JP2023147908A - Solid electrolytic capacitor and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

To reduce increase in ESR when a solid electrolytic capacitor is exposed to an environment where stress is applied on components inside the solid electrolytic capacitor.SOLUTION: A solid electrolytic capacitor includes: a capacitor element including an anode part and a cathode part; a cathode lead frame including a first part and electrically connected to the cathode part; and an exterior body covering the capacitor element and the first part. The cathode part includes at least a cathode lead-out layer. The cathode lead-out layer is electrically connected to at least part of the first part via a conductive adhesive layer. The conductive adhesive layer includes a first stress buffer part. The cathode lead-out layer does not include a second stress buffer part, or includes the second buffer part. In a cross section A parallel to a thickness direction DT and a length direction DL of the conductive adhesive layer and the cathode lead-out layer, an area occupied by the first stress buffer part is greater than an area occupied by the second stress buffer part.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、固体電解コンデンサおよびその製造方法に関する。 The present disclosure relates to a solid electrolytic capacitor and a method of manufacturing the same.

固体電解コンデンサは、例えば、陽極部および陰極部を含むコンデンサ素子と、コンデンサ素子を封止する外装体とを含む。陽極部または陰極部にはリードの一端部が接続され、他端部は外装体の外部に引き出されて、基板などに搭載するための半田接続などに利用される。陰極部は、例えば、陽極部を構成する陽極体の少なくとも一部の表面を、誘電体層を介して覆う固体電解質層と、固体電解質層の少なくとも一部を覆う陰極引出層とを含む。リードとしては、例えば、リードフレームが使用されることがある。陰極リードは、例えば、陰極引出層の表面に導電性接着層を介して接続される。 A solid electrolytic capacitor includes, for example, a capacitor element including an anode part and a cathode part, and an exterior body that seals the capacitor element. One end of the lead is connected to the anode part or the cathode part, and the other end is drawn out of the exterior body and used for solder connection for mounting on a board or the like. The cathode section includes, for example, a solid electrolyte layer that covers at least a portion of the surface of an anode body constituting the anode section via a dielectric layer, and a cathode extraction layer that covers at least a portion of the solid electrolyte layer. For example, a lead frame may be used as the lead. For example, the cathode lead is connected to the surface of the cathode extraction layer via a conductive adhesive layer.

特許文献1は、陽極体の表面に誘電体皮膜と陰極層とを順次形成してコンデンサ素子を作製する工程と、前記陰極層と陰極端子とを導電性接着剤を介して接続する工程と、を有する固体電解コンデンサの製造方法において、前記導電性接着剤は、銀粉末と、ビスフェノールF型エポキシ樹脂と、希釈剤と、を含有し、前記希釈剤の含有量は0~15重量%であることを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法を提案している。 Patent Document 1 discloses a step of manufacturing a capacitor element by sequentially forming a dielectric film and a cathode layer on the surface of an anode body, and a step of connecting the cathode layer and a cathode terminal via a conductive adhesive. In the method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, the conductive adhesive contains silver powder, a bisphenol F-type epoxy resin, and a diluent, and the content of the diluent is 0 to 15% by weight. We propose a method for manufacturing solid electrolytic capacitors characterized by the following.

特許文献2は、陽極金属層と、誘電体層と、導電性高分子層と、陰極層とを少なくとも備え、前記陰極層はグラファイトフィルム層を少なくとも含み、前記グラファイトフィルム層は前記導電性高分子層と接して形成されており、かつ、前記グラファイトフィルム層の見かけ比重が0.4~1.8g/cmの範囲内である、電解コンデンサを提案している。 Patent Document 2 includes at least an anode metal layer, a dielectric layer, a conductive polymer layer, and a cathode layer, the cathode layer includes at least a graphite film layer, and the graphite film layer includes the conductive polymer layer. The proposed electrolytic capacitor is formed in contact with a graphite film layer, and the apparent specific gravity of the graphite film layer is within the range of 0.4 to 1.8 g/cm 3 .

特許文献3は、多孔質導体を形成する多孔質導体形成工程と、少なくとも固体電解質外層および金属層を含む複数の層からなる導体層を、少なくとも上記多孔質導体の外表面を覆うようにして形成する導体層形成工程と、を含むコンデンサ素子の製造方法であって、上記導体層形成工程において、上記複数の層のうちの少なくとも1つの層は、導電性粒子、バインダおよび溶媒を含む被覆材を塗布した後に上記溶媒を蒸発させることにより形成されることを特徴とする、コンデンサ素子の製造方法を提案している。 Patent Document 3 discloses a porous conductor forming step of forming a porous conductor, and a step of forming a conductor layer consisting of a plurality of layers including at least a solid electrolyte outer layer and a metal layer so as to cover at least the outer surface of the porous conductor. a conductor layer forming step, in which at least one layer of the plurality of layers is coated with a coating material containing conductive particles, a binder, and a solvent. A method for manufacturing a capacitor element is proposed, which is characterized in that the capacitor element is formed by evaporating the solvent after coating.

特開2010-225606号公報Japanese Patent Application Publication No. 2010-225606 特開2007-234768号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-234768 特開2003-324040号公報JP2003-324040A

固体電解コンデンサでは、製造時および製品使用時などに内部に様々な応力が加わり、内部で構成部材における剥離が生じることがある。例えば、高温環境下で充放電を繰り返した場合に、内部に含まれる水分等の膨張によって構成部材に応力が加わり、剥離が生じることがある。剥離が生じる位置によっては、等価直列抵抗(ESR)が顕著に低下する場合がある。 Solid electrolytic capacitors are subjected to various stresses internally during manufacturing and product use, which can cause peeling of internal components. For example, when charging and discharging are repeated in a high-temperature environment, stress is applied to the constituent members due to expansion of moisture contained inside, which may cause peeling. Depending on the location where delamination occurs, the equivalent series resistance (ESR) may drop significantly.

本開示の第1側面は、陽極部および陰極部を含むコンデンサ素子と、
第1部分を含むとともに、前記陰極部に電気的に接続された陰極リードフレームと、
前記コンデンサ素子および前記第1部分を覆う外装体と、を含む固体電解コンデンサであって、
前記陰極部は、少なくとも陰極引出層を含み、
前記陰極引出層は、前記第1部分の少なくとも一部と導電性接着層を介して電気的に接続されており、
前記導電性接着層は、第1応力緩衝部を含み、
前記陰極引出層は、第2応力緩衝部を含まないか、または第2応力緩衝部を含み、
前記導電性接着層および前記陰極引出層の厚さ方向Dおよび長さ方向Dに平行な断面Aにおいて、前記第1応力緩衝部が占める面積が、前記第2応力緩衝部が占める面積より大きい、固体電解コンデンサに関する。
A first aspect of the present disclosure provides a capacitor element including an anode part and a cathode part;
a cathode lead frame including a first portion and electrically connected to the cathode portion;
A solid electrolytic capacitor comprising: an exterior body covering the capacitor element and the first portion;
The cathode section includes at least a cathode extraction layer,
The cathode extraction layer is electrically connected to at least a portion of the first portion via a conductive adhesive layer,
The conductive adhesive layer includes a first stress buffer,
The cathode extraction layer does not include a second stress buffer or includes a second stress buffer,
In a cross section A parallel to the thickness direction DT and length direction DL of the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer, the area occupied by the first stress buffer part is larger than the area occupied by the second stress buffer part. Regarding large, solid electrolytic capacitors.

本開示の第2側面は、陽極部と少なくとも陰極引出層を含む陰極部とを含むコンデンサ素子を準備する第1工程、
前記陰極引出層と第1部分を含む陰極リードフレームの前記第1部分の少なくとも一部との間に導電性接着層を形成して、前記導電性接着層を介して、前記陰極引出層と前記陰極リードフレームとを電気的に接続する第2工程、および
前記コンデンサ素子と前記陰極リードフレームの前記第1部分とを外装体で覆う第3工程、を含み、
前記第2工程は、前記導電性接着層内に第1応力緩衝部を形成するサブステップを含む、固体電解コンデンサの製造方法に関する。
A second aspect of the present disclosure includes a first step of preparing a capacitor element including an anode portion and a cathode portion including at least a cathode extraction layer;
A conductive adhesive layer is formed between the cathode extraction layer and at least a portion of the first portion of the cathode lead frame including the first portion, and the cathode extraction layer and the a second step of electrically connecting the cathode lead frame; and a third step of covering the capacitor element and the first portion of the cathode lead frame with an exterior body,
The second step relates to a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, including a substep of forming a first stress buffer within the conductive adhesive layer.

固体電解コンデンサ内の構成部材に応力が加わる環境に晒された場合のESRの増加を軽減することができる。 It is possible to reduce the increase in ESR when the components inside the solid electrolytic capacitor are exposed to an environment where stress is applied.

本開示の一実施形態に係る電解コンデンサの断面模式図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electrolytic capacitor according to an embodiment of the present disclosure.

固体電解コンデンサの陰極部は、固体電解質層および陰極引出層などを含む。そして、陰極引出層には、導電性接着層を介して陰極リードフレームが接続されている。固体電解コンデンサは、陰極側において、このように複数の構成部材が積層された構造を有する。そのため、固体電解コンデンサの内部の構成部材に応力が加わった場合、例えば、固体電解質層と陰極引出層との間、陰極引出層の内部、陰極引出層と導電性接着層との間、導電性接着層の内部、導電性接着層と陰極リードフレームとの間などにおいて剥離が生じ易い。陰極引出層は、例えば、導電性カーボンおよび樹脂バインダまたはその硬化物を含むカーボン層と、金属粒子および樹脂バインダまたはその硬化物を含む金属粒子含有層とを含む。導電性接着層は、例えば、金属粒子および樹脂バインダまたはその硬化物を含む金属粒子含有層である。陰極引出層を構成する金属粒子含有層または導電性接着層を構成する金属粒子含有層は、固体電解質層に比較すると、非常に高い導電性を有する。そのため、金属粒子含有層において、部分的に剥離が生じても、剥離部分を迂回して電気が比較的スムーズに流れるため、ESRの増加はそれほど顕著にならない。一方、陰極引出層を構成するカーボン層は、固体電解質層に比較してもさらに導電性が低い。そのため、カーボン層とカーボン層に隣接する層(固体電解質層、金属粒子含有層など)との間で剥離が生じると、剥離部分を迂回する際に抵抗が大きな部分を電気が流れることとなる。よって、抵抗による電気の損失が顕著になるため、ESRが大きく増加する。そのため、カーボン層または固体電解質層などの導電性が比較的低い層が関与する剥離が生じないようにすることが重要である。 The cathode portion of a solid electrolytic capacitor includes a solid electrolyte layer, a cathode extraction layer, and the like. A cathode lead frame is connected to the cathode extraction layer via a conductive adhesive layer. A solid electrolytic capacitor has a structure in which a plurality of constituent members are stacked in this manner on the cathode side. Therefore, when stress is applied to the internal components of a solid electrolytic capacitor, for example, between the solid electrolyte layer and the cathode extraction layer, inside the cathode extraction layer, between the cathode extraction layer and the conductive adhesive layer, the conductive Peeling is likely to occur inside the adhesive layer or between the conductive adhesive layer and the cathode lead frame. The cathode drawing layer includes, for example, a carbon layer containing conductive carbon and a resin binder or a cured product thereof, and a metal particle-containing layer containing metal particles and a resin binder or a cured product thereof. The conductive adhesive layer is, for example, a metal particle-containing layer containing metal particles and a resin binder or a cured product thereof. The metal particle-containing layer constituting the cathode extraction layer or the metal particle-containing layer constituting the conductive adhesive layer has extremely high conductivity compared to the solid electrolyte layer. Therefore, even if peeling occurs partially in the metal particle-containing layer, electricity flows relatively smoothly by bypassing the peeled portion, so that the increase in ESR is not so significant. On the other hand, the carbon layer constituting the cathode extraction layer has even lower conductivity than the solid electrolyte layer. Therefore, if peeling occurs between the carbon layer and a layer adjacent to the carbon layer (solid electrolyte layer, metal particle-containing layer, etc.), electricity will flow through a portion with high resistance when bypassing the peeled portion. Therefore, the loss of electricity due to resistance becomes significant, resulting in a large increase in ESR. Therefore, it is important to prevent delamination involving layers with relatively low conductivity, such as carbon layers or solid electrolyte layers.

