JP2023180135A - Retardation film manufacturing method - Google Patents

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JP2023180135A JP2022093271A JP2022093271A JP2023180135A JP 2023180135 A JP2023180135 A JP 2023180135A JP 2022093271 A JP2022093271 A JP 2022093271A JP 2022093271 A JP2022093271 A JP 2022093271A JP 2023180135 A JP2023180135 A JP 2023180135A
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一平 長原
Ippei NAGAHARA
寛教 柳沼
Hironori Yaginuma
貞裕 中西
Sadahiro Nakanishi
慎太郎 東
Shintaro Azuma
貴裕 北川
Takahiro Kitagawa
靖芳 藤井
Yasuyoshi Fujii
正泰 伊藤
Masayasu Ito
拓也 小峯
Takuya KOMINE
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Nitto Denko Corp
Tosoh Corp
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Nitto Denko Corp
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Abstract

To provide a retardation film manufacturing method that can suitably manufacture a retardation film having high in-plane birefringence and having an in-plane phase difference indicating reverse wavelength dispersion characteristics, by using a resin film including a resin indicating positive birefringence and a resin indicating negative birefringence.SOLUTION: There is provided a method for manufacturing a retardation film in which an in-plane birefringence Δn(590) at a measurement wavelength of 590 nm exceeds 0.003, and a ratio of an in-plane phase difference at a measurement wavelength of 450 nm to an in-plane phase difference at a measurement wavelength of 550 nm (Re(450)/Re(550)) is less than 0.90, and the manufacturing method includes: producing a resin film including a resin indicating positive birefringence and a resin indicating negative birefringence, and in which the birefringence in a thickness direction at a measurement wavelength of 590 nm ΔP(590) exceeds 0.0005, and a ratio of a phase difference in the thickness direction at a measurement wavelength of 450 nm to a phase difference in the thickness direction at a measurement wavelength of 550 nm (Rth(450)/Rth(550)) is less than 0.98; and stretching the resin film.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、位相差フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a retardation film.

近年、液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス(EL)表示装置(例えば、有機EL表示装置、無機EL表示装置)に代表される画像表示装置が急速に普及している。有機EL表示装置では、λ/4板を含む円偏光板を有機ELセルの視認側に配置することにより、外光反射や背景の映り込み等の問題を防ぐことが知られている(例えば、特許文献1および2)。 In recent years, image display devices typified by liquid crystal display devices and electroluminescent (EL) display devices (eg, organic EL display devices and inorganic EL display devices) have rapidly become popular. In organic EL display devices, it is known that problems such as external light reflection and background reflection can be prevented by arranging a circularly polarizing plate including a λ/4 plate on the viewing side of the organic EL cell (for example, Patent Documents 1 and 2).

上記円偏光板に用いるλ/4板に関しては、広い波長領域にわたって優れた反射防止特性を実現する観点から、長波長域ほど位相差が大きい、いわゆる逆波長分散特性を示す位相差フィルムが求められている。このような要望に対して、正の複屈折を示すセルロース系樹脂および負の複屈折を示すエステル系樹脂を含有し、面内位相差が逆波長分散特性を示す位相差フィルムが提案されている(特許文献3)。 Regarding the λ/4 plate used in the above-mentioned circularly polarizing plate, from the viewpoint of achieving excellent antireflection properties over a wide wavelength range, a retardation film is required that exhibits so-called reverse wavelength dispersion characteristics, in which the retardation is larger in the longer wavelength range. ing. In response to these demands, a retardation film has been proposed that contains a cellulose resin that exhibits positive birefringence and an ester resin that exhibits negative birefringence, and whose in-plane retardation exhibits reverse wavelength dispersion characteristics. (Patent Document 3).

特開2002-311239号公報Japanese Patent Application Publication No. 2002-311239 特開2002-372622号公報Japanese Patent Application Publication No. 2002-372622 特開2021-140095号公報JP 2021-140095 Publication

本発明の発明者が検討したところ、正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂とを含む樹脂フィルムを用いた位相差フィルムの作製においては、延伸対象の樹脂フィルムの配向性が、得られる位相差フィルムの光学特性に大きく影響すること、および、樹脂フィルムの配向性によっては、目的の光学特性を有する位相差フィルムが得られない場合があることが分かった。 The inventor of the present invention has investigated that in producing a retardation film using a resin film containing a resin exhibiting positive birefringence and a resin exhibiting negative birefringence, the orientation of the resin film to be stretched is It has been found that, depending on the orientation of the resin film, it may not be possible to obtain a retardation film having the desired optical properties.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂とを含む樹脂フィルムを用いて、高い面内複屈折を有し、かつ、面内位相差が逆波長分散特性を示す位相差フィルムを好適に製造することが可能な位相差フィルムの製造方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above problems, and its main purpose is to achieve high in-plane birefringence by using a resin film containing a resin exhibiting positive birefringence and a resin exhibiting negative birefringence. An object of the present invention is to provide a method for producing a retardation film that can suitably produce a retardation film having the following properties and exhibiting in-plane retardation characteristics of reverse wavelength dispersion.

本発明の1つの局面によれば、測定波長590nmにおける面内複屈折Δn(590)が0.003を超え、測定波長450nmにおける面内位相差の測定波長550nmにおける面内位相差に対する比(Re(450)/Re(550))が0.90未満である位相差フィルムの製造方法であって、正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂とを含み、測定波長590nmにおける厚み方向の複屈折ΔP(590)が0.0005を超え、測定波長450nmにおける厚み方向の位相差の測定波長550nmにおける厚み方向の位相差に対する比(Rth(450)/Rth(550))が0.98未満である樹脂フィルムを作製すること、および、該樹脂フィルムを延伸すること、を含む、製造方法が提供される。
1つの実施形態において、上記樹脂フィルムの延伸前の厚みが50μm~200μmであり、上記樹脂フィルムの延伸後の厚みが、延伸前の厚みに対して12.5%~40%である。
1つの実施形態において、上記樹脂フィルムを作製することが、上記正の複屈折を示す樹脂と上記負の複屈折を示す樹脂と溶媒とを含む樹脂溶液を支持基材上に塗布して塗布層を形成すること、および、該塗布層を加熱して該溶媒を蒸発させること、を含む。
1つの実施形態において、上記塗布層を50℃~155℃の範囲内で加熱して上記溶媒を蒸発させる。
1つの実施形態において、上記樹脂フィルムが長尺状の樹脂フィルムであり、上記樹脂フィルムを延伸することが、該長尺状の樹脂フィルムを長手方向に搬送しながら該長手方向に直交する方向に延伸することを含む。
1つの実施形態において、上記延伸の延伸倍率が、8.0倍以下である。
1つの実施形態において、上記樹脂フィルムの延伸前のRth(450)/Rth(550)が0.60を超え、0.98未満であり、上記位相差フィルムのΔn(590)が0.0035を超え、Re(450)/Re(550)が0.88未満である。
1つの実施形態において、正の複屈折を示す樹脂が、下記式(1)に示す構成単位を有するセルロース系樹脂を含み、上記負の複屈折を示す樹脂が、下記式(2)に示す構成単位と、下記式(3)に示す構成単位と、を有するエステル系樹脂を含む:

Figure 2023180135000001
(式(1)中、R~Rのそれぞれは、水素原子または炭素数1~12の置換基を示す;)
Figure 2023180135000002
(式(2)中、Rは、水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示し;R5aは、炭素数1~12のアルキル基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、または、チオール基から選択される1種を示し;R5bは、水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示し;Rは、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、または、炭素数1~12のアルキル基から選択される種を示す;)
Figure 2023180135000003
(式(3)中、Rは、ヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基(上記5員環複素環残基および上記6員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい)を示す)。
1つの実施形態において、上記エステル系樹脂は、下記式(4)に示す構成単位をさらに有する:
Figure 2023180135000004
(式(4)中、RおよびRのそれぞれは、水素原子、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基、または、炭素数3~6の環状アルキル基から選択される1種を示す)。 According to one aspect of the present invention, the in-plane birefringence Δn(590) at a measurement wavelength of 590 nm exceeds 0.003, and the ratio (Re (450)/Re(550)) is less than 0.90, the method includes a resin exhibiting positive birefringence and a resin exhibiting negative birefringence, and the thickness at a measurement wavelength of 590 nm. Birefringence ΔP(590) in the direction exceeds 0.0005, and the ratio (Rth(450)/Rth(550)) of the retardation in the thickness direction at a measurement wavelength of 450 nm to the retardation in the thickness direction at a measurement wavelength of 550 nm is 0. A manufacturing method is provided that includes making a resin film that has a molecular weight of less than 98, and stretching the resin film.
In one embodiment, the thickness of the resin film before stretching is 50 μm to 200 μm, and the thickness of the resin film after stretching is 12.5% to 40% of the thickness before stretching.
In one embodiment, producing the resin film includes applying a resin solution containing the resin exhibiting positive birefringence, the resin exhibiting negative birefringence, and a solvent onto a supporting base material to form a coating layer. and heating the coated layer to evaporate the solvent.
In one embodiment, the coated layer is heated within the range of 50°C to 155°C to evaporate the solvent.
In one embodiment, the resin film is a long resin film, and stretching the resin film includes transporting the long resin film in a longitudinal direction while transporting the long resin film in a direction perpendicular to the longitudinal direction. Including stretching.
In one embodiment, the stretching ratio of the stretching is 8.0 times or less.
In one embodiment, Rth(450)/Rth(550) of the resin film before stretching is more than 0.60 and less than 0.98, and Δn(590) of the retardation film is less than 0.0035. and Re(450)/Re(550) is less than 0.88.
In one embodiment, the resin exhibiting positive birefringence includes a cellulose resin having a structural unit represented by the following formula (1), and the resin exhibiting negative birefringence includes a structure represented by the following formula (2). Contains an ester resin having a unit and a structural unit represented by the following formula (3):
Figure 2023180135000001
(In formula (1), each of R 1 to R 3 represents a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms;)
Figure 2023180135000002
(In formula (2), R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5a represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, Represents one selected from a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a thiol group; R 5b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 6 represents hydrogen Atom, nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group, phenyl group, thiol group, amide group, amino group, hydroxy group, alkoxy having 1 to 12 carbon atoms represents a species selected from a group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms;)
Figure 2023180135000003
(In formula (3), R 7 is a 5-membered heterocyclic residue or a 6-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen atoms or oxygen atoms as a heteroatom (the above 5-membered heterocyclic residue and the above The 6-membered heterocyclic residue may form a fused ring structure with another cyclic structure).
In one embodiment, the ester resin further has a structural unit represented by the following formula (4):
Figure 2023180135000004
(In formula (4), each of R 8 and R 9 is a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. (represents one type selected from cyclic alkyl groups).

本願発明の実施形態による位相差フィルムの製造方法によれば、正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂とを含む樹脂フィルムであって、厚み方向に一定以上の複屈折を有し、かつ、厚み方向の位相差が逆波長分散特性を示す樹脂フィルムを延伸することにより、高い面内複屈折を有し、かつ、面内位相差が逆波長分散特性を示す位相差フィルムを好適に得ることができる。 According to the method for producing a retardation film according to an embodiment of the present invention, the resin film includes a resin exhibiting positive birefringence and a resin exhibiting negative birefringence, and has birefringence of a certain level or more in the thickness direction. By stretching a resin film whose retardation in the thickness direction exhibits reverse wavelength dispersion characteristics, a retardation film having high in-plane birefringence and whose in-plane retardation exhibits reverse wavelength dispersion characteristics can be obtained. It can be obtained suitably.

樹脂フィルムの厚み方向位相差に関する波長分散特性を説明する概念図である。It is a conceptual diagram explaining the wavelength dispersion characteristic regarding the thickness direction retardation of a resin film.

以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。なお、本明細書中で、数値範囲を表す「~」は、その上限および下限の数値を含む。また、本明細書において、「重量」とある場合は、重さを意味するSI単位系の「質量」と同義である。 Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these embodiments. In this specification, "~" representing a numerical range includes the upper and lower numerical limits thereof. In addition, in this specification, "weight" has the same meaning as "mass" in the SI unit system, which means weight.

(用語および記号の定義)
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内複屈折(Δn)
「Δn(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した面内複屈折である。面内複屈折(Δn)は、式:Δn=nx-nyから求められる。
(3)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した面内位相差である。例えば、「Re(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した面内位相差である。Re(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Re(λ)=(nx-ny)×dによって求められる。
(4)厚み方向の複屈折(ΔP)
「ΔP(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した厚み方向の複屈折である。厚み方向の複屈折(ΔP)は、式:ΔP=nx-nzから求められる。
(5)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Rth(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Rth(λ)=(nx-nz)×dによって求められる。
(6)Nz係数
Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。
(7)角度
本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「45°」は時計回りまたは反時計回りの45°を意味する。
(Definition of terms and symbols)
Definitions of terms and symbols used herein are as follows.
(1) Refractive index (nx, ny, nz)
"nx" is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), and "ny" is the direction perpendicular to the slow axis in the plane (i.e., fast axis direction) "nz" is the refractive index in the thickness direction.
(2) In-plane birefringence (Δn)
"Δn(λ)" is in-plane birefringence measured with light having a wavelength of λnm at 23°C. In-plane birefringence (Δn) is determined from the formula: Δn=nx−ny.
(3) In-plane phase difference (Re)
"Re(λ)" is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of λnm at 23°C. For example, "Re(550)" is an in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Re(λ) is determined by the formula: Re(λ)=(nx−ny)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(4) Birefringence in the thickness direction (ΔP)
"ΔP(λ)" is birefringence in the thickness direction measured with light having a wavelength of λ nm at 23°C. Birefringence (ΔP) in the thickness direction is determined from the formula: ΔP=nx−nz.
(5) Phase difference in thickness direction (Rth)
"Rth (λ)" is a retardation in the thickness direction measured with light having a wavelength of λ nm at 23°C. For example, "Rth (550)" is the retardation in the thickness direction measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C. Rth(λ) is determined by the formula: Rth(λ)=(nx−nz)×d, where d (nm) is the thickness of the layer (film).
(6) Nz coefficient The Nz coefficient is determined by Nz=Rth/Re.
(7) Angle When an angle is referred to in this specification, the angle includes both clockwise and counterclockwise directions with respect to the reference direction. Thus, for example, "45°" means 45° clockwise or counterclockwise.

