JP2023508289A - マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステム、方法及び媒体 - Google Patents

Abstract

本発明はマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステム、方法及び媒体を提供するものであり、一部の実施形態では当該システム、方法及び媒体は、光源と、複数の各導波体に光の一部分を出力するスプリッタと、導波体から光を受け取って当該光をビームとして送り、試料における横方向の複数の位置に同時に当て、横方向の複数の位置から後方散乱光を収集する光学部品と、参照アームの導波体に光の一部分を参照光サンプルとして出力する他のスプリッタと、後方散乱光サンプルと参照光サンプルとを受け取り、各後方散乱サンプルを対応する参照サンプルと合波して干渉縞を出力するミキサと、干渉縞を受け取り、試料における横方向の各位置の構造を示すＯＣＴ信号を出力する検出器と、を備えている。
【選択図】図１

Description

＜関連出願の相互参照＞
本願は、米国仮出願第６２／９５１，７１０号（出願日：２０１９年１２月２０日）に基づくものであり、その利益を主張すると共に同仮出願に係る優先権を主張するものである。同仮出願の記載内容は全て、参照により本願の記載内容に含まれる。

＜連邦政府の支援による研究に関する言明＞
本発明は、アメリカ国立衛生研究所により承認された承認番号Ｐ４１ＥＢ０１５９０３の政府支援によりなされたものである。政府は本発明について一定の権利を有する。

一般に、光コヒーレンストモグラフィ（ＯＣＴ）システムのイメージング速度は、ＯＣＴシステムの性能と直接的な相関関係にある。イメージング速度を上げることにより、ＯＣＴシステムが探索できる領域が拡大し、試料の動きをＯＣＴがカバーすることができ、血管造影イメージングコントラストを可能にするオーバーサンプリング技術を実現することができる。ＯＣＴイメージング速度を上げるための直感的な一アプローチは、掃引波長方式のＯＣＴシステムにおいて光源の掃引速度を引き上げることである。しかし、サンプリング速度を１メガヘルツ（MHz）超に引き上げる取り組みは困難であることが分かっている。

システムの実効サンプリング速度を増加させる別の手法は、ビームの数を増加し、及び／又は拡張したビームを使用して、横方向において試料に沿って延在する１つのビーム及び／又はビームのセットにより複数の横方向位置を同時にイメージングするというものである。かかるアプローチでは、複数の横方向位置は並列したイメージングチャネルを使用して同時に検出され、これにより、複数ビーム及び／又は拡張したビームからの情報を取得して、イメージング速度の効果的な引き上げを図ることができる。

ビームの回数を増やすための過去の取り組みでは、イメージングチャネルごとに別々の干渉計を使用し、このことにより本アプローチのスケーラビリティはごく少数のチャネルに限定され、システムの複雑性が増大してしまう。他に、集積フォトニックデバイスを用いたマルチビーム干渉計の使用を試みた取り組みもあるが、チャネルごとの光学遅延を正確に制御するためには、チャネル情報を深さ符号化するためのデバイスの膨大な手作業及び／又は微細加工が必要となる。

従って、マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのための新規のシステム、方法及び媒体が望まれる。

本願開示の主題の一部の実施形態では、マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステム、方法及び媒体が提供される。

本願開示の主題の一部の実施形態ではマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムが提供され、本システムは、
光源に光学的に結合されるように構成されたサンプルアームと、前記光源に光学的に結合されるように構成された参照アームとを備えており、前記サンプルアームは、前記光源に光学的に結合された近位端と、遠位端と、を有する第１の光ファイバと、前記第１の光ファイバの遠位端に光学的に結合されると共に、ｎ個の光ファイバを有する第１の複数の各光ファイバの近位端に光学的に結合された第１のスプリッタと、第１の複数の光学部品と、を備えており、前記第１の複数の光学部品は、前記複数の各光ファイバから複数の各ビームを受け取り、前記複数のビームを試料に向けて放射し、前記試料から、空間的に分離した複数の後方散乱光サンプルであって各後方散乱光サンプルが前記第１の複数のビームのうち１つに対応する複数の後方散乱光サンプルを受け取り、前記複数の後方散乱光サンプルを検出器に向けて送るように構成されており、前記参照アームは、前記光源に光学的に結合された近位端と、遠位端と、を有する第２の光ファイバと、前記第２の光ファイバの遠位端に光学的に結合されると共に、ｎ個の光ファイバを有する第２の複数の各光ファイバの近位端に光学的に結合された第２のスプリッタと、第２の複数の光学部品と、を備えており、前記第２の複数の光学部品は、前記複数の各後方散乱光サンプルをそれぞれ、前記第２の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバによって放射されたビームと合波して、複数の干渉縞を生じさせ、前記複数の各干渉縞を、複数の検出チャネルを有する前記検出器の対応するチャネルにそれぞれ送るように構成されており、前記検出器は、前記複数の後方散乱光サンプルが生成された複数の場所における前記試料の構造を示す光コヒーレンストモグラフィデータを出力するように構成されている。

一部の実施形態では、前記光源は波長掃引レーザである。

一部の実施形態では、前記波長掃引レーザは１２５ｋＨｚのＡスキャンレートで動作する。

一部の実施形態では、前記光源は波長ステップ周波数コム光源である。

一部の実施形態では、前記サンプルアームはさらに、前記第１の複数の光ファイバの各光ファイバの遠位端に機械的に結合された第１の空間分離器を備えている。

一部の実施形態では、前記第１の空間分離器はＶ溝アセンブリを有する。

一部の実施形態では、前記参照アームはさらに、前記第２の複数の光ファイバの各光ファイバの遠位端に機械的に結合された第２の空間分離器を備えている。

一部の実施形態では、前記特定のスペクトル範囲の中心は１３００ｎｍにある。

一部の実施形態では、前記第１のスプリッタは、前記第１の光ファイバから光を受け取り、受け取った当該光をｎ個の出力に分割するプレーナ光波回路スプリッタを有する。

一部の実施形態では、前記第１の空間分離器はＶ溝アセンブリを有する。

一部の実施形態では、前記第１の複数の光学部品は、前記第１の複数の光ファイバに光学的に結合された第１面と、第２面と、を有する第１のレンズであって、前記第１のレンズの焦点距離に相当する第１の焦点距離で前記複数のビームを集光するように構成された第１のレンズと、前記第１のレンズの第２面から受け取った光を第２のレンズの第１面に向けて偏向し、前記第２のレンズの第１面から受け取った光を前記第１のレンズの第２面に向けて偏向する表面と、第１面が前記表面に光学的に結合された前記第２のレンズであって、前記表面から受け取った光を前記試料に向けて送ると共に前記試料から前記複数の後方散乱光サンプルを受け取る第２面を有する前記第２のレンズと、を有する。

一部の実施形態では、前記第１の複数の光学部品は、前記第１の複数の光ファイバに光学的に結合された第１面と、第２面と、を有する第３のレンズであって、前記第３のレンズの焦点距離に相当する第１の焦点距離で前記複数のビームを集光するように構成された第３のレンズと、第１のポート、第２のポート、及び第３のポートを備えた偏光ビームスプリッタであって、第１の偏光を有する光を透過し、第２の偏光を有する光を偏向する第１の境界面を有する偏光ビームスプリッタと、を備えており、前記ビームスプリッタは、前記第１のポートで受け取った前記第１の偏光を有する光を前記第２のポートへ透過させ、前記第２のポートで受け取った前記第２の偏光を有する光を前記第３のポートに向けて偏向し、前記第１のポートは、前記第３のレンズから前記複数のビームを受け取るように前記第３のレンズの第２面に光学的に結合されており、前記第２のポートは、前記複数のビームを第４のレンズに向けて放射すると共に前記第４のレンズから複数の後方散乱光サンプルを受け取るように前記第４のレンズの第１面に光学的に結合されており、前記第３のポートは、前記複数のサンプルを第５のレンズに向けて放射するように構成されており、前記第４のレンズの第１面は前記第２のポートに光学的に結合されていると共に、前記第４のレンズは第２面を有し、前記ビームスプリッタはさらに、前記第４のレンズの第２面と前記第１のレンズの第１面とに光学的に結合された１／４波長板を備えており、前記第１のレンズの第１面は前記１／４波長板に光学的に結合されており、前記第５のレンズは、前記偏光ビームスプリッタの第３のポートに光学的に結合された第１面と、第３の複数の光ファイバに光学的に結合された第２面と、を有し、前記第１の複数の光ファイバ及び前記第３の複数の光ファイバの向きは、当該第１の複数の各光ファイバから放射された光が当該第３の複数の光ファイバのうち各対応する光ファイバへ送られる向きにされている。

一部の実施形態では、前記第１の複数の光学部品は、それぞれ第１のポートと、第２のポートと、第３のポートと、を有する複数の光サーキュレータを備えており、前記複数の各光サーキュレータの第１のポートはそれぞれ、前記第１の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記光源に光学的に結合されており、前記複数の各光サーキュレータの第２のポートはそれぞれ、第３の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記試料に光学的に結合されており、前記複数の各光サーキュレータの第３のポートはそれぞれ、第４の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記第２の複数の光学部品に光学的に結合されている。

一部の実施形態では、前記システムは、前記第３の複数の各光ファイバの遠位端に機械的に結合され、前記第３の複数の各光ファイバを前記第１のレンズの第１面に光学的に結合するように配された空間分離器をさらに備えている。

一部の実施形態では、前記第１の複数の光学部品は、第１のポート、第２のポート及び第３のポートをそれぞれ有する複数の光カプラを備えた第２のプレーナ光波回路を備えており、前記複数の各光カプラの第１のポートはそれぞれ、前記第１の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記光源に光学的に結合されており、前記複数の各光カプラの第２のポートはそれぞれ、第３の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記試料に光学的に結合されており、前記複数の各光カプラの第３のポートはそれぞれ、第４の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記第２の複数の光学部品に光学的に結合されている。

一部の実施形態では、前記複数の各光カプラは、前記第１のポートで受け取った光のうち第１の割合を前記第３のポートから出力し、前記第１のポートで受け取った光のうち第２の割合を第４のポートから出力し、前記第３のポートで受け取った光のうち前記第１の割合を前記第１のポートから出力し、前記第３のポートで受け取った光のうち前記第２の割合を前記第２のポートから出力する。

一部の実施形態では、前記第１の割合と前記第２の割合との比は約１である。

一部の実施形態では、前記第１の割合と前記第２の割合との比は１未満である。

一部の実施形態では、前記第３の複数の各光ファイバの遠位端に機械的に結合され、前記第３の複数の各光ファイバを前記第１のレンズの第１面に光学的に結合するように配された空間分離器をさらに備えている。

一部の実施形態では、前記第２の複数の光学部品は、第１のポートと、第２のポートと、第３のポートとを有するビームスプリッタを備えており、前記第１のポートは、前記第２の複数の光学によって放射された光を受け取るように構成されており、前記第２のポートは、前記複数の後方散乱光サンプルを受け取るように構成されており、前記第３のポートは、前記複数の干渉縞を出力するように構成されている。

一部の実施形態では、前記検出器は、第１ポート及び第２のポートを有する複数のバランス検出器であって、前記検出器の各チャネルにそれぞれ対応する複数のバランス検出器を備えており、前記ビームスプリッタはさらに、第２の複数の干渉縞を出力するように構成された第４のポートを有し、前記複数の各バランス検出器はそれぞれ、前記複数の干渉縞のうちいずれかの干渉縞と、前記第２の複数の干渉縞のうち対応する干渉縞と、を受け取り、両干渉縞に基づいて信号を出力する。

一部の実施形態では、前記第２の複数の光学部品は、第１のポート、第２のポート、第３のポート及び第４のポートをそれぞれ有する複数の光カプラを備えており、前記第１のポートは、前記第２の複数の各光ファイバを介して前記光源に結合されており、前記第２のポートは、第４の複数の各光ファイバを介して前記試料に結合されており、前記第３のポートは前記複数の各検出チャネルに結合されており、前記第４のポートは前記複数の各検出チャネルに結合されている。

一部の実施形態では、前記複数の各光カプラはディスクリートのファイバカプラである。

一部の実施形態では、前記システムはさらに第３のプレーナ光波回路を備えており、前記プレーナ光波回路は前記複数の光カプラを備えている。

一部の実施形態では、前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は少なくとも、前記第２のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている。

一部の実施形態では、前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は少なくとも、前記第２のスプリッタに入力される光の位相を変調するように構成されている。

一部の実施形態では、前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は、前記第２のスプリッタに入力される光の位相を変調し、前記第２のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている。

一部の実施形態では、前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は少なくとも、前記第１のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている。

一部の実施形態では、前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は少なくとも、前記第１のスプリッタに入力される光の位相を変調するように構成されている。

一部の実施形態では、前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は、前記第１のスプリッタに入力される光の位相を変調し、前記第１のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている。

一部の実施形態では、前記変調部品は、前記光源に光学的に結合された第１のポート、第２のポート、及び第３のポートを有するカプラと、前記カプラの第２のポートに光学的に結合された第１のポート、及び第２のポートを有する第１の位相変調器と、前記カプラの第３のポートに光学的に結合された第１のポート、及び第２のポートを有する第２の位相変調器と、前記第１の位相変調器に光学的に結合された第１のポート、前記第２の位相変調器に光学的に結合された第２のポート、及び第３のポートを有するビームコンバイナと、を備えている。

一部の実施形態では、前記変調部品はさらに、前記カプラの第２のポートと前記第１の位相変調器の第１のポートとに光学的に結合された偏光制御部を備えている。

一部の実施形態では、前記変調部品はさらに、前記カプラの第３のポートと前記第２の位相変調器のスポートとに光学的に結合された偏光制御部を備えている。

一部の実施形態では、マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムであって、光源から第１の光を受け取り、第１の複数の各導波体にそれぞれ当該第１の光の一部分を出力するように配置された第１のスプリッタと、光学部品であって、前記第１の複数の導波体から光を受け取り、複数の各ビームが試料における横方向のそれぞれ異なる位置に当たるように、受け取った前記光を前記複数のビームとして前記試料に送り、前記試料の横方向における前記異なる位置から複数の後方散乱光サンプルを収集するように配置された光学部品と、前記光源から第２の光を受け取り、第２の複数の各導波体にそれぞれ当該第２の光の一部分を複数の参照光サンプルとして出力するように配置された第２のスプリッタと、前記複数の後方散乱光サンプルと前記複数の参照光サンプルとを受け取り、各後方散乱光サンプルをそれぞれ対応する参照光サンプルと合波して複数の干渉縞を出力するように配置されたミキサと、前記複数の干渉縞を受け取って、前記試料の横方向における各位置の構造をそれぞれ示す複数の光コヒーレンストモグラフィ信号を出力するように配置された検出器と、を備えている。

一部の実施形態では、前記複数のビームは８つのビームを有する。

一部の実施形態では、前記第１のスプリッタはプレーナ光波回路スプリッタを有する。

一部の実施形態では、前記光学部品は複数の光サーキュレータを備えており、前記複数の各光サーキュレータは、前記第１の複数の導波体のうちいずれかの導波体から前記複数のビームのうちいずれかのビームを受け取り、受け取った前記ビームを前記試料に向けて送り、後方散乱光サンプルを前記検出器に向けて送るように配置されている。

一部の実施形態では、前記光学部品は複数の光カプラを備えており、前記複数の各光カプラは、前記第１の複数の導波体のうちいずれかの導波体から前記複数のビームのうちいずれかのビームを受け取り、受け取った前記ビームを前記試料に向けて送り、後方散乱光サンプルを前記検出器に向けて送るように配置されている。

一部の実施形態では、前記システムはさらに前記光源を備えている。

以下の図面を参照して下記の本願開示の主題の詳細な説明を参酌すれば、本願開示の主題の種々の目的、構成及び利点をより完全に理解することができる。図面中、同様の符号は同様の要素を示している。

本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの一部を実現するために使用できるスプリッタの一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの一部であって図１に示されたシステムの一部を実現するために使用できるサンプリング光学系の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのマルチビーム干渉計のミキシング部分を実現するために使用できる光学系の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのための検出器の一部を実現するために使用できる部品の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態の自由空間ギャップを跨ぐ複数の光ファイバをアライメントするために使用できる部品の配置の一例を示す図である。 図６Ａに示されている本願開示の主題の一部の実施形態の部品の配置の側面図である。 本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムを用いて同時に得られた複数の光コヒーレンストモグラフィ信号からの情報を組み合わせることにより生成されたヒトの指のコンポジット構造Ｃスキャンの一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの複数のチャネルを用いて同時に生成された複数のＢスキャンの例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの複数のチャネルを用いて同時に生成されたマウスの耳内部の複数のアンファス（en face）光コヒーレンストモグラフィアンギオグラフィ画像の例と、本願開示の主題の一部の実施形態の複数のチャネルを用いて生成された情報から生成されたコンポジット・アンファス画像と、を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態の複数のビームを用いて複数の光コヒーレンストモグラフィ画像を同時に生成するための処理の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのメカニズムの一部の実施形態と共に使用できるイメージング装置及び／又は計算機を実現するために使用できるハードウェア例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態の位相及び／又は偏光変調器の一部を実現するために使用できる部品の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムのサンプリング光学系の一部であって図１に示されたシステムのサンプリング光学系の一部を実現するために使用できる部品の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムのサンプリング光学系の一部であって図１に示されたシステムのサンプリング光学系の一部を実現するために使用できる部品の他の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムのサンプリング光学系の集光部であって図１に示されたシステムのサンプリング光学系の集光部を実現するために使用できる部品の他の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのマルチビーム干渉計のミキシング部分を実現するために使用できる光学部品の一例を示す図である。 本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのマルチビーム干渉計のミキシング部分を実現するために使用できる光学部品の他の一例を示す図である。

本願開示の主題の一部の実施形態では、マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのメカニズム（システム、方法及び媒体を含み得る）が提供される。

