JP2023162495A - Screen printing device and screen printing method - Google Patents

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Toshiyuki Murakami
聖弥 黒田
Seiya Kuroda
拓生 峯
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Abstract

To provide a screen printing device preventing such a situation as to make paste scraped by a mask cleaning operation adhere to a mask in the next cleaning operation: and to provide a screen printing method.SOLUTION: A screen printing device 1 performs the following operations in this order: a carry-in operation for carrying in a substrate KB and making a substrate holding part 12 hold the substrate; a contact operation for positioning the substrate KB held by the substrate holding part 12 at a mask 13 and making the substrate come in contact with the lower surface of the mask 13; a printing operation for filling paste Pst into an opening 13K of the mask 13 with which the substrate KB comes in contact, by a printing head 18; a snap-off operation for separating the substrate KB on which the paste Pst is printed from the mask 13; and a carry-out operation for carrying out the substrate KB separated from the mask 13. A mask cleaning operation is executed until the next contact operation is started after finishing the snap-off operation, and a blade cleaning operation is performed until the next snap-off operation is finished after finishing the mask cleaning operation.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法に関する。 The present invention relates to a screen printing apparatus and a screen printing method for printing paste on a substrate using a mask in which predetermined openings are formed.

従来、所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷装置が知られている。このようなスクリーン印刷装置では、スキージによってマスクの開口にペーストを充填した後に基板をマスクから分離させる動作(いわゆる版離れ)を行うが、この版離れがなされた後のマスクの下面には開口内から流れてきたペーストが付着しているので、そのまま次の印刷作業を実行すると、新たな基板の上面にペーストが付着して不良基板製造の原因となり得る。このため下記の特許文献1には、マスクの下面に付着した状態となっているペーストを除去するクリーニング装置を備えたスクリーン印刷装置が開示されている。このクリーニング装置は、マスクの下面をマスクに沿ったクリーニング方向に摺動することによりマスクの下面に付着したペーストを掻き取る複数の掻取り部材と、これら複数の掻取り部材を保持する保持体を備えている。複数の掻取り部材は、クリーニング方向に対して直列に並んで保持体に保持されている。 2. Description of the Related Art Screen printing apparatuses that print paste on a substrate using a mask in which predetermined openings are formed are conventionally known. In such screen printing equipment, after filling paste into the openings of the mask using a squeegee, the substrate is separated from the mask (so-called plate separation). If the next printing operation is carried out as it is, the paste will adhere to the top surface of the new board, which may lead to the manufacture of a defective board. For this reason, Patent Document 1 listed below discloses a screen printing apparatus that is equipped with a cleaning device that removes the paste that has adhered to the lower surface of the mask. This cleaning device includes a plurality of scraping members that scrape off paste attached to the bottom surface of the mask by sliding the bottom surface of the mask in a cleaning direction along the mask, and a holder that holds the plurality of scraping members. We are prepared. The plurality of scraping members are held by the holder in series with the cleaning direction.

特開2016-196101号公報Japanese Patent Application Publication No. 2016-196101

しかしながら、マスクを清掃した掻取り部材にはマスクから掻き取ったペーストが付着しており、そのまま次のマスクの清掃作業を行うと、掻取り部材に付着していたペーストが反対にマスクに付着してしまうおそれがあった。 However, the paste that was scraped off from the mask is still attached to the scraping member used to clean the mask, and if you continue cleaning the next mask, the paste that was attached to the scraping member will instead adhere to the mask. There was a risk that the

そこで本発明は、マスクの清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスクに付着させてしまう事態を防止することができるスクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a screen printing device and a screen printing method that can prevent the paste scraped off during a mask cleaning operation from adhering to the mask during the next cleaning operation.

本発明のスクリーン印刷装置は、所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷装置であって、搬入された基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部を移動させる基板保持部移動機構と、前記基板が接触された前記マスクの開口にペーストを充填して前記基板にペーストを印刷する印刷ヘッドと、これからペーストが印刷される基板を搬入し、前記印刷ヘッドによりペーストが印刷された後、前記基板保持部移動機構によって前記マスクから分離された前記基板を搬出する基板搬送部と、前記印刷ヘッドによるペーストの充填により前記マスクの裏面に付着したペーストをブレードによって掻き取るマスク清掃作業を行うマスク清掃手段と、前記ブレードが掻き取ったペーストを拭き取るブレード清掃作業を行うブレード清掃手段と、を備え、前記基板搬送部によって前記基板を搬入して前記基板保持部に保持させる搬入作業、前記基板保持部が保持した前記基板を前記マスクに位置合わせし、前記基板保持部移動機構によって前記マスクの下面に接触させる接触作業、前記基板が接触された前記マスクの開口に前記印刷ヘッドによって前記ペーストを充填する印刷作業、前記ペーストが印刷された基板を前記基板保持部移動機構によって前記マスクから分離させる版離れ作業、前記マスクから分離された前記基板を前記基板搬送部によって搬出する搬出作業をこの順で行うようになっており、前記版離れ作業が終了した後、次の接触作業が開始されるまでの間に前記マスク清掃作業が実行され、前記ブレード清掃作業は少なくとも前記印刷作業と重なる時間に行われる。 The screen printing apparatus of the present invention is a screen printing apparatus that prints paste on a substrate using a mask in which a predetermined opening is formed, and the screen printing apparatus includes a substrate holding section that holds a loaded substrate, and a substrate holding section that moves the substrate holding section. a printing head that fills the opening of the mask with which the substrate is in contact with paste and prints the paste on the substrate; a substrate that is to be printed with paste is carried in, and the substrate is moved by the printing head. After the paste has been printed, a substrate transport unit carries out the substrate separated from the mask by the substrate holder moving mechanism, and a blade scrapes the paste that has adhered to the back side of the mask due to paste filling by the printing head. a mask cleaning means for performing a mask cleaning operation to remove the paste; and a blade cleaning means for performing a blade cleaning operation for wiping off the paste scraped by the blade; the substrate is carried in by the substrate transport section and held in the substrate holding section. a carrying-in operation in which the substrate held by the substrate holder is aligned with the mask, and a contact operation in which the substrate held by the substrate holder is brought into contact with the lower surface of the mask by the substrate holder moving mechanism; A printing operation in which the paste is filled by a printing head, a plate separation operation in which the substrate on which the paste is printed is separated from the mask by the substrate holding section moving mechanism, and the substrate separated from the mask is carried out by the substrate transport section. The unloading work is performed in this order, and the mask cleaning work is performed after the plate separation work is completed and before the next contact work is started, and the blade cleaning work is performed at least in the above-mentioned manner. This is done at a time that coincides with printing work.

本発明のスクリーン印刷方法は、所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷方法であって、これからペーストが印刷される基板を搬入する基板搬入工程と、前記基板搬入工程で搬入した基板を前記マスクに位置合わせして前記マスクの下面に接触させる接触工程と、前記接触工程で前記基板を接触させた前記マスクの開口にペーストを充填して前記基板にペーストを印刷する印刷工程と、前記印刷工程の後、前記基板を前記マスクから分離させる版離れ工程と、前記版離れ工程で前記マスクから分離された前記基板を搬出する基板搬出工程と、前記印刷工程で前記マスクの下面に付着したペーストを前記ブレードによって掻き取るマスク清掃工程と、前記マスク清掃工程で前記ブレードが掻き取ったペーストを拭き取るブレード清掃工程と、を含み、前記版離れ工程が終了した後、次の接触工程が開始されるまでの間に前記マスク清掃工程を実行し、前記ブレード清掃工程は少なくとも前記印刷工程と重なる時間に行われる。 The screen printing method of the present invention is a screen printing method in which paste is printed on a substrate using a mask in which a predetermined opening is formed, and includes a substrate carrying step of carrying in a substrate on which paste is to be printed, and a step of carrying in the substrate. a contact step in which the substrate carried in the process is aligned with the mask and brought into contact with the lower surface of the mask; and in the contact step, the opening of the mask that the substrate was brought into contact with is filled with paste, and the paste is printed on the substrate. a printing step of separating the substrate from the mask after the printing step; a substrate carrying-out step of carrying out the substrate separated from the mask in the printing step; It includes a mask cleaning step in which the paste adhering to the lower surface of the mask is scraped off by the blade, and a blade cleaning step in which the paste scraped off by the blade in the mask cleaning step is wiped off. The mask cleaning process is performed before the contact process starts, and the blade cleaning process is performed at least at a time that overlaps with the printing process.

本発明によれば、マスクの清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスクに付着させてしまう事態をすることが防止できる。 According to the present invention, it is possible to prevent paste scraped off during a mask cleaning operation from adhering to the mask during the next cleaning operation.

本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の平面図A plan view of a screen printing device according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の要部側面図A side view of main parts of a screen printing device according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク保持部とブレード清掃ユニットの平面図A plan view of a mask holding section and a blade cleaning unit included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク保持部とブレード清掃ユニットの平面図A plan view of a mask holding section and a blade cleaning unit included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention. (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の動作説明図(a) (b) Diagrams explaining the operation of the screen printing device in one embodiment of the present invention (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の動作説明図(a) (b) Diagrams explaining the operation of the screen printing device in one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク清掃ユニットの斜視図A perspective view of a mask cleaning unit included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク清掃ユニットの側面図A side view of a mask cleaning unit included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置の動作説明図An explanatory diagram of the operation of a screen printing device according to an embodiment of the present invention (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク清掃ユニットの動作説明図(a) (b) Operation explanatory diagrams of a mask cleaning unit included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク清掃ユニットの断面図A sectional view of a mask cleaning unit included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部とブレード清掃ユニット保持部の一部を示す斜視図A perspective view showing a part of a blade cleaning unit and a part of a blade cleaning unit holding part included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部とブレード清掃ユニット保持部の一部を示す斜視図A perspective view showing a part of a blade cleaning unit and a part of a blade cleaning unit holding part included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部をマスク清掃ユニットの一部とともに示す平面図A plan view showing a part of a blade cleaning unit included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention, together with a part of a mask cleaning unit. 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部の側面図A side view of a part of a blade cleaning unit included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備える接触部分変更機構の一部断面側面図A partially sectional side view of a contact portion changing mechanism included in a screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention (a)(b)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備える接触部分変更機構の動作説明図(a) (b) An explanatory diagram of the operation of the contact portion changing mechanism provided in the screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention (a)(b)(c)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備える接触部分変更機構の動作説明図(a) (b) (c) An explanatory diagram of the operation of the contact portion changing mechanism provided in the screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備えるスキージ清掃ユニットの一部をマスク清掃ユニットのブレードの一部とともに示す(a)側面図(b)平面図(a) Side view and (b) Plan view showing a part of the squeegee cleaning unit included in the screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention together with part of the blade of the mask cleaning unit. (a)(b)(c)本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が備える拭取り材の拭取り面に形成されるペーストの跡の一例を示す模式的説明図(a) (b) (c) Schematic explanatory diagrams showing examples of paste marks formed on the wiping surface of the wiping material provided in the screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置によるスクリーン印刷方法の工程図Process diagram of a screen printing method using a screen printing device in an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が版離れを行った後にマスクの開口付近の状態をカメラによって撮像している状態を示す図A diagram illustrating a state in which the screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention images the state near the opening of the mask with a camera after the plate separation is performed. 本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置が版離れを行った後にマスクの開口付近の状態をカメラによって撮像して得られた画像の一例を示す図A diagram showing an example of an image obtained by imaging the state near the opening of the mask with a camera after the screen printing apparatus according to an embodiment of the present invention performs plate separation. 本発明の一実施の形態の第1変形例におけるスクリーン印刷装置が備えるブレード清掃ユニットの一部をマスク清掃ユニットの一部とともに示す平面図A plan view showing a part of a blade cleaning unit included in a screen printing apparatus according to a first modification of an embodiment of the present invention, together with a part of a mask cleaning unit. 本発明の一実施の形態の第2変形例におけるスクリーン印刷装置が備えるマスク保持部とブレード清掃ユニット保持部の平面図A plan view of a mask holding section and a blade cleaning unit holding section included in a screen printing apparatus in a second modified example of an embodiment of the present invention.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図1および図2は本発明の一実施の形態におけるスクリーン印刷装置1を示している。スクリーン印刷装置1は、基板KBに部品を装着して実装基板を生産する部品実装ライン(図示せず)の一部を構成する装置であり、スクリーン印刷装置1の外部より送られてきた基板KBを搬入して位置決めし、基板KBの上面に設けられた電極DK(図2)に半田等のペーストPstを印刷して外部に搬出する一連の動作から成る作業(スクリーン印刷動作)を繰り返し実行する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 show a screen printing apparatus 1 in one embodiment of the present invention. The screen printing device 1 is a device that constitutes a part of a component mounting line (not shown) that produces mounted boards by mounting components on a board KB, and prints a board KB sent from outside the screen printing device 1. A process (screen printing operation) consisting of a series of operations of carrying in and positioning the board, printing paste Pst such as solder on the electrode DK (FIG. 2) provided on the upper surface of the board KB, and carrying it out to the outside is repeatedly performed. .

