求められる。 In recent years, there has been a demand for thinner optical devices such as organic EL panels, LCD panels, touch panels, and the like. On the other hand, the reinforcing film for the optical member ultimately remains in the optical device. Therefore, it is not enough that a reinforcing film for an optical member included in an optical device that is required to be thin is not merely capable of exhibiting a reinforcing effect, but is also required to be thin.

光学デバイスの製造過程においては、上記のような補強用フィルムが貼り合わされた光学部材をレーザ加工する工程が含まれ得る。このレーザ加工においては、通常、補強用フィルムが貼り合わされた光学部材の該補強用フィルム側からレーザを照射する。 The manufacturing process of the optical device may include a step of laser processing the optical member to which the reinforcing film as described above is bonded. In this laser processing, a laser is usually irradiated from the reinforcing film side of the optical member to which the reinforcing film is bonded.

ところが、補強用フィルムが貼り合わされた光学部材の該補強用フィルム側からレーザを照射してレーザ加工を行うと、該補強用フィルムの加工端部が隆起するという問題がある。このような隆起部は、最終的に光学デバイス中に残ってしまうため、品質不良等の原因となる。 However, when laser processing is performed by irradiating a laser from the reinforcing film side of an optical member to which the reinforcing film is bonded, there is a problem that the processed end of the reinforcing film is raised. Since such a raised portion ultimately remains in the optical device, it causes quality defects and the like.

偏光板そのもの(すなわち、光学部材そのもの)をレーザ加工する際に切断面が隆起するという問題は従来提起されており、その解決手段として、偏光板に耐熱性の高い特定の樹脂フィルムを積層して作製した積層体の該樹脂フィルム側からレーザ照射する方法が報告されている(特許文献4、5)。しかし、この方法で用いる耐熱性の高い特定の樹脂フィルムは、その効果を発現させるために、具体的には、特許文献4の実施例1や特許文献5の実施例1に記載のような、厚み700μmのエポキシフィルムの片面にアクリルウレタンUV樹脂を塗工して厚み3μmの保護層を形成した総厚み703μmの厚い樹脂フィルムを用いており、仮に該樹脂フィルムが補強用フィルムとして機能するとしても、最近の薄型化が求められる光学デバイスには適用が困難である。 The problem of bulging of the cut surface when laser processing the polarizing plate itself (that is, the optical member itself) has been raised in the past, and as a solution to this problem, laminating a specific resin film with high heat resistance on the polarizing plate has been proposed. A method of laser irradiation from the resin film side of the produced laminate has been reported (Patent Documents 4 and 5). However, in order to express the effect of the specific resin film with high heat resistance used in this method, specifically, as described in Example 1 of Patent Document 4 and Example 1 of Patent Document 5, A thick resin film with a total thickness of 703 μm is used by coating one side of a 700 μm thick epoxy film with acrylic urethane UV resin to form a 3 μm thick protective layer, and even if the resin film functions as a reinforcing film. , it is difficult to apply it to the recent optical devices that are required to be thin.

特許第6366199号公報Patent No. 6366199 特許第6375467号公報Patent No. 6375467 特許第6467551号公報Patent No. 6467551 特開2005-189530号公報Japanese Patent Application Publication No. 2005-189530 特開2009-86675号公報Japanese Patent Application Publication No. 2009-86675

すなわち、本発明の課題は、薄型の光学部材をレーザ加工する際に、該光学部材の加工端部の隆起を抑制できる、表面保護フィルム付き光学部材を提供することにある。また、そのような表面保護フィルム付き光学部材を備えた光学積層体を提供することにある。さらに、そのような表面保護フィルム付き光学部材を用いた光学デバイスの製造方法を提供することにある。 That is, an object of the present invention is to provide an optical member with a surface protection film that can suppress the protrusion of the processed end of a thin optical member when laser processing the optical member. Another object of the present invention is to provide an optical laminate including such an optical member with a surface protection film. Furthermore, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical device using such an optical member with a surface protection film.

本発明者は、薄型の光学部材をレーザ加工する際の加工端部の隆起の問題を解決するべく鋭意検討を行った。その結果、薄型の光学部材に特定の表面保護フィルムが貼り合わせられた表面保護フィルム付き光学部材を用い、レーザ加工を行って該表面保護フィルムを再剥離すると、露出した光学部材の加工端部における隆起が抑制できることを見出し、本発明を完成させた。 The inventors of the present invention have conducted extensive studies to solve the problem of protrusions at the processed edges when laser processing a thin optical member. As a result, when an optical member with a surface protection film is used, in which a specific surface protection film is bonded to a thin optical member, and the surface protection film is re-peeled after laser processing, the processed edge of the exposed optical member is It was discovered that the protrusions can be suppressed, and the present invention was completed.

[1]本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材は、表面保護フィルム(I)と光学部材を含む表面保護フィルム付き光学部材であって、該表面保護フィルム(I)は、基材(Ia)と粘着剤層(Ib)を含み、該粘着剤層(Ib)と該光学部材とが直接積層されてなり、該光学部材の厚みが400μm以下であり、該基材(Ia)の厚みが60μm未満である。
[2]上記[1]に記載の表面保護フィルム付き光学部材において、上記粘着剤層(Ib)の80℃における表面硬さが3.00MPa以下であってもよい。
[3]上記[1]または[2]に記載の表面保護フィルム付き光学部材において、上記粘着剤層(Ib)の厚みが45μm未満であってもよい。
[4]上記[1]から[3]までのいずれかに記載の表面保護フィルム付き光学部材において、上記粘着剤層(Ib)の、温度23℃、相対湿度50%の環境下での、剥離角度180°、引張速度300mm/分における対アクリル板剥離力が、0.25N/25mm未満であってもよい。
[5]上記[1]から[4]までのいずれかに記載の表面保護フィルム付き光学部材において、上記光学部材が補強用フィルム(II)であり、該補強用フィルム(II)は、基材(IIa)と粘着剤層(IIb)を含んでいてもよい。
[6]上記[5]に記載の表面保護フィルム付き光学部材において、上記粘着剤層(IIb)の、温度23℃、相対湿度50%の環境下での、剥離角度180°、引張速度300mm/分における対ポリイミドフィルム接着力が、3N/25mm以上であってもよい。
[7]本発明の実施形態による光学積層体は、上記[1]から[6]までのいずれかに記載の表面保護フィルム付き光学部材を含む。
[8]本発明の実施形態による光学デバイスの製造方法は、光学部材を含む光学デバイスの製造方法であって、上記[5]または[6]に記載の表面保護フィルム付き光学部材を他の光学部材に貼り合わせる工程と、該表面保護フィルム付き光学部材から見て該他の光学部材の反対側からレーザを照射してレーザ加工を行う工程と、該レーザ加工後の該表面保護フィルムを再剥離する工程と、を含む。
[1] The optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention is an optical member with a surface protection film including a surface protection film (I) and an optical member, and the surface protection film (I) has a base material ( Ia) and an adhesive layer (Ib), the adhesive layer (Ib) and the optical member are directly laminated, the thickness of the optical member is 400 μm or less, and the thickness of the base material (Ia) is is less than 60 μm.
[2] In the optical member with a surface protection film according to [1] above, the pressure-sensitive adhesive layer (Ib) may have a surface hardness of 3.00 MPa or less at 80°C.
[3] In the optical member with a surface protection film according to [1] or [2] above, the pressure-sensitive adhesive layer (Ib) may have a thickness of less than 45 μm.
[4] In the optical member with a surface protection film according to any one of [1] to [3] above, peeling of the adhesive layer (Ib) at a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. The peeling force against the acrylic plate at an angle of 180° and a tensile speed of 300 mm/min may be less than 0.25 N/25 mm.
[5] In the optical member with a surface protection film according to any one of [1] to [4] above, the optical member is a reinforcing film (II), and the reinforcing film (II) is a base material. (IIa) and an adhesive layer (IIb) may be included.
[6] In the optical member with a surface protection film according to [5] above, the pressure-sensitive adhesive layer (IIb) is peeled at a peeling angle of 180° and a tensile speed of 300 mm/in an environment of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. The adhesive force to the polyimide film in minutes may be 3N/25mm or more.
[7] The optical laminate according to the embodiment of the present invention includes the optical member with a surface protection film according to any one of [1] to [6] above.
[8] A method for manufacturing an optical device according to an embodiment of the present invention is a method for manufacturing an optical device including an optical member, in which the optical member with the surface protection film described in [5] or [6] above is combined with another optical member. A step of attaching the surface protection film to a member, a step of performing laser processing by irradiating a laser from the opposite side of the other optical member when viewed from the optical member with the surface protection film, and a step of repeeling the surface protection film after the laser processing. and a step of doing so.

本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材は、薄型化が求められる光学デバイスの製造過程に好適に使用でき、該表面保護フィルム付き光学部材を用いてレーザ加工を行うと、該レーザ加工後に該表面保護フィルムを再剥離して露出した光学部材の加工端部における隆起が抑制され、品質不良品の発生を低減できる。また、そのような表面保護フィルム付き光学部材を備えた光学積層体を提供することができる。さらに、そのような表面保護フィルム付き光学部材を用いた、光学デバイスの製造方法を提供することができる。 The optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention can be suitably used in the manufacturing process of an optical device that requires thinning, and when laser processing is performed using the optical member with a surface protection film, after the laser processing Protrusions at the processed end of the optical member exposed by repeeling the surface protection film are suppressed, and the occurrence of defective products can be reduced. Moreover, an optical laminate including such an optical member with a surface protection film can be provided. Furthermore, it is possible to provide a method for manufacturing an optical device using such an optical member with a surface protection film.

本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材の一つの実施形態を示す概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of an optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態による光学積層体の一つの実施形態を示す概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of an optical laminate according to an embodiment of the present invention. レーザ加工端部を説明する概略説明図である。It is a schematic explanatory view explaining a laser processing edge part.

本明細書中で「質量」との表現がある場合は、従来一般に重さの単位として慣用されている「重量」と読み替えてもよく、逆に、本明細書中で「重量」との表現がある場合は、重さを示すSI系単位として慣用されている「質量」と読み替えてもよい。 When the expression "mass" is used in this specification, it may be read as "weight", which has conventionally been commonly used as a unit of weight, and conversely, the expression "weight" in this specification If there is, it may be read as "mass", which is commonly used as an SI unit indicating weight.

本明細書中で「(メタ)アクリル」との表現がある場合は、「アクリルおよび/またはメタクリル」を意味し、「(メタ)アクリレート」との表現がある場合は、「アクリレートおよび/またはメタクリレート」を意味し、「(メタ)アリル」との表現がある場合は、「アリルおよび/またはメタリル」を意味し、「(メタ)アクロレイン」との表現がある場合は、「アクロレインおよび/またはメタクロレイン」を意味する。 In this specification, the expression "(meth)acrylic" means "acrylic and/or methacrylic", and the expression "(meth)acrylate" means "acrylate and/or methacrylate". ”, the expression “(meth)allyl” means “allyl and/or methallyl”, and the expression “(meth)acrolein” means “acrolein and/or methacrolein”. It means "Rain".

≪≪1.表面保護フィルム付き光学部材≫≫
本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材は、表面保護フィルム(I)と光学部材を含む。本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材は、表面保護フィルム(I)と光学部材を含んでいれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の構成部材を含んでいてもよい。本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材は、代表的には、表面保護フィルム(I)と光学部材からなる。
≪≪1. Optical components with surface protection film≫≫
The optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention includes a surface protection film (I) and an optical member. The optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention includes the surface protection film (I) and the optical member, and may contain any other appropriate constituent members as long as the effects of the present invention are not impaired. You can stay there. The optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention typically includes a surface protection film (I) and an optical member.

表面保護フィルム(I)は、基材(Ia)と粘着剤層(Ib)を含む。 The surface protection film (I) includes a base material (Ia) and an adhesive layer (Ib).

本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材においては、粘着剤層(Ib)と光学部材が直接積層されてなる。 In the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention, the adhesive layer (Ib) and the optical member are directly laminated.

光学部材としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な光学部材を採用し得る。本発明の効果をより発現させ得る点で、光学部材としては、代表的には、補強用フィルム、偏光板が挙げられる。 As the optical member, any suitable optical member may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired. Typical examples of the optical member include a reinforcing film and a polarizing plate, since they can further enhance the effects of the present invention.

光学部材の一つの実施形態は、光学部材が補強用フィルム(II)であり、該補強用フィルム(II)は、基材(IIa)と粘着剤層(IIb)を含む。 In one embodiment of the optical member, the optical member is a reinforcing film (II), and the reinforcing film (II) includes a base material (IIa) and an adhesive layer (IIb).

図1は、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材の一つの実施形態を示す概略断面図である。本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材1000の一つの実施形態は、表面保護フィルム(I)100と補強用フィルム(II)200を含み、表面保護フィルム(I)100は、基材(Ia)11と粘着剤層(Ib)12を含み、補強用フィルム(II)200は、基材(IIa)21と粘着剤層(IIb)22を含み、粘着剤層(Ib)12と基材(IIa)21が直接積層されてなる。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of an optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention. One embodiment of the optical member 1000 with a surface protection film according to an embodiment of the present invention includes a surface protection film (I) 100 and a reinforcing film (II) 200, and the surface protection film (I) 100 includes a base material ( The reinforcing film (II) 200 includes a base material (IIa) 21 and an adhesive layer (IIb) 22, and includes an adhesive layer (Ib) 12 and a base material. (IIa) 21 are directly laminated.

本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材の総厚みは、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは200μm~505μmであり、より好ましくは210μm~455μmであり、さらに好ましくは220μm~405μmであり、特に好ましくは230μm~350μmである。本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材の総厚みが上記範囲を外れると、本発明の効果が発現できないおそれがある。本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材の総厚みが上記範囲を外れて厚すぎると、例えば、光学デバイスの製造過程への適用が困難になるおそれがある。本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材の総厚みが上記範囲を外れて薄すぎると、例えば、光学部材が補強用フィルムの場合、光学デバイスに含まれる他の光学部材に剛性や耐衝撃性を付与するという補強用フィルム本来の性能を発現できなくなるおそれがある。 The total thickness of the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention is preferably 200 μm to 505 μm, more preferably 210 μm to 455 μm, and even more preferably 220 μm, from the viewpoint of further expressing the effects of the present invention. ~405 μm, particularly preferably 230 μm ~ 350 μm. If the total thickness of the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention is out of the above range, there is a possibility that the effects of the present invention may not be exhibited. If the total thickness of the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention is too thick outside the above range, it may be difficult to apply it to the manufacturing process of optical devices, for example. If the total thickness of the optical member with the surface protection film according to the embodiment of the present invention is too thin outside the above range, for example, if the optical member is a reinforcing film, the rigidity and impact resistance of other optical members included in the optical device may be affected. There is a possibility that the reinforcing film may not be able to exhibit its original performance of imparting properties.

本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材は、表面保護フィルム(I)と光学部材を含み、粘着剤層(Ib)と光学部材が直接積層されるようにできれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な方法によって製造し得る。 The optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention includes the surface protection film (I) and the optical member, and if the adhesive layer (Ib) and the optical member can be directly laminated, the effects of the present invention will be impaired. It can be manufactured by any suitable method to the extent that it is not.

本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を製造する方法の一つの実施形態としては、例えば、表面保護フィルム(I)と光学部材をそれぞれ準備し、表面保護フィルム(I)の粘着剤層(Ib)を、光学部材に貼り合わせる方法が挙げられる。光学部材が補強用フィルム(II)であり、該補強用フィルム(II)が、基材(IIa)と粘着剤層(IIb)を含む場合は、表面保護フィルム(I)の粘着剤層(Ib)を、補強用フィルム(II)の最外層としての基材(IIa)に貼り合わせる方法が挙げられる。 As one embodiment of the method for manufacturing an optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention, for example, a surface protection film (I) and an optical member are each prepared, and an adhesive layer of the surface protection film (I) is prepared. Examples include a method of bonding (Ib) to an optical member. When the optical member is a reinforcing film (II) and the reinforcing film (II) includes a base material (IIa) and an adhesive layer (IIb), the adhesive layer (Ib) of the surface protection film (I) ) to the base material (IIa) as the outermost layer of the reinforcing film (II).

≪1-1.表面保護フィルム(I)≫
表面保護フィルム(I)は、基材(Ia)と粘着剤層(Ib)を含む。代表的には、基材(Ia)と粘着剤層(Ib)は、直接に積層されてなる。
≪1-1. Surface protection film (I)≫
The surface protection film (I) includes a base material (Ia) and an adhesive layer (Ib). Typically, the base material (Ia) and the adhesive layer (Ib) are directly laminated.

表面保護フィルム(I)は、基材(Ia)と粘着剤層(Ib)を含んでいれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の構成部材(Ic)を含んでいてもよい。 As long as the surface protection film (I) contains the base material (Ia) and the adhesive layer (Ib), it may contain any appropriate other constituent members (Ic) as long as the effects of the present invention are not impaired. You can stay there.

他の構成部材(Ic)としては、例えば、易接着層、易滑層、ブロッキング防止層、帯電防止層、反射防止層、オリゴマー防止層が挙げられる。他の構成部材(Ic)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Other constituent members (Ic) include, for example, an easy-adhesion layer, an easy-slip layer, an anti-blocking layer, an antistatic layer, an anti-reflection layer, and an anti-oligomer layer. The number of other constituent members (Ic) may be one type or two or more types.

