JP2023551374A - 外科用スコープデバイスのチャネルを滅菌するための装置 - Google Patents

Abstract

様々な実施形態は、外科用スコープデバイスのチャネルを滅菌するための滅菌装置を提供する。装置は、外科用スコープデバイスのチャネルにイオン化ガスを送達するための導管を有するガス供給源と、外科用スコープデバイスのチャネルを通して挿入されるように構成された、ガス供給源及び導管とは別個の滅菌器具とを含む。滅菌器具は細長いプローブを含む。細長いプローブは、無線周波数（ＲＦ）電磁（ＥＭ）エネルギー及び／またはマイクロ波ＥＭエネルギーを伝達するための伝送線と、ＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波ＥＭエネルギーを受け取るために伝送線の遠位端で接続されたプローブ先端であって、受け取られたＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波ＥＭエネルギーから電場を生成して、ガス供給源からチャネルに送達されるイオン化ガスのプラズマを発生させるように構成された電極アセンブリを含むプローブ先端とを含む。

Description

本発明は、内視鏡などの外科用スコープデバイスの滅菌に関し、特に、そのような外科用スコープデバイスの器具チャネルを滅菌または殺菌するために使用できる装置に関するが、これだけに限られない。

細菌は、ほぼどこにでも見つけられ、多数存在し、急速に分裂及び増殖することができる単細胞生物である。ほとんどの細菌は無害であるが、３つの有害なグループが存在する。すなわち、球菌、らせん菌、及び桿菌である。球菌は丸い細胞であり、らせん菌はコイル状の細胞であり、桿菌は棒状の細胞である。有害な細菌は、破傷風及び腸チフスなどの病気を引き起こす。

ウイルスは、他の細胞を乗っ取ることによってのみ生き、増殖することができる。つまり、ウイルスは単独で生き延びることはできない。ウイルスは、風邪、インフルエンザ、流行性耳下腺炎、及びエイズなどの病気を引き起こす。真菌胞子及び原生動物と呼ばれる小さな生命体が病気を引き起こす可能性がある。

このような微生物は、手術用スコープ（内視鏡、胃鏡など）の器具チャネルまたは他のチャネルに残存することが知られており、これらの生命体を除去することが望ましい。滅菌は、あらゆる形の生き物、特に微生物を破壊または排除する行為またはプロセスである。

スコープの器具チャネルを滅菌する既知の方法は、破片を排出するためにチャネルを通して洗い流される洗浄液を使用することを伴う。また、内部をこするためにブラシを使用してもよい。スコープは次に、自動洗浄部または殺菌部で殺菌され、これは、グルタルアルデヒドなどの潜在的に有害な化学物質にスコープを浸漬することを含む場合がある。最後に、スコープは、水、次にアルコールで完全に濯がれて、微量の殺菌剤を除去する。

そのような既知の方法は、労働集約的であり、また、器具チャネルを不完全または不十分に滅菌しがちである。本発明は上記の考慮事項に照らして考案された。

本発明の第１の態様によれば、スコープデバイスの器具チャネルなどのチャネルを滅菌するための滅菌装置が提供される。滅菌装置は、外科用スコープデバイスのチャネルにイオン化ガスを送達するための導管を有するガス供給源と、外科用スコープデバイスのチャネルを通して挿入されるように構成された、ガス供給源及び導管とは別個の滅菌器具とを含む。滅菌器具は、無線周波数（ＲＦ）電磁（ＥＭ）エネルギー及び／またはマイクロ波エネルギーを伝達するための伝送線と、ＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波ＥＭエネルギーを受け取るために同軸ケーブルの遠位端で接続されたプローブ先端であって、受け取られたＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波周波数ＥＭエネルギーから電場を生成して、ガス供給源からチャネルに送達されるイオン化ガスのプラズマを発生させるように構成された電極アセンブリを含むプローブ先端とを含む細長いプローブを含む。本明細書に開示された装置の実装に重要であるガスは、空気、ヘリウム、アルゴン、窒素、圧縮空気、及び二酸化炭素である。システムはこれらのガスに限定される必要はない。ガス混合物を使用し得る。例えば、１％の空気と９９％のヘリウム、または５％と９５％のヘリウムなど、例えば、様々な濃度のアルゴン、空気、及びヘリウムを使用し得る。好ましくは、ガスはアルゴンなどの不活性ガスであるが、熱プラズマまたは非熱プラズマの生成に適した任意のガスを選び得る。好ましくは、ガスは、プラズマを発生させるためにプローブ先端が印加できる電圧に基づいて選択され得る。例えば、空気は、アルゴンよりも高い絶縁破壊電圧を有する場合がある（アルゴンは空気の破壊電圧の約２０％の絶縁破壊電圧供給源を有する）ため、いくつかの構成では、ガス供給源がアルゴンガスを供給することが好ましい場合がある。特に、プラズマは空気を使用して作り得るが、電圧破壊を達成するために必要とされる高い電圧のため、他のガスが好ましいと見なされる場合がある（例えば、より低い絶縁破壊電圧を有する）。

このようにして、本発明の滅菌装置は、スコープデバイスのチャネルをイオン化ガスであふれさせる（つまり、通常チャネル内に存在する空気を置換するために、チャネルを実質的にガスで充填する）ように構成され、電場を生成することによって、滅菌器具のプローブ先端は、スコープデバイスのチャネルの滅菌及び清掃のためにガスのプラズマに衝突し、ガスのプラズマを維持することができる。したがって、プローブ先端は、本明細書ではプラズマアプリケータと呼ばれる場合がある。滅菌器具は、それが熱プラズマまたは非熱プラズマを生成する際に、スコープデバイスのチャネルに沿って近位に及び遠位に移動され得、それによってチャネルを清掃及び滅菌する。熱プラズマまたは非熱プラズマは、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌（ＭＲＳＡ）、クロストリジウム・ディフィシル（ｃ．ｄｉｆｆ．、胞子と栄養状態の両方）、及びエシェリキア（大腸菌）を含む一連の細菌のバイオバーデンの減少を提供するために使用し得るため、器具チャネルのより効率的かつ完全な滅菌を可能にし得る。器具はまた、非熱プラズマと非電離マイクロ波放射線の組み合わせを生成するように構成され得る。

別個の導管を介してスコープデバイスのチャネルにガスを供給することによって、滅菌器具自体に導管または内腔を形成する必要はない。したがって、滅菌器具は、既知の構成よりも狭い直径を有し得る。例えば、滅菌器具は、狭い直径（例えば約１ｍｍ）を有するチャネルの滅菌及び清掃に適し得る０．６ｍｍなどの１ｍｍ以下の直径を有し得る。対照的に、既知のデバイスは、遠位端でプラズマを生成するために滅菌デバイス自体が狭いチャネルを通してガスを搬送する必要があるため、そのような狭いチャネルを滅菌するのには適していない。したがって、ガスを送達するための導管のサイズのため、既知の器具はその直径に対する下限が比較的大きい。例えば、既知の器具の直径は、２ｍｍを超える場合がある。その結果、本発明は、熱プラズマまたは非熱プラズマを使用して小さい直径のチャネルを清掃及び滅菌することを可能にする。滅菌器具の、別にガスを送達することはまた、他の利点を提供し得る。例えば、一部のスコープデバイス殺菌プロトコルは、スコープデバイスを水またはその他の液体洗浄剤で濯ぐことを必要とする。滅菌器具とは別個であるガスの流れを送達することによって、ガスの流れはまた、スコープデバイスのチャネルを乾燥させるのに役立ち得る水または液体の分子の分散を助け得る。

