JP2023533733A - 反応性ガス相溶性乾燥剤を有する動的シェード及び／又は関連する方法 - Google Patents

反応性ガス相溶性乾燥剤を有する動的シェード及び／又は関連する方法 Download PDF

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Abstract

絶縁ガラス（ＩＧ）ユニットと共に使用可能な電気電位駆動シェード（２０２ａ、２０２ｂ）、このようなシェードを含むＩＧユニット、及び／又は関連する方法。このようなユニットでは、動的シェードは、ＩＧユニットを画定する基材（１０２、１０４）間に位置しており、後退位置と伸長位置との間で移動可能である。動的シェードは、透明導体（３０６）、及び絶縁体膜（３０８）又は誘電体膜、並びにシャッタ（３１２）を含む、ガラス上の層を含む。シャッタは、弾性ポリマーベースの層（４０２）と、その対向する表面上の層と、を含む。第１の電圧は、シャッタを閉位置に伸長させるように透明導体に適用される。【選択図】図２

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は、内容全体が参照により本明細書に組み込まれる、２０２０年７月１５日に出願された米国出願第６２／７０５，７７６号の利益を主張するものである。
（発明の分野）
本発明の特定の例示的実施形態は、絶縁ガラスユニット（insulating glass unit、ＩＧユニット又はＩＧＵ）と共に使用され得るシェード、かかるシェードを含むＩＧユニット、及び／又はその製造方法に関する。より具体的には、本発明の特定の例示的実施形態は、ＩＧユニットと共に使用され得る、電位駆動シェード、かかるシェードを含むＩＧユニット、及び／又はその製造方法に関する。
建築部門は、世界の一次エネルギー消費の３０～４０％に相当することが示されている、そのエネルギー消費が高いことで知られている。特に、エネルギー効率の厳格性の低い建築基準で構築された古い構造体では、加熱、冷却、換気、及び照明などの運用コストが、この消費の大部分を占める。
窓は、例えば、自然光、新鮮な空気、アクセス、及び外部世界への接続を提供する。しかしながら、それらはしばしば、無駄なエネルギーの重大な原因の典型でもある。建築用窓の使用を増加させる傾向が高まり、エネルギー効率及び人間の快適性の相反する利益をバランスさせることは、ますます重要になってきている。更に、地球温暖化及び二酸化炭素排出量に関する懸念が、新規なエネルギー効率の高いグレージングシステムの推進力になっている。
この点に関して、窓は通常、建物の隔離において「弱いリンク」であり、ガラスのファサード全体を含むことが多い現代の建築設計を考慮すると、エネルギー浪費を制御及び低減する点で、より優れた絶縁窓を持つことが有利であろうことが明らかになる。したがって、絶縁性の高い窓の開発には、環境的にも経済的にも大きな利点がある。
絶縁ガラスユニット（ＩＧユニット又はＩＧＵ）が開発されており、建物及び他の構造物の絶縁性が向上している。図１は、例示的なＩＧユニットの断面概略図である。図１の例示的なＩＧユニットでは、第１の基材１０２及び第２の基材１０４は、実質的に平行であり、互いに離隔している。スペーサシステム１０６は、第１の基材１０２及び第２の基材１０４の周辺部に提供され、基材を互いに実質的に平行に離隔した関係に維持し、基材の間に間隙又は空間１０８を画定するのに役立つ。間隙１０８は、例えば、全体的なＩＧユニットの絶縁特性を改善するために、場合によっては不活性ガス（例えば、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅなど）で少なくとも部分的に充填されてもよい。場合によっては、スペーサシステム１０６に加えて、任意選択の外側シールが提供されてもよい。いくつかの例示的な構成では、スペーサシステム１０６は、内側又は一次シールを形成し、一方、外側シールは二次シールを形成する。
窓は、冬の太陽光取得及び一年中の昼光の形態で建物に「エネルギーを供給する」能力を有するという点で、ほとんどの建物において固有の要素である。しかしながら、現在の窓技術は、多くの場合、冬の過剰な暖房コスト、夏の過剰な冷房コストにつながることが多く、多くの場合、光源の市販品の多くにおいて光が暗色化されるか又はオフにされることを可能にするという昼光の利益を捕捉し損ねている。
薄膜技術は、窓性能を改善する１つの有望な方法である。薄膜は、例えば、製造中にガラス上に直接適用することができ、それに対応してより低コストで既に既存の窓に後付けすることができるポリマーウェブ上に適用することができる。過去２０年間にわたって進歩が行われており、主に、静的又は「受動的」低放射率（低Ｅ）コーティングを使用することにより窓のＵ値を下げ、並びにスペクトル選択的低Ｅコーティングを使用することにより、太陽熱利得係数（solar heat gain coefficient、ＳＨＧＣ）を低減することによって、進歩が行われてきた。低Ｅコーティングは、例えば、図１に示され、図１に関連して記載されているものなどのＩＧユニットと関連して使用され得る。しかしながら、更なる強化が可能である。
例えば、建物などへの改善された絶縁を提供するという要望を考慮に入れたより動的なＩＧユニットオプションを提供することが望ましいであろうことは、太陽が建物の内部に「エネルギーを供給」する能力を利用し、また、より「オンデマンド」方式でプライバシーを提供することが望ましいことが理解されるであろう。このような製品は、美的外観も満足することが望ましいことが理解されるであろう。
特定の例示的実施形態は、これら及び／又は他の懸念事項に対処する。例えば、本発明の特定の例示的実施形態は、ＩＧユニットと共に使用され得る電位駆動シェード、かかるシェードを含むＩＧユニット、及び／又はその製造方法に関する。
特定の例示的実施形態では、絶縁ガラス（ＩＧ）ユニットが提供される。第１の基材及び第２の基材は、それぞれが内部主表面及び外部主表面を有し、第１の基材の内部主表面は、第２の基材の内部主表面に面している。スペーサシステムは、第１の基材及び第２の基材を互いに対して実質的に平行に離隔した関係に維持し、それらの間に間隙を画定するのに役立つ。間隙は、ＳＦ6ガスのイオン化閾値以下のイオン化閾値を有する反応性ガスで少なくとも部分的に充填される。動的に制御可能なシェードは、第１の基材と第２の基材との間に挿入される。シェードは、第１の基材の内部主表面上に直接又は間接的に提供された第１の導電性層と、第１の誘電体層であって、第１の基材とは反対の、第１の誘電体層の側面で、第１の導電性層に直接又は間接的に提供されている、第１の誘電体層と、第２の導電性層を支持する可撓性基材を含むシャッタであって、シャッタが、シャッタ開位置からシャッタ閉位置に伸長可能であり、かつシャッタ閉位置からシャッタ開位置に後退可能である、シャッタと、を含む。制御回路は、可撓性基材をシャッタ閉位置に駆動する静電力を生成するための電圧を供給するように構成されている。乾燥剤材料は、モレキュラーシーブ置換材料を含み、モレキュラーシーブ置換材料は、塩を含み、乾燥剤材料は、乾燥剤材料が反応性ガスからかなりの数の分子を捕捉することができないように反応性ガスに相溶性である。
特定の例示的実施形態によれば、乾燥剤材料は、例えば、ポリマーベースであり得る乾燥剤マトリックスを含んでもよい。いくつかの例では、乾燥剤材料はモレキュラーシーブを含まなくてもよい。
特定の例示的実施形態によれば、塩は、ＭｇＣｌ2及び／又はＣａＣｌ2であってもよい。
特定の例示的実施形態によれば、反応性ガスは、ＣＯ2ガスであってもよい。
特定の例示的実施形態では、絶縁ガラス（ＩＧ）ユニットが提供される。第１の基材及び第２の基材は、それぞれが内部主表面及び外部主表面を有し、第１の基材の内部主表面は、第２の基材の内部主表面に面している。スペーサシステムは、第１の基材及び第２の基材を互いに対して実質的に平行に離隔した関係に維持し、それらの間に間隙を画定するのに役立つ。間隙は、ＣＯ2ガスのイオン化閾値以下のイオン化閾値を有する反応性ガスで少なくとも部分的に充填される。動的に制御可能なシェードは、第１の基材と第２の基材との間に挿入される。シェードは、第１の基材の内部主表面上に直接又は間接的に提供された第１の導電性層と、第１の誘電体層であって、第１の基材とは反対の、第１の誘電体層の側面で、第１の導電性層に直接又は間接的に提供されている、第１の誘電体層と、第２の導電性層を支持する可撓性基材を含むシャッタであって、シャッタが、シャッタ開位置からシャッタ閉位置に伸長可能であり、かつシャッタ閉位置からシャッタ開位置に後退可能である、シャッタと、を含む。制御回路は、可撓性基材をシャッタ閉位置に駆動する静電力を生成するための電圧を供給するように構成されている。乾燥剤材料は、塩を含み、乾燥剤材料はスペーサシステムの本体内に位置している。
