JP2023537293A - Method for preparing forodesine - Google Patents
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Abstract
本発明は、化学薬品合成の技術分野に関し、具体的には、式VIIで示される化合物を酸で処理して、式Iに示される化合物を作成する工程を含む、式Iに示される化合物を調製する方法に関する。この方法は、合成工程が少なく、原材料が安定しており、調製が容易であり、反応プロセスの制御が容易で、全体の収率と純度が高く、工業的調製に適している。TECHNICAL FIELD The present invention relates to the technical field of chemical synthesis, and specifically includes the step of treating a compound of formula VII with an acid to produce a compound of formula I. Concerning the method of preparation. This method has few synthesis steps, stable raw materials, easy preparation, easy control of the reaction process, high overall yield and purity, and is suitable for industrial preparation.
Description
本出願は、2020年7月30日に提出された中国出願第202010752502.5号に基づく優先権の利益を主張し、その開示は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。 This application claims priority benefit based on Chinese Application No. 202010752502.5 filed on July 30, 2020, the disclosure of which is incorporated herein by reference in its entirety.
技術分野
本発明は、化学薬品合成の技術分野に属し、フォロデシンの調製方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention is in the technical field of chemical synthesis and relates to a process for the preparation of forodesine.
背景技術
BCX-1777としても知られているフォロデシンは、プリンヌクレオシドホスホリラーゼ(PNP)阻害剤である。フォロデシンは、米国で2004年に、T細胞非ホジキンリンパ腫及び慢性骨髄性白血病の治療用の希少疾病用医薬品として認可された。欧州連合では、2006年、2007年、2010年に、それぞれ急性リンパ性白血病、皮膚T細胞性リンパ腫、及び慢性リンパ性白血病の治療用の希少疾病用医薬品として認可された。2017年には、フォロデシンは日本で、再発/難治性末梢T細胞リンパ腫の治療用に認可された。
BACKGROUND OF THE INVENTION Phorodesine, also known as BCX-1777, is a purine nucleoside phosphorylase (PNP) inhibitor. Forodesine was approved in the United States in 2004 as an orphan drug for the treatment of T-cell non-Hodgkin's lymphoma and chronic myelogenous leukemia. It was approved in the European Union as an orphan drug for the treatment of acute lymphocytic leukemia, cutaneous T-cell lymphoma and chronic lymphocytic leukemia in 2006, 2007 and 2010, respectively. In 2017, forodesine was approved in Japan for the treatment of relapsed/refractory peripheral T-cell lymphoma.
末梢T細胞リンパ腫の第1の治療選択肢は、主に多剤併用化学療法(シクロホスファミド、ドキソルビシン、ビンクリスチン、及びプレドニゾンを含む)及びブレンツキシマブベドチン(アドセトリス(登録商標))である。再発/難治性末梢T細胞リンパ腫の治療の場合、選択肢は限られており、効果も十分ではない。現在、3つのヒストン脱アセチル化阻害剤、すなわちチダミド、ロミデプシン、及びベリノスタット、が一般的に使用されており、ここで、チダミドは中国でのみ認可されており、ロミデプシンとベリノスタットは米国でのみ認可されている。新しいヌクレオシド代謝阻害剤として、フォロデシンは、T細胞機能を効果的に阻害することができ、再発/難治性末梢T細胞リンパ腫の治療に価値のある薬剤である。 First-line treatment options for peripheral T-cell lymphoma are primarily combination chemotherapy (including cyclophosphamide, doxorubicin, vincristine, and prednisone) and brentuximab vedotin (ADCETRIS®). Treatment options for relapsed/refractory peripheral T-cell lymphoma are limited and ineffective. Currently, three histone deacetylation inhibitors, namely thidamide, romidepsin, and belinostat, are in common use, where thidamide is only approved in China and romidepsin and belinostat are only approved in the United States. ing. As a new nucleoside metabolism inhibitor, forodesine can effectively inhibit T-cell function and is a valuable agent for the treatment of relapsed/refractory peripheral T-cell lymphoma.
さらに、フォロデシンは、広域スペクトル抗ウイルス薬ガリデシビル(BCX-4430)の合成に必要な重要な中間体でもあり、BCX-4430の合成に不可欠である。 In addition, forodesine is also a key intermediate required for the synthesis of the broad-spectrum antiviral drug gallidesivir (BCX-4430) and is essential for the synthesis of BCX-4430.
しかし、フォロデシンの工業的製造は非常に困難である。文献の報告(Nature,2014,508,402-405)によると、現在使用されている工業的製造スキームは、次のとおりである。 However, the industrial production of forodesine is very difficult. According to literature reports (Nature, 2014, 508, 402-405), the currently used industrial production scheme is as follows.
このスキームでは、2級アミン(8)を出発物質として使用し、塩素化及び脱塩素化してイミン(10)を得る。n-ブチルリチウムを作用させて、ブロモプリン誘導体(2)をリチウム化し、次にイミン(10)と付加反応させ、得られた2級アミン中間体をBocで保護して中間体(11)を得て、次にここに水素添加してBOM保護基を除去し、濃塩酸で加熱して他の保護基を除去して、フォロデシン塩酸塩を得て、これをイオン交換樹脂及び再結晶により最終的に精製してフォロデシンを得る。 In this scheme, secondary amine (8) is used as starting material and is chlorinated and dechlorinated to give imine (10). The bromopurine derivative (2) is lithiated by the action of n-butyllithium, then subjected to an addition reaction with imine (10), and the obtained secondary amine intermediate is protected with Boc to give intermediate (11). which is then hydrogenated to remove the BOM protecting group and heated with concentrated hydrochloric acid to remove other protecting groups to give forodesine hydrochloride, which is subjected to ion exchange resin and recrystallization to final purify to obtain forodesine.
この調製スキームでは、原料の2級アミン(8)の調製が複雑で高価であり、原料のコストが高い。2工程変換によって生成されるイミンは収率が低く、不安定で、保存が容易ではない。複素環のBOM保護基の除去には、水素化が必要であり、これには特別な装置が必要で、特定のリスクがあり、これらすべての要因が工業規模の生産に寄与しない。
上記スキームを改善するために、特許出願US20180258091A1は、以下に示す新しいプロセスを開示している。このスキームでは、n-ブチルリチウムの代わりにn-ヘキシルリチウムが使用され、ブロモプリン誘導体(2)は-15℃でリチウム化され、これは、反応装置の低温要件を軽減し、さらに、水素化によるBOM保護基の除去方法は、濃塩酸によるBOM保護基の除去に変更され、危険な高圧水素化条件を回避する。
上記のスキームより、BOM保護基の付加及び除去の方法が改善されたが、n-ヘキシルリチウムは高価で入手が困難であり、そして、この方法は、依然として原料として2級アミン(8)を使用しており、問題点、例えば面倒な調製工程、高いコスト、イミンの不安定性、保存の難しさは、解決されていない。 Although the above scheme provides an improved method for the addition and removal of BOM protecting groups, n-hexyllithium is expensive and difficult to obtain, and the method still uses secondary amines (8) as raw materials. However, problems such as cumbersome preparation steps, high cost, imine instability, and storage difficulties remain unsolved.
したがって、フォロデシンにとって、原料が入手しやすく、操作が簡単で、低コストであり、工業化の可能性を有する合成スキームを開発することは、大きな意義があり、応用価値が高い。 Therefore, it is of great significance and high application value to develop a synthetic scheme for forodesine, which has easy availability of raw materials, simple operation, low cost, and potential for industrialization.