このようにして、本発明の第１の態様は、特に、内視鏡、胃鏡、気管支鏡などの外科用スコープデバイスの器具チャネルを殺菌する目的で器具の遠位端で滅菌を実行する能力を提供する。装置は、発生器からプローブ先端に供給されるＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波周波数ＥＭエネルギーによって衝突及び維持されるプラズマを使用して、器具チャネルを完全に滅菌することを可能にする。

本明細書では、用語「外科用スコープデバイス」は、侵襲的処置中に患者の体内に導入される剛性または可撓性の（例えば、操作可能な）導管である挿入管を備えた任意の外科用デバイスという意味で使用されてよい。挿入管は、器具チャネルと（例えば、挿入管の遠位端で治療部位を照明する、及び／または治療部位の画像を取り込むために光を伝達するための）光チャネルとを含み得る。器具チャネルは、侵襲的な手術器具を受け入れるために適した直径を有し得る（ただし、内視鏡処置は通常「低侵襲」と呼ばれる）。器具チャネルの直径は５ｍｍ以下であってよい。

本明細書では、「マイクロ波周波数」は、４００ＭＨｚ～１００ＧＨｚであるが、好ましくは１ＧＨｚ～６０ＧＨｚの範囲の周波数範囲を指して広く使用され得る。検討された具体的な周波数は、９１５ＭＨｚ、２．４５ＧＨｚ、３．３ＧＨｚ、５．８ＧＨｚ、１０ＧＨｚ、１４．５ＧＨｚ、及び２４ＧＨｚである。対照的に、本明細書は、少なくとも３桁低い、例えば、３００ＭＨｚまでの、好ましくは１０ｋＨｚ～１ＭＨｚである周波数範囲を示すために「無線周波数」または「ＲＦ」を使用する。マイクロ波周波数は、送達されるマイクロ波エネルギーを最適化することを可能にするために調整し得る。例えば、プローブ先端は、特定の周波数（例えば９００ＭＨｚ）で動作するように設計され得るが、使用時に最も効率的な周波数は異なる場合がある（例えば８６６ＭＨｚ）。プローブ先端は特定の周波数で動作するように設計され得るが、大部分の先端は、それらが、最適ではないが、依然として使用可能な効率を有するわずかに幅広い帯域で許容できる範囲で動作する。

細長いプローブは、例えば、内視鏡、胃鏡、気管支鏡、結腸鏡などの器具チャネルを通してなど、スコープデバイスを通して挿入可能となる寸法にされ得る。例えば、同軸ケーブルは、２．５ｍｍ以下、好ましくは２．２ｍｍ以下、または１ｍｍ以下の直径を有し得る。同軸ケーブルはスリーブを有し得、スリーブは、２．６ｍｍ未満、好ましくは２．５ｍｍ未満、または１．５ｍｍ未満の外径を有し得る。より大型の腹腔鏡器具の場合、外径は３ｍｍ以上である場合があり、より大きい直径の同軸ケーブルを使用し得る。同軸ケーブルは、プローブが器具チャネルの全長にわたって延びることができることを確実にするために約２ｍ以上の長さを有する場合がある。例えば、結腸鏡では、器具チャネルは約１．８ｍの長さである場合がある。

好ましくは、滅菌装置は、スコープデバイスに接続可能であるように構成された気密アダプタをさらに含み、気密アダプタは、気密アダプタを通してスコープデバイスのチャネルに滅菌器具を導入することを可能にするためにそれを通る通路を有する。例えば、アダプタは、スコープデバイスの近位端と適合するように構成され得、スコープデバイスの器具チャネルへのアクセスを提供し得る。アダプタは、気密であることによって、チャネルに提供されるイオン化ガスがチャネルから漏れないことを確実にするために役立ち、十分なガスがプラズマの生成に利用できることを確実にする。アダプタはまた、チャネルへの空気の侵入を最小限に抑える。このようにして、チャネル内の雰囲気は、完全にまたは部分的に完全に、ガス供給源からのイオン化ガスから成る場合があり、ガスは、プローブ先端でのプラズマの発生に適したガスである。これにより、オペレータが、装置の最適な動作を確実にするためにスコープデバイスのチャネル内に存在するガスの量を完全に制御することを確実にし得る。いくつかの構成では、ガス供給源（例えば、ガス供給源の導管）は、外科用スコープデバイスのチャネルにイオン化ガスを送達するためにアダプタに接続可能であるように構成される。例えば、気密アダプタは、ガス供給源から外科用スコープデバイスのチャネルへガスを送達できるガス導管を含み得る。気密アダプタのスコープデバイスへの接続を必要とするだけなので、これにより、セットアップ及び操作が容易である滅菌装置が提供される。いくつかの構成では、気密アダプタは、スコープデバイスの近位端に接続され得、ガス供給源は、スコープデバイスの遠位端に接続され得る、またはその逆であり、その結果、滅菌器具はガスとは異なる点でチャネルに導入される。これは、適切な量のガスが、プラズマを発生させるためにプローブ先端で利用できることを確実にする上で有利である場合がある。

有利なことに、気密アダプタは、圧力安全弁を含み得る。これにより、チャネル内で所定の圧力に達したとき、アダプタを通してチャネルからガスまたは空気を排気することが可能になり得る。圧力安全弁は、ガス及び空気が弁を介してチャネルを逃れることができるが、ガスまたは空気が弁を通してチャネルに進入することができないことを確実にするように構成され得る。例えば、所定の圧力は、ガスがスコープデバイスのチャネルに供給されるとき、プローブ先端が熱プラズマまたは非熱プラズマに衝突し、熱プラズマまたは非熱プラズマを維持することを可能にするために適切な量のガス、及び／または適切なガス対空気比がチャネル内に存在することを確実にし得る。いくつかの例では、ガスはチャネルに連続的に送達され得、圧力安全弁は、過剰なガスに逃し点を提供することによって、チャネルを通るガスの流れがあることを確実にする。これは、滅菌用に熱プラズマまたは非熱プラズマを生成するために、ガスがプローブ先端を連続的に通過していくことを確実にする上で有利である場合がある。ガスの流れはまた、上述のように、スコープデバイスのチャネルの乾燥を助ける上でも役立つ場合がある。

好ましくは、気密アダプタを通る通路は、滅菌器具が通路内に配置されるときにアダプタが気密であることを確実にするために、Ｏリング、フランジ付きシールなどのシールを含む。そのようなシールは、滅菌器具を近位方向及び遠位方向に移動することを可能にしながら、アダプタが気密であることを確実にするのに役立ち得、それによって滅菌のためにチャネルの長さに沿ってプローブ先端を移動することを可能にする。

有利なことに、気密アダプタは、気密アダプタを外科用スコープデバイスに固定するためのルアーロック接続金具を含み得る。接続金具は、アダプタをスコープデバイスのハンドルに取り付けるために適している場合がある。そのような接続金具は、アダプタを一連のスコープデバイスに取り付けることを可能にし、接続金具は気密接続金具である。特に、そのような接続金具は、スコープデバイスの近位端に適合するように構成され得る。