A.位相差フィルムの製造方法
本発明の実施形態による位相差フィルムの製造方法は、測定波長590nmにおける面内複屈折Δn(590)が0.003を超え、測定波長450nmにおける面内位相差の測定波長550nmにおける面内位相差に対する比(Re(450)/Re(550))が0.90未満である位相差フィルムの製造方法であって、
正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂とを含み、測定波長590nmにおける厚み方向の複屈折ΔP(590)が0.0005を超え、測定波長450nmにおける厚み方向の位相差の測定波長550nmにおける厚み方向の位相差に対する比(Rth(450)/Rth(550))が0.98未満である樹脂フィルムを作製すること(樹脂フィルムの作製工程)、および
該樹脂フィルムを延伸すること(延伸工程)
を含む。ここで、「正の複屈折を示す」とは、ポリマーを延伸等により配向させた場合に、その延伸方向と直交する方向の屈折率が相対的に小さくなることをいう。換言すると、延伸方向の屈折率が大きくなることをいう。「負の複屈折を示す」とは、ポリマーを延伸等により配向させた場合に、その延伸方向の屈折率が相対的に小さくなることをいう。換言すると、延伸方向と直交する方向の屈折率が大きくなることをいう。
A. Method for manufacturing a retardation film The method for manufacturing a retardation film according to an embodiment of the present invention is such that the in-plane birefringence Δn (590) at a measurement wavelength of 590 nm exceeds 0.003, and the measurement wavelength of the in-plane retardation at a measurement wavelength of 450 nm A method for producing a retardation film having a ratio (Re(450)/Re(550)) to in-plane retardation at 550 nm of less than 0.90,
Contains a resin that exhibits positive birefringence and a resin that exhibits negative birefringence, the birefringence ΔP (590) in the thickness direction at a measurement wavelength of 590 nm exceeds 0.0005, and the retardation in the thickness direction at a measurement wavelength of 450 nm is measured. Producing a resin film whose ratio to the retardation in the thickness direction at a wavelength of 550 nm (Rth(450)/Rth(550)) is less than 0.98 (resin film production process), and stretching the resin film. (Stretching process)
including. Here, "exhibiting positive birefringence" means that when a polymer is oriented by stretching or the like, the refractive index in the direction orthogonal to the stretching direction becomes relatively small. In other words, the refractive index in the stretching direction increases. "Exhibiting negative birefringence" means that when a polymer is oriented by stretching or the like, the refractive index in the stretching direction becomes relatively small. In other words, the refractive index in the direction perpendicular to the stretching direction is increased.

A-1.樹脂フィルムの作製工程
樹脂フィルムの作製工程においては、正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂とを含み、ΔP(590)が0.0005を超え、Rth(450)/Rth(550)が0.98未満である樹脂フィルムを作製する。このような樹脂フィルムを延伸することにより、目的の光学特性を有する位相差フィルムが好適に得られ得る。樹脂フィルムは、必要に応じて、任意の適切な他の成分をさらに含んでいてもよい。
A-1. Resin film manufacturing process The resin film manufacturing process includes a resin exhibiting positive birefringence and a resin exhibiting negative birefringence, ΔP(590) exceeds 0.0005, and Rth(450)/Rth( 550) is less than 0.98. By stretching such a resin film, a retardation film having desired optical properties can be suitably obtained. The resin film may further contain any other appropriate components as necessary.

A-1-1.樹脂フィルム
上記の通り、樹脂フィルムは、正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂とを含み、ΔP(590)が0.0005を超え、Rth(450)/Rth(550)が0.98未満である。
A-1-1. Resin Film As mentioned above, the resin film includes a resin exhibiting positive birefringence and a resin exhibiting negative birefringence, ΔP(590) exceeds 0.0005, and Rth(450)/Rth(550) It is less than 0.98.

樹脂フィルムのΔP(590)は、代表的には0.0005を超え、好ましくは0.0007以上であり、より好ましくは0.001以上である。また、ΔP(590)の上限は、例えば0.004以下、好ましくは0.0035以下である。上記範囲のΔP(590)を有する樹脂フィルムは、延伸により高い面内複屈折を発現し得ることから、所望の面内位相差を有し、かつ、厚みが小さい位相差フィルムが好適に得られ得る。 The ΔP(590) of the resin film typically exceeds 0.0005, preferably 0.0007 or more, and more preferably 0.001 or more. Further, the upper limit of ΔP(590) is, for example, 0.004 or less, preferably 0.0035 or less. Since a resin film having ΔP (590) in the above range can exhibit high in-plane birefringence by stretching, a retardation film having a desired in-plane retardation and a small thickness can be suitably obtained. obtain.

樹脂フィルムの測定波長590nmにおける面内複屈折(Δn(590))は、例えば0.0003以下であり、好ましくは0~0.00005である。上記範囲のΔn(590)を有する樹脂フィルムは、延伸によって安定した面内配向性を示すことができる。1つの実施形態において、樹脂フィルムは、nx=ny>nzの屈折率特性を示す。 The in-plane birefringence (Δn(590)) of the resin film at a measurement wavelength of 590 nm is, for example, 0.0003 or less, preferably 0 to 0.00005. A resin film having Δn (590) within the above range can exhibit stable in-plane orientation upon stretching. In one embodiment, the resin film exhibits a refractive index characteristic of nx=ny>nz.

樹脂フィルムは、厚み方向の位相差に関して逆波長分散特性を示す。樹脂フィルムは、代表的にはRth(450)/Rth(550)<0.98の関係を満たし、好ましくは0.60<Rth(450)/Rth(550)<0.98の関係、より好ましくは0.80<Rth(450)/Rth(550)<0.98の関係を満たす。上記関係を満たす樹脂フィルムによれば、延伸によって面内位相差に関して逆波長分散特性を示す位相差フィルムが好適に得られ得る。 The resin film exhibits reverse wavelength dispersion characteristics regarding the retardation in the thickness direction. The resin film typically satisfies the relationship Rth(450)/Rth(550)<0.98, preferably 0.60<Rth(450)/Rth(550)<0.98, more preferably satisfies the relationship 0.80<Rth(450)/Rth(550)<0.98. According to a resin film that satisfies the above relationship, a retardation film exhibiting reverse wavelength dispersion characteristics with respect to in-plane retardation can be suitably obtained by stretching.

1つの実施形態において、樹脂フィルムには、ナノ相分離構造が形成されている。このような樹脂フィルムを延伸して得られる位相差フィルムもまたナノ相分離構造を有し、これにより、高温高湿環境下(例えば、110℃かつ85%RH(相対湿度))における急激な収縮が抑制され得る。 In one embodiment, a nanophase-separated structure is formed in the resin film. The retardation film obtained by stretching such a resin film also has a nano-phase separation structure, which allows rapid shrinkage in a high-temperature, high-humidity environment (for example, 110°C and 85% RH (relative humidity)). can be suppressed.

本明細書において、「ナノ相分離構造」とは、電子密度の異なる2成分がナノオーダー(代表的には数十nmレベル)のドメインサイズで相分離した構造を意味する。正の複屈折を示す樹脂および負の複屈折を示す樹脂は、海島構造であってもよく、共連続構造であってもよい。ナノ相分離構造の確認手段としては、例えば、透過電子顕微鏡(TEM)、走査電子顕微鏡(SEM)、原子間力顕微鏡(AFM)および、X線小角散乱(SAXS)が挙げられ、好ましくは、フィルム断面のTEM観察が挙げられる。観察対象のフィルムにナノ相分離構造が形成されている場合、フィルム断面のTEM観察において、電子密度の異なる2種のドメインを確認でき、すべてのドメインのサイズ(最大長さ)が100nm未満であることを確認できる。 As used herein, the term "nanophase-separated structure" refers to a structure in which two components with different electron densities are phase-separated in a domain size on the nano-order (typically on the order of tens of nanometers). The resin exhibiting positive birefringence and the resin exhibiting negative birefringence may have a sea-island structure or a co-continuous structure. Examples of means for confirming the nanophase separation structure include transmission electron microscopy (TEM), scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), and small-angle X-ray scattering (SAXS). One example is TEM observation of a cross section. When a nanophase-separated structure is formed in the film to be observed, two types of domains with different electron densities can be confirmed in TEM observation of a cross section of the film, and the size (maximum length) of all domains is less than 100 nm. You can confirm that.

樹脂フィルムのガラス転移温度(Tg)は、例えば120℃~220℃、好ましくは125℃~220℃、より好ましくは125℃~210℃である。 The glass transition temperature (Tg) of the resin film is, for example, 120°C to 220°C, preferably 125°C to 220°C, more preferably 125°C to 210°C.

樹脂フィルムの厚みは、例えば50μm~200μm、好ましくは70μm~180μm、より好ましくは100μm~180μmである。 The thickness of the resin film is, for example, 50 μm to 200 μm, preferably 70 μm to 180 μm, more preferably 100 μm to 180 μm.

樹脂フィルムは、枚葉状であってもよく、長尺状であってもよい。樹脂フィルムは、好ましくは長尺状である。本明細書において「長尺状」とは、幅に対して長さが十分に長い細長形状を意味し、例えば、幅に対して長さが10倍以上、好ましくは20倍以上の細長形状を含む。長尺状の樹脂フィルムは、ロール状に巻回可能である。 The resin film may be sheet-shaped or elongated. The resin film is preferably elongated. In this specification, "elongated shape" means an elongated shape whose length is sufficiently longer than its width; for example, an elongated shape whose length is at least 10 times, preferably at least 20 times its width. include. The long resin film can be wound into a roll.

(正の複屈折を示す樹脂)
正の複屈折を示す樹脂としては、本発明の効果が得られる限りにおいて制限されず、例えば、セルロース、セルロース誘導体等のセルロース系樹脂を用いることができる。セルロース誘導体としては、セルロースにおける水酸基の少なくとも一部がエーテル化されたセルロースエーテル、同様に水酸基の少なくとも一部がエステル化されたセルロースエーテルエステル等が挙げられる。なかでも、セルロースエーテルが好ましく用いられ得る。正の複屈折を示す樹脂は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Resin showing positive birefringence)
The resin exhibiting positive birefringence is not limited as long as the effects of the present invention can be obtained, and for example, cellulose resins such as cellulose and cellulose derivatives can be used. Examples of cellulose derivatives include cellulose ether, in which at least a portion of the hydroxyl groups in cellulose are etherified, and cellulose ether ester, in which at least a portion of the hydroxyl groups in cellulose are similarly esterified. Among them, cellulose ether can be preferably used. One type of resin exhibiting positive birefringence may be used alone, or two or more types may be used in combination.

セルロース系樹脂は、代表的には、β-グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であって、下記式(1)に示す構成単位を有している。このようなセルロース系樹脂は、厚み方向の位相差に関してフラットな波長分散特性を有し、かつ、nx>nzの屈折率特性を示す。

Figure 2023180135000005
(式(1)中、R~Rのそれぞれは、水素原子または炭素数1~12の置換基を示す)。 Cellulose resin is typically a polymer in which β-glucose units are linearly polymerized, and has a structural unit shown in the following formula (1). Such a cellulose resin has flat wavelength dispersion characteristics with respect to the retardation in the thickness direction, and exhibits a refractive index characteristic of nx>nz.
Figure 2023180135000005
(In formula (1), each of R 1 to R 3 represents a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms).

上記式(1)においてR~Rで示される炭素数1~12の置換基として、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デカニル基、ドデカニル基、イソブチル基、t-ブチル基等のアルキル基;シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;フェニル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基等のアラルキル基;アセチル基、プロピオニル基等のアシル基;シアノエチル基等のシアノアルキル基;アミノエチル基等のアミノアルキル基;2-ヒドロキシエチル基、3-ヒドロキシプロピル基等のヒドロキシアルキル基;が挙げられる。
上記式(1)においてR~Rは、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
上記式(1)のR~Rのそれぞれとして、好ましくは、水素原子、および、炭素数1~12のアルキル基が挙げられ、より好ましくは、水素原子、および、炭素数1~4のアルキル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子、および、エチル基が挙げられる。
Examples of substituents having 1 to 12 carbon atoms represented by R 1 to R 3 in the above formula (1) include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, Alkyl groups such as decanyl, dodecanyl, isobutyl, and t-butyl; cycloalkyl groups such as cyclohexyl; aryl groups such as phenyl and naphthyl; aralkyl groups such as benzyl; acetyl, propionyl, etc. Acyl groups; cyanoalkyl groups such as cyanoethyl groups; aminoalkyl groups such as aminoethyl groups; hydroxyalkyl groups such as 2-hydroxyethyl groups and 3-hydroxypropyl groups;
In the above formula (1), R 1 to R 3 may be the same or different.
Each of R 1 to R 3 in the above formula (1) preferably includes a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples include alkyl groups, more preferably hydrogen atoms and ethyl groups.