一部の実施形態では、本願に記載のメカニズムは、単一チャネルのイメージング速度を定める光源と、単一の導波体ベースの参照アームと、単一の導波体ベースのサンプルアームと、を使用することができ、これらはそれぞれ、複数の電磁波のセットを生成するために使用可能な第１の光学サブシステムを備えている。一部の実施形態では、サンプルアームは、当該サンプルアームの第１の光学サブシステムにより提供される複数の電磁波を用いて試料場所のセットをプロービングするために使用可能な第２の光学サブシステムであって、試料からの対応する後方散乱電磁波を収集できる第２の光学サブシステムを備えることができる。一部の実施形態では、第３の光学サブシステムが参照アームから参照電磁波を受け取り、この参照電磁波を対応する後方散乱電磁波と合波して干渉縞のセットを生成することができる。一部の実施形態では、検出処理構成体が各イメージングチャネルの干渉縞を別々に記録することができ、この干渉縞からの記録された情報を使用して、試料の異なる部分をそれぞれ表す複数のＯＣＴ信号を生成することができる。

図１は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの一例１００を示す図である。一部の実施形態では、システム１００は、ＯＣＴ信号を生成するために適した光源１０２を備えることができる。例えば、光源１０２は波長掃引レーザとすることができる。かかる例では、波長掃引レーザは任意の適切なＡスキャンレート（例えば、１期間あたりの波長範囲全体を掃引する回数等）で動作させることができ、その中心は任意の適切な周波数とすることができる。より具体的な一例では、Ａスキャンレートは約１２５キロヘルツ（kHz）、中心波長は１３００ナノメートル（nm）とすることができる。他の一例として、光源１０２は、波長ステップ周波数コム光源等の周波数コム光源とすることができる。かかる例では、波長ステップ周波数コムレーザは任意の適切なＡスキャンレート（例えば、１期間あたりの波長範囲全体をステップ変化により網羅する（step through）回数等）で動作させることができ、その中心は任意の適切な周波数とすることができる。例えば、Ａスキャンレートは約１２５kHz、２５０kHz、５００kHz、１MHz、２MHz、４MHz、又は任意の他の適切なスキャンレートとすることができ、中心波長は約１３００ナノメートル（nm）、１０５０nm、１５８０nm、又は任意の他の適切な波長とすることができる。他の具体例では光源１０２は、フーリエ領域モードロックレーザ、垂直共振器面発光レーザ、ストレッチパルスモードロックレーザ、位相符号モードロックレーザを使用して構成することができる。

一部の実施形態では、光源１０２は任意の適切な１つ又は複数の光学部品を用いてシステム１００のサンプルアーム及び参照アームに結合することができる。例えば、ファイバカプラ１０４が光源１０２から（例えば、光源１０２の出力側とファイバカプラ１０４の入力ポートとの間に光学的に結合された光ファイバ等の電磁波導波体を介して）光を受け取り、光の第１の一部分をサンプルアームに向けて出力すると共に、光の第２の一部分を参照アームに向けて出力することができる。一部の実施形態では、光源光の任意の適切な一部分をサンプルアームに送ることができる。例えば、ファイバカプラ１０４で受け取った光源光の半分超をサンプルアームに送り、半分未満を参照アームに送ることができる。より具体的な一例として、ファイバカプラ１０４で受け取った光源光の約８０％をサンプルアームに送り、２０％を参照アームに送ることができる。

一部の実施形態では、サンプリングアームはシングルモード光ファイバ１０６等の電磁波導波体を備えることができ、これは、ファイバカプラ１０４の出力側とＮ方向光スプリッタ１０８の入力側とに光学的に結合される。一部の実施形態では、Ｎ方向スプリッタ１０８は任意の適切な１つの光学部品又は部品の任意の適切な組み合わせを用いて構成することができる。例えばＮ方向スプリッタ１０８は、Ｎ方向プレーナ光波回路として構成することができる。他の一例として、Ｎ方向スプリッタ１０８は、モノリシック構造の光ファイバ融着型スプリッタとして構成することができる。さらに他の一例として、N方向スプリッタ１０８は、光スプリッタをカスケード接続することによって構成された光ファイバ融着型スプリッタとして実施することができる。

一部の実施形態では、Ｎ方向スプリッタ１０８の出力部は、ファイバ束１１０等のＮ個の電磁波導波体に結合することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１１０は、任意の適切な１つの部品又は部品の任意の適切な組み合わせを用いて構成することができる。例えば、少なくともＮ個の光ファイバを有する光ファイバリボンを用いてファイバ束１１０を構成することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１１０の各光ファイバはシングルモード光ファイバとすることができる。

一部の実施形態では、Ｎ個の各光ファイバ１１０の出力側をサンプリング光学系１１２に結合することができる。一部の実施形態では、サンプリング光学系はファイバ束１１０の各光ファイバから光を受け取って各ファイバからの光を光のビームに変換し、得られたＮ個のビーム１１４を試料１１６の表面又はその近傍に集光することができる。試料１１６は各ビームの一部を後方散乱してサンプリング光学系１１２に戻すことができる。サンプリング光学系１１２は、試料１１６から後方散乱した光を受け取り、Ｎ個の各ビーム１１４からの後方散乱光を、ファイバ束１１８の各対応するファイバ等のＮ個の電磁波導波体に送ることができる。一部の実施形態では、ファイバ束１１８は、ファイバ束１１０を構成するために使用される部品と同様の部品を使用して構成することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１１８の各光ファイバはシングルモード光ファイバとすることができる。

一部の実施形態では、参照アームはシングルモード光ファイバ１２０等の電磁波導波体を備えることができ、これは、ファイバカプラ１０４の出力側とＮ方向光スプリッタ１２２の入力側とに光学的に結合される。一部の実施形態では、Ｎ方向スプリッタ１２２は任意の適切な１つの光学部品又は部品の任意の適切な組み合わせを用いて構成することができる。例えば、Ｎ方向スプリッタ１２２は、Ｎ方向スプリッタ１０８を構成するために使用される部品と同様の部品を使用して構成することができる。

一部の実施形態では、Ｎ方向スプリッタ１２２の出力部は、ファイバ束１２４の個々のファイバ等のＮ個の電磁波導波体に結合することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１２４は、任意の適切な１つの部品又は部品の任意の適切な組み合わせを用いて構成することができる。例えば、ファイバ束１２４は、ファイバ束１１０を構成するために使用される部品と同様の部品を使用して構成することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１２４の各光ファイバはシングルモード光ファイバとすることができる。

一部の実施形態では、ファイバ束１１８の遠位端はミキサ１３０の入力部の第１のセットに光学的に結合することができ、ファイバ束１２４の遠位端はミキサ１３０の入力部の第２のセットに光学的に結合することができる。一部の実施形態では、ミキサ１３０はファイバ束１１８及びファイバ束１２４の個々のファイバそれぞれからの光をビームに変換し、ファイバ束１１８からの各ビームをファイバ束１２４からの対応するビームとそれぞれ合波することができる。

一部の実施形態では、信号を合波したときに、サンプルアームからのビームの経路長（例えば、試料からの後方散乱光の経路長）と参照アームからのビームの経路長との差が試料１１６の構造に関係する干渉パターンを生じさせることができる。一部の実施形態では、参照アーム及びサンプルアームの光路長は、ほぼ等しくすることができる。さらに、一部の実施形態では、参照アーム及び／又はサンプルアームの経路長を可変とし、ＯＣＴシステム１００のターゲット距離を調整可能とすることができる。

一部の実施形態では、ミキサ１３０の出力部は、ファイバ束１３２等のＮ個の電磁波導波体に結合することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１３２は、任意の適切な１つの部品又は部品の任意の適切な組み合わせを用いて構成することができる。例えば、少なくともＮ個の光ファイバを有する光ファイバリボンを用いてファイバ束１３２を構成することができる。さらに一部の実施形態では、ミキサ１３０を２Ｎ個の電磁波導波体（例えば２つのファイバ束１３２等）に結合することができ、この２Ｎ個の電磁波導波体の各対が、関連する信号を伝送する。

一部の実施形態では、検出器１３４をミキサ１３０の１つ又は複数の出力部に結合することができ、検出器１３４は、試料１１６に入射したＮ個の各ビームに係るＯＣＴ信号を生成することができる。一部の実施形態では、検出器１３４は任意の適切な１つの技術又は技術の任意の適切な組み合わせを用いて実現することができる。例えば、下記にて図５を参照して説明するように、検出器１３４はバランス検出器を用いて構成することができ、各バランス検出器はミキサ１３０から一対の干渉縞信号を受け取って、データ取得ボードの各対応するチャネルに出力を供給する。一部の実施形態では、検出器１３４からの信号を用いて、試料１１６の構造を描出するＯＣＴ画像を生成することができる。

一部の実施形態では参照アームは、当該参照アームを介して伝播するビーム（例えば、ファイバ束１２４を介して伝播するＮ個の全てのビーム）に影響を及ぼす共通の光学機能を引き起こすように構成可能な部品１４２（本願明細書では位相制御部、偏光制御部及び／又は変調部品と称することがある）を備えることができる。例えば、一部の実施形態では変調部品１４２は、参照アーム内の電磁波の位相の変調、参照アーム内の電磁波の偏光の変調、参照アーム内の電磁波の位相及び偏光の変調、参照アーム内の電磁波の光学周波数の変調若しくはシフト、並びに／又は、他の任意の適切な機能を実行するように構成することができる。より具体的な一例では、変調部品１４２は光学位相変調器とすることができる。他の一具体例では、変調部品１４２は光学偏光変調器とすることができる。より具体的な他の一例では、変調部品１４２は光学位相偏光変調器とすることができる。

一部の実施形態では、（例えば変調部品１４２等により）電磁波の位相の変調を行うことにより、複素干渉縞信号（例えば、ヘテロダイン検出技術を用いて検出可能な成分を含む信号）を生成することができる。例えば、参照アーム内の電磁波の位相を変調することにより、参照アームの位相変調された電磁波が（例えばミキサ１３０等において）サンプルアームの電磁波と相互作用したときに複素干渉縞信号を生成させることができる。複素干渉縞信号に含まれる情報を使用して、ＯＣＴ及びサブサンプリングＯＣＴ（サーキュラーレンジング（circular-ranging）ＯＣＴと称することもある）における正及び負の光学遅延スペースを識別することができる。

一部の実施形態では、変調部品１４２は、任意の適切な技術又は技術の任意の適切な組み合わせを用いて位相変調器として構成することができる。例えば、変調部品１４２は電気光学変調器とすることができ、及び／又は電気光学変調器を備えることができる。より具体的な一例では、変調部品１４２はニオブ酸リチウム変調器とすることができる。他の一例として、変調部品１４２は音響光学変調器とすることができ、及び／又は、音響光学変調器を備えることができる。より具体的な一例では、変調部品１４２は光学周波数シフタとすることができる。

一部の実施形態では、（例えば変調部品１４２等によって）電磁波の偏光を変調することにより、多様な偏光の干渉測定を容易にすることができる。例えば、２つ以上の異なる偏光状態で別々に、参照アームを伝播した電磁波とサンプルアームを伝播した電磁波との干渉を測定することができる。多様な偏光の干渉測定により、検出される信号の信号対雑音比を増大させることができる。

一部の実施形態では、変調部品１４２は、任意の適切な技術又は技術の任意の適切な組み合わせを用いて偏光変調器として構成することができる。例えば、変調部品１４２は、ＴＥ（transverse electric）光学モード及びＴＭ（transverse magnetic）光学モードにおいて異なった位相変調を引き起こして偏光の変調を行う電気光学変調器又は音響光学変調器とすることができ、及び／又は、かかる電気光学変調器又は音響光学変調器とすることができる。より具体的な一例として、ニオブ酸リチウム変調器を使用して、ＴＥ光学モード及びＴＭ光学モードにおいて種々の位相応答を行う電気光学変調器を設けることができる。

一部の実施形態ではサンプルアームは、当該サンプルアームを介して伝播するビーム（例えば、ファイバ束１１０を介して伝播するＮ個の全てのビーム）に影響を及ぼす共通の光学機能を引き起こすように構成可能な部品１４４（本願明細書では位相制御部、偏光制御部及び／又は変調部品と称することがある）を備えることができる。一部の実施形態では、変調部品１４４は、例えば上記にて変調部品１４２について説明した技術等の任意の適切な技術を用いてサンプルアームの電磁波の位相、偏光及び／又は光学周波数を変調する構成とすることができる。

一部の実施形態では、変調部品１４２及び／又は変調部品１４４を省略することができる。追加的又は代替的に、一部の実施形態では、変調部品１４２は位相変調器を含み、変調部品１４４は位相変調器を省略することができる（又はその逆も可能である）。一部の実施形態では、変調部品１４２及び変調部品１４４は偏光変調器を含むことができる。

一部の実施形態では、変調部品１４２及び／又は変調部品１４４は、連続する複数のＡライン間に変調を引き起こす位相変調及び／若しくは偏光変調を引き起こすように構成することができ、又は１つのＡラインの中で変調を引き起こすことができる。さらに、光源１０２が波長ステップ周波数コム光源として実現されている場合、変調部品１４２及び／又は変調部品１４４は、連続する複数のＡライン間、波長ステップ周波数コム光源の複数の光パルス間等に変調を引き起こすこともできる。

一部の実施形態では参照アームは、各参照アームファイバ（例えばファイバ束１２４の各ファイバ等）における電磁波の光学遅延を制御するために、可変光学遅延要素（不図示）を含むことができる。例えば、光学遅延部品をスプリッタ１２２より前に（例えばファイバ１２０に接続して）配置して、その光学遅延が参照アームの全てのビームに影響を及ぼすようにすることができる。この可変の光学遅延は、任意の適切な１つの技術又は技術の任意の適切な組み合わせを用いて実現することができる。例えば、可変の光学遅延は、ファイバ１２０の一部分の間に配される光サーキュレータと共に並進ステージ上に設けられるミラーを用いて実現することができる（例えば、ファイバカプラ１０４及び／又は変調部品１４２からの光は光サーキュレータによってミラーに送られることができ、ミラーによって反射された光は光サーキュレータによってスプリッタ１２２に向けて送られることができる）。他の一例として、ファイバ１２０の一部分の間に自由空間結合構成体を配置することができ、また、（例えば並進ステージ等を用いて）ファイバ１２０の一部分の間の距離を変化させることができる。追加的又は代替的に、可変光学遅延要素をサンプルアームに（例えばファイバ１０６と接続して）配置することができる。

図２は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステム１００の一部を実現するために使用できるスプリッタの一例２００を示す図である。一部の実施形態ではスプリッタ２００は、電磁波導波体に結合され、及び／又は電磁波導波体によって実現された入力部を有することができる。例えば、光ファイバ２０２はスプリッタ２００の入力部として機能することができ、及び／又は、スプリッタ２００の入力部に結合されることができる。

一部の実施形態では、光ファイバ２０２の近位端は光源（例えば光源１０２等）に結合することができ、光ファイバ２０２の遠位端は分割光学系２０４に結合することができる。例えば、光ファイバ２０２を使用して光ファイバ１０６又は光ファイバ１２０の少なくとも一部を実現することができる。

一部の実施形態では、分割光学系２０４は任意の適切な１つの技術又は技術の任意の適切な組み合わせを用いて実現することができる。例えば、分割光学系２０４はプレーナ光波回路を使用して実現することができる。他の一例として、上記にてＮ方向スプリッタ１０８について説明したように、分割光学系２０４は光ファイバ溶融型スプリッタとして実現されることができる。一部の実施形態では、分割光学系２０４は、光ファイバ２０２を介して受け取った光を任意の適切な数の部分に分割することができる。。例えば、一部の実施形態では分割光学系２０４は、光を８つの実質的に等しい部分に分割する１×８プレーナ光波回路とすることができる。他の一例として、分割光学系２０４は、例えば１×２プレーナ光波回路等の比較的小型のプレーナ光波回路を複数カスケード接続し、及び／又は他の態様で組み合わせることにより実現することができる。

一部の実施形態では、分割光学系２０４の複数の出力部を光ファイバ２０６の群に結合することができ、当該群の各光ファイバ２０６はそれぞれ、分割光学系２０４の１つのチャネルに光学的に結合された近位端と、他の光学デバイスに結合可能な遠位端と、を有する。例えば、光ファイバ２０６を用いてファイバ束１１０又はファイバ束１２４の少なくとも一部を実現することができる。

図３は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステム１００の一部を実現するために使用できるサンプリング光学系の一例３００を示す図である。図３に示すように、サンプリング光学系３００は光源から（例えばＮ方向スプリッタ１０８等を介して）光の複数の一部分を受け取ることができる。一部の実施形態では、サンプリング光学系３００は空間分離器３０２を備えることができ、空間分離器３０２は、光ファイバ束（例えば光ファイバ束１１０等）の各光ファイバの面がサンプリング光学系３００の他の光学要素に対して特定の相対位置及び特定の相対的向きに保持されるように当該光ファイバ束の複数の光ファイバの遠位端を機械的に位置決めするように構成されている。例えば、コア及びクラッドを含む光ファイバ束１１０の個々の光ファイバを正確に位置決めするための寸法のＶ字形溝に、コアを包囲するクラッドを配置することにより、光ファイバ束１１０の個々の光ファイバの各コアを位置決めすることができる。空間分離器３０２は、一次元で定義される特定の位置に（例えば直線状のＶ溝等を使用して）ファイバを位置決めすることができ、又は、二次元で定義される特定の位置（例えばアレイ等）にファイバを位置決めすることができる。一部の実施形態では、空間分離器３０２は任意の適切な部品を用いて実現することができる。例えば、空間分離器３０２は、カナダのオタワに本社を置くOZ Optics社から入手可能なシングルモードＶ溝アセンブリ等のＶ溝アセンブリとして実現することができる。他の一例として空間分離器３０２は、材料（例えばガラス、二酸化ケイ素等）に開けたウェル又はスルーホールのアレイに、ファイバのセットの各ファイバの面が互いに正確にアライメントするように個々のファイバを固定したものとすることができる。かかる例では、上述のようなウェル又はスルーホールは機械的に（例えば機械的な穿孔工具等を使用して）及び／又は他の加工法（例えばフォトリソグラフィ等）を用いて形成することができる。かかる例では、アレイのウェル又はスルーホールは、任意の適切な一次元又は二次元レイアウトで配置することができる（例えば１行又は１列に配置する、複数行又は複数列のセットに配置する、複数の同心円として配置する、等）。さらに他の一例では、空間分離器３０２を１つ又は複数のマルチコアファイバとして実現することができ、その各光学コアは、マルチコアファイバにおいて互いに特定の相対位置に配置されている。