好ましくは、滅菌装置は、スコープデバイスのチャネルの遠位端を密封するように構成された閉鎖デバイス、最適には気密閉鎖デバイスをさらに含む。例えば、閉鎖デバイスは、スコープデバイスの遠位端上で適合するように構成されたキャップを含む場合もあれば、チャネルの遠位端に篏合するように構成された構成要素である場合もある。このようにして、閉鎖デバイスは、装置が使用中であるときに、空気がチャネルに進入し、イオン化ガス雰囲気を希釈することができないことを確実にするために、チャネルの遠位端を閉じる。上述の気密アダプタと同様に、閉鎖デバイスはそれによって、オペレータが、スコープデバイスのチャネル内に存在するイオン化ガスの量を完全に制御することを確実にし、装置の最適な動作を確実にすることを助け得る。いくつかの例では、ガス供給源（例えば、ガス供給源の導管）は、外科用スコープデバイスのチャネルにイオン化ガスを送達するために閉鎖デバイスに接続可能であってよい。例えば、閉鎖デバイスは、ガス供給源から外科用スコープデバイスのチャネルへガスを送達できるガス導管を含み得る。例えば、滅菌器具がその近位端でチャネルに導入されるいくつかの構成では、チャネルの遠位端にガスを送達するためのコネクタを提供することは、チャネルの滅菌用の熱プラズマまたは非熱プラズマの発生のために適切な量のガスがプローブ先端で利用可能であることを確実にするために役立ち得る。例えば、そのような構成は、チャネルの直径が滅菌器具の直径と同じであるか、または滅菌器具の直径よりもわずかに大きいにすぎない場合に特に有利であり得、滅菌器具は、プラズマを維持するためには十分ではないイオン化ガスが滅菌器具自体の外部を通過するように、チャネルを実質的に塞ぐ。いくつかの実施形態では、閉鎖デバイスは、圧力安全弁をさらに含み得る。これにより、チャネル内で所定の圧力に達したとき、閉鎖デバイスを通してチャネルからガスまたは空気を排気することが可能になり得る。圧力安全弁は、ガス及び空気が弁を介してチャネルを逃れることができるが、ガスまたは空気が弁を通してチャネルに進入することができないことを確実にするように構成され得る。例えば、所定の圧力は、ガスがスコープデバイスのチャネルに供給されるとき、プローブ先端が熱プラズマまたは非熱プラズマに衝突し、熱プラズマまたは非熱プラズマを維持することを可能にするために適切な量のイオン化ガス、及び／または適切なイオン化ガス対空気比がチャネル内に存在することを確実にし得る。いくつかの例では、ガスはチャネルに連続的に送達され得、圧力安全弁は、過剰なガスに逃し点を提供することによって、チャネルを通るガスの流れがあることを確実にする。これは、滅菌用に熱プラズマまたは非熱プラズマを生成するために、ガスがプローブ先端を連続的に通過していくことを確実にする上で有利である場合があり、スコープデバイスのチャネルを乾燥させるために役立つ場合もある。いくつかの構成では、閉鎖デバイスは、遠位端でスコープデバイスのチャネルに滅菌器具を導入することを可能にするためにそれを通る通路を有し得る。本実施形態では、閉鎖デバイスはまた、器具がチャネルを通って前進及び後退するときに、ガスが閉鎖デバイスを通って逃れないことを確実にするために、シール（例えば、Ｏリングまたはフランジ付きシール）を含み得る。例えば、いくつかの構成では、イオン化ガスがその近位端で（例えば、気密アダプタを通して）チャネルに導入され得、滅菌器具がその遠位端でチャネルに導入され得ることが想定される。

好ましくは、電極アセンブリは、第１の電極と第２の電極の間の容積を画定するように構成された第１の電極及び第２の電極を含み得、第１の電極及び第２の電極は、伝送線からＲＦエネルギー及び／またはマイクロ波エネルギーを受け取って、イオン化ガスのプラズマを生成するために容積中で電場を生じさせるように構成される。プローブ先端は、外科用スコープデバイスのチャネルから、第１の電極と第２の電極の間に画定された容積へイオン化ガスが流れることを可能にするために、入口、つまり少なくとも１つの入口を含み得る。このようにして第１の電極と第２の電極の間の容積に入口を提供することによって、プローブ先端は、ガスが電極間の容積に直接的に送達されないときに、スコープデバイスのチャネル内に存在するイオン化ガスからプラズマを発生させるように有利に構成される。本明細書で言及される容積は、イオン化ガスが、電極間に存在して、衝突されてプラズマを形成することを可能にする、第１の電極と第２の電極の間に画定された空間または空洞であってよい。

プラズマは、高圧パルスとして受け取られ得るＲＦエネルギーまたはマイクロ波エネルギーを使用して衝突され得る。マイクロ波エネルギーは、プラズマ衝突後にプラズマを維持するために、つまり、イオン化状態を維持するためにプラズマに電力を送達するために使用され得る。これはまた、パルスとして受け取られ得る。この構成により、ケーブルの容量、及び例えばプローブ先端の乾燥環境から湿潤環境への変化のためなど、負荷の変動に起因する電場崩壊を防ぎ得る。マイクロ波周波数エネルギーを使用してプローブ先端の中からの送達のためにプラズマに衝突することは、例えば、マイクロ波共振器またはインピーダンス変成器、つまり１／４波変成器を使用することによって可能である場合があり、１／４波変成器は、動作周波数に４分の１波（またはその奇数倍）の長さである高インピーダンスの伝送線を使用して、プラズマに衝突するために低圧を高圧に変換する。この高インピーダンス線は、プラズマに衝突するためにスイッチが入れられ、プラズマが衝突され、プラズマを維持することが必要とされると、スイッチが切られ得る（すなわちより低インピーダンス線に戻る）。２つの状態を切り替えるために、好ましくはパワーＰＩＮまたはバラクタダイオードが使用され得るが、同軸スイッチまたは導波管スイッチを使用することが可能である場合がある。プラズマに衝突するための高電場は、プローブ先端でＲＦ ＥＭエネルギーまたはマイクロ波ＥＭエネルギーのどちらかに高インピーダンス状態を生じさせることによって引き起こされ得る。

プラズマに衝突するためには、高電場（例えば、高圧状態）を有することが望ましい。プラズマ衝突状態（つまり、プラズマが存在する前）では、イオン化ガスは非導電であるため、高インピーダンスを有する。プラズマに衝突するためには、プローブ先端の遠位端で、またはプローブ先端内で高インピーダンス状態をセットアップして、ガスを分解するために必要な高圧（高電場）を生成することを可能にすることが必要である。本発明の装置は、例えばマイクロ波信号の変調、及び増幅器利得の制御または固定利得を有する増幅器への入力信号のレベルの制御、及び例えば動的インピーダンス整合によるマイクロ波電力が送達される効率の制御を通して、プラズマに送達されるマイクロ波電力の大きさを制御することを可能にし得る。この構成はまた、滅菌される表面に送達されるプラズマエネルギーの投与量を正確に数値化することを可能にし得る。