セルロース系樹脂の置換度(以下、DSという。)は、代表的には1.5以上2.95以下、好ましくは1.8以上2.8以下である。DSとは、セルロース系樹脂において水酸基が置換されている割合であって、100%置換している場合DSは3である。DSは、第十七改正日本薬局方に記載のように、ガスクロマトグラフィーのピーク面積から算出できる。 The degree of substitution (hereinafter referred to as DS) of the cellulose resin is typically 1.5 or more and 2.95 or less, preferably 1.8 or more and 2.8 or less. DS is the proportion of hydroxyl groups substituted in the cellulose resin, and when 100% substitution is made, DS is 3. DS can be calculated from the peak area of gas chromatography as described in the 17th edition of the Japanese Pharmacopoeia.

セルロース系樹脂の標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、例えば、1×10以上1×10以下、好ましくは5×10以上2×10以下である。セルロース系樹脂のMnは、ゲル・パ-ミエイション・クロマトグラフィ-(GPC)により測定した溶出曲線より算出できる。セルロース系樹脂のMnが上記の範囲であれば、樹脂フィルムの機械特性および/または成形加工性の向上を図ることができる。 The number average molecular weight (Mn) of the cellulose resin in terms of standard polystyrene is, for example, 1×10 3 or more and 1×10 6 or less, preferably 5×10 3 or more and 2×10 5 or less. Mn of a cellulose resin can be calculated from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). If the Mn of the cellulose resin is within the above range, it is possible to improve the mechanical properties and/or moldability of the resin film.

セルロース系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、例えば140℃以下、好ましくは135℃以下であり、例えば120℃以上、好ましくは125℃以上である。セルロース系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、DSC(Differential Scanning Calorimetry)等の熱分析装置によって測定できる。 The glass transition temperature (Tg) of the cellulose resin is, for example, 140°C or lower, preferably 135°C or lower, and, for example, 120°C or higher, preferably 125°C or higher. The glass transition temperature (Tg) of cellulose resin can be measured by a thermal analysis device such as DSC (Differential Scanning Calorimetry).

セルロース系樹脂の具体例としては、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース等のアルキルセルロース;ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシアルキルセルロース;ベンジルセルロース等のアラルキルセルロース;シアノエチルセルロース等のシアノアルキルセルロース;カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等のカルボキシアルキルセルロース;カルボキシメチルメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース等のカルボキシアルキルアルキルセルロース;アミノエチルセルロース等のアミノアルキルセルロースが挙げられる。セルロース系樹脂は、単独でまたは組み合わせて使用できる。
セルロース系樹脂のなかでは、好ましくはアルキルセルロースが挙げられ、より好ましくはエチルセルロースが挙げられる。
Specific examples of cellulose resins include alkylcelluloses such as methylcellulose, ethylcellulose, and propylcellulose; hydroxyalkylcelluloses such as hydroxyethylcellulose and hydroxypropylcellulose; aralkylcelluloses such as benzylcellulose; cyanoalkylcelluloses such as cyanoethylcellulose; carboxymethylcellulose, Examples include carboxyalkylcelluloses such as carboxyethylcellulose; carboxyalkylalkylcelluloses such as carboxymethylmethylcellulose and carboxymethylethylcellulose; and aminoalkylcelluloses such as aminoethylcellulose. Cellulosic resins can be used alone or in combination.
Among cellulose resins, alkyl cellulose is preferred, and ethyl cellulose is more preferred.

(負の複屈折を示す樹脂)
負の複屈折を示す樹脂としては、本発明の効果が得られる限りにおいて制限されず、例えば、下記式(2)に示す構成単位と、下記式(3)に示す構成単位とを有するエステル系樹脂を用いることができる。このようなエステル系樹脂は、厚み方向の位相差に関して正の波長分散特性を有し、かつ、nx<nzの屈折率特性を示す。負の複屈折を示す樹脂は、1種のみを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。

Figure 2023180135000006
(式(2)中、Rは、水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示し;R5aは、炭素数1~12のアルキル基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、または、チオール基から選択される1種を示し;R5bは、水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示し;Rは、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、または、炭素数1~12のアルキル基から選択される種を示す。)
Figure 2023180135000007
(式(3)中、Rは、ヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基(上記5員環複素環残基および上記6員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい)を示す。) (Resin showing negative birefringence)
The resin exhibiting negative birefringence is not limited as long as the effect of the present invention can be obtained, and for example, an ester-based resin having a structural unit shown in the following formula (2) and a structural unit shown in the following formula (3) Resin can be used. Such an ester-based resin has a positive wavelength dispersion characteristic regarding the retardation in the thickness direction, and exhibits a refractive index characteristic of nx<nz. One type of resin exhibiting negative birefringence may be used alone, or two or more types may be used in combination.
Figure 2023180135000006
(In formula (2), R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5a represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, Represents one selected from a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a thiol group; R 5b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 6 represents hydrogen Atom, nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group, phenyl group, thiol group, amide group, amino group, hydroxy group, alkoxy having 1 to 12 carbon atoms (Indicates a species selected from a group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.)
Figure 2023180135000007
(In formula (3), R 7 is a 5-membered heterocyclic residue or a 6-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen atoms or oxygen atoms as a heteroatom (the above 5-membered heterocyclic residue and the above (The 6-membered heterocyclic residue may form a fused ring structure with other cyclic structures.)

上記式(2)に示す構成単位は、ケイ皮酸エステル残基単位である。上記式(2)においてRで示される炭素数1~12のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソブチル基、エチルヘキシル基が挙げられる。上記式(2)のRのなかでは、好ましくは、炭素数1~4のアルキル基が挙げられ、より好ましくは、エチル基、イソブチル基が挙げられる。
上記式(2)のR5aのなかでは、好ましくは、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基が挙げられ、より好ましくは、炭素数1~4のアルキル基、シアノ基が挙げられ、さらに好ましくはシアノ基が挙げられる。
上記式(2)のR5bのなかでは、好ましくは、水素原子、炭素数1~4のアルキル基が挙げられる。
上記式(2)のRは、ベンゼン環に1つのみ結合してもよく、ベンゼン環に2つ以上結合してもよい。上記式(2)のRのなかでは、好ましくは、カルボン酸基、ヒドロキシ基が挙げられる。
The structural unit shown in the above formula (2) is a cinnamate residue unit. Examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 4 in the above formula (2) include methyl group, ethyl group, isopropyl group, n-propyl group, n-butyl group, s-butyl group, t- Examples include butyl group, isobutyl group, and ethylhexyl group. Among R 4 in the above formula (2), an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferred, and an ethyl group and an isobutyl group are more preferred.
Among R 5a in the above formula (2), preferred are alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms and cyano groups, more preferred are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms and cyano groups, and further Preferred is a cyano group.
Among R 5b in the above formula (2), preferred are a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
In the above formula (2), only one R 6 may be bonded to the benzene ring, or two or more R 6 may be bonded to the benzene ring. Among R 6 in the above formula (2), preferred are a carboxylic acid group and a hydroxy group.

上記式(2)に示す構成単位(ケイ皮酸エステル残基単位)の具体例としては、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸n-プロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸n-ブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸s-ブチル残基単位、α-シアノ-2,4-ジヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位等のα-シアノ-ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位;α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-4-カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α-シアノ-2,3-ジカルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2,3-ジカルボキシケイ皮酸エチル残基単位等のα-シアノ-カルボキシケイ皮酸エステル残基単位;α-シアノ-2-カルボキシ-3-ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α-シアノ-2-カルボキシ-3-ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位等のα-シアノ-カルボキシ-ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位;3-メチル-3-(ヒドロキシフェニル)-プロパ-2-エン酸メチル残基単位、3-エチル-3-(ヒドロキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エチル残基単位等の3-アルキル-3-(ヒドロキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エステル残基単位;3-メチル-3-(カルボキシフェニル)-プロパ-2-エン酸メチル残基単位、3-エチル-3-(カルボキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エチル残基単位等の3-アルキル-3-(カルボキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エステル残基単位;2-シアノ-3-メチル-3-(ヒドロキシフェニル)-プロパ-2-エン酸メチル残基単位、2-シアノ-3-エチル-3-(ヒドロキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エチル残基単位等の2-シアノ-3-アルキル-3-(ヒドロキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エステル残基単位;2-シアノ-3-メチル-3-(カルボキシフェニル)-プロパ-2-エン酸メチル残基単位、2-シアノ-3-エチル-3-(カルボキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エチル残基単位等の2-シアノ-3-アルキル-3-(カルボキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エステル残基単位が挙げられる。 Specific examples of the structural unit (cinnamate ester residue unit) shown in the above formula (2) include α-cyano-4-hydroxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-2-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-3-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate n-propyl residue unit , α-cyano-4-hydroxycinnamate isopropyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate n-butyl residue unit, α-cyano-4-hydroxycinnamate isobutyl residue unit, α- α-cyano-hydroxycinnamate ester residue units such as s-butyl cyano-4-hydroxycinnamate residue units and methyl α-cyano-2,4-dihydroxycinnamate residue units; α-cyano- 4-carboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-4-carboxycinnamate ethyl residue unit, α-cyano-2,3-dicarboxycinnamate methyl residue unit, α-cyano-2, α-cyano-carboxycinnamate ester residue units such as ethyl 3-dicarboxycinnamate residue units; α-cyano-2-carboxy-3-hydroxycinnamate methyl residue units, α-cyano-2 -α-cyano-carboxy-hydroxycinnamate ester residue units such as carboxy-3-hydroxycinnamate ethyl residue units; 3-methyl-3-(hydroxyphenyl)-prop-2-enoic acid methyl residues unit, 3-alkyl-3-(hydroxyphenyl)-prop-2-enoic acid ester residue unit such as 3-ethyl-3-(hydroxyphenyl)-prop-2-enoic acid ethyl residue unit; 3-methyl -3-(carboxyphenyl)-prop-2-enoic acid methyl residue unit, 3-ethyl-3-(carboxyphenyl)-prop-2-enoic acid ethyl residue unit, etc. phenyl)-prop-2-enoic acid ester residue unit; 2-cyano-3-methyl-3-(hydroxyphenyl)-prop-2-enoic acid methyl residue unit, 2-cyano-3-ethyl-3- 2-cyano-3-alkyl-3-(hydroxyphenyl)-prop-2-enoic acid ester residue units such as (hydroxyphenyl)-prop-2-enoic acid ethyl residue units; 2-cyano-3-methyl 2-cyano- such as -3-(carboxyphenyl)-prop-2-enoic acid methyl residue unit, 2-cyano-3-ethyl-3-(carboxyphenyl)-prop-2-enoic acid ethyl residue unit, etc. Examples include 3-alkyl-3-(carboxyphenyl)-prop-2-enoic acid ester residue units.

エステル系樹脂は、上記式(2)に示す構成単位を、1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。上記式(2)に示す構成単位のなかでは、好ましくは、α-シアノ-ヒドロキシケイ皮酸エステル残基単位、α-シアノ-カルボキシケイ皮酸エステル残基単位、3-アルキル-3-(ヒドロキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エステル残基単位、3-アルキル-3-(カルボキシフェニル)-プロパ-2-エン酸エステル残基単位が挙げられる。 The ester resin may contain only one type of structural unit shown in the above formula (2), or may contain two or more types. Among the structural units represented by the above formula (2), α-cyano-hydroxycinnamate ester residue units, α-cyano-carboxycinnamate ester residue units, 3-alkyl-3-(hydroxy Examples thereof include a phenyl)-prop-2-enoic acid ester residue unit and a 3-alkyl-3-(carboxyphenyl)-prop-2-enoic acid ester residue unit.

エステル系樹脂における上記式(2)の構成単位の含有割合は、例えば21モル%以上であり、例えば70モル%以下、好ましくは60モル%以下、より好ましくは49モル%以下である。エステル系樹脂における各構成単位の含有割合は、例えば、H-NMRにより測定できる。 The content of the structural unit of formula (2) in the ester resin is, for example, 21 mol% or more, and is, for example, 70 mol% or less, preferably 60 mol% or less, and more preferably 49 mol% or less. The content ratio of each structural unit in the ester resin can be measured by, for example, 1 H-NMR.

上記式(3)においてRで示される環構造の具体例としては、1-ビニルピロール残基単位、2-ビニルピロール残基単位、1-ビニルインドール残基単位、9-ビニルカルバゾール残基単位、2-ビニルキノリン残基単位、4-ビニルキノリン残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位、N-ビニルスクシンイミド残基単位、2-ビニルフラン残基単位、2-ビニルベンゾフラン残基単位が挙げられ、好ましくは、9-ビニルカルバゾール残基単位、N-ビニルフタルイミド残基単位が挙げられる。 Specific examples of the ring structure represented by R 7 in the above formula (3) include 1-vinylpyrrole residue unit, 2-vinylpyrrole residue unit, 1-vinylindole residue unit, and 9-vinylcarbazole residue unit. , 2-vinylquinoline residue unit, 4-vinylquinoline residue unit, N-vinylphthalimide residue unit, N-vinylsuccinimide residue unit, 2-vinylfuran residue unit, and 2-vinylbenzofuran residue unit. Preferable examples include a 9-vinylcarbazole residue unit and an N-vinylphthalimide residue unit.