本発明の内容
本発明の目的は、フォロデシンを調製するための新しい方法を提供することであり、本発明の別の目的は、容易に入手可能な原料を用いてフォロデシンを調製する方法を提供することであり、本発明の別の目的は、より小さな反応スキームでフォロデシンを調製する方法を提供することであり、本発明の別の目的は、操作性が高く、操作の制御が容易で、安全性の高いフォロデシンの調製方法を提供することであり、本発明の別の目的は、低コストのフォロデシンの調製方法を提供することであり、及び本発明の別の目的は、スケールアップ生産に適したフォロデシンの調製方法を提供することである。
Contents of the Invention It is an object of the present invention to provide a new method for preparing forodesine, and another object of the present invention is to provide a method for preparing forodesine using readily available raw materials. Another object of the present invention is to provide a method for preparing forodesine with a smaller reaction scheme, and another object of the present invention is to provide a method that is easy to operate, easy to control the operation, and safe. Another object of the present invention is to provide a low-cost method for preparing forodesine, and another object of the present invention is to provide a method for preparing forodecine that is suitable for scale-up production. To provide a method for the preparation of Pholodesine.
上記の目的を達成するために、本発明は、式Iで表される化合物を調製する方法を提供し、この方法は、
式VIIで表される化合物を酸(例えば、濃塩酸)で処理して、式Iで表される化合物を作成すること、
R1は、アミノ保護基、例えばカルボベンゾキシ(Cbz)、tert-ブトキシカルボニル(Boc)、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フタロイル(Pht)、2,4-ジメトキシベンジル(DMB)、ベンジル(Bn)、ベンジルオキシメチル(BOM)であり;
R2は、メチル又はエチルであり;
R3、R4、R5は、それぞれ独立してヒドロキシル保護基、例えばトリメチルシリル(TMS)、tert-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル(PMB)、2-テトラヒドロピラニル(THP)、メトキシメチル(MOM)、1-エトキシエチル(EE)であり;
R6は、アミノ保護基、例えばカルボベンゾキシ(Cbz)、tert-ブトキシカルボニル(Boc)、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フタロイル(Pht)、2,4-ジメトキシベンジル(DMB)、ベンジル(Bn)、ベンジルオキシメチル(BOM)である。
To achieve the above objects, the present invention provides a process for preparing compounds of formula I, which process comprises
treating a compound of formula VII with an acid (e.g., concentrated hydrochloric acid) to make a compound of formula I;
R 1 is an amino protecting group such as carbobenzoxy (Cbz), tert-butoxycarbonyl (Boc), methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, phthaloyl (Pht), 2,4-dimethoxybenzyl (DMB), benzyl (Bn), benzyloxymethyl (BOM);
R 2 is methyl or ethyl;
R 3 , R 4 , R 5 are each independently a hydroxyl protecting group such as trimethylsilyl (TMS), tert-butyldimethylsilyl (TBDMS), benzyl (Bn), p-methoxybenzyl (PMB), 2-tetrahydropyrani (THP), methoxymethyl (MOM), 1-ethoxyethyl (EE);
R 6 is an amino protecting group such as carbobenzoxy (Cbz), tert-butoxycarbonyl (Boc), methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, phthaloyl (Pht), 2,4-dimethoxybenzyl (DMB), benzyl (Bn), benzyloxymethyl (BOM);
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、式VIIで表される化合物は、濃塩酸で処理される。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I of the present invention, a compound of Formula VII is treated with concentrated hydrochloric acid.
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、式VIIで表される化合物は、酸を用いて加熱及び還流条件下で処理される。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I of the present invention, a compound of Formula VII is treated with an acid under heating and reflux conditions.
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、式VIIで表される化合物は、酸を用いて還流条件下で20~100時間、例えば24~96時間、36~84時間、48~72時間処理される。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I of the present invention, a compound of Formula VII is treated with an acid under reflux conditions for 20-100 hours, such as 24-96 hours. , 36-84 hours, 48-72 hours.
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、式VIIで表される化合物は、酸を用いて以下の操作を含む方法によって処理される:
a)式VIIで表される化合物を第1の溶媒に溶解して、式VIIで表される化合物を含有する溶液を得る工程;
b)式VIIで表される化合物を含む溶液に酸(例えば、濃塩酸)を加えて、加熱及び還流する工程。
In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I of the present invention, a compound of Formula VII is treated with an acid by a method comprising the following operations:
a) dissolving the compound of formula VII in a first solvent to obtain a solution containing the compound of formula VII;
b) adding an acid (eg, concentrated hydrochloric acid) to a solution containing a compound of Formula VII and heating and refluxing.
いくつかの実施態様において、本発明の第1の溶媒はテトラヒドロフラン又はメタノールである。 In some embodiments, the first solvent of the invention is tetrahydrofuran or methanol.
いくつかの実施態様において、本発明の第1の溶媒はテトラヒドロフランである。 In some embodiments, the first solvent of this invention is tetrahydrofuran.
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法は、
i)第1の溶媒を除去し、得られた生成物にエタノールを加え、固体を分離して回収する工程と、
ii)任意選択的に、得られた固体を精製する工程と、
をさらに含む。
In some embodiments, the method of preparing a compound of Formula I of the present invention comprises
i) removing the first solvent, adding ethanol to the resulting product and separating and collecting the solid;
ii) optionally purifying the solid obtained;
further includes
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、得られた固体を精製する方法は、
iii)得られた固体を水に溶解して水溶液を得る工程と、
iv)水溶液に陽イオン交換樹脂を接触させ、希塩酸(例えば2~4M塩酸)で溶出し、溶出液を回収する工程と、
v)溶出液中の溶媒を除去し、生成物を希塩酸(例えば0.5~1.5M塩酸)に溶解し、40~60℃(例えば45~55℃)に加熱し、室温まで冷却する工程と、
vi)v)で得られた生成物にエタノールを加え、室温で6~10時間攪拌し、固体を沈殿させる工程と、
vii)0℃まで冷却し、放置する工程と、
viii)固体を回収する工程と、
をさらに含む。
In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I of the present invention, the method of purifying the resulting solid comprises:
iii) dissolving the resulting solid in water to obtain an aqueous solution;
iv) contacting the aqueous solution with a cation exchange resin, eluting with dilute hydrochloric acid (eg, 2-4 M hydrochloric acid), and collecting the eluate;
v) removing the solvent in the eluate and dissolving the product in dilute hydrochloric acid (eg 0.5-1.5 M hydrochloric acid), heating to 40-60° C. (eg 45-55° C.) and cooling to room temperature; and,
vi) adding ethanol to the product obtained in v) and stirring at room temperature for 6-10 hours to precipitate a solid;
vii) cooling to 0° C. and standing;
viii) recovering the solids;
further includes
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1は、2,4-ジメトキシベンジル(DMB)、ベンジル(Bn)、又はベンジルオキシメチル(BOM)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 1 is 2,4-dimethoxybenzyl (DMB), benzyl (Bn), or benzyloxymethyl (BOM).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1は2,4-ジメトキシベンジル(DMB)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 1 is 2,4-dimethoxybenzyl (DMB).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1はベンジル(Bn)である。 In some embodiments, in compounds of formula VII of the present invention, R 1 is benzyl (Bn).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1はカルボベンゾキシ(Cbz)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R1 is carbobenzoxy (Cbz).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1はtert-ブトキシカルボニル(Boc)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 1 is tert-butoxycarbonyl (Boc).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1はメトキシカルボニルである。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 1 is methoxycarbonyl.