特定の例示的実施形態では、絶縁ガラス（ＩＧ）ユニットを製造する方法が提供され、本方法は、第１の基材及び第２の基材であって、各々が内部主表面及び外部主表面を有し、第１の基材の内部主表面が、第２の基材の内部主表面に面している、第１の基材及び第２の基材を有することと、第１の基材及び／又は第２の基材上に動的に制御可能なシェードを提供することと、を含む。シェードは、第１の基材の内部主表面上に直接又は間接的に提供された第１の導電性層と、第１の誘電体層であって、第１の基材とは反対の、第１の誘電体層の側面で、第１の導電性層に直接又は間接的に提供されている、第１の誘電体層と、第２の導電性層を支持する可撓性基材を含むシャッタであって、シャッタが、シャッタ開位置からシャッタ閉位置に伸長可能であり、かつシャッタ閉位置からシャッタ開位置に後退可能である、シャッタと、を含む。第１の基材及び第２の基材は、それらの間に間隙が画定され、動的に制御可能なシェードが間隙に位置するように、スペーサシステムを使用して、実質的に平行に離隔した関係で互いに接続される。間隙は、ＳＦ6ガスのイオン化閾値以下のイオン化閾値を有する反応性ガスで少なくとも部分的に充填される。乾燥剤材料は、スペーサシステムの本体内に位置しており、乾燥剤材料は塩を含み、乾燥剤材料は、乾燥剤材料が反応性ガスからかなりの数の分子を捕捉することができないように、反応性ガスに相溶性である。
本明細書に記載の技術に従ってＩＧユニット及び／又はシェード（基材を伴う又は伴わない）を作製する方法、及び／又はそのようなシェードを操作する方法が、本明細書において企図される。
特定の例示的実施形態では、絶縁ガラス（ＩＧ）ユニット内で動的シェードを操作する方法が提供される。本方法は、本明細書に開示される技術に従って作製されたＩＧユニットを有することと、電源を選択的に作動させて、シャッタ開位置からシャッタ閉位置にポリマー基材を移動させることと、を含む。
本明細書に記載の特徴、態様、利点、及び例示的実施形態は、更なる実施形態を実現するために組み合わされてもよい。
これら及び他の特徴及び利点は、図面と併せて、例示的な実施形態の以下の詳細な説明を参照することによって、より良好かつより完全に理解され得る。
例示的な絶縁ガラスユニット（ＩＧユニット又はＩＧＵ）の断面概略図である。 特定の例示的実施形態に関連して使用され得る、電位駆動シェードを組み込んだ例示的なＩＧＵの断面概略図である。 特定の例示的実施形態による、シャッタ動作を可能にする、図２の実施例ＩＧＵの、例示的なガラス上の構成要素を示す断面図である。 特定の例示的実施形態による、図２の実施例ＩＧＵからの例示的なシャッタの断面図である。 特定の例示的実施形態による、図３の実施例からのガラス上の構成要素と図４の実施例からのシャッタ構成要素とを組み込んだ基材の平面図である。 特定の例示的実施形態による、図２の実施例のＩＧユニットの端部の拡大断面図である。 相対湿度７０％における材料の異なる組み合わせについての乾燥剤の重量増加を示すグラフである。
本発明の特定の例示的実施形態は、ＩＧユニットと共に使用され得る電位駆動シェード、かかるシェードを含むＩＧユニット、及び／又はその製造方法に関する。ここでより詳細に図面を参照すると、図２は、特定の例示的実施形態に関連して使用され得る電位駆動シェードを組み込んだ例示的な絶縁ガラスユニット（ＩＧユニット又はＩＧＵ）の断面概略図である。より具体的には、図２は、実質的に平行に離隔した第１のガラス基材１０２及び第２のガラス基材１０４が、スペーサシステム１０６を使用して互いに分離され、間隙１０８がそれらの間に画定される点で、図１と同様である。第１の電位駆動シェード２０２ａ及び第２の電位駆動シェード２０２ｂは、それぞれ、第１の基材１０２及び第２の基材１０４の内側主表面に近接する間隙１０８内に提供される。以下に提供される説明から明確になるように、シェード２０２ａ及び２０２ｂは、シェード２０２ａと２０２ｂと、基材１０２及び１０４の内面にそれぞれ形成された導電性コーティングとの間の電位差の生成によって制御される。また、以下に提供される説明から明確になるように、それぞれのシェード２０２ａ及び２０２ｂは、導電性コーティング（例えば、Ａｌ、Ｃｒ、ＩＴＯなどを含む層を含むコーティング）でコーティングされたポリマー膜を使用して作製され得る。アルミニウムコーティングされたシェードは、可視光の部分－完全反射、及び最大でかなりの量の総太陽エネルギーを提供し得る。
シェード２０２ａ及び２０２ｂは通常、（例えば、巻き上げられて）後退されるが、例えば、「従来の」ブラインドのように、基材１０２及び１０４の少なくとも一部を覆うために、適切な電圧が印加されたときに急速に伸長する（例えば、展開する）。巻き上げシェードは、非常に小さい直径を有してもよく、典型的には、第１の基材１０２と第２の基材１０４との間の間隙１０８の幅よりもはるかに小さくなり、これにより、それらの間で機能することができ、巻き上げられるときに本質的に視界から隠され得る。巻き取られたシェード２０２ａ、２０２ｂは、それぞれ隣接する基材１０２、１０４に静電的に強く吸着する。
シェード２０２ａ及び２０２ｂは、基材１０２及び１０４の可視又は「フレーム」領域の垂直長さの全て又は一部分に沿って、後退構成から伸長構成まで延びる。後退構成では、シェード２０２ａ及び２０２ｂは、フレーム領域を通る放射透過を実質的に可能にする第１の表面積を有する。伸長構成では、シェード２０２ａ及び２０２ｂは、フレーム領域を通る放射透過を実質的に制御する第２の表面積を有する。シェード２０２ａ及び２０２ｂは、それらが取り付けられる基材１０２及び１０４のフレーム領域の水平幅の全て又は一部にわたって延在する幅を有してもよい。
それぞれのシェード２０２ａ及び２０２ｂは、第１の基材１０２と第２の基材１０４との間に配設され、好ましくは、それぞれが、基材の頂部付近で、１つの端部で基材の内面（又は基材の上に配置された誘電体若しくは他の層）に取り付けられる。この点で、接着剤層を使用してもよい。図２では、シェード２０２ａ及び２０２ｂは、部分的に展開されて（部分的に伸長されて）示されている。シェード２０２ａ及び２０２ｂ、並びに任意の接着剤層又は他の取り付け構造は、好ましくは、シェード２０２ａ及び２０２ｂが少なくとも部分的に展開されたときにのみ見られるように、視界から隠される。
完全に巻き上げられたシェードの直径は、約１～１５ｍｍ（例えば、１～５ｍｍ又は６～１２ｍｍ）であってもよいが、異なる例示的実施形態ではより大きくても小さくてもよい。好ましくは、巻き上げられたシェードの直径は、間隙１０８の幅以下であり、それは、迅速かつ繰り返しの展開及び巻き上げ操作を容易にするために、典型的には約１０～２５ｍｍである（１２～１９ｍｍは一般的なＩＧユニットに典型的であり、１６～２５ｍｍはいくつかの動的シェード用途に典型的である）。図２の実施例では２つのシェード２０２ａ及び２０２ｂが示されているが、特定の例示的実施形態では１つのシェードのみが提供されてもよく、また、１つのシェードが内側又は外側基材１０２又は１０４のいずれかの内側表面上に提供されてもよいことも理解されよう。２つのシェードがある例示的な実施形態では、その組み合わせ直径は、例えば、両方のシェードの展開及び巻き上げ操作を容易にするために、好ましくは、間隙１０８の幅以下であることが好ましい。
シェード２０２ａ及び２０２ｂを駆動するのに役立つ電子コントローラが提供されてもよい。電子コントローラは、例えば、好適なリード線などを介して、シェード２０２ａ及び２０２ｂ並びに基材１０２及び１０４に電気的に接続されてもよい。リード線は、組み立てられたＩＧユニットを介して見えないようにすることができる。電子コントローラは、それぞれ、基材１０２及び１０４内の導電性層に対して、出力電圧をシェード２０２ａ及び２０２ｂに提供するように構成される。特定の例示的実施形態では、シェード２０２ａ及び２０２ｂを駆動するためにＤＣ約１００～６５０Ｖの範囲の出力電圧を使用することができる。この点に関して、外部ＡＣ又はＤＣ電源、ＤＣ電池、及び／又は同様のものが使用されてもよい。例えば、シェード２０２ａ及び２０２ｂ、基材１０２及び１０４上の層などを含む製造パラメータ及び材料に応じて、より高い又はより低い出力電圧が提供され得ることが理解されるであろう。
コントローラは、例えば、シェード２０２ａ及び２０２ｂが後退又は延長されるべきかどうかを示すために、手動スイッチ、遠隔（例えば、無線）制御、又は他の入力装置に連結されてもよい。特定の例示的実施形態では、電子コントローラは、制御信号を受信して復号するための命令を記憶するメモリに動作可能に結合されたプロセッサを含んでもよく、制御信号は、電圧を選択的に印加して、シェード２０２ａ及び２０２ｂの伸長及び／又は後退を制御する。他の機能が実現され得る更なる命令が提供されてもよい。例えば、ユーザ指定の又は他の時間にシェード２０２ａ及び２０２ｂが、伸長かつ後退するようにプログラムされ得るように、タイマーが提供されてもよく、ユーザ指定の屋内温度及び／又は屋外温度に達した場合に、シェード２０２ａ及び２０２ｂが伸長かつ後退するようにプログラムされ得るように、温度センサが提供されてもよく、構造体の外側の光の量に基づいて、シェード２０２ａ及び２０２ｂが伸長し、後退するようにプログラムされ得るように、光センサが提供されてもよい、などである。