エステル系樹脂は、上記式(3)に示す構成単位を、1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
エステル系樹脂における上記式(3)の構成単位の含有割合は、例えば21モル%以上、好ましくは35モル%以上であり、例えば70モル%以下、好ましくは60モル%以下である。
The ester resin may contain only one type of structural unit shown in the above formula (3), or may contain two or more types.
The content of the structural unit of formula (3) in the ester resin is, for example, 21 mol% or more, preferably 35 mol% or more, and, for example, 70 mol% or less, preferably 60 mol% or less.

エステル系樹脂は、好ましくは、上記(2)および(3)に示す構成単位に加えて、下記式(4)に示す構成単位をさらに有する。

Figure 2023180135000008
(式(4)中、RおよびRのそれぞれは、水素原子、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基、または、炭素数3~6の環状アルキル基から選択される1種を示す)。
上記式(4)において、RおよびRで示される炭素数1~12の直鎖状アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。
上記式(4)において、RおよびRで示される炭素数3~12の分岐状アルキル基として、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基等が挙げられる。
上記式(4)において、RおよびRで示される炭素数3~6の環状アルキル基として、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
上記式(4)においてRおよびRは、互いに同じであってもよく、互いに異なっていてもよい。
上記式(4)におけるRのなかでは、好ましくは、水素原子、炭素数1~12の直鎖状アルキル基が挙げられ、より好ましくは、水素原子、メチル基が挙げられる。
上記式(4)におけるRのなかでは、好ましくは、炭素数3~12の分岐状アルキル基が挙げられ、より好ましくは、炭素数3~8の分岐状アルキル基が挙げられる。 The ester resin preferably further includes a structural unit shown in the following formula (4) in addition to the structural units shown in (2) and (3) above.
Figure 2023180135000008
(In formula (4), each of R 8 and R 9 is a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. (represents one type selected from cyclic alkyl groups).
In the above formula (4), the linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms represented by R 8 and R 9 includes, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group. , n-hexyl group, etc.
In the above formula (4), examples of the branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms represented by R 8 and R 9 include isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group.
In the above formula (4), examples of the cyclic alkyl group having 3 to 6 carbon atoms represented by R 8 and R 9 include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclohexyl group, and the like.
In the above formula (4), R 8 and R 9 may be the same or different.
Among R 8 in the above formula (4), preferred are a hydrogen atom and a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferred are a hydrogen atom and a methyl group.
Among R 9 in the above formula (4), a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms is preferred, and a branched alkyl group having 3 to 8 carbon atoms is more preferred.

上記式(4)に示す構成単位は、代表的にはアクリル樹脂残基単位である。上記式(4)に示す構成単位の具体例として、アクリル酸残基単位、メタクリル酸残基単位、2-エチルアクリル酸残基単位、2-プロピルアクリル酸残基単位、2-イソプロピルアクリル酸残基単位、2-ペンチルアクリル酸残基単位、2-ヘキシルアクリル酸残基単位、アクリル酸メチル残基単位、アクリル酸エチル残基単位、アクリル酸n-プロピル残基単位、アクリル酸イソプロピル残基単位、アクリル酸n-ブチル残基単位、アクリル酸イソブチル残基単位、アクリル酸sec-ブチル残基単位、アクリル酸n-ペンチル残基単位、アクリル酸イソペンチル残基単位、アクリル酸sec-ペンチル残基単位、アクリル酸3-ペンチル残基単位、アクリル酸ネオペンチル残基単位、アクリル酸n-へキシル残基単位、アクリル酸イソへキシル残基単位、アクリル酸ネオへキシル残基単位、メタクリル酸メチル残基単位、メタクリル酸エチル残基単位、メタクリル酸n-プロピル残基単位、メタクリル酸イソプロピル残基単位、メタクリル酸n-ブチル残基単位、メタクリル酸イソブチル残基単位、メタクリル酸sec-ブチル残基単位、メタクリル酸n-ペンチル残基単位、メタクリル酸イソペンチル残基単位、メタクリル酸sec-ペンチル残基単位、メタクリル酸3-ペンチル残基単位、メタクリル酸ネオペンチル残基単位、メタクリル酸n-へキシル残基単位、メタクリル酸イソへキシル残基単位、メタクリル酸ネオへキシル残基単位、2-エチルアクリル酸メチル残基単位、2-エチルアクリル酸エチル残基単位、2-エチルアクリル酸n-プロピル残基単位、2-エチルアクリル酸イソプロピル残基単位、2-エチルアクリル酸n-ブチル残基単位、2-エチルアクリル酸イソブチル残基単位、2-エチルアクリル酸sec-ブチル残基単位等が挙げられ、好ましくはアクリル酸イソブチル残基単位が挙げられる。 The structural unit represented by the above formula (4) is typically an acrylic resin residue unit. Specific examples of the structural units shown in the above formula (4) include acrylic acid residue units, methacrylic acid residue units, 2-ethyl acrylic acid residue units, 2-propylacrylic acid residue units, and 2-isopropylacrylic acid residue units. group unit, 2-pentyl acrylic acid residue unit, 2-hexyl acrylic acid residue unit, methyl acrylate residue unit, ethyl acrylate residue unit, n-propyl acrylate residue unit, isopropyl acrylate residue unit , n-butyl acrylate residue unit, isobutyl acrylate residue unit, sec-butyl acrylate residue unit, n-pentyl acrylate residue unit, isopentyl acrylate residue unit, sec-pentyl acrylate residue unit , 3-pentyl acrylate residue unit, neopentyl acrylate residue unit, n-hexyl acrylate residue unit, isohexyl acrylate residue unit, neohexyl acrylate residue unit, methyl methacrylate residue unit, ethyl methacrylate residue unit, n-propyl methacrylate residue unit, isopropyl methacrylate residue unit, n-butyl methacrylate residue unit, isobutyl methacrylate residue unit, sec-butyl methacrylate residue unit, n-pentyl methacrylate residue unit, isopentyl methacrylate residue unit, sec-pentyl methacrylate residue unit, 3-pentyl methacrylate residue unit, neopentyl methacrylate residue unit, n-hexyl methacrylate residue unit , isohexyl methacrylate residue unit, neohexyl methacrylate residue unit, methyl 2-ethyl acrylate residue unit, ethyl 2-ethyl acrylate residue unit, n-propyl 2-ethyl acrylate residue unit , 2-ethylacrylate isopropyl residue unit, 2-ethylacrylate n-butyl residue unit, 2-ethylacrylate isobutyl residue unit, 2-ethylacrylate sec-butyl residue unit, etc., preferably. is an isobutyl acrylate residue unit.

エステル系樹脂は、上記式(4)に示す構成単位を、1種のみ含んでいてもよく、2種以上含んでいてもよい。
エステル系樹脂における上記式(4)の構成単位の含有割合は、例えば0モル%以上、好ましくは1モル%以上であり、例えば30モル%以下である。
The ester resin may contain only one type of structural unit shown in the above formula (4), or may contain two or more types.
The content of the structural unit of the formula (4) in the ester resin is, for example, 0 mol% or more, preferably 1 mol% or more, and, for example, 30 mol% or less.

エステル系樹脂は、上記式(2)から(4)以外の単量体残基単位を含有してもよい。そのような単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基、α-メチルスチレン残基等のスチレン類残基;ビニルナフタレン残基;酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基;メチルビニルエーテル残基、エチルビニルエーテル残基、ブチルビニルエーテル残基等のビニルエーテル残基;N-メチルマレイミド残基、N-シクロヘキシルマレイミド残基、N-フェニルマレイミド残基等のN-置換マレイミド残基;アクリロニトリル残基;メタクリロニトリル残基;フマル酸エステル残基;フマル酸残基;エチレン残基、プロピレン残基等のオレフィン類残基が挙げられる。 The ester resin may contain monomer residue units other than those of formulas (2) to (4) above. Such monomer residue units include, for example, styrene residues such as styrene residues and α-methylstyrene residues; vinylnaphthalene residues; vinyl esters such as vinyl acetate residues and vinyl propionate residues; Vinyl ether residues such as methyl vinyl ether residues, ethyl vinyl ether residues, butyl vinyl ether residues; N-substituted maleimides such as N-methylmaleimide residues, N-cyclohexylmaleimide residues, N-phenylmaleimide residues, etc. Residues; acrylonitrile residues; methacrylonitrile residues; fumaric acid ester residues; fumaric acid residues; olefin residues such as ethylene residues and propylene residues.

エステル系樹脂の標準ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は、例えば、1×10以上5×10以下、好ましくは5×10以上3×10以下である。エステル系樹脂のMnは、ゲル・パ-ミエイション・クロマトグラフィ-(GPC)により測定した溶出曲線より算出できる。エステル系樹脂のMnが上記の範囲であれば、樹脂フィルムの機械特性および/または成形加工性の向上を図ることができる。 The number average molecular weight (Mn) of the ester resin in terms of standard polystyrene is, for example, 1×10 3 or more and 5×10 6 or less, preferably 5×10 3 or more and 3×10 5 or less. The Mn of the ester resin can be calculated from the elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC). If the Mn of the ester resin is within the above range, it is possible to improve the mechanical properties and/or moldability of the resin film.

エステル系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、例えば220℃以下、好ましくは210℃以下であり、例えば180℃以上、好ましくは190℃以上である。エステル系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、DSC(Differential Scanning Calorimetry)等の熱分析装置によって測定できる。 The glass transition temperature (Tg) of the ester resin is, for example, 220°C or lower, preferably 210°C or lower, and, for example, 180°C or higher, preferably 190°C or higher. The glass transition temperature (Tg) of the ester resin can be measured by a thermal analysis device such as DSC (Differential Scanning Calorimetry).

このようなエステル系樹脂の具体例としては、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-アクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-2-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-3-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-スチレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-2-ビニルナフタレン-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-1-ビニルインドール-メタクリル酸エステル共重合体、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸エステル-9-ビニルカルバゾール-メタクリル酸エステル共重合体が挙げられる。 Specific examples of such ester resins include α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-styrene-acrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene- Acrylic ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic ester-1-vinylindole-acrylic ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic ester-9-vinylcarbazole-acrylic acid Ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamate-styrene-acrylate copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamate-2-vinylnaphthalene-acrylate copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamate ester-1-vinylindole-acrylic ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamate ester-9-vinylcarbazole-acrylic ester copolymer, α- Cyano-4-hydroxycinnamate-styrene-acrylate copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamate-2-vinylnaphthalene-acrylate copolymer, α-cyano-4-hydroxy Cinnamate ester-1-vinylindole-acrylic ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamate ester-9-vinylcarbazole-acrylic ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamate Acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-2-vinylnaphthalene-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-1- Vinyl indole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-2-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid Ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamate ester-2-vinylnaphthalene-methacrylate ester copolymer, α-cyano-3-hydroxycinnamate ester-1-vinylindole-methacrylate ester copolymer Polymer, α-cyano-3-hydroxycinnamic acid ester-9-vinylcarbazole-methacrylic acid ester copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamic acid ester-styrene-methacrylic acid ester copolymer, α- Cyano-4-hydroxycinnamate-2-vinylnaphthalene-methacrylate copolymer, α-cyano-4-hydroxycinnamate-1-vinylindole-methacrylate copolymer, α-cyano- Examples include 4-hydroxycinnamate ester-9-vinylcarbazole-methacrylate ester copolymer.

(正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂との含有割合)
樹脂フィルムにおける正の複屈折を示す樹脂の含有割合は、正の複屈折を示す樹脂および負の複屈折を示す樹脂の総和を100質量%としたときに、代表的には50質量%を超過し、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上である。また、正の複屈折を示す樹脂の含有割合の上限は、代表的には90質量%以下である。正の複屈折を示す樹脂の含有割合が上記下限以上であれば、正の複屈折を示す樹脂および負の複屈折を示す樹脂が安定してナノ相分離構造を形成できる。また、図1に示すように、樹脂フィルムの厚み方向の位相差の波長分散特性は、正の複屈折を示す樹脂および負の複屈折を示す樹脂の各々の厚み方向の位相差の波長分散特性を合成したものとして把握され得る。よって、厚み方向の位相差に関してフラットな波長分散特性を有し、かつ、nx>nzの屈折率特性を示す上記セルロース系樹脂と、正の波長分散特性を有し、かつ、nx<nzの屈折率特性を示す上記エステル系樹脂とを上記割合で含むことにより、厚み方向の位相差に関して逆波長分散特性を有し、かつ、nx>nzの屈折率特性を示す樹脂フィルムが好適に得られ得る。
(Content ratio of resin showing positive birefringence and resin showing negative birefringence)
The content ratio of the resin exhibiting positive birefringence in the resin film typically exceeds 50% by mass when the sum of the resin exhibiting positive birefringence and the resin exhibiting negative birefringence is 100% by mass. However, it is preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more. Furthermore, the upper limit of the content of the resin exhibiting positive birefringence is typically 90% by mass or less. If the content ratio of the resin exhibiting positive birefringence is equal to or higher than the above lower limit, the resin exhibiting positive birefringence and the resin exhibiting negative birefringence can stably form a nanophase-separated structure. In addition, as shown in Figure 1, the wavelength dispersion characteristics of the retardation in the thickness direction of the resin film are the wavelength dispersion characteristics of the retardation in the thickness direction of each of the resin exhibiting positive birefringence and the resin exhibiting negative birefringence. It can be understood as a composite of the following. Therefore, the cellulose-based resin has flat wavelength dispersion characteristics with respect to the retardation in the thickness direction and exhibits refractive index characteristics of nx>nz, and the cellulose resin has positive wavelength dispersion characteristics and exhibits refractive index characteristics of nx<nz. By containing the above-mentioned ester-based resin exhibiting a refractive index characteristic in the above ratio, a resin film having a reverse wavelength dispersion characteristic with respect to a retardation in the thickness direction and exhibiting a refractive index characteristic of nx>nz can be suitably obtained. .

