JP2023153847A - Support member - Google Patents

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    • H01M10/058Construction or manufacture
    • H01M10/0585Construction or manufacture of accumulators having only flat construction elements, i.e. flat positive electrodes, flat negative electrodes and flat separators

Abstract

To provide a reaction apparatus or the like capable of efficiently producing a desired product.SOLUTION: In a reaction apparatus 10, a kiln part 100 comprises: a rotatably stretching cylinder part 103; a raw material feed port 101 receiving raw material fed from one end side of the cylinder part 103; and a delivery port 102 delivering a reaction product to the other end side. A liquid feed device 120 comprises: a fluid feed pipe 121 stretching from one end side or the other end side to the inside of the cylinder part; and a fluid feed port 122 provided at the fluid feed pipe 121 so as to discharge a pressure-fed prescribed fluid to the inside of the cylinder part. In a contact region 105, the fluid discharged from the fluid feed port 122 and the raw material are brought into contact with each other. A fluid suction device 130 comprises: a fluid suction port 132 provided so as to suck the fluid having passed through the contact region 105; and a fluid suction pipe 131 pressure-feeding the fluid sucked from the fluid suction port 132 to the outer part of the kiln part 100.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は反応装置に用いられる支持部材に関する。 The present invention relates to a support member used in a reaction device.

原料に対して所定の雰囲気を与えることにより所望の製品を連続的に製造するための反応装置が存在する。例えば一般には、ロータリーキルンと称される反応装置は、中心軸周りに回転する中空のキルン部を加熱し、このキルン部に材料を転動させながら通過させることにより所望の製品を製造する。また例えばローラーハースキルンと称される反応装置は、トンネル型のキルン部に原料やワークを通過させることにより所望の製品を製造する。またその他にも種々の反応装置が開発されている。 Reactors exist for continuously producing desired products by applying a predetermined atmosphere to raw materials. For example, a reaction apparatus generally referred to as a rotary kiln heats a hollow kiln section that rotates around a central axis, and produces a desired product by rolling material through the kiln section. For example, a reaction device called a roller hearth kiln manufactures a desired product by passing raw materials and workpieces through a tunnel-shaped kiln section. In addition, various other reaction devices have been developed.

例えば特許文献1は、以下の反応装置について開示している。反応装置は、圧力反応容器となるスクリュフィーダ本体と、スクリュフィーダ本体内に触媒を導入する触媒供給部と、スクリュフィーダ本体内に低級炭化水素を導入する低級炭化水素供給部と、を有する。またこの反応装置は、生成したナノ炭素を移送するスクリュと、スクリュによって移送される触媒とナノ炭素を送出する固体送出部と、生成した水素をフィーダ本体外に送出する気体送出部と、を有する。 For example, Patent Document 1 discloses the following reaction apparatus. The reaction apparatus includes a screw feeder main body serving as a pressure reaction vessel, a catalyst supply section that introduces a catalyst into the screw feeder main body, and a lower hydrocarbon supply section that introduces lower hydrocarbons into the screw feeder main body. The reactor also includes a screw for transferring the generated nanocarbon, a solid delivery section for sending out the catalyst and nanocarbon transferred by the screw, and a gas delivery section for sending the generated hydrogen out of the feeder main body. .

特開2006-290682号公報Japanese Patent Application Publication No. 2006-290682

所で、固体電解質などの所望の反応生成物を製造する場合には、例えば原料に対して摂氏1000度を超える熱を付与する工程が必要となる。また固体電解質などの所望の反応生成物を製造する場合には、反応工程において所定の雰囲気ガスなどの流体に接触させることが望まれる。しかしながらこのような温度や雰囲気ガスを用いて好適に反応を生じさせるには、上述の技術を含む複数の装置を用いなければならず、所望の製品を効率よく製造することが困難だった。 However, when producing a desired reaction product such as a solid electrolyte, a step of applying heat of over 1000 degrees Celsius to the raw material is required, for example. Furthermore, when producing a desired reaction product such as a solid electrolyte, it is desirable to bring it into contact with a fluid such as a predetermined atmospheric gas in the reaction process. However, in order to suitably cause a reaction using such temperatures and atmospheric gases, it is necessary to use a plurality of devices including the above-mentioned techniques, making it difficult to efficiently produce the desired product.

本開示は、このような課題を解決するためになされたものであって、所望の製品を効率よく製造する反応装置等を提供するものである。 The present disclosure has been made to solve such problems, and provides a reaction apparatus and the like that efficiently manufacture desired products.

本開示にかかる反応装置は、キルン部、流体供給装置、接触領域および流体吸引装置を有する。キルン部は、中心軸に沿って回転可能に延伸する筒部と、筒部の一端側から供給される原料を受け入れる原料供給口と、筒部の他端側に反応生成物を送出する送出口と、を有する。流体供給装置は、一端側または他端側から筒部の内側に延伸する流体供給管と、流体供給管により圧送された所定の流体を筒部の内側に放出可能に流体供給管に設けられた流体供給口と、を有する。接触領域は、流体供給口から放出された流体と原料とが接触する。流体吸引装置は、接触領域を通過した流体を吸引可能に設けられた流体吸引口と、流体吸引口から吸引した流体をキルン部の外部に圧送する流体吸引管と、を有する。 A reactor according to the present disclosure includes a kiln section, a fluid supply device, a contact area, and a fluid suction device. The kiln section includes a cylindrical section that rotatably extends along a central axis, a raw material supply port that receives raw materials supplied from one end of the cylindrical section, and a delivery port that delivers reaction products to the other end of the cylindrical section. and has. The fluid supply device includes a fluid supply pipe extending from one end side or the other end side to the inside of the cylindrical part, and a fluid supply pipe provided in the fluid supply pipe so as to be able to discharge a predetermined fluid pumped by the fluid supply pipe to the inside of the cylindrical part. A fluid supply port. In the contact area, the fluid discharged from the fluid supply port contacts the raw material. The fluid suction device includes a fluid suction port that is provided to be able to suction the fluid that has passed through the contact area, and a fluid suction pipe that pumps the fluid sucked from the fluid suction port to the outside of the kiln section.

本開示にかかる反応生成物製造方法は、反応生成物を製造する使用者が以下の工程を実行する。使用者は、中心軸に沿って回転可能に延伸する筒部と、筒部の一端側から供給される原料を受け入れる原料供給口と、筒部の他端側に反応生成物を送出する送出口と、を有するキルン部を用意する。使用者は、キルン部の内部を所定の温度に加熱する。使用者は、筒部に離間して筒部の内側に設けられた流体供給口から所定の流体を放出する。使用者は、筒部に離間して筒部の内側に設けられた流体吸引口から筒部の内側の流体を吸引する。使用者は、流体供給口から原料を供給する。使用者は、キルン部を回転させることにより、原料を流体に接触させながら中心軸に平行な方向に沿って送出口へ搬送し、原料と流体とを接触させる。使用者は、送出口から反応生成物を送出する。 In the method for producing a reaction product according to the present disclosure, a user who produces a reaction product performs the following steps. The user has a cylindrical part that extends rotatably along the central axis, a raw material supply port that receives raw materials supplied from one end of the cylindrical part, and a delivery port that delivers a reaction product to the other end of the cylindrical part. A kiln section having the following is prepared. A user heats the inside of the kiln section to a predetermined temperature. A user discharges a predetermined fluid from a fluid supply port provided inside the cylindrical portion and spaced apart from the cylindrical portion. A user aspirates the fluid inside the cylindrical portion from a fluid suction port provided inside the cylindrical portion and spaced apart from the cylindrical portion. The user supplies the raw material through the fluid supply port. By rotating the kiln section, the user conveys the raw material to the outlet along a direction parallel to the central axis while bringing the raw material into contact with the fluid, thereby bringing the raw material into contact with the fluid. The user delivers the reaction product through the delivery port.

本開示によれば、所望の製品を効率よく製造する反応装置等を提供することができる。 According to the present disclosure, it is possible to provide a reaction apparatus and the like that efficiently produce a desired product.

実施の形態1にかかる反応装置の側面方向の断面図である。1 is a side cross-sectional view of the reaction device according to Embodiment 1. FIG. 反応装置が実行する処理のフローチャートである。It is a flowchart of the process which a reaction apparatus performs. 実施の形態2にかかる反応装置の側面方向の断面図である。FIG. 2 is a side cross-sectional view of a reaction device according to a second embodiment. 実施の形態2にかかる反応装置の正面方向の断面図である。FIG. 3 is a front cross-sectional view of the reaction device according to the second embodiment. 実施の形態3にかかる反応装置の側面方向の断面図である。FIG. 7 is a side cross-sectional view of the reaction device according to Embodiment 3; 実施の形態4にかかる反応装置の側面方向の断面図である。FIG. 7 is a side cross-sectional view of a reaction device according to a fourth embodiment. 実施の形態5にかかる反応システムの構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a reaction system according to a fifth embodiment. 実施の形態6にかかる反応システムの構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a reaction system according to a sixth embodiment. 実施の形態7にかかる電池用材料製造システムの構成図である。FIG. 7 is a configuration diagram of a battery material manufacturing system according to a seventh embodiment.

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、特許請求の範囲にかかる発明を以下の実施形態に限定するものではない。また、実施形態で説明する構成の全てが課題を解決するための手段として必須であるとは限らない。説明の明確化のため、以下の記載および図面は、適宜、省略、および簡略化がなされている。なお、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。 The present invention will be described below through embodiments of the invention, but the claimed invention is not limited to the following embodiments. Furthermore, not all of the configurations described in the embodiments are essential as means for solving the problem. For clarity of explanation, the following description and drawings are omitted and simplified as appropriate. Note that in each drawing, the same elements are designated by the same reference numerals, and redundant explanations will be omitted as necessary.

<実施の形態1>
図1を参照しながら、実施の形態1にかかる反応装置の主な構成について説明する。図1は、実施の形態1にかかる反応装置10の側面方向の断面図である。反応装置10は、原料に所定の物理的な刺激等の条件を与えることにより反応生成物を製造するための装置である。
<Embodiment 1>
The main configuration of the reaction apparatus according to the first embodiment will be described with reference to FIG. 1. FIG. 1 is a side cross-sectional view of a reaction device 10 according to the first embodiment. The reaction apparatus 10 is an apparatus for producing a reaction product by applying conditions such as predetermined physical stimulation to raw materials.