上述したように、２つのシェード２０２ａ及び２０２ｂが図２に示されているが、特定の例示的な実施形態は、単一のシェードのみを組み込んでもよい。更に、上述のように、かかるシェードは、ＩＧユニット全体に沿って、かつ実質的に全体にわたって垂直方向及び水平方向に延在するように設計されてもよく、異なる例示的実施形態は、それらが配置されるＩＧユニットの部分のみを被覆するシェードを含んでもよい。このような場合、より選択可能な範囲を提供するため、マンティンバーなどの内部又は外部構造を考慮するため、プランテーションシャッタなどを模擬するためなど、複数のシェードが提供されてもよい。別の例として、第１のシェードは、窓の第１の部分（例えば、上部又は左／右部分）を覆うことができ、第２のシェードは、その窓の第２の部分（例えば、底部又は右／左）を覆うことができる。別の例として、所与の窓の異なる約３分の１の部分を覆うために、第１、第２、及び第３のシェードが提供されてもよい。
特定の例示的実施形態では、シェードがその全長を展開することを防ぐのを助けるために、ロック抑制部がＩＧＵの底部に、例えば、その幅の一部又は全部に沿って配設されてもよい。ロック抑制部は、金属などの導電性材料から作製されてもよい。ロック抑制部はまた、例えば、ポリプロピレン、フッ素化エチレンプロピレン（fluorinated ethylene propylene、ＦＥＰ）、ポリテトラフルオロエチレン（polytetrafluoroethylene、ＰＴＦＥ）などの低消散率ポリマーでコーティングされてもよい。
シェード２０２ａ及び２０２ｂの動作の例示的な詳細が、図３～図４に関連して提供される。より詳細には、図３は、特定の例示的実施形態による、シャッタ動作を可能にする、図２の実施例ＩＧＵの、例示的な「ガラス上の」構成要素を示す断面図である。図４は、特定の例示的実施形態による、図２の実施例ＩＧＵからの例示的なシャッタの断面図である。図３は、図２の基材１０２及び１０４のいずれか又は両方に使用され得るガラス基材３０２を示す。ガラス基材３０２は、ガラス上の構成要素３０４及びシャッタ３１２を支持する。特定の例示的実施形態では、巻かれていない場合、導体４０４は、インク層４０６よりも基材３０２に近くてもよい。他の例示的実施形態では、この構成は、例えば、巻かれていないときに、導体４０４がインク層４０６よりも基材３０２から遠くになり得るように、反転されてもよい。
ガラス上の構成要素３０４は、透明な低ヘイズ接着剤３１０などを介して基材３０２に接着され得る誘電材料３０８と共に透明導体３０６を含む。これらの材料は、好ましくは実質的に透明である。特定の例示的実施形態では、透明導体３０６は、端子を介してコントローラへのリード線に電気的に接続される。特定の例示的実施形態では、透明導体３０６は、コンデンサの固定電極として機能し、誘電材料３０８は、このコンデンサの誘電体として機能する。そのような場合、誘電体又は絶縁体膜が、第１の導電性層上に直接的又は間接的に提供され、誘電体又は絶縁体膜がシャッタとは別個である。
特定の例示的な実施形態では、シェード上に誘電体層の全てを置き、それによって、裸の導電性（平坦な）基材、例えば、導電性コーティングを支持するガラス基材を露出させることが可能であることが理解されるであろう。例えば、特定の例示的な実施形態では、ポリマー膜絶縁体３０８は、基材３０２の一部として提供され／統合されるのではなく、シャッタ３１２の一部として提供され／統合され得る。すなわち、シャッタ３１２は、誘電体又は絶縁体膜３０８をその上に更に支持し、その結果、少なくとも１つのポリマー基材がシャッタ閉位置にあり、シャッタが伸長されたときに、誘電体又は絶縁膜が、第１の導電性層に、それらの間に他の層がないように直接物理的に接触する。
透明導体３０６は、例えば、ＩＴＯ、酸化スズ（例えば、ＳｎＯ2又は他の好適な化学量論）などの任意の好適な材料から形成されてもよい。透明導体３０６は、特定の例示的実施形態において、厚さ１０～５００ｎｍであってもよい。誘電材料３０８は、特定の例示的実施形態では、低消散率ポリマーであってもよい。好適な材料としては、例えば、ポリプロピレン、ＦＥＰ、ＰＴＦＥ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（polyimide、ＰＩ）、及びポリエチレンナフタレート（polyethylene napthalate、ＰＥＮ）などが挙げられる。誘電材料３０８は、特定の例示的実施形態では、１～３０マイクロメートル（４～２５マイクロメートル）の厚さを有してもよい。誘電材料３０８の厚さは、（例えば、より薄い誘電体層が典型的に信頼性を低下させるのに対して、より厚い誘電体層は、典型的には、動作目的のためにより高い印加電圧を必要とするため）、シェードの信頼性を、バランスをとるように選択することができる。
既知のように、多くの低放射率（低Ｅ）コーティングは、導電性である。したがって、特定の例示的実施形態では、透明導体３０６の代わりに低Ｅコーティングが使用されてもよい。低Ｅコーティングは、銀ベースの低Ｅコーティングであってもよく、例えば、Ａｇを含む１つ、２つ、３つ、又はそれ以上の層が誘電体層の間に挟まれてもよい。このような場合、接着剤３１０の必要性は、低減されるか、又は完全に除去されてもよい。
シャッタ３１２は、弾性層４０２を含んでもよい。特定の例示的実施形態では、弾性層４０２の一方の面に導電体４０４が使用されてもよく、任意選択的に、他方の面に装飾インク４０６が適用されてもよい。特定の例示的実施形態では、導体４０４は、透明であってもよく、示されるように、装飾インク４０６は、任意選択である。特定の例示的実施形態では、導体４０４及び／若しくは装飾インク４０６は、半透明であってもよく、又は別の方法で、シャッタ３１２に着色若しくは審美的特徴を付与することができる。特定の例示的実施形態では、弾性層４０２は、例えば、ＰＥＮ、ＰＥＴ、ポリフェニレンスルフィド（polyphenylene sulfide、ＰＰＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（polyether ether ketone、ＰＥＥＫ）などの収縮性ポリマーから形成されてもよい。弾性層４０２は、特定の例示的実施形態では、１～２５マイクロメートル厚であってもよい。導体４０４は、異なる例示的実施形態において導体３０６に使用されるものと同じ又は異なる材料から形成されてもよい。例えば、金属又は金属酸化物材料が使用されてもよい。特定の例示的実施形態では、例えば、ＩＴＯ、Ａｌ、Ｎｉ、ＮｉＣｒ、酸化スズなどを含む層を含む厚さ１０～５０ｎｍの材料を使用することができる。特定の例示的実施形態では、導体４０４のシート抵抗は、４０～２００オーム／平方の範囲であってもよい。異なる伝導率値及び／又は厚さ（例えば、以下の表に記載される例示的な厚さなど）が、異なる例示的実施形態において使用され得ることが理解されるであろう。
装飾インク４０６は、所望の可視色及び／又は赤外線を選択的に反射する、かつ／又は吸収する顔料、粒子、及び／又は他の材料を含んでもよい。特定の例示的実施形態では、追加の装飾インクが、弾性層４０２の反対側の導体４０４の側面上のシャッタ３１２に適用されてもよい。
図２に示すように、シェード２０２ａ及び２０２ｂは、通常、らせん状ロールとして巻かれ、らせんの外側端部は、接着剤によって基材１０２及び１０４（例えば、基材の上の誘電体）に固着されている。導体４０４は、端子を介してリード線などに電気的に接続されてもよく、導体３０６をコンデンサの固定電極として、かつ誘電体３０８をコンデンサの誘電体として有する、コンデンサの可変電極として機能してもよい。
電気駆動部が可変電極と固定電極との間に提供されるとき、例えば、電圧又は電荷又は電流の電気駆動が、シャッタ３１２の導体４０４と基材３０２上の導体３０６との間に印加されるとき、シャッタ３１２は、２つの電極間の電位差によって生成される静電力によって基材３０２に向かって引かれる。可変電極を引っ張ると、コイル状のシェードが展開する。可変電極上の静電力により、シャッタ３１２は、基材３０２の固定電極に対して確実に保持される。その結果、シェードのインクコーティング層４０６は、ＩＧユニットを通る光路に挿入されることによって、特定の可視色及び／又は赤外線を選択的に反射又は吸収することを助ける。このようにして、展開したシェードは、特定の光又は他の放射を選択的に遮断する、かつ／又は反射することによって放射透過を制御し、それによって、ＩＧユニットの全体的な機能を透過して、部分的若しくは選択的に透過性であるか、又は更には不透明であるように、ＩＧユニットの全体的な機能を変化させる。
可変電極と固定電極との間の電気駆動が除去されると、可変電極上の静電力も同様に除去される。弾性層４０２及び導体４０４内に存在するばね定数により、シェードがその元の緊密な巻き位置に戻るようになる。シェードの動きは主に容量性回路によって制御されるため、電流は本質的に、シェードが展開中又は巻き上げ中のいずれかである間にのみ流れる。その結果、シェードの平均電力消費量は、非常に低い。このようにして、少なくともいくつかの例では、数年のシェードを操作するために、いくつかの標準的な単３電池を使用することができる。
