JP2023170864A - Resin composition, prepreg, laminate, resin film, printed wiring board, antenna device and antenna module - Google Patents

Resin composition, prepreg, laminate, resin film, printed wiring board, antenna device and antenna module Download PDF

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JP2023170864A JP2022082933A JP2022082933A JP2023170864A JP 2023170864 A JP2023170864 A JP 2023170864A JP 2022082933 A JP2022082933 A JP 2022082933A JP 2022082933 A JP2022082933 A JP 2022082933A JP 2023170864 A JP2023170864 A JP 2023170864A
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千尋 林
Chihiro Hayashi
稔 垣谷
Minoru Kakiya
高示 森田
Koji Morita
圭一 春日
Keiichi Kasuga
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Abstract

To provide a resin composition that has high relative dielectric constant (Dk) while offering superior fluidity, and a prepreg, a laminate, a resin film, a printed wiring board, an antenna device and an antenna module each of which includes the resin composition.SOLUTION: A resin composition includes (A) thermosetting resins and (B) inorganic fillers, where the (B) inorganic fillers include (B1) a high-dielectric-constant inorganic filler and (B2) a spherical inorganic filler. There are also provided a prepreg, a laminate, a resin film, a printed wiring board, an antenna device and an antenna module each of which includes the resin composition.SELECTED DRAWING: None

Description

本実施形態は、樹脂組成物、プリプレグ、積層板、樹脂フィルム、プリント配線板、アンテナ装置及びアンテナモジュールに関する。 The present embodiment relates to a resin composition, a prepreg, a laminate, a resin film, a printed wiring board, an antenna device, and an antenna module.

近年、スマートフォン等の携帯端末が普及し、さらにはIoT(Internet of Things)等の技術革新が進んだ結果、無線通信機能を有する家電製品及び電子機器が増加している。これによって無線ネットワークの通信トラフィックが増大し、通信速度及び通信品質が低下することが懸念されている。
当該問題を解決するため、第5世代移動通信システム(以下、「5G」と称することがある。)の開発が進められており、現在、既に利用されつつある。5Gにおいては、複数のアンテナ素子を用いて高度なビームフォーミング及び空間多重を行なうと共に、従来から使用されている6GHz帯の周波数の信号に加えて、数十GHzといった、より高い周波数のミリ波帯の信号を使用する。それによって、通信速度の高速化及び通信品質の向上が期待されている。
一方で、スマートフォン等の携帯端末は小型化が求められるため、アンテナモジュールの小型化も必要であり、アンテナモジュールの小型化を達成するには基板の比誘電率(Dk)を高くする必要があることが広く知られている。
In recent years, as mobile terminals such as smartphones have become widespread and technological innovations such as IoT (Internet of Things) have progressed, the number of home appliances and electronic devices having wireless communication functions is increasing. There are concerns that this will increase the communication traffic of wireless networks and reduce communication speed and communication quality.
In order to solve this problem, a fifth generation mobile communication system (hereinafter sometimes referred to as "5G") is being developed and is already being used. In 5G, multiple antenna elements are used to perform advanced beamforming and spatial multiplexing, and in addition to the conventionally used 6GHz frequency signals, higher frequency millimeter wave bands of several tens of GHz will be used. use the signal. This is expected to increase communication speed and improve communication quality.
On the other hand, as mobile terminals such as smartphones are required to be smaller, antenna modules must also be made smaller. To achieve smaller antenna modules, it is necessary to increase the dielectric constant (Dk) of the substrate. This is widely known.

基板の比誘電率(Dk)を高める方法としては、高い比誘電率(Dk)を有する充填材を添加する方法が用いられている。
特許文献1には、N吸着法によるBET比表面積が0.1~2.0m/gの範囲内で、かつ、空気透過法により測定した平均粒径が0.8~100μmの範囲内である酸化チタンまたはチタン酸塩からなるセラミックス粉末が開示されている。
As a method for increasing the dielectric constant (Dk) of a substrate, a method of adding a filler having a high dielectric constant (Dk) is used.
Patent Document 1 states that the BET specific surface area measured by the N 2 adsorption method is within the range of 0.1 to 2.0 m 2 /g, and the average particle size measured by the air permeation method is within the range of 0.8 to 100 μm. A ceramic powder made of titanium oxide or titanate is disclosed.

国際公開第2010/027074号International Publication No. 2010/027074

特許文献1の技術によると、合成樹脂と複合化した場合に、十分に高い比誘電率と、十分に低い誘電正接を示す誘電性複合材料を与えることができるセラミックス粉末を提供することができるとされている。 According to the technology of Patent Document 1, it is possible to provide a ceramic powder that can provide a dielectric composite material that exhibits a sufficiently high dielectric constant and a sufficiently low dielectric loss tangent when composited with a synthetic resin. has been done.

しかしながら、本発明者等の検討によると、チタン系無機充填材等の高誘電無機充填材を配合する場合、樹脂組成物の流動性が低下することが判明している。樹脂組成物の流動性の低下は、配線埋め込み性等の悪化の原因になり得るため、改善が望まれている。 However, according to studies conducted by the present inventors, it has been found that when a high dielectric inorganic filler such as a titanium-based inorganic filler is blended, the fluidity of the resin composition decreases. Since a decrease in the fluidity of the resin composition may cause deterioration in wiring embedding properties, improvement is desired.

本実施形態は、このような現状に鑑み、高い比誘電率(Dk)を有しながらも、流動性に優れる樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、積層板、樹脂フィルム、プリント配線板、アンテナ装置及びアンテナモジュールを提供することを課題とする。 In view of the current situation, the present embodiment provides a resin composition that has a high dielectric constant (Dk) and excellent fluidity, a prepreg using the resin composition, a laminate, a resin film, and a printed wiring. An object of the present invention is to provide a board, an antenna device, and an antenna module.

本発明者等は上記の課題を解決すべく検討を進めた結果、下記の本実施形態により課題を解決できることを見出した。
すなわち、本実施形態は、下記[1]~[15]に関する。
[1](A)熱硬化性樹脂と、(B)無機充填材と、を含有する樹脂組成物であって、
前記(B)無機充填材が、(B1)高誘電率無機充填材及び(B2)球状無機充填材を含有する、樹脂組成物。
[2]前記(A)熱硬化性樹脂が、N-置換マレイミド基を1個以上有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される1種以上である、上記[1]に記載の樹脂組成物。
[3]前記(B1)高誘電率無機充填材が、チタン系無機充填材である、上記[1]又は[2]に記載の樹脂組成物。
[4]前記(B1)高誘電率無機充填材の平均粒子径(D50)が、0.1~20μmである、上記[1]~[3]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[5]前記樹脂組成物中における前記(B1)高誘電率無機充填材の含有量が、前記樹脂組成物の固形分全量に対して、10~70体積%である、上記[1]~[4]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[6]前記(B2)球状無機充填材が、シリカである、上記[1]~[5]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[7]前記(B2)球状無機充填材の平均粒子径(D50)が、10~1,500nmである、上記[1]~[6]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[8]前記樹脂組成物中における前記(B2)球状無機充填材の含有量が、前記樹脂組成物の固形分全量に対して、0.1~20体積%である、上記[1]~[7]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[9]アンテナモジュール用である、上記[1]~[8]のいずれかに記載の樹脂組成物。
[10]上記[1]~[9]のいずれかに記載の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含有するプリプレグ。
[11]上記[1]~[9]のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物と、金属箔と、を有する積層板。
[12]上記[1]~[9]のいずれかに記載の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含有する樹脂フィルム。
[13]上記[1]~[9]のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物を有するプリント配線板。
[14]上記[13]に記載のプリント配線板を有するアンテナ装置。
[15]上記[14]に記載のアンテナ装置と、給電回路と、を有するアンテナモジュール。
The present inventors conducted studies to solve the above problems, and as a result, they found that the problems could be solved by the present embodiment described below.
That is, the present embodiment relates to the following [1] to [15].
[1] A resin composition containing (A) a thermosetting resin and (B) an inorganic filler,
A resin composition, wherein the (B) inorganic filler contains (B1) a high dielectric constant inorganic filler and (B2) a spherical inorganic filler.
[2] The resin composition according to [1] above, wherein the thermosetting resin (A) is one or more selected from the group consisting of maleimide compounds having one or more N-substituted maleimide groups and derivatives thereof. thing.
[3] The resin composition according to [1] or [2] above, wherein the high dielectric constant inorganic filler (B1) is a titanium-based inorganic filler.
[4] The resin composition according to any one of [1] to [3] above, wherein the high dielectric constant inorganic filler (B1) has an average particle diameter (D 50 ) of 0.1 to 20 μm.
[5] The content of the high dielectric constant inorganic filler (B1) in the resin composition is 10 to 70% by volume based on the total solid content of the resin composition, [1] to [ 4]. The resin composition according to any one of [4].
[6] The resin composition according to any one of [1] to [5] above, wherein the spherical inorganic filler (B2) is silica.
[7] The resin composition according to any one of [1] to [6] above, wherein the spherical inorganic filler (B2) has an average particle diameter (D 50 ) of 10 to 1,500 nm.
[8] The content of the (B2) spherical inorganic filler in the resin composition is 0.1 to 20% by volume based on the total solid content of the resin composition, [1] to [ 7]. The resin composition according to any one of [7].
[9] The resin composition according to any one of [1] to [8] above, which is used for an antenna module.
[10] A prepreg containing the resin composition according to any one of [1] to [9] above or a semi-cured product of the resin composition.
[11] A laminate comprising a cured product of the resin composition according to any one of [1] to [9] above and metal foil.
[12] A resin film containing the resin composition according to any one of [1] to [9] above or a semi-cured product of the resin composition.
[13] A printed wiring board comprising a cured product of the resin composition according to any one of [1] to [9] above.
[14] An antenna device comprising the printed wiring board according to [13] above.
[15] An antenna module comprising the antenna device according to [14] above and a power feeding circuit.

本実施形態によれば、高い比誘電率(Dk)を有しながらも、流動性に優れる樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたプリプレグ、積層板、樹脂フィルム、プリント配線板、アンテナ装置及びアンテナモジュールを提供することができる。 According to the present embodiment, a resin composition having a high dielectric constant (Dk) and excellent fluidity, a prepreg using the resin composition, a laminate, a resin film, a printed wiring board, an antenna device, and An antenna module can be provided.

本明細書において、「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
例えば、数値範囲「X~Y」(X、Yは実数)という表記は、X以上、Y以下である数値範囲を意味する。そして、本明細書における「X以上」という記載は、X及びXを超える数値を意味する。また、本明細書における「Y以下」という記載は、Y及びY未満の数値を意味する。
本明細書中に記載されている数値範囲の下限値及び上限値は、それぞれ他の数値範囲の下限値又は上限値と任意に組み合わせられる。
本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の下限値又は上限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
In this specification, a numerical range indicated using "~" indicates a range that includes the numerical values written before and after "~" as the minimum and maximum values, respectively.
For example, the notation of a numerical range "X to Y" (X and Y are real numbers) means a numerical range that is greater than or equal to X and less than or equal to Y. In this specification, the expression "X or more" means X and a numerical value exceeding X. Moreover, the description "Y or less" in this specification means Y and a numerical value less than Y.
The lower and upper limits of the numerical ranges described herein can be arbitrarily combined with the lower and upper limits of other numerical ranges, respectively.
In the numerical ranges described in this specification, the lower limit or upper limit of the numerical range may be replaced with the values shown in the examples.

本明細書に例示する各成分及び材料は、特に断らない限り、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
本明細書において、樹脂組成物中の各成分の含有量は、樹脂組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、樹脂組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「樹脂組成物」とは、後述する各成分の混合物、当該混合物を半硬化させた物を含む。
Each component and material illustrated in this specification may be used alone or in combination of two or more, unless otherwise specified.
In the present specification, the content of each component in the resin composition refers to the content of each component in the resin composition, unless otherwise specified. means the total amount of
In this specification, the term "resin composition" includes a mixture of each component described below and a semi-cured product of the mixture.

本明細書において、「固形分」とは、溶剤等の揮発する物質を除いた不揮発分のことであり、樹脂組成物を乾燥させた際に、揮発せずに残る成分を示し、室温で液状、水飴状及びワックス状のものも含む。ここで、本明細書において室温とは25℃を示す。 In this specification, "solid content" refers to non-volatile content excluding volatile substances such as solvents, and refers to components that remain without volatilizing when the resin composition is dried, and are liquid at room temperature. , including starch syrup-like and wax-like ones. Here, in this specification, room temperature refers to 25°C.

本明細書に記載されている作用機序は推測であって、本実施形態に係る樹脂組成物の効果を奏する機序を限定するものではない。
本明細書における記載事項を任意に組み合わせた態様も本実施形態に含まれる。
The mechanism of action described in this specification is speculation, and does not limit the mechanism by which the resin composition according to this embodiment exerts its effects.
This embodiment also includes aspects in which the items described in this specification are arbitrarily combined.

[樹脂組成物]
本実施形態の樹脂組成物は、(A)熱硬化性樹脂と、(B)無機充填材と、を含有する樹脂組成物であって、前記(B)無機充填材が、(B1)高誘電率無機充填材及び(B2)球状無機充填材を含有する、樹脂組成物である。
[Resin composition]
The resin composition of this embodiment is a resin composition containing (A) a thermosetting resin and (B) an inorganic filler, wherein the (B) inorganic filler is (B1) a high dielectric This is a resin composition containing a spherical inorganic filler and (B2) a spherical inorganic filler.

なお、本明細書において、各成分はそれぞれ、(A)成分、(B)成分等と省略して称することがあり、その他の成分についても同様の略し方をすることがある。
以下、本実施形態の樹脂組成物が含有し得る各成分について順に説明する。
In this specification, each component may be abbreviated as (A) component, (B) component, etc., and other components may also be abbreviated in the same manner.
Each component that can be contained in the resin composition of this embodiment will be explained in order below.