一部の実施形態では、ファイバ束１１０の光ファイバに第１のレンズ３０４を光学的に結合することができる。図３に示すように、第１のレンズ３０４は、ファイバ束１１０の各光ファイバの面が第１のレンズ３０４の焦点距離ｆ_１と一致し、第１のレンズ３０４の光軸から特定の径方向距離にある点からビームを放射するように配置することができる。図３に示すように、第１のレンズ３０４は両凸レンズとすることができる。しかし、これはあくまで一例であり、第１のレンズ３０４（及び図面中に両凸レンズとして示されている他のレンズ）を実現するために多くの種類のレンズを使用することができる。例えば、いかなる種類の適切なレンズも除外することなく、本願明細書に記載されているマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのメカニズムを実現するために使用できる他の種類のレンズ（例えば、図３，４，６Ａ，６Ｂ及び１１に示されるレンズ）は、平凸レンズ、アクロマティック・ダブレットレンズ、フレネルレンズ、及び分布屈折率型（ＧＲＩＮ）レンズを含む。一部の実施形態では、ファイバ束１１０の光ファイバにより放射される全てのビームが同一平面上になるように当該ファイバ束１１０の光ファイバを一直線上に配置するために空間分離器３０２を使用する場合、第１のレンズ３０４に対する空間分離器３０２の位置決めは、第１のレンズ３０４の光軸がビームと同一平面上になるようにすることができる。例えば上記構成は、空間分離器３０２及び第１のレンズ３０４に対する１つ以上の他の部品のアライメントを容易にすることができる。

一部の実施形態では、ファイバ束１１０の各光ファイバは個々のビームを第１のレンズ３０４の第１面に向けて放射することができ、第１のレンズ３０４はファイバ束１１０から受け取った光を、当該第１のレンズ３０４の遠位側において焦点距離ｆ_１の位置に集光することができる。これにより、複数の各光ファイバからのビームを第１のレンズ３０４の焦点に収束させることができる。他の光学部品が存在しない場合、これらのビームは焦点の後で発散し、光ファイバの面から２＊ｆ_１の距離の位置においてビームは光軸にわたって鏡映され、空間分離器３０２によって位置決めされた光ファイバに対して鏡像位置を有する光ファイバのアレイによって当該ビームは収集されることとなる。

一部の実施形態では、サンプリング光学系３００は、第１のレンズ３０４及び／又は第２のレンズ３０８の焦点に配置された偏光ビームスプリッタ３０６を備えることができる。一部の実施形態では、偏光ビームスプリッタ３０６は第１のレンズ３０４から光を受け取り、第１の直線偏光を有する光の略全部を第２のレンズ３０８に向けて放射し、第２の直交偏光を有する全ての光を第２の光軸に向けて偏向することができる。一部の実施形態では、サンプルアームは偏光制御部（不図示）を備えることができ、偏光制御部は、ファイバ束１１０から放射された光の略全部を偏光ビームスプリッタ３０６が第２のレンズ３０８に向けて伝送するように、ファイバ束１１０から放射される光を均一な偏光状態にする。

一部の実施形態では、第１のレンズ３０４から放射されたビームは偏光ビームスプリッタ３０６の境界面で収束し、第２のレンズ３０８の第１面に向かって進むにつれて発散し始めることができる。第２のレンズ３０８は、偏光ビームスプリッタ３０６の境界面が第２のレンズ３０８の焦点距離ｆ_２と一致するように配置することができる。一部の実施形態では、第１のレンズ３０４の焦点距離と第２のレンズ３０８の焦点距離とを等しくすることができる（例えば、ｆ_１＝ｆ_２）が、これはあくまで例示であり、両レンズの焦点距離は異なることができる。

一部の実施形態では第２のレンズ３０８は、発散ビームが第２のレンズ３０８の光軸に対して平行に進む実質的に平行なビームとなるように、発散ビームを集光することができる。図３に示すように一部の実施形態では、第２のレンズ３０８は各ビームを、焦点距離ｆ_２の点に収束させることができる。例えば、偏光ビームスプリッタ３０６の境界面が、第２のレンズ３０８の第１面からの焦点距離ｆ_２と等しい距離に配されている場合、各ビームは、第２のレンズ３０８の第２面側の焦点距離ｆ_２と等しい距離に収束することができる。

一部の実施形態では、サンプリング光学系３００は、第２のレンズ３０８の焦点面かつ第３のレンズ３１２の焦点面に配置された１／４波長板３１０を備えることができる。一部の実施形態では、１／４波長板３１０は、第２のレンズ３０８から受け取った光の偏光を円偏光に移行させるように配置することができる。例えば、一部の実施形態では１／４波長板３１０は、１／４波長板３１０の高速軸が入射偏光軸に対して４５°の角度で出射光を円偏光にすることができるように配置することができる。一部の実施形態では、 １／４波長板３１０から各ビームを第３のレンズ３１２の第１面に向けて放射することができる。第３のレンズ３１２は、１／４波長板３１０の中心が第３のレンズ３１２の焦点距離f ₃と一致するように配置することができる。一部の実施形態では、第３のレンズ３１２の焦点距離は第１のレンズ３０４及び／又は第２のレンズ３０８の焦点距離と等しくすることができ、又は異なることができる。一部の実施形態では第３のレンズ３１２は、１／４波長板３１０から受け取ったビームを当該第３のレンズ３１２の遠位側の焦点距離ｆ_３に集光することができる。これにより、ファイバ束１１０の複数の各光ファイバに対応するビームを第３のレンズ３１２の焦点で収束させることができる。

一部の実施形態では、サンプリング光学系３００は、第３のレンズ３１２から受け取った光を試料１１６に向けて偏向する反射器３１４を備えることができる。反射器３１４は、当該反射器３１４の反射面が第３のレンズ３１２の焦点距離ｆ_３と一致するように配置することができる。一部の実施形態では反射器３１４は、平面鏡、ガルバノメータ、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）型のミラー、ポリゴンミラースキャナ等の任意の適切な反射面を用いて実現することができる。一部の実施形態では、反射器３１４の角度は固定又は調整可能とすることができる。例えば一部の実施形態では、反射器３１４はガルバノスキャナの表面とすることができ、このガルバノスキャナの表面は、反射器３１４が第３のレンズ３１２の光軸との間に成す角度を制御するために使用することができる。

一部の実施形態では、第３のレンズ３１２から放射されたビームは反射器３１４の反射面で収束し、第４のレンズ３１６の第１面に向かって進むにつれて発散し始めることができる。第４のレンズ３１６は、反射器３１４の反射面が第４のレンズ３１６の焦点距離ｆ_４と一致するように配置することができる。一部の実施形態では、第４のレンズ３１６の焦点距離は第１のレンズ３０４、第２のレンズ３０８及び／又は第３のレンズ３１２の焦点距離と等しくすることができ、又は異なることができる。

一部の実施形態では第４のレンズ３１６は、発散ビームが試料１１６の表面と交差したときに第４のレンズ３１６の光軸に対して平行に進む実質的に平行なビームとなるように、発散ビームを集光することができる。図３に示すように一部の実施形態では、第４のレンズ３１６は各ビームを、焦点距離ｆ_４の点に収束させることができる。例えば、反射器３１４の反射面が、第４のレンズ３１６の第１面からの焦点距離ｆ_４と等しい距離に配されている場合、各ビームは、第４のレンズ３１６の第２面側の焦点距離ｆ_４と等しい距離に収束し、この焦点距離ｆ_４に等しい距離を過ぎた後に発散し始めることができる（例えば、焦点距離ｆ_４においてビームウェストを形成する）。

一部の実施形態では、試料１１６は、試料に入射した各ビームの１つ以上の一部分を後方散乱させることができる。光が後方散乱する深さは、試料１１６の構造及び／又は入射光の波長に依存し得る。これにより、後方散乱した光と参照アームを伝搬した光との間に生じる位相差の大きさが異なり得る。さらに、試料１１６によって後方散乱された光の偏光も反転し得る。

一部の実施形態では、試料１１６によって後方散乱された光は、その偏光を１／４波長板によって、入射光に対して９０°オフセットした直線偏光に調整されて、光源１０２からの入射光と同一の経路を辿ってサンプリング光学系３００を戻ることができ、その後方散乱光の大部分は偏光ビームスプリッタ３０６によって、当該偏光ビームスプリッタ３０６の第２の光軸と一致する経路（例えば、第１のレンズ３０４及び第２のレンズ３０８の光軸に対して実質的に直交する光路等）に偏向される。

一部の実施形態では、第２のレンズ３０８の近位側から放射される後方散乱光のビームは、後方散乱光を反射することができる偏光ビームスプリッタ３０６の境界面で収束することができる。その後、後方散乱光のビームは、偏光ビームスプリッタ３０６の第２の光軸に沿って第５のレンズ３２０の第１面に向かって進むにつれて発散し始めることができる。第５のレンズ３２０は、偏光ビームスプリッタ３０６の境界面が第５のレンズ３２０の焦点距離ｆ_５と一致するように配置することができる。一部の実施形態では、第５のレンズ３２０の焦点距離は第１のレンズ３０４、第２のレンズ３０８、第３のレンズ３１２及び／又は第４のレンズ３１６の焦点距離と等しくすることができ、又は異なることができる。例えば、第１のレンズ３０４の第１面と第５のレンズ３２０の第２面とで一定のビーム間隔を維持するため（例えば、空間分離器３０２と後述の第２の空間分離器との間の間隔を一定にできるようにするため等）、第１のレンズ３０４の焦点距離と第５のレンズ３２０の焦点距離とが等しくなるように（例えば、ｆ_１＝ｆ_５とする）構成することができる。

一部の実施形態では、サンプリング光学系３００は第２の空間分離器３２２を備えることができ、第２の空間分離器３２２は、光ファイバ束（例えば光ファイバ束１１８等）の各光ファイバの面がサンプリング光学系３００の他の光学要素に対して特定の相対位置及び特定の相対的向きに保持されるように当該光ファイバ束の複数の光ファイバの近位端を機械的に位置決めするように構成されている。例えば、コア及びクラッドを含む光ファイバ束１１８の個々の光ファイバを正確に位置決めするための寸法のＶ字形溝に、コアを包囲するクラッドを配置することにより、光ファイバ束１１８の個々の光ファイバの各コアを位置決めすることができる。一部の実施形態では空間分離器３２２は、上記にて空間分離器３０２について説明した部品等の任意の適切な部品を用いて実現することができる。一部の実施形態では、第２の空間分離器３２２は、第５のレンズ３２０の第２面から放射された後方散乱光のビームがそれぞれ対応する光ファイバによって受光されるように配置することができる。下記にて説明するように、後方散乱光のビームを対応する光ファイバで受光して、対応する光ファイバがこの後方散乱光をミキサ（例えばミキサ１３０等）へ伝送するように、アライメントシステムを使用して空間分離器３２２を正確にアライメントすることができる。

図４は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのマルチビーム干渉計のミキシング部分を実現するために使用できる光学系の一例４００を示す図である。図４に示すように、自由空間ミキサ４００を実現するために使用できる部品は種々存在する。一部の実施形態では、自由空間ミキサ４００は空間分離器４０２を備えることができ、空間分離器４０２は、光ファイバ束（例えば光ファイバ束１２４等）の各光ファイバの面が自由空間ミキサ４００の他の光学要素に対して特定の相対位置及び特定の相対的向きに保持されるように当該光ファイバ束の複数の光ファイバの遠位端を機械的に位置決めするように構成されている。一部の実施形態では空間分離器４０２は、上記にて図３の空間分離器３０２について説明した部品等の任意の適切な部品を用いて実現することができる。

一部の実施形態では、ファイバ束１２４の光ファイバに第１のレンズ４０４を光学的に結合することができる。図４に示すように、第２のレンズ４１２は、ファイバ束１１８の各光ファイバの面が第２のレンズ４１２の焦点距離と一致し、第２のレンズ４１２の光軸から特定の径方向距離にある点から後方散乱ビームを放射するように配置することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１２４の光ファイバにより放射される全ての参照ビームが同一平面上になるように当該ファイバ束１２４の光ファイバを一直線上に配置するために空間分離器４０２を使用する場合、第１のレンズ４０４に対する空間分離器４０２の位置決めは、第１のレンズ４０４の光軸が参照ビームと同一平面上になるようにすることができる。例えば上記構成は、空間分離器４０２及び第１のレンズ４０４に対する１つ以上の他の部品のアライメントを容易にすることができる。

一部の実施形態では、ファイバ束１２４の各光ファイバは個々のビームを第１のレンズ４０４の第１面に向けて放射することができ、第１のレンズ４０４はファイバ束１２４から受け取った光を、当該第１のレンズ４０４の遠位側において１つの焦点距離ｆの位置に集光することができる。これにより、複数の各光ファイバからの参照ビームを第１のレンズ４０４の焦点に収束させることができる。他の光学部品が存在しない場合、これらの参照ビームは焦点の後で発散し、光ファイバの面から２＊ｆの距離の位置において参照ビームは光軸にわたって鏡映され、空間分離器４０２によって位置決めされた光ファイバに対して鏡像位置を有する光ファイバのアレイによって当該参照ビームは収集されることとなる。

一部の実施形態では自由空間ミキサ４００は、第１のレンズ４０４の焦点、第２のレンズ４１２の焦点、第３のレンズ４２０の焦点、かつ第４のレンズ４３０の焦点に配置されたビームスプリッタ４０６を備えることができる。一部の実施形態では、ビームスプリッタ４０６は第１のレンズ４０４から光を受け取ってその光の第１の一部分を第３のレンズ４２０に向けて偏向し、当該光の第２の一部分を第４のレンズ４３０に向けて透過させることができる。例えば、第１のレンズ４０４から受け取った光の約半分を第３のレンズ４２０に向けて偏向し、当該第１のレンズ４０４から受け取った光の約半分を第４のレンズ４３０に向けて透過することができる。

一部の実施形態では、自由空間ミキサ４００は第２の空間分離器４１０を備えることができ、第２の空間分離器４１０は、光ファイバ束（例えば光ファイバ束１１８等）の各光ファイバの面が自由空間ミキサ４００の他の光学要素に対して特定の相対位置及び特定の相対的向きに保持されるように当該光ファイバ束の複数の光ファイバの遠位端を機械的に位置決めするように構成されている。一部の実施形態では空間分離器４１０は、上記にて図３の空間分離器３０２について説明した部品等の任意の適切な部品を用いて実現することができる。

一部の実施形態では、ファイバ束１１８の光ファイバに第２のレンズ４１２を光学的に結合することができる。図４に示すように、第２のレンズ４１２は、ファイバ束１１８の各々の光ファイバの面が第２のレンズ４１２の焦点距離と一致するように配置することができ、第２のレンズ４１２の光軸からの特定の半径方向距離である点から後方散乱ビームを放射する。一部の実施形態では、ファイバ束１１８の光ファイバにより放射される全ての後方散乱ビームが同一平面上になるように当該ファイバ束１１８の光ファイバを一直線上に配置するために空間分離器４１０を使用する場合、第２のレンズ４１２に対する空間分離器４１０の位置決めは、第２のレンズ４１２の光軸が後方散乱ビームと同一平面上になるようにすることができる。例えば上記構成は、空間分離器４１０及び第２のレンズ４１２に対する１つ以上の他の部品のアライメントを容易にすることができる。

一部の実施形態では、ファイバ束１１８の各光ファイバは個々の後方散乱ビームを第２のレンズ４１２の第１面に向けて放射することができ、第２のレンズ４１２はファイバ束１１８から受け取った光を、当該第２のレンズ４１０の遠位側（光源１０２から遠位側）において１つの焦点距離ｆの位置に集光することができる。これにより、複数の各光ファイバからの後方散乱ビームを第２のレンズ４１２の焦点に収束させることができる。他の光学部品が存在しない場合、これらの後方散乱ビームは焦点の後で発散し、光ファイバの面から２＊ｆの距離の位置において後方散乱ビームは光軸にわたって鏡映され、空間分離器４１０によって位置決めされた光ファイバに対して鏡像位置を有する光ファイバのアレイによって当該後方散乱ビームは収集されることとなる。

一部の実施形態では、ビームスプリッタ４０６は第２のレンズ４１２から光を受け取ってその光の第１の一部分を第４のレンズ４３０に向けて偏向し、当該光の第２の一部分を第３のレンズ４２０に向けて透過させることができる。例えば、第２のレンズ４１２から受け取った光の約半分を第４のレンズ４３０に向けて偏向し、当該第２のレンズ４１２から受け取った光の約半分を第３のレンズ４２０に向けて透過することができる。