本実施の形態では説明の便宜上、基板KBの搬送(搬入、搬出)方向をX方向(作業者OPから見た左右方向)、X方向と直交する水平方向をY方向(作業者OPから見た前後方向)、上下方向をZ方向とする。また、Y方向(前後方向)のうち作業者OPから見た奥側方向(図1における紙面上側)を前方、作業者OPから見た手前側方向(図1における紙面下側)を後方とする。 In this embodiment, for convenience of explanation, the transport (loading and unloading) direction of the board KB is the X direction (left and right direction as seen from the worker OP), and the horizontal direction perpendicular to the X direction is the Y direction (as seen from the worker OP). (back-and-forth direction), and the up-down direction is the Z direction. In addition, in the Y direction (back and forth direction), the back direction as seen from the worker OP (upper side of the paper in FIG. 1) is the front, and the near side direction (lower side of the paper in FIG. 1) as seen from the worker OP is the rear. .

図1および図2において、スクリーン印刷装置1は基板搬送部11、基板保持部12、マスク13、マスク保持部14、カメラ15、カメラ移動機構16、基板保持部移動機構17、印刷ヘッド18、印刷ヘッド移動機構19を備えている。またスクリーン印刷装置1は更に、マスク清掃ユニット21、マスク清掃ユニット移動機構22、ブレード清掃ユニット23およびブレード清掃ユニット保持部24を備えている。 1 and 2, the screen printing apparatus 1 includes a substrate transport section 11, a substrate holding section 12, a mask 13, a mask holding section 14, a camera 15, a camera moving mechanism 16, a substrate holding section moving mechanism 17, a printing head 18, a printing A head moving mechanism 19 is provided. The screen printing apparatus 1 further includes a mask cleaning unit 21, a mask cleaning unit moving mechanism 22, a blade cleaning unit 23, and a blade cleaning unit holding section 24.

図1において、基板搬送部11は、上流側搬送部11Aと下流側搬送部11Bを含む。上流側搬送部11Aと下流側搬送部11Bは、基板保持部12からみてX方向の両側に離れた位置に並んで配置されている。上流側搬送部11Aと下流側搬送部11Bは、Y方向に並んで配置されてそれぞれがX方向に延びた一対のコンベアCから構成されており、コンベアCを駆動させて基板KBをX方向に搬送する。基板搬送部11は、ペーストPstが印刷される前の基板KB(これからペーストPstが印刷される基板KB)を基板保持部12に搬入する動作と、ペーストPstを印刷した基板KBを基板保持部12から搬出する作業を行う。 In FIG. 1, the substrate transport section 11 includes an upstream transport section 11A and a downstream transport section 11B. The upstream transport section 11A and the downstream transport section 11B are arranged side by side at positions separated from each other on both sides in the X direction when viewed from the substrate holding section 12. The upstream conveyance section 11A and the downstream conveyance section 11B are composed of a pair of conveyors C arranged side by side in the Y direction and each extending in the X direction, and drive the conveyors C to transfer the substrates KB in the X direction. transport. The substrate transport unit 11 carries out an operation of transporting the board KB before the paste Pst is printed (a board KB on which the paste Pst will be printed) to the board holding unit 12, and transporting the board KB on which the paste Pst is printed to the board holding unit 12. Carry out the work of transporting the equipment.

基板保持部12は、基板搬送部11によって搬入された基板KBを保持する機能を有する。基板保持部12は基板KBを水平姿勢かつ電極DKが上方を向く姿勢で保持する(図2)。なお、基板保持部12は基板KBをX方向に移動させる基板移動機構(図示せず)を有しており、この基板移動機構によって上流側搬送部11Aから搬入された基板KBを保持位置まで移動し、保持位置から基板KBを下流側搬送部11Bに排出する。 The substrate holding section 12 has a function of holding the substrate KB carried in by the substrate transport section 11. The substrate holder 12 holds the substrate KB in a horizontal position with the electrode DK facing upward (FIG. 2). Note that the substrate holding section 12 has a substrate moving mechanism (not shown) that moves the substrate KB in the X direction, and this substrate moving mechanism moves the substrate KB carried in from the upstream transport section 11A to the holding position. Then, the substrate KB is discharged from the holding position to the downstream transport section 11B.

図1において、マスク13は金属製の矩形の板状部材から成る。マスク13の四辺は矩形の枠体から成るマスク枠13Wによって支持されている。マスク13の中央部には基板KBの電極DKの配置に応じた配置で設けられた複数の開口13Kが形成されている。 In FIG. 1, the mask 13 is made of a rectangular plate-like member made of metal. The four sides of the mask 13 are supported by a mask frame 13W consisting of a rectangular frame. A plurality of openings 13K are formed in the center of the mask 13 and are arranged in accordance with the arrangement of the electrodes DK on the substrate KB.

図1、図3および図4において、マスク保持部14は、X方向に並んで配置されてそれぞれがY方向に延びた2つのマスク支持ガイド31と、2つのマスク支持ガイド31に設置された4つのマスク固定部32を備えている。図1に示すように、2つのマスク支持ガイド31にはマスク枠13WのうちY方向に延びた2辺が載置され、これによりマスク13は水平姿勢に支持される。 1, 3, and 4, the mask holding section 14 includes two mask support guides 31 arranged in line in the X direction and each extending in the Y direction, and four mask support guides 31 installed in the two mask support guides 31. There are two mask fixing parts 32. As shown in FIG. 1, two sides of the mask frame 13W extending in the Y direction are placed on the two mask support guides 31, thereby supporting the mask 13 in a horizontal position.

図1において、4つのマスク固定部32は2つのマスク支持ガイド31それぞれに2つずつ、Y方向に並んで配置されている。各マスク固定部32は例えば、図示しないシリンダによってマスク枠13Wの一部をマスク支持ガイド31に上方から押し付けてマスク支持ガイド31に固定する構成となっている。各マスク固定部32は、マスク13のサイズに応じてその位置を変えることができるように、マスク支持ガイド31上でY方向に移動させることが可能である。 In FIG. 1, four mask fixing parts 32 are arranged, two each on each of the two mask support guides 31, in line in the Y direction. Each mask fixing part 32 is configured to press a part of the mask frame 13W against the mask support guide 31 from above using a cylinder (not shown) and fix it to the mask support guide 31, for example. Each mask fixing part 32 can be moved in the Y direction on the mask support guide 31 so that its position can be changed according to the size of the mask 13.

図2において、カメラ15は、基板保持部12に保持された基板KBとマスク13との間の高さに位置して設けられている。カメラ15は、上方と下方の双方の映像を同時にまたは切り替えて取得することが可能ある。カメラ15によって撮像されたマスク側マークと基板側マークの画像はスクリーン印刷装置1が備える制御部(図示せず)において処理され、マスク13と基板KBとの間の相対位置が算出される。 In FIG. 2, the camera 15 is provided at a height between the substrate KB held by the substrate holder 12 and the mask 13. The camera 15 can acquire both upper and lower images at the same time or by switching between them. Images of the mask-side mark and the substrate-side mark captured by the camera 15 are processed in a control unit (not shown) included in the screen printing apparatus 1, and the relative position between the mask 13 and the substrate KB is calculated.

図1において、カメラ移動機構16は、マスク保持部14の外側をY方向に延びたYガイド16aと、X方向に延びたXガイド16bを備えている。Xガイド16bは一端がYガイド16aに取り付けられており、Yガイド16aに沿って移動自在である。カメラ15はXガイド16bに取り付けられており、Xガイド16bに沿ってX方向に移動自在である。 In FIG. 1, the camera movement mechanism 16 includes a Y guide 16a extending in the Y direction outside the mask holding part 14, and an X guide 16b extending in the X direction. One end of the X guide 16b is attached to the Y guide 16a, and the X guide 16b is movable along the Y guide 16a. The camera 15 is attached to the X guide 16b and is movable in the X direction along the X guide 16b.

カメラ移動機構16は、Yガイド16aに対するXガイド16bのY方向への移動動作(図2中に示す矢印A)と、Xガイド16bに対するカメラ15のX方向への移動動作とにより、マスク13の下方領域でカメラ15を水平面内(XY面内)に移動させる。これによりカメラ15は水平移動で基板KBとマスク13との間の空間に進出し、マスク13に設けられた図示しないマーク(マスク側マーク)と基板KBに設けられた図示しないマーク(基板側マーク)の双方を撮像することが可能である(図5(a))。 The camera moving mechanism 16 moves the mask 13 by moving the X guide 16b in the Y direction relative to the Y guide 16a (arrow A shown in FIG. 2) and moving the camera 15 in the X direction relative to the X guide 16b. The camera 15 is moved in the horizontal plane (in the XY plane) in the lower region. As a result, the camera 15 moves horizontally into the space between the substrate KB and the mask 13, and a mark (not shown) provided on the mask 13 (mask side mark) and a mark (not shown) provided on the substrate KB (substrate side mark) ) can be imaged (FIG. 5(a)).

図2において、基板保持部移動機構17は、基板KBを保持した基板保持部12をX方向、Y方向、Z方向およびXY面内の回転方向(θ方向)に移動させる。基板保持部移動機構17は、制御部で求められたマスク13と基板KBとの間の相対位置に基づいて基板保持部12をX、Yおよびθ方向に移動させ、マスク13に対して基板KBを位置合わせした状態で基板保持部12を上昇させる。これにより基板保持部12は、基板KBを上昇させ、マスク13の下面に接触させる(図5(b))。 In FIG. 2, the substrate holder moving mechanism 17 moves the substrate holder 12 holding the substrate KB in the X direction, the Y direction, the Z direction, and the rotational direction (θ direction) within the XY plane. The substrate holder moving mechanism 17 moves the substrate holder 12 in the X, Y, and θ directions based on the relative position between the mask 13 and the substrate KB determined by the control unit, and moves the substrate KB with respect to the mask 13. The substrate holder 12 is raised with the substrate holder 12 aligned. As a result, the substrate holder 12 raises the substrate KB and brings it into contact with the lower surface of the mask 13 (FIG. 5(b)).

図1および図2において、印刷ヘッド18は、X方向に延びたヘッドベース18aと2つのスキージ18bを備えている。スキージ18bはX方向に延びた板状の部材から成る。2つのスキージ18bはY方向に対向し、かつ、下方に向かって間隔が広がるように配置されている(図2)。2つのスキージ18bはヘッドベース18aに対して独立して昇降させることができる。 1 and 2, the print head 18 includes a head base 18a extending in the X direction and two squeegees 18b. The squeegee 18b is made of a plate-shaped member extending in the X direction. The two squeegees 18b are arranged to face each other in the Y direction, and the distance between them increases toward the bottom (FIG. 2). The two squeegees 18b can be raised and lowered independently with respect to the head base 18a.

図2において、印刷ヘッド移動機構19は、一方のスキージ18bの下端をマスク13の上面に当接させた印刷ヘッド18をY方向に移動させる(図5(b)→図6(a))。これにより印刷ヘッド18は、スキージ18bによりマスク13上のペーストPstを掻き寄せて、マスク13の開口13KにペーストPstを充填し、基板KBの電極DKにペーストPstを印刷(塗布)する。 In FIG. 2, the print head moving mechanism 19 moves the print head 18 with the lower end of one squeegee 18b in contact with the upper surface of the mask 13 in the Y direction (FIG. 5(b)→FIG. 6(a)). Thereby, the print head 18 scrapes up the paste Pst on the mask 13 with the squeegee 18b, fills the opening 13K of the mask 13 with the paste Pst, and prints (applies) the paste Pst on the electrode DK of the substrate KB.

マスク13の開口13KにペーストPstが充填されたら、基板保持部移動機構17は、基板保持部12を下降させて基板KBをマスク13から分離(版離れ)させる(図6(b)中に示す矢印B)。基板KBがマスク13から版離れしたら、基板搬送部11は基板KBを外部に排出する。 When the opening 13K of the mask 13 is filled with the paste Pst, the substrate holder moving mechanism 17 lowers the substrate holder 12 to separate the substrate KB from the mask 13 (separate the plate) (as shown in FIG. 6(b)). Arrow B). When the substrate KB is separated from the mask 13, the substrate transport section 11 discharges the substrate KB to the outside.

このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1は、搬入された基板KBを保持する基板保持部12と、基板保持部12を移動させる基板保持部移動機構17と、基板KBが接触されたマスク13の開口13KにペーストPstを充填して基板KBにペーストPstを印刷する印刷ヘッド18と、これからペーストが印刷される基板KBを搬入し、印刷ヘッド18によりペーストPstが印刷された後、基板保持部移動機構17によってマスク13から分離された基板KBを搬出する基板搬送部11を備えた構成となっている。 As described above, the screen printing apparatus 1 according to the present embodiment includes a substrate holding section 12 that holds the loaded substrate KB, a substrate holding section moving mechanism 17 that moves the substrate holding section 12, and a mask that is in contact with the substrate KB. The print head 18 fills the opening 13K of the paste Pst in the opening 13K of the paste Pst and prints the paste Pst on the substrate KB, and the substrate KB on which the paste is to be printed is carried in, and after the paste Pst is printed by the print head 18, the substrate is held. The structure includes a substrate transport section 11 that carries out the substrate KB separated from the mask 13 by the section movement mechanism 17.

マスク清掃ユニット21は版離れがなされた後のマスク13の下面に付着しているペーストPstを掻き取るマスク清掃手段として機能を有するものである。マスク清掃ユニット21は、図7に示すように、ブレード保持体41と、ブレード保持体41に保持された複数(ここでは4つ)のブレード42を備えている。ブレード保持体41は全体としてX方向に延びて上方に開口した枠体41aと、枠体41aのX方向の両端部に設けられたマスク受け部41bを備えている。複数のブレード42はX方向に延びた板状の部材から成り、Y方向に並行に並んだ状態で枠体41a内に保持されている。本実施の形態ではブレード42は樹脂から製造されており、適度な可撓性を有した部材となっている。 The mask cleaning unit 21 functions as a mask cleaning means for scraping off the paste Pst adhering to the lower surface of the mask 13 after the plate has been separated. As shown in FIG. 7, the mask cleaning unit 21 includes a blade holder 41 and a plurality of (here, four) blades 42 held by the blade holder 41. The blade holder 41 as a whole includes a frame 41a extending in the X direction and opening upward, and mask receiving parts 41b provided at both ends of the frame 41a in the X direction. The plurality of blades 42 are made of plate-shaped members extending in the X direction, and are held in the frame 41a in a state where they are lined up in parallel in the Y direction. In this embodiment, the blade 42 is made of resin, and is a member having appropriate flexibility.

2つのマスク受け部41bの上面であるマスク当接面41T(図7)は水平面と平行であり、枠体41aの上面よりも相対的に高い位置に位置している(図8)。ブレード42は垂直姿勢(XZ面に平行な姿勢)から上縁(エッジ42E)を前方に傾けた傾斜姿勢で枠体41aに保持されており(図7および図8)、この状態で各ブレード42のエッジ42Eは、2つのマスク受け部41bの上面(マスク当接面41T)よりも上方に位置した状態となっている(図8)。 Mask contact surfaces 41T (FIG. 7), which are the upper surfaces of the two mask receiving parts 41b, are parallel to the horizontal plane and are located at a relatively higher position than the upper surface of the frame body 41a (FIG. 8). The blades 42 are held by the frame 41a in an inclined position with the upper edge (edge 42E) tilted forward from a vertical position (parallel to the XZ plane) (FIGS. 7 and 8), and in this state, each blade 42 The edge 42E is positioned above the upper surfaces (mask contact surfaces 41T) of the two mask receiving portions 41b (FIG. 8).

マスク清掃ユニット移動機構22は、マスク清掃ユニット21をマスク13の下面に沿った水平方向(Y方向)に移動させるマスク清掃手段移動部として機能するものであり、図1に示すように、マスク保持部14のX方向の外側をY方向に延びた移動ガイド22aと、X方向に延びた移動ベース22bを備えている。移動ベース22bは移動ガイド22aによって支持された状態で、Y方向に移動自在になっている。 The mask cleaning unit moving mechanism 22 functions as a mask cleaning means moving section that moves the mask cleaning unit 21 in the horizontal direction (Y direction) along the lower surface of the mask 13, and as shown in FIG. It includes a moving guide 22a extending in the Y direction from the outside of the portion 14 in the X direction, and a moving base 22b extending in the X direction. The moving base 22b is supported by the moving guide 22a and is movable in the Y direction.

移動ベース22bの上部にはマスク清掃ユニット21(詳細にはブレード保持体41の枠体41a)が取り付けられている。移動ベース22bは枠体41aの内部空間と通じる空間を有しており、枠体41aの内部空間内の空気は移動ベース22bに繋がる吸引装置22S(図2)によって吸引することができる。 The mask cleaning unit 21 (specifically, the frame 41a of the blade holder 41) is attached to the upper part of the moving base 22b. The movable base 22b has a space communicating with the internal space of the frame 41a, and the air in the internal space of the frame 41a can be sucked by a suction device 22S (FIG. 2) connected to the movable base 22b.

移動ベース22b(すなわちマスク清掃ユニット21)は、マスク保持部14におけるY方向の外側(詳細には後方であり作業者OP)の位置を待機位置としている。マスク清掃ユニット21によってマスク13の下面に付着したペーストPstを掻き取る清掃作業(マスク清掃作業)を行う場合には、マスク清掃ユニット移動機構22によって、待機位置に位置したマスク清掃ユニット21を前方に移動させた後、向きを反転させてマスク清掃ユニット21を後方に移動させる(図9中に示す矢印C)。 The movable base 22b (that is, the mask cleaning unit 21) has a standby position located outside the mask holding section 14 in the Y direction (specifically, at the rear and toward the operator OP). When performing cleaning work (mask cleaning work) in which the mask cleaning unit 21 scrapes off the paste Pst attached to the lower surface of the mask 13, the mask cleaning unit moving mechanism 22 moves the mask cleaning unit 21 located at the standby position forward. After moving, the direction is reversed and the mask cleaning unit 21 is moved backward (arrow C shown in FIG. 9).

マスク清掃ユニット21が後方に移動されるとき(図10(a)→図10(b))、マスク清掃ユニット21は4つのブレード42それぞれのエッジ42Eをマスク13の下面に当接させるとともに、一対のマスク受け部41bそれぞれの上面(マスク当接面41T)をマスク13の下面に当接させる。このためマスク清掃ユニット21がマスク清掃ユニット移動機構22によって後方に移動されると、4つのブレード42はそれぞれマスク13の下面を摺動し、マスク13の下面に付着しているペーストPstをエッジ42Eにおいて掻き取る。各ブレード42はマスク13の下面に当接している間、進行方向とは反対の方向(ここでは前方)に弾性的に撓むように変形することによって、マスク13の下面にエッジ42Eを密着させた状態を維持する(図10(a)→図10(b))。 When the mask cleaning unit 21 is moved backward (FIG. 10(a) → FIG. 10(b)), the mask cleaning unit 21 brings the edges 42E of each of the four blades 42 into contact with the lower surface of the mask 13, and The upper surface (mask contact surface 41T) of each of the mask receiving parts 41b is brought into contact with the lower surface of the mask 13. Therefore, when the mask cleaning unit 21 is moved backward by the mask cleaning unit moving mechanism 22, the four blades 42 slide on the lower surface of the mask 13, and remove the paste Pst attached to the lower surface of the mask 13 from the edge 42E. Scrape it off. While each blade 42 is in contact with the lower surface of the mask 13, it is deformed so as to be elastically bent in the direction opposite to the direction of movement (in this case, forward), thereby keeping the edge 42E in close contact with the lower surface of the mask 13. (Fig. 10(a) → Fig. 10(b)).

上記ようにブレード42がマスク13の下面に当接している間、一対のマスク受け部41bは、ブレード42が過剰な力でマスク13に押し当てられないようにするためのストッパとして機能する。これによりブレード42の弾性変形は一定範囲内に保たれ、ブレード42の摩耗の進行が想定の範囲内にコントロールされる。 While the blade 42 is in contact with the lower surface of the mask 13 as described above, the pair of mask receiving parts 41b function as a stopper to prevent the blade 42 from being pressed against the mask 13 with excessive force. As a result, the elastic deformation of the blade 42 is maintained within a certain range, and the progress of wear of the blade 42 is controlled within an expected range.

マスク清掃ユニット21がブレード42によってマスク13の下面に付着したペーストPstを掻き取っている間(図10(a)→図10(b))、ブレード保持体41の枠体41a内の空気は吸引装置22Sによって吸引される。これによりマスク13の開口13K内に付着しているペーストPstが隣接するブレード42の間から吸い出され(図10(a),(b)中に示す矢印D)、マスク13に付着したペーストPstが取り除かれる。 While the mask cleaning unit 21 scrapes off the paste Pst attached to the lower surface of the mask 13 with the blade 42 (FIG. 10(a) → FIG. 10(b)), the air inside the frame 41a of the blade holder 41 is sucked. It is sucked by the device 22S. As a result, the paste Pst attached to the opening 13K of the mask 13 is sucked out from between the adjacent blades 42 (arrow D shown in FIGS. 10(a) and 10(b)), and the paste Pst attached to the mask 13 is removed.

このように本実施の形態のマスク清掃ユニット21は、ブレード42の上縁(エッジ42E)をマスク13の下面に当接させた状態でマスク13の下方をマスク13と平行な水平方向(Y軸方向)に移動することによって、マスク13の下面に付着したペーストPstを掻き取る構成となっている。 In this way, the mask cleaning unit 21 of the present embodiment moves the lower part of the mask 13 in the horizontal direction parallel to the mask 13 (Y-axis direction), the paste Pst attached to the lower surface of the mask 13 is scraped off.

マスク清掃ユニット21によるマスク清掃作業が終了したら、マスク清掃ユニット移動機構22はマスク清掃ユニット21を待機位置に復帰させる。待機位置に復帰したマスク清掃ユニット21は各ブレード42のエッジ42Eと一対のマスク受け部41bをマスク13から離間させる。 When the mask cleaning work by the mask cleaning unit 21 is completed, the mask cleaning unit moving mechanism 22 returns the mask cleaning unit 21 to the standby position. The mask cleaning unit 21 that has returned to the standby position separates the edges 42E of each blade 42 and the pair of mask receiving portions 41b from the mask 13.

図11は、マスク清掃作業の終了後、ブレード42のエッジ42Eがマスク13の下面から離間した状態のマスク清掃ユニット21を示している。各ブレード42は、マスク13から離間した状態では弾性的に変形していない元の形状に復帰する。そして各ブレード42のエッジ42Eは、2つのマスク受け部41bの上面(マスク当接面41T)よりも上方に位置した状態となる。 FIG. 11 shows the mask cleaning unit 21 in a state where the edge 42E of the blade 42 is separated from the lower surface of the mask 13 after the mask cleaning operation is completed. When each blade 42 is separated from the mask 13, it elastically returns to its original undeformed shape. Then, the edge 42E of each blade 42 is positioned above the upper surfaces (mask contact surfaces 41T) of the two mask receiving portions 41b.

ブレード清掃ユニット23は、マスク清掃作業においてマスク清掃ユニット21がブレード42によりマスク13の下面から掻き取ったペーストPstを拭き取って清掃するブレード清掃手段として機能する。このためブレード清掃ユニット23は、図3および図4に示すように、マスク清掃ユニット21の待機位置に相当する位置、すなわち、平面視におけるマスク13の外側(マスク保持部14におけるマスク13が設置される領域の後方)の位置に位置する。 The blade cleaning unit 23 functions as a blade cleaning means that wipes and cleans the paste Pst scraped from the lower surface of the mask 13 by the mask cleaning unit 21 with the blade 42 during mask cleaning work. Therefore, as shown in FIGS. 3 and 4, the blade cleaning unit 23 is placed at a position corresponding to the standby position of the mask cleaning unit 21, that is, outside the mask 13 in plan view (where the mask 13 in the mask holding part 14 is installed). located at the rear of the area.

ブレード清掃ユニット保持部24は、ブレード清掃ユニット23をマスク清掃ユニット21の待機位置に相当する位置(平面視におけるマスク13の外側の位置)に保持するブレード清掃手段保持部として機能する。このためブレード清掃ユニット保持部24は、図3および図4に示すように、マスク保持部14を構成する一対のマスク支持ガイド31のうちマスク13の外側領域(詳細にはマスク保持部14におけるマスク13が設置される領域の後方領域)に設けられている。 The blade cleaning unit holding section 24 functions as a blade cleaning means holding section that holds the blade cleaning unit 23 at a position corresponding to the standby position of the mask cleaning unit 21 (a position outside the mask 13 in plan view). For this reason, as shown in FIGS. 3 and 4, the blade cleaning unit holding section 24 is arranged in a region outside the mask 13 (specifically, a mask in the mask holding section 14) among the pair of mask support guides 31 constituting the mask holding section 14. 13).