上記に鑑み、本開示では、導電性接着層が、応力緩衝部(第1応力緩衝部)を含み、陰極引出層は、応力緩衝部(第2応力緩衝部)を含まないか、または応力緩衝部(第2応力緩衝部)を含む。そして、導電性接着層および陰極引出層の厚さ方向Dおよび長さ方向Dに平行な断面Aにおいて、第1応力緩衝部が占める面積(S1)が、第2応力緩衝部が占める面積(S2)より大きい。このように、高い導電性を有する導電性接着層に占める第1応力緩衝部の面積S1が比較的大きいことで、固体電解コンデンサ内の応力の多くを導電性接着層で緩和することができ、他の部材で剥離が生じることを抑制できる。特に、カーボン層または固体電解質層などの導電性が比較的低い層が関与する剥離が抑制される。よって、固体電解コンデンサ内の構成部材に応力が加わる環境下(例えば、リフロー処理などで固体電解コンデンサが高温に晒された場合)でも、ESRの増加を軽減することができる。 In view of the above, in the present disclosure, the conductive adhesive layer includes a stress buffer section (first stress buffer section), and the cathode extraction layer does not include a stress buffer section (second stress buffer section), or the conductive adhesive layer includes a stress buffer section (second stress buffer section). section (second stress buffer section). In a cross section A parallel to the thickness direction DT and the length direction DL of the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer, the area occupied by the first stress buffer part (S1) is the area occupied by the second stress buffer part. (S2) is larger. As described above, since the area S1 of the first stress buffering portion in the conductive adhesive layer having high conductivity is relatively large, most of the stress within the solid electrolytic capacitor can be alleviated by the conductive adhesive layer. It is possible to suppress peeling from occurring in other members. In particular, peeling involving layers with relatively low conductivity, such as carbon layers or solid electrolyte layers, is suppressed. Therefore, even in an environment where stress is applied to the components inside the solid electrolytic capacitor (for example, when the solid electrolytic capacitor is exposed to high temperatures during reflow treatment), it is possible to reduce the increase in ESR.

なお、導電性接着層における応力緩衝部を第1応力緩衝部と称し、陰極引出層における応力緩衝部を第2応力緩衝部と称する。応力緩衝部とは、各層に加わる応力を緩衝可能(または緩和可能)な部分である。そのため、応力緩衝部は、応力を緩衝または緩和できるように、通常、ある程度のサイズを有している。 Note that the stress buffer in the conductive adhesive layer is referred to as a first stress buffer, and the stress buffer in the cathode extraction layer is referred to as a second stress buffer. The stress buffering portion is a portion that can buffer (or relax) stress applied to each layer. Therefore, the stress buffering portion usually has a certain size so as to be able to buffer or relieve stress.

第1応力緩衝部および第2応力緩衝部のそれぞれは、少なくとも1つの空隙で構成されていてもよい。各応力緩衝部を構成する空隙は、応力を緩衝可能な空隙である。導電性接着層に含まれる、応力を緩衝可能な空隙を第1空隙と称し、陰極引出層に含まれる、応力を緩衝可能な空隙を第2空隙と称する。空隙は、通常、各層を形成する際に応力を緩和可能なサイズの気泡が形成されることで形成される。そのため、空隙は、球状、楕円球状またはこれらに類似する形状であったり、これらが扁平に潰れたような形状であったりすることが多い。例えば、層間剥離などの場合には剥離が広範囲に起こるため、電気が迂回する距離が長くなるためESRが増加し易い。しかし、上記のような形状の空隙では、電気は空隙の周囲に沿って流れるため、迂回する距離が短くなり、陰極リードフレームに向かってスムーズに電気が流れやすく、ESRの増加を抑制し易い。また、意図せずして形成される剥離に比べて、空隙のサイズおよび位置を制御し易いことからも、ESRの増加を抑制し易い。 Each of the first stress buffering section and the second stress buffering section may include at least one void. The voids constituting each stress buffering section are voids capable of buffering stress. The voids included in the conductive adhesive layer and capable of buffering stress are referred to as first voids, and the voids included in the cathode extraction layer capable of buffering stress are referred to as second voids. The voids are usually formed by forming air bubbles of a size that can relieve stress when forming each layer. Therefore, the voids often have a spherical shape, an elliptic spherical shape, a shape similar to these, or a shape in which these shapes are flattened. For example, in the case of delamination, the delamination occurs over a wide range, and the distance that electricity must detour becomes longer, which tends to increase ESR. However, in a gap having the above shape, since electricity flows along the periphery of the gap, the detour distance is shortened, and electricity tends to flow smoothly toward the cathode lead frame, making it easier to suppress an increase in ESR. Furthermore, since it is easier to control the size and position of the voids compared to unintentionally formed peeling, it is easier to suppress an increase in ESR.

本開示には、固体電解コンデンサの製造方法も包含される。固体電解コンデンサの製造方法は、例えば、コンデンサ素子を準備する第1工程と、コンデンサ素子の陰極引出層と陰極リードフレームとを導電性接着層を介して電気的に接続する第2工程と、コンデンサ素子と陰極リードフレームの一部とを外装体で覆う第3工程を含む。ここで、第2工程は、導電性接着層内に第1応力緩衝部を形成するサブステップを含む。このようなサブステップにより形成された第1応力緩衝部によって、固体電解コンデンサ内の応力の多くを緩和することができ、他の部材で剥離が生じることを抑制できる。よって、固体電解コンデンサ内の構成部材に応力が加わる環境下でも、ESRの増加を抑制することができる。 The present disclosure also includes a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor. A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor includes, for example, a first step of preparing a capacitor element, a second step of electrically connecting a cathode lead layer of the capacitor element and a cathode lead frame via a conductive adhesive layer, and a second step of preparing a capacitor element. The method includes a third step of covering the element and a portion of the cathode lead frame with an exterior body. Here, the second step includes a substep of forming a first stress buffer within the conductive adhesive layer. The first stress buffer portion formed by such sub-steps can relieve much of the stress within the solid electrolytic capacitor, and can suppress peeling from occurring in other members. Therefore, an increase in ESR can be suppressed even in an environment where stress is applied to the structural members within the solid electrolytic capacitor.

固体電解コンデンサの導電性接着層および陰極部(陰極引出層など)の厚さ方向Dおよび長さ方向Dに平行な断面Aにおいて、導電性接着層の最外表面から誘電体層の表面までの間に存在する空間の、上記厚さ方向Dに平行な方向の長さ(換言すると、空間の厚さ)の最大値をaとし、上記長さ方向Dに平行な方向の長さ(換言すると、空間の長さ)の最大値をbとする。そして、固体電解コンデンサの導電性接着層および陰極部(陰極引出層など)の厚さ方向Dおよび幅方向Dに平行な断面Bにおいて、上記の空間の、上記幅方向Dに平行な方向の長さ(換言すると、空間の幅)の最大値をcとする。このとき、20a≦bおよび20a≦cの少なくとも一方を充足するような大きな空間は、応力が加わる前の導電性接着層および陰極部にはほとんど存在せず、応力が加わった場合に確認されることがある。このような空間は剥離によって形成される空間に相当し、本明細書中、「空隙」とは区別される。それに対し、20a>bおよび20a>cを充足するような空間を、「空隙」と称する。例えば、陽極部が陽極ワイヤを含む場合、陽極ワイヤが突出する方向は、長さ方向Dと平行な方向である。 In cross section A parallel to the thickness direction DT and the length direction DL of the conductive adhesive layer and cathode part (cathode extraction layer, etc.) of the solid electrolytic capacitor, from the outermost surface of the conductive adhesive layer to the surface of the dielectric layer Let the maximum value of the length of the space existing between the above thickness direction DT (in other words, the thickness of the space) in the direction parallel to the above thickness direction DT be a, and the length in the direction parallel to the above length direction DL Let b be the maximum value of the length (in other words, the length of the space). Then, in the cross section B parallel to the thickness direction DT and the width direction DW of the conductive adhesive layer and the cathode part (cathode extraction layer, etc.) of the solid electrolytic capacitor, the space parallel to the width direction DW of the above space is Let c be the maximum value of the length in the direction (in other words, the width of the space). At this time, a large space that satisfies at least one of 20a≦b and 20a≦c hardly exists in the conductive adhesive layer and the cathode part before stress is applied, and is confirmed when stress is applied. Sometimes. Such a space corresponds to a space formed by peeling, and is distinguished from a "void" in this specification. On the other hand, a space that satisfies 20a>b and 20a>c is called a "void". For example, when the anode portion includes an anode wire, the direction in which the anode wire protrudes is parallel to the length direction DL .

以下、本開示の固体電解コンデンサおよびその製造方法についてより具体的に説明する。 Hereinafter, the solid electrolytic capacitor of the present disclosure and its manufacturing method will be described in more detail.

[固体電解コンデンサ]
固体電解コンデンサに含まれるコンデンサ素子は、陽極部および陰極部を含む。陰極部(より具体的には陰極引出層)には、陰極リードフレームが導電性接着層を介して電気的に接続されている。固体電解コンデンサは、コンデンサ素子および陰極リードフレームの一部などを覆う外装体を含む。固体電解コンデンサは、陽極部に電気的に接続される陽極リードフレームを有していてもよい。陰極リードフレームおよび陽極リードフレームの各リードフレームでは、外装体内に埋没される部分を第1部分と称し、外装体から外側に引き出される部分を第2部分と称する。
[Solid electrolytic capacitor]
A capacitor element included in a solid electrolytic capacitor includes an anode portion and a cathode portion. A cathode lead frame is electrically connected to the cathode portion (more specifically, the cathode extraction layer) via a conductive adhesive layer. A solid electrolytic capacitor includes an exterior body that covers a capacitor element, a portion of a cathode lead frame, and the like. The solid electrolytic capacitor may have an anode lead frame electrically connected to the anode portion. In each lead frame of the cathode lead frame and the anode lead frame, a portion buried in the exterior body is referred to as a first portion, and a portion drawn out from the exterior body is referred to as a second portion.

本開示の固体電解コンデンサでは、導電性接着層および陰極引出層を除く構成要素に特に限定はなく、公知の固体電解コンデンサに用いられる構成要素を適用してもよい。また、必要に応じて、陰極引出層に、公知の固体電解コンデンサに用いられる陰極引出層の構成要素を適用してもよい。 In the solid electrolytic capacitor of the present disclosure, components other than the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer are not particularly limited, and components used in known solid electrolytic capacitors may be applied. Furthermore, if necessary, components of cathode extraction layers used in known solid electrolytic capacitors may be applied to the cathode extraction layer.

(コンデンサ素子)
コンデンサ素子は、陽極体と、陽極体の表面に形成された誘電体層と、誘電体層の少なくとも一部を覆う陰極部と、を含む。陽極体は陽極部を構成している。
(capacitor element)
The capacitor element includes an anode body, a dielectric layer formed on the surface of the anode body, and a cathode portion covering at least a portion of the dielectric layer. The anode body constitutes an anode section.

(コンデンサ素子)
(陽極部)
陽極部は、陽極体を含む。陽極部は、陽極体と、陽極ワイヤとを含んでもよい。
(capacitor element)
(Anode part)
The anode portion includes an anode body. The anode portion may include an anode body and an anode wire.

(陽極体)
陽極体は、弁作用金属、弁作用金属を含む合金、および弁作用金属を含む化合物などを含んでもよい。陽極体は、これらの材料を、一種含んでもよく、二種以上を組み合わせて含んでもよい。弁作用金属としては、例えば、アルミニウム、タンタル、ニオブ、チタンが好ましい。
(Anode body)
The anode body may include a valve metal, an alloy containing a valve metal, a compound containing a valve metal, and the like. The anode body may contain one kind of these materials or a combination of two or more kinds. Preferred valve metals include, for example, aluminum, tantalum, niobium, and titanium.

陽極体は、少なくとも表層に多孔質部を有する。陽極体は多孔質部に微細な細孔を多数有する。このような多孔質部によって、陽極体は、微細な凹凸形状を有する。 The anode body has a porous portion at least in the surface layer. The anode body has many fine pores in the porous part. Due to such a porous portion, the anode body has a fine uneven shape.

表層に多孔質部を有する陽極体は、例えば、弁作用金属を含む基材(シート状(例えば、箔状、板状)の基材など)の表面を、粗面化することで得られる。粗面化は、例えば、エッチング処理(電解エッチング、化学エッチングなど)などにより行ってもよい。このような陽極体は、例えば、芯部と芯部の双方の表面に芯部と一体化して形成された多孔質部とを有している。 An anode body having a porous portion on the surface layer can be obtained, for example, by roughening the surface of a base material (such as a sheet-like (for example, foil-like, plate-like) base material) containing a valve metal. The surface roughening may be performed by, for example, etching treatment (electrolytic etching, chemical etching, etc.). Such an anode body has, for example, a core portion and a porous portion formed integrally with the core portion on both surfaces of the core portion.