原料や反応生成物の種類や状態は特に制限されないが、リチウムを成分の一つに含む金属酸化物や金属硫化物のような無機物であってもよいし、炭化水素のような有機物であってもよい。また、原料や反応生成物の形状や大きさは特に制限されないが、形状が塊状の場合の対角長さは、好ましくは0.1mm~50mmであり、さらに好ましくは1~20mmである。さらに、原料や反応生成物の形状が塊状の場合、対角長さの比率(アスペクト比)は、好ましくは1~10であり、さらに好ましくは1.3~1.8である。反応装置10は主な構成として、キルン部100、接触領域105、流体供給装置120および流体吸引装置130を有する。また反応装置10は上記構成に加えて、フィーダ140、キルンフット150、駆動装置160等を有する。 The types and conditions of the raw materials and reaction products are not particularly limited, but they may be inorganic substances such as metal oxides or metal sulfides containing lithium as one of the components, or organic substances such as hydrocarbons. Good too. Further, the shape and size of the raw materials and reaction products are not particularly limited, but when the shape is blocky, the diagonal length is preferably 0.1 mm to 50 mm, more preferably 1 to 20 mm. Further, when the raw material or reaction product is in the form of a lump, the ratio of diagonal lengths (aspect ratio) is preferably 1 to 10, more preferably 1.3 to 1.8. The reactor 10 mainly includes a kiln section 100, a contact area 105, a fluid supply device 120, and a fluid suction device 130. In addition to the above configuration, the reaction apparatus 10 also includes a feeder 140, a kiln foot 150, a drive device 160, and the like.

キルン部100は主な構成として、原料供給口101、送出口102および筒部103を有する。原料供給口101は、一端側に供給される原料R10を受け入れる。送出口102は、他端側に反応生成物R11を送出する。筒部103は、一端側に原料供給口101を有し他端側に送出口102を有する円筒状の部材であって、中心軸C10に沿って回転可能に延伸する。 The main components of the kiln section 100 include a raw material supply port 101, a discharge port 102, and a cylinder section 103. The raw material supply port 101 receives the raw material R10 supplied to one end side. The delivery port 102 delivers the reaction product R11 to the other end. The cylindrical portion 103 is a cylindrical member having a raw material supply port 101 at one end and a delivery port 102 at the other end, and extends rotatably along the central axis C10.

キルン部100は受け入れる原料に対して室温から摂氏1500度の範囲における所定の温度を付与する。そのため、キルン部100の主たる構成はこの温度に耐えうる部材により形成されている。すなわちキルン部100は例えば、ニッケル、コバルト、クロム、鉄、銅、アルミニウム、チタン、タングステン、ニオブ、タンタル、モリブデン、ケイ素、硼素、炭素の少なくとも一つを成分として含む合金や、アルミナやジルコニアなどの金属酸化物、窒化ケイ素などの窒化物、炭化チタンなどの炭化物、クロム硼化物などの硼化物を含むセラミックスや、結晶質グラファイトや繊維強化グラファイトのようなカーボンにより形成されるか、上記合金と上記セラミックスと上記カーボンのいずれかを組み合わせた複合材、被覆材、接合材により形成され得る。 The kiln section 100 applies a predetermined temperature in the range of room temperature to 1500 degrees Celsius to the raw materials it receives. Therefore, the main structure of the kiln section 100 is formed of a member that can withstand this temperature. That is, the kiln section 100 is made of, for example, an alloy containing at least one of nickel, cobalt, chromium, iron, copper, aluminum, titanium, tungsten, niobium, tantalum, molybdenum, silicon, boron, and carbon as a component, or alumina or zirconia. It is formed of ceramics containing metal oxides, nitrides such as silicon nitride, carbides such as titanium carbide, borides such as chromium boride, or carbon such as crystalline graphite or fiber-reinforced graphite, or is formed of the above alloys and the above. It can be formed from a composite material, a coating material, or a bonding material that combines ceramics and any of the above-mentioned carbons.

キルン部100は筒部103における供給口側が送出口側より高くなるように傾斜して設置されてもよい。図1に示すキルン部100は、筒部103の中心軸C10が水平方向に対して所定の角度θの傾斜を有している。これにより、キルン部100は、受け入れた所定の原料R10が筒部103の内壁に接触しながら中心軸C10に沿って送出口102へ搬送されるように構成されている。なお、角度θは-90度から+90度の範囲から選択し得る。 The kiln section 100 may be installed at an angle so that the supply port side of the cylinder section 103 is higher than the delivery port side. In the kiln section 100 shown in FIG. 1, the central axis C10 of the cylindrical section 103 has an inclination of a predetermined angle θ with respect to the horizontal direction. Thereby, the kiln section 100 is configured such that the received predetermined raw material R10 is conveyed to the outlet 102 along the central axis C10 while contacting the inner wall of the cylindrical section 103. Note that the angle θ can be selected from the range of −90 degrees to +90 degrees.

図1に示すキルン部100の原料供給口101には、軸受け104を介してフィーダ140が係合する。フィーダ140は、キルン部100における原料供給口101の側を回転可能に支持する。すなわちフィーダ140は、キルン部100を支持する支持部である。フィーダ140は上方に設けられた開口部である原料投入口141から原料R10を受け入れて、受け入れた原料R10を原料供給口101に案内する。 A feeder 140 is engaged with the raw material supply port 101 of the kiln section 100 shown in FIG. 1 via a bearing 104. The feeder 140 rotatably supports the raw material supply port 101 side of the kiln section 100. That is, the feeder 140 is a support section that supports the kiln section 100. The feeder 140 receives the raw material R10 from the raw material input port 141, which is an opening provided above, and guides the received raw material R10 to the raw material supply port 101.

またキルン部100の送出口102には、軸受け104を介してキルンフット150が係合する。キルンフット150は送出口102の側を回転可能に支持する。すなわちキルンフット150はキルン部100を支持する支持部である。またキルンフット150は反応生成物出口151を有しており、送出口102から送出される反応生成物R11を反応生成物出口151から送出する。さらに、キルンフット150は、流体供給装置120および流体吸引装置130を固定する。 Further, a kiln foot 150 is engaged with the outlet 102 of the kiln section 100 via a bearing 104 . The kiln foot 150 rotatably supports the outlet 102 side. That is, the kiln foot 150 is a support part that supports the kiln section 100. Further, the kiln foot 150 has a reaction product outlet 151, and the reaction product R11 sent out from the delivery port 102 is sent out from the reaction product outlet 151. Furthermore, kiln foot 150 secures fluid supply device 120 and fluid suction device 130.

なお、フィーダ140は、キルンフット150に代えて、またはキルンフット150とともに、流体供給装置120および流体吸引装置130のうち少なくともいずれか一方を固定してもよい。すなわちフィーダ140およびキルンフット150のうち少なくともいずれか一方は、支持部として、流体供給装置120および流体吸引装置130を固定する。このとき例えばフィーダ140が流体供給装置120を固定し、キルンフット150が流体吸引装置130を固定するものであってもよいし、あるいはその逆でもよい。 Note that the feeder 140 may fix at least one of the fluid supply device 120 and the fluid suction device 130 in place of or together with the kiln foot 150. That is, at least one of the feeder 140 and the kiln foot 150 serves as a support for fixing the fluid supply device 120 and the fluid suction device 130. At this time, for example, the feeder 140 may fix the fluid supply device 120 and the kiln foot 150 may fix the fluid suction device 130, or vice versa.

流体供給装置120は、キルン部100に所定の流体を供給するための装置である。所定の流体とは、気体または液体であるが、流動性を有する場合には粉末等の固体を含むものであってもよい。流体供給装置120は主な構成として流体供給管121と流体供給口122とを有する。流体供給装置120は上述の構成の他に、所定の流体を貯留しておく貯留部や、この流体を圧送するためのポンプを有し得る。 The fluid supply device 120 is a device for supplying a predetermined fluid to the kiln section 100. The predetermined fluid is a gas or a liquid, but may also include a solid such as a powder if it has fluidity. The fluid supply device 120 has a fluid supply pipe 121 and a fluid supply port 122 as main components. In addition to the above-described configuration, the fluid supply device 120 may include a storage section that stores a predetermined fluid and a pump that pumps this fluid.

流体供給管121は、キルン部100の一端側または他端側から筒部103の内側に延伸するように構成された流体運搬用の管である。図1において、流体供給管121は、キルンフット150に固定されており、キルンフット150からキルン部100の筒部103に向かって延伸している。 The fluid supply pipe 121 is a fluid transport pipe configured to extend from one end side or the other end side of the kiln section 100 to the inside of the cylindrical section 103. In FIG. 1, the fluid supply pipe 121 is fixed to the kiln foot 150 and extends from the kiln foot 150 toward the cylindrical portion 103 of the kiln section 100.

流体供給口122は、流体供給管121により圧送された所定の流体を筒部103の内側に放出可能に流体供給管121に設けられた開口部である。図1に示す流体供給口122は複数の孔が設けられている。しかし、流体供給口122は1つの孔であってもよいし、所定の流体を通過させられるポーラス状の部材であってもよい。 The fluid supply port 122 is an opening provided in the fluid supply pipe 121 so that a predetermined fluid pumped by the fluid supply pipe 121 can be released into the cylindrical portion 103 . The fluid supply port 122 shown in FIG. 1 is provided with a plurality of holes. However, the fluid supply port 122 may be a single hole or may be a porous member through which a predetermined fluid can pass.

流体吸引装置130は、キルン部100の内部に存在する流体を吸引してキルン部100の外部に排出するための装置である。流体吸引装置130が吸引する流体は、例えば流体供給装置120が供給した流体であって、原料R10と接触したものを含む。流体吸引装置130主な構成として、流体吸引管131と流体吸引口132とを有する。流体吸引装置130は上述の構成の他に、流体を能動的に吸引するための吸引ポンプや、強制排気装置などを有し得る。 The fluid suction device 130 is a device for sucking fluid present inside the kiln section 100 and discharging it to the outside of the kiln section 100. The fluid sucked by the fluid suction device 130 includes, for example, the fluid supplied by the fluid supply device 120 that has come into contact with the raw material R10. The fluid suction device 130 mainly includes a fluid suction tube 131 and a fluid suction port 132. In addition to the above-described configuration, the fluid suction device 130 may include a suction pump for actively suctioning fluid, a forced exhaust device, and the like.