一部の実施形態では、第１のレンズ４０４から放射された参照ビームはビームスプリッタ４０６の境界面で収束することができ、第２のレンズ４１２から放射された後方散乱ビームは、直交方向からビームスプリッタ４０６の境界面で収束することができる。ビームスプリッタ４０６は第１のレンズ４０４から放射された参照ビームを分割し、第１の参照ビームはビームスプリッタ４０６によって透過され、第４のレンズ４３０の第１面に向かって進むにつれて発散し、第２の参照ビームはビームスプリッタ４０６によって反射され、第３のレンズ４２０の第１面に向かって進むにつれて発散することができる。ビームスプリッタ４０６は第２のレンズ４１２から放射された後方散乱ビームを分割し、第１の後方散乱ビームはビームスプリッタ４０６によって透過され、第３のレンズ４２０の第１面に向かって進むにつれて発散し、第２の後方散乱ビームはビームスプリッタ４０６によって反射され、第４のレンズ４３０の第１面に向かって進むにつれて発散することができる。一部の実施形態では、第１の参照ビームが、対応する第１の後方散乱ビームと合波して、第３のレンズ４２０の第１面に向かって発散する第１の干渉ビームを形成すると共に、第２の参照ビームが、対応する第２の後方散乱ビームと合波して、第４のレンズ４３０の第１面に向かって発散する第２の干渉ビームを形成するように、空間分離器４０２と第１のレンズ４０４と空間分離器４１０と第２のレンズ４１２とビームスプリッタ４０６とをアライメントすることができる。一部の実施形態では、第１の干渉ビームは、当該ビームに含まれる参照光と後方散乱光との相互作用により生じた干渉縞を含むことができる。

一部の実施形態では、第３のレンズ４２０及び第４のレンズ４３０は、ビームスプリッタ４０６の境界面が第３のレンズ４２０及び第４のレンズ４３０の焦点距離fと一致するように配置することができる。一部の実施形態では第３のレンズ４２０は、第１の干渉ビームが第３のレンズ４２０の光軸に対して平行に進む実質的に平行なビームとなるように第１の干渉ビームを集光することができ、また第４のレンズ４３０は、第２の干渉ビームが第４のレンズ４３０の光軸に対して平行に進む実質的に平行なビームとなるように第２のビームを集光することができる。一部の実施形態では、参照アームは偏光制御部（不図示）を備えることができ、偏光制御部は、ファイバ束１２４から放射された光の略全部の偏光が後方散乱ビームの偏光と同じになるように、ファイバ束１２４から放射される光を均一な偏光状態にする。例えば、光ファイバ１２０上に偏光制御部を挿入することができる。一般に、参照アーム及びサンプルアームにおける光が光ファイバ内（例えば光ファイバ１０６内、光ファイバ１２０内、ファイバ束１１０の各光ファイバ内、ファイバ束１１８の各光ファイバ内、及びファイバ束１２４の各光ファイバ内等）を伝播するに伴い、ファイバの物理的特性に起因して（例えば、ファイバにかかる曲げ又は応力等に起因して）偏光が任意に変化し得る。その上、サンプルアームには９０°の偏光変化が加わって、偏光ビームスプリッタ３０６による反射が引き起こされる。参照アームの光の偏光をサンプルアームの後方散乱ビームの偏光に一致させて自由空間ミキサにおけるビームの相互作用を増大させるため、参照アームにおける偏光制御部の操作を行うことができる。

一部の実施形態では、自由空間ミキサ４００は第３の空間分離器４２２を備えることができ、第３の空間分離器４２２は、光ファイバ束（例えば光ファイバ束１３２－１等）の各光ファイバの面が自由空間ミキサ４００の他の光学要素に対して特定の相対位置及び特定の相対的向きに保持されるように当該光ファイバ束の複数の光ファイバの近位端を機械的に位置決めするように構成されている。例えば、光ファイバ束１３２－１のそれぞれの個々の光ファイバのコアは、コア及びクラッドを含む個々の光ファイバを正確に位置決めするサイズにされた第３の空間分離器４２２のv字形の溝にコアを囲むクラッドを配置することによって位置決めすることができる。さらに、一部の実施形態では自由空間ミキサ４００は第４の空間分離器４３２を備えることができ、第４の空間分離器４３２は、光ファイバ束（例えば光ファイバ束１３２－２等）の各光ファイバの面が自由空間ミキサ４００の他の光学要素に対して特定の相対位置及び特定の相対的向きに保持されるように当該光ファイバ束の複数の光ファイバの近位端を機械的に位置決めするように構成されている。例えば、光ファイバ束１３２－２のそれぞれの個々の光ファイバのコアは、コア及びクラッドを含む個々の光ファイバを正確に位置決めするような寸法にされた第４の空間分離器４３２のv字形の溝にコアを取り囲むクラッドを配置することによって位置決めすることができる。

一部の実施形態では、空間分離器４２２及び４３２は、上記にて空間分離器３０２について説明した部品等の任意の適切な部品を用いて実現することができる。一部の実施形態では、ビームスプリッタ４０６から放射された第１の干渉ビームがそれぞれ対応する光ファイバによって受光されるように空間分離器４２２を配置できると共に、ビームスプリッタ４０６から放射された第２の干渉ビームがそれぞれ対応する光ファイバによって受光されるように空間分離器４３２を配置することができる。下記にて説明するように、干渉ビームをそれぞれ対応する光ファイバで受光して、対応する光ファイバがこの干渉光を検出器へ伝送するように、アライメントシステムを使用して空間分離器４２２及び４３２を正確にアライメントすることができる。なお一般に、ファイバ束１３２－１のファイバへ出力される干渉縞とファイバ束１３２－２の対応するファイバへ出力される干渉縞とは、当初は同一の偏光を有するが位相が１８０°異なる（例えば、一部がビームスプリッタ４０６によって生じる位相シフト等）。光がミキサ４００から伝播するにつれて、各ファイバ内の偏光は互いに発散しつつ（例えばシングルモードファイバの場合、ファイバ束１３２－１のファイバにおける光の偏光は、ファイバ束１３２－２の対応するファイバにおける光の偏光から発散し得る）、２つの信号の位相的な関係は一般に維持される。これにより直流ノイズ成分の抑圧を容易にし、バランス検出器を使用して干渉縞に含まれる信号を増幅することができる。

図５は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのための検出器の一部を実現するために使用できる部品の一例５００を示す図である。図５に示すように、検出器５００を実現するために使用できる部品は種々存在する。一部の実施形態では検出器５００は、光ファイバ束（例えば光ファイバ束１３２－１等）の各光ファイバを最大Ｎ個の個々の光ファイバ５０４～５０６に結合するために使用できる第１の光学ジャンクション５０２と、光ファイバ束（例えば光ファイバ束１３２－２等）の各光ファイバを最大Ｎ個の個々の光ファイバ５１４～５１６に結合するために使用できる第２の光学ジャンクション５１２と、を備えることができる。一部の実施形態では、任意の適切な１つ又は複数の部品を使用して第１の光学ジャンクション５０２及び／又は第２の光学ジャンクション５１２を実現することができる。例えば、光学ジャンクション５０２及び／又は光学ジャンクション５１２はジャンクションボックスを用いて実現することができる。他の一例として、ファイバ束１３２－１及び／又はファイバ束１３２－２の各光ファイバをコネクタに結合することができ、このコネクタは、対応する光ファイバを光学的に結合するために個々のファイバ５０４～５０６及び／又は５１４～５１６に結合された対応するコネクタに機械的に結合できるものである。一部の実施形態では、光学ジャンクション５０２及び／又は光学ジャンクション５１２を省略することができる。例えば、ファイバ束１３２－１及び／又はファイバ束１３２－２の個々のファイバの末端にコネクタを設けて、対応する検出器に結合することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１３２－１及び／又はファイバ束１３２－２の位置決めは、途中に別途ファイバ５０４～５０６及び／又は５１４～５１６を設ける必要なく、ファイバ束の各ファイバ／導波体から放射された光がそれぞれ対応する検出要素（例えば検出器５２０－１～５２０－Ｎ等）に向けて送られるようにすることができる。

一部の実施形態では、検出器５００はＮ個のバランス検出器５２０－１～５２０－Ｎを備えることができる。図５に示すように、一部の実施形態では各バランス検出器５２０はそれぞれ、ミキサ（例えばミキサ１３０等）からの干渉縞を伝送する一対の光ファイバに結合することができる。図５に示す例では、特定のバランス検出器５２０が受け取る２つの干渉縞は、同一の後方散乱信号を用いて生成されたものであった。

一部の実施形態では、各バランス検出器５２０はそれぞれ一対のバランス光検出器５２２を備えることができる。この一対のバランス光検出器５２２はそれぞれ個々の出力信号を生成し、これらの出力信号は減算回路５２４に入力され、減算回路５２４は一方の入力から他方の入力を減算することにより両干渉縞に含まれるコモンモードノイズを減少する。減算回路５２４は、少なくともＮ個のチャネルを有するデジタル取得ボード５３０の１つのチャネルに干渉縞信号を出力することができる。一部の実施形態では、デジタル取得ボード５３０は、各ビームが試料から後方散乱した各位置における当該試料の構造を示すＯＣＴデータを生成するために使用できる干渉縞信号を出力することができる。

一部の実施形態では、バランス検出動作は（例えばバランス検出器５２０を使用する代わりに）デジタルで実装することができる。例えば、ファイバ束１３２－２及びこれに関連する部品を省略し、ファイバ束１３２－１の各ファイバ／各導波体に（例えばバランス検出器５２０等に代えて）１つの検出器（例えば１つの光検出器等）を光学的に結合することができる。かかる事例では、ファイバ束１２４からの１つ又は複数のビームを、ファイバ束１１８からの対応するビームと混合させることなく１つ又は複数のファイバ１３２－１に光学的に結合して、ファイバ束１３２－１の少なくとも１つのファイバが参照アーム光のみを伝送するように（例えば、それと共にファイバ束１３２－１の他のファイバが干渉縞信号を伝送するように）することができる。より具体的な一例では、ファイバ束１１８の１つ以上のファイバはミキサ１３０に接続されていない。他のより具体的な一例として、ファイバ束１２４のファイバ数をファイバ束１１８より多くし、参照アームのビームの方がサンプルアームのビームより多くすることができる。ファイバ束１３２－１のうち参照アーム光のみを有するファイバ／導波体に１つ又は複数の検出器（例えば参照検出器等）を光学的に結合して参照アーム光の強度を記録すると共に、干渉縞信号の強度を記録する他の検出器（例えば干渉縞検出器等）を設けることができる。他の具体的な一例として、上記の事例と共に、又は上記の事例に代えて、光源１０２から出力された光の一部（例えば１％、２％等）を参照アーム又はサンプルアームに通過させることなく１つ又は複数の参照検出器に送り、ファイバ束１３２－１のファイバの参照アーム信号と実質的に同様の信号を供給することができる。干渉縞検出器からのデジタル形式の信号から、参照検出器からのデジタル形式の信号を差し引くことにより、他の検出器のデジタル形式の干渉縞信号、ノイズ（例えばレーザパワーの変動により引き起こされるノイズ等）を除去することができる。

図６Ａ及び６Ｂは、本願開示の主題の一部の実施形態の自由空間ギャップを跨ぐ複数の光ファイバをアライメントするために使用できる部品の配置の一例６００の上面図及び側面図である。一部の実施形態では、ここで記載した技術を用いて試料を調べ、干渉縞を自由空間において生成するためにビームを生成するのに用いられる複数の各部品間の強い光学的結合を実現するためには、部品の非常に高精度なアライメントが必要となり得る。一部の実施形態では、アライメント部品６００を使用して、（１つ又は複数の）ビーム形成（beam forming）光ファイバ（例えば光ファイバ６０２等）と集光部品（例えばレンズ６０６－１等）とをアライメントし、光ファイバ６０２とレンズ６０１－１とのアセンブリと、光ファイバ６２０とレンズ６０６－２との対応するアセンブリと、をアライメントすることができる。

一部の実施形態では、空間分離器６０４－１を介して光ファイバ６０２を６軸ステージ６０８－１に機械的に結合することができる。これにより、６軸ステージ６０８－１及び光ファイバ６０２のビーム形成面の向きを維持することができ、これにより、光ファイバ６０２から放射されるビームの方向を他の部品アライメント部品６００を基準として調整することができる。一部の実施形態では、空間分離器６０４－１は一群の光ファイバの向きを互いに固定すると共に、６軸ステージ６０８－１に対して固定することにより、その複数の各光ファイバから放射されるビームの方向を一括して調整することができる。

一部の実施形態では、６軸ステージ６０８－１は治具６１０－１を介してレンズ６０６－１に機械的に結合することができ、治具６１０－１は傾斜回転ステージ６１２－１に取り付けることができ、傾斜回転ステージ６１２－１はリニアステージ６１４－１に取り付けることができる。一部の実施形態では、レンズ６０６－１と光ファイバ６０４－１との相対的向きを変化させることなく、傾斜回転ステージ６１２－１及び／又はリニアステージ６１４－１を用いて治具６１０－１の位置を調整することができる。一部の実施形態では、アライメント部品６００を用いて光ファイバ６０２と光ファイバ６２０とのアライメントを調整することにより、光ファイバ６０２から放射されたビームが光ファイバ６２０によって受光されることを保証することができる。さらに一部の実施形態では、アライメント部品の出力側に関連付けられた複数の各ファイバチャネル（例えば光ファイバ６２０及び少なくとも１つの他の光ファイバ等）にパワーメータを関連付け、全てのファイバチャネルからの総光パワーが最大限になるまで、傾斜回転ステージ６１２－１及び／若しくはリニアステージ６１４－１を用いて治具６１０－１の位置を調整し、並びに／又は、レンズ６０６－１及び光ファイバ６０４－１の相対的向きを調整することができる。

各空間分離器６０４がそれぞれ８つの光ファイバを位置決めする具体的な一例では、空間分離器６０４を６軸ステージ６０８に取り付けることができ、６軸ステージ６０８は、当該空間分離器６０４によって固定された光ファイバの光学レンズ６０６に対する相対位置及び相対角度（例えばヨー及びピッチ等）を制御することができ、これにより、レンズ６０６から少なくとも１つの焦点距離の場所に開口絞りが位置する８つのコリメートされたビームが提供される。ステージのロール移動を制御することにより、空間分離器６０４の軸（例えば、Ｖ溝アセンブリ内のファイバコアと交差する仮想線等）が、対向するビーム受光側部品の空間分離器の軸に来る。６軸ステージ６０８とレンズ６０６との間のアライメントは、傾斜回転ステージ６１２に搭載された治具６１０により固定することができる。傾斜回転ステージ６１２を操作することにより、８つの放射の一括アライメントを行うことができる。下流の空間分離器により位置決めされた光ファイバに空間分離器６０４の一端面の８つの放射を確実に結合できるようにするために適切な距離（例えば、レンズ６０６の焦点距離が等しい場合には焦点距離の２倍等）に、レンズ６０６間の距離を一致させるため、リニア並進ステージ６１４を使用することができる。

一部の実施形態では、本願にて記載されているメカニズムと共に使用できる各種光学部品をアライメントするために、アライメント部品６００を使用することができる。例えば、ファイバ束１１０の各光ファイバから放射されたビームがファイバ束１１８の各対応する光ファイバに光学的に結合されることを保証するため、アライメント部品６００を使用して空間分離器３０２と第１のレンズ３０４と第５のレンズ３２０と空間分離器３２２とをアライメントすることができる。他の一例として、アライメント部品６００を用いてミキサ４００の部品をアライメントすることができる。

図７Ａは、本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムを用いて同時に得られた複数の光コヒーレンストモグラフィ信号からの情報を組み合わせることにより生成されたヒトの指のコンポジット構造Ｃスキャンの一例を示す図であり、これら複数の光コヒーレンストモグラフィ信号は図７Ｂに示されている。図７Ｂに示されているように、本願開示の主題の一部の実施形態により実現されるＯＣＴシステムを用いて、パネル（ａ）～（ｈ）に示す複数のＢスキャンを同時に取得した。複数のＢスキャンに含まれる情報を組み合わせて、試料のより大きな領域を描出するＣスキャンを生成することができる。

図８は、本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの複数のチャネルを用いて同時に生成されたマウスの耳内部の複数のアンファス（en face）光コヒーレンストモグラフィアンギオグラフィ画像の例と、本願開示の主題の一部の実施形態の複数のチャネルを用いて生成された情報から生成されたコンポジット・アンファス画像と、を示す図である。

図９は、本願開示の主題の一部の実施形態の複数のビームを用いて複数の光コヒーレンストモグラフィ画像を同時に生成するための処理の一例９００を示す図である。一部の実施形態では、処理９００は９００において、マルチビーム光コヒーレンストモグラフィシステムのＶ溝アセンブリと、対応するレンズとを、特定の性能レベルにアライメントすることにより開始することができる。例えば、システムの自由空間部分にわたる各対の光ファイバ間の光学的結合（例えばファイバ束１１０とファイバ束１１８との光学的結合又はファイバ束１１８とファイバ束１３２－１及び１３２－２との光学的結合等）によって検出器の各チャネルの受光信号強度が閾値を上回ることができるまで、アライメントを調整することができる（例えば、光学ミラー等の較正面等を用いて）。

一部の実施形態では、処理９００は、１つ以上の検出器（例えば検出器１３４及び／又は検出器５２０等）が受け取った信号をフィードバック信号として使用し、このフィードバック信号を使用してシステムの各種部品の向き及び／又は位置を調整することができる。

９０４において、処理９００は、Ｎ個のチャネルにわたって組織試料のＯＣＴ信号を同時に取得することを含むことができる。例えば、上述のメカニズムをＮ個のチャネルにわたって同時に使用し、上記の技術を用いた自由空間干渉計を用いて、ＯＣＴ信号を取得することができる。

一部の実施形態では、処理９００は、Ｎ個のビームを試料上で走査しながら複数のＡスキャンに対応する干渉縞信号を取得することができる（例えば試料を並進移動させ、光学系を並進移動させ、及び／又はガルバノスキャナによって走査することによって取得する）。

一部の実施形態では、処理９００は、Ｎ個のチャネルから受け取ったＯＣＴ信号を使用してＯＣＴデータを生成することができる。例えば処理９００は、９０４で受け取った干渉縞信号をＡスキャンに変換し、特定のチャネルからの複数のＡスキャンを組み合わせてＢスキャンを得ることができる。