陽極体は、弁作用金属を含む粒子の多孔質の成形体または多孔質の焼結体(多孔質の成形体の焼結体など)でもよい。成形体および焼結体のそれぞれは、シート状の形状であってもよく、直方体、立方体またはこれらに類似の形状などであってもよい。多孔質焼結体としては、例えば、タンタルを含む多孔質焼結体であってもよい。 The anode body may be a porous molded body or a porous sintered body (such as a sintered body of a porous molded body) of particles containing a valve metal. Each of the molded body and the sintered body may have a sheet-like shape, a rectangular parallelepiped, a cube, or a shape similar to these. The porous sintered body may be, for example, a porous sintered body containing tantalum.

(陽極ワイヤ)
陽極体が多孔質焼結体または多孔質成形体である場合、陽極部は、陽極ワイヤを含んでもよい。陽極ワイヤは、金属からなるワイヤであってもよい。陽極ワイヤの材料の例は、上記の弁作用金属、銅、または銅合金などである。陽極ワイヤの一部は陽極体に埋設され、残りの部分は陽極体の端面から外方に突き出している。
(Anode wire)
When the anode body is a porous sintered body or a porous molded body, the anode portion may include an anode wire. The anode wire may be a wire made of metal. Examples of materials for the anode wire include the valve metals mentioned above, copper, or copper alloys. A portion of the anode wire is embedded in the anode body, and the remaining portion protrudes outward from the end face of the anode body.

(誘電体層)
誘電体層は、例えば、陽極体(より具体的には多孔質部)の少なくとも一部の表面を覆うように形成される。誘電体層は、誘電体として機能する絶縁性の層である。誘電体層は、陽極体の表面の弁作用金属を、化成処理などにより陽極酸化することで形成される。誘電体層は、陽極体の多孔質の表面に形成されるため、誘電体層の表面は、多孔質部の形状に沿って微細な凹凸形状を有する。
(dielectric layer)
The dielectric layer is formed, for example, to cover at least a portion of the surface of the anode body (more specifically, the porous portion). The dielectric layer is an insulating layer that functions as a dielectric. The dielectric layer is formed by anodizing the valve metal on the surface of the anode body by chemical conversion treatment or the like. Since the dielectric layer is formed on the porous surface of the anode body, the surface of the dielectric layer has fine irregularities along the shape of the porous portion.

誘電体層は弁作用金属の酸化物を含む。例えば、弁作用金属としてタンタルを用いた場合の誘電体層はTaを含み、弁作用金属としてアルミニウムを用いた場合の誘電体層はAlを含む。尚、誘電体層はこれらの例に限らず、誘電体として機能すればよい。 The dielectric layer includes an oxide of a valve metal. For example, the dielectric layer contains Ta 2 O 5 when tantalum is used as the valve metal, and the dielectric layer contains Al 2 O 3 when aluminum is used as the valve metal. Note that the dielectric layer is not limited to these examples, and may function as a dielectric.

(陰極部)
陰極部は、陽極体の表面に形成された誘電体層の少なくとも一部を覆うように形成される。本開示では、陰極部は、少なくとも陰極引出層を含む。陰極部(より具体的には陰極引出層)は、陰極リードフレームの第1部分の少なくとも一部と導電性接着層を介して電気的に接続されている。固体電解コンデンサの陰極部は、通常、誘電体層の少なくとも一部を覆う固体電解質層を含む。陰極引出層は、固体電解質層の少なくとも一部を覆っている。
(Cathode part)
The cathode portion is formed to cover at least a portion of the dielectric layer formed on the surface of the anode body. In the present disclosure, the cathode section includes at least a cathode extraction layer. The cathode portion (more specifically, the cathode extraction layer) is electrically connected to at least a portion of the first portion of the cathode lead frame via a conductive adhesive layer. The cathode portion of a solid electrolytic capacitor typically includes a solid electrolyte layer covering at least a portion of a dielectric layer. The cathode extraction layer covers at least a portion of the solid electrolyte layer.

(固体電解質層)
固体電解質層は、例えば、導電性高分子(共役系高分子、ドーパントなど)を含む。共役系高分子としては、例えば、π共役系高分子(ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリンおよびこれらの誘導体など)を用いてもよい。例えば、ポリチオフェン誘導体には、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)などが包含される。ドーパントとしては、ポリスチレンスルホン酸(PSS)などを用いてもよく、ナフタレンスルホン酸、トルエンスルホン酸などを用いてもよい。
(solid electrolyte layer)
The solid electrolyte layer includes, for example, a conductive polymer (a conjugated polymer, a dopant, etc.). As the conjugated polymer, for example, π-conjugated polymers (polypyrrole, polythiophene, polyaniline, derivatives thereof, etc.) may be used. For example, polythiophene derivatives include poly(3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT) and the like. As the dopant, polystyrene sulfonic acid (PSS) or the like may be used, naphthalene sulfonic acid, toluene sulfonic acid, or the like.

固体電解質層は、例えば、共役系高分子の前駆体(モノマー、オリゴマーなど)およびドーパント(ナフタレンスルホン酸、トルエンスルホン酸など)を誘電体層上で化学重合および電解重合の少なくとも一方を利用して重合することにより、形成することができる。あるいは、共役系高分子およびドーパントが溶解した溶液、または、共役系高分子およびドーパントが分散した分散液を、誘電体層に付着させ、乾燥させることによって固体電解質層を形成してもよい。分散媒(溶媒)としては、例えば、水、有機溶媒、またはこれらの混合物が挙げられる。 The solid electrolyte layer is formed by, for example, using at least one of chemical polymerization and electrolytic polymerization of a conjugated polymer precursor (monomer, oligomer, etc.) and a dopant (naphthalene sulfonic acid, toluene sulfonic acid, etc.) on a dielectric layer. It can be formed by polymerization. Alternatively, a solid electrolyte layer may be formed by attaching a solution in which a conjugated polymer and a dopant are dissolved, or a dispersion in which a conjugated polymer and a dopant are dispersed, to a dielectric layer and drying. Examples of the dispersion medium (solvent) include water, organic solvents, and mixtures thereof.

固体電解質層は、必要に応じて添加剤を含んでもよい。添加剤としては、例えば、固体電解質層に添加される公知の添加剤(例えば、カップリング剤、シラン化合物)、導電性高分子以外の公知の導電性材料が挙げられる。固体電解質層、または各固体電解質は、これらの添加剤を一種含んでもよく、二種以上組み合わせて含んでもよい。添加剤としての導電性材料としては、例えば、マンガン化合物(二酸化マンガンなど)の導電性無機材料、およびTCNQ錯塩からなる群より選択される少なくとも一種が挙げられる。 The solid electrolyte layer may contain additives as necessary. Examples of the additive include known additives (for example, coupling agents, silane compounds) added to the solid electrolyte layer, and known conductive materials other than conductive polymers. The solid electrolyte layer or each solid electrolyte may contain one kind of these additives or a combination of two or more kinds. Examples of the conductive material as an additive include conductive inorganic materials such as manganese compounds (such as manganese dioxide) and at least one selected from the group consisting of TCNQ complex salts.

(陰極引出層)
陰極引出層は、例えば、固体電解質層と接触するとともに固体電解質層の少なくとも一部を覆う導電性の層を含む。陰極引出層は、金属粒子含有層を含んでもよい。この場合、通常、陰極リードフレームの第1部分の少なくとも一部は、導電性接着層を介して金属粒子含有層に電気的に接続している。陰極引出層は、固体電解質層の少なくとも一部を覆う第1層と、第1層の少なくとも一部を覆う第2層とを含んでもよい。例えば、陰極引出層は、第1層としての導電性カーボンを含む層(カーボン層とも称する)と、第2層としての金属粒子含有層とを含んでもよい。
(Cathode extraction layer)
The cathode extraction layer includes, for example, a conductive layer that contacts the solid electrolyte layer and covers at least a portion of the solid electrolyte layer. The cathode drawing layer may include a metal particle-containing layer. In this case, usually at least a portion of the first portion of the cathode lead frame is electrically connected to the metal particle-containing layer via a conductive adhesive layer. The cathode extraction layer may include a first layer covering at least a portion of the solid electrolyte layer and a second layer covering at least a portion of the first layer. For example, the cathode extraction layer may include a layer containing conductive carbon (also referred to as a carbon layer) as a first layer and a layer containing metal particles as a second layer.

カーボン層に含まれる導電性カーボンとしては、例えば、黒鉛(人造黒鉛、天然黒鉛など)が挙げられる。カーボン層は、黒鉛等の導電性炭素材料と樹脂を含む。カーボン層は、例えば、導電性カーボン、分散媒(水性分散媒(水など)など)を含む分散液を、固体電解質層の表面に付与し、乾燥することによって形成される。分散液は必要に応じて、界面活性剤、分散剤、樹脂バインダなどを含んでもよい。分散液の付与は、例えば、分散液に陽極体の固体電解質層が形成された部分を浸漬することによって行ってもよく、固体電解質層の表面に塗布することによって行ってもよい。 Examples of the conductive carbon contained in the carbon layer include graphite (artificial graphite, natural graphite, etc.). The carbon layer contains a conductive carbon material such as graphite and resin. The carbon layer is formed, for example, by applying a dispersion containing conductive carbon and a dispersion medium (such as an aqueous dispersion medium (water)) to the surface of the solid electrolyte layer and drying the dispersion. The dispersion liquid may contain a surfactant, a dispersant, a resin binder, etc., as necessary. The dispersion may be applied, for example, by immersing the portion of the anode body on which the solid electrolyte layer is formed in the dispersion, or by coating the surface of the solid electrolyte layer.

カーボン層の導電率は、数百S/m程度であり、固体電解質層の導電率は数千から1万S/m程度である。金属粒子含有層および導電性接着層の導電率は、カーボン層の導電率の数千倍から1万倍程度であり、固体電解質層の導電率の100倍から1000倍程度である。カーボン層および固体電解質層の導電率は金属粒子含有層または導電性接着層に比較すると低いため、固体電解質層内、カーボン層内、固体電解質層とカーボン層との間、カーボン層と金属粒子含有層(第2層)との間などで応力の作用によって剥離が生じると、抵抗の増加がESRの増大に大きく影響する。本開示では、導電性接着層中に比較的多くの応力緩衝部(第1応力緩衝部)を形成するため、固体電解コンデンサ内に応力が加わっても、導電性接着層によって応力の多くが緩和され、上記のような提供の増加がESRの増大に大きく影響する箇所での剥離が抑制される。よって、応力が加わる環境に晒された場合でも、ESRの増加を軽減することができる。 The conductivity of the carbon layer is about several hundred S/m, and the conductivity of the solid electrolyte layer is about several thousand to 10,000 S/m. The electrical conductivity of the metal particle-containing layer and the conductive adhesive layer is about several thousand to 10,000 times that of the carbon layer, and about 100 to 1000 times that of the solid electrolyte layer. The conductivity of the carbon layer and the solid electrolyte layer is lower than that of the metal particle-containing layer or the conductive adhesive layer. When peeling occurs between layers (second layer) due to the action of stress, the increase in resistance greatly affects the increase in ESR. In the present disclosure, a relatively large number of stress buffering parts (first stress buffering parts) are formed in the conductive adhesive layer, so even if stress is applied inside the solid electrolytic capacitor, most of the stress is alleviated by the conductive adhesive layer. This suppresses peeling at locations where the increase in supply as described above greatly affects the increase in ESR. Therefore, even when exposed to an environment where stress is applied, an increase in ESR can be reduced.

第2層の金属粒子含有層は、例えば、金属粒子(第2金属粒子)と樹脂バインダ(第2樹脂バインダ)またはその硬化物とを含む。第2金属粒子としては、銀粒子、銀合金粒子、銅粒子などが挙げられる。第2金属粒子は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。第2樹脂バインダとしては、熱可塑性樹脂を用いてもよいが、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。高い密着性および高い耐熱性を確保しやすい観点からは、硬化性樹脂のうち、エポキシ樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂などが好ましい。第2樹脂バインダは、一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。第2樹脂バインダは、熱硬化性樹脂の組成物を構成し得る添加剤(硬化剤、硬化促進剤、触媒など)を含んでもよい。 The second metal particle-containing layer includes, for example, metal particles (second metal particles) and a resin binder (second resin binder) or a cured product thereof. Examples of the second metal particles include silver particles, silver alloy particles, and copper particles. The second metal particles may be used alone or in combination of two or more. Although a thermoplastic resin may be used as the second resin binder, it is preferable to use a thermosetting resin. From the viewpoint of easily ensuring high adhesion and high heat resistance, among the curable resins, epoxy resins, polyamideimide resins, polyimide resins, phenol resins, etc. are preferable. The second resin binder may be used alone or in combination of two or more. The second resin binder may include additives (curing agent, curing accelerator, catalyst, etc.) that can constitute the thermosetting resin composition.