<(A)熱硬化性樹脂>
(A)熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、マレイミド樹脂、シアネート樹脂、イソシアネート樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、オキセタン樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アリル樹脂、ジシクロペンタジエン樹脂、シリコーン樹脂、トリアジン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。
(A)熱硬化性樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、(A)熱硬化性樹脂としては、耐熱性及び導体接着性の観点から、エポキシ樹脂、シアネート樹脂及びマレイミド樹脂からなる群から選択される1種以上が好ましく、マレイミド樹脂がより好ましく、N-置換マレイミド基を1個以上有するマレイミド樹脂及び該マレイミド樹脂の誘導体からなる群から選択される1種以上がさらに好ましい。
<(A) Thermosetting resin>
(A) Thermosetting resins include, for example, epoxy resins, phenol resins, maleimide resins, cyanate resins, isocyanate resins, benzoxazine resins, oxetane resins, amino resins, unsaturated polyester resins, allyl resins, dicyclopentadiene resins, Examples include silicone resin, triazine resin, and melamine resin.
(A) The thermosetting resin may be used alone or in combination of two or more.
Among these, (A) thermosetting resin is preferably one or more selected from the group consisting of epoxy resin, cyanate resin, and maleimide resin, and more preferably maleimide resin, from the viewpoint of heat resistance and conductor adhesion. , maleimide resins having one or more N-substituted maleimide groups, and derivatives of the maleimide resins are more preferred.

なお、以下の説明において、「N-置換マレイミド基を1個以上有するマレイミド樹脂及び該マレイミド樹脂の誘導体からなる群から選択される1種以上」を「マレイミド系樹脂」と称する場合がある。 In the following description, "one or more selected from the group consisting of a maleimide resin having one or more N-substituted maleimide groups and a derivative of the maleimide resin" may be referred to as a "maleimide resin."

<(A)マレイミド系樹脂>
(A)マレイミド系樹脂は、N-置換マレイミド基を1個以上有するマレイミド樹脂及び該マレイミド樹脂の誘導体からなる群から選択される1種以上である。
(A)マレイミド系樹脂は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
<(A) Maleimide resin>
(A) The maleimide resin is one or more selected from the group consisting of maleimide resins having one or more N-substituted maleimide groups and derivatives of the maleimide resins.
(A) The maleimide resin may be used alone or in combination of two or more.

なお、以下の説明で、N-置換マレイミド基を1個以上有するマレイミド樹脂を「マレイミド樹脂(AX)」又は「(AX)成分」と称する場合がある。
また、N-置換マレイミド基を1個以上有するマレイミド樹脂の誘導体を「マレイミド樹脂誘導体(AY)」又は「(AY)成分」と称する場合がある。
In the following description, a maleimide resin having one or more N-substituted maleimide groups may be referred to as a "maleimide resin (AX)" or "(AX) component."
Further, a maleimide resin derivative having one or more N-substituted maleimide groups may be referred to as a "maleimide resin derivative (AY)" or "(AY) component."

(マレイミド樹脂(AX))
マレイミド樹脂(AX)は、N-置換マレイミド基を1個以上有するマレイミド樹脂であれば特に限定されない。
マレイミド樹脂(AX)は、導体接着性及び耐熱性の観点から、N-置換マレイミド基を2個以上有する芳香族マレイミド樹脂であることが好ましく、N-置換マレイミド基を2個有する芳香族ビスマレイミド樹脂であることがより好ましい。
(Maleimide resin (AX))
The maleimide resin (AX) is not particularly limited as long as it has one or more N-substituted maleimide groups.
From the viewpoint of conductor adhesion and heat resistance, the maleimide resin (AX) is preferably an aromatic maleimide resin having two or more N-substituted maleimide groups, and an aromatic bismaleimide resin having two or more N-substituted maleimide groups. More preferably, it is a resin.

なお、本明細書中、「芳香族マレイミド樹脂」とは、芳香環に直接結合するN-置換マレイミド基を有する化合物を意味する。また、本明細書中、「芳香族ビスマレイミド樹脂」とは、芳香環に直接結合するN-置換マレイミド基を2個有する化合物を意味する。また、本明細書中、「芳香族ポリマレイミド樹脂」とは、芳香環に直接結合するN-置換マレイミド基を3個以上有する化合物を意味する。また、本明細書中、「脂肪族マレイミド樹脂」とは、脂肪族炭化水素に直接結合するN-置換マレイミド基を有する化合物を意味する。 In this specification, the term "aromatic maleimide resin" refers to a compound having an N-substituted maleimide group directly bonded to an aromatic ring. Furthermore, in the present specification, the term "aromatic bismaleimide resin" means a compound having two N-substituted maleimide groups directly bonded to an aromatic ring. Furthermore, in the present specification, the term "aromatic polymaleimide resin" means a compound having three or more N-substituted maleimide groups directly bonded to an aromatic ring. Furthermore, in the present specification, the term "aliphatic maleimide resin" means a compound having an N-substituted maleimide group directly bonded to an aliphatic hydrocarbon.

マレイミド樹脂(AX)としては、下記一般式(A-1)で表されるマレイミド樹脂が好ましい。 As the maleimide resin (AX), a maleimide resin represented by the following general formula (A-1) is preferable.


(式中、XA1は2価の有機基である。)

(In the formula, X A1 is a divalent organic group.)

上記一般式(A-1)中のXA1は、2価の有機基である。
上記一般式(A-1)中のXA1が表す2価の有機基としては、例えば、下記一般式(A-2)で表される2価の有機基、下記一般式(A-3)で表される2価の有機基、下記一般式(A-4)で表される2価の有機基、下記一般式(A-5)で表される2価の有機基、下記一般式(A-6)で表される2価の有機基、下記一般式(A-7)で表される2価の有機基等が挙げられる。
X A1 in the above general formula (A-1) is a divalent organic group.
The divalent organic group represented by A divalent organic group represented by the following general formula (A-4), a divalent organic group represented by the following general formula (A-5), a divalent organic group represented by the following general formula (A-5), the following general formula ( Examples include a divalent organic group represented by A-6) and a divalent organic group represented by the following general formula (A-7).


(式中、RA1は、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。nA1は0~4の整数である。*は結合部位を表す。)

(In the formula, R A1 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. n A1 is an integer of 0 to 4. * represents a bonding site.)

上記一般式(A-2)中のRA1が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等の炭素数1~5のアルキル基;炭素数2~5のアルケニル基;炭素数2~5のアルキニル基などが挙げられる。炭素数1~5の脂肪族炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよい。該炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数1~3のアルキル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
上記一般式(A-2)中のnA1は0~4の整数であり、入手容易性の観点から、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は1、さらに好ましくは0である。
A1が2以上の整数である場合、複数のRA1同士は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R A1 in the above general formula (A-2) include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, and isobutyl group. Examples include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms such as t-butyl group, n-pentyl group; alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms; and alkynyl groups having 2 to 5 carbon atoms. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms may be linear or branched. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like.
n A1 in the general formula (A-2) is an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0 from the viewpoint of availability.
When n A1 is an integer of 2 or more, the plurality of R A1 's may be the same or different.


(式中、RA2及びRA3は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。XA2は炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基、単結合、又は下記一般式(A-3-1)で表される2価の有機基である。nA2及びnA3は、各々独立に、0~4の整数である。*は結合部位を表す。)

(In the formula, R A2 and R A3 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. X A2 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, An alkylidene group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group, a single bond, or a divalent organic group represented by the following general formula (A-3-1). n A2 and n A3 are each independently an integer from 0 to 4. * represents a binding site.)

上記一般式(A-3)中のRA2及びRA3が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等の炭素数1~5のアルキル基;炭素数2~5のアルケニル基;炭素数2~5のアルキニル基などが挙げられる。炭素数1~5の脂肪族炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよい。該炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数1~3のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基がさらに好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R A2 and R A3 in the above general formula (A-3) include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, and n-butyl group. Examples include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, such as isobutyl group, t-butyl group, and n-pentyl group; alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms; and alkynyl groups having 2 to 5 carbon atoms. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms may be linear or branched. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a methyl group or an ethyl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like.

上記一般式(A-3)中のXA2が表す炭素数1~5のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、1,2-ジメチレン基、1,3-トリメチレン基、1,4-テトラメチレン基、1,5-ペンタメチレン基等が挙げられる。該炭素数1~5のアルキレン基としては、炭素数1~3のアルキレン基が好ましく、炭素数1又は2のアルキレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by group, 1,5-pentamethylene group, and the like. The alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 or 2 carbon atoms, and even more preferably a methylene group.

上記一般式(A-3)中のXA2が表す炭素数2~5のアルキリデン基としては、例えば、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数2~4のアルキリデン基が好ましく、炭素数2又は3のアルキリデン基がより好ましく、イソプロピリデン基がさらに好ましい。 The alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by etc. Among these, an alkylidene group having 2 to 4 carbon atoms is preferred, an alkylidene group having 2 or 3 carbon atoms is more preferred, and an isopropylidene group is even more preferred.

上記一般式(A-3)中のnA2及びnA3は、各々独立に、0~4の整数である。
A2又はnA3が2以上の整数である場合、複数のRA2同士又は複数のRA3同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
n A2 and n A3 in the above general formula (A-3) are each independently an integer of 0 to 4.
When nA2 or nA3 is an integer of 2 or more, the plurality of R A2s or the plurality of R A3s may be the same or different.

上記一般式(A-3)中のXA2が表す一般式(A-3-1)で表される2価の有機基は以下のとおりである。 The divalent organic group represented by the general formula (A-3-1) represented by X A2 in the above general formula (A-3) is as follows.


(式中、RA4及びRA5は、各々独立に、炭素数1~5の脂肪族炭化水素基又はハロゲン原子である。XA3は炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、エーテル基、スルフィド基、スルホニル基、カルボニルオキシ基、ケト基又は単結合である。nA4及びnA5は、各々独立に、0~4の整数である。*は結合部位を表す。)

(In the formula, R A4 and R A5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. X A3 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, It is an alkylidene group, an ether group, a sulfide group, a sulfonyl group, a carbonyloxy group, a keto group, or a single bond. n A4 and n A5 are each independently an integer of 0 to 4. * represents a bonding site. )

上記一般式(A-3-1)中のRA4及びRA5が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等の炭素数1~5のアルキル基;炭素数2~5のアルケニル基;炭素数2~5のアルキニル基などが挙げられる。炭素数1~5の脂肪族炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよい。該炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、炭素数1~3の脂肪族炭化水素基が好ましく、炭素数1~3のアルキル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
Examples of the aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 5 carbon atoms represented by R A4 and R A5 in the above general formula (A-3-1) include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n Examples include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms such as -butyl group, isobutyl group, t-butyl group, and n-pentyl group; alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms; and alkynyl groups having 2 to 5 carbon atoms. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms may be linear or branched. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a methyl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like.

上記一般式(A-3-1)中のXA3が表す炭素数1~5のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、1,2-ジメチレン基、1,3-トリメチレン基、1,4-テトラメチレン基、1,5-ペンタメチレン基等が挙げられる。該炭素数1~5のアルキレン基としては、炭素数1~3のアルキレン基が好ましく、炭素数1又は2のアルキレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 Examples of the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms represented by X A3 in the above general formula (A-3-1) include methylene group, 1,2-dimethylene group, 1,3-trimethylene group, Examples include a tetramethylene group and a 1,5-pentamethylene group. The alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 or 2 carbon atoms, and even more preferably a methylene group.

上記一般式(A-3-1)中のXA3が表す炭素数2~5のアルキリデン基としては、例えば、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数2~4のアルキリデン基が好ましく、炭素数2又は3のアルキリデン基がより好ましく、イソプロピリデン基がさらに好ましい。 Examples of the alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms represented by Examples include lydene group. Among these, an alkylidene group having 2 to 4 carbon atoms is preferred, an alkylidene group having 2 or 3 carbon atoms is more preferred, and an isopropylidene group is even more preferred.

上記一般式(A-3-1)中のnA4及びnA5は、各々独立に、0~4の整数であり、入手容易性の観点から、いずれも、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は1、さらに好ましくは0である。
A4又はnA5が2以上の整数である場合、複数のRA4同士又は複数のRA5同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
n A4 and n A5 in the above general formula (A-3-1) are each independently an integer of 0 to 4, and from the viewpoint of availability, both are preferably integers of 0 to 2, more preferably Preferably it is 0 or 1, more preferably 0.
When n A4 or n A5 is an integer of 2 or more, the plurality of R A4s or the plurality of R A5s may be the same or different.

上記一般式(A-3)中のXA2としては、上記選択肢の中でも、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、上記一般式(A-3-1)で表される2価の有機基が好ましく、炭素数1~5のアルキレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 Among the above options, X A2 in the above general formula (A-3) is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 5 carbon atoms, and a group represented by the above general formula (A-3-1). A divalent organic group having 1 to 5 carbon atoms is preferred, an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is more preferred, and a methylene group is even more preferred.


(式中、nA6は0~10の整数である。*は結合部位を表す。)

(In the formula, n A6 is an integer from 0 to 10. * represents the binding site.)

上記一般式(A-4)中のnA6は、入手容易性の観点から、好ましくは0~5の整数、より好ましくは0~4の整数、さらに好ましくは0~3の整数である。 n A6 in the above general formula (A-4) is preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and still more preferably an integer of 0 to 3, from the viewpoint of availability.


(式中、nA7は0~5の数である。*は結合部位を表す。)

(In the formula, n A7 is a number from 0 to 5. * represents the binding site.)