プラズマのインピーダンスは、発生器によって生成されるマイクロ波エネルギーのプラズマへの効率的な転送を可能にするために、好ましくは、マイクロ波エネルギーの周波数でプローブ先端（及びエネルギー送達システム）のインピーダンスに整合される。マイクロ波エネルギーが使用される場合、プローブ先端及び／または発生器は、プラズマが器具チャネル及びチャネル内の材料によって提示される負荷に整合されることを確実にするために（静的にまたは動的に）調整され得る。マイクロ波周波数で、同軸ケーブルは分布素子伝送線を形成し、プローブ先端とエネルギー源との間のインピーダンス整合は、マイクロ波発生器のソースインピーダンス、同軸ケーブル（伝送線）の特性インピーダンス、及びプローブ先端構造自体のインピーダンスによって決定される。同軸ケーブルの特性インピーダンスが、ソースの出力インピーダンスと同じである場合、次に、同軸ケーブルによって引き起こされる減衰（誘電損失及び導体損失）を差し引いたマイクロ波電力のすべてはプローブ先端に送達される。プローブ先端及び器具チャネルのインピーダンスが、同軸ケーブルの特性インピーダンスと同じである場合、次に、ソースで利用可能な最大電力がプラズマ／器具チャネル負荷に転送される。プローブ先端とプラズマ／器具チャネル負荷との間の最良のインピーダンス整合を維持するために、プローブ先端構造に調整が加えられ得る。調整はまた、発生器で、または第１のケーブルの遠位端と第２の（器具）ケーブルの近位端との間の境界面で行われてもよい。これらの調整は、マッチング回路のキャパシタンス及び／またはインダクタンスの変更、つまりスタブチューニングの形であってよい。

装置は、発生器として、低電力マイクロ波周波数信号を生成するためのソース発振器と、特定の用途に適していることが判明したガスを使用してプラズマに衝突するために必要とされる、電場の生成を可能にするほど十分に高いレベルに低電力信号を増幅するための電力増幅器（例えば、マイクロ波トランジスタの構成）とを使用し得る。ソリッドステート信号増幅器が使用され得る。システムはまた、増幅器が、プラズマに衝突するために必要な電場を生じさせるために飽和または全出力に駆動され、次にプラズマに衝突すると後退するモードで動作し得る。マイクロ波エネルギーを制御する能力により、重要な様々な用途の任意の１つにとって最も適しているプラズマの発生を可能にすることができる。マイクロ波エネルギー及び／またはガスの流量及び／またはガス混合物を制御すると、プルームのサイズ、及び処理されている器具チャネルの内面での温度が制御される。さらに、システムは、処理される表面に送達されるプラズマエネルギーの投与量を数値化するように構成され得る。マイクロ波エネルギーは、制御された方法でマイクロ波エネルギーの周波数を変えること（例えば、マイクロ波放射線発生器からの放射の周波数を制御すること）、制御された方法で電力レベルを変えること、及び制御された方法でマイクロ波エネルギーを変調することの任意の１つまたは複数によって制御され得る。発生器は、プローブ先端に送達されるマイクロ波エネルギーを変調するように構成されたマイクロ波信号変調器を含み得る。変調周波数は、０．１Ｈｚから最大１０ＭＨｚの範囲内に含まれ得る。デューティーサイクルは、１％未満から１００％であってよい。いくつかの実施形態では、変調周波数は、１０Ｈｚ～１００ｋＨｚであってよく、デューティーサイクルは１０％と２５％との間であってよい。好ましい実施形態では、変調周波数は、１００Ｈｚと１ｋＨｚとの間であってよく、デューティーサイクルは２０％であってよい。

したがって、装置は、パルス運転を使用してプラズマを発生させるように構成され得る。一実施形態では、プラズマは各パルスで衝突し得る（衝突は、パルスのエッジの１つ－通常は、正方向のエッジ－で生成される過渡現象のため発生し得る）。システムの動作は、必要とされる効果を出すためにシステムにパルスを印加し続けることが必要なほどであってよい。

好ましくは、伝送線は、内部導体と、外部導体と、内部導体を外部導体から分離する誘電材料を有する同軸ケーブルを含む。プローブ先端は、同軸ケーブルの誘電材料を越える同軸ケーブルの第２の導体の延長部を含む第２の電極と、第１の電極と第２の電極との間の容積を画定するために、同軸ケーブルの誘電材料を越え、第２の電極の中心軸または長手方向軸に沿った同軸ケーブルの内部導体の延長部を含む第１の電極とを含み、第１の電極及び第２の電極は、同軸ケーブルからＲＦエネルギー及び／またはマイクロ波エネルギーを受け取って、その中でプラズマに衝突するために第１の電極と第２の電極との間の容積に電場を生じさせるように構成され、プローブ先端は容積からプラズマを放出するための出口を含む。例えば、プローブ先端の遠位端面は、イオン化ガスが外科用スコープデバイスのチャネルから、内部容積に流れ込むことを可能にするための入口を画定するために開いていてよい。いくつかの例では、開口部の一部は、チャネルからのガスが内部容積に流れ込むための入口を提供し得、開口部の一部は、プラズマが内部体積を逃れるための出口を提供し得、流れは、プラズマの発生のために内部容積内で生成され得る。このようにして、プローブ先端は、熱プラズマまたは非熱プラズマを生成するために適したガスを電極間の領域に直接的に送達させるよりむしろ、そのようなガスで充填された環境での使用に適応される。プローブ先端の比較的に単純な設計はまた、製造が簡単かつ安価であり、プローブ先端が小さい直径を有しているときにも使用に適している。任意選択で、第２の電極は、イオン化ガスが外科用スコープデバイスのチャネルから、第１の電極と第２の電極との間に画定された空間または容積に流れ込むことを可能にするための入口を画定するために少なくとも１つの開口を含み得る。その結果、１つまたは複数の開口は、熱プラズマまたは非熱プラズマが使用中連続して生成されることを確実にするのに役立ち得る。１つまたは複数の開口はまた、プラズマが第１の電極と第２の電極との間の領域から出ることを可能にし得、プラズマは滅菌のためにチャネルの側壁に向けられ得る。

有利なことに、第１の電極は、内部導体の延長部の遠位端に取り付けられた導電性キャップをさらに含み得、導電性キャップは、キャップと第２の電極との間に隙間を画定して出口を画定するために第２の電極の遠位端から離間されている。このように構成されることによって、プローブ先端によって生成されるプラズマは、完全な滅菌及び清掃を確実にするためにチャネルの側壁に優先的に向けられ得る。いくつかの例では、導電性キャップは、ガスが、第１の電極と第２の電極との間に画定された空間または容積に流れ込むことを可能にするための入口を画定するために少なくとも１つの開口を含み得る。その結果、１つまたは複数の開口は、熱プラズマまたは非熱プラズマが使用中連続して生成されることを確実にするのに役立ち得る。１つまたは複数の開口はまた、プラズマが第１の電極と第２の電極との間の領域から出ることを可能にし得る。いくつかの例では、キャップは代わりにセラミック材料から作られてもよい。

上記に説明されるように、プラズマに衝突するための高電場は、プローブ先端でＲＦ ＥＭエネルギーまたはマイクロ波ＥＭエネルギーのどちらかに高インピーダンス状態を生じさせることによって引き起こされ得る。これは、第１の電極及び第２の電極に適した幾何学形状を選択することによって達成できる。例えば、石英または他の類似した低損失材料などの１個の絶縁誘電材料が、第１の電極と第２の電極の間に配置され得る。これによりインピーダンスが増加し、したがって高電場の生成が容易になり得る。