金属粒子含有層は、例えば、第2金属粒子と、第2樹脂バインダと、必要に応じて分散媒とを含む金属ペーストを第1層(カーボン層など)の表面に塗布し、乾燥させることによって形成される。樹脂バインダが熱硬化性樹脂の場合には、金属ペーストの塗膜を加熱することによって、樹脂バインダを硬化させてもよい。乾燥を加熱下で行うことで、分散媒を気化させるとともに、樹脂バインダを硬化させてもよい。分散媒としては、例えば、有機分散媒が用いられる。有機分散媒と水とを併用してもよい。分散媒としては、樹脂バインダを溶解する媒体を用いてもよい。金属ペーストは、必要に応じて、界面活性剤(カチオン界面活性剤など)および分散剤(脂肪酸など)からなる群より選択される少なくとも一種を含んでもよい。 The metal particle-containing layer is formed, for example, by applying a metal paste containing second metal particles, a second resin binder, and optionally a dispersion medium to the surface of the first layer (carbon layer, etc.) and drying it. It is formed. When the resin binder is a thermosetting resin, the resin binder may be cured by heating the metal paste coating. By performing drying under heat, the dispersion medium may be vaporized and the resin binder may be cured. As the dispersion medium, for example, an organic dispersion medium is used. An organic dispersion medium and water may be used in combination. As the dispersion medium, a medium that dissolves the resin binder may be used. The metal paste may contain at least one selected from the group consisting of surfactants (cationic surfactants, etc.) and dispersants (fatty acids, etc.), if necessary.

陰極引出層は、第2応力緩衝部を含んでもよいが、第2応力緩衝部を含まない方が好ましい。応力緩衝部は、基本的に導電性が低いことに加え、カーボン層は上記のように導電性が比較的低い。また、応力をカーボン層によって緩和すると、緩和できなかった応力がカーボン層や隣接する固体電解質層に加わり、剥離が生じることがある。そのため、固体電解質層、カーボン層、これらの層の間、またはカーボン層と金属粒子含有層(第2層)との間における剥離を抑制するより高い効果を確保する観点からは、少なくともカーボン層(第1層)は、第2応力緩衝部を含まないことが好ましい。換言すると、陰極引出層が第2応力緩衝部を含む場合には、第2応力緩衝部は金属粒子含有層に含まれていることが好ましい。 The cathode extraction layer may include the second stress buffer, but preferably does not include the second stress buffer. In addition to the fact that the stress buffering portion basically has low conductivity, the carbon layer has relatively low conductivity as described above. Further, when stress is relaxed by the carbon layer, the stress that cannot be relaxed is applied to the carbon layer and the adjacent solid electrolyte layer, which may cause peeling. Therefore, from the viewpoint of ensuring a higher effect of suppressing peeling between the solid electrolyte layer, the carbon layer, between these layers, or between the carbon layer and the metal particle-containing layer (second layer), at least the carbon layer ( The first layer) preferably does not include the second stress buffer. In other words, when the cathode extraction layer includes the second stress buffer, the second stress buffer is preferably included in the metal particle-containing layer.

第2応力緩衝部は、例えば、ゴム状重合体の分散相などで構成されていてもよいが、少なくとも1つの空隙(第2空隙)で構成されていることが好ましい。 The second stress buffer portion may be composed of, for example, a dispersed phase of a rubber-like polymer, but is preferably composed of at least one void (second void).

断面Aにおいて、金属粒子含有層の平均厚さをtとするとき、第2空隙の厚さ方向Dに平行な方向の長さ(第2空隙の厚さ)の最大値aは、例えば、0.15t以上t以下であり、0.2t以上t以下であってもよく、0.3t以上t以下であってもよい。これらの範囲において、最大値aの上限は、0.7t以下であってもよい。第2空隙の長さの最大値aがこのような範囲である場合、固体電解コンデンサ内に応力が加わった場合に、導電性接着層だけでなく、陰極引出層(より具体的には金属粒子含有層)でも応力を効果的に緩和することができる。なお、各第2空隙につき、厚さの最大値aが上記の範囲であることが好ましい。 In cross section A, when the average thickness of the metal particle-containing layer is t, the maximum value a of the length (thickness of the second void) in the direction parallel to the thickness direction DT of the second void is, for example, It is 0.15t or more and t or less, may be 0.2t or more and t or less, or may be 0.3t or more and t or less. In these ranges, the upper limit of the maximum value a may be 0.7t or less. When the maximum length a of the second void is within such a range, when stress is applied inside the solid electrolytic capacitor, not only the conductive adhesive layer but also the cathode extraction layer (more specifically, the metal particles (containing layer) can also effectively relieve stress. In addition, it is preferable that the maximum value a of the thickness is within the above range for each second void.

断面Aにおいて、金属粒子含有層の面積全体に占める第2空隙の合計面積の比率は、例えば、35%以下であり、25%以下であってもよく、20%以下であってもよい。金属粒子含有層の面積全体に占める第2空隙の合計面積の比率は、例えば、1%以上であってもよい。 In cross section A, the ratio of the total area of the second voids to the entire area of the metal particle-containing layer is, for example, 35% or less, may be 25% or less, or may be 20% or less. The ratio of the total area of the second voids to the entire area of the metal particle-containing layer may be, for example, 1% or more.

断面Aにおいて、金属粒子含有層の面積全体に占める金属粒子の合計面積の比率は、例えば、60%以上であり、70%以上であってもよい。金属粒子含有層の面積全体に占める金属粒子の合計面積の比率は、例えば、95%以下である。 In cross section A, the ratio of the total area of metal particles to the entire area of the metal particle-containing layer is, for example, 60% or more, and may be 70% or more. The ratio of the total area of metal particles to the entire area of the metal particle-containing layer is, for example, 95% or less.

第2応力緩衝部を含む陰極引出層(より具体的には、金属粒子含有層)は、例えば、金属粒子含有層などの陰極引出層を構成する層を形成する際に、ゴム状弾性体を分散させたり、第2空隙を形成したりすることによって形成できる。ゴム状弾性体の場合には、ゴム状弾性体のtanδなどを調節したり、分散状態を調節したり(例えば、分散相のサイズを調節したり)することによって、応力緩和性を調節することができる。例えば、第2空隙を形成する場合、金属ペーストを調製した後、減圧下で脱泡する際に、減圧の程度および脱泡時間の少なくとも一方を調節したり、金属ペーストを塗布する際にエアディスペンサなどを用いて空気を混入する量を調節したり、金属ペーストの調製に比較的揮発し難い分散媒を用いて、乾燥時間を調節したり、乾燥時の圧力を調節したり、することによって第2空隙を形成したり、第2空隙のサイズを調節したりすることができる。また、金属ペースト中にファインバブル(マイクロバブル、ナノバブルなど)を導入(例えば、吹き込み、バブリング)することによって、ペースト中に気泡を取り込むことで、第2空隙を形成してもよい。この場合、取り込む気泡の量や混合の程度を調節することによって、第2空隙のサイズを調節してもよい。なお、ファインバブルとは、直径100μm以下の気泡であり、マイクロバブルは、直径1μm以上100μm以下の気泡であり、ナノバブルは直径1μm未満の気泡である。 The cathode drawing layer (more specifically, the metal particle-containing layer) including the second stress buffering section is formed by using a rubber-like elastic body when forming a layer constituting the cathode drawing layer, such as the metal particle-containing layer. It can be formed by dispersing or forming second voids. In the case of a rubber-like elastic body, the stress relaxation property can be adjusted by adjusting the tan δ of the rubber-like elastic body or by adjusting the dispersion state (for example, adjusting the size of the dispersed phase). I can do it. For example, when forming the second void, when defoaming under reduced pressure after preparing the metal paste, at least one of the degree of decompression and the defoaming time may be adjusted, or an air dispenser may be used when applying the metal paste. By adjusting the amount of air mixed in using a metal paste, by using a relatively non-volatile dispersion medium in preparing the metal paste, by adjusting the drying time, and by adjusting the pressure during drying. It is possible to form two voids or adjust the size of the second void. Further, the second voids may be formed by introducing fine bubbles (microbubbles, nanobubbles, etc.) into the metal paste (for example, by blowing or bubbling) to incorporate air bubbles into the paste. In this case, the size of the second void may be adjusted by adjusting the amount of air bubbles taken in and the degree of mixing. Note that fine bubbles are bubbles with a diameter of 100 μm or less, microbubbles are bubbles with a diameter of 1 μm or more and 100 μm or less, and nanobubbles are bubbles with a diameter of less than 1 μm.

金属粒子含有層の平均厚さtは、例えば、5μm以上500μm以下であり、7μm以上300μm以下であってもよく、10μm以上200μm以下であってもよい。 The average thickness t of the metal particle-containing layer may be, for example, 5 μm or more and 500 μm or less, 7 μm or more and 300 μm or less, or 10 μm or more and 200 μm or less.

本開示では、少なくとも導電性接着層に第1応力緩衝部が形成されていればよい。陰極引出層が第2応力緩衝部を含まない場合には、陰極引出層の構成は、特に限定されず、集電機能を有する構成であればよい。 In the present disclosure, it is sufficient that the first stress buffer portion is formed at least in the conductive adhesive layer. When the cathode extraction layer does not include the second stress buffer, the structure of the cathode extraction layer is not particularly limited, and may be any structure as long as it has a current collecting function.

なお、断面A(または断面B)における空隙のサイズ(長さ、幅、厚さ、面積)の計測には、断面の走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)による断面画像が用いられる。断面Aの撮影用のサンプルは、例えば、次の手順で作製できる。まず、固体電解コンデンサを、硬化性樹脂に埋め込んで硬化性樹脂を硬化させる。硬化物を湿式研磨または乾式研磨して、導電性接着層および陰極引出層の厚さ方向Dおよび長さ方向Dに平行な断面(導電性接着層および陰極引出層の各層の積層状態を確認可能な断面)を露出させる。露出した断面を、イオンミリングで平滑化することによって、撮影用のサンプルが得られる。断面Bの場合にも、断面Aの場合に準じて、導電性接着層および陰極引出層の厚さ方向Dおよび幅方向Dに平行な断面を露出させることによってサンプルを形成できる。露出した断面を二値化処理して、空隙と空隙以外の部分(金属粒子および樹脂バインダまたはその硬化物など)とに区分し、空隙の部分について、サイズを求める。ただし、断面画像では、イオンミリングの際にイオンミリングで削り取られた物が空隙の内壁に再付着(redeposit)することがある。再付着物は、本来空隙である部分に付着した状態であるため、空隙のサイズは、再付着物を無視して計測する。なお、SEM画像では、再付着物は、空隙または周囲の層よりも緻密で白く写るため、区別可能である。イオンミリングの際にイオンによる切削痕がSEM画像に写り、空隙のサイズを正しく計測できないことがある。この場合、SEM画像の切削痕を、画像処理ソフト(具体的には、Object Research Systems社製Dragonfly)を用いて除去した後の画像に基づいて、空隙のサイズを計測する。なお、断面Aおける導電性接着層または陰極引出層の全体の面積に占める各層に存在する空隙の合計面積が占める面積比率(%)は、上記の二値化処理を行った画像の空隙と空隙以外の部分とのそれぞれが占める面積比率から算出される。 Note that to measure the size (length, width, thickness, area) of the void in cross section A (or cross section B), a cross-sectional image taken by a scanning electron microscope (SEM) of the cross section is used. A sample for photographing cross section A can be produced, for example, by the following procedure. First, a solid electrolytic capacitor is embedded in a curable resin and the curable resin is cured. The cured product is wet-polished or dry-polished to obtain a cross section parallel to the thickness direction DT and the length direction DL of the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer (the lamination state of each layer of the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer). expose a verifiable cross section). By smoothing the exposed cross section using ion milling, a sample for imaging can be obtained. In the case of cross section B, a sample can also be formed by exposing a cross section parallel to the thickness direction DT and the width direction DW of the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer, similarly to the case of cross section A. The exposed cross section is binarized and divided into voids and non-void portions (metal particles, resin binder, cured product thereof, etc.), and the size of the void portions is determined. However, in the cross-sectional image, the material scraped off by ion milling during ion milling may redeposit on the inner wall of the void. Since the redeposited matter is attached to a portion that is originally a void, the size of the void is measured while ignoring the redeposited matter. Note that in the SEM image, redeposited matter appears denser and whiter than the voids or surrounding layers, so it can be distinguished. During ion milling, cutting marks caused by ions may appear on the SEM image, making it impossible to accurately measure the size of the void. In this case, the size of the void is measured based on the image after cutting marks in the SEM image are removed using image processing software (specifically, Dragonfly manufactured by Object Research Systems). In addition, the area ratio (%) occupied by the total area of voids existing in each layer to the entire area of the conductive adhesive layer or cathode extraction layer in cross section A is the percentage of voids in the image subjected to the above binarization process. It is calculated from the area ratio occupied by each of the other parts.