(他の成分)
他の成分は、目的に応じて適切に選択され得る。他の成分としては、例えば、ヒンダ-ドフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンE系酸化防止剤、その他酸化防止剤等の酸化防止剤;ヒンダードアミン系光安定剤;ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤;界面活性剤;高分子電解質;導電性錯体;顔料;染料;帯電防止剤;アンチブロッキング剤;滑剤が挙げられる。他の成分の含有割合は、樹脂成分100重量部に対して、例えば0.01重量部~0.3重量部である。
(other ingredients)
Other components may be appropriately selected depending on the purpose. Other ingredients include, for example, hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, lactone antioxidants, amine antioxidants, hydroxylamine antioxidants, and vitamin E. Antioxidants such as antioxidants and other antioxidants; hindered amine light stabilizers; ultraviolet absorbers such as benzotriazole, benzophenone, triazine, and benzoate; surfactants; polymer electrolytes; conductive complexes; pigments; dyes ; antistatic agents; antiblocking agents; lubricants. The content of other components is, for example, 0.01 part by weight to 0.3 part by weight based on 100 parts by weight of the resin component.

A-1-2.樹脂フィルムの作製方法
樹脂フィルムは、A-1-1項に記載の樹脂フィルムを構成する各成分を混合して樹脂組成物を調製し、フィルム状に成形することによって作製される。
A-1-2. Method for Producing a Resin Film The resin film is produced by preparing a resin composition by mixing the components constituting the resin film described in Section A-1-1, and molding the resin composition into a film.

混合方法としては、溶融混合法および溶液混合法が挙げられる。溶融混合法は、加熱により樹脂等を溶融させて混練することにより混合する方法である。溶液混合法は、樹脂等を溶媒に溶解して混合する方法である。 Examples of the mixing method include a melt mixing method and a solution mixing method. The melt mixing method is a method of mixing by melting resin etc. by heating and kneading. The solution mixing method is a method in which a resin or the like is dissolved in a solvent and mixed.

溶液混合法に用いる溶媒としては、製膜工程における溶媒の残留を少なくする観点から、沸点が200℃以下である溶媒が好ましく、170℃以下である溶媒がより好ましい。溶媒の具体例としては、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;フェノール、クロロフェノール等のフェノール類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、メシチレン、ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン、シクロペンタノン(CPN)、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;ブタノール、t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2-メチル-2,4-ペンタンジオール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒;アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶媒;1,3-ジオキソラン、シクロペンチルメチルエーテル(CPME)、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセルソルブ、および、これらの混合溶媒が挙げられる。 The solvent used in the solution mixing method is preferably a solvent with a boiling point of 200° C. or lower, more preferably 170° C. or lower, from the viewpoint of reducing residual solvent in the film forming process. Specific examples of solvents include halogenated hydrocarbons such as chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, dichloroethane, tetrachloroethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, and dichlorobenzene; phenols such as phenol and chlorophenol; benzene, toluene, and xylene. , methoxybenzene, mesitylene, dimethoxybenzene, and other aromatic hydrocarbons; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclohexanone, cyclopentanone (CPN), 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, and other ketones. Ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; butanol, t-butyl alcohol, glycerin, ethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol, dipropylene glycol, 2-methyl-2 , 4-pentanediol, and other alcoholic solvents; dimethylformamide, dimethylacetamide, and other amide solvents; acetonitrile, butyronitrile, and other nitrile solvents; 1,3-dioxolane, cyclopentyl methyl ether (CPME), propylene glycol methyl ether acetate ( Examples include ether solvents such as PGMEA), diethyl ether, dibutyl ether, and tetrahydrofuran; carbon disulfide, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and mixed solvents thereof.

溶媒のなかでは、好ましくは混合溶媒が挙げられる。混合溶媒の組み合わせとしては、エステル系溶媒/芳香族炭化水素類、エーテル系溶媒/芳香族炭化水素類、エステル系溶媒/エーテル系溶媒、エステル系溶媒/アルコール系溶媒、エステル系溶媒/ケトン系溶媒、2種のエーテル系溶媒、2種のエステル系溶媒が挙げられる。 Among the solvents, mixed solvents are preferred. Examples of mixed solvent combinations include ester solvents/aromatic hydrocarbons, ether solvents/aromatic hydrocarbons, ester solvents/ether solvents, ester solvents/alcohol solvents, and ester solvents/ketone solvents. , two types of ether solvents, and two types of ester solvents.

混合溶媒として、より好ましくは、エステル系溶媒/芳香族炭化水素類が挙げられ、さらに好ましくは、酢酸エチル/トルエンが挙げられ、とりわけ好ましくは酢酸エチル/トルエン=40質量%/60質量%~60質量%/40質量%の混合溶媒が挙げられる。溶媒がこのような混合溶媒であると、所望の配向性を有する樹脂フィルムを好適に得ることができる。また、位相差フィルムにおいて、セルロース系樹脂およびエステル系樹脂がより安定してナノ相分離構造を形成できる。 More preferred mixed solvents include ester solvents/aromatic hydrocarbons, still more preferred include ethyl acetate/toluene, particularly preferred ethyl acetate/toluene = 40% by mass/60% by mass to 60% by mass. A mixed solvent of mass %/40 mass % may be mentioned. When the solvent is such a mixed solvent, a resin film having desired orientation can be suitably obtained. Furthermore, in the retardation film, the cellulose resin and the ester resin can more stably form a nanophase-separated structure.

樹脂組成物の成形方法としては、任意の適切な方法を用いることができる。具体例としては、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、FRP成形法、キャスト塗工法(例えば、流延法)、カレンダー成形法、熱プレス法等が挙げられる。なかでも、キャスト塗工法が好ましい。キャスト塗工法は、上記樹脂と溶媒とを含む樹脂溶液を支持基材上に塗布(例えば、流延)して塗布層を形成し、該塗布層を加熱して溶媒を蒸発させることによりフィルムを得る方法である。 Any suitable method can be used to mold the resin composition. Specific examples include compression molding method, transfer molding method, injection molding method, extrusion molding method, blow molding method, powder molding method, FRP molding method, cast coating method (e.g. casting method), calendar molding method, hot press method. Laws, etc. can be cited. Among these, the cast coating method is preferred. In the cast coating method, a resin solution containing the above-mentioned resin and a solvent is applied (e.g., cast) onto a supporting substrate to form a coating layer, and the coating layer is heated to evaporate the solvent to form a film. This is the way to get it.

塗工方法は特に制限されず、通常の方法を採用できる。例えば、Tダイ法、ドクタ-ブレ-ド法、バ-コ-タ-法、スロットダイ法、リップコ-タ-法、リバースグラビアコート法、マイクログラビア法、スピンコート法、刷毛塗り法、ロールコート法、フレキソ印刷法等が挙げられる。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類、位相差フィルムに所望される特性等に応じて適宜設定され得る。 The coating method is not particularly limited, and any conventional method can be used. For example, T-die method, doctor blade method, bar coater method, slot die method, lip coater method, reverse gravure coating method, microgravure method, spin coating method, brush coating method, roll coating. method, flexographic printing method, etc. The molding conditions can be appropriately set depending on the composition and type of the resin used, the desired characteristics of the retardation film, and the like.

支持基材としては、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、エポキシ系樹脂等からなる高分子基材、ガラス板、石英基板等のガラス基材、アルミ、ステンレス、フェロタイプ等の金属基材、セラミックス基板等の無機基材等が挙げられる。上記基材として好ましくは、高分子基材または金属基材である。 Examples of the supporting base material include polyester, polycarbonate, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, triacetylcellulose, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, epoxy resin, etc. Examples include polymer substrates, glass substrates such as glass plates and quartz substrates, metal substrates such as aluminum, stainless steel, and ferrotype substrates, and inorganic substrates such as ceramic substrates. Preferably, the base material is a polymer base material or a metal base material.

成形時の樹脂組成物(溶融液または溶液)の粘度は、生産性、成形性等の観点から、好ましくは100cps~30000cps、より好ましくは300cps~20000cps、さらに好ましくは500cps~15000cpsである。樹脂組成物の粘度は、各成分の分子量、濃度、溶媒の種類等によって調整可能である。 The viscosity of the resin composition (melt or solution) during molding is preferably 100 cps to 30,000 cps, more preferably 300 cps to 20,000 cps, and still more preferably 500 cps to 15,000 cps, from the viewpoint of productivity, moldability, etc. The viscosity of the resin composition can be adjusted by adjusting the molecular weight, concentration, type of solvent, etc. of each component.

樹脂溶液の固形分濃度は、例えば1重量%~30重量%、好ましくは5重量%~30重量%、より好ましくは10重量%~24重量%である。 The solid content concentration of the resin solution is, for example, 1% to 30% by weight, preferably 5% to 30% by weight, more preferably 10% to 24% by weight.

樹脂溶液の塗工厚み(塗布層の厚み)は、例えば50μm~1000μm、好ましくは50μm~900μm、より好ましくは70μm~800μm、さらに好ましくは100μm~700μm(例えば、300μm~700μm)である。塗工厚みが当該範囲内であれば、厚みあたりの面内配向性を大きく落とさずに延伸後のフィルム厚みを担保でき、例えば、λ/4板に必要な面内の位相差特性を確保できる。 The coating thickness of the resin solution (thickness of the coating layer) is, for example, 50 μm to 1000 μm, preferably 50 μm to 900 μm, more preferably 70 μm to 800 μm, and still more preferably 100 μm to 700 μm (for example, 300 μm to 700 μm). If the coating thickness is within this range, the film thickness after stretching can be ensured without significantly reducing the in-plane orientation per thickness, and for example, the in-plane retardation characteristics necessary for a λ/4 plate can be ensured. .

塗布層の乾燥における乾燥方法は特に制限されず、通常の加熱手段を採用できる。例えば、熱風器、加熱ロール、遠赤外線ヒーター等が挙げられる。 The drying method for drying the coating layer is not particularly limited, and ordinary heating means can be used. Examples include hot air blowers, heating rolls, far-infrared heaters, and the like.

樹脂フィルムが単一層内に複数の種類の樹脂を含む場合、樹脂フィルム内において各樹脂はそれぞれ独立して配向し得る。また、各樹脂の配向性は、乾燥温度、塗工厚み、樹脂の溶液濃度等によって変化し得る。例えば、乾燥温度が高いほど(結果として、溶媒の揮発速度が高いほど)、樹脂フィルム中の樹脂の配向は乱れる傾向にある。よって、例えば、正の複屈折を示す樹脂および負の複屈折を示す樹脂としてそれぞれ、上記セルロース系樹脂および上記エステル系樹脂を用いて樹脂フィルムに成形する場合、セルロース系樹脂がnx=ny>nzの屈折率特性を発現し、また、エステル系樹脂がnx=ny<nzの屈折率特性を発現することから、得られる樹脂フィルムの厚み方向の位相差と乾燥温度との間には下記の表1に示すような関係が成立し得る。 When a resin film contains a plurality of types of resin within a single layer, each resin can be independently oriented within the resin film. Further, the orientation of each resin can vary depending on the drying temperature, coating thickness, resin solution concentration, etc. For example, the higher the drying temperature (as a result, the higher the solvent volatilization rate), the more disordered the orientation of the resin in the resin film tends to be. Therefore, for example, when forming a resin film using the cellulose resin and the ester resin as a resin exhibiting positive birefringence and a resin exhibiting negative birefringence, respectively, the cellulose resin is nx=ny>nz Since the ester resin exhibits the refractive index characteristic of nx=ny<nz, the relationship between the retardation in the thickness direction of the resulting resin film and the drying temperature is shown in the table below. A relationship as shown in 1 can be established.

Figure 2023180135000009
Figure 2023180135000009

よって、上記セルロース系樹脂と上記エステル系樹脂とを組み合わせて用いる場合、各樹脂に一定レベル以上のΔPを発現させる観点からは、塗布層の乾燥温度は、例えば35℃~160℃、好ましくは50℃~155℃の範囲内であり得る。また、乾燥時間は、例えば60秒~1200秒、好ましくは60秒~900秒、より好ましくは90秒~900秒である。 Therefore, when using the cellulose resin and the ester resin in combination, the drying temperature of the coating layer is, for example, 35°C to 160°C, preferably 50°C, from the viewpoint of making each resin develop a ΔP of a certain level or more. It may be within the range of 155°C to 155°C. Further, the drying time is, for example, 60 seconds to 1200 seconds, preferably 60 seconds to 900 seconds, and more preferably 90 seconds to 900 seconds.

乾燥は、一定の温度で行われてもよく、温度を変化させながら行われてもよい。例えば、乾燥は、徐々にまたは段階的に昇温しながら行われ得る。温度を変化させながら行われる場合、各温度での処理時間を重みとした加重平均温度は、例えば50℃~140℃、好ましくは70℃~140℃、より好ましくは70℃~130℃である。 Drying may be performed at a constant temperature or while changing the temperature. For example, drying can be carried out while increasing the temperature gradually or stepwise. When the treatment is carried out while changing the temperature, the weighted average temperature based on the processing time at each temperature is, for example, 50°C to 140°C, preferably 70°C to 140°C, more preferably 70°C to 130°C.