流体吸引口132は、接触領域105を通過した流体を吸引可能に設けられた開口部である。流体吸引管131は、流体吸引口132から吸引した流体をキルン部100の外部に圧送する管である。図1において、流体吸引管131は、キルンフット150に固定されており、キルンフット150からキルン部100の筒部103に向かって延伸している。 The fluid suction port 132 is an opening provided to be able to suction the fluid that has passed through the contact area 105. The fluid suction pipe 131 is a pipe that pumps the fluid sucked from the fluid suction port 132 to the outside of the kiln section 100. In FIG. 1, the fluid suction tube 131 is fixed to the kiln foot 150 and extends from the kiln foot 150 toward the cylindrical portion 103 of the kiln section 100.

上述した流体供給装置120および流体吸引装置130は例えば、ニッケル、コバルト、クロム、鉄、銅、アルミニウム、チタン、タングステン、ニオブ、タンタル、モリブデン、ケイ素、硼素、炭素の少なくとも一つを成分として含む合金や、アルミナやジルコニアなどの金属酸化物、窒化ケイ素などの窒化物、炭化チタンなどの炭化物、クロム硼化物などの硼化物を含むセラミックスや、結晶質グラファイトや繊維強化グラファイトのようなカーボンにより形成されるか、上記合金と上記セラミックスと上記カーボンのいずれかを組み合わせた複合材、被覆材、接合材により形成され得る。 The fluid supply device 120 and the fluid suction device 130 described above are made of, for example, an alloy containing at least one of nickel, cobalt, chromium, iron, copper, aluminum, titanium, tungsten, niobium, tantalum, molybdenum, silicon, boron, and carbon as a component. It is formed from ceramics containing metal oxides such as alumina and zirconia, nitrides such as silicon nitride, carbides such as titanium carbide, borides such as chromium boride, and carbon such as crystalline graphite and fiber-reinforced graphite. Alternatively, it may be formed of a composite material, a coating material, or a bonding material combining any of the above alloys, the above ceramics, and the above carbons.

なお、流体供給装置120と筒部103の内壁とは離間した状態が維持されている。同様に、流体吸引装置130と筒部103の内壁とは離間した状態が維持されている。これにより流体供給装置120および流体吸引装置130は、キルン部100の回転を妨げないように構成されている。 Note that the fluid supply device 120 and the inner wall of the cylindrical portion 103 remain separated from each other. Similarly, the fluid suction device 130 and the inner wall of the cylindrical portion 103 remain separated from each other. Thereby, the fluid supply device 120 and the fluid suction device 130 are configured so as not to interfere with the rotation of the kiln section 100.

流体供給装置120と流体吸引装置130とは連結された状態でキルンフット150に固定されていてもよいしそれぞれ独立してキルンフット150に固定されてもよい。流体供給装置120と流体吸引装置130とはキルンフット150に固定され、さらにフィーダ140により支持されていてもよい。 The fluid supply device 120 and the fluid suction device 130 may be fixed to the kiln foot 150 in a connected state, or may be fixed to the kiln foot 150 independently. The fluid supply device 120 and the fluid suction device 130 may be fixed to the kiln foot 150 and further supported by the feeder 140.

図1に示すように、流体吸引口132と流体供給口122とは、中心軸C10に平行な方向に沿って離間していることが好ましい。図1において流体供給口122は筒部103の上流側に位置し、原料R10が存在する下方に流体を放出している。また流体吸引口132は中心軸C10に沿った方向において流体供給口122から離間した下流側に位置し、下方に存在する流体を吸引している。このような構成により、反応装置10は流体供給口122と流体吸引口132との間において流体供給口122から供給された流体と原料R10とが接触する領域である接触領域105を好適に設けることができる。 As shown in FIG. 1, the fluid suction port 132 and the fluid supply port 122 are preferably spaced apart along a direction parallel to the central axis C10. In FIG. 1, the fluid supply port 122 is located on the upstream side of the cylindrical portion 103, and discharges fluid downward where the raw material R10 is present. Further, the fluid suction port 132 is located on the downstream side away from the fluid supply port 122 in the direction along the central axis C10, and sucks the fluid present below. With such a configuration, the reaction apparatus 10 preferably provides a contact region 105 between the fluid supply port 122 and the fluid suction port 132, which is a region where the fluid supplied from the fluid supply port 122 and the raw material R10 come into contact. I can do it.

接触領域105は、流体供給口122から放出された流体と原料R10とが接触する領域である。図1において太い二点鎖線により示された領域が接触領域105である。接触領域105において、原料R10は転動流動しながら流体供給装置120から供給された流体に接触する。これにより原料R10は所定の反応生成物R11になり、送出口102に搬送される。また流体供給口122から供給された流体は接触領域105を通過した後に接触領域105の下流側に位置する流体吸引口132に吸引される。 The contact area 105 is an area where the fluid discharged from the fluid supply port 122 and the raw material R10 come into contact. The area indicated by the thick two-dot chain line in FIG. 1 is the contact area 105. In the contact area 105, the raw material R10 contacts the fluid supplied from the fluid supply device 120 while rolling and flowing. As a result, the raw material R10 becomes a predetermined reaction product R11, which is conveyed to the outlet 102. Further, the fluid supplied from the fluid supply port 122 passes through the contact area 105 and is then sucked into the fluid suction port 132 located on the downstream side of the contact area 105.

温度制御装置110は、キルン部100の外周部を加熱または冷却することによりキルン部100の温度を制御する。温度制御装置110は例えば室温から摂氏1500度程度の範囲の加熱を行う。温度制御装置110は、例えば筒状のキルン部100の周囲を囲むように加熱装置を有している。加熱装置は例えば誘導加熱ヒータ、シースヒータ、コイルヒータまたはセラミックヒータなどの温度制御可能な任意のヒータを含む。あるいは加熱装置は、ガスを燃焼して加熱した流体を循環させるものであってもよい。温度制御装置110は、キルン部100の温度を制御するための制御装置を含みうる。例えば温度制御装置110は、キルン部100の所定の位置に温度を監視するための温度計を有していてもよい。 The temperature control device 110 controls the temperature of the kiln section 100 by heating or cooling the outer circumference of the kiln section 100. The temperature control device 110 performs heating in a range from room temperature to about 1500 degrees Celsius, for example. The temperature control device 110 includes a heating device surrounding the cylindrical kiln section 100, for example. The heating device includes any heater whose temperature can be controlled, such as an induction heater, a sheath heater, a coil heater, or a ceramic heater. Alternatively, the heating device may be one that circulates a heated fluid by burning gas. Temperature control device 110 may include a control device for controlling the temperature of kiln section 100. For example, the temperature control device 110 may include a thermometer at a predetermined position in the kiln section 100 for monitoring the temperature.

なお、温度制御装置110はキルン部100の延伸方向に沿って複数設置されていてもよい。反応装置10は例えば、原料供給口101に比較的に近い側であって、原料供給口101から離間した位置に第1温度制御部110Aを有し、第1温度制御部110Aよりも送出口102に比較的に近い側に第2温度制御部110Bを有し得る。この場合例えば、原料供給口101における内部温度は原料供給口101の領域では室温となる。また第1温度制御部110Aはキルン部100の内部温度を例えば500度になるように制御する。さらに第2温度制御部110Bはキルン部100の内部温度を例えば1500度になるように制御する。 Note that a plurality of temperature control devices 110 may be installed along the extending direction of the kiln section 100. For example, the reactor 10 has a first temperature control section 110A located on a side relatively close to the raw material supply port 101 and further away from the raw material supply port 101. The second temperature control section 110B may be provided on the side relatively close to the second temperature control section 110B. In this case, for example, the internal temperature at the raw material supply port 101 becomes room temperature in the region of the raw material supply port 101. Further, the first temperature control section 110A controls the internal temperature of the kiln section 100 to, for example, 500 degrees. Further, the second temperature control section 110B controls the internal temperature of the kiln section 100 to, for example, 1500 degrees.

この場合、反応装置10は、第1温度制御部110Aにより設定された温度(500度)の領域において原料R10を脱脂し、第2温度制御部110Bにより設定された温度(1500度)の領域において原料R10を焼結し得る。上述のように、反応装置10は複数の温度制御部を有することによりキルン部100の延伸方向に沿って複数の温度プロファイルを設定できる。反応装置10は上述の構成により、キルン部100を回転させるとともに、キルン部100を加熱する。筒部103に熱が伝わると、この熱はキルン部100の内部に放射される。 In this case, the reactor 10 degreases the raw material R10 in the temperature range (500 degrees) set by the first temperature control unit 110A, and degreases the raw material R10 in the temperature range (1500 degrees) set by the second temperature control unit 110B. Raw material R10 may be sintered. As described above, the reaction apparatus 10 has a plurality of temperature control sections, so that a plurality of temperature profiles can be set along the stretching direction of the kiln section 100. With the above-described configuration, the reaction apparatus 10 rotates the kiln section 100 and heats the kiln section 100. When heat is transferred to the cylinder section 103, this heat is radiated into the inside of the kiln section 100.

駆動装置160は、モータと、このモータから突出する駆動軸に嵌合する駆動力伝達部161とを有する。駆動装置160は駆動力伝達部161が従動部106を駆動してキルン部100を回転させる。駆動力伝達部161および従動部106は例えば互いに噛み合うように構成された歯車である。駆動装置160はこのような構成により中心軸C10を回転中心としてキルン部100を回転させる。これにより、キルン部100は、原料供給口101から受け入れた原料R10を転動させながら送出口102に搬送する。 The drive device 160 includes a motor and a drive force transmission section 161 that fits into a drive shaft protruding from the motor. In the drive device 160, the driving force transmission section 161 drives the driven section 106 to rotate the kiln section 100. The driving force transmission section 161 and the driven section 106 are, for example, gears configured to mesh with each other. With such a configuration, the drive device 160 rotates the kiln section 100 around the central axis C10. Thereby, the kiln section 100 transports the raw material R10 received from the raw material supply port 101 to the delivery port 102 while rolling it.

次に、図2を参照して、反応装置10が実行する処理について説明する。図2は、反応装置が実行する処理(反応生成物製造方法)のフローチャートである。図2に示すフローチャートは、例えば反応装置10を使用して反応生成物を製造する使用者が反応装置10を使って実行する。 Next, with reference to FIG. 2, the process executed by the reaction apparatus 10 will be described. FIG. 2 is a flowchart of the process (reaction product manufacturing method) performed by the reaction apparatus. The flowchart shown in FIG. 2 is executed using the reaction apparatus 10, for example, by a user who uses the reaction apparatus 10 to produce a reaction product.