陰極引出層を構成する金属粒子含有層は、導電性接着層に比較して樹脂バインダ(またはその硬化物)の比率が少なく、金属粒子の含有率が多い。そのため、陰極引出層を構成する金属粒子含有層と、導電性接着層との境界は、断面AのSEM画像から、金属粒子または樹脂バインダ(またはその硬化物)の分布状態の相違(例えば、上記の面積比率の相違)によって確定できる。より具体的には、上記のサンプルを用いたSEM画像の空隙以外の部分(金属粒子および樹脂バインダまたはその硬化物など)において、金属粒子の面積比率が少ない(樹脂バインダまたはその硬化物の面積比率が多い)方が、導電性接着層であり、金属粒子の面積比率が多い方が陰極引出層の金属粒子含有層に相当する。 The metal particle-containing layer constituting the cathode extraction layer has a lower ratio of resin binder (or its cured product) and a higher content of metal particles than the conductive adhesive layer. Therefore, from the SEM image of cross section A, the boundary between the metal particle-containing layer constituting the cathode drawing layer and the conductive adhesive layer is determined by the difference in the distribution state of the metal particles or resin binder (or its cured product) (for example, the above-mentioned (difference in area ratio). More specifically, in the SEM image using the above sample, the area ratio of metal particles is small (area ratio of the resin binder or its cured product) in parts other than voids (metal particles and resin binder or its cured product, etc.). The layer with a larger area ratio of metal particles corresponds to the conductive adhesive layer, and the layer with a larger area ratio of metal particles corresponds to the metal particle-containing layer of the cathode extraction layer.

金属粒子含有層の平均厚さは、上記のサンプルを用いた断面AのSEM画像から求められる。より具体的には、SEM画像において、金属粒子含有層の任意の複数箇所(例えば、10箇所)の厚さを計測し、平均化することによって平均厚さが求められる。 The average thickness of the metal particle-containing layer is determined from the SEM image of cross section A using the above sample. More specifically, in the SEM image, the average thickness is determined by measuring the thicknesses at arbitrary multiple locations (for example, 10 locations) of the metal particle-containing layer and averaging them.

固体電解コンデンサの製造方法は、例えば、陽極部と少なくとも陰極引出層を含む陰極部とを含むコンデンサ素子を準備する第1工程を含む。陰極引出層に第2応力緩衝部を形成する場合には、第1工程が、陰極引出層内に第2応力緩衝部を形成するサブステップを含んでもよい。このとき、断面Aにおける第1応力緩衝部が占める面積S1が、第2応力緩衝部が占める面積S2よりも大きくなるように、第2応力緩衝部が形成される。例えば、第1工程は、陽極部を準備する工程と、陽極部の少なくとも一部の表面に誘電体層を形成する工程と、誘電体層の少なくとも一部を覆うように陰極部を形成する工程とを含んでもよい。陰極部を形成する工程は、例えば、誘電体層の少なくとも一部を覆うように固体電解質層を形成する工程と、固体電解質層の少なくとも一部を覆うように陰極引出層を形成する工程とを含んでもよい。陰極引出層を形成する工程は、例えば、固体電解質層の少なくとも一部を覆う第1層(カーボン層など)を形成する工程と、第1層の少なくとも一部を覆う第2層(金属粒子含有層など)を形成する工程とを含んでもよい。第2層を形成する工程は、第2金属粒子と、第2樹脂バインダと、必要に応じて分散媒とを含む金属ペーストを調製する工程と、金属ペーストを第1層の表面に付与して乾燥(または加熱)する工程とを含んでもよい。第2層を形成する際のいずれかの工程において、上述のように、ゴム状弾性体の分散状態を調節したり、金属ペーストに空気を導入したり、金属ペーストの脱泡の程度を調節したり、金属ペーストに用いる分散媒を選択したり、金属ペーストの塗膜を乾燥または加熱する際に、乾燥または加熱条件を調節したりすることによって、第2応力緩衝部を形成することができる。換言すると、第1工程(より具体的には、第2層を形成する工程)は、第2応力緩衝部を形成するサブステップを含むことができる。このサブステップは、金属ペーストを調製する工程および金属ペーストの塗膜を乾燥または加熱する工程のいずれかに含まれていてもよく、双方に含まれていてもよい(換言すると、双方の工程によって、第2応力緩衝部を形成してもよい)。なお、第1工程については、コンデンサ素子についての上述の説明を参照できる。 A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor includes, for example, a first step of preparing a capacitor element including an anode portion and a cathode portion including at least a cathode extraction layer. When forming the second stress buffer in the cathode extraction layer, the first step may include a substep of forming the second stress buffer in the cathode extraction layer. At this time, the second stress buffer section is formed such that the area S1 occupied by the first stress buffer section in cross section A is larger than the area S2 occupied by the second stress buffer section. For example, the first step includes a step of preparing an anode section, a step of forming a dielectric layer on the surface of at least a portion of the anode section, and a step of forming a cathode section so as to cover at least a portion of the dielectric layer. It may also include. The step of forming the cathode part includes, for example, a step of forming a solid electrolyte layer to cover at least a portion of the dielectric layer, and a step of forming a cathode extraction layer to cover at least a portion of the solid electrolyte layer. May include. The step of forming the cathode extraction layer includes, for example, a step of forming a first layer (such as a carbon layer) that covers at least a portion of the solid electrolyte layer, and a second layer (such as a carbon layer containing metal particles) that covers at least a portion of the first layer. layer, etc.). The step of forming the second layer includes preparing a metal paste containing second metal particles, a second resin binder, and optionally a dispersion medium, and applying the metal paste to the surface of the first layer. It may also include a step of drying (or heating). In any step of forming the second layer, as described above, the dispersion state of the rubber-like elastic body is adjusted, air is introduced into the metal paste, and the degree of defoaming of the metal paste is adjusted. The second stress buffering portion can be formed by selecting the dispersion medium used in the metal paste, or by adjusting the drying or heating conditions when drying or heating the metal paste coating. In other words, the first step (more specifically, the step of forming the second layer) can include a substep of forming the second stress buffer. This substep may be included in either the step of preparing the metal paste and the step of drying or heating the coating of the metal paste, or it may be included in both steps (in other words, it may be included in both steps). , a second stress buffer may be formed). Note that regarding the first step, the above description regarding the capacitor element can be referred to.

(導電性接着層)
固体電解コンデンサにおいて、導電性接着層は、陰極引出層(より具体的には、第2層(金属粒子含有層など))と陰極リードフレームの第1部分の少なくとも一部との間に介在する。
(Conductive adhesive layer)
In the solid electrolytic capacitor, the conductive adhesive layer is interposed between the cathode extraction layer (more specifically, the second layer (metal particle-containing layer, etc.)) and at least a portion of the first portion of the cathode lead frame. .

導電性接着層は、第1応力緩衝部を含む。そして、断面Aにおいて、第1応力緩衝部が占める面積S1が、第2応力緩衝部が占める面積S2より大きい。導電性接着層が比較的多くの第1応力緩衝部を含むことで、固体電解コンデンサ内に応力が加わった場合に、導電性接着層によって応力の多くが緩和され、導電性が低い固体電解質層やカーボン層またはその隣接する層との界面などにおける剥離を抑制することができる。よって、応力が加わる環境に固体電解コンデンサが晒された場合のESRの増加を軽減することができる。 The conductive adhesive layer includes a first stress buffer. In cross section A, the area S1 occupied by the first stress buffer is larger than the area S2 occupied by the second stress buffer. Since the conductive adhesive layer includes a relatively large number of first stress buffer parts, when stress is applied to the solid electrolytic capacitor, most of the stress is alleviated by the conductive adhesive layer, and the solid electrolyte layer has low conductivity. It is possible to suppress peeling at the interface between the carbon layer, the carbon layer, or an adjacent layer. Therefore, it is possible to reduce the increase in ESR when the solid electrolytic capacitor is exposed to an environment where stress is applied.

第1応力緩衝部は、ゴム状弾性体の分散相などで構成されていてもよいが、少なくとも1つの空隙(第1空隙)で構成することが好ましい。 The first stress buffer portion may be composed of a dispersed phase of a rubber-like elastic body, but is preferably composed of at least one void (first void).

断面Aにおいて、導電性接着層の平均厚さをTとするとき、第1空隙の厚さ方向Dに平行な方向の長さ(第1空隙の厚さ)の最大値aは、0.4T以上T以下であることが好ましく、0.5T以上T以下であってもよく、0.7T以上T以下であってもよい。このように第1空隙の厚さが大きいことで、固体電解コンデンサ内に応力が加わった場合に、応力を緩和する効果をさらに高めることができる。各第1空隙につき、厚さの最大値aが上記の範囲であることが好ましい。 In cross section A, when the average thickness of the conductive adhesive layer is T, the maximum value a of the length (thickness of the first gap) in the direction parallel to the thickness direction DT of the first gap is 0. It is preferably 4T or more and T or less, and may be 0.5T or more and T or less, and may be 0.7T or more and T or less. Since the thickness of the first gap is large in this way, when stress is applied inside the solid electrolytic capacitor, the effect of relieving stress can be further enhanced. It is preferable that the maximum thickness a of each first gap is within the above range.

導電性接着層の平均厚さTは、例えば、5μm以上1000μm以下であり、7μm以上700μm以下であってもよく、10μm以上500μm以下であってもよい。 The average thickness T of the conductive adhesive layer may be, for example, 5 μm or more and 1000 μm or less, 7 μm or more and 700 μm or less, or 10 μm or more and 500 μm or less.

断面Aにおいて、導電性接着層の面積全体に占める第1空隙の合計面積の比率は、例えば、25%以上であり、30%以上(または35%以上)であってもよく、35%以上(または40%以上)であってもよい。導電性接着層において、第1空隙の合計面積の比率がこのような範囲である場合、固体電解コンデンサ内に応力が加わった場合に、応力を緩和する効果をさらに高めることができる。導電性接着層におけるより高い導電性を確保し易い観点からは、断面Aにおいて、導電性接着層の面積全体に占める第1空隙の合計面積の比率は、例えば、75%以下であり、70%以下または65%以下であってもよい。これらの下限値と上限値とは任意に組み合わせることができる。例えば、第1空隙の合計面積の比率は、25%以上75%以下であってもよく、35%以上70%以下であってもよい。これらの範囲の下限値および上限値の少なくとも一方を上述の数値に変更してもよい。 In cross section A, the ratio of the total area of the first voids to the entire area of the conductive adhesive layer is, for example, 25% or more, and may be 30% or more (or 35% or more), or 35% or more ( or 40% or more). In the conductive adhesive layer, when the ratio of the total area of the first voids is within such a range, the effect of relieving stress can be further enhanced when stress is applied within the solid electrolytic capacitor. From the viewpoint of easily ensuring higher conductivity in the conductive adhesive layer, in cross section A, the ratio of the total area of the first voids to the entire area of the conductive adhesive layer is, for example, 75% or less, and 70%. It may be less than or equal to 65%. These lower limit values and upper limit values can be arbitrarily combined. For example, the ratio of the total area of the first voids may be 25% or more and 75% or less, or 35% or more and 70% or less. At least one of the lower limit value and upper limit value of these ranges may be changed to the above-mentioned numerical value.

導電性接着層は、例えば、金属粒子(第1金属粒子)と、樹脂バインダ(第1樹脂バインダ)またはその硬化物とを含む。第1金属粒子、第1樹脂バインダについては、例えば、陰極引出層の金属粒子含有層の場合について記載した成分から選択される。第1樹脂バインダは、第2樹脂バインダについて記載した添加剤を含んでもよい。 The conductive adhesive layer includes, for example, metal particles (first metal particles) and a resin binder (first resin binder) or a cured product thereof. The first metal particles and the first resin binder are selected, for example, from the components described for the metal particle-containing layer of the cathode extraction layer. The first resin binder may include the additives described for the second resin binder.