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1はエトキシカルボニルである。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 1 is ethoxycarbonyl.
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1はフタロイル(Pht)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 1 is phthaloyl (Pht).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R2はメチルである。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R2 is methyl.
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R3、R4、及びR5は、それぞれ独立してベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル(PMB)、メトキシメチル(MOM)、又は1-エトキシエチル(EE)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 3 , R 4 and R 5 are each independently benzyl (Bn), p-methoxybenzyl (PMB), methoxymethyl ( MOM), or 1-ethoxyethyl (EE).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R3、R4、及びR5はそれぞれ独立してp-メトキシベンジル(PMB)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 3 , R 4 and R 5 are each independently p-methoxybenzyl (PMB).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R3、R4、及びR5はそれぞれ独立してメトキシメチル(MOM)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R3 , R4 , and R5 are each independently methoxymethyl (MOM).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R3、R4、及びR5はそれぞれ独立して1-エトキシエチル(EE)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 3 , R 4 and R 5 are each independently 1-ethoxyethyl (EE).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R3、R4、及びR5はそれぞれ独立してトリメチルシリル(TMS)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R3 , R4 , and R5 are each independently trimethylsilyl (TMS).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R3、R4、及びR5はそれぞれ独立してtert-ブチルジメチルシリル(TBDMS)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 3 , R 4 , and R 5 are each independently tert-butyldimethylsilyl (TBDMS).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R3、R4、及びR5はそれぞれ独立して2-テトラヒドロピラニル(THP)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 3 , R 4 and R 5 are each independently 2-tetrahydropyranyl (THP).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R6は、カルボベンゾキシ(Cbz)、tert-ブトキシカルボニル(Boc)、メトキシカルボニル、又はエトキシカルボニルである。いくつかの実施態様において、本発明の式IIで表される化合物において、R6はカルボベンゾキシ(Cbz)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 6 is carbobenzoxy (Cbz), tert-butoxycarbonyl (Boc), methoxycarbonyl, or ethoxycarbonyl. In some embodiments, in compounds of Formula II of the present invention, R6 is carbobenzoxy (Cbz).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R6はメトキシカルボニルである。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R6 is methoxycarbonyl.
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R6はエトキシカルボニルである。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R6 is ethoxycarbonyl.
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R6はフタロイル(Pht)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R6 is phthaloyl (Pht).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R6は2,4-ジメトキシベンジル(DMB)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 6 is 2,4-dimethoxybenzyl (DMB).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R6はベンジル(Bn)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R6 is benzyl (Bn).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R6はベンジルオキシメチル(BOM)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R6 is benzyloxymethyl (BOM).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1はベンジルオキシメチル(BOM)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 1 is benzyloxymethyl (BOM).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R2はエチルである。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R2 is ethyl.
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R3、R4、及びR5はそれぞれ独立してベンジル(Bn)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R3 , R4 , and R5 are each independently benzyl (Bn).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R6はtert-ブトキシカルボニル(Boc)である。 In some embodiments, in compounds of Formula VII of the present invention, R 6 is tert-butoxycarbonyl (Boc).
いくつかの実施態様において、本発明の式VIIで表される化合物において、R1はベンジルオキシメチル(BOM)であり、R2はメチルであり、R3、R4、R5はそれぞれ独立してベンジル(Bn)であり、R6はtert-ブトキシカルボニル(Boc)である。 In some embodiments, in the compounds of Formula VII of the present invention, R 1 is benzyloxymethyl (BOM), R 2 is methyl, R 3 , R 4 , R 5 are each independently is benzyl (Bn) and R 6 is tert-butoxycarbonyl (Boc).
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法は、式VIIで表される化合物を調製することをさらに含み、これは、式VI
式VIで表される化合物は酸化されやすいため、式VIで表される化合物にアミノ保護基を導入することにより、安定した特性を有する式VIIで表される化合物が得られ、その後の分離や精製に便利である。 Since the compound of formula VI is prone to oxidation, introduction of an amino protecting group into the compound of formula VI provides the compound of formula VII with stable properties, and subsequent separation and Convenient for purification.
いくつかの実施態様において、式VIIで表される化合物において、R6はtert-ブトキシカルボニル(Boc)であり、R1、R2、R3、R4、及びR5の定義は、本明細書に記載されているとおりであり、これは、式VIで表される化合物をBocで保護することにより得られる。好ましくは、式VIで表される化合物は、塩基性条件下でBoc無水物と反応して、式VIIで表される化合物が得られる。より好ましくは、式VIで表される化合物は、水酸化ナトリウムの存在下でBoc無水物と反応して、式VIIで表される化合物が得られる。 In some embodiments, in compounds represented by Formula VII, R 6 is tert-butoxycarbonyl (Boc) and the definitions of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are as defined herein , which is obtained by Boc protection of compounds of formula VI. Preferably, a compound of formula VI is reacted with Boc anhydride under basic conditions to give a compound of formula VII. More preferably, a compound of formula VI is reacted with Boc anhydride in the presence of sodium hydroxide to give a compound of formula VII.
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法は、式VIで表される化合物を調製することをさらに含み、これは、式V
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、式Vで表される化合物は、還元剤で還元される。 In some embodiments, in the methods of preparing compounds of Formula I of the present invention, the compound of Formula V is reduced with a reducing agent.
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、式Vで表される化合物は、第2の溶媒中の還元剤で還元される。 In some embodiments, in the methods of preparing compounds of Formula I of the present invention, the compound of Formula V is reduced with a reducing agent in a second solvent.
いくつかの実施態様において、本発明の還元剤は、亜鉛粉末、鉄粉末、又はインジウム粉末である。 In some embodiments, the reducing agent of the present invention is zinc powder, iron powder, or indium powder.
いくつかの実施態様において、本発明の還元剤は亜鉛粉末である。 In some embodiments, the reducing agent of the present invention is zinc powder.
いくつかの実施態様において、本発明の還元剤は鉄粉末である。 In some embodiments, the reducing agent of the present invention is iron powder.
いくつかの実施態様において、本発明の還元剤はインジウム粉末である。 In some embodiments, the reducing agent of the present invention is indium powder.
いくつかの実施態様において、本発明の第2の溶媒は、酢酸と、メタノール、トリフルオロ酢酸(TFA)、4~8M(例えば6M)の塩酸、又はNH4Clの飽和水溶液との混合溶媒である。 In some embodiments, the second solvent of the present invention is a mixed solvent of acetic acid and methanol, trifluoroacetic acid (TFA), 4-8 M (eg, 6 M) hydrochloric acid, or a saturated aqueous solution of NH 4 Cl. be.
いくつかの実施態様において、本発明の第2の溶媒は、酢酸とメタノールの混合溶媒であり、好ましくは体積比が1:3~8の酢酸とメタノールの混合溶媒、例えば体積比が1:4~6の酢酸とメタノールの混合溶媒、例えば体積比が1:5の酢酸とメタノールの混合溶媒である。 In some embodiments, the second solvent of the present invention is a mixed solvent of acetic acid and methanol, preferably a mixed solvent of acetic acid and methanol in a volume ratio of 1:3 to 8, such as a volume ratio of 1:4. ˜6 of a mixed solvent of acetic acid and methanol, such as a mixed solvent of acetic acid and methanol with a volume ratio of 1:5.