まず、使用者は、キルン部100を含む反応装置10を用意する(ステップS11)。使用者が用意する反応装置10は、上述した構成を有する。 First, a user prepares the reaction apparatus 10 including the kiln section 100 (step S11). The reaction device 10 prepared by the user has the configuration described above.

次に、使用者は、反応装置10を操作し、温度制御装置110にキルン部100を加熱させる。すなわち温度制御装置110は、キルン部100の内部を所定の温度に加熱する(ステップS12)。 Next, the user operates the reaction device 10 and causes the temperature control device 110 to heat the kiln section 100. That is, temperature control device 110 heats the inside of kiln section 100 to a predetermined temperature (step S12).

次に、使用者は、反応装置10を操作し、流体供給装置120に所定の流体を供給させる。また使用者は、反応装置10を操作し、流体吸引装置130に流体の吸引をさせる。これにより、流体供給装置120は、筒部103の内側に設けられた流体供給口122から所定の流体を放出するとともに、流体吸引装置130は、筒部103の内側に設けられた流体吸引口132から筒部103の内側の流体を吸引する(ステップS13)。 Next, the user operates the reaction device 10 and causes the fluid supply device 120 to supply a predetermined fluid. The user also operates the reaction device 10 to cause the fluid suction device 130 to suction fluid. As a result, the fluid supply device 120 releases a predetermined fluid from the fluid supply port 122 provided inside the cylindrical portion 103, and the fluid suction device 130 discharges a predetermined fluid from the fluid suction port 132 provided inside the cylindrical portion 103. The fluid inside the cylindrical portion 103 is suctioned from the cylindrical portion 103 (step S13).

次に、使用者は、原料供給口101からキルン部100に原料R10を供給する(ステップS14)。なお、使用者はフィーダ140に原料R10を投入することにより原料R10を原料供給口101に供給する。 Next, the user supplies the raw material R10 to the kiln section 100 from the raw material supply port 101 (step S14). Note that the user supplies the raw material R10 to the raw material supply port 101 by charging the raw material R10 into the feeder 140.

次に、使用者は、キルン部100を回転させることにより、原料R10を下流に搬送し、接触領域105において所定の流体と接触させる(ステップS15)。なお使用者は、キルン部100に供給した原料R10を下流に搬送するために、ステップS11の後であってステップS12の前に、キルン部100の回転を開始させるのが好ましい。このとき反応装置10は、駆動装置160を駆動することによりキルン部100を回転させる。 Next, the user rotates the kiln section 100 to transport the raw material R10 downstream and bring it into contact with a predetermined fluid in the contact area 105 (step S15). Note that the user preferably starts the rotation of the kiln section 100 after step S11 and before step S12 in order to convey the raw material R10 supplied to the kiln section 100 downstream. At this time, the reaction device 10 rotates the kiln section 100 by driving the drive device 160.

次に、使用者は、送出口102から反応生成物を送出させる(ステップS16)。 Next, the user causes the reaction product to be delivered from the delivery port 102 (step S16).

以上、反応装置10が実行する反応生成物製造方法について説明した。上述の方法は、反応装置10が原料R10から反応生成物R11を製造し、製造した反応生成物R11を送出するまでの流れに沿って示されている。しかし、反応装置10は、例えばステップS15におけるキルン部100の回転操作を、ステップS12の前から実行していてもよい。 The method for producing a reaction product carried out by the reaction apparatus 10 has been described above. The above-mentioned method is shown along the flow from the reaction device 10 producing the reaction product R11 from the raw material R10 to delivering the produced reaction product R11. However, the reaction apparatus 10 may perform the rotation operation of the kiln section 100 in step S15, for example, before step S12.

以上、実施の形態1について説明したが、実施の形態1の構成は上述のものに限られない。反応装置10は、流体の流れが下流側から上流側に向かう構成であってもよい。また反応装置10は、キルン部100の中央部に流体供給口122を有し、流体供給口122よりも上流側に第1の流体吸引口132を有し、さらに、流体供給口122の下流側に第2の流体吸引口132を有していてもよい。すなわちこの場合に、流体供給口122からキルン部100に供給される流体は、第1の流体吸引口132に向かうものと、第2の流体吸引口132に向かうものとに分岐してもよい。上述の構成により、ロータリーキルンである反応装置10は接触領域105において原料R10を連続的に効率よく流体に接触させることができる。よって、実施の形態1によれば、所望の製品を効率よく製造する反応装置等を提供することができる。 Although Embodiment 1 has been described above, the configuration of Embodiment 1 is not limited to that described above. The reaction device 10 may have a configuration in which the fluid flows from the downstream side to the upstream side. The reactor 10 also has a fluid supply port 122 in the center of the kiln section 100, a first fluid suction port 132 on the upstream side of the fluid supply port 122, and a first fluid suction port 132 on the downstream side of the fluid supply port 122. A second fluid suction port 132 may be provided at the second fluid suction port 132 . That is, in this case, the fluid supplied from the fluid supply port 122 to the kiln section 100 may be branched into one directed toward the first fluid suction port 132 and one directed toward the second fluid suction port 132. With the above configuration, the reaction apparatus 10, which is a rotary kiln, can continuously and efficiently bring the raw material R10 into contact with the fluid in the contact area 105. Therefore, according to Embodiment 1, it is possible to provide a reaction apparatus and the like that efficiently manufacture a desired product.

<実施の形態2>
次に、実施の形態2について説明する。実施の形態2は、キルン部100の内部に流体の流れを規制する機能を有する。
<Embodiment 2>
Next, a second embodiment will be described. Embodiment 2 has a function of regulating the flow of fluid inside the kiln section 100.

図3は、実施の形態2にかかる反応装置20の側面方向の断面図である。図3に示す反応装置20は、流体供給口122および流体吸引口132の形態が反応装置10と異なる。また反応装置20は、支持部材170、邪魔板171および邪魔板172を有する点が、実施の形態1と異なる。 FIG. 3 is a side cross-sectional view of the reaction device 20 according to the second embodiment. The reaction device 20 shown in FIG. 3 differs from the reaction device 10 in the shapes of the fluid supply port 122 and the fluid suction port 132. Further, the reaction apparatus 20 differs from the first embodiment in that it includes a support member 170, a baffle plate 171, and a baffle plate 172.

実施の形態2における流体供給口122は、中心軸C10と角度αを成すように設定されている。これにより流体供給口122は邪魔板172に対向する方向に開口部を有する。換言すると、流体供給口122から放出された流体は、邪魔板172に当たり、邪魔板172に流れを規制される。これにより流体は、接触領域105に導かれ、原料R10に接触する。 The fluid supply port 122 in the second embodiment is set to form an angle α with the central axis C10. As a result, the fluid supply port 122 has an opening in a direction facing the baffle plate 172. In other words, the fluid discharged from the fluid supply port 122 hits the baffle plate 172 and its flow is regulated by the baffle plate 172 . The fluid is thereby guided to the contact area 105 and comes into contact with the raw material R10.

実施の形態2における流体吸引口132は、中心軸C10と角度βを成すように設定されている。これにより流体吸引口132は邪魔板171に対向する方向に開口部を有する。換言すると、接触領域105を通過した流体は、邪魔板171により規制され、その後に流体吸引口132に吸引される。 The fluid suction port 132 in the second embodiment is set to form an angle β with the central axis C10. As a result, the fluid suction port 132 has an opening in the direction facing the baffle plate 171. In other words, the fluid that has passed through the contact area 105 is regulated by the baffle plate 171 and then sucked into the fluid suction port 132.

支持部材170は、支持部であるキルンフット150から筒部103の内側に延伸する部材であって、邪魔板171および邪魔板172を支持する。なお、支持部材170は、流体供給管121または流体吸引管131を合わせて構成するものであってもよい。支持部材170はキルンフット150に固定され、さらにフィーダ140に支持されていてもよい。支持部材170は支持部であるフィーダ140に固定され、フィーダ140から筒部103に延伸するものであってもよい。また支持部材170は、フィーダ140に固定され、さらにキルンフット150に支持されていてもよい。 The support member 170 is a member that extends from the kiln foot 150, which is a support portion, to the inside of the cylindrical portion 103, and supports the baffle plate 171 and the baffle plate 172. Note that the support member 170 may be configured by combining the fluid supply pipe 121 or the fluid suction pipe 131. Support member 170 may be fixed to kiln foot 150 and further supported by feeder 140. The support member 170 may be fixed to the feeder 140, which is a support portion, and may extend from the feeder 140 to the cylindrical portion 103. Further, the support member 170 may be fixed to the feeder 140 and further supported by the kiln foot 150.

邪魔板171は、流体吸引口132と送出口102との間に配置された板状の部材である。邪魔板171は、キルン部100の回転を妨げないように支持部材170に支持されている。邪魔板171は、筒部103において流体供給口122と流体吸引口132との間に形成される空間である接触領域105の外側において中心軸C10に平行な方向の流体の流れを規制する。すなわち邪魔板171が配置されることにより、反応装置20は、接触領域105を通過した流体を好適に流体吸引口132に導き、この流体を吸引できる。 The baffle plate 171 is a plate-shaped member disposed between the fluid suction port 132 and the delivery port 102. The baffle plate 171 is supported by the support member 170 so as not to hinder the rotation of the kiln section 100. The baffle plate 171 restricts the flow of fluid in a direction parallel to the central axis C10 outside the contact area 105, which is a space formed between the fluid supply port 122 and the fluid suction port 132 in the cylindrical portion 103. That is, by arranging the baffle plate 171, the reaction device 20 can suitably guide the fluid that has passed through the contact area 105 to the fluid suction port 132 and suck this fluid.

邪魔板172は、原料供給口101と流体供給口122との間に配置された板状の部材であって、邪魔板171と同様に支持部材170に支持されている。邪魔板172は、筒部103において接触領域105の外側において中心軸C10に平行な方向の流体の流れを規制する。すなわち邪魔板172が配置されることにより、反応装置20は、流体供給口122が放出した流体、好適に接触領域105に導くことができる。 The baffle plate 172 is a plate-shaped member disposed between the raw material supply port 101 and the fluid supply port 122, and is supported by the support member 170 similarly to the baffle plate 171. The baffle plate 172 restricts the flow of fluid in the direction parallel to the central axis C10 outside the contact area 105 in the cylindrical portion 103. That is, by arranging the baffle plate 172, the reaction device 20 can preferably guide the fluid discharged by the fluid supply port 122 to the contact area 105.