導電性接着層は、第1金属粒子と、第1樹脂バインダと、必要に応じて分散媒とを含む金属ペースト(導電性接着剤とも呼ばれる)を、陰極引出層および陰極リードフレームの一方の表面の一部に塗布し、他方を重ねて接着させ、金属ペーストの塗膜を乾燥させることによって形成される。樹脂バインダが熱硬化性樹脂の場合には、金属ペーストの塗膜を加熱することによって、樹脂バインダを硬化させてもよい。乾燥を加熱下で行うことで、分散媒を気化させるとともに、樹脂バインダを硬化させてもよい。分散媒としては、例えば、有機分散媒が用いられる。有機分散媒と水とを併用してもよい。分散媒としては、樹脂バインダを溶解する媒体を用いてもよい。金属ペースト(導電性接着剤)は、必要に応じて、界面活性剤(カチオン界面活性剤など)および分散剤(脂肪酸など)からなる群より選択される少なくとも一種を含んでもよい。 The conductive adhesive layer applies a metal paste (also called a conductive adhesive) containing first metal particles, a first resin binder, and optionally a dispersion medium to one surface of the cathode extraction layer and the cathode lead frame. It is formed by coating one part of the metal paste, overlapping the other part, adhering it, and drying the coated film of metal paste. When the resin binder is a thermosetting resin, the resin binder may be cured by heating the metal paste coating. By performing drying under heat, the dispersion medium may be vaporized and the resin binder may be cured. As the dispersion medium, for example, an organic dispersion medium is used. An organic dispersion medium and water may be used in combination. As the dispersion medium, a medium that dissolves the resin binder may be used. The metal paste (conductive adhesive) may contain at least one selected from the group consisting of surfactants (cationic surfactants, etc.) and dispersants (fatty acids, etc.), if necessary.

断面Aにおいて、導電性接着層の面積全体に占める金属粒子の合計面積の比率は、例えば、40%以上であり、50%以上であってもよい。金属粒子含有層の面積全体に占める金属粒子の合計面積の比率は、例えば、75%以下である。 In cross section A, the ratio of the total area of metal particles to the entire area of the conductive adhesive layer is, for example, 40% or more, and may be 50% or more. The ratio of the total area of metal particles to the entire area of the metal particle-containing layer is, for example, 75% or less.

第1応力緩衝部を含む導電性接着層は、第2応力緩衝部を含む金属粒子含有層の場合に準じて、形成できる。 The conductive adhesive layer including the first stress buffer can be formed in the same manner as the metal particle-containing layer including the second stress buffer.

導電性接着層に含まれる空隙のサイズ(長さ、幅、厚さ、面積)の計測は、陰極引出層について記載した手順に準じて行うことができる。導電性接着層の平均厚さについても、金属粒子含有層について記載した手順に準じて求めることができる。 The size (length, width, thickness, area) of the voids included in the conductive adhesive layer can be measured according to the procedure described for the cathode extraction layer. The average thickness of the conductive adhesive layer can also be determined according to the procedure described for the metal particle-containing layer.

固体電解コンデンサの製造方法は、コンデンサ素子に含まれる陰極引出層と第1部分を含む陰極リードフレームの第1部分の少なくとも一部との間に、導電性接着層を形成する第2工程を含む。第2工程では、導電性接着層を介して、陰極引出層と陰極リードフレームとが電気的に接続される。第2工程は、第1工程の後に行われる。 The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor includes a second step of forming a conductive adhesive layer between a cathode extraction layer included in the capacitor element and at least a portion of the first portion of the cathode lead frame including the first portion. . In the second step, the cathode extraction layer and the cathode lead frame are electrically connected via the conductive adhesive layer. The second step is performed after the first step.

第2工程は、例えば、第1金属粒子と、第1樹脂バインダと、必要に応じて分散媒とを含む金属ペースト(導電性接着剤)を調製する工程と、金属ペースト(導電性接着剤)を陰極引出層(より具体的には第2層(金属粒子含有層))および陰極リードフレームの第1部分の一方の表面の一部に付与する工程と、金属ペーストの塗膜を介して、他方を重ねる工程と、塗膜を乾燥(または加熱)して、導電性接着層を形成する工程とを含んでもよい。第2工程のいずれかの工程において、上述のように、ゴム状弾性体の分散状態を調節したり、金属ペーストに空気を導入したり、金属ペーストの脱泡の程度を調節したり、金属ペーストに用いる分散媒を選択したり、金属ペーストの塗膜を乾燥または加熱する際に、乾燥または加熱条件を調節したりすることによって、第1応力緩衝部を形成することができる。換言すると、第2工程は、導電性接着層内に第1応力緩衝部を形成するサブステップを含むことができる。このサブステップは、金属ペーストを調製する工程、金属ペーストの塗膜を乾燥または加熱する工程などのいずれかの工程に含まれていてもよく、双方の工程に含まれていてもよい(換言すると、双方の工程によって、第1応力緩衝部を形成してもよい)。第1応力緩衝部の形成および第1応力緩衝部のサイズの調節は、第2応力緩衝部の場合に準じて行うことができる。第2工程については、導電性接着層に関する上述の説明を参照できる。 The second step includes, for example, a step of preparing a metal paste (conductive adhesive) containing first metal particles, a first resin binder, and, if necessary, a dispersion medium; through a step of applying to a part of the surface of one of the cathode extraction layer (more specifically, the second layer (metal particle-containing layer)) and the first part of the cathode lead frame, and a coating film of metal paste. It may include the step of overlapping the other layer, and the step of drying (or heating) the coating film to form a conductive adhesive layer. In any of the second steps, as described above, the dispersion state of the rubber-like elastic body is adjusted, air is introduced into the metal paste, the degree of defoaming of the metal paste is adjusted, the metal paste is The first stress buffer portion can be formed by selecting the dispersion medium used for the first stress buffering portion or by adjusting the drying or heating conditions when drying or heating the metal paste coating. In other words, the second step can include a substep of forming a first stress buffer within the conductive adhesive layer. This substep may be included in either the process of preparing the metal paste, the process of drying or heating the coating film of the metal paste, or it may be included in both processes (in other words, , the first stress buffer may be formed by both steps). Formation of the first stress buffer part and adjustment of the size of the first stress buffer part can be performed in the same manner as in the case of the second stress buffer part. Regarding the second step, reference can be made to the above description regarding the conductive adhesive layer.

(リードフレーム)
陽極リードフレームの第1部分の一部(より具体的には端部)は、例えば、陽極ワイヤに電気的に接続される。陽極リードフレームの材質は、電気化学的および化学的に安定であり、導電性を有するものであれば特に限定されない。陽極リードフレームは、例えば銅などの金属であってもよいし、非金属であってもよい。陽極リードフレームは、例えば曲げ加工された金属平板もしくは金属シートであってもよい。
(Lead frame)
A portion (more specifically, an end) of the first portion of the anode lead frame is, for example, electrically connected to the anode wire. The material of the anode lead frame is not particularly limited as long as it is electrochemically and chemically stable and has conductivity. The anode lead frame may be made of metal such as copper, or may be made of non-metal. The anode lead frame may be, for example, a bent metal flat plate or metal sheet.

陽極リードフレームの端部は、導電性接着剤やはんだにより、陽極ワイヤの突出部に接合されてもよい。また、陽極リードフレームの端部は、抵抗溶接やレーザ溶接により、陽極ワイヤの突出部に接合されてもよい。陽極リードフレームの第2部分は、外装体の外部に露出し、第2部分側の端部は、固体電解コンデンサの搭載面に配置される。 The ends of the anode lead frame may be joined to the protrusions of the anode wire by conductive adhesive or solder. Further, the end of the anode lead frame may be joined to the protrusion of the anode wire by resistance welding or laser welding. The second portion of the anode lead frame is exposed to the outside of the exterior body, and the end on the second portion side is arranged on the mounting surface of the solid electrolytic capacitor.

陰極リードフレームは、陰極引出層に導電性接着層を介して電気的に接続される。陰極リードフレームの材質、形状、および厚さは、陽極リードフレームのそれらと同じでもよいし、異なってもよい。陰極リードフレームは、例えば曲げ加工された金属平板もしくは金属シートであってもよい。 The cathode lead frame is electrically connected to the cathode extraction layer via a conductive adhesive layer. The material, shape, and thickness of the cathode lead frame may be the same as or different from those of the anode lead frame. The cathode lead frame may be, for example, a bent metal flat plate or metal sheet.

陰極リードフレーム(金属平板もしくは金属シートなど)の厚さ(陰極リードフレームの主面間の距離)は、低背化の観点から、25μm以上、200μm以下であってもよく、25μm以上、100μm以下であってもよい。陰極リードフレームの第2部分は、外装体の外部に露出し、第2部分側の端部は、固体電解コンデンサの搭載面に配置される。 The thickness of the cathode lead frame (metal flat plate or metal sheet, etc.) (the distance between the main surfaces of the cathode lead frame) may be 25 μm or more and 200 μm or less, or 25 μm or more and 100 μm or less, from the viewpoint of reducing the height. It may be. The second portion of the cathode lead frame is exposed to the outside of the exterior body, and the end on the second portion side is arranged on the mounting surface of the solid electrolytic capacitor.

(外装体)
外装体は、コンデンサ素子および陰極リードフレームの第1部分を覆う。外装体は、通常、陽極リードフレームの第1部分も覆っている。外装体は、通常、樹脂で形成される。
(exterior body)
The exterior body covers the capacitor element and the first portion of the cathode lead frame. The housing typically also covers the first portion of the anode lead frame. The exterior body is usually made of resin.

例えば、金型に各リードフレームの第2部分を外部に引き出した状態でコンデンサ素子を収容し、さらに外装体の材料樹脂(例えば、未硬化の熱硬化性樹脂およびフィラー)を金型に収容し、トランスファー成型法、圧縮成型法等により、樹脂を成形することによって、外装体でコンデンサ素子が封止される。 For example, a capacitor element is housed in a mold with the second portion of each lead frame pulled out, and a resin material for the exterior body (for example, an uncured thermosetting resin and a filler) is housed in the mold. The capacitor element is sealed in the exterior body by molding the resin by a transfer molding method, a compression molding method, or the like.

固体電解コンデンサは、必要に応じて、樹脂製の外装体の外側に配置されたケースをさらに含んでもよい。ケースは樹脂材料または金属材料などで形成される。ケースを構成する樹脂材料としては、熱可塑性樹脂もしくはそれを含む組成物などが挙げられる。ケースを構成する金属材料としては、例えば、アルミニウム、銅、鉄などの金属あるいはその合金(ステンレス鋼、真鍮なども含む)が挙げられる。 The solid electrolytic capacitor may further include a case disposed outside the resin exterior body, if necessary. The case is made of resin material, metal material, or the like. Examples of the resin material constituting the case include thermoplastic resins and compositions containing thermoplastic resins. Examples of the metal material constituting the case include metals such as aluminum, copper, and iron, or alloys thereof (including stainless steel, brass, etc.).

固体電解コンデンサの製造方法は、例えば、コンデンサ素子と陰極リードフレームの第1部分とを外装体で覆う第3工程を含んでもよい。第3工程では、通常、陽極リードフレームの第1部分も外装体で覆われる。第3工程は、通常、第2工程の後に行われる。第3工程については、外装体についての上述の説明を参照できる。 The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor may include, for example, a third step of covering the capacitor element and the first portion of the cathode lead frame with an exterior body. In the third step, the first portion of the anode lead frame is also usually covered with an exterior body. The third step is usually performed after the second step. Regarding the third step, the above description regarding the exterior body can be referred to.

(その他)
固体電解コンデンサは、少なくとも1つのコンデンサ素子を含んでおり、2つ以上のコンデンサ素子を含んでもよい。2つ以上のコンデンサ素子を各リードフレームの第2部分を引き出した状態で、外装体で封止してもよい。
(others)
A solid electrolytic capacitor includes at least one capacitor element, and may include two or more capacitor elements. Two or more capacitor elements may be sealed with an exterior body while the second portion of each lead frame is pulled out.

図1は、本開示の一実施形態に係る固体電解コンデンサの断面模式図である。
固体電解コンデンサ20は、陽極部6および陰極部7を含むコンデンサ素子10と、コンデンサ素子10を封止する外装体11と、陽極部6に電気的に接続した陽極リードフレーム13と、陰極部7と電気的に接続した陰極リードフレーム14と、を含む。陽極リードフレーム13および陰極リードフレーム14は、それぞれ、外装体11内に埋没している第1部分と、外装体11から外部に露出している第2部分とを有する。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a solid electrolytic capacitor according to an embodiment of the present disclosure.
The solid electrolytic capacitor 20 includes a capacitor element 10 including an anode part 6 and a cathode part 7, an exterior body 11 that seals the capacitor element 10, an anode lead frame 13 electrically connected to the anode part 6, and a cathode part 7. and a cathode lead frame 14 electrically connected to the cathode lead frame 14 . The anode lead frame 13 and the cathode lead frame 14 each have a first portion buried in the exterior body 11 and a second portion exposed to the outside from the exterior body 11.