(式中、RA6及びRA7は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~5の脂肪族炭化水素基である。nA8は1~8の整数である。*は結合部位を表す。)

(In the formula, R A6 and R A7 are each independently a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms. n A8 is an integer of 1 to 8. * represents a bonding site. )

上記一般式(A-6)中のRA6及びRA7が表す炭素数1~5の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基等の炭素数1~5のアルキル基;炭素数2~5のアルケニル基;炭素数2~5のアルキニル基などが挙げられる。炭素数1~5の脂肪族炭化水素基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよい。
上記一般式(A-6)中のnA8は、1~8の整数であり、好ましくは1~5の整数、より好ましくは1~3の整数、さらに好ましくは1である。nA8が2以上の整数である場合、複数のRA6同士又は複数のRA7同士は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms represented by R A6 and R A7 in the above general formula (A-6) include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, and n-butyl group. Examples include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, such as isobutyl group, t-butyl group, and n-pentyl group; alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms; and alkynyl groups having 2 to 5 carbon atoms. The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms may be linear or branched.
n A8 in the above general formula (A-6) is an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1. When n A8 is an integer of 2 or more, the plurality of R A6s or the plurality of R A7s may be the same or different.


(式中、RA8は、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルキルオキシ基、炭素数1~10のアルキルチオ基、炭素数6~10のアリール基、炭素数6~10のアリールオキシ基、炭素数6~10のアリールチオ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、ハロゲン原子、水酸基又はメルカプト基であり、nA9は0~3の整数である。RA9~RA11は、各々独立に、炭素数1~10のアルキル基である。RA12は、各々独立に、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルキルオキシ基、炭素数1~10のアルキルチオ基、炭素数6~10のアリール基、炭素数6~10のアリールオキシ基、炭素数6~10のアリールチオ基、炭素数3~10のシクロアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、水酸基又はメルカプト基である。nA10は、各々独立に、0~4の整数であり、nA11は、0.95~10.0の数値である。*は結合部位を表す。)

(In the formula, R A8 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. is an aryloxy group, an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group, or a mercapto group, and n A9 is an integer of 0 to 3. R A9 to R A11 are each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.R A12 is each independently an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Alkylthio group, aryl group having 6 to 10 carbon atoms, aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, arylthio group having 6 to 10 carbon atoms, cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, or mercapto (n A10 is each independently an integer from 0 to 4, and n A11 is a numerical value from 0.95 to 10.0. * represents a binding site.)

上記一般式(A-7)中のRA8で表される炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。これらのアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよい。
A8で表される炭素数1~10のアルキルオキシ基及び炭素数1~10のアルキルチオ基に含まれるアルキル基としては、上記炭素数1~10のアルキル基と同じものが挙げられる。
A8で表される炭素数6~10のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
A8で表される炭素数6~10のアリールオキシ基及び炭素数6~10のアリールチオ基に含まれるアリール基としては、上記炭素数6~10のアリール基と同じものが挙げられる。
A8で表される炭素数3~10のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等が挙げられる。
上記一般式(A-7)中のnA9が1~3の整数である場合、RA8は、溶剤溶解性及び反応性の観点から、炭素数1~4のアルキル基、炭素数3~6のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基が好ましく、炭素数1~4のアルキル基がより好ましい。
Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R A8 in the above general formula (A-7) include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, Examples include octyl group and decyl group. These alkyl groups may be linear or branched.
The alkyl group contained in the alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms and the alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms represented by R A8 includes the same alkyl groups as the above-mentioned alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.
Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms represented by R A8 include phenyl group and naphthyl group.
The aryl group contained in the aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms and the arylthio group having 6 to 10 carbon atoms represented by R A8 includes the same aryl groups as the above-mentioned aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
Examples of the cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms represented by R A8 include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclodecyl group, and the like.
When n A9 in the above general formula (A-7) is an integer of 1 to 3, R A8 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkyl group having 3 to 6 carbon atoms, from the viewpoint of solvent solubility and reactivity. A cycloalkyl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.

A9~RA11で表される炭素数1~10のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。これらのアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよい。これらの中でも、RA9~RA11は、炭素数1~4のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
上記一般式(A-7)中のnA9は、0~3の整数であり、nA9が2又は3である場合、複数のRA8同士は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R A9 to R A11 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decyl group, etc. Can be mentioned. These alkyl groups may be linear or branched. Among these, R A9 to R A11 are preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, and even more preferably a methyl group.
n A9 in the above general formula (A-7) is an integer from 0 to 3, and when n A9 is 2 or 3, multiple R A8s may be the same or different. Good too.

以上の中でも、上記一般式(A-7)で表される2価の有機基は、他の樹脂との相容性、溶剤溶解性、誘電特性、導体との接着性及び製造容易性の観点から、nA9が0であり、RA9~RA11がメチル基である、2価の有機基であることが好ましい。 Among the above, the divalent organic group represented by the above general formula (A-7) is preferred from the viewpoints of compatibility with other resins, solvent solubility, dielectric properties, adhesion with conductors, and ease of manufacture. Therefore, it is preferable that n A9 is 0 and R A9 to R A11 are divalent organic groups, which are methyl groups.

上記一般式(A-7)中、複数のRA8同士、複数のRA12同士、複数のnA9同士、複数のnA10同士は、各々について、同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、nA11が1を超える場合、複数のRA9同士、複数のRA10同士及び複数のRA11同士は、各々について、同一であってもよいし、異なっていてもよい。 In the above general formula (A-7), the plurality of R A8s , the plurality of R A12s , the plurality of n A9s , and the plurality of n A10s may be the same or different. good. Further, when n A11 exceeds 1, the plurality of RA9s , the plurality of RA10s , and the plurality of RA11s may be the same or different.

上記一般式(A-7)中のRA12が表す炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルキルオキシ基、炭素数1~10のアルキルチオ基、炭素数6~10のアリール基、炭素数6~10のアリールオキシ基、炭素数6~10のアリールチオ基、炭素数3~10のシクロアルキル基についての説明は、上記RA8が表す炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルキルオキシ基、炭素数1~10のアルキルチオ基、炭素数6~10のアリール基、炭素数6~10のアリールオキシ基、炭素数6~10のアリールチオ基、炭素数3~10のシクロアルキル基についての説明と同じである。
これらの中でも、RA12は、他の樹脂との相容性、溶剤溶解性、誘電特性、導体との接着性及び製造容易性の観点から、炭素数1~4のアルキル基、炭素数3~6のシクロアルキル基、炭素数6~10のアリール基が好ましく、炭素数1~3のアルキル基がより好ましい。
上記一般式(A-7)中のnA10は、0~4の整数であり、他の樹脂との相容性、溶剤溶解性、誘電特性、導体との接着性及び製造容易性の観点から、好ましくは0~3の整数、より好ましくは0又は2である。
なお、nA10が1以上であることによって、ベンゼン環とN-置換マレイミド基とがねじれた配座を有するものになり、分子間のスタッキング抑制によって溶剤溶解性がより向上する傾向にある。同様の観点から、nA10が1以上である場合、RA12の置換位置は、N-置換マレイミド基に対してオルト位であることが好ましい。
上記一般式(A-7)中のnA11は、他の樹脂との相容性、溶剤溶解性、溶融粘度、ハンドリング性及び耐熱性の観点から、好ましくは0.98~8.0、より好ましくは1.0~7.0、さらに好ましくは1.1~6.0である。
In the above general formula (A-7), R A12 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms , an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms, and a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms. Alkyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, aryl group having 6 to 10 carbon atoms, aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, arylthio group having 6 to 10 carbon atoms, 3 to 10 carbon atoms This is the same as the explanation for the cycloalkyl group.
Among these, R A12 is selected from the viewpoints of compatibility with other resins, solvent solubility, dielectric properties, adhesion to conductors, and ease of manufacture, including alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, A cycloalkyl group having 6 carbon atoms and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms are preferred, and an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is more preferred.
n A10 in the above general formula (A-7) is an integer from 0 to 4, and from the viewpoint of compatibility with other resins, solvent solubility, dielectric properties, adhesiveness with conductors, and ease of manufacture. , preferably an integer from 0 to 3, more preferably 0 or 2.
Note that when n A10 is 1 or more, the benzene ring and the N-substituted maleimide group have a twisted conformation, which tends to further improve solvent solubility by suppressing intermolecular stacking. From the same viewpoint, when n A10 is 1 or more, the substitution position of R A12 is preferably the ortho position with respect to the N-substituted maleimide group.
n A11 in the above general formula (A-7) is preferably 0.98 to 8.0, from the viewpoint of compatibility with other resins, solvent solubility, melt viscosity, handling property, and heat resistance. It is preferably 1.0 to 7.0, more preferably 1.1 to 6.0.

上記一般式(A-7)で表される2価の有機基は、下記一般式(A-7-1)で表される2価の有機基、下記一般式(A-7-2)で表される2価の有機基、下記一般式(A-7-3)で表される2価の有機基、下記一般式(A-7-4)で表される2価の有機基等が好ましく挙げられる。 The divalent organic group represented by the above general formula (A-7) is a divalent organic group represented by the following general formula (A-7-1), and the divalent organic group represented by the following general formula (A-7-2). A divalent organic group represented by the following general formula (A-7-3), a divalent organic group represented by the following general formula (A-7-4), etc. Preferably.


(式中、nA11は、上記一般式(A-7)中のものと同じである。*は結合部位を表す。)

(In the formula, n A11 is the same as in the above general formula (A-7). * represents the binding site.)

マレイミド樹脂(AX)としては、例えば、芳香族ビスマレイミド樹脂、芳香族ポリマレイミド樹脂、脂肪族マレイミド樹脂等が挙げられ、これらの中でも、芳香族ビスマレイミド樹脂が好ましい。
マレイミド樹脂(AX)の具体例としては、N,N’-エチレンビスマレイミド、N,N’-ヘキサメチレンビスマレイミド、N,N’-(1,3-フェニレン)ビスマレイミド、N,N’-[1,3-(2-メチルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N’-[1,3-(4-メチルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N’-(1,4-フェニレン)ビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)メタン、ビス(3-メチル-4-マレイミドフェニル)メタン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス(4-マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4-マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4-マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4-マレイミドフェニル)ケトン、ビス(4-マレイミドシクロヘキシル)メタン、1,4-ビス(4-マレイミドフェニル)シクロヘキサン、1,4-ビス(マレイミドメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(マレイミドメチル)ベンゼン、1,3-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]メタン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]メタン、1,1-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,1-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]ブタン、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]ブタン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、4,4-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ビフェニル、4,4-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ビフェニル、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス(4-マレイミドフェニル)ジスルフィド、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホキシド、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホキシド、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)フェニル]エーテル、1,4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-α,α-ジメチルベンジル]ベンゼン、ポリフェニルメタンマレイミド、インダン骨格を有する芳香族ビスマレイミド樹脂、ビフェニルアラルキル型マレイミド樹脂等が挙げられる。これらの中でも、誘電特性の観点から、インダン骨格を有する芳香族ビスマレイミド樹脂が好ましい。
Examples of the maleimide resin (AX) include aromatic bismaleimide resins, aromatic polymaleimide resins, aliphatic maleimide resins, and the like, and among these, aromatic bismaleimide resins are preferred.
Specific examples of maleimide resin (AX) include N,N'-ethylene bismaleimide, N,N'-hexamethylene bismaleimide, N,N'-(1,3-phenylene)bismaleimide, N,N'- [1,3-(2-methylphenylene)]bismaleimide, N,N'-[1,3-(4-methylphenylene)]bismaleimide, N,N'-(1,4-phenylene)bismaleimide, Bis(4-maleimidophenyl)methane, bis(3-methyl-4-maleimidophenyl)methane, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide, bis(4-maleimide) phenyl)ether, bis(4-maleimidophenyl)sulfone, bis(4-maleimidophenyl)sulfide, bis(4-maleimidophenyl)ketone, bis(4-maleimidocyclohexyl)methane, 1,4-bis(4-maleimidophenyl) ) Cyclohexane, 1,4-bis(maleimidomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(maleimidomethyl)benzene, 1,3-bis(4-maleimidophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-maleimidophenoxy)benzene , bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]methane, bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]methane, 1,1-bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]ethane, 1,1 -Bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]ethane, 1,2-bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]ethane, 1,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]ethane , 2,2-bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]propane ) phenyl]butane, 2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]butane, 2,2-bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3, 3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 4,4-bis(3-maleimidophenoxy) Biphenyl, 4,4-bis(4-maleimidophenoxy)biphenyl, bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]ketone, bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]ketone, bis(4-maleimidophenyl) Disulfide, bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]sulfide, bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]sulfoxide, bis[4-(4 -maleimidophenoxy)phenyl] sulfoxide, bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-maleimidophenoxy)phenyl]ether, Bis[4-(4-maleimidophenoxy)phenyl]ether, 1,4-bis[4-(4-maleimidophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,3-bis[4-(4-maleimide) phenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,4-bis[4-(3-maleimidophenoxy)-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,3-bis[4-(3-maleimidophenoxy) -α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,4-bis[4-(4-maleimidophenoxy)-3,5-dimethyl-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,3-bis[4-(4 -maleimidophenoxy)-3,5-dimethyl-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,4-bis[4-(3-maleimidophenoxy)-3,5-dimethyl-α,α-dimethylbenzyl]benzene, 1,3-bis[4-(3-maleimidophenoxy)-3,5-dimethyl-α,α-dimethylbenzyl]benzene, polyphenylmethane maleimide, aromatic bismaleimide resin having an indane skeleton, biphenylaralkyl maleimide resin etc. Among these, aromatic bismaleimide resins having an indane skeleton are preferred from the viewpoint of dielectric properties.

(マレイミド樹脂誘導体(AY))
マレイミド樹脂誘導体(AY)としては、上記したマレイミド樹脂(AX)由来の構造単位とジアミン化合物由来の構造単位とを含有するアミノマレイミド樹脂が好ましい。
(Maleimide resin derivative (AY))
As the maleimide resin derivative (AY), an aminomaleimide resin containing a structural unit derived from the above maleimide resin (AX) and a structural unit derived from a diamine compound is preferable.