好ましくは、ガス供給源は、可変流量で外科用スコープデバイスのチャネルにガスを供給するように構成され得る。例えば、滅菌装置は、ガスの流量を調整可能に制御するように構成された流量コントローラを含み得る。特に、ガスの流量は、毎分０．２リットルと１０リットルの間であってよく、それらの値の間で変えられ得る。チャネルに送達されるガスの流量を変えることによって、プローブ先端で利用可能な適切なガスの供給があることを確実にすることができる。例えば、チャネルが滅菌器具の存在によって制限される場合があるので、プローブ先端がチャネルの近位端により近いときに必要とされるガスの流量と比較すると、プローブ先端がチャネルの遠位端にあるときにチャネルの近位端からプローブ先端にガスを送達するためにはより高いガス流量が必要とされる場合がある。ガスの流量はまた、液体（例えば、洗浄液）がチャネル内に少量存在する場合に、チャネルの乾燥を提供または制御するために変えられてもよい。

本明細書において、用語「内部」は、チャネル及び／または同軸ケーブルの中心（例えば、軸）に対して半径方向により近いことを意味する。用語「外部」は、チャネル及び／または同軸ケーブルの中心（軸）から半径方向により遠いことを意味する。用語「伝導性の」は、本明細書では、文脈上別の意味が示される場合を除き、導電性を意味するために使用される。本明細書では、用語「近位」及び「遠位」は、細長いプローブの両端のことを指す。使用時、近位端は、ＲＦエネルギー及び／またはマイクロ波エネルギーを提供するための発生器により近く、一方、遠位端は、発生器からより遠い。

本発明は態様及び記載された好ましい特徴の組み合わせを含むが、そのような組み合わせが、明らかに容認できないかまたは明らかに避けられる場合は除く。

本発明の原理を示す実施形態及び実験は、ここで添付の図を参照して検討される。

本発明の実施形態による滅菌装置、及び滅菌装置にエネルギーを供給するための発生器の概略図を示す。 使用中の本発明の第２の実施形態による滅菌装置の概略図を示す。 使用中の本発明の第３の実施形態による滅菌装置の概略図を示す。 本発明の実施形態と使用し得る第１のプローブ先端の断面図を示す。 本発明の実施形態と使用し得る第２のプローブ先端の断面図を示す。 本発明の実施形態と使用し得るアダプタの断面図を示す。

本発明の態様及び実施形態を、添付の図面を参照してここで説明する。さらなる態様及び実施形態が当業者に明らかになる。本文中に言及されるすべての文書は、参照により本明細書に援用される。

図１は、本発明の一実施形態による滅菌装置１０、及び滅菌装置１０にエネルギーを供給するための発生器１０００を示す。滅菌装置１０は、その遠位端にプローブ先端１４を有する同軸ケーブル１２によって提供される伝送線を含む細長いプローブを有する滅菌器具を含む。例えば、プローブ先端１４は、図４または図５に関して以下に説明されるプローブ先端であってよい。発生器１０００は、その近位端で同軸ケーブル１２に接続され、プローブ先端１４での電極アセンブリによるプラズマの生成を促進するために、無線周波数（ＲＦ）電磁（ＥＭ）エネルギー及び／またはマイクロ波周波数電磁（ＥＭ）エネルギーを供給するように構成される。装置１０はまた、以下により詳細に説明される方法で、外科用スコープデバイスのチャネルにイオン化ガスを送達するために、滅菌器具とは別個の、ガス導管１８を有するガス供給源１６を含む。ガス供給源１６は、示されるようにガスボンベであってよいが、任意の適切なガス供給源が使用され得る。好ましくは、ガス供給源１６は、アルゴンなどの不活性ガスを提供する。図１には示されていないが、いくつかの例では、ガス供給源１６は、ガスの流量を変えることを可能にするガス流量コントローラを含み得る。例えば、ガス流量は、毎分０．２リットルと１０リットルの間であってよく、自動でまたはユーザーによって手動で変えられ得る。例えば、プローブ先端が、プラズマの生成のために適切なガスの供給が利用可能であることを確実にするために、スコープデバイスのチャネルの遠位端に向かうときに、流量を増加し得る。

滅菌プロセス中、プローブ先端１４がスコープデバイスのチャネル内に配置された状態で、発生器１０００は、ＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波周波数ＥＭエネルギーをプローブ先端に供給する。ガス供給源１６は、同時に、ガス導管１８を介してチャネルに直接的にガスを供給する。ＲＦエネルギー及び／またはマイクロ波エネルギー、ならびに供給ガスは、熱プラズマまたは非熱プラズマを発生させるためにプローブ先端１４で結合され、熱プラズマまたは非熱プラズマはプローブ先端１４から放出されて、チャネルの表面に接触して微生物を破壊または除去する。類似した方法でのプラズマ生成の実施例は、例えばＷＯ２００９／０６０２１３ Ａ１に開示されている。

発生器１０００は、発生したプラズマが非熱プラズマであるのか、それとも熱プラズマであるのかを決定するために制御され得る。例えば、供給マイクロ波エネルギーは、非熱プラズマまたは熱プラズマを生成するために選択可能な電力及び／またはデューティーサイクルを有し得る。好ましくは、発生器は、４１℃未満の温度を有する非熱プラズマを生成するように操作され、これは、スコープデバイスへの損傷を回避するのに役立つ場合がある。

装置１０は、同軸ケーブル１２に結合され、同軸ケーブル１２をチャネルを通して所定の速度で引き抜くように動作可能である、引き抜きデバイス（図示せず）をさらに含み得る。

使用中、滅菌器具は、外科用スコープデバイスのチャネルを通して挿入され、ガス導管は、スコープデバイスのチャネルにガスを直接的に送達するように構成される。例えば、滅菌器具とガス導管の両方は、チャネルの近位端にまたはチャネルの遠位端に設けられ得る。代わりに、滅菌器具及びガス導管は、チャネルの対向する端部に設けられてもよい。これらの構成の比較利点は、本明細書に説明される。

図２は、本発明のさらなる実施形態による滅菌装置２０を示しており、外科用スコープデバイスを清掃するために使用中の装置２０が示されている。細長いプローブは、外科用スコープデバイスの挿入管１０４の器具チャネル内に配置される。細長いプローブの同軸ケーブル２２は、スコープデバイスのハンドル１０２を通して挿入管１０４の近位端及び器具チャネルでチャネルに入り、プローブ先端（図示せず）の電極アセンブリが、器具チャネルを滅菌及び清掃するためのプラズマを生成する挿入管１０４の遠位端に到達する。例えば、プローブ先端は、図４または図５に関して以下に説明されるプローブ先端であってよい。同軸ケーブル２２は、図１に関して上述されるように、その近位端（図示せず）で発生器に接続され、プローブ先端が、熱プラズマまたは非熱プラズマを生成するための電場を発生させることを可能にするために、発生器からプローブ先端にエネルギーを伝達する。チャネルを滅菌及び清掃するために、細長いプローブは、そのようなプラズマがプローブ先端で発生している間に近位方向及び／または遠位方向に移動し得る。

この構成では、装置２０のガス導管２４の遠位端はまた、器具チャネルにイオン化ガスを送達するために挿入管１０４の近位端に接続される。ガス導管２４は、図１に関して上述されるように、その近位端（図示せず）でガス供給源に接続される。その結果、ガス供給源は、適切な雰囲気をプローブ先端に提供して、プラズマに衝突し、プラズマを維持するために器具チャネルをイオン化ガスで実質的に充填することができる。器具チャネルにイオン化ガスをこのように送達することによって、細長いプローブがプローブ先端にガスを伝達するための内腔を含む必要はなくなるため、細長いプローブは、製造がより簡単かつ安価になるだけではなく、よりコンパクトになり、本発明の装置により小さい直径（例えば、約１ｍｍ以下）のチャネルも清掃及び滅菌することを可能にする。