上述のように、邪魔板171および邪魔板172は、中心軸C10に平行な方向に沿って流体供給口122と流体吸引口132とを挟み込むように一端側と他端側とにそれぞれ設けられている。これにより反応装置20は、好適に接触領域105を形成し、接触領域105において流体と原料R10とを接触させることができる。さらに反応装置20は原料R10と接触した後の流体を効率よく吸引できる。 As described above, the baffle plate 171 and the baffle plate 172 are provided at one end side and the other end side, respectively, so as to sandwich the fluid supply port 122 and the fluid suction port 132 along the direction parallel to the central axis C10. There is. Thereby, the reaction device 20 can suitably form the contact region 105 and bring the fluid and the raw material R10 into contact in the contact region 105. Furthermore, the reaction device 20 can efficiently suck the fluid after contacting the raw material R10.

なお、本実施の形態における邪魔板の形状は、本実施の形態の目的を実現するために、凹凸や湾曲などの形状を有していてもよい。図3に示す邪魔板171および邪魔板172はその上部が上流側に折れ曲っている。これは流体供給装置120から供給された流体の流れを好適に形成する目的である。また邪魔板171および邪魔板172は、その下部が下流側に折れ曲っている。これは原料R10がスムーズに下流側に運搬されることを目的としている。邪魔板は、上述の形状以外に、種々の形状を有することができる。 Note that the shape of the baffle plate in this embodiment may have an uneven or curved shape in order to achieve the purpose of this embodiment. The upper portions of the baffle plates 171 and 172 shown in FIG. 3 are bent toward the upstream side. This is for the purpose of forming a suitable flow of the fluid supplied from the fluid supply device 120. Further, the lower portions of the baffle plate 171 and the baffle plate 172 are bent toward the downstream side. The purpose of this is to smoothly transport the raw material R10 to the downstream side. The baffle plate can have various shapes other than those described above.

次に、図4を参照して邪魔板の構成についてさらに説明する。図4は、実施の形態2にかかる反応装置20の正面方向の断面図である。図4は、図3のIV-IV断面を中心軸C10に平行な方向から観察した断面図である。 Next, the configuration of the baffle plate will be further described with reference to FIG. 4. FIG. 4 is a front cross-sectional view of the reaction device 20 according to the second embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view of the IV-IV cross section of FIG. 3 observed from a direction parallel to the central axis C10.

反応装置20は、円環状に構成されたキルン部100の外周に温度制御装置110が設けられている。また反応装置20は、キルン部100の内部に支持部材170、邪魔板171、流体供給装置120および流体吸引装置130を有している。 In the reaction apparatus 20, a temperature control device 110 is provided on the outer periphery of a kiln section 100 configured in an annular shape. The reaction device 20 also includes a support member 170, a baffle plate 171, a fluid supply device 120, and a fluid suction device 130 inside the kiln section 100.

支持部材170は延伸方向に沿ってその内部に管状の孔である流体供給装置120と流体吸引装置130とが形成されている。また図4に示す断面図において、流体吸引装置130は支持部材170の下部から突出し、流体吸引口132を構成している。 A fluid supply device 120 and a fluid suction device 130, which are tubular holes, are formed inside the support member 170 along the stretching direction. Further, in the cross-sectional view shown in FIG. 4, the fluid suction device 130 protrudes from the lower part of the support member 170 and forms a fluid suction port 132.

邪魔板171は筒部103の内壁に接触しない程度に離間した円盤形状を呈している。また邪魔板171はその下部においては、原料R10が通過するための空間を確保するために、筒部103の内壁からの距離が比較的に大きくなっている。これにより、接触領域105において、流体は好適に原料R10に接触し、さらに邪魔板171に規制されることにより流体吸引口132から吸引される。また接触領域105において原料R10は好適に流体に接触し、さらに邪魔板171の下部に設けられた空間から下流に搬送される。 The baffle plate 171 has a disk shape and is spaced apart from the inner wall of the cylindrical portion 103 to the extent that it does not come into contact with the inner wall of the cylindrical portion 103 . In addition, the distance from the inner wall of the cylindrical portion 103 is relatively large at the lower part of the baffle plate 171 in order to ensure a space for the raw material R10 to pass through. As a result, the fluid appropriately contacts the raw material R10 in the contact area 105, and is further regulated by the baffle plate 171 to be sucked from the fluid suction port 132. Further, the raw material R10 suitably contacts the fluid in the contact area 105, and is further conveyed downstream from the space provided under the baffle plate 171.

以上、実施の形態2について説明した。上述の構成により、反応装置20は効率よく反応生成物R11を製造できる。すなわち本実施の形態によれば、所望の製品を効率よく製造する反応装置等を提供することができる。 The second embodiment has been described above. With the above configuration, the reaction apparatus 20 can efficiently produce the reaction product R11. That is, according to this embodiment, it is possible to provide a reaction apparatus and the like that efficiently produce a desired product.

<実施の形態3>
次に、実施の形態3について説明する。図5は、実施の形態3にかかる反応装置30の側面方向の断面図である。反応装置30は、流体供給装置、流体吸引装置、邪魔板および接触領域の構成が実施の形態2と異なる。また反応装置30は、温度制御装置110の態様が実施の形態2と異なる。
<Embodiment 3>
Next, Embodiment 3 will be described. FIG. 5 is a side cross-sectional view of the reaction device 30 according to the third embodiment. The reaction device 30 differs from the second embodiment in the configurations of a fluid supply device, a fluid suction device, baffle plates, and contact areas. Furthermore, the reactor 30 differs from the second embodiment in the aspect of the temperature control device 110.

本実施の形態における流体供給装置120は、中心軸C10に平行な方向に沿った異なる位置において複数の流体を別個に供給可能に複数の第1流体供給口122Aおよび第2流体供給口122Bを有する。これにより反応装置30は複数の異なる位置において別個に流体を供給できる。 Fluid supply device 120 in this embodiment has a plurality of first fluid supply ports 122A and second fluid supply ports 122B that can separately supply a plurality of fluids at different positions along a direction parallel to central axis C10. . This allows reactor 30 to supply fluid separately at multiple different locations.

また本実施の形態における反応装置30は、邪魔板173を有している。邪魔板173は、第1流体供給口122Aと第2流体供給口122Bとの間において中心軸C10に平行な方向の流体の流れを規制する。邪魔板173により、反応装置30は、第1流体供給口122Aが放出する流体の流れと第2流体供給口122Bが放出する流体の流れとを分離して制御できる。 Further, the reaction apparatus 30 in this embodiment includes a baffle plate 173. The baffle plate 173 restricts the flow of fluid in a direction parallel to the central axis C10 between the first fluid supply port 122A and the second fluid supply port 122B. The baffle plate 173 allows the reaction device 30 to separate and control the flow of the fluid discharged from the first fluid supply port 122A and the flow of the fluid discharged from the second fluid supply port 122B.

さらに、本実施の形態における流体吸引装置130は、第1流体吸引口132Aと第2流体吸引口132Bとを有している。第1流体吸引口132Aは、第1流体供給口122Aが放出する流体を吸引するように設けられている。第2流体吸引口132Bは、第2流体供給口122Bが放出する流体を吸引するように設けられている。すなわち流体吸引装置130は、複数の流体供給口のそれぞれに対応して設けられた複数の流体吸引口を有する。 Furthermore, the fluid suction device 130 in this embodiment has a first fluid suction port 132A and a second fluid suction port 132B. The first fluid suction port 132A is provided to suck the fluid released by the first fluid supply port 122A. The second fluid suction port 132B is provided to suck the fluid released by the second fluid supply port 122B. That is, the fluid suction device 130 has a plurality of fluid suction ports provided corresponding to each of the plurality of fluid supply ports.

上述の構成により、反応装置30は、第1接触領域105Aと第2接触領域105Bとを構成する。すなわち第1接触領域105Aにおいて、第1流体供給口122Aから供給された流体は、原料R10と接触し、その後に第1流体吸引口132Aにより吸引される。第1接触領域105Aは、邪魔板172と邪魔板173とに挟まれている。これにより第1接触領域105Aは好適に流体と原料R10とを接触させられる。 With the above-described configuration, the reaction device 30 includes a first contact area 105A and a second contact area 105B. That is, in the first contact area 105A, the fluid supplied from the first fluid supply port 122A comes into contact with the raw material R10, and is then sucked by the first fluid suction port 132A. The first contact area 105A is sandwiched between a baffle plate 172 and a baffle plate 173. Thereby, the first contact area 105A can suitably bring the fluid into contact with the raw material R10.

また第2接触領域105Bにおいて、第2流体供給口122Bから供給された流体は、原料R10に接触し、その後に第2流体吸引口132Bにより吸引される。第2接触領域105Bは、邪魔板173と邪魔板171とに挟まれている。これにより第2接触領域105Bは好適に流体と原料R10とを接触させられる。 Further, in the second contact area 105B, the fluid supplied from the second fluid supply port 122B contacts the raw material R10, and is then sucked by the second fluid suction port 132B. The second contact area 105B is sandwiched between the baffle plate 173 and the baffle plate 171. Thereby, the second contact area 105B can suitably bring the fluid into contact with the raw material R10.

本実施の形態における反応装置30において、流体供給装置120は、第1流体供給口122Aと第2流体供給口122Bとにそれぞれ異なる種類の流体(例えば第1流体と第2流体)が流れるように構成されていてもよい。すなわちこの場合、流体供給装置120は、第1流体を供給する第1流体供給管121Aおよび第1流体供給口122Aと、第2流体を供給する第2流体供給管121Bおよび第2流体供給口122Bと、を有する。またこの場合において、第1接触領域105Aは、原料R10と第1流体とが接触する。第2接触領域105Bは、第1接触領域105Aより下流において第1流体に接触した後の原料R10と第2流体とが接触する。そして、流体吸引装置130は、第1接触領域105Aにおいて第1流体を吸引し、第2接触領域105Bにおいて第2流体を吸引する。 In the reaction apparatus 30 according to the present embodiment, the fluid supply device 120 is configured such that different types of fluids (for example, a first fluid and a second fluid) flow through the first fluid supply port 122A and the second fluid supply port 122B, respectively. may be configured. That is, in this case, the fluid supply device 120 includes a first fluid supply pipe 121A and a first fluid supply port 122A that supply the first fluid, and a second fluid supply pipe 121B and a second fluid supply port 122B that supply the second fluid. and has. In this case, the raw material R10 and the first fluid come into contact with each other in the first contact area 105A. In the second contact region 105B, the raw material R10 contacts the second fluid after contacting the first fluid downstream of the first contact region 105A. The fluid suction device 130 then suctions the first fluid in the first contact area 105A and suctions the second fluid in the second contact area 105B.