図3および図4において、ブレード清掃ユニット保持部24は仕切り部51、一対の位置決め部52、一対の支持部53、一対の案内部54および一対のフック部55を備えている。仕切り部51はX方向に延びた部材であり、一対のマスク支持ガイド31に両端部が支持されている。 3 and 4, the blade cleaning unit holding section 24 includes a partition section 51, a pair of positioning sections 52, a pair of support sections 53, a pair of guide sections 54, and a pair of hook sections 55. The partition portion 51 is a member extending in the X direction, and both ends thereof are supported by a pair of mask support guides 31.

図3および図4において、一対の位置決め部52はそれぞれ仕切り部51の両端それぞれの後面側に設けられている。図12にも示すように、一対の位置決め部52はそれぞれブロック状の部材から成り、後面である被当接面52Mには係合穴52Hが設けられている。 In FIGS. 3 and 4, the pair of positioning parts 52 are provided on the rear side of both ends of the partition part 51, respectively. As shown in FIG. 12, each of the pair of positioning portions 52 is made of a block-shaped member, and an engagement hole 52H is provided in the abutted surface 52M, which is the rear surface.

図3、図12および図13において、一対の支持部53はそれぞれ、仕切り部51から後方に延びた形状を有する。各支持部53の上面には、後方から前方に向かってなだらかに上昇する斜面部を有するガイド面53Mが形成されている。案内部54は本実施の形態ではマスク支持ガイド31の一部から成り、内側(一対の案内部54が対向する側)の面である案内面54MはYZ面に平行に形成されている。 3, FIG. 12, and FIG. 13, each of the pair of support parts 53 has a shape extending rearward from the partition part 51. A guide surface 53M having a slope portion that gently rises from the rear toward the front is formed on the upper surface of each support portion 53. In this embodiment, the guide portion 54 is a part of the mask support guide 31, and a guide surface 54M, which is an inner surface (the side where the pair of guide portions 54 face each other), is formed parallel to the YZ plane.

図3、図4および図12から分かるように、一対の支持部53は、マスク保持部14を構成する一対のマスク支持ガイド31の一部(仕切り部51よりも後方の部分)から成っている。すなわち本実施の形態では、ブレード清掃ユニット保持部24はマスク保持部14と一体化して設けられた構成となっている。このためブレード清掃ユニット保持部24をマスク保持部14に取り付ける構造物を省略でき、製造コストを安価にすることができる。 As can be seen from FIGS. 3, 4, and 12, the pair of support parts 53 are made up of a part (the part behind the partition part 51) of the pair of mask support guides 31 that constitute the mask holding part 14. . That is, in this embodiment, the blade cleaning unit holding section 24 is provided integrally with the mask holding section 14. Therefore, a structure for attaching the blade cleaning unit holding part 24 to the mask holding part 14 can be omitted, and manufacturing costs can be reduced.

図3、図4および図14において、ブレード清掃ユニット23は、拭取り部61、拭取り材移動機構62、一対の被保持部63およびギア操作部64を備えている。拭取り部61は、図14および図15に示すように、ベース部71、保持部72、拭取り材ホルダ73、拭取り材74、ギア75およびトルクリミッタ76を備えている。 3, FIG. 4, and FIG. 14, the blade cleaning unit 23 includes a wiping section 61, a wiping material moving mechanism 62, a pair of held sections 63, and a gear operating section 64. The wiping section 61 includes a base section 71, a holding section 72, a wiping material holder 73, a wiping material 74, a gear 75, and a torque limiter 76, as shown in FIGS. 14 and 15.

図14および図15において、ベース部71は水平方向に延びた板状の部材から成り、保持部72はブロック状の部材から成る。保持部72は、ベース部71の上面に立設された複数の位置決めのためのピン71P(図14)に側方から当接されることでベース部71に対して位置決めされ、その状態でベース部71に上方から螺入されたボルト71Bによってベース部71上に固定されている。 14 and 15, the base portion 71 is made of a plate-like member extending in the horizontal direction, and the holding portion 72 is made of a block-like member. The holding part 72 is positioned with respect to the base part 71 by coming into contact with a plurality of positioning pins 71P (FIG. 14) erected on the upper surface of the base part 71 from the side, and in this state, the holding part 72 is positioned with respect to the base part 71. It is fixed onto the base part 71 by a bolt 71B screwed into the part 71 from above.

図14および図15において、拭取り材ホルダ73は、一端(後端)側が保持部72によって保持された回転軸73a、回転軸73aの他端(前端)側に設けられた円盤状のベース73bおよびベース73bから回転軸73aの延びる方向に沿って前方に延びた複数の保持棒73cを有している。回転軸73aの軸線73Jは、マスク清掃ユニット21のブレード42の延びる方向(X方向)と直交する方向(Y方向)から角度Θだけ傾いた姿勢で水平面内を延びている(図14)。拭取り材74は例えば多孔質材から成り、円周面を備えた立体形状(円柱形状)を有している(図7参照)。 14 and 15, the wiping material holder 73 includes a rotating shaft 73a whose one end (rear end) side is held by the holding part 72, and a disc-shaped base 73b provided at the other end (front end) side of the rotating shaft 73a. It also has a plurality of holding rods 73c extending forward from the base 73b along the direction in which the rotating shaft 73a extends. The axis 73J of the rotating shaft 73a extends in a horizontal plane in a posture inclined by an angle Θ from the direction (Y direction) perpendicular to the direction in which the blade 42 of the mask cleaning unit 21 extends (X direction) (FIG. 14). The wiping material 74 is made of, for example, a porous material and has a three-dimensional shape (cylindrical shape) with a circumferential surface (see FIG. 7).

拭取り材74は複数の保持棒73cに挿通されることによって、拭取り材ホルダ73に着脱自在に保持されている。ギア75は回転軸73aに固定して設けられており、回転軸73aと一体となって回転軸73aの軸線73Jまわりに回転する。図16(図16は図14中に示す矢視V1-V1から見た図)に示すように、ギア75は外周に多数の歯(外周歯75T)を有しており、その外周歯75Tは回転軸73aの軸線73Jに対して傾いている。すなわちギア75は本実施の形態では斜歯歯車であり、その外周歯75Tの向き(幅方向に延びる峰)はYZ面とほぼ平行に延びている(図14)。 The wiping material 74 is removably held in the wiping material holder 73 by being inserted through a plurality of holding rods 73c. The gear 75 is fixed to the rotating shaft 73a, and rotates together with the rotating shaft 73a around an axis 73J of the rotating shaft 73a. As shown in FIG. 16 (FIG. 16 is a view seen from the arrow V1-V1 shown in FIG. 14), the gear 75 has a large number of teeth (outer teeth 75T) on the outer periphery. It is inclined with respect to the axis 73J of the rotating shaft 73a. That is, the gear 75 is a helical gear in this embodiment, and the direction of the outer peripheral teeth 75T (peaks extending in the width direction) extends substantially parallel to the YZ plane (FIG. 14).

図14および図15において、トルクリミッタ76は保持部72内に設けられており、回転軸73aが伝達するトルクの制限を行う。詳細には、トルクリミッタ76は、拭取り材74またはギア75から回転軸73aに作用するトルクが予め定めた所定の制限値(トルク制限値)以下である場合にはそのトルクが保持部72に伝達されるようにし(回転軸73aの回転は阻止される)、ギア75から回転軸73aに作用するトルクがトルク制限値を上回る場合にはそのトルクが保持部72に伝達されないようにする(回転軸73aの回転は許容される)。 In FIGS. 14 and 15, a torque limiter 76 is provided within the holding portion 72 and limits the torque transmitted by the rotating shaft 73a. Specifically, the torque limiter 76 allows the torque to be applied to the holding portion 72 when the torque acting on the rotating shaft 73a from the wiping material 74 or the gear 75 is below a predetermined limit value (torque limit value). (the rotation of the rotating shaft 73a is prevented), and when the torque acting on the rotating shaft 73a from the gear 75 exceeds the torque limit value, the torque is prevented from being transmitted to the holding part 72 (the rotating shaft 73a is prevented from rotating). rotation of shaft 73a is allowed).

拭取り材移動機構62は全体としてX方向に延びた機構部であり、拭取り材74を(直接的にはベース部71を)X方向に移動させる(図7中に示す矢印E)。これにより拭取り材74は、マスク清掃ユニット21が備えるブレード42の一方側の端部(ここでは右端部)に設定された初期位置(図7中に実線で示す拭取り材74参照)と、ブレード42の他方側の端部(ここでは左端部)に設定された最大移動位置(図7中に破線で示す拭取り部61参照)との間で移動する。 The wiping material moving mechanism 62 is a mechanical section that extends in the X direction as a whole, and moves the wiping material 74 (directly, the base portion 71) in the X direction (arrow E shown in FIG. 7). As a result, the wiping material 74 is placed at an initial position (see the wiping material 74 indicated by a solid line in FIG. 7) set at one end (right end in this case) of the blade 42 included in the mask cleaning unit 21, and The blade 42 moves between the maximum movement position (see wiping part 61 indicated by a broken line in FIG. 7) set at the other end (left end in this case) of the blade 42.

図3および図4において、一対の被保持部63は、拭取り材移動機構62のX方向の両端部から前方に延びて設けられている。すなわち一対の被保持部63は、マスク清掃ユニット21が備えるブレード42に沿った拭取り材74の移動方向である拭取り材移動方向(X方向)に離れた位置に配置されている。 3 and 4, the pair of held parts 63 are provided extending forward from both ends of the wiping material moving mechanism 62 in the X direction. That is, the pair of held parts 63 are arranged at positions separated from each other in the wiping material movement direction (X direction), which is the movement direction of the wiping material 74 along the blade 42 included in the mask cleaning unit 21 .

図3において、一対の被保持部63それぞれの前端部には、X方向の内側(一対の被保持部63が対向する側)に突出して延びた突出部63Tが形成されている。突出部63Tの前面である当接面63Mからは係合ピン63Pが前方に突出して延びている(図12および図14も参照)。 In FIG. 3, a protrusion 63T that protrudes and extends inward in the X direction (to the side where the pair of held parts 63 face each other) is formed at the front end of each of the pair of held parts 63. An engagement pin 63P projects forward and extends from the contact surface 63M, which is the front surface of the protrusion 63T (see also FIGS. 12 and 14).

図3、図4および図14において、ギア操作部64は、ブレード清掃ユニット23が備える一対の被保持部63のうちの一方側(ここでは右側の被保持部63)に設けられている。図16に示すように、ギア操作部64はスプリング付きの蝶番81、スペーサ82およびギア接触部材83を備えて構成されている。 3, FIG. 4, and FIG. 14, the gear operation section 64 is provided on one side (here, the right held section 63) of the pair of held sections 63 included in the blade cleaning unit 23. As shown in FIG. 16, the gear operating section 64 includes a hinge 81 with a spring, a spacer 82, and a gear contact member 83.

図14および図16において、蝶番81は一方の羽根部(固定側羽根部81a)が被保持部63の上面に水平姿勢で固定されており、他方の羽根部(可動側羽根部81b)はY方向に延びた軸部81cの軸線まわりに揺動自在になっている。スペーサ82は蝶番81の可動側羽根部81bの下面側に取り付けられており、ギア接触部材83は基端側(図16における右端側)がスペーサ82に取り付けられている。このためギア接触部材83はスペーサ82および可動側羽根部81bと一体となって、軸部81cの軸線を支点として揺動(起伏)する。 In FIGS. 14 and 16, one blade part (fixed side blade part 81a) of the hinge 81 is fixed to the upper surface of the held part 63 in a horizontal position, and the other blade part (movable side blade part 81b) is It is swingable around the axis of the shaft portion 81c extending in the direction. The spacer 82 is attached to the lower surface side of the movable wing portion 81b of the hinge 81, and the base end side (the right end side in FIG. 16) of the gear contact member 83 is attached to the spacer 82. Therefore, the gear contact member 83 swings (raises and falls) integrally with the spacer 82 and the movable blade portion 81b using the axis of the shaft portion 81c as a fulcrum.

スペーサ82は、ギア接触部材83が水平姿勢を超えて倒伏することがないように、可動側羽根部81bの(従ってギア接触部材83の)起伏範囲を制限する。これによりギア接触部材83は、その先端部83Tに押し上げ力が作用していない状態では、図16に示すように、スペーサ82が被保持部63に当接することで水平姿勢となり、固定側羽根部81aと同一平面上に位置する。水平姿勢に位置した状態のギア接触部材83の先端部83Tに押し上げ力が作用すると、可動側羽根部81bは軸部81cの軸線まわりに起仰(先端部83Tを上げる方向)するが、その押仕上げ力が除去されると、付勢ばねの付勢力によって元の水平姿勢に復帰する。 The spacer 82 limits the range of ups and downs of the movable wing portion 81b (and therefore of the gear contact member 83) so that the gear contact member 83 does not fall beyond the horizontal position. As a result, when no upward force is applied to the tip end 83T of the gear contact member 83, the spacer 82 comes into contact with the held part 63, as shown in FIG. It is located on the same plane as 81a. When a pushing force acts on the tip 83T of the gear contact member 83 in a horizontal position, the movable blade 81b rises around the axis of the shaft 81c (in the direction of raising the tip 83T); When the finishing force is removed, it returns to its original horizontal position due to the biasing force of the biasing spring.