処理９００は９０８において、Ｎ個のチャネルからのＯＣＴデータを組み合わせてコンポジットＯＣＴデータを生成することができ、このコンポジットＯＣＴデータは、１つのチャネルを用いて取得されたものより大きい領域にわたる試料の構造を描写するものである。一部の実施形態では、処理９００はデータを組み合わせる際に、Ｎ個のチャネルの比較的小さい差を考慮することができる。例えば処理９００は、特定のチャネルの参照経路長との経路長差に相当する分だけ、各チャネルからのＢスキャンを軸方向にシフトすることができる。

図１０は、本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチ参照アームスペクトル領域光コヒーレンストモグラフィのためのメカニズムの一部の実施形態と共に使用できるイメージング装置及び／又は計算機を実現するために使用できるハードウェア例１０００を示す図である。例えば、図１０に示すハードウェアを用いて、マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステム（例えばシステム１００等）の少なくとも一部を実現することができる。図１０に示されるように、一部の実施形態ではイメージングシステム１０１０は、ハードウェアプロセッサ１０１２、ユーザインタフェース及び／若しくは表示部１０１４、１つ若しくは複数の通信システム１０１８、メモリ１０２０、１つ若しくは複数の光源１０２２、１つ若しくは複数の電磁波検出器１０２６、並びに／又は１つ若しくは複数の光コネクタ１０２６を備えることができる。一部の実施形態では、ハードウェアプロセッサ１０１２は、中央処理装置（ＣＰＵ）、グラフィック処理装置（ＧＰＵ）、マイクロコントローラ（ＭＣＵ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、専用の画像処理プロセッサ等、任意の適切な１つのハードウェアプロセッサ又は複数のハードウェアプロセッサの組み合わせとすることができる。一部の実施形態では、（１つ若しくは複数の）入力部及び／又は表示部１０１４は、例えばコンピュータモニタ、タッチスクリーン、テレビ受像機、透明若しくは半透明ディスプレイ、ヘッドマウントディスプレイ等の任意の適切な（１つ若しくは複数の）表示装置、及び／又は、ユーザ入力を受け取るために使用できる例えばキーボード、マウス、タッチスクリーン、マイクロフォン、注視追跡システム、動きセンサ等の入力装置及び／若しくはセンサを備えることができる。

一部の実施形態では、通信システム１０１８は、通信ネットワーク１００２及び／又は他の任意の適切な通信ネットワークを介して情報を通信するための任意の適切なハードウェア、ファームウェア、及び／又はソフトウェアを含むことができる。例えば通信システム１０１８は、１つ以上の送受信器、１つ以上の通信チップ、及び／又は１つ以上の通信チップセット等を備えることができる。より具体的な一例では、通信システム１０１８は、ＷｉＦｉ接続、ブルートゥース（Bluetooth、登録商標）接続、携帯電話接続、イーサネット接続、光接続等を確立するために使用できるハードウェア、ファームウェア及び／又はソフトウェアを含むことができる。

一部の実施形態では、通信ネットワーク１００２は任意の適切な１つの通信ネットワーク又は通信ネットワークの任意の適切な組み合わせとすることができる。例えば通信ネットワーク１００２は、ＷｉＦｉ（登録商標）ネットワーク（１つ以上の無線ルータ、１つ以上のスイッチ等を含み得る）、ピア・ツー・ピア・ネットワーク（例えばブルートゥースネットワーク等）、携帯電話網（例えば３Ｇネットワーク、４Ｇネットワーク等、ＣＤＭＡ、ＧＳＭ、ＬＴＥ、ＬＴＥ Ａｄｖａｎｃｅｄ、ＷｉＭＡＸ（登録商標）等の任意の適切な規格に準拠したもの）、有線ネットワーク等を含むことができる。一部の実施形態では、通信ネットワーク１００２はローカルエリアネットワーク、ワイドエリアネットワーク、公共ネットワーク（例えばインターネット等）、プライベート若しくは半プライベートネットワーク（例えば企業若しくは大学イントラネット）、任意の他の適切な種類のネットワーク、又はネットワーク任意の適切な組み合わせとすることができる。図１０に示す通信リンクはそれぞれ、有線リンク、光ファイバリンク、ＷｉＦｉリンク、ブルートゥースリンク、携帯電話リンク等の任意の適切な１つの通信リンク又は通信リンクの任意の適切な組み合わせとすることができる。

一部の実施形態ではメモリ１０２０は、命令、値等を記憶するために使用できる１つ又は複数の任意の適切な記憶装置を含むことができ、当該命令、値等は例えば、１つ若しくは複数の光検出器により生成された画像データをハードウェアプロセッサ１０１２が処理するため、入力部／表示部１０１４を用いてコンテンツを提示するため、通信システム１０１８を介して計算機１０３０と通信するため等に使用できるものである。メモリ１０２０は、任意の適切な揮発性メモリ、不揮発性メモリ、記憶部、任意の他の適切な種類の記憶媒体、又はこれらの任意の適切な組み合わせを含むことができる。例えばメモリ１０２０は、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、１つ以上のフラッシュドライブ、１つ以上のハードディスク、１つ以上のソリッドステートドライブ、１つ以上の光学ドライブ等を含むことができる。一部の実施形態ではメモリ１０２０は、イメージングシステム１０１０の動作を制御するためのコンピュータプログラムを符号化したものを有することができる。かかる一部の実施形態では、ハードウェアプロセッサ１０１２がコンピュータプログラムの少なくとも一部を実行して（例えば上記にて図９を参照して説明したＯＣＴデータを取得するために）１つ以上の光源及び／又は検出器を制御し、画像を生成し及び／又は値を計算し（例えばＯＣＴ画像等）、計算機１０３０に情報を送信し及び／又は計算機１０３０から情報を受信し、（例えば上記にて図７～９を参照して説明したように）複数のチャネルからのＯＣＴ画像を組み合わせてコンポジットＯＣＴ画像を生成することができる。

一部の実施形態では、イメージングシステム１０１０は、１つ以上の光源１０２２、例えば、広帯域光源又はより狭帯域の光源であり得るコヒーレント又はインコヒーレント光源（例えば、レーザ、発光ダイオード又は発光ダイオードの合波、白色光源など）を含んでもよい。例えば、光源の帯域幅は、ＯＣＴシステムの最大撮像範囲にわたる深度検出を容易にする波長の範囲を提供するように選択することができる。さらに、一部の実施形態では、光源１０２２は、１つ以上のフィルタと関連づけることができる。

一部の実施形態ではイメージングシステム１０１０は、例えば１つ若しくは複数のフォトダイオード等の１つ若しくは複数の光検出器１０２４（例えばバランス検出器５２０等）並びに／又は１つ若しくは複数のイメージセンサ（例えばＣＣＤイメージセンサ又はＣＭＯＳイメージセンサ等、これらのうちいずれかは直線アレイ又は二次元アレイとすることができる）を含むことができる。例えば一部の実施形態では、検出器１０２４は、（例えばフィルタを使用し、複数の異なる波長の光を（１つ又は複数の）検出器の複数の部分に導くための光学系を使用して、等）特定の波長の光を検出するように構成された１つ以上の検出器を含むことができる。

一部の実施形態では、イメージングシステム１０１０は１つ以上の光コネクタ１０２６を備えることができる。例えばかかる光コネクタは、（１つ若しくは複数の）光源１０２２及び／又は検出器１０２４と光ファイバ（例えば光ファイバケーブルの一部としての光ファイバ等）との光学接続部を形成する光ファイバコネクタとすることができる。例えば、光コネクタ１０２６を使用して、ファイバカプラ（例えばファイバカプラ１０４等）を介して光源１０２２をシステム１００のサンプルアーム及び参照アームに結合することができる。

一部の実施形態では計算機１０３０は、ハードウェアプロセッサ１０３２、表示部１０３４、１つ以上の入力部１０３６、１つ以上の通信システム１０３８、及び／又はメモリ１０４０を備えることができる。一部の実施形態ではハードウェアプロセッサ１０３２は、例えばＣＰＵ、ＧＰＵ、ＭＣＵ、ＦＰＧＡ、専用の画像処理プロセッサ等の任意の適切な１つのハードウェアプロセッサ又はハードウェアプロセッサの組み合わせとすることができる。一部の実施形態では表示部１０３４は、例えばコンピュータモニタ、タッチスクリーン、テレビ受像機、透明又は半透明ディスプレイ、ヘッドマウントディスプレイ等の任意の適切な表示装置を備えることができる。一部の実施形態では入力部１０３６は、ユーザ入力を受け取るために使用できる例えばキーボード、マウス、タッチスクリーン、マイクロフォン、注視追跡システム、動きセンサ等の任意の適切な入力装置及び／若しくはセンサを備えることができる。

一部の実施形態では、通信システム１０３８は、通信ネットワーク１００２及び／又は他の任意の適切な通信ネットワークを介して情報を通信するための任意の適切なハードウェア、ファームウェア、及び／又はソフトウェアを含むことができる。例えば通信システム１０３８は、１つ以上の送受信器、１つ以上の通信チップ、及び／又は１つ以上の通信チップセット等を備えることができる。より具体的な一例では、通信システム１０３８は、ＷｉＦｉ接続、ブルートゥース（Bluetooth、登録商標）接続、携帯電話接続、イーサネット接続等を確立するために使用できるハードウェア、ファームウェア及び／又はソフトウェアを含むことができる。

一部の実施形態ではメモリ１０４０は、命令、値等を記憶するために使用できる１つ又は複数の任意の適切な記憶装置を含むことができ、当該命令、値等は例えば、ハードウェアプロセッサ１０３２が表示部１０３４を用いてコンテンツを提示するため、１つ又は複数のイメージング装置と通信するため等に使用できるものである。メモリ１０４０は、任意の適切な揮発性メモリ、不揮発性メモリ、記憶部、任意の他の適切な種類の記憶媒体、又はこれらの任意の適切な組み合わせを含むことができる。例えばメモリ１０４０は、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、１つ以上のフラッシュドライブ、１つ以上のハードディスク、１つ以上のソリッドステートドライブ、１つ以上の光学ドライブ等を含むことができる。一部の実施形態ではメモリ１０４０は、計算機１０３０の動作を制御するためのコンピュータプログラムを符号化したものを有することができる。かかる実施形態では、ハードウェアプロセッサ１０３２はコンピュータプログラムの少なくとも一部を実行して、１つ又は複数のイメージング装置（例えばイメージング装置１０１０等）からコンテンツ（例えば画像コンテンツ等）を受け取ること、複数のチャネルからのＯＣＴ画像を組み合わせてコンポジットＯＣＴ画像（例えば上記にて図７～９を参照して説明したもの等）を生成すること、コンテンツ（例えば画像及び／又は値等）を提示すること、１つ若しくは複数の他の計算機及び／又はイメージングシステムへコンテンツを送信すること等が可能である。

一部の実施形態では、計算機１０３０は、汎用コンピュータ又は特殊用途コンピュータ等の任意の適切な計算機とすることができる。例えば、一部の実施形態では計算機１０３０は、スマートフォン、ウェアラブルコンピュータ、タブレットコンピュータ、ラップトップコンピュータ、パーソナルコンピュータ、サーバ等とすることができる。他の一例として、一部の実施形態では計算機１０３０は、医療機器、システムコントローラ等とすることができる。

図１１は、本願開示の主題の一部の実施形態で実現されるマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムの一例１１００を示す図である。システム１１００は、１２５ｋＨｚのＡスキャンレートかつ１３００ｎｍの中心波長で動作する特注の波長掃引レーザを備えている。線形ｋ空間再標本化のための較正ベクトルを生成するために、レーザ出力の１％をマッハツェンダー干渉計（ＭＺＩ）に送る。出力の残りの９９％は、マルチビームＯＣＴ干渉計に送られる。参照アームでは、１×８ＰＬＣスプリッタ（デラウェア州ニューカッスルに本社を置くＦＳ社から入手可能）を使用して入力を８つのフィールドに分割し、これらを８光ファイバリボン上で伝送してＶ溝アセンブリ（ＶＧＡ、OZ Optics社から入手可能）へ送る。このＶ溝アセンブリのファイバ間隔は２５０マイクロメートル（μｍ）である。サンプルアームでは、８つのサンプルフィールドが１×８ＰＬＣを通過した後にＶＧＡ端面から８つの焦点へ中継される。これら８つの焦点は、マルチビーム顕微鏡の２つのテレスコープによって試料平面において８５０μｍだけ変位される。顕微鏡設計は、６．８×６．８ｍｍ視野にわたって回折限界焦点を提供するようにＺＥＭＡＸシミュレーションを用いて最適化されたものである。偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ）を用いて照射ビームの偏光状態を１つの状態に整列し、１／４波長板（ＱＷＰ）を二重通過することによって戻りビームの偏光状態が変化して入力状態に対して直交し、これによりビームはＰＢＳで反射されて他の追加のファイバリボンに結合され、この他の追加のファイバリボンを通って検出部に送られる。ビームスプリッタ（ＢＳ）に到着した８つの参照フィールドとサンプルフィールドはそれぞれ８つの干渉縞を生じさせ、ＢＳの各アームにおけるこれら干渉縞は、バランス検出のためにＶＧＡに結合される。８つの干渉縞は、１６チャネルのデータ取得ボード（AlazarTech社）の最初の８つのチャネルを介して取得される。当該ボードの９番目のチャネルを介してＭＺＩ信号が取得される。

システム１１００の８つのチャネルの経路長差を表１に示す。これらの経路長差は、リボンの各ファイバ長が不均一であることと、各ビームが顕微鏡内を進む光路長が異なることと、に起因する。最大の経路長差は約２００μｍで、これはシステムの到達深度より１桁小さかった。顕微鏡設計によって十分な収差補正が得られ、ファイバリボンへの戻りビームの測定された結合効率は６８．５％であった。システム感度は、各チャネルの試料への平均入射パワーが３．７ｍＷで、９２．１３±１．１３ｄＢであった。チャネル間の感度のばらつきは、その大半がファイバリボンにおける偏光分散に起因するものであり、これによって参照フィールドとサンプルフィールドとの間にチャネル依存性の偏光不整合が生じる。

図１２は、本願開示の主題の一部の実施形態の位相及び／又は偏光変調器の一部を実現するために使用できる部品の一例１２００を示す図である。一部の実施形態では、変調部品１２００は複数の位相変調器を使用して位相変調及び／又は偏光変調を提供することができる。一部の実施形態では、変調部品１４２及び／又は変調部品１４４は変調部品１２００を用いて実現することができる。

図１２に示すように、ファイバカプラ１２０４をサンプルアーム又は参照アーム（例えばシステム１００のサンプルアーム又は参照アーム等）の電磁波導波体１２０２（例えば光ファイバ等）に結合することができる。例えば光ファイバ１２０２は、（例えばファイバカプラ１２０４と光源１０２等の光源との間の光カプラ等を介して）ファイバカプラ１２０４の入力部を光源に光学的に結合することができる。一部の実施形態では、ファイバカプラ１２０４は（例えば、光源１０２の出力部とファイバカプラ１２０４の入力ポートとの間に光学的に結合された光ファイバ等の電磁波導波体及び／又はファイバカプラ等の他の光学部品等を介して）光源から光を受け取り、光の第１の一部分を第１の出力部から出力し、光の第２の一部分を第２の出力部から出力することができる。図１２に示すように、ファイバカプラ１２０４の第１の出力部に電磁波導波体１２０６（例えばシングルモード光ファイバ、偏波保持シングルモード光ファイバ等）を光学的に結合し、ファイバカプラ１２０４の第２の出力部に他の電磁波導波体１２０８を光学的に結合することができる。一部の実施形態では、光源光の任意の適切な一部分を光ファイバ１２０６に送ることができる。例えば、ファイバカプラ１２０４で受光された光源光の半分を光ファイバ１２０６及び光ファイバ１２０８の各光ファイバへ送ることができる。他の一例として、ファイバカプラ１２０４で受け取った光源光の半分超を光ファイバ１２０６又は光ファイバ１２０８に送り、半分未満を他の光ファイバに送ることができる。

一部の実施形態では、ファイバカプラ１２０４で受け取った光の第１の一部分が第１の位相変調器１２１０の入力部に入力されるように、光ファイバ１２０６を第１の位相変調器１２１０に光学的に結合することができる。さらに、一部の実施形態では、ファイバカプラ１２０４で受け取った光の第２の一部分が第２の位相変調器１２１２の入力部に入力されるように、光ファイバ１２０８を第２の位相変調器１２１２に光学的に結合することができる。

一部の実施形態では、光学変調器１２１０及び光学変調器１２１２は偏光ビームコンバイナ１２１８に光学的に結合されることができる。図１２に示すように、位相変調器１２１０と偏光ビームコンバイナ１２１８との間に偏光制御部１２１４を配置することができる。一部の実施形態では、偏光制御部１２１４は、偏光ビームコンバイナ１２１８において偏光状態を第１の偏光状態にアライメントすることができる。追加的又は代替的に、位相変調器１２１２と偏光ビームコンバイナ１２１８との間に偏光制御部１２１６を配置することができる。一部の実施形態では、偏光制御部１２１６は、偏光ビームコンバイナ１２１８において偏光状態を第２の偏光状態にアライメントすることができる。

上記に代えて、一部の実施形態では、偏波保持光ファイバを用いて各種部品を光学的に結合することができる。例えば、偏波保持光ファイバを使用して位相変調器１２１０と偏光ビームコンバイナ１２１８とを光学的に結合することができる。他の一例として、偏波保持光ファイバを使用して位相変調器１２１２と偏光ビームコンバイナ１２１８とを光学的に結合することができる。一部の実施形態では、偏光制御部１２１４及び／又は偏光制御部１２１６は省略することができる（例えば、偏波保持光ファイバを使用して部品を光学的に結合する場合等）。

一部の実施形態では、偏光制御部（例えば偏光制御部１２１４及び／又は偏光制御部１２１６等）及び／又は偏波保持光ファイバは、ファイバカプラ１２０４と偏光ビームコンバイナ１２１８との間で図１２に示す２つの経路を進む光を、偏光ビームコンバイナ１２１８において直交させることができる。