なお、流体吸引装置130は、第1流体吸引口132Aに対応した第1流体吸引管131Aを有するとともに、第2流体吸引口132Bに対応した第2流体吸引管131Bを有するものであってもよい。このような構成により、反応装置30は異なる接触領域における流体を分離して吸引できる。 Note that the fluid suction device 130 may include a first fluid suction tube 131A corresponding to the first fluid suction port 132A and a second fluid suction tube 131B corresponding to the second fluid suction port 132B. . Such a configuration allows the reactor 30 to separately aspirate fluids in different contact areas.

上述の構成により、反応装置30は、第1接触領域105Aと第2接触領域105Bとの間に、第1流体の流れと第2流体の流れとを仕切るための邪魔板173を有しているため、それぞれの接触領域を好適に分離し、それぞれの領域において所望の反応を生じさせることができる。 With the above-described configuration, the reaction device 30 has a baffle plate 173 between the first contact area 105A and the second contact area 105B for partitioning the flow of the first fluid and the flow of the second fluid. Therefore, each contact area can be suitably separated and a desired reaction can occur in each area.

またこの場合、キルン部100の温度を制御する温度制御装置110は、第1接触領域105Aの温度を制御する第1温度制御部110Aと、第2接触領域105Bの温度を制御する第2温度制御部110Bと、を有しうる。これにより温度制御装置110は、複数の接触領域に対して別個に温度制御を行うことができる。例えば温度制御装置110は、第1温度制御部110Aにより第1接触領域105Aの温度が500度になるように制御し、第2温度制御部110Bにより第2接触領域105Bの温度が1000度になるように制御する。 Further, in this case, the temperature control device 110 that controls the temperature of the kiln section 100 includes a first temperature control section 110A that controls the temperature of the first contact area 105A, and a second temperature control section that controls the temperature of the second contact area 105B. 110B. This allows the temperature control device 110 to separately perform temperature control on a plurality of contact areas. For example, in the temperature control device 110, the first temperature control section 110A controls the temperature of the first contact area 105A to be 500 degrees, and the second temperature control section 110B controls the temperature of the second contact area 105B to 1000 degrees. Control as follows.

以上、実施の形態3について説明した。なお、上述の反応装置30は、接触領域105が2つであったが、反応装置30は、3つ以上の異なる接触領域を有してもよい。また温度制御装置110は、例えば図5の構成において、邪魔板171の下流側を冷却する冷却装置を有していてもよい。また上述の反応装置30が有する接触領域105のそれぞれに対応する流体供給口122と流体吸引口132とはそれぞれ1つずつ配置されていた。しかし、接触領域105とこれに対応する流体供給口122と流体吸引口132との構成は、これに限られない。すなわち反応装置30において1つの接触領域105に対応する流体供給口122の数は1つでもよいし、1以上であってもよい。また反応装置30において1つの接触領域105に対応する流体吸引口132の数は1つでもよいし、1以上であってもよい。 The third embodiment has been described above. Note that although the reaction device 30 described above has two contact areas 105, the reaction device 30 may have three or more different contact areas. Further, the temperature control device 110 may include a cooling device that cools the downstream side of the baffle plate 171 in the configuration shown in FIG. 5, for example. In addition, one fluid supply port 122 and one fluid suction port 132 were arranged corresponding to each of the contact areas 105 of the reaction device 30 described above. However, the configuration of the contact area 105 and the corresponding fluid supply port 122 and fluid suction port 132 is not limited to this. That is, in the reaction device 30, the number of fluid supply ports 122 corresponding to one contact area 105 may be one or more than one. Further, in the reaction device 30, the number of fluid suction ports 132 corresponding to one contact area 105 may be one or more than one.

上述の構成により、反応装置30は、1つのキルン部100において、それぞれ環境が異なる複数の領域を設定できる。よって、実施の形態3によれば、所望の製品を効率よく製造する反応装置等を提供することができる。 With the above-described configuration, the reaction apparatus 30 can set a plurality of regions each having a different environment in one kiln section 100. Therefore, according to Embodiment 3, it is possible to provide a reaction apparatus and the like that can efficiently produce a desired product.

<実施の形態4>
次に、実施の形態4について説明する。図6は、実施の形態4にかかる反応装置40の側面方向の断面図である。実施の形態4にかかる反応装置40は、邪魔板の形態が実施の形態2と異なる。
<Embodiment 4>
Next, Embodiment 4 will be described. FIG. 6 is a side cross-sectional view of the reaction device 40 according to the fourth embodiment. The reaction apparatus 40 according to the fourth embodiment differs from the second embodiment in the form of the baffle plate.

本実施の形態における支持部材170は、キルンフット150に固定されるとともに、フィーダ140に支持されている。このような構成により、支持部材170は、キルン部100の延伸方向に沿って形成された任意の邪魔板を支持できる。 Support member 170 in this embodiment is fixed to kiln foot 150 and supported by feeder 140. With such a configuration, the support member 170 can support any baffle plate formed along the extending direction of the kiln section 100.

反応装置40は、邪魔板174および邪魔板175を有している。邪魔板174は、接触領域105において中心軸C10に平行な方向に沿って流体の流れを規制する。 The reaction device 40 has a baffle plate 174 and a baffle plate 175. The baffle plate 174 restricts the flow of fluid in the contact area 105 along a direction parallel to the central axis C10.

反応装置40において、流体供給口122から放出された流体は、上流側から下流側に流れる。原料供給口101から供給された原料R10も、下流側である送出口102に向かって搬送される。邪魔板174は、筒部103の接触領域105において、上述の流れを規制する。すなわち、邪魔板174は、接触領域105において流体が通過する流路の断面積が変化するように構成され得る。 In the reaction device 40, the fluid discharged from the fluid supply port 122 flows from the upstream side to the downstream side. The raw material R10 supplied from the raw material supply port 101 is also conveyed toward the delivery port 102 on the downstream side. The baffle plate 174 restricts the above-mentioned flow in the contact area 105 of the cylindrical portion 103. That is, the baffle plate 174 may be configured such that the cross-sectional area of the flow path through which the fluid passes in the contact area 105 changes.

これにより流体供給口122から放出された流体は、接触領域105における流速や流れる方向が変化し得る。あるいは流体供給口122から放出された流体は、接触領域105において、流れる方向に沿って流束が変化し得る。またこれに伴い、流体と接触する原料R10は、移動速度や移動方向が変化し得る。 As a result, the flow velocity and flow direction of the fluid discharged from the fluid supply port 122 in the contact area 105 can change. Alternatively, the flux of the fluid discharged from the fluid supply port 122 may change in the contact region 105 along the flow direction. Further, in accordance with this, the moving speed and moving direction of the raw material R10 that comes into contact with the fluid may change.

なお、邪魔板174は、中心軸C10に平行な方向に加えて、キルン部100の回転方向に沿って流体の流れを規制してもよい。例えば邪魔板174は、螺旋状に流体の流れを規制するものであってもよい。上述の構成により、邪魔板174は転動流動する原料R10に対して好適に流体の流れを規制できる。 Note that the baffle plate 174 may restrict the flow of fluid along the rotational direction of the kiln section 100 in addition to the direction parallel to the central axis C10. For example, the baffle plate 174 may helically restrict the flow of fluid. With the above-described configuration, the baffle plate 174 can suitably restrict the flow of fluid with respect to the rolling and flowing raw material R10.

図6に示す具体例について説明する。接触領域105において、邪魔板174は上流から下流に向かって徐々に筒部103との距離が離れるように形成されている。接触領域105における比較的に上流側において、邪魔板174の下面と筒部103の内壁とが形成する流束は断面積D10である。接触領域105における中央部において、邪魔板174の下面と筒部103の内壁とが形成する流束は断面積D10より大きい断面積D20である。さらに接触領域105における下流側の端部において、邪魔板174の下面と筒部103の内壁とが形成する流束は断面積D20より小さい断面積D30である。 A specific example shown in FIG. 6 will be described. In the contact area 105, the baffle plate 174 is formed so that the distance from the cylindrical portion 103 gradually increases from upstream to downstream. On the relatively upstream side of the contact area 105, the flux formed by the lower surface of the baffle plate 174 and the inner wall of the cylindrical portion 103 has a cross-sectional area D10. At the center of the contact area 105, the flux formed by the lower surface of the baffle plate 174 and the inner wall of the cylindrical portion 103 has a cross-sectional area D20 larger than the cross-sectional area D10. Further, at the downstream end of the contact area 105, the flux formed by the lower surface of the baffle plate 174 and the inner wall of the cylindrical portion 103 has a cross-sectional area D30 smaller than the cross-sectional area D20.

上述の構成により、接触領域105において、流体は、上流から中央部に向かって流速が低下し、中央部では原料R10と流体は比較的に滞留時間が長くなる。これにより、反応装置40は接触領域105において流体とR10との接触時間を比較的に長くすることができる。よって実施の形態4によれば、所望の製品を製造するための反応を促進し、効率よく製造する反応装置等を提供することができる。 With the above configuration, in the contact area 105, the flow velocity of the fluid decreases from the upstream toward the center, and the residence time of the raw material R10 and the fluid becomes relatively long in the center. Thereby, the reaction device 40 can make the contact time between the fluid and R10 in the contact region 105 relatively long. Therefore, according to Embodiment 4, it is possible to provide a reaction apparatus and the like that promote the reaction for producing a desired product and efficiently produce the product.

また図6に示す邪魔板174は、接触領域105と送出口102との間において、流体吸引口132の下方における流体を中心軸C10に平行な方向に規制する。これにより、流体と、接触領域105を通過して生成された反応生成物とは、スムーズに送出口102に移動する。なお、送出口102において、反応生成物R11は自重により反応生成物出口151に落下し、流体は流体吸引口132に吸引される。 Further, the baffle plate 174 shown in FIG. 6 restricts the fluid below the fluid suction port 132 between the contact area 105 and the outlet 102 in a direction parallel to the central axis C10. As a result, the fluid and the reaction products generated after passing through the contact area 105 smoothly move to the outlet 102 . Note that at the outlet 102, the reaction product R11 falls to the reaction product outlet 151 due to its own weight, and the fluid is sucked into the fluid suction port 132.