図14および図16において、ギア接触部材83にはZ方向(ギア接触部材83の厚さ方向)に貫通した開口部83Kが設けられている。拭取り材74が初期位置に位置した状態では(図14)、ギア75が有する外周歯75Tのうち1つの外周歯75Tが下方から係合する(図16も参照)。開口部83Kは平面視においてほぼ長方形形状であり、X方向に対向する2辺のうち左側の辺はY方向、すなわち斜歯歯車であるギア75の外周歯75Tの向きとほぼ一致している。 14 and 16, the gear contact member 83 is provided with an opening 83K that penetrates in the Z direction (thickness direction of the gear contact member 83). When the wiping material 74 is in the initial position (FIG. 14), one of the outer teeth 75T of the gear 75 engages from below (see also FIG. 16). The opening 83K has a substantially rectangular shape in plan view, and the left side of the two sides facing each other in the X direction substantially coincides with the direction of the Y direction, that is, the direction of the outer peripheral teeth 75T of the gear 75, which is a helical gear.

図14に示すように、拭取り材74が初期位置に位置してギア75の外周歯75Tのうちの1つがギア接触部材83の開口部83Kに下方から入り込んでいる状態では(図16)、ギア接触部材83はギア75から押し上げ力を受けない。このため拭取り材74が初期位置に位置した状態では、蝶番81の可動側羽根部81bは固定側羽根部81aと同一平面上に位置する。 As shown in FIG. 14, when the wiping material 74 is at the initial position and one of the outer peripheral teeth 75T of the gear 75 is inserted into the opening 83K of the gear contact member 83 from below (FIG. 16), The gear contact member 83 does not receive any pushing up force from the gear 75. Therefore, when the wiping material 74 is located at the initial position, the movable blade portion 81b of the hinge 81 is located on the same plane as the fixed blade portion 81a.

ここで、拭取り材74が初期位置から最大移動位置に向かって移動すると(図17(a)→図17(b))、開口部83Kに入り込んでいた外周歯75Tは水平姿勢となっているギア接触部材83からその移動を妨げる方向(ここでは右向き)の力を受ける。しかしながら、このときギア接触部材83の開口部83K内に入り込んでいた外周歯75Tはギア接触部材83の先端部83Tを押し上げて(起仰させて)開口部83Kから離脱するので、ギア75はギア接触部材83によって回転させられることなく、最大移動位置の側に移動する(図17(b)中に示す矢印F)。 Here, when the wiping material 74 moves from the initial position toward the maximum movement position (FIG. 17(a) → FIG. 17(b)), the outer tooth 75T that has entered the opening 83K is in a horizontal position. It receives a force from the gear contact member 83 in a direction (rightward in this case) that prevents its movement. However, at this time, the outer tooth 75T that had entered into the opening 83K of the gear contact member 83 pushes up (raises) the tip 83T of the gear contact member 83 and leaves the opening 83K, so the gear 75 becomes a gear. It moves toward the maximum movement position without being rotated by the contact member 83 (arrow F shown in FIG. 17(b)).

一方、これとは反対に、最大移動位置から移動してきた拭取り材74が初期位置に戻る場合には(図18(a)→図18(b)→図18(c))、その戻る過程において、ギア75の外周歯75Tのうちの1つがギア接触部材83の先端部83Tに側方(ここでは左方)から当接する。このとき外周歯75Tはギア接触部材83を倒伏方向(先端部83Tを下げる方向)に押圧するが、ギア接触部材83はスペーサ82があるために倒伏方向へは変位せず水平姿勢を支持する。このため外周歯75Tにはギア接触部材83からの大きな反力G(図18(b))が作用する。 On the other hand, on the contrary, when the wiping material 74 that has moved from the maximum movement position returns to the initial position (FIG. 18(a) → FIG. 18(b) → FIG. 18(c)), the returning process , one of the outer teeth 75T of the gear 75 abuts the tip 83T of the gear contact member 83 from the side (here, from the left). At this time, the outer peripheral tooth 75T presses the gear contact member 83 in the direction of collapse (direction of lowering the tip portion 83T), but because of the spacer 82, the gear contact member 83 does not displace in the direction of collapse and supports a horizontal posture. Therefore, a large reaction force G (FIG. 18(b)) from the gear contact member 83 acts on the outer peripheral tooth 75T.

トルクリミッタ76に設定されるトルク制限値(T0)は、上記反力Gによってギア75(すなわち回転軸73a)に作用するトルク(T1)よりも小さい値に設定されている(T0<T1)。このため回転軸73aはギア75とともに軸線73Jまわりに回転する(図18(c)中に示す矢印R)。このとき回転する回転軸73aの角度はギア75の外周歯75Tの1つ分の角度であり、拭取り材74も回転軸73aの軸線73Jまわりにギア75の外周歯75Tの1つ分だけ回転する。 The torque limit value (T0) set in the torque limiter 76 is set to a value smaller than the torque (T1) that acts on the gear 75 (ie, the rotating shaft 73a) due to the reaction force G (T0<T1). Therefore, the rotating shaft 73a rotates together with the gear 75 around the axis 73J (arrow R shown in FIG. 18(c)). The angle of the rotating shaft 73a that rotates at this time is the angle of one outer peripheral tooth 75T of the gear 75, and the wiping material 74 also rotates around the axis 73J of the rotating shaft 73a by one outer peripheral tooth 75T of the gear 75. do.

このような構成のブレード清掃ユニット23をブレード清掃ユニット保持部24に装着するときには、ブレード清掃ユニット23が備える一対の突出部63Tをブレード清掃ユニット保持部24が備える一対の支持部53(ガイド面53M)に載せる。そして、その状態でブレード清掃ユニット23の全体を前方へ移動させる。 When attaching the blade cleaning unit 23 having such a configuration to the blade cleaning unit holding section 24, the pair of protrusions 63T provided on the blade cleaning unit 23 are attached to the pair of support sections 53 (guide surfaces 53M provided on the blade cleaning unit holding section 24). ). Then, in this state, the entire blade cleaning unit 23 is moved forward.

ブレード清掃ユニット23を前方へ移動させると、ブレード清掃ユニット23の一対の係合ピン63Pは、ブレード清掃ユニット保持部24の一対の係合穴52Hに入り込み、一対の突出部63Tそれぞれの当接面63Mは、一対の位置決め部52それぞれの被当接面52Mに当接する(図3→図4および図12→図13)。これによりブレード清掃ユニット23は、ブレード清掃ユニット保持部24に対してY方向に位置決めされる。 When the blade cleaning unit 23 is moved forward, the pair of engagement pins 63P of the blade cleaning unit 23 enter the pair of engagement holes 52H of the blade cleaning unit holding part 24, and the abutting surfaces of the pair of protrusions 63T, respectively. 63M comes into contact with the contact surface 52M of each of the pair of positioning parts 52 (FIG. 3→FIG. 4 and FIG. 12→FIG. 13). Thereby, the blade cleaning unit 23 is positioned in the Y direction with respect to the blade cleaning unit holding part 24.

一対の突出部63Tそれぞれの当接面63Mが一対の位置決め部52それぞれの被当接面52Mに当接するまでの間に、ブレード清掃ユニット23の一対の被保持部63(突出部63T)はそれぞれ、ブレード清掃ユニット保持部24の一対の支持部53(ガイド面53M)によって下面が案内され、ブレード清掃ユニット保持部24に対するZ方向の位置決めがなされる。また一対の被保持部63(突出部63T)はそれぞれ、ブレード清掃ユニット保持部24の一対の案内部54(案内面54M)によって側面が案内されて、X方向の位置決めがなされる。 Until the abutment surfaces 63M of the pair of protrusions 63T come into contact with the abutment surfaces 52M of the pair of positioning parts 52, the pair of held parts 63 (protrusions 63T) of the blade cleaning unit 23 each The lower surface is guided by the pair of support parts 53 (guide surfaces 53M) of the blade cleaning unit holding part 24, and positioning in the Z direction with respect to the blade cleaning unit holding part 24 is performed. Further, the side surfaces of the pair of held parts 63 (protrusions 63T) are each guided by the pair of guide parts 54 (guide surfaces 54M) of the blade cleaning unit holding part 24, and positioning in the X direction is performed.

ブレード清掃ユニット23の一対の突出部63Tは、その当接面63Mがブレード清掃ユニット保持部24の一対の被当接面52Mに当接するまでの間に、ブレード清掃ユニット保持部24に設けられた一対のフック部55それぞれの傾斜面55M(図12)に当接してフック部55を弾性的に押し下げる。そして、当接面63Mが被当接面52Mに当接するタイミングで突出部63Tの下面が傾斜面55Mを通過し終えると、フック部55は突出部63Tによる押し下げから解放されて元の姿勢に復帰する。 The pair of protrusions 63T of the blade cleaning unit 23 are provided on the blade cleaning unit holder 24 until the abutting surfaces 63M abut the pair of abutted surfaces 52M of the blade cleaning unit holder 24. It comes into contact with the inclined surfaces 55M (FIG. 12) of each of the pair of hook parts 55 and elastically pushes down the hook parts 55. Then, when the lower surface of the protrusion 63T finishes passing through the inclined surface 55M at the timing when the abutment surface 63M abuts the abutted surface 52M, the hook portion 55 is released from being pressed down by the protrusion 63T and returns to its original position. do.

元に姿勢に復帰したフック部55は突出部63Tの背面63N(図3および図12)に係合する(図12→図13)。これによりブレード清掃ユニット23はブレード清掃ユニット保持部24に保持(固定)される。ブレード清掃ユニット23がブレード清掃ユニット保持部24に保持された状態では、ブレード清掃ユニット23が備える拭取り部61の拭取り材74は、待機位置に位置したマスク清掃ユニット21の上方に位置した状態となる(図1および図2)。 The hook portion 55, which has returned to its original position, engages with the back surface 63N (FIGS. 3 and 12) of the protruding portion 63T (FIGS. 12 to 13). As a result, the blade cleaning unit 23 is held (fixed) by the blade cleaning unit holding section 24. When the blade cleaning unit 23 is held by the blade cleaning unit holding section 24, the wiping material 74 of the wiping section 61 included in the blade cleaning unit 23 is positioned above the mask cleaning unit 21 in the standby position. (Figures 1 and 2).

このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1が備えるブレード清掃ユニット23は、マスク清掃ユニット21が備えるブレード42に接触する拭取り材74と、拭取り材74をブレード42のエッジ42Eに沿った方向(X方向)に移動させてブレード42が掻き取ったペーストPstを拭き取る拭取り材移動機構62と、ブレード42に沿った方向(X方向)に離れた位置に配置され、ブレード清掃ユニット保持部24に保持される一対の被保持部63とを備えた構成となっている。そして、このブレード清掃ユニット23は、ブレード42に沿った方向(X方向)と直交する方向(Y方向)に移動されてブレード清掃ユニット保持部に装着(保持)されるようになっており、ブレード清掃ユニット保持部24は、ブレード清掃ユニット23が装着される際に一対の被保持部63(詳細には一対の突出部63T)の下面を支持する一対の支持部53と、支持部53上を移動する被保持部63それぞれの側面を案内する一対の案内部54とを有する構成となっている。 In this way, the blade cleaning unit 23 included in the screen printing apparatus 1 according to the present embodiment includes a wiping material 74 that contacts the blade 42 included in the mask cleaning unit 21, and a wiping material 74 that contacts the blade 42 that is provided in the mask cleaning unit 21. A wiping material moving mechanism 62 that is moved in the direction (X direction) to wipe off the paste Pst scraped off by the blade 42, and a blade cleaning unit holding section that is disposed at a position apart in the direction (X direction) along the blade 42. It has a configuration including a pair of held parts 63 held by 24. The blade cleaning unit 23 is moved in a direction (Y direction) perpendicular to the direction along the blade 42 (X direction) and attached (held) to the blade cleaning unit holding section, so that the blade The cleaning unit holding part 24 includes a pair of support parts 53 that support the lower surfaces of the pair of held parts 63 (specifically, a pair of protrusions 63T) when the blade cleaning unit 23 is mounted, and It is configured to include a pair of guide parts 54 that guide the respective side surfaces of the moving held part 63.