アミノマレイミド樹脂が含有するマレイミド樹脂(AX)由来の構造単位としては、例えば、マレイミド樹脂(AX)が有するN-置換マレイミド基のうち、少なくとも1つのN-置換マレイミド基が、ジアミン化合物が有するアミノ基とマイケル付加反応してなる構造単位が挙げられる。
アミノマレイミド樹脂中に含まれるマレイミド樹脂(AX)由来の構造単位は、1種単独であってもよく、2種以上であってもよい。
As the structural unit derived from the maleimide resin (AX) contained in the aminomaleimide resin, for example, among the N-substituted maleimide groups that the maleimide resin (AX) has, at least one N-substituted maleimide group is an amino group that the diamine compound has. Examples include structural units formed by Michael addition reaction with groups.
The number of structural units derived from the maleimide resin (AX) contained in the aminomaleimide resin may be one type alone, or two or more types may be used.

アミノマレイミド樹脂が含有するジアミン化合物由来の構造単位としては、例えば、ジアミン化合物が有する2個のアミノ基のうち、一方又は両方のアミノ基が、マレイミド樹脂(AX)が有するN-置換マレイミド基とマイケル付加反応してなる構造単位が挙げられる。
アミノマレイミド樹脂中に含まれるジアミン化合物由来の構造単位は、1種単独であってもよく、2種以上であってもよい。
ジアミン化合物としては、例えば、後述する(C)硬化剤として挙げられるものを使用できる。
As the structural unit derived from the diamine compound contained in the aminomaleimide resin, for example, one or both of the two amino groups possessed by the diamine compound are the N-substituted maleimide group possessed by the maleimide resin (AX). Examples include structural units formed by Michael addition reactions.
The number of structural units derived from the diamine compound contained in the aminomaleimide resin may be one type alone, or two or more types may be used.
As the diamine compound, for example, those listed as the curing agent (C) described below can be used.

((A)熱硬化性樹脂の含有量)
本実施形態の樹脂組成物において、(A)熱硬化性樹脂の含有量は、特に限定されないが、本実施形態の樹脂組成物中の樹脂成分の総量(100質量%)に対して、好ましくは40~98質量%、より好ましくは60~95質量%、さらに好ましくは80~90質量%である。
(A)熱硬化性樹脂の含有量が上記下限値以上であると、耐熱性、成形性、加工性及び導体接着性がより良好になり易い傾向にある。また、(A)熱硬化性樹脂の含有量が上記上限値以下であると、誘電特性がより良好になり易い傾向にある。
((A) Content of thermosetting resin)
In the resin composition of the present embodiment, the content of the thermosetting resin (A) is not particularly limited, but is preferably based on the total amount (100% by mass) of the resin components in the resin composition of the present embodiment. The content is 40 to 98% by weight, more preferably 60 to 95% by weight, and even more preferably 80 to 90% by weight.
(A) When the content of the thermosetting resin is at least the above lower limit, heat resistance, moldability, workability, and conductor adhesion tend to be better. Moreover, when the content of the thermosetting resin (A) is below the above upper limit, the dielectric properties tend to be better.

ここで、本明細書において、「樹脂成分」とは、樹脂及び硬化反応によって樹脂を形成する化合物を意味する。
本実施形態の樹脂組成物が、任意成分として、(A)成分以外に樹脂又は硬化反応によって樹脂を形成する化合物を含有する場合、これらの任意成分も樹脂成分に含まれる。但し、後述する(D)成分、(E)成分及び(F)成分は、樹脂成分には含めないものとする。
Here, in this specification, the "resin component" means a resin and a compound that forms a resin through a curing reaction.
When the resin composition of the present embodiment contains a resin or a compound that forms a resin through a curing reaction in addition to component (A) as an optional component, these optional components are also included in the resin component. However, the (D) component, (E) component, and (F) component described below are not included in the resin component.

本実施形態の樹脂組成物中における樹脂成分の含有量は、特に限定されないが、本実施形態の樹脂組成物の固形分総量(100質量%)に対して、好ましくは5~70質量%、より好ましくは10~50質量%、さらに好ましくは15~30質量%である。
樹脂成分の含有量が上記下限値以上であると、耐熱性、成形性、加工性及び導体接着性がより良好になり易い傾向にある。また、樹脂成分の含有量が上記上限値以下であると、低熱膨張性がより良好になり易い傾向にある。
The content of the resin component in the resin composition of this embodiment is not particularly limited, but is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 5 to 70% by mass, based on the total solid content (100% by mass) of the resin composition of this embodiment. It is preferably 10 to 50% by weight, more preferably 15 to 30% by weight.
When the content of the resin component is at least the above lower limit, heat resistance, moldability, workability, and conductor adhesion tend to be better. Moreover, when the content of the resin component is below the above-mentioned upper limit, the low thermal expansion property tends to be better.

(A)熱硬化性樹脂中における上記マレイミド系樹脂の含有量は、特に限定されないが、(A)熱硬化性樹脂の総量(100質量%)に対して、好ましくは80~100質量%、より好ましくは90~100質量%、さらに好ましくは95~100質量%である。
マレイミド系樹脂の含有量が上記下限値以上であると、耐熱性、成形性、加工性及び導体接着性がより良好になり易い傾向にある。また、マレイミド系樹脂の含有量が上記上限値以下であると、誘電特性がより良好になり易い傾向にある。
(A) The content of the maleimide resin in the thermosetting resin is not particularly limited, but is preferably 80 to 100% by mass, more preferably 80 to 100% by mass based on the total amount (100% by mass) of the thermosetting resin (A). It is preferably 90 to 100% by weight, more preferably 95 to 100% by weight.
When the content of the maleimide resin is at least the above lower limit, heat resistance, moldability, processability, and conductor adhesion tend to be better. Furthermore, when the content of the maleimide resin is below the above upper limit, the dielectric properties tend to be better.

<(B)無機充填材>
(B)無機充填材は、(B1)高誘電率無機充填材及び(B2)球状無機充填材を含有する。
<(B) Inorganic filler>
(B) The inorganic filler contains (B1) a high dielectric constant inorganic filler and (B2) a spherical inorganic filler.

((B1)高誘電率無機充填材)
(B1)高誘電率無機充填材は、樹脂組成物の硬化物の比誘電率(Dk)の向上に寄与する無機充填材である。
なお、本実施形態において、(B1)高誘電率無機充填材は、10GHzにおける比誘電率(Dk)が、10以上である無機充填材を意味する。
(B1)高誘電率無機充填材の10GHzにおける比誘電率(Dk)は、入手容易性及び樹脂組成物の比誘電率(Dk)をより高め易くするという観点から、好ましくは10~3,000、より好ましくは13~2,500、さらに好ましくは15~2,000である。
(B1)高誘電率無機充填材の10GHzにおける比誘電率(Dk)は、実施例に記載の方法によって測定することができる。
(B1)高誘電率無機充填材は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
((B1) High dielectric constant inorganic filler)
(B1) The high dielectric constant inorganic filler is an inorganic filler that contributes to improving the dielectric constant (Dk) of the cured product of the resin composition.
In addition, in this embodiment, (B1) high dielectric constant inorganic filler means an inorganic filler whose dielectric constant (Dk) at 10 GHz is 10 or more.
(B1) The dielectric constant (Dk) of the high dielectric constant inorganic filler at 10 GHz is preferably 10 to 3,000 from the viewpoint of easy availability and making it easier to increase the dielectric constant (Dk) of the resin composition. , more preferably 13 to 2,500, still more preferably 15 to 2,000.
(B1) The dielectric constant (Dk) of the high dielectric constant inorganic filler at 10 GHz can be measured by the method described in Examples.
(B1) High dielectric constant inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.

(B1)高誘電率無機充填材としては、例えば、チタン系無機充填材、ジルコン系無機充填材等が挙げられる。
チタン系無機充填材としては、例えば、二酸化チタン;チタン酸カリウム等のチタン酸アルカリ金属塩;チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム等のチタン酸アルカリ土類金属塩;チタン酸鉛などが挙げられる。
ジルコン系無機充填材としては、例えば、ジルコン酸カルシウム、ジルコン酸ストロンチウム等のジルコン酸アルカリ土類金属塩などが挙げられる。
以上の選択肢の中でも、(B1)高誘電率無機充填材は、高い比誘電率(Dk)を得るという観点から、チタン系無機充填材が好ましく、チタン酸アルカリ土類金属塩がより好ましく、チタン酸カルシウムがさらに好ましい。
(B1) Examples of the high dielectric constant inorganic filler include titanium-based inorganic fillers and zircon-based inorganic fillers.
Examples of titanium-based inorganic fillers include titanium dioxide; alkali metal titanates such as potassium titanate; alkaline earth metal salts of titanates such as calcium titanate, barium titanate, and strontium titanate; lead titanate, etc. Can be mentioned.
Examples of the zircon-based inorganic filler include alkaline earth metal zirconate salts such as calcium zirconate and strontium zirconate.
Among the above options, (B1) high dielectric constant inorganic filler is preferably a titanium-based inorganic filler, more preferably an alkaline earth metal titanate, from the viewpoint of obtaining a high dielectric constant (Dk), and titanium-based inorganic filler is more preferable. More preferred is calcium acid.

(B1)高誘電率無機充填材は、カップリング剤等によって表面処理されたものであってもよい。カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等が挙げられる。これらの中でも、チタネートカップリング剤が好ましい。 (B1) The high dielectric constant inorganic filler may be surface-treated with a coupling agent or the like. Examples of the coupling agent include a silane coupling agent and a titanate coupling agent. Among these, titanate coupling agents are preferred.

(B1)高誘電率無機充填材の平均粒子径(D50)は、特に限定されないが、好ましくは0.1~20μm、より好ましくは0.5~15μm、さらに好ましくは0.7~10μmである。
(B1)高誘電率無機充填材の平均粒子径(D50)が上記下限値以上であると、(B1)高誘電率無機充填材の比表面積が小さくなり、(B1)高誘電率無機充填材の固体表面による、(A)熱硬化性樹脂の意図しない硬化反応の促進が抑制され易い傾向にある。また、(B1)高誘電率無機充填材の平均粒子径(D50)が上記上限値以下であると、樹脂組成物の硬化物の均質性がより良好になり易い傾向にある。
(B1)高誘電率無機充填材の平均粒子径(D50)は、実施例に記載の方法によって測定することができる。
(B1) The average particle diameter (D 50 ) of the high dielectric constant inorganic filler is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.5 to 15 μm, and even more preferably 0.7 to 10 μm. be.
(B1) If the average particle diameter (D 50 ) of the high dielectric constant inorganic filler is greater than or equal to the above lower limit, the specific surface area of the (B1) high dielectric constant inorganic filler becomes small; Unintended acceleration of the curing reaction of the thermosetting resin (A) by the solid surface of the material tends to be suppressed. Moreover, when the average particle diameter (D 50 ) of the high dielectric constant inorganic filler (B1) is less than or equal to the above upper limit, the homogeneity of the cured product of the resin composition tends to be better.
(B1) The average particle diameter (D 50 ) of the high dielectric constant inorganic filler can be measured by the method described in Examples.

(B1)高誘電率無機充填材の形状は特に限定されないが、製造容易性の観点から、非球状であることが好ましい。なお、本実施形態における「非球状」とは、後述する「球状」以外の形状を意味する。
非球状である形状は、製造容易性の観点から、複数の角を有する不規則な形状が好ましい。複数の角を有する不規則な形状としては、例えば、破砕によって形成される破砕状が挙げられる。
(B1) The shape of the high dielectric constant inorganic filler is not particularly limited, but from the viewpoint of ease of manufacture, it is preferably non-spherical. Note that "non-spherical" in this embodiment means a shape other than "spherical" which will be described later.
From the viewpoint of ease of manufacture, the non-spherical shape is preferably an irregular shape having a plurality of corners. Examples of the irregular shape having multiple corners include a crushed shape formed by crushing.

本実施形態の樹脂組成物中における(B1)高誘電率無機充填材の質量基準の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物の固形分全量に対して、好ましくは20~95質量%、より好ましくは40~90質量%、さらに好ましくは60~80質量%である。
本実施形態の樹脂組成物中における(B1)高誘電率無機充填材の体積基準の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物の固形分全量に対して、好ましくは10~70体積%、より好ましくは20~60体積%、さらに好ましくは30~50体積%である。
(B1)高誘電率無機充填材の含有量が上記下限値以上であると、樹脂組成物の比誘電率(Dk)をより高め易い傾向にある。また、(B1)高誘電率無機充填材の含有量が上記上限値以下であると、流動性がより良好になり易い傾向にある。
The mass-based content of the high dielectric constant inorganic filler (B1) in the resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 20 to 95% by mass, based on the total solid content of the resin composition. More preferably 40 to 90% by weight, still more preferably 60 to 80% by weight.
The volume-based content of the high dielectric constant inorganic filler (B1) in the resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 10 to 70% by volume, based on the total solid content of the resin composition. More preferably 20 to 60% by volume, still more preferably 30 to 50% by volume.
(B1) When the content of the high dielectric constant inorganic filler is at least the above lower limit, the relative dielectric constant (Dk) of the resin composition tends to be more easily increased. Moreover, when the content of (B1) high dielectric constant inorganic filler is below the above upper limit, fluidity tends to be better.

<(B2)球状無機充填材>
本実施形態の樹脂組成物は、(B2)球状無機充填材を含有する。
(B2)球状無機充填材は、本実施形態の樹脂組成物の流動性の向上に寄与する無機充填材である。(B2)球状無機充填材を含有することによって、本実施形態の樹脂組成物の流動性が向上する原因の詳細は定かではないが、(B1)高誘電率無機充填材の近傍に、(B2)球状無機充填材が存在することによって、(B1)高誘電率無機充填材同士の衝突或いは衝突による摩擦の発生等が抑制されることが一因と推察される。
(B2)球状無機充填材は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
なお、本明細書において、(B2)球状無機充填材の「球状」とは、真球及び楕円球を含む概念であるが、アスペクト比(長軸径/短軸径)が1.2以上である楕円球は、「球状」には分類しないものとする。
無機充填材の形状及びアスペクト比は、当該無機充填材を、例えば、走査型電子顕微鏡等によって観察することによって確認することができる。
<(B2) Spherical inorganic filler>
The resin composition of this embodiment contains (B2) a spherical inorganic filler.
(B2) The spherical inorganic filler is an inorganic filler that contributes to improving the fluidity of the resin composition of this embodiment. (B2) The details of the reason why the fluidity of the resin composition of this embodiment is improved by containing the spherical inorganic filler are not clear, but (B2) is present near the high dielectric constant inorganic filler (B1). ) It is presumed that one reason is that the presence of the spherical inorganic filler suppresses (B1) collisions between the high dielectric constant inorganic fillers or the occurrence of friction due to collisions.
(B2) The spherical inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.
In addition, in this specification, the "spherical shape" of (B2) spherical inorganic filler is a concept that includes true spheres and elliptical spheres, but the aspect ratio (major axis diameter/minor axis diameter) is 1.2 or more. A certain elliptical sphere is not classified as "spherical".
The shape and aspect ratio of the inorganic filler can be confirmed by observing the inorganic filler using, for example, a scanning electron microscope.