いくつかの実施態様において、本発明の第2の溶媒は、トリフルオロ酢酸(TFA)、4~8M(例えば6M)の塩酸、又はNH4Clの飽和水溶液である。 In some embodiments, the second solvent of the present invention is trifluoroacetic acid (TFA), 4-8 M (eg, 6 M) hydrochloric acid, or a saturated aqueous solution of NH 4 Cl.
いくつかの実施態様において、本発明の第2の溶媒はトリフルオロ酢酸(TFA)である。 In some embodiments, the second solvent of the present invention is trifluoroacetic acid (TFA).
いくつかの実施態様において、本発明の第2の溶媒は、4~8M(例えば6M)の塩酸である。 In some embodiments, the second solvent of the present invention is 4-8M (eg, 6M) hydrochloric acid.
いくつかの実施態様において、本発明の第2の溶媒は、NH4Clの飽和水溶液である。 In some embodiments, the second solvent of the present invention is a saturated aqueous solution of NH4Cl .
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、還元剤と式Vで表される化合物とのモル比は、15~25:1、例えば18~22:1、20:1である。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I of the present invention, the molar ratio of the reducing agent to the compound of Formula V is 15-25:1, such as 18-22: 1, 20:1.
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法は、式Vで表される化合物を調製する方法をさらに含み、これは、
b)式IIIで表される化合物を式IVで表される化合物と反応させて、式Vで表される化合物を作成する工程と、
を含み、
式中、R1、R2、R3、R4、及びR5の定義は式VIIの定義と同じであり、Xはハロゲン、好ましくは臭素原子、及びヨウ素原子であり、例えば臭素原子である。
In some embodiments, the method of preparing a compound of Formula I of the present invention further comprises a method of preparing a compound of Formula V, which comprises
b) reacting a compound of formula III with a compound of formula IV to form a compound of formula V;
including
wherein the definitions of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are the same as for formula VII, X is halogen, preferably bromine and iodine, for example bromine .
式IIIで表される化合物は、式IVで表される化合物と反応して、7:1のジアステレオ選択性を有する異性体の対を生成し、主生成物は、式Vで表される化合物である。式Vで表される化合物は、還元されて式VIで表される化合物になり、この中間体は、容易に酸化される。アミノ保護基が式VIで表される化合物に導入されて、安定した特性を有する式VIIの化合物が得られ、その結果、上記反応工程で作成されたジアステレオ異性体は容易に分離することができる。 A compound of formula III reacts with a compound of formula IV to produce a pair of isomers with a diastereoselectivity of 7:1, the major product being of formula V. is a compound. Compounds of Formula V are reduced to compounds of Formula VI, and this intermediate is readily oxidized. An amino protecting group is introduced into the compound of formula VI to give the compound of formula VII with stable properties so that the diastereoisomers produced in the above reaction steps can be easily separated. can.
いくつかの実施態様において、本発明の金属リチウム試薬は、n-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、フェニルリチウム、及びsec-ブチルリチウムである。 In some embodiments, the metallic lithium reagents of the present invention are n-butyllithium, tert-butyllithium, phenyllithium, and sec-butyllithium.
いくつかの実施態様において、本発明の金属リチウム試薬はn-ブチルリチウムである。 In some embodiments, the lithium metal reagent of the present invention is n-butyllithium.
いくつかの実施態様において、本発明の金属リチウム試薬はtert-ブチルリチウムである。 In some embodiments, the lithium metal reagent of the present invention is tert-butyllithium.
いくつかの実施態様において、本発明の金属リチウム試薬はフェニルリチウムである。 In some embodiments, the lithium metal reagent of the present invention is phenyllithium.
いくつかの実施態様において、本発明の金属リチウム試薬はsec-ブチルリチウムである。 In some embodiments, the lithium metal reagent of the present invention is sec-butyllithium.
いくつかの実施態様において、本発明の式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIで表される化合物は、第3の溶媒中の金属リチウム試薬で処理される。 In some embodiments, in the methods of preparing compounds of Formula I of the present invention, the compound of Formula II is treated with a lithium metal reagent in a third solvent.
いくつかの実施態様において、本発明の第3の溶媒は、メチルtert-ブチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、アニソール、n-ヘキサン、又はトルエンである。 In some embodiments, the third solvent of the invention is methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran (THF), anisole, n-hexane, or toluene.
いくつかの実施態様において、本発明の第3の溶媒はメチルtert-ブチルエーテルである。 In some embodiments, the third solvent of the invention is methyl tert-butyl ether.
いくつかの実施態様において、本発明の第3の溶媒は、無水メチルtert-ブチルエーテルである。 In some embodiments, the third solvent of the present invention is anhydrous methyl tert-butyl ether.
いくつかの実施態様において、本発明の第3の溶媒はテトラヒドロフラン(THF)である。 In some embodiments, the third solvent of the present invention is tetrahydrofuran (THF).
いくつかの実施態様において、本発明の第3の溶媒はアニソールである。 In some embodiments, the third solvent of the invention is anisole.
いくつかの実施態様において、本発明の第3の溶媒はn-ヘキサンである。 In some embodiments, the third solvent of this invention is n-hexane.
いくつかの実施態様において、本発明の第3の溶媒はトルエンである。 In some embodiments, the third solvent of the invention is toluene.
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIで表される化合物は、金属リチウム試薬で-60℃~0℃の条件下(例えば-40℃、-20℃)で処理される。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, the compound of Formula II is treated with a lithium metal reagent under conditions of -60°C to 0°C (eg -40°C). , −20° C.).
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIで表される化合物は、金属リチウム試薬で-40℃~0℃の条件下で処理される。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, a compound of Formula II is treated with a lithium metal reagent under conditions of -40°C to 0°C.
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIで表される化合物は、金属リチウム試薬で-60℃~-20℃の条件下で処理される。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, a compound of Formula II is treated with a lithium metal reagent under conditions of -60°C to -20°C. .
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIで表される化合物は、金属リチウム試薬で-40℃~-20℃の条件下で処理される。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, the compound of Formula II is treated with a lithium metal reagent under conditions of -40°C to -20°C. .
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、金属リチウム試薬と式IIで表される化合物とのモル比は、1~1.5:1、例えば1.2:1である。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, the molar ratio of the lithium metal reagent to the compound of Formula II is 1 to 1.5:1, such as 1 .2:1.
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIIで表される化合物は、第3の溶媒中の式IVで表される化合物と反応する。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, a compound of Formula III is reacted with a compound of Formula IV in a third solvent.
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIで表される化合物と式IVで表される化合物との供給モル比は、1.4~2.2:1、例えば1.6~2:1、例えば1.8:1である。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, the feed molar ratio of the compound of Formula II to the compound of Formula IV is 1.4 to 2 .2:1, such as 1.6 to 2:1, such as 1.8:1.
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIIで表される化合物は、式IVで表される化合物と-60℃~0℃(例えば-40℃、-20℃)の条件下で反応する。 In some embodiments, in a method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, a compound of Formula III is combined with a compound of Formula IV at a temperature of -60°C to 0°C (eg -40°C). °C, -20°C).
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIIで表される化合物は、式IVで表される化合物と-40℃~0℃の条件下で反応する。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, a compound of Formula III is combined with a compound of Formula IV under conditions of -40°C to 0°C. react.
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIIで表される化合物は、式IVで表される化合物と-60℃~-20℃の条件下で反応する。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, a compound of Formula III is combined with a compound of Formula IV under conditions of -60°C to -20°C. react with.