乾燥が段階的に昇温しながら行われる場合、1段目の乾燥温度を、例えば35℃以上65℃以下、好ましくは45℃以上65℃以下に設定し、1段目の乾燥時間を、例えば1分以上30分以下、好ましくは1分以上8分以下に設定する。その後は、段階毎に、乾燥温度を、例えば10℃~60℃、好ましくは10℃~40℃上昇させる。2段目以降の各段の乾燥時間は、代表的には、1段目の乾燥時間よりも短く、好ましくは20秒以上20分以下、より好ましくは30秒以上5分以下である。乾燥の段数は、好ましくは2段以上4段以下であり、より好ましくは3段以下である。このように多段階で乾燥を行うことにより、各樹脂の厚み方向の配向性を確保することができ、また、得られる樹脂フィルム(最終的に、位相差フィルム)において、ナノ相分離構造が好適に形成され得る。 When drying is performed while raising the temperature in stages, the first stage drying temperature is set to, for example, 35°C or higher and 65°C or lower, preferably 45°C or higher and 65°C or lower, and the first stage drying time is set to, for example, 45°C or higher and 65°C or lower. It is set to 1 minute or more and 30 minutes or less, preferably 1 minute or more and 8 minutes or less. Thereafter, the drying temperature is increased in each step, for example from 10°C to 60°C, preferably from 10°C to 40°C. The drying time of each stage after the second stage is typically shorter than the drying time of the first stage, preferably 20 seconds or more and 20 minutes or less, more preferably 30 seconds or more and 5 minutes or less. The number of drying stages is preferably 2 or more and 4 or less, more preferably 3 or less. By drying in multiple stages in this way, it is possible to ensure the orientation of each resin in the thickness direction, and the resulting resin film (ultimately, retardation film) has a nano-phase separation structure. can be formed.

1つの実施形態において、多段階の乾燥における最高温度(最終段階の乾燥温度)は、例えば130℃を超え160℃以下、好ましくは130℃を超え155℃以下、より好ましくは135℃~155℃である。最高温度が当該範囲内である場合、得られる樹脂フィルムは比較的低いΔP(例えば、ΔP<0.0015)を示す一方で、比較的高い延伸倍率(例えば、3.0倍以上または3.5倍以上)で延伸することが可能である。そのため、高い延伸倍率を適用することにより、所望の光学特性(面内位相差、逆波長分散特性等)を有し、かつ、広幅な位相差フィルムが得られ、ロール・トゥ・ロールプロセスによる大面積の光学積層体(例えば、円偏光板)の製造に適用することができる。具体的には、例えば3.0倍以上、好ましくは3.5倍以上の延伸倍率での延伸によって、Re(550)が130nm~160nmである位相差フィルムが得られ得る。別の実施形態において、多段階の乾燥における最高温度(最終段階の乾燥温度)は、例えば100℃以上140℃以下、好ましくは100℃~130℃、より好ましくは100℃~120℃、さらに好ましくは110℃~120℃である。最高温度が当該範囲内である場合、得られる樹脂フィルムは比較的高いΔP(例えば、ΔP≧0.0015)を示すことから、比較的低い延伸倍率であっても所望の光学特性を有する位相差フィルムを得ることができる。具体的には、例えば3.5倍未満、好ましくは3.0倍未満の延伸倍率での延伸によって、Re(550)が130nm~160nmである位相差フィルムが得られ得る。以上のように、塗布層の乾燥温度は、樹脂フィルムのΔPに影響を及ぼす因子の1つであり、また、樹脂フィルムのΔPに応じて、延伸倍率や延伸温度等の延伸条件に特徴をもった延伸を行うことにより、逆波長分散λ/4板等の所望の位相差フィルムが得られ得る。 In one embodiment, the maximum temperature in multi-stage drying (drying temperature in the final stage) is, for example, higher than 130°C and lower than 160°C, preferably higher than 130°C and lower than 155°C, more preferably 135°C to 155°C. be. When the maximum temperature is within this range, the resulting resin film exhibits a relatively low ΔP (e.g., ΔP<0.0015) while exhibiting a relatively high draw ratio (e.g., 3.0 times or more or 3.5 It is possible to stretch the film by 2 times or more. Therefore, by applying a high stretching ratio, a retardation film with desired optical properties (in-plane retardation, reverse wavelength dispersion characteristics, etc.) and a wide width can be obtained, and a large retardation film can be obtained by the roll-to-roll process. It can be applied to the production of optical laminates (for example, circularly polarizing plates). Specifically, by stretching at a stretching ratio of, for example, 3.0 times or more, preferably 3.5 times or more, a retardation film having Re(550) of 130 nm to 160 nm can be obtained. In another embodiment, the maximum temperature in multi-stage drying (drying temperature in the final stage) is, for example, 100°C or more and 140°C or less, preferably 100°C to 130°C, more preferably 100°C to 120°C, and even more preferably The temperature is 110°C to 120°C. When the maximum temperature is within this range, the resulting resin film exhibits a relatively high ΔP (for example, ΔP≧0.0015), so even at a relatively low stretching ratio, a retardation film with desired optical properties can be obtained. You can get the film. Specifically, a retardation film having Re(550) of 130 nm to 160 nm can be obtained by stretching at a stretching ratio of, for example, less than 3.5 times, preferably less than 3.0 times. As described above, the drying temperature of the coating layer is one of the factors that affects the ΔP of the resin film, and the stretching conditions such as the stretching ratio and stretching temperature have characteristics depending on the ΔP of the resin film. By carrying out the stretching, a desired retardation film such as a reverse wavelength dispersion λ/4 plate can be obtained.

樹脂フィルムの作製方法は、上記塗布層の乾燥後に110℃以上の加熱を行う二次乾燥工程(アニール工程)を含んでも良い。二次乾燥工程(アニール工程)の乾燥温度は、例えば110℃以上、好ましくは130℃以上であり、例えば180℃以下、好ましくは165℃以下である。二次乾燥工程(アニール工程)の乾燥時間は、例えば1分以上、好ましくは5分以上であり、例えば60分以下、好ましくは45分以下である。好ましくは、上記乾燥後の塗布層を、例えば50℃以下、好ましくは30℃以下、より好ましくは室温(23℃)に冷却してから二次乾燥工程を行う。乾燥後の塗布層を一旦冷却すると、上記乾燥において形成された配向性およびナノ相分離構造を固定化でき、次の二次乾燥工程においても、これらを保持し得る。 The method for producing a resin film may include a secondary drying step (annealing step) of heating at 110° C. or higher after drying the coating layer. The drying temperature in the secondary drying step (annealing step) is, for example, 110° C. or higher, preferably 130° C. or higher, and, for example, 180° C. or lower, preferably 165° C. or lower. The drying time of the secondary drying step (annealing step) is, for example, 1 minute or more, preferably 5 minutes or more, and is, for example, 60 minutes or less, preferably 45 minutes or less. Preferably, the secondary drying step is performed after the dried coating layer is cooled to, for example, 50° C. or lower, preferably 30° C. or lower, and more preferably room temperature (23° C.). Once the dried coating layer is cooled, the orientation and nanophase separation structure formed during the drying process can be fixed, and these can be maintained even in the subsequent secondary drying process.

上記乾燥後(二次乾燥工程を含む場合は二次乾燥工程後)の樹脂フィルムにおける溶媒の含有割合(残存率)は、例えば0重量%~10重量%、好ましくは0重量%~5重量%である。 The content ratio (residual rate) of the solvent in the resin film after the above drying (after the secondary drying step if a secondary drying step is included) is, for example, 0% to 10% by weight, preferably 0% to 5% by weight. It is.

A-2.延伸工程
延伸工程では、上記樹脂フィルムを延伸する。延伸方法は、B項に記載の位相差フィルムが得られる限りにおいて制限されず、任意の適切な延伸方法が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮等の様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、長さ方向、幅方向、厚さ方向、斜め方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。
A-2. Stretching process In the stretching process, the resin film is stretched. The stretching method is not limited as long as the retardation film described in Section B can be obtained, and any appropriate stretching method may be employed. Specifically, various stretching methods such as free end stretching, fixed end stretching, free end contraction, and fixed end contraction can be used alone, simultaneously, or sequentially. Regarding the stretching direction, stretching can be carried out in various directions and dimensions, such as the length direction, width direction, thickness direction, and diagonal direction.

延伸方法の具体例としては、固定端一軸延伸、自由端一軸延伸、および斜め延伸が挙げられる。固定端一軸延伸は、例えば、テンター式延伸装置を用いて長尺状の樹脂フィルムを長手方向に搬送しながら、長手方向と直交する方向(幅方向)に延伸することによって行われ得る。自由端一軸延伸は、例えば、周速の異なるロール間に長尺状の樹脂フィルムを通して長手方向に延伸することによって行われ得る。斜め延伸は、例えば、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して角度θの方向に連続的に斜め延伸することによって行われ得る。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して角度θの配向角(角度θの方向に遅相軸)を有する長尺状の位相差フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールトゥロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。なお、角度θは、位相差層付偏光板において偏光子の吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とがなす角度であり得る。角度θは好ましくは40°~50°であり、より好ましくは42°~48°であり、さらに好ましくは約45°である。 Specific examples of the stretching method include fixed end uniaxial stretching, free end uniaxial stretching, and diagonal stretching. Fixed-end uniaxial stretching may be performed, for example, by using a tenter-type stretching device to convey a long resin film in the longitudinal direction and stretching it in a direction perpendicular to the longitudinal direction (width direction). Free end uniaxial stretching can be performed, for example, by stretching a long resin film in the longitudinal direction between rolls having different circumferential speeds. The diagonal stretching may be performed, for example, by continuously diagonally stretching a long resin film in a direction at an angle θ with respect to the longitudinal direction. By employing diagonal stretching, a long retardation film having an orientation angle of θ (slow axis in the direction of angle θ) with respect to the longitudinal direction of the film can be obtained, and for example, it can be laminated with a polarizer. In this case, roll-to-roll is possible, which simplifies the manufacturing process. Note that the angle θ may be an angle between the absorption axis of the polarizer and the slow axis of the retardation film in the polarizing plate with a retardation layer. The angle θ is preferably 40° to 50°, more preferably 42° to 48°, and even more preferably about 45°.

延伸倍率は、所望の面内位相差等によって適切に選択され得る。延伸倍率は、例えば2.0倍以上、好ましくは2.5倍以上、より好ましくは3.0倍以上であり、また例えば8.0倍以下、好ましくは7.5倍以下、より好ましく5.0倍以下である。 The stretching ratio can be appropriately selected depending on the desired in-plane retardation and the like. The stretching ratio is, for example, 2.0 times or more, preferably 2.5 times or more, more preferably 3.0 times or more, and, for example, 8.0 times or less, preferably 7.5 times or less, more preferably 5. It is 0 times or less.

延伸後の樹脂フィルムの厚みは、例えば10μm~80μm、好ましくは10μm~70μmであり、より好ましくは10μm~50μmである。また、延伸後の樹脂フィルムの厚みは、延伸前の樹脂フィルム厚みの例えば50%以下、好ましくは12.5%~50%であり、より好ましくは12.5%~40%である。延伸前後のフィルム厚みが当該関係を満たす場合、高い面内複屈折を有する位相差フィルムが得られ得る。 The thickness of the resin film after stretching is, for example, 10 μm to 80 μm, preferably 10 μm to 70 μm, and more preferably 10 μm to 50 μm. Further, the thickness of the resin film after stretching is, for example, 50% or less, preferably 12.5% to 50%, more preferably 12.5% to 40% of the thickness of the resin film before stretching. When the film thicknesses before and after stretching satisfy the relationship, a retardation film having high in-plane birefringence can be obtained.

延伸温度は、位相差フィルムに所望される面内位相差および厚み、使用される樹脂の種類、樹脂フィルムの厚み、延伸倍率等に応じて変化し得る。延伸温度は、樹脂フィルムに含まれる材料のTgに関連して変動し、配向性を持つ樹脂のうち最も低いTgを持つ樹脂のガラス転移温度(Tg1)に対し、例えばTg1-20℃~Tg1+50℃、好ましくはTg1-20℃~Tg1+40℃、より好ましくはTg1-10℃~Tg1+40℃である。延伸温度が当該範囲であれば、安定に延伸することができる。 The stretching temperature can vary depending on the desired in-plane retardation and thickness of the retardation film, the type of resin used, the thickness of the resin film, the stretching ratio, and the like. The stretching temperature varies in relation to the Tg of the material contained in the resin film, and is, for example, Tg1-20°C to Tg1+50°C with respect to the glass transition temperature (Tg1) of the resin with the lowest Tg among the oriented resins. , preferably Tg1-20°C to Tg1+40°C, more preferably Tg1-10°C to Tg1+40°C. If the stretching temperature is within this range, stable stretching can be achieved.

延伸速度は、例えば、1mm/秒以上、好ましくは2mm/秒以上であり、例えば200mm/秒以下、好ましくは100mm/秒以下である。 The stretching speed is, for example, 1 mm/sec or more, preferably 2 mm/sec or more, and, for example, 200 mm/sec or less, preferably 100 mm/sec or less.