また図6に示す邪魔板175は、原料供給口101と流体供給口122との間に位置し、原料供給口101から流入してくる外気の流入を規制する。また邪魔板175はその下部において筒部103との間に隙間を形成する。これにより、邪魔板175は、外気の流入を抑制しつつ、原料R10が流入することを妨げない。さらに邪魔板175は、上流側に配置された流体供給口122から放出される流体を好適に接触領域105に案内する。 Further, the baffle plate 175 shown in FIG. 6 is located between the raw material supply port 101 and the fluid supply port 122, and restricts the inflow of outside air flowing in from the raw material supply port 101. Further, the baffle plate 175 forms a gap between the baffle plate 175 and the cylindrical portion 103 at its lower part. Thereby, the baffle plate 175 does not prevent the raw material R10 from flowing in while suppressing the inflow of outside air. Further, the baffle plate 175 suitably guides the fluid discharged from the fluid supply port 122 located on the upstream side to the contact area 105.

<実施の形態5>
次に、図7を参照して実施の形態5について説明する。図7は、実施の形態5にかかる反応システムの構成図である。図7に示す反応システム1は、2つの反応装置10すなわち第1反応装置10Aおよび第2反応装置10Bが直列に連結されたシステムである。図7には、第1反応装置10Aと第2反応装置10Bとが連結した状態が模式的に示されている。反応システム1は、第1反応装置10Aにおける反応生成物の反応生成物出口151Aと、第2反応装置10Bにおける原料投入口141Bとが連結している。
<Embodiment 5>
Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a configuration diagram of a reaction system according to the fifth embodiment. The reaction system 1 shown in FIG. 7 is a system in which two reaction devices 10, that is, a first reaction device 10A and a second reaction device 10B are connected in series. FIG. 7 schematically shows a state in which the first reaction device 10A and the second reaction device 10B are connected. In the reaction system 1, a reaction product outlet 151A of the reaction product in the first reaction device 10A and a raw material input port 141B in the second reaction device 10B are connected.

図に示す第1反応装置10Aは、原料投入口141Aから受け入れた原料R10に対して所定の物理的刺激Aを与えることにより反応生成物Aを生成する。第1反応装置10Aは、生成した反応生成物Aを、反応生成物出口151Aから送出する。 The first reaction device 10A shown in the figure generates a reaction product A by applying a predetermined physical stimulus A to the raw material R10 received from the raw material input port 141A. The first reaction device 10A sends out the generated reaction product A from the reaction product outlet 151A.

第2流体制御領域140Aは、第1反応装置10Aの反応生成物出口151Aから送出された反応生成物Aを原料投入口141Bに受け入れる。第2反応装置10Bは所定の物理的刺激Bを与えることにより反応生成物Aから反応生成物Bを生成する。第2反応装置10Bは、生成した反応生成物Bを、反応生成物出口151Bから送出する。 The second fluid control region 140A receives the reaction product A sent from the reaction product outlet 151A of the first reaction device 10A into the raw material input port 141B. The second reaction device 10B generates a reaction product B from a reaction product A by applying a predetermined physical stimulus B. The second reaction device 10B sends out the generated reaction product B from the reaction product outlet 151B.

以上、実施の形態5について説明した。なお、上述の反応システム1において、第1反応装置10Aおよび第2反応装置10Bの一方または両方は、もちろん反応装置20、反応装置30または反応装置40のうちいずれかであってもよい。また反応システム1は、3つ以上の反応装置が連結するものであってもよい。このような構成により、実施の形態5にかかる反応システム1は、原料に対して、攪拌、転動、加熱、冷却などの複数の物理的刺激を連続して付与できる。またこのような構成により、反応システム1は、システム自体の柔軟な配置および柔軟なシステム構成を可能とする。すなわち、実施の形態5によれば、複数の反応を要する所望の製品を効率よく製造する反応システムを提供することができる。 The fifth embodiment has been described above. In addition, in the above-mentioned reaction system 1, one or both of the first reaction device 10A and the second reaction device 10B may be any one of the reaction device 20, the reaction device 30, or the reaction device 40. Moreover, the reaction system 1 may be one in which three or more reaction devices are connected. With such a configuration, the reaction system 1 according to the fifth embodiment can continuously apply a plurality of physical stimuli such as stirring, rolling, heating, and cooling to the raw material. Moreover, with such a configuration, the reaction system 1 allows flexible arrangement and flexible system configuration of the system itself. That is, according to Embodiment 5, it is possible to provide a reaction system that efficiently produces a desired product that requires multiple reactions.

<実施の形態6>
次に、図8を参照して実施の形態6について説明する。図8は、実施の形態6にかかる反応システムの構成図である。図8に示す反応システム2は主な構成として、造粒装置210および反応装置10を有している。
<Embodiment 6>
Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a configuration diagram of a reaction system according to Embodiment 6. The reaction system 2 shown in FIG. 8 has a granulation device 210 and a reaction device 10 as main components.

造粒装置210は、粉粒体である原料に圧力を加えて造粒物を製造する。造粒物は例えば数十ミクロンから数百ミクロン程度の2次粒子から成る粉粒体に例えば10メガパスカルから700メガパスカルの圧力を加えることにより製造する。圧力を加える手段は特に限定されないが、生産の効率を考慮すると、回転する金型ロールを用いた連続加圧方式が望ましい。造粒物の形状は特に限定されないが、造粒装置210における搬送しやすさを考慮すると、球状、円盤状、もしくは楕円体状のようなタブレット形状を有していることが望ましい。造粒物の大きさは、造粒物の直径もしくは長辺の長さが数ミリメートルから数十ミリメートルとすることが目安であるが、30ミリメートル以下とすることが望ましい。また、造粒装置210における反応の効率を考慮すると、各々の造粒物の大きさは、互いに同じくらいであることが望ましい。また、造粒物の製造において加圧する際は、造粒性の向上や造粒物を反応させた後の解砕性の向上を目的として、例えばビニル基やイミド基を有するバインダ樹脂を微量添加しながら造粒してもよいし、有機高分子結合剤をあらかじめ混合した原料を用いてもよい。造粒装置210は、製造した造粒物を原料投入口141に供給する。 The granulator 210 applies pressure to the raw material, which is powder or granules, to produce granules. The granulated product is produced by applying a pressure of, for example, 10 megapascals to 700 megapascals to a granulated material consisting of secondary particles of about several tens of microns to several hundred microns. The means for applying pressure is not particularly limited, but in consideration of production efficiency, a continuous pressurization method using rotating mold rolls is preferable. Although the shape of the granules is not particularly limited, in consideration of ease of transportation in the granulator 210, it is desirable that the granules have a tablet shape such as a sphere, a disc, or an ellipsoid. As for the size of the granules, the diameter or length of the long side of the granules is generally from several millimeters to several tens of millimeters, but preferably 30 millimeters or less. Furthermore, considering the efficiency of the reaction in the granulator 210, it is desirable that the sizes of each granule are about the same. In addition, when pressurizing in the production of granules, for example, a small amount of binder resin having vinyl groups or imide groups is added for the purpose of improving granulation properties and improving the disintegration properties after the granules have reacted. Alternatively, a raw material mixed with an organic polymer binder in advance may be used. The granulator 210 supplies the manufactured granules to the raw material input port 141 .

反応装置10は、原料投入口141において造粒物を受け入れると、受け入れた造粒物をキルン部100に供給する。反応装置10は、受け入れた造粒物に対して所定の雰囲気と物理的刺激を付与し、反応生成物を生成する。反応装置10は反応生成物を生成すると、生成した反応生成物を反応生成物出口151から送出する。 When the reactor 10 receives the granules at the raw material input port 141, the reactor 10 supplies the received granules to the kiln section 100. The reaction device 10 applies a predetermined atmosphere and physical stimulation to the received granules to generate a reaction product. When the reaction device 10 generates a reaction product, it sends out the generated reaction product from the reaction product outlet 151.

以上、実施の形態6について説明した。本実施の形態にかかる反応システム2は、造粒装置210において原料に圧力を付与し、次いで、雰囲気が制御された反応装置10において熱を加えながら攪拌する。これにより、反応システム2は例えば酸化物系固体電解質や硫化物系固体電解質を連続的に製造できる。すなわち、実施の形態6によれば、所望の反応生成物を効率よく連続的に製造できる。 The sixth embodiment has been described above. In the reaction system 2 according to the present embodiment, pressure is applied to the raw material in the granulating device 210, and then the raw material is stirred while being heated in the reaction device 10 in which the atmosphere is controlled. Thereby, the reaction system 2 can continuously produce, for example, an oxide-based solid electrolyte or a sulfide-based solid electrolyte. That is, according to Embodiment 6, a desired reaction product can be efficiently and continuously produced.

<実施の形態7>
次に、実施の形態7について説明する。図9は、実施の形態7にかかる電池用材料製造システム3の構成図である。図9に示す電池用材料製造システム3は、例えば固体二次電池の固体電解質シートおよび電池積層体を製造するためのシステムである。電池用材料製造システム3は主な構成として第1工程領域P31、第2工程領域P32、第3工程領域P33および第4工程領域P34を有する。すなわち電池用材料製造システム3は、上述の第1工程、第2工程、第3工程および第4工程を経ることにより電池用材料を製造する。
<Embodiment 7>
Next, Embodiment 7 will be described. FIG. 9 is a configuration diagram of a battery material manufacturing system 3 according to the seventh embodiment. A battery material manufacturing system 3 shown in FIG. 9 is a system for manufacturing, for example, a solid electrolyte sheet and a battery laminate for a solid secondary battery. The battery material manufacturing system 3 has a first process area P31, a second process area P32, a third process area P33, and a fourth process area P34 as main components. That is, the battery material manufacturing system 3 manufactures battery materials through the above-described first step, second step, third step, and fourth step.

以下に示す例は、電池用材料製造システム3を用いて固体電解質シートおよび電池積層体を製造するものである。第1工程領域P31において、電池用材料製造システム3は、固体電解質を製造する。第1工程領域P31は主な構成として、造粒装置210および反応装置10を有する。 In the example shown below, a solid electrolyte sheet and a battery laminate are manufactured using the battery material manufacturing system 3. In the first process area P31, the battery material manufacturing system 3 manufactures a solid electrolyte. The first process area P31 has a granulation device 210 and a reaction device 10 as main components.