表面保護フィルム(I)の厚みは、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは25μm~105μmであり、より好ましくは35μm~95μmであり、さらに好ましくは40μm~85μmであり、特に好ましくは45μm~70μmである。表面保護フィルム(I)の厚みが上記範囲を外れると、本発明の効果が発現できないおそれがある。表面保護フィルム(I)の総厚みが上記範囲を外れて厚すぎると、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を薄型の光学デバイスへ適用することが困難になるおそれがあり、また、該表面保護フィルム付き光学部材を用いてレーザ加工を行った場合に、該レーザ加工後に該表面保護フィルムを再剥離して露出した光学部材の加工端部における隆起が抑制できないおそれがある。表面保護フィルム(I)の厚みが上記範囲を外れて薄すぎると、表面保護フィルム付き光学部材を用いてレーザ加工を行った場合に、該レーザ加工後に該表面保護フィルムを再剥離して露出した光学部材の加工端部における隆起が抑制できないおそれがある。 The thickness of the surface protection film (I) is preferably 25 μm to 105 μm, more preferably 35 μm to 95 μm, still more preferably 40 μm to 85 μm, and particularly preferably is 45 μm to 70 μm. If the thickness of the surface protection film (I) is outside the above range, the effects of the present invention may not be achieved. If the total thickness of the surface protection film (I) is too thick outside the above range, it may be difficult to apply the optical member with the surface protection film according to the embodiment of the present invention to a thin optical device, and When laser processing is performed using the optical member with the surface protection film, there is a possibility that the protrusion at the processed end of the optical member exposed by peeling off the surface protection film again after the laser processing cannot be suppressed. If the thickness of the surface protection film (I) is too thin outside the above range, when laser processing is performed using an optical member with a surface protection film, the surface protection film may be peeled off again after the laser processing and exposed. There is a possibility that the protrusion at the processed end of the optical member cannot be suppressed.

<1-1-a.基材(Ia)>
基材(Ia)は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。基材(Ia)は、延伸されたものであってもよい。
<1-1-a. Base material (Ia)>
The base material (Ia) may have only one layer, or may have two or more layers. The base material (Ia) may be stretched.

基材(Ia)の厚みは、好ましくは60μm未満であり、より好ましくは55μm未満であり、さらに好ましくは50μm未満であり、特に好ましくは45μm未満であり、最も好ましくは40μm未満である。基材(Ia)の厚みの下限値は、薄ければ薄いほどよいが、好ましくは24μm以上であり、より好ましくは27μm以上であり、さらに好ましくは30μm以上であり、特に好ましくは33μm以上であり、最も好ましくは36μm以上である。基材(Ia)の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の効果がより発現し得る。基材(Ia)の厚みが上記範囲を外れると、本発明の効果が発現し難くなり、例えば、表面保護フィルム付き補強用フィルムを光学部材に貼り合わせてレーザ加工を行った場合に、該レーザ加工後に該表面保護フィルムを再剥離して露出した補強用フィルムの加工端部における隆起が抑制できないおそれがある。 The thickness of the substrate (Ia) is preferably less than 60 μm, more preferably less than 55 μm, even more preferably less than 50 μm, particularly preferably less than 45 μm, and most preferably less than 40 μm. The lower limit of the thickness of the base material (Ia) is preferably 24 μm or more, more preferably 27 μm or more, still more preferably 30 μm or more, and particularly preferably 33 μm or more. , most preferably 36 μm or more. If the thickness of the base material (Ia) is within the above range, the effects of the present invention can be more effectively exhibited. If the thickness of the base material (Ia) is outside the above range, the effects of the present invention will be difficult to achieve.For example, when a reinforcing film with a surface protection film is bonded to an optical member and subjected to laser processing, the laser There is a possibility that the surface protection film is peeled off again after processing and the exposed protrusions at the processed edges of the reinforcing film cannot be suppressed.

基材(Ia)の粘着剤層(Ib)と反対側の面には、本発明の効果を損なわない範囲で、例えば、脂肪酸アミド、ポリエチレンイミン、長鎖アルキル系添加剤等を添加して離型処理を行ったり、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系などの任意の適切な剥離剤からなるコート層を設けたりしてもよい。 For example, fatty acid amide, polyethyleneimine, long-chain alkyl additives, etc. may be added to the surface of the base material (Ia) opposite to the adhesive layer (Ib) to the extent that the effects of the present invention are not impaired. A mold treatment may be performed or a coating layer made of any suitable release agent such as silicone-based, long-chain alkyl-based, or fluorine-based release agent may be provided.

基材(Ia)の材料としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な材料を採用し得る。このような材料としては、例えば、プラスチック、紙、金属フィルム、不織布が挙げられ、好ましくは、プラスチックである。すなわち、基材(Ia)は、好ましくは、プラスチックフィルムである。基材(Ia)は、1種の材料から構成されていてもよいし、2種以上の材料から構成されていてもよい。例えば、2種以上のプラスチックから構成されていてもよい。 As the material for the base material (Ia), any suitable material may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired. Such materials include, for example, plastic, paper, metal film, and nonwoven fabric, with plastic being preferred. That is, the base material (Ia) is preferably a plastic film. The base material (Ia) may be composed of one type of material, or may be composed of two or more types of materials. For example, it may be made of two or more types of plastics.

上記プラスチックとしては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などが挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが挙げられる。ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、オレフィンモノマーの単独重合体、オレフィンモノマーの共重合体などが挙げられる。ポリオレフィン系樹脂としては、具体的には、例えば、ホモポリプロピレン;エチレン成分を共重合成分とするブロック系、ランダム系、グラフト系等のプロピレン系共重合体;リアクターTPO;低密度、高密度、リニア低密度、超低密度等のエチレン系重合体;エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸メチル共重合体、エチレン・アクリル酸エチル共重合体、エチレン・アクリル酸ブチル共重合体、エチレン・メタクリル酸共重合体、エチレン・メタクリル酸メチル共重合体等のエチレン系共重合体;などが挙げられる。 Examples of the plastics include polyester resins, polyamide resins, polyolefin resins, and the like. Examples of the polyester resin include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Examples of the polyolefin resin include homopolymers of olefin monomers and copolymers of olefin monomers. Specific examples of polyolefin resins include, for example, homopolypropylene; block, random, and graft propylene copolymers containing ethylene as a copolymerization component; reactor TPO; low density, high density, and linear Ethylene-based polymers with low density or ultra-low density; ethylene/propylene copolymer, ethylene/vinyl acetate copolymer, ethylene/methyl acrylate copolymer, ethylene/ethyl acrylate copolymer, ethylene/acrylic acid Examples include ethylene copolymers such as butyl copolymers, ethylene/methacrylic acid copolymers, and ethylene/methyl methacrylate copolymers.

基材(Ia)は、必要に応じて、任意の適切な添加剤を含有し得る。基材(Ia)に含有され得る添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、充填剤、顔料などが挙げられる。基材(Ia)に含有され得る添加剤の種類、数、量は、目的に応じて適切に設定され得る。特に、基材(Ia)の材料がプラスチックの場合は、劣化防止等を目的として、上記の添加剤のいくつかを含有することが好ましい。耐候性向上等の観点から、添加剤として特に好ましくは、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤が挙げられる。 The base material (Ia) may contain any suitable additives as necessary. Examples of additives that can be contained in the base material (Ia) include antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antistatic agents, fillers, and pigments. The type, number, and amount of additives that can be contained in the base material (Ia) can be appropriately set depending on the purpose. In particular, when the material of the base material (Ia) is plastic, it is preferable to contain some of the above additives for the purpose of preventing deterioration and the like. From the viewpoint of improving weather resistance, particularly preferred additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, and fillers.

酸化防止剤としては、任意の適切な酸化防止剤を採用し得る。このような酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系加工熱安定剤、ラクトン系加工熱安定剤、イオウ系耐熱安定剤、フェノール・リン系酸化防止剤などが挙げられる。酸化防止剤の含有割合は、基材(Ia)のベース樹脂(基材(Ia)を形成するベース樹脂がブレンド物の場合にはそのブレンド物がベース樹脂である)に対して、好ましくは1重量%以下であり、より好ましくは0.5重量%以下であり、さらに好ましくは0.01重量%~0.2重量%である。 Any suitable antioxidant can be employed as the antioxidant. Examples of such antioxidants include phenolic antioxidants, phosphorus-based processing heat stabilizers, lactone-based processing heat stabilizers, sulfur-based heat stabilizers, and phenol/phosphorus-based antioxidants. The content ratio of the antioxidant is preferably 1 to the base resin of the base material (Ia) (if the base resin forming the base material (Ia) is a blend, the blend is the base resin). It is not more than 0.5% by weight, more preferably not more than 0.5% by weight, and even more preferably from 0.01% to 0.2% by weight.

紫外線吸収剤としては、任意の適切な紫外線吸収剤を採用し得る。このような紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤などが挙げられる。紫外線吸収剤の含有割合は、基材(Ia)を形成するベース樹脂(基材(Ia)を形成するベース樹脂がブレンド物の場合にはそのブレンド物がベース樹脂である)に対して、好ましくは2重量%以下であり、より好ましくは1重量%以下であり、さらに好ましくは0.01重量%~0.5重量%である。 Any suitable ultraviolet absorber can be employed as the ultraviolet absorber. Examples of such UV absorbers include benzotriazole UV absorbers, triazine UV absorbers, and benzophenone UV absorbers. The content ratio of the ultraviolet absorber is preferably based on the base resin forming the base material (Ia) (if the base resin forming the base material (Ia) is a blend, the blend is the base resin). is 2% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and still more preferably 0.01% to 0.5% by weight.

光安定剤としては、任意の適切な光安定剤を採用し得る。このような光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤、ベンゾエート系光安定剤などが挙げられる。光安定剤の含有割合は、基材(Ia)を形成するベース樹脂(基材(Ia)を形成するベース樹脂がブレンド物の場合にはそのブレンド物がベース樹脂である)に対して、好ましくは2重量%以下であり、より好ましくは1重量%以下であり、さらに好ましくは0.01重量%~0.5重量%である。 Any suitable light stabilizer may be employed as the light stabilizer. Examples of such light stabilizers include hindered amine light stabilizers and benzoate light stabilizers. The content ratio of the light stabilizer is preferably based on the base resin forming the base material (Ia) (if the base resin forming the base material (Ia) is a blend, the blend is the base resin). is 2% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and still more preferably 0.01% to 0.5% by weight.

充填剤としては、任意の適切な充填剤を採用し得る。このような充填剤としては、例えば、無機系充填剤などが挙げられる。無機系充填剤としては、具体的には、例えば、カーボンブラック、酸化チタン、酸化亜鉛などが挙げられる。充填剤の含有割合は、基材(Ia)を形成するベース樹脂(基材(Ia)を形成するベース樹脂がブレンド物の場合にはそのブレンド物がベース樹脂である)に対して、好ましくは20重量%以下であり、より好ましくは10重量%以下であり、さらに好ましくは0.01重量%~10重量%である。 Any suitable filler can be used as the filler. Examples of such fillers include inorganic fillers. Specific examples of the inorganic filler include carbon black, titanium oxide, zinc oxide, and the like. The content ratio of the filler is preferably based on the base resin forming the base material (Ia) (if the base resin forming the base material (Ia) is a blend, the blend is the base resin). It is 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, and even more preferably 0.01% to 10% by weight.

さらに、添加剤としては、帯電防止性付与を目的として、界面活性剤、無機塩、多価アルコール、金属化合物、カーボン等の無機系、低分子量系および高分子量系帯電防止剤も好ましく挙げられる。特に、汚染、粘着性維持の観点から、高分子量系帯電防止剤やカーボンが好ましい。 Further, as additives, inorganic, low molecular weight and high molecular weight antistatic agents such as surfactants, inorganic salts, polyhydric alcohols, metal compounds, and carbon, for the purpose of imparting antistatic properties, are also preferably mentioned. In particular, high molecular weight antistatic agents and carbon are preferred from the viewpoint of preventing staining and maintaining tackiness.

<1-1-b.粘着剤層(Ib)>
粘着剤層(Ib)は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。
<1-1-b. Adhesive layer (Ib)>
The adhesive layer (Ib) may have only one layer, or may have two or more layers.

粘着剤層(Ib)の厚みは、好ましくは45μm未満であり、より好ましくは1μm~40μmであり、さらに好ましくは2μm~35μmであり、特に好ましくは3μm~30μmであり、最も好ましくは5μm~25μmである。粘着剤層(Ib)の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の効果がより発現し得る。粘着剤層(Ib)の厚みが上記範囲を外れると、本発明の効果が発現し難くなり、例えば、表面保護フィルム付き光学部材を用いてレーザ加工を行った場合に、該レーザ加工後に該表面保護フィルムを再剥離して露出した光学部材の加工端部における隆起が抑制できないおそれがある。 The thickness of the adhesive layer (Ib) is preferably less than 45 μm, more preferably 1 μm to 40 μm, even more preferably 2 μm to 35 μm, particularly preferably 3 μm to 30 μm, and most preferably 5 μm to 25 μm. It is. If the thickness of the adhesive layer (Ib) is within the above range, the effects of the present invention can be more effectively exhibited. If the thickness of the adhesive layer (Ib) is out of the above range, the effects of the present invention will be difficult to exhibit. For example, when laser processing is performed using an optical member with a surface protection film, the surface There is a possibility that the protrusion at the processed end of the optical member exposed by peeling off the protective film again cannot be suppressed.

粘着剤層(Ib)は、80℃における表面硬さが、好ましくは3.00MPa以下であり、より好ましくは2.00MPa以下であり、さらに好ましくは1.00MPa以下であり、特に好ましくは0.80MPa以下であり、最も好ましくは0.60MPa以下である。上記表面硬さの下限値は、好ましくは0.05MPa以上であり、より好ましくは0.10MPa以上であり、さらに好ましくは0.15MPa以上であり、特に好ましくは0.18MPa以上である。粘着剤層(Ib)の80℃における表面硬さが上記範囲内にあれば、本発明の効果がより発現し得る。上記表面硬さが上記範囲を外れると、本発明の効果が発現し難くなり、例えば、表面保護フィルム付き光学部材を用いてレーザ加工を行った場合に、該レーザ加工後に該表面保護フィルムを再剥離して露出した光学部材の加工端部における隆起が抑制できないおそれがある。 The surface hardness of the adhesive layer (Ib) at 80° C. is preferably 3.00 MPa or less, more preferably 2.00 MPa or less, still more preferably 1.00 MPa or less, particularly preferably 0.0 MPa or less. It is 80 MPa or less, most preferably 0.60 MPa or less. The lower limit of the surface hardness is preferably 0.05 MPa or more, more preferably 0.10 MPa or more, even more preferably 0.15 MPa or more, particularly preferably 0.18 MPa or more. If the surface hardness of the adhesive layer (Ib) at 80° C. is within the above range, the effects of the present invention can be more effectively exhibited. If the surface hardness falls outside of the above range, the effects of the present invention will be difficult to achieve.For example, when laser processing is performed using an optical member with a surface protection film, the surface protection film may be reused after the laser processing. There is a possibility that the protrusion at the processed end of the optical member that is peeled off and exposed cannot be suppressed.

粘着剤層(Ib)は、23℃、相対湿度50%の環境下での、剥離角度180度、引張速度300mm/分における対アクリル板剥離力が、好ましくは0.25N/25mm未満であり、より好ましくは0.23N/25mm未満であり、さらに好ましくは0.22N/25mm未満であり、特に好ましくは0.21N/25mm未満であり、最も好ましくは0.20N/25mm未満である。上記対アクリル板剥離力の下限値は、好ましくは0.01N/25mm以上、より好ましくは0.02N/25mm以上であり、さらに好ましくは0.03N/25mm以上であり、特に好ましくは0.04N/25mm以上である。上記対アクリル板剥離力が上記範囲内にあれば、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材から該表面保護フィルムを容易に再剥離し得る。 The adhesive layer (Ib) preferably has a peel force against the acrylic plate of less than 0.25 N/25 mm at a peel angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm/min in an environment of 23° C. and 50% relative humidity, More preferably, it is less than 0.23 N/25 mm, still more preferably less than 0.22 N/25 mm, particularly preferably less than 0.21 N/25 mm, and most preferably less than 0.20 N/25 mm. The lower limit of the peeling force against the acrylic plate is preferably 0.01N/25mm or more, more preferably 0.02N/25mm or more, still more preferably 0.03N/25mm or more, and particularly preferably 0.04N. /25mm or more. If the peeling force against the acrylic plate is within the above range, the surface protection film can be easily re-peeled from the surface protection film-attached optical member according to the embodiment of the present invention.

粘着剤層(Ib)を構成する粘着剤は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な粘着剤を採用し得る。本発明の効果をより発現させ得る点で、粘着剤層を構成する粘着剤は、好ましくは、アクリル系粘着剤である。 Any suitable adhesive may be used as the adhesive constituting the adhesive layer (Ib) as long as the effects of the present invention are not impaired. The adhesive constituting the adhesive layer is preferably an acrylic adhesive in that it can more effectively exhibit the effects of the present invention.

アクリル系粘着剤は、アクリル系粘着剤組成物から形成される。 Acrylic adhesives are formed from acrylic adhesive compositions.

アクリル系粘着剤は、このように、アクリル系粘着剤組成物から形成されるものとして規定し得る。これは、アクリル系粘着剤は、アクリル系粘着剤組成物が、加熱や紫外線照射などによって架橋反応などを起こすことにより、アクリル系粘着剤となるため、アクリル系粘着剤をその構造により直接特定することが不可能であり、また、およそ実際的でないという事情(「不可能・非実際的事情」)が存在するため、「アクリル系粘着剤組成物から形成されるもの」との規定により、アクリル系粘着剤を「物」として妥当に特定したものである。 An acrylic adhesive may thus be defined as being formed from an acrylic adhesive composition. This is because acrylic adhesives become acrylic adhesives when the acrylic adhesive composition undergoes a crosslinking reaction through heating or UV irradiation, so acrylic adhesives can be directly identified by their structure. Because there are circumstances in which it is impossible and almost impractical ("impossible/impractical circumstances"), acrylic adhesive compositions are This appropriately specifies the system adhesive as a "thing".