いくつかの実施態様において、本発明による式Iで表される化合物を調製する方法において、式IIIで表される化合物は、式IVで表される化合物と-40℃~-20℃の条件下で反応する。 In some embodiments, in the method of preparing a compound of Formula I according to the present invention, a compound of Formula III is combined with a compound of Formula IV under conditions of -40°C to -20°C. react with.
本発明はさらに、式V、式VI、又は式VIIで表される中間体化合物を提供し、
いくつかの実施態様において、中間体化合物は、以下からなる群から選択される:
本発明は、
a)本発明の方法を使用して、式Iで表される化合物を調製する工程;
b)式Iで表される化合物をフォロデシンの自由な形に変換する工程、又は
式Iで表される化合物をフォロデシンの所望の塩に変換する工程、
を含む、フォロデシン又はその塩の調製方法をさらに提供する。
The present invention
a) using the method of the invention to prepare a compound of Formula I;
b) converting a compound of formula I into the free form of forodecine, or converting a compound of formula I into the desired salt of forodecine,
Further provided is a method of preparing forodesine or a salt thereof, comprising:
本発明において、式IVで表される化合物は、ニトロン化合物、例えばIVで表されるニトロン化合物(式中、R3、R4、R5はそれぞれ独立してベンジル(Bn)である)であり、これは、文献(Tetrahedron,2009,65,93-100)の方法を参照して調製することができる。R1がベンジルオキシメチル(BOM)であり、R2がメチルであり、及びXが臭素原子である式IIで表される化合物は、文献(Journal of Organic Chemistry,2001,66(17),5723-5730)の方法を参考にして調製することができる。 In the present invention, the compound of formula IV is a nitrone compound, such as a nitrone compound of IV, wherein R 3 , R 4 and R 5 are each independently benzyl (Bn). , which can be prepared with reference to methods in the literature (Tetrahedron, 2009, 65, 93-100). Compounds of formula II wherein R 1 is benzyloxymethyl (BOM), R 2 is methyl and X is a bromine atom are described in Journal of Organic Chemistry, 2001, 66(17), 5723 -5730) can be prepared.
定義
以下で特に他に定義しない限り、本明細書で使用されるすべての技術用語及び科学用語は、当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有することを意図している。本明細書で使用される技術への言及は、当技術分野で一般に理解されている技術を指し、当業者に明らかな同等の技術の変形又は置換を含むことを意図している。以下の用語は、当業者によって十分に理解されると考えられるが、以下の定義は、本発明をよりよく説明するために記載される。
Definitions Unless defined otherwise below, all technical and scientific terms used herein are intended to have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. References to technology used herein refer to technology as commonly understood in the art and are intended to include variations or permutations of equivalent technology that are apparent to those skilled in the art. While the following terms are believed to be well understood by those of ordinary skill in the art, the following definitions are provided to better describe the present invention.
「含む(包括)」、「含む(包含)」、「備える(具有)」、「含む(含有)」、又は「関連する(渉及)」という用語、及び本明細書におけるその他の変形は、包括的又は無制限であり、他の列挙された要素又は方法工程を排除しない。 The terms "include," "include," "comprise," "include," or "refer to," and other variations herein, are inclusive or open-ended and do not exclude other recited elements or method steps.
本明細書で使用される用語「ハロゲン」基は、F、Cl、Br、又はIを含むと定義される。 As used herein, the term "halogen" group is defined to include F, Cl, Br, or I.
本明細書において「濃塩酸」という用語は、一般に、質量分率が36%~38%で物質濃度が12mol/Lの塩酸をいう。 As used herein, the term "concentrated hydrochloric acid" generally refers to hydrochloric acid having a mass fraction of 36% to 38% and a substance concentration of 12 mol/L.
本明細書で使用される「希塩酸」という用語は、質量分率が20%未満の塩酸を指す。 As used herein, the term "dilute hydrochloric acid" refers to hydrochloric acid with a mass fraction of less than 20%.
文脈から明らかでない限り、本明細書で提供されるすべての数値は用語「約」によって修飾され、すなわち本明細書で開示される数値は、数値自体だけでなく、「約」によって修飾される数値も含む。本明細書で使用される特定の値について、「約」という用語は、当技術分野における通常の許容範囲内、例えば、±10%、±9%、±8%、±7%、±6%、±5%、±4%、±3%、±2%、±1%、±0.5%、±0.1%、±0.05%、又は±0.01%以内であると理解されるべきである。 Unless otherwise apparent from the context, all numerical values provided herein are modified by the term "about," i.e., numerical values disclosed herein refer not only to the numerical values themselves, but also to the numerical values modified by "about." Also includes For certain values used herein, the term "about" is within the range of normal tolerances in the art, e.g., ±10%, ±9%, ±8%, ±7%, ±6%. , ±5%, ±4%, ±3%, ±2%, ±1%, ±0.5%, ±0.1%, ±0.05%, or ±0.01% It should be.
本発明の有益な効果: Beneficial Effects of the Invention:
本発明によって提供される式Iで表される化合物フォロデシン塩酸塩を調製する方法は、以下の利点の1つ以上を有する:
1)この方法で使用する原材料と溶媒は、安価で入手が容易である;
2)この方法は、原料としてニトロン化合物を使用し、この原料は安定しており、保存が容易で、大規模な調製が容易で、調製が簡単で便利であり、関連する試薬と溶媒は安価で簡単に取得でき、操作は簡単である;
3)この方法の合成プロセスは操作が容易であり、合成スキームは短く、全体の収率は高く、例えば約30%である;
4)この方法の生産コストは低い;
5)この方法で調製されるフォロデシン塩酸塩は純度が高く、純度は99.8%超、例えば99.9%に達することがある;
6)この方法は工業的生産に適している。
The method of preparing the compound of Formula I forodesine hydrochloride provided by the present invention has one or more of the following advantages:
1) The raw materials and solvents used in this method are inexpensive and readily available;
2) This method uses nitrone compounds as raw materials, which are stable, easy to store, easy to prepare on a large scale, simple and convenient to prepare, and the associated reagents and solvents are inexpensive. can be easily obtained with , and the operation is simple;
3) The synthetic process of this method is easy to operate, the synthetic scheme is short, and the overall yield is high, for example about 30%;
4) the production cost of this method is low;
5) Phorodesine hydrochloride prepared by this method is highly pure, and the purity can reach greater than 99.8%, such as 99.9%;
6) The method is suitable for industrial production.
カラム:Agilent ZORBAX SB-C18、4.6×150mm、5μm;
溶媒:0.1% TFA/H2O=100%;流量:0.3mL/分;
ピーク情報(波長:254nm):
Solvent: 0.1% TFA/ H2O = 100%; flow rate: 0.3 mL/min;
Peak information (wavelength: 254 nm):
本発明を実施するための特定のモデル
本発明の技術的効果をさらに説明するために、本発明は、実施例を通じて以下に詳細に説明される。提供される実施例は、単に本発明の方法を例示するためのものであり、決して本発明を限定することを意図するものではない。
Specific Models for Implementing the Present Invention In order to further illustrate the technical effects of the present invention, the present invention is described in detail below through examples. The examples provided are merely illustrative of the method of the invention and are not intended to limit the invention in any way.
別段の指定がない限り、本発明で使用される試薬、方法、及び装置は、当技術分野における通常の試薬、方法、及び装置である。 Unless otherwise specified, the reagents, methods and equipment used in the present invention are those conventional in the art.