一部の実施形態では、偏光ビームコンバイナ１２１８による光出力は、２つの経路からの光の位相の関数である偏光を有する（例えば、ファイバカプラ１２０４と偏光ビームコンバイナ１２１８との間で図１２に示される２つの経路を横切る光の間の偏光が直交する場合）。

一部の実施形態では、位相変調器１２１０及び位相変調器１２１２はそれぞれ特定の位相シフトを引き起こすことができ、偏光ビームコンバイナ１２１８から放射される光の偏光には影響を及ぼさないが、出力の位相を特定の大きさだけ変化させることができる。例えば、位相変調器１２１０及び位相変調器１２１２は９０°の位相シフトを引き起こす構成とすることができ、これを利用して、参照アーム光とサンプルアーム光との間に９０°の位相シフトを引き起こすことができる。しかし、これはあくまで例示であり、位相変調器１２１０及び位相変調器１２１２は任意の大きさの位相シフトを引き起こすように構成することができる。代替的に、位相変調器１２１０は第１の位相シフトを引き起こし、位相変調器１２１２は、第１の位相シフトとは異なる第２の別の位相シフトを引き起こすように構成することができ、かかる位相シフトにより、偏光ビームコンバイナ１２１８から放射される光を、位相変調器１２１０及び１２１２が第１及び第２の位相シフトを引き起こさない場合に放射される状態とは異なる偏光状態で出力させることができる。例えば、位相変調器１２１０は－９０°の位相シフトを引き起こし、位相変調器１２１２は正の９０°の位相シフトを引き起こすように構成することができ（又はその逆）、かかる位相シフトにより、偏光ビームコンバイナ１２１８から放射される光の偏光を、位相シフトせずに偏光ビームコンバイナ１２１８から放射される光の偏光状態に対して直交する状態で出力させることができる。しかし、これはあくまで例示であり、位相変調器１２１０及び位相変調器１２１２は種々の偏光状態を引き起こすように構成することができる。

一部の実施形態では、位相変調器によって引き起こされる位相シフトを制御するため、位相変調器ドライバ１２３０が位相変調器１２１０及び／又は位相変調器１２１２に駆動信号を供給することができる。例えば、位相変調器ドライバ１２３０は、偏光ビームコンバイナ１２１８により出力される光の位相及び／又は偏光を制御するための駆動信号を供給することができる。具体的な一例では、位相変調器ドライバ１２３０は、第１の期間中に特定の変調（例えば位相及び／又は偏光等の変調）を引き起こす駆動信号を供給し、第２の期間中に異なる変調を引き起こす駆動信号を供給することができる。かかる例では、第１の期間は１つのＡライン、１つのＡラインの一部、波長ステップ周波数コム光源の１つ又は複数のパルス等に相当することができ、第２の期間は後続のＡライン、同じＡラインの別の一部、波長ステップ周波数コム光源の後続の１つ又は複数のパルス等に相当することができる。なお、位相変調器ドライバ１２３０は、偏光ビームコンバイナ１２１８からの出力に変調を与えない駆動信号を位相変調器１２１０及び／又は位相変調器１２１２に提供すること（又は、駆動信号の供給を禁止すること）も可能である。

一部の実施形態では、偏光ビームコンバイナ１２１８の出力をファイバカプラ１２２０の入力部に光学的に結合することができ、ファイバカプラ１２２０は光の第１の一部分を部品１２００からの出力として出力するため、光ファイバ１２２２へ通過させることができる。ファイバカプラ１２２０は、光の第２の一部分を光ファイバ１２２４へ通過させ、この光ファイバ１２２４は偏光子１２２６を介して検出器１２２８に結合することができる。一部の実施形態では、検出器１２２８の出力が、ファイバカプラ１２２０から出力された光の偏光を示すことができ、偏光ビームコンバイナからの出力を一定に維持するため、検出器１２２８の出力を位相変調器ドライバ１２３０へのフィードバックとして使用することができる。例えば、検出器１２２８からのフィードバックは、位相変調器ドライバ１２３０が位相変調器１２１０及び／又は１２１２の位相ドリフトを制御するために用いることができる。一部の実施形態では、ファイバカプラ１２２０は受光した光の大部分を光ファイバ１２２２の入力部に通過させるように設定することができる（例えば、５０％超、７５％超、８５％超、９０％超等）。一部の実施形態では、ファイバカプラ１２２０、偏光子１２２６及び検出器１２２８を省略することができる。

一部の実施形態では、偏光制御部は、位相変調器１２１０及び／又は位相変調器１２１２の直前（例えば、位相変調器の入力ポートに近接）に配置され、変調器に入力される光の偏光を、変調器に対する特定の相対的向きにアライメントすることができる。さらに、又は代替的に、光学偏光子は、ファイバカプラ１２０４に近接して配置され得る。例えば、１つの光学偏光子は、ファイバカプラ１２０４の入力ポートに近接して配置され得る。他の例として、光学偏光子は、出力ポートのファイバカプラ１２０４（例えば、各々の出力ポートで１つの偏光子）の近くに位置させることができる。さらに別の例として、光学偏光子を光ファイバ１２０６及び光ファイバ１２０８に沿って配置することができる。そのような実施形態では、偏光子又は偏光子の組は、時間又は波長の関数としての光偏光の変動を除去するために使用され得る。一部の実施形態では、偏光制御部は、任意の１つの偏光子、又は任意の合波の偏光子よりも先に配置され、偏光子の軸と共に入力偏光状態のアライメントを制御することができる。

図１３は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムのサンプリング光学系の一部であって図１に示されたシステムのサンプリング光学系の一部を実現するために使用できる部品の一例１３００を示す図である。一部の実施形態では、部品１３００を使用して、（例えば１つ又は複数の他の光学部品を介して）ファイバ束１１０及びファイバ束１１８を試料に結合することができる。図１３に示すように、ファイバ束１１０のＮ個の各ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルのＮ個の各ファイバ）をそれぞれ、光サーキュレータ１３０２－１～１３０２－Ｎの第１のポートに結合することができる。一部の実施形態では、各光サーキュレータ１３０２の第２のポートは、試料との間で光を伝送できるファイバ束１３０４の各対応する光ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルの各ファイバ）に結合することができる。各光サーキュレータ１３０２の第３のポートは、試料から受け取った光を検出器に伝送できる（例えばミキサ１３０を介して検出器１３４に伝送できる）ファイバ束１１８のＮ個のファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルの各ファイバ）のうちそれぞれ１つに結合することができる。

図１４は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムのサンプリング光学系の一部であって図１に示されたシステムのサンプリング光学系の一部を実現するために使用できる部品の他の一例１４００を示す図である。一部の実施形態では、部品１４００を使用して、（例えば１つ又は複数の他の光学部品を介して）ファイバ束１１０及びファイバ束１１８を試料に結合することができる。図１４に示すように、ファイバ束１１０のＮ個の各ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルのＮ個の各ファイバ）をそれぞれ、各対応するカプラの第１のポートに結合することができ、ファイバ束１１８のＮ個の各ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルの各ファイバ等）をそれぞれ、各対応する前記カプラの第２のポートに結合することができる。一部の実施形態では、Ｎ個のカプラは、プレーナ光波回路（ＰＬＣ）１４０２を使用して実現することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１４０４のＮ個の各ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルのＮ個の各ファイバ）をそれぞれ、各対応するカプラの第３のポートに結合することができる。ファイバ束１４０４は試料との間で光を伝送し、試料から戻った光はＰＬＣ１４０２の各カプラによって、ファイバ束１１８の各ファイバに伝送されることができ、ファイバ束１１８は試料から受け取った光を検出器へ（例えばミキサ１３０を介して検出器１３４等へ）伝送することができる。一部の実施形態では、ＰＬＣ１４０２は各カプラの第１のポートを第３のポートと第４のポートとに均等に結合すると共に、各カプラの第３のポートを第１のポートと第２のポートとに均等に結合するように構成することができる。かかる実施形態では、ファイバ束１１０から出力された光の半分をファイバ束１４０４の各ファイバに出力し、ファイバ束１４０４によって出力された試料からの光の半分をファイバ束１１８の各ファイバに出力することができる。

代替的に一部の実施形態では、ＰＬＣ１４０２は各カプラの第１のポートを第３のポートと第４のポートとの間で非対称に結合すると共に、各カプラの第３のポートを第１のポートと第２のポートとの間で非対称に結合するように構成することができる。例えば、ＰＬＣ１４０２はファイバ束１１０から出力された光の半分未満をファイバ束１４０４の各ファイバに送るよう構成することもできる（例えば１％、５％、１０％、２０％、２５％、３０％等）。他の一例として、ＰＬＣ１４０２はファイバ束１４０４から出力された試料からの光の半分超をファイバ束１１８の各ファイバに送るよう構成することもできる（例えば９９％、９５％、９０％、８０％、７５％、７０％等）。かかる事例では、ＰＬＣ１４０２のカプラは、第１のポートで受け取った光を第４のポートと第３のポートとへ特定の比（例えば９９／１、９５／５、９０／１０等）で出力し、第３のポートで受け取った光を第２のポートと第１のポートとへ同じ特定の比で出力するように構成することができる。一部の実施形態では、ＰＬＣ１４０２のカプラを非対称に構成することにより、ＰＬＣ１４０２によってファイバ束１４０４の各ファイバとファイバ束１１８の各ファイバとの間で伝送される光の光学損失を低減することができる。なお、図１４にはＰＬＣ１４０２によって構成されたＮ個のカプラを示したが、カプラは任意の適切な１つの技術又は技術の任意の適切な組み合わせを用いて実現することができる。例えば、ディスクリートのファイバコネクタ（例えばファイバコネクタ１０４と同様のもの）を使用してファイバ束１１０をファイバ束１４０４に結合し、ファイバ束１４０４をファイバ束１１８に結合することができる。

図１５は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムのサンプリング光学系の集光部であって図１に示されたシステムのサンプリング光学系の集光部を実現するために使用できる部品の他の一例１５００を示す図である。一部の実施形態では、集光光学系１５００は空間分離器１５０４を備えることができ、空間分離器１５０４は、光ファイバ束１５０２（例えばファイバ束１３０４、ファイバ束１４０４等）の各光ファイバの面が集光光学系１５００の他の光学要素に対して特定の相対位置及び特定の相対的向きに保持されるように当該光ファイバ束の複数の光ファイバの遠位端を機械的に位置決めするように構成されている。例えば、コア及びクラッドを含む光ファイバ束１５０２の個々の光ファイバを正確に位置決めするための寸法のＶ字形溝に、コアを包囲するクラッドを配置することにより、光ファイバ束１５０２の個々の光ファイバの各コアを位置決めすることができる。空間分離器３０２は、一次元で定義される特定の位置に（例えば直線状のＶ溝等を使用して）ファイバを位置決めすることができ、又は、二次元で定義される特定の位置（例えばアレイ等）にファイバを位置決めすることができる。一部の実施形態では、空間分離器１５０４は任意の適切な部品を用いて実現することができる。例えば、空間分離器１５０４は、カナダのオタワに本社を置くOZ Optics社から入手可能なシングルモードＶ溝アセンブリ等のＶ溝アセンブリとして実現することができる。他の一例として空間分離器１５０４は、材料（例えばガラス、二酸化ケイ素等）に開けたウェル又はスルーホールのアレイに、ファイバのセットの各ファイバの面が互いに正確にアライメントするように個々のファイバを固定したものとすることができる。かかる例では、上述のようなウェル又はスルーホールは機械的に（例えば機械的な穿孔工具等を使用して）及び／又は他の加工法（例えばフォトリソグラフィ等）を用いて形成することができる。かかる例では、アレイのウェル又はスルーホールは、任意の適切な一次元又は二次元レイアウトで配置することができる（例えば１行又は１列に配置する、複数行又は複数列のセットに配置する、複数の同心円として配置する、等）。さらに他の一例では、空間分離器１５０４を１つ又は複数のマルチコアファイバとして実現することができ、その各光学コアは、マルチコアファイバにおいて互いに特定の相対位置に配置されている。

一部の実施形態では、ファイバ束１５０２の光ファイバに第１のレンズ１５０６を光学的に結合することができる。図１５に示すように、第１のレンズ１５０６は、ファイバ束１５０２の各光ファイバの面が第１のレンズ１５０６の焦点距離ｆ_５と一致し、第１のレンズ１５０６の光軸から特定の径方向距離にある点からビームを放射するように配置することができる。図１５に示すように、第１のレンズ１５０６は両凸レンズとすることができる。しかし、これはあくまで一例であり、上記にて図３を参照して説明したレンズと同様、第１のレンズ１５０６（及び図面中に両凸レンズとして示されている他のレンズ）を実現するために多くの種類のレンズを使用することができる。一部の実施形態では、ファイバ束１５０２の光ファイバにより放射される全ての参照ビームが同一平面上になるように当該ファイバ束１２４の光ファイバを一直線上に配置するために空間分離器１５０４を使用する場合、第１のレンズ１５０６に対する空間分離器１５０４の位置決めは、第１のレンズ１５０６の光軸が参照ビームと同一平面上になるようにすることができる。例えば上記構成は、空間分離器１５０４及び第１のレンズ１５０６に対する１つ以上の他の部品のアライメントを容易にすることができる。

一部の実施形態では、ファイバ束１５０２の各光ファイバは個々のビームを第１のレンズ１５０６の第１面に向けて放射することができ、第１のレンズ１５０６はファイバ束１５０２から受け取った光を、当該第１のレンズ１５０６の遠位側において焦点距離ｆ_５の位置に集光することができる。これにより、複数の各光ファイバからのビームを第１のレンズ１５０６の焦点に収束させることができる。他の光学部品が存在しない場合、これらのビームは焦点の後で発散し、光ファイバの面から２＊ｆ_５の距離の位置においてビームは光軸にわたって鏡映されて試料に集光されることができる。

一部の実施形態では、集光光学系１５００は、第１のレンズ１５０６から受け取った光を試料１１６に向けて偏向する反射器１５０８を備えることができる。反射器１５０８は、当該反射器１５０８の反射面が第１のレンズ１５０６の焦点距離ｆ_５と一致するように配置することができる。一部の実施形態では反射器１５０８は、平面鏡、ガルバノメータ、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）型のミラー、ポリゴンミラースキャナ等の任意の適切な反射面を用いて実現することができる。一部の実施形態では、反射器１５０８の角度は固定又は調整可能とすることができる。例えば一部の実施形態では、反射器１５０８はガルバノスキャナの表面とすることができ、このガルバノスキャナの表面は、反射器１５０８が第１のレンズ１５０６の光軸との間に成す角度を制御するために使用することができる。

一部の実施形態では、第１のレンズ１５０６から放射されたビームは反射器１５０８の反射面で収束し、第２のレンズ１５１０の第１面に向かって進むにつれて発散し始めることができる。第２のレンズ１５１０は、反射器１５０８の反射面が第２のレンズ１５１０の焦点距離ｆ_６と一致するように配置することができる。一部の実施形態では、第２のレンズ１５１０の焦点距離は第１のレンズ１５０６の焦点距離と等しくすることができ、又は異なることができる（例えば、第１のレンズ１５０６の焦点距離は第１のレンズ３０４、第２のレンズ３０８、第３のレンズ３１２及び／又は第４のレンズ３１６の焦点距離と等しくすることができ、又は異なることができる）。

一部の実施形態では第２のレンズ１５１０は、発散ビームが試料１１６の表面と交差したときに第２のレンズ１５１０の光軸に対して平行に進む実質的に平行なビームとなるように、発散ビームを集光することができる。図１５に示すように一部の実施形態では、第２のレンズ１５１０は各ビームを、焦点距離ｆ_６の点に収束させることができる。例えば、反射器１５０８の反射面が、第２のレンズ１５１０の第１面からの焦点距離ｆ_６と等しい距離に配されている場合、各ビームは、第２のレンズ１５１０の第２面側の焦点距離ｆ_６と等しい距離に収束し、この焦点距離ｆ_６と等しい距離を過ぎた後に発散し始めることができる（例えば、焦点距離ｆ_６においてビームウェストを形成する）。

一部の実施形態では、試料１１６は、試料に入射した各ビームの１つ以上の一部分を後方散乱させることができる。光が後方散乱する深さは、試料１１６の構造及び／又は入射光の波長に依存し得る。これにより、後方散乱した光と参照アームを伝搬した光との間に生じる位相差の大きさが異なり得る。さらに、試料１１６によって後方散乱された光の偏光も反転し得る。

一部の実施形態では、試料１１６によって後方散乱された光は、光源１０２からの入射光と同一の経路を辿って集光光学系１５００を戻ることができ、その後方散乱光の大部分は空間分離器１５０４と一致する経路上で送られ、ファイバ束１５０２を辿って結合光学系に向かって戻される。

一部の実施形態では、サンプリング光学系１１２は、結合光学系１３００と集光光学系１５００との組み合わせ又は結合光学系１４００と集光光学系１５００との組み合わせを使用して実現することができる。

図１６は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのマルチビーム干渉計のミキシング部分を実現するために使用できる光学部品の一例１６００を示す図である。一部の実施形態では、ミキシング部品１６００はサンプルアーム及び参照アームから受け取ったＮ個のビームの光を合波することができる。図１６に示すように、ファイバ束１１８のＮ個の各ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルのＮ個の各ファイバ）をそれぞれ、各対応するファイバカプラ１６０２の第１のポートに結合することができ、ファイバ束１２４のＮ個の各ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルの各ファイバ等）をそれぞれ、各対応する前記ファイバカプラ１６０２の第２のポートに結合することができる。例えば、一部の実施形態では、ファイバ束１１８の第１のファイバをファイバカプラ１６０２－１の第１のポートに光学的に結合することができ、ファイバ束１２４の対応する第１のファイバをファイバカプラ１６０２－１の第２のポートに光学的に結合することができる。