(B2)球状無機充填材の材質としては、例えば、シリカ、アルミナ、マイカ、ベリリア、炭酸アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、タルク、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素等が挙げられる。これらの中でも、シリカが好ましい。 (B2) Examples of the material of the spherical inorganic filler include silica, alumina, mica, beryllia, aluminum carbonate, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, and silicon nitride. , boron nitride, clay, talc, aluminum borate, silicon carbide, and the like. Among these, silica is preferred.

(B2)球状無機充填材は、樹脂組成物の流動性をより良好にするという観点から、カップリング剤等によって表面処理されたものであってもよい。カップリング剤としては、後述する(F)カップリング剤として挙げられるものを使用することができる。 (B2) The spherical inorganic filler may be surface-treated with a coupling agent or the like in order to improve the fluidity of the resin composition. As the coupling agent, those mentioned below as (F) coupling agent can be used.

(B2)球状無機充填材の平均粒子径(D50)は、特に限定されないが、樹脂組成物の流動性をより良好にするという観点から、好ましくは10~1,500nm、より好ましくは20~1,000nm、さらに好ましくは30~800nmである。
(B2)球状無機充填材の平均粒子径(D50)は、実施例に記載の方法によって測定することができる。
(B2) The average particle diameter (D 50 ) of the spherical inorganic filler is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the fluidity of the resin composition, it is preferably 10 to 1,500 nm, more preferably 20 to 1,500 nm. The wavelength is 1,000 nm, more preferably 30 to 800 nm.
(B2) The average particle diameter (D 50 ) of the spherical inorganic filler can be measured by the method described in Examples.

(B2)球状無機充填材の10GHzにおける比誘電率(Dk)は、特に限定されないが、入手容易性の観点から、好ましくは10未満であり、より好ましくは1~8、さらに好ましくは2~5である。
(B2)球状無機充填材の10GHzにおける比誘電率(Dk)は、実施例に記載の方法によって測定することができる。
(B2) The dielectric constant (Dk) of the spherical inorganic filler at 10 GHz is not particularly limited, but from the viewpoint of availability, it is preferably less than 10, more preferably 1 to 8, and even more preferably 2 to 5. It is.
(B2) The dielectric constant (Dk) of the spherical inorganic filler at 10 GHz can be measured by the method described in Examples.

本実施形態の樹脂組成物中における(B2)球状無機充填材の質量基準の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物の固形分全量に対して、好ましくは0.1~20質量%、より好ましくは0.3~10質量%、さらに好ましくは0.5~5質量%である。
本実施形態の樹脂組成物中における(B2)球状無機充填材の体積基準の含有量は、特に限定されないが、樹脂組成物の固形分全量に対して、好ましくは0.1~20体積%、より好ましくは0.3~10体積%、さらに好ましくは0.5~5体積%である。
(B2)球状無機充填材の含有量が上記下限値以上であると、本実施形態の樹脂組成物の流動性がより良好になり易い傾向にある。また、(B2)球状無機充填材の含有量が上記上限値以下であると、高い比誘電率(Dk)をより維持し易い傾向にある。
The mass-based content of the (B2) spherical inorganic filler in the resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20% by mass, based on the total solid content of the resin composition. More preferably 0.3 to 10% by weight, still more preferably 0.5 to 5% by weight.
The volume-based content of the (B2) spherical inorganic filler in the resin composition of the present embodiment is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 20% by volume, based on the total solid content of the resin composition. More preferably 0.3 to 10% by volume, still more preferably 0.5 to 5% by volume.
(B2) When the content of the spherical inorganic filler is at least the above lower limit, the resin composition of this embodiment tends to have better fluidity. Moreover, when the content of the spherical inorganic filler (B2) is below the above upper limit value, it tends to be easier to maintain a high dielectric constant (Dk).

本実施形態の樹脂組成物中における(B2)球状無機充填材の体積基準の含有量に対する、(B1)高誘電率無機充填材の体積基準の含有量の比[(B1)/(B2)]は特に限定されないが、好ましくは2~500、より好ましくは5~100、さらに好ましくは10~50である。
体積基準の含有量の比[(B1)/(B2)]が上記範囲であると、本実施形態の樹脂組成物の流動性がより良好になり易い傾向にある。
Ratio of the volume-based content of (B1) high dielectric constant inorganic filler to the volume-based content of (B2) spherical inorganic filler in the resin composition of the present embodiment [(B1)/(B2)] is not particularly limited, but is preferably 2 to 500, more preferably 5 to 100, even more preferably 10 to 50.
When the volume-based content ratio [(B1)/(B2)] is within the above range, the resin composition of this embodiment tends to have better fluidity.

本実施形態の樹脂組成物中における(B1)高誘電率無機充填材及び(B2)球状無機充填材の質量基準の合計含有量は、樹脂組成物の固形分全量に対して、好ましくは22~97質量%、より好ましくは42~92質量%、さらに好ましくは62~82質量%である。
本実施形態の樹脂組成物中における(B1)高誘電率無機充填材及び(B2)球状無機充填材の体積基準の合計含有量は、樹脂組成物の固形分全量に対して、好ましくは10~70体積%、より好ましくは20~60体積%、さらに好ましくは30~50体積%である。
本実施形態の樹脂組成物が含有する(B)無機充填材の総量に対する、(B1)高誘電率無機充填材及び(B2)球状無機充填材の合計含有量が占める割合は、特に限定されないが、好ましくは80~100質量%、より好ましくは90~100質量%、さらに好ましくは95~100質量%である。
The total mass-based content of (B1) the high dielectric constant inorganic filler and (B2) the spherical inorganic filler in the resin composition of the present embodiment is preferably 22 to 22% of the total solid content of the resin composition. The content is 97% by weight, more preferably 42-92% by weight, even more preferably 62-82% by weight.
The total volume-based content of (B1) high dielectric constant inorganic filler and (B2) spherical inorganic filler in the resin composition of the present embodiment is preferably 10 to 10% based on the total solid content of the resin composition. It is 70% by volume, more preferably 20-60% by volume, even more preferably 30-50% by volume.
Although the ratio of the total content of (B1) high dielectric constant inorganic filler and (B2) spherical inorganic filler to the total amount of (B) inorganic filler contained in the resin composition of this embodiment is not particularly limited. , preferably 80 to 100% by weight, more preferably 90 to 100% by weight, even more preferably 95 to 100% by weight.

<(C)硬化剤>
本実施形態の樹脂組成物は、さらに、(C)硬化剤を含有することが好ましい。
本実施形態の樹脂組成物は、(C)硬化剤を含有することによって、硬化性がより向上する傾向にある。
(C)硬化剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<(C) Curing agent>
It is preferable that the resin composition of this embodiment further contains (C) a curing agent.
The resin composition of this embodiment tends to have more improved curability by containing the curing agent (C).
(C) The curing agent may be used alone or in combination of two or more.

(C)硬化剤としては、例えば、フェノール系硬化剤、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤等が挙げられ、(A)熱硬化性樹脂の種類に応じて、適宜選択することが好ましい。 (C) The curing agent includes, for example, a phenolic curing agent, an amine curing agent, an acid anhydride curing agent, etc., and is preferably selected as appropriate depending on the type of (A) thermosetting resin. .

本実施形態の樹脂組成物が(A)熱硬化性樹脂として、マレイミド系樹脂を含有する場合は、本実施形態の樹脂組成物は、(C)硬化剤として、アミン系硬化剤を含有することが好ましい。
アミン系硬化剤としては、ジアミン化合物が好ましく挙げられる。
ジアミン化合物としては、例えば、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、3,3’-ジエチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノジフェニルケトン、4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、3,3’-ジヒドロキシベンジジン、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)プロパン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3-ビス〔1-[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1-メチルエチル〕ベンゼン、1,4-ビス〔1-[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]-1-メチルエチル〕ベンゼン、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、4,4’-[1,4-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、3,3’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン、ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン等の芳香族ジアミン化合物;第1級アミノ基を2個有するシリコーン化合物などが挙げられる。
なお、本明細書中、「芳香族ジアミン化合物」とは、芳香環に直接結合するアミノ基を2個有する化合物を意味する。
これらの中でも、4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリンが好ましい。
When the resin composition of this embodiment contains a maleimide resin as (A) a thermosetting resin, the resin composition of this embodiment may contain an amine curing agent as (C) a curing agent. is preferred.
As the amine curing agent, diamine compounds are preferably mentioned.
Examples of diamine compounds include 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, and 4,4'-diaminodiphenylmethane. Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ketone, 4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'- Diaminobiphenyl, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dihydroxybenzidine, 2,2-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)propane, 3,3'-dimethyl- 5,5'-diethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-bis(4-aminophenyl)propane, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 1,3- Bis(3-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 1 ,3-bis[1-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1-methylethyl]benzene, 1,4-bis[1-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1-methylethyl ]Benzene, 4,4'-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, 4,4'-[1,4-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, 3,3'- [1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 9,9-bis( Examples include aromatic diamine compounds such as 4-aminophenyl)fluorene; and silicone compounds having two primary amino groups.
In this specification, the term "aromatic diamine compound" means a compound having two amino groups directly bonded to an aromatic ring.
Among these, 4,4'-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline is preferred.

本実施形態の樹脂組成物が(C)硬化剤を含有する場合、その含有量は、(A)熱硬化性樹脂100質量部に対して、好ましくは2~40質量部、より好ましくは5~30質量部、さらに好ましくは10~20質量部である。
(C)硬化剤の含有量が上記範囲であると、樹脂組成物の硬化性がより良好になり易い傾向にある。
When the resin composition of the present embodiment contains (C) a curing agent, the content thereof is preferably 2 to 40 parts by mass, more preferably 5 to 40 parts by mass, based on 100 parts by mass of (A) thermosetting resin. The amount is 30 parts by weight, more preferably 10 to 20 parts by weight.
(C) When the content of the curing agent is within the above range, the curability of the resin composition tends to be better.

<(D)硬化促進剤>
本実施形態の樹脂組成物は、樹脂組成物の硬化反応を促進させるという観点から、さらに、(D)硬化促進剤を含有することが好ましい。
(D)硬化促進剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<(D) Curing accelerator>
The resin composition of the present embodiment preferably further contains (D) a curing accelerator from the viewpoint of accelerating the curing reaction of the resin composition.
(D) The curing accelerator may be used alone or in combination of two or more.

(D)硬化促進剤としては、例えば、p-トルエンスルホン酸等の酸性触媒;トリエチルアミン、ピリジン、トリブチルアミン、ジシアンジアミド等のアミン化合物;メチルイミダゾール、フェニルイミダゾール、1-シアノエチル-2-フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート樹脂と2-エチル-4-メチルイミダゾールの付加反応物等のイソシアネートマスクイミダゾール化合物;第3級アミン化合物;第4級アンモニウム化合物;トリフェニルホスフィン等のリン系化合物;ジクミルパーオキサイド、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキシン-3、2,5-ジメチル-2,5-ビス(t-ブチルパーオキシ)ヘキサン、t-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、α,α’-ビス(t-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン等の有機過酸化物;マンガン、コバルト、亜鉛等のカルボン酸塩などが挙げられる。これらの中でも、硬化促進効果及び保存安定性の観点から、イソシアネートマスクイミダゾール化合物が好ましい。 (D) Curing accelerators include, for example, acidic catalysts such as p-toluenesulfonic acid; amine compounds such as triethylamine, pyridine, tributylamine, and dicyandiamide; Imidazole compounds; Isocyanate mask imidazole compounds such as addition reaction products of hexamethylene diisocyanate resin and 2-ethyl-4-methylimidazole; Tertiary amine compounds; Quaternary ammonium compounds; Phosphorus compounds such as triphenylphosphine; Dicumyl Peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-bis(t-butylperoxy)hexane-3,2,5-dimethyl-2,5-bis(t-butylperoxy)hexane, t-butylperoxy Organic peroxides such as isopropyl monocarbonate and α,α'-bis(t-butylperoxy)diisopropylbenzene; carboxylic acid salts of manganese, cobalt, zinc, etc., and the like. Among these, isocyanate mask imidazole compounds are preferred from the viewpoint of curing accelerating effect and storage stability.

本実施形態の樹脂組成物が(D)硬化促進剤を含有する場合、その含有量は、(A)熱硬化性樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1~10質量部、より好ましくは0.5~7質量部、さらに好ましくは1~5質量部である。
(D)硬化促進剤の含有量が、上記下限値以上であると、十分な硬化促進効果が得られ易い傾向にある。また、(D)硬化促進剤の含有量が、上記上限値以下であると、保存安定性がより良好になる傾向にある。
When the resin composition of the present embodiment contains (D) a curing accelerator, the content is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of (A) thermosetting resin. is 0.5 to 7 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight.
(D) When the content of the curing accelerator is at least the above lower limit, a sufficient curing accelerating effect tends to be easily obtained. Moreover, when the content of the curing accelerator (D) is below the above upper limit, storage stability tends to be better.

<(E)難燃剤>
本実施形態の樹脂組成物は、さらに、(E)難燃剤を含有することが好ましい。
本実施形態の樹脂組成物は、(E)難燃剤を含有することによって、難燃性がより向上する傾向にある。
(E)難燃剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<(E) Flame retardant>
It is preferable that the resin composition of this embodiment further contains (E) a flame retardant.
The flame retardance of the resin composition of this embodiment tends to be further improved by containing the flame retardant (E).
(E) Flame retardants may be used alone or in combination of two or more.