陽極部6は、陽極体1と陽極ワイヤ2とを有する。陽極ワイヤ2の一部は、陽極体1内に埋没した状態であり、残部は陽極体1の外面より外側に突出している。この陽極ワイヤ2の突出した部分に、陽極リードフレーム13の第1部分の一部が溶接等によって接合され、電気的に接続している。 The anode section 6 includes an anode body 1 and an anode wire 2. A part of the anode wire 2 is buried in the anode body 1, and the remaining part protrudes outward from the outer surface of the anode body 1. A part of the first portion of the anode lead frame 13 is joined to the protruding portion of the anode wire 2 by welding or the like, and is electrically connected.

陽極体1の表面には誘電体層3が形成されている。陰極部7は、誘電体層3の少なくとも一部を覆う固体電解質層4と、固体電解質層4の少なくとも一部の表面を覆う陰極引出層5とを有する。陰極引出層5は、固体電解質層4の少なくとも一部の表面を覆うように形成されたカーボン層と、カーボン層の少なくとも一部を覆うように形成された金属粒子含有層とを有している。そして、陰極リードフレーム14の第1部分の一部は、導電性接着層8を介して、陰極引出層5(より具体的には、金属粒子含有層)と接着され、電気的に接続されている。本開示では、導電性接着層8および陰極引出層5(好ましくは、金属粒子含有層)の厚さ方向および長さ方向に平行な断面Aにおいて、第1応力緩衝部が占める面積(S1)が、第2応力緩衝部が占める面積(S2)より大きい。そのため、固体電解コンデンサ20の内部に応力が加わっても、応力の多くを導電性接着層8で緩和することができ、他の部材で剥離が生じることを抑制できる。よって、固体電解コンデンサ内の構成部材に応力が加わる環境下(例えば、リフロー処理などで固体電解コンデンサが高温に晒された場合)でも、ESRの増加を抑制することができる。 A dielectric layer 3 is formed on the surface of the anode body 1 . The cathode section 7 includes a solid electrolyte layer 4 that covers at least a portion of the dielectric layer 3 and a cathode extraction layer 5 that covers at least a portion of the surface of the solid electrolyte layer 4 . The cathode extraction layer 5 includes a carbon layer formed to cover at least a portion of the surface of the solid electrolyte layer 4, and a metal particle-containing layer formed to cover at least a portion of the carbon layer. . A part of the first portion of the cathode lead frame 14 is adhered to and electrically connected to the cathode extraction layer 5 (more specifically, the metal particle-containing layer) via the conductive adhesive layer 8. There is. In the present disclosure, in a cross section A parallel to the thickness direction and length direction of the conductive adhesive layer 8 and the cathode extraction layer 5 (preferably metal particle-containing layer), the area (S1) occupied by the first stress buffer section is , is larger than the area (S2) occupied by the second stress buffer. Therefore, even if stress is applied inside the solid electrolytic capacitor 20, much of the stress can be alleviated by the conductive adhesive layer 8, and peeling of other members can be suppressed. Therefore, an increase in ESR can be suppressed even under an environment where stress is applied to the structural members within the solid electrolytic capacitor (for example, when the solid electrolytic capacitor is exposed to high temperatures during reflow treatment).

[実施例]
以下、本発明を実施例および比較例に基づいて具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

《実施例1~3および比較例1》
下記の要領で、固体電解コンデンサを作製し、その特性を評価した。
《Examples 1 to 3 and Comparative Example 1》
A solid electrolytic capacitor was manufactured in the manner described below, and its characteristics were evaluated.

(1)誘電体層を有する陽極体の準備
陽極体として、陽極ワイヤの一部が埋設されたタンタル焼結体(多孔質体)を準備した。このタンタル焼結体の表面を陽極酸化することによって、陽極体の表面に酸化タンタルを含む誘電体層を形成した。
(1) Preparation of anode body having dielectric layer A tantalum sintered body (porous body) in which a part of the anode wire was embedded was prepared as the anode body. By anodizing the surface of this tantalum sintered body, a dielectric layer containing tantalum oxide was formed on the surface of the anode body.

(2)固体電解質層の形成
液状分散体にタンタル焼結体を30~60秒程度浸漬した後、液状分散体からタンタル焼結体を引き上げ、140~180℃で10~20分間加熱した。液状分散体への浸漬と加熱とを複数回繰り返した。このようにして、固体電解質層を形成した。液状分散体としては、PSSがドープされたPEDOTを1~4質量%の濃度で含む水性分散液を用いた。
(2) Formation of solid electrolyte layer After the tantalum sintered body was immersed in the liquid dispersion for about 30 to 60 seconds, the tantalum sintered body was pulled out of the liquid dispersion and heated at 140 to 180° C. for 10 to 20 minutes. Dipping in the liquid dispersion and heating were repeated multiple times. In this way, a solid electrolyte layer was formed. As the liquid dispersion, an aqueous dispersion containing PEDOT doped with PSS at a concentration of 1 to 4% by mass was used.

(3)陰極引出層の形成
固体電解質層が形成されたタンタル焼結体を、黒鉛粒子を水に分散した分散液に浸漬し、分散液から取り出し後、乾燥することにより、固体電解質層の表面にカーボン層(第1層)を形成した。乾燥は、180℃で10~30分間行った。
(3) Formation of cathode extraction layer The tantalum sintered body on which the solid electrolyte layer has been formed is immersed in a dispersion of graphite particles in water, taken out from the dispersion, and dried to form a solid electrolyte layer on the surface of the solid electrolyte layer. A carbon layer (first layer) was formed on. Drying was performed at 180° C. for 10 to 30 minutes.

次いで、銀粒子と樹脂バインダ(エポキシ樹脂)とを含む銀ペーストを真空下で十分に脱泡処理した。脱泡処理した銀ペーストを、カーボン層の表面に、塗布し、60~80℃で20~40分間乾燥した後、さらに180℃で30~60分間加熱することで樹脂バインダを硬化させ、金属粒子含有層(第2層)を形成した。
こうして、カーボン層と金属粒子含有層とで構成される陰極引出層を形成し、固体電解質層と陰極引出層とで構成された陰極部を含むコンデンサ素子を作製した。
Next, the silver paste containing silver particles and a resin binder (epoxy resin) was thoroughly defoamed under vacuum. The defoamed silver paste is applied to the surface of the carbon layer, dried at 60-80°C for 20-40 minutes, and then further heated at 180°C for 30-60 minutes to harden the resin binder and form metal particles. A containing layer (second layer) was formed.
In this way, a cathode extraction layer composed of a carbon layer and a metal particle-containing layer was formed, and a capacitor element including a cathode section composed of a solid electrolyte layer and a cathode extraction layer was produced.

(4)陰極リードフレームの接続
上記(3)で得られたコンデンサ素子の陰極引出層(より具体的には金属粒子含有層)と、陰極リードフレームとを、導電性接着剤を用いて接着させ、160℃で60分間加熱することによって、導電性接着層を形成した。導電性接着層は陰極引出層と陰極リードフレームとの互いに対向する面全体を覆うように形成した。導電性接着剤は、銀粒子(平均粒子径D50:0.5~5μm)と、樹脂バインダとしての液状のエポキシ樹脂と、カチオン系界面活性剤、分散剤としての脂肪酸とを混合し、減圧下で脱泡処理を行うことによって調製した。実施例では、脱泡処理の条件(圧力を高めにしたり、時間を短くしたりするなど)、乾燥条件(乾燥時の温度を高めにしたり、乾燥時間を短くしたり、乾燥を軽度の減圧下または大気圧下で行ったりするなど)、混合条件(エアディスペンサを用いて混合したり、ファインバブルなどを導入しながら混合したりするなど)などを調節することによって、導電性接着層内に形成される第1応力緩衝部を構成する第1空隙を形成するとともに、そのサイズを調節した。なお、実施例では、既述の手順で求められる、導電性接着層の平均厚さTに対して、第1空隙の厚さ方向に平行な方向の長さの最大値aは、0.4T以上T以下であり、第1空隙のアスペクト比b/aおよびc/aは、いずれも20未満であった。
(4) Connection of the cathode lead frame The cathode lead frame (more specifically, the layer containing metal particles) of the capacitor element obtained in (3) above is bonded to the cathode lead frame using a conductive adhesive. A conductive adhesive layer was formed by heating at 160° C. for 60 minutes. The conductive adhesive layer was formed to cover the entire opposing surfaces of the cathode extraction layer and the cathode lead frame. The conductive adhesive is made by mixing silver particles (average particle diameter D 50 : 0.5 to 5 μm), liquid epoxy resin as a resin binder, cationic surfactant, and fatty acid as a dispersant, and then applying the mixture under reduced pressure. It was prepared by performing the defoaming treatment below. Examples include defoaming treatment conditions (higher pressure, shorter drying time, etc.), drying conditions (higher drying temperature, shorter drying time, drying under mild reduced pressure, etc.) or under atmospheric pressure) and mixing conditions (mixing using an air dispenser, mixing while introducing fine bubbles, etc.). A first void constituting a first stress buffering portion was formed, and its size was adjusted. In addition, in the example, the maximum value a of the length in the direction parallel to the thickness direction of the first gap is 0.4T with respect to the average thickness T of the conductive adhesive layer, which is determined by the procedure described above. The aspect ratio b/a and c/a of the first void were both less than 20.

比較例1では、導電性接着剤の脱泡処理を真空下で十分に行うとともに、導電性接着剤を陰極引出層と陰極リードフレームとの間に付与した後に、真空中で160℃にて60分間加熱することによって、導電性接着層を形成した。比較例1では、導電性接着層内には、ほとんど空隙が観察されず、観察される場合でも、導電性接着層の厚さ方向に平行な方向の空隙の長さの最大値は、0.4T未満(より具体的には、0.1T~0.4T程度)であり、応力を緩衝するほとんど得られないサイズであった。 In Comparative Example 1, the conductive adhesive was thoroughly defoamed under vacuum, and after the conductive adhesive was applied between the cathode extraction layer and the cathode lead frame, it was heated at 160°C in vacuum for 60°C. A conductive adhesive layer was formed by heating for a minute. In Comparative Example 1, almost no voids are observed in the conductive adhesive layer, and even when voids are observed, the maximum length of the voids in the direction parallel to the thickness direction of the conductive adhesive layer is 0. It was less than 4T (more specifically, about 0.1T to 0.4T), and was a size that could hardly be used to buffer stress.

(5)陽極リードフレームの接続
コンデンサ素子から突出した陽極ワイヤの一部に、陽極リードフレームの第1部分の一部(より具体的には端部)をレーザ溶接により接合した。
(5) Connection of anode lead frame A part (more specifically, an end) of the first part of the anode lead frame was joined to a part of the anode wire protruding from the capacitor element by laser welding.

(6)固体電解コンデンサの組み立て
トランスファモールド法により、コンデンサ素子の周囲に、絶縁性樹脂で形成された樹脂製の外装体を形成した。このとき、陽極リードフレームの第1部分と、陰極リードフレームの第1部分は、外装体に埋没した状態であり、各リードフレームの第2部分は、外装体から引き出した状態とした。
このようにして、合計20個の固体電解コンデンサを完成させた。
(6) Assembly of solid electrolytic capacitor A resin exterior body made of insulating resin was formed around the capacitor element by a transfer molding method. At this time, the first portion of the anode lead frame and the first portion of the cathode lead frame were in a state of being buried in the exterior body, and the second portion of each lead frame was in a state of being pulled out from the exterior body.
In this way, a total of 20 solid electrolytic capacitors were completed.

(7)評価
(a)空隙の比率
既述の手順で、断面Aにおいて、導電性接着層の面積全体に占める第1空隙(第1応力緩衝部)の合計面積(S1)の比率および金属粒子含有層の面積全体に占める第2空隙(第2応力緩衝部)の合計面積(S2)の比率を求めた。
(7) Evaluation (a) Ratio of voids In cross section A, the ratio of the total area (S1) of the first voids (first stress buffer) to the entire area of the conductive adhesive layer and the metal particles The ratio of the total area (S2) of the second voids (second stress buffering portion) to the total area of the containing layer was determined.

(b)ESR
固体電解コンデンサを用いて、下記の手順でESRの測定を行った。
まず、20℃の環境下で、4端子測定用のLCRメータを用いて、固体電解コンデンサの周波数100kHzにおける初期のESR(mΩ)を測定した。そして、20個の固体電解コンデンサにおける平均値を求めた。
(b) ESR
ESR was measured using a solid electrolytic capacitor according to the following procedure.
First, the initial ESR (mΩ) of the solid electrolytic capacitor at a frequency of 100 kHz was measured in an environment of 20° C. using a four-terminal LCR meter. Then, the average value of 20 solid electrolytic capacitors was determined.