粘着剤層(Ib)は、任意の適切な方法によって形成し得る。このような方法としては、例えば、粘着剤層を構成する粘着剤を形成する粘着剤組成物を基材(Ia)上に塗布し、必要に応じて加熱や乾燥を行い、必要に応じて硬化させて、該基材(Ia)上において粘着剤層(Ib)を形成する方法、粘着剤層(Ib)を構成する粘着剤を形成する粘着剤組成物を任意の適切なはく離ライナーなどのフィルム上に塗布し、必要に応じて加熱や乾燥を行い、必要に応じて硬化させて、該フィルム上において粘着剤層(Ib)を形成し、該粘着剤層(Ib)上に基材(Ia)を貼り合わせて転写することにより、該基材(Ia)上において粘着剤層(Ib)を形成する方法、が挙げられる。 The adhesive layer (Ib) can be formed by any suitable method. As such a method, for example, the adhesive composition forming the adhesive constituting the adhesive layer is applied onto the base material (Ia), heated and dried as necessary, and cured as necessary. A method of forming an adhesive layer (Ib) on the substrate (Ia) by applying the adhesive composition forming the adhesive constituting the adhesive layer (Ib) to any suitable film such as a release liner. The adhesive layer (Ib) is formed on the adhesive layer (Ib) by applying heat and drying as necessary, and curing as necessary. ) is bonded and transferred to form an adhesive layer (Ib) on the base material (Ia).

粘着剤組成物を塗布する手段としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な手段を採用し得る。このような塗布の手段としては、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、リバースロールコート法、キスロールコート法、ディップロールコート法、バーコート法、ロールブラッシュコート法、スプレーコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、コンマコート法、ダイレクトコート法、ダイコート法が挙げられる。 As a means for applying the pressure-sensitive adhesive composition, any appropriate means may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such application methods include roll coating, gravure roll coating, reverse roll coating, kiss roll coating, dip roll coating, bar coating, roll brush coating, spray coating, and knife coating. method, air knife coating method, comma coating method, direct coating method, and die coating method.

粘着剤組成物の加熱や乾燥は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な手段を採用し得る。このような加熱や乾燥の手段としては、例えば、60℃~180℃に加熱することや、例えば、室温程度の温度で、エージング処理を行うことが挙げられる。 Any suitable means may be used for heating and drying the adhesive composition as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such heating and drying methods include heating to 60° C. to 180° C. and aging treatment at about room temperature.

粘着剤組成物の硬化は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な手段を採用し得る。このような硬化の手段としては、例えば、熱、紫外線照射、レーザ線照射、α線照射、β線照射、γ線照射、X線照射、電子線照射が挙げられる。 Any suitable means may be used for curing the pressure-sensitive adhesive composition as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such curing means include heat, ultraviolet irradiation, laser beam irradiation, α-ray irradiation, β-ray irradiation, γ-ray irradiation, X-ray irradiation, and electron beam irradiation.

アクリル系粘着剤組成物は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、アクリル系ポリマー(A)を含む。 The acrylic pressure-sensitive adhesive composition preferably contains an acrylic polymer (A) in that it can better express the effects of the present invention.

アクリル系ポリマー(A)は、アクリル系粘着剤の分野においていわゆるベースポリマーと称され得るものである。アクリル系ポリマー(A)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The acrylic polymer (A) can be referred to as a so-called base polymer in the field of acrylic adhesives. The number of acrylic polymers (A) may be one, or two or more.

アクリル系粘着剤組成物中のアクリル系ポリマー(A)の含有割合は、固形分換算で、好ましくは60重量%~99.9重量%であり、より好ましくは65重量%~99.9重量%であり、さらに好ましくは70重量%~99.9重量%であり、特に好ましくは75重量%~99.9重量%であり、最も好ましくは80重量%~99.9重量%である。 The content of the acrylic polymer (A) in the acrylic adhesive composition is preferably 60% to 99.9% by weight, more preferably 65% to 99.9% by weight in terms of solid content. It is more preferably 70% to 99.9% by weight, particularly preferably 75% to 99.9% by weight, and most preferably 80% to 99.9% by weight.

アクリル系ポリマー(A)としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なアクリル系ポリマーを採用し得る。 As the acrylic polymer (A), any suitable acrylic polymer may be used as long as the effects of the present invention are not impaired.

アクリル系ポリマー(A)の重量平均分子量は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは30万~250万であり、より好ましくは35万~200万であり、さらに好ましくは40万~150万であり、特に好ましくは45万~100万である。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer (A) is preferably from 300,000 to 2,500,000, more preferably from 350,000 to 2,000,000, and even more preferably from 400,000 to 2,500,000, in order to better express the effects of the present invention. ~1,500,000, particularly preferably 450,000~1,000,000.

アクリル系ポリマー(A)としては、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、アルキルエステル部分のアルキル基の炭素数が4~12である(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a成分)と、OH基を有する(メタ)アクリル酸エステルおよび(メタ)アクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも1種(b成分)と、を含む組成物(M)から重合によって形成されるアクリル系ポリマーである。a成分、b成分は、それぞれ、独立に、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The acrylic polymer (A) is preferably a (meth)acrylic acid alkyl ester (component a) in which the alkyl group in the alkyl ester moiety has 4 to 12 carbon atoms, in order to better exhibit the effects of the present invention. and at least one type (component b) selected from the group consisting of (meth)acrylic acid ester and (meth)acrylic acid having an OH group. be. The a component and the b component may be each independently one type or two or more types.

アルキルエステル部分のアルキル基の炭素数が4~12である(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a成分)のアルキルエステル部分のアルキル基の炭素数は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは4~10であり、より好ましくは4~9であり、さらに好ましくは4~8である。 The number of carbon atoms in the alkyl group in the alkyl ester part of the (meth)acrylic acid alkyl ester (component a) is from 4 to 12 carbon atoms in the alkyl group in the alkyl ester part, in that the effect of the present invention can be further expressed. The number is preferably 4 to 10, more preferably 4 to 9, and even more preferably 4 to 8.

アルキルエステル部分のアルキル基の炭素数が4~12である(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシルが挙げられる。これらの中でも、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシルであり、より好ましくは、アクリル酸n-ブチル、アクリル酸2-エチルヘキシルである。 Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters in which the alkyl group in the alkyl ester moiety has 4 to 12 carbon atoms include n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, and s-(meth)acrylate. Butyl, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, (meth)acrylate ) isooctyl acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, and dodecyl (meth)acrylate. Among these, n-butyl (meth)acrylate and 2-ethylhexyl (meth)acrylate are preferred, and more preferably n-butyl acrylate and acrylic 2-ethylhexyl acid.

アルキルエステル部分のアルキル基の炭素数が4~12である(メタ)アクリル酸アルキルエステル(a成分)の含有量は、本発明の効果をより発現させ得る点で、アクリル系ポリマー(A)を構成するモノマー成分全量(100重量%)に対して、好ましくは30重量%以上であり、より好ましくは50重量%~99重量%であり、さらに好ましくは70重量%~98重量%であり、特に好ましくは80重量%~98重量%であり、最も好ましくは90重量%~98重量%である。 The content of the (meth)acrylic acid alkyl ester (component a) in which the alkyl group in the alkyl ester moiety has 4 to 12 carbon atoms is selected from the viewpoint of enhancing the effect of the present invention. It is preferably 30% by weight or more, more preferably 50% to 99% by weight, even more preferably 70% to 98% by weight, and especially Preferably it is 80% to 98% by weight, most preferably 90% to 98% by weight.

OH基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチルなどのOH基を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。これらの中でも、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチルであり、より好ましくは、アクリル酸ヒドロキシエチルである。 Examples of (meth)acrylic esters having an OH group include (meth)acrylic esters having an OH group such as hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, and hydroxybutyl (meth)acrylate. can be mentioned. Among these, hydroxyethyl (meth)acrylate is preferred, and hydroxyethyl acrylate is more preferred, in that it can more effectively exhibit the effects of the present invention.

(メタ)アクリル酸としては、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、アクリル酸である。 As the (meth)acrylic acid, acrylic acid is preferred since it can further enhance the effects of the present invention.

OH基を有する(メタ)アクリル酸エステルおよび(メタ)アクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも1種(b成分)の含有量は、本発明の効果をより発現させ得る点で、アクリル系ポリマー(A)を構成するモノマー成分全量(100重量%)に対して、好ましくは1重量%以上であり、より好ましくは1重量%~30重量%であり、さらに好ましくは2重量%~20重量%であり、特に好ましくは3重量%~10重量%である。 The content of at least one type (component b) selected from the group consisting of (meth)acrylic acid ester and (meth)acrylic acid having an OH group is selected from the acrylic polymer ( It is preferably 1% by weight or more, more preferably 1% to 30% by weight, even more preferably 2% to 20% by weight, based on the total amount (100% by weight) of the monomer components constituting A). The content is particularly preferably 3% to 10% by weight.

アクリル系ポリマー(A)を構成するモノマー成分全量(100重量%)に対する、a成分およびb成分の合計量は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは50重量%~100重量%であり、より好ましくは70重量%~100重量%であり、さらに好ましくは90重量%~100重量%であり、特に好ましくは95重量%~100重量%であり、最も好ましくは98重量%~100重量%である。 The total amount of component a and component b with respect to the total amount (100% by weight) of the monomer components constituting the acrylic polymer (A) is preferably 50% to 100% by weight in order to better express the effects of the present invention. and more preferably 70% to 100% by weight, still more preferably 90% to 100% by weight, particularly preferably 95% to 100% by weight, and most preferably 98% to 100% by weight. Weight%.

組成物(M)は、a成分およびb成分以外の共重合性モノマーを含んでいてもよい。共重合性モノマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The composition (M) may contain copolymerizable monomers other than component a and component b. The number of copolymerizable monomers may be one, or two or more.

アクリル系ポリマー(A)を構成するモノマー成分全量(100重量%)に対する、a成分およびb成分以外の共重合性モノマーの含有量は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは50重量%以下であり、より好ましくは30重量%以下であり、さらに好ましくは10重量%以下であり、特に好ましくは5重量%以下であり、最も好ましくは2重量%以下である。 The content of copolymerizable monomers other than component a and component b with respect to the total amount (100% by weight) of the monomer components constituting the acrylic polymer (A) is preferably 50%. It is not more than 30% by weight, more preferably not more than 30% by weight, even more preferably not more than 10% by weight, particularly preferably not more than 5% by weight, and most preferably not more than 2% by weight.

このような共重合性モノマーとしては、例えば、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、これらの酸無水物(例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマー)などのカルボキシル基含有モノマー(ただし、(メタ)アクリル酸を除く);(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドなどのアミド基含有モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチルなどのアミノ基含有モノマー;(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチルグリシジルなどのエポキシ基含有モノマー;アクリロニトリルやメタクリロニトリルなどのシアノ基含有モノマー;N-ビニル-2-ピロリドン、(メタ)アクリロイルモルホリン、N-ビニルピペリドン、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、ビニルピリミジン、ビニルオキサゾールなどの複素環含有ビニル系モノマー;ビニルスルホン酸ナトリウムなどのスルホン酸基含有モノマー;2-ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェートなどのリン酸基含有モノマー;シクロヘキシルマレイミド、イソプロピルマレイミドなどのイミド基含有モノマー;2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートなどのイソシアネート基含有モノマー;シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル;フェニル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートなどの芳香族炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル;スチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物;エチレン、ブタジエン、イソプレン、イソブチレンなどのオレフィン類やジエン類;ビニルアルキルエーテルなどのビニルエーテル類;塩化ビニル;が挙げられる。 Examples of such copolymerizable monomers include itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and acid anhydrides thereof (for example, acid anhydride group-containing monomers such as maleic anhydride and itaconic anhydride). ) and other carboxyl group-containing monomers (excluding (meth)acrylic acid); (meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N-methylol(meth)acrylamide, N-methoxymethyl(meth)acrylamide , N-butoxymethyl (meth)acrylamide, N-hydroxyethyl (meth)acrylamide, and other amide group-containing monomers; aminoethyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate Amino group-containing monomers such as aminoethyl; Epoxy group-containing monomers such as glycidyl (meth)acrylate and methylglycidyl (meth)acrylate; Cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; N-vinyl-2-pyrrolidone, Heterocycle-containing vinyl monomers such as (meth)acryloylmorpholine, N-vinylpiperidone, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, vinylpyridine, vinylpyrimidine, and vinyloxazole; sulfonic acids such as sodium vinylsulfonate Group-containing monomers; Phosphoric acid group-containing monomers such as 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate; Imide group-containing monomers such as cyclohexylmaleimide and isopropylmaleimide; Isocyanate group-containing monomers such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate; cyclopentyl (meth)acrylate; (Meth)acrylic acid esters having alicyclic hydrocarbon groups such as cyclohexyl (meth)acrylate and isobornyl (meth)acrylate; aromatic esters such as phenyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, and benzyl (meth)acrylate (Meth)acrylic acid esters having hydrocarbon groups; Vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; Aromatic vinyl compounds such as styrene and vinyltoluene; Olefins and dienes such as ethylene, butadiene, isoprene, and isobutylene; Vinyl Examples include vinyl ethers such as alkyl ethers; vinyl chloride;

共重合性モノマーとしては、多官能性モノマーも採用し得る。多官能性モノマーとは、1分子中に2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーをいう。エチレン性不飽和基としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なエチレン性不飽和基を採用し得る。このようなエチレン性不飽和基としては、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ビニルエーテル基(ビニルオキシ基)、アリルエーテル基(アリルオキシ基)などのラジカル重合性官能基が挙げられる。多官能性モノマーとしては、例えば、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレートが挙げられる。このような多官能性モノマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 As the copolymerizable monomer, polyfunctional monomers may also be employed. The polyfunctional monomer refers to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule. As the ethylenically unsaturated group, any suitable ethylenically unsaturated group may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such ethylenically unsaturated groups include radically polymerizable functional groups such as a vinyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a vinyl ether group (vinyloxy group), and an allyl ether group (allyloxy group). Examples of polyfunctional monomers include hexanediol di(meth)acrylate, butanediol di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, and neopentyl glycol. Di(meth)acrylate, Pentaerythritol di(meth)acrylate, Pentaerythritol tri(meth)acrylate, Dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, Trimethylolpropane tri(meth)acrylate, Tetramethylolmethane tri(meth)acrylate, Allyl Examples include (meth)acrylate, vinyl (meth)acrylate, divinylbenzene, epoxy acrylate, polyester acrylate, and urethane acrylate. The number of such polyfunctional monomers may be one, or two or more.

共重合性モノマーとしては、(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステルも採用し得る。(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2-メトキシエチル、(メタ)アクリル酸2-エトキシエチル、(メタ)アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸3-メトキシプロピル、(メタ)アクリル酸3-エトキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-メトキシブチル、(メタ)アクリル酸4-エトキシブチルが挙げられる。(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステルは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 As the copolymerizable monomer, (meth)acrylic acid alkoxyalkyl ester may also be employed. Examples of the (meth)acrylic acid alkoxyalkyl ester include 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, methoxytriethylene glycol (meth)acrylate, and 3-(meth)acrylate. Examples include methoxypropyl, 3-ethoxypropyl (meth)acrylate, 4-methoxybutyl (meth)acrylate, and 4-ethoxybutyl (meth)acrylate. There may be only one type of (meth)acrylic acid alkoxyalkyl ester, or two or more types may be used.

組成物(M)は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の成分を含有し得る。このような他の成分としては、例えば、重合開始剤、連鎖移動剤、溶剤などが挙げられる。これらの他の成分の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な含有量を採用し得る。 Composition (M) may contain any appropriate other components within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of such other components include a polymerization initiator, a chain transfer agent, and a solvent. Any appropriate content may be adopted for the content of these other components within a range that does not impair the effects of the present invention.

重合開始剤は、重合反応の種類に応じて、熱重合開始剤や光重合開始剤(光開始剤)などを採用し得る。重合開始剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 As the polymerization initiator, a thermal polymerization initiator, a photopolymerization initiator (photoinitiator), or the like may be employed depending on the type of polymerization reaction. The number of polymerization initiators may be one, or two or more.

熱重合開始剤は、好ましくは、アクリル系ポリマー(A)を溶液重合によって得る際に採用され得る。このような熱重合開始剤としては、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2’-アゾビス-2-メチルブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオン酸)ジメチル、4,4’-アゾビス-4-シアノバレリアン酸、アゾビスイソバレロニトリル、2,2’-アゾビス(2-アミジノプロパン)ジヒドロクロライド、2,2’-アゾビス[2-(5-メチル-2-イミダゾリン-2-イル)プロパン]ジヒドロクロライド、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオンアミジン)二硫酸塩、2,2’-アゾビス(N,N’-ジメチレンイソブチルアミジン)、2,2’-アゾビス[N-(2-カルボキシエチル)-2-メチルプロピオンアミジン]ハイドレート(VA-057、和光純薬工業(株)製)などのアゾ系開始剤;過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩、ジ(2-エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ-n-オクタノイルパーオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、ジ(4-メチルベンゾイル)パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、t-ブチルパーオキシイソブチレート、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、t-ブチルハイドロパーオキシド、過酸化水素などの過酸化物系開始剤;過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせなどの過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤;フェニル置換エタン等の置換エタン系開始剤;芳香族カルボニル化合物;が挙げられる。 A thermal polymerization initiator can be preferably employed when obtaining the acrylic polymer (A) by solution polymerization. Examples of such thermal polymerization initiators include 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, and 2,2'-azobis(2- dimethyl (methylpropionate), 4,4'-azobis-4-cyanovalerianic acid, azobisisovaleronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2'-azobis[2-( 5-Methyl-2-imidazolin-2-yl)propane] dihydrochloride, 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine) disulfate, 2,2'-azobis(N,N'-dimethyleneisobutyramidine) ), azo initiators such as 2,2'-azobis[N-(2-carboxyethyl)-2-methylpropionamidine] hydrate (VA-057, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.); potassium persulfate , persulfates such as ammonium persulfate, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, t-butylperoxyneo Decanoate, t-hexyl peroxypivalate, t-butyl peroxypivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2- Ethylhexanoate, di(4-methylbenzoyl)peroxide, dibenzoylperoxide, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-di(t-hexylperoxy)cyclohexane, t-butylhydroperoxide, Peroxide-based initiators such as hydrogen oxide; redox-based initiators that combine peroxides and reducing agents, such as combinations of persulfates and sodium bisulfite, and peroxides and sodium ascorbate; phenyl-substituted ethane substituted ethane-based initiators such as; aromatic carbonyl compounds;

光重合開始剤は、好ましくは、アクリル系ポリマー(A)を活性エネルギー線重合によって得る際に採用され得る。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α-ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤が挙げられる。 A photopolymerization initiator can be preferably employed when obtaining the acrylic polymer (A) by active energy ray polymerization. Examples of photopolymerization initiators include benzoin ether photopolymerization initiators, acetophenone photopolymerization initiators, α-ketol photopolymerization initiators, aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiators, and photoactive oxime photopolymerization initiators. agent, benzoin-based photopolymerization initiator, benzyl-based photopolymerization initiator, benzophenone-based photopolymerization initiator, ketal-based photopolymerization initiator, and thioxanthone-based photopolymerization initiator.

ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、アニソールメチルエーテルなどが挙げられる。アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-(t-ブチル)ジクロロアセトフェノンが挙げられる。α-ケトール系光重合開始剤としては、例えば、2-メチル-2-ヒドロキシプロピオフェノン、1-[4-(2-ヒドロキシエチル)フェニル]-2-メチルプロパン-1-オンが挙げられる。芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤としては、例えば、2-ナフタレンスルホニルクロライドが挙げられる。光活性オキシム系光重合開始剤としては、例えば、1-フェニル-1,1-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)-オキシムが挙げられる。ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインが挙げられる。ベンジル系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルが挙げられる。ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ポリビニルベンゾフェノン、α-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが挙げられる。ケタール系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタールが挙げられる。チオキサントン系光重合開始剤としては、例えば、チオキサントン、2-クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、ドデシルチオキサントンが挙げられる。 Examples of benzoin ether photopolymerization initiators include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, and anisole. Examples include methyl ether. Examples of the acetophenone photopolymerization initiator include 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenylketone, 4-phenoxydichloroacetophenone, and 4-(t-butyl). Dichloroacetophenone is mentioned. Examples of the α-ketol photopolymerization initiator include 2-methyl-2-hydroxypropiophenone and 1-[4-(2-hydroxyethyl)phenyl]-2-methylpropan-1-one. Examples of the aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiator include 2-naphthalenesulfonyl chloride. Examples of the photoactive oxime photopolymerization initiator include 1-phenyl-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)-oxime. Examples of benzoin-based photopolymerization initiators include benzoin. Examples of the benzyl-based photopolymerization initiator include benzyl. Examples of the benzophenone photopolymerization initiator include benzophenone, benzoylbenzoic acid, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, polyvinylbenzophenone, and α-hydroxycyclohexylphenyl ketone. Examples of the ketal photopolymerization initiator include benzyl dimethyl ketal. Examples of the thioxanthone-based photopolymerization initiator include thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and dodecylthioxanthone.

重合開始剤の使用量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な使用量に設定され得る。 The amount of the polymerization initiator used can be set to any appropriate amount within a range that does not impair the effects of the present invention.

アクリル系粘着剤組成物は、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤を用いることにより、アクリル系粘着剤の凝集力を向上でき、本発明の効果をより発現させ得る。架橋剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The acrylic pressure-sensitive adhesive composition may contain a crosslinking agent. By using a crosslinking agent, the cohesive force of the acrylic pressure-sensitive adhesive can be improved, and the effects of the present invention can be further expressed. The number of crosslinking agents may be one, or two or more.

架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、シリコーン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、シラン系架橋剤、アルキルエーテル化メラミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤、過酸化物等の架橋剤が挙げられ、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、および、過酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種である。 Examples of crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, silicone crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, silane crosslinking agents, alkyl etherified melamine crosslinking agents, and metal chelate crosslinking agents. , peroxides, etc., and preferably at least one selected from the group consisting of isocyanate-based crosslinking agents, epoxy-based crosslinking agents, and peroxides, since the effects of the present invention can be further expressed. It is a seed.

イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基(イソシアネート基をブロック剤または数量体化等により一時的に保護したイソシアネート再生型極性基を含む)を1分子中に2つ以上有する化合物を用いることができる。イソシアネート系架橋剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート;イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族イソシアネート;が挙げられる。 As the isocyanate-based crosslinking agent, a compound having two or more isocyanate groups (including an isocyanate regenerating polar group in which the isocyanate group is temporarily protected by a blocking agent, quantization, etc.) in one molecule can be used. Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include aromatic isocyanates such as tolylene diisocyanate and xylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as isophorone diisocyanate; and aliphatic isocyanates such as hexamethylene diisocyanate.

イソシアネート系架橋剤としては、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロヘキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類;2,4-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類;トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(例えば、三井化学社製、商品名:D-101E)、トリメチロールプロパン/ヘキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(例えば、東ソー社製、商品名:コロネートHL)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(例えば、東ソー社製、商品名:コロネートHX)等のイソシアネート付加物;キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(例えば、三井化学社製、商品名:タケネートD110N)、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(例えば、三井化学社製、商品名:タケネートD120N)、イソホロンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(例えば、三井化学社製、商品名:タケネートD140N)、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(例えば、三井化学社製、商品名:タケネートD160N);ポリエーテルポリイソシアネート、ポリエステルポリイソシアネート、ならびにこれらと各種のポリオールとの付加物;イソシアヌレート結合、ビューレット結合、アロファネート結合等で多官能化したポリイソシアネート;が挙げられる。これらの中でも、変形性と凝集力とをバランスよく両立し得る点で、好ましくは、芳香族イソシアネート、脂環式イソシアネートである。 Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; 2,4-tolylene diisocyanate; , 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, and other aromatic diisocyanates; trimethylolpropane/tolylene diisocyanate trimer adduct (for example, manufactured by Mitsui Chemicals, trade name: D- 101E), trimethylolpropane/hexamethylene diisocyanate trimer adduct (for example, manufactured by Tosoh Corporation, trade name: Coronate HL), isocyanurate of hexamethylene diisocyanate (for example, manufactured by Tosoh Corporation, trade name: Coronate HX), etc. Isocyanate adduct of D120N), trimethylolpropane adduct of isophorone diisocyanate (for example, Mitsui Chemicals, trade name: Takenate D140N), hexamethylene diisocyanate trimethylolpropane adduct (for example, Mitsui Chemicals, trade name: Takenate D160N); Examples include polyether polyisocyanates, polyester polyisocyanates, and adducts of these with various polyols; polyisocyanates polyfunctionalized with isocyanurate bonds, biuret bonds, allophanate bonds, etc. Among these, aromatic isocyanates and alicyclic isocyanates are preferred since they can achieve both deformability and cohesive force in a well-balanced manner.

エポキシ系架橋剤としては、エポキシ基を1分子中に2つ以上有する多官能エポキシ化合物を用いることができる。エポキシ系架橋剤としては、例えば、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、ジグリシジルアニリン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o-フタル酸ジグリシジルエステル、トリグリシジル-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノール-S-ジグリシジルエーテル、分子内にエポキシ基を2つ以上有するエポキシ系樹脂が挙げられる。エポキシ系架橋剤の市販品としては、例えば、三菱ガス化学社製の商品名「テトラッドC」、「テトラッドX」が挙げられる。 As the epoxy crosslinking agent, a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule can be used. Examples of the epoxy crosslinking agent include N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylene diamine, diglycidylaniline, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, 1, 6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, penta Erythritol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester, triglycidyl tris(2-hydroxyethyl) isocyanurate, Examples include resorcin diglycidyl ether, bisphenol-S-diglycidyl ether, and epoxy resins having two or more epoxy groups in the molecule. Commercially available epoxy crosslinking agents include, for example, the trade names "Tetrad C" and "Tetrad X" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.

過酸化物としては、例えば、ジベンゾイルパーオキシド、ジクミルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキサイド、ジ-t-ブチルパーオキシ-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、t-ブチルヒドロパーオキサイド、t-ブチルクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ジ(t-ブチルパーオキシン)ヘキシン-3、2,5-ジメチル-2,5-ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,5-ジメチル-2,5-モノ(t-ブチルパーオキシ)-ヘキサン、α,α'-ビス(t-ブチルパーオキシ-m-イソプロピル)ベンゼン、ジ(2-エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(4-t-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネート、t-ブチルパーオキシネオデカノエート、t-ヘキシルパーオキシピバレート、t-ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ-n-オクタノイルパーオキシド、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、ジ(4-メチルベンゾイル)パーオキシド、t-ブチルパーオキシイソブチレート、1,1-ジ(t-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1-ジ(t-ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t-ブチルパーオキシ-2-エチルへキシルカーボネート、t-アミルパーオキシイソプロピルカーボネート、3,5,5-トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、t-ブチルパーオキシ-2-ヘキサノエートレート、t-ブチルパーオキシピバレート、t-へキシルパーオキシピバレートが挙げられる。過酸化物の市販品としては、例えば、日本油脂株式会社製の商品名「ナイパーBMT」シリーズ、「ナイパーBW」シリーズが挙げられる。 Examples of peroxides include dibenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, di-t-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane, t-butyl hydroperoxide, t-Butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butylperoxine)hexyne-3, 2,5-dimethyl-2,5-di(benzoylperoxy)hexane, 2,5 -dimethyl-2,5-mono(t-butylperoxy)-hexane, α,α'-bis(t-butylperoxy-m-isopropyl)benzene, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di( 4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydicarbonate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, dilauroyl Peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy-2-ethylhexanoate, di(4-methylbenzoyl) peroxide, t-butyl peroxyisobutyrate , 1,1-di(t-hexylperoxy)cyclohexane, 1,1-di(t-butylperoxy)cyclohexane, t-butylperoxy-2-ethylhexyl carbonate, t-amylperoxyisopropyl carbonate, Examples include 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, t-butylperoxy-2-hexanoate, t-butylperoxypivalate, and t-hexylperoxypivalate. Commercially available peroxides include, for example, the "Niper BMT" series and "Niper BW" series manufactured by Nippon Oil & Fats Corporation.

アクリル系粘着剤組成物中の架橋剤の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な含有量を採用し得る。このような含有量としては、例えば、本発明の効果をより発現させ得る点で、アクリル系ポリマー(A)の固形分(100重量部)に対して、好ましくは0.01重量部~20重量部であり、より好ましくは0.01重量部~18重量部であり、さらに好ましくは0.01重量部~15重量部であり、特に好ましくは0.05重量部~10重量部である。 The content of the crosslinking agent in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition may be any suitable content within a range that does not impair the effects of the present invention. Such content is, for example, preferably 0.01 parts by weight to 20 parts by weight based on the solid content (100 parts by weight) of the acrylic polymer (A), in order to better express the effects of the present invention. parts by weight, more preferably from 0.01 parts by weight to 18 parts by weight, still more preferably from 0.01 parts by weight to 15 parts by weight, particularly preferably from 0.05 parts by weight to 10 parts by weight.

アクリル系粘着剤組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の成分を含有し得る。このような他の成分としては、例えば、アクリル系ポリマー(A)以外のポリマー成分、架橋促進剤、架橋触媒、シランカップリング剤、粘着付与樹脂(ロジン誘導体、ポリテルペン樹脂、石油樹脂、油溶性フェノールなど)、老化防止剤、無機充填剤、有機充填剤、金属粉、着色剤(顔料や染料など)、箔状物、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、造核剤、連鎖移動剤、可塑剤、軟化剤、界面活性剤、帯電防止剤、導電剤、安定剤、表面潤滑剤、レベリング剤、腐食防止剤、耐熱安定剤、重合禁止剤、滑剤、溶剤、触媒が挙げられる。 The acrylic pressure-sensitive adhesive composition may contain any appropriate other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such other components include polymer components other than the acrylic polymer (A), crosslinking accelerators, crosslinking catalysts, silane coupling agents, tackifier resins (rosin derivatives, polyterpene resins, petroleum resins, oil-soluble phenols, etc.). ), antiaging agents, inorganic fillers, organic fillers, metal powders, colorants (pigments, dyes, etc.), foils, ultraviolet absorbers, antioxidants, light stabilizers, nucleating agents, chain transfer agents. , plasticizers, softeners, surfactants, antistatic agents, conductive agents, stabilizers, surface lubricants, leveling agents, corrosion inhibitors, heat stabilizers, polymerization inhibitors, lubricants, solvents, and catalysts.

≪1-2.光学部材≫
光学部材としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な光学部材を採用し得る。本発明の効果をより発現させ得る点で、光学部材としては、代表的には、補強用フィルム、偏光板が挙げられる。
≪1-2. Optical components≫
As the optical member, any suitable optical member may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired. Typical examples of the optical member include a reinforcing film and a polarizing plate, since they can further enhance the effects of the present invention.

光学部材の厚みは、本発明の効果をより発現させ得る点で、400μm以下であり、より好ましくは5μm~350μmであり、より好ましくは10μm~300μmであり、さらに好ましくは15μm~280μmであり、特に好ましくは20μm~260μmであり、最も好ましくは25μm~250μmである。光学部材の厚みが上記範囲を外れて厚すぎると、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を薄型の光学デバイスへ適用することが困難になるおそれがある。光学部材の厚みが上記範囲を外れて薄すぎると、例えば、光学部材が補強用フィルムの場合、光学デバイスに含まれる他の光学部材に剛性や耐衝撃性を付与するという補強用フィルム本来の性能を発現できなくなるおそれがある。 The thickness of the optical member is 400 μm or less, more preferably 5 μm to 350 μm, more preferably 10 μm to 300 μm, and even more preferably 15 μm to 280 μm, in order to better express the effects of the present invention. Particularly preferably from 20 μm to 260 μm, most preferably from 25 μm to 250 μm. If the thickness of the optical member is too thick outside the above range, it may be difficult to apply the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention to a thin optical device. If the thickness of the optical member is outside the above range and is too thin, for example, if the optical member is a reinforcing film, the original performance of the reinforcing film to provide rigidity and impact resistance to other optical members included in the optical device may be affected. There is a risk that it will not be possible to express.

光学部材の一つの実施形態は、光学部材が補強用フィルム(II)であり、該補強用フィルム(II)は、基材(IIa)と粘着剤層(IIb)を含む。以下、光学部材の一つの実施形態である補強用フィルム(II)について説明する。 In one embodiment of the optical member, the optical member is a reinforcing film (II), and the reinforcing film (II) includes a base material (IIa) and an adhesive layer (IIb). The reinforcing film (II), which is one embodiment of the optical member, will be described below.

補強用フィルム(II)は、基材(IIa)と粘着剤層(IIb)を含む。一つの実施形態としては、基材(IIa)と粘着剤層(IIb)は、直接に積層されてなる。 The reinforcing film (II) includes a base material (IIa) and an adhesive layer (IIb). In one embodiment, the base material (IIa) and the adhesive layer (IIb) are directly laminated.

補強用フィルム(II)は、基材(IIa)と粘着剤層(IIb)を含んでいれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の構成部材(IIc)を含んでいてもよい。 As long as the reinforcing film (II) contains the base material (IIa) and the adhesive layer (IIb), it may contain any other appropriate structural member (IIc) as long as it does not impair the effects of the present invention. You can stay there.

他の構成部材(IIc)としては、例えば、帯電防止層、反射防止層、アンチグレア層、ハードコート層が挙げられる。他の構成部材(IIc)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Other constituent members (IIc) include, for example, an antistatic layer, an antireflection layer, an antiglare layer, and a hard coat layer. The number of other constituent members (IIc) may be one type or two or more types.

光学部材が補強用フィルム(II)の場合、補強用フィルム(II)の厚みは、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは150μm以下であり、より好ましくは5μm~140μmであり、より好ましくは10μm~130μmであり、さらに好ましくは15μm~120μmであり、特に好ましくは20μm~110μmであり、最も好ましくは25μm~100μmである。補強用フィルム(II)の厚みが上記範囲を外れて厚すぎると、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を薄型の光学デバイスへ適用することが困難になるおそれがある。補強用フィルム(II)の厚みが上記範囲を外れて薄すぎると、例えば、光学デバイスに含まれる他の光学部材に剛性や耐衝撃性を付与するという補強用フィルム本来の性能を発現できなくなるおそれがある。 When the optical member is a reinforcing film (II), the thickness of the reinforcing film (II) is preferably 150 μm or less, more preferably 5 μm to 140 μm, in order to better express the effects of the present invention. More preferably 10 μm to 130 μm, still more preferably 15 μm to 120 μm, particularly preferably 20 μm to 110 μm, and most preferably 25 μm to 100 μm. If the thickness of the reinforcing film (II) is too thick outside the above range, it may be difficult to apply the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention to a thin optical device. If the thickness of the reinforcing film (II) is outside the above range and is too thin, there is a risk that the reinforcing film will not be able to exhibit its original performance of imparting rigidity and impact resistance to other optical members included in the optical device, for example. There is.

<1-2-a.基材(IIa)>
基材(IIa)は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。基材(IIa)は、延伸されたものであってもよい。
<1-2-a. Base material (IIa)>
The base material (IIa) may have only one layer, or may have two or more layers. The base material (IIa) may be stretched.

基材(IIa)の厚みは、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは4μm~100μmであり、より好ましくは10μm~95μmであり、さらに好ましくは15μm~90μmであり、特に好ましくは20μm~85μmであり、最も好ましくは25μm~80μmである。基材(IIa)の厚みが上記範囲を外れて厚すぎると、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を薄型の光学デバイスへ適用することが困難になるおそれがある。基材(IIa)の厚みが上記範囲を外れて薄すぎると、例えば、光学デバイスに含まれる他の光学部材に剛性や耐衝撃性を付与するという補強用フィルム本来の性能を発現できなくなるおそれがある。 The thickness of the base material (IIa) is preferably 4 μm to 100 μm, more preferably 10 μm to 95 μm, still more preferably 15 μm to 90 μm, and particularly preferably 20 μm to 85 μm, most preferably 25 μm to 80 μm. If the thickness of the base material (IIa) is too thick outside the above range, it may be difficult to apply the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention to a thin optical device. If the thickness of the base material (IIa) is outside the above range and is too thin, for example, there is a risk that the reinforcing film will not be able to exhibit its original performance of imparting rigidity and impact resistance to other optical members included in the optical device. be.