(E)難燃剤としては、例えば、リン系難燃剤、金属水和物、ハロゲン系難燃剤等が挙げられる。
リン系難燃剤は、無機系のリン系難燃剤であってもよいし、有機系のリン系難燃剤であってもよい。
無機系のリン系難燃剤としては、例えば、赤リン;リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム;リン酸アミド等の無機系含窒素リン化合物;リン酸;ホスフィンオキシドなどが挙げられる。
有機系のリン系難燃剤としては、例えば、芳香族リン酸エステル化合物、1置換ホスホン酸ジエステル化合物、2置換ホスフィン酸エステル化合物、2置換ホスフィン酸の金属塩、有機系含窒素リン化合物、環状有機リン化合物等が挙げられる。これらの中でも、芳香族リン酸エステル化合物、2置換ホスフィン酸の金属塩が好ましい。
金属水和物としては、例えば、水酸化アルミニウムの水和物、水酸化マグネシウムの水和物等が挙げられる。
ハロゲン系難燃剤としては、例えば、塩素系難燃剤、臭素系難燃剤等が挙げられる。
(E) Examples of the flame retardant include phosphorus flame retardants, metal hydrates, halogen flame retardants, and the like.
The phosphorus flame retardant may be an inorganic phosphorus flame retardant or an organic phosphorus flame retardant.
Examples of inorganic phosphorus flame retardants include red phosphorus; ammonium phosphates such as monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, and ammonium polyphosphate; inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as phosphoric acid amide; ; phosphoric acid; phosphine oxide and the like.
Examples of organic phosphorus flame retardants include aromatic phosphate ester compounds, monosubstituted phosphonic acid diester compounds, 2-substituted phosphinic ester compounds, metal salts of 2-substituted phosphinic acids, organic nitrogen-containing phosphorus compounds, and cyclic organic phosphoric acid ester compounds. Examples include phosphorus compounds. Among these, aromatic phosphoric acid ester compounds and metal salts of disubstituted phosphinic acids are preferred.
Examples of the metal hydrate include aluminum hydroxide hydrate, magnesium hydroxide hydrate, and the like.
Examples of the halogen flame retardant include chlorine flame retardants, bromine flame retardants, and the like.

本実施形態の樹脂組成物が(E)難燃剤を含有する場合、(E)難燃剤の含有量は、特に限定されないが、本実施形態の樹脂組成物中の樹脂成分の総和100質量部に対して、好ましくは20~70質量部、より好ましくは30~60質量部、さらに好ましくは40~50質量部である。
(E)難燃剤の含有量が上記下限値以上であると、難燃性がより良好になり易い傾向にある。また、(E)難燃剤の含有量が上記上限値以下であると、誘電特性、成形性及び導体接着性がより良好になり易い傾向にある。
When the resin composition of this embodiment contains (E) a flame retardant, the content of the (E) flame retardant is not particularly limited, but the total amount of the resin components in the resin composition of this embodiment is 100 parts by mass. On the other hand, it is preferably 20 to 70 parts by weight, more preferably 30 to 60 parts by weight, and even more preferably 40 to 50 parts by weight.
(E) When the content of the flame retardant is at least the above lower limit, the flame retardance tends to be better. Moreover, when the content of the flame retardant (E) is below the above upper limit, the dielectric properties, moldability, and conductor adhesiveness tend to be better.

<(F)カップリング剤>
本実施形態の樹脂組成物は、さらに、(F)カップリング剤を含有することが好ましい。
本実施形態の樹脂組成物は、(F)カップリング剤を含有することによって、流動性がより向上する傾向にある。
(F)カップリング剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<(F) Coupling agent>
It is preferable that the resin composition of this embodiment further contains (F) a coupling agent.
The resin composition of this embodiment tends to have improved fluidity by containing the coupling agent (F).
(F) The coupling agent may be used alone or in combination of two or more.

(F)カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等が挙げられ、これらの中でも、シランカップリング剤が好ましい。
シランカップリング剤としては、例えば、エポキシシラン系カップリング剤、アミノシラン系カップリング剤、フェニルシラン系カップリング剤、アルキルシラン系カップリング剤、アルケニルシラン系カップリング剤、アルキニルシラン系カップリング剤、ハロアルキルシラン系カップリング剤、(メタ)アクリルシラン系カップリング剤、イソシアヌレートシラン系カップリング剤、ウレイドシラン系カップリング剤、メルカプトシラン系カップリング剤、スルフィドシラン系カップリング剤、イソシアネートシラン系カップリング剤、シラザン系カップリング剤等が挙げられる。これらの中でも、アルケニルシラン系カップリング剤が好ましい。アルケニルシラン系カップリング剤としては、ビニルシラン系カップリング剤が好ましい。
(F) Examples of the coupling agent include silane coupling agents, titanate coupling agents, etc. Among these, silane coupling agents are preferred.
Examples of the silane coupling agent include epoxysilane coupling agents, aminosilane coupling agents, phenylsilane coupling agents, alkylsilane coupling agents, alkenylsilane coupling agents, alkynylsilane coupling agents, Haloalkylsilane coupling agent, (meth)acrylic silane coupling agent, isocyanurate silane coupling agent, ureidosilane coupling agent, mercaptosilane coupling agent, sulfide silane coupling agent, isocyanate silane cup Examples include ring agents, silazane coupling agents, and the like. Among these, alkenylsilane coupling agents are preferred. As the alkenylsilane coupling agent, a vinylsilane coupling agent is preferable.

本実施形態の樹脂組成物が(F)カップリング剤を含有する場合、(F)カップリング剤の含有量は、特に限定されないが、本実施形態の樹脂組成物の固形分総量(100質量%)に対して、好ましくは0.1~7質量部、より好ましくは0.5~5質量部、さらに好ましくは1~3質量部である。
(F)カップリング剤の含有量が上記範囲であると、樹脂組成物の流動性がより良好になり易い傾向にある。
When the resin composition of the present embodiment contains (F) a coupling agent, the content of the coupling agent (F) is not particularly limited, but the total solid content (100% by mass) of the resin composition of the present embodiment is ), preferably 0.1 to 7 parts by weight, more preferably 0.5 to 5 parts by weight, and even more preferably 1 to 3 parts by weight.
(F) When the content of the coupling agent is within the above range, the resin composition tends to have better fluidity.

<その他の成分>
本実施形態の樹脂組成物は、上記各成分以外にも、必要に応じて、その他の成分を含有していてもよく、含有していなくてもよい。
その他の成分としては、例えば、(A)熱硬化性樹脂以外の樹脂、有機溶媒、その他の添加剤等が挙げられる。
これらは、各々について、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<Other ingredients>
In addition to the above-mentioned components, the resin composition of the present embodiment may or may not contain other components as necessary.
Examples of other components include resins other than the thermosetting resin (A), organic solvents, and other additives.
Each of these may be used alone or in combination of two or more.

(A)熱硬化性樹脂以外の樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂等が挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンエーテル系樹脂;スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、ウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、アクリル系熱可塑性エラストマー、シリコーン系熱可塑性エラストマー、その誘導体等の熱可塑性エラストマーなどが挙げられる。
(A) Examples of resins other than thermosetting resins include thermoplastic resins.
Examples of thermoplastic resins include polyphenylene ether resin; styrene thermoplastic elastomer, olefin thermoplastic elastomer, urethane thermoplastic elastomer, polyester thermoplastic elastomer, polyamide thermoplastic elastomer, acrylic thermoplastic elastomer, and silicone. Examples include thermoplastic elastomers such as thermoplastic elastomers and derivatives thereof.

有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、4-メチル-2-ペンタノン、酢酸エチル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等が挙げられる。 Examples of organic solvents include acetone, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, cyclohexanone, 4-methyl-2-pentanone, ethyl acetate, ethylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, and tripropylene glycol. Examples include monomethyl ether, N,N-dimethylformamide, and N,N-dimethylacetamide.

その他の添加剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系等の紫外線吸収剤;ヒンダードフェノール系酸化防止剤、スチレン化フェノール酸化防止剤等の酸化防止剤;ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、チオキサントン系等の光重合開始剤;スチルベン誘導体等の蛍光増白剤、尿素化合物、シランカップリング剤等の密着性向上剤;シアナミド系架橋剤等の架橋剤などが挙げられる。 Other additives include, for example, ultraviolet absorbers such as benzotriazole type; antioxidants such as hindered phenol type antioxidants and styrenated phenol type antioxidants; Examples include polymerization initiators; fluorescent brighteners such as stilbene derivatives; adhesion improvers such as urea compounds and silane coupling agents; crosslinking agents such as cyanamide crosslinking agents.

その他の成分の含有量は特に限定されず、必要に応じて、本実施形態の効果を阻害しない範囲で使用すればよい。 The content of other components is not particularly limited, and may be used as necessary within a range that does not impede the effects of this embodiment.

<樹脂組成物の製造方法>
本実施形態の樹脂組成物は、上記各成分を混合することによって製造することができる。
各成分を混合する際には、各成分は撹拌しながら溶解又は分散させてもよい。また、原料を混合する順序、混合温度、混合時間等の条件は、特に限定されず、原料の種類等に応じて任意に設定すればよい。
<Method for manufacturing resin composition>
The resin composition of this embodiment can be manufactured by mixing the above components.
When mixing each component, each component may be dissolved or dispersed while stirring. Further, conditions such as the order of mixing the raw materials, mixing temperature, and mixing time are not particularly limited, and may be arbitrarily set depending on the types of raw materials and the like.

<硬化物の比誘電率(Dk)>
本実施形態の樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(Dk)は、特に限定されないが、好ましくは5~40、より好ましくは7~20、さらに好ましくは10~15である。
硬化物の10GHzにおける比誘電率(Dk)が上記下限値以上であると、アンテナモジュールをより小型化し易い傾向にある。また、硬化物の10GHzにおける比誘電率(Dk)が上記上限値以下であると、他の物性とのバランスを良好に保ち易い傾向にある。
本実施形態の樹脂組成物の硬化物の10GHzにおける比誘電率(Dk)は、実施例に記載の方法によって測定することができる。
<Specific dielectric constant (Dk) of cured product>
The dielectric constant (Dk) at 10 GHz of the cured product of the resin composition of this embodiment is not particularly limited, but is preferably 5 to 40, more preferably 7 to 20, and even more preferably 10 to 15.
When the dielectric constant (Dk) of the cured product at 10 GHz is equal to or greater than the above lower limit, it tends to be easier to downsize the antenna module. Further, when the dielectric constant (Dk) of the cured product at 10 GHz is less than or equal to the above upper limit value, it tends to be easy to maintain a good balance with other physical properties.
The dielectric constant (Dk) at 10 GHz of the cured product of the resin composition of this embodiment can be measured by the method described in Examples.

<樹脂組成物の用途>
本実施形態の樹脂組成物は、高い比誘電率(Dk)を有しながらも、流動性に優れる樹脂組成物であるため、アンテナモジュール用の樹脂組成物として好適である。
<Applications of resin composition>
The resin composition of this embodiment is a resin composition with excellent fluidity while having a high dielectric constant (Dk), and therefore is suitable as a resin composition for an antenna module.

[プリプレグ]
本実施形態のプリプレグは、本実施形態の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含有するプリプレグである。
本実施形態のプリプレグは、アンテナモジュール用のプリプレグとして好適である。
[Prepreg]
The prepreg of this embodiment is a prepreg containing the resin composition of this embodiment or a semi-cured product of the resin composition.
The prepreg of this embodiment is suitable as a prepreg for an antenna module.

本実施形態のプリプレグは、例えば、本実施形態の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物と、シート状繊維基材と、を含有するものである。 The prepreg of this embodiment contains, for example, the resin composition of this embodiment or a semi-cured product of the resin composition, and a sheet-like fiber base material.

本実施形態のプリプレグが含有するシート状繊維基材としては、例えば、各種の電気絶縁材料用積層板に用いられている公知のシート状繊維基材を使用することができる。
シート状繊維基材の材質としては、例えば、Eガラス、Dガラス、Sガラス、Qガラス等の無機物繊維;ポリイミド、ポリエステル、テトラフルオロエチレン等の有機繊維;これらの混合物などが挙げられる。これらのシート状繊維基材は、例えば、織布、不織布、ロービンク、チョップドストランドマット、サーフェシングマット等の形状を有する。
As the sheet-like fiber base material contained in the prepreg of the present embodiment, for example, known sheet-like fiber base materials used in various laminates for electrically insulating materials can be used.
Examples of the material of the sheet-like fiber base material include inorganic fibers such as E glass, D glass, S glass, and Q glass; organic fibers such as polyimide, polyester, and tetrafluoroethylene; and mixtures thereof. These sheet-like fiber base materials have shapes such as woven fabrics, nonwoven fabrics, raw binders, chopped strand mats, and surfacing mats.

本実施形態のプリプレグは、例えば、本実施形態の樹脂組成物を、シート状繊維基材に含浸又は塗布してから、加熱乾燥してB-ステージ化することによって製造することができる。
加熱乾燥の温度及び時間は、特に限定されないが、生産性及び本実施形態の樹脂組成物を適度にB-ステージ化させるという観点から、例えば、50~200℃、1~30分間とすることができる。
The prepreg of this embodiment can be produced, for example, by impregnating or applying the resin composition of this embodiment onto a sheet-like fiber base material, and then heating and drying it to B-stage it.
The heating drying temperature and time are not particularly limited, but from the viewpoint of productivity and appropriately B-staging the resin composition of this embodiment, it may be, for example, 50 to 200 ° C. for 1 to 30 minutes. can.