次いで、固体電解コンデンサに、IPC/JEDEC J-STD-020Dに則ったリフロー処理を行った。具体的には、固体電解コンデンサを、保持温度:150~200℃、および保持時間:180秒以内で予備加熱した。予備加熱後の固体電解コンデンサを、255℃以上の温度(最高温度260℃)で30秒間加熱した。このときの最高温度260℃での加熱は10秒以内とした。次いで、25℃まで10分かけて冷却し、この加熱と冷却とをさらに2回(つまり、合計3回)繰り返した。 Next, the solid electrolytic capacitor was subjected to reflow treatment in accordance with IPC/JEDEC J-STD-020D. Specifically, the solid electrolytic capacitor was preheated at a holding temperature of 150 to 200°C and a holding time of 180 seconds or less. The preheated solid electrolytic capacitor was heated for 30 seconds at a temperature of 255° C. or higher (maximum temperature 260° C.). Heating at the maximum temperature of 260° C. at this time was within 10 seconds. Next, it was cooled to 25° C. over 10 minutes, and this heating and cooling was repeated two more times (that is, three times in total).

リフロー処理を行った固体電解コンデンサを、125℃雰囲気の恒温槽に収容し、定格電圧を印加した状態で1000時間保持することによって、加速試験を行った。その後、初期のESRの場合と同様の手順で、20℃環境下でESRを測定し、20個の固体電解コンデンサの平均値(加速試験後のESR)を求めた。初期のESRの平均値を100としたときの、加速試験後のESRの平均値の相対値を求めた。 An accelerated test was conducted by placing the reflow-treated solid electrolytic capacitor in a constant temperature bath in a 125° C. atmosphere and maintaining the rated voltage applied for 1000 hours. Thereafter, the ESR was measured in a 20° C. environment using the same procedure as the initial ESR, and the average value of the 20 solid electrolytic capacitors (ESR after the accelerated test) was determined. When the initial average ESR value was set to 100, the relative value of the average ESR value after the accelerated test was determined.

評価結果を表1に示す。表1において、E1~E3は、実施例であり、C1は、比較例1である。 The evaluation results are shown in Table 1. In Table 1, E1 to E3 are Examples, and C1 is Comparative Example 1.

Figure 2023147908000002
Figure 2023147908000002

表1に示されるように、比較例では、加速試験後のESRは、顕著に増加した。比較例の陰極部の断面AのSEMで観察したところ、カーボン層と固体電解質層との間において広範囲の領域で剥離が見られた。また、カーボン層と金属粒子含有層との間にも剥離が見られた。このように比較例では、比較的導電性が低い部分で剥離が生じていることから、陰極部における抵抗の増加が大きくなったことで、加速試験後のESRが顕著に増加したと考えられる。 As shown in Table 1, in the comparative example, the ESR after the accelerated test increased significantly. When cross section A of the cathode section of the comparative example was observed with an SEM, peeling was observed in a wide range of regions between the carbon layer and the solid electrolyte layer. Further, peeling was also observed between the carbon layer and the metal particle-containing layer. As described above, in the comparative example, since peeling occurred in a portion with relatively low conductivity, it is considered that the ESR after the accelerated test increased significantly due to a large increase in resistance in the cathode portion.

一方、実施例では、比較例に比べると、加速試験後のESRの増加は低く抑えられている。実施例の陰極部の断面AのSEM画像を観察したところ、導電性接着層内に比較的大きなサイズの空隙(第1空隙)が形成されており、比較例のようなカーボン層と固体電解質層との間やカーボン層と金属粒子含有層との間の剥離は見られなかった。また、実施例1~2では、導電性接着層と陰極引出層との間に剥離が見られたが、ESRの増加は低く抑えられている。実施例では、リフロー処理や加速試験で固体電解コンデンサ内部に応力が生じても、第1空隙によって、応力の多くが緩和され、抵抗が増加する部分での剥離が抑制され、陰極部における導電性の低下が軽減されたと考えられる。 On the other hand, in the examples, the increase in ESR after the accelerated test is suppressed to a lower level than in the comparative examples. When observing the SEM image of cross section A of the cathode part of the example, it was found that relatively large voids (first voids) were formed within the conductive adhesive layer, and the carbon layer and solid electrolyte layer as in the comparative example were found to be relatively large. No peeling was observed between the carbon layer and the metal particle-containing layer. Further, in Examples 1 and 2, peeling was observed between the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer, but the increase in ESR was suppressed to a low level. In the example, even if stress is generated inside the solid electrolytic capacitor due to reflow treatment or accelerated testing, most of the stress is alleviated by the first void, and peeling is suppressed in the area where resistance increases, and the conductivity in the cathode part is improved. It is thought that the decrease in

本開示の固体電解コンデンサでは、リフロー処理などの高温に晒される環境など、内部の構成部材に応力が加わる環境に晒された場合のESRの増加が軽減される。よって、高い信頼性または高い耐熱性などが求められる用途に適している。しかし、固体電解コンデンサの用途はこれらのみに限定されない。 In the solid electrolytic capacitor of the present disclosure, an increase in ESR is reduced when the solid electrolytic capacitor is exposed to an environment where internal components are subjected to stress, such as an environment where the solid electrolytic capacitor is exposed to high temperatures such as in a reflow process. Therefore, it is suitable for applications that require high reliability or high heat resistance. However, the uses of solid electrolytic capacitors are not limited to these only.

20:電解コンデンサ
10:コンデンサ素子
1:陽極体
2:陽極ワイヤ
3:誘電体層
4:固体電解質層
5:陰極引出層
6:陽極部
7:陰極部
8:導電性接着層
11:外装体
13:陽極リードフレーム
14:陰極リードフレーム
20: Electrolytic capacitor 10: Capacitor element 1: Anode body 2: Anode wire 3: Dielectric layer 4: Solid electrolyte layer 5: Cathode extraction layer 6: Anode part 7: Cathode part 8: Conductive adhesive layer 11: Exterior body 13 : Anode lead frame 14: Cathode lead frame

Claims (12)

陽極部および陰極部を含むコンデンサ素子と、
第1部分を含むとともに、前記陰極部に電気的に接続された陰極リードフレームと、
前記コンデンサ素子および前記第1部分を覆う外装体と、を含む固体電解コンデンサであって、
前記陰極部は、少なくとも陰極引出層を含み、
前記陰極引出層は、前記第1部分の少なくとも一部と導電性接着層を介して電気的に接続されており、
前記導電性接着層は、第1応力緩衝部を含み、
前記陰極引出層は、第2応力緩衝部を含まないか、または第2応力緩衝部を含み、
前記導電性接着層および前記陰極引出層の厚さ方向Dおよび長さ方向Dに平行な断面Aにおいて、前記第1応力緩衝部が占める面積が、前記第2応力緩衝部が占める面積より大きい、固体電解コンデンサ。
a capacitor element including an anode part and a cathode part;
a cathode lead frame including a first portion and electrically connected to the cathode portion;
A solid electrolytic capacitor comprising: an exterior body covering the capacitor element and the first portion;
The cathode section includes at least a cathode extraction layer,
The cathode extraction layer is electrically connected to at least a portion of the first portion via a conductive adhesive layer,
The conductive adhesive layer includes a first stress buffer,
The cathode extraction layer does not include a second stress buffer or includes a second stress buffer,
In a cross section A parallel to the thickness direction DT and length direction DL of the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer, the area occupied by the first stress buffer part is larger than the area occupied by the second stress buffer part. Large, solid electrolytic capacitor.
前記第1応力緩衝部は、少なくとも1つの第1空隙で構成され、
前記第2応力緩衝部は、少なくとも1つの第2空隙で構成されている、請求項1に記載の固体電解コンデンサ。
The first stress buffer section is configured with at least one first void,
2. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the second stress buffer includes at least one second void.
前記断面Aにおいて、前記導電性接着層の平均厚さをTとするとき、前記第1空隙の前記厚さ方向Dに平行な方向の長さの最大値aは、0.4T以上T以下である、請求項2に記載の固体電解コンデンサ。 In the cross section A, when the average thickness of the conductive adhesive layer is T, the maximum length a of the first gap in the direction parallel to the thickness direction D T is 0.4 T or more and T or less. The solid electrolytic capacitor according to claim 2. 前記断面Aにおいて、前記導電性接着層の面積全体に占める前記第1空隙の合計面積の比率は、25%以上75%以下である、請求項3に記載の固体電解コンデンサ。 4. The solid electrolytic capacitor according to claim 3, wherein in the cross section A, a ratio of the total area of the first voids to the entire area of the conductive adhesive layer is 25% or more and 75% or less. 前記導電性接着層は、第1金属粒子と第1樹脂バインダまたはその硬化物とを含む、請求項1~4のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサ。 5. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the conductive adhesive layer includes first metal particles and a first resin binder or a cured product thereof. 前記陰極引出層は、金属粒子含有層を含み、
前記金属粒子含有層は、前記導電性接着層を介して前記第1部分の少なくとも一部と電気的に接続されており、
前記金属粒子含有層は、第2金属粒子と第2樹脂バインダまたはその硬化物とを含み、
前記陰極引出層が、前記第2応力緩衝部を含む場合、前記第2応力緩衝部は、前記金属粒子含有層に含まれる、請求項1~5のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサ。
The cathode drawing layer includes a metal particle-containing layer,
The metal particle-containing layer is electrically connected to at least a portion of the first portion via the conductive adhesive layer,
The metal particle-containing layer includes second metal particles and a second resin binder or a cured product thereof,
6. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein when the cathode extraction layer includes the second stress buffer, the second stress buffer is included in the metal particle-containing layer.
陽極部と少なくとも陰極引出層を含む陰極部とを含むコンデンサ素子を準備する第1工程、
前記陰極引出層と第1部分を含む陰極リードフレームの前記第1部分の少なくとも一部との間に導電性接着層を形成して、前記導電性接着層を介して、前記陰極引出層と前記陰極リードフレームとを電気的に接続する第2工程、および
前記コンデンサ素子と前記陰極リードフレームの前記第1部分とを外装体で覆う第3工程、を含み、
前記第2工程は、前記導電性接着層内に第1応力緩衝部を形成するサブステップを含む、固体電解コンデンサの製造方法。
A first step of preparing a capacitor element including an anode portion and a cathode portion including at least a cathode extraction layer;
A conductive adhesive layer is formed between the cathode extraction layer and at least a portion of the first portion of the cathode lead frame including the first portion, and the cathode extraction layer and the a second step of electrically connecting the cathode lead frame; and a third step of covering the capacitor element and the first portion of the cathode lead frame with an exterior body,
The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, wherein the second step includes a substep of forming a first stress buffer within the conductive adhesive layer.
前記第1応力緩衝部は、少なくとも1つの第1空隙で構成されている、請求項7に記載の固体電解コンデンサの製造方法。 8. The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 7, wherein the first stress buffer portion includes at least one first void. 前記固体電解コンデンサの前記導電性接着層および前記陰極引出層の厚さ方向および長さ方向に平行な断面Aにおいて、前記導電性接着層の平均厚さをTとするとき、前記第1空隙の前記厚さ方向Dに平行な方向の長さの最大値aは、0.4T以上T以下である、請求項8に記載の固体電解コンデンサの製造方法。 In a cross section A parallel to the thickness direction and length direction of the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer of the solid electrolytic capacitor, when the average thickness of the conductive adhesive layer is T, the first gap is 9. The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 8, wherein the maximum length a in the direction parallel to the thickness direction DT is 0.4T or more and T or less. 前記断面Aにおいて、前記導電性接着層の面積全体に占める前記第1空隙の合計面積の比率は、25%以上75%以下である、請求項9に記載の固体電解コンデンサの製造方法。 10. The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 9, wherein in the cross section A, a ratio of the total area of the first voids to the entire area of the conductive adhesive layer is 25% or more and 75% or less. 前記第1工程は、前記陰極引出層内に第2応力緩衝部を形成するサブステップを含み、
前記固体電解コンデンサの前記導電性接着層および前記陰極引出層の厚さ方向Dおよび長さ方向Dに平行な断面Aにおいて、前記第1応力緩衝部が占める面積が、前記第2応力緩衝部が占める面積より大きい、請求項7~10のいずれか1項に記載の固体電解コンデンサの製造方法。
The first step includes a substep of forming a second stress buffer within the cathode extraction layer,
In a cross section A parallel to the thickness direction DT and length direction DL of the conductive adhesive layer and the cathode extraction layer of the solid electrolytic capacitor, the area occupied by the first stress buffer section is equal to the area occupied by the second stress buffer section. The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to any one of claims 7 to 10, wherein the solid electrolytic capacitor is larger in area than the area occupied by the solid electrolytic capacitor.
前記第2応力緩衝部は、少なくとも1つの第2空隙で構成されている、請求項11に記載の固体電解コンデンサの製造方法。 12. The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 11, wherein the second stress buffer includes at least one second void.
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