基材(IIa)の材料としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な材料を採用し得る。このような材料としては、例えば、好ましくは、プラスチック、不織布、紙、金属箔、織布、ゴム、発泡体が挙げられ、好ましくは、プラスチックである。すなわち、基材(IIa)は、好ましくは、プラスチックフィルムである。基材(IIa)は、1種の材料から構成されていてもよいし、2種以上の材料から構成されていてもよい。例えば、2種以上のプラスチックから構成されていてもよい。 As the material for the base material (IIa), any suitable material may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired. Such materials include, for example, preferably plastics, nonwoven fabrics, paper, metal foils, woven fabrics, rubber, and foams, and preferably plastics. That is, the base material (IIa) is preferably a plastic film. The base material (IIa) may be composed of one type of material, or may be composed of two or more types of materials. For example, it may be made of two or more types of plastics.

上記プラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン-プロピレン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、ポリアミド(ナイロン)、全芳香族ポリアミド(アラミド)、ポリイミド(PI)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、フッ素系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、環状オレフィン系ポリマーが挙げられる。 Examples of the above-mentioned plastics include acrylic resins such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate (PBT), and polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate, triacetyl cellulose (TAC), polysulfone, Polyarylate, polyethylene (PE), polypropylene (PP), ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), polyamide (nylon), wholly aromatic polyamide (aramid), polyimide (PI), polyamide Examples include vinyl chloride (PVC), polyvinyl acetate, polyphenylene sulfide (PPS), fluororesins, polyetheretherketone (PEEK), and cyclic olefin polymers.

上記不織布としては、マニラ麻を含む不織布等の耐熱性を有する天然繊維による不織布;ポリプロピレン樹脂不織布、ポリエチレン樹脂不織布、エステル系樹脂不織布等の合成樹脂不織布;などが挙げられる。 Examples of the nonwoven fabric include nonwoven fabrics made of heat-resistant natural fibers such as nonwoven fabrics containing Manila hemp; synthetic resin nonwoven fabrics such as polypropylene resin nonwoven fabrics, polyethylene resin nonwoven fabrics, and ester resin nonwoven fabrics; and the like.

基材(IIa)は、その全光線透過率が、好ましくは90%以上であり、より好ましくは91%以上であり、さらに好ましくは92%以上であり、特に好ましくは93%以上である。基材(IIa)の全光線透過率が上記範囲内にあれば、補強用フィルム越しに光学部材や電子部材の検査がされる際に、検査性が低下し難いという利点がある。 The total light transmittance of the base material (IIa) is preferably 90% or more, more preferably 91% or more, still more preferably 92% or more, and particularly preferably 93% or more. If the total light transmittance of the base material (IIa) is within the above range, there is an advantage that the testability is not easily deteriorated when optical members or electronic members are inspected through the reinforcing film.

基材(IIa)は、表面処理が施されていてもよい。表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理、下塗り剤によるコーティング処理などが挙げられる。 The base material (IIa) may be surface-treated. Examples of the surface treatment include corona treatment, plasma treatment, chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high-voltage electric shock exposure, ionizing radiation treatment, and coating treatment with an undercoat.

有機コーティング材料としては、例えば、プラスチックハードコート材料II(CMC出版、(2004))に記載される材料が挙げられる。このような有機コーティング材料としては、好ましくは、ウレタン系ポリマーが挙げられ、より好ましくは、ポリアクリルウレタン、ポリエステルウレタン、またはこれらの前駆体が挙げられる。基材層A1への塗工・塗布が簡便であり、かつ、工業的に多種のものが選択でき安価に入手できるからである。このようなウレタン系ポリマーは、例えば、イソシアナートモノマーとアルコール性水酸基含有モノマー(例えば、水酸基含有アクリル化合物または水酸基含有エステル化合物)との反応混合物からなるポリマーが挙げられる。有機コーティング材料は、任意の添加剤として、ポリアミンなどの鎖延長剤、老化防止剤、酸化安定剤などを含んでいてもよい。 Examples of organic coating materials include materials described in Plastic Hard Coat Materials II (CMC Publishing, (2004)). Such organic coating materials preferably include urethane-based polymers, more preferably polyacrylic urethanes, polyester urethanes, or precursors thereof. This is because it is easy to apply and apply to the base material layer A1, and a wide variety of materials can be selected from an industrial scale and can be obtained at low cost. Examples of such urethane-based polymers include polymers made of a reaction mixture of an isocyanate monomer and an alcoholic hydroxyl group-containing monomer (for example, a hydroxyl group-containing acrylic compound or a hydroxyl group-containing ester compound). The organic coating material may include optional additives such as chain extenders such as polyamines, anti-aging agents, oxidative stabilizers, and the like.

基材(IIa)には、必要に応じて、任意の適切な添加剤を含有し得る。基材(IIa)に含有され得る添加剤としては、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、充填剤、顔料などが挙げられる。基材(IIa)に含有され得る添加剤の種類、数、量は、目的に応じて適切に設定され得る。特に、基材(IIa)の材料がプラスチックの場合は、劣化防止等を目的として、上記の添加剤のいくつかを含有することが好ましい。耐候性向上等の観点から、添加剤として特に好ましくは、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤が挙げられる。また、基材(IIa)が帯電防止効果を有することは好ましい実施形態であるので、帯電防止剤を含むことも好ましい実施形態である。 The base material (IIa) may contain any appropriate additives as necessary. Examples of additives that can be contained in the base material (IIa) include antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antistatic agents, fillers, and pigments. The type, number, and amount of additives that can be contained in the base material (IIa) can be appropriately set depending on the purpose. In particular, when the material of the base material (IIa) is plastic, it is preferable to contain some of the above-mentioned additives for the purpose of preventing deterioration and the like. From the viewpoint of improving weather resistance, particularly preferred additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, and fillers. Furthermore, since it is a preferred embodiment that the base material (IIa) has an antistatic effect, it is also a preferred embodiment that the base material (IIa) contains an antistatic agent.

<1-2-b.粘着剤層(IIb)>
粘着剤層(IIb)は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。
<1-2-b. Adhesive layer (IIb)>
The pressure-sensitive adhesive layer (IIb) may have only one layer, or may have two or more layers.

粘着剤層(IIb)の厚みは、好ましくは1μm~50μmであり、より好ましくは2μm~40μmであり、さらに好ましくは4μm~35μmであり、特に好ましくは5μm~30μmであり、最も好ましくは7μm~25μmである。粘着剤層(IIb)の厚みが上記範囲内にあれば、本発明の効果がより発現し得る。粘着剤層(IIb)の厚みが上記範囲を外れて厚すぎると、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を薄型の光学デバイスへ適用することが困難になるおそれがある。粘着剤層(IIb)の厚みが上記範囲を外れて薄すぎると、例えば、光学デバイスに含まれる他の光学部材に剛性や耐衝撃性を付与するという補強用フィルム本来の性能を発現できなくなるおそれがある。 The thickness of the adhesive layer (IIb) is preferably 1 μm to 50 μm, more preferably 2 μm to 40 μm, even more preferably 4 μm to 35 μm, particularly preferably 5 μm to 30 μm, and most preferably 7 μm to 30 μm. It is 25 μm. If the thickness of the adhesive layer (IIb) is within the above range, the effects of the present invention can be more effectively exhibited. If the thickness of the adhesive layer (IIb) is too thick outside the above range, it may be difficult to apply the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention to a thin optical device. If the thickness of the adhesive layer (IIb) is outside the above range and is too thin, for example, there is a risk that the reinforcing film will not be able to exhibit its original performance of imparting rigidity and impact resistance to other optical members included in the optical device. There is.

粘着剤層(IIb)の、温度23℃、相対湿度50%の環境下での、剥離角度180°、引張速度300mm/分における対ポリイミドフィルム接着力は、好ましくは3N/25mm以上であり、より好ましくは4N/25mm以上であり、さらに好ましくは5N/25mm以上であり、特に好ましくは6N/25mm以上である。上記対ポリイミドフィルム接着力が上記範囲内にあれば、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材の補強フィルム部分が被着体(代表的には光学部材)に強固に信頼性良く永久接着できる。 The adhesive force of the adhesive layer (IIb) to the polyimide film at a peeling angle of 180° and a tensile speed of 300 mm/min in an environment of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50% is preferably 3 N/25 mm or more, and more Preferably it is 4N/25mm or more, more preferably 5N/25mm or more, particularly preferably 6N/25mm or more. If the adhesive strength to the polyimide film is within the above range, the reinforcing film portion of the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention will firmly and reliably permanently adhere to the adherend (typically an optical member). can.

粘着剤層(IIb)を構成する粘着剤は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な粘着剤を採用し得る。このような粘着剤としては、例えば、特許第6375467号公報に記載の粘着剤、特許第6467551号公報に記載の光硬化性の粘着剤が挙げられる。 Any suitable adhesive may be used as the adhesive constituting the adhesive layer (IIb) as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such adhesives include the adhesive described in Japanese Patent No. 6375467 and the photocurable adhesive described in Japanese Patent No. 6467551.

粘着剤層(IIb)の代表的な例は、アクリル系粘着剤である。 A typical example of the adhesive layer (IIb) is an acrylic adhesive.

アクリル系粘着剤は、アクリル系粘着剤組成物から形成される。 Acrylic adhesives are formed from acrylic adhesive compositions.

アクリル系粘着剤は、このように、アクリル系粘着剤組成物から形成されるものとして規定し得る。これは、アクリル系粘着剤は、アクリル系粘着剤組成物が、加熱や紫外線照射などによって架橋反応などを起こすことにより、アクリル系粘着剤となるため、アクリル系粘着剤をその構造により直接特定することが不可能であり、また、およそ実際的でないという事情(「不可能・非実際的事情」)が存在するため、「アクリル系粘着剤組成物から形成されるもの」との規定により、アクリル系粘着剤を「物」として妥当に特定したものである。 An acrylic adhesive may thus be defined as being formed from an acrylic adhesive composition. This is because acrylic adhesives become acrylic adhesives when the acrylic adhesive composition undergoes a crosslinking reaction when heated or exposed to ultraviolet light, so acrylic adhesives can be directly identified by their structure. Because there are circumstances in which it is impossible and almost impractical ("impossible/impractical circumstances"), acrylic adhesive compositions are This appropriately specifies the system adhesive as a "thing".

粘着剤層(IIb)は、任意の適切な方法によって形成し得る。このような方法としては、例えば、粘着剤層を構成する粘着剤を形成する粘着剤組成物を基材(IIa)上に塗布し、必要に応じて加熱や乾燥を行い、必要に応じて硬化させて、該基材(IIa)上において粘着剤層(IIb)を形成する方法、粘着剤層(IIb)を構成する粘着剤を形成する粘着剤組成物を任意の適切なはく離ライナーなどのフィルム上に塗布し、必要に応じて加熱や乾燥を行い、必要に応じて硬化させて、該フィルム上において粘着剤層(IIb)を形成し、該粘着剤層(IIb)上に基材(IIa)を貼り合わせて転写することにより、該基材(IIa)上において粘着剤層(IIb)を形成する方法、が挙げられる。 The adhesive layer (IIb) may be formed by any suitable method. As such a method, for example, the adhesive composition forming the adhesive constituting the adhesive layer is applied onto the base material (IIa), heated and dried as necessary, and cured as necessary. A method of forming an adhesive layer (IIb) on the substrate (IIa) by applying the adhesive composition forming the adhesive constituting the adhesive layer (IIb) to any suitable film such as a release liner. The adhesive layer (IIb) is formed on the adhesive layer (IIb) by applying heat and drying as necessary, and curing as necessary. ) is bonded and transferred to form an adhesive layer (IIb) on the base material (IIa).

粘着剤組成物を塗布する手段としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な手段を採用し得る。このような塗布の手段としては、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、リバースロールコート法、キスロールコート法、ディップロールコート法、バーコート法、ロールブラッシュコート法、スプレーコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、コンマコート法、ダイレクトコート法、ダイコート法が挙げられる。 As a means for applying the pressure-sensitive adhesive composition, any appropriate means may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such application methods include roll coating, gravure roll coating, reverse roll coating, kiss roll coating, dip roll coating, bar coating, roll brush coating, spray coating, and knife coating. method, air knife coating method, comma coating method, direct coating method, and die coating method.

粘着剤組成物の加熱や乾燥は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な手段を採用し得る。このような加熱や乾燥の手段としては、例えば、60℃~180℃に加熱することや、例えば、室温程度の温度で、エージング処理を行うことが挙げられる。 Any suitable means may be used for heating and drying the adhesive composition as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such heating and drying methods include heating to 60° C. to 180° C. and aging treatment at about room temperature.

粘着剤組成物の硬化は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な手段を採用し得る。このような硬化の手段としては、例えば、熱、紫外線照射、レーザ線照射、α線照射、β線照射、γ線照射、X線照射、電子線照射が挙げられる。 Any suitable means may be used for curing the pressure-sensitive adhesive composition as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such curing means include heat, ultraviolet irradiation, laser beam irradiation, α-ray irradiation, β-ray irradiation, γ-ray irradiation, X-ray irradiation, and electron beam irradiation.

アクリル系粘着剤組成物は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、アクリル系ポリマー(B)を含む。 The acrylic pressure-sensitive adhesive composition preferably contains an acrylic polymer (B) in that it can better express the effects of the present invention.

アクリル系ポリマー(B)は、アクリル系粘着剤の分野においていわゆるベースポリマーと称され得るものである。アクリル系ポリマー(B)は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The acrylic polymer (B) can be referred to as a so-called base polymer in the field of acrylic adhesives. The number of acrylic polymers (B) may be one, or two or more.

アクリル系粘着剤組成物中のアクリル系ポリマー(B)の含有割合は、固形分換算で、好ましくは60重量%~99.9重量%であり、より好ましくは65重量%~99.9重量%であり、さらに好ましくは70重量%~99.9重量%であり、特に好ましくは75重量%~99.9重量%であり、最も好ましくは80重量%~99.9重量%である。 The content of the acrylic polymer (B) in the acrylic adhesive composition is preferably 60% to 99.9% by weight, more preferably 65% to 99.9% by weight in terms of solid content. It is more preferably 70% to 99.9% by weight, particularly preferably 75% to 99.9% by weight, and most preferably 80% to 99.9% by weight.

アクリル系ポリマー(B)としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なアクリル系ポリマーを採用し得る。 As the acrylic polymer (B), any suitable acrylic polymer may be employed as long as the effects of the present invention are not impaired.

アクリル系ポリマー(B)の重量平均分子量は、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは20万~250万であり、より好ましくは30万~180万であり、さらに好ましくは40万~150万であり、特に好ましくは50万~120万である。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer (B) is preferably from 200,000 to 2,500,000, more preferably from 300,000 to 1,800,000, and even more preferably from 400,000 to 2,500,000, from the viewpoint of further expressing the effects of the present invention. 1,500,000 to 1,500,000, particularly preferably 500,000 to 1,200,000.

アクリル系ポリマー(B)は、好ましくは、直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルと極性基含有モノマーを必須に含むモノマー成分から形成される。 The acrylic polymer (B) is preferably formed from monomer components that essentially include a (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group and a polar group-containing monomer.

直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 There may be only one type of (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group, or two or more types may be used.

直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシルなどの、炭素数が1~20の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルが挙げられる。直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは、(メタ)アクリル酸メチルおよび(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシルから選ばれる少なくとも1種である。 Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having a linear or branched alkyl group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, ( n-butyl meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, (meth) Hexyl acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, (meth)acrylate ) Decyl acrylate, Isodecyl (meth)acrylate, Undecyl (meth)acrylate, Dodecyl (meth)acrylate, Tridecyl (meth)acrylate, Tetradecyl (meth)acrylate, Pentadecyl (meth)acrylate, (Meth) Straight chain or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, such as hexadecyl acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, nonadecyl (meth)acrylate, eicosyl (meth)acrylate, etc. Examples include (meth)acrylic acid alkyl esters having the following. As the (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group, methyl (meth)acrylate and (meth)acrylic acid 2- At least one selected from ethylhexyl.

極性基含有モノマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The number of polar group-containing monomers may be one, or two or more.

極性基含有モノマーとしては、例えば、水酸基(ヒドロキシル基)含有モノマー、窒素含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマーが挙げられる。極性基含有モノマーとしては、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは、水酸基(ヒドロキシル基)含有モノマーおよび窒素含有モノマーから選ばれる少なくとも1種である。 Examples of the polar group-containing monomer include hydroxyl group-containing monomers, nitrogen-containing monomers, epoxy group-containing monomers, sulfonic acid group-containing monomers, phosphoric acid group-containing monomers, and carboxyl group-containing monomers. The polar group-containing monomer is preferably at least one selected from hydroxyl group-containing monomers and nitrogen-containing monomers, since it can more effectively exhibit the effects of the present invention.

極性基含有モノマーは、本発明の効果をより発現し得る点で、水酸基(ヒドロキシル基)含有モノマーを必須に含むことが好ましい。 It is preferable that the polar group-containing monomer essentially contains a hydroxyl group-containing monomer in order to more effectively exhibit the effects of the present invention.

水酸基(ヒドロキシル基)含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸3-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、ビニルアルコール、アリルアルコールが挙げられる。水酸基(ヒドロキシル基)含有モノマーとしては、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチルが挙げられる。 Examples of hydroxyl group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 3-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 6-hydroxy(meth)acrylate. Examples include hexyl, vinyl alcohol, and allyl alcohol. As the hydroxyl group-containing monomer, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate is preferably used since it can more effectively exhibit the effects of the present invention.