実施例:フォロデシン塩酸塩の調製
本発明の実施例の式1で表される化合物、すなわちフォロデシン塩酸塩は、以下の合成スキームによって調製された:
1)化合物5の調製:
ブロモプリン誘導体(2)(22.5g、64.7mmol)を無水メチルtert-ブチルエーテル(600mL)に溶解し、-20℃に冷却し、n-ブチルリチウム(2.5M、31mL、78mmol)をゆっくり滴加した。滴加終了後、混合物を-20℃で1時間攪拌し、次に室温まで暖めて10分攪拌し、次に-20℃に冷却し、次にメチルtert-ブチルエーテル(50mL)中のニトロン(4)(15.0g、35.9mmol)の溶液をゆっくり滴加した。得られた混合物を-20℃で15時間反応させ、飽和塩化アンモニウム溶液を加えて反応をクエンチした。得られた混合物を室温まで暖め、酢酸エチルを加えて希釈し、有機層と水層を分離し、水層を酢酸エチルで3回抽出し、有機層を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下で除去してヒドロキシルアミン(5)の粗生成物を得て、これは、分離及び精製せずに直接次の工程で使用した。
1) Preparation of compound 5:
Bromopurine derivative (2) (22.5 g, 64.7 mmol) was dissolved in anhydrous methyl tert-butyl ether (600 mL), cooled to −20° C., and n-butyllithium (2.5 M, 31 mL, 78 mmol) was slowly added. added dropwise. After the addition was complete, the mixture was stirred at −20° C. for 1 hour, then warmed to room temperature and stirred for 10 minutes, then cooled to −20° C., then treated with the nitrone (4) in methyl tert-butyl ether (50 mL). ) (15.0 g, 35.9 mmol) was slowly added dropwise. The resulting mixture was allowed to react at −20° C. for 15 hours and saturated ammonium chloride solution was added to quench the reaction. The resulting mixture was warmed to room temperature, diluted with ethyl acetate, the organic and aqueous layers were separated, the aqueous layer was extracted three times with ethyl acetate, the organic layers were combined, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was was removed under reduced pressure to give the crude product of hydroxylamine (5), which was used directly in the next step without isolation and purification.
2)化合物6の調製:
前の工程で得られた粗ヒドロキシルアミン(5)を、酢酸とメタノールの混合溶媒(V/V=1:5、60mL)に溶解し、亜鉛粉末(47.0g、0.72mol)を添加し、混合物を2時間加熱還流した。次に、反応溶液を室温まで冷却し、珪藻土で濾過して不溶物を除去し、濾液を濃縮、脱水して粗2級アミン(6)を得て、これは、分離及び精製せずに直接次の工程で使用した。
2) Preparation of compound 6:
The crude hydroxylamine (5) obtained in the previous step was dissolved in a mixed solvent of acetic acid and methanol (V/V=1:5, 60 mL) and zinc powder (47.0 g, 0.72 mol) was added. , the mixture was heated to reflux for 2 hours. The reaction solution is then cooled to room temperature, filtered through diatomaceous earth to remove insolubles, and the filtrate is concentrated and dehydrated to give the crude secondary amine (6), which can be used directly without isolation and purification. Used in the next step.
3)化合物7の調製:
前の工程で得られた粗2級アミン(6)をテトラヒドロフラン(150mL)に溶解し、3M水酸化ナトリウム水溶液(150mL、0.45mol)を加え、溶液のpH値を10に調整し、BOC無水物(15.7g、71.8mmol)を加え、得られた反応溶液を室温で15時間反応させた。LC-MSで反応の終了をモニターした後、反応液を珪藻土で濾過して不溶物を除去した。濾液中のテトラヒドロフランを減圧留去し、残留物を酢酸エチルで希釈し、有機層と水層を分離し、水層を酢酸エチルで3回抽出後、有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(石油エーテル:酢酸エチル(V/V)=5:1)で分離精製して淡黄色の油状物(7)(11.0g、40%)を得た。C46H51N4O7[M+H]+のLC-MS m/zは、計算値771.4で実測値771.4であった。
3) Preparation of compound 7:
The crude secondary amine (6) obtained in the previous step was dissolved in tetrahydrofuran (150 mL), 3M sodium hydroxide aqueous solution (150 mL, 0.45 mol) was added, the pH value of the solution was adjusted to 10, and BOC anhydrous (15.7 g, 71.8 mmol) was added and the resulting reaction solution was allowed to react at room temperature for 15 hours. After monitoring the completion of the reaction by LC-MS, the reaction solution was filtered through diatomaceous earth to remove insoluble matter. Tetrahydrofuran in the filtrate was distilled off under reduced pressure, the residue was diluted with ethyl acetate, the organic layer and aqueous layer were separated, the aqueous layer was extracted with ethyl acetate three times, the organic layers were combined, and the organic layers were dried over anhydrous sodium sulfate. , the solvent was distilled off under reduced pressure, and the crude product was separated and purified by silica gel column chromatography (petroleum ether:ethyl acetate (V/V) = 5:1) to give a pale yellow oil (7) (11.0 g, 40%) was obtained. LC-MS m/z for C 46 H 51 N 4 O 7 [M+H] + calcd 771.4, found 771.4.
4)フォロデシン塩酸塩の調製
化合物7(11.0g)をテトラヒドロフラン(50mL)に溶解し、濃塩酸(12M(36%~38%)、100mL)を加え、得られた混合物を72時間加熱還流し、濃縮乾固し、濾過し、濾液の溶媒を減圧留去して、赤褐色固体を得て、ここにエタノール(50mL)を加え、反応混合物を粉砕し、濾過し、固体を回収して粗フォロデシン塩酸塩(1)を約78%の収率で得た。
4) Preparation of Forodesine Hydrochloride Compound 7 (11.0 g) was dissolved in tetrahydrofuran (50 mL), concentrated hydrochloric acid (12 M (36%-38%), 100 mL) was added, and the resulting mixture was heated to reflux for 72 hours. , concentrated to dryness, filtered, and the solvent of the filtrate was evaporated under reduced pressure to obtain a reddish brown solid, to which ethanol (50 mL) was added, the reaction mixture was triturated, filtered, and the solid was collected to give crude forodesine. Hydrochloride salt (1) was obtained in about 78% yield.
5)フォロデシン塩酸塩の精製と改良
固体のフォロデシン塩酸塩を水に溶解し、得られた混合物を陽イオン交換樹脂で濾過し(5Lの3M希塩酸で溶出)、塩酸溶出物を回収し、濃縮乾固し、残留物を1M希塩酸に溶解し、50℃に加熱し、次に室温に冷却し、固体が沈殿するまでエタノールをゆっくり加えた。得られた混合物を20℃で8時間攪拌した後、0℃に冷却して2時間静置した。固体を濾過して回収し、乾燥して白色固体のフォロデシン塩酸塩(約3.0g)を得て、その構造及び純度の特定結果を図1~3に示し、その純度は約99.9%であった。
5) Purification and Improvement of Forodesine Hydrochloride Solid forodesine hydrochloride was dissolved in water, the resulting mixture was filtered through a cation exchange resin (eluted with 5 L of 3M dilute hydrochloric acid), and the hydrochloric acid eluate was collected and concentrated to dryness. Solidified, the residue was dissolved in 1M dilute hydrochloric acid, heated to 50° C., then cooled to room temperature and ethanol was added slowly until a solid precipitated. The resulting mixture was stirred at 20° C. for 8 hours, then cooled to 0° C. and allowed to stand for 2 hours. The solid was collected by filtration and dried to give forodesine hydrochloride (about 3.0 g) as a white solid, the structure and purity characterization results of which are shown in FIGS. Met.