本実施形態では、装置２０は、気密アダプタ２８をさらに含む。アダプタ２８は、スコープデバイスのハンドル１０２に接続されるように構成され、特に、スコープデバイスの器具チャネルの投入ポートに適合するように構成され得、細長いプローブがスコープデバイスのチャネルに導入される通路を提供する。通路は、滅菌器具が通路内に配置される間にアダプタが気密であることを確実にするが、チャネルの清掃及び滅菌のために細長いプローブを近位方向及び遠位方向に移動することを可能にする、Ｏリングなどのシールを含む。ガス導管２４の遠位端はアダプタ２８に接続されており、アダプタ２８は、プローブ先端がガスのプラズマを生成できるようにチャネルにイオン化ガスを提供するための対応する導管を有する。アダプタ２８は、例えばそうでなければ導管２４を介して提供されるガスを置換または希釈し、それによってプラズマ生成を減少させるであろう空気の侵入によって、チャネル内の雰囲気がプラズマの生成に適していることを確実にするために役立つ。スコープデバイスのハンドル１０２に固定されるために、アダプタ２８はルアーロック接続金具を含み得るが、任意の適切な気密接続金具が選ばれ得ることが理解されよう。アダプタ２８は、同軸ケーブル２２とガス導管２４の両方を受け入れるように構成されているので、滅菌装置２０は、スコープデバイスへの１つの接続しか必要とされないため特に使用しやすい。これは、器具チャネルの迅速な清掃及び滅菌のために、装置２０が複数のスコープデバイス間で移送されるときに特に有利である場合がある。

挿入管１０４を通るチャネルの遠位端を閉じるために、滅菌装置２０は、外科用スコープデバイスの挿入管１０４の遠位端上で適合するように構成された、キャップ２６の形の閉鎖デバイスを含む。例えば、キャップ２６は、概して、開放端が挿入管１０４上で適合し、閉鎖端がガスが逃れるのを防ぐ円筒形であってよい。キャップ２６は、例えばゴムなど、プラスチック材料などのガス不透過性材料から作られてよく、挿入管１０４の遠位端との緊密な篏合を確実にするために適切な寸法にされる。キャップ２６は、導管２４を通ってチャネルに提供されるイオン化ガスを置換または希釈するであろう周囲空気の侵入を防ぐために役立つ場合がある。しかしながら、いくつかの例では、チャネルの遠位端からのガスの流量が、周囲空気の侵入を防ぐために十分であり得るため、導管２４を通るイオン化ガスの流量が十分に高い場合、キャップ２６は必要ない場合があると考えられている。それにも関らず、特に低流量のガスが使用される場合に、キャップ２６は好ましい場合がある。図２に示されるように、キャップ２６は、キャップ２６の閉鎖端に配置され得る圧力安全弁２７を含む。このようにして、キャップ２６は、所定の圧力に達したときに、圧力安全弁２７を通したチャネルからの余分なガスまたは空気の排出を可能にするように適合される。キャップ２６に弁２７を設けることによって、装置２０が使用中であるときにチャネルを通るガスの流れがあることを確実にし得、これは、熱プラズマまたは非熱プラズマを生成するために、ガスがプローブ先端を連続して通過していることを確実にする上で特に有利である場合がある。例えば、弁２７は、圧力がほぼ大気圧であるとき、または大気圧をわずかに上回っているときガスを排出するように適合され得る。

図３は、本発明の一実施形態による滅菌装置３０のさらなる実施形態を示しており、外科用スコープデバイスを清掃するために使用中の装置３０が示されている。装置３０の細長いプローブは、外科用スコープデバイスの挿入管１０４の器具チャネル内に配置される。細長いプローブの同軸ケーブル３２は、スコープデバイスのハンドル１０２を通して挿入管１０４及び器具チャネルの近位端でチャネルに入り、挿入管１０４の遠位端に到達し、プローブ先端（図示せず）の電極アセンブリは、器具チャネルを滅菌及び清掃するためのプラズマを生成する。例えば、プローブ先端は、図４または図５に関して以下に説明されるプローブ先端であってよい。同軸ケーブル３２は、図１に関して上述されるように、その近位端（図示せず）で発生器に接続され、発生器から、熱プラズマまたは非熱プラズマのプルームを生成するために電場が生成されるプローブ先端にエネルギーを伝達する。チャネルを滅菌及び清掃するために、細長いプローブは、プラズマがプローブ先端で生成されている間に近位方向及び／または遠位方向に移動し得る。

この構成では、装置３０のガス導管３４の遠位端は、器具チャネルにガスを送達するために挿入管１０４の遠位端に接続される。ガス導管３４は、図１に関して上述されるように、その近位端（図示せず）でガス供給源に接続される。ガス導管３４は、挿入管１０４の遠位端上で適合するように構成され、ガスが器具チャネルに進入することを可能にするそれを通る対応するガス導管を有する、キャップ３６の形の閉鎖デバイスによって挿入管１０４の遠位端に接続される。例えば、キャップ３６は、概して円筒形であってよく、挿入管１０４上で適合する開放端と、ガス導管３４の遠位端への接続のためのコネクタを対向する端部に有し得る。キャップ３６は、例えば、ゴムなどのプラスチック材料など、ガス不透過性材料から作られてよく、挿入管１０４の遠位端との緊密な篏合を確実にするために適切な寸法にされる。ガス導管３４からのガスの入口も設け、キャップ３６は、導管３４を通ってチャネルに提供されるガスを置換または希釈するであろう周囲空気の侵入を防ぐために役立つ場合がある。

気密アダプタ３８は、外科用スコープデバイスの近位端に設けられ、ハンドル１０２に接続されるように構成される。アダプタ３８は、スコープデバイスの器具チャネルの投入ポートに適合するように構成され得、細長いプローブがスコープデバイスのチャネルに導入される通路を提供する。図２に関して上述されるように、この通路は、滅菌器具が通路内に配置されるときに通路が気密であることを確実にするために、Ｏリングなどのシールを含み得る。アダプタ３８は、例えばそうでなければ導管３４を介して提供されるガスを置換または希釈し、それによってプラズマ生成を減少させるであろう空気の侵入によって、チャネル内の雰囲気がプラズマの生成に適していることを確実にするために役立つ。スコープデバイスのハンドル１０２に固定されるために、アダプタ３８はルアーロック接続金具を含み得るが、任意の適切な気密接続金具が選ばれ得ることが理解されよう。本実施形態では、気密アダプタ３８は、所定の圧力に達したときに、圧力安全弁３９を通したチャネルからの余分なガスまたは空気の排出を可能にするように構成された圧力安全弁３９を含む。好ましくは、所定の圧力は、ほぼ大気圧または大気圧をわずかに上回っている場合がある。

その結果、滅菌装置３０は、滅菌される器具チャネルの対向する端部に設けられる滅菌器具及びガス導管を提供する。これは、ガスが器具チャネルの近位端で導入されると、プローブ先端へのガスの流れを阻止するであろう、同軸ケーブル３２によって完全にまたは実質的に完全に塞がれているチャネルを清掃する上で特に有利である場合がある。