窒素含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドなどアミド基含有モノマー;窒素を含む複素環及びN-ビニル基を有するモノマー(含窒素複素環含有ビニル系モノマー)(例えば、N-ビニル-2-ピロリドン、N-ビニル-2-ピペリドン、N-ビニル-2-カプロラクタム、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾールなど)や窒素を含む複素環及び(メタ)アクリロイル基を有するモノマー(含窒素複素環含有(メタ)アクリル系モノマー)(例えば、(メタ)アクリロイルモルホリンなど)の含窒素複素環含有モノマー;(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチルなどのアミノ基含有モノマー;アクリロニトリルやメタクリロニトリルなどのシアノ基含有モノマー;シクロヘキシルマレイミド、イソプロピルマレイミドなどのイミド基含有モノマー;2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートなどのイソシアネート基含有モノマー;が挙げられる。窒素含有モノマーとしては、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは、N-ビニル-2-ピロリドンが挙げられる。 Examples of nitrogen-containing monomers include (meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N-methylol(meth)acrylamide, N-methoxymethyl(meth)acrylamide, N-butoxymethyl(meth)acrylamide, N- - Amide group-containing monomers such as hydroxyethyl (meth)acrylamide; monomers having nitrogen-containing heterocycles and N-vinyl groups (nitrogen-containing heterocycle-containing vinyl monomers) (e.g., N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl -2-piperidone, N-vinyl-2-caprolactam, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, etc.) and monomers having nitrogen-containing heterocycles and (meth)acryloyl groups (nitrogen-containing heterocycle-containing monomers) (meth)acrylic monomers) (for example, (meth)acryloylmorpholine, etc.) nitrogen-containing heterocycle-containing monomers; (meth)aminoethyl acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate Examples include amino group-containing monomers such as aminoethyl; cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; imide group-containing monomers such as cyclohexylmaleimide and isopropylmaleimide; and isocyanate group-containing monomers such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate. Preferred examples of the nitrogen-containing monomer include N-vinyl-2-pyrrolidone, since it can better exhibit the effects of the present invention.

エポキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチルグリシジルが挙げられる。 Examples of the epoxy group-containing monomer include glycidyl (meth)acrylate and methylglycidyl (meth)acrylate.

スルホン酸基含有モノマーとしては、例えば、ビニルスルホン酸ナトリウムが挙げられる。 Examples of the sulfonic acid group-containing monomer include sodium vinyl sulfonate.

リン酸基含有モノマーとしては、例えば、2-ヒドロキシエチルアクリロイルフォスフェートが挙げられる。 Examples of the phosphoric acid group-containing monomer include 2-hydroxyethyl acryloyl phosphate.

カルボキシル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、これらの酸無水物(例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物含有モノマー)が挙げられる。 Examples of carboxyl group-containing monomers include (meth)acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and acid anhydrides thereof (for example, acid anhydrides such as maleic anhydride and itaconic anhydride). containing monomers).

モノマー成分は、その他の共重合性モノマーを含んでいてもよい。その他の共重合性モノマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。その他の共重合性モノマーとしては、例えば、多官能性モノマーが挙げられる。多官能性モノマーとしては、例えば、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレートが挙げられる。 The monomer component may contain other copolymerizable monomers. The number of other copolymerizable monomers may be one, or two or more. Examples of other copolymerizable monomers include polyfunctional monomers. Examples of polyfunctional monomers include hexanediol di(meth)acrylate, butanediol di(meth)acrylate, (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, and neopentyl glycol. Di(meth)acrylate, Pentaerythritol di(meth)acrylate, Pentaerythritol tri(meth)acrylate, Dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, Trimethylolpropane tri(meth)acrylate, Tetramethylolmethane tri(meth)acrylate, Allyl Examples include (meth)acrylate, vinyl (meth)acrylate, divinylbenzene, epoxy acrylate, polyester acrylate, and urethane acrylate.

多官能性モノマー以外のその他の共重合性モノマーとしては、例えば、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル;フェニル(メタ
)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート等の芳香族炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類;スチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物;エチレン、ブタジエン、イソプレン、イソブチレンなどのオレフィン類またはジエン類;ビニルアルキルエーテルなどのビニルエーテル類;塩化ビニル;が挙げられる。
Examples of copolymerizable monomers other than polyfunctional monomers include (meth)acrylic acid esters having alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, and isobornyl (meth)acrylate. ; (meth)acrylic acid esters having aromatic hydrocarbon groups such as phenyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, and benzyl (meth)acrylate;vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate;styrene, vinyl Examples include aromatic vinyl compounds such as toluene; olefins or dienes such as ethylene, butadiene, isoprene, and isobutylene; vinyl ethers such as vinyl alkyl ether; and vinyl chloride.

アクリル系ポリマー(B)を形成するモノマー成分全量中、直鎖または分岐鎖状のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの含有割合は、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは50重量%~95重量%であり、より好ましくは55重量%~90重量%であり、さらに好ましくは60重量%~85重量%であり、特に好ましくは65重量%~80重量%である。 In the total amount of monomer components forming the acrylic polymer (B), the content of the (meth)acrylic acid alkyl ester having a linear or branched alkyl group is preferable in that the effects of the present invention can be more fully expressed. is 50% to 95% by weight, more preferably 55% to 90% by weight, even more preferably 60% to 85% by weight, particularly preferably 65% to 80% by weight.

アクリル系ポリマー(B)を形成するモノマー成分全量中、極性基含有モノマーの含有割合は、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは5重量%~50重量%であり、より好ましくは10重量%~45重量%であり、さらに好ましくは15重量%~40重量%であり、特に好ましくは20重量%~35重量%である。 In the total amount of monomer components forming the acrylic polymer (B), the content of the polar group-containing monomer is preferably 5% by weight to 50% by weight, more preferably The content is 10% to 45% by weight, more preferably 15% to 40% by weight, particularly preferably 20% to 35% by weight.

極性基含有モノマーとして水酸基(ヒドロキシル基)含有モノマーを必須に含む場合、アクリル系ポリマー(B)を形成するモノマー成分全量中、水酸基(ヒドロキシル基)含有モノマーの含有割合は、本発明の効果をより発現し得る点で、好ましくは5重量%~25重量%であり、より好ましくは7重量%~22重量%であり、さらに好ましくは9重量%~20重量%であり、特に好ましくは10重量%~18重量%である。 When a hydroxyl group-containing monomer is essentially included as a polar group-containing monomer, the content ratio of the hydroxyl group-containing monomer in the total amount of monomer components forming the acrylic polymer (B) may increase the effect of the present invention. In terms of expression, it is preferably 5% to 25% by weight, more preferably 7% to 22% by weight, even more preferably 9% to 20% by weight, and particularly preferably 10% by weight. ~18% by weight.

極性基含有モノマーとして、カルボキシル基含有モノマーは、用いないか、用いるとしても少量とすることが好ましい。具体的には、アクリル系ポリマー(B)を形成するモノマー成分全量中、カルボキシル基含有モノマーの含有割合が、好ましくは0重量%~5重量%であり、より好ましくは0重量%~3重量%であり、さらに好ましくは0重量%~2重量%であり、特に好ましくは0重量%~0.5重量%である。 As the polar group-containing monomer, it is preferable that a carboxyl group-containing monomer is not used, or if it is used, it is used in a small amount. Specifically, the content of the carboxyl group-containing monomer in the total amount of monomer components forming the acrylic polymer (B) is preferably 0% to 5% by weight, more preferably 0% to 3% by weight. It is more preferably 0% to 2% by weight, particularly preferably 0% to 0.5% by weight.

アクリル系ポリマー(B)は、モノマー成分を、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な重合方法により重合することにより得られる。アクリル系ポリマー(B)を得るための重合方法としては、例えば、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、活性エネルギー線照射による重合方法(活性エネルギー線重合方法)が挙げられる。これらの中でも、生産性の点で、溶液重合方法、活性エネルギー線重合方法が好ましい。 The acrylic polymer (B) can be obtained by polymerizing monomer components using any appropriate polymerization method within a range that does not impair the effects of the present invention. Examples of the polymerization method for obtaining the acrylic polymer (B) include a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk polymerization method, and a polymerization method using active energy ray irradiation (active energy ray polymerization method). Among these, the solution polymerization method and the active energy ray polymerization method are preferred from the viewpoint of productivity.

溶液重合方法を採用する場合に用いられる溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n-ブチル等のエステル類;トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;などの有機溶剤が挙げられる。溶剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Solvents used when employing the solution polymerization method include, for example, esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and benzene; and aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane. Examples include organic solvents such as hydrocarbons; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane and methylcyclohexane; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; The number of solvents may be one, or two or more.

モノマー成分の重合に際しては、重合反応の種類に応じて、好ましくは、熱重合開始剤や光重合開始剤(光開始剤)などの重合開始剤が用いられる。重合開始剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 When polymerizing the monomer components, a polymerization initiator such as a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator (photoinitiator) is preferably used depending on the type of polymerization reaction. The number of polymerization initiators may be one, or two or more.

重合開始剤については、<1-1-b.粘着剤層(Ib)>の項目における重合開始剤に関する説明をそのまま援用し得る。 Regarding the polymerization initiator, <1-1-b. The explanation regarding the polymerization initiator in the section ``Adhesive Layer (Ib)'' can be used as is.

アクリル系粘着剤組成物は、好ましくは、架橋剤を含む。架橋剤を用いることにより、十分な接着力を有し、高温での歪みが少ない、アクリル系粘着剤を提供し得る。架橋剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The acrylic pressure-sensitive adhesive composition preferably contains a crosslinking agent. By using a crosslinking agent, it is possible to provide an acrylic pressure-sensitive adhesive that has sufficient adhesive strength and has little distortion at high temperatures. The number of crosslinking agents may be one, or two or more.

架橋剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The number of crosslinking agents may be one, or two or more.

アクリル系粘着剤組成物中の架橋剤の含有量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な含有量を採用し得る。このような含有量としては、例えば、本発明の効果をより発現させ得る点で、アクリル系ポリマー(B)の固形分(100重量部)に対して、好ましくは0.1重量部~30重量部であり、より好ましくは0.3重量部~25重量部であり、さらに好ましくは0.5重量部~20重量部であり、特に好ましくは0.7重量部~15重量部であり、最も好ましくは1重量部~10重量部である。アクリル系粘着剤組成物中の架橋剤の含有量が、アクリル系ポリマー(B)の固形分(100重量部)に対して上記範囲内にあれば、より十分な接着力を有し、高温での歪みがより少ない、アクリル系粘着剤を提供し得る。 The content of the crosslinking agent in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition may be any suitable content within a range that does not impair the effects of the present invention. Such a content is, for example, preferably 0.1 parts by weight to 30 parts by weight based on the solid content (100 parts by weight) of the acrylic polymer (B) in order to better express the effects of the present invention. parts by weight, more preferably from 0.3 parts by weight to 25 parts by weight, still more preferably from 0.5 parts by weight to 20 parts by weight, particularly preferably from 0.7 parts by weight to 15 parts by weight, and most preferably from 0.7 parts by weight to 15 parts by weight. Preferably it is 1 part by weight to 10 parts by weight. If the content of the crosslinking agent in the acrylic pressure-sensitive adhesive composition is within the above range based on the solid content (100 parts by weight) of the acrylic polymer (B), it will have more sufficient adhesive strength and will be able to withstand high temperatures. It is possible to provide an acrylic adhesive with less distortion.

架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、シリコーン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、シラン系架橋剤、アルキルエーテル化メラミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤、過酸化物等の架橋剤が挙げられ、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、および、過酸化物からなる群から選ばれる少なくとも1種である。 Examples of crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, silicone crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, silane crosslinking agents, alkyl etherified melamine crosslinking agents, and metal chelate crosslinking agents. , peroxides, etc., and preferably at least one selected from the group consisting of isocyanate-based crosslinking agents, epoxy-based crosslinking agents, and peroxides, since the effects of the present invention can be further expressed. It is a seed.

イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、および、過酸化物の具体的な説明については、<1-1-b.粘着剤層(Ib)>の項目における重合開始剤に関する説明をそのまま援用し得る。 For specific explanations of isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, and peroxides, see <1-1-b. The explanation regarding the polymerization initiator in the section ``Adhesive Layer (Ib)'' can be used as is.

アクリル系粘着剤組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の成分を含有し得る。このような他の成分としては、例えば、<1-1-b.粘着剤層(Ib)>の項目における他の成分に関する説明をそのまま援用し得る。 The acrylic pressure-sensitive adhesive composition may contain any appropriate other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Such other components include, for example, <1-1-b. The explanation regarding other components in the section ``Adhesive Layer (Ib)'' can be used as is.

≪≪2.光学積層体≫≫
本発明の実施形態による光学積層体は、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を含む。本発明の実施形態による光学積層体は、より好ましくは、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材と他の光学部材を含む。
≪≪2. Optical laminate≫≫
An optical laminate according to an embodiment of the present invention includes an optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention. The optical laminate according to the embodiment of the present invention more preferably includes the optical member with the surface protection film according to the embodiment of the present invention and other optical members.

図2は、本発明の光学積層体の一つの実施形態であり、光学積層体3000は、表面保護フィルム付き光学部材1000と他の光学部材2000を含み、該表面保護フィルム付き光学部材1000は、表面保護フィルム(I)100と補強用フィルム(II)200を含む。 FIG. 2 shows one embodiment of an optical laminate of the present invention, and an optical laminate 3000 includes an optical member 1000 with a surface protection film and another optical member 2000, and the optical member 1000 with a surface protection film includes: Contains a surface protection film (I) 100 and a reinforcing film (II) 200.

本発明の実施形態による光学積層体は、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を含んでいれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の層を含んでいてもよい。 As long as the optical laminate according to the embodiment of the present invention includes the optical member with a surface protection film according to the embodiment of the present invention, it may contain any other suitable layer as long as the effect of the present invention is not impaired. Good too.

他の層としては、例えば、ガラス、ディスプレイ、撮像装置、レンズ、(ハーフ)ミラーが挙げられる。 Examples of other layers include glass, displays, imaging devices, lenses, and (half) mirrors.

本発明の実施形態による光学積層体の総厚みは、他の光学部材の種類によって、任意の適切な厚みを採用し得る。代表的には、本発明の実施形態による光学積層体の総厚みは、好ましくは115μm~650μmであり、より好ましくは120μm~600μmであり、さらに好ましくは125μm~550μmであり、特に好ましくは130μm~500μmである。 The total thickness of the optical laminate according to the embodiment of the present invention may be any suitable thickness depending on the types of other optical members. Typically, the total thickness of optical laminates according to embodiments of the invention is preferably from 115 μm to 650 μm, more preferably from 120 μm to 600 μm, even more preferably from 125 μm to 550 μm, particularly preferably from 130 μm to It is 500 μm.

他の光学部材としては、例えば、偏光板、ポリイミドフィルム、波長板、位相差板、光学補償フィルム、輝度向上フィルム、光拡散シート、反射シートが挙げられる。 Examples of other optical members include polarizing plates, polyimide films, wavelength plates, retardation plates, optical compensation films, brightness enhancement films, light diffusion sheets, and reflective sheets.

他の光学部材の厚みは、その種類によって、任意の適切な厚みを採用し得る。代表的には、他の光学部材の厚みは、好ましくは5μm~400μmであり、より好ましくは10μm~350μmであり、さらに好ましくは15μm~300μmであり、特に好ましくは20μm~250μmである。 The thickness of the other optical members may be any appropriate thickness depending on the type thereof. Typically, the thickness of the other optical member is preferably 5 μm to 400 μm, more preferably 10 μm to 350 μm, even more preferably 15 μm to 300 μm, particularly preferably 20 μm to 250 μm.

≪≪3.光学デバイスの製造方法≫≫
本発明の実施形態による光学デバイスの製造方法は、光学部材を含む光学デバイスの製造方法であり、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材と他の光学部材を用いる。
≪≪3. Method for manufacturing optical devices≫≫
A method for manufacturing an optical device according to an embodiment of the present invention is a method for manufacturing an optical device including an optical member, and uses an optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention and another optical member.

他の光学部材については、≪≪2.光学積層体≫≫の項目における他の光学部材に関する説明をそのまま援用し得る。 Regarding other optical members, see <<<2. The explanation regarding other optical members in the section ``Optical laminate >>'' can be used as is.

本発明の実施形態による光学デバイスの製造方法は、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材を他の光学部材に貼り合わせる工程(以下、工程Iとする)と、該表面保護フィルム付き光学部材から見て該他の光学部材の反対側からレーザを照射してレーザ加工を行う工程(以下、工程IIとする)と、該レーザ加工後の該表面保護フィルムを再剥離する工程(以下、工程IIIとする)と、を含む。 A method for manufacturing an optical device according to an embodiment of the present invention includes a step of laminating an optical member with a surface protection film according to an embodiment of the present invention to another optical member (hereinafter referred to as step I), A step of performing laser processing by irradiating a laser from the opposite side of the other optical member when viewed from the member (hereinafter referred to as step II), and a step of repeeling the surface protection film after the laser processing (hereinafter referred to as Step III).

工程Iにおいては、表面保護フィルム付き光学部材を接着したい他の光学部材に、本発明の実施形態による表面保護フィルム付き光学部材の光学部材側を貼り合わせる。これにより、例えば、表面保護フィルム、光学部材、他の光学部材がこの順に積層された光学積層体が得られる。 In step I, the optical member side of the optical member with the surface protection film according to the embodiment of the present invention is bonded to another optical member to which the optical member with the surface protection film is to be bonded. Thereby, for example, an optical laminate in which a surface protection film, an optical member, and another optical member are laminated in this order is obtained.

その後、工程IIにおいては、工程Iで得られた光学積層体の表面保護フィルム側からレーザを照射してレーザ加工を行う。この場合、レーザを照射することにより、光学積層体に切断面が設けられ、光学積層体から、表面保護フィルム付き光学部材(表面保護フィルムと光学部材の積層体)が部分的に取り除かれる。これにより、他の光学部材上に部分的に表面保護フィルム付き光学部材が接着された積層体が得られる。 Thereafter, in Step II, laser processing is performed by irradiating the optical laminate obtained in Step I with a laser from the surface protection film side. In this case, a cut surface is provided in the optical laminate by laser irradiation, and the optical member with a surface protection film (a laminate of a surface protection film and an optical member) is partially removed from the optical laminate. As a result, a laminate is obtained in which the optical member with the surface protection film is partially adhered onto the other optical member.