樹脂フィルムは、好ましくは、延伸前に予熱される。予熱温度も延伸温度と同様にTg1に関して設定される。予熱温度は、例えば、Tg1-20℃以上、好ましくはTg1-10℃以上であり、例えばTg1+50℃以下、好ましくはTg1+40℃以下である。予熱温度は、代表的には延伸温度よりも高く、好ましくは延伸温度よりも5℃以上高い。 The resin film is preferably preheated before stretching. The preheating temperature is also set with respect to Tg1 similarly to the stretching temperature. The preheating temperature is, for example, Tg1-20°C or higher, preferably Tg1-10°C or higher, and, for example, Tg1+50°C or lower, preferably Tg1+40°C or lower. The preheating temperature is typically higher than the stretching temperature, preferably 5° C. or more higher than the stretching temperature.

必要に応じて、延伸した樹脂フィルムを延伸方向に熱収縮させる過程を含んでも良い。熱収縮温度も予熱、延伸温度と同様にTg1に関して設定され、例えばTg1-20℃以上、好ましくはTg1-15℃以上であり、例えばTg1+45℃以下、好ましくはTg1+35℃以下である。熱収縮温度は、より好ましくは延伸温度以下である。収縮率は、代表的には1%以上5%以下である。 If necessary, the process may include a step of heat-shrinking the stretched resin film in the stretching direction. The heat shrinkage temperature is also set with respect to Tg1 in the same manner as the preheating and stretching temperatures, and is, for example, Tg1-20°C or higher, preferably Tg1-15°C or higher, and, for example, Tg1+45°C or lower, preferably Tg1+35°C or lower. The heat shrinkage temperature is more preferably equal to or lower than the stretching temperature. The shrinkage rate is typically 1% or more and 5% or less.

B.位相差フィルム
A項に記載の位相差フィルムの製造方法によって製造される位相差フィルムは、代表的には、屈折率特性がnx>ny≧nzの関係を示す。ここで、「ny=nz」は、nyとnzが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ny<nzとなる場合があり得る。
B. Retardation Film The retardation film manufactured by the retardation film manufacturing method described in Section A typically has a refractive index characteristic of nx>ny≧nz. Here, "ny=nz" includes not only the case where ny and nz are completely equal but also the case where they are substantially equal. Therefore, there may be a case where ny<nz within a range that does not impair the effects of the present invention.

位相差フィルム(換言すれば、延伸後の樹脂フィルム)の測定波長590nmにおける面内複屈折(Δn(590))は、代表的には0.003を超え、好ましくは0.0035を超え、より好ましくは0.0037以上、さらに好ましくは0.0040以上である。位相差フィルムのΔn(590)は、例えば0.007以下であり得る。 The in-plane birefringence (Δn(590)) of the retardation film (in other words, the resin film after stretching) at a measurement wavelength of 590 nm typically exceeds 0.003, preferably exceeds 0.0035, and more Preferably it is 0.0037 or more, more preferably 0.0040 or more. Δn(590) of the retardation film may be, for example, 0.007 or less.

位相差フィルムの面内位相差は、用途等に応じて任意の適切な値であり得る。1つの実施形態において、位相差フィルムはλ/4板として機能し得る。この場合、位相差フィルムのRe(550)は、好ましくは100nm~190nm、より好ましくは110nm~170nm、さらに好ましくは130nm~160nmである。 The in-plane retardation of the retardation film can be any appropriate value depending on the application and the like. In one embodiment, the retardation film can function as a λ/4 plate. In this case, Re (550) of the retardation film is preferably 100 nm to 190 nm, more preferably 110 nm to 170 nm, and even more preferably 130 nm to 160 nm.

位相差フィルムのNz係数は、好ましくは0.9~3、より好ましくは0.9~2.5、さらに好ましくは0.9~1.5、特に好ましくは0.9~1.3である。このような関係を満たすことにより、偏光子と組み合わせて円偏光板として画像表示装置に用いた場合に、非常に優れた反射色相を達成し得る。 The Nz coefficient of the retardation film is preferably 0.9 to 3, more preferably 0.9 to 2.5, even more preferably 0.9 to 1.5, particularly preferably 0.9 to 1.3. . By satisfying such a relationship, when used in an image display device as a circularly polarizing plate in combination with a polarizer, an extremely excellent reflected hue can be achieved.

位相差フィルムは、代表的には、面内位相差に関して、測定光の波長の増大に応じて大きくなる逆分散波長特性を示す。位相差フィルムは、代表的にはRe(450)/Re(550)<0.90の関係を満たし、好ましくはRe(450)/Re(550)<0.88の関係、より好ましくは0.70<Re(450)/Re(550)<0.88の関係を満たす。このような関係を満たす位相差フィルムを偏光子と組み合わせて円偏光板として画像表示装置に用いた場合、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。 A retardation film typically exhibits inverse dispersion wavelength characteristics that increase as the wavelength of measurement light increases with respect to in-plane retardation. The retardation film typically satisfies the relationship Re(450)/Re(550)<0.90, preferably the relationship Re(450)/Re(550)<0.88, more preferably 0.90. The relationship 70<Re(450)/Re(550)<0.88 is satisfied. When a retardation film satisfying such a relationship is combined with a polarizer and used as a circularly polarizing plate in an image display device, extremely excellent antireflection properties can be achieved.

位相差フィルムの厚みは、例えば10μm~80μmであり、好ましくは10μm~50μm、より好ましくは10μm~30μmである。本発明の実施形態の製造方法で得られる位相差フィルムは、高い面内複屈折を有することから、小さい厚みで実用上十分な面内位相差を有し得る。 The thickness of the retardation film is, for example, 10 μm to 80 μm, preferably 10 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 30 μm. Since the retardation film obtained by the manufacturing method of the embodiment of the present invention has high in-plane birefringence, it can have a practically sufficient in-plane retardation with a small thickness.

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「%」は重量基準である。
(1)厚み
ダイヤルゲージ(PEACOCK社製、製品名「DG-205 type pds-2」)を用いて測定した。
(2)面内位相差(Re(λ))および厚み方向の位相差(Rth(λ))
測定対象のフィルムを長さ4cmおよび幅4cmに切り出し、測定試料とした。当該測定試料について、Axometrics社製、製品名「Axoscan」を用いて測定波長λnmの面内位相差または厚み方向の位相差を測定した。測定温度は23℃であった。
(3)面内複屈折(Δn(λ))および厚み方向の複屈折(ΔP(λ))
上記(2)で測定した測定試料の測定波長λnmにおける面内位相差を、測定試料の厚みで割ることにより測定波長λnmの面内複屈折を算出した。同様に、上記(2)で測定した測定試料の測定波長λnmにおける厚み方向の位相差を、測定試料の厚みで割ることにより測定波長λnmの厚み方向の複屈折を算出した。
(4)ガラス転移温度(Tg)
JIS K 7121に準じて測定した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The method for measuring each characteristic is as follows. Note that unless otherwise specified, "parts" and "%" in Examples and Comparative Examples are based on weight.
(1) Thickness Measured using a dial gauge (manufactured by PEACOCK, product name "DG-205 type pds-2").
(2) In-plane retardation (Re(λ)) and thickness direction retardation (Rth(λ))
The film to be measured was cut out to a length of 4 cm and a width of 4 cm, and used as a measurement sample. Regarding the measurement sample, the in-plane retardation or the thickness direction retardation at a measurement wavelength of λ nm was measured using a product name "Axoscan" manufactured by Axometrics. The measurement temperature was 23°C.
(3) In-plane birefringence (Δn(λ)) and thickness direction birefringence (ΔP(λ))
The in-plane birefringence at the measurement wavelength λnm was calculated by dividing the in-plane retardation at the measurement wavelength λnm of the measurement sample measured in (2) above by the thickness of the measurement sample. Similarly, the birefringence in the thickness direction at the measurement wavelength λnm was calculated by dividing the retardation in the thickness direction at the measurement wavelength λnm of the measurement sample measured in (2) above by the thickness of the measurement sample.
(4) Glass transition temperature (Tg)
Measured according to JIS K 7121.

[合成例1]ケイ皮酸エステル共重合体(9-ビニルカルバゾール/α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル/アクリル酸イソブチル)の合成
容量50mLのガラスアンプルに9-ビニルカルバゾール12.20g、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル7.74g、アクリル酸イソブチル4.05g、重合開始剤である2,5-ジメチル-2,5-ジ(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン0.453gおよびメチルエチルケトン36.00gを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを54℃の恒温槽に入れ、24時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン100gを加え、このポリマー溶液を800gのメタノール/水混合溶媒(重量比80/20)中に滴下して析出させ、ろ過した後、ろ過物を110gのメタノール/水混合溶媒(重量比90/10)で5回洗浄、ろ過した。得られた樹脂を80℃で10時間真空乾燥することにより、負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体22.3gを得た。得られたケイ皮酸エステル共重合体の数平均分子量は50,000であり、残基単位の比率は、9-ビニルカルバゾール残基単位50モル%、α-シアノ-4-ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位25モル%、アクリル酸イソブチル残基単位25モル%であった。
[Synthesis Example 1] Synthesis of cinnamate ester copolymer (9-vinylcarbazole/α-cyano-4-hydroxyisobutyl cinnamate/isobutyl acrylate) 12.20 g of 9-vinylcarbazole in a 50 mL glass ampoule, 7.74 g of isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate, 4.05 g of isobutyl acrylate, 0.0 g of 2,5-dimethyl-2,5-di(2-ethylhexanoylperoxy)hexane as a polymerization initiator. 453 g and 36.00 g of methyl ethyl ketone were put therein, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and then the mixture was sealed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 54° C. and maintained for 24 hours to carry out radical polymerization. After the polymerization reaction was completed, the polymer was taken out from the ampoule, 100 g of tetrahydrofuran was added, and this polymer solution was dropped into 800 g of methanol/water mixed solvent (weight ratio 80/20) to precipitate. After filtration, the filtrate was It was washed five times with 110 g of methanol/water mixed solvent (weight ratio 90/10) and filtered. By vacuum drying the obtained resin at 80° C. for 10 hours, 22.3 g of a cinnamate ester copolymer exhibiting negative birefringence was obtained. The number average molecular weight of the obtained cinnamate ester copolymer was 50,000, and the ratio of residue units was 50 mol% of 9-vinylcarbazole residue units, isobutyl α-cyano-4-hydroxycinnamate. The residue units were 25 mol% and the isobutyl acrylate residue units were 25 mol%.

[実施例1]
セルロース系樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製「ETHOCEL standard 100」、数平均分子量Mn=58,000、重量平均分子量Mw=180,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.51)80g、エステル系樹脂として合成例1により得られたケイ皮酸エステル系樹脂20g、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(BASFジャパン社製、製品名「Irganox 245」)0.1gをトルエン/酢酸エチル=4/6(重量比)溶液に溶解させて樹脂濃度16重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、狙い厚み560μmの塗布層を得た。該塗布層を65℃で360秒、85℃で60秒、110℃で120秒の順で乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、厚み109μmの樹脂フィルムを得た。得られた樹脂フィルムを、延伸温度よりも10℃高い温度で予熱した後、テンター延伸機にて155℃で3.0倍に横一軸延伸し、155℃で当該延伸方向に2.4%熱収縮させて位相差フィルムを得た。
[Example 1]
As a cellulose resin, ethyl cellulose ("ETHOCEL standard 100" manufactured by Dow Chemical Company, number average molecular weight Mn = 58,000, weight average molecular weight Mw = 180,000, Mw/Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2. 51) 80 g of ester resin, 20 g of cinnamate ester resin obtained in Synthesis Example 1, and 0.1 g of hindered phenol antioxidant (manufactured by BASF Japan, product name "Irganox 245") in toluene/acetic acid. It was dissolved in an ethyl=4/6 (weight ratio) solution to obtain a resin solution with a resin concentration of 16% by weight. The solution was dripped onto a polyethylene terephthalate film using a coater to obtain a coating layer with a target thickness of 560 μm. The coated layer was dried at 65° C. for 360 seconds, 85° C. for 60 seconds, and 110° C. for 120 seconds, and then peeled off from the polyethylene terephthalate film to obtain a resin film with a thickness of 109 μm. The obtained resin film was preheated at a temperature 10°C higher than the stretching temperature, and then uniaxially stretched horizontally by 3.0 times at 155°C using a tenter stretching machine, and then heated at 2.4% in the stretching direction at 155°C. A retardation film was obtained by shrinking.

延伸後の樹脂フィルム(位相差フィルム)の厚み方向の中央付近(具体的には、位相差フィルムの厚みを100%としたときに、位相差フィルムの厚み方向の中央から±20%の領域)をサンプリングし、重金属染色を含む超薄切片法により、位相差フィルムの断面をTEM(HT7820,日立社製)により観察した(断面TEM観察)ところ、すべてのドメインのサイズ(最大長さ)が100nm未満であるナノ相分離構造が形成されていることが確認された。 Near the center in the thickness direction of the stretched resin film (retardation film) (specifically, when the thickness of the retardation film is 100%, an area of ±20% from the center in the thickness direction of the retardation film) The cross-section of the retardation film was sampled and observed using a TEM (HT7820, manufactured by Hitachi) using an ultra-thin section method including heavy metal staining (cross-sectional TEM observation), and the size (maximum length) of all domains was 100 nm. It was confirmed that a nanophase-separated structure was formed.

[実施例2]
塗布層の厚みを変更したこと、および、熱収縮を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして位相差フィルムを得た。
[Example 2]
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the coating layer was changed and heat shrinkage was not performed.

[実施例3]
延伸温度と熱収縮温度(延伸温度と等温)を変更したこと以外は実施例1と同様にして位相差フィルムを得た。
[Example 3]
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the stretching temperature and heat shrinkage temperature (isothermal to the stretching temperature) were changed.