一実施例では、基材３０２は、譲受人から市販されている厚さ３ｍｍの透明ガラスであってもよい。接着剤層３１０には、低ヘイズを有するアクリル系接着剤が使用されてもよい。導体３０６には、１００～３００Ω／平方の抵抗を有するスパッタＩＴＯが使用されてもよい。ポリマーｆｄｍは、１２マイクロメートル厚の低ヘイズ（例えば、＜１％ヘイズ）ＰＥＴ材料であってもよい。装飾インク４０６として、Ｓｕｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｃ．から入手可能なＰＶＣ系インクを、３～８マイクロメートルの厚さで適用してもよい。当然ながら、異なる例示的実施形態において他のインクが使用されてもよい。弾性層４０２として、厚さ６、１２、又は２５マイクロメートルであるＤｕＰｏｎｔから市販されているＰＥＮ材料を使用することができる。当然ながら、他の材料が、異なる例示的実施形態において使用されてもよい。３７５ｎｍの公称厚さを有する、Ａｌを蒸着させた不透明導体が使用されてもよい。透明なオプションのために、スパッタリングされたＩＴＯが使用されてもよい。両方の場合において、シート抵抗は、１００～４００オーム／平方であってもよい。（アルミニウムが使用される場合、シート抵抗は１００オーム／平方未満であってもよい。特定の例示的実施形態では、シート抵抗は、更に１オーム／平方未満であってもよい。特定の例示的実施形態では、ＩＴＯ又は他の導電性材料は、それらのそれぞれのポリマーキャリア層上にスパッタリングされるか、又は他の方法で形成されてもよい。当然ながら、これらの例示的な材料、厚さ、電気特性、並びにそれらの様々な組み合わせ及び部分的組み合わせなどは、特に特許請求されない限り限定するものと見なされるべきではない。
上述の説明から理解されるように、動的シェード機構は、導電層を有するコイル状ポリマーを使用する。特定の例示的実施形態では、導体は、ポリマー４０２と一体であるように形成されてもよく、又はポリマー４０２上に適用、堆積、又は他の方法で形成される外的コーティングであってもよい。同様に上述したように、装飾インク４０６は、透明な導体材料（例えば、ＩＴＯに基づく）及び／又は部分的に透明若しくは不透明な導電層と共に使用されてもよい。不透明又は部分的に透明な導電層は、特定の例示的実施形態におけるインクの必要性をなくすことができる。この点に関して、特定の例示的実施形態では、金属又は実質的に金属材料が使用されてもよい。アルミニウムは、装飾インクと共に、又は装飾インクなしで使用され得る材料の一例である。
１つ以上のオーバーコート層は、導体上に提供されて、可視光反射を低減し、かつ／若しくはシェードの色を変化させて、より審美的に満足のいく製品を提供することに役立ってもよく、並びに／又は、位相シフタ層がそれらの間に出現するように、導体を「分割」することによって役立ち得る。したがって、オーバーコートは、全体的なシェードの美的外観を改善するために含まれ得る。したがって、シャッタ３１２は、反射低減オーバーコート、誘電体鏡面オーバーコートなどを含み得る。そのような反射低減オーバーコート及び誘電体ミ鏡面オーバーコートは、導体４０４の上に、かつ、装飾インク４０６の反対側に（例えば）ＰＥＮを含むシェードポリマー４０２の主表面上に提供され得る。しかしながら、例えば、導体４０４が透明でない場合、インク４０６は、提供される必要はないことが理解されるであろう。例えば、Ａｌなどの鏡面コーティングは、装飾インク４０６の必要性をなくすことができる。また、反射低減オーバーコート及び誘電体鏡面オーバーコートは、特定の例示的実施形態では、導電体４０４の反対側に（例えば）ＰＥＮを含むシェードポリマー４０２の主表面上に提供されてもよいことも理解されよう。
光学干渉技術を使用して反射を低減することに加えて、又はその代わりに、テクスチャ加工された表面をベースポリマーに追加すること、導電層を化学的若しくは物理的に改質し、かつ／又はインク層を追加して、例えば、同じ又は類似の端部を達成するために、望ましくない反射の更なる低減などを達成することも可能である。
薄膜及び／又はシャッタを含む他の材料は、全体的なシェードの機能に従って多数の巻き上げ及び展開動作に耐えなければならないことを考慮すると、材料は選択されてもよく、形成された全体層積層体は、それを容易にする機械的及び／又は他の特性を有することが理解されるであろう。例えば、薄膜層積層体における過剰な応力は、典型的には不利であると見られる。しかしながら、いくつかの場合では、過剰な応力は、ひび割れ、「層間剥離」／除去、並びに／又は導体４０４及び／若しくは導体４０４の上に形成された１つのオーバーコート層若しくは複数のオーバーコート層への他の損傷につながり得る。したがって、特定の実施形態例では、シャッタのポリマー基材上に形成された層と関連して、低応力（特に低引張応力）が特に望ましい場合がある。
この点に関して、スパッタリングされた薄膜の接着は、とりわけ、堆積膜中の応力に依存する。応力を調整する１つの方法は、堆積圧力を使用することである。応力対スパッタ圧力は、単調曲線には追従せず、代わりに、本質的に各材料に固有であり、材料の蒸発温度（又は溶融温度）と基材温度との比の関数である遷移圧力で注入される。応力工学は、これらのガイドポストを念頭に置いて、ガス圧最適化によって達成することができる。
考慮に入れることができるシェードの他の物理的及び機械的特性としては、ポリマーの弾性率及びポリマーの上に形成された層、層の密度比（応力／ひずみに影響を及ぼし得る）などが挙げられる。これらの特性は、内部反射、導電性などに対するそれらの効果とバランスをとることができる。
既知のように、ＩＧユニットの内部の温度は、非常に高くなり得る。例えば、図２の実施例による、黒色顔料を含むＩＧユニットは、例えば、シェードの黒色部分が高温の高日射気候（例えば、アリゾナ州などの米国南西の領域など）で太陽に面している場合には、８７℃の温度に達し得ることが観察されている。ＰＥＮは、ＰＥＴ（Ｔｇ＝６７～８１℃）、ポリプロピレン又はＰＰ（Ｔｇ＝約３２℃）などの他の一般的なポリマーと比較して、ＰＥＮがより高いガラス転移温度（～１２０℃）を有するので、巻き取り可能／展開不可能なポリマーにＰＥＮ材料を使用すると有利であり得る。更に、ＰＥＮがガラス転移温度に近づく温度に曝露される場合、そうではない場合には有利な材料の機械的特性（材料の弾性率、降伏強度、引張強度、応力緩和弾性率などを含む）の性能は、特に高温曝露では経時的に劣化する場合がある。これらの機械的特性が著しく劣化すると、シェードはもはや機能しなくなる（例えば、シェードは後退しない）。
シェードが高温環境によりよく耐えることを助けるために、ＰＥＮからより高い温度耐性を有するポリマーへの置換が有利であり得る。２つの潜在的ポリマーとしては、ＰＥＥＫ及びポリイミド（ＰＩ又はカプトン）が挙げられる。ＰＥＥＫは、約１４２℃のＴｇを有し、カプトンＨＮは、約３８０℃のＴｇを有する。これらの材料の両方は、ＰＥＮと比較して、高温環境においてより良好な機械的特性を有する。これは、１００℃を超える温度で特に当てはまる。以下のチャートは、ＰＥＮ（Ｔｅｏｎｅｘ）、ＰＥＥＫ、及びＰＩ（カプトンＨＮ）の機械的特性を参照する。ＵＴＳは、チャートにおける最終的な引張強度を表す。
Figure 2023533733000002
シェード基材をその現在の材料（ＰＥＮ）から、高温の機械的特性が増加した代替のポリマー（例えば、ＰＥＥＫ又はＰＩ／カプトン）に変更することは、以下の意味で有利であり得ることが理解される。特にシェードが高温の気候に設置されている場合は、シェードが内部ＩＧ温度により良好に耐えられるようになる可能性がある。特定の実施形態例では、代替ポリマーの使用は、シャッタ及び／又はガラス上の層と関連して使用され得ることが理解されるであろう。
加えて、又は代替として、特定の例示的実施形態は、染色されたポリマー材料を使用してもよい。例えば、染色ＰＥＮ、ＰＥＥＫ、ＰＩ／カプトン、又は他のポリマーを使用して、各種の色及び／又は審美性を有するシェードを作り出すことができる。例えば、染色されたポリマーは、例えば、透明導電層が透明導電性コーティングなどである場合、透明／半透明の用途の実施形態に有利であり得る。
代替のコイル状シェードのばね力を有益に修正して、様々な長さのために使用できるようにするために使用し得る。この点に関し、コイルの強度を増大させる導電層の特性には、弾性率の増加、ポリマー基材と導電層との間の熱膨張係数（coefficient of thermal expansion、ＣＴＥ）の差の増加、及び弾性率対密度比の増加を含む。Ａｌ又はＣｒと比較してコイル強度を高めるために使用することができる純金属の一部としては、Ｎｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉ、及びＴａが挙げられる。研究された金属層の弾性率は、Ａｌについての７０ＧＰａからＭｏについての３３０ＧＰａの範囲であった。研究された金属層のＣＴＥは、Ａｌについての２３．５×１０-6／ｋからＭｏについての４．８×１０-6／ｋまでの範囲であった。一般に、弾性率が高いほど、ＰＥＮ又は他のポリマーと金属との間のＣＴＥミスマッチがより大きいほど、密度がより低いほどなどで、コイル形成に関して材料選択がより良好になる。Ｍｏ及びＴｉ系導電層をシェードに組み込むことは、Ａｌで達成可能なものよりも著しく高いコイルのばね力をもたらしたことが見出されている。例えば、有利には、ＰＥＮ、ＰＥＥＫ、ＰＩ、又は同様のものなどに基づくポリマー基材を含み、（基材から離れる順番で）Ａｌを含む層、続いてＭｏを含む層を支持し得る。Ａｌよりも大きい弾性率及び低いＣＴＥを有する、導電性コーティング内の薄膜層及び／又は導電性コーティング自体が提供されてもよい。