本実施形態のプリプレグ中の樹脂組成物由来の固形分濃度は、特に限定されないが、積層板とした際に、より良好な成形性が得られ易いという観点から、好ましくは20~90質量%、より好ましくは25~80質量%、さらに好ましくは30~75質量%である。 The solid content concentration derived from the resin composition in the prepreg of this embodiment is not particularly limited, but from the viewpoint of easily obtaining better moldability when formed into a laminate, it is preferably 20 to 90% by mass, More preferably 25 to 80% by weight, still more preferably 30 to 75% by weight.

[樹脂フィルム]
本実施形態の樹脂フィルムは、本実施形態の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含有する樹脂フィルムである。
本実施形態の樹脂フィルムは、アンテナモジュール用の樹脂フィルムとして好適である。
[Resin film]
The resin film of this embodiment is a resin film containing the resin composition of this embodiment or a semi-cured product of the resin composition.
The resin film of this embodiment is suitable as a resin film for an antenna module.

本実施形態の樹脂フィルムは、例えば、有機溶媒を含有する本実施形態の樹脂組成物、つまり樹脂ワニスを支持体に塗布してから、加熱乾燥させることによって製造することができる。
支持体としては、例えば、プラスチックフィルム、金属箔、離型紙等が挙げられる。
加熱乾燥の温度及び時間は、特に限定されないが、生産性及び本実施形態の樹脂組成物を適度にB-ステージ化させるという観点から、50~200℃、1~30分間とすることができる。
The resin film of this embodiment can be produced, for example, by applying the resin composition of this embodiment containing an organic solvent, that is, a resin varnish, to a support and then drying it by heating.
Examples of the support include a plastic film, metal foil, and release paper.
The temperature and time of heat drying are not particularly limited, but from the viewpoint of productivity and appropriately B-staging the resin composition of the present embodiment, it can be set to 50 to 200° C. for 1 to 30 minutes.

本実施形態の樹脂フィルムは、プリント配線板を製造する場合において、絶縁層を形成するために用いられることが好ましい。 The resin film of this embodiment is preferably used to form an insulating layer when manufacturing a printed wiring board.

[積層板]
本実施形態の積層板は、本実施形態の樹脂組成物の硬化物又は本実施形態のプリプレグの硬化物と、金属箔と、を有する積層板である。
本実施形態の積層板は、アンテナモジュール用の積層板として好適である。
なお、金属箔を有する積層板は、金属張積層板と称されることもある。
[Laminated board]
The laminate of this embodiment is a laminate that includes a cured product of the resin composition of this embodiment or a cured product of prepreg of this embodiment, and metal foil.
The laminate of this embodiment is suitable as a laminate for an antenna module.
Note that a laminate having metal foil is sometimes referred to as a metal-clad laminate.

金属箔の金属としては、特に限定されず、例えば、銅、金、銀、ニッケル、白金、モリブデン、ルテニウム、アルミニウム、タングステン、鉄、チタン、クロム、これらの金属元素を1種以上含有する合金等が挙げられる。 The metal of the metal foil is not particularly limited, and examples include copper, gold, silver, nickel, platinum, molybdenum, ruthenium, aluminum, tungsten, iron, titanium, chromium, alloys containing one or more of these metal elements, etc. can be mentioned.

本実施形態の積層板は、例えば、本実施形態のプリプレグの片面又は両面に金属箔を配置してから、加熱加圧成形することによって製造することができる。
通常、この加熱加圧成形によって、B-ステージ化されたプリプレグを硬化させて本実施形態の積層板が得られる。
加熱加圧成形する際、プリプレグは1枚のみを用いてもよいし、2枚以上のプリプレグを積層させてもよい。
加熱加圧成形は、例えば、多段プレス、多段真空プレス、連続成形、オートクレーブ成形機等を使用することができる。
加熱加圧成形の条件は、特に限定されないが、例えば、温度100~300℃、時間10~300分間、圧力1.5~5MPaとすることができる。
The laminate of this embodiment can be manufactured, for example, by arranging metal foil on one or both sides of the prepreg of this embodiment and then heat-pressing the prepreg.
Usually, the B-staged prepreg is cured by this heating and pressure molding to obtain the laminate of this embodiment.
When hot-pressing molding, only one sheet of prepreg may be used, or two or more sheets of prepreg may be laminated.
For heating and pressure molding, for example, a multistage press, a multistage vacuum press, a continuous molding machine, an autoclave molding machine, etc. can be used.
The conditions for heating and pressure molding are not particularly limited, but may be, for example, a temperature of 100 to 300°C, a time of 10 to 300 minutes, and a pressure of 1.5 to 5 MPa.

[プリント配線板]
本実施形態のプリント配線板は、本実施形態の樹脂組成物の硬化物、本実施形態のプリプレグの硬化物、及び本実施形態の積層板からなる群から選択される1種以上を有するプリント配線板である。
本実施形態のプリント配線板は、アンテナモジュール用のプリント配線板として好適である。
[Printed wiring board]
The printed wiring board of the present embodiment includes one or more selected from the group consisting of a cured product of the resin composition of the present embodiment, a cured product of the prepreg of the present embodiment, and a laminate of the present embodiment. It is a board.
The printed wiring board of this embodiment is suitable as a printed wiring board for an antenna module.

本実施形態のプリント配線板は、例えば、本実施形態のプリプレグの硬化物、本実施形態の樹脂フィルムの硬化物及び積層板からなる群から選択される1種以上に対して、公知の方法によって、導体回路形成を行うことによって製造することができる。また、さらに必要に応じて多層化接着加工を施すことによって、多層プリント配線板を製造することもできる。導体回路は、例えば、穴開け加工、金属めっき加工、金属箔のエッチング等を適宜施すことによって形成することができる。 The printed wiring board of this embodiment can be produced by, for example, using a known method for one or more selected from the group consisting of the cured prepreg of this embodiment, the cured resin film of this embodiment, and a laminate. , it can be manufactured by forming a conductor circuit. Moreover, a multilayer printed wiring board can also be manufactured by further performing multilayer adhesive processing as necessary. The conductor circuit can be formed by, for example, appropriately performing drilling, metal plating, etching of metal foil, and the like.

[アンテナ装置]
本実施形態のアンテナ装置は、本実施形態のプリント配線板を有するアンテナ装置である。
本実施形態のアンテナ装置は、例えば、本実施形態のプリント配線板にアンテナ素子を搭載することによって製造することができる。
アンテナ素子の設置方法に特に制限はないが、例えば、二次元のアレイ状に配置することが好ましい。アンテナ装置の構成については、特に制限されるものではないが、例えば、特許第6777273号公報等を参照することができる。
[Antenna device]
The antenna device of this embodiment is an antenna device having the printed wiring board of this embodiment.
The antenna device of this embodiment can be manufactured, for example, by mounting an antenna element on the printed wiring board of this embodiment.
Although there is no particular restriction on the method of installing the antenna elements, it is preferable to arrange them in a two-dimensional array, for example. The configuration of the antenna device is not particularly limited, and for example, Japanese Patent No. 6777273 can be referred to.

[アンテナモジュール]
本実施形態のアンテナモジュールは、本実施形態のアンテナ装置と、給電回路と、を有するアンテナモジュールである。
本実施形態のアンテナモジュールは、例えば、給電回路と、本実施形態のアンテナ装置と、を設置することを含む方法によって製造することができる。
給電回路としては、特に制限されるものではないが、RFIC(Radio Frequency Integrated Circuit)等を使用することができる。RFICは、スイッチ、パワーアンプ、ローノイズアンプ、減衰機、移相機、信号合成-分波機、ミキサ、増幅回路等を備えるものである。
RFICから供給される高周波信号は、アンテナモジュール用積層板のビアに形成した短絡用導体を経由して、前記給電用導体の給電点に伝達される。
アンテナモジュールの構成については、特に制限されるものではないが、例えば、特許第6777273号公報等を参照することができる。
[Antenna module]
The antenna module of this embodiment is an antenna module that includes the antenna device of this embodiment and a power feeding circuit.
The antenna module of this embodiment can be manufactured, for example, by a method that includes installing a power feeding circuit and the antenna device of this embodiment.
The power supply circuit is not particularly limited, but an RFIC (Radio Frequency Integrated Circuit) or the like can be used. The RFIC includes a switch, a power amplifier, a low-noise amplifier, an attenuator, a phase shifter, a signal combiner/brancher, a mixer, an amplifier circuit, and the like.
The high frequency signal supplied from the RFIC is transmitted to the power feeding point of the power feeding conductor via a shorting conductor formed in a via of the antenna module laminate.
The configuration of the antenna module is not particularly limited, and for example, Japanese Patent No. 6777273 can be referred to.

以下、実施例を挙げて、本実施形態を具体的に説明する。ただし、本実施形態は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, this embodiment will be specifically described with reference to Examples. However, this embodiment is not limited to the following examples.

(数平均分子量(Mn)の測定方法)
数平均分子量(Mn)はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって、標準ポリスチレンを用いた検量線から換算した。検量線は、標準ポリスチレン:TSKstandard POLYSTYRENE(Type;A-2500、A-5000、F-1、F-2、F-4、F-10、F-20、F-40)[東ソー株式会社製、商品名]を用いて3次式で近似した。GPCの測定条件を、以下に示す。
〔GPCの測定条件〕
装置:高速GPC装置 HLC-8320GPC
検出器:紫外吸光検出器 UV-8320[東ソー株式会社製]
カラム:ガードカラム;TSK Guardcolumn SuperHZ-L+カラム;TSKgel SuperHZM-N+TSKgel SuperHZM-M+TSKgel SuperH-RC(すべて東ソー株式会社製、商品名)
カラムサイズ:4.6×20mm(ガードカラム)、4.6×150mm(カラム)、6.0×150mm(リファレンスカラム)
溶離液:テトラヒドロフラン
試料濃度:10mg/5mL
注入量:25μL
流量:1.00mL/分
測定温度:40℃
(Method for measuring number average molecular weight (Mn))
The number average molecular weight (Mn) was calculated by gel permeation chromatography (GPC) from a calibration curve using standard polystyrene. The calibration curve is based on standard polystyrene: TSK standard POLYSTYRENE (Type; A-2500, A-5000, F-1, F-2, F-4, F-10, F-20, F-40) [manufactured by Tosoh Corporation, Product name] was approximated by a cubic equation. GPC measurement conditions are shown below.
[GPC measurement conditions]
Equipment: High-speed GPC equipment HLC-8320GPC
Detector: Ultraviolet absorption detector UV-8320 [manufactured by Tosoh Corporation]
Column: Guard column; TSK Guardcolumn SuperHZ-L+ column; TSKgel SuperHZM-N+TSKgel SuperHZM-M+TSKgel SuperH-RC (all manufactured by Tosoh Corporation, product names)
Column size: 4.6 x 20 mm (guard column), 4.6 x 150 mm (column), 6.0 x 150 mm (reference column)
Eluent: Tetrahydrofuran Sample concentration: 10mg/5mL
Injection volume: 25μL
Flow rate: 1.00mL/min Measurement temperature: 40℃

(無機充填材の平均粒子径(D50)の測定方法)
無機充填材の平均粒子径(D50)は、測定対象である無機充填材0.1gを溶媒(種類:メチルエチルケトン)20gで希釈させた後、100Wの超音波ホモジナイザーで5~20分間振動させることによって、分散させたものを測定試料とした。
上記測定試料を測定セルに1~2滴注入し、粒子径分布測定装置(マイクロトラックベル株式会社製、商品名:マイクロトラックMT3000)を用いて、国際標準規格ISO13321に準拠して、25℃、屈折率1.38にて粒子径分布を測定した。得られた粒子径分布における積算値50%(体積基準)に相当する粒子径を平均粒子径(D50)とした。
(Method for measuring average particle diameter (D 50 ) of inorganic filler)
The average particle diameter (D 50 ) of the inorganic filler is determined by diluting 0.1 g of the inorganic filler to be measured with 20 g of a solvent (type: methyl ethyl ketone) and then vibrating it for 5 to 20 minutes with a 100 W ultrasonic homogenizer. The dispersed material was used as a measurement sample.
Inject 1 to 2 drops of the above measurement sample into the measurement cell, and use a particle size distribution measuring device (manufactured by Microtrac Bell Co., Ltd., product name: Microtrac MT3000) to measure the temperature at 25°C in accordance with the international standard ISO13321. The particle size distribution was measured at a refractive index of 1.38. The particle diameter corresponding to an integrated value of 50% (volume basis) in the obtained particle diameter distribution was defined as the average particle diameter (D 50 ).