一部の実施形態では、Ｎ個の個々のファイバカプラ１６０２を用いてＮ個のカプラを実現することができる。一部の実施形態では、第１のファイバ（例えばファイバ１６０４－１Ａ等）は各ファイバカプラ１６０２の第３のポートに光学的に結合することができ、第２のファイバ（例えばファイバ１６０４－１Ｂ等）は各ファイバカプラ１６０２の第４のポートに光学的に結合することができる。ファイバ１６０４－１Ａ及びファイバ１６０４－１Ｂは、干渉縞を検出器（例えば検出器１３４等）に伝送することができる。例えば、ファイバ１６０４－１Ａはファイバカプラ１６０２－１の第３のポートをバランス検出器の第１のポート（例えばバランス検出器５２０－１等）に光学的に結合することができ、ファイバ１６０４－１Ｂはファイバカプラ１６０２－１の第３のポートをバランス検出器の第２のポートに光学的に結合することができる。他のＮ－１個の各ファイバカプラ１６０２の第３のポート及び第４のポートを検出器（例えばバランス検出器等）に光学的に結合する際にも、同様に２つのファイバを用いることができる。なお一般に、特定のファイバカプラ１６０２の各ポートで出力される干渉縞は、当初は同一の偏光を有するが位相が１８０°異なる。ファイバカプラ１６０２から光が伝搬するにつれて、２つの干渉縞信号の位相関係は一般に維持されつつ、各ファイバにおける偏光は発散し得る（例えばシングルモードファイバの場合、ファイバ１６０４－１Ａにおける光の偏光はファイバ１６０４－１Ｂにおける光の偏光から発散し得る）。これにより直流ノイズ成分の抑圧を容易にし、バランス検出器を使用して干渉縞に含まれる信号を増幅することができる。

一部の実施形態では、バランス検出器を省略することができる。例えば、上記にて図５を参照して説明したように、バランス検出動作は（例えばバランス検出器５２０を使用する代わりに）デジタルで実装することができる。例えば、単一の検出器（例えば、単一の光検出器）を各々のファイバカプラ１６０２に光学的に結合させることができる（例えば、バランス検出器５２０の代わりに）。かかる事例では、ファイバ束１２４からの１つ又は複数のビームを、ファイバ束１１８からの対応するビームと混合させることなく１つの検出器に光学的に結合して、少なくとも１つのファイバ１６０４（例えば１６０４－ＮＡ等）が参照アーム光のみを伝送するように（例えば、それと共に他のファイバ１６０４が干渉縞信号を伝送するように）することができる。かかる事例では、ファイバ１６０４－１Ｂ～１６０４－ＮＢを省略することができる。より具体的な一例では、ファイバ束１１８の１つ以上のファイバはミキサ１３０を介して検出器１３４に光学的に接続されていない。他のより具体的な一例として、ファイバ束１２４のファイバ数をファイバ束１１８より多くし、参照アームのビームの方がサンプルアームのビームより多くすることができる。さらに他の具体的な一例として、上記の事例と共に、又は上記の事例に代えて、光源１０２から出力された光の一部（例えば１％、２％等）を参照アーム又はサンプルアームに通過させることなく１つ又は複数の参照検出器に送り、ファイバ束１２４のファイバの参照アーム信号と実質的に同様の信号を供給することができる。ファイバ束１２４のうち参照アーム光のみを有するファイバ／導波体に１つ又は複数の検出器（例えば参照検出器等）を光学的に結合して参照アーム光の強度を記録すると共に、干渉縞信号の強度を記録する他の検出器（例えば干渉縞検出器等）を設けることができる。干渉縞検出器からのデジタル形式の信号から、参照検出器からのデジタル形式の信号を差し引くことにより、他の検出器のデジタル形式の干渉縞信号、ノイズ（例えばレーザパワーの変動により引き起こされるノイズ等）を除去することができる。

一部の実施形態では、各ファイバカプラ１６０２の第１のポートで受光された光の約半分を、ファイバカプラ１６０２の第３のポート及び第４のポートで出力し、各ファイバカプラ１６０２の第２のポートで受光された光の約半分を、ファイバカプラ１６０２の第３のポート及び第４のポートで出力することができる。かかる実施形態では、サンプルアーム及び参照アームからの光をファイバカプラ１６０２において混合して干渉縞を生成することができ、この干渉縞はファイバカプラ１６０２の第３のポート及び第４のポートで出力される。

図１７は、本願開示の主題の一部の実施形態のマルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのマルチビーム干渉計のミキシング部分を実現するために使用できる光学部品の他の一例１７００を示す図である。

一部の実施形態では、ミキシング部品１６００はサンプルアーム及び参照アームから受け取ったＮ個のビームの光を合波することができる。図１７に示すように、ファイバ束１１８のＮ個の各ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルのＮ個の各ファイバ）をそれぞれ、ＰＬＣ１７０２を用いて実現された各対応するカプラの第１のポートに結合することができ、ファイバ束１２４のＮ個の各ファイバ（例えばリボン光ファイバケーブルの各ファイバ等）をそれぞれ、ＰＬＣ１７０２を用いて実現された各対応する前記ファイバカプラの第２のポートに結合することができる。

一部の実施形態では、ＰＬＣ１７０２はＮ個のカプラを実現することができる。一部の実施形態では、第１のファイバ（例えばファイバ１７０４－１Ａ等）はＰＬＣ１７０２の各カプラの第３のポートに光学的に結合することができ、第２のファイバ（例えばファイバ１７０４－１Ｂ等）はＰＬＣ１７０２の各カプラの第４のポートに光学的に結合することができる。ファイバ１７０４－１Ａ及びファイバ１７０４－１Ｂは、干渉縞を検出器（例えば検出器１３４等）に伝送することができる。例えば、ファイバ１７０４－１ＡはＰＬＣ１７０２の第１のカプラの第３のポートをバランス検出器の第１のポート（例えばバランス検出器５２０－１等）に光学的に結合することができ、ファイバ１７０４－１ＢはＰＬＣ１７０２の第１のカプラ第３のポートをバランス検出器の第２のポートに光学的に結合することができる。ＰＬＣ１７０２の他のＮ－１個の各カプラの第３のポート及び第４のポートを検出器（例えばバランス検出器等）に光学的に結合する際にも、同様に２つのファイバを用いることができる。代替的に、上記にて図１６を参照して説明したように、バランス検出動作は（例えばバランス検出器５２０を使用する代わりに）デジタルで実装することができる。

一部の実施形態では、ＰＬＣ１７０２の各カプラの第１のポートで受光された光の約半分を、当該カプラの第３のポート及び第４のポートで出力し、ＰＬＣ１７０２の各カプラの第２のポートで受光された光の約半分を、ファイバカプラ１７０２の第３のポート及び第４のポートで出力することができる。かかる実施形態では、サンプルアーム及び参照アームからの光をカプラにおいて混合して干渉縞を生成することができ、この干渉縞は当該カプラの第３のポート及び第４のポートで出力される。

［種々の特徴を有する他の実施形態例］
実施形態例１：
光源に光学的に結合されるように構成されたサンプルアームと、前記光源に光学的に結合されるように構成された参照アームとを備えた、マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムであって、前記サンプルアームは、前記光源に光学的に結合された近位端と、遠位端と、を有する第１の光ファイバと、前記第１の光ファイバの遠位端に光学的に結合されると共に、ｎ個の光ファイバを有する第１の複数の各光ファイバの近位端に光学的に結合された第１のスプリッタと、第１の複数の光学部品と、を備えており、前記第１の複数の光学部品は、前記複数の各光ファイバから複数の各ビームを受け取り、前記複数のビームを試料に向けて放射し、前記試料から、空間的に分離した複数の後方散乱光サンプルであって各後方散乱光サンプルが前記第１の複数のビームのうち１つに対応する複数の後方散乱光サンプルを受け取り、前記複数の後方散乱光サンプルを検出器に向けて送るように構成されており、前記参照アームは、前記光源に光学的に結合された近位端と、遠位端と、を有する第２の光ファイバと、前記第２の光ファイバの遠位端に光学的に結合されると共に、ｎ個の光ファイバを有する第２の複数の各光ファイバの近位端に光学的に結合された第２のスプリッタと、第２の複数の光学部品と、を備えており、前記第２の複数の光学部品は、前記複数の各後方散乱光サンプルをそれぞれ、前記第２の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバによって放射されたビームと合波して、複数の干渉縞を生じさせ、前記複数の各干渉縞を、複数の検出チャネルを有する前記検出器の対応するチャネルにそれぞれ送るように構成されており、前記検出器は、前記複数の後方散乱光サンプルが生成された複数の場所における前記試料の構造を示す光コヒーレンストモグラフィデータを出力するように構成されていることを特徴とするシステム。

実施形態例２：前記光源は波長掃引レーザである、実施形態例１のシステム。

実施形態例３：前記光源は波長ステップ周波数コム光源である、実施形態例１のシステム。

実施形態例４：前記サンプルアームはさらに、前記第１の複数の光ファイバの各光ファイバの遠位端に機械的に結合された第１の空間分離器を備えている、実施形態例１～３のいずれか１つのシステム。

実施形態例５：前記第１の空間分離器はＶ溝アセンブリを有する、実施形態例４のシステム。

実施形態例６：前記参照アームはさらに、前記第２の複数の光ファイバの各光ファイバの遠位端に機械的に結合された第２の空間分離器を備えている、実施形態例１～５のいずれか１つのシステム。

実施形態例７：前記特定のスペクトル範囲の中心は１３００ｎｍにある、実施形態例１～６のいずれか１つのシステム。

実施形態例８：前記第１のスプリッタは、前記第１の光ファイバから光を受け取り、受け取った当該光を複数の出力に分割するプレーナ光波回路スプリッタを有する、実施形態例１～７のいずれか１つのシステム。

実施形態例９：前記第１の複数の光学部品は、前記第１の複数の光ファイバに光学的に結合された第１面と、第２面と、を有する第１のレンズであって、前記第１のレンズの焦点距離に相当する第１の焦点距離で前記複数のビームを集光するように構成された第１のレンズと、前記第１のレンズの第２面から受け取った光を第２のレンズの第１面に向けて偏向し、前記第２のレンズの第１面から受け取った光を前記第１のレンズの第２面に向けて偏向する表面と、第１面が前記表面に光学的に結合された前記第２のレンズであって、前記表面から受け取った光を前記試料に向けて送ると共に前記試料から前記複数の後方散乱光サンプルを受け取る第２面を有する前記第２のレンズと、を有する、実施形態例１～８のいずれか１つのシステム。

実施形態例１０：前記第１の複数の光学部品は、前記第１の複数の光ファイバに光学的に結合された第１面と、第２面と、を有する第３のレンズであって、前記第３のレンズの焦点距離に相当する第１の焦点距離で前記複数のビームを集光するように構成された第３のレンズと、第１のポート、第２のポート、及び第３のポートを備えた偏光ビームスプリッタであって、第１の偏光を有する光を透過し、第２の偏光を有する光を偏向する第１の境界面を有する偏光ビームスプリッタと、を備えており、前記ビームスプリッタは、前記第１のポートで受け取った前記第１の偏光を有する光を前記第２のポートへ透過させ、前記第２のポートで受け取った前記第２の偏光を有する光を前記第３のポートに向けて偏向し、前記第１のポートは、前記第３のレンズから前記複数のビームを受け取るように前記第３のレンズの第２面に光学的に結合されており、前記第２のポートは、前記複数のビームを第４のレンズに向けて放射すると共に前記第４のレンズから複数の後方散乱光サンプルを受け取るように前記第４のレンズの第１面に光学的に結合されており、前記第３のポートは、前記複数のサンプルを第５のレンズに向けて放射するように構成されており、前記第４のレンズの第１面は前記第２のポートに光学的に結合されていると共に、前記第４のレンズは第２面を有し、前記ビームスプリッタはさらに、前記第４のレンズの第２面と前記第１のレンズの第１面とに光学的に結合された１／４波長板を備えており、前記第１のレンズの第１面は前記１／４波長板に光学的に結合されており、前記第５のレンズは、前記偏光ビームスプリッタの第３のポートに光学的に結合された第１面と、第３の複数の光ファイバに光学的に結合された第２面と、を有し、前記第１の複数の光ファイバ及び前記第３の複数の光ファイバの向きは、当該第１の複数の各光ファイバから放射された光が当該第３の複数の光ファイバのうち各対応する光ファイバへ送られる向きにされている、実施形態例９のシステム。

実施形態例１１：前記第１の複数の光学部品は、それぞれ第１のポートと、第２のポートと、第３のポートと、を有する複数の光サーキュレータを備えており、前記複数の各光サーキュレータの第１のポートはそれぞれ、前記第１の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記光源に光学的に結合されており、前記複数の各光サーキュレータの第２のポートはそれぞれ、第３の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記試料に光学的に結合されており、前記複数の各光サーキュレータの第３のポートはそれぞれ、第４の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記第２の複数の光学部品に光学的に結合されている、実施形態例１～９のいずれか１つのシステム。

実施形態例１２：前記第１の複数の光学部品は、第１のポート、第２のポート及び第３のポートをそれぞれ有する複数の光カプラを備えた第２のプレーナ光波回路を備えており、前記複数の各光カプラの第１のポートはそれぞれ、前記第１の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記光源に光学的に結合されており、前記複数の各光カプラの第２のポートはそれぞれ、第３の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記試料に光学的に結合されており、前記複数の各光カプラの第３のポートはそれぞれ、第４の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記第２の複数の光学部品に光学的に結合されている、実施形態例１～９のいずれか１つのシステム。

実施形態例１３：前記複数の各光カプラは、前記第１のポートで受け取った光のうち第１の割合を前記第３のポートから出力し、前記第１のポートで受け取った光のうち第２の割合を第４のポートから出力し、前記第３のポートで受け取った光のうち前記第１の割合を前記第１のポートから出力し、前記第３のポートで受け取った光のうち前記第２の割合を前記第２のポートから出力する、実施形態例１２のシステム。

実施形態例１４：前記第１の割合と前記第２の割合との比は約１である、実施形態例１３のシステム。

実施形態例１５：前記第１の割合と前記第２の割合との比は１未満である、実施形態例１４のシステム。

実施形態例１６：前記第３の複数の各光ファイバの遠位端に機械的に結合され、前記第３の複数の各光ファイバを前記第１のレンズの第１面に光学的に結合するように配された空間分離器をさらに備えている、実施形態例１０～１５のいずれか１つのシステム。

実施形態例１７：前記第２の複数の光学部品は、第１のポートと、第２のポートと、第３のポートとを有するビームスプリッタを備えており、前記第１のポートは、前記第２の複数の光学によって放射された光を受け取るように構成されており、前記第２のポートは、前記複数の後方散乱光サンプルを受け取るように構成されており、前記第３のポートは、前記複数の干渉縞を出力するように構成されている、実施形態例１～１６のいずれか１つのシステム。

実施形態例１８：前記検出器は、第１ポート及び第２のポートを有する複数のバランス検出器であって、前記検出器の各チャネルにそれぞれ対応する複数のバランス検出器を備えており、前記ビームスプリッタはさらに、第２の複数の干渉縞を出力するように構成された第４のポートを有し、前記複数の各バランス検出器はそれぞれ、前記複数の干渉縞のうちいずれかの干渉縞と、前記第２の複数の干渉縞のうち対応する干渉縞と、を受け取り、両干渉縞に基づいて信号を出力する、実施形態例１７のシステム。

実施形態例１９：前記第２の複数の光学部品は、第１のポート、第２のポート、第３のポート及び第４のポートをそれぞれ有する複数の光カプラを備えており、前記第１のポートは、前記第２の複数の各光ファイバを介して前記光源に結合されており、前記第２のポートは、第４の複数の各光ファイバを介して前記試料に結合されており、前記第３のポートは前記複数の各検出チャネルに結合されており、前記第４のポートは前記複数の各検出チャネルに結合されている、実施形態例１～１６のいずれか１つのシステム。

実施形態例２０：前記複数の各光カプラはディスクリートのファイバカプラである、実施形態例１９のシステム。

実施形態例２１：さらに第３のプレーナ光波回路を備えており、前記プレーナ光波回路は前記複数の光カプラを備えている、実施形態例１９のシステム。

実施形態例２２：前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は少なくとも、前記第２のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている、実施形態例１～２１のいずれか１つのシステム。

実施形態例２３：前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は少なくとも、前記第２のスプリッタに入力される光の位相を変調するように構成されている、実施形態例１～２２のいずれか１つのシステム。

実施形態例２４：前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は、前記第２のスプリッタに入力される光の位相を変調し、前記第２のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている、実施形態例１のシステム。

実施形態例２５：前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は少なくとも、前記第１のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている、実施形態例１～２４のいずれか１つのシステム。

実施形態例２６：前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は少なくとも、前記第１のスプリッタに入力される光の位相を変調するように構成されている、実施形態例１～２５のいずれか１つのシステム。

実施形態例２７：前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、前記変調部品は、前記第１のスプリッタに入力される光の位相を変調し、前記第１のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている、実施形態例１～２４のいずれか１つのシステム。

実施形態例２８：前記変調部品は、前記光源に光学的に結合された第１のポート、第２のポート、及び第３のポートを有するカプラと、前記カプラの第２のポートに光学的に結合された第１のポート、及び第２のポートを有する第１の位相変調器と、前記カプラの第３のポートに光学的に結合された第１のポート、及び第２のポートを有する第２の位相変調器と、前記第１の位相変調器に光学的に結合された第１のポート、前記第２の位相変調器に光学的に結合された第２のポート、及び第３のポートを有するビームコンバイナと、を備えている、実施形態例２２～２７のいずれか１つのシステム。

実施形態例２９：前記変調部品はさらに、前記カプラの第２のポートと前記第１の位相変調器の第１のポートとに光学的に結合された偏光制御部を備えている、実施形態例２８のシステム。

実施形態例３０：前記変調部品はさらに、前記カプラの第３のポートと前記第２の位相変調器のスポートとに光学的に結合された偏光制御部を備えている、実施形態例２８又は２９のシステム。