シャッタとして使用されるＰＥＮ、ＰＩ、又は他のポリマー基材は、応力工学目的のＡｌを含む薄層を支持してもよく、導電性層は、薄層の上にＭｏ、Ｔｉなどを直接的又は間接的に含む。導電層は、Ａｌ、Ｔｉ、ステンレス鋼などを含む耐食層を支持してもよい。これらの層の反対側の基材の側面は、任意選択的に、装飾インクなどを支持することができる。
図５は、特定の例示的実施形態による、図３の実施例からのガラス上の構成要素３０４と図４の実施例からのシャッタ構成要素３１２とを組み込んだ基材１０２の平面図である。シャッタ３１２は、シャッタ閉位置に移動するとき、アンカーバー５０２から停止部５０４に向かって伸長する。シャッタは、シャッタ開位置に移動するとき、停止部５０４からアンカーバー５０２に向かって後退する。
特定の例示的実施形態は、光がシェードを通過することを可能にし、太陽の角度に基づいて漸進的な量の太陽透過率を提供する微小穿穴又は貫通穴を含んでもよい。
更なる製造、動作、及び／又は他の詳細及び代替が実施されてもよい。例えば、米国特許第１０，８７６，３４９号、同第８，９８２，４４１号、同第８，７３６，９３８号、同第８，１３４，１１２号、同第８，０３５，０７５号、同第７，７０５，８２６号、及び同第７，６４５，９７７号、並びに２０２１年４月１６日に出願された米国特許出願第１７／２３２，４０６号を参照されたい。上記の文献のそれぞれの内容全体は、参照により本明細書に組み込まれる。とりわけ、穿孔構成、ポリマー材料、導電性コーティング設計、応力工学概念、建材一体型太陽光発電設備（building-integrated photovoltaic、ＢＩＰＶ）、及び他の詳細が、その中に開示され、少なくともそれらの教示は、特定の例示的な実施形態に組み込まれ得る。
上述したように、ＩＧユニットは、内側シール又は一次シールの少なくとも一部としてスペーサシステムを使用することがあるが、外側シールは二次シールを形成するのに役立つ。これに関して、図６を参照されたい。図６は、特定の例示的実施形態による、図２の例示的なＩＧユニットの端部の拡大断面図である。スペーサシステム１０６は、ＩＧユニットの周りに略矩形のフレームを形成する。図６の断面図は、スペーサシステムが接合又は他の方法で接着されている様子を示している。第１の基材及び第２の基材１０２及び１０４の内面は、材料６０２ａ及び６０２ｂを使用する。外側シール６０４は、間隙１０８から離れてスペーサシステム１０６の外部に提供される。スペーサシステム１０６及び外側シール６０４は一緒に機能し、間隙１０８から湿気を遠ざけ、空洞１０８内に充填ガスを維持するのに役立つシーラントシステムを形成する。このシールは、ＩＧユニットの寿命を延ばし、湿気の侵入（これがあると、ＩＧユニットが曇り、曇って見えるなどの可能性がある）を低減することによって、ＩＧユニットを審美的に心地よい状態に保つことに役立つ。
異なる例示的実施形態において使用され得るいくつかの異なる可能なスペーサシステムが存在する。一例では、ナイロン脚によって分離された２枚の金属シートを使用して、空洞を有する略矩形のフレームを形成する。この一般的な構成は、例えば、Ｇｕａｒｄｉａｎ ＩＧスペーサにおいて使用される。例えば、米国特許第８，７９５，５６８号、同第８，９６７，２１９号、同第９，１８７，９４９号、同第９，３０９，７１４号、同第９，６１７，７８１号、同第９，６５６，３５６号、同第９，６８９，１９６号、及び同第１０，２３３，６９０号を参照されたい。これらは、スペーサの形成及び適用技術の例を示したものである。これらの各特許の内容全体は、参照により本明細書に組み込まれる。
図６の例に示すように、スペーサシステム１０６は、乾燥剤６０６で少なくとも部分的に充填される。一例では、乾燥剤６０６は、限られた空間（例えば、一般的な構成では約４．５ｍｍ×２．５ｍｍ）を有するスペーサシステム１０６内に提供される。乾燥剤６０６は、典型的には、この空間に押し出される。しかしながら、乾燥剤材料を提供する異なるアプローチが、異なる例において使用されてもよい。典型的には、ルースフィル粉末及び／又はビーズ乾燥剤材料、並びにそのような材料に凝集する材料は使用されない。これは、典型的な下流処理が、乾燥剤材料がスペーサシステム１０６から漏れて、ＩＧユニットのエア空洞内に視覚的障害を与える可能性を高くするからである。
乾燥剤６０６は、典型的には２０年又は２５年以上であるＩＧユニットの寿命にわたって水分を吸着する。乾燥剤６０６が完全に飽和すると、内部空洞の水蒸気圧力が上昇し、水が内面上に凝縮し、ガラスを汚し、ＩＧを欠陥のあるものにする（又は少なくとも審美的に不快なものにする）可能性がある。ある意味では、ＩＧユニットの主な機能の１つ、すなわち、それを通してはっきりと見ることができるということが損なわれる。
したがって、ＩＧユニットに関連して乾燥剤材料を提供することが望ましいことが理解されるであろう。設計によって、乾燥剤は、全てのシール材料が一般に実世界の透過率を有するので、良好に設計され組み立てられたＩＧユニット内のシールを直接通る小さな蒸気透過に対処するのに役立つ。そのようにすることは、例えば、ソーラー性能及び美観を維持することにも役立ち、また潜在的に異なるガスがＩＧユニットの内部で使用されることを可能にするなどしながら、不十分な又は故障した（及び場合によって時には故障した）シールを補償することに役立つことによって、ＩＧユニットの有効寿命を延ばすのに役立つことができる。特定の例示的実施形態の一態様は、高速ドローダウン能力を有する非剛性高水分吸着容量乾燥剤材料に関する。
ＨＬ－５１５７は、Ｈ．Ｂ．Ｆｕｌｌｅｒから商業的に入手可能であり、モレキュラーシーブがブレンドされたブチルマトリックス乾燥剤である。この製品は、重量で約１２．５％の水分吸収を可能にする。ブチル成分は、乾燥剤（モレキュラーシーブ）の内部粒子への水分拡散を制限する。他の市販の乾燥剤マトリックス処方物は、約１４．５重量％の水分容量を提供し得る。ＨＬ－５１５７製品に関しては、モレキュラーシーブを増加させて乾燥剤容量を改善しようとすると、材料特性が変化し、押出が困難になる一方で、一旦冷却するとマトリックスの特性も変化することが見出された。
従来の考え方は、はるかに高い能力の乾燥剤材料（例えば、１５重量％超、より好ましくは５０重量％超、及び１００重量％に近いか又はそれを超える）が、より低い材料コスト、低減された乾燥剤材料容積、２０～２５年（又は場合によってはより長い）の寿命の間の十分な能力、及びＩＧユニットにおける向上した製造後の露点低減につながり得るという点で望ましいであろうというものである。したがって、従来の知識によれば、例えば、現在使用されているものよりも約２～５倍高い最大容量を有する新しい材料が提供されるように、現在の乾燥剤材料を改善することが望ましいであろう。更に、本発明者らが認識しているように、例えば、上述したものなどのボックス型スペーサシステムの本体に含む様々な異なるスペーサシステム及び／又は構成に関連して使用することができるように、押出成形することができるか、又は何らかの方法で一緒に保持することができる高効率乾燥剤材料を有することが望ましいであろう。乾燥剤ビーズ及びモレキュラーシーブ単独であることは、理想的であり、最小限の拡散問題を有すると考えられるが（少なくともこの従来の知識が適用される場合）、追加の修復技術を使用しなければ（例えば、乾燥剤材料を一緒に保つコーティングを使用し、拡散効果に悪影響を与えない）、製造中（例えば、スペーサシステムのフレームを切断するとき）に材料が緩むか又は外れることがあるので不利な場合がある。
一般に、水分子を捕捉し、より大きな原子及び分子の捕捉を回避する乾燥剤材料を有することが望ましいであろう。例えば、酸素、アルゴン、及び窒素の捕捉は、例えば、ＩＧユニットの空洞内の所望の環境の捕捉（例えば、ＩＧユニットに典型的な８０％Ａｒ－２０％空気又は９０％Ａｒ－１０％空気環境に寄与する原子の捕捉、又はＩＧユニットの空洞を部分的又は完全に塞ぐ不活性ガスの原子の捕捉）を伴い得るため、問題となり得る。これらの物質が捕捉されると、乾燥剤は本質的に液化し、ＩＧユニットの審美的及び機能的な問題を引き起こす可能性がある。