本例の全体的な収率は約30%であった。 The overall yield for this example was about 30%.
1H NMR(400MHz,CD3SOCD3)δ12.38(s,1H),12.18(s,1H),10.47(s,1H),8.45(s,1H),7.89(s,1H),7.65(d,J=4.0Hz,1H),5.60(d,J=4.0Hz,1H),5.50(d,J=4.0Hz,1H),5.46(t,J=4.0Hz,1H),4.63(d,J=8.0Hz,1H),4.44-4.39(m,1H),4.19-4.15(m,1H),3.74-3.71(m,1H),3.50-3.46(m,1 H).13C NMR(100MHz,CD3SOCD3)δ153.5,143.0,142.2,127.5,118.0,109.2,74.0,70.3,65.2,58.4,56.5.LC-MS m/z for C11H15N4O4[M+H]+ 計算値267.1;実測値267.1。 <1> H NMR (400 MHz, CD3SOCD3 ) [delta ] 12.38 (s, 1H), 12.18 (s, 1H), 10.47 (s, 1H), 8.45 (s, 1H), 7.89 (s, 1H), 7.65 (d, J = 4.0Hz, 1H), 5.60 (d, J = 4.0Hz, 1H), 5.50 (d, J = 4.0Hz, 1H) , 5.46 (t, J=4.0 Hz, 1H), 4.63 (d, J=8.0 Hz, 1H), 4.44-4.39 (m, 1H), 4.19-4. 15 (m, 1H), 3.74-3.71 (m, 1H), 3.50-3.46 (m, 1H). 13C NMR (100 MHz, CD3SOCD3 ) ? , 56.5. LC- MS m/z for C11H15N4O4 [M+H] + calc'd 267.1; found 267.1 .
前述の例は、本発明の技術的解決法を説明するためにのみ使用され、本発明を限定するものではないことに留意されたい。本発明の技術的解決法を好ましい実施例を参照して詳細に説明したが、当業者は、本発明の技術的解決法は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、修正又は同等に置き換えることができることを理解すべきであり、これらの変更のすべては、本発明の保護範囲に含まれるべきである。 It should be noted that the foregoing examples are only used to describe the technical solutions of the present invention and do not limit the present invention. Although the technical solution of the present invention has been described in detail with reference to preferred embodiments, those skilled in the art will appreciate that the technical solution of the present invention can be modified or equivalent without departing from the spirit and scope of the present invention. It should be understood that permutations are possible, and all these modifications should fall within the protection scope of the present invention.
Claims (13)
式VIIで表される化合物を酸で処理して、式Iで表される前記化合物を作成すること、
式中、
R1は、アミノ保護基、例えばカルボベンゾキシ(Cbz)、tert-ブトキシカルボニル(Boc)、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フタロイル(Pht)、2,4-ジメトキシベンジル(DMB)、ベンジル(Bn)、ベンジルオキシメチル(BOM)であり;
R2は、メチル又はエチルであり;
R3、R4、R5は、それぞれ独立してヒドロキシル保護基、例えばトリメチルシリル(TMS)、tert-ブチルジメチルシリル(TBDMS)、ベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル(PMB)、2-テトラヒドロピラニル(THP)、メトキシメチル(MOM)、1-エトキシエチル(EE)であり;
R6は、アミノ保護基、例えばカルボベンゾキシ(Cbz)、tert-ブトキシカルボニル(Boc)、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フタロイル(Pht)、2,4-ジメトキシベンジル(DMB)、ベンジル(Bn)、ベンジルオキシメチル(BOM)である、
方法。 A method for preparing a compound of Formula I, comprising:
treating a compound of formula VII with an acid to make said compound of formula I;
During the ceremony,
R 1 is an amino protecting group such as carbobenzoxy (Cbz), tert-butoxycarbonyl (Boc), methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, phthaloyl (Pht), 2,4-dimethoxybenzyl (DMB), benzyl (Bn), benzyloxymethyl (BOM);
R 2 is methyl or ethyl;
R 3 , R 4 , R 5 are each independently a hydroxyl protecting group such as trimethylsilyl (TMS), tert-butyldimethylsilyl (TBDMS), benzyl (Bn), p-methoxybenzyl (PMB), 2-tetrahydropyrani (THP), methoxymethyl (MOM), 1-ethoxyethyl (EE);
R 6 is an amino protecting group such as carbobenzoxy (Cbz), tert-butoxycarbonyl (Boc), methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, phthaloyl (Pht), 2,4-dimethoxybenzyl (DMB), benzyl (Bn), is benzyloxymethyl (BOM);
Method.
a)式VIIで表される前記化合物を第1の溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、メタノール、好ましくはテトラヒドロフラン)に溶解して、式VIIで表される前記化合物を含有する溶液を得る工程;
b)式VIIで表される前記化合物を含む溶液に前記酸を加えて、加熱及び還流する工程、
を含む方法によって処理される、請求項1~4のいずれか一項に記載の方法。 Said compound of Formula VII is treated with said acid by the following manipulations:
a) dissolving said compound of formula VII in a first solvent (e.g. tetrahydrofuran, methanol, preferably tetrahydrofuran) to obtain a solution containing said compound of formula VII;
b) adding said acid to a solution containing said compound of Formula VII and heating and refluxing;
A method according to any one of claims 1 to 4, which is treated by a method comprising
i)前記第1の溶媒を除去し、得られた生成物にエタノールを加え、固体を分離して回収する工程;
ii)任意選択的に、得られた固体を精製する工程;
をさらに含み、
好ましくは、前記得られた固体を精製する方法が、
iii)前記得られた固体を水に溶解して水溶液を得る工程;
iv)前記水溶液に陽イオン交換樹脂を接触させ、希塩酸(例えば2~4M塩酸)で溶出し、溶出液を回収する工程;
v)前記溶出液中の溶媒を除去し、生成物を希塩酸(例えば0.5~1.5M塩酸)に溶解し、40~60℃(例えば45~55℃)に加熱し、室温まで冷却する工程;
vi)v)で得られた生成物にエタノールを加え、室温で6~10時間攪拌し、固体を沈殿させる工程;
vii)0℃まで冷却し、放置する工程;
viii)固体を収集する工程、
を含む、請求項1に記載の方法。 said method comprising:
i) removing said first solvent, adding ethanol to the resulting product and separating and collecting the solid;
ii) optionally purifying the solid obtained;
further comprising
Preferably, the method of purifying the obtained solid comprises
iii) dissolving the obtained solid in water to obtain an aqueous solution;
iv) contacting the aqueous solution with a cation exchange resin, eluting with dilute hydrochloric acid (eg, 2-4 M hydrochloric acid), and collecting the eluate;
v) removing the solvent in the eluate and dissolving the product in dilute hydrochloric acid (eg 0.5-1.5 M hydrochloric acid), heating to 40-60° C. (eg 45-55° C.) and cooling to room temperature; process;
vi) adding ethanol to the product obtained in v) and stirring at room temperature for 6-10 hours to precipitate a solid;
vii) cooling to 0° C. and standing;
viii) collecting the solids;
2. The method of claim 1, comprising:
好ましくは、R2は、メチルであり;
好ましくは、R3、R4、R5は、それぞれ独立してベンジル(Bn)、p-メトキシベンジル(PMB)、メトキシメチル(MOM)、又は1-エトキシエチル(EE)であり;
好ましくは、R6は、カルボベンゾキシ(Cbz)、tert-ブトキシカルボニル(Boc)、メトキシカルボニル、又はエトキシカルボニルである、
請求項1に記載の方法。 preferably R 1 is 2,4-dimethoxybenzyl (DMB), benzyl (Bn), or benzyloxymethyl (BOM);
preferably R 2 is methyl;
preferably R 3 , R 4 , R 5 are each independently benzyl (Bn), p-methoxybenzyl (PMB), methoxymethyl (MOM), or 1-ethoxyethyl (EE);
Preferably R 6 is carbobenzoxy (Cbz), tert-butoxycarbonyl (Boc), methoxycarbonyl or ethoxycarbonyl,
The method of claim 1.
