JP2023156256A - カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - Google Patents

カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2023156256A
JP2023156256A JP2023064357A JP2023064357A JP2023156256A JP 2023156256 A JP2023156256 A JP 2023156256A JP 2023064357 A JP2023064357 A JP 2023064357A JP 2023064357 A JP2023064357 A JP 2023064357A JP 2023156256 A JP2023156256 A JP 2023156256A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
hydrocarbon group
contained
carboxylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023064357A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2023156256A5 (https=
Inventor
勝洋 小室
Katsuhiro Komuro
榛花 本間
Haruka Homma
幸司 市川
Koji Ichikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Publication of JP2023156256A publication Critical patent/JP2023156256A/ja
Publication of JP2023156256A5 publication Critical patent/JP2023156256A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
JP2023064357A 2022-04-12 2023-04-11 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 Pending JP2023156256A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022065695 2022-04-12
JP2022065695 2022-04-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023156256A true JP2023156256A (ja) 2023-10-24
JP2023156256A5 JP2023156256A5 (https=) 2026-02-26

Family

ID=88421340

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023064357A Pending JP2023156256A (ja) 2022-04-12 2023-04-11 カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2023156256A (https=)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2023165659A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023168300A (ja) レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023156257A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023147265A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023147263A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023001098A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023156256A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023156260A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023168301A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2024009782A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023184475A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023160799A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023160801A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023184474A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023165664A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023177295A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023171328A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2024031937A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023177303A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023147264A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2024022558A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2024007483A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023184476A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2024002972A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2023177297A (ja) カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20260217

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20260217