しかしながら、これらの問題は、ＳＦ6、ＣＯ2、及び／又は同様のものなどの反応性ガスが反応性ガス環境の代わりに（又はそれに加えて）使用されるので、動的シェード用途の状況では更に深刻になり得る。ＣＯ2及び他の反応性ガスは、電気アークに対して本質的に絶縁するので、動的シェード用途を含むいくつかの電気用途において有用である。ＳＦ6ガスは、イオン化閾値未満に留まることに役立ち、動的シェード用途で使用されてきた。ＣＯ2は、場合によってはＳＦ6と比較して有利であり得る。なぜなら、ＣＯ2は、依然としてかなり高いイオン化閾値を有し、容易に入手可能であり、低コストであり、外部窓用途を含む様々な異なる用途にＩＧユニットを使用することを潜在的に可能にする良好な絶縁／良好なＵ値を提供するからである。しかし、動的シェードが配置されるＩＧユニット空洞内の反応性ガスからの分子の過剰な吸収は、液体の生成、及び場合によってはアーク放電の可能性の増加のために、特に問題となり得る。いずれにしても、ＩＧユニット雰囲気の乾燥剤への取り込みは、ＩＧユニット圧力空洞内の圧力を低下させ、ＩＧユニットは目に見えて崩壊する可能性がある。また、崩壊しない場合であっても、より低い圧力は、シール拡散のためのより高い駆動力を生成することができる。例えばＣＯ2では、崩壊が非常に迅速に起こり得る。更に、以下でより詳細に論じられるように、特にモレキュラーシーブは、反応性ガスが使用されるときに問題があることが知られている（例えば、ＣＯ2捕捉は、モレキュラーシーブについて知られている問題である）。したがって、特定の例示的実施形態は、例えば、ＳＦ6、ＣＯ2、及び／又は同様のものなどの反応性ガスと適合する乾燥剤材料に関する。
３Ａモレキュラーシーブ材料は、３オングストロームの細孔径及びかさ密度を有し、１３Ｘモレキュラーシーブ材料は、１０オングストロームの細孔径を有する。３オングストロームの公称細孔開口を有する材料、又は高い割合の３Ａ材料と低い割合の１３Ｘ材料とのブレンドは、従来の知識が適用されている場合に望ましい場合がある。少なくとも２０重量％、より好ましくは少なくとも５０重量％、更により好ましくは少なくとも７５重量％の水分吸着は、従来の知識が適用される場合、同様に望ましい場合がある。好ましくは、７０℃揮発性化合物（例えば、揮発性有機化合物）のガス放出がないことが好ましい。他の望ましい特性としては、例えば以下のものが挙げられる。
・わずかな力で外形を直径１２インチに曲げることができる非剛性外径。
・ボックススペーサシステムが製造される際に、連続的な線形ボックススペーサシステムアセンブリの空洞内に押出可能、注入可能、又は他の方法で配置可能であること（例えば、ボックススペーサシステムが、押出温度でスランプがほとんど又は全くないその形状を維持し、小さなプロファイルを有し、上述のサイズの空洞内に配置することができるように）。
・粉塵、粒子、ビーズ、及び／又は小片がバルク押出から容易に剥離又は破損しないように、少なくとも１年間砕けやすくないこと。
・工具鋼ハードウェア又は同様のものを使用して室温で切断可能であるか、スライス可能であるか、又は打ち抜くことが可能であること。
・顕著な水分拡散制限がないこと。
・２０～２５年以上活性であること。
・劣化又は任意の他の副作用を伴わずに、長期間の－５０℃～＋７０℃の温度サイクルに耐えることができること。
・低コスト、並びに／又は
・例えば、材料が、特別な個人用保護具、空気処理要件、及び／若しくは同様のものを伴わずに、生産施設の一般的な製造領域において使用可能であるように、有害な及び／若しくは規制された構成要素がないこと。
異なるカテゴリの材料を使用して、所望のように挙動する乾燥剤が提供されてもよい。これらのカテゴリは、例えば、代替乾燥剤材料、ハイブリッド乾燥剤材料、及びポリマーベースの乾燥剤／結合剤を含む。次に、それぞれについて以下に説明する。
第一に、代替乾燥剤材料は、基本的に、改善された水分吸着特性を有するように物理的及び／又は化学的に改質された一次乾燥剤材料を含む。典型的には、これらの材料は均質な粉末又は粒子である。例えば、改質されたＭｇＳＯ4が、これに関して使用され得る。例えば、改質されたＭｇＳＯ4が、これに関して使用され得る。改質は、例えば、粒径の改質（例えば、ＭｇＣｌ2の場合）、使用及び／又は同様のもののための材料の脱水などを含み得る。
第二に、ハイブリッド乾燥剤材料は、基本的に、特定の目的のために複合材料の全体的な特性を改善するために、結合剤又は粘土などの他の材料と共に一次乾燥剤材料を含む複合材料である。好適なハイブリッド材料は、大量の水分を吸収することができる塩化カルシウム又は金属酸化物化合物を結合剤又は粘土と組み合わせて、乾燥剤材料が水分吸着後に液体に変わるときに乾燥剤材料を支持及び保持することによって達成され得る。
第三に、ポリマーベースの乾燥剤／結合剤カテゴリは、それ自体が乾燥剤として使用され得るか、又は任意の他の乾燥剤材料のための結合剤として作用し得る、任意のポリマーベースの材料をいう。これに関して、成形可能なポリマーベースの乾燥剤又は少なくとも乾燥剤特性を改善する結合剤を使用することができる。
標準的な乾燥剤マトリックス材料への塩又は他の一般的な材料の添加は、改善された（より高い）水分容量をもたらすことが見出されており、これは、ＩＧユニット、特に、本明細書に記載されるものなどの動的シェードを含むＩＧユニットにとって有益であり得る。これらの材料は、特定の例示的実施形態では、標準モレキュラーシーブに加えて添加されてもよく、又は標準モレキュラーシーブの代わりに添加されてもよい。この点に関して使用され得る材料としては、塩及び他の材料、例えば、ＭｇＣｌ2、ＣａＣｌ2、ＣａＯ、ＭｇＳＯ4、及び／又は同様のものが挙げられる。ＣＯ2及びいくつかの他の反応性ガスは、モレキュラーシーブと適合しないので、そのような場合、乾燥剤材料は、モレキュラーシーブ材料を完全に含まなくてもよい。
図７は、相対湿度７０％における材料の異なる組み合わせについての乾燥剤の重量増加を示すグラフである。図７の「＋１０％」ラベルは、ｘグラムのＨＬ－５１５７材料に、０．１ｘグラムの他の列挙された材料が添加されたことを示す。図７から分かるように、７０％の相対湿度で、Ｈ．Ｂ．ＦｕｌｌｅｒのＨＬ－５１５７は４．８％の「ベースライン」重量増加を有した。添加された１０％ＭｇＳＯ4の導入は、５．１重量％へのわずかな増加を提供し、同様に、添加された１０％ＣａＣｌ2の導入は、６．５重量％への増加を提供した。対照的に、添加された１０％のＭｇＣｌ2の導入は、優れた結果、すなわち１８．２重量％への増加を提供した。
ＩＧユニット空間では、従来の考え方は、乾燥剤の飽和に達すると、乾燥剤の周りの空気も飽和し（又は少なくとも特定の材料の飽和と平衡状態になり）、飽和空気は、所与の温度での凝縮又は凝縮の終わりを意味するというものである。したがって、高湿度値での性能を重視する場合、塩又は上述したものなどの他の材料が添加された従来の乾燥剤マトリックス材料を利用する解決策は除外又は割愛される。更に、標準的なＩＧユニット乾燥剤は、ＩＧユニット内で典型的に見られる条件よりも実質的に大きい相対湿度値での水分容量を要求する。これは、知覚される水分容量を人工的に上昇させ、例えば、乾燥剤マトリックスを補完するために、及び／又は既存のモレキュラーシーブを少なくとも部分的に置き換えるために、乾燥剤材料における使用として考慮される他の潜在的な材料を除外することができる。実際に、従来の研究では、例えば、ＭｇＣｌ2を含む溶液は、それがベース乾燥剤マトリックスの容量を増加させたとしても、液体の水が発生する可能性があり、それがその含有の点を損なうので、除外されてきた。
しかしながら、本発明者らは、破損が典型的には絶縁ガラスユニットにおいて１５～２０％の相対湿度で始まることを認識した。したがって、高湿度レベル（図７で使用された相対湿度値７０％のような）高湿度レベルでの測定不良及び７５％以上の設定目標は、典型的な使用事例には実際には関連しない。この意味で、６０％相対湿度での測定不良は、包装及び他の状況において意味をなす可能性があるが、はるかに低い相対湿度での試験は、動的シェード用途を含むＩＧユニット用途に適したはるかに現実的なレベルで結果をもたらすであろう。しかしながら、より低い相対湿度値では、異なる材料は異なる挙動を示す。したがって、特定の例示的実施形態では、異なるスペクトルの材料を用いて望ましい性能を達成することが可能である。
本発明者らは更に、相対湿度１０～２０％、より好ましくは相対湿度１０～１５％の環境で試験すると、典型的なＩＧユニット用途に最も関連するデータが得られることを認識した。特定の例示的実施形態では、ＬｉＣｌ及び／又はＫＯＨ塩溶液によって生成された環境は、乾燥剤マトリックス及びふるい置換材料をブレンド及び／又は試験するときに使用され得る。そうすることにより、１１％の湿度（欧州ＥＮ１２７９シリーズ仕様に一致する）が生成され、これは、典型的なＩＧユニットの寿命の終わりに観察される相対湿度レベルと同様である。したがって、いくつかの例では、適切な試験として機能し得る。特定の例示的実施形態に関連して使用され得る混合及び／又は試験環境を生成するために、他の塩溶液などが使用され得ることが理解されるであろう。いくつかの点でＩＧユニット用途に対してより適切である（又はより良好に調整される）、このより低い相対湿度環境では、非常に高い吸着での液体水の発生に関する懸念が軽減されるはずである。乾燥剤材料は、全体的又は部分的に、いくつかの例では、１０～２０％の相対湿度の環境で形成及び／又は試験することができることが理解されよう。他の例では、乾燥剤材料は、全体的又は部分的に、より高い及び／又はより低い相対湿度範囲の環境で形成及び／又は試験することができる。更に、乾燥剤材料は、全体的又は部分的に、そのような相対湿度範囲で形成及び／又は試験することができるが、吸収は、使用中の相対湿度のはるかに広い範囲にわたって起こり得ることが理解されるであろう。