第1工程領域P31において、造粒装置210は粉粒体である原料を受け入れ、圧力を加えてタブレット状の造粒物を製造する。造粒装置210は、製造した造粒物を、反応装置10に供給する。反応装置10は受け入れた造粒物を加熱しながら攪拌し、固体電解質を製造する。反応装置10は、製造した固体電解質を第2工程領域P32に供給する。 In the first process area P31, the granulating device 210 receives raw material in the form of powder and granules, and applies pressure to produce tablet-shaped granules. Granulation device 210 supplies the manufactured granules to reaction device 10 . The reactor 10 heats and stirs the received granules to produce a solid electrolyte. The reaction apparatus 10 supplies the manufactured solid electrolyte to the second process area P32.

第2工程領域P32において、電池用材料製造システム3は、固体電解質とバインダ樹脂との混合と混練を行う。第2工程領域P32は、押出機350を有する。押出機350は、第1工程領域P31において生成された固体電解質と、別途供給されるバインダ樹脂とを併せて受け入れ、受け入れた固体電解質とバインダ樹脂とを混合および混練して混練物を製造する。押出機350は、製造した混練物を第3工程領域P33に供給する。 In the second process area P32, the battery material manufacturing system 3 mixes and kneads the solid electrolyte and the binder resin. The second process area P32 has an extruder 350. The extruder 350 receives both the solid electrolyte generated in the first process area P31 and a separately supplied binder resin, and mixes and kneads the received solid electrolyte and binder resin to produce a kneaded product. The extruder 350 supplies the manufactured kneaded material to the third process area P33.

第3工程領域P33において、電池用材料製造システム3は、第2工程領域P32から混練物を受け入れ、受け入れた混練物から固体電解質シートを製造する。第3工程領域P33は主な構成として、押出成形機360、コータ370、乾燥機380および圧延機390を有する。 In the third process area P33, the battery material manufacturing system 3 receives the kneaded material from the second process area P32, and manufactures a solid electrolyte sheet from the received kneaded material. The third process area P33 mainly includes an extrusion molding machine 360, a coater 370, a dryer 380, and a rolling machine 390.

押出成形機360は、押出機350から混練物を受け入れ、受け入れた混練物を押出成形してシート状の成形物を連続的に製造する。このとき第3工程領域P33は、押出成形機360が押し出したシートに不織布などの基材361を合わせて一体化してもよい。すなわち第3工程領域P33は、シート製造装置を含む。なお、押出成形機360はシート製造装置360と称されてもよい。 The extruder 360 receives the kneaded material from the extruder 350 and extrudes the received kneaded material to continuously produce a sheet-like molded product. At this time, in the third process area P33, the sheet extruded by the extrusion molding machine 360 may be integrated with a base material 361 such as a nonwoven fabric. That is, the third process area P33 includes a sheet manufacturing device. Note that the extrusion molding machine 360 may also be referred to as a sheet manufacturing device 360.

次にコータ370は、成形物の表面に所定の正極活物質等を塗布する。さらに乾燥機380は、所定の正極活物質等が塗布された成形物を乾燥し、圧延機390に供給する。圧延機390は、乾燥した成形物を圧延して第4工程領域P34に供給する。 Next, the coater 370 coats the surface of the molded product with a predetermined positive electrode active material or the like. Furthermore, the dryer 380 dries the molded product coated with a predetermined positive electrode active material, etc., and supplies it to the rolling mill 390 . The rolling mill 390 rolls the dried molded product and supplies it to the fourth process area P34.

第4工程領域P34において、電池用材料製造システム3は、所定のシートを貼り合わせ、これを巻き取る工程を有する。第4工程領域P34は主な構成として、ラミネータ400および巻取機410を有する。ラミネータ400は、圧延機390から供給されるシート状の成形物に、負極活物質を含む負極シート401(または電極シート)を貼り合わせ、貼り合わせた電池積層体を巻取機410に供給する。巻取機410は、電池積層体を巻き取る。 In the fourth process area P34, the battery material manufacturing system 3 has a process of pasting together predetermined sheets and winding them up. The fourth process area P34 mainly includes a laminator 400 and a winder 410. The laminator 400 laminates a negative electrode sheet 401 (or electrode sheet) containing a negative electrode active material to a sheet-shaped molded product supplied from the rolling mill 390, and supplies the bonded battery laminate to a winder 410. The winder 410 winds up the battery stack.

以上、電池用材料製造システム3の構成および電池用材料製造システム3が実行する電池用材料製造方法について説明した。本実施の形態にかかる電池用材料製造システム3は、複数の反応を要する固体電解質等の反応生成物を一貫して効率よく製造し、製造した反応生成物を用いて連続的にシートを製造できる。なお、本実施の形態にかかる電池用材料製造システム3は、図9に示したものに限られない。例えば電池用材料製造システム3は例えば第4工程領域P34における巻取機410を有していなくてもよい。 The configuration of the battery material manufacturing system 3 and the battery material manufacturing method executed by the battery material manufacturing system 3 have been described above. The battery material manufacturing system 3 according to the present embodiment can consistently and efficiently manufacture reaction products such as solid electrolytes that require multiple reactions, and can continuously manufacture sheets using the manufactured reaction products. . Note that the battery material manufacturing system 3 according to this embodiment is not limited to that shown in FIG. 9. For example, the battery material manufacturing system 3 may not include the winder 410 in the fourth process area P34, for example.

また図9に示すシステムは、電池用材料ではない所定の材料を製造することもできる。すなわち、図9に示すシステムは、材料製造システムまたは固体電解質製造システムと称することが出来る。また、かかる材料製造システムが実行する方法を、材料製造方法と称することが出来る。 Furthermore, the system shown in FIG. 9 can also produce predetermined materials other than battery materials. That is, the system shown in FIG. 9 can be called a material manufacturing system or a solid electrolyte manufacturing system. Further, a method executed by such a material manufacturing system can be referred to as a material manufacturing method.

また図9に示す電池用材料製造システム3は、上述のように、第3工程領域P33において固体電解質シートを製造し、且つ、第4工程領域P34において負極シートを含む電解質シートをラミネートすることができる。これにより、電池用材料製造システム3は、電池積層体を製造することが出来る。すなわちこの場合、図9に示すシステムを、電池製造システムと称し、図9に示すシステムが実行する方法を、電池製造方法と称することが出来る。 Further, as described above, the battery material manufacturing system 3 shown in FIG. 9 can manufacture a solid electrolyte sheet in the third process area P33 and laminate the electrolyte sheet including the negative electrode sheet in the fourth process area P34. can. Thereby, the battery material manufacturing system 3 can manufacture a battery stack. That is, in this case, the system shown in FIG. 9 can be called a battery manufacturing system, and the method executed by the system shown in FIG. 9 can be called a battery manufacturing method.

以上に述べたように、実施の形態7によれば、所望の電池用材料、電池または所定の材料を効率よく製造するためのシステムまたはその方法を提供できる。 As described above, according to the seventh embodiment, it is possible to provide a system or method for efficiently manufacturing a desired battery material, battery, or predetermined material.

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。 Note that the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified as appropriate without departing from the spirit.

1、2 反応システム
3 電池用材料製造システム
10、20、30、40 反応装置
100 キルン部
101 原料供給口
102 送出口
103 筒部
104 軸受け
105 接触領域
105A 第1接触領域
105B 第2接触領域
106 従動部
110 温度制御装置
110A 第1温度制御部
110B 第2温度制御部
120 流体供給装置
121 流体供給管
122 流体供給口
130 流体吸引装置
131 流体吸引管
132 流体吸引口
140 フィーダ
141 原料投入口
150 キルンフット
151 反応生成物出口
160 駆動装置
161 駆動力伝達部
170 支持部材
171、172、173、174、175 邪魔板
210 造粒装置
350 押出機
360 シート製造装置
361 基材
370 コータ
380 乾燥機
390 圧延機
400 ラミネータ
401 負極シート
410 巻取機
A10 リード角
C10 中心軸
C11 中央領域
C12 螺旋
R10 原料
R11 反応生成物
1, 2 Reaction system 3 Battery material manufacturing system 10, 20, 30, 40 Reactor 100 Kiln section 101 Raw material supply port 102 Outlet port 103 Cylindrical section 104 Bearing 105 Contact area 105A First contact area 105B Second contact area 106 Driven Part 110 Temperature control device 110A First temperature control section 110B Second temperature control section 120 Fluid supply device 121 Fluid supply pipe 122 Fluid supply port 130 Fluid suction device 131 Fluid suction pipe 132 Fluid suction port 140 Feeder 141 Raw material input port 150 Kiln foot 151 Reaction product outlet 160 Drive device 161 Driving force transmission unit 170 Support member 171, 172, 173, 174, 175 Baffle plate 210 Granulation device 350 Extruder 360 Sheet manufacturing device 361 Base material 370 Coater 380 Dryer 390 Rolling machine 400 Laminator 401 Negative electrode sheet 410 Winder A10 Lead angle C10 Central axis C11 Central region C12 Spiral R10 Raw material R11 Reaction product

Claims (2)

中心軸に沿って回転可能に延伸する筒部を有し、上流側から受け入れた原料を下流側に搬送しながら反応させる反応装置に挿入して使用される支持部材であって、
前記支持部材は、
前記筒部の一端側に配置され前記筒部に原料を供給するフィーダ部と前記筒部の他端側に配置され前記筒部から反応生成物を送出するキルンフット部とにより支持され、
前記一端側または前記他端側から前記筒部の内側に延伸する流体供給管により圧送された流体の流れを前記中心軸に平行な方向に沿って規制するための邪魔板を有する、
支持部材。
A support member having a cylindrical portion rotatably extending along a central axis and used by being inserted into a reaction device that reacts raw materials received from an upstream side while conveying them to a downstream side,
The support member is
Supported by a feeder part arranged at one end of the cylindrical part and supplying raw materials to the cylindrical part, and a kiln foot part arranged at the other end of the cylindrical part and delivering a reaction product from the cylindrical part,
a baffle plate for regulating the flow of fluid pumped by a fluid supply pipe extending from the one end side or the other end side to the inside of the cylindrical part along a direction parallel to the central axis;
Support member.
前記邪魔板は、前記流体の流れを螺旋状に規制する ための形状を有する、
請求項1に記載の支持部材。
The baffle plate has a shape to spirally regulate the flow of the fluid.
The support member according to claim 1.
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