[実施例4]
延伸倍率および延伸温度と熱収縮温度(延伸温度と等温)を変更したこと以外は実施例1と同様にして位相差フィルムを得た。
[Example 4]
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the stretching ratio, stretching temperature, and heat shrinkage temperature (same temperature as the stretching temperature) were changed.

[実施例5]
塗布層の厚みを変更したこと、および、該塗布層を65℃で360秒、85℃で60秒、155℃で120秒の順で乾燥したこと以外は実施例1と同様にして位相差フィルムを得た。
[Example 5]
A retardation film was prepared in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the coating layer was changed, and the coating layer was dried in the following order: 65°C for 360 seconds, 85°C for 60 seconds, and 155°C for 120 seconds. I got it.

[実施例6]
延伸倍率および延伸温度と熱収縮温度(延伸温度と等温)を変更したこと以外は実施例5と同様にして位相差フィルムを得た。
[Example 6]
A retardation film was obtained in the same manner as in Example 5 except that the stretching ratio, stretching temperature, and heat shrinkage temperature (same temperature as the stretching temperature) were changed.

[比較例1]
セルロース系樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製「ETHOCEL standard 100」、数平均分子量Mn=58,000、重量平均分子量Mw=180,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.51)100g、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(BASFジャパン社製、製品名「Irganox 245」)0.1gをトルエン/酢酸エチル=4/6(重量比)溶液に溶解させて樹脂濃度16重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、塗布層を得た。該塗布層を80℃で150秒、120℃で150秒、150℃で150秒の順で乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、樹脂フィルムを得た。得られた樹脂フィルムを、延伸温度よりも10℃高い温度で予熱した後、テンター延伸機にて150℃で3.0倍に横一軸延伸して位相差フィルムを得た。
[Comparative example 1]
As a cellulose resin, ethyl cellulose ("ETHOCEL standard 100" manufactured by Dow Chemical Company, number average molecular weight Mn = 58,000, weight average molecular weight Mw = 180,000, Mw/Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2. 51) Dissolve 100g and 0.1g of a hindered phenol antioxidant (manufactured by BASF Japan, product name "Irganox 245") in a toluene/ethyl acetate = 4/6 (weight ratio) solution to obtain a resin concentration of 16% by weight. A resin solution was prepared. The solution was dripped onto a polyethylene terephthalate film using a coater to obtain a coating layer. The coating layer was dried at 80° C. for 150 seconds, at 120° C. for 150 seconds, and at 150° C. for 150 seconds, and then peeled off from the polyethylene terephthalate film to obtain a resin film. The obtained resin film was preheated at a temperature 10° C. higher than the stretching temperature, and then horizontally uniaxially stretched 3.0 times at 150° C. using a tenter stretching machine to obtain a retardation film.

[比較例2]
セルロース系樹脂としてエチルセルロース(ダウ・ケミカル社製「ETHOCEL standard 100」、数平均分子量Mn=58,000、重量平均分子量Mw=180,000、Mw/Mn=3.2、全置換度DS=2.51)90g、エステル系樹脂として合成例1により得られたケイ皮酸エステル系樹脂10g、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(BASFジャパン社製、製品名「Irganox 245」)0.1gをトルエン/酢酸エチル=4/6(重量比)溶液に溶解させて樹脂濃度16重量%の樹脂溶液とした。該溶液をコーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、塗布層を得た。該塗布層を65℃で360秒、85℃で60秒、110℃で120秒の順で乾燥した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥ぎ取って、樹脂フィルムを得た。得られた樹脂フィルムを、延伸温度よりも10℃高い温度で予熱した後、テンター延伸機にて150℃で3.0倍に横一軸延伸して位相差フィルムを得た。
[Comparative example 2]
As a cellulose resin, ethyl cellulose ("ETHOCEL standard 100" manufactured by Dow Chemical Company, number average molecular weight Mn = 58,000, weight average molecular weight Mw = 180,000, Mw/Mn = 3.2, total substitution degree DS = 2. 51) 90 g of ester resin, 10 g of cinnamate ester resin obtained in Synthesis Example 1, and 0.1 g of hindered phenol antioxidant (manufactured by BASF Japan, product name "Irganox 245") in toluene/acetic acid. It was dissolved in an ethyl=4/6 (weight ratio) solution to obtain a resin solution with a resin concentration of 16% by weight. The solution was dripped onto a polyethylene terephthalate film using a coater to obtain a coating layer. The coating layer was dried at 65° C. for 360 seconds, at 85° C. for 60 seconds, and at 110° C. for 120 seconds, and then peeled off from the polyethylene terephthalate film to obtain a resin film. The obtained resin film was preheated at a temperature 10° C. higher than the stretching temperature, and then horizontally uniaxially stretched 3.0 times at 150° C. using a tenter stretching machine to obtain a retardation film.

[比較例3]
塗布層を65℃で360秒、85℃で60秒、165℃で120秒の順で乾燥したこと、延伸条件を変更したこと、および、熱収縮を行わなかったこと以外は実施例1と同様にして位相差フィルムを得た。

Figure 2023180135000010
[Comparative example 3]
Same as Example 1 except that the coating layer was dried at 65°C for 360 seconds, 85°C for 60 seconds, and 165°C for 120 seconds, the stretching conditions were changed, and no heat shrinkage was performed. A retardation film was obtained.

Figure 2023180135000010

表2に示す通り、厚み方向の配向性が高く、厚み方向の位相差に関して逆波長分散特性を示す樹脂フィルムを延伸することにより、面内複屈折が高く、面内で逆波長分散特性を示す位相差フィルムが好適に得られ得る。また、このような樹脂フィルムは、樹脂溶液の塗工厚み、乾燥条件等を適切に調整することによって得られ得る。 As shown in Table 2, by stretching a resin film that has high orientation in the thickness direction and exhibits reverse wavelength dispersion characteristics in terms of retardation in the thickness direction, it has high in-plane birefringence and exhibits reverse wavelength dispersion characteristics in the plane. A retardation film can be suitably obtained. Further, such a resin film can be obtained by appropriately adjusting the coating thickness of the resin solution, drying conditions, etc.

本発明の実施形態による位相差フィルムの製造方法によって得られる位相差フィルムは、液晶表示装置およびEL表示装置等の画像表示装置、特に、有機EL表示装置において好適に用いられ得る。 The retardation film obtained by the retardation film manufacturing method according to the embodiment of the present invention can be suitably used in image display devices such as liquid crystal display devices and EL display devices, particularly in organic EL display devices.

Claims (9)

測定波長590nmにおける面内複屈折Δn(590)が0.003を超え、測定波長450nmにおける面内位相差の測定波長550nmにおける面内位相差に対する比(Re(450)/Re(550))が0.90未満である位相差フィルムの製造方法であって、
正の複屈折を示す樹脂と負の複屈折を示す樹脂とを含み、測定波長590nmにおける厚み方向の複屈折ΔP(590)が0.0005を超え、測定波長450nmにおける厚み方向の位相差の測定波長550nmにおける厚み方向の位相差に対する比(Rth(450)/Rth(550))が0.98未満である樹脂フィルムを作製すること、および
該樹脂フィルムを延伸すること、を含む、製造方法。
The in-plane birefringence Δn(590) at the measurement wavelength of 590 nm exceeds 0.003, and the ratio of the in-plane retardation at the measurement wavelength of 450 nm to the in-plane retardation at the measurement wavelength of 550 nm (Re(450)/Re(550)) A method for producing a retardation film having a retardation value of less than 0.90,
Contains a resin that exhibits positive birefringence and a resin that exhibits negative birefringence, the birefringence ΔP (590) in the thickness direction at a measurement wavelength of 590 nm exceeds 0.0005, and the retardation in the thickness direction at a measurement wavelength of 450 nm is measured. A manufacturing method comprising: producing a resin film having a ratio of retardation in the thickness direction at a wavelength of 550 nm (Rth(450)/Rth(550)) of less than 0.98; and stretching the resin film.
前記樹脂フィルムの延伸前の厚みが、50μm~200μmであり、
前記樹脂フィルムの延伸後の厚みが、延伸前の厚みに対して12.5%~40%である、請求項1に記載の位相差フィルムの製造方法。
The thickness of the resin film before stretching is 50 μm to 200 μm,
The method for producing a retardation film according to claim 1, wherein the thickness of the resin film after stretching is 12.5% to 40% of the thickness before stretching.
前記樹脂フィルムを作製することが、
前記正の複屈折を示す樹脂と前記負の複屈折を示す樹脂と溶媒とを含む樹脂溶液を支持基材上に塗布して塗布層を形成すること、および、
該塗布層を加熱して該溶媒を蒸発させること、
を含む、請求項1または2に記載の位相差フィルムの製造方法。
Producing the resin film comprises:
Coating a resin solution containing the resin exhibiting positive birefringence, the resin exhibiting negative birefringence, and a solvent onto a supporting base material to form a coating layer;
heating the coating layer to evaporate the solvent;
The method for producing a retardation film according to claim 1 or 2, comprising:
前記塗布層を50℃~155℃の範囲内で加熱して前記溶媒を蒸発させる、請求項3に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to claim 3, wherein the coating layer is heated within a range of 50° C. to 155° C. to evaporate the solvent. 前記樹脂フィルムが長尺状の樹脂フィルムであり、
前記樹脂フィルムを延伸することが、該長尺状の樹脂フィルムを長手方向に搬送しながら該長手方向に直交する方向に延伸することを含む、請求項1または2に記載の位相差フィルムの製造方法。
The resin film is a long resin film,
Manufacturing the retardation film according to claim 1 or 2, wherein stretching the resin film includes stretching the elongated resin film in a direction perpendicular to the longitudinal direction while conveying the long resin film in the longitudinal direction. Method.
前記延伸の延伸倍率が、8.0倍以下である、請求項1または2に記載の位相差フィルムの製造方法。 The method for producing a retardation film according to claim 1 or 2, wherein the stretching ratio of the stretching is 8.0 times or less. 前記樹脂フィルムの延伸前のRth(450)/Rth(550)が0.60を超え、0.98未満であり、前記位相差フィルムのΔn(590)が0.0035を超え、Re(450)/Re(550)が0.88未満である、請求項1または2に記載の位相差フィルムの製造方法。 Rth (450)/Rth (550) before stretching of the resin film is more than 0.60 and less than 0.98, Δn (590) of the retardation film is more than 0.0035, and Re (450) The method for producing a retardation film according to claim 1 or 2, wherein /Re(550) is less than 0.88. 前記正の複屈折を示す樹脂が、下記式(1)に示す構成単位を有するセルロース系樹脂を含み、
前記負の複屈折を示す樹脂が、下記式(2)に示す構成単位と、下記式(3)に示す構成単位と、を有するエステル系樹脂を含む、請求項1または2に記載の位相差フィルムの製造方法:
Figure 2023180135000011
(式(1)中、R~Rのそれぞれは、水素原子または炭素数1~12の置換基を示す;)
Figure 2023180135000012
(式(2)中、Rは、水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示し;R5aは、炭素数1~12のアルキル基、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、または、チオール基から選択される1種を示し;R5bは、水素原子または炭素数1~12のアルキル基を示し;Rは、水素原子、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、フェニル基、チオール基、アミド基、アミノ基、ヒドロキシ基、炭素数1~12のアルコキシ基、または、炭素数1~12のアルキル基から選択される種を示す;)
Figure 2023180135000013
(式(3)中、Rは、ヘテロ原子として窒素原子もしくは酸素原子を1つ以上含む5員環複素環残基または6員環複素環残基(前記5員環複素環残基および前記6員環複素環残基は他の環状構造と縮合環構造を形成してもよい)を示す)。
The resin exhibiting positive birefringence includes a cellulose resin having a structural unit represented by the following formula (1),
The retardation according to claim 1 or 2, wherein the resin exhibiting negative birefringence includes an ester resin having a structural unit represented by the following formula (2) and a structural unit represented by the following formula (3). Film manufacturing method:
Figure 2023180135000011
(In formula (1), each of R 1 to R 3 represents a hydrogen atom or a substituent having 1 to 12 carbon atoms;)
Figure 2023180135000012
(In formula (2), R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 5a represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, Represents one selected from a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a thiol group; R 5b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms; R 6 represents hydrogen Atom, nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group, phenyl group, thiol group, amide group, amino group, hydroxy group, alkoxy having 1 to 12 carbon atoms represents a species selected from a group or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms;)
Figure 2023180135000013
(In formula (3), R 7 is a 5-membered heterocyclic residue or a 6-membered heterocyclic residue containing one or more nitrogen atoms or oxygen atoms as a heteroatom (the 5-membered heterocyclic residue and the The 6-membered heterocyclic residue may form a fused ring structure with another cyclic structure).
前記エステル系樹脂は、下記式(4)に示す構成単位をさらに有する、請求項8に記載の位相差フィルムの製造方法:
Figure 2023180135000014
(式(4)中、RおよびRのそれぞれは、水素原子、炭素数1~12の直鎖状アルキル基、炭素数3~12の分岐状アルキル基、または、炭素数3~6の環状アルキル基から選択される1種を示す)。
The method for producing a retardation film according to claim 8, wherein the ester resin further has a structural unit represented by the following formula (4):
Figure 2023180135000014
(In formula (4), each of R 8 and R 9 is a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or a branched alkyl group having 3 to 6 carbon atoms. (represents one type selected from cyclic alkyl groups).
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