その後、工程IIIにおいては、工程IIで得られた他の光学部材上に部分的に表面保護フィルム付き光学部材が搭載された積層体から、表面保護フィルムを再剥離する。その結果、他の光学部材上に部分的に光学部材が接着された光学デバイスが得られる。 Thereafter, in step III, the surface protection film is peeled off again from the laminate obtained in step II, in which the optical member with the surface protection film is partially mounted on the other optical member. As a result, an optical device is obtained in which an optical member is partially bonded onto another optical member.

本発明の実施形態による光学デバイスの製造方法によれば、得られた光学デバイスの光学部材の加工端部には、従来の加工方法、すなわち、通常の補強用フィルムが貼り合わされた光学部材の該補強用フィルム側からレーザを照射してレーザ加工を行う加工方法において観察されるような、隆起がみられない。 According to the method for manufacturing an optical device according to the embodiment of the present invention, the processed end portion of the optical member of the obtained optical device is processed using the conventional processing method, that is, the corresponding part of the optical member to which a normal reinforcing film is laminated. There are no protrusions that are observed in a processing method in which laser processing is performed by irradiating a laser from the reinforcing film side.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、実施例等における、試験および評価方法は以下のとおりである。なお、「部」と記載されている場合は、特記事項がない限り「重量部」を意味し、「%」と記載されている場合は、特記事項がない限り「重量%」を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples in any way. In addition, the test and evaluation methods in Examples and the like are as follows. In addition, when it is written as "parts", it means "parts by weight" unless there are special notes, and when it is written as "%", it means "wt%" unless there are special notes.

<重量平均分子量の測定>
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)法により測定した。具体的には、GPC測定装置として、商品名「HLC-8120GPC」(東ソー株式会社製)を用いて、下記の条件にて測定し、標準ポリスチレン換算値により算出した。
(分子量測定条件)
・サンプル濃度:約2.0g/L(テトラヒドロフラン溶液)
・サンプル注入量:20μL
・カラム:商品名「TSKgel,SuperAWM-H+superAW4000+superAW2500」(東ソー株式会社製)
・カラムサイズ:各6.0mmI.D.×150mm
・溶離液:テトラヒドロフラン(THF)
・流量:0.4mL/min
・検出器:示差屈折計(RI)
・カラム温度(測定温度):40℃
<Measurement of weight average molecular weight>
The weight average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC). Specifically, measurements were made under the following conditions using a GPC measurement device with the trade name "HLC-8120GPC" (manufactured by Tosoh Corporation), and the values were calculated based on standard polystyrene conversion values.
(Molecular weight measurement conditions)
・Sample concentration: Approximately 2.0 g/L (tetrahydrofuran solution)
・Sample injection volume: 20μL
・Column: Product name “TSKgel, SuperAWM-H+superAW4000+superAW2500” (manufactured by Tosoh Corporation)
・Column size: 6.0 mm each. D. ×150mm
・Eluent: Tetrahydrofuran (THF)
・Flow rate: 0.4mL/min
・Detector: Differential refractometer (RI)
・Column temperature (measurement temperature): 40℃

<表面保護フィルムの粘着剤層の表面硬さ>
実施例、比較例で得られた表面保護フィルムの表面硬さの測定を実施した。粘着面を保護するはく離ライナーを剥離し、ナノインデンター装置(Hysitron Inc.製 Triboindenter)を用いて、粘着剤層表面に、押込み深さ1μmまで圧子を押し込み、上記ナノインデンターによる測定により最大荷重(Pmax)[GPa/mm]を得た。これを、式:
表面硬さ[GPa]=Pmax/A
に代入し、表面硬さを算出した。測定条件は下記のとおりである。なお、上式中、Aは圧子の接触投影面積[mm]である。
(測定条件)
圧子アプローチ速度:200nm/s
最大変位 :1μm
押込み速度 :200nm/s
引抜き速度 :200nm/s
使用圧子 :Conical(球形圧子:曲率半径10μm)
測定方法 :単一押込み測定
測定温度 :80℃
<Surface hardness of adhesive layer of surface protection film>
The surface hardness of the surface protection films obtained in Examples and Comparative Examples was measured. Peel off the release liner that protects the adhesive surface, use a nanoindenter device (Triboindenter manufactured by Hysitron Inc.) to press an indenter into the adhesive layer surface to a depth of 1 μm, and apply the maximum load as measured by the nanoindenter. (Pmax) [GPa/mm 2 ] was obtained. This is expressed as:
Surface hardness [GPa] = Pmax/A
The surface hardness was calculated by substituting The measurement conditions are as follows. In the above formula, A is the projected contact area [mm 2 ] of the indenter.
(Measurement condition)
Indenter approach speed: 200nm/s
Maximum displacement: 1μm
Pushing speed: 200nm/s
Pulling speed: 200nm/s
Indenter used: Conical (spherical indenter: radius of curvature 10 μm)
Measurement method: Single indentation measurement Measurement temperature: 80℃

<対アクリル板剥離力>
はく離ライナーを剥がした表面保護フィルム(幅25mm×長さ140mm)の粘着剤層を、アクリル板(アクリライト、三菱ケミカル株式会社製)の表面へ、2kgハンドローラー1往復にて貼り合わせ、23℃の環境温度下で30分間放置した。
上記のようにして得られた評価用試料を、引張試験機にて測定した。引張試験機としては、島津製作所株式会社製の商品名「オートグラフAG-Xplus HS 6000mm/min高速モデル(AG-50NX plus)」を用いた。引張試験機に評価用試料をセットし、引張試験を開始した。具体的には、上記アクリル板から表面保護フィルムを剥離した時の荷重を測定し、その際の平均荷重を表面保護フィルムのアクリル板からの剥離力(対アクリル板剥離力)とした。引張試験の条件は、試験環境温度:23℃、剥離角度:180度、剥離速度(引張速度):300mm/分とした。
<Peeling force against acrylic board>
The adhesive layer of the surface protection film (width 25 mm x length 140 mm) from which the release liner has been removed is pasted onto the surface of an acrylic plate (Acrylite, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) using a 2 kg hand roller once and back at 23°C. It was left for 30 minutes at an ambient temperature of .
The evaluation sample obtained as described above was measured using a tensile tester. As the tensile tester, a product name "Autograph AG-Xplus HS 6000 mm/min high speed model (AG-50NX plus)" manufactured by Shimadzu Corporation was used. The evaluation sample was set in the tensile testing machine, and the tensile test was started. Specifically, the load when the surface protection film was peeled off from the acrylic board was measured, and the average load at that time was taken as the peeling force of the surface protection film from the acrylic board (peeling force against the acrylic board). The conditions for the tensile test were: test environment temperature: 23° C., peeling angle: 180 degrees, and peeling speed (tensile speed): 300 mm/min.

<対ポリイミドフィルム接着力>
はく離ライナーを剥がした表面保護フィルム(幅25mm×長さ140mm)の粘着剤層を、ポリイミドフィルム(ユーピレックスS、宇部興産株式会社製)付きガラス板(ソーダライムガラス、松浪硝子工業株式会社製)のポリイミドフィルムの表面へ、2kgハンドローラー1往復にて貼り合わせ、23℃の環境温度下で30分間放置した。
上記のようにして得られた評価用試料を、引張試験機にて測定した。引張試験機としては、島津製作所株式会社製の商品名「オートグラフAG-Xplus HS 6000mm/min高速モデル(AG-50NX plus)」を用いた。引張試験機に評価用試料をセットし、引張試験を開始した。具体的には、上記ポリイミドフィルム付きガラス板から表面保護フィルムを剥離した時の荷重を測定し、その際の平均荷重を表面保護フィルムのポリイミドフィルムからの剥離力(対ポリイミドフィルム接着力)とした。引張試験の条件は、試験環境温度:23℃、剥離角度:180度、剥離速度(引張速度):300mm/分とした。
<Adhesion strength to polyimide film>
The adhesive layer of the surface protection film (width 25 mm x length 140 mm) from which the release liner has been removed is placed on a glass plate (soda lime glass, manufactured by Matsunami Glass Industries, Ltd.) with a polyimide film (Upilex S, manufactured by Ube Industries, Ltd.). It was attached to the surface of a polyimide film using a 2 kg hand roller once and back and left for 30 minutes at an environmental temperature of 23°C.
The evaluation sample obtained as described above was measured using a tensile tester. As the tensile tester, a product name "Autograph AG-Xplus HS 6000 mm/min high speed model (AG-50NX plus)" manufactured by Shimadzu Corporation was used. The evaluation sample was set in the tensile testing machine, and the tensile test was started. Specifically, the load when the surface protection film was peeled off from the glass plate with the polyimide film was measured, and the average load at that time was taken as the peeling force of the surface protection film from the polyimide film (adhesive force to the polyimide film). . The conditions for the tensile test were: test environment temperature: 23° C., peeling angle: 180 degrees, and peeling speed (tensile speed): 300 mm/min.

<レーザ加工端部の隆起高さ>
実施例、比較例で得られた積層体をCOレーザにて加工を行った。レーザ加工条件は下記の通りである。
・COレーザ波長:9.36μm
・加工速度:500mm/sec
・周波数:30Hz
・W数:加工品未切断部分が残り7μmとなるように、積層体の総厚に応じて調整した。
その後、顕微鏡(OLYMPUS社製 BX51)を用いて、下記手順に従い、レーザ加工端部の隆起高さを評価した。なお、レーザ加工端部とは、図3に示すように、レーザ切断面における補強フィルムの基材部分の端部Tである。
(1)加工部位が中心になるように、10mm×20mmにカットし、カットした積層体の表面保護フィルム部分を剥離した。
(2)その後、表面保護フィルムを剥離した積層体をステージに対して垂直に立てて、断面部分を観察し、レーザ加工端部の隆起高さを計測した。
<Elevation height of laser processing end>
The laminates obtained in Examples and Comparative Examples were processed using a CO 2 laser. The laser processing conditions are as follows.
CO2 laser wavelength: 9.36μm
・Processing speed: 500mm/sec
・Frequency: 30Hz
- Number of W: Adjusted according to the total thickness of the laminate so that the uncut portion of the processed product remained 7 μm.
Thereafter, using a microscope (BX51 manufactured by OLYMPUS), the height of the protrusion at the laser-processed end was evaluated according to the following procedure. Note that the laser processed end is the end T of the base material portion of the reinforcing film at the laser cut surface, as shown in FIG.
(1) The laminate was cut into 10 mm x 20 mm so that the processed area was centered, and the surface protection film portion of the cut laminate was peeled off.
(2) Thereafter, the laminate with the surface protection film peeled off was stood perpendicularly to the stage, the cross section was observed, and the height of the protrusion at the laser processed end was measured.

[製造例1]
<アクリル系ポリマーAの製造>
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた四つ口フラスコに、モノマーとして、2-エチルヘキシルアクリレート(2EHA):96重量部、2-ヒドロキシエチルアクリレート(HEA):4重量部、重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN):0.2重量部、酢酸エチル:150重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を65℃付近に保って6時間重合反応を行い、重量平均分子量54万のアクリル系ポリマーAの溶液を得た。
[Manufacture example 1]
<Production of acrylic polymer A>
In a four-neck flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas introduction tube, and a condenser, as monomers, 2-ethylhexyl acrylate (2EHA): 96 parts by weight, 2-hydroxyethyl acrylate (HEA): 4 parts by weight, 0.2 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) and 150 parts by weight of ethyl acetate were added as polymerization initiators, and nitrogen gas was introduced while stirring gently to reduce the temperature of the liquid in the flask. A polymerization reaction was carried out for 6 hours while maintaining the temperature at around 65° C. to obtain a solution of acrylic polymer A having a weight average molecular weight of 540,000.

[製造例2]
<アクリル系ポリマーBの製造>
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた四つ口フラスコに、モノマーとして、ブチルアクリレート(BA):95重量部、アクリル酸(AA)5重量部、重合開始剤として2,2’-アゾビスイソブチロニトリル:0.2重量部、酢酸エチル:233重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、60℃に加熱し、フラスコ内の液温を60℃付近に保って7時間重合反応を行い、重量平均分子量60万のアクリル系ポリマーBの溶液を得た。
[Manufacture example 2]
<Production of acrylic polymer B>
In a four-neck flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube, and a condenser, 95 parts by weight of butyl acrylate (BA) as monomers, 5 parts by weight of acrylic acid (AA), 2 parts by weight as a polymerization initiator, Charge 0.2 parts by weight of 2'-azobisisobutyronitrile and 233 parts by weight of ethyl acetate, introduce nitrogen gas while stirring gently, heat to 60°C, and bring the liquid temperature inside the flask to 60°C. The polymerization reaction was carried out for 7 hours by keeping the temperature close to the 100° C. to obtain a solution of acrylic polymer B having a weight average molecular weight of 600,000.

[製造例3]
<補強用フィルムの製造>
モノマー成分としてのアクリル酸2-エチルヘキシル(2EHA):63重量部、N-ビニル-2-ピロリドン(NVP):15重量部、メタクリル酸メチル(MMA):9重量部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル(HEA):13重量部、重合開始剤としての2,2’-アゾビスイソブチロニトリル:0.2重量部、および、重合溶媒としての酢酸エチル133重量部を、セパラブルフラスコに投入し、窒素ガスを導入しながら1時間撹拌した。このようにして重合系内の酸素を除去した後、65℃に昇温し、10時間反応させ、その後、酢酸エチルを加えて固形分濃度30重量%のアクリル系ポリマー溶液を得た。得られたアクリル系ポリマー溶液中のアクリル系ポリマーの重量平均分子量は80万であった。
次に、上記アクリル系ポリマー溶液に、イソシアネート系架橋剤(商品名「タケネートD110N」、三井化学株式会社製)をアクリル系ポリマー(固形分)100重量部に対して固形分換算で1.1重量部となるように添加し、シランカップリング剤(γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、商品名「KBM403」、信越化学工業株式会社製)をアクリル系ポリマー(固形分)100重量部に対して固形分換算で0.15重量部となるように添加し、これを混合することによってアクリル系粘着剤組成物を調製した。
続いて、PET(ポリエチレンテレフタレート)基材(厚み75μm)の一方の面に、得られたアクリル系粘着剤組成物を塗布し、PET基材上に塗布層を形成した。次に、PET基材上に塗布層を形成したものをオーブンに投入し、塗布層を130℃で3分間乾燥させ、PET基材の一方の面に、厚み10μmの粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、補強用フィルムを得た。
[Manufacture example 3]
<Manufacture of reinforcing film>
2-ethylhexyl acrylate (2EHA) as monomer components: 63 parts by weight, N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP): 15 parts by weight, methyl methacrylate (MMA): 9 parts by weight, 2-hydroxyethyl acrylate ( 13 parts by weight of HEA), 0.2 parts by weight of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator, and 133 parts by weight of ethyl acetate as a polymerization solvent were charged into a separable flask, The mixture was stirred for 1 hour while introducing nitrogen gas. After removing oxygen in the polymerization system in this manner, the temperature was raised to 65° C. and the reaction was carried out for 10 hours. Ethyl acetate was then added to obtain an acrylic polymer solution with a solid content concentration of 30% by weight. The weight average molecular weight of the acrylic polymer in the obtained acrylic polymer solution was 800,000.
Next, an isocyanate crosslinking agent (trade name "Takenate D110N", manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) was added to the above acrylic polymer solution at a rate of 1.1 weight parts per 100 parts by weight of the acrylic polymer (solid content). % of the silane coupling agent (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, trade name "KBM403", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) per 100 parts by weight of the acrylic polymer (solid content). An acrylic pressure-sensitive adhesive composition was prepared by adding 0.15 parts by weight in terms of solid content and mixing them.
Subsequently, the obtained acrylic adhesive composition was applied to one side of a PET (polyethylene terephthalate) substrate (thickness: 75 μm) to form a coating layer on the PET substrate. Next, the coated layer formed on the PET base material was placed in an oven, and the coated layer was dried at 130° C. for 3 minutes to form a 10 μm thick adhesive layer on one side of the PET base material. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In addition, a reinforcing film was obtained.