ブレード清掃ユニット保持部24に保持された状態のブレード清掃ユニット23を取り外す場合には、一対のフック部55を押し下げながらブレード清掃ユニット23を後方へ引き抜けばよい。このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1では、ブレード清掃ユニット23のブレード清掃ユニット保持部24への着脱作業を行い易いものとなっている。 To remove the blade cleaning unit 23 held by the blade cleaning unit holding part 24, the blade cleaning unit 23 may be pulled out rearward while pushing down the pair of hook parts 55. As described above, in the screen printing apparatus 1 according to the present embodiment, it is easy to attach and detach the blade cleaning unit 23 to and from the blade cleaning unit holding part 24.

上述したように、本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1は、ブレード42が掻き取ったペーストPstを拭き取るブレード清掃ユニット23を着脱自在な状態で保持するブレード清掃ユニット保持部24を備えており、ブレード清掃ユニット保持部24からブレード清掃ユニット23を容易に取り外すことができるので、ブレード清掃ユニット23がスクリーン印刷装置1のメンテナンスや点検等の際の支障になることがない。また、一対の被保持部63を一対の支持部53で支持するので、ブレード清掃ユニット23をブレード清掃ユニット保持部24によって安定的に保持することができる。 As described above, the screen printing apparatus 1 in this embodiment includes the blade cleaning unit holding section 24 that detachably holds the blade cleaning unit 23 for wiping off the paste Pst scraped by the blade 42. Since the blade cleaning unit 23 can be easily removed from the cleaning unit holding part 24, the blade cleaning unit 23 does not become a hindrance during maintenance, inspection, etc. of the screen printing apparatus 1. Further, since the pair of held parts 63 are supported by the pair of support parts 53, the blade cleaning unit 23 can be stably held by the blade cleaning unit holding part 24.

ブレード清掃ユニット23によって、マスク清掃作業後におけるマスク清掃ユニット21の各ブレード42のエッジ42Eに付着したペーストPstを拭き取る作業(ブレード清掃作業)を行う場合には、拭取り材移動機構62によって、初期位置に位置した拭取り部61を最大移動位置へ向けて移動させる。これにより拭取り材74は4つのブレード42それぞれのエッジ42Eに接触した状態でX方向、すなわち各ブレード42の延びる方向に移動してエッジ42E上を摺動し、各ブレード42がマスク13の下面から掻き取ったペーストPstを拭き取る。 When the blade cleaning unit 23 performs the work (blade cleaning work) of wiping off the paste Pst attached to the edge 42E of each blade 42 of the mask cleaning unit 21 after the mask cleaning work, the wiping material moving mechanism 62 The wiping part 61 located at the position is moved toward the maximum movement position. As a result, the wiping material 74 moves in the X direction, that is, in the direction in which each blade 42 extends, while being in contact with the edge 42E of each of the four blades 42, and slides on the edge 42E, so that each blade 42 touches the lower surface of the mask 13. Wipe off the paste Pst scraped off.

拭取り材74がブレード42のエッジ42E上を摺動している間、拭取り材74は、図19(a),(b)に示すように(図19(b)は図19(a)中に示す矢視V2-V2から見た図)、拭取り材74が有する円周面のうち軸線73Jを円周面に投影した投影線TSを中心とした一定範囲内の面を拭取り面74MとしてペーストPstを拭き取る。本実施の形態では、マスク清掃ユニット21は4つのブレード42を備えているため、拭取り材74が4つのブレード42から拭き取ったペーストPstの跡は、4本の平行な線となる(図19(b))。これら4つの平行なペーストPstの線の延びる方向はブレード42が延びる方向(Y方向)と平行であり、平面視において回転軸73aの軸線73J(投影線TS)から角度Θだけ傾いた方向となる。 While the wiping material 74 is sliding on the edge 42E of the blade 42, the wiping material 74 moves as shown in FIGS. (View from arrow V2-V2 shown in the figure), the surface within a certain range centered on the projection line TS, which is the projection of the axis 73J onto the circumferential surface, of the circumferential surface of the wiping material 74 is defined as the wiping surface. Wipe off the paste Pst as 74M. In this embodiment, since the mask cleaning unit 21 includes four blades 42, the traces of paste Pst wiped off by the wiping material 74 from the four blades 42 become four parallel lines (Fig. 19 (b)). The direction in which these four parallel lines of paste Pst extend is parallel to the direction in which the blade 42 extends (Y direction), and is a direction inclined by an angle Θ from the axis 73J (projection line TS) of the rotating shaft 73a in plan view. .

上記のように拭取り材74がブレード42のエッジ42E上を摺動するためには拭取り材74が回転軸73aとともに回転してはならず、回転軸73aが回転するのを阻止する必要がある。このためトルクリミッタ76に設定されるトルク制限値(T0)は、ブレード清掃作業時(拭取り材74の移動時)に拭取り材74の拭取り面74Mがブレード42から抗力を受けることによって回転軸73aに作用するトルク(T2)よりも大きい値に設定されている(T2<T0)。 In order for the wiping material 74 to slide on the edge 42E of the blade 42 as described above, the wiping material 74 must not rotate together with the rotating shaft 73a, and it is necessary to prevent the rotating shaft 73a from rotating. be. Therefore, the torque limit value (T0) set in the torque limiter 76 is determined by the rotation of the wiping surface 74M of the wiping material 74 due to the drag force from the blade 42 during blade cleaning work (when the wiping material 74 is moved). The torque is set to a value larger than the torque (T2) acting on the shaft 73a (T2<T0).

このように本実施の形態では、回転軸73aが伝達するトルクの制限を行うトルクリミッタ76を備えており、そのトルクリミッタ76により、拭取り材74が拭取り材移動機構62によってブレード42に沿って移動するときには回転軸73aの回転が阻止され、拭取り材移動機構62が拭取り材ホルダ73を移動させてギア75をギア接触部材83に接触させるときには回転軸73aの回転が許容されるようになっている。そのため、トルクリミッタ76におけるトルク制限値(T0)と、最大移動位置の側に位置していた拭取り材74が初期位置の側に移動する過程でギア75の外周歯75Tのうちの1つがギア接触部材83の先端部83Tから受ける反力G(図18(b))によって回転軸73aに作用するトルク(T1)と、ブレード清掃作業時に拭取り材74がブレード42から受ける抗力により回転軸73aが受けるトルク(T2)とは、T2<T0<T1の関係を有するものとなっている。 In this way, this embodiment includes the torque limiter 76 that limits the torque transmitted by the rotating shaft 73a, and the torque limiter 76 allows the wiping material 74 to be moved along the blade 42 by the wiping material moving mechanism 62. When the wiping material moving mechanism 62 moves the wiping material holder 73 to bring the gear 75 into contact with the gear contact member 83, the rotation of the rotating shaft 73a is allowed. It has become. Therefore, the torque limit value (T0) in the torque limiter 76 and one of the outer circumferential teeth 75T of the gear 75 are changed to The torque (T1) that acts on the rotating shaft 73a due to the reaction force G (FIG. 18(b)) received from the tip 83T of the contact member 83 and the drag force that the wiping material 74 receives from the blade 42 during blade cleaning work causes the rotating shaft 73a to The torque (T2) that is applied to has a relationship of T2<T0<T1.

本実施の形態では、上記のように、トルクリミッタ76におけるトルク制限値(T0)がブレード清掃作業時に拭取り材74がブレード42から受ける抗力により回転軸73aが受けるトルク(T2)よりも大きい値に設定されているので(T2<T0)、拭取り材74をブレード42の延びる方向(X方向)のどちらの方向へ移動させる場合であっても回転軸73aは回転しない。このためブレード清掃作業においては、ブレード清掃ユニット23は初期位置から最大移動位置へ移動する経路(往路)においてだけ、あるいは最大移動位置から初期位置まで移動する経路(復路)においてだけでなく、往路と復路の双方において拭取り材74によりブレード42からペーストPstを拭き取ることができる。 In this embodiment, as described above, the torque limit value (T0) in the torque limiter 76 is a value larger than the torque (T2) that the rotating shaft 73a receives due to the drag force that the wiping material 74 receives from the blade 42 during blade cleaning work. (T2<T0), the rotating shaft 73a does not rotate regardless of which direction the wiping material 74 is moved in the direction in which the blade 42 extends (X direction). Therefore, during blade cleaning work, the blade cleaning unit 23 is not only used on the path of movement from the initial position to the maximum movement position (outward path), or the path of movement from the maximum movement position to the initial position (return path), but also in the outgoing path. The paste Pst can be wiped off from the blade 42 by the wiping material 74 on both return trips.

このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1では、マスク清掃ユニット21のブレード42に付着したペーストPstを拭き取るようになっているので、マスク清掃ユニット21がマスク13の清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスク13に付着させてしまう事態を防止することができる。 In this way, in the screen printing apparatus 1 according to the present embodiment, the paste Pst adhering to the blade 42 of the mask cleaning unit 21 is wiped off. can be prevented from adhering to the mask 13 during the next cleaning operation.

本実施の形態では、拭取り部61を構成するギア75は、拭取り材移動機構62によって拭取り材74を初期位置から最大移動位置まで移動させる往路動作の際には、ギア接触部材83によって回転させられることはなく(図17(a)→図17(b))、最大移動位置から初期位置に移動させる復路動作の際には、ギア75の外周歯75Tがギア接触部材83に当接した際に、ギア接触部材83から受ける反力Gによって回転させられる(図18(a)→図18(b)→図18(c))。このときギア75は外周歯75Tの1つ分だけ回転するので、拭取り材74における拭取り面74Mは、外周歯75Tの1つ分に相当する距離Lだけ拭取り材74の円周面上を移動し、拭取り材74における拭取り面74Mが変更される。 In this embodiment, the gear 75 constituting the wiping section 61 is operated by the gear contact member 83 during the outward movement in which the wiping material moving mechanism 62 moves the wiping material 74 from the initial position to the maximum movement position. It is not rotated (FIG. 17(a)→FIG. 17(b)), and the outer peripheral tooth 75T of the gear 75 comes into contact with the gear contact member 83 during the return movement from the maximum movement position to the initial position. At this time, it is rotated by the reaction force G received from the gear contact member 83 (FIG. 18(a)→FIG. 18(b)→FIG. 18(c)). At this time, the gear 75 rotates by one outer peripheral tooth 75T, so the wiping surface 74M of the wiping material 74 is placed above the circumferential surface of the wiping material 74 by a distance L corresponding to one outer peripheral tooth 75T. is moved, and the wiping surface 74M of the wiping material 74 is changed.

このように本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1が備えるブレード清掃ユニット23は、軸線73Jを中心に回転する回転軸73aを有して円柱状(円周面を備えた立体形状)の拭取り材74を保持する拭取り材ホルダ73と、拭取り材ホルダ73に設けられたギア75と、拭取り材ホルダ73の移動範囲(ここでは初期位置と最大移動位置との間の範囲)内のギア75と接触し得る位置に配置されたギア接触部材83を備えた構成となっている。そして、拭取り材移動機構62が拭取り材ホルダ73を移動させることによってギア75がギア接触部材83に接触すると、拭取り材ホルダ73が軸線73Jを中心に回転して拭取り面74Mを変更するようになっている。 In this way, the blade cleaning unit 23 included in the screen printing apparatus 1 according to the present embodiment is a wiping material having a cylindrical shape (three-dimensional shape with a circumferential surface) having a rotating shaft 73a that rotates around the axis 73J. 74, a gear 75 provided on the wiping material holder 73, and a gear within the movement range of the wiping material holder 73 (here, the range between the initial position and the maximum movement position). The configuration includes a gear contact member 83 disposed at a position where it can come into contact with the gear contact member 75. When the wiping material moving mechanism 62 moves the wiping material holder 73 and the gear 75 contacts the gear contact member 83, the wiping material holder 73 rotates around the axis 73J and changes the wiping surface 74M. It is supposed to be done.

本実施の形態では、軸線73Jを中心に拭取り材ホルダ73を回転させるという単純な動作で拭取り材74のブレード42に接触する部分(拭取り面74M)を変更することができ、構成を簡素化することが可能である。また、拭取り材ホルダ73を回転させるためだけの専用の動力源(例えばモータやシリンダ等)を必要としないので、装置構成を簡単にすることができる。 In this embodiment, the portion of the wiping material 74 that contacts the blade 42 (wiping surface 74M) can be changed by a simple operation of rotating the wiping material holder 73 about the axis 73J, and the configuration can be changed. It is possible to simplify. Furthermore, since a dedicated power source (for example, a motor, cylinder, etc.) for rotating the wiping material holder 73 is not required, the device configuration can be simplified.