実施形態例３１：マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムであって、光源から第１の光を受け取り、第１の複数の各導波体にそれぞれ当該第１の光の一部分を出力するように配置された第１のスプリッタと、光学部品であって、前記第１の複数の導波体から光を受け取り、複数の各ビームが試料における横方向のそれぞれ異なる位置に当たるように、受け取った前記光を前記複数のビームとして前記試料に送り、前記試料の横方向における前記異なる位置から複数の後方散乱光サンプルを収集するように配置された光学部品と、前記光源から第２の光を受け取り、第２の複数の各導波体にそれぞれ当該第２の光の一部分を複数の参照光サンプルとして出力するように配置された第２のスプリッタと、前記複数の後方散乱光サンプルと前記複数の参照光サンプルとを受け取り、各後方散乱光サンプルをそれぞれ対応する参照光サンプルと合波して複数の干渉縞を出力するように配置されたミキサと、前記複数の干渉縞を受け取って、前記試料の横方向における各位置の構造をそれぞれ示す複数の光コヒーレンストモグラフィ信号を出力するように配置された検出器と、を備えていることを特徴とするシステム。

実施形態例３２：前記複数のビームは８つのビームを有する、実施形態３１のシステム。

実施形態例３３：前記第１のスプリッタはプレーナ光波回路スプリッタを有する、実施形態例３１又は３２のシステム。

実施形態例３４：前記光学部品は複数の光サーキュレータを備えており、前記複数の各光サーキュレータは、前記第１の複数の導波体のうちいずれかの導波体から前記複数のビームのうちいずれかのビームを受け取り、受け取った前記ビームを前記試料に向けて送り、後方散乱光サンプルを前記検出器に向けて送るように配置されている、実施形態例３１～３３のいずれか１つのシステム。

実施形態例３５：前記光学部品は複数の光カプラを備えており、前記複数の各光カプラは、前記第１の複数の導波体のうちいずれかの導波体から前記複数のビームのうちいずれかのビームを受け取り、受け取った前記ビームを前記試料に向けて送り、後方散乱光サンプルを前記検出器に向けて送るように配置されている、実施形態例３１～３３のいずれか１つのシステム。

実施形態例３６：さらに前記光源を備えている、実施形態例３１～３５のいずれか１つのシステム。

一部の実施形態では、本願にて記載されている機能及び／又は処理を行うための命令を記憶するために任意の適切なコンピュータ可読媒体を用いることができる。例えば一部の実施形態では、コンピュータ可読媒体は一時的又は非一時的な媒体とすることができる。例えば非一時的なコンピュータ可読媒体は、磁気媒体（例えばハードディスク、フロッピーディスク等）、光学ディスク（例えばコンパクトディスク、デジタルビデオディスク、ブルーレイ（Blu-ray、登録商標）ディスク等）、半導体媒体（例えばＲＡＭ、フラッシュメモリ、電気的プログラマブルリードオンリーメモリ（ＥＰＲＯＭ）、電気的消去可能プログラマブルリードオンリーメモリ（ＥＥＰＲＯＭ））、転送中に永続性のいかなる形も抜け落ちることなくまた欠けてもいない任意の適切な媒体、及び／又は任意の適切な有形の媒体等の媒体を含むことができる。他の一例として、一時的なコンピュータ可読媒体は、ネットワーク上、ワイヤ、導体、光ファイバ、回路、若しくは、転送中に永続性のいかなる形も抜け落ちることなくまた欠けてもいない任意の適切な媒体、又は任意の適切な無形媒体上の信号を含むことができる。

上記では特定の実施形態及び事例を参照して本願開示の主題を説明したが、当業者であれば本発明は必ずしもそのように限定する必要はなく、数多くの他の実施形態、例、使用、改良形態、並びに上記実施形態、例及び使用からの派生形態も、添付の特許請求の範囲に含まれることを意図していることが明らかである。ここで引用した各特許及び公開物の開示内容は全て参照により、かかる特許及び公開物が個別に参照により本願の開示内容に含まれている場合と同様、本願の開示内容に含まれる。

本発明の種々の特徴及び利点は、添付のクレームに記載されている。

Claims (36)

1. 光源に光学的に結合されるように構成されたサンプルアームと、前記光源に光学的に結合されるように構成された参照アームとを備えた、マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムであって、
   前記サンプルアームは、
   前記光源に光学的に結合された近位端と、遠位端と、を有する第１の光ファイバと、
   前記第１の光ファイバの遠位端に光学的に結合されると共に、ｎ個の光ファイバを有する第１の複数の各光ファイバの近位端に光学的に結合された第１のスプリッタと、
   第１の複数の光学部品と、
   を備えており、
   前記第１の複数の光学部品は、
   前記複数の各光ファイバから複数の各ビームを受け取り、
   前記複数のビームを試料に向けて放射し、
   前記試料から、空間的に分離した複数の後方散乱光サンプルであって各後方散乱光サンプルが前記第１の複数のビームのうち１つに対応する複数の後方散乱光サンプルを受け取り、
   前記複数の後方散乱光サンプルを検出器に向けて送る
   ように構成されており、
   前記参照アームは、
   前記光源に光学的に結合された近位端と、遠位端と、を有する第２の光ファイバと、
   前記第２の光ファイバの遠位端に光学的に結合されると共に、ｎ個の光ファイバを有する第２の複数の各光ファイバの近位端に光学的に結合された第２のスプリッタと、
   第２の複数の光学部品と、
   を備えており、
   前記第２の複数の光学部品は、
   前記複数の各後方散乱光サンプルをそれぞれ、前記第２の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバによって放射されたビームと合波して、複数の干渉縞を生じさせ、
   前記複数の各干渉縞を、複数の検出チャネルを有する前記検出器の対応するチャネルにそれぞれ送る
   ように構成されており、
   前記検出器は、前記複数の後方散乱光サンプルが生成された複数の場所における前記試料の構造を示す光コヒーレンストモグラフィデータを出力するように構成されている
   ことを特徴とするシステム。
2. 前記光源は波長掃引レーザである、
   請求項１記載のシステム。
3. 前記光源は波長ステップ周波数コム光源である、
   請求項１記載のシステム。
4. 前記サンプルアームはさらに、
   前記第１の複数の光ファイバの各光ファイバの遠位端に機械的に結合された第１の空間分離器
   を備えている、
   請求項１～３のいずれか１項記載のシステム。
5. 前記第１の空間分離器はＶ溝アセンブリを有する、
   請求項４記載のシステム。
6. 前記参照アームはさらに、
   前記第２の複数の光ファイバの各光ファイバの遠位端に機械的に結合された第２の空間分離器
   を備えている、
   請求項１～３のいずれか１項記載のシステム。
7. 前記特定のスペクトル範囲の中心は１３００ｎｍにある、
   請求項１記載のシステム。
8. 前記第１のスプリッタは、前記第１の光ファイバから光を受け取り、受け取った当該光をｎ個の出力に分割するプレーナ光波回路スプリッタを有する、
   請求項１記載のシステム。
9. 前記第１の複数の光学部品は、
   前記第１の複数の光ファイバに光学的に結合された第１面と、第２面と、を有する第１のレンズであって、前記第１のレンズの焦点距離に相当する第１の焦点距離で前記複数のビームを集光するように構成された第１のレンズと、
   前記第１のレンズの第２面から受け取った光を第２のレンズの第１面に向けて偏向し、前記第２のレンズの第１面から受け取った光を前記第１のレンズの第２面に向けて偏向する表面と、
   第１面が前記表面に光学的に結合された前記第２のレンズであって、前記表面から受け取った光を前記試料に向けて送ると共に前記試料から前記複数の後方散乱光サンプルを受け取る第２面を有する前記第２のレンズと、
   を有する、
   請求項１～３、６、７のいずれか１項記載のシステム。
10. 前記第１の複数の光学部品は、
    前記第１の複数の光ファイバに光学的に結合された第１面と、第２面と、を有する第３のレンズであって、前記第３のレンズの焦点距離に相当する第１の焦点距離で前記複数のビームを集光するように構成された第３のレンズと、
    第１のポート、第２のポート、及び第３のポートを備えた偏光ビームスプリッタであって、第１の偏光を有する光を透過し、第２の偏光を有する光を偏向する第１の境界面を有する偏光ビームスプリッタと、
    を備えており、
    前記ビームスプリッタは、前記第１のポートで受け取った前記第１の偏光を有する光を前記第２のポートへ透過させ、前記第２のポートで受け取った前記第２の偏光を有する光を前記第３のポートに向けて偏向し、
    前記第１のポートは、前記第３のレンズから前記複数のビームを受け取るように前記第３のレンズの第２面に光学的に結合されており、
    前記第２のポートは、前記複数のビームを第４のレンズに向けて放射すると共に前記第４のレンズから複数の後方散乱光サンプルを受け取るように前記第４のレンズの第１面に光学的に結合されており、
    前記第３のポートは、前記複数のサンプルを第５のレンズに向けて放射するように構成されており、
    前記第４のレンズの第１面は前記第２のポートに光学的に結合されていると共に、前記第４のレンズは第２面を有し、
    前記ビームスプリッタはさらに、前記第４のレンズの第２面と前記第１のレンズの第１面とに光学的に結合された１／４波長板を備えており、
    前記第１のレンズの第１面は前記１／４波長板に光学的に結合されており、
    前記第５のレンズは、前記偏光ビームスプリッタの第３のポートに光学的に結合された第１面と、第３の複数の光ファイバに光学的に結合された第２面と、を有し、
    前記第１の複数の光ファイバ及び前記第３の複数の光ファイバの向きは、当該第１の複数の各光ファイバから放射された光が当該第３の複数の光ファイバのうち各対応する光ファイバへ送られる向きにされている、
    請求項９記載のシステム。
11. 前記第１の複数の光学部品は、
    それぞれ第１のポートと、第２のポートと、第３のポートと、を有する複数の光サーキュレータ
    を備えており、
    前記複数の各光サーキュレータの第１のポートはそれぞれ、前記第１の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記光源に光学的に結合されており、
    前記複数の各光サーキュレータの第２のポートはそれぞれ、第３の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記試料に光学的に結合されており、
    前記複数の各光サーキュレータの第３のポートはそれぞれ、第４の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記第２の複数の光学部品に光学的に結合されている、
    請求項１～３、６、７のいずれか１項記載のシステム。
12. 前記第３の複数の各光ファイバの遠位端に機械的に結合され、前記第３の複数の各光ファイバを前記第１のレンズの第１面に光学的に結合するように配された空間分離器をさらに備えている、
    請求項１０記載のシステム。
13. 前記第１の複数の光学部品は、
    第１のポート、第２のポート及び第３のポートをそれぞれ有する複数の光カプラを備えた第２のプレーナ光波回路
    を備えており、
    前記複数の各光カプラの第１のポートはそれぞれ、前記第１の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記光源に光学的に結合されており、
    前記複数の各光カプラの第２のポートはそれぞれ、第３の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記試料に光学的に結合されており、
    前記複数の各光カプラの第３のポートはそれぞれ、第４の複数の光ファイバのうち対応する光ファイバを介して前記第２の複数の光学部品に光学的に結合されている、
    請求項１～３、６、７のいずれか１項記載のシステム。
14. 前記複数の各光カプラは、
    前記第１のポートで受け取った光のうち第１の割合を前記第３のポートから出力し、
    前記第１のポートで受け取った光のうち第２の割合を第４のポートから出力し、
    前記第３のポートで受け取った光のうち前記第１の割合を前記第１のポートから出力し、
    前記第３のポートで受け取った光のうち前記第２の割合を前記第２のポートから出力する、
    請求項１３記載のシステム。
15. 前記第１の割合と前記第２の割合との比は約１である、
    請求項１４記載のシステム。
16. 前記第１の割合と前記第２の割合との比は１未満である、
    請求項１４記載のシステム。
17. 前記第２の複数の光学部品は、第１のポートと、第２のポートと、第３のポートとを有するビームスプリッタを備えており、
    前記第１のポートは、前記第２の複数の光学によって放射された光を受け取るように構成されており、
    前記第２のポートは、前記複数の後方散乱光サンプルを受け取るように構成されており、
    前記第３のポートは、前記複数の干渉縞を出力するように構成されている、
    請求項１～３、６、７のいずれか１項記載のシステム。
18. 前記検出器は、第１ポート及び第２のポートを有する複数のバランス検出器であって、前記検出器の各チャネルにそれぞれ対応する複数のバランス検出器を備えており、
    前記ビームスプリッタはさらに、第２の複数の干渉縞を出力するように構成された第４のポートを有し、
    前記複数の各バランス検出器はそれぞれ、前記複数の干渉縞のうちいずれかの干渉縞と、前記第２の複数の干渉縞のうち対応する干渉縞と、を受け取り、両干渉縞に基づいて信号を出力する、
    請求項１７記載のシステム。
19. 前記第２の複数の光学部品は、
    第１のポート、第２のポート、第３のポート及び第４のポートをそれぞれ有する複数の光カプラ
    を備えており、
    前記第１のポートは、前記第２の複数の各光ファイバを介して前記光源に結合されており、
    前記第２のポートは、第４の複数の各光ファイバを介して前記試料に結合されており、
    前記第３のポートは前記複数の各検出チャネルに結合されており、
    前記第４のポートは前記複数の各検出チャネルに結合されている、
    請求項１～３、６、７のいずれか１項記載のシステム。
20. 前記複数の各光カプラはディスクリートのファイバカプラである、
    請求項１９記載のシステム。
21. さらに第３のプレーナ光波回路を備えており、
    前記プレーナ光波回路は前記複数の光カプラを備えている、
    請求項１９記載のシステム。
22. 前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、
    前記変調部品は少なくとも、前記第２のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている、
    請求項１記載のシステム。
23. 前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、
    前記変調部品は少なくとも、前記第２のスプリッタに入力される光の位相を変調するように構成されている、
    請求項１記載のシステム。
24. 前記参照アームは、前記光源と前記第２のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、
    前記変調部品は、
    前記第２のスプリッタに入力される光の位相を変調し、
    前記第２のスプリッタに入力される光の偏光を変調する
    ように構成されている、
    請求項１記載のシステム。
25. 前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、
    前記変調部品は少なくとも、前記第１のスプリッタに入力される光の偏光を変調するように構成されている、
    請求項１記載のシステム。
26. 前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、
    前記変調部品は少なくとも、前記第１のスプリッタに入力される光の位相を変調するように構成されている、
    請求項１記載のシステム。
27. 前記サンプルアームは、前記光源と前記第１のスプリッタとの間に配置された変調部品をさらに備えており、
    前記変調部品は、
    前記第１のスプリッタに入力される光の位相を変調し、
    前記第１のスプリッタに入力される光の偏光を変調する
    ように構成されている、
    請求項１又は２４記載のシステム。
28. 前記変調部品は、
    前記光源に光学的に結合された第１のポート、第２のポート、及び第３のポートを有するカプラと、
    前記カプラの第２のポートに光学的に結合された第１のポート、及び第２のポートを有する第１の位相変調器と、
    前記カプラの第３のポートに光学的に結合された第１のポート、及び第２のポートを有する第２の位相変調器と、
    前記第１の位相変調器に光学的に結合された第１のポート、前記第２の位相変調器に光学的に結合された第２のポート、及び第３のポートを有するビームコンバイナと、
    を備えている、
    請求項２２～２７のいずれか１項記載のシステム。
29. 前記変調部品はさらに、
    前記カプラの第２のポートと前記第１の位相変調器の第１のポートとに光学的に結合された偏光制御部
    を備えている、
    請求項２８記載のシステム。
30. 前記変調部品はさらに、
    前記カプラの第３のポートと前記第２の位相変調器のスポートとに光学的に結合された偏光制御部
    を備えている、
    請求項２８記載のシステム。
31. マルチビーム光コヒーレンストモグラフィのためのシステムであって、
    光源から第１の光を受け取り、第１の複数の各導波体にそれぞれ当該第１の光の一部分を出力するように配置された第１のスプリッタと、
    光学部品であって、前記第１の複数の導波体から光を受け取り、複数の各ビームが試料における横方向のそれぞれ異なる位置に当たるように、受け取った前記光を前記複数のビームとして前記試料に送り、前記試料の横方向における前記異なる位置から複数の後方散乱光サンプルを収集するように配置された光学部品と、
    前記光源から第２の光を受け取り、第２の複数の各導波体にそれぞれ当該第２の光の一部分を複数の参照光サンプルとして出力するように配置された第２のスプリッタと、
    前記複数の後方散乱光サンプルと前記複数の参照光サンプルとを受け取り、各後方散乱光サンプルをそれぞれ対応する参照光サンプルと合波して複数の干渉縞を出力するように配置されたミキサと、
    前記複数の干渉縞を受け取って、前記試料の横方向における各位置の構造をそれぞれ示す複数の光コヒーレンストモグラフィ信号を出力するように配置された検出器と、
    を備えていることを特徴とするシステム。
32. 前記複数のビームは８つのビームを有する、
    請求項３１記載のシステム。
33. 前記第１のスプリッタはプレーナ光波回路スプリッタを有する、
    請求項３１又は３２記載のシステム。
34. 前記光学部品は複数の光サーキュレータを備えており、
    前記複数の各光サーキュレータは、
    前記第１の複数の導波体のうちいずれかの導波体から前記複数のビームのうちいずれかのビームを受け取り、
    受け取った前記ビームを前記試料に向けて送り、
    後方散乱光サンプルを前記検出器に向けて送る
    ように配置されている、
    請求項３１～３３のいずれか１項記載のシステム。
35. 前記光学部品は複数の光カプラを備えており、
    前記複数の各光カプラは、
    前記第１の複数の導波体のうちいずれかの導波体から前記複数のビームのうちいずれかのビームを受け取り、
    受け取った前記ビームを前記試料に向けて送り、
    後方散乱光サンプルを前記検出器に向けて送る
    ように配置されている、
    請求項３１～３３のいずれか１項記載のシステム。
36. さらに前記光源を備えている、
    請求項３１～３５のいずれか１項記載のシステム。

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