[実施例1]
アクリル系ポリマーA:100重量部(固形分)、架橋剤としてイソシアネート化合物(コロネートHX:C/HX、日本ポリウレタン社製):5重量部、触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製):0.03重量部を配合し、全体の固形分が20重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み50μm、三菱ケミカル株式会社製)に、乾燥後の厚みが10μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(1)を得た。
得られた表面保護フィルム(1)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(1)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(1)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムの基材側に貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(1)を得た。
積層体(1)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Example 1]
Acrylic polymer A: 100 parts by weight (solid content), isocyanate compound (Coronate HX: C/HX, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 5 parts by weight, Enbilizer OL-1 (manufactured by Tokyo Fine Chemical Company) as a catalyst: 0.03 parts by weight was mixed and diluted with ethyl acetate so that the total solid content was 20% by weight to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 50 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying would be 10 μm, and dried at a drying temperature of 130°C. It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In total, a surface protection film (1) was obtained.
The obtained surface protection film (1) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (1), the adhesive layer of the surface protection film (1) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to the base material side of the film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (1).
Laminated body (1) was subjected to laser processing, and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[実施例2]
アクリル系ポリマーB:100重量部(固形分)、架橋剤として4官能エポキシ系化合物(テトラッドC:T/C、三菱ガス化学社製)6重量部を配合し、全体の固形分が15重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み38μm、三菱ケミカル株式会社製)に乾燥後の厚みが5μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(2)を得た。
得られた表面保護フィルム(2)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(2)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(2)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムに貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(2)を得た。
積層体(2)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Example 2]
Acrylic polymer B: 100 parts by weight (solid content), 6 parts by weight of a tetrafunctional epoxy compound (Tetrad C: T/C, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a crosslinking agent were blended, and the total solid content was 15% by weight. The mixture was diluted with ethyl acetate to obtain an acrylic adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 38 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying would be 5 μm, and the drying temperature was 130° C. and the drying time was It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In addition, a surface protection film (2) was obtained.
The obtained surface protection film (2) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (2), the adhesive layer of the surface protection film (2) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to a commercial film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (2).
The laminate (2) was subjected to laser processing, and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[実施例3]
アクリル系ポリマーA:100重量部(固形分)、架橋剤としてイソシアネート化合物(コロネートHX:C/HX、日本ポリウレタン社製):5重量部、触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製):0.03重量部を配合し、全体の固形分が20重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み38μm、三菱ケミカル株式会社製)に乾燥後の厚みが10μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(3)を得た。
得られた表面保護フィルム(3)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(3)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(3)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムに貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(3)を得た。
積層体(3)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Example 3]
Acrylic polymer A: 100 parts by weight (solid content), isocyanate compound (Coronate HX: C/HX, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 5 parts by weight, Enbilizer OL-1 (manufactured by Tokyo Fine Chemical Company) as a catalyst: 0.03 parts by weight was mixed and diluted with ethyl acetate so that the total solid content was 20% by weight to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 38 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying would be 10 μm, and the drying temperature was 130° C. and the drying time. It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In total, a surface protection film (3) was obtained.
The obtained surface protection film (3) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (3), the adhesive layer of the surface protection film (3) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to a commercial film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (3).
Laser processing was performed on the laminate (3), and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[実施例4]
アクリル系ポリマーA:100重量部(固形分)、架橋剤としてイソシアネート化合物(コロネートHX:C/HX、日本ポリウレタン社製):4重量部、触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製):0.03重量部を配合し、全体の固形分が20重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み38μm、三菱ケミカル株式会社製)に乾燥後の厚みが20μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(4)を得た。
得られた表面保護フィルム(4)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(4)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(4)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムに貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(4)を得た。
積層体(4)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Example 4]
Acrylic polymer A: 100 parts by weight (solid content), isocyanate compound (Coronate HX: C/HX, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 4 parts by weight, Enbilizer OL-1 (manufactured by Tokyo Fine Chemical Company) as a catalyst: 0.03 parts by weight was mixed and diluted with ethyl acetate so that the total solid content was 20% by weight to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 38 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying was 20 μm, and the drying temperature was 130° C. and the drying time was It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In total, a surface protection film (4) was obtained.
The obtained surface protection film (4) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (4), the adhesive layer of the surface protection film (4) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to a commercial film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (4).
Laser processing was performed on the laminate (4), and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[実施例5]
アクリル系ポリマーA:100重量部(固形分)、架橋剤としてイソシアネート化合物(コロネートHX:C/HX、日本ポリウレタン社製):4重量部、触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製)0.03重量部を配合し、全体の固形分が20重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み38μm、三菱ケミカル株式会社製)に乾燥後の厚みが21μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(5)を得た。
得られた表面保護フィルム(5)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(5)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(5)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムに貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(5)を得た。
積層体(5)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Example 5]
Acrylic polymer A: 100 parts by weight (solid content), isocyanate compound (Coronate HX: C/HX, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 4 parts by weight, Enbilizer OL-1 (manufactured by Tokyo Fine Chemical Co., Ltd.) as a catalyst 0 0.03 parts by weight was mixed and diluted with ethyl acetate so that the total solid content was 20% by weight to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 38 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying was 21 μm, and the drying temperature was 130° C. and the drying time was It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In total, a surface protection film (5) was obtained.
The obtained surface protection film (5) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (5), the adhesive layer of the surface protection film (5) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to a commercial film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (5).
The laminate (5) was subjected to laser processing, and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[実施例6]
アクリル系ポリマーA:100重量部(固形分)、架橋剤としてイソシアネート化合物(コロネートHX:C/HX、日本ポリウレタン社製):4重量部、触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製):0.03重量部を配合し、全体の固形分が20重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み38μm、三菱ケミカル株式会社製)に乾燥後の厚みが10μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(6)を得た。
得られた表面保護フィルム(6)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(6)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(6)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムに貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(6)を得た。
積層体(6)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Example 6]
Acrylic polymer A: 100 parts by weight (solid content), isocyanate compound (Coronate HX: C/HX, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 4 parts by weight, Enbilizer OL-1 (manufactured by Tokyo Fine Chemical Company) as a catalyst: 0.03 parts by weight was mixed and diluted with ethyl acetate so that the total solid content was 20% by weight to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 38 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying would be 10 μm, and the drying temperature was 130° C. and the drying time. It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In total, a surface protection film (6) was obtained.
The obtained surface protection film (6) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (6), the adhesive layer of the surface protection film (6) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to a commercial film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (6).
Laser processing was performed on the laminate (6), and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[比較例1]
製造例3で製造した補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(C1)を得た。
積層体(C1)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Comparative example 1]
After peeling off the release liner of the reinforcing film produced in Production Example 3, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (C1).
Laser processing was performed on the laminate (C1), and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[比較例2]
アクリル系ポリマーA:100重量部(固形分)、架橋剤としてイソシアネート化合物(コロネートHX:C/HX、日本ポリウレタン社製):5重量部、触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製):0.03重量部を配合し、全体の固形分が20重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み100μm、三菱ケミカル株式会社製)に乾燥後の厚みが10μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(C2)を得た。
得られた表面保護フィルム(C2)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(C2)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(C2)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムに貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(C2)を得た。
積層体(C2)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Comparative example 2]
Acrylic polymer A: 100 parts by weight (solid content), isocyanate compound (Coronate HX: C/HX, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 5 parts by weight, Enbilizer OL-1 (manufactured by Tokyo Fine Chemical Company) as a catalyst: 0.03 parts by weight was mixed and diluted with ethyl acetate so that the total solid content was 20% by weight to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 100 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying would be 10 μm, and the drying temperature was 130° C. and the drying time. It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In addition, a surface protection film (C2) was obtained.
The obtained surface protection film (C2) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (C2), the adhesive layer of the surface protection film (C2) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to a commercial film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (C2).
The laminate (C2) was subjected to laser processing, and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[比較例3]
アクリル系ポリマーA:100重量部(固形分)、架橋剤としてイソシアネート化合物(コロネートHX:C/HX、日本ポリウレタン社製):5重量部、触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製):0.03重量部を配合し、全体の固形分が20重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み75μm、三菱ケミカル株式会社製)に乾燥後の厚みが10μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(C3)を得た。
得られた表面保護フィルム(C3)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(C3)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(C3)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムに貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(C3)を得た。
積層体(C3)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Comparative example 3]
Acrylic polymer A: 100 parts by weight (solid content), isocyanate compound (Coronate HX: C/HX, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 5 parts by weight, Enbilizer OL-1 (manufactured by Tokyo Fine Chemical Company) as a catalyst: 0.03 parts by weight was mixed and diluted with ethyl acetate so that the total solid content was 20% by weight to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 75 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying would be 10 μm, and the drying temperature was 130° C. and the drying time. It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In addition, a surface protection film (C3) was obtained.
The obtained surface protection film (C3) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (C3), the adhesive layer of the surface protection film (C3) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to a commercial film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (C3).
Laser processing was performed on the laminate (C3), and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

[比較例4]
アクリル系ポリマーA:100重量部(固形分)、架橋剤としてイソシアネート化合物(コロネートHX:C/HX、日本ポリウレタン社製):4重量部、触媒としてエンビライザーOL-1(東京ファインケミカル社製):0.03重量部を配合し、全体の固形分が20重量%となるように酢酸エチルで希釈し、アクリル系粘着剤組成物を得た。
得られたアクリル系粘着剤組成物を、ポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「T100」、厚み75μm、三菱ケミカル株式会社製)に乾燥後の厚みが10μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間30秒の条件でキュアーして乾燥し、アクリル系粘着剤からなる粘着剤層を作製した。次いで、得られた粘着剤層の表面に、はく離ライナーとして、一方の面にシリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名「MRF25」、厚み25μm、三菱ケミカル株式会社製)のシリコーン処理面を貼合せて、表面保護フィルム(C4)を得た。
得られた表面保護フィルム(C4)を常温で5日間エージングを行い、表面保護フィルム(C4)のはく離ライナーを剥離後、表面保護フィルム(C4)の粘着剤層を、製造例3で製造した補強用フィルムに貼り合わせた。さらに補強用フィルムのはく離ライナーを剥離後、厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックスS」)に貼り合わせ、積層体(C4)を得た。
積層体(C4)のレーザ加工を実施し、加工端部の評価を実施した。
結果を表1に示した。
[Comparative example 4]
Acrylic polymer A: 100 parts by weight (solid content), isocyanate compound (Coronate HX: C/HX, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) as a crosslinking agent: 4 parts by weight, Enbilizer OL-1 (manufactured by Tokyo Fine Chemical Company) as a catalyst: 0.03 parts by weight was mixed and diluted with ethyl acetate so that the total solid content was 20% by weight to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition.
The obtained acrylic adhesive composition was applied to a polyethylene terephthalate film (trade name "T100", thickness 75 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) so that the thickness after drying would be 10 μm, and the drying temperature was 130° C. and the drying time. It was cured and dried for 30 seconds to produce a pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic pressure-sensitive adhesive. Next, the silicone-treated side of a polyethylene terephthalate film (trade name "MRF25", thickness 25 μm, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), which had been silicone-treated on one side, was pasted on the surface of the obtained adhesive layer as a release liner. In addition, a surface protection film (C4) was obtained.
The obtained surface protection film (C4) was aged for 5 days at room temperature, and after peeling off the release liner of the surface protection film (C4), the adhesive layer of the surface protection film (C4) was replaced with the reinforcement produced in Production Example 3. It was attached to a commercial film. Furthermore, after peeling off the release liner of the reinforcing film, it was bonded to a 25 μm thick polyimide film (“Upilex S” manufactured by Ube Industries) to obtain a laminate (C4).
Laser processing was performed on the laminate (C4), and the processed edges were evaluated.
The results are shown in Table 1.

本発明の表面保護フィルム付き光学部材は、薄型化が求められる光学デバイスに含まれる光学部材に剛性や耐衝撃性を付与するために好適に利用可能である。本発明の光学積層体は、薄型化が求められる光学デバイスに好適に利用可能である。本発明の光学デバイスの製造方法は、薄型化が求められる光学デバイスを高品質で製造する方法に利用可能である。 The optical member with a surface protection film of the present invention can be suitably used to impart rigidity and impact resistance to an optical member included in an optical device that is required to be thin. The optical laminate of the present invention can be suitably used in optical devices that are required to be thin. The method for manufacturing an optical device of the present invention can be used for manufacturing a high-quality optical device that is required to be thin.

1000 表面保護フィルム付き光学部材
2000 他の光学部材
3000 光学積層体
100 表面保護フィルム(I)
200 補強用フィルム(II)
11 基材(Ia)
12 粘着剤層(Ib)
21 基材(IIa)
22 粘着剤層(IIb)
T レーザ切断面における補強フィルムの基材部分の端部

1000 Optical member with surface protection film 2000 Other optical members 3000 Optical laminate 100 Surface protection film (I)
200 Reinforcing film (II)
11 Base material (Ia)
12 Adhesive layer (Ib)
21 Base material (IIa)
22 Adhesive layer (IIb)
T Edge of base material portion of reinforcing film at laser cut surface

Claims (8)

表面保護フィルム(I)と光学部材を含む表面保護フィルム付き光学部材であって、
該表面保護フィルム(I)は、基材(Ia)と粘着剤層(Ib)を含み、
該粘着剤層(Ib)と該光学部材とが直接積層されてなり、
該光学部材の厚みが400μm以下であり、
該基材(Ia)の厚みが60μm未満である、
表面保護フィルム付き光学部材。
An optical member with a surface protection film including a surface protection film (I) and an optical member,
The surface protection film (I) includes a base material (Ia) and an adhesive layer (Ib),
The adhesive layer (Ib) and the optical member are directly laminated,
The thickness of the optical member is 400 μm or less,
The thickness of the base material (Ia) is less than 60 μm.
Optical components with surface protection film.
前記粘着剤層(Ib)の80℃における表面硬さが3.00MPa以下である、請求項1に記載の表面保護フィルム付き光学部材。 The optical member with a surface protection film according to claim 1, wherein the adhesive layer (Ib) has a surface hardness of 3.00 MPa or less at 80°C. 前記粘着剤層(Ib)の厚みが45μm未満である、請求項1に記載の表面保護フィルム付き光学部材。 The optical member with a surface protection film according to claim 1, wherein the adhesive layer (Ib) has a thickness of less than 45 μm. 前記粘着剤層(Ib)の、温度23℃、相対湿度50%の環境下での、剥離角度180°、引張速度300mm/分における対アクリル板剥離力が、0.25N/25mm未満である、請求項1に記載の表面保護フィルム付き光学部材。 The adhesive layer (Ib) has a peeling force against the acrylic plate of less than 0.25 N/25 mm at a peeling angle of 180° and a tensile speed of 300 mm/min in an environment of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. The optical member with a surface protection film according to claim 1. 前記光学部材が補強用フィルム(II)であり、該補強用フィルム(II)は、基材(IIa)と粘着剤層(IIb)を含む、請求項1に記載の表面保護フィルム付き光学部材。 The optical member with a surface protection film according to claim 1, wherein the optical member is a reinforcing film (II), and the reinforcing film (II) includes a base material (IIa) and an adhesive layer (IIb). 前記粘着剤層(IIb)の、温度23℃、相対湿度50%の環境下での、剥離角度180°、引張速度300mm/分における対ポリイミドフィルム接着力が、3N/25mm以上である、請求項5に記載の表面保護フィルム付き光学部材。 Claim: The adhesive layer (IIb) has an adhesive force to the polyimide film of 3 N/25 mm or more at a peeling angle of 180° and a tensile speed of 300 mm/min in an environment of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%. 5. The optical member with a surface protection film according to 5. 請求項1から6までのいずれかに記載の表面保護フィルム付き光学部材を含む、光学積層体。 An optical laminate comprising the optical member with a surface protection film according to any one of claims 1 to 6. 光学部材を含む光学デバイスの製造方法であって、
請求項5または6に記載の表面保護フィルム付き光学部材を他の光学部材に貼り合わせる工程と、
該表面保護フィルム付き光学部材から見て該他の光学部材の反対側からレーザを照射してレーザ加工を行う工程と、
該レーザ加工後の該表面保護フィルムを再剥離する工程と、
を含む、
光学デバイスの製造方法。


A method for manufacturing an optical device including an optical member, the method comprising:
A step of bonding the optical member with a surface protection film according to claim 5 or 6 to another optical member,
performing laser processing by irradiating a laser from the opposite side of the other optical member when viewed from the optical member with the surface protection film;
repeeling the surface protection film after the laser processing;
including,
Method for manufacturing optical devices.


JP2022109212A 2022-07-06 2022-07-06 Optical member having surface protective film, optical laminate, and manufacturing method of optical device Pending JP2024007852A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022109212A JP2024007852A (en) 2022-07-06 2022-07-06 Optical member having surface protective film, optical laminate, and manufacturing method of optical device
KR1020230085483A KR20240006448A (en) 2022-07-06 2023-07-03 Optical member with surface protective film, optical laminate, and manufacturing method of optical device
CN202310821702.5A CN117369030A (en) 2022-07-06 2023-07-06 Optical member with surface protective film, optical laminate, and method for manufacturing optical device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022109212A JP2024007852A (en) 2022-07-06 2022-07-06 Optical member having surface protective film, optical laminate, and manufacturing method of optical device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2024007852A true JP2024007852A (en) 2024-01-19

Family

ID=89393551

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022109212A Pending JP2024007852A (en) 2022-07-06 2022-07-06 Optical member having surface protective film, optical laminate, and manufacturing method of optical device

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP2024007852A (en)
KR (1) KR20240006448A (en)
CN (1) CN117369030A (en)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4233999B2 (en) 2003-12-25 2009-03-04 日東電工株式会社 Laminated polarizing plate and manufacturing method thereof
JP5093900B2 (en) 2008-11-17 2012-12-12 日東電工株式会社 Laminated polarizing plate and manufacturing method thereof
JP6366199B2 (en) 2016-06-30 2018-08-01 日東電工株式会社 Reinforcing film with separator
CN109476977B (en) 2016-07-19 2021-04-06 日东电工株式会社 Pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive film, pressure-sensitive adhesive tape, and film substrate
KR102052496B1 (en) 2017-09-28 2019-12-05 닛토덴코 가부시키가이샤 Reinforcement film

Also Published As

Publication number Publication date
KR20240006448A (en) 2024-01-15
CN117369030A (en) 2024-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8828539B2 (en) Acrylic pressure-sensitive adhesive, acrylic pressure-sensitive adhesive layer and acrylic pressure-sensitive adhesive tape or sheet
JP5281318B2 (en) Adhesive composition and adhesive sheet for metal surface sticking
US9896606B2 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet and use thereof
EP3020778B1 (en) Pressure-sensitive adhesive composition
WO2010131721A1 (en) Heat-releasable pressure-sensitive adhesive tape or sheet
JP2010189545A (en) Double-sided self-adhesive sheet and self-adhesive optical member
CN114410254A (en) Adhesive composition, adhesive layer, adhesive sheet, optical member, and touch panel
EP2653516B1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet and pressure-sensitive adhesive composition
CN109628026B (en) Acrylic pressure-sensitive adhesive composition and pressure-sensitive adhesive sheet
WO2011059043A1 (en) Process for production of acrylic adhesive sheet
JP2019070102A (en) Acrylic adhesive composition and adhesive sheet
JP6045055B2 (en) Surface protection sheet
EP2662428A1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet for metal surface protection
KR102589157B1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet
JP2024007852A (en) Optical member having surface protective film, optical laminate, and manufacturing method of optical device
KR102607273B1 (en) Pressure-sensitive adhesive sheet
TW202411072A (en) Method for manufacturing optical components, optical laminates, and optical devices with surface protective film
JP7168820B2 (en) Adhesive tape for optical components
JP7437151B2 (en) Adhesive tape
JP2013100438A (en) Surface protective sheet
WO2023105906A1 (en) Reinforcement film
JP2023174541A (en) optical laminate
JP2023174542A (en) Surface protection film and optical laminate
CN117625052A (en) Double-sided adhesive sheet
JP2023131574A (en) Reinforcement film

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20221107

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20230104

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20240307