(無機充填材の10GHzにおける比誘電率(Dk)の測定方法)
無機充填材の10GHzにおける比誘電率(Dk)は、以下の手順にて測定した。
測定対象である無機充填材とポリフェニレンエーテル樹脂とを、無機充填材20体積%、ポリフェニレンエーテル樹脂80体積%の比率で配合し、混合した。得られた混合物を、230℃、30分、3MPaの条件でプレス成形し、幅50mm×長さ130mm×厚さ0.5mmに成形したものを比誘電率(Dk)の試験片とした。
次に、上記で得られた試験片を用いて、周波数10GHz、25℃の条件下で、下記装置及びプログラムを用い、空洞共振器摂動法によって比誘電率(Dk)を測定した。
・測定器:アジレントテクノロジー社製のベクトル型ネットワークアナライザ「N5227A」
・空洞共振器:株式会社関東電子応用開発製の「CP129」(10GHz帯共振器)
・測定プログラム:株式会社関東電子応用開発製の「CPMA-V2」
上記で測定された試験片の比誘電率(Dk)をDk1、予め測定したポリフェニレンエーテル樹脂単体の上記測定条件における比誘電率(Dk)をDk2として、下記式に基づいて、無機充填材単体の比誘電率(Dk)を求めた。
比誘電率(Dk)=(Dk1-Dk2×0.8)/0.2
(Method for measuring relative dielectric constant (Dk) of inorganic filler at 10 GHz)
The dielectric constant (Dk) of the inorganic filler at 10 GHz was measured using the following procedure.
The inorganic filler and polyphenylene ether resin to be measured were mixed in a ratio of 20% by volume of the inorganic filler and 80% by volume of the polyphenylene ether resin. The obtained mixture was press-molded under the conditions of 230° C., 30 minutes, and 3 MPa to form a test piece of dielectric constant (Dk) into a size of 50 mm width x 130 mm length x 0.5 mm thickness.
Next, using the test piece obtained above, the dielectric constant (Dk) was measured by the cavity resonator perturbation method under the conditions of a frequency of 10 GHz and 25° C. using the following apparatus and program.
・Measuring instrument: Vector network analyzer “N5227A” manufactured by Agilent Technologies
・Cavity resonator: "CP129" (10GHz band resonator) manufactured by Kanto Electronics Applied Development Co., Ltd.
・Measurement program: “CPMA-V2” manufactured by Kanto Denshi Applied Development Co., Ltd.
The dielectric constant (Dk) of the test piece measured above is Dk1, and the dielectric constant (Dk) of the polyphenylene ether resin alone measured in advance under the above measurement conditions is Dk2. Based on the following formula, the inorganic filler alone is The relative dielectric constant (Dk) was determined.
Relative permittivity (Dk) = (Dk1-Dk2×0.8)/0.2

[樹脂組成物の製造]
実施例1~3、比較例1~3
表1に記載の各成分を表1に記載の配合組成に従って配合し、必要に応じてトルエンと共に、室温(25℃)で撹拌及び混合して、固形分濃度70質量%の樹脂組成物を製造した。なお、表1の配合組成に記載の数値の単位は質量部であり、溶液の場合は、固形分換算の質量部を意味する。
[Manufacture of resin composition]
Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to 3
The components listed in Table 1 are blended according to the composition listed in Table 1, and stirred and mixed together with toluene as necessary at room temperature (25°C) to produce a resin composition with a solid content concentration of 70% by mass. did. Note that the unit of the numerical value described in the formulation in Table 1 is parts by mass, and in the case of a solution, it means parts by mass in terms of solid content.

[両面銅箔付き樹脂板の製造]
上記で得た樹脂組成物を、厚さ38μmのPETフィルム(帝人株式会社製、商品名:G2-38)に塗布した後、170℃で5分間加熱乾燥することによって、B-ステージ状態の樹脂フィルムを作製した。該樹脂フィルムをPETフィルムから剥離した後、粉砕してB-ステージ状態の樹脂粉末を得た。
上記で得た樹脂粉末を、厚さ0.5mm×長さ50mm×幅35mmのサイズに型抜きしたテフロン(登録商標)シートに投入し、その上下に厚さ18μmのロープロファイル銅箔(三井金属鉱業株式会社製、商品名:3EC-VLP-18)を配置した。なおロープロファイル銅箔は、M面を樹脂粉末側にして配置した。続いて、この加熱加圧成形前の積層物を、温度230℃、圧力2.0MPa、時間120分間の条件で加熱加圧成形し、樹脂粉末を樹脂板に成形しつつ硬化させることによって、両面銅箔付き樹脂板を作製した。得られた両面銅箔付き樹脂板の樹脂板部分の厚さは0.5mmであった。
[Manufacture of resin plate with double-sided copper foil]
The resin composition obtained above was applied to a PET film (manufactured by Teijin Ltd., product name: G2-38) with a thickness of 38 μm, and then heated and dried at 170°C for 5 minutes to form a B-stage resin. A film was produced. After the resin film was peeled from the PET film, it was pulverized to obtain a B-stage resin powder.
The resin powder obtained above was poured into a Teflon (registered trademark) sheet cut into a size of 0.5 mm thick x 50 mm long x 35 mm wide, and 18 μm thick low profile copper foil (Mitsui Kinzoku) was placed above and below it. (manufactured by Mining Co., Ltd., trade name: 3EC-VLP-18) was placed. Note that the low profile copper foil was placed with the M side facing the resin powder side. Subsequently, this laminate before heat and pressure molding is heat and pressure molded under the conditions of temperature 230°C, pressure 2.0 MPa, and time 120 minutes, and by curing the resin powder while molding it into a resin plate, both sides of the laminate are cured. A resin plate with copper foil was produced. The thickness of the resin plate portion of the obtained resin plate with copper foil on both sides was 0.5 mm.

[測定及び評価方法]
上記実施例及び比較例で得られた樹脂組成物及び両面銅箔付き樹脂板を用いて、下記方法に従って各測定及び評価を行った。結果を表1に示す。
[Measurement and evaluation method]
Using the resin compositions and double-sided copper foil-covered resin plates obtained in the above Examples and Comparative Examples, various measurements and evaluations were performed according to the following methods. The results are shown in Table 1.

(1.比誘電率(Dk)の測定)
上記で得られた両面銅箔付き樹脂板の外層銅箔を、銅エッチング液(過硫酸アンモニウムの10質量%溶液、三菱ガス化学株式会社製)に浸漬することにより除去した後、長さ60mm、幅0.5mmに切り出したものを比誘電率(Dk)の試験片とした。当該試験片を用いて、周波数10GHz、25℃の条件下で、下記装置及びプログラムを用い、空洞共振器摂動法によって比誘電率(Dk)を測定した。
・測定器:アジレントテクノロジー社製のベクトル型ネットワークアナライザ「N5227A」
・空洞共振器:株式会社関東電子応用開発製の「CP129」(10GHz帯共振器)
・測定プログラム:株式会社関東電子応用開発製の「CPMA-V2」
(1. Measurement of relative dielectric constant (Dk))
After removing the outer layer copper foil of the resin plate with double-sided copper foil obtained above by immersing it in a copper etching solution (10% by mass solution of ammonium persulfate, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.), A piece cut out to a size of 0.5 mm was used as a test piece for dielectric constant (Dk). Using the test piece, the dielectric constant (Dk) was measured by the cavity resonator perturbation method using the following apparatus and program under conditions of a frequency of 10 GHz and 25°C.
・Measuring instrument: Vector network analyzer “N5227A” manufactured by Agilent Technologies
・Cavity resonator: "CP129" (10GHz band resonator) manufactured by Kanto Electronics Applied Development Co., Ltd.
・Measurement program: “CPMA-V2” manufactured by Kanto Denshi Applied Development Co., Ltd.

(2.溶融粘度の評価)
上記[両面銅箔付き樹脂板の製造]に記載の方法で得た樹脂粉末約0.6gを秤量し、錠剤成形器により直径20mmの円盤状のタブレットに成形した。続いて、このタブレットを測定試料として、レオメータ(レオメトリック社製、商品名:ARES-2K STD-FCO-STD)を用いて、昇温速度3℃/min、荷重0.2N、測定温度範囲50~200℃の条件で粘度を測定し、その最低溶融粘度を溶融粘度とした。
(2. Evaluation of melt viscosity)
Approximately 0.6 g of the resin powder obtained by the method described in [Manufacture of resin plate with double-sided copper foil] was weighed and molded into a disc-shaped tablet with a diameter of 20 mm using a tablet molding machine. Next, using this tablet as a measurement sample, a rheometer (manufactured by Rheometric Co., Ltd., product name: ARES-2K STD-FCO-STD) was used at a heating rate of 3°C/min, a load of 0.2N, and a measurement temperature range of 50°C. The viscosity was measured at a temperature of ~200°C, and the lowest melt viscosity was defined as the melt viscosity.

なお、表1に示す各成分の詳細は、以下のとおりである。
[(A)成分]
・マレイミド樹脂:インダン骨格を有する芳香族ビスマレイミド樹脂
The details of each component shown in Table 1 are as follows.
[(A) Component]
・Maleimide resin: Aromatic bismaleimide resin with an indane skeleton

[(B1)成分]
・チタン酸カルシウム:共立マテリアル株式会社製、商品名「CT-3」、平均粒子径(D50):2μm、10GHzにおける比誘電率(Dk):175
[(B1) component]
- Calcium titanate: manufactured by Kyoritsu Materials Co., Ltd., product name "CT-3", average particle diameter (D 50 ): 2 μm, relative dielectric constant (Dk) at 10 GHz: 175

[(B2)成分]
・球状シリカ1:アミノシランカップリング剤で表面処理した溶融球状シリカ、株式会社アドマテックス製、商品名「SO-C2」、平均粒子径(D50)500nm、分散媒:メチルイソブチルケトン、固形分濃度70質量%、10GHzにおける比誘電率:3.8
・球状シリカ2:アミノシランカップリング剤で表面処理した合成球状シリカ、株式会社アドマテックス製、商品名「YA050C」、平均粒子径(D50)50nm、分散媒:メチルイソブチルケトン、固形分濃度50質量%、10GHzにおける比誘電率:3.8
[(B2) component]
- Spherical silica 1: Fused spherical silica surface-treated with aminosilane coupling agent, manufactured by Admatex Co., Ltd., trade name "SO-C2", average particle diameter (D 50 ) 500 nm, dispersion medium: methyl isobutyl ketone, solid content concentration 70% by mass, relative dielectric constant at 10GHz: 3.8
- Spherical silica 2: Synthetic spherical silica surface-treated with an aminosilane coupling agent, manufactured by Admatex Co., Ltd., product name "YA050C", average particle diameter (D 50 ) 50 nm, dispersion medium: methyl isobutyl ketone, solid content concentration 50 mass %, relative dielectric constant at 10GHz: 3.8

[(C)成分]
・ジアミン化合物:4,4’-[1,3-フェニレンビス(1-メチルエチリデン)]ビスアニリン
[(C) Component]
・Diamine compound: 4,4'-[1,3-phenylenebis(1-methylethylidene)]bisaniline

[(D)成分]
・硬化促進剤:イソシアネートマスクイミダゾール、第一工業製薬株式会社製、商品名「G-8009L」
[(D) Component]
・Curing accelerator: Isocyanate mask imidazole, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., product name "G-8009L"

[(E)成分]
・難燃剤:4,4’-ビフェニレン-テトラキス(2,6-ジメチルフェニル)リン酸エステル
[(E) component]
・Flame retardant: 4,4'-biphenylene-tetrakis(2,6-dimethylphenyl) phosphate ester

[(F)成分]
・カップリング剤:ビニルトリメトキシシラン
[(F) component]
・Coupling agent: Vinyltrimethoxysilane

表1から、本実施形態の実施例1~3の樹脂組成物は、十分に高い比誘電率(Dk)を有しながらも、溶融粘度が低く、流動性に優れていることが分かる。
一方、(B2)成分を配合しなかった比較例1の樹脂組成物は、溶融粘度が高く、流動性に劣っていた。また、(B1)成分を配合しなかった比較例2及び3の樹脂組成物は、比誘電率(Dk)が低かった。
Table 1 shows that the resin compositions of Examples 1 to 3 of the present embodiment have sufficiently high dielectric constants (Dk), low melt viscosity, and excellent fluidity.
On the other hand, the resin composition of Comparative Example 1 in which component (B2) was not blended had high melt viscosity and poor fluidity. Further, the resin compositions of Comparative Examples 2 and 3 in which the component (B1) was not blended had low dielectric constants (Dk).

Claims (15)

(A)熱硬化性樹脂と、(B)無機充填材と、を含有する樹脂組成物であって、
前記(B)無機充填材が、(B1)高誘電率無機充填材及び(B2)球状無機充填材を含有する、樹脂組成物。
A resin composition containing (A) a thermosetting resin and (B) an inorganic filler,
A resin composition, wherein the (B) inorganic filler contains (B1) a high dielectric constant inorganic filler and (B2) a spherical inorganic filler.
前記(A)熱硬化性樹脂が、N-置換マレイミド基を1個以上有するマレイミド化合物及びその誘導体からなる群から選択される1種以上である、請求項1に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the thermosetting resin (A) is one or more selected from the group consisting of maleimide compounds having one or more N-substituted maleimide groups and derivatives thereof. 前記(B1)高誘電率無機充填材が、チタン系無機充填材である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the high dielectric constant inorganic filler (B1) is a titanium-based inorganic filler. 前記(B1)高誘電率無機充填材の平均粒子径(D50)が、0.1~20μmである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the high dielectric constant inorganic filler (B1) has an average particle diameter (D 50 ) of 0.1 to 20 μm. 前記樹脂組成物中における前記(B1)高誘電率無機充填材の含有量が、前記樹脂組成物の固形分全量に対して、10~70体積%である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin according to claim 1 or 2, wherein the content of the high dielectric constant inorganic filler (B1) in the resin composition is 10 to 70% by volume based on the total solid content of the resin composition. Composition. 前記(B2)球状無機充填材が、シリカである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the (B2) spherical inorganic filler is silica. 前記(B2)球状無機充填材の平均粒子径(D50)が、10~1,500nmである、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the (B2) spherical inorganic filler has an average particle diameter (D 50 ) of 10 to 1,500 nm. 前記樹脂組成物中における前記(B2)球状無機充填材の含有量が、前記樹脂組成物の固形分全量に対して、0.1~20体積%である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin according to claim 1 or 2, wherein the content of the (B2) spherical inorganic filler in the resin composition is 0.1 to 20% by volume based on the total solid content of the resin composition. Composition. アンテナモジュール用である、請求項1又は2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2, which is used for an antenna module. 請求項1又は2に記載の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含有するプリプレグ。 A prepreg containing the resin composition according to claim 1 or 2 or a semi-cured product of the resin composition. 請求項1又は2に記載の樹脂組成物の硬化物と、金属箔と、を有する積層板。 A laminate comprising a cured product of the resin composition according to claim 1 or 2 and a metal foil. 請求項1又は2に記載の樹脂組成物又は前記樹脂組成物の半硬化物を含有する樹脂フィルム。 A resin film containing the resin composition according to claim 1 or 2 or a semi-cured product of the resin composition. 請求項1又は2に記載の樹脂組成物の硬化物を有するプリント配線板。 A printed wiring board comprising a cured product of the resin composition according to claim 1 or 2. 請求項13に記載のプリント配線板を有するアンテナ装置。 An antenna device comprising the printed wiring board according to claim 13. 請求項14に記載のアンテナ装置と、給電回路と、を有するアンテナモジュール。 An antenna module comprising the antenna device according to claim 14 and a power feeding circuit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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