好ましくは、R2は、メチルであり;
好ましくは、R3、R4、R5は、それぞれ独立してベンジル(Bn)であり;
好ましくは、R6は、tert-ブトキシカルボニル(Boc)である、
請求項7に記載の方法。 preferably R 1 is benzyloxymethyl (BOM);
preferably R 2 is methyl;
preferably R 3 , R 4 , R 5 are each independently benzyl (Bn);
Preferably R 6 is tert-butoxycarbonyl (Boc),
8. The method of claim 7.
式VIで表される化合物
を含む、式VIIで表される前記化合物を調製する方法をさらに含む、請求項1~4及び6~8のいずれか一項に記載の方法。 said method comprising:
Compounds of Formula VI
The method of any one of claims 1-4 and 6-8, further comprising a method of preparing said compound of formula VII comprising:
式Vで表される化合物
を含む、式VIで表される前記化合物を調製する方法をさらに含み、
好ましくは、式Vで表される前記化合物は、還元剤(例えば亜鉛粉末、鉄粉末、又はインジウム粉末、好ましくは亜鉛粉末)で還元され;
好ましくは、式Vで表される前記化合物は、第2の溶媒中で還元剤で還元され;
好ましくは、前記第2の溶媒は、酢酸と、メタノール、トリフルオロ酢酸(TFA)、4~8M(例えば6M)の塩酸、又はNH4Clの飽和水溶液との混合溶媒であり;
好ましくは、前記第2の溶媒は、酢酸と、メタノールの混合溶媒、好ましくは酢酸とメタノールの体積比が1:3~8の混合溶媒、例えば酢酸とメタノールの体積比が1:4~6の混合溶媒、例えば酢酸とメタノールの体積比が1:5の混合溶媒等であり;
好ましくは、前記還元剤と式Vで表される前記化合物のモル比が15~25:1、例えば18~22:1、20:1である、
請求項9に記載の方法。 said method comprising:
Compounds of Formula V
further comprising a method of preparing said compound of Formula VI comprising
Preferably said compound of formula V is reduced with a reducing agent such as zinc powder, iron powder or indium powder, preferably zinc powder;
Preferably said compound of formula V is reduced with a reducing agent in a second solvent;
Preferably, said second solvent is a mixed solvent of acetic acid and methanol, trifluoroacetic acid (TFA), 4-8M (eg 6M) hydrochloric acid, or a saturated aqueous solution of NH 4 Cl;
Preferably, the second solvent is a mixed solvent of acetic acid and methanol, preferably a mixed solvent of acetic acid and methanol in a volume ratio of 1:3-8, for example a mixed solvent of acetic acid and methanol in a volume ratio of 1:4-6. a mixed solvent, such as a mixed solvent in which the volume ratio of acetic acid and methanol is 1:5;
Preferably, the molar ratio of said reducing agent to said compound of formula V is 15 to 25:1, such as 18 to 22:1, 20:1,
10. The method of claim 9.
a)式IIで表される化合物を金属リチウム試薬(例えば、n-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、フェニルリチウム、sec-ブチルリチウム、好ましくはn-ブチルリチウム)で処理して、式IIIで表される化合物を作成する工程;
b)式IIIで表される前記化合物を式IVで表される化合物と反応させて、式Vで表される化合物を生成する工程、
式中、R1、R2、R3、R4、及びR5は、請求項1~4及び6~8のいずれか一項で定義されたとおりであり、Xはハロゲン、好ましくは臭素原子及びヨウ素原子、例えば臭素原子であり、
好ましくは、式IIで表される前記化合物は、第3の溶媒(例えばメチルtert-ブチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、アニソール、n-ヘキサン又はトルエン、好ましくはメチルtert-ブチルエーテル、例えば無水メチルtert-ブチルエーテル)中の金属リチウム試薬で処理され;
好ましくは、式IIで表される前記化合物は、前記金属リチウム試薬で-60℃~0℃(例えば-40℃、-20℃)の条件下で処理され;
好ましくは、前記金属リチウム試薬と式IIで表される前記化合物のモル比は、1~1.5:1、例えば1.2:1であり;
好ましくは、式IIIで表される前記化合物は、前記第3の溶媒(例えばメチルtert-ブチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、アニソール、n-ヘキサン又はトルエン、好ましくはメチルtert-ブチルエーテル、例えば無水メチルtert-ブチルエーテル)中の式IVで表される前記化合物と反応し;
好ましくは、式IIで表される前記化合物と式IVで表される前記化合物の供給モル比は、1.4~2.2:1、例えば1.6~2:1、例えば1.8:1であり;
好ましくは、式IIIで表される前記化合物は、式IVで表される前記化合物と、-60℃~0℃(例えば-40℃、-20℃)の条件下で反応する、
請求項10に記載の方法。 said method comprising:
a) treatment of a compound of formula II with a metallic lithium reagent (e.g. n-butyllithium, tert-butyllithium, phenyllithium, sec-butyllithium, preferably n-butyllithium) to give a compound of formula III creating a compound that is
b) reacting said compound of formula III with a compound of formula IV to produce a compound of formula V;
wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are as defined in any one of claims 1-4 and 6-8 and X is a halogen, preferably a bromine atom and an iodine atom, such as a bromine atom,
Preferably, said compound of formula II is dissolved in a third solvent such as methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran (THF), anisole, n-hexane or toluene, preferably methyl tert-butyl ether, such as anhydrous methyl tert-butyl ether. ) is treated with a metallic lithium reagent in
Preferably, said compound of formula II is treated with said metallic lithium reagent under conditions of -60°C to 0°C (eg -40°C, -20°C);
Preferably, the molar ratio of said lithium metal reagent to said compound of formula II is from 1 to 1.5:1, such as 1.2:1;
Preferably, said compound of formula III is dissolved in said third solvent (eg methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran (THF), anisole, n-hexane or toluene, preferably methyl tert-butyl ether, eg anhydrous methyl tert- reacting with said compound of formula IV in butyl ether);
Preferably, the feed molar ratio of said compound of formula II to said compound of formula IV is 1.4 to 2.2:1, such as 1.6 to 2:1, such as 1.8: is 1;
Preferably, said compound of formula III reacts with said compound of formula IV under conditions of -60°C to 0°C (eg -40°C, -20°C),
11. The method of claim 10.
好ましくは、前記化合物は、
Preferably, said compound is
a)式Iで表される前記化合物を、請求項1~11のいずれか一項に記載の方法を使用して調製する工程と;
b)式Iで表される前記化合物をフォロデシンの遊離形態に変換するか、又は式Iで表される前記化合物をフォロデシンの所望の塩に変換する工程と、
を含む方法。 A method for preparing forodesine or a salt thereof, comprising:
a) preparing said compound of formula I using a process according to any one of claims 1-11;
b) converting said compound of formula I to the free form of forodesine or converting said compound of formula I to the desired salt of forodesine;
method including.
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