本実施の形態では、拭取り材ホルダ73、ギア75およびギア接触部材83は、拭取り材74をブレード42の延びる方向(X方向)と直交する方向(Y方向)に対して斜めに交差する軸線73Jを中心に回転させることにより、拭取り材74のブレード42に接触する部分(拭取り面74M)を変更する接触部分変更機構90となっている。 In this embodiment, the wiping material holder 73, gear 75, and gear contact member 83 move the wiping material 74 diagonally across the direction (Y direction) perpendicular to the direction in which the blade 42 extends (X direction). A contact portion changing mechanism 90 changes the portion of the wiping material 74 that contacts the blade 42 (wiping surface 74M) by rotating around the axis 73J.

図20(a),(b),(c)は、ギア接触部材83によりギア75を外周歯75Tの1つ分ずつ回転させた場合に、拭取り材74の拭取り面74Mに形成されるペーストPstの跡の状況を模式的に示したものである。図20(b)は図20(a)の状態から外周歯75Tの1つ分に相当する距離Lだけ拭取り面74Mが移動した状態を示しており、図20(c)は図20(a)の状態から外周歯75Tの5つ分に相当する距離5L(L×5)だけ拭取り面74Mが移動した状態を示している。 20(a), (b), and (c) show the formation of the wiping surface 74M of the wiping material 74 when the gear 75 is rotated by one outer tooth 75T by the gear contact member 83. This is a diagram schematically showing the state of the paste Pst trace. 20(b) shows a state in which the wiping surface 74M has moved by a distance L corresponding to one outer tooth 75T from the state in FIG. 20(a), and FIG. 20(c) shows a state in which the wiping surface 74M has moved from the state in FIG. ) shows a state in which the wiping surface 74M has moved by a distance 5L (L×5) corresponding to five outer peripheral teeth 75T.

図20(a),(b),(c)から分かるように、拭取り面74MにおいてペーストPstの跡の延びる方向は、拭取り材74が有する円周面のうち回転軸73aの軸線73Jを円周面に投影した投影線TSと直交する方向に対して傾いている。このため、或る拭取り面74Mと外周歯75Tの1つ分に相当する距離Lだけ移動した拭取り面74Mとがその一部(端部)においてが重なったとしても、或る拭取り面74MにおけるペーストPstの跡と、距離Lだけ移動した拭取り面74MにおけるペーストPstとは、その端部領域TRにおいて重ならない(図20(b),(c))。 As can be seen from FIGS. 20(a), (b), and (c), the direction in which the paste Pst marks extend on the wiping surface 74M is along the axis 73J of the rotating shaft 73a on the circumferential surface of the wiping material 74. It is inclined with respect to the direction perpendicular to the projection line TS projected onto the circumferential surface. Therefore, even if a certain wiping surface 74M and a wiping surface 74M moved by a distance L corresponding to one outer peripheral tooth 75T overlap at a part (end), a certain wiping surface 74M The trace of the paste Pst on the 74M and the paste Pst on the wiping surface 74M that has been moved by the distance L do not overlap in the end region TR (FIGS. 20(b) and 20(c)).

これは、拭取り材74が軸線73Jを中心とする円周面を備えた立体形状(円柱形状)であって、その軸線73Jを中心に回転することでブレード42との拭取り面74Mを変えることができる構成であることに加えて、回転軸73aの軸線73Jがブレード42の延びる方向(X方向)と直交する方向(Y方向)から水平方向に傾いていることによって得られる効果である。 This is because the wiping material 74 has a three-dimensional shape (cylindrical shape) with a circumferential surface centered around the axis 73J, and by rotating around the axis 73J, the wiping surface 74M with the blade 42 is changed. In addition to being a configuration that can do this, this effect is obtained because the axis 73J of the rotating shaft 73a is inclined horizontally from the direction (Y direction) perpendicular to the direction in which the blade 42 extends (X direction).

次に、スクリーン印刷装置1が行うスクリーン印刷動作の流れ(スクリーン印刷方法)を説明する。スクリーン印刷装置1によるスクリーン印刷方法は、図21に示すように、基板搬入工程、接触工程、印刷工程、版離れ工程、基板搬出工程をこの順で行い、これと並行して、マスク清掃工程とブレード清掃工程をこの順で実行するようになっている。 Next, the flow of the screen printing operation (screen printing method) performed by the screen printing apparatus 1 will be explained. As shown in FIG. 21, the screen printing method using the screen printing apparatus 1 includes a substrate loading process, a contact process, a printing process, a plate separation process, and a substrate unloading process in this order, and in parallel with this, a mask cleaning process and a mask cleaning process. The blade cleaning process is executed in this order.

基板搬入工程は、これからペーストPstが印刷される基板KBを搬入する基板搬入作業を行う工程であり、基板搬送部11がスクリーン印刷装置1の外部から供給された基板KBを搬送(搬入)することによって実行される。接触工程は、基板搬入工程で搬入した基板KBをマスク13に位置合わせしてマスク13の下面に接触させる接触作業を行う工程であり、基板保持部移動機構17によって基板KBをマスク13の下面に接触させることによって実行される。 The substrate loading process is a process of carrying in a substrate KB on which the paste Pst is to be printed, and the substrate transporting section 11 transports (carries in) the board KB supplied from the outside of the screen printing apparatus 1. executed by The contact process is a process in which the substrate KB carried in in the substrate carrying process is aligned with the mask 13 and contacted with the lower surface of the mask 13. The substrate holder moving mechanism 17 moves the substrate KB onto the lower surface of the mask 13. This is done by making contact.

印刷工程は、接触工程で基板KBを接触させたマスク13の開口13KにペーストPstを充填して基板KBにペーストPstを印刷する印刷作業を行う工程であり、基板KBが接触されたマスク13の開口13Kに印刷ヘッド18でペーストPstを充填することによって実行される。版離れ工程は、印刷工程の後、基板KBをマスク13から分離させる版離れ作業を行う工程であり、ペーストPstが印刷された基板KBを基板保持部移動機構17によってマスク13から分離させることによって実行される。基板搬出工程は、印刷工程が実行された後の基板KBを搬出する基板搬出作業を行う工程であり、基板搬送部11が基板KBをスクリーン印刷装置1の外部に搬送することによって実行される。 The printing process is a process in which the opening 13K of the mask 13 contacted with the substrate KB in the contact process is filled with paste Pst, and the paste Pst is printed on the substrate KB. This is performed by filling the opening 13K with the paste Pst using the printing head 18. The plate separation process is a process of performing plate separation work to separate the substrate KB from the mask 13 after the printing process. executed. The substrate unloading process is a process of performing a substrate unloading operation to unload the board KB after the printing process has been performed, and is executed by the board transport unit 11 transporting the board KB to the outside of the screen printing apparatus 1.

マスク清掃工程は、印刷工程でマスク13の下面に付着したペーストPstをマスク清掃ユニット21のブレード42で掻き取るマスク清掃作業を行う工程であり、マスク清掃ユニット移動機構22によってマスク清掃ユニット21マスク13の下面で移動されることによって実行される。ブレード清掃工程は、マスク清掃工程でマスク13の下面からペーストPstを掻き取ったブレード42をブレード清掃ユニット23で清掃するブレード清掃作業を行う工程であり、ブレード清掃ユニット23が拭取り材移動機構62により拭取り材74をブレード42の延びる方向に移動させることによって実行される。 The mask cleaning process is a process in which a mask cleaning operation is performed in which the paste Pst attached to the lower surface of the mask 13 during the printing process is scraped off with the blade 42 of the mask cleaning unit 21. It is executed by being moved on the underside of the . The blade cleaning process is a process in which the blade cleaning unit 23 cleans the blade 42 that scraped the paste Pst from the lower surface of the mask 13 in the mask cleaning process. This is performed by moving the wiping material 74 in the direction in which the blade 42 extends.

本実施の形態におけるスクリーン印刷方法を構成する基板搬入工程、印刷工程、基板搬出工程、マスク清掃工程およびブレード清掃工程のうち、基板搬入工程、印刷工程および基板搬出工程はペーストPstの印刷対象である基板KBの1枚ごとにこの順で実行される。マスク清掃工程はマスク13にブレード42を接触させて行うので印刷工程の実行中には行うことができない(ブレード清掃工程の実行中にも行うことができない)。従って、1枚の基板KBについてペーストPstの印刷が終了するごとにマスク清掃作業を実行する場合には、図21に示すように、マスク清掃作業を、版離れ作業(工程)が終了した後、次の接触作業(工程)が開始されるまでの間(基板KBの搬出開始から次の基板KBの搬入が完了するまでの間)に実行するようにする。 Among the board loading process, printing process, substrate unloading process, mask cleaning process, and blade cleaning process that constitute the screen printing method in this embodiment, the substrate loading process, printing process, and substrate unloading process are objects for printing paste Pst. This process is executed in this order for each board KB. Since the mask cleaning process is performed by bringing the blade 42 into contact with the mask 13, it cannot be performed during the printing process (it cannot be performed during the blade cleaning process either). Therefore, when performing mask cleaning work every time printing of paste Pst is completed for one board KB, as shown in FIG. 21, mask cleaning work is performed after plate separation work (process) is completed. The process is executed until the next contact operation (process) is started (from the start of unloading of the board KB until the completion of loading of the next board KB).

また、ブレード清掃作業はマスク清掃工程でマスク13の下面からペーストPstを掻き取ったマスク清掃ユニット21のブレード42を清掃する作業(工程)であるので、マスク清掃作業の実行中には行うことができず、マスク清掃作業が終了した後に開始することになる。ブレード清掃作業はマスク清掃作業が行われている間を除いて実行することが可能であるが、1枚の基板KBについてペーストPstの印刷が終了するごとにマスク清掃作業(工程)とブレード清掃作業(固定)を実行する場合には、図21に示すように、マスク清掃作業が終了してから次の版離れ作業(工程)が終了するまでの間にブレード清掃作業(工程)を完了するようにする。 Furthermore, since the blade cleaning work is a work (process) of cleaning the blade 42 of the mask cleaning unit 21 that scraped the paste Pst from the lower surface of the mask 13 in the mask cleaning process, it cannot be performed while the mask cleaning work is being performed. However, it will start after the mask cleaning work is completed. Blade cleaning work can be performed except while mask cleaning work is being performed, but mask cleaning work (process) and blade cleaning work can be performed every time printing of paste Pst is completed for one board KB. (Fixed), as shown in Figure 21, the blade cleaning work (process) should be completed between the end of the mask cleaning work and the end of the next plate separation work (process). Make it.

このように版離れ作業(工程)が終了した後、次の接触作業(工程)が開始されるまでの間にマスク清掃作業(工程)が実行され、そのマスク清掃作業が終了してから次の版離れ作業(工程)が終了するまでの間にブレード清掃作業(工程)が完了するようにすれば、マスク清掃作業のためにスクリーン印刷装置1の稼働を停止させる必要がないのは勿論のこと、ブレード清掃作業(工程)のためにもスクリーン印刷装置1の稼働を停止させる必要がない。よって本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1(スクリーン印刷方法)によれば、スクリーン印刷装置1(ひいては部品実装ライン)の生産性の低下を防止しつつ、マスク13の清掃作業で掻き取ったペーストPstが次のマスク13に付着してしまう事態を防止することができる。 In this way, after the plate separation work (process) is completed, the mask cleaning work (process) is performed before the next contact work (process) is started, and after the mask cleaning work is completed, the next contact work (process) is started. Of course, if the blade cleaning work (process) is completed before the plate separation work (process) is finished, there is no need to stop the operation of the screen printing apparatus 1 for the mask cleaning work. There is no need to stop the operation of the screen printing apparatus 1 even for blade cleaning work (process). Therefore, according to the screen printing apparatus 1 (screen printing method) of the present embodiment, the paste Pst scraped off during the cleaning work of the mask 13 can be prevented from decreasing the productivity of the screen printing apparatus 1 (as a result, the component mounting line). It is possible to prevent a situation in which the mask 13 is attached to the next mask 13.

前述の説明では、1枚の基板KBについてペーストPstの印刷が終了するごとにマスク清掃作業を実行する場合を説明したが、マスク清掃作業(工程)は、基板KBが1枚印刷されるごとに行われなければならないわけではなく、基板KBが数枚印刷されるごとに行われるのであってもよい。あるいは図22に示すように、版離れ終了直後のマスク13の下面をカメラ15によって撮像し、これにより得られた画像GZ(図23)に基づいて、開口13KにおけるペーストPstの付着状況を調べる。そして、図23に示すように、マスク13の開口13Kに滲み部分NJや詰まり部分TMが認められた場合に、それを契機としてマスク清掃作業を行い、その後にブレード清掃作業を行うようにしてもよい。 In the above explanation, the case where the mask cleaning work is performed every time printing of paste Pst is completed for one board KB has been explained, but the mask cleaning work (process) is performed every time one board KB is printed. This does not necessarily have to be done, and may be done every time several boards KB are printed. Alternatively, as shown in FIG. 22, the lower surface of the mask 13 immediately after the plate separation is completed is imaged by the camera 15, and the adhesion status of the paste Pst in the opening 13K is examined based on the image GZ (FIG. 23) obtained thereby. As shown in FIG. 23, if a smudge NJ or a clogged part TM is found in the opening 13K of the mask 13, this may be used as an opportunity to perform mask cleaning work, and then perform blade cleaning work. good.