図４は、本発明の実施形態と使用し得るプローブ先端４０の断面図を示す。示されているプローブ先端４０は、第１の電極及び第２の電極を有する電極アセンブリを提供するために同軸ケーブルの内部導体及び外部導体の延長部を使用するが、いくつかの例では、プローブ先端４０は別個の構成要素として提供され得ること、または第１の電極及び第２の電極のどちらかが同軸ケーブルとは別個であってよいことが理解されよう。

プローブ先端４０は、第１の電極４２と、第１の電極４２と同軸である第２の電極４４とを含む。誘電材料４６は、第１の電極４２と第２の電極４４との間で同軸に設けられる。例えば、誘電材料４６は、同軸ケーブルの誘電体であってよい。同軸ケーブルの外部導体の延長部を含む第２の電極４４は、誘電材料４６を越えて遠位方向に延びて内部容積４８を画定する。例えば、第２の電極４４は、誘電材料４６の遠位端を越えて、約３ｍｍなど、５ｍｍ以下の長さを有してよい。誘電材料４６を越えて遠位方向に延びる同軸ケーブルの内部導体の延長部を含む第１の電極４２は、内部容積４８の中に延びる。例えば、第１の電極４２は、第２の電極４４の中心長手方向軸に沿って通り、それによって内部容積４８と呼ばれる場合がある第１の電極４２と第２の電極４４との間の容積を画定し得る。図４に示されるように、第１の電極４２は実質的に線形であってよいが、第１の電極はまた内部容積４８で他の形状をとる可能性があり、例えば第１の電極４２がらせん形を形成する場合があることが理解されよう。

プローブ先端４０の遠位端は、イオン化ガスがスコープデバイスのチャネルから、プラズマを形成するためにガスに衝突し得る内部容積４８に進入することを可能にするための入口を画定するために開いている。遠位端の開口部または開口部の一部はまた、内部容積４８からプラズマを放出するための出口を画定し得る。例えば、第２の電極４４は、概して円筒形で、その遠位端で開いて入口及び出口を画定し得る。ガスは、ＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波ＥＭエネルギーが発生器からそこに送達されるときに、第１の電極４２と第２の電極４４との間で発生した電場がプラズマに衝突する内部容積４８に流れ込み得る。生成されるプラズマは、外科用スコープデバイスの器具チャネルの側壁を滅菌及び清掃するために出口を通って放出される。いくつかの実施形態では、第１の電極４２と第２の電極４４との間の電場は、電極間に、石英などの１個の絶縁誘電材料を配置することによって増加し得る。例えば、インピーダンスを増加させ、したがってプラズマに衝突し、プラズマを維持するための高電場の生成を促進するために、１個の円筒形の石英が内部容積４８内の第１の電極４２上に取り付けられ得る。いくつかの例では、第２の電極４４は、イオン化ガスが内部容積４８に流れ込むことを可能にする入口を提供するいくつかの開口（つまり、１つまたは複数）を含み得る。開口はまた、プラズマが内部容積４８から放出され得る出口を提供し得る。ガス及びプラズマの流れは、プラズマの生成のため、内部容積４８を通って確立され得る。

図５は、本発明の実施形態と使用し得る第２のプローブ先端５０の断面図を示す。プローブ先端５０は、図４に示されるものに概して類似しているため、対応する要素は対応する参照番号を与えられており、その説明は繰り返されない。

図５に示されるプローブ先端５０では、第１の電極５２は、第２の電極４４の遠位端を越えて延び、導電性キャップ５４は、第１の電極５２の遠位端に取り付けられる。導電性キャップ５４は、例えば、銅、銀、金、またはメッキ鋼などの金属の円板として提供され得る。他の実施形態では、キャップ５４は、セラミック材料から作られてよい。キャップ５４は、第２の電極４４の遠位端から離間されて、プラズマを内部容積４８から放出し得る出口５６を画定する。例えば、導電性キャップ５４は、第２の電極４４の遠位端から約０．５ｍｍ離間されてよい。このようにして画定された出口５６は概して環状であるため、プローブ先端５０によって発生するプラズマは、より効果的な清掃及び滅菌のためにスコープデバイス内のチャネルの側壁に優先的に向けられる。いくつかの実施形態では、導電性キャップ５４は、それを通るいくつかの（つまり、１つまたは複数の）開口を含み得、開口は、衝突されてプラズマを生成するためにイオン化ガスがチャネルから内部容積４８に流れ込むことを可能にする入口を提供し得る。

図６は、本発明の実施形態と使用し得るアダプタ６０の断面図を示す。特に、アダプタ６０は、それがイオン化ガスをスコープデバイスのチャネルに送達するためのガス導管に接続可能であるように構成されるので、図２に示されるなどの構成で使用され得る。

アダプタ６０は、滅菌器具をチャネルに導入することを可能にするために、（例えば、スコープデバイスのハンドルに適合することによって）スコープデバイスのチャネルに適合するように構成された気密本体６２を含む。例えば、本体６２は、プラスチック材料などから作られてよいが、任意の他の適切な材料（例えば、金属）も使用され得る。図６に示される実施形態では、アダプタ６０はまた、イオン化ガスを気密本体６２を通してスコープデバイスのチャネルに導入することを可能にするように構成される。

特に、アダプタ６０は、気密本体６２が、好ましくは、上述のようにスコープデバイスのハンドルに適合することによって、スコープデバイスのチャネルに適合することを可能にするために第１のルアーロック接続金具６３を含む。本体６２内では、アダプタ６０は、２つの入口と単一の出口とを有する分岐通路６４を含み、アダプタ６０が使用されているときに、出口がスコープデバイスのチャネルにつながるように、出口はルアーロック接続金具６３にある。

通路６４の第１の入口には、滅菌デバイスの細長いプローブを受け入れるように構成されたポート６５がある。ポート６５には、またはポート６５の周りには、細長いプローブが通路６４内に存在するとき、アダプタ６０が、イオン化ガスがスコープデバイスのチャネルから漏れ得ず、空気がチャネルに進入し得ないように気密であることを確実にするために、Ｏリングまたはフランジ付きシールなどであってよいシール６６がある。しかしながら、ポート６５、シール６６、及び通路６４は、スコープデバイスのチャネルを滅菌するために細長いプローブを近位方向及び遠位方向に移動することを可能にするように構成される。

通路６４の第２の入口には、ガス供給源からのガス導管が接続可能であってよい第２のルアーロック接続金具６７がある。このようにして、通路６４は、ガス供給源からスコープデバイスのチャネルまでガスを通過させるための導管を提供し得る。他の実施形態では、アダプタ６０は、第２のルアーロック接続金具６７を含まない場合があるため（例えば、イオン化ガスがスコープデバイスのチャネルの遠位端に送達される場合）、通路６４が分岐通路である必要はない場合がある。

いくつかの例では、アダプタ６０は、アダプタ６０内（したがって、スコープデバイスのチャネル内）の圧力が、ほぼ大気圧であるか、または大気圧をわずかに上回っているときにガスを排出するように構成され得る圧力安全弁（図示せず）を含み得る）。例えば、圧力安全弁は、第２のルアーロック接続金具６７に代わる場合もあれば、アダプタ６０の本体６２の他の場所に配置される場合もある。

上述の説明、もしくは以下の特許請求の範囲、もしくは添付の図面で開示し、その具体的な形態でもしくは開示した機能を行うための手段の形で表した特徴、または開示した結果を得るための方法もしくはプロセスを、必要に応じて、別個に、またはこのような特徴の任意の組み合わせで、本発明をその多様な形態で実現するために利用してもよい。