したがって、特定の例示的実施形態は、１０～２０％の相対湿度で吸着するように形成された乾燥剤マトリックス及びモレキュラーシーブ置換材料（例えば、ＭｇＣｌ2、ＣａＣｌ2、ＣａＯ、ＭｇＳＯ4、及び／又は同様のもの）を含む乾燥剤材料を提供する。この乾燥剤材料は、モレキュラーシーブ置換材料とは異なるモレキュラーシーブを更に含んでもよく、又はモレキュラーシーブ置換材料は、任意の他のモレキュラーシーブを完全に置き換えてもよい。特定の例示的実施形態では、モレキュラーシーブ置換材料は、５～２５％の乾燥剤材料、より好ましくは１０～２０％の乾燥剤材料を含んでもよい。材料の残りは、特定の例示的実施形態では、乾燥剤マトリックス材料であってもよい。特定の例示的実施形態では、モレキュラーシーブ置換材料は、他の乾燥剤材料の５～２５％、より好ましくは乾燥剤材料の１０～２０％の量であってもよい。乾燥剤マトリックス材料は、特定の例示的実施形態では、ＨＬ－５１５７又は何らかの他の既存の材料であってもよい。
特定の例示的実施形態では、上述した設計目標の一部又は全部を、より低い相対湿度値で使用するように設計された乾燥剤材料と共に使用されてもよい。例えば、そのような乾燥剤材料は、（例えば、スペーサシステムが形成されているとき、及び／又は基材が互いに接続されているときに）ＩＧユニットスペーサシステム内に注入、押出、又は他の方法で容易に提供され得るペースト又は他の材料に混合されてもよい。乾燥剤材料は、スペーサシステムの本体内に提供されてもよく、スペーサシステムは、上に列挙した特許公報に記載されているスペーサシステムのいずれかであってもよい。別の例として、７０℃未満ではいずれの揮発性化合物（例えば、揮発性有機化合物）のガス放出もないことが好ましい。他の望ましい特性としては、以下のものが挙げられる。例えば、材料は、ダスト、粒子、ビーズ、及び／又は小片がバルク押出から容易に剥離又は破損しないように、少なくとも１年間砕けやすくないこと。２０～２５年以上の間活性であること。などの特性を持つフィルムを作成できる。
マトリックス材料を乾燥剤に含めることは、乾燥剤の吸着速度を遅くする。これは、システムへの水の強制拡散が、追いつくのに十分な回復時間が与えられるまでマトリックスを追い越す可能性があるので、加速試験における負の効果と考えられることがある。しかしながら、本発明者らは、現実世界の拡散が比較的遅いので、この懸念が軽減されることを認識した。更に、マトリックスの遅い特性は、加工中の開放時間に対する感受性が低減され、及び／又は開放時間の量が増加され得るので、製造プロセスにとってプラスであり得る。
塩又はＭｇＣｌ2などの他の一般的な材料を、標準的なモレキュラーシーブと共に、又はその代わりに使用することにより、ＩＧユニットの容積減少を引き起こすことなく、代替の、典型的にはＣＯ2などの反応性ガスをＩＧユニットに同様に使用することが可能になる。実際、ＭｇＣｌ2などの一般的な材料は、ＣＯ2と反応しない。したがって、そのような材料の使用は、ＩＧユニット空洞内で反応性ガスを使用するための経路を開く。上述したように、ＣＯ2及びいくつかの他の反応性ガスは、モレキュラーシーブに相溶性がなく、したがって、そのような場合、乾燥剤材料は、モレキュラーシーブ材料を全く含まない可能性がある。更に、シェード用途は、非常に小さい粒子からの汚染にさえ特に敏感である。実際、ＩＧユニット空洞内の主要寸法が約５ミクロンの粒子の存在は、シェード動作を阻害し得ることが見出されている。したがって、完全に捕捉する材料、したがって乾燥剤材料の選択は、そのような用途において特に重要であり得る。特定の例示的実施形態は、少なくとも１０ミクロン、より好ましくは少なくとも８ミクロン、更により好ましくは少なくとも５ミクロンの直径又は主要寸法を有する粒子を捕捉することを目的とする。しかしながら、乾燥剤材料は、反応性ガスからかなりの数の分子を捕捉することができないように、反応性ガスに相溶性であることが好ましい。
ＣＯ2等の反応性ガスを提供する能力は、例えば、ＣＯ2又は他の反応性ガスが、有利な電気特性が実現されることを可能にし得るため、ＩＧユニットの空洞内に電子構成要素を提供するために有用であり得る。すなわち、上述したように、ＣＯ2及び他の反応性ガスは、電気アークに対して本質的に絶縁するので、いくつかの電気用途において有用である。また、ＳＦ6ガスはイオン化閾値未満に留まるのを助け、動的シェード用途で使用されてきたが、ＣＯ2は、いくつかの例では、ＳＦ6と比較して有利であり得る。なぜなら、ＣＯ2は依然としてかなり高いイオン化閾値を有し、容易に入手可能であり、低コストであり、外部窓用途を含む様々な異なる用途にＩＧユニットを使用することを潜在的に可能にする良好な絶縁／良好なＵ値を提供するからである。空洞内に含まれ得る電動構成要素は、例えば、ＬＥＤ又は同様のものなどの照明要素、センサ及び同様のものなどのモノのインターネット（Internet-of-Things、ＩｏＴ）デバイスなどを含む。これらの構成要素は、静電駆動及び／又はモータ駆動の動的シェードなどに加えて提供され得る。特定の例示的実施形態では、空洞は、ＣＯ2などの反応性ガスで最大８０％、最大９０％、又は最大１００％まで充填されてもよい。
遊離ビーズに対して乾燥剤マトリックスを使用することは、ＩＧユニット空洞内でダストが生成される可能性を有利に低減し、ダストは電子デバイス（特に動的シェード）の機能性に有害であり得ることが理解されるであろう。特定の例示的実施形態は、乾燥剤マトリックスを含む乾燥剤材料を収容するスペーサを含む。しかしながら、乾燥剤マトリックスを欠く乾燥剤材料がスペーサ内に提供される異なる例示的実施形態が提供されてもよい。更に、特定の例示的実施形態では、マトリックスを有する乾燥剤材料又はマトリックスを有さない乾燥剤材料をスペーサシステムの外部に提供されてもよい。この意味で、乾燥剤マトリックスは、異なる例示的実施形態において任意選択であり、マトリックスを使用せずに乾燥剤材料を一緒に結合する異なる方法が存在し得る。例えば、乾燥剤は、特定の例示的実施形態では、発泡体スペーサの発泡体配合物に埋め込まれるボックススペーサ内の捕捉ビーズとして提供され得る。
本明細書に記載されるＩＧユニットは、表面１、２、３、及び４のうちのいずれか１つ以上に低Ｅコーティングを組み込んでもよい。上述のように、例えば、このような低Ｅコーティングは、シェードのための導電層として機能し得る。他の例示的な実施形態では、シェードに役立つこと及びシェードのための導電層に加えて、又はそれとは別に、低Ｅコーティングが別の内面に提供されてもよい。例えば、表面２に低Ｅコーティングを提供することができ、表面３に対してシェードを提供することができる。別の例では、シェード及び低Ｅコーティングの位置を反転させてもよい。いずれの場合も、別個の低Ｅコーティングは、表面３に対して提供されるシェードを操作するのを助けるために使用されても、使用されなくてもよい。特定の例示的実施形態では、表面２及び３上に提供される低Ｅコーティングは、銀ベースの低Ｅコーティングであってもよい。低Ｅコーティングの例は、米国特許第９，８０２，８６０号、同第８，５５７，３９１号、同第７，９９８，３２０号、同第７，７７１，８３０号、同第７，１９８，８５１号、同第７，１８９，４５８号、同第７，０５６，５８８号及び同第６，８８７，５７５号に明記されており、上記の文献のそれぞれの内容全体は、参照により本明細書に組み込まれる。ＩＴＯなどに基づく低Ｅコーティングを内面及び／又は外面に使用してもよい。例えば、米国特許第９，６９５，０８５号及び同第９，６７０，０９２号を参照されたく、上記の文献のそれぞれの内容全体は、参照により本明細書に組み込まれる。これらの低Ｅコーティングは、特定の例示的実施形態に関連して使用され得る。
反射防止コーティングは、ＩＧユニットの主表面上に提供されてもよい。特定の例示的実施形態では、ＡＲコーティングは、低Ｅコーティング及びシェードが提供されない各主表面上に提供されてもよい。例示的なＡＲコーティングは、例えば、米国特許第９，７９６，６１９号及び同第８，６６８，９９０号、並びに米国特許出願公開第２０１４／０２７２３１４号に記載されており、上記の文献のそれぞれの内容全体は、参照により本明細書に組み込まれる。その内容全体が参照により本明細書に組み込まれる米国特許第９，５５６，０６６号も参照されたい。これらのＡＲコーティングは、特定の例示的実施形態に関連して使用されてもよい。
本明細書に記載される例示的な実施形態は、例えば、商業用途及び／又は住宅用途の内窓及び外窓、天窓、ドア、冷蔵庫／冷凍庫などの陳列棚（例えば、それらのドア及び／又は「壁」用）、車両用途などを含む、多種多様な用途に組み込むことができる。