(第1変形例)
本実施の形態における第1変形性を示す。第1変形例では、図24に示すように、ブレード清掃ユニット23が備えるギア75が斜歯歯車ではなく平歯車になっている。また、ギア接触部材83が備える開口部83Kが平面視において台形上になっており、X方向に対向する2辺のうち左側の辺は、ギア75の外周歯75Tの向きとほぼ一致するように斜めを向いている。このような構成であっても、拭取り材移動機構62が拭取り材ホルダ73を移動させることによってギア75がギア接触部材83に接触すると、拭取り材ホルダ73が回転軸73aの軸線73Jを中心に回転するので、前述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
(First modification)
The first deformability in this embodiment is shown. In the first modification, as shown in FIG. 24, the gear 75 included in the blade cleaning unit 23 is a spur gear instead of a helical gear. Further, the opening 83K of the gear contact member 83 has a trapezoidal shape in plan view, and the left side of the two sides facing each other in the facing diagonally. Even with such a configuration, when the wiping material moving mechanism 62 moves the wiping material holder 73 and the gear 75 contacts the gear contact member 83, the wiping material holder 73 moves along the axis 73J of the rotating shaft 73a. Since it rotates around the center, it is possible to obtain the same effect as in the embodiment described above.

(第2変形例)
次に、本実施の形態における第2変形例を示す。第2変形例では、図25に示すように、ブレード清掃ユニット保持部24が、マスク保持部14とは別部材となっている。すなわち、第2変形例では、仕切り部51から後方に延びる一対の案内部54が一対のマスク支持ガイド31の一部ではなく。一対のマスク支持ガイドとは独立した部材となっている。この第2変形例のようにブレード清掃ユニット保持部24がマスク保持部14とは別部材となっている構成は、一対のマスク支持ガイド31のY方向の間隔が基板KBのサイズに合わせて変化させることができるようになっている場合に(図25中に示す矢印H参照)、極めて有用である。
(Second modification)
Next, a second modification of this embodiment will be shown. In the second modification, as shown in FIG. 25, the blade cleaning unit holding section 24 is a separate member from the mask holding section 14. That is, in the second modification, the pair of guide parts 54 extending rearward from the partition part 51 are not part of the pair of mask support guides 31. It is a member independent of the pair of mask support guides. In the configuration in which the blade cleaning unit holding section 24 is a separate member from the mask holding section 14 as in the second modification, the distance between the pair of mask support guides 31 in the Y direction changes according to the size of the board KB. This is extremely useful if the device is configured to allow the user to perform the following steps (see arrow H shown in FIG. 25).

以上説明したように、本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1では、マスク清掃ユニット21のブレード42に付着したペーストPstを拭き取るブレード清掃手段(ブレード清掃ユニット23)を備えているので、マスク清掃ユニット21がマスク13の清掃作業で掻き取ったペーストPstを次の清掃作業でマスク13に付着させてしまう事態を防止することができる。 As described above, the screen printing apparatus 1 according to the present embodiment includes a blade cleaning means (blade cleaning unit 23) for wiping off the paste Pst attached to the blade 42 of the mask cleaning unit 21. It is possible to prevent the paste Pst scraped off during the mask 13 cleaning operation from adhering to the mask 13 during the next cleaning operation.

また、本実施の形態におけるスクリーン印刷装置1(スクリーン印刷方法)では、版離れ作業(工程)が終了した後、次の接触作業(工程)が開始されるまでの間にマスク清掃作業(工程)が実行され、そのマスク清掃作業が終了してから次の版離れ作業(工程)が終了するまでの間にブレード清掃作業(工程)が完了するようになっているので、マスク清掃作業のためにスクリーン印刷装置1の稼働を停止させる必要がないのは勿論のこと、ブレード清掃作業(工程)のためにもスクリーン印刷装置1の稼働を停止させる必要がない。このためスクリーン印刷装置1(ひいては部品実装ライン)の生産性の低下を防止しつつ、マスク13の清掃作業で掻き取ったペーストPstが次のマスク13に付着してしまう事態を防止することができる。 In addition, in the screen printing apparatus 1 (screen printing method) according to the present embodiment, after the plate separation work (process) is finished, the mask cleaning work (process) is performed before the next contact work (process) is started. is executed, and the blade cleaning work (process) is completed between the end of the mask cleaning work and the end of the next plate separation work (process), so the blade cleaning work (process) is completed for the mask cleaning work. Of course, there is no need to stop the operation of the screen printing apparatus 1, and there is no need to stop the operation of the screen printing apparatus 1 for blade cleaning work (process). Therefore, it is possible to prevent the paste Pst scraped off during the cleaning work of the mask 13 from adhering to the next mask 13 while preventing a decrease in the productivity of the screen printing apparatus 1 (and by extension, the component mounting line). .

なお、本実施の形態は、マスク清掃作業(工程)が終了してから次の版離れ作業(工程)が終了するまでの間にブレード清掃作業(工程)が完了する最良の形態で説明したが、ブレード清掃作業(工程)の完了タイミングは、次の版離れ作業(工程)が終了するタイミングよりも後になっても問題ない。すなわち、本発明は、ブレード清掃作業(工程)が少なくとも印刷作業(工程)と重なる時間に行われていればよい。 Note that this embodiment has been described as the best mode in which the blade cleaning work (process) is completed between the end of the mask cleaning work (process) and the end of the next plate separation work (process). There is no problem even if the blade cleaning operation (process) is completed later than the next plate separation operation (process). That is, in the present invention, the blade cleaning work (process) only needs to be performed at least at a time that overlaps with the printing work (process).

これまで本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上述したものに限定されず、種々の変形等が可能である。例えば、上述の実施の形態では、拭取り材74は円周面を備えた立体形状(円柱形状)を有するものであったがこれは一例であり、拭取り材74の形状は限定されない。 Although the embodiments of the present invention have been described so far, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and the like are possible. For example, in the embodiment described above, the wiping material 74 has a three-dimensional shape (cylindrical shape) with a circumferential surface, but this is just an example, and the shape of the wiping material 74 is not limited.

マスクの清掃作業で掻き取ったペーストを次の清掃作業でマスクに付着させてしまう事態を防止することができるスクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法を提供する。 To provide a screen printing device and a screen printing method capable of preventing paste scraped off in a mask cleaning operation from being attached to the mask in the next cleaning operation.

1 スクリーン印刷装置
11 基板搬送部
12 基板保持部
13 マスク
13K 開口
17 基板保持部移動機構
18 印刷ヘッド
21 マスク清掃ユニット(マスク清掃手段)
23 ブレード清掃ユニット(ブレード清掃手段)
42 ブレード
61 拭取り部
Pst ペースト
KB 基板
1 Screen printing device 11 Substrate transport unit 12 Substrate holding unit 13 Mask 13K Opening 17 Substrate holding unit moving mechanism 18 Print head 21 Mask cleaning unit (mask cleaning means)
23 Blade cleaning unit (blade cleaning means)
42 Blade 61 Wiping part Pst Paste KB Board

Claims (4)

所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷装置であって、
搬入された基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部を移動させる基板保持部移動機構と、
前記基板が接触された前記マスクの開口にペーストを充填して前記基板にペーストを印刷する印刷ヘッドと、
これからペーストが印刷される基板を搬入し、前記印刷ヘッドによりペーストが印刷された後、前記基板保持部移動機構によって前記マスクから分離された前記基板を搬出する基板搬送部と、
前記印刷ヘッドによるペーストの充填により前記マスクの裏面に付着したペーストをブレードによって掻き取るマスク清掃作業を行うマスク清掃手段と、
前記ブレードが掻き取ったペーストを拭き取るブレード清掃作業を行うブレード清掃手段と、を備え、
前記基板搬送部によって前記基板を搬入して前記基板保持部に保持させる搬入作業、前記基板保持部が保持した前記基板を前記マスクに位置合わせし、前記基板保持部移動機構によって前記マスクの下面に接触させる接触作業、前記基板が接触された前記マスクの開口に前記印刷ヘッドによって前記ペーストを充填する印刷作業、前記ペーストが印刷された基板を前記基板保持部移動機構によって前記マスクから分離させる版離れ作業、前記マスクから分離された前記基板を前記基板搬送部によって搬出する搬出作業をこの順で行うようになっており、
前記版離れ作業が終了した後、次の接触作業が開始されるまでの間に前記マスク清掃作業が実行され、前記ブレード清掃作業は少なくとも前記印刷作業と重なる時間に行われる、スクリーン印刷装置。
A screen printing device that prints paste on a substrate using a mask in which predetermined openings are formed,
a board holding section that holds the loaded board;
a substrate holder moving mechanism that moves the substrate holder;
a print head that prints the paste on the substrate by filling the opening of the mask that is in contact with the substrate with paste;
a substrate transport unit that carries in a substrate on which a paste is to be printed, and carries out the substrate separated from the mask by the substrate holding unit moving mechanism after the paste has been printed by the print head;
a mask cleaning means for performing a mask cleaning operation of scraping off the paste attached to the back surface of the mask with a blade due to paste filling by the printing head;
A blade cleaning means for performing a blade cleaning operation of wiping off the paste scraped by the blade,
A loading operation in which the substrate is carried in by the substrate transport unit and held by the substrate holding unit, the substrate held by the substrate holding unit is aligned with the mask, and the substrate holding unit moving mechanism is moved to the lower surface of the mask. a contacting operation in which the substrate is brought into contact with the mask, a printing operation in which the printing head fills the paste into an opening of the mask that the substrate is in contact with, and a plate separation in which the substrate on which the paste is printed is separated from the mask by the substrate holder moving mechanism. work, and a carry-out operation of carrying out the substrate separated from the mask by the substrate transport unit, are performed in this order,
In the screen printing apparatus, the mask cleaning work is performed after the plate separation work is finished and before the next contact work is started, and the blade cleaning work is performed at least at a time that overlaps with the printing work.
前記ブレード清掃作業は、次の版離れ作業が終了するまでに完了する、請求項1に記載のスクリーン印刷装置。 The screen printing apparatus according to claim 1, wherein the blade cleaning operation is completed before the next plate separation operation is completed. 所定の開口が形成されたマスクを用いて基板にペーストを印刷するスクリーン印刷方法であって、
これからペーストが印刷される基板を搬入する基板搬入工程と、
前記基板搬入工程で搬入した基板を前記マスクに位置合わせして前記マスクの下面に接触させる接触工程と、
前記接触工程で前記基板を接触させた前記マスクの開口にペーストを充填して前記基板にペーストを印刷する印刷工程と、
前記印刷工程の後、前記基板を前記マスクから分離させる版離れ工程と、
前記版離れ工程で前記マスクから分離された前記基板を搬出する基板搬出工程と、
前記印刷工程で前記マスクの下面に付着したペーストを前記ブレードによって掻き取るマスク清掃工程と、
前記マスク清掃工程で前記ブレードが掻き取ったペーストを拭き取るブレード清掃工程と、
を含み、
前記版離れ工程が終了した後、次の接触工程が開始されるまでの間に前記マスク清掃工程を実行し、前記ブレード清掃工程は少なくとも前記印刷工程と重なる時間に行われる、スクリーン印刷方法。
A screen printing method in which paste is printed on a substrate using a mask in which predetermined openings are formed, the method comprising:
a board loading process of transporting the board on which the paste will be printed;
a contacting step of aligning the substrate carried in in the substrate carrying step with the mask and bringing it into contact with the lower surface of the mask;
a printing step of printing the paste on the substrate by filling the opening of the mask that was brought into contact with the substrate in the contacting step;
After the printing step, a plate separation step of separating the substrate from the mask;
a substrate unloading step of unloading the substrate separated from the mask in the plate separation step;
a mask cleaning step of scraping off the paste attached to the lower surface of the mask in the printing step with the blade;
a blade cleaning step of wiping off the paste scraped by the blade in the mask cleaning step;
including;
A screen printing method, wherein the mask cleaning step is performed after the plate separation step is completed and before the next contact step is started, and the blade cleaning step is performed at least at a time that overlaps with the printing step.
前記ブレード清掃工程は、次の版離れ工程が終了するまでに完了する、請求項3に記載のスクリーン印刷方法。 4. The screen printing method according to claim 3, wherein the blade cleaning step is completed before the next plate separation step is completed.
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