本発明を、上記の例示的な実施形態と併せて説明してきたが、本開示が与えられた場合、多くの均等の修正及び変形が当業者には明らかであろう。したがって、上記の本発明の例示的な実施形態は、例示的であり限定的でないと判断される。記載される実施形態への様々な変更を、本発明の趣旨及び範囲から逸脱せずに行ってもよい。

誤解を避けるために、本明細書に提供する理論的な説明は、読者の理解を深めることを目的として提供されている。本発明者らは、これらの理論的説明のいずれにも拘束されることを望むものではない。

本明細書で使用される任意のセクションの見出しは構成の目的のみのためであり、記載される対象物の限定として解釈されるべきではない。

以下の特許請求の範囲を含む本明細書を通して、文脈が特別に要求しない限り、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅ）」及び「含む（ｉｎｃｌｕｄｅ）」という単語、ならびに変形、例えば、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含むこと（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」及び「含むこと（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」は、明示された整数値もしくはステップ、または整数値もしくはステップの群を包含するが、他の整数値もしくはステップ、または整数値もしくはステップの群を除外しないことを示唆すると理解される。

本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用される、単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、文脈上明確にそうでないと示されない限り、複数の指示物を包含することに留意されたい。範囲は、「約」ある特定の値から及び／または「約」他の特定の値として、本明細書において表現され得る。そのような範囲が表現されるとき、別の実施形態は、１つの特定の値から及び／または他の特定の値までを含む。同様に、値が近似として表現される場合に、先行詞「約」の使用によって、特定の値が別の実施形態を形成することが理解されよう。数値に関連する用語「約」は、任意であり、例えば、±１０％を意味する。

Claims (18)

1. 外科用スコープデバイスのチャネルを滅菌するための滅菌装置であって、
   前記外科用スコープデバイスの前記チャネルにイオン化ガスを送達するための導管を有するガス供給源と、
   前記外科用スコープデバイスの前記チャネルを通して挿入されるように構成された、前記ガス供給源及び前記導管とは別個の滅菌器具であって、
   細長いプローブであって、
   無線周波数（ＲＦ）電磁（ＥＭ）エネルギー及び／またはマイクロ波ＥＭエネルギーを伝達するための伝送線と、
   前記ＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波ＥＭエネルギーを受け取るために前記伝送線の前記遠位端で接続されたプローブ先端であって、前記受け取られたＲＦ ＥＭエネルギー及び／またはマイクロ波ＥＭエネルギーから電場を生成して、前記ガス供給源から前記チャネルに送達される前記イオン化ガスのプラズマを発生させるように構成された電極アセンブリを備える前記プローブ先端と
   を備える細長いプローブ
   を備える前記滅菌器具と
   を備える、前記滅菌装置。
2. 前記滅菌装置が、前記スコープデバイスに接続可能であるように構成された気密アダプタであって、前記気密アダプタを通して前記スコープデバイスの前記チャネルに前記滅菌器具を導入することを可能にするためにそれを通る通路を有する前記気密アダプタをさらに備える、請求項１に記載の滅菌装置。
3. 前記気密アダプタが圧力安全弁を備える、請求項２に記載の滅菌装置。
4. 前記ガス供給源が、前記外科用スコープデバイスの前記チャネルに前記イオン化ガスを送達するために前記アダプタに接続可能であるように構成される、請求項２に記載の滅菌装置。
5. 前記気密アダプタを通る前記通路が、前記滅菌器具が前記通路内に配置されるときに前記アダプタが気密であることを確実にするためにシールを備える、請求項２～４のいずれか１項に記載の滅菌装置。
6. 前記気密アダプタが、前記外科用スコープデバイスに前記気密アダプタを固定するためのルアーロック接続金具を備える、請求項２～５のいずれか１項に記載の滅菌装置。
7. 前記滅菌装置が、前記外科用スコープデバイスの前記チャネルの遠位端を密封するように構成された閉鎖デバイスをさらに備える、先行求項のいずれか１項に記載の滅菌装置。
8. 前記ガス供給源が、前記外科用スコープデバイスの前記チャネルに前記イオン化ガスを送達するために前記閉鎖デバイスに接続可能である、請求項７に記載の滅菌装置。
9. 前記閉鎖デバイスが圧力安全弁を備える、請求項７に記載の滅菌装置。
10. 電極アセンブリが、第１の電極と第２の電極との間に容積を画定するように構成された前記第１の電極及び前記第２の電極を備え、前記第１の電極及び前記第２の電極が、前記伝送線から前記ＲＦエネルギー及び／または前記マイクロ波エネルギーを受け取って、前記イオン化ガスのプラズマを生成するために前記容積に電場を生じさせるように構成され、
    前記プローブ先端が、イオン化ガスが前記外科用スコープデバイスの前記チャネルから、前記第１の電極と前記第２の電極との間に画定された前記容積に流れ込むことを可能にするための入口を備える、
    先行請求項のいずれか１項に記載の滅菌装置。
11. 前記伝送線が、内部導体と、外部導体と、前記内部導体を前記外部導体から分離する誘電材料とを有する同軸ケーブルを備え、
    前記第２の電極が、前記同軸ケーブルの前記誘電材料を越える前記同軸ケーブルの前記外部導体の延長部を備え、
    前記第１の電極が、前記第１の電極と前記第２の電極との間に前記容積を画定するために、前記同軸ケーブルの前記誘電材料を越え、前記第２の電極の中心軸に沿った前記同軸ケーブルの前記内部導体の延長部を備え、
    前記第１の電極及び前記第２の電極が、前記同軸ケーブルから前記ＲＦエネルギー及び／または前記マイクロ波エネルギーを受け取って、前記容積の中でプラズマに衝突するために前記第１の電極と前記第２の電極の間の前記容積内で電場を生じさせるように構成され、
    前記プローブ先端が、前記容積からプラズマを放出するための出口を含む、
    請求項１０に記載の滅菌装置。
12. 前記第２の電極が、イオン化ガスが前記外科用スコープデバイスの前記チャネルから前記容積に流れ込むことを可能にするための前記入口を前記プローブ先端に画定するために少なくとも１つの開口を備える、請求項１１に記載の滅菌装置。
13. 前記第１の電極が、前記内部導体の前記延長部の遠位端に取り付けられた導電性キャップを備え、前記導電性キャップが、前記キャップと前記第２の電極との間に隙間を画定して前記出口を画定するために前記第２の電極の前記遠位端から離間されている、請求項１１または請求項１２に記載の滅菌装置。
14. 前記導電性キャップが、イオン化ガスが前記外科用スコープデバイスの前記チャネルから前記容積に流れ込むことを可能にするための前記入口を前記プローブ先端に画定するために少なくとも１つの開口を備える、請求項１３に記載の滅菌装置。
15. 前記プローブ先端が、前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置された１個の絶縁誘電材料をさらに備える、請求項１２～１５のいずれか１項に記載の滅菌装置。
16. 前記細長いプローブが１ｍｍ以下の直径を有する、先行請求項のいずれか１項に記載の滅菌装置。
17. 前記ガス供給源が、可変流量で前記外科用スコープデバイスの前記チャネルにガスを供給するように構成される、先行請求項のいずれか１項に記載の滅菌装置。
18. 前記滅菌器具が、前記電極アセンブリによるプラズマの発生のためにイオン化ガスを伝達するための導管を備えていない、先行請求項のいずれか１項に記載の滅菌装置。

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