特定の例示的実施形態は、２つの基材を含むＩＧユニットに関連して記載されているが、本明細書に記載される技術は、いわゆる三重ＩＧユニットに関して適用され得ることが理解されるであろう。このようなユニットでは、実質的に平行に離隔した第１の基材、第２の基材、及び第３の基材は、第１のスペーサシステム及び第２のスペーサシステムによって分離され、シェードは、最も内側の基材及び最も外側の基材の内面のうちの任意の１つ以上に隣接して、かつ／又は中間基材の表面の一方若しくは両方に隣接して提供されてもよい。このような構成では、一方又は両方のスペーサシステムに乾燥剤材料が提供されてもよい。
特定の例示的実施形態は、ガラス基材を組み込むものとして記載されているが（例えば、本明細書に記載されるＩＧユニットの内側及び外側のペインの使用のために）記載されているが、他の例示的な実施形態は、そのようなペインの一方又は両方のための非ガラス基材を組み込んでもよいことが理解されるであろう。例えば、プラスチック、複合材料などを使用してもよい。ガラス基材が使用される場合、そのような基材は、熱処理され（例えば、熱強化されかつ／又は熱焼戻しされ）、化学熱焼戻しされ、アニールされた状態のままなどであってもよい。特定の例示的実施形態では、内側基材又は外側基材は、同じ又は異なる材料の別の基材に積層されてもよい。
本明細書で使用するとき、「～上」及び「～によって支持されている」などの用語は、明示的に記載されない限り、２つの要素が互いに直接隣接していることを意味するものと解釈されるべきではない。換言すれば、第１の層は、第２の層との間に１つ以上の層が存在する場合であっても、第２の層「上」又は「によって支持されている」とされ得る。
本発明は、現在実用的で好ましい実施形態と考えられるものと関連して説明されたが、本発明は、開示される実施形態及び／又は蒸着技術に限定されるものではなく、寧ろ、添付の特許請求の範囲の趣旨及び範囲内に含まれる様々な修正及び同等の構成を網羅することを意図するものであることを理解されたい。

Claims (20)

  1. 絶縁ガラス（ＩＧ）ユニットであって、
    第１の基材及び第２の基材であって、各々が内部主表面及び外部主表面を有し、前記第１の基材の前記内部主表面が、前記第２の基材の前記内部主表面に面している、第１の基材及び第２の基材と、
    スペーサシステムであって、前記第１の基材及び前記第２の基材を互いに実質的に平行に離隔した関係に維持し、前記第１の基材と前記第２の基材との間に間隙を画定することに役立ち、前記間隙が、ＳＦ6ガスのイオン化閾値以下のイオン化閾値を有する反応性ガスで少なくとも部分的に充填される、スペーサシステムと、
    前記第１の基材と前記第２の基材との間に介在する動的に制御可能なシェードであって、前記シェードが、
    前記第１の基材の前記内部主表面上に直接又は間接的に提供された第１の導電性層、
    第１の誘電体層であって、前記第１の基材とは反対の、前記第１の誘電体層の側面で、前記第１の導電性層に直接又は間接的に提供されている、第１の誘電体層、及び
    第２の導電性層を支持する可撓性基材を含むシャッタであって、前記シャッタが、シャッタ開位置からシャッタ閉位置に伸長可能であり、かつ前記シャッタ閉位置から前記シャッタ開位置に後退可能である、シャッタを含む、シェードと、
    前記可撓性基材を前記シャッタ閉位置に駆動する静電気力を作り出すための電圧を提供するように構成された制御回路と、
    モレキュラーシーブ置換材料を含む乾燥剤材料であって、前記モレキュラーシーブ置換材料が、塩を含み、前記乾燥剤材料は、前記乾燥剤材料が前記反応性ガスからかなりの数の分子を捕捉することができないように前記反応性ガスに相溶性である、乾燥剤材料と、を備える、ＩＧユニット。
  2. 前記乾燥剤材料が、乾燥剤マトリックスを含む、請求項１に記載のＩＧユニット。
  3. 前記乾燥剤マトリックスが、ポリマーベースである、請求項３に記載のＩＧユニット。
  4. 前記塩が、ＭｇＣｌ2及び／又はＣａＣｌ2である、請求項１～３のいずれか一項に記載のＩＧユニット。
  5. 前記反応性ガスが、ＣＯ2ガスである、請求項１～４のいずれか一項に記載のＩＧユニット。
  6. 前記乾燥剤材料が、モレキュラーシーブを含まない、請求項１～５のいずれか一項に記載のＩＧユニット。
  7. 前記乾燥剤材料が、１０～２０％の相対湿度で吸着するように形成されている、請求項１～６のいずれか一項に記載のＩＧユニット。
  8. 前記乾燥剤材料が、前記スペーサシステムの本体内に位置している、請求項１～７のいずれか一項に記載のＩＧユニット。
  9. 絶縁ガラス（ＩＧ）ユニットであって、
    第１の基材及び第２の基材であって、各々が内部主表面及び外部主表面を有する第１の基材及び第２の基材であって、前記第１の基材の前記内部主表面が、前記第２の基材の前記内部主表面に面している、第１の基材及び第２の基材と、
    スペーサシステムであって、前記第１の基材及び前記第２の基材を互いに実質的に平行に離隔した関係に維持し、前記第１の基材と前記第２の基材との間に間隙を画定するのに役立ち、前記間隙が、ＣＯ2ガスのイオン化閾値以下のイオン化閾値を有する反応性ガスで少なくとも部分的に充填される、スペーサシステムと、
    前記第１の基材と前記第２の基材との間に介在する動的に制御可能なシェードであって、前記シェードが、
    前記第１の基材の前記内部主表面上に直接又は間接的に提供された第１の導電性層、
    第１の誘電体層であって、前記第１の基材とは反対の、前記第１の誘電体層の側面で、前記第１の導電性層に直接又は間接的に提供されている、第１の誘電体層、及び
    第２の導電性層を支持する可撓性基材を含むシャッタであって、前記シャッタが、シャッタ開位置からシャッタ閉位置に伸長可能であり、かつ前記シャッタ閉位置から前記シャッタ開位置に後退可能である、シャッタを含む、シェードと、
    前記可撓性基材を前記シャッタ閉位置に駆動する静電気力を作り出すための電圧を提供するように構成された制御回路と、
    塩を含む乾燥剤材料であって、前記スペーサシステムの本体内に位置している乾燥剤材料と、を備える、ＩＧユニット。
  10. 前記乾燥剤材料が、乾燥剤マトリックスを含む、請求項９に記載のＩＧユニット。
  11. 前記乾燥剤マトリックスが、ポリマーベースである、請求項１０に記載のＩＧユニット。
  12. 前記塩が、ＭｇＣｌ2及び／又はＣａＣｌ2である、請求項９～１１のいずれか一項に記載のＩＧユニット。
  13. 前記乾燥剤材料が、モレキュラーシーブを含まない、請求項９～１２のいずれか一項に記載のＩＧユニット。
  14. 前記乾燥剤材料が、１０～２０％の相対湿度で吸着するように形成されている、請求項９～１３のいずれか一項に記載のＩＧユニット。
  15. 絶縁ガラス（ＩＧ）ユニットの製造方法であって、前記方法が、
    第１の基材及び第２の基材であって、各々が内部主表面及び外部主表面を有し、前記第１の基材の前記内部主表面が、前記第２の基材の前記内部主表面に面している、第１の基材及び第２の基材を有することと、
    前記第１の基材及び／又は前記第２の基材上に動的に制御可能なシェードを提供することであって、前記シェードが、
    前記第１の基材の前記内部主表面上に直接又は間接的に提供された第１の導電性層、
    第１の誘電体層であって、前記第１の基材とは反対の、前記第１の誘電体層の側面で、前記第１の導電性層に直接又は間接的に提供されている、第１の誘電体層、及び
    第２の導電性層を支持する可撓性基材を含むシャッタであって、前記シャッタが、シャッタ開位置からシャッタ閉位置に伸長可能であり、かつ前記シャッタ閉位置から前記シャッタ開位置に後退可能である、シャッタを含む、提供することと、
    間に間隙が画定されるように、かつ前記動的に制御可能なシェードが前記間隙内に位置するように、スペーサシステムを使用して前記第１の基材及び前記第２の基材を互いに、実質的に平行に隔置した関係で接続することと、を含み、前記間隙が、ＳＦ6ガスのイオン化閾値以下のイオン化閾値を有する反応性ガスで少なくとも部分的に充填され、
    乾燥剤材料が、前記スペーサシステムの本体内に位置しており、前記乾燥剤材料が、塩を含み、前記乾燥剤材料は、前記乾燥剤材料が前記反応性ガスからかなりの数の分子を捕捉することができないように前記反応性ガスに相溶性である、方法。
  16. 前記乾燥剤材料が、乾燥剤マトリックスを含む、請求項１５に記載の方法。
  17. 前記塩が、ＭｇＣｌ2及び／又はＣａＣｌ2である、請求項１５又は１６に記載の方法。
  18. 前記反応性ガスが、ＣＯ2ガスである、請求項１５～１７のいずれか一項に記載の方法。
  19. 前記乾燥剤材料が、モレキュラーシーブを含まない、請求項１５～１８のいずれか一項に記載の方法。
  20. 絶縁ガラス（ＩＧ）ユニット内で動的シェードを操作する方法であって、前記方法が、
    請求項１～１４のいずれか一項に記載の、及び／又は請求項１５～１９のいずれか一項に記載の方法に従って製造されたＩＧユニットを有することと、
    前記シャッタ開位置から前記シャッタ閉位置に前記ポリマー基材を移動させるために、前記電源を作動させることと、を含む、方法。
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